WO2016167295A1 - 透明ガスバリア積層フィルム、及びそれを用いた電子ペーパー - Google Patents

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Definitions

  • the present invention relates to a transparent gas barrier laminated film and an electronic paper using the same.
  • a transparent gas barrier layer on the transparent plastic film substrate.
  • an Si or Al oxide thin film SiO 2 thin film or Al 2 O 3 thin film
  • a vacuum film forming process such as a vacuum deposition method, a sputter film forming method, or an ion plating method is employed.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and has an adhesion layer that is in close contact with a printed circuit board, etc., and even if the surface of the printed circuit board has irregularities, an element can be produced without wrinkles. It aims at providing the transparent gas barrier laminated film which has gas-barrier property, and an electronic paper element using the same.
  • the present invention adopts the following configuration.
  • the surface of the first transparent plastic film substrate on which the gas barrier layer including the inorganic thin film layer is formed on at least one surface and the one surface of the second transparent plastic film substrate. are laminated through a first adhesive layer, and a transparent gas barrier laminated film in which a seal layer is formed on the other surface of the first transparent plastic film substrate or the second transparent plastic film substrate.
  • a coat layer containing any one or more of an ultraviolet absorber and a fluorescent brightener is provided.
  • the transparent gas barrier laminated film according to any one of [6].
  • the first transparent plastic film base material on which the gas barrier layer is formed is sequentially disposed on the second transparent plastic film base material via an adhesive layer, and further a sealing layer is provided thereon.
  • Transparent gas barrier laminate film with excellent gas barrier properties which can be applied to uneven printed circuit boards without wrinkles, and can be heat sealed as an adhesive layer. A film is obtained.
  • the electronic paper of the present invention is sealed through the sealing layer by the transparent gas barrier laminate film of the present invention as described above, and has a function of suppressing ultraviolet transmission, so that the display performance of the electronic paper is good for a long period of time. Can be maintained.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a transparent gas barrier laminated film according to the first embodiment of the present invention.
  • the transparent gas barrier laminated film 100 of the present embodiment is a first transparent film in which a gas barrier layer 6 is formed on a second transparent plastic film substrate 2 via a first adhesive layer 7a.
  • the plastic film substrate 1 and the sealing layer 8 are arranged in this order.
  • the first transparent plastic film base material on which the gas barrier layer is formed and the sealing layer are provided on the second transparent plastic film base material 2 via the first adhesive layer 7a. Because it is a laminated film arranged sequentially, it can be applied to uneven printed boards without wrinkles, and it can be heat-sealed as a sealing layer as a close-contact layer, and a transparent gas barrier laminate with excellent gas barrier properties A film is obtained.
  • a substrate having a total light transmittance of 85% or more is desirable, but any plastic film that can be used as a normal optical material can be used without particular limitation.
  • plastic films include polyolefins such as homopolymers or copolymers such as ethylene, propylene, and butene, polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, nylon 6, nylon 66, nylon 12, and copolymer nylon.
  • polyamide, polycarbonate and the like polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, or the like can be suitably used as a substrate having high transparency and excellent heat resistance.
  • the thickness of the first transparent plastic film substrate 1 is not particularly limited, but is desirably 50 ⁇ m or less in order to reduce the total thickness of the transparent gas barrier laminated film 100.
  • the thickness of the first transparent plastic film substrate 1 is desirably 12 ⁇ m or more in order to form the gas barrier layer 6 and obtain excellent gas barrier properties.
  • the gas barrier layer 6 preferably includes the inorganic thin film layer 4 and the gas barrier coating layer 5. As shown in FIG. 1, the gas barrier layer 6 includes an inorganic thin film layer 4 formed on one surface of the first transparent plastic film substrate 1, and the gas barrier coating layer 5 is formed on the inorganic thin film layer 4. Are stacked.
  • the inorganic thin film layer 4 is not particularly limited, and for example, an inorganic oxide thin film such as aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, or a mixture thereof can be used. Among these, it is desirable to use aluminum oxide or silicon oxide from the viewpoint of barrier properties and productivity.
  • the thickness (film thickness) of the inorganic thin film layer 4 is preferably in the range of 5 to 500 nm, more preferably in the range of 10 to 100 nm.
  • the film thickness is 5 nm or more, it is easy to form a uniform film, and the function as a gas barrier material tends to be more sufficiently achieved.
  • the film thickness is 500 nm or less, sufficient flexibility can be maintained by the thin film (gas barrier layer), and cracks occur in the thin film (gas barrier layer) due to external factors such as bending and pulling after film formation. There is a tendency to prevent this more reliably.
  • a normal vacuum vapor deposition method can be used as a method of forming a vapor deposition layer made of an inorganic oxide on the first transparent plastic film substrate 1 as the inorganic thin film layer 4.
  • other thin film forming methods such as sputtering, ion plating, and plasma vapor deposition (CVD) can also be used.
  • the vacuum evaporation method can be used preferably.
  • a heating means of the vacuum evaporation method any of an electron beam heating method, a resistance heating method, and an induction heating method is preferable.
  • vapor-deposit in order to improve the adhesiveness of a vapor deposition layer and a base material, and the denseness of a vapor deposition layer, it is also possible to vapor-deposit using a plasma assist method or an ion beam assist method.
  • reactive vapor deposition in which oxygen gas or the like is blown can be performed.
  • the gas barrier coating layer 5 is provided in order to prevent various secondary damages in the subsequent process and to impart high barrier properties.
  • This gas barrier coating layer 5 contains, as a component, at least one selected from the group consisting of a hydroxyl group-containing polymer compound, a metal alkoxide, a metal alkoxide hydrolyzate, and a metal alkoxide polymer from the viewpoint of obtaining excellent barrier properties. It is preferable.
  • hydroxyl group-containing polymer compound examples include water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, and starch, and the barrier property is most excellent particularly when polyvinyl alcohol is used.
  • the metal alkoxide is represented by the general formula: M (OR) n (M represents a metal atom such as Si, Ti, Al, Zr, R represents an alkyl group such as —CH 3 , —C 2 H 5 , and n represents M Represents an integer corresponding to the valence of.
  • M represents a metal atom such as Si, Ti, Al, Zr
  • R represents an alkyl group such as —CH 3 , —C 2 H 5
  • n represents M Represents an integer corresponding to the valence of.
  • Specific examples include tetraethoxysilane [Si (OC 2 H 5 ) 4 ], triisopropoxyaluminum [Al (O-iso-C 3 H 7 ) 3 ] and the like. Tetraethoxysilane and triisopropoxyaluminum are preferable because they are relatively stable in an aqueous solvent after hydrolysis.
  • hydrolyzate and polymer of metal alkoxide include, for example, silicic acid (Si (OH) 4 ) as a hydrolyzate or polymer of tetraethoxysilane, and a hydrolyzate or polymer of tripropoxyaluminum.
  • silicic acid Si (OH) 4
  • examples of the hydrolyzate and polymer of metal alkoxide include, for example, silicic acid (Si (OH) 4 ) as a hydrolyzate or polymer of tetraethoxysilane, and a hydrolyzate or polymer of tripropoxyaluminum.
  • Al (OH) 3 aluminum hydroxide
  • the thickness (film thickness) of the gas barrier coating layer 5 is preferably in the range of 50 to 1000 nm, and more preferably in the range of 100 to 500 nm.
  • the film thickness is 50 nm or more, there is a tendency that sufficient gas barrier properties can be obtained, and when it is 1000 nm or less, there is a tendency that sufficient flexibility can be maintained by the thin film (gas barrier layer).
  • Conventionally known means such as a commonly used dipping method, roll coating method, screen printing method, spraying method, and gravure printing method can be used for the coating method of the coating agent containing the material that becomes the gas barrier coating layer.
  • the second transparent plastic film substrate 2 a plastic film similar to the first transparent plastic film substrate 1 can be used.
  • the gas barrier layer 6 is protected and printed. Wrinkles due to unevenness on the printed circuit board when bonded to the substrate can be suppressed.
  • the shrinkage rate when the second transparent plastic film substrate 2 is heated at 150 ° C. for 30 minutes is 5% or more and 15 % Or less is desirable.
  • the thermal shrinkage rate of the second transparent plastic film base material 5% or more when laminating and sealing the electronic paper substrate, the transparent gas barrier laminated film is deformed along the uneven printed substrate, It tends to be easier to apply without wrinkles. If the thermal contraction rate is 15% or less, there is a tendency that it is easier to maintain the barrier property without damaging the gas barrier layer 6 even when the transparent gas barrier laminated film is deformed by heat.
  • the thermal contraction rate of the second transparent plastic film substrate 2 can be measured according to the measurement method of JIS K 7133.
  • the second transparent plastic film substrate has different heat shrinkage rates in the TD direction (Transverse direction) and the MD direction (Machine direction)
  • at least the larger one of the heat shrinkage rates in the TD direction and the MD direction is larger. It may be within the above range. Since the larger one of the thermal shrinkage rates in at least the TD direction and the MD direction is within the above range, the second transparent plastic film base material 2 shrinks and deforms due to heating during lamination, resulting in unevenness on the printed circuit board. It is possible to follow and further suppress the generation of wrinkles due to unevenness.
  • a polyolefin resin film such as a polypropylene film is particularly preferable.
  • a polypropylene film as the second transparent plastic film substrate, it is possible to follow the irregularities on the printed circuit board when bonded to the printed circuit board, and to further suppress wrinkles due to the irregularities.
  • the second transparent plastic film substrate 2 contains an ultraviolet absorber or a fluorescent whitening agent.
  • an ultraviolet absorber or a fluorescent brightening agent By adding an ultraviolet absorber or a fluorescent brightening agent to the second transparent plastic film substrate 2, a function of suppressing ultraviolet transmission can be imparted. Examples of the method of adding the ultraviolet absorber or the fluorescent brightening agent to the second transparent plastic film substrate 2 include impregnation.
  • the thickness of the second transparent plastic film substrate 2 is not particularly limited, but is desirably 100 ⁇ m or less in order to reduce the total thickness of the transparent gas barrier laminated film 100.
  • the thickness of the second transparent plastic film substrate 2 can be, for example, 12 ⁇ m or more, and can be 25 ⁇ m or more, from the viewpoint of easily suppressing wrinkles caused by unevenness on the printed circuit board. 30 ⁇ m or more.
  • the first adhesive layer 7 a is provided for bonding the second transparent plastic film substrate 2 and the gas barrier layer 6 formed on the first transparent plastic film substrate 1. It has been. Although it does not specifically limit as the 1st contact bonding layer 7a, Adhesives or adhesives, such as an acryl-type material, a urethane type material, and a polyester-type material, can be used. More specifically, any of an acrylic pressure-sensitive adhesive, an acrylic adhesive, a urethane adhesive, and an ester adhesive can be used. In particular, the pressure-sensitive adhesive is excellent in conformity to the unevenness of the printed board when the transparent gas barrier laminated film is laminated and bonded onto the printed board for electronic paper. Furthermore, an acrylic pressure-sensitive adhesive is suitable because it is excellent in transparency.
  • the first adhesive layer 7a preferably contains an ultraviolet absorber or a fluorescent brightening agent. Also in the electronic paper element, it is preferable that the transparent gas barrier laminated film has a function of suppressing ultraviolet light transmission in order to protect internal components such as liquid crystal. By adding an ultraviolet absorber or fluorescent brightening agent to the first adhesive layer 7a, a function of suppressing ultraviolet transmission can be imparted.
  • the thickness of the first adhesive layer 7a is not particularly limited, but is desirably 30 ⁇ m or less in order to reduce the total thickness of the transparent gas barrier laminated film 100. On the other hand, from the viewpoint of obtaining better adhesiveness, the thickness of the first adhesive layer 7a is desirably 3 ⁇ m or more.
  • the adhesive layer can be formed by applying an adhesive to any of the surfaces to be bonded and drying if necessary.
  • a reverse roll coater knife coater, bar coater, slot die coater, air knife coater, reverse gravure coater, vario gravure coater or the like is used.
  • the application amount of the pressure-sensitive adhesive is desirably in the range of 1 to 30 ⁇ m in thickness.
  • the seal layer 8 is formed on the other surface of the first transparent plastic film substrate.
  • the material of the sealing layer 8 include polyethylene, polypropylene, ethylene / vinyl acetate copolymer, ethylene / methacrylic acid copolymer, ethylene / methacrylic acid ester copolymer, ethylene / acrylic acid copolymer, and ethylene / acrylic acid.
  • resins such as ester copolymers and cross-linked products of these can be used, it is desirable to use ethylene / vinyl acetate copolymer resins from the viewpoint of processability and flexibility.
  • the sealing layer 8 contains an ethylene / vinyl acetate copolymer resin, when the electronic paper is sealed, deformation of the transparent gas barrier laminated film can be suppressed, and damage to the barrier layer can be reduced.
  • the vinyl acetate content is preferably 10 to 30 mol%. That is, the content of structural units derived from vinyl acetate in all structural units of the ethylene / vinyl acetate copolymer resin is preferably 10 to 30 mol%.
  • the vinyl acetate content is 10 mol% or more, the low-temperature sealing property is excellent, and the electronic paper is more easily sealed.
  • the transparent gas barrier laminated film of the present embodiment by heat-sealing the sealing layer to the printed board, it can be attached to an uneven printed board without wrinkles, and an electronic paper element having excellent sealing strength can be obtained.
  • a transparent gas barrier laminate film is arranged on a printed circuit board having unevenness due to a circuit or the like so that the unevenness and the seal layer face each other, and the printed circuit board and the transparent gas barrier adhesive film are heated and pressurized (heated).
  • the printed circuit board and the transparent gas barrier adhesive film are heated and pressurized (heated).
  • the thickness of the seal layer 8 is determined according to the purpose, but is generally in the range of 15 to 200 ⁇ m.
  • an anchor coat layer (not shown) can be used in order to further improve the adhesion. That is, the anchor coat layer is provided between the first transparent plastic film substrate 1 and the seal layer 8.
  • an anchor coat layer is not specifically limited, Adhesives or adhesives, such as an acryl-type material, a urethane type material, and a polyester-type material, can be used.
  • an extrusion lamination method or the like can be preferably used, but other known methods can also be used for lamination.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a transparent gas barrier laminated film 200 according to the second embodiment of the present invention.
  • the transparent gas barrier laminate film 200 of the second embodiment is simply the number of the third transparent plastic film substrate 3 and the second adhesive layer 7b increased from the transparent gas barrier laminate film 100 of the first embodiment. Therefore, about the transparent gas barrier laminated film 200 of 2nd Embodiment, while attaching
  • the transparent gas barrier laminated film 200 of the present embodiment has a third transparent plastic film substrate 3 on the second transparent plastic film substrate 2 via a second adhesive layer 7b.
  • the structure is arranged.
  • the third transparent plastic film substrate 3 the same material as that of the first transparent plastic film substrate 1 can be used.
  • the third transparent plastic film substrate 3 includes a polyethylene terephthalate film and a polyethylene naphthalate.
  • a polyester film such as a film
  • the third transparent plastic film substrate has a thermal shrinkage rate of 5% or less at 150 ° C. for 30 minutes.
  • the same material as that of the first adhesive layer 7a can be used, but an ultraviolet absorber or a fluorescent brightener is added to the third transparent plastic film substrate 3.
  • an ultraviolet absorber or a fluorescent brightener is added to the third transparent plastic film substrate 3.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a transparent gas barrier laminate film according to a third embodiment of the present invention.
  • the transparent gas barrier laminated film 300 of the third embodiment is a second transparent instead of containing either an ultraviolet absorber or a fluorescent brightening agent in the first adhesive layer 7a of the transparent gas barrier laminated film 100 of the first embodiment.
  • a coating layer 9 containing one or more of an ultraviolet absorber and a fluorescent brightening agent is provided under the plastic film substrate 2 (on the gas barrier layer side).
  • This coat layer 9 Since the coat layer 9 has a function of suppressing ultraviolet light transmission, the coat layer 9 is provided in order to maintain the display performance of the electronic paper satisfactorily over a long period of time.
  • This coat layer 9 is made of benzophenone, benzotriazole, hydroxyphenyltriazine, benzoxazolylthiophene and distyryl, which are UV absorbers or fluorescent brighteners, from the viewpoint of obtaining an excellent UV transmission suppressing function and high transparency. It is preferable that at least one selected from the group consisting of biphenyl derivatives is contained as a component.
  • the coating layer 9 is formed by applying a coating agent containing an ultraviolet absorber or a fluorescent brightening agent on one surface of the second transparent plastic film substrate 2 and drying the dried coating surface and the first transparent plastic film.
  • the gas barrier layer 6 formed on the substrate 1 is opposed to the first transparent plastic film substrate 2 and the first transparent plastic film substrate 2 by bonding them with an adhesive or pressure-sensitive adhesive that becomes the first adhesive layer 7a. Between the adhesive layer 7a.
  • Conventionally known means such as a commonly used dipping method, roll coating method, screen printing method, spray method, and gravure printing method can be used for the coating method of the coating agent containing an ultraviolet absorber or a fluorescent brightening agent.
  • the thickness of the coating layer varies depending on the type of coating agent, the processing machine and the processing conditions, but is preferably in the range of 0.01 to 50 ⁇ m, more preferably in the range of 1 to 30 ⁇ m.
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a transparent gas barrier laminate film 400 according to the fourth embodiment of the present invention.
  • the gas barrier layer 6 of the transparent gas barrier laminate film 100 of the first embodiment has a two-layer configuration in which the inorganic thin film layers 4 and the gas barrier coating layers 5 are alternately laminated.
  • the gas barrier layer 6 of the transparent gas barrier laminated film 400 includes the first gas barrier layer 6a composed of the first inorganic thin film layer 4a and the first gas barrier coating layer 5a, the second inorganic thin film layer 4b, and the second gas barrier coating.
  • the second gas barrier layer 6b composed of the layer 5b has a two-layer structure (first gas barrier layer 6a and second gas barrier layer 6b) formed in this order, and the gas barrier layer 6 is a first transparent plastic. It is formed on the film substrate 1. Thereby, the gas barrier property of a transparent gas barrier laminated film can further be improved.
  • the gas barrier layer 6 is not limited to two layers, but may have a multilayer structure of three or more layers.
  • the gas barrier layer 6 is formed only on one side of the 1st transparent plastic film base material 1, both surfaces (one side and the other side) of the 1st transparent plastic film base material 1 It may be formed on the surface.
  • the inorganic thin film layer 4 is also formed on the other surface of the first transparent plastic film substrate 1, and the gas barrier coating layer 5 is laminated on the inorganic thin film layer 4.
  • the sealing layer 8 is formed on the other surface (surface on the opposite side to the 2nd transparent plastic film base material 2) of the 1st transparent plastic film base material 1, It may be formed on the other surface of the transparent plastic film substrate 2 (the surface opposite to the first transparent plastic film substrate 1).
  • the seal layer 8 may be formed on the other surface of the second transparent plastic film substrate 2, It may be formed on the other surface of the first transparent plastic film substrate 1 via a gas barrier layer. Therefore, in one embodiment of the transparent gas barrier laminate film of the present invention, the gas barrier layer 6 may be sandwiched between the first transparent plastic film substrate 1 and the seal layer 8.
  • the third transparent plastic film substrate 3 is connected to the first adhesive layer 7b via the first adhesive layer 7b. It is arranged (formed) on the other surface of the transparent plastic film substrate 1.
  • an anchor coat layer made of polyurethane resin is applied to the surface of the first transparent plastic film substrate opposite to the gas barrier layer by a wet coating method, an ethylene / vinyl acetate copolymer resin is applied on the coated surface. Then, a sealing layer made of an ethylene / vinyl acetate copolymer resin was formed on the other surface of the first transparent plastic film substrate via an anchor coat layer. Thereby, the transparent gas barrier laminated film of the structure 1 based on 1st Embodiment shown in FIG. 1 was produced.
  • the printed circuit board was brought into close contact with the seal layer of the obtained transparent gas barrier laminated film, and heat-sealed and pasted to produce an electronic paper element having configuration 1.
  • the second transparent plastic film substrate as a second transparent plastic film having a thickness of 50 ⁇ m (OPP, thermal shrinkage rate in the TD direction (maximum shrinkage direction) at 150 ° C. for 30 minutes: 9.2%)
  • OPP thermal shrinkage rate in the TD direction (maximum shrinkage direction) at 150 ° C. for 30 minutes: 9.2%
  • a pressure-sensitive adhesive made of an acrylic resin to which a 3% by weight UV absorber is added with respect to the solid content of the acrylic resin is applied by a wet coating method, and the second transparent is applied through the applied pressure-sensitive adhesive.
  • a plastic film substrate and a 12 ⁇ m thick polyethylene terephthalate film (PET) as a third transparent plastic film substrate were bonded together.
  • the other surface of the second transparent plastic film substrate bonded to the third transparent plastic film substrate as described above is made of an acrylic resin to which no ultraviolet absorber is added as the first adhesive layer.
  • the pressure-sensitive adhesive was applied by the wet coating method, and the second transparent plastic film substrate and the gas barrier layer formed on the first transparent plastic film substrate were bonded to each other through the applied pressure-sensitive adhesive. .
  • an anchor coat layer and a seal layer are formed on the surface opposite to the gas barrier layer of the first transparent plastic film substrate by the same operation as in the first configuration, and the second embodiment shown in FIG.
  • the transparent gas barrier laminated film of the structure 2 based on this was produced.
  • the electronic paper element of the structure 2 was obtained by operation similar to the structure 1 except having used this transparent gas barrier laminated film.
  • silicon oxide is provided as an inorganic thin film layer to a thickness of 250 mm by vacuum deposition, and tetraethoxysilane and polyvinyl alcohol are formed on the inorganic thin film layer.
  • tetraethoxysilane and polyvinyl alcohol are formed on the inorganic thin film layer.
  • a wet coating method to form a gas barrier coating layer having a thickness of 0.3 ⁇ m.
  • silicon oxide is provided as an inorganic thin film layer with a thickness of 250 mm, and a coating liquid containing tetraethoxysilane and polyvinyl alcohol is applied on the inorganic thin film layer by a wet coating method.
  • a gas barrier coating layer having a thickness of 3 ⁇ m was formed.
  • the configuration according to the fourth embodiment shown in FIG. 4 is the same as the configuration 1 except that the gas barrier layer is formed by alternately laminating the inorganic thin film layer and the gas barrier coating layer. 3 transparent gas barrier laminated films were obtained. Furthermore, the electronic paper element of the structure 3 was obtained by operation similar to the structure 1 except having used this transparent gas barrier laminated film.
  • a transparent gas barrier laminate film of Configuration 5 was obtained in the same manner as in Configuration 1 except that an adhesive made of an acrylic resin without adding an ultraviolet absorber was used. Furthermore, the electronic paper element of the structure 5 was obtained by operation similar to the structure 1 except having used this transparent gas barrier laminated film.
  • Comparative example> [Comparison configuration 1]
  • the transparent structure of Comparative Structure 1 was prepared in the same manner as in Structure 1, except that a 12 ⁇ m-thick polyvinylidene chloride (PVDC) -coated polyethylene terephthalate film was used instead of the gas barrier layer comprising the inorganic thin film layer and the gas barrier coating layer.
  • PVDC polyvinylidene chloride
  • a gas barrier laminated film was obtained.
  • the electronic paper element of the comparative structure 1 which is a comparative example was obtained by the same operation as the structure 1 except having used this transparent gas barrier laminated film.
  • Table 1 summarizes the production conditions and evaluation results of the configurations 1 to 5 of the example and the comparative configuration 1 of the comparative example.
  • the transparent gas barrier laminated films having constitutions 1 to 5 showed good barrier properties by having an inorganic thin film layer, a gas barrier coating layer, and a seal layer.
  • configurations 1 to 4 since the ultraviolet absorber is added to the first adhesive layer or the adhesive of the second adhesive layer, it has a function of suppressing ultraviolet transmission.
  • configurations 1 to 3 a polypropylene film is used for the second transparent plastic film substrate or the third transparent plastic film substrate, so that even if there are irregularities on the printed circuit board, it is applied without wrinkles. It was possible to attach an electronic paper element having a good appearance.
  • the configurations 1 to 3 and 5 in which the polypropylene film is used have fewer wrinkles in appearance. Met. However, since the wrinkles seen in the configuration 4 were not conspicuous, it was judged that there was no problem in appearance.
  • the ultraviolet transmittance is high, and there is a possibility that stable display performance of the electronic paper element cannot be expected.
  • the second transparent plastic film substrate and the gas barrier layer formed on the first transparent plastic film substrate were bonded through the coated adhesive and the coated adhesive.
  • an anchor coat layer made of polyurethane resin is applied to the surface of the first transparent plastic film substrate opposite to the gas barrier layer by a wet coating method, and the vinyl acetate content is 20 mol on the coated surface.
  • the electronic paper element of the structure 6 was produced in the same operation as the structure 1 except having used said transparent gas barrier laminated film.
  • the third operation shown in FIG. 3 was carried out in the same manner as in the configuration 6 except that the coating layer was applied and an adhesive made of an acrylic resin to which no UV absorber was added was applied on the coating layer.
  • a transparent gas barrier laminated film of configuration 7 was obtained.
  • the electronic paper element of the structure 7 was obtained by the same operation as the structure 6 except having used this transparent gas barrier laminated film.
  • silicon oxide is provided as an inorganic thin film layer to a thickness of 250 mm by vacuum deposition, and tetraethoxysilane and polyvinyl alcohol are formed on the inorganic thin film layer.
  • tetraethoxysilane and polyvinyl alcohol are formed on the inorganic thin film layer.
  • a wet coating method to form a gas barrier coating layer having a thickness of 0.3 ⁇ m.
  • silicon oxide is provided as an inorganic thin film layer with a thickness of 250 mm, and a coating liquid containing tetraethoxysilane and polyvinyl alcohol is applied on the inorganic thin film layer by a wet coating method.
  • a gas barrier coating layer having a thickness of 3 ⁇ m was formed.
  • the configuration according to the fourth embodiment shown in FIG. 4 is the same as the configuration 6 except that the gas barrier layer is formed by alternately laminating the inorganic thin film layer and the gas barrier coating layer two layers as described above. 9 transparent gas barrier laminated films were obtained. Furthermore, the electronic paper element of the structure 9 was obtained by operation similar to the structure 6 except having used this transparent gas barrier laminated film.
  • Configuration 10 A transparent gas barrier laminate film of Configuration 10 was obtained in the same manner as in Configuration 6, except that an adhesive made of an acrylic resin without adding an ultraviolet absorber was used. Furthermore, the electronic paper element of the structure 10 was obtained by operation similar to the structure 6 except having used this transparent gas barrier laminated film.
  • Configuration 11 A transparent gas barrier laminate film of Configuration 11 was obtained in the same manner as in Configuration 6, except that an ethylene / vinyl acetate copolymer resin having a vinyl acetate content of 7% was used as the seal layer. Furthermore, the electronic paper element of the structure 11 was obtained by operation similar to the structure 6 except having used this transparent gas barrier laminated film.
  • the transparent gas barrier laminated film produced in configurations 6 to 11 and the electronic paper element were evaluated as follows.
  • the transparent gas barrier laminate film and electronic paper element produced in configurations 6 to 11 were measured under the same conditions as the transparent gas barrier laminate film and electronic paper element produced in configurations 1 to 5 and comparative configuration 1 except for the following measurements. It was.
  • Table 2 summarizes the fabrication conditions and evaluation results for configurations 6-11.
  • the transparent gas barrier laminated films having constitutions 6 to 11 showed good barrier properties by having an inorganic thin film layer, a gas barrier coating layer, and a seal layer.
  • the transparent gas barrier laminated films having configurations 6 to 9 and 11 have a function of suppressing ultraviolet transmission because the ultraviolet absorber is added to the first adhesive layer, the coat layer, or the second transparent plastic film substrate. It was.
  • the sealing layer is formed by extrusion lamination of ethylene / vinyl acetate copolymer resin having a vinyl acetate content of 20%, and the obtained transparent gas barrier laminated film is used to heat seal the printed circuit board. Since the electronic paper element was produced, it was able to be affixed to the printed circuit board with sufficient sealing strength (adhesion).
  • the ultraviolet absorber since the ultraviolet absorber is not added, the ultraviolet transmittance is high, and there is a possibility that stable display performance of the electronic paper element cannot be expected.
  • the transparent gas barrier laminate film of the present invention is a display such as an electronic paper element and an organic EL element based on a plastic film that requires a high gas barrier property or UV resistance, a flexible packaging material, and an industrial material application such as a solar cell. It can be applied to.
  • SYMBOLS 1 ... 1st transparent plastic film base material, 2 ... 2nd transparent plastic film base material, 3 ... 3rd transparent plastic film base material, 4 ... Inorganic thin film layer, 5 ... Gas barrier coating layer, 6 ... Gas barrier layer 7a ... first adhesive layer, 7b ... second adhesive layer, 8 ... seal layer, 9 ... coat layer, 100, 200, 300, 400 ... transparent gas barrier laminated film.

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Abstract

本発明は、少なくとも一方の面に無機薄膜層を含むガスバリア層が形成された第１の透明プラスチックフィルム基材の上記ガスバリア層が形成された面と、第２の透明プラスチックフィルム基材の一方の面とが、第１の接着層を介して貼り合わされ、上記第１の透明プラスチックフィルム基材又は上記第２の透明プラスチックフィルム基材の他方の面にシール層が形成された、透明ガスバリア積層フィルムを提供する。

Description

透明ガスバリア積層フィルム、及びそれを用いた電子ペーパー
　本発明は、透明ガスバリア積層フィルム、及びそれを用いた電子ペーパーに関する。
　従来、液晶ディスプレイパネル、有機ＥＬディスプレイパネル、エレクトロクロミックパネル、電子ペーパー（電子ペーパー素子）などにおいては、ガラス基板を用いた素子が用いられてきた。近年、軽量性、屈曲性、耐衝撃性などに優れ、大面積化が容易であることから、ガラス基板を用いた素子から透明プラスチックフィルム基材を用いた素子へと需要が変化しつつある。しかしながら、透明プラスチックフィルム基材には、ガラス基板と比較して、水蒸気や酸素に対するガスバリア性が劣り、これを用いた素子の表示性能などに支障を及ぼしやすいという問題がある。
　このような透明プラスチックフィルム基材の欠点を補うために、透明プラスチックフィルム基材上に透明ガスバリア層を形成することが提案されている。この透明ガスバリア層には、透明性を維持するために、Ｓｉ又はＡｌの酸化物薄膜（ＳｉＯ２薄膜又はＡｌ２Ｏ３薄膜）が用いられている。また、透明ガスバリア層の形成には、真空蒸着法、スパッタ成膜法、イオンプレーティング法などの真空成膜プロセスが採用されている。しかしながら、これらの透明ガスバリア層を形成した透明フィルムのみでは、曲げにより酸化物薄膜からなる透明ガスバリア層に割れやピンホールが発生しやすく、ガスバリア性が維持できなくなるという問題がある。
　これらの問題点に関し、いくつかの提案がなされている。例えば、透明プラスチックフィルム基材上に透明ガスバリア層を真空成膜プロセスで形成した後、その上に有機系塗膜を形成し、この有機系塗膜を多層膜化すること、又は、その組成を工夫することが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
　電子ペーパー素子においては、透明プラスチックフィルム基材上に透明ガスバリア層を形成した後、粘着剤や接着剤を介して、他の透明プラスチック基材などと積層した透明ガスバリア積層フィルムを用いることが提案されている（例えば、特許文献２参照）。
特開２００５－１９２８６号公報 特開２００６－３２７０９８号公報
　しかしながら、特許文献２に記載された透明ガスバリア積層フィルムで電子ペーパー素子を作製する場合、プリント基板等に密着させるための密着層を別途設ける必要があり、そのガスバリア性が確認されていないため、電子ペーパーの表示部に不具合が出る可能性がある。
　また、透明ガスバリア積層フィルムをプリント基板等に密着させる時、プリント基板自身に配線有無等による凹凸があった場合、フィルムが凹凸に追随してしまうことによりシワが生じてしまうという問題もある。
　本発明は、上記諸事情に鑑みてなされたものであり、プリント基板等に密着する密着層を具備し、プリント基板の表面に凹凸があってもシワなく素子を作製することができ、優れたガスバリア性を有する透明ガスバリア積層フィルム、及びそれを用いた電子ペーパー素子を提供することを目的とする。
　上記の課題を解決するために、本発明は以下の構成を採用した。
　［１］少なくとも一方の面に無機薄膜層を含むガスバリア層が形成された第１の透明プラスチックフィルム基材の上記ガスバリア層が形成された面と、第２の透明プラスチックフィルム基材の一方の面とが、第１の接着層を介して貼り合わされ、上記第１の透明プラスチックフィルム基材又は上記第２の透明プラスチックフィルム基材の他方の面にシール層が形成された、透明ガスバリア積層フィルム。
　［２］上記第２の透明プラスチックフィルム基材がポリプロピレンフィルムである、［１］に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
　［３］上記ガスバリア層が、上記無機薄膜層と、上記無機薄膜層上に形成されたガスバリア性被覆層とを含む、［１］又は［２］に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
　［４］上記第２の透明プラスチックフィルム基材の１５０℃３０分での熱収縮率が５％以上１５％以下である、［１］～［３］のいずれか１項に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
　［５］上記シール層が形成された面とは反対側の面に、第２の接着層を介して第３の透明プラスチックフィルム基材が配置されている、［１］～［４］のいずれか１項に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
　［６］上記第３の透明プラスチックフィルム基材がポリエステルフィルムである、［５］に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
　［７］上記第１の接着層が、紫外線吸収剤及び蛍光増白剤のいずれか１種以上を含む、［１］～［６］のいずれか１項に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
　［８］上記第２の接着層が、紫外線吸収剤及び蛍光増白剤のいずれか１種以上を含む、［５］又は［６］に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
　［９］上記第２の透明プラスチックフィルム基材と、上記第１の接着層との間に、紫外線吸収剤及び蛍光増白剤のいずれか１種以上を含むコート層が設けられている、［１］～［６］のいずれか１項に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
　［１０］上記第２の透明プラスチックフィルム基材に、紫外線吸収剤及び蛍光増白剤のいずれか１種以上が含浸されている、［１］～［６］のいずれか１項に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
　［１１］上記第３の透明プラスチックフィルム基材に、紫外線吸収剤及び蛍光増白剤のいずれか１種以上が含浸されている、［５］又は［６］に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
　［１２］上記シール層がエチレン・酢酸ビニル共重合樹脂を含む、［１］～［１１］のいずれか１項に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
　［１３］上記エチレン・酢酸ビニル共重合樹脂における酢酸ビニル含有量が１０～３０モル％である、［１２］に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
　［１４］上記ガスバリア層が、無機薄膜層とガスバリア性被覆層とが交互に２層ずつ以上積層された構造である、［１］～［１３］のいずれか１項に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
　［１５］［１］～［１４］のいずれか１項に記載の透明ガスバリア積層フィルムにより上記シール層を介して封止された、電子ペーパー。
　本発明の透明ガスバリア積層フィルムは、ガスバリア層が形成された第１の透明プラスチックフィルム基材が、第２の透明プラスチックフィルム基材に、接着層を介して、順次配置され、これらにさらにシール層が配置された透明ガスバリア積層フィルムであることから、凹凸のあるプリント基板にもシワなく貼り付けることができ、シール層を密着層としてヒートシールすることが可能な、ガスバリア性に優れた透明ガスバリア積層フィルムが得られる。
　さらに、本発明の電子ペーパーは、上記のように本発明の透明ガスバリア積層フィルムによりシール層を介して封止され、紫外線透過を抑える機能を有することから、電子ペーパーの表示性能を長期間にわたり良好に維持することができる。
本発明の第１実施形態に係る透明ガスバリア積層フィルムの模式断面図である。 本発明の第２実施形態に係る透明ガスバリア積層フィルムの模式断面図である。 本発明の第３実施形態に係る透明ガスバリア積層フィルムの模式断面図である。 本発明の第４実施形態に係る透明ガスバリア積層フィルムの模式断面図である。
　以下、図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は適宜省略する。また、上下左右等の位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。さらに、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。
＜第１実施形態に係る透明ガスバリア積層フィルム＞
　まず、本発明の第１実施形態について説明する。図１は、本発明の第１実施形態に係る透明ガスバリア積層フィルムの模式断面図である。
　図１に示すように、本実施形態の透明ガスバリア積層フィルム１００は、第２の透明プラスチックフィルム基材２に、第１の接着層７ａを介して、ガスバリア層６が形成された第１の透明プラスチックフィルム基材１、シール層８が順に配置された構造となっている。本実施形態の透明ガスバリア積層フィルム１００は、ガスバリア層が形成された第１の透明プラスチックフィルム基材、及びシール層が、第２の透明プラスチックフィルム基材２に、第１の接着層７ａを介して、順次配置された積層フィルムであることから、凹凸のあるプリント基板にもシワなく貼り付けることができ、シール層を密着層としてヒートシールすることが可能な、ガスバリア性に優れた透明ガスバリア積層フィルムが得られる。
　以下、透明ガスバリア積層フィルム１００を構成する各層について詳細に説明するが、それらは、後述の第２、第３、第４実施形態で使用する場合も同様である。
　第１の透明プラスチックフィルム基材１としては、全光線透過率が８５％以上の基材が望ましいが、通常の光学材料として使用しうるプラスチックフィルムであれば特に制限なく用いることができる。このようなプラスチックフィルムとしては、例えば、エチレン、プロピレン、ブテン等の単独重合体又は共重合体等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１２、共重合ナイロン等のポリアミド、ポリカーボネート等が挙げられる。特に透明性が高く、耐熱性に優れた基材として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどを好適に用いることができる。
　また、第１の透明プラスチックフィルム基材１の厚さは、特に限定されるものではないが、透明ガスバリア積層フィルム１００の総厚を薄くするために、５０μｍ以下とすることが望ましい。また、第１の透明プラスチックフィルム基材１の厚さは、ガスバリア層６を形成し、優れたガスバリア性を得るために、１２μｍ以上とすることが望ましい。
　ガスバリア層６は、無機薄膜層４とガスバリア性被覆層５とを含んでいることが望ましい。そして、図１に示すように、ガスバリア層６は、第１の透明プラスチックフィルム基材１の一方の面上に無機薄膜層４が形成され、この無機薄膜層４の上にガスバリア性被覆層５が積層された構成となっている。
　無機薄膜層４としては、特に限定されるものではないが、例えば、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化マグネシウムなどの無機酸化物薄膜、あるいはそれらの混合物を用いることができる。これらの中でも、バリア性、生産性の観点から、酸化アルミニウム、又は酸化珪素を用いることが望ましい。
　無機薄膜層４の厚さ（膜厚）は、５～５００ｎｍの範囲内とすることが好ましく、１０～１００ｎｍの範囲内とすることがより好ましい。ここで、膜厚が５ｎｍ以上であると、均一な膜を形成しやすく、ガスバリア材としての機能をより十分に果たすことができる傾向がある。一方、膜厚が５００ｎｍ以下であると、薄膜（ガスバリア層）により十分なフレキシビリティを保持させることができ、成膜後に折り曲げ、引っ張りなどの外的要因により、薄膜（ガスバリア層）に亀裂が生じることをより確実に防ぐことができる傾向がある。
　無機薄膜層４として、無機酸化物からなる蒸着層を第１の透明プラスチックフィルム基材１上に形成する方法としては、通常の真空蒸着法を用いることができる。また、その他の薄膜形成方法であるスパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマ気相成長法（ＣＶＤ）などを用いることも可能である。生産性を考慮すれば、真空蒸着法を好ましく使用できる。真空蒸着法の加熱手段としては電子線加熱方式、抵抗加熱方式、及び誘導加熱方式のいずれかが好ましい。また、蒸着層と基材の密着性、及び蒸着層の緻密性を向上させるために、プラズマアシスト法、あるいはイオンビームアシスト法を用いて蒸着することも可能である。また、蒸着層の透明性を上げるために蒸着の際、酸素ガスなど吹き込む反応蒸着を行うこともできる。
　ガスバリア性被覆層５は、後工程での二次的な各種損傷を防止すると共に、高いバリア性を付与するために設けられるものである。このガスバリア性被覆層５は、優れたバリア性を得る観点から、水酸基含有高分子化合物、金属アルコキシド、金属アルコキシド加水分解物及び金属アルコキシド重合物からなる群より選択される少なくとも１種を成分として含有していることが好ましい。
　水酸基含有高分子化合物としては、具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、デンプン等の水溶性高分子が挙げられるが、特にポリビニルアルコールを用いた場合にバリア性が最も優れる。
　金属アルコキシドは、一般式：Ｍ（ＯＲ）ｎ（ＭはＳｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ等の金属原子を示し、Ｒは－ＣＨ３、－Ｃ２Ｈ５等のアルキル基を示し、ｎはＭの価数に対応した整数を示す）で表される化合物である。具体的には、テトラエトキシシラン〔Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４〕、トリイソプロポキシアルミニウム〔Ａｌ（Ｏ－ｉｓｏ－Ｃ３Ｈ７）３〕などが挙げられる。テトラエトキシシラン、トリイソプロポキシアルミニウムは、加水分解後、水系の溶媒中において比較的安定であるので好ましい。また、金属アルコキシドの加水分解物及び重合物としては、例えば、テトラエトキシシランの加水分解物や重合物としてケイ酸（Ｓｉ（ＯＨ）４）などが、トリプロポキシアルミニウムの加水分解物や重合物として水酸化アルミニウム（Ａｌ（ＯＨ）３）などが挙げられる。
　ガスバリア性被覆層５の厚さ（膜厚）は、５０～１０００ｎｍの範囲内とすることが好ましく、１００～５００ｎｍの範囲内とすることがより好ましい。ここで、膜厚が５０ｎｍ以上であると、十分なガスバリア性を得ることができる傾向があり、１０００ｎｍ以下であると、薄膜（ガスバリア層）により十分なフレキシビリティを保持できる傾向がある。
　ガスバリア性被膜層となる材料を含むコーティング剤の塗布方法には、通常用いられるディッピング法、ロールコーティング法、スクリーン印刷法、スプレー法、グラビア印刷法などの従来公知の手段を用いることができる。
　第２の透明プラスチックフィルム基材２としては、第１の透明プラスチックフィルム基材１と同様のプラスチックフィルムを用いることができる。第２の透明プラスチックフィルム基材２をガスバリア層６が形成された第１の透明プラスチックフィルム基材１のシール層８積層面とは反対側に積層することにより、ガスバリア層６を保護し、プリント基板と貼り合わせたときの、プリント基板上の凹凸に起因するシワを抑制することができる。
　第２の透明プラスチックフィルム基材２を１５０℃で３０分間加熱したときの収縮率（すなわち、第２の透明プラスチックフィルム基材２の１５０℃３０分での熱収縮率）は、５％以上１５％以下であることが望ましい。第２の透明プラスチックフィルム基材の熱収縮率を５％以上とすることで、電子ペーパー基板にラミネートし、封止する際に、凹凸のあるプリント基板に沿って透明ガスバリア積層フィルムを変形させ、シワなく貼り付けることがより容易となる傾向がある。熱収縮率が１５％以下であれば、熱による透明ガスバリア積層フィルムの変形によってもガスバリア層６を損傷させることなく、バリア性を維持することがより容易となる傾向がある。第２の透明プラスチックフィルム基材２の熱収縮率は、ＪＩＳ　Ｋ　７１３３の測定方法に従って測定することができる。第２の透明プラスチックフィルム基材がＴＤ方向（Transverse direction）とＭＤ方向（Machine direction）とで異なる熱収縮率を有する場合には、少なくともＴＤ方向とＭＤ方向の熱収縮率のうちの大きい方が上記範囲内であればよい。少なくともＴＤ方向とＭＤ方向の熱収縮率のうちの大きい方が上記範囲内であることで、ラミネート時の加熱によって第２の透明プラスチックフィルム基材２が収縮変形して、プリント基板上の凹凸に追従し、凹凸に起因するシワの発生をさらに抑制することができる。このような第２の透明プラスチックフィルム基材の例としては、ポリプロピレンフィルム等のポリオレフィン系樹脂フィルムが特に好ましい。第２の透明プラスチックフィルム基材として、ポリプロピレンフィルムを用いることで、プリント基板と貼り合わせたとき、プリント基板上の凹凸に追従し、凹凸に起因するシワをより抑制することができる。
　また、本実施形態において、第２の透明プラスチックフィルム基材２が、紫外線吸収剤又は蛍光増白剤を含んでいることが好ましい。紫外線吸収剤又は蛍光増白剤を第２の透明プラスチックフィルム基材２に添加することで、紫外線透過を抑える機能を付与することができる。紫外線吸収剤又は蛍光増白剤の第２の透明プラスチックフィルム基材２への添加方法としては、例えば、含浸が挙げられる。
　第２の透明プラスチックフィルム基材２の厚さは、特に限定されるものではないが、透明ガスバリア積層フィルム１００の総厚を薄くするために、１００μｍ以下とすることが望ましい。また、第２の透明プラスチックフィルム基材２の厚さは、プリント基板上の凹凸に起因するシワを抑制しやすくする観点から、例えば、１２μｍ以上であることができ、２５μｍ以上であることができ、３０μｍ以上であることができる。
　第１の接着層７ａは、図１に示すように、第２の透明プラスチックフィルム基材２と、第１の透明プラスチックフィルム基材１上に形成されたガスバリア層６とを貼り合わせるために設けられている。第１の接着層７ａとしては、特に限定されるものではないが、アクリル系材料、ウレタン系材料、ポリエステル系材料などの接着剤又は粘着剤を用いることができる。より具体的には、アクリル系粘着剤、アクリル系接着剤、ウレタン系接着剤、及びエステル系接着剤のいずれかを用いることができる。特に粘着剤は、透明ガスバリア積層フィルムを電子ペーパー用プリント基板上にラミネート接着する場合のプリント基板の凹凸への追従性に優れる。さらにアクリル系粘着剤は透明性に優れることから好適である。
　さらに、第１の接着層７ａは紫外線吸収剤又は蛍光増白剤を含んでいることが好ましい。電子ペーパー素子においても、液晶などの内部構成物質を保護するために、透明ガスバリア積層フィルムは紫外線透過を抑える機能を有することが好ましい。紫外線吸収剤又は蛍光増白剤を第１の接着層７ａに添加することで、紫外線透過を抑える機能を付与することができる。
　また、第１の接着層７ａの厚さとしては、特に限定されるものではないが、透明ガスバリア積層フィルム１００の総厚を薄くするために、３０μｍ以下とすることが望ましい。一方、より良好な接着性を得る観点から、第１の接着層７ａの厚さは３μｍ以上であることが望ましい。
　第１の接着層７ａとして粘着層を形成する場合、貼り合わせるいずれかの面へ粘着剤を塗布し、必要により乾燥して粘着層を形成することができる。
　粘着剤の塗布装置としては、リバースロールコーター、ナイフコーター、バーコーター、スロットダイコーター、エアナイフコーター、リバースグラビアコーター、バリオグラビアコーター等が使用される。粘着剤の塗布量は、厚さで１～３０μｍの範囲が望ましい。
　本実施形態において、シール層８は第１の透明プラスチックフィルム基材の他方の面に形成されている。シール層８の材料としては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・メタクリル酸共重合体、エチレン・メタクリル酸エステル共重合体、エチレン・アクリル酸共重合体、エチレン・アクリル酸エステル共重合体及びそれらの金属架橋物等の樹脂を用いることができるが、加工性、柔軟性の点からエチレン・酢酸ビニル共重合樹脂を用いることが望ましい。シール層８がエチレン・酢酸ビニル共重合樹脂を含むことにより、電子ペーパーを封止する際に、透明ガスバリア積層フィルムの変形を抑え、バリア層の損傷を低減することができる。
　シール層にエチレン・酢酸ビニル共重合樹脂を用いる場合、特に酢酸ビニル含有量が１０～３０モル％であることが望ましい。すなわち、エチレン・酢酸ビニル共重合樹脂が有する全構成単位中の、酢酸ビニルに由来する構成単位の含有量が１０～３０モル％であることが好ましい。酢酸ビニル含有量が、１０モル％以上であると、低温シール性により優れ、電子ペーパーの封止がより容易となる。また、酢酸ビニル含有量が、３０モル％以下であると、エチレン・酢酸ビニル共重合樹脂フィルムからロールで貼り合わせる際のシール層の加工性により優れるため好ましい。
　本実施形態の透明ガスバリア積層フィルムでは、シール層をプリント基板にヒートシールすることにより、凹凸のあるプリント基板にもシワなく貼り付けることができ、優れたシール強度を有する電子ペーパー素子が得られる。言い換えると、回路等による凹凸を有するプリント基板上に、上記凹凸とシール層とが対向するように、透明ガスバリア積層フィルムを配置し、上記プリント基板と上記透明ガスバリア接着フィルムとを加熱加圧（ヒートシール）することにより、透明ガスバリア積層フィルムにより封止された電子ペーパー素子が得られる。上記電子ペーパー素子によれば、シワの発生が抑制され、優れたシール強度が得られる。
　シール層８の厚さは目的に応じて決められるが、一般的には１５～２００μｍの範囲である。
　また、シール層８を、第１の透明プラスチックフィルム基材１に形成する際、より接着性を向上させるため、アンカーコート層（図示せず）を用いることもできる。すなわち、アンカーコート層は第１の透明プラスチックフィルム基材１とシール層８との間に設けられる。アンカーコート層は、特に限定されるものではないが、アクリル系材料、ウレタン系材料、ポリエステル系材料などの接着剤又は粘着剤を用いることができる。
　シール層８の形成方法としては、好ましくは、押出ラミネーション法等を用いることができるが、それ以外の公知の方法により積層することも可能である。
＜第２実施形態に係る透明ガスバリア積層フィルム＞
　次に、本発明の第２実施形態について説明する。図２は、本発明の第２実施形態に係る透明ガスバリア積層フィルム２００の模式断面図である。第２実施形態の透明ガスバリア積層フィルム２００は、第１実施形態の透明ガスバリア積層フィルム１００から、第３の透明プラスチックフィルム基材３、及び第２の接着層７ｂが増えただけである。従って、第２実施形態の透明ガスバリア積層フィルム２００については、第１実施形態と同一の構成部分については同じ符号を付すると共に説明を省略する。
　図２に示すように、本実施形態の透明ガスバリア積層フィルム２００は、第２の透明プラスチックフィルム基材２の上に、第２の接着層７ｂを介して、第３の透明プラスチックフィルム基材３が配置された構造となっている。
　第３の透明プラスチックフィルム基材３としては、第１の透明プラスチックフィルム基材１と同様の材料を用いることができるが、第３の透明プラスチックフィルム基材３に、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等のポリエステルフィルムを用いることで、プリント基板と貼り合わせたときに、耐熱性があるためシワなく貼り合わせることが一層容易となる傾向がある。特に第３の透明プラスチックフィルム基材は１５０℃、３０分での熱収縮率が５％以下であることが望ましい。
　また、第２の接着層７ｂとしては、第１の接着層７ａと同様の材料を用いることができるが、紫外線吸収剤又は蛍光増白剤を第３の透明プラスチックフィルム基材３に添加することで、紫外線透過を抑える機能を付与することができる。
＜第３実施形態に係る透明ガスバリア積層フィルム＞
　次に、本発明の第３実施形態について説明する。図３は、本発明の第３実施形態に係る透明ガスバリア積層フィルムの模式断面図である。第３実施形態の透明ガスバリア積層フィルム３００は、第１実施形態の透明ガスバリア積層フィルム１００の第１の接着層７ａに紫外線吸収剤又は蛍光増白剤をいずれも含まない代わりに、第２の透明プラスチックフィルム基材２の下（ガスバリア層側）に、紫外線吸収剤又は蛍光増白剤のいずれか１種以上を含むコート層９を設けた構成となっている。
　コート層９は、紫外線透過を抑える機能を有することから、電子ペーパーの表示性能を長期間にわたり良好に維持するために設けられるものである。このコート層９は、優れた紫外線透過抑制機能及び高い透明性を得る観点から、紫外線吸収剤もしくは蛍光増白剤である、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ヒドロキシフェニルトリアジン、ベンゾオキザゾリルチオフェン及びジスチリル・ビフェニル誘導体からなる群より選択される少なくとも１種を成分として含有していることが好ましい。
　コート層９は、第２の透明プラスチックフィルム基材２の一方の面上に紫外線吸収剤もしくは蛍光増白剤を含むコーティング剤を塗布して乾燥し、乾燥した塗布面と第１の透明プラスチックフィルム基材１上に形成されたガスバリア層６とを対向させて、第１の接着層７ａとなる接着剤又は粘着剤を介して貼り合せることにより、第２の透明プラスチックフィルム基材２と第１の接着層７ａとの間に設けられる。紫外線吸収剤もしくは蛍光増白剤を含むコーティング剤の塗布方法には、通常用いられるディッピング法、ロールコーティング法、スクリーン印刷法、スプレー法、グラビア印刷法などの従来公知の手段を用いることができる。コート層の厚さは、コーティング剤の種類や加工機や加工条件によって異なるが、０．０１～５０μｍの範囲にあることが好ましく、より好ましくは１～３０μｍの範囲である。
＜第４実施形態に係る透明ガスバリア積層フィルム＞
　次に、本発明の第４実施形態について説明する。図４は、本発明の第４実施形態に係る透明ガスバリア積層フィルム４００の模式断面図である。第４実施形態の透明ガスバリア積層フィルム４００では、第１実施形態の透明ガスバリア積層フィルム１００のガスバリア層６が、無機薄膜層４とガスバリア性被覆層５とが交互に積層した２層構成となっている。言い換えると、透明ガスバリア積層フィルム４００のガスバリア層６は、第１無機薄膜層４ａと第１ガスバリア性被覆層５ａとからなる第１ガスバリア層６ａと、第２無機薄膜層４ｂと第２ガスバリア性被覆層５ｂとからなる第２ガスバリア層６ｂとが、この順で形成された２層（第１ガスバリア層６ａと第２ガスバリア層６ｂ）構成となっており、このガスバリア層６が第１の透明プラスチックフィルム基材１上に形成されている。これにより、透明ガスバリア積層フィルムのガスバリア性をさらに高めることができる。なお、本実施形態では、ガスバリア層６を２層に限らず３層以上の多層構成とすることができる。
　以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
　例えば、上記実施形態では、ガスバリア層６が第１の透明プラスチックフィルム基材１の一方の面上にのみ形成されているが、第１の透明プラスチックフィルム基材１の両面（一方の面と他方の面）上に形成されていてもよい。この場合、第１の透明プラスチックフィルム基材１の他方の面上にも、例えば、無機薄膜層４が形成され、無機薄膜層４の上にガスバリア性被覆層５が積層される。
　また、上記実施形態では、シール層８が第１の透明プラスチックフィルム基材１の他方の面（第２の透明プラスチックフィルム基材２と反対側の面）上に形成されているが、第２の透明プラスチックフィルム基材２の他方の面（第１の透明プラスチックフィルム基材１と反対側の面）上に形成されていてもよい。例えば、ガスバリア層６が第１の透明プラスチックフィルム基材１の両面上に形成されている場合、シール層８は第２の透明プラスチックフィルム基材２の他方の面上に形成されてもよく、第１の透明プラスチックフィルム基材１の他方の面上にガスバリア層を介して形成されてもよい。従って、本発明の透明ガスバリア積層フィルムの一実施形態では、ガスバリア層６が、第１の透明プラスチックフィルム基材１とシール層８によって挟まれた構成であってもよい。
　さらに、シール層８が第２の透明プラスチックフィルム基材２の他方の面上に形成される場合、第３の透明プラスチックフィルム基材３は、第２の接着層７ｂを介して、第１の透明プラスチックフィルム基材１の他方の面に配置（形成）される。
　以下、実施例（構成１～１１）及び比較例（比較構成１）に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
＜実施例＞
［構成１］
（ガスバリア層の形成）
　第１の透明プラスチックフィルム基材としての厚み１２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、無機薄膜層として酸化珪素を真空蒸着法により２５０Åの厚みに設けた。さらに、テトラエトキシシランとポリビニルアルコールとを含む塗液をウェットコーティング法により無機薄膜層上に塗工し、０．３μｍの厚みのガスバリア性被覆層を形成した。これにより、第１の透明プラスチックフィルム基材の一方の面上に無機薄膜層及びガスバリア性被覆層からなるガスバリア層を形成した。
（透明ガスバリア積層フィルムの作製）
　続いて、第２の透明プラスチックフィルム基材としての厚み５０μｍのポリプロピレンフィルム（ＯＰＰ、１５０℃３０分でのＴＤ方向（最大収縮方向）の熱収縮率：９．２％）の片面に、アクリル樹脂の固形分に対し３％重量比分の紫外線吸収剤を添加したアクリル樹脂からなる粘着剤をウェットコーティング法により塗工した。塗工した粘着剤を介して、第２の透明プラスチックフィルム基材と第１の透明プラスチックフィルム基材上に形成されたガスバリア層面との貼り合わせを行った。
　次に、第１の透明プラスチックフィルム基材のガスバリア層とは反対側の面に、ポリウレタン樹脂からなるアンカーコート層をウェットコーティング法により塗工しながら、塗工面上にエチレン・酢酸ビニル共重合樹脂の押出ラミネートを行い、第１の透明プラスチックフィルム基材の他方の面上に、アンカーコート層を介して、エチレン・酢酸ビニル共重合樹脂からなるシール層を形成した。これにより、図１に示した第１実施形態に係る、構成１の透明ガスバリア積層フィルムを作製した。
（電子ペーパー素子の作製）
　得られた透明ガスバリア積層フィルムのシール層にプリント基板を密着させ、ヒートシールを行い貼り付けることで、構成１の電子ペーパー素子を作製した。
［構成２］
　まず、構成１と同様の操作にて、第１の透明プラスチックフィルム基材の一方の面上に無機薄膜層及びガスバリア性被覆層からなるガスバリア層を形成した。
　続いて、第２の透明プラスチックフィルム基材としての厚み５０μｍのポリプロピレンフィルム（ＯＰＰ、１５０℃３０分でのＴＤ方向（最大収縮方向）の熱収縮率：９．２％）の片面に、第２の接着層としてアクリル樹脂の固形分に対し３％重量比分の紫外線吸収剤を添加したアクリル樹脂からなる粘着剤をウェットコーティング法により塗工し、塗工した粘着剤を介して、第２の透明プラスチックフィルム基材と第３の透明プラスチックフィルム基材としての厚み１２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ）との貼り合わせを行った。
　続いて、上記のように第３の透明プラスチックフィルム基材と貼り合わせた第２の透明プラスチックフィルム基材のもう一方の面に、第１の接着層として紫外線吸収剤を添加しないアクリル樹脂からなる粘着剤をウェットコーティング法により塗工し、塗工した粘着剤を介して、第２の透明プラスチックフィルム基材と第１の透明プラスチックフィルム基材上に形成されたガスバリア層と貼り合わせを行った。
　次に、構成１と同様の操作にて、第１の透明プラスチックフィルム基材のガスバリア層とは反対側の面に、アンカーコート層、シール層を形成し、図２に示した第２実施形態に係る、構成２の透明ガスバリア積層フィルムを作製した。さらに、この透明ガスバリア積層フィルムを用いたこと以外は、構成１と同様の操作にて、構成２の電子ペーパー素子を得た。
［構成３］
　第１の透明プラスチックフィルム基材としての厚み１２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、無機薄膜層として酸化珪素を真空蒸着法により２５０Åの厚みに設け、その無機薄膜層上に、テトラエトキシシランとポリビニルアルコールとを含む塗液をウェットコーティング法により塗工し、０．３μｍの厚みのガスバリア性被覆層を形成した。さらにガスバリア性被覆層の上に、無機薄膜層として酸化珪素を２５０Åの厚みに設け、その無機薄膜層上に、テトラエトキシシランとポリビニルアルコールとを含む塗液をウェットコーティング法により塗工し、０．３μｍの厚みのガスバリア性被覆層を形成した。これにより、無機薄膜層とガスバリア性被覆層が交互に２層ずつ積層されたガスバリア層としたこと以外は、構成１と同様の操作にて、図４に示した第４実施形態に係る、構成３の透明ガスバリア積層フィルムを得た。さらに、この透明ガスバリア積層フィルムを用いたこと以外は、構成１と同様の操作にて、構成３の電子ペーパー素子を得た。
［構成４］
　第２の透明プラスチックフィルム基材として、厚み５０μｍのポリプロピレンフィルムの代わりに、厚み２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ、１５０℃３０分でのＴＤ方向（最大収縮方向）の熱収縮率：１．０％以下）を用いたこと以外は、構成１と同様の操作にて、構成４の透明ガスバリア積層フィルムを得た。さらに、この透明ガスバリア積層フィルムを用いたこと以外は、構成１と同様の操作にて、構成４の電子ペーパー素子を得た。
［構成５］
　紫外線吸収剤を添加しないアクリル樹脂からなる粘着剤を用いたこと以外は、構成１と同様の操作にて、構成５の透明ガスバリア積層フィルムを得た。さらに、この透明ガスバリア積層フィルムを用いたこと以外は、構成１と同様の操作にて、構成５の電子ペーパー素子を得た。
＜比較例＞
［比較構成１］
　無機薄膜層とガスバリア性被覆層からなるガスバリア層の代わりに、厚み１２μｍのポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）コートポリエチレンテレフタレートフィルムを用いたこと以外は、構成１と同様の操作にて、比較構成１の透明ガスバリア積層フィルムを得た。さらに、この透明ガスバリア積層フィルムを用いたこと以外は、構成１と同様の操作にて、比較例である比較構成１の電子ペーパー素子を得た。
　実施例の構成１～５、及び比較例の比較構成１で作製した透明ガスバリア積層フィルムと、電子ペーパー素子について、以下の評価を行った。
＜水蒸気透過度測定＞
　実施例の構成１～５、及び比較例の比較構成１で作製した透明ガスバリア積層フィルムについて、水蒸気透過率測定装置（モダンコントロール社製　ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ　３／３１）を使用して、水蒸気透過度を、温度４０℃、湿度９０％ＲＨの条件下で測定した。
＜光線透過率測定＞
　実施例の構成１～５、及び比較例の比較構成１で作製した透明ガスバリア積層フィルムについて、分光光度計（島津製作所社製　ＵＶ－３１００）を使用して、波長４００ｎｍでの光線透過率を測定した。
＜外観評価＞
　実施例の構成１～５、及び比較例の比較構成１で作製した電子ペーパー素子について、プリント基板に貼り付けられた透明ガスバリア積層フィルムの外観を目視にて確認した。シワがなく外観良好なものを「Ａ」、一部シワが見られるが目立たないものを「Ｂ」、不良となるような多数のシワがあるものを「Ｃ」と判定した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　実施例の構成１～５、及び比較例の比較構成１の作製条件と評価結果を表１にまとめて示す。
　表１の結果から分かるように、構成１～５の透明ガスバリア積層フィルムは、無機薄膜層とガスバリア性被覆層、及びシール層をもつことで良好なバリア性を示した。また、構成１～４では紫外線吸収剤を第１の接着層、又は第２の接着層の粘着剤に添加しているため、紫外線透過を抑える機能を有していた。また、構成１～３では、第２の透明プラスチックフィルム基材、又は第３の透明プラスチックフィルム基材にポリプロピレンフィルムを使用していることで、プリント基板上に凹凸があっても、シワなく貼り付けることができ、外観の良い電子ペーパー素子を作製することができた。
　また、第２のプラスチックフィルム基材としてポリエチレンテレフタレートが用いられている構成４の透明ガスバリア積層フィルムよりも、ポリプロピレンフィルムが使用されている構成１～３、５の方が外観上のシワが少ない結果であった。ただし、構成４において見られたシワも目立ったものではなかったことから外観上の問題はないと判断した。
　構成５の透明ガスバリア積層フィルムでは、紫外線吸収剤が添加されていないため、紫外線透過率が高く、電子ペーパー素子の安定した表示性能が期待できないおそれがある。
　比較例である比較構成１の透明ガスバリア積層フィルムでは、無機薄膜層とガスバリア性被覆層からなるガスバリア層がないため、バリア性に乏しく、電子ペーパー素子の耐久性（耐水蒸気）に劣っていた。
［構成６］
（ガスバリア層の形成）
　まず、構成１と同様の操作にて、第１の透明プラスチックフィルム基材の一方の面上に無機薄膜層及びガスバリア性被覆層からなるガスバリア層を形成した。
（透明ガスバリア積層フィルムの作製）
　続いて、第２の透明プラスチックフィルム基材としての厚み１２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、アクリル樹脂の固形分に対し３％重量比分の紫外線吸収剤を添加したアクリル樹脂からなる粘着剤をウェットコーティング法により塗工し、塗工した粘着剤を介して、第２の透明プラスチックフィルム基材と第１の透明プラスチックフィルム基材上に形成されたガスバリア層との貼り合わせを行った。
　次に、第１の透明プラスチックフィルム基材のガスバリア層とは反対側の面に、ポリウレタン樹脂からなるアンカーコート層をウェットコーティング法により塗工しながら、塗工面上に酢酸ビニル含有量が２０モル％である、エチレン・酢酸ビニル共重合樹脂の押出ラミネートを行い、第１の透明プラスチックフィルム基材の他方の面上に、アンカーコート層を介して、エチレン・酢酸ビニル共重合樹脂からなるシール層を形成した。これにより、図１に示した第１実施形態に係る、構成６の透明ガスバリア積層フィルムを作製した。
（電子ペーパー素子の作製）
　上記の透明ガスバリア積層フィルムを用いたこと以外は、構成１と同様の操作にて、構成６の電子ペーパー素子を作製した。
［構成７］
　第２の透明プラスチックフィルム基材としての厚み１２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル樹脂の固形分に対し５％重量比分の紫外線吸収剤を添加したポリエステル樹脂からなるコーティング剤をウェットコーティング法により塗工しコート層を設けたこと、さらに紫外線吸収剤を添加しないアクリル樹脂からなる粘着剤をコート層上に塗工したこと以外は、構成６と同様の操作にて、図３に示した第３実施形態に係る、構成７の透明ガスバリア積層フィルムを得た。さらに、この透明ガスバリア積層フィルムを用いたこと以外は、構成６と同様の操作にて、構成７の電子ペーパー素子を得た。
［構成８］
　第２の透明プラスチックフィルム基材として、染色法により紫外線吸収剤を含浸させた厚み１２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを使用したこと、さらに紫外線吸収剤を添加しないアクリル樹脂からなる粘着剤を用いたこと以外は、構成６と同様の操作にて、図１に示した第１実施形態に係る、構成８の透明ガスバリア積層フィルムを得た。さらに、この透明ガスバリア積層フィルムを用いたこと以外は、構成６と同様の操作にて、構成８の電子ペーパー素子を得た。
［構成９］
　第１の透明プラスチックフィルム基材としての厚み１２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、無機薄膜層として酸化珪素を真空蒸着法により２５０Åの厚みに設け、その無機薄膜層上に、テトラエトキシシランとポリビニルアルコールとを含む塗液をウェットコーティング法により塗工し０．３μｍの厚みのガスバリア性被覆層を形成した。さらにそのガスバリア性被覆層の上に、無機薄膜層として酸化珪素を２５０Åの厚みに設け、その無機薄膜層上に、テトラエトキシシランとポリビニルアルコールとを含む塗液をウェットコーティング法により塗工し０．３μｍの厚みのガスバリア性被覆層を形成した。上記のとおり無機薄膜層とガスバリア性被覆層が交互に２層ずつ積層されたガスバリア層としたこと以外は、構成６と同様の操作にて、図４に示した第４実施形態に係る、構成９の透明ガスバリア積層フィルムを得た。さらに、この透明ガスバリア積層フィルムを用いたこと以外は、構成６と同様の操作にて、構成９の電子ペーパー素子を得た。
［構成１０］
　紫外線吸収剤を添加しないアクリル樹脂からなる粘着剤を用いたこと以外は、構成６と同様の操作にて、構成１０の透明ガスバリア積層フィルムを得た。さらに、この透明ガスバリア積層フィルムを用いたこと以外は、構成６と同様の操作にて、構成１０の電子ペーパー素子を得た。
［構成１１］
　シール層として、酢酸ビニル含有量が７％である、エチレン・酢酸ビニル共重合樹脂を用いたこと以外は、構成６と同様の操作にて、構成１１の透明ガスバリア積層フィルムを得た。さらに、この透明ガスバリア積層フィルムを用いたこと以外は、構成６と同様の操作にて、構成１１の電子ペーパー素子を得た。
　構成６～１１で作製した透明ガスバリア積層フィルムと、電子ペーパー素子については、以下の評価を行った。
　構成６～１１で作製した透明ガスバリア積層フィルム及び電子ペーパー素子について、以下に示す測定以外は、構成１～５及び比較構成１で作製した透明ガスバリア積層フィルム及び電子ペーパー素子と同じ条件で測定を行った。
＜光線透過率測定＞
　構成６～１１で作製した透明ガスバリア積層フィルムについて、分光光度計（島津製作所社製　ＵＶ－３１００）を使用して、波長３８０ｎｍ及び４２０ｎｍでの光線透過率を測定した。
＜シール強度評価＞
　構成６～１１で作製した電子ペーパー素子について、透明ガスバリア積層フィルムとプリント基板とのシール強度評価として、剥離試験機（島津製作所社製　ＡＧＳ－Ｘ）を使用して、試験片１５ｍｍ幅、剥離角度１８０度、剥離速度３００ｍｍ／ｍｉｎにて、剥離強度を測定した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　構成６～１１の作製条件と評価結果を表２にまとめて示す。
　表２の結果から分かるように、構成６～１１の透明ガスバリア積層フィルムは、無機薄膜層とガスバリア性被覆層、及びシール層をもつことで良好なバリア性を示した。構成６～９及び１１の透明ガスバリア積層フィルムは、紫外線吸収剤を第１の接着層、コート層又は第２の透明プラスチックフィルム基材に添加しているため、紫外線透過を抑える機能を有していた。また、構成６～１０において、シール層は酢酸ビニル含有量が２０％のエチレン・酢酸ビニル共重合樹脂の押出ラミネートで形成され、得られた透明ガスバリア積層フィルムを用いてプリント基板にヒートシールを行い電子ペーパー素子を作製しているので、プリント基板に十分なシール強度（密着性）で貼り付けることができた。
　他方、構成１０の透明ガスバリア積層フィルムでは、紫外線吸収剤が添加されていないため、紫外線透過率が高く、電子ペーパー素子の安定した表示性能が期待できないおそれがある。
　構成１１の透明ガスバリア積層フィルムでは、シール層に用いたエチレン・酢酸ビニル共重合樹脂の酢酸ビニル含有量が少ないため、構成６～１０と比較して、透明ガスバリア積層フィルムとプリント基板とのシール強度（密着性）に劣る結果となった。なお、構成６～１１において見られたシワも目立ったものではなかったことから外観上の問題はないと判断した。
　本発明の透明ガスバリア積層フィルムは、高いガスバリア性又は紫外線耐性が必要とされるプラスチックフィルムを基材とする電子ペーパー素子及び有機ＥＬ素子などのディスプレイ、軟包装材料、並びに太陽電池などの産業資材用途に応用が可能である。
　１…第１の透明プラスチックフィルム基材、２…第２の透明プラスチックフィルム基材、３…第３の透明プラスチックフィルム基材、４…無機薄膜層、５…ガスバリア性被覆層、６…ガスバリア層、７ａ…第１の接着層、７ｂ…第２の接着層、８…シール層、９…コート層、１００，２００，３００，４００・・・透明ガスバリア積層フィルム。

Claims (15)

  1. 　少なくとも一方の面に無機薄膜層を含むガスバリア層が形成された第１の透明プラスチックフィルム基材の前記ガスバリア層が形成された面と、第２の透明プラスチックフィルム基材の一方の面とが、第１の接着層を介して貼り合わされ、
    　前記第１の透明プラスチックフィルム基材又は前記第２の透明プラスチックフィルム基材の他方の面にシール層が形成された、透明ガスバリア積層フィルム。
  2. 　前記第２の透明プラスチックフィルム基材がポリプロピレンフィルムである、請求項１に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
  3. 　前記ガスバリア層が、前記無機薄膜層と、前記無機薄膜層上に形成されたガスバリア性被覆層とを含む、請求項１又は２に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
  4. 　前記第２の透明プラスチックフィルム基材の１５０℃３０分での熱収縮率が５％以上１５％以下である、請求項１～３のいずれか１項に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
  5. 　前記シール層が形成された面とは反対側の面に、第２の接着層を介して第３の透明プラスチックフィルム基材が配置されている、請求項１～４のいずれか１項に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
  6. 　前記第３の透明プラスチックフィルム基材がポリエステルフィルムである、請求項５に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
  7. 　前記第１の接着層が、紫外線吸収剤及び蛍光増白剤のいずれか１種以上を含む、請求項１～６のいずれか１項に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
  8. 　前記第２の接着層が、紫外線吸収剤及び蛍光増白剤のいずれか１種以上を含む、請求項５又は６に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
  9. 　前記第２の透明プラスチックフィルム基材と、前記第１の接着層との間に、紫外線吸収剤及び蛍光増白剤のいずれか１種以上を含むコート層が設けられている、請求項１～６のいずれか１項に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
  10. 　前記第２の透明プラスチックフィルム基材に、紫外線吸収剤及び蛍光増白剤のいずれか１種以上が含浸されている、請求項１～６のいずれか１項に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
  11. 　前記第３の透明プラスチックフィルム基材に、紫外線吸収剤、蛍光増白剤のいずれか１種以上が含浸されている、請求項５又は６に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
  12. 　前記シール層がエチレン・酢酸ビニル共重合樹脂を含む、請求項１～１１のいずれか１項に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
  13. 　前記エチレン・酢酸ビニル共重合樹脂における酢酸ビニル含有量が１０～３０モル％である、請求項１２に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
  14. 　前記ガスバリア層が、無機薄膜層とガスバリア性被覆層とが交互に２層ずつ以上積層された構造である、請求項１～１３のいずれか１項に記載の透明ガスバリア積層フィルム。
  15. 　請求項１～１４のいずれか１項に記載の透明ガスバリア積層フィルムにより前記シール層を介して封止された、電子ペーパー。
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