WO2016121635A1

WO2016121635A1 - マスクケース、保管装置及び方法、搬送装置及び方法、並びに露光装置

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Publication number: WO2016121635A1
Application number: PCT/JP2016/051805
Authority: WO
Inventors: 文吾吹田; 幹人向井
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 2015-01-26
Filing date: 2016-01-22
Publication date: 2016-08-04
Anticipated expiration: 2017-07-26
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Abstract

　マスクを支持する支持部が設けられる底面を有する第１ケース部と、第１ケース部に対して着脱可能に設けられ、底面に対向配置される上面を有する第２ケース部と、を備え、保管装置に保管可能なマスクケースであって、第２ケース部は、保管装置に保持されるときに用いられる保持部を有し、保持部は、第１ケース部に装着された第２ケース部が保管装置に保管される第１位置にあるときに、光が通過する第１の光通過部と、第１ケース部から取り外された第２ケース部の保持部が保管装置に保持される第２位置にあるときに、光が通過する、第１の光通過部とは異なる第２の光通過部と、を備える。マスクを効率的に搬送できる。

Description

マスクケース、保管装置及び方法、搬送装置及び方法、並びに露光装置

　本発明は、マスクが収納されるマスクケース、マスクを保管する保管技術、マスクケースに収納されるマスクを搬送する搬送技術、保管技術又は搬送技術を用いる露光技術、及び露光技術を用いるデバイス製造方法に関する。

　例えば液晶表示素子等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するために使用される露光装置は、複数のマスクをそれぞれマスクケースに収納された状態で保管可能なマスクライブラリと、マスク搬送装置とを備えている。マスク搬送装置は、使用済みのマスクが収納されたマスクケースをマスクライブラリから搬出し、次の露光工程で使用されるマスクが収納されたマスクケースをマスクライブラリに搬入する。そして、露光時には、次に使用するマスクが収納されたマスクケースをマスクライブラリからマスク搬送装置によって取り出し、このマスクケースからマスクローダ系（マスクキャリア）にマスクを受け渡し、マスクローダ系がそのマスクを露光装置のマスクステージにロードしていた（例えば、特許文献１参照）。

特開２００５－２６２８６号公報

　露光装置における上述のようなマスク搬送装置、マスクローダ系およびマスクライブラリを含むマスク搬送システムでは、マスクステージに対してマスクを確実に搬送するためにマスクの搬送不良を防止することが求められている。ここで、マスクの搬送不良とは、例えば、マスクの誤搬送、搬送システムの停滞・停止、マスク・マスクケース・マスク搬送システム等の破損などが含まれる。

　第１の態様によれば、マスクを支持する支持部が設けられる底面を有する第１ケース部と、第１ケース部に対して着脱可能に設けられ、その底面に対向配置される上面を有する第２ケース部と、を備え、保管装置に保管可能なマスクケースであって、その第２ケース部は、その第１ケース部から取り外されてその保管装置に保持されるときに用いられる保持部を有し、その保持部は、その第１ケース部に装着されたその第２ケース部がその保管装置に保管される第１位置にあるときに、光が通過する第１の光通過部と、その第１ケース部から取り外されたその第２ケース部のその保持部がその保管装置に保持される第２位置にあるときに、その光が通過する、その第１の光通過部とは異なる第２の光通過部と、を備えるマスクケースが提供される。

　第２の態様によれば、マスクを支持する支持部が設けられる底面を有する第１ケース部と、第１ケース部に対して着脱可能に設けられ、その底面に対向配置される上面を有する第２ケース部と、を備え、保管装置に保管可能なマスクケースであって、その第２ケース部は、その第１ケース部から取り外されて保持されるときに用いられる保持部を備え、その保持部は、その第１ケース部から取り外されたその第２ケース部がその保管装置で支持されるときに、その保管装置に設けられたピン部に嵌合するための開口部を有するマスクケースが提供される。

　第３の態様によれば、マスクを支持する支持部が設けられる底面を有する第１ケース部と、第１ケース部に対して着脱可能に設けられ、その底面に対向配置される上面を有する第２ケース部と、で構成されるマスクケースであって、その第１ケース部は、その底面においてその支持部に対向する位置に、外部からの光を通過させる光通過部を備えるマスクケースが提供される。
　第４の態様によれば、パターンが形成されたマスクが収納されるマスクケースであって、そのマスクを支持する下ケース部と、その下ケース部に支持されたそのマスクを覆うように、その下ケース部に載置される上ケース部と、を備え、その上ケース部は、マスクケース用の支持部でその上ケース部を支持するための鍔部を有し、その鍔部に、その上ケース部の位置を検出するための光ビームが通過可能な開口が設けられたマスクケースが提供される。

　第５の態様によれば、パターンが形成されたマスクが収納されるマスクケースであって、そのマスクを支持する下ケース部と、その下ケース部に支持されたそのマスクを覆うように、その下ケース部に載置される上ケース部と、を備え、その下ケース部の底面に、外部からの光を反射する第１反射部、及び外部からの光を通過させる窓部が設けられたマスクケースが提供される。
　第６の態様によれば、パターンが形成されたマスクが収納されるマスクケースであって、そのマスクを支持する下ケース部と、その下ケース部に支持されたそのマスクを覆うように、その下ケース部に載置される上ケース部と、を備え、その下ケース部のそのマスクケースの搬送部に対向する底面に、回転対称な第１の凹部、Ｖ字型の溝状の第２の凹部、及び少なくとも１箇所の平坦部が設けられたマスクケースが提供される。

　第７の態様によれば、パターンが形成されたマスクを収納し、そのマスクを搬送するための搬送装置に収容されるマスクケースであって、そのマスクを支持する支持部を含む第１ケース部と、その第１ケース部上に載置され、そのマスクを収納するための空間をその第１ケース部と共に形成する第２ケース部と、を備え、その第２ケース部は、その支持部に支持されたそのマスクの上面に対向する天板部およびその天板部に対して外側に突き出した鍔部を含み、その鍔部は、その搬送装置の収容部に対するその第２ケース部の収容状態を検知するためにその鍔部を貫通した貫通部が設けられたマスクケースが提供される。

　第８の態様によれば、マスクケースを保管する保管装置において、第１の態様のマスクケースのその保持部を介してそのマスクケースを支持可能な支持部と、その支持部に向けて光ビームを照射する照射部と、その支持部に向けて照射されたその光ビームを検出する検出部と、を備える保管装置が提供される。
　第９の態様によれば、マスクケースを搬送する搬送装置であって、第８の態様の保管装置にそのマスクケースを搬送する搬送アームを備え、その搬送アームは、そのマスクケースを保持してからそのマスクケースがその保管装置のその支持部に支持されるまでの間にその検出部で検出されたその光ビームの検出結果に基づいて、そのマスクケースがその支持部で支持される位置を制御する搬送装置が提供される。

　第１０の態様によれば、マスクケースを保管する保管装置であって、第２の態様のマスクケースの保持部を支持可能なケース支持部を備え、そのケース支持部に、その保持部に設けられたその開口部と係合可能なピン部を有する保管装置が提供される。
　第１１の態様によれば、マスクケースを搬送する搬送装置において、第３の態様のマスクケースを支持するケース支持部と、そのマスクケースに向けて光ビームを照射する照射部と、そのマスクケースに向けて照射されたその光ビームを検出する検出部と、を備える搬送装置が提供される。

　第１２の態様によれば、マスクケースを保管する保管装置、又はマスクケースを搬送する搬送装置において、上述の態様のマスクケースを支持するケース支持部を備える保管装置、又は搬送装置が提供される。
　第１３の態様によれば、マスクケースを搬送する搬送装置であって、上述の態様のマスクケースから第２ケース部を取り出して、そのマスクが載置されたその第１ケース部を搬送する搬送アームを備える搬送装置が提供される。

　第１４の態様によれば、基板を露光する露光装置において、上述の態様のマスクケースに収納されたマスクを用いて、その基板を露光する露光装置が提供される。
　第１５の態様によれば、基板を露光する露光装置において、上述の態様の保管装置、又は上述の態様の搬送装置を備え、その保管装置に保管可能なマスクケース、又はその搬送装置によって搬送されたマスクケースの内部に収納されたマスクを用いて、その基板を露光する露光装置が提供される。

　第１６の態様によれば、上述の態様の露光装置を用いて感光性基板を露光することと、その露光された感光性基板を処理することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
　第１７の態様によれば、マスクケースを保管する保管方法において、上述の態様のマスクケースのその保持部を介してそのマスクケースを支持することと、その支持部に向けて光ビームを照射することと、その支持部に向けて照射されたその光ビームを検出することと、を含む保管方法が提供される。

　第１８の態様によれば、マスクケースを搬送する搬送方法において、マスクが収納された上述の態様のマスクケースを支持することと、そのマスクケースの第１ケース部に光を照射し、その第１ケース部に照射されたその光を検出することと、その第１ケース部に設けられる光通過部を介してその第１ケース部に載置されたそのマスクにその光を照射し、そのマスクからの反射光をその光通過部を介して検出することと、を含む搬送方法が提供される。

実施形態の一例に係る露光装置の概略構成を示す図である。（Ａ）は図１中のマスクケースを上面側から見た斜視図、（Ｂ）はそのマスクケースを底面側から見た斜視図である。（Ａ）は図１中のマスクケースを示す平面図、（Ｂ）はそのマスクケースを示す底面図、（Ｃ）は図３（Ｂ）のＣＣ線に沿う部分断面図である。図１中のマスクケースの下ケース部から上ケース部を外した状態を示す斜視図である。（Ａ）はマスクの搬送車を示す平面図、（Ｂ）は搬送車を示す側面図である。（Ａ）はマスクの搬送装置を示す一部を省略した平面図、（Ｂ）は搬送装置を示す側面図である。マスク及びマスクケースの検出装置を示す拡大断面図である。マスクライブラリを示す斜視図である。マスクライブラリを示す正面図である。複数のマスクケースが搬入されたマスクライブラリを示す斜視図である。（Ａ）はマスクの搬送方法を含む露光方法の一例を示すフローチャート、（Ｂ）は搬送方法の第１変形例を示すフローチャート、（（Ｃ）は搬送方法の第２変形例を示すフローチャートである。マスクライブラリ及びマスクケースを示す一部を断面で表した側面図である。マスクライブラリ及び分離されたマスクケースを示す一部を断面で表した側面図である。変形例のマスクケースを示す平面図である。（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）はそれぞれ変形例のマスクケースをマスクライブラリに搬入する際の動作説明図である。（Ａ）はマスクケースを搬入する際の検出信号の一例を示す図、（Ｂ）はマスクケースの上ケース部を取り外す際の検出信号の一例を示す図である。（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）はそれぞれ変形例のマスクケースの上ケース部を取り外す際の動作説明図である。（Ａ）は別の変形例のマスクケースを示す平面図、（Ｂ）は図１８（Ａ）中の鍔部を示す拡大図、（Ｃ）は鍔部の他の例を示す拡大図である。電子デバイスの製造方法の一例を示すフローチャートである。

　本発明の実施形態の一例につき図面を参照して説明する。図１は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの概略構成を示す。一例として、露光装置ＥＸ（投影露光装置）は、走査露光型であり、液晶表示素子又は有機ＥＬ(Electro-Luminescence)方式の表示素子等を製造するためのレジスト（感光剤）が塗布された平板状のプレートＰ（感光基板）に、マスクＭのパターンの像を露光する。なお、以下の説明において、水平面内で、後述のマスクライブラリＬＢからマスクＭが収納された後述のマスクケース３０を搬入又は搬出する方向に沿ってＹ軸を取り、その水平面内でＹ軸に直交する方向に沿ってＸ軸を取り、Ｘ軸及びＹ軸に垂直な方向（すなわち鉛直方向）に沿ってＺ軸を取っている。

　露光装置ＥＸは、矩形の平板状のマスクＭのパターンをプレートＰに露光する露光部Ｓを備えている。なお、一例として、マスクＭのパターン面（下面）には、矩形の枠状のフレーム（不図示）を介して防塵用の薄膜（いわゆるペリクル）が張設されていてもよい。露光部Ｓは、マスクＭを保持して移動するマスクステージＭＳＴと、露光光でマスクＭを照明する照明系ＩＬと、マスクＭのパターンの像をプレートＰの表面に投影する投影光学系ＰＬと、プレートＰを保持して移動するプレートステージＰＳＴとを有する。さらに、露光装置ＥＸは、それぞれマスクＭが収納された複数のマスクケース３０を保管可能な保管部としてのマスクライブラリＬＢと、マスクライブラリＬＢに対するマスクケース３０の搬入及び搬出等を行う搬送装置Ｈ１と、マスクケース３０から取り出したマスクＭを露光部ＳのマスクステージＭＳＴに搬送するマスクローダ系Ｈ２と、装置全体の動作を制御する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。なお、露光部Ｓ、マスクライブラリＬＢ、搬送装置Ｈ１、及びマスクローダ系Ｈ２は、所定環境に設定された露光チャンバＣＨ内部に収容されている。

　マスクライブラリＬＢは、露光チャンバＣＨの＋Ｙ方向の側面に設けられたマスクケース３０の搬出入口（不図示）の近傍に設けられ、マスクケース３０を収容する複数の収容部６５及びマスクケース３０を一時的に収容する一時収容部６６を有する。複数の収容部６５はＺ方向に配列され、収容部６５に収容される各マスクケース３０にはそれぞれ１枚のマスクＭが個別に収納される。複数のマスクケース３０内のマスクＭには、通常は互いに異なるマスクパターンが形成されている。

　一例として、マスクライブラリＬＢ内にあるマスクＭとは別の多くのマスクＭが、それぞれマスクケース３０に収納された状態で、露光チャンバＣＨの外部のマスクストッカ（不図示）に保管されている。そして、露光装置ＥＸで必要になったマスクＭが収納されたマスクケース３０が、そのマスクストッカから搬送車Ｖによって露光チャンバＣＨの搬出入口（不図示）を通してマスクライブラリＬＢの一時収容部６６に搬入される。一時収容部６６に搬入されたマスクケース３０は、搬送装置Ｈ１によって収容部６５に移される。さらに、使用済みのマスクＭが収納されたマスクケース３０が、搬送装置Ｈ１によって収容部６５から一時収容部６６に移される。そのマスクケース３０は、搬送車Ｖによって一時収容部６６から露光チャンバＣＨの搬出入口（不図示）を通してマスクストッカ（不図示）に戻される。

　図２（Ａ）は図１中のマスクケース３０を上面側から見た斜視図、図２（Ｂ）はマスクケースを底面側から見た斜視図、図３（Ａ）はマスクケース３０を示す平面図（上面図）、図３（Ｂ）はマスクケース３０を示す底面図である。なお、図２（Ａ）～図３（Ｂ）における座標系（Ｘ，Ｙ，Ｚ）は、マスクケース３０が図１のマスクライブラリＬＢの収容部６５に収容されている状態での座標系を示している。

　マスクケース３０は、図２（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、マスクＭが載置される下ケース部（第１ケース部）３１Ａと、その下ケース部３１Ａに載置されたマスクＭを覆うように下ケース部３１Ａの上に載置（装着）される上ケース部（第２ケース部）３１Ｂとを備えている。すなわち、マスクケース３０は、下ケース部３１Ａと上ケース部３１Ｂとを互いに組み合わせてマスクＭを収納するための空間を形成している。下ケース部３１Ａと上ケース部３１Ｂとは、マスクＭを収納するための空間を覆う（囲む）ように組み合わされ、この空間に収納されたマスクＭを保護する。下ケース部３１Ａは、図２（Ｂ）及び図３（Ｂ）に示すように、マスクＭよりも大きい矩形の平板状のベース部材３２、及びベース部材３２の－Ｙ方向の上端部にボルト（不図示）を介して固定された平板状の側壁部材３３を有する。上ケース部３１Ｂは、図２（Ａ）及び図３（Ａ）に示すように、ベース部材３２とほぼ同じ大きさの矩形の平板部（天板部）３９ａの－Ｘ方向、＋Ｘ方向及び＋Ｙ方向の端部の下側にそれぞれ平板状の側壁部３９ｂ，３９ｃ，３９ｄを設けた形状のカバー部材３９、並びにカバー部材３９の－Ｘ方向及び＋Ｘ方向の側面の中央部に、それぞれ外側に突き出るように固定されたＹ方向に細長い鍔部４１Ａ，４１Ｂを有する。一例として、マスクケース３０（ケース部３１Ａ，３１Ｂ）の上面の外形は、Ｙ方向の長さがＸ方向の幅よりも長いほぼ長方形状である。

　下ケース部３１Ａ及び上ケース部３１Ｂを構成する部材は、一例としてそれぞれアルミニウム又はステンレス等の金属から形成することができるが、金属に限定されず、プラスチックや炭素繊維を用いた複合材料等で形成してもよい。また、下ケース部３１Ａ及び上ケース部３１Ｂの一部に形成される開口（詳細後述）に合成樹脂又は石英ガラス等から形成される窓部を装着する（埋め込む）ようにしてもよい。

　ベース部材３２は、矩形の平板部３２ａのＸ方向の両側面に、それぞれ平板部３２ａよりもわずかに－Ｙ方向に突き出るとともに、底面にＹ方向に沿って溝部３２ｂ１が形成された２つの細長い平板部３２ｂを固定したものである。平板部３２ｂの溝部３２ｂ１の２箇所にそれぞれボルトＢ４を介して短いロッド状の脚部３５が固定され、平板部３２ａの底面の中央の２箇所にもそれぞれボルトＢ４を介して脚部３５が固定されている。なお、平板部３２ａに固定された脚部３５は省略することが可能である。平板部３２ａの－Ｙ方向の側面（側壁部材３３の底面）の２箇所に、断面形状がＬ字型の連結部３８Ａ，３８Ｂがボルト（不図示）によって固定され、連結部３８Ａ，３８Ｂの－Ｙ方向に突き出した部分にそれぞれ円形の開口３８Ａａ，３８Ｂａ（詳細後述）が形成されている。

　鍔部４１Ａ，４１Ｂはそれぞれ断面形状がＬ字型で、Ｙ方向の長さがカバー部材３９の長さの１／２程度であり、鍔部４１Ａ，４１Ｂのうち側壁部３９ｂ，３９ｃに対向する部分がそれぞれ複数箇所でボルトＢ５によってカバー部材３９の側壁部３９ｂ，３９ｃに固定されている。鍔部４１Ａ，４１Ｂの－Ｘ方向及び＋Ｘ方向に突き出た部分（以下、これらの部分を単に鍔部４１Ａ，４１Ｂという）の－Ｙ方向の端部に近い部分に、それぞれＹ方向に所定の幅の切り欠き部４１Ａａ，４１Ｂａが設けられ、鍔部４１Ａ，４１Ｂの＋Ｙ方向の端部に近い位置にそれぞれ所定の大きさの円形の開口（貫通孔）４１Ａｂ，４１Ｂｂが設けられている。さらに、一方（＋Ｘ方向側）の鍔部４１Ｂの切り欠き部４１Ｂａに近い位置に、Ｙ方向に沿って所定間隔で２つの互いに同じ大きさの円形の開口（貫通孔）４１Ｂｃ，４１Ｂｄが設けられている。具体的には、一例として、開口４１Ｂｃ，４１Ｂｄは、Ｙ方向に互いに６０ｍｍ隔てた位置が開口（貫通）するように設けられている。また、一例として、４１Ｂｄの中心と、開口４１Ｂｂの中心とのＹ方向の間隔は５７０ｍｍである。なお、鍔部４１Ａ，４１Ｂは、上述した切り欠き部および各開口の配置をＹ方向に関して反転した構成にしてもよい。また、開口４１Ｂｃ，４１Ｂｄは、互いに同じ大きさに限定されず異なる大きさであってもよく、円形状に限定されず他の形状であってもよい。例えば、開口４１Ｂｃ，４１Ｂｄは、円形状に閉じた開口（孔）形状ではなく、鍔部４１Ｂの側面に繋がった切り欠き形状であってもよい。

　本実施形態のマスクケース３０において、上ケース部３１Ｂの鍔部４１Ａ，４１Ｂを支持した状態で、下ケース部３１Ａを降下させることによって、上ケース部３１Ｂを下ケース部３１Ａから容易に分離することができる。逆に、その上ケース部３１Ｂが分離された状態から下ケース部３１Ａを上昇させることによって、下ケース部３１Ａ上に載置されたマスクＭを覆うように、下ケース部３１Ａに上ケース部３１Ｂを容易に装着することができる。

　図４は、下ケース部３１Ａから上ケース部３１Ｂを分離し、下ケース部３１ＡからマスクＭを持ち上げた状態のマスクケース３０を示す。図４において、下ケース部３１Ａの２つの細長い平板部３２ｂの上端部に、それぞれマスクＭを支持するための段差部３４Ｂａ，３４Ｃａが形成された支持部３４Ｂ，３４Ｃが固定され（一方の支持部３４Ｂは不図示）、支持部３４Ｂ，３４Ｃの間に段差部３４Ｂａ，３４Ｃａと同じ高さの小さい平板状の支持部３４Ａが固定されている。各１対の支持部３４Ｂ，３４Ｃの段差部３４Ｂａ，３４Ｃａ、及び１対の支持部３４Ａの上面にマスクＭのパターン面（下面）の周縁部を載置することによって、下ケース部３１ＡでマスクＭを支持することができる。マスクライブラリＬＢにマスクケース３０を収納した状態で、マスクＭのパターン面はほぼ水平面に平行である。

　また、カバー部材３９の平板部３９ａに設けられた４箇所の開口（例えばほぼ正方形の開口）に、それぞれ光（例えば可視光）を透過するマスク観察用の窓部３９ｅが装着され、平板部３９ａの＋Ｘ方向の端部に設けられた開口（例えば細長い矩形開口）に、光（例えば可視光）を透過するバーコード観察用の窓部３９ｆが装着されている。さらに、ベース部材３２の平板部３２ａの－Ｘ方向の端部かつ－Ｙ方向の端部に設けられた開口（例えばほぼ正方形の開口）に、光（例えば可視光）を透過する内部観察用の窓部３２ａ１が装着されている。下ケース部３１Ａに上ケース部３１Ｂを装着した状態で、オペレータは、窓部３９ｅを通して内部のマスクＭの状態（マスクＭの有無を含む）を観察できるとともに、オペレータ又は所定の検出装置は、窓部３９ｆを通して内部のマスクＭに形成されたバーコード（不図示）を読み取ることができる。なお、窓部３９ｅ，３９ｆ，３２ａ１には、光の透過性を有し発塵が少ない材料として合成樹脂、ガラス（例えば石英ガラス）等を用いることができる。

　また、カバー部材３９の側壁部３９ｂ，３９ｃは、それぞれベース部材３２の細長い平板部３２ｂにおいて支持部３４Ｂ，３４Ｃの外側の領域に載置されるとともに、側壁部３９ｄは、ベース部材３２の＋Ｙ方向の端部の領域に載置される。さらに、カバー部材３９の平板部３９ａの－Ｙ方向の端部３９ｇは、下ケース部３１Ａの側壁部材３３を覆うことが可能な程度に、側壁部３９ｂ，３９ｃよりも－Ｙ方向に突き出ている。そして、支持部３４Ｂ，３４Ｃの高さは側壁部材３３の高さより低く設定され、側壁部３９ｂ～３９ｄの高さは側壁部材３３の高さに対してわずかに高く設定されている。また、カバー部材３９の平板部３９ａの底面において、下ケース部３１Ａの支持部３４Ｂ，３４Ｃと側壁部材３３との間の領域に対向する位置にそれぞれ側壁部３９ｂ，３９ｃよりも低いロッド状の位置決め部４０Ａ，４０Ｂが設けられている。この構成によって、カバー部材３９の側壁部３９ｂ～３９ｄをベース部材３２上の支持部３４Ａ～３４Ｃの外側の領域に載置したときに、端部３９ｇが側壁部材３３を覆うようになるため、内部の気密性が高く維持されて、マスクケース３０の防塵性能が高くなる。さらに、位置決め部４０Ａ，４０Ｂがそれぞれ下ケース部３１Ａの一部と当接することで、振動等によって、上ケース部３１Ｂの位置が下ケース部３１Ａに対してＸ方向およびＹ方向にずれることが防止される。なお、位置決め部４０Ａ，４０Ｂは、上述のように平板部３９ａの底面の－Ｙ側の端部に設けるだけでなく、平板部３９ａの底面の＋Ｙ側の端部にも同様に設けてもよく、あるいは－Ｙ側に代えて＋Ｙ側の端部に設けてもよい。

　また、図２（Ｂ）及び図３（Ｂ）に示すように、ベース部材３２の平板部３２ａの底面に、Ｘ方向（ここではマスクケース３０の幅方向又は短辺方向）に沿って所定間隔で、第１の位置決め部３６Ａ、及び第２の位置決め部３６Ｂが固定されている。第１の位置決め部３６Ａは、その中央部に回転対称な形状の凹部３６Ａａが形成され、第２の位置決め部３６Ｂは、その中央部にＶ字型の溝状の凹部３６Ｂａ（線対称な凹部）がＸ方向に沿って形成されている。また、平板部３２ａの底面の位置決め部３６Ａ，３６Ｂから＋Ｙ方向及び－Ｙ方向にそれぞれ所定間隔離れた位置ＰＳ２，ＰＳ１及びＰＳ４，ＰＳ３に、平坦な表面（以下、平坦面という）３６Ｃａを有する４個の位置決め部３６Ｃが固定されている。一例として、図３（Ｃ）に示すように、位置決め部３６Ａの凹部３６Ａａは円錐面状である。ただし、凹部３６Ａａは球面状等でもよい。また、位置決め部３６Ａ（他の位置決め部３６Ｂ，３６Ｃも同様）は、例えばそれぞれ複数のボルトＢ４を用いて平板部３２ａの底面に固定されている。

　また、図３（Ｂ）において、マスクＭを収容した状態のマスクケース３０の重心位置は、位置決め部３６Ａ，３６Ｂの中心を結ぶ直線と、＋Ｙ方向側の２つの位置決め部３６Ｃの中心を結ぶ直線との中間付近で、かつベース部材３２のＸ方向の中心付近を通り、Ｚ軸に平行な直線上に位置している。このため、後述のように、位置決め部３６Ａ，３６Ｂの凹部３６Ａａ，３６Ｂａ及び位置ＰＳ１（又はＰＳ２）にある位置決め部３６Ｃの平坦面３６Ｃａをそれぞれ対応するボールトランスファ５４Ａ～５４Ｃ（図５（Ａ）参照）等の球面で支持することによって、マスクケース３０を安定に支持できる。なお、これらの場合でも、振動等でマスクケース３０が傾斜する場合を考慮して、他の位置ＰＳ３，ＰＳ４の位置決め部３６Ｃにも対向するように所定間隔を隔ててボールトランスファの支持部材を配置してもよい。

　また、図２（Ｂ）に示すように、ベース部材３２の平板部３２ａの窓部３２ａ１の近くに、下ケース部３１Ａの有無を検出するための光ビームを反射する反射部３７Ａが設けられている。一例として反射部３７Ａは再帰性反射部材であり、反射部３７Ａに入射した光ビームは入射した方向に反射される。このため、下ケース部３１Ａが傾斜していても、検出部（不図示）によって下ケース部３１Ａの有無を正確に検出できる。

　さらに、図２（Ｂ）のマスクケース３０の窓部３２ａ１を含む部分の断面図である図７に示すように、カバー部材３９の平板部３９ａの内面のうち窓部３２ａ１に対向する位置に、上ケース部３１Ｂの有無を検出するための光ビームＬＢ４を反射する反射部３７Ｂが設けられている。一例として反射部３７Ｂの表面には例えばマスクケース３０の幅方向を偏光方向とする偏光板（不図示）が固定されており、反射部３７Ｂは偏光特性を有する。このため、マスクケース３０の外部から窓部３２ａ１を通して反射部３７Ｂに入射し、反射部３７Ｂで反射された光ビームＬＢ４のうち、その偏光方向に沿った偏光成分の光のみがその偏光板を透過して窓部３２ａ１を通して外部に射出される。そして、外部の検出部６３ｃではその偏光方向の偏光成分のみを検出することによって、他の外乱光に影響されることなく、上ケース部３１Ｂの内面で反射された光ビームのみを検出できるため、上ケース部３１Ｂの有無を正確に検出できる。

　なお、反射部３７Ｂを偏光特性のない再帰性反射部材としてもよく、反射部３７Ａに再帰性のない偏光特性を持たせるようにしてもよい。又は、反射部３７Ａ，３７Ｂにそれぞれ再帰性及び偏光特性の両方を持たせるようにしてもよい。また、窓部３２ａ１は、マスクケース３０の外部からマスクＭの有無（又は検出部からマスクＭのパターン面Ｍａまでの距離）を検出するために照射される光ビームＬＢ３を通すためにも使用される。

　次に、搬送車Ｖの構成につき、図５（Ａ）（平面図）及び図５（Ｂ）（側面図）を参照して説明する。搬送車Ｖは、マスクライブラリＬＢの一時収容部６６に対するマスクケース３０の搬送、及び一時収容部６６からのマスクケース３０の搬出を行う。図５（Ａ）及び（Ｂ）は、図１のマスクライブラリＬＢに対するマスクケース３０の搬入又は搬出を行うためにＹ方向に移動している搬送車Ｖを示す。搬送車Ｖは、本体部５５と、駆動機構（不図示）によって駆動されて本体部５５を移動させる複数の車輪５６と、本体部５５の前面に駆動機構（不図示）によってＺ方向に移動可能に支持されたマスクケース搬送部５３とを備えている。その駆動機構は、マスクケース搬送部５３に支持されたマスクケース３０のＺ方向の位置（Ｚ位置）を計測するエンコーダ（不図示）を有する。また、マスクケース搬送部５３のほぼ水平面に平行で長方形状の上面を有する平板部５３ａに、点線で示すように平板部５３ａの長手方向とマスクケース３０の長手方向とが平行になるように、マスクケース３０が載置される。図５（Ａ）及び（Ｂ）の状態では、平板部５３ａの長手方向はＹ方向であり、平板部５３ａのＸ方向の幅はマスクケース３０のベース部材３２の平板部３２ａの幅よりも狭く設定されている。なお、複数の車輪５６によって本体部５５の移動方向を制御することも可能であり、本体部５５には、マスクケース搬送部５３のＸ方向の位置を調整する機構（不図示）も設けられている。

　また、平板部５３ａの上面に、図３（Ｂ）に示すマスクケース３０のベース部材３２の底面に設けられた位置決め部３６Ａ，３６Ｂ、及び位置ＰＳ１，ＰＳ２の位置決め部３６Ｃと同じ配置で、それぞれ表面に球面部５４Ａａ，５４Ｂａ，５４Ｃａ，５４Ｄａが設けられた支持部材であるボールトランスファ５４Ａ，５４Ｂ，５４Ｃ，５４Ｄがボルト（不図示）によって固定されている。さらに、図２（Ｂ）の位置決め部３６Ａ，３６Ｂに対する連結部３８Ａ，３８Ｂの開口３８Ａａ，３８Ｂａと同じ位置関係で、平板部５３ａの上面のボールトランスファ５４Ａ，５４Ｂから－Ｙ方向に離れた位置に、開口３８Ａａ，３８Ｂａよりも小さい直径のピン５７Ａａ，５７Ｂａを有する支持部５７Ａ，５７Ｂが固定されている。

　マスクケース３０をマスクケース搬送部５３に載置する際には、マスクケース３０の位置決め部３６Ａ，３６Ｂの凹部３６Ａａ，３６Ｂａ、及び位置ＰＳ１の位置決め部３６Ｃの平坦部３６Ｃａがそれぞれボールトランスファ５４Ａ，５４Ｂ，５４Ｃの球面部５４Ａａ，５４Ｂａ，５４Ｃａに接触する。この状態で、マスクケース３０の平板部３２ａの底面がほぼ水平面に平行になるように、マスクケース搬送部５３のボールトランスファ５４Ａ～５４Ｃの高さが個別に調整されている。この際に、マスクケース３０とマスクケース搬送部５３との間に、位置決め部３６Ａの凹部３６Ａａの半径程度までの位置ずれがあっても、マスクケース搬送部５３のボールトランスファ５４Ａの球面部の中心と位置決め部３６Ａの凹部３６Ａａの中心とが合致し、ボールトランスファ５４Ｂの球面部の中心のＹ方向の位置と位置決め部３６Ｂの凹部３６Ｂａの中心のＹ方向の位置とが合致するように、マスクケース３０の自重によってマスクケース３０の位置及び回転角が自動的に調整される。このため、マスクケース３０をマスクケース搬送部５３に載置する際の位置制御精度をあまり高くする必要がない。

　さらに、位置ＰＳ２の位置決め部３６Ｃから僅かな間隔を隔ててボールトランスファ５４Ｄの球面部５４Ｄａが位置するように、ボールトランスファ５４Ｄの高さが調整されている。なお、同様に、位置ＰＳ３．ＰＳ４の位置決め部３６Ｃから僅かな間隔を隔てて別のボールトランスファ（不図示）を平板部５３ａの上面に設けてもよい。
　凹部３６Ａａ，３６Ｂａ及び平坦部３６Ｃａをそれぞれボールトランスファ５４Ａ～５４Ｃで支持することによって、マスクケース搬送部５３（搬送車Ｖ）に対するマスクケース３０のＸ方向及びＹ方向の位置、及びＺ軸に平行な軸の回り（以下、θｚ方向という）の回転角がそれぞれ目標値に自動的に設定され、この状態で搬送車Ｖによってマスクケース３０が安定に搬送される。また、他の位置ＰＳ２の位置決め部３６Ｃに近接してボールトランスファ５４Ｄが配置されているため、振動等でマスクケース３０が傾斜しても、位置決め部３６Ｃがボールトランスファ５４Ｄに接触することによって、その傾斜角がそれ以上大きくなることはない。さらに、この状態でマスクケース３０の連結部３８Ａ，３８Ｂの開口３８Ａａ，３８Ｂａにマスクケース搬送部５３のピン５７Ａａ，５７Ｂａが差し込まれるため、搬送中の振動等によってマスクケース３０の位置がずれることが確実に防止できる。なお、搬送中の振動が少ない場合等には、連結部３８Ａ，３８Ｂ及び支持部５７Ａ，５７Ｂを省略することも可能である。

　また、露光チャンバＣＨの外部には、一例としてＹ方向に離れた２箇所で搬送車Ｖのマスクケース搬送部５３の側面までの間隔を検出する非接触方式の間隔センサ（不図示）が設置されている。そして、マスクケース搬送部５３に載置されているマスクケース３０のＸ方向の位置及びθｚ方向の回転角が、それぞれマスクライブラリＬＢ内に収容されているときの目標値になるときにその２箇所の間隔センサで検出される間隔が、調整目標値として例えば制御装置ＣＯＮＴの記憶部に記憶されている。このため、その２箇所の間隔センサで検出される間隔が対応する調整目標値になるように搬送車ＶのＸ方向の位置及びθｚ方向の回転角を調整することによって、搬送車Ｖで支持されているマスクケース３０のＸ方向の位置及びθｚ方向の回転角をそれぞれ目標値に設定できる。さらに、搬送車Ｖで計測されるマスクケース３０のＺ位置と、マスクライブラリＬＢの一時収容部６６に収容されている状態のマスクケース３０のＺ位置の値（以下、設定値という）との関係は既知である。また、搬送車Ｖは、マスクケース搬送部５３に支持されたマスクケース３０のＹ方向の位置を計測するエンコーダ（不図示）を有する。このエンコーダで計測されるマスクケース３０のＹ方向の位置と、マスクライブラリＬＢ内の一時収容部６６でのＹ方向の目標位置との関係は既知である。

　そして、搬送車Ｖで支持されているマスクケース３０のＺ位置をその設定値よりも所定間隔だけ高く設定した状態で、搬送車Ｖを－Ｙ方向に移動して、マスクケース搬送部５３で支持されるマスクケース３０をマスクライブラリＬＢの一時収容部６６の上方に移動した後、マスクケース搬送部５３を降下させることで、マスクケース３０を一時収容部６６に受け渡すことができる。逆に、一時収容部６６に保持されているマスクケース３０の底面側にマスクケース搬送部５３を移動した後、マスクケース搬送部５３のＺ位置を高くすることによって、一時収容部６６からマスクケース搬送部５３（搬送車Ｖ）にマスクケース３０を受け渡すことができる。

　次に、搬送装置Ｈ１の構成につき、図６（Ａ）（平面図）及び図６（Ｂ）（側面図）を参照して説明する。搬送装置Ｈ１は、マスクケース３０が載置されるマスクケース搬送部６１と、マスクケース搬送部６１の－Ｙ方向の端部を保持する保持部６４と、保持部６４を介してマスクケース搬送部６１をＹ方向に移動する水平駆動部６７と、水平駆動部６７を介してマスクケース搬送部６１をＺ方向に移動する昇降駆動部６８とを備えている。昇降駆動部６８は、マスクケース搬送部６１に支持されたマスクケース３０のＺ位置を計測するエンコーダ（不図示）を有する。このエンコーダで計測されるマスクケース３０のＺ位置と、マスクライブラリＬＢ内の各収容部６５及び一時収容部６６でのマスクケース３０のＺ位置の値（設定値）との関係は既知である。水平駆動部６７はマスクケース搬送部６１に支持されたマスクケース３０のＹ方向の位置を計測するエンコーダ（不図示）を有する。このエンコーダで計測されるマスクケース３０のＹ方向の位置と、マスクライブラリＬＢ内の各収容部６５でのＹ方向の目標位置との関係は既知である。

　ほぼ水平面に平行でＹ方向を長手方向とする長方形状の上面を有するマスクケース搬送部６１に、マスクケース搬送部６１の長手方向とマスクケース３０の長手方向とが平行になるように、マスクケース３０が載置される。マスクケース搬送部６１のＸ方向の幅はマスクケース３０のベース部材３２の平板部３２ａの幅よりも狭く設定されている。
　また、マスクケース搬送部６１の上面に、図３（Ｂ）に示すマスクケース３０のベース部材３２の底面に設けられた位置決め部３６Ａ，３６Ｂ、及び位置ＰＳ１，ＰＳ２の位置決め部３６Ｃと同じ配置で、それぞれ表面に球面部６２Ａａ，６２Ｂａ，６２Ｃａ，６２Ｄａが設けられた支持部材であるボールトランスファ６２Ａ，６２Ｂ，６２Ｃ，６２Ｄがボルト（不図示）によって固定されている。さらに、図２（Ｂ）の位置決め部３６Ｂに対する反射部３７Ａ及び窓部３２ａ１と同じ位置関係で、マスクケース搬送部６１の上面のボールトランスファ６２から－Ｙ方向に離れた位置に、マスクケース３０の検出装置６３が設けられている。

　マスクケース３０をマスクケース搬送部６１に載置する際には、マスクケース３０の位置決め部３６Ａ，３６Ｂの凹部３６Ａａ，３６Ｂａ、及び位置ＰＳ１の位置決め部３６Ｃの平坦部３６Ｃａがそれぞれボールトランスファ６２Ａ，６２Ｂ，６２Ｃの球面部６２Ａａ，６２Ｂａ，６２Ｃａに接触する。この状態で、マスクケース３０の平板部３２ａの底面がほぼ水平面に平行になるように、マスクケース搬送部６１のボールトランスファ６２Ａ～６２Ｃの高さが個別に調整されている。この際に、マスクケース３０とマスクケース搬送部６１との間に、位置決め部３６Ａの凹部３６Ａａの半径程度までの位置ずれがあっても、マスクケース搬送部６１のボールトランスファ６２Ａの球面部の中心と位置決め部３６Ａの凹部３６Ａａの中心とが合致し、ボールトランスファ６２Ｂの球面部の中心のＹ方向の位置と位置決め部３６Ｂの凹部３６Ｂａの中心のＹ方向の位置とが合致するように、マスクケース３０の自重によってマスクケース３０の位置及び回転角が自動的に調整される。このため、マスクケース３０をマスクケース搬送部６１に載置する際の位置制御精度をあまり高くする必要がなく、マスクライブラリＬＢの収容部６５又は一時収容部６６に収容されるマスクケース３０の位置精度をあまり高くする必要もない。

　さらに、位置ＰＳ２の位置決め部３６Ｃから僅かな間隔を隔ててボールトランスファ６２Ｄの球面部６２Ｄａが位置するように、ボールトランスファ６２Ｄの高さが調整されている。なお、同様に、位置ＰＳ３．ＰＳ４の位置決め部３６Ｃから僅かな間隔を隔てて別のボールトランスファ（不図示）をマスクケース搬送部６１の上面に設けてもよい。
　凹部３６Ａａ，３６Ｂａ及び平坦部３６Ｃａをそれぞれボールトランスファ６２Ａ～６２Ｃで支持することによって、マスクケース搬送部６１（搬送装置Ｈ１）に対するマスクケース３０のＸ方向及びＹ方向の位置、及びθｚ方向の回転角がそれぞれ目標値に自動的に設定され、この状態でマスクケース搬送部６１によってマスクケース３０が安定に搬送される。また、他の位置ＰＳ２の位置決め部３６Ｃに近接してボールトランスファ６２Ｄが配置されているため、振動等でマスクケース３０が傾斜しても、位置決め部３６Ｃがボールトランスファ６２Ｄに接触することによって、その傾斜角がそれ以上大きくなることはない。さらに、この状態でマスクケース３０の反射部３７Ａ及び窓部３２ａ１が検出装置６３に対向している。

　図７に示すように、検出装置６３は、マスクケース３０の下ケース部３１Ａの再帰性の反射部３７Ａに光ビームＬＢ２を照射し、反射部３７Ａからの反射光の強度を検出する第１検出部６３ａと、窓部３２ａ１を通してマスクＭのパターン面Ｍａに光ビームＬＢ３を斜めに照射し、パターン面Ｍａで反射されて窓部３２ａ１を通して戻される光の強度を検出する第２検出部６３ｂと、窓部３２ａ１を通して上ケース部３１Ｂの内面の偏光特性を有する反射部３７Ｂに光ビームＬＢ４を照射し、反射部３７Ｂで反射されて窓部３２ａ１を通して戻される光の強度を検出する第３検出部６３ｃとを有する。一例として、光ビームＬＢ２～ＬＢ４は発光ダイオード（ＬＥＤ）等から射出される可視域の光をコリメータレンズ（不図示）によって平行光束にしたものであるが、光ビームＬＢ２～ＬＢ４として近赤外域から赤外域等の光を使用してもよい。この場合、窓部３２ａ１は近赤外域から赤外域等の光を透過する材料から形成される。

　検出部６３ａで検出される強度を信号処理部（不図示）で所定の第１の基準値と比較することで、下ケース部３１Ａの有無を検出できる。また、検出部６３ｂで検出される強度を信号処理部（不図示）で所定のテーブル（信号強度と被検物までの距離との対応関係を示すテーブル）に当てはめることで、検出部６３ｂからパターン面Ｍａまでの距離、及び／又はマスクＭの有無を検出できる。検出部６３ｃで検出される強度を信号処理部（不図示）で所定の第２の基準値と比較することで、上ケース部３１Ｂの有無を検出できる。検出装置６３を用いたマスクケース３０の有無等の検出結果は制御装置ＣＯＮＴに供給される。なお、検出部６３ａ～６３ｃのうち、少なくとも一つを備えるだけでもよい。

　なお、マスクケース搬送部６１にも、搬送車Ｖのピン５７Ａａ，５７Ｂａを有する支持部５７Ａ，５７Ｂと同様の支持部を設け、この支持部のピン（不図示）をマスクケース３０の連結部３８Ａ，３８Ｂの開口３８Ａａ，３８Ｂａに差し込み可能として、振動等によるマスクケース３０の位置ずれを防止するようにしてもよい。
　昇降駆動部６８によってマスクケース搬送部６１で支持されているマスクケース３０のＺ位置をマスクライブラリＬＢのある収容部６５（又は一時収容部６６）での設定値よりも高く設定した状態で、水平駆動部６７によってマスクケース搬送部６１を＋Ｙ方向に移動して、マスクケース搬送部６１で支持されるマスクケース３０をその収容部６５（又は一時収容部６６）の上方に移動した後、マスクケース搬送部６１を降下させることで、マスクケース３０をその収容部６５（又は一時収容部６６）に受け渡すことができる。逆に、ある収容部６５（又は一時収容部６６）に保持されているマスクケース３０の底面側にマスクケース搬送部６１を移動した後、マスクケース搬送部６１のＺ位置を高くすることによって、収容部６５（又は一時収容部６６）からマスクケース搬送部６１（搬送装置Ｈ１）にマスクケース３０を受け渡すことができる。

　次に、図８～図１０を参照して、マスクライブラリＬＢの構成につき説明する。図８及び図１０は、それぞれマスクライブラリＬＢを示す斜視図、図９はマスクライブラリＬＢを＋Ｙ方向に見た図である。図８において、マスクライブラリＬＢは、それぞれＸ方向、Ｙ方向、及びＺ方向に平行な複数のロッド状の部材（説明の便宜上、一部の部材が２点鎖線で表されている）を連結して構成される箱状のフレーム機構４３と、フレーム機構４３の最下段にＹ方向に平行に固定されたＺ位置が同じ１対のレール４５Ａ，４５Ｂと、レール４５Ａ，４５Ｂの上方でフレーム機構４３に固定された水平面にほぼ平行な仕切り板４４と、仕切り板４４の上方の次第に高くなる位置Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５でフレーム機構４３に固定されたそれぞれＹ方向に平行な１対のレール４６Ａ，４６Ｂとを備えている。レール４５Ａ，４５Ｂ及び４６Ａ，４６Ｂはそれぞれ断面形状がＬ字型で、上面がほぼ水平面に平行になるように、かつ互いに対向するように、その上面に直交する側面を有する部分がボルト（不図示）によってフレーム機構４３の内面に固定されている。

　レール４５Ａ，４５Ｂ及び４６Ａ，４６ＢのＹ方向の長さは、マスクケース３０のＹ方向の長さよりもわずかに長く設定され、レール４５Ａ，４５Ｂの上面と仕切り板４４との間隔、及び位置Ｐ１～Ｐ５のＺ方向に隣接したレール４６Ａ，４６Ｂの上面のＺ方向の間隔は、それぞれマスクケース３０の高さより広く設定されている。また、レール４５Ａ，４５Ｂ及び４６Ａ，４６ＢのＸ方向の外形の幅は、マスクケース３０の鍔部４１Ａ，４１Ｂの外形のＸ方向の幅よりも広く設定され、レール４５Ａ，４５Ｂ及び４６Ａ，４６ＢのＸ方向の間隔は、マスクケース３０の下ケース部３１Ａの平板部３２ａのＸ方向の幅（脚部３５が固定された２つの平板部３２ｂの間隔）とほぼ同じに設定されている。このため、１対のレール４５Ａ，４５Ｂの上面、及び位置Ｐ１～Ｐ５の１対のレール４６Ａ，４６Ｂの上面に、それぞれマスクケース３０の下ケース部３１Ａの－Ｘ方向の２つの脚部３５及び＋Ｘ方向の２つの脚部３５を載置することができる。１対のレール４５Ａ，４５Ｂを含んで一時収容部６６が構成され、位置Ｐ１～Ｐ５の１対のレール４６Ａ，４６Ｂを含んでそれぞれ収容部６５が構成されている。なお、図８等では、収容部６５は位置Ｐ１～Ｐ５の５段に配置されているが、収容部６５の数は増加又は減少させることができる。また、平面視で、レール４６Ａ，４６Ｂとレール４５Ａ，４５Ｂとは互いに同じ形状で、かつＸ方向及びＹ方向の同じ位置に設置されている。

　マスクライブラリＬＢと搬送装置Ｈ１との位置関係は、図６（Ａ）の搬送装置Ｈ１のマスクケース搬送部６１のボールトランスファ６２Ａ，６２Ｂ，６２Ｃの球面部６２Ａａ，６２Ｂａ，６２Ｃａにマスクケース３０の位置決め部３６Ａ～３６Ｃの凹部３６Ａａ，３６Ｂａ及び平坦面３６Ｃａを接触させた状態で、マスクケース３０の－Ｘ方向及び＋Ｘ方向の２つの脚部３５がそれぞれ対応する位置Ｐ１～Ｐ５のレール４６Ａ，４６Ｂ上のＸ方向の目標位置に位置するように設定されている。また、マスクケース搬送部６１のＸ方向の幅は、レール４６Ａ，４６ＢのＸ方向の間隔よりも余裕を持って小さく設定されている。このため、搬送装置Ｈ１によってマスクケース３０の脚部３５の底面のＺ位置を位置Ｐ１～Ｐ５のレール４６Ａ，４６Ｂの上面よりも所定間隔だけ高く設定し、マスクケース３０のＹ方向（マスクライブラリＬＢに対する搬出入方向）の位置を所定の目標位置に設定した後、マスクケース３０を降下させることによって、容易にその位置Ｐ１～Ｐ５のレール４６Ａ，４６Ｂ上（収容部６５）に４箇所の脚部３５を介してマスクケース３０を載置（収容）できる。同様に、搬送装置Ｈ１によってレール４５Ａ，４５Ｂ上（一時収容部６６）にマスクケース３０を載置できる。さらに、搬送装置Ｈ１の逆の動作によって収容部６５又は一時収容部６６からマスクケース３０を搬出できる。なお、レール４５Ａ，４５Ｂを一時収容部６６に設ける代わりに、同様のレールを搬送車Ｖが備えるようにしてもよい。これにより、マスクケースを一時的に一時収容部６６に受け渡すことなく、搬送車Ｖと搬送装置Ｈ１との間で直接的にマスクケースの受け渡しを行うことができる。

　また、－Ｘ方向側のレール４５Ａ，４６Ａの上面の＋Ｙ方向の端部に、それぞれマスクケース３０の側面までのＸ方向及びＹ方向の間隔を非接触で検出可能な近接センサ５０Ａが設置され、＋Ｘ方向側のレール４５Ｂ，４６Ｂの上面の＋Ｙ方向の端部に、それぞれマスクケース３０の側面までのＸ方向及びＹ方向の間隔を非接触で検出可能な近接センサ５０Ｂが設置され、レール４５Ｂ，４６Ｂの上面の－Ｙ方向の端部に、それぞれマスクケース３０の側面までのＸ方向の間隔を非接触で検出可能な近接センサ５１が設置されている。近接センサ５０Ａ，５０Ｂ，５１は例えば光学式である。近接センサ５０Ａ，５０Ｂ，５１で検出される一時収容部６６及び収容部６５におけるマスクケース３０の位置（Ｘ方向、Ｙ方向の位置、及びθｚ方向の回転角）の情報が制御装置ＣＯＮＴに供給される。そのようにして検出されるマスクケース３０の位置が所定の目標値から許容範囲を超えてずれている場合には、一例として搬送車Ｖ又は搬送装置Ｈ１によってマスクケース３０の位置及び／又は回転角の調整が行われる。なお、近接センサ５０Ａ，５０Ｂ，５１のうちの少なくとも一つのセンサを残して他のセンサを省略してもよい。また、近接センサ５０Ａ，５０Ｂの少なくとも一方を－Ｙ方向の端部に移動させてもよく、近接センサ５０Ａ，５０ＢをＹ方向に関して互いに反対側の端部に配置してもよい。

　また、位置Ｐ２～Ｐ５のレール４６Ａ及び４６Ｂの２箇所にそれぞれ位置Ｐ１～Ｐ４の収容部６５に収容されるマスクケース３０の鍔部４１Ａ及び４１Ｂを支持するための支持部４７Ａ１，４７Ａ２及び４７Ｂ１，４７Ｂ２が対向するように取り付けられ、フレーム機構４３の上端のＹ方向に平行な２つの部分の２箇所にそれぞれ最上段（位置Ｐ５）の収容部６５に収容されるマスクケース３０の鍔部４１Ａ及び４１Ｂを支持するための支持部４７Ｃ１，４７Ｃ２及び４７Ｄ１，４７Ｄ２が対向するように取り付けられている。

　マスクケース３０が位置Ｐ１～Ｐ４のレール４６Ａ，４６Ｂ上の目標位置に載置されている状態では、例えば図３（Ａ）に点線で示すように平面視で（すなわちＸ軸及びＹ軸を含む平面に沿った方向に関して）、位置Ｐ２～Ｐ５のレール４６Ａ，４６Ｂに取り付けられた一方の支持部４７Ａ１，４７Ｂ１がマスクケース３０の鍔部４１Ａ，４１Ｂの切り欠き部４１Ａａ，４１Ｂａ内に位置しているとともに、他方の支持部４７Ａ２，４７Ｂ２は鍔部４１Ａ，４１Ｂの－Ｙ方向の端部に近接している。なお、支持部４７Ａ１～４７Ｂ２のＺ位置は対応する鍔部４１Ａ，４１Ｂの上面よりも高く設定されている。さらに、他方の支持部４７Ａ２，４７Ｂ２の上面には、それぞれ鍔部４１Ａ，４１Ｂの開口４１Ａｂ，４１Ｂｂに挿通可能なピン４８が固定されている。ピン４８の直径は開口４１Ａｂ，４１Ｂｂの直径に対して、搬送装置Ｈ１によるマスクケース３０の位置決め精度よりも大きいクリアランスをもって小さく設定されている。支持部４７Ｃ１，４７Ｃ２，４７Ｄ１，４７Ｄ２のＸＹ平面内での位置は、支持部４７Ａ１，４７Ａ２，４７Ｂ１，４７Ｂ２と同様であり、支持部４７Ｃ２，４７Ｄ２の上面にも、それぞれピン４８が固定されている。

　この構成によって、搬送装置Ｈ１で位置Ｐ１～Ｐ５のレール４６Ａ，４６Ｂ上のマスクケース３０を、支持部４７Ａ１，４７Ｂ１がそれぞれ切り欠き部４１Ａａ，４１Ｂａを通過するように上昇させて、さらにマスクケース３０を、開口４１Ａｂ，４１Ｂｂがピン４８の上方に位置するように、例えば鍔部４１Ａ，４１Ｂの切り欠き部４１Ａａ，４１ＢａのＹ方向の幅分だけ－Ｙ方向に移動させた後、マスクケース３０を降下させることによって、上ケース部３１Ｂの鍔部４１Ａ，４１Ｂがそれぞれ位置Ｐ２～Ｐ５のレール４６Ａ，４６Ｂに設けた支持部４７Ａ１，４７Ａ２，４７Ｂ１，４７Ｂ２又は最上部の支持部４７Ｃ１，４７Ｃ２，４７Ｄ１，４７Ｄ２で支持されるため、下ケース部３１Ａから上ケース部３１Ｂを容易に分離することができる。この際に、鍔部４１Ａ，４１Ｂの開口４１Ａｂ，４１Ｂｂ内にそれぞれ支持部４７Ａ２，４７Ｂ２又は４７Ｃ２，４７Ｄ２のピン４８が挿通されるため、振動等によって鍔部４１Ａ，４１Ｂの位置がずれることが防止できる。また、この逆の動作によって、下ケース部３１Ａに上ケース部３１Ｂを容易に正確に位置決めした状態で載置することができる。なお、振動等が少なく、鍔部４１Ａ，４１Ｂの位置ずれ量が少ない場合には、鍔部４１Ａ，４１Ｂの開口４１Ａｂ，４１Ｂｂ及び支持部４７Ａ２，４７Ｂ２，４７Ｃ２，４７Ｄ２のピン４８は省略することが可能である。また、開口４１Ａｂ，４１Ｂｂは、ピン４８が挿通されるように貫通した開口した形状に限定されず、ピン４８と互いに嵌合する形状であればよく、例えば、鍔部４１Ａ，４１Ｂの上面側が閉じた（開口していない）孔、すなわち貫通していない（凹状の）孔とすることもできる。

　また、図８において、仕切り板４４の＋Ｘ方向の端部の上面にマスクケース３０の検出装置５２が固定され、検出装置５２からＺ方向に平行に上方に光ビームＬＢ１が照射され、フレーム機構４３の最上部の部材に、光ビームＬＢ１を－Ｚ方向に反射する反射部材４９が設けられている。本実施形態において、反射部材４９及び検出装置５２は、搬送装置Ｈ１の一部である。位置Ｐ１～Ｐ５の＋Ｘ方向側のレール４６Ｂにはそれぞれ光ビームＬＢ１を通すための開口４６Ｂａが形成されている。図９に示すように、検出装置５２は、光ビームを射出する光源部５２ａと、光源部５２ａから射出された光ビームの一部（光ビームＬＢ１）を＋Ｚ方向に反射するビームスプリッター５２ｂと、反射部材４９で反射された光ビームＬＢ１のうちでビームスプリッター５２ｂを透過した光ビームを受光して光電変換するフォトダイオード等の光電センサ５２ｃとを有する。光電センサ５２ｃの検出信号を信号処理部（不図示）で所定の基準値と比較することによって、光ビームＬＢ１の光路上に物体があるかどうかを検出できる。検出結果は制御装置ＣＯＮＴに供給される。
　なお、光源部５２ａと光電センサ５２ｃとの配置を入れ替えて、ビームスプリッター５２ｂが光源部５２ａからの光ビームを透過させ、光電センサ５２ｃがビームスプリッター５２ｂで反射された光ビームを検出してもよい。また、反射部材４９に、上述した反射部３７Ｂと同様に偏光特性をもたせてもよく、あるいは反射部材４９に向かう光ビームと反射部材４９で反射された光ビームとが互いに偏光方向が直交する直線偏光になるように光ビームの光路に１／４波長板や偏光子等の偏光素子を配置してもよい。この場合、ビームスプリッター５２ｂに偏光特性を持たせて偏光ビームスプリッターにしてもよい。

　この場合、図１０に示すように、位置Ｐ１（又はＰ２～Ｐ５）のレール４６Ａ，４６Ｂ上の目標位置にマスクケース３０を載置した状態で、鍔部４１Ｂの切り欠き部４１Ｂａから離れた位置にある開口４１Ｂｄ内を光ビームＬＢ１が通過するように、光ビームＬＢ１の光路が設定されている。さらに、上述のように、搬送装置Ｈ１によってマスクケース３０の上ケース部３１Ｂを例えば位置Ｐ３（又は位置Ｐ２，Ｐ４，Ｐ５）の支持部４７Ａ１，４７Ａ２及び４７Ｂ１，４７Ｂ２又は支持部４７Ｃ１，４７Ｃ２及び４７Ｄ１，４７Ｄ２上に載置した状態で、鍔部４１Ｂの切り欠き部４１Ｂａに近い位置にある開口４１Ｂｃ（図２（Ａ）参照）内を光ビームＬＢ１が通過するように、上ケース部３１Ｂが位置決めされる。このように位置Ｐ１～Ｐ５の全部のマスクケース３０及び／又は上ケース部３１Ｂがそれぞれ収容部６５の所定位置（目標位置）に位置決めされた状態では、光ビームＬＢ１は鍔部４１Ｂの開口４１Ｂｃ又は４１Ｂｄ内を通過するため、検出装置５２では光ビームＬＢ１の光路に物体がないことを検出できる。すなわち、検出装置５２により光ビームＬＢ１を検出することで、マスクケース３０及び／又は上ケース部３１Ｂが収容部６５（目標位置）に対して所定の許容範囲内に位置決めされたことを検知することができる。換言すると、収容部６５に対するマスクケース３０及び／又は上ケース部３１Ｂの収容状態を検知することができる。

　一方、位置Ｐ１～Ｐ５のいずれかのマスクケース３０又は上ケース部３１Ｂが目標位置から許容範囲を超えてずれた状態では、光ビームＬＢ１は鍔部４１Ｂの開口４１Ｂｃ及び４１Ｂｄを通過できなくなり、検出装置５２では光ビームＬＢ１の光路に物体（鍔部４１Ｂ）があることを検出できる。すなわち、検出装置５２により光ビームＬＢ１を検出できなくなることで、マスクケース３０及び／又は上ケース部３１Ｂが目標位置に対して許容範囲を超えて位置決めされた（すなわち位置ずれしている）ことを検知することができる。換言すると、この場合も収容部６５に対するマスクケース３０及び／又は上ケース部３１Ｂの収容状態を検知することができる。このため、一例として、搬送装置Ｈ１によって収容部６５にマスクケース３０を搬送する際、又はマスクケース３０の上ケース部３１Ｂを対応する支持部４７Ａ１～４７Ｂ２等に載置する際には、それぞれ検出装置５２で光ビームＬＢ１が検出できるようにマスクケース３０又は上ケース部３１Ｂの位置を調整することによって、マスクケース３０又は上ケース部３１Ｂをそれぞれ容易に目標位置に設置できる。

　なお、本実施形態において、下ケース部３１Ａ及び上ケース部３１Ｂを構成する複数の部材は、ボルトによる連結の他に、溶接又は接着による連結、又は一体成形等で連結してもよい。
　次に、本実施形態の露光装置ＥＸにおけるマスクＭの搬送方法を含む露光方法の一例につき図１１（Ａ）及び（Ｂ）のフローチャートを参照して説明する。この動作は制御装置ＣＯＮＴによって制御される。

　まず、マスクＭが収納されたマスクケース３０が搬送車Ｖによってマスクストッカ（不図示）から露光装置ＥＸのマスクライブラリＬＢまで搬送される(ステップ１０２)。即ち、搬送車Ｖのマスクケース搬送部５３のボールトランスファ５４Ａ～５４Ｃの球面部にマスクケース３０の位置決め部３６Ａ～３６Ｃの凹部３６Ａａ，３６Ｂａ及び平坦部３６Ｃａが接触するように、マスクケース搬送部５３にマスクケース３０を載置する。そして、マスクケース３０のＸ方向の位置及びθｚ方向の角度がそれぞれ一時収容部６６での目標値になるように搬送車Ｖの位置決めを行い、マスクケース３０のＺ位置を設定値よりも高くした後、図示しない開閉機構によって露光チャンバＣＨの搬出人口（不図示）を開放し、搬送車Ｖがその搬出人口を通してマスクケース搬送部５３で支持されたマスクケース３０をマスクライブラリＬＢのレール４５Ａ，４５Ｂの上方に移動する。さらに、図９に示すように、搬送車Ｖのマスクケース搬送部５３を降下させることによって、レール４５Ａ，４５Ｂにマスクケース３０の４箇所の脚部３５が載置される。これによって、搬送車Ｖから一時収容部６６にマスクケース３０が受け渡されたことになる。

　この際に、レール４５Ａ，４５Ｂ上の近接センサ５０Ａ，５０Ｂ，５１によってマスクケース３０のＸ方向、Ｙ方向の位置、及びθｚ方向の回転角を検出し、制御装置ＣＯＮＴにおいてその検出結果を予め定めてある目標値と比較してもよい。そして、その検出結果の目標値からのずれ量が所定の許容範囲を超えている場合には、搬送車Ｖでマスクケース３０をレール４５Ａ，４５Ｂから上昇させて、マスクケース３０の位置及び／又は回転角を補正した後、マスクケース３０を一時収容部６６に受け渡してもよい。これは搬送装置Ｈ１によってレール４６Ａ，４６Ｂ上にマスクケース３０を載置する際も同様である。その後、搬送車Ｖが＋Ｙ方向に移動して露光チャンバＣＨの搬出人口（不図示）が閉じられる。

　さらに、搬送装置Ｈ１によって、マスクライブラリＬＢの一時収容部６６からある収容部６５にマスクケース３０を移動するために、図９に示されているマスクケース搬送部５３の位置に、搬送装置Ｈ１のマスクケース搬送部６１を移動する。そして、マスクケース搬送部６１を上昇させて、マスクケース搬送部６１のボールトランスファ６２Ａ～６２Ｃの球面部がマスクケース３０の位置決め部３６Ａ～３６Ｃの凹部３６Ａａ，３６Ｂａ及び平坦部３６Ｃａに接触するように、マスクケース搬送部６１にマスクケース３０を受け渡す。

　このようにマスクケース搬送部６１にマスクケース３０を受け渡したときに、一例として図１１（Ｂ）のステップ１２０で示すように、検出装置６３によってマスクケース３０の下ケース部３１Ａ、マスクＭ、及び上ケース部３１Ｂの有無（又はマスクＭまでの距離）を検出してもよい。下ケース部３１Ａがない場合には、下ケース部３１Ａとして別のマスク用の下ケース部が使用されている場合等が考えられる。そして、下ケース部３１Ａ、マスクＭ、及び上ケース部３１Ｂの少なくとも一つが無い（又はマスクＭまでの距離が許容範囲を超えている）と判定された場合、ステップ１２２に移行してマスクケース３０を返却する。即ち、制御装置ＣＯＮＴでは、一例として、搬送装置Ｈ１にそのマスクケース３０を一時収容部６６に戻すように制御情報を供給し、搬送車Ｖにそのマスクケース３０を露光チャンバＣＨの外部に搬出するように制御情報を供給する。これによって、マスクケース３０は露光チャンバＣＨの外部に搬出される。その後、動作はステップ１０２に戻る。この場合、その返却されたマスクケース３０と交換された別のマスクケース３０が搬送車Ｖによって一時収容部６６に搬入される。

　これによって、別のマスクＭが収納されたマスクケース３０、又はマスクＭのないマスクケース３０が誤ってマスクライブラリＬＢの収容部６５に収納されることが防止できる。このため、例えば搬送装置Ｈ１がマスクローダ系Ｈ２にマスクＭを受け渡す段階でマスクＭがないことが判明するようなことが防止できる、マスクの搬送不良を防止できる。なお、例えば露光チャンバＣＨの外部で、下ケース部３１Ａ、マスクＭ、及び上ケース部３１Ｂが存在すること（又はマスクＭまでの距離が許容範囲内にあること）がオペレータ等によって正確に確認されているような場合には、検出装置６３による確認（ステップ１２０）を省略してもよい。

　ステップ１２０において、下ケース部３１Ａ、マスクＭ、及び上ケース部３１Ｂが全部存在する（又はマスクＭまでの距離が許容範囲内にある）と判定された場合、又は検出装置６３による確認を省略した場合には、ステップ１０４に移行して、搬送装置Ｈ１によって、マスクケース３０をマスクライブラリＬＢの例えば位置Ｐ１の収容部６５に移動する。即ち、マスクケース３０を支持するマスクケース搬送部６１を－Ｙ方向に移動し、マスクケース３０のＺ位置が例えば位置Ｐ１のレール４６Ａ，４６Ｂの上方になるようにマスクケース搬送部６１を上昇させて、マスクケース搬送部６１を＋Ｙ方向に移動することで、マスクケース３０は位置Ｐ１のレール４６Ａ，４６Ｂの上方に移動する。さらに、図９に２点鎖線で示すように、搬送装置Ｈ１のマスクケース搬送部６１を降下させることによって、位置Ｐ１のレール４６Ａ，４６Ｂにマスクケース３０の４箇所の脚部３５が載置される。これによって、一時収容部６６から位置Ｐ１の収容部６５にマスクケース３０が移動されたことになる。

　ここでは、説明の便宜上、図１２に２点鎖線で示すように、位置Ｐ２のレール４６Ａ，４６Ｂ上（収容部６５）にマスクケース３０が移動されたものとして、位置Ｐ２の収容部６５からマスクステージＭＳＴにマスクケース３０内のマスクＭを搬送するものとする。なお、図１２及び図１３においては、説明の便宜上、フレーム機構４３の一部及びマスクケース３０の鍔部４１Ｂを断面で表している。このとき、図１２において、検出装置５２から射出された光ビームＬＢ１が、マスクケース３０の鍔部４１Ｂの開口４１Ｂｄ及び反射部材４９を介して検出装置５２で検出されるように、かつ鍔部４１Ａ，４１Ｂの切り欠き部４１Ａａ，４１Ｂａの上方に位置Ｐ３の支持部４７Ａ１，４７Ｂ１が位置するように（図３（Ａ）参照）、マスクケース３０の位置決めが行われている。これによって、次にマスクケース３０を搬送装置Ｈ１で支持するときに、マスクケース３０に対するマスクケース搬送部６１の位置決めを効率的に（短時間で）行うことができる。

　そして、位置Ｐ２の収容部６５のマスクケース３０の底面の下方に搬送装置Ｈ１のマスクケース搬送部６１を移動した後、マスクケース搬送部６１を上昇させて、使用対象のマスクケース３０の位置決め部３６Ａ，３６Ｂの凹部３６Ａａ，３６Ｂａにマスクケース搬送部６１のボールトランスファ６２Ａ，６２Ｂの球面部６２Ａａ，６２Ｂａ（凸部）を接触（係合）させ、そのマスクケース３０の位置決め部３６Ｃの平坦部３６Ｃａにボールトランスファ６２Ｃの球面部６２Ｃａを接触（係合）させる（ステップ１０６）。この状態でマスクケース搬送部６１（マスクケース３０）をさらに上昇させて、鍔部４１Ａ，４１Ｂの切り欠き部４１Ａａ，４１Ｂａが支持部４７Ａ１，４７Ｂ１を通過した後、矢印Ａ１で示すように、切り欠き部４１Ａａ，４１ＢａのＹ方向の幅分だけマスクケース３０を－Ｙ方向にスライド移動させてから、矢印Ａ２で示すようにマスクケース３０を降下させる（ステップ１０８）。

　これによって、図１３及び図９に２点鎖線で示すように、マスクケース３０の上ケース部３１Ｂの鍔部４１Ａ，４１Ｂが位置Ｐ３の支持部４７Ａ１，４７Ａ２及び４７Ｂ１，４７Ｂ２に載置され、下ケース部３１Ａだけがマスクケース搬送部６１に載置されて、下ケース部３１Ａから上ケース部３１Ｂが分離される。また、鍔部４１Ａ，４１Ｂの開口４１Ａｂ，４１ｂｂ内に支持部４７Ａ２，４７Ｂ２のピン４８が挿通されている。

　さらに、一例として、ステップ１０８に続いて図１１（Ｃ）のステップ１３０において、制御装置ＣＯＮＴは、検出装置５２から射出された光ビームＬＢ１が、反射部材４９を介して検出装置５２で検出されるかどうかを確認してもよい。光ビームＬＢ１が検出装置５２で検出される場合には、光ビームＬＢ１が、上ケース部３１Ｂの鍔部４１Ｂの開口４１Ｂｃを通過していること、即ち、上ケース部３１Ｂが正確に位置決めされていることを意味する。この場合には、マスクＭの使用後にマスクＭが載置された下ケース部３１Ａに上ケース部３１Ｂを載置する際に、上ケース部３１Ｂの下方の目標位置にマスクケース搬送部６１（下ケース部３１Ａ）を移動して、下ケース部３１Ａを上昇させることによって、効率的に（短時間で）上ケース部３１Ｂに下ケース部３１Ａを正確に載置できる。

　そこで、ステップ１３０において、光ビームＬＢ１が検出装置５２で検出される場合には動作はステップ１１０に移行する。一方、ステップ１３０において、光ビームＬＢ１が検出装置５２で検出されない場合には、ステップ１３２に移行して、再度マスクケース搬送部６１によって上ケース部３１Ｂを上昇させて上ケース部３１Ｂに上ケース部３１Ｂを載置した後、光ビームＬＢ１が検出装置５２で検出されるようにマスクケース搬送部６１のＹ方向の位置を調整した後、マスクケース搬送部６１（下ケース部３１Ａ）を降下させる。そして、光ビームＬＢ１が検出装置５２で検出されるようになった状態で、ステップ１１０に移行する。なお、ステップ１３０及び１３２の動作は、ステップ１０８の途中（マスクケース３０の－Ｙ方向へのスライド移動の後）に行うようにしてもよい。

　ステップ１１０において、矢印Ａ３で示すように、マスクケース搬送部６１を介して下ケース部３１Ａを－Ｙ方向にスライド移動させて、下ケース部３１ＡをマスクライブラリＬＢから引き抜いた後、マスクケース搬送部６１（下ケース部３１Ａ）を搬送装置Ｈ１の最上部である位置ＣＡ１(図１参照)まで上昇させる。位置ＣＡ１において、マスクＭは、搬送装置Ｈ１のマスクケース搬送部６１からマスクローダ系Ｈ２のキャリア２１に受け渡される（ステップ１１２）。この際に、下ケース部３１Ａの位置決め部３６Ａ，３６Ｂがマスクケース搬送部６１のボールトランスファ６２Ａ，６２Ｂに対して位置決めされており、キャリア２１とマスクケース搬送部６１（ボールトランスファ６２Ａ，６２Ｂ）とは互いに正確に位置決めされているため、キャリア２１は効率的にマスクケース搬送部６１からマスクＭを受け取ることができる。

　キャリア２１は、例えば真空吸着機構によってマスクＭを受け取る。その真空吸着機構は、キャリア２１の底面に設けられた真空吸着孔と、その真空吸着孔に不図示の配管を介して連結された不図示の真空ポンプとを有し、この真空ポンプのオン／オフによってマスクＭの吸着保持及び保持解除を切り換え可能となっている。そして、マスクローダ系Ｈ２によってマスクＭはマスクステージＭＳＴの上方に搬送されて、マスクステージＭＳＴにロードされる（ステップ１１４）。

　即ち、キャリア２１は、マスクＭを保持した状態で、位置ＣＡ１と位置ＣＡ２との間をキャリアガイド部２１Ａに支持されつつ移動可能であると共に、キャリアガイド部２１Ａと共にＺ方向に移動可能である。つまり、キャリア２１は図１中、Ｘ方向及びＺ方向に移動可能に設けられている。キャリア２１は、位置ＣＡ１において搬送装置Ｈ１に支持されている下ケース部３１ＡからマスクＭを受け取った後、マスクＭを位置ＣＡ２まで搬送する。位置ＣＡ２に移動したキャリア２１は、位置ＣＡ２においてマスクＭをロードアーム２２に渡す。ここでロードアーム２２及びアンロードアーム２３は、図１中、Ｙ方向及びＺ方向に移動可能である。ロードアーム２２とアンロードアーム２３とは、位置ＣＡ２とマスクステージＭＳＴとの間をＹ方向に個別に移動可能であると共に、Ｚ方向についてはＺ軸ガイド部２２Ａに支持されつつ一体で移動可能となっている。これらロードアーム２２及びアンロードアーム２３は、マスクＭを保持する真空吸着孔を有しており、連結された真空ポンプのオン／オフによってマスクＭの吸着保持及び保持解除を行う。ロードアーム２２は、位置ＣＡ２において露光処理に使用するマスクＭをキャリア２１から受け取り、マスクステージＭＳＴの上方まで搬送した後、マスクＭをマスクステージＭＳＴにロードする。

　そして、露光装置ＥＸの露光部Ｓにおいて、マスクＭのパターンの像を所定ロット数のプレートＰに露光する（ステップ１１６）。露光部Ｓにおいて露光処理を終えたマスクＭはマスクローダ系Ｈ２及び搬送装置Ｈ１によってマスクライブラリＬＢに戻される（ステップ１１８）。即ち、マスクＭはアンロードアーム２３によりマスクステージＭＳＴからアンロードされ、位置ＣＡ２まで搬送される。位置ＣＡ２に搬送されたマスクＭは、この位置ＣＡ２に待機しているキャリア２１に渡され、このキャリア２１によって位置ＣＡ１に搬送される。そして、位置ＣＡ１に搬送されたマスクＭは、位置ＣＡ１に待機していた搬送装置Ｈ１のマスクケース搬送部６１に載置されている下ケース部３１Ａに載置される。その後、マスクケース搬送部６１（マスクＭが載置された下ケース部３１Ａ）を露光処理前に収容されていた収容部６５の高さまで移動し、マスクケース搬送部６１を図１３に示す上ケース部３１Ｂの下方の位置まで＋Ｙ方向にスライド移動する。

　さらに、マスクケース搬送部６１（下ケース部３１Ａ）を上昇させて、支持部４７Ａ１，４７Ａ２，４７Ｂ１，４７Ｂ２で支持されている上ケース部３１Ｂを下ケース部３１Ａに載置した後、図１２の矢印Ａ１と逆方向にマスクケース搬送部６１によってマスクケース３０（下ケース部３１Ａ及び上ケース部３１Ｂ）を移動することで、位置Ｐ２のレール４６Ａ，４６Ｂ上（収容部６５）にマスクケース３０が戻される。その後、位置Ｐ２の収容部６５のマスクケース３０をマスクストッカ（不図示）に戻す場合には、搬送装置Ｈ１によってそのマスクケース３０を一時収容部６６に戻した後、搬送車Ｖによって一時収容部６６のマスクケース３０を露光チャンバＣＨの外部に搬出すればよい。

　この搬送方法によれば、マスクＭを収納するマスクケース３０の下ケース部３１Ａの位置決め部３６Ａ，３６Ｂを用いて、マスクケース３０と搬送装置Ｈ１のマスクケース搬送部６１との位置決めが自動的に高精度に行われており、搬送装置Ｈ１によるマスクライブラリＬＢに対するマスクケース３０の搬入及び搬出、さらに搬送装置Ｈ１とマスクローダ系Ｈ２（キャリア２１）との間のマスクＭの受け渡し、ひいては、例えば露光装置ＥＸで複数のマスクＭを用いて順次露光を行うような場合に、マスクライブラリＬＢとマスクステージＭＳＴとの間におけるマスクＭの搬送不良を低減することができる。

　上述のように本実施形態のマスクＭが収納されるマスクケース３０は、マスクＭを支持する支持部３４Ｂ，３４Ｃが設けられるベース部材３２（底面）を有する下ケース部３１Ａ（第１ケース部）と、下ケース部３１Ａに対して着脱可能に設けられ、ベース部材３２に対向配置される平板部３９ａ（上面）を有する上ケース部３１Ｂ（第２ケース部）とを備え、マスクライブラリＬＢ（保管装置）に保管可能なマスクケースである。そして、マスクケース３０において、上ケース部３１Ｂは、下ケース部３１Ａから取り外されてマスクライブラリＬＢに保持されるときに用いられる鍔部４１Ｂ（保持部）を有し、鍔部４１Ｂは、下ケース部３１Ａに装着された上ケース部３１ＢがマスクライブラリＬＢに保管される第１位置にあるときに、光ビームＬＢ１が通過する開口４１Ｂｄ（第１の光通過部）と、下ケース部３１Ａから取り外された上ケース部３１Ｂの鍔部４１ＢがマスクライブラリＬＢの支持部４７Ｂ１，４７Ｂ２に保持される第２位置にあるときに、光ビームＬＢ１が通過する開口４１Ｂｃ（第２の光通過部）と、を備えている。
　また、本実施形態のマスクケース３０は、マスクＭが載置される下ケース部３１Ａと、下ケース部３１Ａに載置されるマスクＭを覆うように、下ケース部３１Ａに載置される上ケース部３１Ｂと、を備え、上ケース部３１Ｂは、マスクライブラリＬＢ（マスクケース３０の保管部）で上ケース部３１Ｂを支持するための鍔部４１Ａ，４１Ｂを有し、鍔部４１Ｂに、上ケース部３１Ｂの位置を検出するための光ビームＬＢ１が通過可能な開口４１Ｂｃが設けられている。

　また、マスクＭを搬送する搬送装置Ｈ１は、マスクケース３０のマスクＭが載置された下ケース部３１Ａを支持するマスクケース搬送部６１（ケース支持部）と、下ケース部３１Ａから分離された上ケース部３１Ｂを、上ケース部３１Ｂの鍔部４１Ａ，４１Ｂを介して支持する支持部４７Ａ１，４７Ａ２，４７Ｂ１，４７Ｂ２（上ケース支持部）と、上ケース部３１Ｂの鍔部４１Ｂの開口４１Ｂｃに光ビームＬＢ１を照射する光源部５２ａ（照射部）と、鍔部４１Ｂの開口４１Ｂｃを通過した光ビームＬＢ１を開口４１Ｂｃに向けて反射する反射部材４９と、反射部材４９で反射されて開口４１Ｂｃを通過した光ビームＬＢ１を検出する光電センサ５２ｃ（検出部）と、を備えている。
　また、マスクケース３０を保管するマスクライブラリＬＢ（保管装置）は、マスクケース３０の鍔部４１Ａ，４１Ｂ（保持部）を介してマスクケース３０を支持可能な支持部４７Ａ１，４７Ａ２，４７Ｂ１，４７Ｂ２と、支持部４７Ｂ１（支持部４７Ｂ１の近傍の鍔部４１Ｂの開口４１Ｂｃ，４１Ｂｄ）に向けて光ビームＬＢ１を照射する光源部５２ａ（照射部）と、支持部４７Ｂ１に向けて照射された光ビームＬＢ１を検出する光電センサ５２ｃ（検出部）と、を備えている。

　また、マスクＭの搬送方法は、マスクケース３０のマスクＭが載置された下ケース部３１Ａを支持するステップ１０６と、上ケース部３１Ｂの鍔部４１Ｂの開口４１Ｂｃに光ビームＬＢ１を照射し、開口４１Ｂｃを通過した後、反射部材４９（光ビーム反射部）で反射されて開口４１Ｂｃを通過した光ビームＬＢ１を検出するステップ１３０と、光ビームＬＢ１の検出結果に応じて上ケース部３１Ｂの位置を調整するステップ１３２とを有する。
　また、マスクケース３０を保管する保管方法は、マスクケース３０の鍔部４１Ａ，４１Ｂを介してマスクケース３０の上ケース部３１Ｂを支持するステップ１０８と、鍔部４１Ｂに向けて光ビームＬＢ１を照射し、鍔部４１Ｂに向けて照射された光ビームＬＢ１を検出するステップ１３０とを含んでいる。

　本実施形態によれば、鍔部４１Ｂの開口４１Ｂｃを通過した光ビームＬＢ１が検出されるように上ケース部３１Ｂの支持部４７Ａ１，４７Ａ２，４７Ｂ１，４７Ｂ２に対する位置決めを行うことで、次に下ケース部３１Ａに上ケース部３１Ｂを載置する際の位置合わせを効率的に行うことができる。このため、マスクＭを収納するマスクケース３０をマスクライブラリＬＢに戻す際の時間を短縮でき、マスクＭの搬送を効率的に（短時間に）行うことができる。

　なお、本実施形態において、マスクケース３０の上ケース部３１Ｂに鍔部４１Ａ，４１Ｂを設ける場合には、マスクケース３０の下ケース部３１Ａに位置決め部３６Ａ～３６Ｃ、反射部３７Ａ、及び窓部３２ａ１を設ける必要は必ずしもない。そして、下ケース部３１Ａに位置決め部３６Ａ～３６Ｃを設けない場合には、マスクケース３０の搬送時に、下ケース部３１Ａをエアー浮上機構、カムフォロア機構、又はローラコンペア機構等で搬送してもよい。

　また、上述のように本実施形態のマスクＭが収納されるマスクケース３０は、マスクＭが載置される下ケース部３１Ａと、マスクＭを覆うように、下ケース部３１Ａに載置される上ケース部３１Ｂと、を備え、下ケース部３１Ａの底面に、外部からの光を反射する反射部３７Ａ（第１反射部）、及び外部からの光を通過させる窓部３２ａ１が設けられている。

　また、マスクＭを搬送する搬送装置Ｈ１は、マスクＭが収納されたマスクケース３０を支持するマスクケース搬送部６１（ケース支持部）と、下ケース部３１Ａの反射部３７Ａに光ビームＬＢ２を照射し、反射部３７Ａからの反射光を検出して下ケース部３１Ａの有無（状態）を検出する検出部６３ａ（第１検出部）と、下ケース部３１Ａに載置されているマスクＭに下ケース部３１Ａの窓部３２ａ１を介して光ビームＬＢ３を照射し、マスクＭからの反射光を窓部３２ａ１を介して検出してマスクＭの有無又はマスクＭまでの距離（マスクＭの状態）を検出する検出部６３ｂ（第２検出部）と、下ケース部３１Ａ上に載置されている上ケース部３１Ｂに窓部３２ａ１を介して光ビームＬＢ４を照射し、上ケース部３１Ｂに設けられた反射部３７Ｂからの反射光を窓部３２ａ１を介して検出して上ケース部３１Ｂの有無又は上ケース部３１Ｂまでの距離（上ケース部３１Ｂの状態）を検出する検出部６３ｃ（第３検出部）と、を備えている。

　また、マスクＭの搬送方法は、マスクＭが収納されマスクケース３０をマスクケース搬送部６１で支持するステップ１０２と、下ケース部３１Ａの反射部３７Ａに光ビームＬＢ２を照射し、反射部３７Ａからの反射光を検出して下ケース部３１Ａの有無（状態）を検出し、下ケース部３１Ａに載置されたマスクＭに下ケース部３１Ａの窓部３２ａ１を介して光ビームＬＢ３を照射し、マスクＭからの反射光を窓部３２ａ１を介して検出してマスクＭの有無等の状態を検出し、下ケース部３１Ａ上に載置された上ケース部３１Ｂに窓部３２ａ１を介して光ビームＬＢ４を照射し、上ケース部３１Ｂに設けられた反射部３７Ｂからの反射光を窓部３２ａ１を介して検出して上ケース部３１Ｂの有無等の状態を検出するステップ１２０とを有する。

　本実施形態によれば、マスクＭが収納されていないマスクケース３０、又は必要とするマスクケースと異なる種類のマスクケース等を誤ってマスクライブラリＬＢに収容することを防止できるため、マスクＭの搬送中においてマスクケース３０を返却する事態等を防止でき、マスクＭの搬送不良を低減してマスクＭを確実に搬送できる。
　なお、マスクケース３０の下ケース部３１Ａに反射部３７Ａ及び窓部３２ａ１を設けた場合には、下ケース部３１Ａの底面に位置決め部３６Ａ～３６Ｃを設ける必要も必ずしもない。この場合、搬送装置Ｈ１（マスクケース搬送部６１）とマスクケース３０との連結は、クランプ機構、電磁石機構、又は真空吸着機構等を用いた連結機構によって行ってもよい。

　また、上述のように本実施形態のマスクＭが収納されるマスクケース３０は、マスクＭが載置される下ケース部３１Ａと、マスクＭを覆うように、下ケース部３１Ａに載置される上ケース部３１Ｂと、を備え、下ケース部３１Ａの搬送装置Ｈ１のマスクケース搬送部６１（マスクケースの搬送部）に対向する底面に、回転対称な凹部３６Ａａが形成された位置決め部３６Ａ、Ｖ字型の溝状の凹部３６Ｂａが形成された位置決め部３６Ｂ、及び平坦面３６Ｃａが形成された少なくとも一つの位置決め部３６Ｃが設けられている。

　また、マスクＭを搬送する搬送装置Ｈ１は、マスクケース３０を支持するマスクケース搬送部６１（ケース支持部）と、下ケース部３１Ａの凹部３６Ａａに係合可能にマスクケース搬送部６１に設けられたボールトランスファ６２Ａ（第１の凸部）と、下ケース部３１Ａの凹部３６Ｂａに係合可能にマスクケース搬送部６１に設けられたボールトランスファ６２Ｂ（第２の凸部）と、下ケース部３１Ａの平坦面３６Ｃａに係合可能にマスクケース搬送部６１に設けられた位置決め部３６Ｃ（第３の凸部）と、を備えている。

　また、マスクＭを搬送する搬送方法は、マスクケース３０の下ケース部３１Ａの凹部３６Ａａ，３６Ｂａ及び平坦面３６Ｃａをそれぞれマスクケース搬送部６１のボールトランスファ６２Ａ～６２Ｃで支持するステップ１０６と、凹部３６Ａａ，３６Ｂａ及び平坦面３６Ｃａを介して支持した上ケース部３１Ｂを位置ＣＡ１（マスクＭのマスクローダ系Ｈ２に対する受け渡し位置）まで移動するステップ１１０とを有する。

　本実施形態によれば、マスクケース３０の下ケース部３１Ａの凹部３６Ａａ，３６Ｂａによって、搬送装置Ｈ１に対する下ケース部３１Ａ（及びマスクＭ）の位置決めが高精度に行われているため、搬送装置Ｈ１からマスクローダ系Ｈ２に下ケース部３１Ａ内のマスクＭを受け渡す際に、マスクローダ系Ｈ２によるマスクＭのサーチ等をほとんど行う必要がなく、搬送装置Ｈ１からマスクローダ系Ｈ２に対するマスクＭの受け渡しの確からしさを向上させることができ、マスクＭの搬送不良を低減させることができる。さらに、マスクローダ系Ｈ２に対するマスクＭの位置決めも高精度に行われているため、マスクローダ系Ｈ２からマスクステージＭＳＴにマスクＭをロードする際のマスクステージＭＳＴに対するマスクＭの受け渡しの確からしさも向上させることができ、マスクＭの搬送の搬送不良を低減させることができる。

　また、マスクライブラリＬＢに設けられている光源部５２ａ及び光電センサ５２ｃを有する検出装置５２（検出部）は、マスクケース３０の上ケース部３１Ｂの鍔部４１Ａ，４１Ｂの開口４１Ａｂ，４１Ｂｂが支持部４７Ａ２，４７Ｂ２のピン４８に係合すること、及び係合しないことの少なくとも一方を検出する検出部とみなすこともできる。すなわち、検出装置５２によって、光ビームＬＢ１が上ケース部３１Ｂの鍔部４１Ｂの開口４１Ｂｃを通過することが検出された場合には、開口４１Ａｂ，４１Ｂｂがピン４８に係合するとみなすことができ、光ビームＬＢ１が開口４１Ｂｃを通過しないことが検出された場合には、開口４１Ａｂ，４１Ｂｂがピン４８に係合しないとみなすことができる。開口４１Ａｂ，４１Ｂｂがピン４８に係合しないことが検出された場合には、開口４１Ａｂ，４１Ｂｂがピン４８に係合するようにマスクケース３０（上ケース部３１Ｂ）の位置を調整することができる。さらに、開口４１Ａｂ，４１Ｂｂがピン４８に係合しないことが検出された場合に、マスクＭ及び／又はマスクケース３０の搬送を中断して、マスクケース３０を例えば一時収容部６６に戻すようにしてもよい。
　また、本実施形態の露光装置ＥＸは、露光光でマスクＭを照明し、露光光でマスクＭ及び投影光学系ＰＬを介してプレートＰ（基板）を露光する露光装置であって、マスクＭを保持するマスクステージＭＳＴと、搬送装置Ｈ１と、を備え、搬送装置Ｈ１によって搬送されるマスクケース３０から取り出されるマスクＭがマスクステージＭＳＴに載置される。

　また、露光装置ＥＸを用いる露光方法は、マスクＭの搬送方法を含むものである。
　本実施形態によれば、露光装置ＥＸの露光工程におけるマスクＭの搬送不良を低減させることができる。
　なお、上述の実施形態においては以下のような変形が可能である。
　まず、上述の実施形態においては、マスクケース３０の側面に１対の鍔部４１Ａ，４１Ｂが設けられているが、図１４の変形例のマスクケース３０Ａで示すように、マスクケースの対向する側面に複数（一例として２つ）の鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ２及び４１Ｄ１，４１Ｄ２を設けてもよい。なお、図１４において図３（Ａ）に対応する部分には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。また、図１５（Ａ）～（Ｅ）、及び図１７（Ａ）～（Ｅ）において、図１２、図１３に対応する部分には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。

　図１４において、マスクケース３０Ａは、マスクＭ（図４参照）が載置される下ケース部（第１ケース部）３１Ａと、その下ケース部３１Ａに載置されたマスクＭを覆うように下ケース部３１Ａの上に載置（装着）される上ケース部（第２ケース部）３１ＢＡとを備えている。また、上ケース部３１ＢＡのカバー部材３９の＋Ｘ方向の側面のＹ方向に離れた２箇所に外側に突き出るように鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ２（保持部）が設けられ、カバー部材３９の－Ｘ方向の側面のほぼ鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ２に対向する位置に外側に突き出るように２つの鍔部４１Ｄ１，４１Ｄ２（保持部）が設けられている。一例として、鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ２（鍔部４１Ｄ１，４１Ｄ２）のＹ方向の間隔はカバー部材３９のＹ方向の長さの１／２程度である。

　鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ２及び４１Ｄ１，４１Ｄ２は断面形状がＬ字型であり、鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ２及び４１Ｄ１，４１Ｄ２のうちカバー部材３９の側壁部３９ｃ，３９ｄ（図４参照）に対向する部分がそれぞれ複数箇所でボルト（不図示）によって側壁部３９ｃ，３９ｄに固定されている。以下、鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ２及び４１Ｄ１，４１Ｄ２の＋Ｘ方向及び－Ｘ方向に突き出た部分を単に鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ２及び４１Ｄ１，４１Ｄ２という。
　－Ｙ方向にある鍔部４１Ｃ１，４１Ｄ１には、それぞれマスクライブラリＬＢの支持部４７Ａ２，４７Ｂ２の上面のピン４８（図９参照）が挿通可能な大きさの開口（貫通孔）４１Ｃ１ａ，４１Ｄ１ａが設けられている。一例として、マスクケース３０Ａのより大きい位置決め誤差に対応できるように、一方の開口４１Ｄ１ａは他方の開口４１Ｃ１ａよりも大きく形成されている。また、＋Ｙ方向で＋Ｘ方向の鍔部４１Ｃ２には、Ｙ方向に沿って所定間隔で２つの互いに同じ大きさの円形の開口（貫通孔）４１Ｃ２ａ，４１Ｃ２ｂが設けられている。具体的には、一例として、開口４１Ｃ２ａ，４１Ｃ２ｂは、Ｙ方向に互いに６０ｍｍ隔てた位置が開口（貫通）するように設けられている。また、一例として、４１Ｃ２ａの中心と、開口４１Ｃ１ａの中心とのＹ方向の間隔は５７０ｍｍである。開口４１Ｃ２ａ，４１Ｃ２ｂは、図９の検出装置５２から照射される光ビームＬＢ１を通過させるために使用される。なお、開口４１Ｃ２ａ，４１Ｃ２ｂは、互いに同じ大きさに限定されず異なる大きさであってもよく、円形状に限定されず他の形状であってもよい。例えば、開口４１Ｃ２ａ，４１Ｃ２ｂは、円形状に閉じた開口（孔）形状ではなく、鍔部４１Ｃ２の側面に繋がった切り欠き形状であってもよい。また、開口４１Ａｂ，４１Ｂｂは、ピン４８が挿通されるように貫通した開口した形状に限定されず、ピン４８と互いに嵌合する形状であればよく、例えば、鍔部４１Ａ，４１Ｂの上面側が閉じた（開口していない）孔、すなわち貫通していない（凹状の）孔とすることもできる。この他の構成は図４のマスクケース３０と同様である。

　この変形例のマスクケース３０Ａを上述の実施形態のマスクライブラリＬＢに収容する場合、図１０に示すように、位置Ｐ１（又はＰ２～Ｐ５）のレール４６Ａ，４６Ｂ上の目標位置にマスクケース３０Ａを載置した状態で、鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ａ内を光ビームＬＢ１が通過するように、光ビームＬＢ１の光路が設定されている。さらに、上述の搬送装置Ｈ１によってマスクケース３０Ａの上ケース部３１ＢＡの鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ２，４１Ｄ１，４１Ｄ２を例えば位置Ｐ２（又は位置Ｐ３～Ｐ５等）の支持部４７Ｂ２，４７Ｂ１，４７Ａ２，４７Ａ１、又は４７Ｄ２，４７Ｄ１，４７Ｃ２，４７Ｃ１上に載置した状態で、鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ｂ内を光ビームＬＢ１が通過するように、上ケース部３１ＢＡが位置決めされる。

　このように位置Ｐ１～Ｐ５の全部のマスクケース３０Ａ及び／又は上ケース部３１ＢＡがそれぞれ収容部６５の所定位置（目標位置）に位置決めされた状態では、光ビームＬＢ１は鍔部４１Ｃの開口４１Ｃ２ｂ内を通過するため、検出装置５２では光ビームＬＢ１の光路に物体がないことを検出できる。すなわち、検出装置５２により光ビームＬＢ１を検出することで、マスクケース３０Ａ及び／又は上ケース部３１ＢＡが収容部６５（目標位置）に対して所定の許容範囲内に位置決めされたことを検知することができる。換言すると、収容部６５に対するマスクケース３０及び／又は上ケース部３１ＢＡの収容状態を検知することができる。

　一方、位置Ｐ１～Ｐ５のいずれかのマスクケース３０Ａ又は上ケース部３１ＢＡが目標位置から許容範囲を超えてずれた状態では、光ビームＬＢ１は鍔部４１Ｃの開口４１Ｃ２ｂを通過できなくなり、検出装置５２では光ビームＬＢ１の光路に物体（鍔部４１Ｃ２）があることを検出できる。すなわち、検出装置５２により光ビームＬＢ１を検出できなくなることで、マスクケース３０Ａ及び／又は上ケース部３１ＢＡが目標位置に対して許容範囲を超えて位置決めされた（すなわち位置ずれしている）ことを検知することができる。換言すると、この場合も収容部６５に対するマスクケース３０及び／又は上ケース部３１ＢＡの収容状態を検知することができる。このため、一例として、搬送装置Ｈ１によって収容部６５にマスクケース３０Ａを搬送する際、又はマスクケース３０Ａの上ケース部３１ＢＡを対応する支持部４７Ａ１～４７Ｂ２等に載置する際には、それぞれ検出装置５２で光ビームＬＢ１が検出できるようにマスクケース３０Ａ又は上ケース部３１ＢＡの位置を調整することによって、マスクケース３０Ａ又は上ケース部３１ＢＡをそれぞれ容易に目標位置に設置できる。

　具体的に、搬送装置Ｈ１の搬送アーム６１を用いてマスクケース３０ＡをマスクライブラリＬＢの例えば位置Ｐ２のレール４６Ａ，４６Ｂ上に搬送する場合、図１５（Ａ）に示すように、搬送アーム６１に載置されたマスクケース３０Ａが位置Ｐ２のレール４６Ａ，４６Ｂ（レール４６Ａは不図示）の上方に搬送される。この際に図１２の検出装置５２から射出される光ビームＬＢ１は、マスクケース３０Ａの鍔部４１Ｃ２で遮光されていないため、図１２の反射部材４９で反射される光ビームＬＢ１を検出装置５２で受光して得られる検出信号Ｓ１は、図１６（Ａ）の時点ｔ１で示すように２値化するための所定の閾値Ｓｔｈを超えている。検出信号Ｓ１から制御装置ＣＯＮＴは鍔部４１Ｃ２が光ビームＬＢ１まで達していないことを認識できる。

　そして、搬送アーム６１を＋Ｙ方向に移動して、図１５（Ｂ）に示すように、光ビームＬＢ１が鍔部４１Ｃ２で遮光されると、時点ｔ２で示すように検出信号Ｓ１が閾値Ｓｔｈよりも小さくなり、制御装置ＣＯＮＴは鍔部４１Ｃ２が光ビームＬＢ１まで達したことを認識できる。なお、搬送アーム６１のＸ方向、Ｙ方向、及びＺ方向の位置は例えばリニアエンコーダ（不図示）によって計測されている。また、図１６（Ａ），（Ｂ）の横軸は時間ｔであり、検出信号Ｓ１は所定のサンプリングレートで不揮発性の記憶装置（例えばフラッシュメモリ）に記憶されている。さらに、搬送アーム６１を＋Ｙ方向に移動して、図１５（Ｃ）に示すように、光ビームＬＢ１が鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ｂを通過するようになると、時点ｔ３で示すように検出信号Ｓ１が閾値Ｓｔｈよりも大きくなり、制御装置ＣＯＮＴは鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ｂが光ビームＬＢ１まで達したことを認識できる。

　そして、搬送アーム６１を＋Ｙ方向に移動して、図１５（Ｄ）に示すように、光ビームＬＢ１が鍔部４１Ｃ２で遮光されると、時点ｔ４で示すように検出信号Ｓ１が閾値Ｓｔｈよりも小さくなり、制御装置ＣＯＮＴは鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ｂ，４１Ｃ２ａ間の領域が光ビームＬＢ１まで達したことを認識できる。さらに、搬送アーム６１を＋Ｙ方向に移動して、図１５（Ｅ）に示すように、光ビームＬＢ１が鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ａを通過するようになると、時点ｔ５で示すように検出信号Ｓ１が閾値Ｓｔｈよりも大きくなり、制御装置ＣＯＮＴは鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ａが光ビームＬＢ１まで達したことを認識できる。この時点ｔ５で、制御装置ＣＯＮＴは搬送アーム６１のＹ方向への移動を停止させ、搬送アーム６１を－Ｚ方向に降下させる。この動作によって、マスクケース３０Ａ（下ケース部３１Ａ）は位置Ｐ２のレール４６Ａ，４６Ｂ上に載置される。

　この動作の途中で、例えば時点ｔ３，ｔ４間の時点ｔｘで停電等によって搬送装置Ｈ１が停止した場合、その停電から復旧した後で、制御装置ＣＯＮＴは、記憶されている検出信号Ｓ１の履歴から、鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ｂ，４１Ｃ２ａの間の領域が光ビームＬＢ１を遮光する位置にあることを認識できる。このため、マスクケース３０ＡをマスクライブラリＬＢに搬入する動作を円滑に再開できる。なお、停電から復旧した後で、搬送アーム６１を＋Ｙ方向又は－Ｙ方向に移動させて、その際に観測される検出信号の検出結果に基づいて、マスクケース３０ＡがライブラリＬＢ内のどこにあるかを認識しても良い。
　その後、位置Ｐ２のレール４６Ａ，４６Ｂ上にマスクケース３０Ａ内のマスクＭを露光に使用する場合には、図１７（Ａ）に示すように、搬送装置Ｈ１の搬送アーム６１をマスクケース３０Ａの下ケース部３１Ａの下方に移動する。光ビームＬＢ１は、マスクケース３０Ａの鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ａを通過しているため、光ビームＬＢ１の検出信号Ｓ１は、図１６（Ｂ）の時点ｔ１１で示すように閾値Ｓｔｈを超えている。

　そして、図１７（Ｂ）に示すように、搬送アーム６１を介してマスクケース３０Ａを＋Ｚ方向に上昇させても、検出信号Ｓ１は、時点ｔ１２で示すように閾値Ｓｔｈを超えている。さらに、搬送アーム６１を介して、マスクケース３０Ａの鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ２が支持部４７Ｂ１，４７Ｂ２（ピン４８）より高くなるように、マスクケース３０Ａを上昇させた後、図１７（Ｃ）に示すように、鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ｂ，４１Ｃ２ａ間の領域が光ビームＬＢ１を遮光するようにマスクケース３０Ａを－Ｙ方向に移動する。このとき検出信号Ｓ１は、時点ｔ１３で示すように閾値Ｓｔｈよりも小さくなるため、制御装置ＣＯＮＴは鍔部４１Ｃ２が光ビームＬＢ１を遮光する位置にあることを認識できる。

　そして、搬送アーム６１を－Ｙ方向に移動して、図１７（Ｄ）に示すように、光ビームＬＢ１が鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ｂに入ると、時点ｔ１４で示すように検出信号Ｓ１が閾値Ｓｔｈよりも大きくなり、制御装置ＣＯＮＴは鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ｂが光ビームＬＢ１まで達したことを認識できる。この状態で、搬送アーム６１の－Ｙ方向への移動を停止させて、搬送アーム６１を－Ｚ方向に降下させることで、図１７（Ｅ）に示すように、上ケース部３１ＢＡの鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ２が位置Ｐ３のレール４６Ｂの支持部４７Ｂ１，４７Ｂ２に載置され、他方の鍔部４１Ｄ１，４１Ｄ２が位置Ｐ３のレール４６Ａ（図８参照）の支持部４７Ａ１，４７Ａ２に載置される。この時点ｔ１５においても、検出信号Ｓ１は閾値Ｓｔｈを超えている。その後、一例として、搬送アーム６１によってマスクＭを保持する下ケース部３１Ａは露光装置に搬送される。

　この動作の途中で、例えば停電等によって搬送装置Ｈ１が停止した場合、その停電から復旧した後で、制御装置ＣＯＮＴは、記憶されている検出信号Ｓ１の履歴から、鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ｂ，４１Ｃ２ａと光ビームＬＢ１との位置関係を認識できる。このため、下ケース部３１Ａを露光装置に搬送する動作を円滑に再開できる。
　また、図１８（Ａ）の他の変形例のマスクケース３０Ｂで示すように、マスクケースの鍔部に設ける２つの開口の形状及び大きさを変えるようにしてもよい。なお、図１８（Ａ）において図１４に対応する部分には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。

　図１８（Ａ）において、マスクケース３０Ｂの上ケース部３１ＢＡのカバー部材３９の＋Ｘ方向の側面のＹ方向に離れた２箇所に鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ３が設けられ、カバー部材３９の－Ｘ方向の側面のほぼ鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ３に対向する位置に２つの鍔部４１Ｄ１，４１Ｄ２が設けられている。－Ｙ方向にある鍔部４１Ｃ１，４１Ｄ１には、それぞれマスクライブラリＬＢの支持部４７Ａ２，４７Ｂ２の上面のピン４８（図９参照）が挿通可能な大きさの開口（貫通孔）４１Ｃ１ａ，４１Ｄ１ａが設けられている。また、＋Ｙ方向で＋Ｘ方向の鍔部４１Ｃ３には、Ｙ方向に沿って所定間隔でほぼ正方形状の第１の開口４１Ｃ３ａ及び開口４１Ｃ３ａより小さい円形の第２の開口４１Ｃ３ｂが設けられている。開口４１Ｃ３ａは図１４の開口４１Ｃ２ａよりも大きく設定され、開口４１Ｃ３ｂは図１４の開口４１Ｃ２ｂとほぼ同じ大きさである。

　なお、一例として、図１８（Ｂ）に示すように、鍔部４１Ｃ２の２つの角部は円周状に形成されているため、開口４１Ｃ３ａの４つの角部も同様に円周状に形成されている。一例として、開口４１Ｃ３ａの中心と、開口４１Ｃ３ｂの中心のＹ方向の間隔は６０ｍｍである。また、一例として、開口４１Ｃ３ａの中心と、開口４１Ｃ１ａの中心とのＹ方向の間隔は５７０ｍｍである。開口４１Ｃ３ａ，４１Ｃ３ｂは、図９の検出装置５２から照射される光ビームＬＢ１を通過させるために使用される。この他の構成は図１４のマスクケース３０Ａと同様である。

　この変形例のマスクケース３０Ｂにおいて、鍔部４１Ｃ３の開口４１Ｃ３ａは、上ケース部３１ＢＡと下ケース部３１Ａとが重なった状態で、マスクライブラリＬＢ内でのマスクケース３０Ｂの位置を検出するために使用される。すなわち、開口４１Ｃ３ａを光ビームＬＢ１が通過している状態で、マスクケース３０Ｂは目標値にあることが分かる。この際に、開口４１Ｃ３ａが開口４１Ｃ３ｂよりも大きいため、例えば振動等によって下ケース部３１Ａ及び上ケース部３１ＢＡの重なりの状態が変化して、開口４１Ｃ３ａの位置がある程度ずれても、開口４１Ｃ３ａを光ビームＬＢ１が通過するため、マスクケース３０Ｂが目標位置にあることが検出できる。

　これに対して、上ケース部３１ＢＡの鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ３をマスクライブラリＬＢの支持部４７Ｂ１，４７Ｂ２に載置する際には、小さい開口４１Ｃ３ｂを光ビームＬＢ１が通過するように上ケース部３１ＢＡを位置決めすることによって、鍔部４１Ｃ１の開口４１Ｃ１ａを支持部４７Ｂ２のピン４８に係合させることができる。さらに、鍔部４１Ｃ１の開口４１Ｃ１ａがピン４８に係合している状態では、上ケース部３１ＢＡの位置ずれはほとんど生じないため、光ビームＬＢ１はその後も継続して開口４１Ｃ３ｂを通過している。

　このように、位置決め精度があまり高くない用途では、大きい開口４１Ｃ３ａを使用して、高い位置決め精度が要求される用途では、小さい開口４１Ｃ３ｂを使用することによって、マスクケース３０Ｂの搬送を円滑に行うことができる。
　なお、鍔部４１Ｃ３の開口４１Ｃ３ａは、開口４１Ｃ３ｂよりも大きい円形でもよい。さらに、鍔部４１Ｃ３の代わりに、図１８（Ｃ）に示すように、ほぼ正方形の開口４１Ｃ４ａ及びこれよりも小さい円形の開口４１Ｃ４ｂが形成された鍔部４１Ｃ４を使用してもよい。

　この変形例のマスクケース３０Ｂを用いて、搬送アーム６１によりマスクケース３０ＢをマスクライブラリＬＢに搬送する場合、検出装置５２で受光して得られる検出信号は、光ビームＬＢ１が開口４１Ｃ３ａを通過する場合と、開口４１Ｃ３ｂを通過する場合とで異なる。例えば、開口４１Ｃ３ｂよりも開口４１Ｃ３ａが大きいマスクケース３０Ｂを用いる場合、開口４１Ｃ３ａ及び開口４１Ｃ３ｂをまたいで検出信号が検出されるように搬送アーム６１を等速で移動させると、開口４１Ｃ３ａをまたいで検出される検出信号の方が、開口４１Ｃ３ｂをまたいで検出される検出信号よりも長い時間観測される。言い換えると、開口４１Ｃ３ａで観測される検出信号の方が開口４１Ｃ３ｂで観測される検出信号よりも半値幅が長い。これによって、開口４１Ｃ３ａの検出信号と開口４１Ｃ３ｂの検出信号を区別することができるので、搬送アーム６１の位置を特定することができる。
　次に、上述の実施形態においては、搬送装置Ｈ１とは別に搬送車Ｖが使用されているが、搬送車Ｖを本発明による搬送装置の一例とみなすことも可能である。この場合、搬送車Ｖに検出装置６３を設けるようにしてもよい。

　また、上述の実施形態においては、マスクライブラリＬＢに収容部６５の他に一時収容部６６が設けられているが、一時収容部６６を設けることなく、複数の収容部６５のうちの任意の一つの収容部６５に搬送車Ｖからマスクケース３０を搬入し、任意の一つの収容部６５から搬送車Ｖによってマスクケース３０を搬出してもよい。
　また、上述の実施形態においては、搬送車Ｖ及び搬送装置Ｈ１とマスクケース３０との連結はマスクケース３０（下ケース部３１Ａ）の底面部において行っているが、下ケース部３１Ａの側面部又は上ケース部３１Ｂの上面部等でその連結を行うようにしてもよい。

　また、上述の実施形態においては、搬送車Ｖ及び搬送装置Ｈ１のマスクケース搬送部５３，６１にはほぼ同一構造のボールトランスファ５４Ａ～５４Ｄ及び６２Ａ～６２Ｄが使用されているが、マスクケース搬送部５３，６１の端部等、マスクケース３０の受け渡しの際に大きな衝撃が加わる恐れがある部分には、耐衝撃性が高いボールトランスファ等のケース支持部材を用いることもできる。

　また、上述の実施形態においては、搬送装置Ｈ１は、自動で作動するものとして説明したが、作業員などが部分的にマニュアル方式で作動させてもよい。
　また、上述の実施形態においては、搬送車Ｖのマスクケース搬送部５３及び搬送装置Ｈ１のマスクケース搬送部６１の少なくとも一方に、マスクケース３０のθｚ方向の回転角を調整する機構を設けてもよい。

　また、上述の実施形態の露光装置ＥＸとしては、マスクとプレート（基板）とを同期移動してステップ・アンド・スキャン方式でマスクのパターンをプレートに露光する走査型露光装置が使用されている。露光装置ＥＸとして、その他に、ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置(ステッパ)、又は投影光学系を用いることなく、マスクと基板とを近接させて露光を行うプロキシミティ露光装置等を使用する場合にも本発明が適用できる。

　また、露光装置ＥＸの種類としては、液晶表示デバイス製造用の露光装置に限られず、半導体ウエハに半導体デバイス用のパターンを露光する半導体デバイス製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子(ＣＣＤ)あるいはレチクルなどを製造するための露光装置などを使用する場合にも本発明が適用できる。
　また、上記の各実施形態の露光装置ＥＸ又は露光方法を用いて、基板上に所定のパターン（ＴＦＴパターン等）を形成することによって、電子デバイス（マイクロデバイス）としての液晶ディスプレイ用のパネル（液晶表示パネル）を得ることもできる。以下、図１９のフローチャートを参照して、この製造方法の一例につき説明する。

　図１９のステップＳ４０１（パターン形成工程）では、先ず、露光対象の基板上にフォトレジストを塗布して感光基板（プレートＰ）を準備する塗布工程、上記の露光装置を用いてパネル用のマスク（例えばマスクＭを含む）のパターンをその感光基板上の複数のパターン形成領域に露光する露光工程、及びその感光基板を現像する現像工程が実行される。この塗布工程、露光工程、及び現像工程を含むリソグラフィ工程によって、その基板上に所定のレジストパターンが形成される。このリソグラフィ工程に続いて、そのレジストパターンをマスクとしたエッチング工程、及びレジスト剥離工程等を経て、その基板上に所定パターンが形成される。そのリソグラフィ工程等は、その基板上のレイヤ数に応じて複数回実行される。

　その次のステップＳ４０２（カラーフィルタ形成工程）では、赤Ｒ、緑Ｇ、青Ｂに対応した３つの微細なフィルタの組をマトリックス状に多数配列するか、又は赤Ｒ、緑Ｇ、青Ｂの３本のストライプ状の複数のフィルタの組を水平走査線方向に配列することによってカラーフィルタを形成する。その次のステップＳ４０３（セル組立工程）では、例えばステップＳ４０１にて得られた所定パターンを有する基板とステップＳ４０２にて得られたカラーフィルタとの間に液晶を注入して、液晶セルを製造する。

　その後のステップＳ４０４（モジュール組立工程）では、そのようにして組み立てられた液晶セルに表示動作を行わせるための電気回路、及びバックライト等の部品を取り付けて、液晶表示パネルとして完成させる。
　上述の電子デバイスの製造方法によれば、上記の実施形態の露光装置又は露光方法を用いてマスクのパターンを基板に転写する工程（ステップＳ４０１の一部）と、この工程によりそのパターンが転写された基板をそのパターンに基づいて加工（現像、エッチング等）する工程（ステップＳ４０１の他の部分）とを含んでいる。

　この製造方法によれば、露光工程のスループットを高めることができるため、液晶表示パネル等の電子デバイスを効率的に製造できる。
　なお、上述の電子デバイスの製造方法は、有機ＥＬ(Electro-Luminescence)ディスプレイ、又はプラズマディスプレイ等の他のディスプレイ用のパネル等を製造する場合にも適用できる。

　なお、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得ることは勿論である。

　ＥＸ…露光装置、Ｍ…マスク、Ｐ…プレート、ＭＳＴ…マスクステージ、ＣＨ…露光チャンバ、Ｖ…搬送車、Ｈ１…搬送装置、Ｈ２…マスクローダ系、ＬＢ…マスクライブラリ、３０…マスクケース、３１Ａ…下ケース部（第１ケース部）、３１Ｂ…上ケース部（第２ケース部）、３２…ベース部材、３２ａ１…窓部、３６Ａ～３６Ｃ…位置決め部、３７Ａ，３７Ｂ…反射部、４１Ａ，４１Ｂ…鍔（つば）部、４３…フレーム機構、４６Ａ，４６Ｂ…レール、４７Ａ１，４７Ａ２，４７Ｂ１，４７Ｂ２…支持部、４９…反射部材、５２…検出装置、６５…収容部、６６…一時収容部

Claims

　マスクを支持する支持部が設けられる底面を有する第１ケース部と、第１ケース部に対して着脱可能に設けられ、前記底面に対向配置される上面を有する第２ケース部と、を備え、保管装置に保管可能なマスクケースであって、
　前記第２ケース部は、前記第１ケース部から取り外されて前記保管装置に保持されるときに用いられる保持部を有し、
　前記保持部は、
　前記第１ケース部に装着された前記第２ケース部が前記保管装置に保管される第１位置にあるときに、光が通過する第１の光通過部と、
　前記第１ケース部から取り外された前記第２ケース部の前記保持部が前記保管装置に保持される第２位置にあるときに、前記光が通過する、前記第１の光通過部とは異なる第２の光通過部と、
　を備えるマスクケース。
　前記第１の光通過部と前記第２の光通過部とは、前記第２ケース部の前記保管装置に対する相対位置関係を検出するために用いられる請求項１に記載のマスクケース。
　前記第１の光通過部と前記第２の光通過部とは、前記マスクケースが前記保管装置に搬入される第１方向の互いに異なる位置に設けられる請求項１又は２に記載のマスクケース。
　前記第２の光通過部は、
　前記第１ケース部に装着された前記第２ケース部が前記保管装置に保管されているときの位置から前記第１方向にずれた位置で、前記第１ケース部から取り外された前記第２ケース部の前記保持部を介して前記保管装置に保持されているときの、前記第２ケース部の前記保管装置に対する相対位置関係を検出するために用いられる請求項３に記載のマスクケース。
　前記第１の光通過部は、前記第２の光通過部に対して、
　前記第２ケース部を装着した前記第１ケース部が、前記保管装置に支持されているときの前記第２ケース部の位置と、前記第２ケース部が前記第１ケース部から取り外されて、前記保持部を介して前記保管装置に支持されているときの前記第２ケース部の位置と、の前記第１方向におけるずれ量だけ前記第１方向にずれて配置される請求項３又は４に記載のマスクケース。
　前記保持部は、前記第２ケース部の上面において、前記第１方向と交差する第２方向の両側の側面から外部に突出して設けられる請求項３～５のいずれか一項に記載のマスクケース。
　前記保持部は、前記支持部で支持された前記マスクのパターン面に平行な方向に突出して設けられる請求項１～６のいずれか一項に記載のマスクケース。
　前記第１の光通過部において光が通過する領域の面積は、前記第２の光通過部において前記光が通過する領域の面積よりも小さい請求項１～７のいずれか一項に記載のマスクケース。
　前記保持部は、前記第２ケース部の上面において、前記第１方向に沿って前記第１の光通過部及び前記第２の光通過部から離れた位置に、切り欠き部を有する請求項３～８のいずれか一項に記載のマスクケース。
　前記保持部は、前記第２ケース部の前記上面における一方の側面及び他方の側面から外部に突出した少なくとも２つの部分突出部で構成され、
　前記部分突出部の１つに、前記第１の光通過部と前記第２の光通過部とが設けられる請求項１～９のいずれか一項に記載のマスクケース。
　前記第１の光通過部及び第２の光通過部とは、互いに６０ｍｍ隔てた位置に設けられる請求項１～１０のいずれか一項に記載のマスクケース。
　前記第１の光通過部から５７０ｍｍ隔てた位置に、前記第２のケース部を前記保管装置に嵌合するための開口部を備える請求項１～１１のいずれか一項に記載のマスクケース。
　マスクを支持する支持部が設けられる底面を有する第１ケース部と、第１ケース部に対して着脱可能に設けられ、前記底面に対向配置される上面を有する第２ケース部と、を備え、保管装置に保管可能なマスクケースであって、
　前記第２ケース部は、前記第１ケース部から取り外されて保持されるときに用いられる保持部を備え、
　前記保持部は、前記第１ケース部から取り外された前記第２ケース部が前記保管装置で支持されるときに、前記保管装置に設けられたピン部に嵌合するための開口部を有するマスクケース。
　前記保持部の開口部は、前記第２ケース部の前記上面における一方の側面及び他方の側面のそれぞれに設けられる請求項１３に記載のマスクケース。
　マスクを支持する支持部が設けられる底面を有する第１ケース部と、第１ケース部に対して着脱可能に設けられ、前記底面に対向配置される上面を有する第２ケース部と、で構成されるマスクケースであって、
　前記第１ケース部は、前記底面において前記支持部に対向する位置に、外部からの光を通過させる光通過部を備えるマスクケース。
　前記支持部は、前記マスクケースが保管される保管装置に前記第１ケース部及び前記第２ケース部が搬送される第１方向における前記マスクの端部の位置を規定し、
　前記光通過部は、前記支持部に対向する位置に設けられる請求項１５に記載のマスクケース。
　前記光通過部は、前記第１ケース部の底面に対して傾斜して設けられる請求項１５又は１６に記載のマスクケース。
　前記光通過部は、前記第２ケース部が前記第１ケース部に装着されて前記マスクが前記第１ケース部及び前記第２ケース部に収納された状態で、前記マスクと前記第２ケース部とが見える位置に設けられていることを特徴とする請求項１５～１７のいずれか一項に記載のマスクケース。
　前記第１ケース部に設けられ、外部からの光を反射する第１反射部と、前記第２ケース部の内面に設けられ、前記第１ケース部の前記光通過部に対向する位置に、前記光通過部から入射する光を前記光通過部に向けて反射する第２反射部をさらに備える請求項１５～１８のいずれか一項に記載のマスクケース。
　前記光通過部が設けられる側から前記マスクケースを見たときに、前記第１反射部、前記マスク、前記第２反射部の順に並んで設けられる請求項１９に記載のマスクケース。
　前記第１反射部及び前記第２反射部のうち少なくとも一方は、偏光板である請求項１９又は２０に記載のマスクケース。
　前記第１ケース部の底面に設けられ、互いに異なる形状を有する少なくとも３つの溝部を有することを特徴とする請求項１～２１のいずれか一項に記載のマスクケース。
　前記溝部の少なくとも３つの溝部は、円錐面状の溝部と平坦面を有する溝部とを含む請求項２２に記載のマスクケース。
　マスクケースを保管する保管装置において、
　請求項１～１２のいずれか一項に記載のマスクケースの前記保持部を介して前記マスクケースを支持可能な支持部と、
　前記支持部に向けて光ビームを照射する照射部と、
　前記支持部に向けて照射された前記光ビームを検出する検出部と、
を備える保管装置。
　前記照射部は、前記保持部に設けられた前記光通過部に向けて前記光ビームを照射し、
　前記検出部は、前記光通過部に向けて照射された前記光ビームを検出する請求項２４に記載の保管装置。
　前記保持部の前記光通過部を通過した前記光ビームを前記光通過部に向けて反射する光ビーム反射部をさらに備え、
　前記検出部は、前記光ビーム反射部で反射されて前記光通過部を通過した前記光ビームを検出することを特徴とする請求項２４又は２５に記載の保管装置。
　前記保持部の少なくとも一部に係合する係合部をさらに備え、
　前記保持部の少なくとも一部が前記係合部に係合された状態で、前記照射部が前記支持部によって支持された前記保持部の前記光通過部に光を照射して、前記光通過部を通過した光を前記検出部で検出する請求項２４～２６のいずれか一項に記載の保管装置。
　マスクケースを搬送する搬送装置であって、
　請求項２４～２７のいずれか一項に記載の保管装置に前記マスクケースを搬送する搬送アームを備え、
　前記搬送アームは、前記マスクケースを保持してから前記マスクケースが前記保管装置の前記支持部に支持されるまでの間に前記検出部で検出された前記光ビームの検出結果に基づいて、前記マスクケースが前記支持部で支持される位置を制御する搬送装置。
　前記保管装置は、前記マスクケースの受け渡し行う一時収容部をさらに備え、
　前記搬送アームは、前記検出部で検出された前記検出結果が所望の検出結果と異なる場合に、前記マスクケースを前記一時収容部に返却することを特徴とする請求項２８に記載の搬送装置。
　マスクケースを保管する保管装置であって、
　請求項１３又は１４に記載のマスクケースの保持部を支持可能なケース支持部を備え、
　前記ケース支持部に、前記保持部に設けられた前記開口部と係合可能なピン部を有する保管装置。
　前記開口部が前記ピン部に係合しないことを検出する検出部をさらに備える請求項３０に記載の保管装置。
　マスクが収納されたマスクケースを搬送する搬送装置であって、
　請求項３１に記載の保管装置に前記マスクケースを搬送する搬送アームを備え、
　前記搬送アームは、前記検出部によって前記開口部が前記ピン部に係合しないことを検出した場合に、前記マスク又は前記マスクケースの搬送を行わない搬送装置。
　マスクケースを搬送する搬送装置において、
　請求項１５～２１のいずれか一項に記載のマスクケースを支持するケース支持部と、
　前記マスクケースに向けて光ビームを照射する照射部と、
　前記マスクケースに向けて照射された前記光ビームを検出する検出部と、を備える搬送装置。
　前記照射部は、前記マスクケースの前記光通過部に前記光ビームを照射し、
　前記検出部は、前記光通過部に向けて照射された前記光ビームを検出する請求項３３に記載の搬送装置。
　前記検出部で検出された検出結果に基づいて、所望のマスクではないマスクが搬送された場合、又は、マスクのないマスクケースが搬送された場合に、前記マスクケースの搬送を行わない請求項３３又は３４に記載の搬送装置。
　前記検出部で検出された検出結果に基づいて、所望のマスクではないマスクが搬送された場合、又は、マスクのないマスクケースが搬送された場合に、前記マスクケースが保管される保管装置の一時収容部に前記マスクケースを返却する請求項３３～３５のいずれか一項に記載の搬送装置。
　前記検出部は、
　前記マスクケースに光を照射し、前記マスクケースからの反射光を検出して前記マスクケースの状態を検出する第１検出部と、
　前記マスクケースに設けられた前記光通過部を介して前記マスクケースに収納されている前記マスクに光を照射し、前記マスクからの反射光を前記光通過部を介して検出する第２検出部と、
　を有する請求項３３～３６のいずれか一項に記載の搬送装置。
　前記検出部は、
　前記下ケース部の前記光通過部を介して前記上ケース部に設けられた第２反射部に光を照射し、前記第２反射部からの反射光を前記光通過部を介して検出して、前記上ケース部の状態を検出する第３検出部を備える請求項３７に記載の搬送装置。
　請求項２２又は２３に記載のマスクケースを支持するケース支持部を備え、
　前記ケース支持部は、前記マスクケースの前記底面の少なくとも３つの溝部に係合可能な少なくとも３つの凸部を有する搬送装置。
　マスクケースを保管する保管装置において、
　請求項１～２３のいずれか一項に記載のマスクケースを支持するケース支持部を備える保管装置。
　マスクケースを搬送する搬送装置において、
　請求項１～２３のいずれか一項に記載のマスクケースを支持するケース支持部を備える搬送装置。
　マスクケースを搬送する搬送装置であって、
　請求項１～２３のいずれか一項に記載のマスクケースから第２ケース部を取り出して、前記マスクが載置された前記第１ケース部を搬送する搬送アームを備える搬送装置。
　マスクを搬送するマスク搬送装置であって、
　請求項４２に記載の搬送装置によって搬送され、かつ、前記マスクが載置された第１ケース部から前記マスクを受け取って、前記マスクを搬送するマスク搬送部を備えるマスク搬送装置。
　基板を露光する露光装置において、
　請求項１～２３のいずれか一項に記載のマスクケースに収納されたマスクを用いて、前記基板を露光する露光装置。
　基板を露光する露光装置において、
　請求項２２～３２、４０のいずれか一項に記載の保管装置を備え、
　前記保管装置に保管可能なマスクケースに収納されたマスクを用いて、前記基板を露光する露光装置。
　基板を露光する露光装置において、
　請求項２８、２９、３３～３９、４１、４２のいずれか一項に記載の搬送装置を備え、
　前記搬送装置によって搬送されたマスクケースの内部に収納されたマスクを用いて、前記基板を露光する露光装置。
　基板を露光する露光装置において、
　請求項４３に記載のマスク搬送装置を備え、
　前記マスク搬送装置によって搬送されたマスクを用いて、前記基板を露光する露光装置。
　請求項４４～４７のいずれか一項に記載の露光装置を用いて感光性基板を露光することと、
　前記露光された感光性基板を処理することと、を含むデバイス製造方法。
　マスクケースを保管する保管方法において、
　請求項１～２３のいずれか一項に記載のマスクケースの前記保持部を介して前記マスクケースを支持することと、
　前記支持部に向けて光ビームを照射することと、
　前記支持部に向けて照射された前記光ビームを検出することと、を含む保管方法。
　マスクケースを保管する保管方法において、
　請求項１～２３のいずれか一項に記載のマスクケースの前記第１ケース部を支持することと、
　前記第１ケース部から分離された第２ケース部を、前記第２ケース部の前記保持部を介して支持することと、
　前記第２ケース部の前記保持部に光ビームを照射し、前記保持部に照射された前記光ビームを検出することと、
　前記光ビームの検出結果に応じて前記第２ケース部の位置を調整することと、を含む保管方法。
　マスクケースを保管する保管方法において、
　請求項１～２３のいずれか一項に記載のマスクケースの保持部に設けられた開口部をピン部で係合させて、前記マスクケースを支持する保管方法。
　マスクケースを搬送する搬送方法において、
　マスクが収納された請求項１～２３のいずれか一項に記載のマスクケースを支持することと、
　前記マスクケースの第１ケース部に光を照射し、前記第１ケース部に照射された前記光を検出することと、
　前記第１ケース部に設けられる光通過部を介して前記第１ケース部に載置された前記マスクに前記光を照射し、前記マスクからの反射光を前記光通過部を介して検出することと、を含む搬送方法。
　マスクを搬送するマスク搬送方法であって、
　請求項１～２３のいずれか一項に記載のマスクケースに収納されたマスクを搬送するマスク搬送方法。