WO2016092596A1 - 液状ソルダーレジスト組成物及び被覆プリント配線板 - Google Patents

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meth
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善夫 酒井
倫也 樋口
亘人 濱田
得山 三宅
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互応化学工業株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a liquid solder resist composition and a coated printed wiring board, and more specifically, a liquid solder resist composition that is photocurable and developable with an alkaline solution, and a solder resist layer formed from the liquid solder resist composition It is related with the covering printed wiring board provided with.
  • solder resist layer in the printed wiring board on which the optical element is mounted contains titanium oxide to whiten the solder resist layer, thereby efficiently reflecting the light emitted from the light emitting element by the solder resist layer.
  • Titanium oxide includes rutile type and anatase type due to the difference in crystal structure.
  • the solder resist layer containing rutile-type titanium oxide produced by the sulfuric acid method has a problem that the light reflectance is low although it is less deteriorated by ultraviolet rays and heat.
  • solder resist layer containing rutile-type titanium oxide produced by the chlorine method has high reflectivity, but when irradiated with ultraviolet rays, the light reflectivity decreases, and it is difficult to maintain high reflectivity. There is also a problem that yellowing easily occurs due to the action of ultraviolet rays.
  • solder resist layer containing anatase type titanium oxide is originally not white but yellowish, and there is a problem that the coating film deterioration due to ultraviolet rays and heat is large and the light reflectance is low.
  • the present invention has been made in view of the above-mentioned reasons, and has a high reflectance, and in particular, a liquid solder resist composition capable of forming a solder resist layer in which deterioration due to light is suppressed, and the liquid solder resist composition It aims at providing the covering printed wiring board provided with the soldering resist layer formed from the thing.
  • Liquid solder resist composition according to the present invention, A carboxyl group-containing resin; A photopolymerizable compound containing one or more compounds selected from the group consisting of a photopolymerizable monomer and a photopolymerizable prepolymer; A photopolymerization initiator; Titanium oxide, A compound having a cyclic ether skeleton, and The titanium oxide contains both a rutile type titanium oxide produced by a sulfuric acid method and a rutile type titanium oxide produced by a chlorine method.
  • the coated printed wiring board according to the present invention is A printed wiring board; A solder resist layer covering the printed wiring board, The solder resist layer is formed from the liquid solder resist composition.
  • the liquid solder resist composition according to this embodiment contains a carboxyl group-containing resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, titanium oxide, and a compound having a cyclic ether skeleton.
  • the carboxyl group-containing resin can impart developability with an alkaline solution, that is, alkali developability, to the coating film formed from the liquid solder resist composition.
  • the carboxyl group-containing resin can contain a compound having a carboxyl group and not having photopolymerizability (hereinafter referred to as “component (A1)”).
  • the component (A1) contains a polymer of an ethylenically unsaturated monomer including, for example, an ethylenically unsaturated compound having a carboxyl group.
  • the ethylenically unsaturated monomer may further contain an ethylenically unsaturated compound having no carboxyl group.
  • the ethylenically unsaturated compound having a carboxyl group can contain an appropriate polymer and prepolymer, for example, a compound having only one ethylenically unsaturated group. More specifically, ethylenically unsaturated compounds having a carboxyl group include, for example, acrylic acid, methacrylic acid, ⁇ -carboxy-polycaprolactone (n ⁇ 2) monoacrylate, crotonic acid, cinnamic acid, 2-acryloyloxyethyl succinate.
  • the ethylenically unsaturated compound having a carboxyl group can also contain a compound having a plurality of ethylenically unsaturated groups. More specifically, for example, ethylenically unsaturated compounds having a carboxyl group are pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane dimethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, and dipentaerythritol.
  • a compound obtained by reacting a dibasic acid anhydride with a polyfunctional (meth) acrylate having a hydroxyl group selected from the group consisting of pentamethacrylate can be contained. These compounds are used individually by 1 type, or multiple types are used together.
  • the ethylenically unsaturated compound having no carboxyl group may be a compound copolymerizable with the ethylenically unsaturated compound having a carboxyl group.
  • the ethylenically unsaturated compound having no carboxyl group can contain both a compound having an aromatic ring and a compound having no aromatic ring.
  • the compound having no aromatic ring is, for example, a linear or branched aliphatic or alicyclic (however, the ring may partially have an unsaturated bond) (meth) acrylic acid ester, hydroxyalkyl
  • (meth) acrylic acid ester hydroxyalkyl
  • One or more compounds selected from the group consisting of (meth) acrylates, alkoxyalkyl (meth) acrylates and the like; and N-substituted maleimides such as N-cyclohexylmaleimide may be contained.
  • Compounds that do not have an aromatic ring include ethylene glycol in one molecule such as polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and pentaerythritol tri (meth) acrylate.
  • the type, ratio, and the like of the compound used to obtain the component (A1) are appropriately selected so that the acid value of the component (A1) is an appropriate value.
  • the acid value of the component (A1) is preferably in the range of 20 to 180 mgKOH / g, more preferably in the range of 35 to 165 mgKOH / g.
  • the carboxyl group-containing resin can also contain a photopolymerizable carboxyl group-containing resin having a carboxyl group and a photopolymerizable functional group (hereinafter referred to as “component (A2)”).
  • component (A2) a photopolymerizable carboxyl group-containing resin having a carboxyl group and a photopolymerizable functional group
  • the photopolymerizable functional group is, for example, an ethylenically unsaturated group.
  • the component (A2) is prepared by reacting, for example, an ethylenically unsaturated compound (a2) having a carboxyl group with at least one of the epoxy groups in the epoxy compound (a1) having two or more epoxy groups in one molecule. And further a resin having a structure to which a compound (a3) selected from the group consisting of at least one selected from polyvalent carboxylic acids and anhydrides is added (hereinafter referred to as first resin (a)). be able to.
  • the epoxy compound (a1) includes, for example, a cresol novolac type epoxy resin, a phenol novolac type epoxy resin, a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, a bisphenol A-novolak type epoxy resin, a naphthalene type epoxy resin, a biphenyl type epoxy resin, It may contain at least one compound selected from the group consisting of a polymer of an ethylenically unsaturated compound including a biphenyl aralkyl type epoxy resin, triglycidyl isocyanurate, an alicyclic epoxy resin, and a compound having an epoxy group.
  • the epoxy compound (a1) may contain a polymer of an ethylenically unsaturated compound (p) including the compound (p1) having an epoxy group.
  • the ethylenically unsaturated compound (p) used for the synthesis of this polymer may contain only the compound (p1) having an epoxy group, or the compound (p1) having an epoxy group and a compound not having an epoxy group (P2) may be contained.
  • the compound (p1) having an epoxy group can contain a compound selected from appropriate polymers and prepolymers.
  • the compound (p1) having an epoxy group includes epoxy cyclohexyl derivatives of acrylic acid, epoxy cyclohexyl derivatives of methacrylic acid, alicyclic epoxy derivatives of acrylate, alicyclic epoxy derivatives of methacrylate, ⁇ -methylglycidyl acrylate And one or more compounds selected from the group consisting of ⁇ -methylglycidyl methacrylate.
  • the compound (p1) having an epoxy group contains glycidyl (meth) acrylate which is widely used and easily available.
  • the compound having no epoxy group (p2) may be any compound that can be copolymerized with the compound having an epoxy group (p1).
  • the compound having no epoxy group (p2) may further contain a compound having two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule. This compound is used, and the hardness and oiliness of the solder resist layer are easily adjusted by adjusting the amount of the compound.
  • the compound having two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule include polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and pentaerythritol tri (meth).
  • One or more compounds selected from the group consisting of acrylates can be contained.
  • a polymer is obtained by polymerizing the ethylenically unsaturated compound (p) by a known polymerization method such as a solution polymerization method or an emulsion polymerization method.
  • a known polymerization method such as a solution polymerization method or an emulsion polymerization method.
  • the solution polymerization method include a method of heating and stirring the ethylenically unsaturated compound (p) in a suitable organic solvent in the presence of a polymerization initiator in a nitrogen atmosphere and an azeotropic polymerization method.
  • Examples of the organic solvent used for the polymerization of the ethylenically unsaturated compound (p) include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone, and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and ethyl acetate, butyl acetate, and cellosolve acetate.
  • ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone
  • aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene
  • ethyl acetate, butyl acetate, and cellosolve acetate include ethyl acetate, butyl acetate, and cellosolve acetate.
  • One or more compounds selected from the group consisting of acetate esters such as butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, butyl carbitol acetate, and propylene glycol monomethyl ether acetate, and
  • Examples of the polymerization initiator used for the polymerization of the ethylenically unsaturated compound (p) include hydroperoxides such as diisopropylbenzene hydroperoxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di Dialkyl peroxides such as-(t-butylperoxy) -hexane, diacyl peroxides such as isobutyryl peroxide, ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, alkyl peresters such as t-butyl peroxybivalate , Peroxydicarbonates such as diisopropyl peroxydicarbonate, azo compounds such as azobisisobutyronitrile, and one or more compounds selected from the group consisting of redox initiators.
  • hydroperoxides such as diisopropylbenzene hydroperoxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2
  • the ethylenically unsaturated compound (a2) can contain a compound selected from the group consisting of appropriate polymers and prepolymers.
  • the ethylenically unsaturated compound (a2) can contain a compound having only one ethylenically unsaturated group.
  • Compounds having only one ethylenically unsaturated group include, for example, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid, 2-acryloyloxyethyl succinic acid, 2-methacryloyloxyethyl succinic acid, 2-acryloyloxyethyl phthalic acid, 2 -Methacryloyloxyethyl phthalic acid, ⁇ -carboxyethyl acrylate, 2-acryloyloxyethyl tetrahydrophthalic acid, 2-methacryloyloxyethyl tetrahydrophthalic acid, 2-acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, and 2-methacryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid
  • One or more compounds selected from the group consisting of acids can be contained.
  • the ethylenically unsaturated compound (a2) can further contain a compound having a plurality of ethylenically unsaturated groups.
  • Compounds having a plurality of ethylenically unsaturated groups are, for example, hydroxyl groups such as pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane dimethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, etc.
  • One or more compounds selected from the group consisting of compounds obtained by reacting dibasic acid anhydrides with polyfunctional acrylates and polyfunctional methacrylates can be contained.
  • the ethylenically unsaturated compound (a2) contains at least one of acrylic acid and methacrylic acid.
  • the ethylenically unsaturated group derived from acrylic acid and methacrylic acid is particularly excellent in photoreactivity, the photoreactivity of the first resin (a) is increased.
  • the amount of the ethylenically unsaturated compound (a2) used is such that the carboxyl group of the ethylenically unsaturated compound (a2) is in the range of 0.4 to 1.2 mol with respect to 1 mol of the epoxy group of the epoxy compound (a1).
  • the amount is preferably such that the carboxyl group is in the range of 0.5 to 1.1 mol.
  • the compound (a3) selected from the group consisting of polyvalent carboxylic acids and anhydrides thereof is, for example, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, methyltetrahydrophthalic acid, methylnadic acid, hexahydrophthalic acid, methylhexahydrophthalic acid, succinic acid.
  • Acids methyl succinic acid, maleic acid, citraconic acid, glutaric acid, itaconic acid and other dicarboxylic acids; cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, benzophenone tetracarboxylic acid, methylcyclohexene tetracarboxylic acid
  • polybasic carboxylic acids such as tribasic acids and the like; and anhydrides of these polyvalent carboxylic acids.
  • the compound (a3) is used mainly for the purpose of imparting redispersion and resolubility with a dilute aqueous alkali solution to the liquid solder resist composition by giving an acid value to the first resin (a).
  • the amount of the compound (a3) used is adjusted so that the acid value of the first resin (a) is preferably 30 mgKOH / g or more, particularly preferably 60 mgKOH / g or more.
  • the amount of the compound (a3) used is adjusted so that the acid value of the first resin (a) is preferably 160 mgKOH / g or less, particularly preferably 130 mgKOH / g or less.
  • an addition reaction between the epoxy compound (a1) and the ethylenically unsaturated compound (a2), and a product (addition reaction product) and a compound (a3) obtained by the addition reaction is synthesized.
  • a known method may be employed.
  • the ethylenically unsaturated compound (a2) is added to the solvent solution of the epoxy compound (a1), and thermal polymerization is prohibited as necessary.
  • a reactive solution is obtained by adding an agent and a catalyst and stirring and mixing.
  • An addition reaction product is obtained by reacting this reactive solution at a reaction temperature of preferably 60 to 150 ° C., particularly preferably 80 to 120 ° C., by a conventional method.
  • the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone or hydroquinone monomethyl ether.
  • the catalyst include tertiary amines such as benzyldimethylamine and triethylamine, quaternary ammonium salts such as trimethylbenzylammonium chloride and methyltriethylammonium chloride, triphenylphosphine, and triphenylstibine.
  • the compound (a3) is added to the solvent solution of the addition reaction product, and a thermal polymerization inhibitor and a catalyst are further added as necessary, followed by stirring and mixing. By doing so, a reactive solution is obtained.
  • the first resin (a) is obtained by reacting this reactive solution by a conventional method.
  • the reaction conditions may be the same as in the addition reaction of the epoxy compound (a1) and the ethylenically unsaturated compound (a2).
  • the thermal polymerization inhibitor and the catalyst the compound used in the addition reaction between the epoxy compound (a1) and the ethylenically unsaturated compound (a2) having a carboxyl group can be used as it is.
  • the component (A2) is obtained by reacting an ethylenically unsaturated compound having an epoxy group with a part of a carboxyl group in a polymer of ethylenically unsaturated monomers including an ethylenically unsaturated compound having a carboxyl group.
  • a carboxyl group-containing (meth) acrylic copolymer resin (referred to as second resin (b)) may be contained.
  • the ethylenically unsaturated monomer may contain an ethylenically unsaturated compound having no carboxyl group, if necessary.
  • the ethylenically unsaturated compound having a carboxyl group for obtaining the second resin (b) can contain an appropriate polymer and prepolymer.
  • an ethylenically unsaturated compound having a carboxyl group can contain a compound having only one ethylenically unsaturated group.
  • ethylenically unsaturated compounds having a carboxyl group include, for example, acrylic acid, methacrylic acid, ⁇ -carboxy-polycaprolactone (n ⁇ 2) monoacrylate, crotonic acid, cinnamic acid, 2-acryloyloxyethyl succinate.
  • the ethylenically unsaturated compound having a carboxyl group can also contain a compound having a plurality of ethylenically unsaturated groups. More specifically, for example, ethylenically unsaturated compounds having a carboxyl group are pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane dimethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, and dipentaerythritol.
  • a compound obtained by reacting a dibasic acid anhydride with a polyfunctional (meth) acrylate having a hydroxyl group selected from the group consisting of pentamethacrylate can be contained. These compounds are used individually by 1 type, or multiple types are used together.
  • the ethylenically unsaturated compound having no carboxyl group for obtaining the second resin (b) may be a compound copolymerizable with the ethylenically unsaturated compound having a carboxyl group.
  • the ethylenically unsaturated compound having no carboxyl group can contain both a compound having an aromatic ring and a compound having no aromatic ring.
  • the compound having no aromatic ring is, for example, a linear or branched aliphatic or alicyclic (however, the ring may partially have an unsaturated bond) (meth) acrylic acid ester, hydroxyalkyl
  • (meth) acrylic acid ester hydroxyalkyl
  • One or more compounds selected from the group consisting of (meth) acrylates, alkoxyalkyl (meth) acrylates and the like; and N-substituted maleimides such as N-cyclohexylmaleimide may be contained.
  • Compounds that do not have an aromatic ring include ethylene glycol in one molecule such as polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and pentaerythritol tri (meth) acrylate.
  • the ethylenically unsaturated compound having an epoxy group for obtaining the second resin (b) an appropriate polymer or prepolymer may be mentioned.
  • Specific examples of the ethylenically unsaturated compound having an epoxy group include epoxycyclohexyl derivatives of acrylic acid or methacrylic acid; alicyclic epoxy derivatives of acrylate or methacrylate; ⁇ -methylglycidyl acrylate, ⁇ -methylglycidyl methacrylate, and the like. . These compounds are used individually by 1 type, or multiple types are used together. In particular, it is preferable to use glycidyl (meth) acrylate which is widely used and easily available.
  • Component (A2) is an ethylenically unsaturated group in part or all of the hydroxyl group in a polymer of ethylenically unsaturated monomers containing an ethylenically unsaturated compound having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated compound having a hydroxyl group.
  • You may contain resin (henceforth 3rd resin (c)) obtained by adding the compound which has a saturated group and an isocyanate group.
  • the ethylenically unsaturated monomer may contain an ethylenically unsaturated compound having no carboxyl group and hydroxyl group, if necessary.
  • the ethylenically unsaturated compound having a carboxyl group for obtaining the third resin (c) may be, for example, the same as the ethylenically unsaturated compound having a carboxyl group for obtaining the second resin (b) described above.
  • the ethylenically unsaturated compound having a hydroxyl group for obtaining the third resin (c) include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meta ) Acrylate, cyclohexanedimethanol mono (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-2-hydroxyethyl phthalate, caprolactone (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate, polypropylene glycol (meth) acrylate, trimethylol Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as propanedi (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, hydroxybutyl Vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, and N- hydroxyethyl (meth)
  • Specific examples of the compound having an ethylenically unsaturated group and an isocyanate group for obtaining the third resin (c) include 2-acryloyloxyethyl isocyanate (as a specific example, Showa Denko KK; product number “Karenz AOI”), 2-Methacryloyloxyethyl isocyanate (specific example Showa Denko KK; product number “Karenz MOI”), methacryloyloxyethoxyethyl isocyanate (specific example Showa Denko KK; product number “Karenz MOI-EG”), isocyanate block of Karenz MOI Body (specific example Showa Denko KK; product number “Karenz MOI-BM”), Karenz MOI isocyanate block (specific example Showa Denko KK; product number “Karenz MOI-BP”), and 1,1- (bis Acryloyloxymethyl) Chill isocyanate) (as a specific example Showa Denko KK; part number "K
  • the weight average molecular weight of the entire component (A2) is preferably in the range of 800 to 100,000. Within this range, particularly excellent photosensitivity and resolution are imparted to the liquid solder resist composition.
  • the acid value of the entire component is preferably 30 mgKOH / g or more, and in this case, good developability is imparted to the liquid solder resist composition.
  • the acid value is more preferably 60 mgKOH / g or more.
  • the acid value of the entire component (A2) is preferably 180 mgKOH / g or less. In this case, the residual amount of carboxyl groups in the coating formed from the liquid solder resist composition is reduced, and the coating has good electrical properties. The characteristics, electric corrosion resistance, water resistance and the like are maintained.
  • the acid value is more preferably 150 mgKOH / g or less.
  • the photopolymerizable compound imparts photocurability to the liquid solder resist composition.
  • the photopolymerizable compound contains one or more compounds selected from the group consisting of a photopolymerizable monomer and a photopolymerizable prepolymer.
  • the photopolymerizable monomer has, for example, an ethylenically unsaturated group.
  • Photopolymerizable monomers include, for example, monofunctional (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate; and diethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, Multifunctional (meth) such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ⁇ -caprolactone modified pentaerythritol hexaacrylate
  • One or more compounds selected from the group consisting of acrylates can be contained.
  • the photopolymerizable monomer contains a phosphorus-containing compound (phosphorus-containing photopolymerizable compound).
  • Phosphorus-containing photopolymerizable compounds include, for example, 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate (specific examples: product number light ester P-1M and light ester P-2M manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), 2-acryloyloxyethyl acid phosphate (Specific examples are product number light acrylate P-1A manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), diphenyl-2-methacryloyloxyethyl phosphate (specific example product number MR-260 manufactured by Daihachi Kogyo Co., Ltd.), and Showa Polymer Co., Ltd.
  • HFA series Part No. HFA-6003, which is an addition reaction product of dipentaerystol hexaacrylate and HCA, and HFA-6007, as an example, an addition reaction product of caprolactone-modified dipentaerystol hexaacrylate and HCA
  • HFA-3 03 may contain one or more compounds selected from the group consisting of HFA-6127, etc.
  • Examples of the photopolymerizable prepolymer include a prepolymer obtained by polymerizing a photopolymerizable monomer, an ethylenically unsaturated group-added prepolymer, an epoxy (meth) acrylate, a polyester (meth) acrylate, and a urethane (meth).
  • Examples thereof include oligo (meth) acrylate prepolymers such as acrylate, alkyd resin (meth) acrylate, silicone resin (meth) acrylate, and spirane resin (meth) acrylate.
  • the photopolymerization initiator includes a bisacylphosphine oxide photopolymerization initiator, a first ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator, and a second ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator. Containing the agent.
  • the first ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator is liquid at 25 ° C.
  • the second ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator is solid at 25 ° C.
  • the solder resist layer obtained by ultraviolet-curing the coating film formed from the liquid solder resist composition can be sufficiently cured from the surface layer to the deep part. The reason is considered as follows.
  • the bisacylphosphine oxide photopolymerization initiator reacts with a component having a relatively long wavelength contained in ultraviolet rays. Such a relatively long wavelength component tends to reach the deep part of the coating film formed from the liquid solder resist composition. Therefore, the bisacylphosphine oxide photopolymerization initiator can improve the photocuring reaction efficiency in the deep part of the coating film.
  • the first ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator and the second ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator react with a component having a relatively short wavelength contained in ultraviolet rays. Such a relatively short wavelength component hardly reaches the deep part of the coating film.
  • the first ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator and the second ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator have high photoreactivity because they are less susceptible to oxygen damage. Therefore, the first ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator and the second ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator can improve the photocuring reaction efficiency in the surface layer of the coating film.
  • the wavelength range of the light for reacting the first ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator and the wavelength range of the light for reacting the second ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator are different, ultraviolet rays are used. Can be used efficiently. For this reason, the photocuring reaction in the surface layer of the coating proceeds more efficiently.
  • the photocuring reaction can be efficiently advanced from the surface layer to the deep part of the coating film. Accordingly, it is considered that the surface layer of the solder resist layer can be sufficiently cured and the deep portion can be sufficiently cured.
  • solder resist layer When the solder resist layer is sufficiently cured from the surface layer to the deep part, unevenness is hardly generated in the degree of curing of the solder resist layer, and therefore wrinkles due to curing shrinkage are hardly generated in the solder resist layer. Thereby, the smoothness of a soldering resist layer becomes high.
  • the solder resist layer is sufficiently cured from the surface layer to the deep part, the homogeneity of the solder resist layer becomes high. For this reason, even if the solder resist layer is deformed by heat in the soldering process, the reflow process, or the like, the stress is easily dispersed in the solder resist layer, so that the solder resist layer is hardly cracked.
  • bisacylphosphine oxide photopolymerization initiators are inherently easy to crystallize.
  • the crystals are raised on the coating film formed from the liquid solder resist composition, so that the surface uniformity of the solder resist layer is achieved. May deteriorate, reliability of the printed wiring board may be significantly reduced, and uniform ultraviolet curing of the liquid solder resist composition may be difficult.
  • the liquid solder resist composition contains the first ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator which is liquid at 25 ° C.
  • Precipitation of crystals of the acylphosphine oxide photopolymerization initiator is suppressed. Furthermore, the effect can be obtained particularly by containing a second ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator which is solid at 25 ° C. Thereby, the storage stability of a liquid soldering resist composition becomes high.
  • the photopolymerization initiator contains only the bisacylphosphine oxide photopolymerization initiator and the first ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator, the first ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator is used. Since the compounding quantity of a polymerization initiator increases, the tack property of the coating film (dry coating film) formed from a liquid soldering resist composition will become high. However, in this embodiment, the photopolymerization initiator also contains the second ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator that is solid at 25 ° C., so that the first ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator is contained.
  • the tackiness of the coating film is reduced while maintaining good storage stability. For this reason, the handleability of a coating film improves, and even if a negative mask etc. are arrange
  • the first ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator and the second ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator do not generate benzyl radicals during the photocuring reaction, so that the solder resist layer is colored. Hateful.
  • the bisacylphosphine oxide photopolymerization initiator is originally colored, bleaching occurs due to decomposition during the photocuring reaction, and the solder resist layer is hardly colored. For this reason, yellowing of a solder resist layer can be suppressed, the whiteness of a solder resist layer can be improved, and the favorable light reflectivity of a solder resist layer can be maintained.
  • bisacylphosphine oxide photopolymerization initiator examples include bis- (2,6-dichlorobenzoyl) phenylphosphine oxide, bis- (2,6-dichlorobenzoyl) -2,5-dimethylphenylphosphine oxide, bis -(2,6-dichlorobenzoyl) -4-propylphenylphosphine oxide, bis- (2,6-dichlorobenzoyl) -1-naphthylphosphine oxide, bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) phenylphosphine oxide Bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,5-dimethylphenylphosphine oxide, bis- (2, 4,6-trimethylbenzoyl) fe Le phosphine oxide, and (2,
  • the bisacylphosphine oxide photopolymerization initiator preferably contains bis- (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, and bis- (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine. It is also preferable to contain only oxides. In these cases, coloring of the solder resist layer is further suppressed.
  • the melting point of the first ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator is preferably in the range of ⁇ 40 to 25 ° C., more preferably in the range of 0 to 20 ° C.
  • the first ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator may contain, for example, at least one of 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one and phenylglyoxylic acid methyl ester. it can.
  • the first ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator preferably contains 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl It is also preferred to contain only propan-1-one. In these cases, coloring of the solder resist layer is further suppressed.
  • the melting point of the second ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator is preferably in the range of 25 to 200 ° C., more preferably in the range of 40 to 100 ° C.
  • the second ⁇ -hydroxyalkylphenone photoinitiator is 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propane-1- And one or more selected from the group consisting of 2-hydroxy-1- ⁇ 4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl ⁇ -2-methyl-propan-1-one The component of this can be contained.
  • the second ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator preferably contains 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, and preferably contains only 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone. In these cases, coloring of the solder resist layer is further suppressed.
  • the mass ratio between the bisacylphosphine oxide photopolymerization initiator and the first ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator is preferably in the range of 1: 0.5 to 1: 5. If the amount of the first ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator is not less than the value at which the mass ratio is 1: 0.5, the initiation of bisacylphosphine oxide photopolymerization in the liquid solder resist composition The crystallization of the agent is particularly suppressed, and the storage stability of the liquid solder resist composition is particularly increased.
  • the amount of the first ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator is not more than a value at which the mass ratio is 1: 5, tackiness of the coating film (dried coating film) is particularly reduced. More preferably, this mass ratio is in the range of 1: 1 to 1: 4.
  • the mass ratio of the bisacylphosphine oxide photopolymerization initiator and the second ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator is preferably in the range of 1: 0.5 to 1: 5. If the amount of the second ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator is not less than the value at which the mass ratio is 1: 0.5, the initiation of bisacylphosphine oxide photopolymerization in the liquid solder resist composition The dissolution of the agent is particularly accelerated, and the storage stability of the liquid solder resist composition is particularly enhanced.
  • the amount of the second ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator is not more than a value at which the mass ratio is 1: 5, the curability in the deep part of the solder resist layer is particularly high. More preferably, this mass ratio is in the range of 1: 1 to 1: 4.
  • the liquid solder resist composition may further contain a known photopolymerization accelerator, sensitizer and the like.
  • the liquid solder resist composition may contain p-dimethylbenzoic acid ethyl ester, p-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, 2-dimethylaminoethylbenzoate and the like.
  • the photopolymerization initiator contains only a bisacylphosphine oxide photopolymerization initiator, a first ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator, and a second ⁇ -hydroxyalkylphenone photopolymerization initiator. Is preferred. However, the photopolymerization initiator may contain components other than the above three components within a range not departing from the gist of the present invention.
  • the photopolymerization initiator includes benzoin and its alkyl ethers; acetophenones such as acetophenone and benzyldimethyl ketal; anthraquinones such as 2-methylanthraquinone; 2,4-dimethylthioxanthone, 2, Thioxanthones such as 4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, and 2,4-diisopropylthioxanthone; Benzophenones such as benzophenone and 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide; 2,4-diisopropylxanthone and the like Xanthones; compounds containing nitrogen atoms such as 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone; 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl
  • Titanium oxide can impart high light reflectivity to the solder resist layer by coloring the solder resist layer formed from the liquid solder resist composition white.
  • the titanium oxide contains both a rutile type titanium oxide produced by the sulfuric acid method and a rutile type titanium oxide produced by the chlorine method. Only the rutile type titanium oxide produced by the sulfuric acid method or the chlorine method may cause the light reflectance of the solder resist layer to be lowered or yellow due to the action of ultraviolet rays.
  • the disadvantages of these two kinds of titanium oxides are the advantages of each other.
  • the rutile-type titanium oxide produced by the sulfuric acid method is contained in the solder resist layer, and even if this solder resist layer is irradiated with ultraviolet rays, it can suppress discoloration such as yellowing of the solder resist layer. it can.
  • the rutile type titanium oxide produced by the chlorine method is contained in the solder resist layer, the value of b * in the L * a * b * color system is reduced, and the solder resist layer is bluish. Visually, it tends to appear white and can have high reflectivity.
  • a compound having a cyclic ether skeleton can impart thermosetting properties to the liquid solder resist composition.
  • the compound having a cyclic ether skeleton contains an epoxy compound.
  • the compound having a cyclic ether skeleton may be a compound containing an oxetane ring.
  • the epoxy compound preferably has at least two epoxy groups in one molecule.
  • the epoxy compound may be a poorly solvent-soluble epoxy compound or a general-purpose solvent-soluble epoxy compound.
  • the type of the epoxy compound is not particularly limited. Particularly, the epoxy compound is a phenol novolac type epoxy resin (specific example, product number EPICLON N-775 manufactured by DIC Corporation), or a cresol novolac type epoxy resin (specific example, product number manufactured by DIC Corporation).
  • EPICLON N-695 bisphenol A type epoxy resin (specifically, product number jER1001 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), bisphenol A-novolak type epoxy resin (specifically, product number EPICLON N-865 manufactured by DIC Corporation), bisphenol F Type epoxy resin (part number jER4004P manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.), bisphenol S type epoxy resin (part number EPICLON EXA-1514 manufactured by DIC Corporation), bisphenol AD type Poxy resin, biphenyl type epoxy resin (specifically, product number YX4000 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), biphenyl novolac type epoxy resin (specifically, product number NC-3000 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), hydrogenated bisphenol A type epoxy resin (Specific examples: Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.
  • naphthalene type epoxy resin specifically examples: DIC Corporation product numbers EPICLON HP-4032, EPICLON HP-4700, EPICLON HP-4770), hydroquinone type epoxy Resin (part number YDC-1312 manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.), tertiary butyl catechol type epoxy resin (part number EPICLON HP-820 manufactured by DIC Corporation), dicyclopentadiene type epoxy resin (Specific example: DIC product number EPICLON HP-7200), adamantane type epoxy resin (specific example: Idemitsu Kosan Co., Ltd.
  • product number ADAMANATE X-E-201 biphenyl ether type epoxy resin (specific example: Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.) Company product number YSLV-80DE, special bifunctional epoxy resin (specific examples are product numbers YL7175-500 and YL7175-1000 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation; product numbers EPICLON TSR-960, EPICLON TER-601 manufactured by DIC Corporation.
  • EPICLON TSR-250-80BX EPICLON 1650-75MPX, EPICLON EXA-4850, EPICLON EXA-4816, EPICLON EXA-4822, and EPICLON E XA-9726; product number YSLV-120TE manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.) and one or more components selected from the group consisting of bisphenol-based epoxy resins other than those described above are preferably contained.
  • the epoxy compound contains triglycidyl isocyanurate.
  • the triglycidyl isocyanurate is preferably a ⁇ -form having a structure in which three epoxy groups are bonded in the same direction with respect to the S-triazine ring skeleton surface, or 1 ⁇ with respect to the ⁇ -form and the S-triazine ring skeleton surface.
  • a mixture with an ⁇ -isomer having a structure in which one epoxy group is bonded to a different direction from the other two epoxy groups is preferable.
  • the epoxy compound contains a phosphorus-containing epoxy resin.
  • the flame retardancy of the cured product of the liquid solder resist composition is improved.
  • the phosphorus-containing epoxy resin include phosphoric acid-modified bisphenol F type epoxy resin (specific examples, product numbers EPICRON EXA-9726 and EPICLON EXA-9710 manufactured by DIC Corporation), product number Epototo FX-305 manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd. Is mentioned.
  • the liquid solder resist composition may contain an organic solvent.
  • the organic solvent is used for the purpose of liquefying or varnishing the liquid solder resist composition, adjusting the viscosity, adjusting the coating property, and adjusting the film forming property.
  • Organic solvents include, for example, linear, branched, secondary or polyhydric alcohols such as ethanol, propyl alcohol, isopropyl alcohol, hexanol and ethylene glycol; ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene Petroleum aromatic mixed solvents such as Swazol series (manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.), Solvesso series (manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.), cellosolves such as cellosolve and butylcellosolve, and carbitols such as carbitol and butylcarbitol Tolls; propylene glycol alkyl ethers such as propylene glycol methyl ether; polypropylene glycol alkyl ethers such as dipropylene glycol methyl ether; ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate
  • the ratio of the organic solvent in the liquid solder resist composition is such that when the coating film formed from the liquid solder resist composition is dried, the organic solvent is volatilized quickly, that is, the organic solvent does not remain in the dry film. It is preferable to be adjusted.
  • the organic solvent is preferably in the range of 0 to 99.5% by mass and more preferably in the range of 15 to 60% by mass with respect to the entire liquid solder resist composition.
  • the suitable ratio of an organic solvent changes with application methods etc., it is preferable to adjust a ratio suitably according to the application method.
  • liquid solder resist composition may further contain components other than the above components.
  • the liquid solder resist composition is composed of tolylene diisocyanate, morpholine diisocyanate, isophorone diisocyanate and hexamethylene diisocyanate blocked isocyanates blocked with caprolactam, oxime, malonic acid ester, etc .; melamine resin, n-butylated Amino resins such as melamine resin, isobutylated melamine resin, butylated urea resin, butylated melamine urea cocondensation resin, benzoguanamine cocondensation resin; various other thermosetting resins; UV curable epoxy (meth) acrylate; bisphenol Resins obtained by adding (meth) acrylic acid to epoxy resins such as A type, phenol novolac type, cresol novolac type, and alicyclic type; and diallyl phthalate resin, phenoxy resin, ureta Resin may contain one or more resins that are selected from the group consisting of a polymer compound such
  • the liquid solder resist composition may further contain a curing agent for curing the epoxy compound.
  • the curing agent include imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 4-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1- (2 Imidazole derivatives such as -cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazole; dicyandiamide, benzyldimethylamine, 4- (dimethylamino) -N, N-dimethylbenzylamine, 4-methoxy-N, N-dimethylbenzylamine, Amine compounds such as 4-methyl-N, N-dimethylbenzylamine; hydrazine compounds such as adipic hydrazide and sebacic acid hydrazide; phosphorus compounds such as trip
  • Examples of commercially available products of these components include 2MZ-A, 2MZ-OK, 2PHZ, 2P4BHZ, 2P4MHZ (both trade names of imidazole compounds) manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd., U-CAT3503N, U -CAT3502T (all are trade names of blocked isocyanate compounds of dimethylamine), DBU, DBN, U-CATSA102, U-CAT5002 (all are bicyclic amidine compounds and salts thereof).
  • the liquid solder resist composition may contain an adhesion promoter.
  • adhesion-imparting agent examples include guanamine, acetoguanamine, benzoguanamine, melamine, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-S-triazine, 2-vinyl-4,6-diamino-S-triazine, 2- Examples thereof include S-triazine derivatives such as vinyl-4,6-diamino-S-triazine / isocyanuric acid adduct and 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-S-triazine / isocyanuric acid adduct.
  • the liquid solder resist composition comprises a curing accelerator; a colorant other than white; a copolymer such as silicone and acrylate; a leveling agent; an adhesion-imparting agent such as a silane coupling agent; a thixotropic agent; a polymerization inhibitor; Flame retardants; antifoaming agents; antioxidants; surfactants; polymer dispersants; and from inorganic fillers such as barium sulfate, crystalline silica, nanosilica, carbon nanotubes, talc, bentonite, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide
  • a curing accelerator a colorant other than white
  • a copolymer such as silicone and acrylate
  • a leveling agent such as a silane coupling agent
  • a thixotropic agent such as a silane coupling agent
  • a polymerization inhibitor such as flame retardants; antifoaming agents; antioxidants; surfactants; polymer dispersants; and from inorganic fill
  • the amount of the components in the liquid solder resist composition is appropriately adjusted so that the liquid solder resist composition has photocurability and can be developed with an alkaline solution.
  • the carboxyl group-containing resin is preferably in the range of 5 to 85% by mass, more preferably in the range of 10 to 75% by mass, and more preferably in the range of 10 to 40% by mass with respect to the solid content of the liquid solder resist composition. It is more preferable if it is within the range.
  • the photopolymerizable compound is preferably in the range of 1 to 45% by mass relative to the solid content of the liquid solder resist composition, more preferably in the range of 2 to 40% by mass, and 5 to 30% by mass. It is more preferable if it is within the range.
  • the compound having a cyclic ether skeleton is preferably in the range of 1.5 to 85% by mass, more preferably in the range of 1.5 to 65% by mass with respect to the solid content of the liquid solder resist composition. A range of 2 to 40 is more preferable.
  • the photopolymerization initiator is preferably in the range of 0.1 to 30% by mass, more preferably in the range of 1 to 28% by mass, based on the solid content of the liquid solder resist composition.
  • the preferred contents of the two types of titanium oxide in the liquid solder resist composition are as follows.
  • the content of rutile titanium oxide produced by the sulfuric acid method is 30 to 400 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the carboxyl group-containing resin, the photopolymerizable compound, and the compound having a cyclic ether skeleton. It is preferable that the content of the rutile-type titanium oxide produced by the above is 5 parts by mass or more and less than 50 parts by mass. Thereby, the light reflectivity of a soldering resist layer can further be improved, or deterioration by ultraviolet rays can be further suppressed.
  • the solid content is the total amount of all components excluding components such as a solvent that volatilizes in the process of forming the solder resist layer from the liquid solder resist composition.
  • the liquid solder resist composition can be prepared by blending raw materials for the liquid solder resist composition as described above and kneading by a known kneading method using, for example, a three-roll, ball mill, sand mill or the like.
  • the first agent may be prepared by mixing a part of the raw material of the liquid solder resist composition
  • the second agent may be prepared by mixing the rest of the raw material.
  • the liquid solder resist composition may include a first agent and a second agent.
  • the first agent is prepared by mixing and dispersing in advance the photopolymerizable compound and a part of the organic solvent and the compound having a cyclic ether skeleton among the raw materials, and the remaining part of the raw materials is mixed and dispersed.
  • a second agent may be prepared. In this case, the required amount of the first agent and the second agent can be mixed to prepare a mixed solution, and the solder resist layer can be formed from this mixed solution.
  • the liquid solder resist composition according to the present embodiment is applied, for example, to form a solder resist layer on a printed wiring board.
  • a solder resist layer is formed from a liquid solder resist composition having both photocurability and thermosetting properties.
  • a printed wiring board is prepared, and a coating film is formed on the printed wiring board from a liquid solder resist composition.
  • a liquid solder resist composition is applied on the surface of a printed wiring board to form a wet paint film (wet paint film).
  • the method for applying the liquid solder resist composition is selected from the group consisting of known methods such as dipping, spraying, spin coating, roll coating, curtain coating, and screen printing.
  • the wet coating film is dried at a temperature in the range of 60 to 120 ° C., for example, and the dried coating film (dry coating) Membrane).
  • the photopolymerization initiator contains three specific components, whereby the tackiness of the dried coating film is suppressed.
  • a liquid solder resist composition is applied on an appropriate support in advance and then dried to form a dry coating film.
  • the coating film is exposed through the negative mask by irradiating the negative mask with active energy rays.
  • the negative mask includes an exposed portion that transmits active energy rays and a non-exposed portion that blocks active energy rays, and the exposed portion has a shape that matches the pattern shape of the solder resist layer.
  • a photo tool such as a mask film or a dry plate is used.
  • the active energy ray is selected according to the composition of the liquid solder resist composition, but in the present embodiment, it is ultraviolet rays.
  • the ultraviolet light source is selected from the group consisting of chemical lamps, low-pressure mercury lamps, medium-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, xenon lamps, and metal halide lamps, for example.
  • a method other than a method using a negative mask may be employed as the exposure method.
  • a direct drawing method such as laser exposure may be employed.
  • the photocuring reaction proceeds efficiently from the surface layer to the deep portion of the dried coating film.
  • the negative mask is removed from the printed wiring board, and then the dry coating film is developed to remove the unexposed portion of the dry coating film. Then, the exposed portions of the dried coating film remain as the solder resist layer on the first surface and the second surface of the printed wiring board.
  • an appropriate developer according to the composition of the liquid solder resist composition can be used.
  • the developer include sodium carbonate aqueous solution, potassium carbonate aqueous solution, ammonium carbonate aqueous solution, sodium hydrogen carbonate aqueous solution, potassium hydrogen carbonate aqueous solution, ammonium hydrogen carbonate aqueous solution, sodium hydroxide aqueous solution, potassium hydroxide aqueous solution, ammonium hydroxide aqueous solution, water
  • alkaline solutions such as tetramethylammonium oxide aqueous solution and lithium hydroxide aqueous solution.
  • organic amines such as monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, and triisopropanolamine can be used.
  • the solvent may be water alone or a mixture of water and a hydrophilic organic solvent such as lower alcohols.
  • the solder resist layer may be thermally cured by subjecting the solder resist layer to a heat treatment.
  • the heat treatment conditions are, for example, within the range of the heating temperature of 120 to 180 ° C. and within the range of the heating time of 30 to 90 minutes. Thereby, the performance of the solder resist layer such as strength, hardness and chemical resistance is improved.
  • the solder resist layer may be further irradiated with ultraviolet rays.
  • the photocuring reaction of the solder resist layer can be further advanced. This further improves the migration resistance of the solder resist layer.
  • solder resist layer is sufficiently cured from the surface layer to the deep part. Furthermore, since this solder resist layer contains two types of rutile titanium oxide produced by the sulfuric acid method and the chlorine method, this solder resist layer has a high reflectivity and is not deteriorated by light and heat. It is suppressed.
  • a base resin solution (saturated) containing a carboxyl group-containing resin was prepared as follows.
  • a base resin solution (unsaturated) containing a carboxyl group-containing resin was prepared as follows.
  • liquid solder resist composition was obtained by knead
  • Photopolymerization initiator (IRGACURE819); bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, manufactured by BASF, product number IRGACURE819.
  • Photopolymerization initiator (IRGACURE184): 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, manufactured by BASF, product number IRGACURE184.
  • Photopolymerization initiator (DAROCUR 1173); 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, manufactured by BASF, product number DAROCUR 1173.
  • Rutile-type titanium oxide R-79 rutile-type titanium oxide produced by the sulfuric acid method, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., product number R-79.
  • Rutile-type titanium oxide D-918 rutile-type titanium oxide produced by the sulfuric acid method, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., product number D-918.
  • Rutile titanium oxide CR-90 rutile titanium oxide manufactured by the chlorine method, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., product number CR-90.
  • Rutile titanium oxide CR-58 rutile titanium oxide produced by the chlorine method, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., product number CR-58.
  • Anatase type titanium oxide A-100 manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., product number A-100.
  • Epoxy compound manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., product number TEPIC-SP.
  • Organic solvent methyl propylene diglycol, manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd., product number MFDG.
  • Antifoaming agent Product number KS-66 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.
  • the dried coating film is subjected to a development process using an aqueous sodium carbonate solution, so that the portion of the dried coating film that has been cured by exposure is exposed to a solder resist layer on the printed wiring board. It was left as.
  • the solder resist layer was further heated and cured at 150 ° C. for 60 minutes.
  • a coating film was formed by applying the liquid solder resist resin composition by screen printing so as to overlap the surface of the dried coating film before the ultraviolet irradiation. This coating film was dried by heating at 80 ° C. for 20 minutes.
  • the thickness of the dried coating film was 40 ⁇ m. Subsequently, a test piece 2 having a film thickness of 40 ⁇ m was obtained by performing the same process as above except that the exposure amount was 600 mJ / cm 2 .
  • Pencil hardness The pencil hardness of the solder resist layer in the test piece 1 was measured according to JIS K5400 using Mitsubishi High Uni (manufactured by Mitsubishi Pencil Co., Ltd.).
  • ⁇ b * was calculated by subtracting the b * value of the solder resist layer before UV irradiation from the b * value of the solder resist layer after UV irradiation. Further, the surface of the solder resist layer after irradiation with ultraviolet rays was visually observed and evaluated as follows.

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Abstract

　本発明の課題は、高反射率を有し、特に光による劣化が抑制されたソルダーレジスト層を形成することができる液状ソルダーレジスト組成物を提供することである。本発明に係る液状ソルダーレジスト組成物は、カルボキシル基含有樹脂と、光重合性モノマー及び光重合性プレポリマーからなる群から選択される一種以上の化合物を含有する光重合性化合物と、光重合開始剤と、酸化チタンと、環状エーテル骨格を有する化合物とを含有する。酸化チタンは、硫酸法により製造されたルチル型酸化チタン及び塩素法により製造されたルチル型酸化チタンの両方を含有する。

Description

液状ソルダーレジスト組成物及び被覆プリント配線板
　本発明は、液状ソルダーレジスト組成物及び被覆プリント配線板に関し、詳しくは光硬化性を有しアルカリ性溶液で現像可能な液状ソルダーレジスト組成物、及びこの液状ソルダーレジスト組成物から形成されたソルダーレジスト層を備える被覆プリント配線板に関する。
　近年、民生用及び産業用のプリント配線板におけるソルダーレジスト層の形成方法として、プリント配線板の高配線密度化に対応するため、スクリーン印刷法に代わって、解像性及び寸法精度等に優れた現像可能な液状ソルダーレジスト組成物を用いる方法が大きな位置を占めてきている。
　また、近年、携帯端末、パーソナルコンピュータ、テレビジョン等の液晶ディスプレイのバックライト、照明器具の光源などに用いられる発光ダイオード等の光学素子を、ソルダーレジスト層が被覆形成されたプリント配線板に直接実装することが増えてきている。更に、光学素子が実装されているプリント配線板におけるソルダーレジスト層に酸化チタンを含有させてソルダーレジスト層を白色化させることで、発光素子から発せられた光をソルダーレジスト層で効率良く反射させることも行われている（日本国特許出願公開番号２０１１－１７０１０、日本国特許番号４６５７３５８、日本国特許出願公開番号２０１１－２１５３８４参照）。
　酸化チタンには、製造法の違いから硫酸法（液相法）と塩素法（気相法）の二種類がある。また酸化チタンには、結晶構造の違いからルチル型、アナターゼ型などがある。
　しかし、硫酸法により製造されたルチル型酸化チタンを含有するソルダーレジスト層は、紫外線及び熱による劣化は少ないものの、光反射率が低いという問題がある。
　また塩素法により製造されたルチル型酸化チタンを含有するソルダーレジスト層は、高反射率を有するものの、紫外線が照射されると光反射率が低下し、高反射率を維持することが難しく、また紫外線による作用で黄変しやすいという問題もある。
　またアナターゼ型酸化チタンを含有するソルダーレジスト層は、もともと白色ではなく、黄色味を帯びており、紫外線や熱による塗膜劣化が大きく光反射率が低いという問題がある。
　本発明は上記事由に鑑みてなされたものであり、高反射率を有し、特に光による劣化が抑制されたソルダーレジスト層を形成することができる液状ソルダーレジスト組成物、及びこの液状ソルダーレジスト組成物から形成されたソルダーレジスト層を備える被覆プリント配線板を提供することを目的とする。
　本発明に係る液状ソルダーレジスト組成物は、
　カルボキシル基含有樹脂と、
　光重合性モノマー及び光重合性プレポリマーからなる群から選択される一種以上の化合物を含有する光重合性化合物と、
　光重合開始剤と、
　酸化チタンと、
　環状エーテル骨格を有する化合物と
　を含有し、
　前記酸化チタンは、硫酸法により製造されたルチル型酸化チタン及び塩素法により製造されたルチル型酸化チタンの両方を含有することを特徴とする。
　本発明に係る被覆プリント配線板は、
　プリント配線板と、
　前記プリント配線板を被覆するソルダーレジスト層と
　を備え、
　前記ソルダーレジスト層が前記液状ソルダーレジスト組成物から形成されている。
　本発明を実施するための形態について説明する。
　本実施形態に係る液状ソルダーレジスト組成物は、カルボキシル基含有樹脂と、光重合性化合物と、光重合開始剤と、酸化チタンと、環状エーテル骨格を有する化合物とを含有する。以下、各成分について、更に詳しく説明する。尚、本発明において、「（メタ）アクリル」は「アクリル」及び「メタクリル」から選ばれる少なくとも１種を意味し、「（メタ）アクリレート」は「アクリレート」及び「メタクリレート」から選ばれる少なくとも１種を意味する。
　カルボキシル基含有樹脂は、液状ソルダーレジスト組成物から形成される塗膜に、アルカリ性溶液による現像性、すなわちアルカリ現像性を付与することができる。
　カルボキシル基含有樹脂は、カルボキシル基を有し光重合性を有さない化合物（以下、（Ａ１）成分という）を含有することができる。
　（Ａ１）成分は、例えばカルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物を含むエチレン性不飽和単量体の重合体を含有する。エチレン性不飽和単量体には更にカルボキシル基を有さないエチレン性不飽和化合物が含まれていてもよい。
　カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物は、適宜のポリマー及びプレポリマーを含有することができ、例えばエチレン性不飽和基を１個のみ有する化合物を含有することができる。より具体的には、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物は、例えばアクリル酸、メタクリル酸、ω－カルボキシ－ポリカプロラクトン（ｎ≒２）モノアクリレート、クロトン酸、桂皮酸、２－アクリロイルオキシエチルコハク酸、２－メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２－アクリロイルオキシエチルフタル酸、２－メタクリロイルオキシエチルフタル酸、２－アクリロイルオキシプロピルフタル酸、２－メタクリロイルオキシプロピルフタル酸、２－アクリロイルオキシエチルマレイン酸、２－メタクリロイルオキシエチルマレイン酸、β－カルボキシエチルアクリレート、２－アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタル酸、２－メタクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタル酸、２－アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、及び２－メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸からなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物は、エチレン性不飽和基を複数有する化合物を含有することもできる。より具体的には、例えばカルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物は、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、及びジペンタエリスリトールペンタメタクリレートからなる群から選択されるヒドロキシル基を有する多官能の（メタ）アクリレートに、二塩基酸無水物を反応させて得られる化合物を含有することができる。これらの化合物は一種単独で使用され、或いは複数種が併用される。
　カルボキシル基を有さないエチレン性不飽和化合物は、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物と共重合可能な化合物であればよい。カルボキシル基を有さないエチレン性不飽和化合物は、芳香環を有する化合物と、芳香環を有さない化合物のうち、いずれも含有することができる。
　芳香環を有する化合物は、例えば２－（メタ）アクリロイロキシエチル－２－ヒドロキシエチルフタレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールベンゾエート（メタ）アクリレート、パラクミルフェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、ＥＯ変性クレゾール（メタ）アクリレート、エトキシ化フェニル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート（ｎ＝２～１７）、ＥＣＨ変性フェノキシ（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ＥＣＨ変性フタル酸ジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンベンゾエート（メタ）アクリレート、ＥＯ変性フタル酸（メタ）アクリレート、ＥＯ，ＰＯ変性フタル酸（メタ）アクリレート、Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－ベンジルマレイミド、Ｎ－ビニルカルバゾール、スチレン、ビニルナフタレン、及び４－ビニルビフェニルからなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。
　芳香環を有さない化合物は、例えば直鎖又は分岐の脂肪族、或いは脂環族（但し、環中に一部不飽和結合を有してもよい）の（メタ）アクリル酸エステル、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アルコキシアルキル（メタ）アクリレート等；及びＮ－シクロヘキシルマレイミド等のＮ－置換マレイミド類からなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。芳香環を有さない化合物は、更にポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等の、１分子中にエチレン性不飽和基を２個以上有する化合物を含有してもよい。これらの化合物は一種単独で使用され、或いは複数種が併用される。これらの化合物はソルダーレジスト層の硬度及び油性の調節が容易である等の点で好ましい。
　（Ａ１）成分を得るために用いられる化合物の種類、比率等は、（Ａ１）成分の酸価が適当な値となるように適宜選択される。（Ａ１）成分の酸価は２０～１８０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲内であることが好ましく、３５～１６５ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲内であれば更に好ましい。
　カルボキシル基含有樹脂は、カルボキシル基及び光重合性官能基を有する光重合性カルボキシル基含有樹脂（以下、（Ａ２）成分という）を含有することもできる。光重合性官能基は、例えばエチレン性不飽和基である。
　（Ａ２）成分は、例えば一分子中に二個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物（ａ１）における前記エポキシ基のうち少なくとも一つに、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物（ａ２）が反応し、更に多価カルボン酸及びその無水物から選択される少なくとも一種からなる群から選択される化合物（ａ３）が付加した構造を有する樹脂（以下、第一の樹脂（ａ）という）を、含有することができる。
　エポキシ化合物（ａ１）は、例えばクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ－ノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート、脂環式エポキシ樹脂、及びエポキシ基を有する化合物を含むエチレン性不飽和化合物の重合体からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物を含有することができる。
　エポキシ化合物（ａ１）が、エポキシ基を備える化合物（ｐ１）を含むエチレン性不飽和化合物（ｐ）の重合体を含有してもよい。この重合体の合成に供されるエチレン性不飽和化合物（ｐ）は、エポキシ基を備える化合物（ｐ１）のみを含有してもよく、エポキシ基を備える化合物（ｐ１）とエポキシ基を備えない化合物（ｐ２）とを含有してもよい。
　エポキシ基を備える化合物（ｐ１）は、適宜のポリマー及びプレポリマーから選択される化合物を含有することができる。具体的には、エポキシ基を備える化合物（ｐ１）は、アクリル酸のエポキシシクロヘキシル誘導体類、メタクリル酸のエポキシシクロヘキシル誘導体類、アクリレートの脂環エポキシ誘導体、メタクリレートの脂環エポキシ誘導体、β－メチルグリシジルアクリレート、及びβ－メチルグリシジルメタクリレートからなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。特に、エポキシ基を備える化合物（ｐ１）が、汎用されて入手が容易なグリシジル（メタ）アクリレートを含有することが好ましい。
　エポキシ基を備えない化合物（ｐ２）は、エポキシ基を備える化合物（ｐ１）と共重合可能な化合物であればよい。エポキシ基を備えない化合物（ｐ２）は、例えば２－（メタ）アクリロイロキシエチルフタレート、２－（メタ）アクリロイロキシエチル－２－ヒドロキシエチルフタレート、２－（メタ）アクリロイロキシプロピルフタレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールベンゾエート（メタ）アクリレート、パラクミルフェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、ＥＯ変性クレゾール（メタ）アクリレート、エトキシ化フェニル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート（重合度ｎ＝２～１７）、ＥＣＨ変性フェノキシ（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ＥＣＨ変性フタル酸ジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンベンゾエート（メタ）アクリレート、ＥＯ変性フタル酸（メタ）アクリレート、ＥＯ，ＰＯ変性フタル酸（メタ）アクリレート、ビニルカルバゾール、スチレン、Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－ベンジルマレイミド、３－マレイミド安息香酸Ｎ－スクシンイミジル、直鎖状或いは分岐を有する脂肪族又は脂環族（但し、環中に一部不飽和結合を有してもよい）の（メタ）アクリル酸エステル、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アルコキシアルキル（メタ）アクリレート、及びＮ－置換マレイミド類（例えばＮ－シクロヘキシルマレイミド）からなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。
　エポキシ基を備えない化合物（ｐ２）が、更に一分子中にエチレン性不飽和基を二個以上備える化合物を含有してもよい。この化合物が使用され、その配合量が調整されることで、ソルダーレジスト層の硬度及び油性が容易に調整される。一分子中にエチレン性不飽和基を二個以上備える化合物は、例えばポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、及びペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートからなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。
　エチレン性不飽和化合物（ｐ）を、例えば溶液重合法、エマルション重合法等の公知の重合法により重合することで、重合体が得られる。溶液重合法の具体例として、エチレン性不飽和化合物（ｐ）を適当な有機溶剤中で、重合開始剤の存在下、窒素雰囲気下で加熱攪拌する方法並びに共沸重合法が、挙げられる。
　エチレン性不飽和化合物（ｐ）の重合のために使用される有機溶剤は、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、及びトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、及び酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類、及びジアルキルグリコールエーテル類からなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。
　エチレン性不飽和化合物（ｐ）の重合のために使用される重合開始剤は、例えばジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド類、ジクミルパーオキサイド、２，５－ジメチル－２，５－ジ－（ｔ－ブチルパーオキシ）－ヘキサン等のジアルキルパーオキサイド類、イソブチリルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド類、メチルエチルケトンパーオキサイド等のケトンパーオキサイド類、ｔ－ブチルパーオキシビバレート等のアルキルパーエステル類、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート等のパーオキシジカーボネート類、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物、並びにレドックス系の開始剤からなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。
　エチレン性不飽和化合物（ａ２）は、適宜のポリマー及びプレポリマーからなる群から選択される化合物を含有することができる。エチレン性不飽和化合物（ａ２）は、エチレン性不飽和基を一個のみ有する化合物を含有することができる。エチレン性不飽和基を一個のみ有する化合物は、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸、２－アクリロイルオキシエチルコハク酸、２－メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２－アクリロイルオキシエチルフタル酸、２－メタクリロイルオキシエチルフタル酸、β－カルボキシエチルアクリレート、２－アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタル酸、２－メタクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタル酸、２－アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、及び２－メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸からなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。エチレン性不飽和化合物（ａ２）は、エチレン性不飽和基を複数個備える化合物を更に含有することができる。エチレン性不飽和基を複数個備える化合物は、例えばペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート等のヒドロキシル基を備える多官能アクリレート、並びに多官能メタクリレートに二塩基酸無水物を反応させて得られる化合物からなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。
　特にエチレン性不飽和化合物（ａ２）が、アクリル酸及びメタクリル酸のうち少なくとも一方を含有することが好ましい。この場合、アクリル酸及びメタクリル酸に由来するエチレン性不飽和基は特に光反応性に優れるため、第一の樹脂（ａ）の光反応性が高くなる。
　エチレン性不飽和化合物（ａ２）の使用量は、エポキシ化合物（ａ１）のエポキシ基１モルに対してエチレン性不飽和化合物（ａ２）のカルボキシル基が０．４～１．２モルの範囲内となる量であることが好ましく、特に前記カルボキシル基が０．５～１．１モルの範囲内となる量であることが好ましい。
　多価カルボン酸及びその無水物からなる群から選択される化合物（ａ３）は、例えばフタル酸、テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、メチルナジック酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、コハク酸、メチルコハク酸、マレイン酸、シトラコン酸、グルタル酸、イタコン酸等のジカルボン酸；シクロヘキサン－１，２，４－トリカルボン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、メチルシクロヘキセンテトラカルボン酸等の三塩基酸以上の多価カルボン酸；並びにこれらの多価カルボン酸の無水物からなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。
　化合物（ａ３）は、第一の樹脂（ａ）に酸価を与えることで、液状ソルダーレジスト組成物に希アルカリ水溶液による再分散、再溶解性を付与することを主たる目的として使用される。化合物（ａ３）の使用量は、第一の樹脂（ａ）の酸価が好ましくは３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、特に好ましくは６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上となるように調整される。また、化合物（ａ３）の使用量は、第一の樹脂（ａ）の酸価が好ましくは１６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、特に好ましくは１３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下となるように調整される。
　第一の樹脂（ａ）が合成される際に、エポキシ化合物（ａ１）とエチレン性不飽和化合物（ａ２）との付加反応、並びにこの付加反応による生成物（付加反応生成物）と化合物（ａ３）との付加反応を進行させるにあたっては、公知の方法が採用され得る。例えばエポキシ化合物（ａ１）とエチレン性不飽和化合物（ａ２）との付加反応にあたっては、エポキシ化合物（ａ１）の溶剤溶液にエチレン性不飽和化合物（ａ２）を加え、更に必要に応じて熱重合禁止剤及び触媒を加えて攪拌混合することで、反応性溶液が得られる。この反応性溶液を常法により好ましくは６０～１５０℃、特に好ましくは８０～１２０℃の反応温度で反応させることで、付加反応生成物が得られる。熱重合禁止剤としてはハイドロキノンもしくはハイドロキノンモノメチルエーテル等が挙げられる。触媒としてベンジルジメチルアミン、トリエチルアミン等の第３級アミン類、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド、メチルトリエチルアンモニウムクロライド等の第４級アンモニウム塩類、トリフェニルホスフィン、トリフェニルスチビンなどが挙げられる。
　付加反応生成物と化合物（ａ３）との付加反応を進行させるにあたっては、付加反応生成物の溶剤溶液に化合物（ａ３）を加え、更に必要に応じて熱重合禁止剤及び触媒を加えて撹拌混合することで、反応性溶液が得られる。この反応性溶液を常法により反応させることで、第一の樹脂（ａ）が得られる。反応条件はエポキシ化合物（ａ１）とエチレン性不飽和化合物（ａ２）との付加反応の場合と同じ条件でよい。熱重合禁止剤及び触媒としては、エポキシ化合物（ａ１）とカルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物（ａ２）との付加反応時に使用された化合物をそのまま使用することができる。
　（Ａ２）成分は、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物を含むエチレン性不飽和単量体の重合体におけるカルボキシル基の一部にエポキシ基を有するエチレン性不飽和化合物を反応させることで得られる、カルボキシル基含有（メタ）アクリル系共重体樹脂（第二の樹脂（ｂ）という）を含有してもよい。エチレン性不飽和単量体には必要に応じてカルボキシル基を有さないエチレン性不飽和化合物も含まれていてもよい。
　第二の樹脂（ｂ）を得るためのカルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物は、適宜のポリマー及びプレポリマーを含有することができる。例えばカルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物は、エチレン性不飽和基を１個のみ有する化合物を含有することができる。より具体的には、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物は、例えばアクリル酸、メタクリル酸、ω－カルボキシ－ポリカプロラクトン（ｎ≒２）モノアクリレート、クロトン酸、桂皮酸、２－アクリロイルオキシエチルコハク酸、２－メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２－アクリロイルオキシエチルフタル酸、２－メタクリロイルオキシエチルフタル酸、β－カルボキシエチルアクリレート、２－アクリロイルオキシプロピルフタル酸、２－メタクリロイルオキシプロピルフタル酸、２－アクリロイルオキシエチルマレイン酸、２－メタクリロイルオキシエチルマレイン酸、２－アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタル酸、２－メタクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタル酸、２－アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、及び２－メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸からなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物は、エチレン性不飽和基を複数有する化合物を含有することもできる。より具体的には、例えばカルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物は、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、及びジペンタエリスリトールペンタメタクリレートからなる群から選択されるヒドロキシル基を有する多官能の（メタ）アクリレートに、二塩基酸無水物を反応させて得られる化合物を含有することができる。これらの化合物は一種単独で使用され、或いは複数種が併用される。
　第二の樹脂（ｂ）を得るためのカルボキシル基を有さないエチレン性不飽和化合物は、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物と共重合可能な化合物であればよい。カルボキシル基を有さないエチレン性不飽和化合物は、芳香環を有する化合物と、芳香環を有さない化合物のうち、いずれも含有することができる。
　芳香環を有する化合物は、例えば２－（メタ）アクリロイロキシエチル－２－ヒドロキシエチルフタレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールベンゾエート（メタ）アクリレート、パラクミルフェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、ＥＯ変性クレゾール（メタ）アクリレート、エトキシ化フェニル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート（ｎ＝２～１７）、ＥＣＨ変性フェノキシ（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ＥＣＨ変性フタル酸ジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンベンゾエート（メタ）アクリレート、ＥＯ変性フタル酸（メタ）アクリレート、ＥＯ，ＰＯ変性フタル酸（メタ）アクリレート、Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－ベンジルマレイミド、Ｎ－ビニルカルバゾール、スチレン、ビニルナフタレン、及び４－ビニルビフェニルからなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。
　芳香環を有さない化合物は、例えば直鎖又は分岐の脂肪族、或いは脂環族（但し、環中に一部不飽和結合を有してもよい）の（メタ）アクリル酸エステル、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アルコキシアルキル（メタ）アクリレート等；及びＮ－シクロヘキシルマレイミド等のＮ－置換マレイミド類からなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。芳香環を有さない化合物は、更にポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等の、１分子中にエチレン性不飽和基を２個以上有する化合物を含有してもよい。これらの化合物は一種単独で使用され、或いは複数種が併用される。これらの化合物はソルダーレジスト層の硬度及び油性の調節が容易である等の点で好ましい。
　第二の樹脂（ｂ）を得るためのエポキシ基を有するエチレン性不飽和化合物としては、適宜のポリマー又はプレポリマーが挙げられる。このエポキシ基を有するエチレン性不飽和化合物の具体例として、アクリル酸又はメタクリル酸のエポキシシクロヘキシル誘導体類；アクリレート又はメタクリレートの脂環エポキシ誘導体；β－メチルグリシジルアクリレート、β－メチルグリシジルメタクリレート等が挙げられる。これらの化合物は一種単独で使用され、或いは複数種が併用される。特に、汎用されて入手が容易なグリシジル（メタ）アクリレートが用いられることが好ましい。
　（Ａ２）成分は、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物とヒドロキシル基を有するエチレン性不飽和化合物とを含むエチレン性不飽和単量体の重合体におけるヒドロキシル基の一部又は全部にエチレン性不飽和基及びイソシアネート基を有する化合物を付加して得られる樹脂（以下、第三の樹脂（ｃ）という）を含有してもよい。エチレン性不飽和単量体には必要に応じてカルボキシル基及びヒドロキシル基を有さないエチレン性不飽和化合物が含まれていてもよい。
　第三の樹脂（ｃ）を得るためのカルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物は、例えば上述の第二の樹脂（ｂ）を得るためのカルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物と同じでよい。
　第三の樹脂（ｃ）を得るためのヒドロキシル基を有するエチレン性不飽和化合物の具体例としては、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイロキシエチル－２－ヒドロキシエチルフタレート、カプロラクトン（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、及びＮ－ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミドが挙げられる。
　第三の樹脂（ｃ）を得るためのエチレン性不飽和基及びイソシアネート基を有する化合物の具体例としては、２－アクリロイルオキシエチルイソシアネート（具体例として昭和電工株式会社；品番「カレンズＡＯＩ」）、２－メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（具体例として昭和電工株式会社；品番「カレンズＭＯＩ」）、メタクリロイルオキシエトキシエチルイソシアネート（具体例として昭和電工株式会社；品番「カレンズＭＯＩ－ＥＧ」）、カレンズＭＯＩのイソシアネートブロック体（具体例として昭和電工株式会社；品番「カレンズＭＯＩ一ＢＭ」）、カレンズＭＯＩのイソシアネートブロック体（具体例として昭和電工株式会社；品番「カレンズＭＯＩ－ＢＰ」）、及び１，１－（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート）（具体例として昭和電工株式会社；品番「カレンズＢＥＩ」）が挙げられる。
　（Ａ２）成分全体の重量平均分子量は、８００～１０００００の範囲内であることが好ましい。この範囲内において、液状ソルダーレジスト組成物に特に優れた感光性と解像性とが付与される。
　（Ａ２）成分全体の酸価は３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、この場合、液状ソルダーレジスト組成物に良好な現像性が付与される。この酸価は６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であれば更に好ましい。また、（Ａ２）成分全体の酸価は１８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、この場合、液状ソルダーレジスト組成物から形成される被膜中のカルボキシル基の残留量が低減し、被膜の良好な電気特性、耐電蝕性及び耐水性等が維持される。この酸価は１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であれば更に好ましい。
　光重合性化合物は、液状ソルダーレジスト組成物に光硬化性を付与する。光重合性化合物は、光重合性モノマー及び光重合性プレポリマーからなる群から選択される一種以上の化合物を含有する。
　光重合性モノマーは、例えばエチレン性不飽和基を有する。光重合性モノマーは、例えば２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の単官能（メタ）アクリレート；並びにジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ε―カプロラクトン変性ペンタエリストールヘキサアクリレート等の多官能（メタ）アクリレートからなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。
　光重合性モノマーが、リン含有化合物（リン含有光重合性化合物）を含有することも好ましい。この場合、液状ソルダーレジスト組成物の硬化物の難燃性が向上する。リン含有光重合性化合物は、例えば２－メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート（具体例として共栄社化学株式会社製の品番ライトエステルＰ－１Ｍ、及びライトエステルＰ－２Ｍ）、２－アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート（具体例として共栄社化学株式会社製の品番ライトアクリレートＰ－１Ａ）、ジフェニル－２－メタクリロイルオキシエチルホスフェート（具体例として大八工業株式会社製の品番ＭＲ－２６０）、並びに昭和高分子株式会社製のＨＦＡシリーズ（具体例としてジペンタエリストールヘキサアクリレートとＨＣＡとの付加反応物である品番ＨＦＡー６００３、及びＨＦＡ－６００７、カプロラクトン変性ジペンタエリストールヘキサアクリレートとＨＣＡとの付加反応物である品番ＨＦＡー３００３、及びＨＦＡ－６１２７等）からなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。
　光重合性プレポリマーとしては、光重合性モノマーを重合させて得られるプレポリマーに、エチレン性不飽和基を付加したプレポリマーや、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂（メタ）アクリレート、スピラン樹脂（メタ）アクリレート等のオリゴ（メタ）アクリレートプレポリマー類等が挙げられる。
　本実施形態では、光重合開始剤は、ビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤と、第一のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤と、第二のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤とを含有する。第一のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤は２５℃で液体であり、第二のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤は２５℃で固体である。
　このため、本実施形態では、液状ソルダーレジスト組成物から形成される塗膜を紫外線硬化させて得られるソルダーレジスト層を、表層から深部にわたって充分に硬化させることができる。その理由は次の通りであると考えられる。
　ビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤は、紫外線に含まれる比較的長波長の成分で反応する。このような比較的長波長の成分は、液状ソルダーレジスト組成物から形成された塗膜の深部まで到達しやすい。このため、ビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤は、塗膜の深部における光硬化反応効率を向上させることができる。
　一方、第一のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤及び第二のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤は、紫外線に含まれる比較的短波長の成分で反応する。このような比較的短波長の成分は塗膜の深部まで到達しにくい。但し、第一のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤及び第二のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤は、酸素障害を受けにくいため、光反応性が高い。このため、第一のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤及び第二のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤は、塗膜の表層における光硬化反応効率を向上させることができる。
　更に、第一のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤を反応させる光の波長域と第二のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤を反応させる光の波長域とが異なるために、紫外線を効率良く利用することが可能となる。このため、塗膜の表層における光硬化反応が更に効率良く進行する。
　従って、本実施形態では、塗膜の表層から深部に亘って光硬化反応を効率良く進行させることができる。これにより、ソルダーレジスト層の表層を充分に硬化させると共に、深部も充分に硬化させることができると考えられる。
　ソルダーレジスト層が表層から深部にわたって充分に硬化すると、ソルダーレジスト層の硬化の程度にムラが生じにくくなり、このため、ソルダーレジスト層に硬化収縮によるしわが生じにくくなる。これにより、ソルダーレジスト層の平滑性が高くなる。
　また、ソルダーレジスト層が表層から深部にわたって充分に硬化すると、ソルダーレジスト層の均質性が高くなる。このため、はんだ付け工程、リフロー工程等でソルダーレジスト層が熱により変形して応力が生じても、ソルダーレジスト層内で応力が分散されやすくなり、このためソルダーレジスト層にクラックが生じにくくなる。
　また、ビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤は本来は結晶化しやすい。液状ソルダーレジスト組成物中でビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤の結晶が析出すると、液状ソルダーレジスト組成物から形成される塗膜に結晶が浮き出てしまうことでソルダーレジスト層の表面の均一性が悪化したり、プリント配線板の信頼性が著しく低下したり、液状ソルダーレジスト組成物の均一な紫外線硬化が困難になったりするおそれがある。しかし、本実施形態では液状ソルダーレジスト組成物が２５℃で液状である第一のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤を含有することで、液状ソルダーレジスト組成物が長期間保存されてもビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤の結晶の析出が抑制される。さらに、２５℃で固体である第二のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤も含有することで、特に効果が得られる。これにより、液状ソルダーレジスト組成物の保存安定性が高くなる。
　また、もし光重合開始剤がビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤と第一のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤のみを含有する場合には、第一のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤の配合量が多くなるため、液状ソルダーレジスト組成物から形成される塗膜（乾燥塗膜）のタック性が高くなってしまう。しかし、本実施形態では、光重合開始剤が２５℃で固体である第二のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤も含有することで、第一のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤の配合量を減量することができ、良好な保存安定性を保ったまま、塗膜のタック性が低減される。このため、塗膜の取り扱い性が向上し、また塗膜を露光する際に塗膜上にネガマスク等を配置しても塗膜にネガマスク等が貼着されにくくなって作業性が向上する。
　また、第一のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤及び第二のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤は、光硬化反応時にベンジルラジカルを生成しないため、ソルダーレジスト層に着色を生じさせにくい。更に、ビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤は、元々は着色しているが、光硬化反応時に分解することでブリーチングが起こり、ソルダーレジスト層に着色を生じさせにくい。このため、ソルダーレジスト層の黄変を抑制して、ソルダーレジスト層の白色性を向上し、ソルダーレジスト層の良好な光反射性を維持することができる。
　ビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤は、例えばビス－（２，６－ジクロロベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、ビス－（２，６－ジクロロベンゾイル）－２，５－ジメチルフェニルフォスフィンオキサイド、ビス－（２，６－ジクロロベンゾイル）－４－プロピルフェニルフォスフィンオキサイド、ビス－（２，６－ジクロロベンゾイル）－１－ナフチルフォスフィンオキサイド、ビス－（２，６－ジメトキシベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、ビス－（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド、ビス－（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，５－ジメチルフェニルフォスフィンオキサイド、ビス－（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、及び（２，５，６－トリメチルベンゾイル）－２，４，４－トリメチルペンチルフォスフィンオキサイドからなる群から選択される一種以上の成分を含有することができる。特にビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤がビス－（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイドを含有することが好ましく、ビス－（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイドのみを含有することも好ましい。これらの場合、ソルダーレジスト層の着色が更に抑制される。
　第一のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤の融点は、特に－４０～２５℃の範囲内であることが好ましく、０～２０℃の範囲内であれば更に好ましい。第一のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤は、例えば２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン及びフェニルグリオキシリックアシッドメチルエステルのうち少なくとも一方を含有することができる。特に第一のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤が２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オンを含有することが好ましく、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オンのみを含有することも好ましい。これらの場合、ソルダーレジスト層の着色が更に抑制される。
　第二のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤の融点は、特に２５～２００℃の範囲内であることが好ましく、４０～１００℃の範囲内であれば更に好ましい。第二のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤は１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－1－プロパン－1－オン、及び２－ヒロドキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オンからなる群から選択される一種以上の成分を含有することができる。特に第二のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤が、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを含有することが好ましく、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンのみを含有することも好ましい。これらの場合、ソルダーレジスト層の着色が更に抑制される。
　ビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤と第一のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤との質量比は、１：０．５～１：５の範囲内であることが好ましい。第一のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤の量が、質量比が１：０．５となる値以上であれば、液状ソルダーレジスト組成物中でのビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤の結晶化が特に抑制されて液状ソルダーレジスト組成物の保存安定性が特に高くなる。また、第一のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤の量が、質量比が１：５となる値以下であれば、塗膜（乾燥塗膜）のタック性が特に低減される。この質量比が１：１～１：４の範囲内であれば更に好ましい。
　ビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤と第二のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤との質量比は、１：０．５～１：５の範囲内であることが好ましい。第二のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤の量が、質量比が１：０．５となる値以上であれば、液状ソルダーレジスト組成物中でのビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤の溶解が特に促進され、液状ソルダーレジスト組成物の保存安定性が特に高くなる。また、第二のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤の量が、質量比が１：５となる値以下であれば、ソルダーレジスト層の深部の硬化性が特に高くなる。この質量比が１：１～１：４の範囲内であれば更に好ましい。
　液状ソルダーレジスト組成物は、更に公知の光重合促進剤、増感剤等を含有してもよい。例えば液状ソルダーレジスト組成物は、ｐ－ジメチル安息香酸エチルエステル、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、２－ジメチルアミノエチルベンゾエート等を含有してもよい。
　光重合開始剤は、ビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤、第一のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤、及び第二のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤のみを含有することが好ましい。但し、本発明の主旨を逸脱しない範囲内で、光重合開始剤は、前記三種の成分以外の成分を含有することもできる。例えば光重合開始剤は、前記三種の成分に加えて、ベンゾインとそのアルキルエーテル類；アセトフェノン、ベンジルジメチルケタール等のアセトフェノン類；２－メチルアントラキノン等のアントラキノン類；２，４－ジメチルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン、４－イソプロピルチオキサントン、２，４－ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類；ベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチルジフェニルスルフィド等のベンゾフェノン類；２，４－ジイソプロピルキサントン等のキサントン類；２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノ－１－プロパノン等の窒素原子を含む化合物；２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－フォスフィンオキサイド（ＤＡＲＯＣＵＲ　ＴＰＯ）、２，４，６－トリメチルベンゾイル－エチル－フェニル－フォスフィネート（ＳＰＥＥＤＣＵＲＥ　ＴＰＯ－Ｌ）等のモノアシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤；並びに１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニチオ）－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］（ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ　０１）、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－１－（０－アセチルオキシム）（ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ　０２）からなる群から選択される一種以上の成分を含有してもよい。
　酸化チタンは、液状ソルダーレジスト組成物から形成されるソルダーレジスト層を白色に着色することで、ソルダーレジスト層に高い光反射性を付与することができる。本実施形態では、酸化チタンは、硫酸法により製造されたルチル型酸化チタン及び塩素法により製造されたルチル型酸化チタンの両方を含有する。硫酸法又は塩素法により製造されたルチル型酸化チタンのみでは、ソルダーレジスト層の光反射率が低くなったり、紫外線による作用で黄変したりするおそれがある。しかし、本実施形態のように、二種類の方法により製造されたルチル型酸化チタンの両方が液状ソルダーレジスト組成物に含有されていると、これら二種類の酸化チタンのお互いの欠点をお互いの利点で補完し合うことにより、高反射率を有し、特に光による劣化が抑制されたソルダーレジスト層を形成することができる。すなわち、硫酸法により製造されたルチル型酸化チタンがソルダーレジスト層に含有されていることで、このソルダーレジスト層に紫外線が照射されても、ソルダーレジスト層の黄変などの変色を抑制することができる。また塩素法により製造されたルチル型酸化チタンがソルダーレジスト層に含有されていることで、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるｂ＊の値が小さくなって、ソルダーレジスト層が青味を帯び、視覚的には白色に見えやすくなり、高反射率を有し得る。
　環状エーテル骨格を有する化合物は、液状ソルダーレジスト組成物に熱硬化性を付与することができる。
　環状エーテル骨格を有する化合物は、特にエポキシ化合物を含有することが好ましい。環状エーテル骨格を有する化合物は、オキセタン環を含む化合物でもよい。
　エポキシ化合物は、１分子中に少なくとも２個のエポキシ基を有することが好ましい。エポキシ化合物は、溶剤難溶性エポキシ化合物であってもよく、汎用の溶剤可溶性エポキシ化合物であってもよい。エポキシ化合物の種類は特に限定されないが、特にエポキシ化合物はフェノールノボラック型エポキシ樹脂（具体例としてＤＩＣ株式会社製の品番ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７７５）、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂（具体例としてＤＩＣ株式会社製の品番ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５）、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（具体例として三菱化学株式会社製の品番ｊＥＲ１００１）、ビスフェノールＡ－ノボラック型エポキシ樹脂（具体例としてＤＩＣ株式会社製の品番ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－８６５）、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂（具体例として三菱化学株式会社製の品番ｊＥＲ４００４Ｐ）、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂（具体例としてＤＩＣ株式会社製の品番ＥＰＩＣＬＯＮ　ＥＸＡ－１５１４）、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂（具体例として三菱化学株式会社製の品番ＹＸ４０００）、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂（具体例として日本化薬株式会社製の品番ＮＣ－３０００）、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（具体例として新日鉄住金化学株式会社製の品番ＳＴ－４０００Ｄ）、ナフタレン型エポキシ樹脂（具体例としてＤＩＣ株式会社製の品番ＥＰＩＣＬＯＮ　ＨＰ－４０３２、ＥＰＩＣＬＯＮ　ＨＰ－４７００、ＥＰＩＣＬＯＮ　ＨＰ－４７７０）、ハイドロキノン型エポキシ樹脂（具体例として新日鉄住金化学社製の品番ＹＤＣ－１３１２）、ターシャリーブチルカテコール型エポキシ樹脂（具体例としてＤＩＣ株式会社製の品番ＥＰＩＣＬＯＮ　ＨＰ－８２０）、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂（具体例としてＤＩＣ製の品番ＥＰＩＣＬＯＮ　ＨＰ－７２００）、アダマンタン型エポキシ樹脂（具体例として出光興産株式会社製の品番ＡＤＡＭＡＮＴＡＴＥ　Ｘ－Ｅ－２０１）、ビフェニルエーテル型エポキシ樹脂（具体例として新日鉄住金化学株式会社製の品番ＹＳＬＶ－８０ＤＥ、特殊二官能型エポキシ樹脂（具体例として、三菱化学株式会社製の品番ＹＬ７１７５－５００、及びＹＬ７１７５－１０００；ＤＩＣ株式会社製の品番ＥＰＩＣＬＯＮ　ＴＳＲ－９６０、ＥＰＩＣＬＯＮ　ＴＥＲ－６０１、ＥＰＩＣＬＯＮ　ＴＳＲ－２５０－８０ＢＸ、ＥＰＩＣＬＯＮ　１６５０－７５ＭＰＸ、ＥＰＩＣＬＯＮ　ＥＸＡ－４８５０、ＥＰＩＣＬＯＮ　ＥＸＡ－４８１６、ＥＰＩＣＬＯＮ　ＥＸＡ－４８２２、及びＥＰＩＣＬＯＮ　ＥＸＡ－９７２６；新日鉄住金化学株式会社製の品番ＹＳＬＶ－１２０ＴＥ）、及び前記以外のビスフェノール系エポキシ樹脂からなる群から選択される一種以上の成分を含有することが好ましい。
　エポキシ化合物がトリグリシジルイソシアヌレートを含有することも好ましい。トリグリシジルイソシアヌレートとしては、特にＳ－トリアジン環骨格面に対し３個のエポキシ基が同一方向に結合した構造をもつβ体が好ましく、或いはこのβ体と、Ｓ－トリアジン環骨格面に対し１個のエポキシ基が他の２個のエポキシ基と異なる方向に結合した構造をもつα体との混合物が好ましい。
　エポキシ化合物がリン含有エポキシ樹脂を含有することも好ましい。この場合、液状ソルダーレジスト組成物の硬化物の難燃性が向上する。リン含有エポキシ樹脂としては、リン酸変性ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂（具体例としてＤＩＣ株式会社製の品番ＥＰＩＣＲＯＮ　ＥＸＡ－９７２６、及びＥＰＩＣＬＯＮ　ＥＸＡ－９７１０）、新日鉄住金化学株式会社製の品番エポトートＦＸ－３０５等が挙げられる。
　液状ソルダーレジスト組成物は、有機溶剤を含有してもよい。有機溶剤は、液状ソルダーレジスト組成物の液状化又はワニス化、粘度調整、塗布性の調整、造膜性の調整などの目的で使用される。
　有機溶剤は、例えばエタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ヘキサノール、エチレングリコール等の直鎖、分岐、２級或いは多価のアルコール類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；スワゾールシリーズ（丸善石油化学社製）、ソルベッソシリーズ（エクソン・ケミカル社製）等の石油系芳香族系混合溶剤；セロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類；カルビトール、ブチルカルビトール等のカルビトール類；プロピレングリコールメチルエーテル等のプロピレングリコールアルキルエーテル類；ジプロピレングリコールメチルエーテル等のポリプロピレングリコールアルキルエーテル類；酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、カルビトールアセテート等の酢酸エステル類；並びにジアルキルグリコールエーテル類からなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。
　液状ソルダーレジスト組成物中の有機溶剤の割合は、液状ソルダーレジスト組成物から形成される塗膜を乾燥させる際に有機溶剤が速やかに揮散するように、すなわち有機溶剤が乾燥膜に残存しないように、調整されることが好ましい。特に、液状ソルダーレジスト組成物全体に対して、有機溶剤が０～９９．５質量％の範囲内であることが好ましく、１５～６０質量％の範囲内であれば更に好ましい。尚、有機溶剤の好適な割合は、塗布方法などにより異なるので、塗布方法に応じて割合が適宜調節されることが好ましい。
　本発明の主旨を逸脱しない限りにおいて、液状ソルダーレジスト組成物は、上記成分以外の成分を更に含有してもよい。
　例えば、液状ソルダーレジスト組成物は、カプロラクタム、オキシム、マロン酸エステル等でブロックされたトリレンジイソシアネート系、モルホリンジイソシアネート系、イソホロンジイソシアネート系及びヘキサメチレンジイソシアネート系のブロックドイソシアネート；メラミン樹脂、ｎ－ブチル化メラミン樹脂、イソブチル化メラミン樹脂、ブチル化尿素樹脂、ブチル化メラミン尿素共縮合樹脂、ベンゾグアナミン系共縮合樹脂等のアミノ樹脂；前記以外の各種熱硬化性樹脂；紫外線硬化性エポキシ（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡ型、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、脂環型等のエポキシ樹脂に（メタ）アクリル酸を付加して得られる樹脂；並びにジアリルフタレート樹脂、フェノキシ樹脂、ウレタン樹脂、フッ素樹脂等の高分子化合物からなる群から選択される一種以上の樹脂を含有してもよい。
　液状ソルダーレジスト組成物がエポキシ化合物を含有する場合、液状ソルダーレジスト組成物は、更にエポキシ化合物を硬化させるための硬化剤を含有してもよい。硬化剤は、例えば、イミダゾール、２－メチルイミダゾール、２－エチルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、４－フェニルイミダゾール、１－シアノエチル－２－フェニルイミダゾール、１－（２－シアノエチル）－２－エチル－４－メチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体；ジシアンジアミド、ベンジルジメチルアミン、４－（ジメチルアミノ）－Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン、４－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン、４－メチル－Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン等のアミン化合物；アジピン酸ヒドラジド、セバシン酸ヒドラジド等のヒドラジン化合物；トリフェニルホスフィン等のリン化合物；酸無水物；フェノール；メルカプタン；ルイス酸アミン錯体；及びオニウム塩からなる群から選択される一種以上の成分を含有することができる。これらの成分の市販品の例として、四国化成株式会社製の２ＭＺ－Ａ、２ＭＺ－ＯＫ、２ＰＨＺ、２Ｐ４ＢＨＺ、２Ｐ４ＭＨＺ（いずれもイミダゾール系化合物の商品名）、サンアプロ株式会社製のＵ－ＣＡＴ３５０３Ｎ、Ｕ－ＣＡＴ３５０２Ｔ（いずれもジメチルアミンのブロックイソシアネート化合物の商品名）、ＤＢＵ、ＤＢＮ、Ｕ－ＣＡＴＳＡ１０２、Ｕ－ＣＡＴ５００２（いずれも二環式アミジン化合物及びその塩）が挙げられる。
　液状ソルダーレジスト組成物は、密着性付与剤を含有してもよい。密着性付与剤としては、例えばグアナミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、メラミン、並びに２，４－ジアミノ－６－メタクリロイルオキシエチル－Ｓ－トリアジン、２－ビニル－４，６－ジアミノ－Ｓ－トリアジン、２－ビニル－４，６－ジアミノ－Ｓ－トリアジン・イソシアヌル酸付加物、２，４－ジアミノ－６－メタクリロイルオキシエチル－Ｓ－トリアジン・イソシアヌル酸付加物等のＳ－トリアジン誘導体が、挙げられる。
　液状ソルダーレジスト組成物は、硬化促進剤；白色以外の着色剤；シリコーン、アクリレート等の共重合体；レベリング剤；シランカップリング剤等の密着性付与剤；チクソトロピー剤；重合禁止剤；ハレーション防止剤；難燃剤；消泡剤；酸化防止剤；界面活性剤；高分子分散剤；並びに硫酸バリウム、結晶性シリカ、ナノシリカ、カーボンナノチューブ、タルク、ベントナイト、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の無機フィラーからなる群から選択される一種以上の成分を含有してもよい。
　液状ソルダーレジスト組成物中の成分の量は、液状ソルダーレジスト組成物が光硬化性を有しアルカリ性溶液で現像可能であるように、適宜調整される。
　カルボキシル基含有樹脂は、液状ソルダーレジスト組成物の固形分量に対して５～８５質量％の範囲内であれば好ましく、１０～７５質量％の範囲内であればより好ましく、１０～４０質量％の範囲内であれば更に好ましい。
　光重合性化合物は、液状ソルダーレジスト組成物の固形分量に対して１～４５質量％の範囲内であれば好ましく、２～４０質量％の範囲内であればより好ましく、５～３０質量％の範囲内であれば更に好ましい。
　環状エーテル骨格を有する化合物は、液状ソルダーレジスト組成物の固形分量に対して１．５～８５質量％の範囲内であることが好ましく、１．５～６５質量％の範囲内であればより好ましく、２～４０の範囲内であれば更に好ましい。
　光重合開始剤は、液状ソルダーレジスト組成物の固形分量に対して０．１～３０質量％の範囲内であることが好ましく、１～２８質量％の範囲内であれば更に好ましい。
　液状ソルダーレジスト組成物における二種類の酸化チタンの好ましい含有量は、次の通りである。カルボキシル基含有樹脂、光重合性化合物、及び環状エーテル骨格を有する化合物の合計１００質量部に対して、硫酸法により製造されたルチル型酸化チタンの含有量が３０～４００質量部であり、塩素法により製造されたルチル型酸化チタンの含有量が５質量部以上５０質量部未満であることが好ましい。これにより、ソルダーレジスト層の光反射性をさらに高めたり、紫外線による劣化をさらに抑制したりし得る。
　尚、固形分量とは、液状ソルダーレジスト組成物からソルダーレジスト層を形成する過程で揮発する溶剤など成分を除いた、全成分の合計量のことである。
　上記のような液状ソルダーレジスト組成物の原料が配合され、例えば三本ロール、ボールミル、サンドミル等を用いる公知の混練方法によって混練されることにより、液状ソルダーレジスト組成物が調製され得る。
　保存安定性等を考慮して、液状ソルダーレジスト組成物の原料の一部を混合することで第一剤を調製し、原料の残部を混合することで第二剤を調製してもよい。すなわち、液状ソルダーレジスト組成物は、第一剤と第二剤とを備えてもよい。例えば、原料のうち光重合性化合物及び有機溶剤の一部及び環状エーテル骨格を有する化合物を予め混合して分散させることで第一剤を調製し、原料のうち残部を混合して分散させることで第二剤を調製してもよい。この場合、適時必要量の第一剤と第二剤とを混合し混合液を調製し、この混合液からソルダーレジスト層を形成することができる。
　本実施形態による液状ソルダーレジスト組成物は、例えばプリント配線板にソルダーレジスト層を形成するために適用される。
　以下に、本実施形態による液状ソルダーレジスト組成物を用いてプリント配線板上にソルダーレジスト層を形成する方法の一例を示す。本例では、光硬化性と熱硬化性とを兼ね備える液状ソルダーレジスト組成物からソルダーレジスト層を形成する。
　まず、プリント配線板を用意し、このプリント配線板上に液状ソルダーレジスト組成物から塗膜を形成する。例えばプリント配線板の表面上に液状ソルダーレジスト組成物を塗布して湿潤状態の塗膜（湿潤塗膜）を形成する。液状ソルダーレジスト組成物の塗布方法は、公知の方法、例えば浸漬法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法、カーテンコート法、及びスクリーン印刷法からなる群から選択される。続いて、必要に応じて液状ソルダーレジスト組成物中の有機溶剤を揮発させるために、例えば６０～１２０℃の範囲内の温度下で湿潤塗膜を乾燥させて、乾燥後の塗膜（乾燥塗膜）を得る。本実施形態では、上述の通り光重合開始剤が特定の三種の成分を含有することで、乾燥塗膜のタック性が抑制される。
　尚、プリント配線板上に塗膜を形成するにあたっては、予め適宜の支持体上に液状ソルダーレジスト組成物を塗布してから乾燥することで乾燥塗膜を形成し、この乾燥塗膜をプリント配線板に重ねてから、乾燥塗膜とプリント配線板に圧力をかけることで、プリント配線板上に乾燥塗膜を設けてもよい（ドライフィルム法）。
　続いて、プリント配線板上の乾燥塗膜にネガマスクを直接又は間接的に当てがってから、ネガマスクへ向けて活性エネルギー線を照射することで、ネガマスクを介して塗膜を露光する。ネガマスクは、活性エネルギー線を透過させる露光部と活性エネルギー線を遮蔽する非露光部とを備え、露光部はソルダーレジスト層のパターン形状と合致する形状を有する。ネガマスクとして、例えばマスクフィルムや乾板等のフォトツールなどが用いられる。活性エネルギー線は、液状ソルダーレジスト組成物の組成に応じて選択されるが、本実施形態では紫外線である。紫外線の光源は、例えばケミカルランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ及びメタルハライドランプからなる群から選択される。
　尚、露光方法として、ネガマスクを用いる方法以外の方法が採用されてもよい。例えばレーザ露光等による直接描画法が採用されてもよい。
　本実施形態では、このように乾燥塗膜を紫外線で露光すると、上述の通り、乾燥塗膜の表層から深部にわたって効率良く光硬化反応が進む。
　乾燥塗膜の露光後、プリント配線板からネガマスクを取り外してから、乾燥塗膜に現像処理を施すことで、乾燥塗膜における露光されていない部分を除去する。そうすると、プリント配線板の第一の表面上及び第二の表面上に乾燥塗膜の露光された部分が、ソルダーレジスト層として残存する。
　現像処理では、液状ソルダーレジスト組成物の組成に応じた適宜の現像液を使用することができる。現像液の具体例として、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、炭酸アンモニウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素カリウム水溶液、炭酸水素アンモニウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、水酸化アンモニウム水溶液、水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液、水酸化リチウム水溶液などのアルカリ性溶液が挙げられる。現像液として、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン等の有機アミンを使用することもできる。これらの現像液のうち、一種のみが用いられても、複数種が併用されてもよい。現像液がアルカリ性溶液である場合、その溶媒は、水のみであっても、水と低級アルコール類等の親水性有機溶媒との混合物であってもよい。
　必要に応じ、ソルダーレジスト層に加熱処理を施すことでソルダーレジスト層を熱硬化させてもよい。加熱処理の条件は、例えば加熱温度１２０～１８０℃の範囲内、加熱時間３０～９０分間の範囲内である。これにより、ソルダーレジスト層の強度、硬度、耐薬品性等の性能が向上する。
　また、必要に応じ、ソルダーレジスト層に加熱処理を施した後、更にソルダーレジスト層に紫外線を照射してもよい。この場合、ソルダーレジスト層の光硬化反応を更に進行させることができる。これにより、ソルダーレジスト層のマイグレーション耐性が更に向上する。
　以上により、プリント配線板とこのプリント配線板を部分的に被覆するソルダーレジスト層とを備える被覆プリント配線板が得られる。本実施形態では、ソルダーレジスト層は、表層から深部にわたって充分に硬化されている。さらにこのソルダーレジスト層には、硫酸法及び塩素法により製造された二種類のルチル型酸化チタンが含有されているので、このソルダーレジスト層は、高反射率を有し、光及び熱による劣化が抑制されている。
　以下、本発明の実施例について説明する。但し、本発明は下記の実施例のみに制限されることはない。
　［ベース樹脂溶液（飽和）の調製］
　カルボキシル基含有樹脂を含むベース樹脂溶液（飽和）を次のようにして調製した。
　還流冷却器、温度計、窒素置換基用ガラス管及び攪拌機を取り付けた四つ口フラスコ中に、メタクリル酸４２質量部、メチルメタクリレート１１８質量部、Ｎ－フェニルマレイミド２０質量部、ブチルメタクリレート２０質量部、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル３２０質量部、及びアゾビスイソブチロニトリル５質量部を加えた。この四つ口フラスコ内の液を窒素気流下で７５℃で５時間加熱して重合反応を進行させることで、濃度３８％の共重合体溶液を得た。
　［ベース樹脂溶液（不飽和）の調製］
　カルボキシル基含有樹脂を含むベース樹脂溶液（不飽和）を次のようにして調製した。
　還流冷却器、温度計、窒素置換基用ガラス管及び攪拌機を取り付けた四つ口フラスコ中に、メタクリル酸６０質量部、ω－カルボキシ－ポリカプロラクトン（ｎ≒２）モノアクリレート（東亞合成株式会社製のアロニックスＭ－５３００）５０質量部、メチルメタクリレート８０質量部、スチレン１０質量部、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル４３０質量部、及びアゾビスイソブチロニトリル５質量部を加えた。この四つ口フラスコ内の液を窒素気流下で７５℃で５時間加熱して重合反応を進行させることで、濃度３２％の共重合体溶液を得た。
　この共重合体溶液に、ハイドロキノン０．１質量部、グリシジルメタクリレート６４質量部、及びジメチルベンジルアミン０．８質量部を加え、８０℃で２４時間加熱することで付加反応を進行させた。これにより、カルボキシル基及びエチレン性不飽和基を有する化合物の３８％溶液を得た。
　［液状ソルダーレジスト組成物の調製］
　後掲の表に示す成分を配合して得られる混合物を３本ロールで混練することで、液状ソルダーレジスト組成物を得た。尚、表に示される成分の詳細は次の通りである。
　・光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９）；ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド、ＢＡＳＦ社製、品番ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９。
　・光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４）；１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン、ＢＡＳＦ社製、品番ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４。
　・光重合開始剤（ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３）；２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン、ＢＡＳＦ社製、品番ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３。
　・ルチル型酸化チタンＲ－７９；硫酸法により製造されたルチル型酸化チタン、堺化学工業株式会社製、品番Ｒ－７９。
　・ルチル型酸化チタンＤ－９１８；硫酸法により製造されたルチル型酸化チタン、堺化学工業株式会社製、品番Ｄ－９１８。
　・ルチル型酸化チタンＣＲ－９０；塩素法により製造されたルチル型酸化チタン、石原産業株式会社製、品番ＣＲ－９０。
　・ルチル型酸化チタンＣＲ－５８；塩素法により製造されたルチル型酸化チタン、石原産業株式会社製、品番ＣＲ－５８。
　・アナターゼ型酸化チタンＡ－１００；石原産業株式会社製、品番Ａ－１００。
　・エポキシ化合物；日産化学工業株式会社製、品番ＴＥＰＩＣ－ＳＰ。
　・有機溶剤；メチルプロピレンジグリコール、日本乳化剤株式会社製、品番ＭＦＤＧ。
　・光重合性モノマー；日本化薬株式会社製、品番ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡ－２０。
　・消泡剤；信越シリコーン株式会社製、品番ＫＳ－６６。
　・メラミン；日産化学工業株式会社製、微粉メラミン。
　・酸化防止剤；ＢＡＳＦ社製、品番イルガノックス１０１０。
　［評価試験］
　（１）テストピースの作製
　厚み３５μｍの銅箔を備えるガラスエポキシ銅張積層板を用意した。このガラスエポキシ銅張積層板にエッチングを施して導体配線を形成することで、プリント配線板を得た。このプリント配線板の一面全体に液状ソルダーレジスト樹脂組成物をスクリーン印刷により塗布することで、塗膜を形成した。この塗膜を８０℃で２０分加熱することで乾燥させた。乾燥後の塗膜（乾燥塗膜）の厚みは２０μｍであった。この乾燥塗膜の表面上にネガマスクを直接当てた状態で、ネガマスクに向けて紫外線を照射することで、露光量４５０ｍＪ／ｃｍ2の条件で乾燥塗膜を選択的に露光した。続いて、乾燥塗膜からネガマスクを取り外してから、乾燥塗膜に炭酸ナトリウム水溶液を用いて現像処理を施すことで、乾燥塗膜のうち露光により硬化した部分を、プリント配線板上にソルダーレジスト層として残存させた。このソルダーレジスト層を更に１５０℃で６０分間加熱して熱硬化させた。これによりソルダーレジスト層を備える、膜厚２０μｍのテストピース１を得た。上記紫外線照射前の、乾燥塗膜の表面に重ねるように、液状ソルダーレジスト樹脂組成物をスクリーン印刷により塗布することで、塗膜を形成した。この塗膜を８０℃で２０分加熱することで乾燥させた。乾燥後の塗膜（乾燥塗膜）の厚みは４０μｍであった。続いて、露光量６００ｍＪ／ｃｍ２の条件であること以外は、上記と同様の処理を行い、膜厚４０μｍのテストピース２を得た。
　これらのテストピース１，２に対して、次の評価試験をおこなった。
　（２）密着性評価
　ＪＩＳ　Ｄ０２０２の試験方法に従って、テストピース１のソルダーレジスト層に碁盤目状にクロスカットを入れ、次いでセロハン粘着テープによるピーリング試験後の剥がれの状態を目視により観察した。その結果を次に示すように評価した。
　Ａ：１００個のクロスカット部分のうちの全てに全く変化が見られない。
　Ｂ：１００個のクロスカット部分のうち１箇所に僅かに浮きを生じた。
　Ｃ：１００個のクロスカット部分のうち２～１０箇所に剥がれを生じた。
　Ｄ：１００個のクロスカット部分のうち１１～１００箇所に剥がれを生じた。
　（３）鉛筆硬度
　テストピース１におけるソルダーレジスト層の鉛筆硬度を、三菱ハイユニ（三菱鉛筆社製）を用いて、ＪＩＳ　Ｋ５４００に準拠して測定した。
　（４）反射率
　変色試験を行う前のテストピース１、テストピース２におけるソルダーレジスト層の、視感反射率を表すＣＩＥ表色法におけるＹ値を、コニカミノルタセンシング株式会社製の分光測色計（型番ＣＭ－６００ｄ）で測定した。次に、テストピース１、テストピース２におけるソルダーレジスト層に５０Ｊ／ｃｍ２の条件で紫外線（ＵＶ）を照射して変色試験を行った後、再び上記と同様にしてソルダーレジスト層のＹ値を測定した。
　（５）耐紫外線黄変
　変色試験を行う前のテストピース１、テストピース２におけるソルダーレジスト層の、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるｂ＊値を、コニカミノルタセンシング株式会社製の分光測色計（型番ＣＭ－６００ｄ）で測定した。次に、テストピース１、テストピース２におけるソルダーレジスト層に５０Ｊ／ｃｍ２の条件で紫外線（ＵＶ）を照射して変色試験を行った後、再び上記と同様にしてソルダーレジスト層のｂ＊値を測定した。紫外線照射後のソルダーレジスト層のｂ＊値から紫外線照射前のソルダーレジスト層のｂ＊値を差し引いてΔｂ＊を算出した。また紫外線照射後のソルダーレジスト層の表面を目視により観察して、次に示すように評価した。
　Ａ：ソルダーレジスト層の表面の光沢に特に大きな変化が見られない。
　Ｂ：ソルダーレジスト層の表面の光沢が若干低下している。
　Ｃ：ソルダーレジスト層の表面の光沢が無くなっている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001

Claims (9)

  1. 　カルボキシル基含有樹脂と、
    　光重合性モノマー及び光重合性プレポリマーからなる群から選択される一種以上の化合物を含有する光重合性化合物と、
    　光重合開始剤と、
    　酸化チタンと、
    　環状エーテル骨格を有する化合物と
    　を含有し、
    　前記酸化チタンは、硫酸法により製造されたルチル型酸化チタン及び塩素法により製造されたルチル型酸化チタンの両方を含有する
    　液状ソルダーレジスト組成物。
  2. 　前記カルボキシル基含有樹脂、前記光重合性化合物、及び前記環状エーテル骨格を有する化合物の合計１００質量部に対して、
    　前記硫酸法により製造されたルチル型酸化チタンの含有量が３０～４００質量部であり、
    　前記塩素法により製造されたルチル型酸化チタンの含有量が５質量部以上５０質量部未満である
    　請求項１に記載の液状ソルダーレジスト組成物。
  3. 　前記光重合開始剤は、
    　ビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤と、
    　第一のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤と、
    　第二のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤と
    　を含有する
    　請求項１又は２に記載の液状ソルダーレジスト組成物。
  4. 　前記ビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤は、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイドを含有し、
    　前記第一のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤は、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オンを含有し、
    　前記第二のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤は、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを含有する
    　請求項３に記載の液状ソルダーレジスト組成物。
  5. 　前記ビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤と前記第一のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤との質量比は、１：０．５～１：５の範囲内である
    　請求項３又は４に記載の液状ソルダーレジスト組成物。
  6. 　前記ビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤と前記第二のα－ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤との質量比は、１：０．５～１：５の範囲内である
    　請求項３又は４に記載の液状ソルダーレジスト組成物。
  7. 　前記カルボキシル基含有樹脂は、カルボキシル基及び光重合性官能基を有する光重合性カルボキシル基含有樹脂を含有する
    　請求項１乃至６のいずれか一項に記載の液状ソルダーレジスト組成物。
  8. 　前記光重合性カルボキシル基含有樹脂は、カルボキシル基含有（メタ）アクリル系共重合体樹脂を含む
    　請求項７に記載の液状ソルダーレジスト組成物。
  9. 　プリント配線板と、
    　前記プリント配線板を被覆するソルダーレジスト層と
    　を備え、
    　前記ソルダーレジスト層が請求項１乃至８のいずれか一項に記載の液状ソルダーレジスト組成物から形成されている
    　被覆プリント配線板。
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