WO2015178029A1 - 有機ｅｌ表示パネル及び有機ｅｌ表示装置 - Google Patents

有機ｅｌ表示パネル及び有機ｅｌ表示装置 Download PDF

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WO2015178029A1
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blue
emitting layer
pixel
organic
light emitting
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PCT/JP2015/002562
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潤 橋本
裕隆 南野
高田　昌和
秋山　利幸
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株式会社Ｊｏｌｅｄ
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Publication date
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    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass

Definitions

  • the present invention relates to an organic EL (Electro Luminescence) element using an electroluminescence phenomenon of an organic material and an organic EL display device using the same, and more particularly to a technique for improving the life of a display panel.
  • organic EL Electro Luminescence
  • organic EL display panel used in a display device such as a digital television
  • a panel using a plurality of organic light emitting elements arranged in a matrix on a substrate and using the organic EL elements (hereinafter abbreviated as “organic EL display panel”) is practical. It has become.
  • red, green, and blue organic EL elements form sub-pixels, and one pixel is formed by a combination of adjacent red, green, and blue sub-pixels.
  • this organic EL display panel for the purpose of improving the light emission efficiency and extending the life of the organic EL element, it is necessary to extend the life of the blue organic EL element having the shortest lifetime among the organic EL elements of red, green, and blue colors. It was.
  • Patent Document 1 proposes an organic EL display panel including two blue subpixels in addition to a red subpixel and a green subpixel.
  • the structure of the two blue sub-pixels is the same except for the color filter.
  • blue light having different y values in the CIExy chromaticity coordinate system is extracted from the two blue sub-pixels.
  • a blue subpixel having a low y value expands a color expression region in the blue direction
  • a blue subpixel having a high y value increases the light extraction efficiency of the color filter and selects two blue subpixels.
  • the color reproducibility can be improved and the power consumption can be kept low to extend the life of the light emitting element.
  • the y value is used to extract blue light having different y values in the CIExy chromaticity coordinate system from the two blue pixels by providing a color filter on the light extraction side in at least one of the two blue pixels.
  • Both the dark blue sub-pixel having a low y value and the light blue sub-pixel having a high y value do not increase the luminous efficiency, which has been an obstacle to further improving the luminous efficiency and extending the lifetime of the organic EL element.
  • an object of the present invention is to provide an organic EL display panel that contributes to further improvement in luminous efficiency and a longer life of the organic EL display panel, and an organic EL display device using the same.
  • An organic EL display panel includes a red sub-pixel that emits red light, a green sub-pixel that emits green light, a first blue sub-pixel that emits dark blue light, and a second blue sub-pixel that emits light blue light.
  • An organic EL display panel in which a plurality of pixels including pixels are arranged in a matrix, wherein a first blue color is provided in order from the substrate side in a region of the substrate and the first blue subpixel on the substrate.
  • a pixel electrode, a first blue organic light emitting layer, and a second blue pixel electrode and a second blue organic light emitting layer provided in order from the substrate side in the region of the second blue subpixel on the substrate.
  • the first blue organic light emitting layer and the second blue organic light emitting layer are made of the same material, and in the direction perpendicular to the substrate plane, the upper surface of the first blue organic light emitting layer and the upper surface of the first blue pixel electrode The distance from the second blue organic Characterized in that a layer upper surface smaller than the distance between the second blue pixel electrode upper surface.
  • the first sub-pixel and the second sub-pixel differ in the optical path length difference between the direct light and the reflected light emitted from the organic light-emitting layer, whereby the organic light emission of both sub-pixels.
  • the color of the light emitted from the layers was made different.
  • the luminous efficiency of the pixel can be improved. Therefore, the luminous efficiency can be further improved and the life of the organic EL element can be extended as compared with the conventional case.
  • FIG. 1 is a schematic block diagram illustrating a configuration of a display device 1 according to a first embodiment.
  • 3 is a schematic circuit diagram illustrating a circuit configuration in each sub-pixel 10a of the organic EL display panel 10 used in the display device 1.
  • FIG. 3 is a schematic plan view showing a part of the organic EL display panel according to Embodiment 1.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along line AA in FIG.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along the line BB in FIG. (A) to (d) are cross-sectional schematic views taken along the line AA showing the manufacturing process of the organic EL display panel.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing direct light C1 and reflected light C2 in an optical resonator structure formed on the panel 10.
  • FIG. It is a characteristic view showing the relationship between the color of light emitted from the sub-pixel in the second blue sub-pixel 21LB and the luminous efficiency of the sub-pixel. It is the characteristic view which showed the color reproduction range of the display apparatus 1 on the CIE chromaticity diagram.
  • An organic EL display panel includes a red sub-pixel that emits red light, a green sub-pixel that emits green light, a first blue sub-pixel that emits dark blue light, and a second blue sub-pixel that emits light blue light.
  • An organic EL display panel in which a plurality of pixels including pixels are arranged in a matrix, wherein a first blue color is provided in order from the substrate side in a region of the substrate and the first blue subpixel on the substrate.
  • a pixel electrode, a first blue organic light emitting layer, and a second blue pixel electrode and a second blue organic light emitting layer provided in order from the substrate side in the region of the second blue subpixel on the substrate.
  • the first blue organic light emitting layer and the second blue organic light emitting layer are made of the same material, and in the direction perpendicular to the substrate plane, the upper surface of the first blue organic light emitting layer and the upper surface of the first blue pixel electrode The distance from the second blue organic light emission Wherein the top surface is smaller than the distance between the second blue pixel electrode upper surface.
  • the first blue organic light emitting layer may have a thickness smaller than that of the second blue organic light emitting layer.
  • the first blue organic light emitting layer may have a thickness of less than 45 nm, and the second blue organic light emitting layer may have a thickness of 45 nm or more and 65 nm or less.
  • the CIE chromaticity y value of the light emitted from the first blue subpixel is smaller than the CIE chromaticity y value of the light emitted from the second blue subpixel. It may be.
  • the first blue organic light emitting layer may be provided with a first filter that lowers the y value of CIE chromaticity of the light emitted from the first blue organic light emitting layer.
  • the second blue organic light emitting layer may be provided with a second filter having a higher transmittance of light having a wavelength of 300 to 800 nm than that of the first filter.
  • the first filter may have a light transmittance of a wavelength of 300 to 800 nm of 0.5 or less
  • the second filter may have a transmittance of 0.7 or more.
  • the color of light emitted upward from the first filter in the first blue sub-pixel is higher than the color of light emitted upward from the second filter in the second blue sub-pixel.
  • the CIE chromaticity y value may be small.
  • the light emitted upward from the first filter in the first blue sub-pixel has a CIE chromaticity y value of less than 0.1
  • the second blue sub-pixel has the second value in the second blue sub-pixel.
  • the light emitted upward from the filter may have a CIE chromaticity y value of 0.1 to 0.18.
  • a method for manufacturing an organic EL display panel includes a red sub-pixel that emits red light, a green sub-pixel that emits green light, a first blue sub-pixel that emits dark blue light, and a first sub-pixel that emits light blue light.
  • a first blue organic light emitting layer, and the second blue pixel electrode and the first blue organic light emitting layer are formed of the same material as the second blue pixel electrode and the first blue organic light emitting layer in order from the substrate side in the second blue subpixel region on the substrate.
  • upward does not indicate the upward direction (vertically upward) in absolute space recognition, but is defined by the relative positional relationship based on the stacking order in the stacking configuration. Further, the term “upward” is applied not only when there is a space between each other but also when they are in close contact with each other.
  • Embodiment 1 >> 1. Configuration of Display Device 1 The overall configuration of the display device 1 according to Embodiment 1 will be described below with reference to FIG.
  • the display device 1 includes an organic EL display panel 10 and a drive control circuit unit 30 connected thereto.
  • the organic EL display panel 10 is an organic EL (Electro Luminescence) panel using an electroluminescence phenomenon of an organic material, and a plurality of organic EL elements are arranged in a matrix, for example.
  • the drive control circuit unit 30 includes four drive circuits 31 to 34 and a control circuit 35.
  • each circuit of the drive control circuit unit 30 with respect to the organic EL display panel 10 is not limited to the form shown in FIG. 1.
  • Circuit Configuration in Organic EL Display Panel 10 The circuit configuration of each pixel 10a in the organic EL display panel 10 will be described with reference to FIG.
  • each sub-pixel 10a includes two transistors Tr 1 and Tr 2 , one capacitor C, and an EL element portion EL as a light emitting portion. It is configured.
  • the transistor Tr 1 is a drive transistor
  • the transistor Tr 2 is a switching transistor.
  • the gate G 2 of the switching transistor Tr 2 is connected to the scanning line Vscn, the source S 2 is connected to the data line Vdat.
  • the drain D 2 of the switching transistor Tr 2 is connected to the gate G 1 of the driving transistor Tr 1.
  • the drain D 1 of the driving transistor Tr 1 is connected to the power line Va, source S 1 is connected to the anode of the EL element portion EL.
  • the cathode in the EL element portion EL is connected to the ground line Vcat.
  • capacitance C, and the gate G 1 of the drain D 2 and the drive transistor Tr 1 of the switching transistor Tr 2 is provided so as to connect the power line Va.
  • a plurality of adjacent sub-pixels 10a (for example, four sub-pixels 10a having emission colors of red (R), green (G), dark blue (DB), and light blue (LB)) are provided.
  • One pixel is combined and each pixel is arranged in a matrix to form a pixel region.
  • the gate lines GL are drawn out from the gates G 2 of the respective pixels arranged in a matrix and are connected to the scanning lines Vscn connected from the outside of the organic EL display panel 10.
  • the source line SL is drawn from the source S 2 of each pixel and connected to the data line Vdat connected from the outside of the organic EL display panel 10.
  • the power supply line Va of each pixel and the ground line Vcat of each pixel are aggregated and connected to the power supply line Va and the ground line Vcat.
  • FIG. 3 is a schematic plan view showing a part of the organic EL display panel according to the first embodiment.
  • the organic EL display panel 10 (hereinafter referred to as “panel 10”) is an organic EL display panel that utilizes an electroluminescence phenomenon of an organic compound.
  • the panel 10 employs a line bank, and a plurality of first partition walls 16 in which each strip extends in the row direction (the vertical direction in the drawing of FIG. 3) are arranged in parallel. Further, when each of the adjacent first partition walls 16 is defined as a gap 20, the panel 10 has a configuration in which a large number of such first partition walls 16 and gaps 20 are alternately arranged.
  • each gap 20 a plurality of sub-pixels 21 and a plurality of inter-pixel regions 22 between adjacent sub-pixels 21 are alternately arranged in the column direction.
  • the sub-pixel 21 corresponds to the sub-pixel 10a in FIG.
  • a plurality of second partition walls 14 in which each strip extends in the row direction are arranged in parallel in the plurality of inter-pixel regions 22 in the gap 20.
  • the first barrier ribs 16 provided in the column direction and the second barrier ribs 14 provided in the row direction are orthogonal to each other.
  • the sub-pixel 21 includes a red sub-pixel 21R that emits red light, a green sub-pixel 21G that emits green light, a first blue sub-pixel 21DB that emits dark blue light, and a second blue sub-light that emits light blue light.
  • a pixel 21LB (hereinafter, abbreviated as “sub-pixel 21” when 21R, 21G, 21DB, and 21LB are not distinguished).
  • the gap 20 includes a red gap 20R, which is entirely a red subpixel 21R, a green gap 20G, which is a green subpixel 21G, a first blue gap 20DB, which is a first blue subpixel 21DB, and a second blue subpixel 21LB.
  • gap 20 There is a second blue gap 20LB (hereinafter referred to as “gap 20” when the gap 20R, the gap 20G, the gap 20DB, and the gap 20LB are not distinguished). Further, four sub-pixels 21 of red sub-pixel 21R, green sub-pixel 21G, dark blue sub-pixel 21DB, and light blue sub-pixel 21LB are arranged in the row direction to form one pixel 23.
  • each color sub-pixel 21 The position of the outer edge in the column direction of each color sub-pixel 21 is defined by a second partition wall 14 to be described later, and exists in the same position in the column direction in each color sub-pixel 21. Further, the position of the outer edge in the row direction of each color sub-pixel 21 is defined by the outer edge in the row direction of each color organic light emitting layer described later. The outer edge of each color organic light emitting layer in the row direction is defined by the first partition 16.
  • FIG.4 is a schematic cross-sectional view taken along the line AA in FIG.
  • FIG. 5 is a schematic cross-sectional view taken along the line BB in FIG.
  • the panel 10 employs a so-called top emission type in which the upper side of the paper of FIGS. 4 and 5 is the display surface.
  • the upper side of FIG. 4 and FIG. 5 is the display surface.
  • the panel 10 includes a substrate 11, a pixel electrode 12, a base layer 13, a second partition 14, a first partition 16, a light emitting layer 17, a counter electrode 18, and a sealing layer 19.
  • Substrate The substrate 11 includes a base material (not shown), a thin film transistor (TFT) layer (not shown) formed on the base material, and an interlayer formed on the base material and the TFT layer. And an insulating layer (not shown).
  • TFT thin film transistor
  • the base material is a support member for the panel 10 and has a flat plate shape.
  • a material having electrical insulation properties for example, a glass material, a resin material, a semiconductor material, a metal material coated with an insulating layer, or the like can be used.
  • the TFT layer is composed of a plurality of TFTs and wirings formed on the upper surface of the substrate.
  • the TFT electrically connects the pixel electrode 12 corresponding to itself and an external power source according to a drive signal from an external circuit of the panel 10 and has a multilayer structure such as an electrode, a semiconductor layer, and an insulating layer.
  • the wiring electrically connects the TFT, the pixel electrode 12, an external power source, an external circuit, and the like.
  • the interlayer insulating layer is to flatten at least the sub-pixel 21 on the upper surface of the substrate 11 where unevenness exists by the TFT layer.
  • the interlayer insulating layer fills the space between the wiring and the TFT and electrically insulates the wiring and the TFT.
  • a positive photosensitive organic material having electrical insulation specifically, an acrylic resin, a polyimide resin, a siloxane resin, a phenol resin, or the like can be used.
  • the fourth pixel electrode 12LB (hereinafter, the red pixel electrode 12R, the green pixel electrode 12G, the first blue pixel electrode 12DB, and the fourth pixel electrode 12LB are not distinguished. 12 ”).
  • the pixel electrode 12 is for supplying carriers to the light emitting layer 17. For example, when it functions as an anode, it supplies holes to the light emitting layer 17.
  • the pixel electrode 12 has a flat plate shape.
  • the pixel electrode 12 when the connection with the TFT is made through a contact hole opened in the interlayer insulating layer, the pixel electrode 12 has an uneven portion along the contact hole.
  • the pixel electrodes 12 are arranged on the substrate 11 at intervals in the column direction in each of the gaps 20.
  • the material of the pixel electrode 12 since the panel 10 is a top emission type, it is preferable to use a conductive material having light reflectivity, for example, a metal such as silver, aluminum, molybdenum, or an alloy using these.
  • the underlayer 13 is, for example, a hole injection layer in the present embodiment, and is formed as a continuous film above the pixel electrode 12. Thus, if the base layer 13 is formed as a continuous solid film, the manufacturing process can be simplified.
  • the underlayer 13 is made of a transition metal oxide and functions as a hole injection layer.
  • the transition metal is an element existing between the Group 3 element and the Group 11 element in the periodic table.
  • transition metals tungsten, molybdenum, nickel, titanium, vanadium, chromium, manganese, iron, cobalt, niobium, hafnium, tantalum, and the like are preferable because they have high hole injectability after oxidation.
  • tungsten is suitable for forming a hole injection layer having a high hole injection property.
  • the underlayer 13 is not limited to the case of being made of a transition metal oxide, and may be made of an oxide other than the transition metal oxide, such as an alloy of a transition metal. Further, the underlayer 13 is not limited to the hole injection layer, and may be any layer as long as it is a layer formed between the pixel electrode 12 and the light emitting layer 17.
  • the second partition 14 is for controlling the flow in the column direction of the ink containing the organic compound as the material when the light emitting layer 17 is formed.
  • the second partition 14 exists above the peripheral edge in the column direction of the pixel electrode 12 and is formed in a state of overlapping with a part of the pixel electrode 12. Therefore, the outer edge of each color sub-pixel 21 in the column direction is defined as described above.
  • the shape of the second partition wall 14 is a linear shape extending in the row direction, and the cross section in the column direction is a forward tapered trapezoidal shape that tapers upward.
  • the second barrier ribs 14 are provided in a state along the row direction perpendicular to the column direction so as to penetrate the first barrier ribs 16, and each upper surface is located at a position lower than the upper surface 16 a of the first barrier rib 16. 14a.
  • an electrically insulating material such as an inorganic material such as silicon oxide or silicon nitride, or an organic material such as an acrylic resin, a polyimide resin, a siloxane resin, or a phenol resin is used. be able to.
  • the first partition 16 is for regulating the flow of ink in the row direction in the gap 20 when the light emitting layer 17 is formed.
  • the first partition 16 exists above the peripheral edge of the pixel electrode 12 in the row direction, and is formed so as to overlap with a part of the pixel electrode 12. Therefore, the outer edge of each color sub-pixel 21 in the row direction is defined as described above.
  • the shape of the first partition wall 16 is a linear shape extending in the column direction, and the cross section in the row direction is a forward tapered trapezoidal shape that tapers upward.
  • the first partition 16 is formed on the base layer 13 so as to sandwich each pixel electrode 12 from the row direction and over the second partition 14.
  • the material of the first partition 16 for example, an organic material such as an acrylic resin, a polyimide resin, a siloxane resin, or a phenol resin can be used.
  • the 1st partition 16 has the tolerance to an organic solvent, and is formed with the material which does not deform
  • the red organic light emitting layer 17R is above the red pixel electrode 12R in the red subpixel 21R on the substrate 11, and the green organic light emitting layer 17G is above the green pixel electrode 12G in the green subpixel 21G.
  • the first blue organic light emitting layer 17DB is located above the first blue pixel electrode 12DB in the one blue subpixel 21DB, and the second blue organic light emitting layer 17LB (hereinafter referred to as the fourth pixel electrode 12LB in the second blue subpixel 21LB).
  • the red organic light emitting layer 17R, the green organic light emitting layer 17G, the first blue organic light emitting layer 17DB, and the second blue organic light emitting layer 17LB are abbreviated as “light emitting layer 17”).
  • the light emitting layer 17 is a layer made of an organic compound and has a function of emitting light by recombining holes and electrons inside. Each light emitting layer 17 is linearly provided in the gap 20 so as to extend in the column direction. In the sub-pixel 21, the light emitting layer 17 is positioned on the upper surface 13 a of the base layer 13, and in the inter-pixel region 22, the second partition wall. 14 is located on the upper surface 14a and the side surface 14b.
  • the light emitting layer 17 emits light only from the portion to which carriers are supplied from the pixel electrode 12. Therefore, as shown in FIG. 3, only the portion of the sub-pixel 21 on the pixel electrode 12 in the light-emitting layer 17 emits light, and the portion of the inter-pixel region 22 on the second partition 14 does not emit light.
  • the light emitting layer 17 extends not only to the sub-pixel 21 but also to the adjacent inter-pixel region 22.
  • the ink applied to the sub-pixels 21 can flow in the column direction through the ink applied to the inter-pixel region 22, and the film thickness is increased between the sub-pixels 21 in the column direction. Can be leveled.
  • the flow of ink is moderately suppressed by the second partition wall 14. Therefore, large film thickness unevenness hardly occurs in the column direction.
  • a light emitting organic material that can be formed using a wet process is used.
  • oxinoid compounds perylene compounds, coumarin compounds, azacoumarin compounds, oxazole compounds, oxadiazole compounds, perinone compounds, pyrrolopyrrole compounds, naphthalene compounds, anthracene compounds, fluorene compounds, fluoranthene compounds, tetracene compounds, pyrenes Compound, coronene compound, quinolone compound and azaquinolone compound, pyrazoline derivative and pyrazolone derivative, rhodamine compound, chrysene compound, phenanthrene compound, cyclopentadiene compound, stilbene compound, diphenylquinone compound, styryl compound, butadiene compound, dicyanomethylenepyran compound, dicyanomethylene Thiopyran compounds, fluorescein compounds, pyrylium compounds
  • the first blue organic light emitting layer 17DB and the second blue organic light emitting layer 17LB are preferably made of the same material.
  • the thickness of the first blue organic light emitting layer 17DB is configured to be smaller than the thickness of the second blue organic light emitting layer 17LB.
  • the thickness of the second blue organic light emitting layer 17LB is 45 nm or more and 65 nm or less.
  • the thickness of the first blue organic light emitting layer 17DB is preferably less than 45 nm.
  • the counter electrode 18 when the counter electrode 18 functions as a cathode, electrons are supplied to the light emitting layer 17. Supply.
  • the counter electrode 18 is formed along the upper surface 17 a of each light emitting layer 17 and the surface of each first partition 16 exposed from the light emitting layer 17, and serves as a common electrode for each light emitting layer 17.
  • the material of the counter electrode 18 since the panel 10 is a top emission type, a conductive material having optical transparency is used.
  • a conductive material having optical transparency is used.
  • ITO indium tin oxide
  • IZO indium zinc oxide
  • the sealing layer 19 is for suppressing the light emitting layer 17 from being deteriorated by contact with moisture or air.
  • the sealing layer 19 is provided over the entire panel 10 so as to cover the upper surface of the counter electrode 18.
  • a light transmissive material such as silicon nitride or silicon oxynitride is used.
  • Color filter etc.
  • a color filter or an upper substrate may be installed and bonded on the sealing layer 19. Thereby, adjustment of the display color of the panel 10, improvement of rigidity, prevention of intrusion of moisture, air, and the like can be achieved.
  • the color filters include a red gap 20R that is a red subpixel 21R area, a green gap 20G that is a green subpixel 21G area, a first blue gap 20DB that is a first blue subpixel 21DB area, and a second blue subpixel 21LB.
  • a red filter 24R, a green filter 24G, a first blue filter 24DB that is a dark blue filter, and a second blue filter 24LB that is a light blue filter are formed above the second blue gap 20LB, which is a region of the above.
  • the color filters 24B, 24G, 24DB, and 24LB are transparent layers provided to transmit visible light having wavelengths corresponding to R, G, DB, and LB, and transmit light emitted from each color sub-pixel. It has a function of correcting the chromaticity.
  • the color filters 24G, 24R, 24DB, and 24LB are, for example, a color filter for a cover glass for forming a color filter provided with a partition in which a plurality of openings are formed in a matrix in units of subpixels 21. It is formed by a step of applying an ink containing a material and a solvent.
  • the second blue filter 24LB has a higher transmittance at a wavelength of 600 to 800 nm than the first blue filter 24DB.
  • the transmittance of the first blue filter at a wavelength of 600 to 800 nm is preferably 0.5 or less, and the transmittance of the second blue filter is preferably 0.7 or more.
  • FIG. 6 is a schematic cross-sectional view taken along the line AA showing the manufacturing process of the organic EL display panel.
  • FIG. 7 is a schematic cross-sectional view taken along the line BB showing the manufacturing process of the organic EL display panel.
  • the substrate 11 is prepared. Specifically, for example, a necessary film is formed on a substrate by sputtering, CVD (Chemical Vapor Deposition), spin coating, or the like, and the film is patterned by photolithography to form a TFT layer and an interlayer insulating layer. Form. At this time, plasma treatment, ion implantation, baking, or the like may be performed as necessary.
  • the pixel electrode 12 is formed on the substrate 11. Specifically, for example, a metal film is first formed on the substrate 11 by vacuum deposition or sputtering. Next, the metal film is patterned by a photolithography method, a plurality of pixel electrodes 12 are arranged in the column direction at intervals on the substrate 11, and a plurality of columns of such pixel electrodes 12 are arranged in parallel. In this way, the pixel electrodes 12 that are two-dimensionally arranged on the substrate 11 are formed.
  • an underlayer 13 is formed on the substrate 11 after the pixel electrode 12 is formed. Specifically, for example, a solid oxide layer (underlayer 13) is formed on the substrate 11 so as to cover all the pixel electrodes 12 by sputtering.
  • the second partition 14 is formed on the base layer 13. Specifically, for example, an inorganic insulating film (silicon oxide or the like) is formed on the base layer 13 by a CVD method. Then, the inorganic insulating film is patterned by photolithography, and a linear second partition 14 is formed so as to extend in the row direction at a position sandwiching each of the 12 rows of pixel electrodes.
  • an inorganic insulating film silicon oxide or the like
  • UV is irradiated from above, and then a baking process is performed.
  • the first partition 16 is formed on a part on the base layer 13 and a part on the second partition 14.
  • a positive photosensitive organic material such as an acrylic resin
  • the thickness of the applied material is made larger than the thickness of the second partition 14.
  • the photosensitive organic material is patterned by a photolithography method, and the linear first barrier ribs 16 are formed so as to extend in the column direction at positions sandwiching the pixel electrode 12 columns.
  • the first partition 16 may be subjected to a surface treatment with an alkaline solution, water, an organic solvent, plasma, or the like to impart liquid repellency to the ink applied in the subsequent steps on the surface of the first partition 16. . By doing in this way, it can suppress that an ink flows over the 1st partition 16 in the subsequent light emitting layer formation process.
  • the gap 20 between the adjacent first partition walls 16 is formed, and the columns formed by the pixels 21 and the inter-pixel regions 22 exist in the gap 20 respectively.
  • the ink 17A is applied in the gap 20.
  • an ink 17A is prepared by mixing an organic compound serving as a material of the light emitting layer 17 and a solvent at a predetermined ratio, and this ink 17A is applied in the gap 20 using an ink jet method.
  • the ink 17A can flow over the second partition wall 14.
  • the light emitting layer 17 is formed by evaporating and drying the solvent contained in the ink 17A.
  • the ink 17A As a method for applying the ink 17A, a dispenser method, a nozzle code method, a spin coating method, a printing method, or the like may be used.
  • the ink 17A preferably has good wettability with respect to the surface (the upper surface 14a and the side surface 14b) of the second partition 14.
  • the light emitting layer 17 since the light emitting layer 17 has the sub-pixels 21 of four colors of red, green, dark blue, and light blue, they are formed using different inks 17A. Specifically, for example, using a nozzle (ejection port) that ejects only ink 17A corresponding to any of red, green, dark blue, and light blue, a method of sequentially applying four colors of ink 17A, There is a method in which four color inks 17A are simultaneously applied using four nozzles that can simultaneously eject inks 17A corresponding to green, dark blue, and light blue colors.
  • the first blue organic light emitting layer 17DB and the second blue organic light emitting layer 17LB are preferably made of the same material. This is because the ink 17 of the first blue organic light-emitting layer 17DB and the second blue organic light-emitting layer 17LB can be applied at the same time, which facilitates production and contributes to cost reduction. Further, by controlling the amount of ink applied to the first blue gap 20DB to be smaller than the amount of ink applied to the second blue gap 20LB, the thickness of the first blue organic light emitting layer 17DB is reduced to the second blue organic layer. It can be configured to be smaller than the thickness of the light emitting layer 17LB. In this case, the film thickness of the second blue gap 20LB formed by setting the amount of ink to be applied can be controlled. The same applies to the first blue organic light emitting layer 17DB.
  • the panel 10 employs a line bank
  • a plurality of nozzles that eject only the same color ink 17A are arranged in the column direction, and the ink 17A is ejected into the gap 20 while moving in the direction intersecting the column direction.
  • a method of forming the light emitting layer 17 is preferable. According to this method, since a plurality of nozzles are used first, the application time of the ink 17A is shortened, and the process can be shortened.
  • the ink 17A ejected from a plurality of nozzles is connected in the column direction by the gap 20, even if the ejection amount of the ink 17A from each nozzle varies, the ink 17A can flow in the column direction thereafter, and the coating amount is increased. By leveling, it is possible to reduce the occurrence of film thickness unevenness between pixels 21, that is, luminance unevenness.
  • the light emitting layer 17 is formed in the gap 20 as shown in FIGS. 6 (d) and 7 (e).
  • the linear light emitting layer 17 can be formed across the pixel 21 where the base layer 13 not covered with the second partition 14 exists and the inter-pixel region 22 where the second partition 14 exists. .
  • the counter electrode 18 is formed along the surface of each 1st partition 16 exposed from the upper surface 17a of each light emitting layer 17, and the light emitting layer 17.
  • FIG. Specifically, for example, a light-transmitting conductive material such as ITO or IZO along the upper surface 17a of each light-emitting layer 17 and the surface of each first partition wall 16 exposed from the light-emitting layer 17 by, for example, vacuum deposition or sputtering. A film made of a material is formed.
  • the sealing layer 19 that covers the upper surface of the counter electrode 18 is formed.
  • an inorganic insulating film such as silicon oxide is formed on the counter electrode 18 by, for example, a sputtering method or a CVD method.
  • a light emitting layer 17 of each color exists between the pixel electrode 12 and the counter electrode 18, as follows.
  • an optical resonator structure is formed in which the light from the light emitting layer 17 is resonated and emitted from the counter electrode 18 side.
  • the light generated in the light emitting layer 17 is emitted to the outside from the counter electrode 18, and “direct light” directly emitted from the light emitting layer 17 toward the counter electrode 18 and the light from the light emitting layer 17 to the pixel.
  • Both components of “reflected light” emitted toward the electrode 12, reflected by the pixel electrode 12 and then directed to the counter electrode 18 are included.
  • FIG. 8 is a diagram showing direct light and reflected light in the optical resonator structure formed in the panel 10.
  • a blue element having blue light emitting layers 17DB and 17LB is shown, but the same applies to red and green elements.
  • part of the light emitted from the light emitting layer 17 proceeds to the counter electrode 18 side without proceeding to the pixel electrode 12 side, and passes through the counter electrode 18 to the outside of the organic light emitting element.
  • the first light path C1 emitted and the remaining part of the light emitted from the light emitting layer 17 travel to the pixel electrode 12 side and are reflected by the pixel electrode 12, and then the organic light emitting element through the light emitting layer 17 and the counter electrode 18.
  • a second optical path C2 emitted to the outside emitted to the outside.
  • the optical distances LDB and LLB between the upper surface of the light emitting layer 17 and the upper surface of the pixel electrode 12 are set so that the light components corresponding to the respective colors are intensified by the interference between the direct light and the reflected light.
  • the thickness of the first blue organic light emitting layer 17DB is smaller than the thickness of the second blue organic light emitting layer 17LB.
  • the thickness of the second blue organic light emitting layer 17LB is not less than 45 nm and not more than 65 nm, and the thickness of the first blue organic light emitting layer 17DB is less than 45 nm. Therefore, the optical distance between the upper surface of the light emitting layer 17 and the upper surface of the pixel electrode 12 is such that the optical distance LDB in the first blue subpixel 21DB is smaller than the optical distance LLB in the second blue subpixel 21LB.
  • the first blue sub-pixel 21DB and the second blue sub-pixel 21LB a difference in length between the first optical path C1 and the second optical path C2 occurs, and the first blue sub-pixel 21DB and the second blue sub-pixel 21
  • the wavelength of 21 LB and the wavelength of the light that is strengthened by the direct light and the reflected light and the wavelength of the light that is weakened.
  • the y value of the CIE chromaticity of the light emitted from the first blue subpixel 21DB and the second blue subpixel 21LB above the counter electrode 18 is the CIE color of the light emitted from the first blue subpixel 21DB.
  • the y value of the degree is smaller than the y value of the CIE chromaticity of the light emitted from the second blue sub-pixel 21LB.
  • FIG. 9 is a characteristic diagram showing the relationship between the color of light emitted from the sub-pixels in the second blue sub-pixel 21LB and the light emission efficiency of the sub-pixels.
  • Each plot represents an experimental result when the optical distance LLB is varied from 45 nm to 94 nm.
  • the thickness of the second blue organic light emitting layer 17LB was varied from 45 m to 65 mm. The film thickness was 45 m, 55 nm, 65 mm in this order. 1, no. 2, no.
  • the thickness of the underlayer 13 was varied from 0 nm (without the underlayer 13) to 29 mm.
  • the film thickness of the underlayer 13 was expressed as the shape of each plot.
  • the optical distance LLB is varied from 45 nm to 94 nm as shown in the matrix portion in the figure.
  • the curve in the figure is a reference curve indicating the efficiency required for the power consumption in the IEC moving image reference to be equal when the y value of the CIE chromaticity of the light emitted from the second blue sub-pixel 21LB is changed. .
  • the y value of the color of light emitted from the second blue sub-pixel 21LB increases.
  • the luminous efficiency is higher than the reference curve indicating the relationship between the y value and the luminous efficiency (region F), but when the y value exceeds 0.18, the standard curve The luminous efficiency is lower than that (region G).
  • the optical value LLB in which the y value of the light blue light emitted from the second blue sub-pixel 21LB is 0.18 or less is 45 nm or more and 65 nm or less (when * is added in FIG. 9)
  • the light emission efficiency is set relatively low for the two blue sub-pixels 21LB, it can exceed the reference curve. That is, when the vertical distance between the upper surface 17a of the second blue organic light emitting layer 17LB and the upper surface of the fourth pixel electrode 12LB is not less than 45 nm and not more than 65 nm, the second blue subpixel 21LB is set to have relatively low luminous efficiency. Even above the reference curve.
  • the second blue sub-pixel is considered.
  • the y value of the light blue light emitted from the pixel 21LB is preferably 0.1 or more and 0.18 or less.
  • the y value of dark blue light emitted from the first blue subpixel 21DB is less than 0.1, and the y value of light blue light emitted from the second blue subpixel 21LB is 0.1 or more and 0.18 or less. Therefore, when the base layer 13 is not used or is configured to be as thin as several nanometers, the thickness of the first blue organic light emitting layer 17DB is less than 45 nm, and the thickness of the second blue organic light emitting layer 17LB is It is preferable that it is 45 nm or more and 65 nm or less.
  • the panel 10 includes the first blue organic light emission in the first blue subpixel 21DB above the counter electrode 18 in the subpixel region. It is good also as a structure provided with 1st filter 24DB which reduces y value of CIE chromaticity of the blue light which layer 17DB emits.
  • 1st filter 24DB which reduces y value of CIE chromaticity of the blue light which layer 17DB emits.
  • the panel 10 may be configured to include a second filter 24LB having a transmittance of 300 to 800 nm higher than that of the first filter 24DB in the second blue sub-pixel 21LB above the counter electrode 18.
  • the transmittance of the first filter 24DB at a wavelength of 300 to 800 nm is preferably 0.5 or less
  • the transmittance of the second filter 24LB is preferably 0.7 or more.
  • the color of the light emitted upward from the first filter 24DB in the first blue subpixel 21DB is higher than the color of the light emitted upward from the second filter 24LB in the second blue subpixel 21LB.
  • the light emitted upward from the first filter 24DB in the first blue subpixel has a y value of CIE chromaticity of less than 0.1, and the light emitted upward from the second filter 24LB in the second blue subpixel.
  • the y value of the CIE chromaticity of the emitted light is 0.1 or more and 0.18 or less.
  • the color of the light emitted from the first blue organic light emitting layer 17DB and the second blue organic light emitting layer 17LB is different, the color of the light emitted from both the light emitting layers is the same. Compared with the case of a certain configuration, the amount of light absorbed by the first filter 24DB and the second filter 24LB can be reduced, and the light emission efficiency of the sub-pixel can be improved.
  • FIG. 10 is a characteristic diagram showing the color reproduction range of the display device 1 on the CIE chromaticity diagram.
  • the red light emitted from the red subpixel 21 ⁇ / b> R and the green light emitted from the green subpixel 21 ⁇ / b> G are obtained without using the first blue sub-pixel 21DB. Display is performed by driving only the three pixels.
  • the light blue light emitted from the first blue sub-pixel 21DB is used.
  • the three pixels of the red sub pixel 21R, the green sub pixel 21G, and the first blue sub pixel 21DB are driven to perform display.
  • the red sub-pixel 21R, the green sub-pixel 21G, the first blue sub-pixel 21DB that emits dark blue light, and the second blue sub-pixel that emits light blue light The first blue pixel electrode 12DB, the first blue organic light emitting layer 17DB, and the second blue color on the substrate, which are arranged in order from the substrate side in the region of the first blue sub-pixel.
  • a second blue pixel electrode 12LB and a second blue organic light emitting layer 17LB are arranged in order from the substrate side in the sub pixel region, and the first blue organic light emitting layer 17DB and the second blue organic light emitting layer 17LB are the same.
  • the distance between the upper surface of the first blue organic light emitting layer 17DB and the upper surface of the first blue pixel electrode 12DB in the direction perpendicular to the substrate 11 is made of a material. And smaller configuration than the distance between the color pixel electrode 12LB top.
  • the first light-emitting element that emits dark blue light with a difference in optical path length between the direct light and the reflected light emitted from the organic light emitting layer.
  • a configuration is adopted in which the color of light emitted from the organic light emitting layers of both pixels is different.
  • the light extraction efficiency of the second blue sub-pixel 21LB can be improved, and further light emission efficiency can be improved as compared with the conventional case.
  • the current can be reduced by improving the light emission efficiency, and the luminance half life of the second blue sub-pixel 21LB can be increased. As a result, it is possible to further improve the light emission efficiency and extend the lifetime of the organic EL element due to the reduction in power consumption during driving in the second blue subpixel 21DB.
  • the first blue sub-pixel 21 ⁇ / b> DB that emits dark blue light and the second blue sub-pixel 21 ⁇ / b> LB that emits light blue light with higher luminous efficiency are controlled to display an image.
  • the second blue sub-pixel 21LB that emits light blue light with higher luminous efficiency can be caused to emit light to display an image.
  • the life of the display device 1 can be extended by increasing the usage ratio of the second blue sub-pixel 21LB. .
  • the dark blue light emitted from the first blue sub-pixel 21DB and the dark blue light pale blue light emitted from the second blue sub-pixel 21LB are selectively used according to the image to be displayed.
  • the color purity of blue light emitted as a whole can be improved and the color reproduction range can be expanded.
  • the panel 10 according to one embodiment of the present invention has been described.
  • the present invention is not limited to the above embodiment except for essential characteristic components.
  • it is realized by arbitrarily combining the components and functions in each embodiment without departing from the scope of the present invention, or the form obtained by subjecting each embodiment to various modifications conceived by those skilled in the art. Forms are also included in the present invention.
  • the modification of the panel 10 is demonstrated as an example of such a form.
  • the panel 10 according to the first embodiment is a dark blue filter above the first blue gap 20DB that is the first blue subpixel 21DB and the second blue gap 20LB that is the second blue subpixel 21LB.
  • the first blue filter 24DB and the second blue filter 24LB that is a light blue filter are formed.
  • a dark blue filter is provided only above the first blue gap 20DB that is the first blue subpixel 21DB
  • a second blue filter is provided above the second blue gap 20LB that is the second blue subpixel 21LB. It is good also as a structure which does not provide 24LB.
  • the y value of dark blue light emitted from the first blue sub-pixel 21DB is less than 0.1
  • the y value of light blue light emitted from the second blue sub-pixel 21LB is 0.1 or more and 0.18.
  • the thickness of the first blue organic light emitting layer 17DB is less than 45 nm
  • the thickness of the second blue organic light emitting layer 17LB The thickness is preferably 45 nm or more and 65 nm or less.
  • the present invention is not limited to this.
  • a configuration in which only the light emitting layer 17 exists between the pixel electrode 12 and the counter electrode 18 without using the base layer 13 that is a hole injection layer may be employed.
  • the thickness of the first blue organic light emitting layer 17DB is preferably less than 45 nm
  • the thickness of the second blue organic light emitting layer 17LB is preferably 45 nm or more and 65 nm or less.
  • a configuration including a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, an electron injection layer, or the like, or a configuration including a plurality or all of them at the same time may be used.
  • these layers do not need to consist of organic compounds, and may be composed of inorganic substances.
  • the pixel 21 has three types of the red pixel 21R, the green pixel 21G, and the blue pixel 21B.
  • the present invention is not limited to this.
  • the light emitting layer may be one type, or the light emitting layer may be four types that emit red, green, blue, and yellow.
  • the pixels 21 are arranged in a matrix, but the present invention is not limited to this.
  • the present invention is effective even for a configuration in which the pixel regions are shifted by a half pitch in the column direction between adjacent gaps.
  • a slight shift in the column direction is difficult to distinguish visually, and even if the film thickness unevenness is arranged on a straight line (or zigzag) having a certain width, it is visually stripped. Therefore, even in such a case, the display quality of the display panel can be improved by suppressing the luminance unevenness from being arranged in a staggered manner.
  • the light emitting layer 17 is formed using a wet film forming process such as a printing method, a spin coating method, and an ink jet method.
  • a wet film forming process such as a printing method, a spin coating method, and an ink jet method.
  • the present invention is not limited to this.
  • a dry film forming process such as a vacuum evaporation method, an electron beam evaporation method, a sputtering method, a reactive sputtering method, an ion plating method, or a vapor deposition method can be used.
  • the pixel electrodes 12 are arranged in all the gaps 20, but the present invention is not limited to this configuration.
  • the panel 10 has a top emission type configuration, but a bottom emission type may be employed. In that case, it is possible to appropriately change each configuration.
  • the panel 10 has an active matrix type configuration.
  • the present invention is not limited to this, and may be a passive matrix type configuration, for example.
  • a plurality of linear electrodes parallel to the extending direction of the first partition walls and a plurality of linear electrodes orthogonal to the extending direction of the first partition walls may be provided side by side so as to sandwich the light emitting layer.
  • the linear electrode orthogonal to the extending direction of the first partition is on the lower side, a plurality of lower electrodes are arranged in the extending direction of the first partition at intervals in each gap. It becomes one aspect
  • the substrate 11 has the TFT layer.
  • the substrate 11 is not limited to the TFT layer.
  • the organic EL display panel and the organic EL display device according to the present invention can be widely used in various electronic devices having devices such as a television set, a personal computer, a mobile phone, and other display panels.

Abstract

　赤色サブ画素２１Ｒ、緑色サブ画素２１Ｇ、濃青色光を発する第１青色サブ画素２１ＤＢ、及び淡青色光を発する第２青色サブ画素２１ＬＢを含む画素２３を複数有し、第１青色サブ画素の領域内に、基板側から順に配された、第１青色画素電極１２ＤＢ、第１青色有機発光層１７ＤＢと、基板上の第２青色サブ画素の領域内に、基板側から順に配された、第２青色画素電極１２ＬＢ、第２青色有機発光層１７ＬＢとを備え、第１青色有機発光層１７ＤＢ及び第２青色有機発光層１７ＬＢは同じ材料から構成されており、基板１１と垂直な方向において、第１青色有機発光層１７ＤＢ上面と第１青色画素電極１２ＤＢ上面との距離は、第２青色有機発光層１７ＬＢ上面と第２青色画素電極１２ＬＢ上面との距離よりも小さい。

Description

有機ＥＬ表示パネル及び有機ＥＬ表示装置
　本発明は、有機材料の電界発光現象を利用した有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ　Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）素子を用いた、及びそれを用いた有機ＥＬ表示装置に関し、特に表示パネルの寿命を改善する技術に関する。
　近年、デジタルテレビ等の表示装置に用いられる表示パネルとして、基板上に有機発光素子をマトリックス状に複数配列し有機ＥＬ素子を利用したパネル（以後、「有機ＥＬ表示パネル」と略称する）が実用化されている。
　有機ＥＬ表示パネルにおいては、赤色、緑色、青色の有機ＥＬ素子がサブ画素を形成し、隣り合う赤色、緑色、青色のサブ画素の組み合わせで１画素を形成している。この有機ＥＬ表示パネルでは、発光効率の向上や有機ＥＬ素子の長寿命化に向けて、赤色、緑色、青色各色の有機ＥＬ素子中、寿命が最も短い青色有機ＥＬ素子の長寿命化が課題となっていた。
　これに対し、例えば、特許文献１では、赤色サブ画素、緑色サブ画素の他に、２つの青色サブ画素を備えた有機ＥＬ表示パネルが提案されている。２つの青色サブ画素の構造はカラーフィルタを除いて同じである。カラーフィルタを異ならせることでＣＩＥｘｙ色度座標系におけるｙ値が異なる青色光を２つの青色サブ画素から取り出している。この特許文献１には、ｙ値が低い青色サブ画素により青色方向に色表現領域を拡大し、ｙ値が高い青色サブ画素はカラーフィルタの光の取り出し効率を上げ、２つの青色サブ画素を選択して用いることにより色再現性を向上するとともに、消費電力が低く抑えられて発光素子の長寿命化を達成できることが記載されている。
特開２００８－２２５１７９号公報
　しかしながら、上記構成においては、２つの青色画素のうちの少なくとも一方における光取り出し側にカラーフィルタを設けてＣＩＥｘｙ色度座標系におけるｙ値が異なる青色光を２つの青色画素から取り出すために、ｙ値が低い濃青色サブ画素、ｙ値が高い淡青色サブ画素ともに発光効率が高まらず、さらなる発光効率の向上や有機ＥＬ素子の長寿命化に向けた障害となっていた。
　本発明は、上記課題に鑑み、さらなる発光効率の向上と有機ＥＬ表示パネルの長寿命化に資する有機ＥＬ表示パネル及びそれを用いた有機ＥＬ表示装置を提供することを目的とする。
　本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルは、赤色光を発する赤色サブ画素、緑色光を発する緑色サブ画素、濃青色光を発する第１青色サブ画素、及び淡青色光を発する第２青色サブ画素を含む画素が複数行列状に配された有機ＥＬ表示パネルであって、基板と、前記基板上の前記第１青色サブ画素の領域内に、前記基板側から順に設けられた、第１青色画素電極、第１青色有機発光層と、前記基板上の前記第２青色サブ画素の領域内に、前記基板側から順に設けられた、第２青色画素電極、第２青色有機発光層とを備え、前記第１青色有機発光層及び前記第２青色有機発光層は同じ材料から構成されており、前記基板平面と垂直な方向において、前記第１青色有機発光層上面と前記第１青色画素電極上面との距離は、前記第２青色有機発光層上面と前記第２青色画素電極上面との距離よりも小さいことを特徴とする。
　上記態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、第１サブ画素と第２サブ画素とで、有機発光層から出射される直接光と反射光との光路長差を異ならせることにより両サブ画素の有機発光層から出射される光の色自体を異ならせた。これにより、画素の発光効率を向上することができる。そのため、従来に比べさらなる発光効率の向上と有機ＥＬ素子の長寿命化を図ることができる。
実施の形態１に係る表示装置１の構成を示す模式ブロック図である。 表示装置１に用いる有機ＥＬ表示パネル１０の各サブ画素１０ａにおける回路構成を示す模式回路図である。 実施の形態１に係る有機ＥＬ表示パネルの一部を示す模式平面図である。 図１におけるＡ－Ａ断面模式図である。 図１におけるＢ－Ｂ断面模式図である。 （ａ）～（ｄ）は、有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示すＡ－Ａ断面模式図である。 （ａ）～（ｅ）は、有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示すＢ－Ｂ断面模式図である。 パネル１０に形成された光共振器構造における直接光Ｃ１と反射光Ｃ２を示す概略図である。 第２青色サブ画素２１ＬＢにおけるサブ画素から放出される光の色とサブ画素の発光効率との関係を示す特性図である。 表示装置１の色再現範囲をＣＩＥ色度図上に示した特性図である。
　≪本発明の態様の概要≫
　本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルは、赤色光を発する赤色サブ画素、緑色光を発する緑色サブ画素、濃青色光を発する第１青色サブ画素、及び淡青色光を発する第２青色サブ画素を含む画素が複数行列状に配された有機ＥＬ表示パネルであって、基板と、前記基板上の前記第１青色サブ画素の領域内に、前記基板側から順に設けられた、第１青色画素電極、第１青色有機発光層と、前記基板上の前記第２青色サブ画素の領域内に、前記基板側から順に設けられた、第２青色画素電極、第２青色有機発光層とを備え、前記第１青色有機発光層及び前記第２青色有機発光層は同じ材料から構成されており、前記基板平面と垂直な方向において、前記第１青色有機発光層上面と前記第１青色画素電極上面との距離は、前記第２青色有機発光層上面と前記第２青色画素電極上面との距離よりも小さいことを特徴とする。
　また、別の態様では、前記第１青色有機発光層の厚さは、前記第２青色有機発光層の厚さよりも小さい構成であってもよい。
　また、別の態様では、前記第１青色有機発光層の厚さは４５ｎｍ未満であり、前記第２青色有機発光層の厚さは４５ｎｍ以上６５ｎｍ以下である構成であってもよい。
　また、別の態様では、前記第１青色サブ画素から出射される光のＣＩＥ色度のｙ値が前記第２青色サブ画素から出射される光の色のＣＩＥ色度のｙ値よりも小さい構成であってもよい。
　また、別の態様では、前記第１青色有機発光層上方に、前記第１青色有機発光層の発する光のＣＩＥ色度のｙ値を低下させる第１フィルタを備える構成であってもよい。
　また、別の態様では、前記第２青色有機発光層上方に、前記第１フィルタよりも波長３００～８００ｎｍの光の透過率が高い第２フィルタを備える構成であってもよい。
　また、別の態様では、前記第１フィルタの波長３００～８００ｎｍの光の透過率は０．５以下であり、前記第２フィルタの透過率は０．７以上である構成であってもよい。
　また、別の態様では、前記第１青色サブ画素において前記第１フィルタから上方に出射される光の色は、前記第２青色サブ画素において前記第２フィルタから上方に出射される光の色よりもＣＩＥ色度のｙ値が小さい構成であってもよい。
　また、別の態様では、前記第１青色サブ画素において前記第１フィルタから上方に出射される光をＣＩＥ色度のｙ値は０．１未満であり、前記第２青色サブ画素において前記第２フィルタから上方に出射される光をＣＩＥ色度のｙ値は０．１以上０．１８以下である構成であってもよい。
　本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、赤色光を発する赤色サブ画素、緑色光を発する緑色サブ画素、濃青色光を発する第１青色サブ画素、及び淡青色光を発する第２青色サブ画素を含む画素が複数行列状に配された有機ＥＬ表示パネルの製造方法であって、基板上の前記第１青色サブ画素領域内に、前記基板側から順に、第１青色画素電極、第１青色有機発光層とを形成し、前記基板上の前記第２青色サブ画素領域内に、前記基板側から順に、第２青色画素電極、前記第１青色有機発光層と同じ材料から構成されている第２青色有機発光層を形成する工程を含み、前記第１及び第２青色有機発光層を形成する工程では、前記基板上面と垂直な方向において、前記第１青色有機発光層上面と前記第１青色画素電極上面との距離は、前記第２青色有機発光層上面と前記第２青色画素電極上面との距離よりも小さく形成することを特徴とする。
　なお、本願において、「上方」とは、絶対的な空間認識における上方向（鉛直上方）を指すものではなく、積層構成における積層順を基に、相対的な位置関係により規定されるものである。また、「上方」という用語は、互いの間に間隔を空けた場合のみならず、互いに密着する場合にも適用する。
　≪実施の形態１≫
　１．表示装置１の構成
　以下では、実施の形態１に係る表示装置１の全体構成について、図１を用い説明する。
　図１に示すように、本実施の形態に係る表示装置１は、有機ＥＬ表示パネル１０と、これに接続された駆動制御回路部３０とを有し構成されている。
　有機ＥＬ表示パネル１０は、有機材料の電界発光現象を利用した有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ　Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）パネルであって、複数の有機ＥＬ素子が、例えば、マトリクス状に配列され構成されている。駆動制御回路部３０は、４つの駆動回路３１～３４と制御回路３５とにより構成されている。
　なお、表示装置１において、有機ＥＬ表示パネル１０に対する駆動制御回路部３０の各回路の配置形態については、図１に示した形態に限定されない。
　２．有機ＥＬ表示パネル１０における回路構成
　有機ＥＬ表示パネル１０における各画素１０ａの回路構成について、図２を用い説明する。
　図２に示すように、本実施の形態に係る有機ＥＬ表示パネル１０では、各サブ画素１０ａが２つのトランジスタＴｒ1、Ｔｒ2と一つの容量Ｃ、および発光部としてのＥＬ素子部ＥＬとを有し構成されている。トランジスタＴｒ1は、駆動トランジスタであり、トランジスタＴｒ2は、スイッチングトランジスタである。
　スイッチングトランジスタＴｒ2のゲートＧ2は、走査ラインＶｓｃｎに接続され、ソースＳ2は、データラインＶｄａｔに接続されている。スイッチングトランジスタＴｒ2のドレインＤ2は、駆動トランジスタＴｒ1のゲートＧ1に接続されている。
　駆動トランジスタＴｒ1のドレインＤ1は、電源ラインＶａに接続されており、ソースＳ1は、ＥＬ素子部ＥＬのアノードに接続されている。ＥＬ素子部ＥＬにおけるカソードは
、接地ラインＶｃａｔに接続されている。
　なお、容量Ｃは、スイッチングトランジスタＴｒ2のドレインＤ2および駆動トランジスタＴｒ1のゲートＧ1と、電源ラインＶａとを結ぶように設けられている。
　有機ＥＬ表示パネル１０においては、隣接する複数のサブ画素１０ａ（例えば、赤色（Ｒ）と緑色（Ｇ）と濃青色（ＤＢ）と淡青色（ＬＢ）の発光色の４つのサブ画素１０ａ）を組合せて１の画素を構成し、各画素がマトリクス状に配されて画素領域を構成している。そして、マトリクス状に配された各画素のゲートＧ2からゲートラインＧＬが各々引き
出され、有機ＥＬ表示パネル１０の外部から接続される走査ラインＶｓｃｎに接続されている。同様に、各画素のソースＳ2からソースラインＳＬが各々引き出され有機ＥＬ表示パネル１０の外部から接続されるデータラインＶｄａｔに接続されている。
　また、各画素の電源ラインＶａ及び各画素の接地ラインＶｃａｔは集約され電源ラインＶａ及び接地ラインＶｃａｔに接続されている。
　２．有機ＥＬ表示パネル１０の構成
　本発明の一態様である実施の形態１に係る有機ＥＬ表示パネル１０について、図面を用いて説明する。なお、図面は模式図であって、その縮尺は実際とは異なる場合がある。
　＜全体構成＞
　図３は、実施の形態１に係る有機ＥＬ表示パネルの一部を示す模式平面図である。図３に示すように、有機ＥＬ表示パネル１０（以下、「パネル１０」という。）は、有機化合物の電界発光現象を利用した有機ＥＬ表示パネルである。パネル１０では、ラインバンクを採用し、各条が列方向（図３の紙面縦方向）に延伸する第１隔壁１６が複数並設されている。また、隣り合う第１隔壁１６間の各々を、間隙２０と定義した場合、パネル１０は、このような第１隔壁１６と間隙２０が交互に多数並んだ構成を有する。
　間隙２０のそれぞれでは、複数のサブ画素２１と、隣り合うサブ画素２１同士の間である複数の画素間領域２２とが、列方向に交互に並んでいる。サブ画素２１は、上述の図２におけるサブ画素１０ａに対応する。また、間隙２０内の複数の画素間領域２２には、各条が行方向（図３の紙面横方向）に延伸する第２隔壁１４が複数並設されている。列方向に設けられた第１隔壁１６と行方向に設けられた第２隔壁１４とは直交している。
　本実施の形態では、サブ画素２１は、赤色に発光する赤色サブ画素２１Ｒ、緑色に発光する緑色サブ画素２１Ｇ、濃青色に発光する第１青色サブ画素２１ＤＢ、淡青色に発光する第２青色サブ画素２１ＬＢ（以後、２１Ｒ、２１Ｇ、２１ＤＢ、２１ＬＢを区別しない場合は、「サブ画素２１」と略称する）である。また、間隙２０には、内部がすべて赤色サブ画素２１Ｒである赤色間隙２０Ｒ、緑色サブ画素２１Ｇである緑色間隙２０Ｇ、第１青色サブ画素２１ＤＢである第１青色間隙２０ＤＢ、第２青色サブ画素２１ＬＢである第２青色間隙２０ＬＢ（以後、間隙２０Ｒ、間隙２０Ｇ、間隙２０ＤＢ、間隙２０ＬＢを区別しない場合は、「間隙２０」と略称する）が存在する。さらに、赤色サブ画素２１Ｒ、緑色サブ画素２１Ｇ、濃青色サブ画素２１ＤＢ、淡青色サブ画素２１ＬＢの４つのサブ画素２１が行方向に並んで組となっており、１画素２３を構成している。
　各色サブ画素２１の列方向における外縁の位置は、後述する第２隔壁１４により規定され、各色サブ画素２１において列方向の同一位置に存在している。また、各色サブ画素２１の行方向における外縁の位置は、後述する各色有機発光層の行方向における外縁により規定される。各色有機発光層の行方向における外縁は第１隔壁１６により規定される。
　＜各部構成＞
　パネル１０の各部構成を図４及び図５を用いて説明する。図４は、図３におけるＡ－Ａ断面模式図である。図５は、図３におけるＢ－Ｂ断面模式図である。
　パネル１０は、一例として、図４及び図５の紙面上側を表示面とする、いわゆるトップエミッション型を採用している。なお、以下においては、図４及び図５の紙面上側をパネル１０の上方として説明する。
　パネル１０は、基板１１、画素電極１２、下地層１３、第２隔壁１４、第１隔壁１６、発光層１７、対向電極１８、封止層１９を備える。
　（１）基板
　基板１１は、基材（不図示）と、基材上に形成された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）　層（不図示）と、基材上及びＴＦＴ層上に形成された層間絶縁層（不図示）とを有する。
　基材は、パネル１０の支持部材であり、平板状である。基材の材料としては、電気絶縁性を有する材料、例えば、ガラス材料、樹脂材料、半導体材料、絶縁層をコーティングした金属材料などを用いることができる。
　ＴＦＴ層は、基材上面に形成された複数のＴＦＴ及び配線からなる。ＴＦＴは、パネル１０の外部回路からの駆動信号に応じ、自身に対応する画素電極１２と外部電源とを電気的に接続するものであり、電極、半導体層、絶縁層などの多層構造からなる。配線は、ＴＦＴ、画素電極１２、外部電源、外部回路などを電気的に接続している。
　層間絶縁層は、ＴＦＴ層によって凹凸が存在する基板１１の上面の少なくともサブ画素２１を平坦化するものである。また、層間絶縁層は、配線及びＴＦＴの間を埋め、配線及びＴＦＴの間を電気的に絶縁している。層間絶縁層の材料としては、例えば電気絶縁性を有するポジ型の感光性有機材料、具体的には、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、シロキサン系樹脂、フェノール系樹脂などを用いることができる。
　（２）画素電極
　基板１１上の赤色サブ画素２１Ｒの領域に赤色画素電極１２Ｒが、緑色サブ画素２１Ｇの領域に緑色画素電極１２Ｇが、第１青色サブ画素２１ＤＢの領域に第１青色画素電極１２ＤＢが、第２青色サブ画素２１ＬＢの領域に第４画素電極１２ＬＢ（以後、赤色画素電極１２Ｒ、緑色画素電極１２Ｇ、第１青色画素電極１２ＤＢ、第４画素電極１２ＬＢを区別しない場合は、「画素電極１２」と略称する）が各々形成されている。画素電極１２は、発光層１７へキャリアを供給するためのものであり、例えば陽極として機能した場合は、発光層１７へ正孔を供給する。画素電極１２の形状は、平板状であるが、例えば、ＴＦＴとの接続を層間絶縁層に開口したコンタクトホールを通じて行う場合は、コンタクトホールに沿った凹凸部を有する。画素電極１２は、間隙２０のそれぞれにおいて、列方向に間隔をあけて基板１１上に配されている。
　画素電極１２の材料としては、パネル１０がトップエミッション型であるため、光反射性を有する導電材料、例えば銀、アルミニウム、モリブデンなどの金属や、これらを用いた合金などを用いることが好ましい。
　（３）下地層
　下地層１３は、例えば、本実施の形態では正孔注入層であって、画素電極１２の上方に連続したべた膜として形成されている。このように、下地層１３が連続したべた膜として形成されていれば、製造工程の簡略化を図ることができる。
　また、下地層１３は、遷移金属酸化物からなり、正孔注入層として機能する。ここで遷移金属とは、周期表の第３族元素から第１１族元素までの間に存在する元素である。遷移金属の中でも、タングステン、モリブデン、ニッケル、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニオブ、ハフニウム、タンタル等は、酸化した後に高い正孔注入性を有するため好ましい。特に、タングステンは、高い正孔注入性を有する正孔注入層を形成するのに適している。なお、下地層１３は、遷移金属酸化物からなる場合に限定されず、例えば遷移金属の合金等、遷移金属酸化物以外の酸化物からなっていてもよい。また、下地層１３は、正孔注入層に限定されず、画素電極１２と発光層１７との間に形成される層であればどのような層であってもよい。
　（４）第２隔壁
　第２隔壁１４は、発光層１７形成時に、その材料となる有機化合物を含んだインクの列方向への流動を制御するためのものである。第２隔壁１４は、画素電極１２の列方向における周縁部上方に存在し、画素電極１２の一部と重なった状態で形成されている。そのため、上述のとおり列方向における各色サブ画素２１の外縁を規定している。第２隔壁１４の形状は、行方向に延伸する線状であり、列方向の断面は上方を先細りとする順テーパー台形状である。第２隔壁１４は、各第１隔壁１６を貫通するようにして、列方向と直交する行方向に沿った状態で設けられており、各々が第１隔壁１６の上面１６ａよりも低い位置に上面１４ａを有する。
　第２隔壁１４の材料としては、電気絶縁性を有する材料、例えば酸化シリコン、窒化シリコンなどの無機材料、並びに、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、シロキサン系樹脂、フェノール系樹脂など有機材料などを用いることができる。
　（５）第１隔壁
　第１隔壁１６は、発光層１７形成時に、インクが間隙２０内において行方向へ流動することを規制するためのものである。第１隔壁１６は、画素電極１２の行方向における周縁部上方に存在し、画素電極１２の一部と重なった状態で形成されている。そのため、上述のとおり行方向における各色サブ画素２１の外縁を規定している。第１隔壁１６の形状は、列方向に延伸する線状であり、行方向の断面は上方を先細りとする順テーパーの台形状である。第１隔壁１６は、各画素電極１２を行方向から挟むように、且つ、各第２隔壁１４を乗り越えるように、下地層１３上に形成されている。
　第１隔壁１６の材料としては、例えば、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、シロキサン系樹脂、フェノール系樹脂など有機材料などを用いることができる。なお、第１隔壁１６は、有機溶剤への耐性を有し、エッチング処理やベーク処理に対して過度に変形、変質などをしない材料で形成されることが好ましい。また、表面に撥液性をもたせるために、表面をフッ素処理してもよい。
　（６）発光層
　基板１１上の赤色サブ画素２１Ｒ内の赤色画素電極１２Ｒ上方には赤色有機発光層１７Ｒが、緑色サブ画素２１Ｇ内の緑色画素電極１２Ｇ上方には緑色有機発光層１７Ｇが、第１青色サブ画素２１ＤＢ内の第１青色画素電極１２ＤＢ上方には第１青色有機発光層１７ＤＢが、第２青色サブ画素２１ＬＢ内の第４画素電極１２ＬＢ上方には第２青色有機発光層１７ＬＢ（以後、赤色有機発光層１７Ｒ、緑色有機発光層１７Ｇ、第１青色有機発光層１７ＤＢ、第２青色有機発光層１７ＬＢを区別しない場合は、「発光層１７」と略称する）が各々形成されている。発光層１７は、有機化合物からなる層であり、内部で正孔と電子が再結合することで光を発する機能を有する。各発光層１７は、間隙２０内に列方向に延伸するように線状に設けられており、サブ画素２１においては下地層１３の上面１３ａ上に位置し、画素間領域２２においては第２隔壁１４の上面１４ａ及び側面１４ｂ上に位置する。
　ここで、発光層１７は、画素電極１２からキャリアが供給される部分のみが発光する。したがって、図３に示すように、発光層１７のうち、画素電極１２上にあるサブ画素２１の部分のみが発光し、第２隔壁１４上にある画素間領域２２の部分は発光しない。
　なお、図３に示すように、発光層１７は、サブ画素２１だけでなく、隣接する画素間領域２２まで延伸されている。このようにすると、発光層１７の形成時に、サブ画素２１に塗布されたインクが、画素間領域２２に塗布されたインクを通じて列方向に流動でき、列方向のサブ画素２１間でその膜厚を平準化することができる。但し、画素間領域２２では、第２隔壁１４によって、インクの流動が程良く抑制される。よって、列方向に大きな膜厚むらが発生しにくい。
　発光層１７の材料としては、湿式プロセスを用いて成膜できる発光性の有機材料を用いる。具体的には、例えば、オキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、アンスラセン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、８－ヒドロキシキノリン化合物の金属鎖体、２－ビピリジン化合物の金属鎖体、シッフ塩とＩＩＩ族金属との鎖体、オキシン金属鎖体、希土類鎖体等の蛍光物質（いずれも特開平５－１６３４８８号公報に記載）の化合物、誘導体、錯体など、公知の蛍光物質、燐光物質を用いることができる。
　ここで、第１青色有機発光層１７ＤＢ、及び第２青色有機発光層１７ＬＢは同じ材料から構成されていることが好ましい。また、その場合、第１青色有機発光層１７ＤＢの厚さは第２青色有機発光層１７ＬＢの厚さよりも小さく構成されており、例えば、第２青色有機発光層１７ＬＢの厚さは４５ｎｍ以上６５ｎｍ以下であり、第１青色有機発光層１７ＤＢの厚さは４５ｎｍ未満であることが好ましい。
　（７）対向電極
　赤色有機発光層１７Ｒ、緑色有機発光層１７Ｇ、第１青色有機発光層１７ＤＢ及び第２青色有機発光層１７ＬＢの上方に、赤色サブ画素２１Ｒの領域内において赤色画素電極１２Ｒと対向し、緑色サブ画素２１Ｇの領域内において緑色画素電極１２Ｇと対向し、第１青色サブ画素２１ＤＢの領域内において第１青色画素電極１２ＤＢと対向し、第２青色サブ画素２１ＬＢの領域内において第４画素電極１２ＬＢと対向する対向電極１８とを備えている。対向電極１８は、画素電極１２と対になって発光層１７を挟むことで通電経路を作り、発光層１７へキャリアを供給するものであり、例えば陰極として機能した場合は、発光層１７へ電子を供給する。対向電極１８は、各発光層１７の上面１７ａ及び発光層１７から露出する各第１隔壁１６の表面に沿って形成され、各発光層１７に共通の電極となっている。
　対向電極１８の材料としては、パネル１０がトップエミッション型であるため、光透過性を有する導電材料が用いられる。例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）などを用いることができる。
　（８）封止層
　封止層１９は、発光層１７が水分や空気などに触れて劣化することを抑制するためのものである。封止層１９は、対向電極１８の上面を覆うようにパネル１０全面に渡って設けられている。封止層１９の材料としては、パネル１０がトップエミッション型であるため、例えば窒化シリコン、酸窒化シリコンなどの光透過性材料が用いられる。
　（９）カラーフィルタ、その他
　なお、図２及び図３では図示しないが、封止層１９の上にカラーフィルタや上部基板を設置・接合してもよい。これにより、パネル１０の表示色の調整や、剛性向上、水分や空気などの侵入防止などを図ることができる。
　カラーフィルタは、赤色サブ画素２１Ｒの領域である赤色間隙２０Ｒ、緑色サブ画素２１Ｇの領域である緑色間隙２０Ｇ、第１青色サブ画素２１ＤＢの領域である第１青色間隙２０ＤＢ、第２青色サブ画素２１ＬＢの領域である第２青色間隙２０ＬＢの上方に、赤色フィルタ２４Ｒ、緑色フィルタ２４Ｇ、濃青色フィルタである第１青色フィルタ２４ＤＢ、淡青色フィルタである第２青色フィルタ２４ＬＢが各々形成されている。
　カラーフィルタ２４Ｂ、２４Ｇ、２４ＤＢ、２４ＬＢは、Ｒ、Ｇ、ＤＢ、ＬＢに対応する波長の可視光を透過させるために設けられる透明層であり、各色サブ画素から出射された光を透過させて、その色度を矯正する機能を有する。カラーフィルタ２４Ｇ、２４Ｒ、２４ＤＢ、２４ＬＢは、具体的には、例えば、複数の開口部をサブ画素２１単位に行列状に形成した隔壁が設けられたカラーフィルタ形成用のカバーガラスに対し、カラーフィルタ材料および溶媒を含有したインクを塗布する工程により形成される。
　ここで、第２青色フィルタ２４ＬＢは、第１青色フィルタ２４ＤＢよりも波長６００～８００ｎｍの透過率が高く構成されている。例えば、第１青色フィルタの波長６００～８００ｎｍの透過率は０．５以下であり、第２青色フィルタの透過率は０．７以上であることが好ましい。
　２．有機ＥＬ表示パネルの製造方法
　パネル１０の製造方法について図６及び図７を用いて説明する。図６は、有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示すＡ－Ａ断面模式図である。図７は、有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示すＢ－Ｂ断面模式図である。
　（１）基板準備工程
　まず、基板１１を用意する。具体的には、例えば、基材にスパッタリング法、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｖａｐｏｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、スピンコート法などによって必要な膜を形成し、フォトリソグラフィー法によって膜をパターニングすることでＴＦＴ層及び層間絶縁層を形成する。この際、必要に応じて、プラズマ処理、イオン注入、ベーキングなどの処理を行ってもよい。
　（２）画素電極形成工程
　次に、基板１１上に画素電極１２を形成する。具体的には、例えば、まず真空蒸着法又はスパッタリング法によって基板１１上に金属膜を形成する。次に、フォトリソグラフィー法によって金属膜をパターニングし、基板１１上に間隔をあけて列方向に画素電極１２を複数並べ、さらにそのような画素電極１２の列を複数並設する。このようにして、基板１１上に二次元配置された画素電極１２を形成する。
　（３）下地層形成工程
　次に、図６（ａ）及び図７（ａ）に示すように、画素電極１２を形成後の基板１１上に下地層１３を形成する。具体的には、例えば、スパッタリング法により全ての画素電極１２を覆い隠すようにべた膜の酸化物層（下地層１３）を基板１１上に成膜する。
　（４）第２隔壁形成工程
　次に、図７（ｂ）に示すように、下地層１３上に第２隔壁１４を形成する。具体的には、例えば、ＣＶＤ法によって下地層１３上に、無機絶縁膜（酸化シリコンなど）を形成する。そして、フォトリソグラフィー法によって無機絶縁膜をパターニングし、画素電極１２行のそれぞれを挟む位置に、行方向に延伸するように線状の第２隔壁１４を形成する。
　第２隔壁１４を形成後は、第２隔壁１４の親液性を高めるために、まずは上方からＵＶを照射し、その後ベーク処理を行う。
　（５）第１隔壁形成工程
　次に、図６（ｂ）及び図７（ｃ）に示すように、下地層１３上の一部及び第２隔壁１４上の一部に第１隔壁１６を形成する。具体的には、例えば、スピンコート法によって、ポジ型の感光性有機材料（アクリル系樹脂など）を塗布する。この際、塗布した材料の膜厚は第２隔壁１４の膜厚よりも大きくする。そして、フォトリソグラフィー法によって感光性有機材料をパターニングし、画素電極１２列のそれぞれを挟む位置に、列方向に延伸するように線状の第１隔壁１６を形成する。
　なお、印刷法などによって直接第１隔壁１６を形成してもよい。また、第１隔壁１６に対し、アルカリ性溶液、水、有機溶媒、プラズマなどによる表面処理を行って、第１隔壁１６の表面に以降の工程で塗布するインクに対する撥液性を付与してもよい。このようにすることで、以降の発光層形成工程で、インクが第１隔壁１６を超えて流動することを抑制できる。
　なお、この工程により、隣り合う第１隔壁１６間の間隙２０が形成され、画素２１と画素間領域２２とがなす列は、それぞれ間隙２０内に存在することになる。
　（６）発光層形成工程
　次に、図６（ｃ）及び図７（ｄ）に示すように、間隙２０内にインク１７Ａを塗布する。具体的には、例えば、発光層１７の材料となる有機化合物と溶媒とを所定の比率で混合してインク１７Ａを作成し、インクジェット法を用いて、このインク１７Ａを間隙２０内に塗布する。インク１７Ａの上面が、第２隔壁１４の上面１４ａよりも高くなるよう塗布することで、第２隔壁１４を乗り越えるインク１７Ａの流動を可能にしている。そして、インク１７Ａに含まれる溶媒を蒸発乾燥させることにより、発光層１７を形成する。なお、インク１７Ａの塗布方法としては、ディスペンサー法、ノズルコード法、スピンコート法、印刷法などを用いてもよい。発光層１７が第２隔壁１４の上方で途切れるのを防止するために、インク１７Ａは第２隔壁１４の表面（上面１４ａ及び側面１４ｂ）に対して濡れ性の良いものが好ましい。
　また、本実施の形態では、発光層１７は、赤、緑、濃青、淡青の４色のサブ画素２１を有するため、それぞれ異なるインク１７Ａを用いて形成する。具体的には、例えば、赤、緑、濃青、淡青のいずれかに対応するインク１７Ａのみを吐出するノズル（吐出口）を用いて、４色のインク１７Ａを順に塗布する方法や、赤、緑、濃青、淡青の各色に対応するインク１７Ａを同時に吐出可能な４連ノズルを用いて、４色のインク１７Ａを同時に塗布する方法などがある。
　パネル１０では、第１青色有機発光層１７ＤＢと第２青色有機発光層１７ＬＢは同じ材料から構成することが好ましい。第１青色有機発光層１７ＤＢと第２青色有機発光層１７ＬＢのインク１７を同時に塗布することができ製造が容易となり低コスト化に資するからである。また、第１青色間隙２０ＤＢに塗布するインクの量を制御して第２青色間隙２０ＬＢに塗布するインクの量よりも少なくすることにより、第１青色有機発光層１７ＤＢの厚さを第２青色有機発光層１７ＬＢの厚さよりも小さく構成することができる。この場合、塗布するインクの量を設定により形成する第２青色間隙２０ＬＢの膜厚を制御することができる。第１青色有機発光層１７ＤＢについても同様である。
　また、ラインバンクを採用したパネル１０であるため、同色のインク１７Ａのみを吐出する複数のノズルを列方向に並べ、列方向と交差する方向に移動させながら、間隙２０内へインク１７Ａを吐出して発光層１７を形成する方法が好ましい。この方法によると、まず複数のノズルを用いるため、インク１７Ａの塗布時間が短くなり工程を短縮できる。次に、複数のノズルから吐出されたインク１７Ａが間隙２０で列方向に連結するため、各ノズルのインク１７Ａの吐出量がばらついても、その後にインク１７Ａが列方向へ流動でき、塗布量が平準化されることで、画素２１間の膜厚むら、すなわち輝度むらの発生を低減できる。
　塗布したインク１７Ａが乾燥すると、図６（ｄ）及び図７（ｅ）に示すように、間隙２０に発光層１７が形成される。間隙２０では、第２隔壁１４に被覆されていない下地層１３が存在する画素２１と、第２隔壁１４が存在する画素間領域２２とに跨って線状の発光層１７を形成することができる。
　（７）対向電極形成工程
　その後、各発光層１７の上面１７ａ及び発光層１７から露出する各第１隔壁１６の表面に沿って、対向電極１８を形成する。具体的には、例えば、真空蒸着法又はスパッタリング法などによって、各発光層１７の上面１７ａ及び発光層１７から露出する各第１隔壁１６の表面に沿って、ＩＴＯ、ＩＺＯなどの光透過性導電材料からなる膜を形成する。
　（８）封止層形成工程
　次に、対向電極１８の上面を覆う封止層１９を形成する。具体的には、例えば、スパッタリング法又はＣＶＤ法によって、対向電極１８上に無機絶縁膜（酸化シリコンなど）を形成する。
　３．有機ＥＬ表示パネルの要部構成
　（１）第２青色サブ画素における発光効率の改善
　各色サブ画素２１において、画素電極１２と対抗電極１８との間に各色の発光層１７が存在し、以下のように、発光層１７からの光を共振させて対抗電極１８側から出射させる光共振器構造が形成されている。発光層１７において発生した光は、対抗電極１８から外部に出射されるが、その光には、発光層１７から対抗電極１８に向けて直接出射される「直接光」と、発光層１７から画素電極１２に向けて出射され、画素電極１２で反射されてから対抗電極１８に向かう「反射光」の両方の成分が含まれる。
　図８は、パネル１０に形成された光共振器構造における直接光と反射光を示す図である。なお、当図では青色の発光層１７ＤＢ、１７ＬＢを有する青色素子を示しているが、赤色、緑色の素子においても同様である。
　パネル１０の光共振器構造においては、発光層１７から出射された光の一部が、画素電極１２側に進行することなく対向電極１８側に進行し、対向電極１８を通じて有機発光素子の外部に出射される第１光路Ｃ１と、発光層１７から出射された光の残りの一部が画素電極１２側に進行し、画素電極１２により反射された後発光層１７および対向電極１８を通じて有機発光素子の外部に出射される第２光路Ｃ２とが形成される。
　この直接光と反射光との干渉によって、各色に対応する光成分が強め合うように、発光層１７上面と画素電極１２上面との間の光学距離ＬＤＢ、ＬＬＢが設定されている。具体的には、上述のとおり、第１青色有機発光層１７ＤＢの厚さは第２青色有機発光層１７ＬＢの厚さよりも小さい。例えば、第２青色有機発光層１７ＬＢの厚さは４５ｎｍ以上６５ｎｍ以下であり、第１青色有機発光層１７ＤＢの厚さは４５ｎｍ未満である。そのため、発光層１７上面と画素電極１２上面との間の光学距離は、第１青色サブ画素２１ＤＢにおける光学距離ＬＤＢが第２青色サブ画素２１ＬＢにおける光学距離ＬＬＢよりも小さい構成となる。
　これにより、第１青色サブ画素２１ＤＢ及び第２青色サブ画素２１ＬＢにおいて、第１光路Ｃ１と第２光路Ｃ２との長さの差に違いが生じ、第１青色サブ画素２１ＤＢと第２青色サブ画素２１ＬＢとの間で、直接光と反射光により強め合う光の波長と弱め合う光の波長に違いが生じる。その結果、第１青色サブ画素２１ＤＢと第２青色サブ画素２１ＬＢとから対向電極１８上方に出射される光のＣＩＥ色度のｙ値は、第１青色サブ画素２１ＤＢから出射される光のＣＩＥ色度のｙ値が第２青色サブ画素２１ＬＢから出射される光のＣＩＥ色度のｙ値よりも小さい特性を有する。
　これを検証するために、第２青色サブ画素２１ＬＢにおいて光学距離ＬＬＢを異ならせて、サブ画素から放出される光の色とサブ画素の発光効率との関係を調べた。図９は、第２青色サブ画素２１ＬＢにおけるサブ画素から放出される光の色とサブ画素の発光効率との関係を示す特性図である。各プロットは、光学距離ＬＬＢを４５ｎｍから９４ｎｍまで異ならせた場合の実験結果を表す。このとき、第２青色有機発光層１７ＬＢの膜厚を４５ｍ、から６５ｍｍまで異ならせる構成を採った。膜厚は、４５ｍ、５５ｎｍ、６５ｍｍ該順にＮｏ．１、Ｎｏ．２、Ｎｏ．３とし、各番号を各プロットの添え字として表記した。併せて、下地層１３の膜厚を０ｎｍ（下地層１３なし）から２９ｍｍまで異ならせる構成を採った。下地層１３の膜厚は各プロットの形状として表記した。これらにより図中のマトリックス部分に示すように光学距離ＬＬＢを４５ｎｍから９４ｎｍまで異ならせる構成とした。図中の曲線は第２青色サブ画素２１ＬＢから出射される光のＣＩＥ色度のｙ値を変化させたとき、ＩＥＣ動画基準における消費電力が同等になるために必要な効率を示す基準曲線である。
　図９に示すとおり、光学距離ＬＬＢを４５ｎｍから９４ｎｍまで増加するにしたがって、第２青色サブ画素２１ＬＢから放出される光の色のｙ値は増加する。また、ｙ値が０．１８以下の範囲では、ｙ値と発光効率との関係を示す基準曲線よりも発光効率が高い（領域Ｆ）が、ｙ値が０．１８を超えて増加すると基準曲線よりも発光効率が低下する（領域Ｇ）。
　すなわち、第２青色サブ画素２１ＬＢから放出される淡青色光のｙ値が０．１８以下である光学距離ＬＬＢが４５ｎｍ以上６５ｎｍ以下である場合（図９中において＊を付した場合）に、第２青色サブ画素２１ＬＢとして比較的発光効率を低めに設定しても基準曲線を上回ることができる。すなわち、第２青色有機発光層１７ＬＢ上面１７ａと第４画素電極１２ＬＢ上面との垂直方向の距離が４５ｎｍ以上６５ｎｍ以下である場合に、第２青色サブ画素２１ＬＢとして比較的発光効率を低めに設定しても基準曲線を上回ることができる。これにより、色再現範囲確保の理由から第１青色サブ画素２１ＤＢから放出される濃青色光のｙ値が好ましくは０．０６、最大で０．１未満である点を考慮すると、第２青色サブ画素２１ＬＢから放出される淡青色光のｙ値は０．１以上０．１８以下とするであることが好ましい。この範囲とすることで、パネル１０において第２青色サブ画素２１ＬＢを用いることによる電力削減効果を得ることができる。
　また、第１青色サブ画素２１ＤＢから放出される濃青色光のｙ値０．１未満とし、第２青色サブ画素２１ＬＢから放出される淡青色光のｙ値は０．１以上０．１８以下とするために、下地層１３を用いないか又は数ｎｍ程度に薄く構成した場合には、第１青色有機発光層１７ＤＢの厚さは４５ｎｍ未満であり、第２青色有機発光層１７ＬＢの厚さは４５ｎｍ以上６５ｎｍ以下であることが好ましい。
　（２）フィルタを用いた場合の色純度と発光効率の向上
　パネル１０は、上述のとおり、対向電極１８上方の第１青色サブ画素２１ＤＢ内に、当該サブ画素領域内にある第１青色有機発光層１７ＤＢの発する青色光のＣＩＥ色度のｙ値を低下させる第１フィルタ２４ＤＢを備える構成としてもよい。この構成により、第１青色サブ画素２１ＤＢでは、第１青色有機発光層１７ＤＢから発された濃青色光が第１フィルタ２４ＤＢに向けて出射され、第１フィルタ２４ＤＢに向けて出射された濃青色光は第１フィルタ２４ＤＢにて濃青色以外の色成分が吸収され色純度を増した濃青色光として上方に出射される。その結果、第１青色有機発光層１７ＤＢから外部へ出射される濃青色光も色純度が高めることができる。
　さらに、パネル１０は、対向電極１８上方の第２青色サブ画素２１ＬＢ内に、第１フィルタ２４ＤＢよりも波長３００～８００ｎｍの透過率が高い第２フィルタ２４ＬＢを備える構成としてもよい。このとき、第１フィルタ２４ＤＢの波長３００～８００ｎｍの透過率は０．５以下であり、第２フィルタ２４ＬＢの透過率は０．７以上であることが好ましい。この構成により、第２青色サブ画素２１ＬＢでは、第２青色有機発光層１７ＬＢから発された淡青色光が第２フィルタ２４ＬＢに向けて出射され、第２フィルタ２４ＬＢに向けて出射された淡青色光は第２フィルタ２４ＬＢにて淡青色以外の色成分が吸収され色純度を増した淡青色光として上方に出射される。その結果、第２青色有機発光層１７ＬＢから外部へ出射される淡青色光も色純度が高めることができる。
　これにより、パネル１０では、第１青色サブ画素２１ＤＢにおいて第１フィルタ２４ＤＢから上方に出射される光の色は、第２青色サブ画素２１ＬＢにおいて第２フィルタ２４ＬＢから上方に出射される光の色よりもＣＩＥ色度のｙ値が小さい特性を示す。具体的には、第１青色サブ画素において第１フィルタ２４ＤＢから上方に出射される光をＣＩＥ色度のｙ値は０．１未満であり、第２青色サブ画素において第２フィルタ２４ＬＢから上方に出射される光をＣＩＥ色度のｙ値は０．１以上０．１８以下となる。
　また、パネル１０では、第１青色有機発光層１７ＤＢと第２青色有機発光層１７ＬＢから出射される光の色が異なる構成としたことにより、仮に両発光層から出射される光の色が同じである構成とした場合と比べて、第１フィルタ２４ＤＢ及び第２フィルタ２４ＬＢによって吸収される光の光量を減少することができ、サブ画素の発光効率を向上することができる。
　４．表示装置１におけるパネル１０の駆動方法
　以上のような構成のパネル１０は、表示装置１において次のように駆動する。図１０は表示装置１の色再現範囲をＣＩＥ色度図上に示した特性図である。例えば、図１０に示した色度座標系であれば、４種類のサブ画素２１から放出される各色光のうち、赤色サブ画素２１Ｒから放出される赤色光、緑色サブ画素２１Ｇから放出される緑色光、、第２青色サブ画素２１ＬＢから放出される淡青色光により色表現可能な表示範囲（図１０の斜線部Ｄ）においては、第１青色サブ画素２１ＤＢを使用せず、これらの光が得られる３画素のみを駆動して表示を行う。また、第１青色サブ画素２１ＤＢから放出される濃青色光を用いないと表現できない表示範囲（図１０の格子部Ｅ）においては、第１青色サブ画素２１ＤＢから放出される淡青色光を使用せず、赤色サブ画素２１Ｒ、緑色サブ画素２１Ｇ、第１青色サブ画素２１ＤＢの３画素のみを駆動して表示を行う。
　５．効　果
　以上、説明したとおり、実施の形態に係るパネル１０では、赤色サブ画素２１Ｒ、緑色サブ画素２１Ｇ、濃青色光を発する第１青色サブ画素２１ＤＢ、及び淡青色光を発する第２青色サブ画素２１ＬＢを含む画素２３を複数有し、第１青色サブ画素の領域内に、基板側から順に配された、第１青色画素電極１２ＤＢ、第１青色有機発光層１７ＤＢと、基板上の第２青色サブ画素の領域内に、基板側から順に配された、第２青色画素電極１２ＬＢ、第２青色有機発光層１７ＬＢとを備え、第１青色有機発光層１７ＤＢ及び第２青色有機発光層１７ＬＢは同じ材料から構成されており、基板１１と垂直な方向において、第１青色有機発光層１７ＤＢ上面と第１青色画素電極１２ＤＢ上面との距離は、第２青色有機発光層１７ＬＢ上面と第２青色画素電極１２ＬＢ上面との距離よりも小さい構成とした。これにより、パネル１０では、ｙ値が高い淡青色に発光する第２青色サブ画素２１ＬＢにおいて、有機発光層から出射される直接光と反射光との光路長差を、濃青色に発光する第１青色サブ画素２１ＤＢと異ならせて、両画素の有機発光層から出射される光の色を異ならせる構成と採る。
　そのため、第２青色サブ画素２１ＬＢの光の取り出し効率を向上することができ、従来に比べさらなる発光効率を向上することができる。また、発光効率の向上により低電流化を図れ、第２青色サブ画素２１ＬＢの輝度半減寿命を増加することができる。その結果、第２青色サブ画素２１ＤＢにおける駆動時の消費電力の低減に伴うさらなる発光効率の向上と有機ＥＬ素子の高寿命化を図ることができる。
　また、表示装置１において、濃青色光を放出する第１青色サブ画素２１ＤＢと、それよりも発光効率の高い淡青色光を放出する第２青色サブ画素２１ＬＢとを制御して画像表示させることで、従来により一層消費電力を抑制することが可能となる。例えば、濃い青色が必要でない画像を出力するときは、より一層発光効率の高い淡青色光を放出する第２青色サブ画素２１ＬＢのみを発光させて画像表示することができる。さらに、第２青色サブ画素２１ＬＢは第１青色サブ画素２１ＤＢと比べて輝度半減寿命が長いので、第２青色サブ画素２１ＬＢの使用比率を高めることにより表示装置１の長寿命化を図ることができる。
　また、表示装置１では、第１青色サブ画素２１ＤＢから出射される濃青色光と第２青色サブ画素２１ＬＢから出射される濃青色光淡青色光とを、表示すべき画像に応じて使い分けることにより、全体として出射される青色光の色純度を向上し、色再現範囲を拡大することができる。
　≪変形例≫
　実施の形態１では、本発明の一態様に係るパネル１０を説明したが、本発明は、その本質的な特徴的構成要素を除き、以上の実施の形態に何ら限定を受けるものではない。例えば、各実施の形態に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態や、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で各実施の形態における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本発明に含まれる。以下では、そのような形態の一例として、パネル１０の変形例を説明する。
　１．フィルタがない構成
　実施の形態１に係るパネル１０では、第１青色サブ画素２１ＤＢである第１青色間隙２０ＤＢ、第２青色サブ画素２１ＬＢである第２青色間隙２０ＬＢの上方に、濃青色フィルタである第１青色フィルタ２４ＤＢ、淡青色フィルタである第２青色フィルタ２４ＬＢが各々形成されている構成とした。しかしながら、例示したパネル１０において、第１青色サブ画素２１ＤＢである第１青色間隙２０ＤＢ上方にのみ濃青色フィルタ設け、第２青色サブ画素２１ＬＢである第２青色間隙２０ＬＢの上方には第２青色フィルタ２４ＬＢを設けない構成としてもよい。この場合も、第１青色サブ画素２１ＤＢから放出される濃青色光のｙ値０．１未満とし、第２青色サブ画素２１ＬＢから放出される淡青色光のｙ値は０．１以上０．１８以下とするために、下地層１３を用いないか又は数ｎｍ程度に薄く構成した場合には、第１青色有機発光層１７ＤＢの厚さは４５ｎｍ未満であり、第２青色有機発光層１７ＬＢの厚さは４５ｎｍ以上６５ｎｍ以下であることが好ましい。これにより、第２青色間隙２０ＬＢの上方に第２青色フィルタ２４ＬＢを設けた場合に比べて第２青色サブ画素２１ＬＢの発光効率を向上できる。その結果、濃青色サブ画素と淡青色サブ画素とを制御して画像表示させることでパネル１０の消費電力をさらに抑制し、第２青色サブ画素２１ＬＢの輝度半減寿命をより一層増加させることができる。
　２．下地層がない構成他
　上記実施の形態１では、画素電極１２と対向電極１８の間に、及び発光層１７のみが存在する構成であったが、本発明はこれに限られない。例えば、正孔注入層である下地層１３を用いずに、画素電極１２と対向電極１８の間に発光層１７のみが存在する構成としてもよい。この場合には、第１青色有機発光層１７ＤＢの厚さは４５ｎｍ未満であり、第２青色有機発光層１７ＬＢの厚さは４５ｎｍ以上６５ｎｍ以下であることが好ましい。これにより、第２青色サブ画素２１ＬＢの発光効率を向上でき第２青色サブ画素２１ＬＢの寿命を向上させることができる。
　また、例えば、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層などを備える構成や、これらの複数又は全部を同時に備える構成であってもよい。また、これらの層はすべて有機化合物からなる必要はなく、無機物などで構成されていてもよい。
　３．その他の変形例
　また、上記実施の形態１では、画素２１には、赤色画素２１Ｒ、緑色画素２１Ｇ、青色画素２１Ｂの３種類があったが、本発明はこれに限られない。例えば、発光層が１種類であってもよいし、発光層が赤、緑、青、黄色に発光する４種類であってもよい。
　また、上記実施の形態１では、画素２１が、マトリクス状に並んだ構成であったが、本発明はこれに限られない。例えば、画素領域の間隔を１ピッチとするとき、隣り合う間隙同士で画素領域が列方向に半ピッチずれている構成に対しても、本発明は効果を有する。高精細化が進む表示パネルにおいて、多少の列方向のずれは視認上判別が難しく、ある程度の幅を持った直線上（あるいは千鳥状）に膜厚むらが並んでも、視認上は帯状となる。したがって、このような場合も輝度むらが上記千鳥状に並ぶことを抑制することで、表示パネルの表示品質を向上できる。
　また、上記実施の形態１では、発光層１７の形成方法としては、印刷法、スピンコート法、インクジェット法などの湿式成膜プロセスを用いる構成であったが、本発明はこれに限られない。例えば、真空蒸着法、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーティング法、気相成長法等の乾式成膜プロセスを用いることもできる。
　また、上記実施の形態１に係るパネル１では、すべての間隙２０に画素電極１２が配されていたが、本発明はこの構成に限られない。例えば、バスバーなどを形成するために、画素電極１２が形成されない間隙２０が存在してもよい。
　また、上記実施の形態１では、パネル１０がトップエミッション型の構成であったが、ボトムエミッション型を採用することもできる。その場合には、各構成について、適宜の変更が可能である。
　また、上記実施の形態１では、パネル１０がアクティブマトリクス型の構成であったが、本発明はこれに限られず、例えば、パッシブマトリクス型の構成であってもよい。具体的には、第１隔壁の延伸方向と平行な線状の電極と、第１隔壁の延伸方向と直交する線状の電極とを発光層を挟むようにそれぞれ複数並設すればよい。このとき、第１隔壁の延伸方向と直交する線状の電極を下部側とすれば、各間隙では、複数の下部側の電極が、互いに間隔をあけて第１隔壁の延伸方向に並び、本発明の一態様となる。その場合には、各構成について、適宜の変更が可能である。なお、上記実施の形態１では、基板１１がＴＦＴ層を有する構成であったが、上記パッシブマトリクス型の例などから分かるように、基板１１はＴＦＴ層を有する構成に限られない。
　本発明に係る有機ＥＬ表示パネル、及び有機ＥＬ表示装置は、テレビジョンセット、パーソナルコンピュータ、携帯電話などの装置、又はその他表示パネルを有する様々な電子機器に広く利用することができる。
　１　　有機ＥＬ表示装置
　１０　有機ＥＬ表示パネル
　１１　基板
　１２　画素電極
　１３　下地層
　１４　第２隔壁
　１６　第１隔壁
　１７　発光層
　１８　対向電極
　１９　封止層
　２０　間隙
　２１　サブ画素
　２２　画素間領域
　２３　画素
　２４　フィルタ

Claims (10)

  1. 　赤色光を発する赤色サブ画素、緑色光を発する緑色サブ画素、濃青色光を発する第１青色サブ画素、及び淡青色光を発する第２青色サブ画素を含む画素が複数行列状に配された有機ＥＬ表示パネルであって、
    　基板と、
    　前記基板上の前記第１青色サブ画素の領域内に、前記基板側から順に設けられた、第１青色画素電極、第１青色有機発光層と、
    　前記基板上の前記第２青色サブ画素の領域内に、前記基板側から順に設けられた、第２青色画素電極、第２青色有機発光層とを備え、
    　前記第１青色有機発光層及び前記第２青色有機発光層は同じ材料から構成されており、
    　前記基板平面と垂直な方向において、前記第１青色有機発光層上面と前記第１青色画素電極上面との距離は、前記第２青色有機発光層上面と前記第２青色画素電極上面との距離よりも小さい
    　有機ＥＬ表示パネル。
  2. 　前記第１青色有機発光層の厚さは、前記第２青色有機発光層の厚さよりも小さい
    　請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネル。
  3. 　前記第１青色有機発光層の厚さは４５ｎｍ未満であり、前記第２青色有機発光層の厚さは４５ｎｍ以上６５ｎｍ以下である
    　請求項２に記載の有機ＥＬ表示パネル。
  4. 　前記第１青色サブ画素から出射される光のＣＩＥ色度のｙ値が前記第２青色サブ画素から出射される光の色のＣＩＥ色度のｙ値よりも小さい
    　請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネル。
  5. 　前記第１青色有機発光層上方に、前記第１青色有機発光層の発する光のＣＩＥ色度のｙ値を低下させる第１フィルタを備える
    　請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネル。
  6. 　前記第２青色有機発光層上方に、前記第１フィルタよりも波長６００～８００ｎｍの光の透過率が高い第２フィルタを備える
    　請求項５に記載の有機ＥＬ表示パネル。
  7. 　前記第１フィルタの波長３００～８００ｎｍの光の透過率は０．５以下であり、前記第２フィルタの透過率は０．７以上である
    　請求項６に記載の有機ＥＬ表示パネル。
  8. 　前記第１青色サブ画素において前記第１フィルタから上方に出射される光の色は、前記第２青色サブ画素において前記第２フィルタから上方に出射される光の色よりもＣＩＥ色度のｙ値が小さい
    　請求項６に記載の有機ＥＬ表示パネル。
  9. 　前記第１青色サブ画素において前記第１フィルタから上方に出射される光をＣＩＥ色度のｙ値は０．１未満であり、前記第２青色サブ画素において前記第２フィルタから上方に出射される光をＣＩＥ色度のｙ値は０．１以上０．１８以下である
    　請求項６に記載の有機ＥＬ表示パネル。
  10. 　赤色光を発する赤色サブ画素、緑色光を発する緑色サブ画素、濃青色光を発する第１青色サブ画素、及び淡青色光を発する第２青色サブ画素を含む画素が複数行列状に配された有機ＥＬ表示パネルの製造方法であって、
    　基板上の前記第１青色サブ画素領域内に、前記基板側から順に、第１青色画素電極、第１青色有機発光層とを形成し、前記基板上の前記第２青色サブ画素領域内に、前記基板側から順に、第２青色画素電極、前記第１青色有機発光層と同じ材料から構成されている第２青色有機発光層を形成する工程を含み、
    　前記第１及び第２青色有機発光層を形成する工程では、前記基板上面と垂直な方向において、前記第１青色有機発光層上面と前記第１青色画素電極上面との距離は、前記第２青色有機発光層上面と前記第２青色画素電極上面との距離よりも小さく形成する
    　有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
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