WO2015033974A1 - スピロオキシインドール誘導体の製造方法 - Google Patents

スピロオキシインドール誘導体の製造方法 Download PDF

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元志 山内
中山　敬司
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Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a pyrrolidine compound having a spirooxindole structure.
  • Non-Patent Documents 1-4 As a method for synthesizing a pyrrolidine compound having a bicyclic spirooxindole structure, aldimine synthesized from aldehyde and amine as raw materials is used as a reaction substrate, and in the presence or absence of a catalyst for promoting the reaction, 1,3 -A method of synthesizing a racemate by dipolar cycloaddition reaction is known (Non-Patent Documents 1-4). The obtained racemic compound can be separated into a desired optically active substance by a chiral column using a technique such as HPLC or supercritical fluid chromatography (SFC).
  • SFC supercritical fluid chromatography
  • Non-Patent Documents 5 and 6 As a stereoselective synthesis method of the above compound, an asymmetric synthesis method using a 1,3-dipolar cycloaddition reaction using a chiral element has been reported (Non-Patent Documents 5 and 6). Furthermore, a method for producing a pyrrolidine compound having a tricyclic dispirooxindole structure by conducting a 1,3-dipole addition reaction using ketimine synthesized from amine and ketone as raw materials as a reaction substrate has also been reported. (Patent Document 1).
  • the present invention relates to a compound having a spiro oxindole skeleton, such as a compound having a spiro oxindole skeleton and an antitumor activity that inhibits the interaction between Mdm2 protein and p53 protein, or an intermediate thereof, using an asymmetric catalyst. It provides a method of manufacturing and providing a system.
  • the present inventors have promoted a catalytic asymmetric 1,3-dipolar cycloaddition reaction using ketimine as a reaction substrate, an asymmetric ligand, a Lewis acid serving as a central metal thereof, and an optimal reaction.
  • ketimine as a reaction substrate
  • an asymmetric ligand as a reaction substrate
  • Lewis acid serving as a central metal thereof
  • an optimal reaction By screening the conditions, an efficient synthesis method of a compound having an optically active tricyclic dispiroindole skeleton was established.
  • R 1 is a hydrogen atom, a C 1 -C 6 alkylcarbonyl group which may have 1 to 3 substituents independently selected from the following group A, or a substituent independently selected from the following group A 1 Thru
  • R 2 is a 5- or 6-membered heteroaryl group having 1 to 3 heteroatoms in the ring independently selected from the group consisting of a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom, a phenyl group, C 3 -C 6 cycloalkyl group, or C 3 -C 6 cycloalkenyl group, wherein The 5-membered or 6-membered heteroaryl group, the phenyl group, the C 3 -C 6 cycloalkyl group, and the C 3 -C 6 cycloalkenyl group include a
  • R 5 has a C 1 -C 6 alkoxy group which may have 1 to 3 substituents independently selected from the following group E, and 1 to 3 substituents independently selected from the following group E
  • An optionally substituted C 3 -C 8 cycloalkoxy group, a C 2 -C 6 alkenyloxy group, or —NR 51 R 52 , R 51 and R 52 are each independently a hydrogen atom, a C 1 -C 6 alkyl group optionally having 1 to 3 substituents independently selected from the following group E, and independently selected from the following group E
  • a C 3 -C 8 cycloalkyl group optionally having 1 to 3 substituents, or a nitrogen atom, oxygen optionally having 1 to 3 substituents independently selected from the following group E
  • a 3- to 6-membered saturated heterocyclic group having one heteroatom in the ring independently selected from the group consisting of an atom and a sulfur atom; Ring Z may have 1 to 4 substituents independently selected from the following group E, and pyridine
  • Group A halogen atom, hydroxy group, C 1 -C 6 alkyl group, amino group, phenyl group B group: C 1 -C 6 alkyl group, hydroxy group C group: halogen atom, hydroxy group, phenyl group, pyridyl group, Amino group D: halogen atom, C 1 -C 6 alkyl group optionally having 1 to 3 halogen atoms, Group E: a halogen atom, hydroxy group, a vinyl group, an ethynyl group, a cyano group, C 1 -C 6 alkoxy group, an amino group, a halogen atom and 1 to 3 have good C 1 -C be the 6 alkyl group (2) Compound represented by formula (I):
  • the asymmetric catalyst is a catalyst prepared from a Lewis acid and an asymmetric ligand,
  • the Lewis acid is Zn (II) Lewis acid, Ag (I) Lewis acid, Ni (II) Lewis acid, Co (II) Lewis acid, Ru (I) Lewis acid, Cu (I) Lewis acid, and Cu ( II) one Lewis acid selected from the group consisting of Lewis acids,
  • the compound in which the asymmetric ligand is represented by the following formula (VI):
  • R 6 represents a phenyl group optionally having 1 to 3 substituents independently selected from the following group F;
  • Ring Y represents a benzene ring, a cyclohexane ring, or a dioxolane ring optionally having 1 to 4 halogen atoms,
  • R 7 may have a phenyl group which may have 1 to 3 substituents independently selected from the following G group, or may have 1 to 3 substituents independently selected from the following G group.
  • R 8 represents a hydrogen atom or a C 1 -C 6 alkoxy group
  • R 9 represents a C 1 -C 6 alkoxy group
  • Two R 9 groups may form a 7 to 12 membered heterocyclic ring containing two oxygen atoms in the ring
  • X represents CH, CR 10 , or a nitrogen atom
  • R 10 represents a C 1 -C 6 alkoxy group
  • V represents a phenyl group having one P (R 11 ) 2 , PH (O) R 12 , or P (R 11 ) 2
  • R 11 represents a C 1 -C 6 alkyl group, a cyclohexyl group, or a phenyl group optionally having two trifluoromethyl groups
  • R 12 represents a C 1 -C 6 alkyl group or a phenyl group
  • W is a C 1 -C 6 alkylthio group, a dihydrooxazolyl group optionally having one C 1 -
  • R 13 represents a cyclohexyl group, a C 1 -C 6 alkyl group, or a phenyl group optionally having 1 or 2 substituents independently selected from the following group H;
  • R 14 represents a phenyl group which may be substituted with one P (R 16 ) 2 ;
  • R 15 represents a C 1 -C 6 alkyl group or a di C 1 -C 6 alkylamino group,
  • R 16 represents a phenyl group or a cyclohexyl group,
  • U represents any one of the following U a to U d ,
  • R 17 represents a phenyl group optionally having 1 to 3 substituents independently selected from the following group F;
  • R 18 represents a C 1 -C 6 alkyl group or a phenyl group,
  • R 19 represents a hydrogen atom or a C 1 -C 6 alkyl group,
  • R 20 and R 21 each independently represents a C 1 -C 6 alkyl group.
  • Group F C 1 -C 6 alkyl group, C 1 -C 6 alkoxy group
  • G group C 1 -C 6 alkyl group, C 1 -C 6 alkoxy group, diC 1 -C 6 alkylamino group
  • H group C 1 -C 6 alkyl group, C 1 -C 6 alkyl group optionally having 3 halogen atoms
  • the Lewis acid used for the preparation of the asymmetric catalyst is Cu (I) Lewis acid, or Cu (II ) The production method according to any one of (1) to (3), which is a Lewis acid.
  • selected Lewis acid used in the preparation of the asymmetric catalyst is, CuOAc, CuCl, CuBr, CuI , CuOTf, CuPF 6, CuBF 4, Cu (OAc) 2, Cu (OTf) 2, and from the group consisting of CuSO 4
  • the asymmetric ligand used for the preparation of the asymmetric catalyst is a compound represented by the formula (V), a compound represented by the formula (VI), a compound represented by the formula (VII), VIII), one compound selected from the group consisting of the compound represented by the formula (IX), the compound represented by the formula (X), and the compound represented by the formula (XI).
  • R 6 represents a phenyl group optionally having 1 to 3 substituents independently selected from the group consisting of a methyl group, a t-butyl group, and a methoxy group;
  • Ring Y represents a benzene ring, a cyclohexane ring, or a dioxolane ring,
  • R 7 represents a phenyl group or a furanyl group, The phenyl group and the furanyl group may have 1 to 3 substituents independently selected from the group consisting of a methyl group, a t-butyl group, and a methoxy group,
  • R 8 represents a hydrogen atom or a methoxy group,
  • R 9 represents a methoxy group or Two R 9 groups may form a 9-membered heterocyclic ring
  • the solvent used in the reaction is one or more solvents selected from the group consisting of N, N-dimethylacetamide, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, 2-propanol, toluene, and ethyl acetate, (1) The manufacturing method of any one of thru
  • Ring Z is a benzene ring optionally having 1 to 4 halogen atoms, (1) The manufacturing method of any one of (10).
  • R 2 is a pyridyl group optionally having 1 to 4 halogen atoms, and a phenyl group optionally having 1 to 5 halogen atoms. (1) The manufacturing method of any one of (11).
  • R 3 and R 4 each represent a methyl group, or R 3 and R 4 together form a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, or a tetrahydropyran ring;
  • the cyclopentane ring, the cyclohexane ring, and the tetrahydropyran ring may have 1 to 4 C 1 -C 6 alkyl groups on the ring, (1) The manufacturing method of any one of (12).
  • R 5 is a substituent shown below,
  • R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and Z are as defined in any one of (1) to (13),
  • R 22 and R 23 are each independently a hydrogen atom, a C 1 -C 6 alkyl group optionally having 1 to 3 substituents independently selected from the following group I, and independently selected from the following group I
  • Group I halogen atom, hydroxy group, oxo group, carboxy group, formyl group, amino group, aminocarbonyl group, cyano group, C 1 -C 6 alkylamino group, C 1 -C 6 alkylsulfonyl group, C 1 -C 6 alkylsulfonylamide group, C 1 -C 6 alkyl group optionally having 1 to 3 substituents independently selected from the following group J, 1 to 3 substituents independently selected from the following group J
  • An asymmetric catalyst prepared from one Lewis acid selected from the group consisting of Cu (I) Lewis acid and Cu (II) Lewis acid and one asymmetric ligand selected from the following:
  • An asymmetric catalyst prepared from one Lewis acid selected from the group consisting of Cu (I) Lewis acid and Cu (II) Lewis acid and one asymmetric ligand selected from the following:
  • a compound having a spiro oxindole skeleton for example, a compound having a spiro oxindole skeleton and having an antitumor activity that inhibits the interaction between the Mdm2 protein and the p53 protein is synthesized stereoselectively and efficiently. be able to.
  • the “halogen atom” is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.
  • the “C 1 -C 6 alkyl group” is a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and includes a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and an isobutyl group. , S-butyl group, t-butyl group, pentyl group, isopentyl group, 2-methylbutyl group, neopentyl group, 1-ethylpropyl group, hexyl group, isohexyl group, or 4-methylpentyl group.
  • the “C 3 -C 6 cycloalkyl group” is a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, or a cyclohexyl group.
  • the “C 3 -C 4 cycloalkyl group” is a cyclopropyl group or a cyclobutyl group.
  • the “C 1 -C 6 alkoxy group” means a group in which one C 1 -C 6 alkyl group is substituted with an oxy group, and includes a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, A butoxy group, an isobutoxy group, an s-butoxy group, a t-butoxy group, a pentoxy group, an isopentoxy group, a 2-methylbutoxy group, a hexyloxy group, or an isohexyloxy group.
  • C 3 -C 6 cycloalkoxy group means a group obtained by substituting one C 3 -C 6 cycloalkyl group with an oxy group, and includes a cyclopropoxy group, a cyclobutoxy group, a cyclopentyloxy group. Or a cyclohexyloxy group.
  • the “C 3 -C 4 cycloalkoxy group” is a cyclopropoxy group or a cyclobutoxy group.
  • the “C 3 -C 8 cycloalkoxy group” is a cyclopropoxy group, a cyclobutoxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, or a cyclooctyloxy group.
  • the “C 1 -C 6 alkylthio group” means a group in which one of the above C 1 -C 6 alkyl groups is substituted with a thio group.
  • a methylthio group, an ethylthio group, a propylthio group, an isopropylthio group, or the like can be given.
  • the “C 1 -C 6 alkylsulfonyl group” means a group in which one C 1 -C 6 alkyl group is substituted with a sulfonyl group.
  • a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group, a propylsulfonyl group, an isopropylsulfonyl group, or the like can be given.
  • the “C 1 -C 6 alkylsulfonylamide group” means a group in which one of the above C 1 -C 6 alkylsulfonyl groups is substituted with an amino group. Examples thereof include a methylsulfonylamide group, an ethylsulfonylamide group, a propylsulfonylamide group, and an isopropylsulfonylamide group.
  • C 1 -C 6 alkylcarbonyl group means a group in which one C 1 -C 6 alkyl group is substituted with a carbonyl group.
  • Examples thereof include an acetyl group, an ethylcarbonyl group, a propylcarbonyl group, and an isopropylcarbonyl group.
  • the “C 1 -C 6 alkoxycarbonyl group” means a group in which one C 1 -C 6 alkoxy group is substituted with a carbonyl group. Examples thereof include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, and an isopropoxycarbonyl group.
  • the “C 3 -C 6 cycloalkylcarbonyl group” means a group in which one C 3 -C 6 cycloalkyl group is substituted with a carbonyl group, and includes a cyclopropylcarbonyl group, a cyclobutylcarbonyl group, A cyclopentylcarbonyl group or a cyclohexylcarbonyl group.
  • C 3 -C 6 cycloalkoxycarbonyl group means a group in which one C 3 -C 6 cycloalkoxy group is substituted with a carbonyl group, and includes a cyclopropoxycarbonyl group, a cyclobutoxycarbonyl group, A cyclopentyloxycarbonyl group or a cyclohexyloxycarbonyl group.
  • the “C 1 -C 6 alkylamino group” means a group in which one of the above C 1 -C 6 alkyl groups is substituted with an amino group.
  • a methylamino group, an ethylamino group, a propylamino group, an isopropylamino group, etc. are mentioned.
  • the “di-C 1 -C 6 alkylamino group” means a group in which two identical or different C 1 -C 6 alkyl groups are substituted with an amino group.
  • a dimethylamino group, a diethylamino group, a dipropylamino group, a diisopropylamino group, etc. are mentioned.
  • the “C 1 -C 6 alkylaminocarbonyl group” means a group in which one C 1 -C 6 alkylamino group is substituted with a carbonyl group.
  • a methylaminocarbonyl group, an ethylaminocarbonyl group, a propylaminocarbonyl group, an isopropylaminocarbonyl group, or the like can be given.
  • the “C 3 -C 6 cycloalkylaminocarbonyl group” means that one C 3 -C 6 cycloalkyl group is bonded to the amino group side of the (—NH—C ( ⁇ O) —) group.
  • the “C 3 -C 8 cycloalkylamino group” means a group in which one C 3 -C 8 cycloalkyl group is bonded to an amino group, and includes a cyclopropylamino group, a cyclobutylamino group, Or it is a cyclopentylamino group.
  • the “C 2 -C 6 alkenyloxy group” means a group in which a linear or branched C 2 -C 6 alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms is bonded to an oxy group.
  • a vinyloxy group, an allyloxy group, an isopropenyloxy group, etc. are mentioned.
  • the “C 3 -C 6 cycloalkenyl group” is a cyclopropenyl group, a cyclobutenyl group, a cyclopentenyl group, or a cyclohexenyl group.
  • the “5-membered or 6-membered heteroaryl group” is an atom independently selected from the group consisting of 1 to 3 nitrogen atoms, oxygen atoms, and sulfur atoms in addition to carbon. It means a group derived from a 5-membered or 6-membered monocyclic aromatic compound.
  • Examples thereof include a furanyl group, a thienyl group, a pyrrolyl group, an oxazolyl group, an isoxazolyl group, a thiazolyl group, an isothiazolyl group, an imidazolyl group, a pyrazolyl group, a pyridyl group, a pyrazyl group, a pyrimidinyl group, and a pyridazinyl group.
  • the “3-membered to 6-membered saturated heterocyclic group” is a 3-membered to 6-membered atom containing, in addition to carbon, an atom selected from the group consisting of one nitrogen atom, oxygen atom, and sulfur atom.
  • aziridinyl group for example, aziridinyl group, oxiranyl group, thiylyl group, azetidyl group, oxetanyl group, thietanyl group, pyrrolidinyl group, tetrahydrofuranyl group, tetrahydrothinyl group, piperidinyl group, tetrahydropyranyl group, tetrahydrothiopyranyl group, etc. .
  • asymmetric catalyst means a catalyst used for asymmetric synthesis. Examples thereof include a catalyst having a metal atom in the catalyst.
  • Lewis acid means a substance that can accept an electron pair. For example, Zn (OTf) 2 , AgOAc, Cu (OTf) 2 , CuOAc, Ni (OAc) 2 , Co (OAc) 2 , CuCl, CuBr, CuI, CuPF 6 , CuBF 4 , Cu (OAc) 2 , Cu ( OTf) 2 or CuSO 4 or the like.
  • asymmetric ligand means a substance that has asymmetry and can form a coordinate bond with a metal, and includes not only monodentate ligands but also polydentate ligands.
  • a BINAP derivative a MeBIPHEP derivative, a TunePHOS derivative, a P-Phos derivative, a JOSIPHOS derivative, a Walphos derivative, a FESULPHOS derivative, a Taniaphos derivative, a Josphophos derivative, a FOXAP derivative, a Mandyphos derivative, a Ferrocelane derivative, a PHOX derivative, or a Quinx derivative .
  • “having asymmetry” means having an asymmetric center, an asymmetric axis, or an asymmetric surface.
  • “*” means an asymmetric center or an asymmetric axis.
  • Cy is an abbreviation for cyclopentyl group.
  • ketimine means an imine formed from a ketone and an amine, and is a compound having a structure in which the carbonyl group of the ketone is substituted by the nitrogen atom of the amine.
  • the compound of the present invention represented by formula (IV), the compound represented by formula (XIII), the compound represented by formula (XIV), the compound represented by formula (XV), the compound represented by formula (XIX), the formula ( The compound represented by XXI) and the compound represented by the formula (XXII) are reacted with an acid when it has a basic group, or with a base when it has an acidic group, Can be salted.
  • Examples of the salt based on the basic group include hydrohalides such as hydrofluoride, hydrochloride, hydrobromide, and hydroiodide, nitrate, perchlorate, sulfate, Inorganic acid salts such as phosphate, C 1 -C 6 alkyl sulfonates such as methanesulfonate, trifluoromethanesulfonate, ethanesulfonate, benzenesulfonate, p-toluenesulfonate, etc. And carboxylates such as aryl sulfonates, acetates, oxalates, tartrate and maleates.
  • examples of the salt based on the acidic group include alkali metal salts such as sodium salt, potassium salt and lithium salt, alkaline earth metal salts such as calcium salt and magnesium salt, metal salts such as aluminum salt and iron salt.
  • Inorganic salts such as ammonium salts, t-octylamine salts, dibenzylamine salts, morpholine salts, glucosamine salts, phenylglycine alkyl ester salts, ethylenediamine salts, N-methylglucamine salts, guanidine salts, diethylamine salts, triethylamine salts , Dicyclohexylamine salt, N, N′-dibenzylethylenediamine salt, chloroprocaine salt, procaine salt, diethanolamine salt, N-benzylphenethylamine salt, piperazine salt, tetramethylammonium salt, tris (hydroxymethyl) aminomethane salt, etc. Yes And amine salt
  • the compound of formula (IV) or a salt thereof, the compound of formula (XIII) or a salt thereof, the compound of formula (XIV) or a salt thereof, the compound of formula (XV) or a salt thereof The compound represented by the formula (XIX) or a salt thereof, the compound represented by the formula (XXI) or a salt thereof, and the compound represented by the formula (XXII) or a salt thereof may be left in the atmosphere or recrystallized. In some cases, water molecules are taken in to form hydrates, and such hydrates are also included in the salt.
  • the compound of formula (IV) or a salt thereof, the compound of formula (XIII) or a salt thereof, the compound of formula (XIV) or a salt thereof, the compound of formula (XV) or a salt thereof The compound represented by formula (XIX) or a salt thereof, the compound represented by formula (XXI) or a salt thereof, and the compound represented by formula (XXII) or a salt thereof are allowed to stand in a solvent or recrystallized. In some cases, a certain solvent is absorbed to form a solvate, and such a solvate is also included in the salt.
  • the solvent examples include ether solvents such as tetrahydrofuran and 1,2-dimethoxyethane, alcohol solvents such as methanol, ethanol and 2-propanol, hydrocarbon solvents such as toluene, nitrile solvents such as acetonitrile, and acetic acid.
  • ether solvents such as tetrahydrofuran and 1,2-dimethoxyethane
  • alcohol solvents such as methanol, ethanol and 2-propanol
  • hydrocarbon solvents such as toluene
  • nitrile solvents such as acetonitrile
  • acetic acid examples include aliphatic ester solvents such as ethyl, amide solvents such as N, N-dimethylacetamide and N, N-dimethylformamide, and the like.
  • Each suitable substituent of the compound shown, the compound shown by a formula (XIV), and the compound shown by a formula (XV) is shown below.
  • R 1 represents a hydrogen atom, a C 1 -C 6 alkylcarbonyl group, or a C 1 -C 6 alkoxycarbonyl group which may have one phenyl group. More preferably, they are a hydrogen atom, an acetyl group, a t-butoxycarbonyl group, or a benzyloxycarbonyl group. More preferably, it is a hydrogen atom.
  • R 2 represents a 5- or 6-membered heteroaryl group having 1 to 3 heteroatoms in the ring independently selected from the group consisting of a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom, a phenyl group, 1 to 3 substituents independently selected from the group consisting of a halogen atom, a hydroxy group, an amino group, an aminocarbonyl group, and a C 1 -C 6 alkyl group.
  • Ring Z is a benzene ring which may have 1 to 4 halogen atoms, and more preferably a benzene ring having 1 chlorine atom.
  • R 3 and R 4 each independently represents a C 1 -C 6 alkyl group optionally having 1 to 3 substituents independently selected from the group consisting of a halogen atom, a hydroxy group, and an amino group . More preferably, both are the same C 1 -C 6 alkyl group. More preferably, both are methyl groups.
  • R 3 and R 4 together may have 1 to 3 C 1 -C 6 alkyl groups on the ring C 3 - C 6 cycloalkyl ring, 1 to 3 C 1 -C 6 alkyl group 1 to 3 of the piperidine ring may have, or 1 to 3 C 1 -C 6 alkyl on the ring on the ring It is preferable to form a tetrahydropyran ring which may have a group. More preferably, the ring to be formed is a cyclopentane ring optionally having 1 to 3 C 1 -C 6 alkyl groups on the ring, or 1 to 3 C 1 -C 6 alkyls on the ring.
  • a cyclohexane ring which may have a group, a tetrahydropyran ring which may have 1 to 3 C 1 -C 6 alkyl groups on the ring, and more preferably a 4,4-dimethylcyclohexane ring. It is preferable to form.
  • R 5 represents a C 1 -C 6 alkoxy group, a C 3 -C 8 cycloalkoxy group, a C 2 -C 6 alkenyloxy group, a C 1 -C 6 alkylamino group, a C 3 -C 8 cycloalkylamino group, or Tetrahydropyranylamino group is shown. More preferred is a C 1 -C 6 alkoxy group or a tetrahydropyranylamino group, and further preferred is a C 1 -C 6 alkoxy group.
  • R 22 and R 23 are each independently a hydrogen atom, a C 1 -C 6 alkyl group optionally having 1 to 3 substituents independently selected from the following group I, and independently selected from the following group I
  • a piperidinyl group optionally having 1 to 3 substituents independently selected from the following group I
  • a piperazinyl group optionally having 1 to 3 substituents independently selected from the following group I 1 to 3 substituents independently selected from the following group I
  • a pyridinyl group optionally having 1 to 3 substituents independently selected from the following group I, or 1 to 3 substituents independently selected from the following group I.
  • a good pyridazinyl group, a pyrrolyl group optionally having 1 to 3 substituents independently selected from the following group I, and a pyrazolyl optionally having 1 to 3 substituents independently selected from the following group I A group, an imidazolyl group optionally having 1 to 3 substituents independently selected from the following group I, an oxazolyl group optionally having 1 to 3 substituents independently selected from the following group I; 1 to 3 substituents independently selected from the following group I An oxadiazolyl group which may have, or a triazolyl group which may have 1 to 3 substituents independently selected from the following group I.
  • Group I halogen atom, hydroxy group, oxo group, carboxy group, formyl group, amino group, aminocarbonyl group, cyano group, C 1 -C 6 alkylamino group, C 1 -C 6 alkylsulfonyl group, C 1 -C 6 alkylsulfonylamide group, C 1 -C 6 alkyl group optionally having 1 to 3 substituents independently selected from the following group J, 1 to 3 substituents independently selected from the following group J
  • M is a nitrogen atom or CH, and more preferably a nitrogen atom.
  • L is CH 2 or C (CH 3 ) 2 , and more preferably C (CH 3 ) 2 .
  • R 53 is a C 1 -C 6 alkyl group.
  • a preferred combination of substituents for the compound of formula (I) is that R 1 is a hydrogen atom and R 2 is a phenyl group having one fluorine atom and one chlorine atom.
  • Ring Z is a benzene ring having one chlorine atom.
  • a preferred combination of substituents for the compound of formula (V) is that R 3 and R 4 form a 4,4-dimethylcyclohexane ring and R 5 is a C 1 -C 6 alkoxy group.
  • a preferred combination of substituents of the compound represented by the formula (IV) and the compound represented by the formula (XIII) is that R 1 is a hydrogen atom, R 2 is one fluorine atom and 1 A phenyl group having 1 chlorine atom, ring Z is a benzene ring having 1 chlorine atom, R 3 and R 4 form a 4,4-dimethylcyclohexane ring, R 5 is a C 1 -C 6 alkoxy group.
  • R 1 is a hydrogen atom
  • R 2 is a phenyl group having one fluorine atom and one chlorine atom
  • Ring Z is a benzene ring having one chlorine atom
  • R 3 and R 4 form a 4,4-dimethylcyclohexane ring.
  • each substituent of the compound represented by the formula (XV) is a phenyl group in which R 1 is a hydrogen atom, and R 2 has one fluorine atom and one chlorine atom.
  • ring Z is a benzene ring having one chlorine atom, R 3 and R 4 form a 4,4-dimethylcyclohexane ring, and R 22 and R 23 are the above T 24 It is.
  • a preferable combination of each substituent of the compound represented by the formula (XIX) is that M is a nitrogen atom, L is C (CH 3 ) 2 , and R 53 is a C 1 -C 6 alkyl group. .
  • a preferred combination of substituents for the compound of formula (XX) is that L is C (CH 3 ) 2 and R 53 is a C 1 -C 6 alkyl group.
  • M is a nitrogen atom
  • L is C (CH 3 ) 2 .
  • the compound represented by the formula (VI) is a BINAP derivative, and preferably any one of the compounds shown below.
  • the compound represented by the formula (VII) is a MeBIOPHEP derivative, a P-Phos derivative, and a TunePHOS derivative, and preferably any one of the compounds shown below.
  • the compound represented by the formula (VIII) is a JOSIPHOS derivative, a Walphos derivative, a FESULPHOS derivative, a Taniaphos derivative, a Josophos derivative, or a FOXAP derivative, and preferably any one of the compounds shown below.
  • the compound represented by the formula (IX) is a Mandyphos derivative, and is preferably any of the compounds shown below.
  • the compound represented by the formula (X) is a Ferrocelane derivative, and is preferably any one of the compounds shown below.
  • the compound represented by the formula (XI) is a PHOX derivative, and preferably any one of the compounds shown below.
  • the compound represented by the formula (XII) is a QuinoxP derivative, and is preferably a compound shown below.
  • the Lewis acid is, CuOAc, CuCl, CuBr, CuI , CuOTf, CuPF 6, CuBF 4, Cu (OAc) 2, Cu (OTf) 2, or a CuSO 4, more preferably, CuOAc or, Cu (OAc) 2 .
  • a suitable combination of a Lewis acid and an asymmetric ligand is that the Lewis acid is CuOAc or Cu (OAc) 2 , and the asymmetric ligand is a compound shown below.
  • a suitable solvent is 1 or 2 selected from the group consisting of N, N-dimethylacetamide, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, 2-propanol, toluene, and ethyl acetate. More preferably, it is one or two selected from the group consisting of N, N-dimethylacetamide and ethyl acetate. Moreover, what mixed the solvent in arbitrary ratios can also be used.
  • the reaction conditions of the present invention should not be construed as being limited thereto.
  • the functional group of the compound may be protected with an appropriate protecting group.
  • examples of such a functional group include a hydroxyl group, a carboxy group, an amino group, and the like.
  • the types of protecting groups and the conditions for introducing and removing these protecting groups are, for example, Protective Groups in Organic Synthesis (T. W. Green and PMGM Wuts, John Wiley & Sons, Inc., New York, 2006) can be referred to.
  • the compound represented by formula (IV) is a compound represented by formula (I) and a compound represented by formula (II) in the presence of an asymmetric catalyst prepared from a Lewis acid and an asymmetric ligand and a solvent, and It can be obtained by reacting a compound represented by the formula (III).
  • the compound represented by the formula (IV) is prepared by previously forming a compound represented by the formula (V) from a compound represented by the formula (II) and a compound represented by the formula (III) (ketimine). It can also be obtained by reacting with the compound represented by (I).
  • the reaction is preferably performed in the presence of a base.
  • the compound represented by the formula (I) can be produced based on various documents. (For example, WO2006 / 091646, WO2012 / 121361, etc.).
  • the amount of the compound represented by the formula (II) used is in the range of 0.5 to 10 equivalents relative to the compound represented by the formula (I), preferably represented by the formula (I). It is in the range of 1.0 equivalent to 3.0 equivalents relative to the compound.
  • the amount of the compound represented by the formula (III) used is in the range of 0.5 to 10 equivalents relative to the compound represented by the formula (I), and preferably the compound represented by the formula (I) On the other hand, it is in the range of 1.0 to 3.0 equivalents.
  • Lewis acid examples include Zn (II) Lewis acid, Ag (I) Lewis acid, Ni (II) Lewis acid, Co (II) Lewis acid, Ru (I) Lewis acid, Cu (I) Lewis acid, Cu ( II) Lewis acid and the like can be used, preferably CuOAc, CuCl, CuBr, CuI, CuOTf, Cu (CH 3 CN) 4 PF 6 , Cu (CH 3 CN) 4 BF 4, Cu (OAc) 2 , Cu (OTf) 2 or CuSO 4 .
  • the amount of the Lewis acid and the asymmetric ligand used is such that when the Lewis acid is in the range of 0.01 to 100 mol% with respect to the compound represented by the formula (I), the ligand is converted to 0.8 of the Lewis acid. To 3.0 equivalents.
  • the Lewis acid is in the range of 0.5 to 20 mol% with respect to compound (I)
  • the ligand is added to 1.01 of the Lewis acid. To 2.4 equivalents.
  • Asymmetric ligands include, for example, BINAP derivatives, MeBIPHEP derivatives, TunePHOS derivatives, P-Phos derivatives, JOSIPHOS derivatives, Walphos derivatives, FESULPHOS derivatives, Taniaphos derivatives, Jospophos derivatives, FOXAP derivatives, Mandyphos derivatives, Ferrocelane derivatives, PHOX derivatives QuinoxP derivatives can be used, preferably BINAP derivatives, Tunephos derivatives, MeBIPHEP derivatives, P-Phos derivatives, JOSIPHOS derivatives, FOXAP derivatives, FESULPHOS derivatives, and the like.
  • the asymmetric ligand can be purchased from, for example, Aldrich, TCI, WAKO, STREM and the like.
  • Bases include, for example, tertiary amines such as triethylamine, N, N-diisopropylethylamine, organic bases such as sodium ethoxide, t-butoxypotassium, sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium bicarbonate, sodium acetate, potassium hydroxide, Inorganic bases such as potassium carbonate, potassium hydrogen carbonate, and potassium acetate can be used.
  • Preferred are tertiary amines such as triethylamine and N, N-diisopropylethylamine, and more preferred is triethylamine.
  • the amount of base used is in the range of 0.01 to 10 equivalents relative to the compound represented by formula (I), preferably 0.01 equivalents relative to the compound represented by formula (I). To 0.2 equivalents.
  • Solvents include, for example, ethers such as tetrahydrofuran and 1,2-dimethoxyethane, alcohol solvents such as methanol, ethanol and 2-propanol, hydrocarbon solvents such as toluene, nitrile solvents such as acetonitrile, and ethyl acetate.
  • Aliphatic ester solvents such as N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, and other amide solvents can be used alone or mixed in any ratio, preferably ether such as tetrahydrofuran.
  • a system solvent, an amide solvent such as N, N-dimethylacetamide, and an aliphatic ester solvent such as ethyl acetate may be used alone or in admixture at any ratio.
  • the amount of the solvent used is in the range of 1 to 100 times the amount of the compound (I), preferably in the range of 5 to 50 times the amount of the compound represented by the formula (I), More preferably, it is in the range of 8 to 25 times the amount of the compound represented by formula (I).
  • the reaction temperature is in the range of ⁇ 88 ° C. to the boiling point of the solvent used, and preferably in the range of ⁇ 20 ° C. to 60 ° C.
  • the reaction time is in the range of 30 minutes to 96 hours, preferably in the range of 30 minutes to 64 hours, and more preferably in the range of 30 minutes to 48 hours.
  • the compound represented by the formula (XIV) is obtained by hydrolyzing the compound represented by the formula (IV) (when R 5 is not —NR 51 R 52 ).
  • Hydrolysis can be performed in a solvent by adding a base or an acid.
  • the base examples include organic bases such as sodium ethoxide and t-butoxy potassium, and inorganic bases such as sodium hydroxide, lithium hydroxide, sodium carbonate, potassium hydroxide, and potassium carbonate. Inorganic bases such as sodium oxide, lithium hydroxide, and potassium hydroxide are preferable, and sodium hydroxide is more preferable.
  • the amount of the base used is in the range of 1 to 10 equivalents relative to the compound represented by formula (IV), preferably 1 to 5 equivalents based on the compound represented by formula (IV). More preferably, it is in the range of 1 equivalent to 3 equivalents with respect to the compound represented by formula (IV).
  • Acids include, for example, hydrohalic acids such as hydrofluoric acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid and hydroiodic acid, inorganic acids such as nitric acid, perchloric acid, sulfuric acid and phosphoric acid, methanesulfonic acid and trifluoromethane.
  • hydrohalic acids such as hydrofluoric acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid and hydroiodic acid
  • inorganic acids such as nitric acid, perchloric acid, sulfuric acid and phosphoric acid, methanesulfonic acid and trifluoromethane.
  • C 1 -C 6 alkyl sulfonic acids such as sulfonic acid, ethane sulfonic acid, aryl sulfonic acids such as benzene sulfonic acid, p-toluene sulfonic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, oxalic acid, tartaric acid, maleic acid Carboxylic acid, preferably trifluoroacetic acid or hydrochloric acid.
  • the amount of the acid used is in the range of 1 to 100 equivalents relative to the compound represented by formula (IV), preferably 1 to 10 equivalents based on the compound represented by formula (IV). It is a range.
  • Solvents include, for example, ethers such as tetrahydrofuran and 1,2-dimethoxyethane, alcohol solvents such as methanol, ethanol and 2-propanol, hydrocarbon solvents such as toluene, nitrile solvents such as acetonitrile, and ethyl acetate.
  • aliphatic ester solvents such as amide solvents such as N, N-dimethylacetamide and N, N-dimethylformamide, halogen solvents such as dichloromethane and chloroform, etc., alone or in any mixture.
  • a mixed solvent of a halogen solvent such as dichloromethane, an alcohol solvent such as methanol, an ether solvent such as tetrahydrofuran, or an alcohol solvent such as methanol is preferable.
  • the amount of the solvent used is in the range of 1 to 100 times the amount of the compound represented by the formula (IV), preferably 5 to 50 times the amount of the compound represented by the formula (IV).
  • reaction temperature is in the range of ⁇ 88 ° C. to the boiling point of the solvent used, and preferably in the range of ⁇ 20 ° C. to 60 ° C.
  • the reaction time is in the range of 30 minutes to 96 hours, preferably in the range of 30 minutes to 64 hours, and more preferably in the range of 30 minutes to 48 hours.
  • the compound represented by the formula (XV) is obtained by condensing the compound represented by the formula (XIV) and NHR 22 R 23 which is an amine in a solvent using a condensing agent.
  • Amines can be produced based on various literatures. (For example, WO2006 / 091646, WO2012 / 121361, etc.).
  • the amount of amine used is in the range of 0.5 to 10 equivalents relative to the compound represented by formula (XIV), and preferably 1.0 etc. relative to the compound represented by formula (XIV). The amount is in the range of 2.0 equivalents.
  • the condensing agent examples include azodicarboxylic acid di-lower alkyl ester-triphenylphosphine such as azodicarboxylic acid diethyl ester-triphenylphosphine, N, N′-dicyclohexylcarbodiimide (DCC), 1-ethyl-3- (3 -Dimethylaminopropyl) carbodiimide derivatives such as carbodiimide (EDCI), 2-halo-1-lower alkylpyridinium halides such as 2-chloro-1-methylpyridinium iodide, diaryls such as diphenylphosphoryl azide (DPPA) Phosphoryl azides, phosphoryl chlorides such as diethyl phosphoryl chloride, imidazole derivatives such as N, N′-carbodiimidazole (CDI), benzotriazol-1-yloxy-tris (dimethylamino) phospho Honium hexafluorophosphate
  • 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide EDCI
  • O- (benzotriazol-1-yl) -N, N, N ′, N′-tetramethyluronium hexafluorophosphate HBTU
  • O- (7-azabenzotriazol-1-yl) -N, N, N ′, N′-tetramethyluronium hexafluorophosphate HATU
  • (1H-benzotriazol-1-yloxy) tripyrrolyl Dinophosphonium hexafluorophosphate PyBOP
  • diphenylphosphoryl azide DPPA
  • 4- (4,6-dimethoxy-1,3,5-triazin-2-yl) -4-methylmorphonium chloride DM-TMM
  • the amount of the condensing agent used is in the range of 1 equivalent to 10 equivalents relative to the compound represented by formula (XIV), preferably 1 equivalent to 5 equivalents relative to the compound represented by formula (XIV).
  • the amount is more preferably in the range of 1 to 2 equivalents with respect to the compound represented by the formula (XIV).
  • Solvents include, for example, ethers such as tetrahydrofuran and 1,2-dimethoxyethane, alcohol solvents such as methanol, ethanol and 2-propanol, hydrocarbon solvents such as toluene, nitrile solvents such as acetonitrile, and ethyl acetate. Can be used, or amide solvents such as N, N-dimethylacetamide and N, N-dimethylformamide can be used, and amide solvents such as N, N-dimethylacetamide are preferred.
  • the amount of solvent used is in the range of 1 to 100 times the amount of the compound represented by the formula (XIV), preferably 3 to 50 times the amount of the compound represented by the formula (XIV).
  • reaction temperature is in the range of ⁇ 88 ° C. to the boiling point of the solvent used, and preferably in the range of ⁇ 20 ° C. to 60 ° C.
  • the reaction time is in the range of 30 minutes to 96 hours, preferably in the range of 30 minutes to 64 hours, and more preferably in the range of 30 minutes to 48 hours.
  • aqueous layer was extracted twice with ethyl acetate (20 mL each), and all the organic layers were combined and then washed three times with water (20 mL each). After the solvent was distilled off under reduced pressure, acetonitrile (30 mL) was added and the mixture was stirred at 60 ° C. for 2 hours. After allowing to cool, the precipitated solid was filtered and dried under reduced pressure at 40 ° C. to obtain the title compound (2.13 g, yield 80%) as a solid.
  • trans1 compound ((ethyl (3 ′S, 4′R, 5 ′S) -6 ′′ -chloro-4 ′-(2-chloro-3-fluoropyridin-4-yl)) was analyzed by HPLC. -4,4-dimethyl-2 ′′ -oxo-1 ′′, 2 ′′ -dihydrodispiro [cyclohexane-1,2′-pyrrolidine-3 ′, 3 ′′ -indole] -5′-carboxylate) Optical purity and HPLC yield were measured.
  • ⁇ is trans2 compound (ethyl (3 ′S, 4′R, 5 ′S) -6 ′′ -chloro-4 ′-(2-chloro-3-fluoropyridin-4-yl) -4 , 4-Dimethyl-2 ′′ -oxo-1 ′′, 2 ′′ -dihydrodispiro [cyclohexane-1,2′-pyrrolidine-3 ′, 3 ′′ -indole] -5′-carboxylate) Shows that it becomes a thing.
  • the trans1 compound (ethyl (3 ′S, 4′R, 5 ′S) -6 ′′ -chloro-4 ′-(2-chloro-3-fluoropyridin-4-yl) -4) obtained by HPLC , 4-Dimethyl-2 ′′ -oxo-1 ′′, 2 ′′ -dihydrodispiro [cyclohexane-1,2′-pyrrolidine-3 ′, 3 ′′ -indole] -5′-carboxylate) And the optical purity was measured. The main results are shown in Table 5.
  • ⁇ is trans2 compound (ethyl (3 ′S, 4′R, 5 ′S) -6 ′′ -chloro-4 ′-(2-chloro-3-fluoropyridin-4-yl) -4 , 4-Dimethyl-2 ′′ -oxo-1 ′′, 2 ′′ -dihydrodispiro [cyclohexane-1,2′-pyrrolidine-3 ′, 3 ′′ -indole] -5′-carboxylate) Shows that it becomes a thing.

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Abstract

　本発明は、スピロオキシインドール骨格を有する化合物、例えば、スピロオキシインドール骨格を有しＭｄｍ２蛋白質とｐ５３蛋白質の相互作用を阻害する抗腫瘍活性を有する化合物あるいはその中間体を不斉触媒を用いて効率的に製造し提供する方法を提供するものである。　ケチミンを反応基質として用い、不斉配位子およびルイス酸を用いた触媒的不斉１，３－双極子環化付加反応を行うことにより、光学活性な三環性ジスピロインドール骨格を有する化合物を効率的に得る。

Description

スピロオキシインドール誘導体の製造方法
　本発明はスピロオキシインドール構造を有するピロリジン化合物の製造方法に関する。
二環性スピロオキシインドール構造を有するピロリジン化合物の合成法としては、アルデヒドとアミンを原料として合成されるアルジミンを反応基質として用い、反応を促進する触媒の存在下、あるいは非存在下、１，３－双極子環化付加反応によりラセミ化合物を合成する方法が知られている（非特許文献１－４）。得られたラセミ化合物は、ＨＰＬＣあるいは超臨界流体クロマトグラフィー（ＳＦＣ）等の技術を用いたキラルカラムにより所望の光学活性体を分離することが可能である。
上記化合物の立体選択的な合成方法としては、キラル素子を用いた１，３－双極子環化付加反応による不斉合成法が報告されている（非特許文献５、６）。さらには、アミンとケトンを原料として合成されるケチミンを反応基質として用いて１，３－双極子付加反応を行うことにより三環性ジスピロオキシインドール構造を有するピロリジン化合物を製造する方法も報告されている（特許文献１）。
一方で、上記化合物の触媒的不斉合成法については、アルジミンを反応基質とする触媒的不斉１，３－双極子環化付加反応は数多く研究されている（非特許文献７～１８）ものの、ケトンとアミンを反応基質とするケチミンによる三環性ジスピロインドールの合成についての報告はない。
ＷＯ２０１２／１２１３６１
Jorgensen, K. A. et al, Org. Lett. 2005, 21, 4569 Jorgensen, K. A. et al, Chem. Rev. 1998, 98, 863 Grigg, R. et al, Tetrahedron, 1992, 48, 10431 Schreiber, S. L. et al, J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 10174 Carretero, J. C. et al, Tetrahedron, 2007, 63, 6587 Wang, S. et al, J. Am.Chem. Soc., 2005, 127, 10130 Wang, S. et al, J. Med. Chem. 2006, 49, 3432 Williams, R. M. et al, J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 5666 Gong, L.-Z. et al, J. Am. Chem. Soc., 2009, 131, 13819 Gong, L.-Z. et al, Org. Lett., 2011, 13, 2418 Gong, L.-Z. et al, Chem. Eur. J., 2012, 18, 6885 Waldmann, H. et al, Nat. Chem., 2010, 2, 735 Waldmann, H. et al, Tetrahedron, 2011, 67, 10195 Wang, C.-J. et al, Org. Biomol. Chem., 2011, 9, 1980 Arai, T. et al, Chem. Eur. J., 2012, 18, 8287 Amedohkouh, M. et al, Tetrahedron Asymmetry, 2005, 8, 1411 Cordova, A. et al, Chem. Comm. 2006, 460 Ma, J. A. et al, Org. Lett. 2007, 9, 923
　本発明は、スピロオキシインドール骨格を有する化合物、例えば、スピロオキシインドール骨格を有しＭｄｍ２蛋白質とｐ５３蛋白質の相互作用を阻害する抗腫瘍活性を有する化合物あるいはその中間体を不斉触媒を用いて効率的に製造し提供する方法を提供するものである。
本発明者らは鋭意検討した結果、ケチミンを反応基質として用いる触媒的不斉１，３－双極子環化付加反応を促進する、不斉配位子およびその中心金属となるルイス酸、最適反応条件をスクリーニングすることにより、光学活性な三環性ジスピロインドール骨格を有する化合物の効率的な合成法を確立した。
　すなわち、本発明は、次の（１）～（２０）に関する。
（１）式（Ｉ）で示される化合物：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
式（ＩＩ）で示される化合物：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
および式（ＩＩＩ）で示される化合物：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
を溶媒中で不斉触媒を用いて反応させ、
式（ＩＶ）で示される化合物もしくはその塩：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
を立体選択的に製造する方法。
［式（Ｉ）、式（ＩＩ）、式（ＩＩＩ）および式（ＩＶ）中、
Ｒ１は、水素原子、下記Ａ群から独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキルカルボニル基、もしくは下記Ａ群から独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルコキシカルボニル基を示し、
Ｒ２は、窒素原子、酸素原子、および硫黄原子からなる群より独立に選択されるヘテロ原子を環内に１乃至３個有する５員もしくは６員のヘテロアリール基、フェニル基、Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、もしくはＣ３－Ｃ６シクロアルケニル基を示し、ここで、
　　該５員もしくは６員のヘテロアリール基、該フェニル基、該Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、および該Ｃ３－Ｃ６シクロアルケニル基は、ハロゲン原子、ビニル基、エチニル基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシ基、アミノカルボニル基、下記Ａ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基、下記Ａ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ３－Ｃ４シクロアルキル基、下記Ａ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルコキシ基、下記Ａ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ３－Ｃ４シクロアルコキシ基、下記Ａ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキルアミノ基、下記Ａ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいジＣ１－Ｃ６アルキルアミノ基、下記Ｂ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよい、窒素原子を環内に１個含んだ４員乃至７員の飽和複素環基、下記Ａ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルコキシカルボニル基、下記Ａ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ３－Ｃ４シクロアルコキシカルボニル基、下記Ａ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキルアミノカルボニル基、および下記Ａ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ３－Ｃ４シクロアルキルアミノカルボニル基、からなる群から独立に選択される置換基を１乃至３個有していてもよく、
Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、下記Ｃ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基を示すか、または、
Ｒ３とＲ４が一緒になってＣ４－Ｃ６シクロアルキル環、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロピラン環、もしくはピペリジン環を形成してもよく、
　該Ｃ４－Ｃ６シクロアルキル環、該テトラヒドロフラン環、該テトラヒドロピラン環、および該ピペリジン環は、下記Ｄ群より独立に選ばれる置換基を１乃至８個有していてもよく、
Ｒ５は、下記Ｅ群から独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルコキシ基、下記Ｅ群から独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ３－Ｃ８シクロアルコキシ基、Ｃ２－Ｃ６アルケニルオキシ基、もしくは－NＲ５１Ｒ５２を示し、
Ｒ５１およびＲ５２は、それぞれ独立に、水素原子、下記Ｅ群から独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基、下記Ｅ群から独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ３－Ｃ８シクロアルキル基、もしくは下記Ｅ群から独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよい、窒素原子、酸素原子、および硫黄原子からなる群より独立に選択されるヘテロ原子を環内に１個有する３員乃至６員の飽和複素環基を示し、
環Ｚは、下記Ｅ群より独立に選ばれる置換基を１乃至４個有していてもよいベンゼン環、下記Ｅ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいピリジン環、もしくは下記Ｅ群より独立に選ばれる置換基を１もしくは２個有していてもよいピリミジン環を示す。］
Ａ群：ハロゲン原子、ヒドロキシ基、Ｃ１－Ｃ６アルキル基、アミノ基、フェニル基
Ｂ群：Ｃ１－Ｃ６アルキル基、ヒドロキシ基
Ｃ群：ハロゲン原子、ヒドロキシ基、フェニル基、ピリジル基、アミノ基
Ｄ群：ハロゲン原子、１乃至３個のハロゲン原子で有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基、
Ｅ群：ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ビニル基、エチニル基、シアノ基、Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基、アミノカルボニル基、ハロゲン原子を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基
（２）式（Ｉ）で示される化合物：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
および式（Ｖ）で示される化合物：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
を溶媒中で不斉触媒を用いて反応させ、
式（ＩＶ）で示される化合物もしくはその塩：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
を立体選択的に製造する方法。
［式（Ｉ）、式（Ｖ）、および式（ＩＶ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、およびＺは、（１）に記載のものと同義である。］
（３）不斉触媒が、ルイス酸および不斉配位子から調製される触媒であって、
該ルイス酸が、Ｚｎ（ＩＩ）ルイス酸、Ａｇ（Ｉ）ルイス酸、Ｎｉ（ＩＩ）ルイス酸、Ｃｏ（ＩＩ）ルイス酸、Ｒｕ（Ｉ）ルイス酸、Ｃｕ（Ｉ）ルイス酸、およびＣｕ（ＩＩ）ルイス酸からなる群から選ばれる１種のルイス酸であり、
該不斉配位子が、下記式（ＶＩ）で示される化合物：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
下記式（ＶＩＩ）で示される化合物：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
下記式（ＶＩＩＩ）で示される化合物：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
下記式（ＩＸ）で示される化合物：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
下記式（Ｘ）で示される化合物：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
下記式（ＸＩ）で示される化合物：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
および下記式（ＸＩＩ）で示される化合物：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
からなる群から選ばれる１種の不斉配位子である（１）もしくは（２）に記載の製造方法。
［式（ＶＩ）、式（ＶＩＩ）、式（ＶＩＩＩ）、式（ＩＸ）、式（Ｘ）、式（ＸＩ）、および式（ＸＩＩ）中、
Ｒ６は、下記Ｆ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいフェニル基を示し、
環Ｙは、ベンゼン環、シクロヘキサン環、もしくはハロゲン原子を１乃至４個有していてもよいジオキソラン環を示し、
Ｒ７は、下記Ｇ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいフェニル基、もしくは下記Ｇ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいフラニル基を示し、
Ｒ８は、水素原子、もしくはＣ１－Ｃ６アルコキシ基を示し、
Ｒ９は、Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基を示すか、または、
２つのＲ９が一緒になって、環内に酸素原子を２個含む７員乃至１２員の複素環を形成してもよく、
Ｘは、ＣＨ、ＣＲ１０、もしくは窒素原子を示し、
　Ｒ１０は、Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基を示し、
Ｖは、Ｐ（Ｒ１１）２、ＰＨ（Ｏ）Ｒ１２、もしくはＰ（Ｒ１１）２を１個有しているフェニル基を示し、
　Ｒ１１は、Ｃ１－Ｃ６アルキル基、シクロヘキシル基、もしくはトリフルオロメチル基を２個有していてもよいフェニル基を示し、
　Ｒ１２は、Ｃ１－Ｃ６アルキル基、もしくはフェニル基を示し、
Ｗは、Ｃ１－Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１－Ｃ６アルキル基を１個有していてもよいジヒドロオキサゾリル基、ＣＨ（ＣＨ３）Ｐ（Ｒ１３）２、もしくはＣＨＲ１４Ｒ１５を示し、
　Ｒ１３は、シクロヘキシル基、Ｃ１－Ｃ６アルキル基、または下記Ｈ群より独立に選択される１もしくは２個の置換基を有していてもよいフェニル基を示し、
　Ｒ１４は、Ｐ（Ｒ１６）２１個で置換されていてもよいフェニル基を示し、
　Ｒ１５は、Ｃ１－Ｃ６アルキル基、もしくはジＣ１－Ｃ６アルキルアミノ基を示し、
　　Ｒ１６は、フェニル基、もしくはシクロヘキシル基を示し、
Ｕは、下記Ｕａ乃至Ｕｄのいずれか１つを示し、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
Ｒ１７は、下記Ｆ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいフェニル基を示し、
Ｒ１８は、Ｃ１－Ｃ６アルキル基、もしくはフェニル基を示し、
Ｒ１９は、水素原子、もしくはＣ１－Ｃ６アルキル基を示し、
Ｒ２０およびＲ２１は、それぞれ独立に、Ｃ１－Ｃ６アルキル基を示す。］
Ｆ群：Ｃ１－Ｃ６アルキル基、Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基
Ｇ群：Ｃ１－Ｃ６アルキル基、Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基、ジＣ１－Ｃ６アルキルアミノ基
Ｈ群：Ｃ１－Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子３個を有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基
（４）不斉触媒の調製に用いるルイス酸が、Ｃｕ（Ｉ）ルイス酸、もしくはＣｕ（ＩＩ）ルイス酸である、（１）乃至（３）のいずれか１に記載の製造方法。
（５）不斉触媒の調製に用いるルイス酸が、ＣｕＯＡｃ、ＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ、ＣｕＩ、ＣｕＯＴｆ、ＣｕＰＦ６、ＣｕＢＦ４、Ｃｕ（ＯＡｃ）２、Ｃｕ（ＯＴｆ）２、およびＣｕＳＯ４からなる群から選ばれる１種のルイス酸である、（１）乃至（４）のいずれか１に記載の製造方法。
（６）不斉触媒の調製に用いる不斉配位子が、前記式（Ｖ）で示される化合物、前記式（ＶＩ）で示される化合物、前記式（ＶＩＩ）で示される化合物、前記式（ＶＩＩＩ）で示される化合物、前記式（ＩＸ）で示される化合物、前記式（Ｘ）で示される化合物、および前記式（ＸＩ）で示される化合物からなる群から選ばれる１種の不斉配位子である（１）乃至（５）のいずれか１に記載の製造方法。
［式（Ｖ）、式（ＶＩ）、式（ＶＩＩ）、式（ＶＩＩＩ）、式（ＩＸ）、式（Ｘ）、および式（ＸＩ）中、
Ｒ６が、メチル基、ｔ－ブチル基、およびメトキシ基からなる群より、独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいフェニル基を示し、
環Ｙが、ベンゼン環、シクロヘキサン環、もしくはジオキソラン環を示し、
Ｒ７が、フェニル基、もしくはフラニル基を示し、
　該フェニル基、および該フラニル基は、メチル基、ｔ－ブチル基、およびメトキシ基からなる群より、独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよく、
Ｒ８が、水素原子、もしくはメトキシ基を示し、
Ｒ９が、メトキシ基を示すか、または、
２つのＲ９が一緒になって、環内に酸素原子を２個含む９員の複素環を形成してもよく、
Ｘが、ＣＨ、ＣＲ１０、もしくは窒素原子を示し、
Ｒ１０が、メトキシ基を示し、
Ｖが、Ｐ（Ｒ１１）２を示し、
　Ｒ１１が、トリフルオロメチル基を２個有していてもよいフェニル基を示し、
Ｗが、ｔ－ブチルチオ基、１個のイソプロピル基によって置換されていてもよいジヒドロオキサゾリル基、もしくはＣＨ（ＣＨ３）Ｐ（Ｒ１３）２を示し、
　Ｒ１３が、１もしくは２個のメチル基を有していてもよいフェニル基を示し、
Ｕが、前記ＵａもしくはＵｄを示し、
Ｒ１７が、フェニル基を示し、
Ｒ１８が、イソプロピル基、ｔ－ブチル基、もしくはフェニル基を示し、
Ｒ１９が、水素原子を示し、
Ｒ２０およびＲ２１が、それぞれ独立に、メチル基もしくはｔ－ブチル基を示す。］
（７）不斉触媒の調製に用いる不斉配位子が、下記から選ばれる１種の不斉配位子である、（１）乃至（６）のいずれか１に記載の製造方法。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
 
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
（８）反応に使用される溶媒が、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、２－プロパノール、トルエン、および酢酸エチルからなる群から選ばれる1種もしくは複数の溶媒である、（１）乃至（７）のいずれか１に記載の製造方法。
（９）製造される化合物もしくはその塩が、下記に示す立体配置を有する、（１）乃至（８）のいずれか１に記載の製造方法。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
［式（ＸＩＩＩ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、およびＺは、（１）に記載のものと同義である。］
（１０）Ｒ１が、水素原子である、（１）乃至（９）のいずれか１に記載の製造方法。
（１１）前記式（Ｉ）において、
環Ｚが、ハロゲン原子を１個乃至４個有していてもよいベンゼン環である、
（１）乃至（１０）のいずれか１に記載の製造方法。
（１２）前記式（ＩＩ）もしくは前記式（Ｖ）において、
Ｒ２が、ハロゲン原子を１乃至４個有していてもよいピリジル基、ハロゲン原子を１乃至５個有していてもよいフェニル基である、
（１）乃至（１１）のいずれか１に記載の製造方法。
（１３）前記式（ＩＩ）もしくは前記式（Ｖ）において、
Ｒ３およびＲ４が、それぞれメチル基を示すか、または、Ｒ３とＲ４が一緒になって、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、もしくはテトラヒドロピラン環を形成し、
　該シクロペンタン環、該シクロヘキサン環、および該テトラヒドロピラン環は、環上に１乃至４個のＣ１―Ｃ６アルキル基を有していてもよい、
（１）乃至（１２）のいずれか１に記載の製造方法。
（１４）前記式（ＩＩＩ）もしくは前記式（Ｖ）において、
Ｒ５が、下記に示される置換基である、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
（１）乃至（１３）のいずれか１に記載の製造方法。
（１５）前記式（ＩＩＩ）もしくは前記式（Ｖ）において、
Ｒ５が、Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基である、
（１）乃至（１３）のいずれか１に記載の製造方法。
（１６）（１５）に記載の製造方法を用いて製造された化合物またはその塩を、
加水分解を行って、下記式（ＸＩＶ）で示される化合物もしくはその塩：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
を製造し、ＮＨＲ２２Ｒ２３で示される化合物と縮合させることにより、下記式（ＸＶ）で示される化合物もしくはその塩：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
を製造する方法。
［式（ＸＩＶ）、および式（ＸＶ）中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＺは、（１）乃至（１３）のいずれか１に記載の定義と同義であり、
　Ｒ２２およびＲ２３は、それぞれ独立に、水素原子、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキルスルホニル基、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよい、窒素原子、酸素原子、および硫黄原子からなる群より独立に選択されるヘテロ原子を環内に１個有する３員乃至６員の飽和複素環基、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいフェニル基、もしくは下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよい、窒素原子、酸素原子、および硫黄原子からなる群より独立に選択されるヘテロ原子を環内に１乃至３個有する５員もしくは６員のヘテロアリール基を示すか、または、
Ｒ２２とＲ２３が一緒になって下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいピペラジン環を形成してもよい。］
Ｉ群：ハロゲン原子、ヒドロキシ基、オキソ基、カルボキシ基、ホルミル基、アミノ基、アミノカルボニル基、シアノ基、Ｃ１－Ｃ６アルキルアミノ基、Ｃ１－Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ１－Ｃ６アルキルスルホニルアミド基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルコキシ基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキルカルボニル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキルカルボニル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ４－Ｃ６シクロアルキル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルコキシカルボニル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいピペリジニル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいピロリジニル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいピペラジニル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいフェニル基、テトラゾリル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいアゼチジニル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいモルホリノ基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいジヒドロピラゾリル基、オキサジアゾイル基
Ｊ群：ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシ基、アミノカルボニル基、フェニル基、Ｃ１－Ｃ６アルキル基、Ｃ１－Ｃ６アルキルアミノ基、ジＣ１－Ｃ６アルキルアミノ基、Ｃ１－Ｃ６アルキルカルボニル基、Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ１－Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ１－Ｃ６アルキルスルホニルアミド基
（１７）Ｒ２２が、水素原子を示し、
Ｒ２３が、下記に示される置換基である、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
（１６）に記載の製造方法。
（１８）式（ＸＶＩ）で示される化合物：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
式（ＸＶＩＩ）で示される化合物：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
および式（ＸＶＩＩＩ）で示される化合物：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
を溶媒中：
Ｃｕ（Ｉ）ルイス酸およびＣｕ（ＩＩ）ルイス酸からなる群より選ばれる１種のルイス酸と、下記から選ばれる１種の不斉配位子から調製した不斉触媒：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
を用いて反応させ、
式（ＸＩＸ）で示される化合物もしくはその塩：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
を立体選択的に製造する方法。
［式（ＸＶＩ）、式（ＸＶＩＩ）、式（ＸＶＩＩＩ）および式（ＸＩＸ）中、
Ｍは、窒素原子またはＣＨを示し、
Ｌは、単結合、酸素原子、ＣＨ２、またはＣ（ＣＨ３）２を示し、
Ｒ５３は、Ｃ１－Ｃ６アルキル基を示す。］
（１９）式（ＸＶＩ）で示される化合物：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
および式（ＸＸ）で示される化合物：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
を溶媒中：
Ｃｕ（Ｉ）ルイス酸およびＣｕ（ＩＩ）ルイス酸からなる群より選ばれる１種のルイス酸と、下記から選ばれる１種の不斉配位子から調製した不斉触媒：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
を用いて反応させ、
式（ＸＩＸ）で示される化合物もしくはその塩：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
を立体選択的に製造する方法。
［式（ＸＶＩ）、式（ＸＸ）、および式（ＸＩＸ）中、
Ｍ、Ｌ、およびＲ５３は、（１９）に記載のものと同義である。］
（２０）（１８）もしくは（１９）に記載の製造方法を用いて製造された化合物またはその塩を、
加水分解を行って、下記式（ＸＸＩ）で示される化合物もしくはその塩：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
を製造し、下記に示される化合物：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
と縮合させることにより、下記式（ＸＸＩＩ）で示される化合物もしくはその塩：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
を製造する方法。
［式（ＸＸＩ）、および式（ＸＸＩＩ）中、
ＭおよびＬは、（１８）もしくは（１９）に記載の定義と同義である。］
　本発明によって、スピロオキシインドール骨格を有する化合物、例えば、スピロオキシインドール骨格を有しＭｄｍ２蛋白質とｐ５３蛋白質の相互作用を阻害する抗腫瘍活性を有する化合物を立体選択的に効率的かつ安価に合成することができる。
　本発明において、「ハロゲン原子」は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
　本発明において、「Ｃ１－Ｃ６アルキル基」は、炭素数１乃至６個の直鎖または分枝鎖アルキル基であり、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、２－メチルブチル基、ネオペンチル基、１－エチルプロピル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、または４－メチルペンチル基である。
本発明において、「Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基」は、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、またはシクロヘキシル基である。
　本発明において、「Ｃ３－Ｃ４シクロアルキル基」は、シクロプロピル基、またはシクロブチル基である。
　本発明において、「Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基」は、１個の上記Ｃ１－Ｃ６アルキル基がオキシ基に置換した基を意味し、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ‐ブトキシ基、ｔ‐ブトキシ基、ペントキシ基、イソペントキシ基、２‐メチルブトキシ基、ヘキシルオキシ、またはイソヘキシルオキシ基である。
　本発明において、「Ｃ３－Ｃ６シクロアルコキシ基」は、１個の上記Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基がオキシ基に置換した基を意味し、シクロプロポキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、またはシクロヘキシルオキシ基である。
　本発明において、「Ｃ３－Ｃ４シクロアルコキシ基」は、シクロプロポキシ基、またはシクロブトキシ基である。
　本発明において、「Ｃ３－Ｃ８シクロアルコキシ基」は、シクロプロポキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、またはシクロオクチルオキシ基である。
　本発明において、「Ｃ１－Ｃ６アルキルチオ基」は、１個の上記Ｃ１－Ｃ６アルキル基がチオ基に置換した基を意味する。例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、またはイソプロピルチオ基等が挙げられる。
　本発明において、「Ｃ１－Ｃ６アルキルスルホニル基」は、１個の上記Ｃ１－Ｃ６アルキル基がスルホニル基に置換した基を意味する。例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、またはイソプロピルスルホニル基等が挙げられる。
　本発明において、「Ｃ１－Ｃ６アルキルスルホニルアミド基」は、１個の上記Ｃ１－Ｃ６アルキルスルホニル基がアミノ基に置換した基を意味する。例えば、メチルスルホニルアミド基、エチルスルホニルアミド基、プロピルスルホニルアミド基、またはイソプロピルスルホニルアミド基等が挙げられる。
　本発明において、「Ｃ１－Ｃ６アルキルカルボニル基」は、１個の上記Ｃ１－Ｃ６アルキル基がカルボニル基に置換した基を意味する。例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、またはイソプロピルカルボニル基等が挙げられる。
　本発明において、「Ｃ１－Ｃ６アルコキシカルボニル基」は、１個の上記Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基がカルボニル基に置換した基を意味する。例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、またはイソプロポキシカルボニル基等が挙げられる。
　本発明において、「Ｃ３－Ｃ６シクロアルキルカルボニル基」は、１個の上記Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基がカルボニル基に置換した基を意味し、シクロプロピルカルボニル基、シクロブチルカルボニル基、シクロペンチルカルボニル基、またはシクロヘキシルカルボニル基である。
　本発明において、「Ｃ３－Ｃ６シクロアルコキシカルボニル基」は、１個の上記Ｃ３－Ｃ６シクロアルコキシ基がカルボニル基に置換した基を意味し、シクロプロポキシカルボニル基、シクロブトキシカルボニル基、シクロペンチルオキシカルボニル基、またはシクロヘキシルオキシカルボニル基である。
　本発明において、「Ｃ１－Ｃ６アルキルアミノ基」は、１個の上記Ｃ１－Ｃ６アルキル基がアミノ基に置換した基を意味する。例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、またはイソプロピルアミノ基等が挙げられる。
　本発明において、「ジＣ１－Ｃ６アルキルアミノ基」は、同一または異なる２個の上記Ｃ１－Ｃ６アルキル基がアミノ基に置換した基を意味する。例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、またはジイソプロピルアミノ基等が挙げられる。
　本発明において、「Ｃ１－Ｃ６アルキルアミノカルボニル基」は、１個の上記Ｃ１－Ｃ６アルキルアミノ基がカルボニル基に置換した基を意味する。例えば、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、またはイソプロピルアミノカルボニル基等が挙げられる。
　本発明において、「Ｃ３－Ｃ６シクロアルキルアミノカルボニル基」は、１個の上記Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基が、（－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－）基のアミノ基側に結合した基を意味し、シクロプロピルアミノカルボニル基、シクロブチルアミノカルボニル基、シクロペンチルアミノカルボニル基、またはシクロヘキシルアミノカルボニル基である。
　本発明において、「Ｃ３－Ｃ８シクロアルキルアミノ基」は、１個の上記Ｃ３－Ｃ８シクロアルキル基がアミノ基に結合した基を意味し、シクロプロピルアミノ基、シクロブチルアミノ基、またはシクロペンチルアミノ基である。
　本発明において、「Ｃ２－Ｃ６アルケニルオキシ基」は、炭素数２乃至６個の直鎖または分枝鎖Ｃ２－Ｃ６アルケニル基がオキシ基に結合した基を意味する。例えば、ビニルオキシ基、アリルオキシ基、またはイソプロペニルオキシ基等が挙げられる。
　本発明において、「Ｃ３－Ｃ６シクロアルケニル基」は、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、またはシクロヘキセニル基である。
　本発明において、「５員もしくは６員のヘテロアリール基」は、環の構成原子に炭素以外に１乃至３個の窒素原子、酸素原子、および硫黄原子からなる群よりそれぞれ独立に選ばれる原子を含む５員もしくは６員の単環の芳香族化合物から導かれる基を意味する。例えば、フラニル基、チエニル基、ピロリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジル基、ピリミジニル基、またはピリダジニル基等が挙げられる。
　本発明において、「３員乃至６員の飽和複素環基」は、環の構成原子に炭素以外に１個の窒素原子、酸素原子、および硫黄原子からなる群より選ばれる原子を含む３員乃至６員の単環の飽和複素環式化合物から導かれる基を意味する。例えば、アジリジニル基、オキシラニル基、チイラニル基、アゼチジル基、オキセタニル基、チエタニル基、ピロリジニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチイニル基、ピペリジニル基、テトラヒドロピラニル基、またはテトラヒドロチオピラニル基等が挙げられる。
　本発明において、「不斉触媒」は、不斉合成に用いられる触媒を意味する。例えば、触媒中に金属原子を有する触媒等が挙げられる。
本発明において、「ルイス酸」は、電子対を受け取ることが出来る物質を意味する。例えば、Ｚｎ（ＯＴｆ）２、ＡｇＯＡｃ、Ｃｕ（ＯＴｆ）２、ＣｕＯＡｃ、Ｎｉ（ＯＡｃ）２、Ｃｏ（ＯＡｃ）２、ＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ、ＣｕＩ、ＣｕＰＦ６、ＣｕＢＦ４、Ｃｕ（ＯＡｃ）２、Ｃｕ（ＯＴｆ）２、またはＣｕＳＯ４等が挙げられる。
　本発明において、「不斉配位子」は、不斉を有し、金属と配位結合をすることが出来る物質を意味し、単座配位子だけでなく、多座配位子をも含む。例えば、ＢＩＮＡＰ誘導体、ＭｅＢＩＰＨＥＰ誘導体、ＴｕｎｅＰＨＯＳ誘導体、Ｐ－Ｐｈｏｓ誘導体、ＪＯＳＩＰＨＯＳ誘導体、Ｗａｌｐｈｏｓ誘導体、ＦＥＳＵＬＰＨＯＳ誘導体、Ｔａｎｉａｐｈｏｓ誘導体、Ｊｏｓｐｏｐｈｏｓ誘導体、ＦＯＸＡＰ誘導体、Ｍａｎｄｙｐｈｏｓ誘導体、Ｆｅｒｒｏｃｅｌａｎｅ誘導体、ＰＨＯＸ誘導体、またはＱｕｉｎｏｘＰ誘導体等が挙げられる。
　本発明において、「不斉を有する」とは、不斉中心、不斉軸、または不斉面を有することを意味する。
　本発明において、「＊」は、不斉中心、または不斉軸を意味する。
　本発明において、「Ｃｙ」とは、シクロペンチル基の略称である。
　本発明において、「ケチミン」とは、ケトンとアミンから生成したイミンを意味し、ケトンのカルボニル基がアミンの窒素原子によって置換された構造を有する化合物である。
　本発明の式（Ｉ）で表される化合物、式（ＩＩ）で表される化合物、式（ＩＩＩ）で表される化合物、式（ＩＶ）で表される化合物もしくはその塩、式（Ｖ）で表される化合物、式（ＶＩ）で表される化合物、式（ＶＩＩ）で表される化合物、式（ＶＩＩＩ）で表される化合物、式（ＩＸ）で表される化合物、式（Ｘ）で表される化合物、式（ＸＩ）で表される化合物、式（ＸＩＩ）で表される化合物、式（ＸＩＩＩ）で表される化合物もしくはその塩、式（ＸＩＶ）で表される化合物もしくはその塩、式（ＸＶ）で表される化合物もしくはその塩、式（ＸＶＩ）で表される化合物、式（ＸＶＩＩ）で表される化合物、式（ＸＶＩＩＩ）で表される化合物、式（ＸＩＸ）で表される化合物もしくはその塩、式（ＸＸ）で表される化合物、式（ＸＸＩ）で表される化合物もしくはその塩、および式（ＸＸＩＩ）で表される化合物もしくはその塩は、全ての異性体（ジアステレオ異性体、光学異性体、幾何異性体、回転異性体等）が包含される。
　式（Ｉ）で表される化合物、式（ＩＩ）で表される化合物、式（ＩＩＩ）で表される化合物、式（ＩＶ）で表される化合物もしくはその塩、式（Ｖ）で表される化合物、式（ＶＩ）で表される化合物、式（ＶＩＩ）で表される化合物、式（ＶＩＩＩ）で表される化合物、式（ＩＸ）で表される化合物、式（Ｘ）で表される化合物、式（ＸＩ）で表される化合物、式（ＸＩＩ）で表される化合物、式（ＸＩＩＩ）で表される化合物もしくはその塩、式（ＸＩＶ）で表される化合物もしくはその塩、式（ＸＶ）で表される化合物もしくはその塩、式（ＸＶＩ）で表される化合物、式（ＸＶＩＩ）で表される化合物、式（ＸＶＩＩＩ）で表される化合物、式（ＸＩＸ）で表される化合物もしくはその塩、式（ＸＸ）で表される化合物、一般式（ＸＸＩ）で表される化合物もしくはその塩、および式（ＸＸＩＩ）で表される化合物もしくはその塩においては、これらの異性体およびこれらの異性体の混合物がすべて単一の式で示されている。従って、本発明はこれらの異性体およびこれらの異性体の任意の割合の混合物をもすべて含むものである。
　本発明の式（ＩＶ）で示される化合物、式（ＸＩＩＩ）で示される化合物、式（ＸＩＶ）で示される化合物、式（ＸＶ）で示される化合物、式（ＸＩＸ）で示される化合物、式（ＸＸＩ）で示される化合物、および式（ＸＸＩＩ）で示される化合物は、塩基性の基を有する場合には酸と反応させることにより、または酸性の基を有する場合には塩基と反応させることにより、塩にすることができる。
塩基性基に基づく塩としては、例えば、フッ化水素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩のようなハロゲン化水素酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、燐酸塩のような無機酸塩、メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩のようなＣ１－Ｃ６アルキルスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ－トルエンスルホン酸塩のようなアリ－ルスルホン酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、酒石酸塩、マレイン酸塩のようなカルボン酸塩を挙げることができる。
一方、酸性基に基づく塩としては、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩のようなアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩のようなアルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、鉄塩等の金属塩；アンモニウム塩のような無機塩、ｔ－オクチルアミン塩、ジベンジルアミン塩、モルホリン塩、グルコサミン塩、フェニルグリシンアルキルエステル塩、エチレンジアミン塩、Ｎ－メチルグルカミン塩、グアニジン塩、ジエチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ’－ジベンジルエチレンジアミン塩、クロロプロカイン塩、プロカイン塩、ジエタノールアミン塩、Ｎ－ベンジルフェネチルアミン塩、ピペラジン塩、テトラメチルアンモニウム塩、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン塩のような有機塩等のアミン塩；及び、グリシン塩、リジン塩、アルギニン塩、オルニチン塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩のようなアミノ酸塩を挙げることができる。
　本発明の式（ＩＶ）で示される化合物もしくはその塩、式（ＸＩＩＩ）で示される化合物もしくはその塩、式（ＸＩＶ）で示される化合物もしくはその塩、式（ＸＶ）で示される化合物もしくはその塩、式（ＸＩＸ）で示される化合物もしくはその塩、式（ＸＸＩ）で示される化合物もしくはその塩、および式（ＸＸＩＩ）で示される化合物もしくはその塩は、大気中に放置したり、又は、再結晶したりすることにより、水分子を取り込んで、水和物となる場合があり、そのような水和物も塩に包含される。
　本発明の式（ＩＶ）で示される化合物もしくはその塩、式（ＸＩＩＩ）で示される化合物もしくはその塩、式（ＸＩＶ）で示される化合物もしくはその塩、式（ＸＶ）で示される化合物もしくはその塩、式（ＸＩＸ）で示される化合物もしくはその塩、式（ＸＸＩ）で示される化合物もしくはその塩、および式（ＸＸＩＩ）で示される化合物もしくはその塩は、溶媒中に放置されたり、又は、再結晶したりすることにより、ある種の溶媒を吸収し、溶媒和物となる場合があり、そのような溶媒和物も塩に包含される。
　溶媒としては、例えば、テトラヒドロフランや１，２－ジメトキシエタンなどのエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、２－プロパノール等のアルコール系溶媒、トルエン等の炭化水素系溶媒、アセトニリトリル等のニトリル系溶媒、並びに酢酸エチル等の脂肪族エステル系溶媒、あるいはN,N-ジメチルアセトアミドやN,N-ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒等などが挙げられる。
　次に、本発明における好適な態様について説明する。
　式（Ｉ）で示される化合物、式（ＩＩ）で示される化合物、式（ＩＩＩ）で示される化合物、式（ＩＶ）で示される化合物、式（Ｖ）で示される化合物、式（ＸＩＩＩ）で示される化合物、式（ＸＩＶ）で示される化合物、および式（ＸＶ）で示される化合物の好適な各置換基を以下に示す。
　Ｒ１は、水素原子、Ｃ１－Ｃ６アルキルカルボニル基、もしくはフェニル基を１個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルコキシカルボニル基を示す。より好適には、水素原子、アセチル基、ｔ－ブトキシカルボニル基、もしくはベンジルオキシカルボニル基である。さらに好適には、水素原子である。
　Ｒ２は、窒素原子、酸素原子、および硫黄原子からなる群より独立に選択されるヘテロ原子を環内に１乃至３個有する５員もしくは６員のヘテロアリール基、フェニル基を示し、該５員もしくは６員のヘテロアリール基、該フェニル基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、アミノカルボニル基、およびＣ１－Ｃ６アルキル基からなる群から独立に選択される置換基を１乃至３個有していてもよい。
より好適には、１乃至３個のハロゲン原子を有していてもよいフェニル基、もしくは１乃至３個のハロゲン原子を有していてもよいピリジル基である。さらに好適には、１個のフッ素原子および１個の塩素原子を有しているフェニル基、もしくは１個のフッ素原子および１個の塩素原子を有しているピリジル基である。
　環Ｚは、ハロゲン原子を１乃至４個有していてもよいベンゼン環であり、より好適には、塩素原子を１個有しているベンゼン環である。
　Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、およびアミノ基からなる群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基を示す。より好適には、いずれもが、同じＣ１－Ｃ６アルキル基である。さらに好適には、いずれもが、メチル基である。
　Ｒ３およびＲ４の別の態様の一つとしては、Ｒ３およびＲ４が一緒になって、環上に１乃至３個のＣ１－Ｃ６アルキル基を有してもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル環、環上に１乃至３個のＣ１－Ｃ６アルキル基を有してもよい１乃至３個のピペリジン環、もしくは環上に１乃至３個のＣ１－Ｃ６アルキル基を有してもよいテトラヒドロピラン環を形成することが好ましい。形成する環としては、より好適には、環上に１乃至３個のＣ１－Ｃ６アルキル基を有してもよいシクロペンタン環、環上に１乃至３個のＣ１－Ｃ６アルキル基を有してもよいシクロヘキサン環、環上に１乃至３個のＣ１－Ｃ６アルキル基を有してもよいテトラヒドロピラン環であり、さらに好適には、４，４－ジメチルシクロヘキサン環を形成することが好ましい。
　Ｒ５は、Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基、Ｃ３－Ｃ８シクロアルコキシ基、Ｃ２－Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ１－Ｃ６アルキルアミノ基、Ｃ３－Ｃ８シクロアルキルアミノ基、もしくはテトラヒドロピラニルアミノ基を示す。より好適には、Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基またはテトラヒドロピラニルアミノ基であり、さらに好適には、Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基である。
　Ｒ２２およびＲ２３は、それぞれ独立に、水素原子、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキルスルホニル基、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいアゼチジニル基、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいピロリジニル基、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいピぺリジニル基、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいピペラジニル基、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいモルホリノ基、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいフェニル基、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいピリジル基、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいピリミジニル基、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいピリダジニル基、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいピロリル基、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいピラゾリル基、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいイミダゾリル基、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいオキサゾリル基、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいオキサジアゾリル基、もしくは下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいトリアゾリル基を示す。
Ｉ群：ハロゲン原子、ヒドロキシ基、オキソ基、カルボキシ基、ホルミル基、アミノ基、アミノカルボニル基、シアノ基、Ｃ１－Ｃ６アルキルアミノ基、Ｃ１－Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ１－Ｃ６アルキルスルホニルアミド基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルコキシ基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキルカルボニル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキルカルボニル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ４－Ｃ６シクロアルキル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルコキシカルボニル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいピペリジニル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいピロジニル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいピペラジニル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいフェニル基、テトラゾリル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいアゼチジル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいモルホリル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいジヒドロピラゾリル基、オキサジアゾイル基
Ｊ群：ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシ基、アミノカルボニル基、フェニル基、Ｃ１－Ｃ６アルキル基、Ｃ１－Ｃ６アルキルアミノ基、ジＣ１－Ｃ６アルキルアミノ基、Ｃ１－Ｃ６アルキルカルボニル基、Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ１－Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ１－Ｃ６アルキルスルホニルアミド基
Ｒ２２およびＲ２３は、より好適には、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、メチルスルホニル基、もしくは下記Ｔ１乃至Ｔ３５のいずれかである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
　Ｍは、窒素原子またはＣＨであり、より好適には、窒素原子である。
　Ｌは、ＣＨ２またはＣ（ＣＨ３）２であり、より好適には、Ｃ（ＣＨ３）２である。
Ｒ５３は、Ｃ１－Ｃ６アルキル基である。
式（Ｉ）で示される化合物の好適な置換基の組み合わせは、Ｒ１が、水素原子であり、Ｒ２が、１個のフッ素原子および１個の塩素原子を有しているフェニル基であり、環Ｚが、塩素原子を１個有しているベンゼン環である。
　式（Ｖ）で示される化合物の好適な置換基の組み合わせは、Ｒ３およびＲ４が、４，４－ジメチルシクロヘキサン環を形成し、Ｒ５が、Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基である。
　本発明において、式（ＩＶ）で示される化合物、式（ＸＩＩＩ）で示される化合物の好適な置換基の組み合わせは、Ｒ１が、水素原子であり、Ｒ２が、１個のフッ素原子および１個の塩素原子を有しているフェニル基であり、環Ｚが、塩素原子を１個有しているベンゼン環であり、Ｒ３およびＲ４が、４，４－ジメチルシクロヘキサン環を形成し、Ｒ５が、Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基である。
　式（ＸＩＶ）で示される化合物の好適な置換基の組み合わせは、Ｒ１が、水素原子であり、Ｒ２が、１個のフッ素原子および１個の塩素原子を有しているフェニル基であり、環Ｚが、塩素原子を１個有しているベンゼン環であり、Ｒ３およびＲ４が、４，４－ジメチルシクロヘキサン環を形成しているものである。
　式（ＸＶ）で示される化合物の好適な各置換基の組み合わせは、Ｒ１が、水素原子であり、Ｒ２が、１個のフッ素原子および１個の塩素原子を有しているフェニル基であり、環Ｚが、塩素原子を１個有しているベンゼン環であり、Ｒ３およびＲ４が、４，４－ジメチルシクロヘキサン環を形成しており、Ｒ２２およびＲ２３が、上記Ｔ２４である。
　式（ＸＩＸ）で示される化合物の好適な各置換基の組み合わせは、Ｍが、窒素原子であり、Ｌが、Ｃ（ＣＨ３）２であり、Ｒ５３がＣ１－Ｃ６アルキル基である。
　式（ＸＸ）で示される化合物の好適な置換基の組み合わせは、Ｌが、Ｃ（ＣＨ３）２であり、Ｒ５３が、Ｃ１－Ｃ６アルキル基である。
　式（ＸＸＩ）で示される化合物および式（ＸＸＩＩ）で示される化合物の好適な置換基の組み合わせは、Ｍが、窒素原子であり、Ｌが、Ｃ（ＣＨ３）２である。
　次に、式（ＶＩ）で示される化合物、式（ＶＩＩ）で示される化合物、式（ＶＩＩＩ）で示される化合物、式（ＩＸ）で示される化合物、式（Ｘ）で示される化合物、式（ＸＩ）、および式（ＸＩＩ）で示される化合物の好適な化合物について説明する。
式（ＶＩ）で示される化合物は、ＢＩＮＡＰ誘導体であり、好適には、下記に示すいずれかの化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
より好適には、下記に示すいずれかの化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
式（ＶＩＩ）で示される化合物は、ＭｅＢＩＯＰＨＥＰ誘導体、Ｐ－Ｐｈｏｓ誘導体、およびＴｕｎｅＰＨＯＳ誘導体であり、好適には、下記に示すいずれかの化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
より好適には、下記に示すいずれかの化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
式（ＶＩＩＩ）で示される化合物は、ＪＯＳＩＰＨＯＳ誘導体、Ｗａｌｐｈｏｓ誘導体、ＦＥＳＵＬＰＨＯＳ誘導体、Ｔａｎｉａｐｈｏｓ誘導体、Ｊｏｓｐｏｐｈｏｓ誘導体、ＦＯＸＡＰ誘導体であり、好適には、下記に示すいずれかの化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
 
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
 
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
より好適には、下記に示すいずれかの化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
式（ＩＸ）で示される化合物は、Ｍａｎｄｙｐｈｏｓ誘導体であり、好適には、下記に示すいずれかの化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
式（Ｘ）で示される化合物は、Ｆｅｒｒｏｃｅｌａｎｅ誘導体であり、好適には、下記に示すいずれかの化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000088
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000089
式（ＸＩ）で示される化合物は、ＰＨＯＸ誘導体であり、好適には、下記に示すいずれかの化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090
式（ＸＩＩ）で示される化合物は、ＱｕｉｎｏｘＰ誘導体であり、好適には、下記に示す化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000091
　本発明において、ルイス酸は、ＣｕＯＡｃ、ＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ、ＣｕＩ、ＣｕＯＴｆ、ＣｕＰＦ６、ＣｕＢＦ４、Ｃｕ（ＯＡｃ）２、Ｃｕ（ＯＴｆ）２、もしくはＣｕＳＯ４であり、より好適には、ＣｕＯＡｃ、もしくはＣｕ（ＯＡｃ）２である。
本発明において、ルイス酸と不斉配位子の好適な組み合わせは、ルイス酸はＣｕＯＡｃ、もしくはＣｕ（ＯＡｃ）２であり、不斉配位子は下記に示す化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000092
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000093
　本発明において、好適な溶媒は、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、２－プロパノール、トルエン、および酢酸エチルからなる群から選ばれる1もしくは２である。より好適には、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、および酢酸エチルからなる群から選ばれる１もしくは２種である。また、溶媒は任意の割合で混合したものを用いることもできる。
　次に本発明について説明する。本発明の反応条件はこれらに限定して解釈されるべきではない。本発明では、化合物の官能基を適当な保護基で保護する場合がある。このような官能基としては、例えば水酸基、カルボキシ基、アミノ基等を挙げることができ、保護基の種類、並びにそれらの保護基の導入と除去の条件は、例えばＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ（Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎ　ａｎｄ　Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ，Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ，２００６）に記載のものを参考にすることができる。
［製造法］
１）式（ＩＶ）で示される化合物の製造方法
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000094
式（ＩＶ）で示される化合物は、ルイス酸と不斉配位子から調製された不斉触媒および溶媒の存在下、式（Ｉ）で示される化合物と式（ＩＩ）で示される化合物、および式（ＩＩＩ）で示される化合物を反応させることにより得られる。また式（ＩＶ）で示される化合物は、予め、式（ＩＩ）で示される化合物、および式（ＩＩＩ）で示される化合物から式（Ｖ）で示される化合物（ケチミン）を生成させた後に、式（Ｉ）で示される化合物と反応させることによっても得ることができる。
　反応は、好ましくは、塩基存在下で行うのがよい。
　式（Ｉ）で表される化合物は、各種文献に基づき製造することができる。（例えば、ＷＯ２００６／０９１６４６、ＷＯ２０１２／１２１３６１等）。
　式（ＩＩ）で示される化合物の使用量は、式（Ｉ）で表される化合物に対して０．５等量から１０等量の範囲であり、好ましくは、式（Ｉ）で表される化合物に対して１．０等量から３．０等量の範囲である。
　式（ＩＩＩ）で示される化合物の使用量は、式（Ｉ）で示される化合物に対して０．５等量から１０等量の範囲であり、好ましくは、式（Ｉ）で示される化合物に対して１．０等量から３．０等量の範囲である。
　ルイス酸は、例えば、Ｚｎ（ＩＩ）ルイス酸、Ａｇ（Ｉ）ルイス酸、Ｎｉ（ＩＩ）ルイス酸、Ｃｏ（ＩＩ）ルイス酸、Ｒｕ（Ｉ）ルイス酸、Ｃｕ（Ｉ）ルイス酸、Ｃｕ（ＩＩ）ルイス酸等を用いることができ、好ましくは、ＣｕＯＡｃ、ＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ、ＣｕＩ、ＣｕＯＴｆ、Ｃｕ（ＣＨ３ＣＮ）４ＰＦ６、Ｃｕ（ＣＨ３ＣＮ）４ＢＦ４、Ｃｕ（ＯＡｃ）２、Ｃｕ（ＯＴｆ）２、またはＣｕＳＯ４である。
　ルイス酸と不斉配位子の使用量は、式（Ｉ）で示される化合物に対して、ルイス酸が０．０１から１００ｍｏｌ％の範囲の際に、配位子をルイス酸の０．８から３.０等量の範囲で加えるのが良く、好ましくは、化合物（Ｉ）に対して、ルイス酸が０．５から２０ｍｏｌ％の範囲の際に、配位子をルイス酸の１．０１から２．４等量の範囲で加えるのがよい。
　不斉配位子は、例えば、ＢＩＮＡＰ誘導体、ＭｅＢＩＰＨＥＰ誘導体、ＴｕｎｅＰＨＯＳ誘導体、Ｐ－Ｐｈｏｓ誘導体、ＪＯＳＩＰＨＯＳ誘導体、Ｗａｌｐｈｏｓ誘導体、ＦＥＳＵＬＰＨＯＳ誘導体、Ｔａｎｉａｐｈｏｓ誘導体、Ｊｏｓｐｏｐｈｏｓ誘導体、ＦＯＸＡＰ誘導体、Ｍａｎｄｙｐｈｏｓ誘導体、Ｆｅｒｒｏｃｅｌａｎｅ誘導体、ＰＨＯＸ誘導体、ＱｕｉｎｏｘＰ誘導体を用いることができ、好ましくは、ＢＩＮＡＰ誘導体、Ｔｕｎｅｐｈｏｓ誘導体、ＭｅＢＩＰＨＥＰ誘導体、Ｐ－Ｐｈｏｓ誘導体、ＪＯＳＩＰＨＯＳ誘導体、ＦＯＸＡＰ誘導体、ＦＥＳＵＬＰＨＯＳ誘導体等である。
　不斉配位子は、例えばＡｌｄｒｉｃｈ、ＴＣＩ、ＷＡＫＯ、ＳＴＲＥＭ等より購入することが可能である。
塩基は、例えば、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン等の３級アミン、ナトリウムエトキシド、ｔ－ブトキシカリウム等の有機塩基、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、酢酸ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、酢酸カリウム等の無機塩基等を用いることができ、好ましくは、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン等の３級アミンであり、より好ましくは、トリエチルアミンである。
塩基使用量は、式（Ｉ）で示される化合物に対して、０．０１等量から１０等量の範囲であり、好ましくは、式（Ｉ）で示される化合物に対して０．０１等量から０．２等量の範囲である。
　溶媒は、例えば、テトラヒドロフランや１，２－ジメトキシエタンなどのエーテル系、並びにメタノール、エタノール、２－プロパノール等のアルコール系溶媒、トルエン等の炭化水素系溶媒、アセトニリトリル等のニトリル系溶媒、並びに酢酸エチル等の脂肪族エステル系溶媒、あるいはN,N-ジメチルアセトアミドやN,N-ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒等を単独または任意の比率で混合して用いることができ、好ましくは、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、および酢酸エチル等の脂肪族エステル系溶媒を単独または任意の比率で混合して用いるのがよい。
溶媒使用量は、化合物（Ｉ）に対して１倍量から１００倍量の範囲であり、好ましくは、式（Ｉ）で示される化合物に対して５倍量から５０倍量の範囲であり、より好ましくは、式（Ｉ）で示される化合物に対して８倍量から２５倍量の範囲である。
反応温度は、－８８℃から使用溶媒の沸点の範囲であり、好ましくは、－２０℃から６０℃の範囲である。
　反応時間は、３０分から９６時間の範囲であり、好ましくは、３０分から６４時間の範囲であり、より好ましくは、３０分から４８時間の範囲である。
 
２）式（ＸＩＶ）で示される化合物の製造方法
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000095
式（ＸＩＶ）で示される化合物は、式（ＩＶ）で示される化合物（Ｒ５が、－ＮＲ５１Ｒ５２でない場合）を加水分解することにより得られる。
　加水分解は溶媒中で、塩基または酸を添加して行うことができる。
　塩基は、例えば、ナトリウムエトキシド、ｔ－ブトキシカリウム等の有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基等を用いることができ、好ましくは、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム等の無機塩基であり、より好ましくは、水酸化ナトリウムである。
塩基使用量は、式（ＩＶ）で示される化合物に対して１等量から１０等量の範囲であり、好ましくは、式（ＩＶ）で示される化合物に対して１等量から５等量の範囲であり、より好ましくは、式（ＩＶ）で示される化合物に対して１等量から３等量の範囲である。
　酸は、例えば、フッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸のようなハロゲン化水素酸、硝酸、過塩素酸、硫酸、燐酸のような無機酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、エタンスルホン酸のようなＣ１－Ｃ６アルキルスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸のようなアリ－ルスルホン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸のようなカルボン酸であり、好ましくは、トリフルオロ酢酸、塩酸である。
　酸使用量は、式（ＩＶ）で示される化合物に対して１等量から１００等量の範囲であり、好ましくは、式（ＩＶ）で示される化合物に対して１等量から１０等量の範囲である。
溶媒は、例えば、テトラヒドロフランや１，２－ジメトキシエタンなどのエーテル系、並びにメタノール、エタノール、２－プロパノール等のアルコール系溶媒、トルエン等の炭化水素系溶媒、アセトニリトリル等のニトリル系溶媒、並びに酢酸エチル等の脂肪族エステル系溶媒、あるいはN,N-ジメチルアセトアミドやN,N-ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒等、ジクロロメタンやクロロホルムなどのハロゲン系溶媒等を単独もしくは任意の比率で混合して用いることができ、好ましくは、ジクロロメタンなどのハロゲン系溶媒、メタノール等のアルコール系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒ならびメタノール等のアルコール系溶媒の混合溶媒がよい。
溶媒使用量は、式（ＩＶ）で示される化合物に対して１倍量から１００倍量の範囲であり、好ましくは、式（ＩＶ）で示される化合物に対して５倍量から５０倍量の範囲であり、より好ましくは、式（ＩＶ）で示される化合物に対して８倍量から２５倍量の範囲である。
反応温度は、－８８℃から使用溶媒の沸点の範囲であり、好ましくは、－２０℃から６０℃の範囲である。
　反応時間は、３０分から９６時間の範囲であり、好ましくは、３０分から６４時間の範囲であり、より好ましくは、３０分から４８時間の範囲である。
３）式（ＸＶ）で示される化合物の製造方法
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
式（ＸＶ）で示される化合物は、溶媒中、式（ＸＩＶ）で示される化合物と、アミンであるＮＨＲ２２Ｒ２３とを縮合剤を用いて縮合させることにより得られる。アミンは、各種文献に基づき製造することが可能である。（例えば、ＷＯ２００６／０９１６４６、ＷＯ２０１２／１２１３６１等）。
　アミンの使用量は、式（ＸＩＶ）で示される化合物に対して、０．５等量から１０等量の範囲であり、好ましくは、式（ＸＩＶ）で示される化合物に対して１．０等量から２．０等量の範囲である。
　縮合剤は、例えば、アゾジカルボン酸ジエチルエステル－トリフェニルホスフィンのようなアゾジカルボン酸ジ低級アルキルエステル－トリフェニルホスフィン類、Ｎ，Ｎ’－ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、１－エチル－３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（ＥＤＣＩ）のようなカルボジイミド誘導体、２－クロル－１－メチルピリジニウムヨージドのような２－ハロ－１－低級アルキルピリジニウムハライド類、ジフェニルホスホリルアジド（ＤＰＰＡ）のようなジアリールホスホリルアジド類、ジエチルホスホリルクロリドのようなホスホリルクロリド類、Ｎ，Ｎ’－カルボジイミダゾール（ＣＤＩ）のようなイミダゾール誘導体、ベンゾトリアゾール－１－イルオキシ－トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウム　ヘキサフルオロホスフェート（ＢＯＰ）、Ｏ－（ベンゾトリアゾール－１－イル）－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート（ＨＢＴＵ）、Ｏ－（７－アザベンゾトリアゾール－１－イル）－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート（ＨＡＴＵ）、（１Ｈ－ベンゾトリアゾール－１－イルオキシ）トリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート（ＰｙＢＯＰ）のようなベンゾトリアゾール誘導体等、４－（４,６－ジメトキシ－１,３,５－トリアジン－２－イル）－４－メチルモルホニウムクロリド（ＤＭ－ＴＭＭ）のようなトリアジン誘導体である。好ましくは、１－エチル－３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（ＥＤＣＩ）、Ｏ－（ベンゾトリアゾール－１－イル）－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート（ＨＢＴＵ）、Ｏ－（７－アザベンゾトリアゾール－１－イル）－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート（ＨＡＴＵ）、（１Ｈ－ベンゾトリアゾール－１－イルオキシ）トリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート（ＰｙＢＯＰ）、ジフェニルホスホリルアジド（ＤＰＰＡ）、４－（４,６－ジメトキシ－１,３,５－トリアジン－２－イル）－４－メチルモルホニウムクロリド（ＤＭ－ＴＭＭ）である。
　縮合剤使用量は、式（ＸＩＶ）で示される化合物に対して、１等量～１０等量の範囲であり、好ましくは、式（ＸＩＶ）で示される化合物に対して１等量～５等量の範囲であり、より好ましくは、式（ＸＩＶ）で示される化合物に対して１等量～２等量の範囲である。
　溶媒は、例えば、テトラヒドロフランや１，２－ジメトキシエタンなどのエーテル系、並びにメタノール、エタノール、２－プロパノール等のアルコール系溶媒、トルエン等の炭化水素系溶媒、アセトニリトリル等のニトリル系溶媒、並びに酢酸エチル等の脂肪族エステル系溶媒、あるいはN,N-ジメチルアセトアミドやN,N-ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒等を用いることができ、好ましくはN,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒がよい。
溶媒使用量は、式（ＸＩＶ）で示される化合物に対して１倍量～１００倍量の範囲であり、好ましくは、式（ＸＩＶ）で示される化合物に対して３倍量～５０倍量の範囲であり、より好ましくは、式（ＸＩＶ）で示される化合物に対して５倍量～２５倍量の範囲である。
反応温度は、－８８℃～使用溶媒の沸点の範囲であり、好ましくは、－２０℃～６０℃の範囲である。
　反応時間は、３０分～９６時間の範囲であり、好ましくは、３０分～６４時間の範囲であり、より好ましくは、３０分～４８時間の範囲である。
　以下、実施例を挙げて、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
　実施例で用いる略号は、次のような意義を有する。
mg : ミリグラム，g : グラム，ml: ミリリットル，L：リットル，MHz : メガヘルツ。
　以下の実施例において、核磁気共鳴（以下、1H NMR：５００ＭＨｚ)スペクトルは、テトラメチルシランを標準物質として、ケミカルシフト値をδ値(ppm)にて記載した。分裂パターンは一重線をs、二重線をd、三重線をt、四重線をq、多重線をm、ブロードをbrで示した。本実施例の“ＵＨＰＬＣ”又は“超高速液体クロマトグラフィー”は、Ｐｒｏｍｉｎｅｎｃｅ　ＵＦＬＣ（島津製作所）を使用した。
［実施例1］
エチル　（３’Ｒ，４’Ｓ，５’Ｒ）－６’’－クロロ‐４’－（３－クロロー２－フルオロフェニル）－２’’－オキソー１’’，２’’－ジヒドロジスピロ[シクロヘキサン－１，２’－ピロリジン－３’，３’’－インドール]－５’－カルボキシレート
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
窒素雰囲気下、（３Ｅ／Ｚ）-６-クロロ－３－（３－クロロ－２－フルオロベンジリデン）－１，３－ジヒドロ－２Ｈ－インドール－２－オン（ＷＯ２００６/０９１６４６）（９９．９　ｍｇ，０．３２ｍｍｏｌ）、（Ｒ）－ＢＩＮＡＰ（１２．１ｍｇ，０．０１９ｍｍｏｌ）、ＣｕＯＡｃ（２．０ｍｇ，０．０１６ｍｍｏｌ）の混合物にシクロヘキサノン（５０．４μＬ，０．４９ｍｍｏｌ）、グリシンエチルエステル（３９．６μＬ，０．３９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（６．８μＬ，０．０４９ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（２．０ｍＬ）溶液を加え、室温で４０時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル（２ｍＬ）、水（１ｍＬ）、２０％塩化アンモニウム水溶液（１ｍＬ）を加え、激しく攪拌し、有機層を分離した。水層を酢酸エチルで２回抽出し（各２ｍＬ）、有機層を全てあわせた後、水で３回洗浄した（各５ｍＬ）。得られた有機層を減圧下濃縮し、残渣に酢酸エチル（６ｍＬ）、シリカゲル（５００ｍｇ）を加え、シリカゲルをろ別した。ろ液を減圧下濃縮し、残渣にエタノール（１．２５ｍＬ）を加え、水（１　ｍＬ）を滴下し、室温にて終夜撹拌した。析出した固体をろ過し、４０℃にて減圧乾燥することで標記化合物（１０２．９　ｍｇ, 収率６５％，９１％ｅｅ）を固体として得た。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ = 0.91-1.60 (m, 2H), 1.17 (t, J=7.3 Hz, 3H), 1.38-1.74 (m, 6H), 1.87-2.0 (m, 1H), 2.12-2.20 (m, 1H), 3.19 (s, 1H), 4.07-4.20 (m, 2H), 4.54 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 4.84 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 6.73 (d, J = 2.0 Hz, 1H), 6.83-6.89 (m, 1H), 7.05 (dd, J = 8.3, 1.8 Hz, 1H), 7.10-7.16 (m, 1H), 7.36 (dd, J = 8.0, 2.0 Hz, 1H), 7.49-7.55 (m, 1H), 7.65 (s, 1H).
（光学純度測定用高速液体クロマトグラフィー（HPLC）条件）
カラム：CHIRALPAK IC　4.6 × 250 mm, 5μm
移動層：10mM AcOH buffer : MeCN = 40:60
流量：1.0 min/min
カラム温度：40℃
検出波長：254 nm
注入量：5μL
保持時間：標記化合物 = 14.1 min, エナンチオマー = 11.4 min
［実施例2］
エチル　（３’Ｒ，４’Ｓ，５’Ｒ）－６’’－クロロ‐４’－（３－クロロー２－フルオロフェニル）－４，４－ジメチル－２’’－オキソー１’’，２’’－ジヒドロジスピロ[シクロヘキサン－１，２’－ピロリジン－３’，３’’－インドール]－５’－カルボキシレート
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000098
窒素雰囲気下、（３Ｅ／Ｚ）-６-クロロ－３－（３－クロロ－２－フルオロベンジリデン）－１，３－ジヒドロ－２Ｈ－インドール－２－オン（ＷＯ２００６/０９１６４６）（９８．７　ｍｇ）、（Ｒ）－ＢＩＮＡＰ（１２．１ｍｇ，０．０１９ｍｍｏｌ）、ＣｕＯＡｃ（２．０ｍｇ，０．０１６ｍｍｏｌ）の混合物に４，４－ジメチルシクロヘキサノン（６１．４ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ）、グリシンエチルエステル（３９．５μＬ，０．３９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（６．８μＬ，０．０４９ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ-ジメチルアセトアミド（２．０ｍＬ）溶液を加え、室温で２２時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル（２ｍＬ）、水（１ｍＬ）、２０％塩化アンモニウム水溶液（１ｍＬ）を加え、激しく攪拌し、有機層を分離した。水層を酢酸エチルで２回抽出し（各２ｍＬ）、有機層を全てあわせた後、水で３回洗浄した（各５ｍＬ）。得られた有機層を減圧下濃縮し、残渣に酢酸エチル（６ｍＬ）、シリカゲル（５００ｍｇ）を加え、シリカゲルをろ別した。ろ液を減圧下濃縮し、残渣にエタノール（１．０ｍＬ）を加え、水（１　ｍＬ）を滴下し、室温にて終夜撹拌した。析出した固体をろ過し、４０℃にて減圧乾燥することで標記化合物（１３７　ｍｇ, 収率８２％，９４％ｅｅ）を固体として得た。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ = 0.67 (s, 3H), 0.91 (s, 3H), 1.10-1.19 (m, 2H), 1.17 (t, J=7.3 Hz, 3H), 1.25-1.33 (m, 1H), 1.44-1.72 (m, 3H), 1.87-2.01 (m, 1H), 3.16 (s, 1H), 4.07-4.21 (m, 2H), 4.52 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 4.83 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 6.74 (d, J = 1.5Hz, 1H), 6.81-6.86 (m, 1H), 7.06 (dd, J = 8.3, 2.8 Hz, 1H), 7.10-7.16 (m, 1H), 7.37 (dd, J = 8.3, 1.8 Hz, 1H), 7.48-7.54 (m, 1H), 7.81 (s, 1H).
（光学純度測定用HPLC条件）
カラム：CHIRALPAK OD-3R　4.6 × 150 mm, 3μm
移動層：10mMリン酸buffer : MeCN = 40:60
流量：1.0 min/min
カラム温度：40℃
検出波長：254 nm
注入量：5μL
保持時間：標記化合物 = 13.8 min, エナンチオマー = 12.9 min
［実施例３］
エチル　（３’Ｒ，４’Ｓ，５’Ｒ）－６’’－クロロ‐４’－（２－クロロー３－フルオロピリジン－４－イル）－２’’－オキソー１’’，２’’－ジヒドロジスピロ[シクロヘキサン－１，２’－ピロリジン－３’，３’’－インドール]－５’－カルボキシレート
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000099
窒素雰囲気下、（３Ｅ／Ｚ）-６-クロロ－３－[（２－クロロ－３－フルオロピリジン－４－イル）メチレン]－１，３－ジヒドロ－２Ｈ－インドール－２－オン（ＷＯ２０１２／１２１３６１）（９９．２　ｍｇ）、（Ｒ）－ＢＩＮＡＰ（１２．１ｍｇ，０．０１９ｍｍｏｌ）、ＣｕＯＡｃ（２．０ｍｇ，０．０１６ｍｍｏｌ）の混合物に、シクロヘキサノン（５０．４μＬ，０．４９ｍｍｏｌ）、グリシンエチルエステル（３９．６μＬ，０．３９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（６．８μＬ，０．０４９ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ-ジメチルアセトアミド（２．０ｍＬ）溶液を加え、０°Cで１８時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル（２ｍＬ）、水（１ｍＬ）、２０％塩化アンモニウム水溶液（１ｍＬ）を加え、激しく攪拌し、有機層を分離した。水層を酢酸エチルで２回抽出し（各２ｍＬ）、有機層を全てあわせた後、水で３回洗浄した（各５ｍＬ）。得られた有機層を減圧下濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィー[ヘプタン：酢酸エチル＝１：１（ｖ／ｖ）]より精製した。得られた残渣にエタノール（１．０ｍＬ）を加え、水（１　ｍＬ）を滴下し、室温にて終夜撹拌した。析出した固体をろ過し、４０℃にて減圧乾燥することで標記化合物（１０１．２　ｍｇ，　収率６４％，９９％ｅｅ）を固体として得た。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ = 0.9-1.1 (m, 2H), 1.19 (t, J=7.3 Hz, 3H), 1.44 (td, J = 12.9, 3.2 Hz, 1H)m, 1.48-1.70 (m, 1H), 3.2 (s, 1H), 4.12-4.20 (m, 2H), 4.53 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 4.82 (d, J = 10.0 Hz, 1H), 6.77 (d, J = 2.0Hz, 1H), 7.07 (dd, J = 8.0, 1.5 Hz, 1H), 7.34 (dd, J = 8.3, 1.8 Hz, 1H), 7.5-7.56 (m, 1H), 7.59 (s, 1H), 8.06 (d, J = 5.0 Hz, 1H).
（光学純度測定用HPLC条件）
カラム：CHIRALPAK OD-3R　4.6 × 150 mm, 3μm
移動層：10mMリン酸buffer : MeCN = 40:60
流量：1.0 min/min
カラム温度：40℃
検出波長：254 nm
注入量：5μL
保持時間：標記化合物 = 7.7 min, エナンチオマー = 8.7 min
［実施例4］
エチル　（３’Ｒ，４’Ｓ，５’Ｒ）－６’’－クロロ‐４’－（２－クロロー３－フルオロピリジン－４－イル）－４，４－ジメチル－２’’－オキソー１’’，２’’－ジヒドロジスピロ[シクロヘキサン－１，２’－ピロリジン－３’，３’’－インドール]－５’－カルボキシレート
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000100
窒素雰囲気下、（３Ｅ／Ｚ）-６-クロロ－３－[（２－クロロ－３－フルオロピリジン－４－イル）メチレン]－１，３－ジヒドロ－２Ｈ－インドール－２－オン（ＷＯ２０１２／１２１３６１）（１００．７　ｍｇ）、（Ｒ）－ＢＩＮＡＰ（１２．１ｍｇ，０．０１９ｍｍｏｌ）、ＣｕＯＡｃ（２．０ｍｇ，０．０１６ｍｍｏｌ）の混合物に４，４－ジメチルシクロヘキサノン（６１．４ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ）、グリシンエチルエステル（３９．５μＬ，０．３９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（６．８μＬ，０．０４９ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ-ジメチルアセトアミド（２．０ｍＬ）溶液を加え、０℃で１４時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル（２ｍＬ）、水（１ｍＬ）、２０％塩化アンモニウム水溶液（１ｍＬ）を加え、激しく攪拌し、有機層を分離した。水層を酢酸エチルで２回抽出し（各２ｍＬ）、有機層を全てあわせた後、水で３回洗浄した（各５ｍＬ）。得られた有機層を減圧下濃縮し、残渣に酢酸エチル（６ｍＬ）、シリカゲル（５００ｍｇ）を加え、シリカゲルをろ別した。ろ液を減圧下濃縮し、残渣にエタノール（１．０ｍＬ）を加え、水（１　ｍＬ）を滴下し、室温にて終夜撹拌した。析出した固体をろ過し、４０℃にて減圧乾燥することで標記化合物（１３４．９　ｍｇ, 収率８０％，９９％ｅｅ）を固体として得た。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ = 0.67 (s, 3H), 0.91 (s, 3H), 1.11-1.21 (m, 2H), 1.19 (t, J=7.0 Hz, 3H), 1.24-1.34 (m, 1H), 1.43-1.58 (m, 2H), 1.60-1.72 (m, 1H), 1.85-1.95 (m, 1H), 3.19 (s, 1H), 4.10-4.21 (m, 2H), 4.51 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 4.82 (d, J = 9.5 Hz, 1H), 6.77 (d, J = 2.0Hz, 1H), 7.07 (dd, J = 8.5, 1.5 Hz, 1H), 7.36 (dd, J = 8.3, 1.8 Hz, 1H), 7.5-7.55 (m, 1H), 7.68 (bs, 1H), 8.05 (d, J = 5.5 Hz, 1H).
（光学純度測定用HPLC条件）
カラム：CHIRALPAK OD-3R　4.6 × 150 mm, 3μm
移動層：10mMリン酸buffer : MeCN = 40:60
流量：1.0 min/min
カラム温度：40℃
検出波長：254 nm
注入量：5μL
保持時間：標記化合物 = 9.4 min, エナンチオマー = 10.5 min
［実施例５］
エチル　（３’Ｒ，４’Ｓ，５’Ｒ）－６－クロロ‐４’－（３－クロロー２－フルオロフェニル）－３’，３’－ジメチル－２－オキソー１，２－ジヒドロスピロ[インドール－３，３’－ピロリジン]－５’－カルボキシレート
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000101
窒素雰囲気下、（３Ｅ／Ｚ）-６-クロロ－３－（３－クロロ－２－フルオロベンジリデン）－１，３－ジヒドロ－２Ｈ－インドール－２－オン（ＷＯ２００６／０９１６４６）（５０．８ｍｇ，　０．１６ｍｍｏｌ）、（Ｒ）－ＢＩＮＡＰ（６．１ｍｇ，　０．０１ｍｍｏｌ）、ＣｕＯＡｃ（１．０ｍｇ，０．００８ｍｍｏｌ）の混合物にアセトン（２３．８μＬ，０．３２ｍｍｏｌ）、グリシンエチルエステル（２６．４μＬ，０．２６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３．４μＬ，０．０２４ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ-ジメチルアセトアミド（１．０ｍＬ）溶液を加え、０°Cで４２時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル（１ｍＬ）、水（０．５ｍＬ）、２０％塩化アンモニウム水溶液（０．５ｍＬ）を加え、激しく攪拌し、有機層を分離した。水層を酢酸エチルで２回抽出し（各１ｍＬ）、有機層を全てあわせた後、水で３回洗浄した（各２．５ｍＬ）。得られた有機層を減圧下濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィー[ヘプタン：酢酸エチル:トリエチルアミン＝５０：５０：１（ｖ／ｖ）]より精製し、４０℃にて減圧乾燥することで標記化合物とジアステレオマーの混合物（６６．８　ｍｇ, 収率９０％, ジアステレオマー比８４(標記化合物):１３:３, 標記化合物の光学純度９２％ｅｅ）を油状化合物として得た。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ = 1.07 (s, 3H), 1.17 (t, J =7.0 Hz, 3H), 1.48 (s, 3H), 3.40-3.62 (m, 1H), 4.07-4.23 (m, 2H), 4.55 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 4.91 (d, J = 9.5 Hz, 1H), 6.75-6.80 (m, 1H), 6.80 (d, J = 1.5Hz, 1H), 7.06 (dd, J = 8.0, 2.0 Hz, 1H), 7.09-7.15 (m, 1H), 7.38 (dd, J = 8.3, 2.3 Hz, 1H), 7.45-7.50 (m, 1H), 8.62 (s, 1H).
（光学純度測定用HPLC条件）
カラム：CHIRALPAK IC　4.6 × 250 mm, 5μm
移動層：0.1% HCOOH aq. : MeCN = 70:30
流量：1.0 min/min
カラム温度：27℃
検出波長：254 nm
注入量：5μL
保持時間：標記化合物 = 10.3 min, エナンチオマー = 11.1 min
［実施例６］
エチル　（３’Ｒ，４’Ｓ，５’Ｒ）－６－クロロ‐４’－（２－クロロー３－フルオロピリジン－４－イル）－２－オキソー１，２－ジヒドロジスピロ[インドール－３，３’－ピロリジン－２’，４’’－ピラン]－５’－カルボキシレート
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000102
窒素雰囲気下、（３Ｅ／Ｚ）-６-クロロ－３－[（２－クロロ－３－フルオロピリジン－４－イル）メチレン]－１，３－ジヒドロ－２Ｈ－インドール－２－オン（ＷＯ２０１２／１２１３６１）（４８．７　ｍｇ, ０．１６ｍｍｏｌ）、（Ｒ）－ＢＩＮＡＰ（６．１ｍｇ，　０．０１ｍｍｏｌ）、ＣｕＯＡｃ（１．０ｍｇ，０．００８ｍｍｏｌ）の混合物にテトラヒドロ-4Ｈ-ピラン-4-オン（２２．４μＬ，０．２４ｍｍｏｌ）、グリシンエチルエステル（２０μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３．４μＬ，０．０２４ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ-ジメチルアセトアミド（１．０ｍＬ）溶液を加え、０℃で４２時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル（１ｍＬ）、水（０．５ｍＬ）、２０％塩化アンモニウム水溶液（０．５ｍＬ）を加え、激しく攪拌し、有機層を分離した。水層を酢酸エチルで２回抽出し（各１ｍＬ）、有機層を全てあわせた後、水で３回洗浄した（各２．５ｍＬ）。得られた有機層を減圧下濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィー[ヘプタン：酢酸エチル:トリエチルアミン＝５０：５０：１（ｖ/ｖ）]より精製し、４０°Cにて減圧乾燥することで標記化合物とジアステレオマーの混合物（７４．９　ｍｇ, 収率９６％, ジアステレオマー比７５(標記化合物):２０:５, 標記化合物の光学純度９８％ｅｅ）を油状化合物として得た。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ = 1.19 (t, J=7.3 Hz, 3H), 1.31-1.41 (m, 1H), 1.42-1.50 (m, 1H), 1.85-1.98 (m, 2H), 3.18-3.38 (m, 1H), 3.67-3.77 (m, 2H), 3.84-3.92 (m, 1H), 3.88-4.06 (m, 1H), 4.08-4.20 (m, 2H), 4.56 (d, J = 9.5 Hz, 1H), 4.78 (d, J = 9.5 Hz, 1H), 6.79 (d, J = 2.5 Hz, 1H), 7.08 (dd, J = 8.3, 1.8 Hz, 1H), 7.34 (dd, J = 8.3, 2.3 Hz, 1H), 7.49-7.54 (m, 1H), 8.06 (d, J = 5.0 Hz, 1H), 8.43 (s, 1H). 
（光学純度測定用HPLC条件）
カラム：CHIRALPAK IC　4.6 × 250 mm, 5μm
移動層：10mM AcOH buffer : MeCN = 40:60
流量：1.0 min/min
カラム温度：27℃
検出波長：220 nm
注入量：5μL
保持時間：標記化合物 = 26.2 min, エナンチオマー = 22.8 min
［実施例７］
エチル　（３’Ｒ，４’Ｓ，５’Ｒ）－６－クロロ‐４’－（２－クロロー３－フルオロピリジン－４－イル）－３’，３’－ジメチル－２－オキソー１，２－ジヒドロスピロ[インドール－３，３’－ピロリジン]－５’－カルボキシレート
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000103
窒素雰囲気下、（３Ｅ／Ｚ）-６-クロロ－３－[（２－クロロ－３－フルオロピリジン－４－イル）メチレン]－１，３－ジヒドロ－２Ｈ－インドール－２－オン（ＷＯ２０１２／１２１３６１）（５１　ｍｇ, ０．１６ｍｍｏｌ）、（Ｒ）－ＢＩＮＡＰ（６．１ｍｇ，　０．０１ｍｍｏｌ）、ＣｕＯＡｃ（１．０ｍｇ，０．００８ｍｍｏｌ）の混合物にアセトン（１７．８μＬ，０．２４ｍｍｏｌ）、グリシンエチルエステル（２０μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３．４μＬ，０．０２４ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ-ジメチルアセトアミド（１．０ｍＬ）溶液を加え、０°Cで４２時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル（１ｍＬ）、水（０．５ｍＬ）、２０％塩化アンモニウム水溶液（０．５ｍＬ）を加え、激しく攪拌し、有機層を分離した。水層を酢酸エチルで２回抽出し（各１ｍＬ）、有機層を全てあわせた後、水で３回洗浄した（各２．５ｍＬ）。得られた有機層を減圧下濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィー[ヘプタン：酢酸エチル:トリエチルアミン＝５０：５０：１（ｖ/ｖ）]より精製し、４０℃にて減圧乾燥することで標記化合物とジアステレオマーの混合物（６８．９　ｍｇ, 収率９２％, ジアステレオマー比８７(標記化合物):１３, 標記化合物の光学純度９８％ｅｅ）を油状化合物として得た。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ = 1.08 (s, 3H), 1.20 (t, J =7.0 Hz, 3H), 1.46 (s, 3H), 3.40-3.65 (m, 1H), 4.09-4.26 (m, 2H), 4.54 (d, J = 9.5 Hz, 1H), 4.89 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 6.79 (d, J = 1.5 Hz, 1H), 7.07 (dd, J = 8.5, 2.0 Hz, 1H), 7.36 (dd, J = 8.0, 1.5 Hz, 1H), 7.49-7.55 (m, 1H), 7.86 (s, 1H), 8.07 (d, J = 5.0 Hz, 1H).
（光学純度測定用HPLC条件）
カラム：CHIRALPAK AS-RH　4.6 × 150 mm, 5μm
移動層：10 mM AcOH buffer : MeCN = 60:40
流量：1.0 min/min
カラム温度：40℃
検出波長：254 nm
注入量：5μL
保持時間：標記化合物 = 8.4 min, エナンチオマー = 7.1 min
［実施例８］
エチル　（３’Ｒ，４’Ｓ，５’Ｒ）－６’’－クロロ‐４’－（３－クロロー２－フルオロフェニル）－２’’－オキソー１’’，２’’－ジヒドロジスピロ[シクロペンタン－１，２’－ピロリジン－３’，３’’－インドール]－５’－カルボキシレート
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000104
窒素雰囲気下、（３Ｅ／Ｚ）-６-クロロ－３－（３－クロロ－２－フルオロベンジリデン）－１，３－ジヒドロ－２Ｈ－インドール－２－オン（ＷＯ２００６／０９１６４６）（５２．１　ｍｇ，０．１７ｍｍｏｌ）、（Ｒ）－ＢＩＮＡＰ（６．１ｍｇ，　０．０１ｍｍｏｌ）、ＣｕＯＡｃ（1．０ｍｇ，０．００８ｍｍｏｌ）の混合物にシクロペンタノン（２８．７μＬ，０．３２ｍｍｏｌ）、グリシンエチルエステル（２６．４μＬ，０．２６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３．４μＬ，０．０２４ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ-ジメチルアセトアミド（１．０ｍＬ）溶液を加え、０°Cで４２時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル（１ｍＬ）、水（０．５ｍＬ）、２０％塩化アンモニウム水溶液（０．５ｍＬ）を加え、激しく攪拌し、有機層を分離した。水層を酢酸エチルで２回抽出し（各１ｍＬ）、有機層を全てあわせた後、水で３回洗浄した（各２．５ｍＬ）。得られた有機層を減圧下濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィー[ヘプタン：酢酸エチル:トリエチルアミン＝１００：５０：１．５（ｖ/ｖ）]より精製し、４０℃にて減圧乾燥することで標記化合物とジアステレオマーの混合物（６９　ｍｇ, 収率８６％, ジアステレオマー比８４(標記化合物):１４:２, 標記化合物の光学純度９９％ｅｅ）を油状化合物として得た。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ = 1.17 (t, J=7.3 Hz, 3H), 1.22-1.30 (m, 1H), 1.32-1.42 (m, 1H), 1.50-1.60 (m, 2H), 1.66-1.83 (m, 2H), 1.86-1.97 (m, 1H), 2.07-2.15 (m, 1H), 3.25-3.64 (m, 1H), 4.07-4.23 (m, 2H), 4.53 (d, J = 9.5 Hz, 1H), 4.76 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 6.72-6.77 (m, 1H), 6.80 (d, J = 2.0 Hz, 1H), 7.06 (dd, J = 8.0, 1.5 Hz, 1H), 7.08-7.13 (m, 1H), 7.38 (dd, J = 8.0, 2.0 Hz, 1H), 7.43-7.50 (m, 1H), 8.68 (s, 1H).
（光学純度測定用HPLC条件）
カラム：CHIRALPAK IC　4.6 × 250 mm, 5μm
移動層：0.1% HCOOH aq. : MeCN = 50:50
流量：1.0 min/min
カラム温度：27℃
検出波長：220 nm
注入量：5μL
保持時間：標記化合物 = 6.0 min, エナンチオマー = 5.6 min
［実施例９］
エチル　（３’Ｒ，４’Ｓ，５’Ｒ）－６’’－クロロ‐４’－（２－クロロー３－フルオロピリジン－４－イル）－２’’－オキソー１’’，２’’－ジヒドロジスピロ[シクロペンタン－１，２’－ピロリジン－３’，３’’－インドール]－５’－カルボキシレート
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000105
窒素雰囲気下、（３Ｅ／Ｚ）-６-クロロ－３－[（２－クロロ－３－フルオロピリジン－４－イル）メチレン]－１，３－ジヒドロ－２Ｈ－インドール－２－オン（ＷＯ２０１２／１２１３６１）（５０．９　ｍｇ, ０．１６ｍｍｏｌ）、（Ｒ）－ＢＩＮＡＰ（６．１ｍｇ，，　０．０１ｍｍｏｌ）、ＣｕＯＡｃ（1．０ｍｇ，０．００８ｍｍｏｌ）の混合物にシクロペンタノン（２１．６μＬ，０．２４ｍｍｏｌ）、グリシンエチルエステル（２０μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３．４μＬ，０．０２４ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ-ジメチルアセトアミド（１．０ｍＬ）溶液を加え、０°Cで４２時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル（１ｍＬ）、水（０．５ｍＬ）、２０％塩化アンモニウム水溶液（０．５ｍＬ）を加え、激しく攪拌し、有機層を分離した。水層を酢酸エチルで２回抽出し（各１ｍＬ）、有機層を全てあわせた後、水で３回洗浄した（各２．５ｍＬ）。得られた有機層を減圧下濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィー[ヘプタン：酢酸エチル:トリエチルアミン＝５０：５０：１（ｖ/ｖ）]より精製し、４０℃にて減圧乾燥することで標記化合物とジアステレオマーの混合物（６９．１　ｍｇ, 収率８８％, ジアステレオマー比８７(標記化合物):１３, 標記化合物の光学純度９８％ｅｅ）を油状化合物として得た。
1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ = 1.19 (t, J=7.3 Hz, 3H), 1.22-1.30 (m, 1H), 1.32-1.43 (m, 1H), 1.48-1.60 (m, 2H), 1.66-1.82 (m, 2H), 1.86-1.96 (m, 1H), 2.02-2.09 (m, 1H), 3.40-3.62 (m, 1H), 4.08-4.24 (m, 2H), 4.53 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 4.73 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 6.82 (d, J = 1.5 Hz, 1H), 7.07 (dd, J = 8.3, 1.8 Hz, 1H), 7.36 (dd, J = 8.3, 2.3 Hz, 1H), 7.50-7.54 (m, 1H), 8.04 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 8.60 (s, 1H).
（光学純度測定用HPLC条件）
カラム：CHIRALPAK IC　4.6 × 250 mm, 5μm
移動層：0.1% HCOOH aq. : MeCN = 50:50
流量：1.0 min/min
カラム温度：27℃
検出波長：220 nm
注入量：5μL
保持時間：標記化合物 = 6.7 min, エナンチオマー = 13.3 min
［実施例１０］
（３’Ｒ，４’Ｓ，５’Ｒ）－Ｎ－［（３Ｒ，６Ｓ）－６－カルバモイルテトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－３－イル］－６’’－クロロ－４’－（２－クロロー３－フルオロピリジン－４－イル）－４，４－ジメチル－２’’－オキソー１’’，２’’－ジヒドロジスピロ[シクロヘキサン－１，２’－ピロリジン－３’，３’’－インドール]－５’－カルボキサミド
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000106
[工程１]
（４’Ｓ，５’Ｒ）－６’’－クロロ‐４’－（２－クロロー３－フルオロピリジン－４－イル）－４，４－ジメチル－２’’－オキソー１’’，２’’－ジヒドロジスピロ[シクロヘキサン－１，２’－ピロリジン－３’，３’’－インドール]－５’－カルボン酸
実施例４で得られた化合物（５．００ｇ，９．６１ｍｍｏｌ）のメタノール（２５ｍL）、テトラヒドロフラン（２５ｍＬ）の溶液に、氷冷下、１規定水酸化ナトリウム水溶液（１８．３ｍＬ、１８．３ｍｍｏｌ）を加え、０℃で４１．５時間攪拌した。反応混合物に氷冷下、濃塩酸を加えｐＨ３まで中和し、水（７５ｍＬ）を滴下後、室温にて４時間攪拌した。析出した固体を０℃でろ過し、40℃にて減圧乾燥することで標記化合物（４．５２ｇ, 収率９６％）を固体として得た。
[工程２]
（３’Ｒ，４’Ｓ，５’Ｒ）－Ｎ－［（３Ｒ，６Ｓ）－６－カルバモイルテトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－３－イル］－６’’－クロロ－４’－（２－クロロー３－フルオロピリジン－４－イル）－４，４－ジメチル－２’’－オキソー１’’，２’’－ジヒドロジスピロ[シクロヘキサン－１，２’－ピロリジン－３’，３’’－インドール]－５’－カルボキサミド
上記工程１で得られた化合物（２．００ｇ，４．０６ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（２０ｍＬ）溶液に、１－ヒドロキシベンゾトリアゾール一水和物(３１０ｍｇ，　２．０２ｍｍｏｌ)、（２Ｓ，５Ｒ）－５－アミノテトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－２－カルボキサミド（ＷＯ２０１２／１２１３６１）（７０７ｍｇ，４．９０ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（８５０μＬ，４．８８ｍｍｏｌ）および１－エチル－３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（９３４ｍｇ，４．８７ｍｍｏｌ）を加え、０℃で４７．５時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル（２０ｍＬ）、水（１０ｍＬ）を加え、攪拌し、有機層を分離した。水層を酢酸エチルで２回抽出し（各２０ｍＬ）、有機層を全てあわせた後、水で３回洗浄した（各２０ｍＬ）。溶媒を減圧留去後、アセトニトリル（３０ｍＬ）を加え６０℃で２時間攪拌した。放冷後、析出した固体をろ過し、４０°Cにて減圧乾燥することで標記化合物（２．１３　ｇ, 収率８０％）を固体として得た。
 
［実施例１１］
１１－１）各種不斉触媒による影響
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000107
窒素雰囲気下、（３Ｅ／Ｚ）-６-クロロ－３－[（２－クロロ－３－フルオロピリジン－４－イル）メチレン]－１，３－ジヒドロ－２Ｈ－インドール－２－オン（ＷＯ２０１２／１２１３６１）、４，４－ジメチルシクロヘキサノン（１．５ｅｑ．）、グリシンエチルエステル（１．２ｅｑ．）、トリエチルアミン（１５ｍｏｌ％）のＴＨＦ溶液（１０倍量）に、別途、ルイス酸（５ｍｏｌ％）、不斉配位子（６ｍｏｌ％）、ＴＨＦ（１０倍量）を窒素雰囲気下で１時間攪拌し調製した触媒溶液を加え、室温にて１２-１６時間攪拌した。その後、ＨＰＬＣにて、得られたｔｒａｎｓ１化合物（（エチル　（３’Ｓ，４’Ｒ，５’Ｓ）－６’’－クロロ‐４’－（２－クロロー３－フルオロピリジン－４－イル）－４，４－ジメチル－２’’－オキソー１’’，２’’－ジヒドロジスピロ[シクロヘキサン－１，２’－ピロリジン－３’，３’’－インドール]－５’－カルボキシレート）の光学純度およびＨＰＬＣ収率を測定した。
（光学純度測定用HPLC条件）
カラム：CHIRALPAK OD-3R　4.6 × 150 mm, 3μm
移動層：10mMリン酸buffer : MeCN = 40:60
流量：1.0 min/min
カラム温度：40℃
検出波長：254 nm
注入量：5μL
保持時間：標記化合物 = 13.8 min, エナンチオマー = 12.9 min
主な結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000108
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000109
１１－２）各種溶媒による影響
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000110
窒素雰囲気下、（３Ｅ／Ｚ）-６-クロロ－３－[（２－クロロ－３－フルオロピリジン－４－イル）メチレン]－１，３－ジヒドロ－２H－インドール－２－オン（ＷＯ２０１２／１２１３６１）、４，４－ジメチルシクロヘキサノン（１．５ｅｑ．）、グリシンエチルエステル（１．２ｅｑ．）、トリエチルアミン（１５ｍｏｌ％）、溶媒（１０倍量）に、別途、ＣｕＯＡｃ（５ｍｏｌ％）、（Ｓ）－ＢＩＮＡＰ（６ｍｏｌ％）、溶媒（１０倍量）を窒素雰囲気下で１時間攪拌し調製した触媒溶液を加え、室温にて２１．５時間攪拌した。その後、ＨＰＬＣにて、得られたｔｒａｎｓ２化合物（エチル　（３’Ｓ，４’Ｒ，５’Ｓ）－６’’－クロロ‐４’－（２－クロロー３－フルオロピリジン－４－イル）－４，４－ジメチル－２’’－オキソー１’’，２’’－ジヒドロジスピロ[シクロヘキサン－１，２’－ピロリジン－３’，３’’－インドール]－５’－カルボキシレート）のＨＰＬＣ収率および光学純度を測定した。
主な結果を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000111
 １１－３）Ｃｕ（Ｉ）ルイス酸の検討
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000112
窒素雰囲気下、（３Ｅ／Ｚ）-６-クロロ－３－[（２－クロロ－３－フルオロピリジン－４－イル）メチレン]－１，３－ジヒドロ－２H－インドール－２－オン（ＷＯ２０１２／１２１３６１）、４，４－ジメチルシクロヘキサノン（１．５ｅｑ．）、グリシンエチルエステル（１．２ｅｑ．）、トリエチルアミン（１５ｍｏｌ％）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（１０倍量）に、別途、Ｃｕ（Ｉ）ルイス酸（５ｍｏｌ％）、（Ｓ）－ＢＩＮＡＰ（６ｍｏｌ％）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（１０倍量）を窒素雰囲気下で１時間攪拌し調製した触媒溶液を加え、室温にて１７―２１．５時間攪拌した。その後、ＨＰＬＣにて、得られたｔｒａｎｓ２化合物（エチル　（３’Ｓ，４’Ｒ，５’Ｓ）－６’’－クロロ‐４’－（２－クロロー３－フルオロピリジン－４－イル）－４，４－ジメチル－２’’－オキソー１’’，２’’－ジヒドロジスピロ[シクロヘキサン－１，２’－ピロリジン－３’，３’’－インドール]－５’－カルボキシレート）のＨＰＬＣ収率および光学純度を測定した。
主な結果を表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000113
 １１－４）Ｃｕ（ＩＩ）ルイス酸の検討
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000114
窒素雰囲気下、（３Ｅ／Ｚ）-６-クロロ－３－[（２－クロロ－３－フルオロピリジン－４－イル）メチレン]－１，３－ジヒドロ－２H－インドール－２－オン（ＷＯ２０１２／１２１３６１）、４，４－ジメチルシクロヘキサノン（１．５ｅｑ．）、グリシンエチルエステル（１．２ｅｑ．）、Ｃｕ（ＩＩ）ルイス酸（５ｍｏｌ％）、（Ｒ）－ＢＩＮＡＰ（６ｍｏｌ％）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（２０倍量）を窒素雰囲気下で室温にて１５時間攪拌した。その後、ＵＰＬＣにて、得られたｔｒａｎｓ２化合物（エチル　（３’Ｒ，４’Ｓ，５’Ｒ）－６’’－クロロ‐４’－（２－クロロー３－フルオロピリジン－４－イル）－４，４－ジメチル－２’’－オキソー１’’，２’’－ジヒドロジスピロ[シクロヘキサン－１，２’－ピロリジン－３’，３’’－インドール]－５’－カルボキシレート）のＵＰＬＣ収率およびＨＰＬＣにて光学純度を測定した。
主な結果を表４に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000115
 ＊eeの符号：－は、ｔｒａｎｓ２化合物（エチル　（３’Ｓ，４’Ｒ，５’Ｓ）－６’’－クロロ‐４’－（２－クロロー３－フルオロピリジン－４－イル）－４，４－ジメチル－２’’－オキソー１’’，２’’－ジヒドロジスピロ[シクロヘキサン－１，２’－ピロリジン－３’，３’’－インドール]－５’－カルボキシレート）が主生成物となることをあらわす。
 
１１－５）ＣｕＯＡｃおよび各種不斉配位子を使った検討
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000116
窒素雰囲気下、（３Ｅ／Ｚ）-６-クロロ－３－[（２－クロロ－３－フルオロピリジン－４－イル）メチレン]－１，３－ジヒドロ－２Ｈ－インドール－２－オン（ＷＯ２０１２／１２１３６１）、４，４－ジメチルシクロヘキサノン（１．５ｅｑ．）、グリシンエチルエステル（１．２ｅｑ．）、トリエチルアミン（１５ｍｏｌ％）のＴＨＦ溶液（１０倍量）に、別途、ＣｕＯＡｃ（５ｍｏｌ％）、不斉配位子（６ｍｏｌ％）、THF（１０倍量）を窒素雰囲気下で１時間攪拌し調製した触媒溶液を加え、室温にて１２－１６時間攪拌した。その後、ＨＰＬＣにて得られたｔｒａｎｓ１化合物（エチル　（３’Ｓ，４’Ｒ，５’Ｓ）－６’’－クロロ‐４’－（２－クロロー３－フルオロピリジン－４－イル）－４，４－ジメチル－２’’－オキソー１’’，２’’－ジヒドロジスピロ[シクロヘキサン－１，２’－ピロリジン－３’，３’’－インドール]－５’－カルボキシレート
）の収率および光学純度を測定した。
主な結果を表５に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000117
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000118
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000119
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000120
 ＊eeの符号：－は、ｔｒａｎｓ２化合物（エチル　（３’Ｓ，４’Ｒ，５’Ｓ）－６’’－クロロ‐４’－（２－クロロー３－フルオロピリジン－４－イル）－４，４－ジメチル－２’’－オキソー１’’，２’’－ジヒドロジスピロ[シクロヘキサン－１，２’－ピロリジン－３’，３’’－インドール]－５’－カルボキシレート）が主生成物となることをあらわす。
[実施例１２]
ｔｅｒｔ－ブチル　（３’Ｒ，４’Ｓ，５’Ｒ）－６’’－クロロ‐４’－（２－クロロー３－フルオロピリジン－４－イル）－４，４－ジメチル－２’’－オキソー１’’，２’’－ジヒドロジスピロ[シクロヘキサン－１，２’－ピロリジン－３’，３’’－インドール]－５’－カルボキシレート
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000121
窒素雰囲気下、（３Ｅ/Ｚ）-６-クロロ－３－[（２－クロロ－３－フルオロピリジン－４－イル）メチレン]－１，３－ジヒドロ－２Ｈ－インドール－２－オン（ＷＯ２０１２/１２１３６１）（５０．０ｍｇ，０．１６ｍｍｏｌ）、（Ｒ）－ＢＩＮＡＰ（６．０ｍｇ，０．００９ｍｍｏｌ）、ＣｕＯＡｃ（１．０ｍｇ，０．００８ｍｍｏｌ）の混合物に４，４－ジメチルシクロヘキサノン（３１．０ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）、グリシンｔｅｒｔ－ブチルエステル（２７．８ｍｇ，０．２１ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３．４μｌ，０．０２４ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（１．０ｍｌ）溶液を加え、０℃で１９．５時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル（２．０ｍｌ）、水（０．５ｍｌ）、２０％塩化アンモニウム水溶液（０．５ｍｌ）を加え、激しく攪拌し、有機層を分離した。水層を酢酸エチルで２回抽出し（各２．０ｍｌ）、有機層を全てあわせた後、水で３回洗浄した（各２．０ｍｌ）。得られた有機層を減圧下濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィー[ヘプタン：酢酸エチル:トリエチルアミン＝５０：５０：１（ｖ/ｖ）]より精製し、４０℃にて減圧乾燥することで標記化合物とジアステレオマーの混合物（６１．０ｍｇ，収率６９％，ジアステレオマー比９０(標記化合物)：１０，標記化合物の光学純度９７％ｅｅ）を油状化合物として得た。
１Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝０．６７（ｓ，３Ｈ），０．９２（ｓ，３Ｈ），１．１０－１．２５（ｍ，３Ｈ），１．３３（ｓ，９Ｈ），１．４５－１．７５（ｍ，３Ｈ），１．８０－２．００（ｍ，２Ｈ），３．１５－３．２０（ｍ，１Ｈ），４．４２（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ），４．６８（ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，１Ｈ），６．７７（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．０６（ｄｄ，Ｊ＝８．３，１．８Ｈｚ，１Ｈ），７．３４（ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．５３－７．６３（ｍ，２Ｈ），８．０６（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１Ｈ）
（光学純度測定用ＨＰＬＣ条件）
カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＯＤ－３Ｒ ４．６×１５０ｍｍ，３μｍ
移動層：０．１％(ｖ／ｖ) ＨＣＯＯＨａｑ.：ＭｅＣＮ＝５０：５０
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
カラム温度：４０℃
検出波長：２５４ｎｍ
注入量：５μｌ
保持時間：標記化合物＝９．４ｍｉｎ，エナンチオマー＝１１．４ｍｉｎ
[参考例１]
（２Ｓ，５Ｒ）－５－［（２－アミノアセチル）アミノ］テトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－２－カルボキサミド
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000122
[工程１]
ｔｅｒｔ－ブチル　Ｎ－（２－｛［（３Ｒ，６Ｓ）－６－カルバモイルテトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－３－イル］アミノ｝－２－オキソエチル）カルバメート
Ｎ－(ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル)グリシン（１．０１ｇ，５．７７ｍｍｏｌ），（２Ｓ，５Ｒ）－５－アミノテトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－２－カルボキサミド（ＷＯ２０１２/１２１３６１）（０．８５ｇ，５．９０ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（９９４μｌ，５．７１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４０ｍｌ）のスラリー液に、Ｏ－（７－アザベンゾトリアゾール－１－イル）－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，－テトラメチルウロニウムヘキサフルオロりん酸塩（２．２１ｇ，５．８３ｍｍｏｌ）を加え、室温で１８時間攪拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィー［酢酸エチル：メタノール＝９８：２→８０：２０（ｖ/ｖ）］より精製した。得られた固体に酢酸エチル（２０ｍｌ）を加え、室温にて４時間攪拌した。得られたスラリー液をろ過し、４０℃にて減圧乾燥することで標記化合物（１．４７ｇ，収率８３％）を白色固体として得た。
１Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝１．４０－１．５０（ｍ，１Ｈ），１．４６（ｓ，９Ｈ），１．５７－１．６６（ｍ，１Ｈ），２．０８－２．１６（ｍ，１Ｈ），２．２２－２．２８（ｍ，１Ｈ），３．０９（ｔ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１Ｈ），３．７０－３．８２（ｍ，３Ｈ），３．９０－４．０２（ｍ，1Ｈ），４．１６（ｄｄｄ，Ｊ＝１０．９，４．９，１．９Ｈｚ，１Ｈ），５．０８－５．１５（ｍ，1Ｈ），５．３８－５．４６（ｍ，1Ｈ），５．９５－６．０５（ｍ，1Ｈ），６．４３－６．５３（ｍ，1Ｈ）
[工程２]
（２Ｓ，５Ｒ）－５－［（２－アミノアセチル）アミノ］テトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－２－カルボキサミド
上記工程１で得られた化合物（５００ｍｇ，１．６６ｍｍｏｌ）に４規定塩化水素／シクロペンチルメチルエーテル溶液（５ｍｌ，２０ｍｍoｌ）を加え、室温で１５時間攪拌した。反応混合物をろ過し、シクロペンチルメチルエーテル（５ｍｌ）にて洗浄した。得られた固体のメタノール（５ｍｌ）溶液に28%ナトリウムメトキシドメタノール溶液（８１０μｌ，３．３２ｍｍｏｌ）を加え、室温にて２時間攪拌した。得られた反応混合物に中性シリカゲル（５００ｍｇ）を加え、減圧下濃縮し、酢酸エチル（５０ｍｌ）とメタノール（５ｍｌ）を加えてシリカゲルをろ別した。ろ液を減圧下濃縮し、残渣にテトラヒドロフラン（２．０ｍｌ）を加え、室温にて１７時間攪拌した。得られたスラリー液をろ過し、４０℃にて減圧乾燥することで標記化合物（１１１ｍｇ，収率３３％）を白色固体として得た。
１Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）：δ＝１．5０－１．６１（ｍ，２Ｈ），２．００－２．１８（ｍ，２Ｈ），３．１６（ｔ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ，１Ｈ），３．２１（ｄ，Ｊ＝１６．５Ｈｚ，１Ｈ），３．２５（ｄ，Ｊ＝１７．０Ｈｚ，１Ｈ），３．７２－３．７８（ｍ，１Ｈ），３．８０－３．９０（ｍ，１Ｈ），４．０７（ｄｄｄ，Ｊ＝１０．９，４．９，１．９Ｈｚ，１Ｈ）
［実施例１３］
（３’Ｒ，４’Ｓ，５’Ｒ）－Ｎ－［（３Ｒ，６Ｓ）－６－カルバモイルテトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－３－イル］－６’’－クロロ－４’－（２－クロロー３－フルオロピリジン－４－イル）－４，４－ジメチル－２’’－オキソー１’’，２’’－ジヒドロジスピロ[シクロヘキサン－１，２’－ピロリジン－３’，３’’－インドール]－５’－カルボキサミド
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000123
窒素雰囲気下、参考例１で得られた化合物（３９．１ｍｇ，０．１９ｍｍol），（３Ｅ/Ｚ）-６-クロロ－３－（３－クロロ－２－フルオロベンジリデン）－１，３－ジヒドロ－２H－インドール－２－オン（ＷＯ２００６/０９１６４６）（４８．６ｍｇ，０．１６ｍｍｏｌ）、（R）－BINAP（６．６ｍｇ，０．０１１ｍｍｏｌ）、ＣｕＯＡｃ（１．２ｍｇ，０．０１０ｍｍｏｌ）の混合物に４，４－ジメチルシクロヘキサノン（３０．６ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）のＮ,Ｎ－ジメチルアセトアミド（１．０ｍｌ）溶液を加え、室温で１７時間攪拌した。反応混合物の全量をメタノール（１００ｍｌ）に希釈し、標記化合物（超高速液体クロマトグラフィー（ＵＨＰＬＣ）収率６５％，９６％ｄｅ）をメタノール溶液として得た。
（ＵＨＰＬＣ収率計算用のＵＨＰＬＣ測定条件）
カラム：ＣＡＰＣＥＬＬ ＣＯＲＥ ＡＤＭＥ ２．１×１００ｍｍ，２．７μｍ
移動層：０．１％(ｖ／ｖ) ＨＣＯＯＨａｑ.：ＭｅＣＮ
グラジエント：ＭｅＣＮ　２０％→９２％
グラジエント条件：０－２．５ｍｉｎ ＭｅＣＮ ２０％、２．５－７．３ｍｉｎ ＭｅＣＮ ２０→９２％、７．３－１４ｍｉｎ ＭｅＣＮ ９２％、１４．０１－１７ｍｉｎ ＭｅＣＮ ２０％
流量：０．６ｍｌ／ｍｉｎ
カラム温度：４０℃
検出波長：２５４ｎｍ
注入量：５μｌ
保持時間：標記化合物＝６．６ｍｉｎ
 
（ｄｅ測定用ＨＰＬＣ条件）
カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＯＤ－３Ｒ ４．６×１５０ｍｍ，３μｍ
移動層：０．１％(ｖ／ｖ) ＨＣＯＯＨａｑ.：ＭｅＣＮ＝６０：４０
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
カラム温度：４０℃
検出波長：２５４ｎｍ
注入量：１０μｌ
保持時間：標記化合物＝１７．７ｍｉｎ，ジアステレオマー＝８．５ｍｉｎ
［実施例１４］
（３’Ｒ，４’Ｓ，５’Ｒ）－６’’－クロロ－４’－（３－クロロー２－フルオロフェニル）－Ｎ－（ｔｒａｎｓ－４－ヒドロキシシクロヘキシル）－２’’－オキソー１’’，２’’－ジヒドロジスピロ[シクロヘキサン－１，２’－ピロリジン－３’，３’’－インドール]－５’－カルボキサミド
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000124
[工程１]
（４’Ｓ，５’Ｒ）－６’’－クロロ－４’－（３－クロロー２－フルオロフェニル）－Ｎ－（ｔｒａｎｓ－４－ヒドロキシシクロヘキシル）－２’’－オキソー１’’，２’’－ジヒドロジスピロ[シクロヘキサン－１，２’－ピロリジン－３’，３’’－インドール]－５’’－カルボン酸
実施例１で得られた化合物（１．００ｇ，２．０４ｍｍｏｌ）とメタノール（１０ｍｌ）のスラリー液に、氷冷下、２５％（ｗ／ｖ）水酸化ナトリウム水溶液（１.０ｍｌ、６．２５ｍｍｏｌ）を加え、０℃で２７．５時間攪拌した。反応混合物に氷冷下、３５％（ｗ／ｗ）濃塩酸（６５１ｍｇ、６．２５ｍｍｏｌ）を加え中和し、水（１５ｍｌ）を滴下後、０℃で１８時間攪拌した。析出した結晶を０℃でろ過し、４０℃にて減圧乾燥することで標記化合物（０．９０ｇ, 収率９５％，>９９．５％ｅｅ）を淡黄色固体として得た。
１Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）：δ＝１．１０－１．３０（ｍ，２Ｈ），１．５０－１．６８（ｍ，１Ｈ），１．７０－２．１３（ｍ，５Ｈ），２．１８－２．２８（ｍ，１Ｈ），２．５０－２．６２（ｍ，１Ｈ），４．８１（ｄ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ，１Ｈ），５．０１（ｄ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ，１Ｈ），６．７６（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．０７－７．１５（ｍ，２Ｈ），７．２８－７．３５（ｍ，１Ｈ），７．５４（ｄｄ，Ｊ＝８．０，２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．６０－７．６８（ｍ，１Ｈ）
（光学純度測定用ＨＰＬＣ条件）
カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＱＮ－ＡＸ ４．６×１５０ｍｍ，３μｍ
移動層：０．１％(ｖ／ｖ) ＨＣＯＯＨａｑ.：ＭｅＣＮ＝６０：４０
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
カラム温度：４０℃
検出波長：２５４ｎｍ
注入量：５μｌ
保持時間：標記化合物＝７．５ｍｉｎ，エナンチオマー＝４．０ｍｉｎ
 
[工程２]
（３’Ｒ，４’Ｓ，５’Ｒ）－６’’－クロロ－４’－（３－クロロー２－フルオロフェニル）－Ｎ－（ｔｒａｎｓ－４－ヒドロキシシクロヘキシル）－２’’－オキソー１’’，２’’－ジヒドロジスピロ[シクロヘキサン－１，２’－ピロリジン－３’，３’’－インドール]－５’－カルボキサミド
上記工程１で得られた化合物（５０１ｍｇ，１．０８ｍｍｏｌ，９９％ｅｅ）とｔｒａｎｓ－４－アミノシクロヘキサノール(１５７ｍｇ，１．３６ｍｍｏｌ)のＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（５ｍｌ）溶液に、氷冷下、４－（４,６－ジメトキシ－１,３,５－トリアジン－２－イル）－４－メチルモルホニウムクロリド（３９２ｍｇ，１．４２ｍｍｏｌ）を加え、０℃で１時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル（１０ｍｌ）、水（５ｍｌ）を加え、攪拌し、有機層を分離した。水層を酢酸エチルで抽出し（１０ｍｌ）、有機層を全て合わせた後、水で３回洗浄した（各１０ｍｌ）。溶媒を減圧留去後、アセトニトリル（１５ｍｌ）を加え室温で１８時間攪拌した。析出した結晶をろ過し、４０℃にて減圧乾燥することで標記化合物（４２６ｇ，収率７０％，>９９．５％ｅｅ）を白色固体として得た。
１Ｈ ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）：δ＝０．９３（ｔｄ，Ｊ＝１３．５，４．２Ｈｚ，１Ｈ），１．０－１．１５（ｍ，１Ｈ），１．２５－１．４５（ｍ，４Ｈ），１．５－２．０５（ｍ，１２Ｈ），３．５－３．６５（ｍ，２Ｈ），４．４９（ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，１Ｈ），４．６５（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ），６．７１（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．０２（ｔｄ，Ｊ＝８．５，２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．２０（ｔｄ，Ｊ＝１５．０，１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．３９（ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．６１（ｔｄ，Ｊ＝１４．８，１．３Ｈｚ，１Ｈ）
（光学純度測定用ＨＰＬＣ条件）
カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＯＤ－３Ｒ ４．６×１５０ｍｍ，３μｍ
移動層：０．１％(ｖ／ｖ) ＨＣＯＯＨａｑ.：ＭｅＣＮ＝６０：４０
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
カラム温度：４０℃
検出波長：２５４ｎｍ
注入量：５μｌ
保持時間：標記化合物＝４．９ｍｉｎ，エナンチオマー＝４．２ｍｉｎ
 

Claims (20)

  1. 式（Ｉ）で示される化合物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     式（ＩＩ）で示される化合物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     および式（ＩＩＩ）で示される化合物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     を溶媒中で不斉触媒を用いて反応させ、
    式（ＩＶ）で示される化合物もしくはその塩：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     を立体選択的に製造する方法。
    ［式（Ｉ）、式（ＩＩ）、式（ＩＩＩ）および式（ＩＶ）中、
    Ｒ１は、水素原子、下記Ａ群から独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキルカルボニル基、もしくは下記Ａ群から独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルコキシカルボニル基を示し、
    Ｒ２は、窒素原子、酸素原子、および硫黄原子からなる群より独立に選択されるヘテロ原子を環内に１乃至３個有する５員もしくは６員のヘテロアリール基、フェニル基、Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、もしくはＣ３－Ｃ６シクロアルケニル基を示し、ここで、
    　　該５員もしくは６員のヘテロアリール基、該フェニル基、該Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、および該Ｃ３－Ｃ６シクロアルケニル基は、ハロゲン原子、ビニル基、エチニル基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシ基、アミノカルボニル基、下記Ａ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基、下記Ａ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ３－Ｃ４シクロアルキル基、下記Ａ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルコキシ基、下記Ａ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ３－Ｃ４シクロアルコキシ基、下記Ａ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキルアミノ基、下記Ａ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいジＣ１－Ｃ６アルキルアミノ基、下記Ｂ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよい、窒素原子を環内に１個含んだ４員乃至７員の飽和複素環基、下記Ａ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルコキシカルボニル基、下記Ａ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ３－Ｃ４シクロアルコキシカルボニル基、下記Ａ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキルアミノカルボニル基、および下記Ａ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ３－Ｃ４シクロアルキルアミノカルボニル基、からなる群から独立に選択される置換基を１乃至３個有していてもよく、
    Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、下記Ｃ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基を示すか、または、
    Ｒ３とＲ４が一緒になってＣ４－Ｃ６シクロアルキル環、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロピラン環、もしくはピペリジン環を形成してもよく、
    　該Ｃ４－Ｃ６シクロアルキル環、該テトラヒドロフラン環、該テトラヒドロピラン環、および該ピペリジン環は、下記Ｄ群より独立に選ばれる置換基を１乃至８個有していてもよく、
    Ｒ５は、下記Ｅ群から独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルコキシ基、下記Ｅ群から独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ３－Ｃ８シクロアルコキシ基、Ｃ２－Ｃ６アルケニルオキシ基、もしくは－NＲ５１Ｒ５２を示し、
    Ｒ５１およびＲ５２は、それぞれ独立に、水素原子、下記Ｅ群から独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基、下記Ｅ群から独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ３－Ｃ８シクロアルキル基、もしくは下記Ｅ群から独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよい、窒素原子、酸素原子、および硫黄原子からなる群より独立に選択されるヘテロ原子を環内に１個有する３員乃至６員の飽和複素環基を示し、
    環Ｚは、下記Ｅ群より独立に選ばれる置換基を１乃至４個有していてもよいベンゼン環、下記Ｅ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいピリジン環、もしくは下記Ｅ群より独立に選ばれる置換基を１もしくは２個有していてもよいピリミジン環を示す。］
    Ａ群：ハロゲン原子、ヒドロキシ基、Ｃ１－Ｃ６アルキル基、アミノ基、フェニル基
    Ｂ群：Ｃ１－Ｃ６アルキル基、ヒドロキシ基
    Ｃ群：ハロゲン原子、ヒドロキシ基、フェニル基、ピリジル基、アミノ基
    Ｄ群：ハロゲン原子、１乃至３個のハロゲン原子で有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基、
    Ｅ群：ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ビニル基、エチニル基、シアノ基、Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基、アミノカルボニル基、ハロゲン原子を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基
     
  2. 式（Ｉ）で示される化合物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
     および式（Ｖ）で示される化合物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
     を溶媒中で不斉触媒を用いて反応させ、
    式（ＩＶ）で示される化合物もしくはその塩：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
     を立体選択的に製造する方法。
    ［式（Ｉ）、式（Ｖ）、および式（ＩＶ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、およびＺは、請求項１に記載のものと同義である。］
     
  3. 不斉触媒が、ルイス酸および不斉配位子から調製される触媒であって、
    該ルイス酸が、Ｚｎ（ＩＩ）ルイス酸、Ａｇ（Ｉ）ルイス酸、Ｎｉ（ＩＩ）ルイス酸、Ｃｏ（ＩＩ）ルイス酸、Ｒｕ（Ｉ）ルイス酸、Ｃｕ（Ｉ）ルイス酸、およびＣｕ（ＩＩ）ルイス酸からなる群から選ばれる１種のルイス酸であり、
    該不斉配位子が、下記式（ＶＩ）で示される化合物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
     下記式（ＶＩＩ）で示される化合物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
     下記式（ＶＩＩＩ）で示される化合物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
     下記式（ＩＸ）で示される化合物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
     下記式（Ｘ）で示される化合物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
     下記式（ＸＩ）で示される化合物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
     および下記式（ＸＩＩ）で示される化合物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
     からなる群から選ばれる１種の不斉配位子である請求項１もしくは２に記載の製造方法。
    ［式（ＶＩ）、式（ＶＩＩ）、式（ＶＩＩＩ）、式（ＩＸ）、式（Ｘ）、式（ＸＩ）、および式（ＸＩＩ）中、
    Ｒ６は、下記Ｆ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいフェニル基を示し、
    環Ｙは、ベンゼン環、シクロヘキサン環、もしくはハロゲン原子を１乃至４個有していてもよいジオキソラン環を示し、
    Ｒ７は、下記Ｇ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいフェニル基、もしくは下記Ｇ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいフラニル基を示し、
    Ｒ８は、水素原子、もしくはＣ１－Ｃ６アルコキシ基を示し、
    Ｒ９は、Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基を示すか、または、
    ２つのＲ９が一緒になって、環内に酸素原子を２個含む７員乃至１２員の複素環を形成してもよく、
    Ｘは、ＣＨ、ＣＲ１０、もしくは窒素原子を示し、
    　Ｒ１０は、Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基を示し、
    Ｖは、Ｐ（Ｒ１１）２、ＰＨ（Ｏ）Ｒ１２、もしくはＰ（Ｒ１１）２を１個有しているフェニル基を示し、
    　Ｒ１１は、Ｃ１－Ｃ６アルキル基、シクロヘキシル基、もしくはトリフルオロメチル基を２個有していてもよいフェニル基を示し、
    　Ｒ１２は、Ｃ１－Ｃ６アルキル基、もしくはフェニル基を示し、
    Ｗは、Ｃ１－Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１－Ｃ６アルキル基を１個有していてもよいジヒドロオキサゾリル基、ＣＨ（ＣＨ３）Ｐ（Ｒ１３）２、もしくはＣＨＲ１４Ｒ１５を示し、
    　Ｒ１３は、シクロヘキシル基、Ｃ１－Ｃ６アルキル基、または下記Ｈ群より独立に選択される１もしくは２個の置換基を有していてもよいフェニル基を示し、
    　Ｒ１４は、Ｐ（Ｒ１６）２１個で置換されていてもよいフェニル基を示し、
    　Ｒ１５は、Ｃ１－Ｃ６アルキル基、もしくはジＣ１－Ｃ６アルキルアミノ基を示し、
    　　Ｒ１６は、フェニル基、もしくはシクロヘキシル基を示し、
    Ｕは、下記Ｕａ乃至Ｕｄのいずれか１つを示し、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
     Ｒ１７は、下記Ｆ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいフェニル基を示し、
    Ｒ１８は、Ｃ１－Ｃ６アルキル基、もしくはフェニル基を示し、
    Ｒ１９は、水素原子、もしくはＣ１－Ｃ６アルキル基を示し、
    Ｒ２０およびＲ２１は、それぞれ独立に、Ｃ１－Ｃ６アルキル基を示す。］
    Ｆ群：Ｃ１－Ｃ６アルキル基、Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基
    Ｇ群：Ｃ１－Ｃ６アルキル基、Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基、ジＣ１－Ｃ６アルキルアミノ基
    Ｈ群：Ｃ１－Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子３個を有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基
     
  4. 不斉触媒の調製に用いるルイス酸が、Ｃｕ（Ｉ）ルイス酸、もしくはＣｕ（ＩＩ）ルイス酸である、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の製造方法。
     
  5. 不斉触媒の調製に用いるルイス酸が、ＣｕＯＡｃ、ＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ、ＣｕＩ、ＣｕＯＴｆ、ＣｕＰＦ６、ＣｕＢＦ４、Ｃｕ（ＯＡｃ）２、Ｃｕ（ＯＴｆ）２、およびＣｕＳＯ４からなる群から選ばれる１種のルイス酸である、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の製造方法。
     
  6. 不斉触媒の調製に用いる不斉配位子が、前記式（Ｖ）で示される化合物、前記式（ＶＩ）で示される化合物、前記式（ＶＩＩ）で示される化合物、前記式（ＶＩＩＩ）で示される化合物、前記式（ＩＸ）で示される化合物、前記式（Ｘ）で示される化合物、および前記式（ＸＩ）で示される化合物からなる群から選ばれる１種の不斉配位子である請求項１乃至５のいずれか１項に記載の製造方法。
    ［式（Ｖ）、式（ＶＩ）、式（ＶＩＩ）、式（ＶＩＩＩ）、式（ＩＸ）、式（Ｘ）、および式（ＸＩ）中、
    Ｒ６が、メチル基、ｔ－ブチル基、およびメトキシ基からなる群より、独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいフェニル基を示し、
    環Ｙが、ベンゼン環、シクロヘキサン環、もしくはジオキソラン環を示し、
    Ｒ７が、フェニル基、もしくはフラニル基を示し、
    　該フェニル基、および該フラニル基は、メチル基、ｔ－ブチル基、およびメトキシ基からなる群より、独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよく、
    Ｒ８が、水素原子、もしくはメトキシ基を示し、
    Ｒ９が、メトキシ基を示すか、または、
    ２つのＲ９が一緒になって、環内に酸素原子を２個含む９員の複素環を形成してもよく、
    Ｘが、ＣＨ、ＣＲ１０、もしくは窒素原子を示し、
    Ｒ１０が、メトキシ基を示し、
    Ｖが、Ｐ（Ｒ１１）２を示し、
    　Ｒ１１が、トリフルオロメチル基を２個有していてもよいフェニル基を示し、
    Ｗが、ｔ－ブチルチオ基、１個のイソプロピル基によって置換されていてもよいジヒドロオキサゾリル基、もしくはＣＨ（ＣＨ３）Ｐ（Ｒ１３）２を示し、
    　Ｒ１３が、１もしくは２個のメチル基を有していてもよいフェニル基を示し、
    Ｕが、前記ＵａもしくはＵｄを示し、
    Ｒ１７が、フェニル基を示し、
    Ｒ１８が、イソプロピル基、ｔ－ブチル基、もしくはフェニル基を示し、
    Ｒ１９が、水素原子を示し、
    Ｒ２０およびＲ２１が、それぞれ独立に、メチル基もしくはｔ－ブチル基を示す。］
     
  7. 不斉触媒の調製に用いる不斉配位子が、下記から選ばれる１種の不斉配位子である、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の製造方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
      
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
      
  8. 反応に使用される溶媒が、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、２－プロパノール、トルエン、および酢酸エチルからなる群から選ばれる1種もしくは複数の溶媒である、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の製造方法。
     
  9. 製造される化合物もしくはその塩が、下記に示す立体配置を有する、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の製造方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
     ［式（ＸＩＩＩ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、およびＺは、請求項１に記載のものと同義である。］
     
  10. Ｒ１が、水素原子である、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の製造方法。
     
  11. 前記式（Ｉ）において、
    環Ｚが、ハロゲン原子を１個乃至４個有していてもよいベンゼン環である、
    請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の製造方法。
     
  12. 前記式（ＩＩ）もしくは前記式（Ｖ）において、
    Ｒ２が、ハロゲン原子を１乃至４個有していてもよいピリジル基、ハロゲン原子を１乃至５個有していてもよいフェニル基である、
    請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の製造方法。
     
  13. 前記式（ＩＩ）もしくは前記式（Ｖ）において、
    Ｒ３およびＲ４が、それぞれメチル基を示すか、または、Ｒ３とＲ４が一緒になって、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、もしくはテトラヒドロピラン環を形成し、
    　該シクロペンタン環、該シクロヘキサン環、および該テトラヒドロピラン環は、環上に１乃至４個のＣ１―Ｃ６アルキル基を有していてもよい、
    請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の製造方法。
     
  14. 前記式（ＩＩＩ）もしくは前記式（Ｖ）において、
    Ｒ５が、下記に示される置換基である、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
     請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の製造方法。
     
  15. 前記式（ＩＩＩ）もしくは前記式（Ｖ）において、
    Ｒ５が、Ｃ１－Ｃ６アルコキシ基である、
    請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の製造方法。
     
  16. 請求項１５に記載の製造方法を用いて製造された化合物またはその塩を、
    加水分解を行って、下記式（ＸＩＶ）で示される化合物もしくはその塩：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
     を製造し、ＮＨＲ２２Ｒ２３で示される化合物と縮合させることにより、下記式（ＸＶ）で示される化合物もしくはその塩：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
     を製造する方法。
    ［式（ＸＩＶ）、および式（ＸＶ）中、
    Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＺは、請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の定義と同義であり、
    　Ｒ２２およびＲ２３は、それぞれ独立に、水素原子、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキルスルホニル基、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキル基、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよい、窒素原子、酸素原子、および硫黄原子からなる群より独立に選択されるヘテロ原子を環内に１個有する３員乃至６員の飽和複素環基、下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいフェニル基、もしくは下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよい、窒素原子、酸素原子、および硫黄原子からなる群より独立に選択されるヘテロ原子を環内に１乃至３個有する５員もしくは６員のヘテロアリール基を示すか、または、
    Ｒ２２とＲ２３が一緒になって下記Ｉ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいピペラジン環を形成してもよい。］
     
    Ｉ群：ハロゲン原子、ヒドロキシ基、オキソ基、カルボキシ基、ホルミル基、アミノ基、アミノカルボニル基、シアノ基、Ｃ１－Ｃ６アルキルアミノ基、Ｃ１－Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ１－Ｃ６アルキルスルホニルアミド基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルコキシ基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルキルカルボニル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ３－Ｃ６シクロアルキルカルボニル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ４－Ｃ６シクロアルキル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいＣ１－Ｃ６アルコキシカルボニル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいピペリジニル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいピロリジニル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいピペラジニル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいフェニル基、テトラゾリル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいアゼチジニル基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいモルホリノ基、下記Ｊ群より独立に選ばれる置換基を１乃至３個有していてもよいジヒドロピラゾリル基、オキサジアゾイル基
    Ｊ群：ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシ基、アミノカルボニル基、フェニル基、Ｃ１－Ｃ６アルキル基、Ｃ１－Ｃ６アルキルアミノ基、ジＣ１－Ｃ６アルキルアミノ基、Ｃ１－Ｃ６アルキルカルボニル基、Ｃ３－Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ１－Ｃ６アルキルスルホニル基、Ｃ１－Ｃ６アルキルスルホニルアミド基
     
  17. Ｒ２２が、水素原子を示し、
    Ｒ２３が、下記に示される置換基である、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
     請求項１６に記載の製造方法。
     
  18. 式（ＸＶＩ）で示される化合物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
     式（ＸＶＩＩ）で示される化合物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
     および式（ＸＶＩＩＩ）で示される化合物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
     を溶媒中：
    Ｃｕ（Ｉ）ルイス酸およびＣｕ（ＩＩ）ルイス酸からなる群より選ばれる１種のルイス酸と、下記から選ばれる１種の不斉配位子から調製した不斉触媒：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
     を用いて反応させ、
    式（ＸＩＸ）で示される化合物もしくはその塩：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
     を立体選択的に製造する方法。
    ［式（ＸＶＩ）、式（ＸＶＩＩ）、式（ＸＶＩＩＩ）および式（ＸＩＸ）中、
    Ｍは、窒素原子またはＣＨを示し、
    Ｌは、単結合、酸素原子、ＣＨ２、またはＣ（ＣＨ３）２を示し、
    Ｒ５３は、Ｃ１－Ｃ６アルキル基を示す。］
     
  19. 式（ＸＶＩ）で示される化合物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
     および式（ＸＸ）で示される化合物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
     を溶媒中：
    Ｃｕ（Ｉ）ルイス酸およびＣｕ（ＩＩ）ルイス酸からなる群より選ばれる１種のルイス酸と、下記から選ばれる１種の不斉配位子から調製した不斉触媒：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
     を用いて反応させ、
    式（ＸＩＸ）で示される化合物もしくはその塩：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
     を立体選択的に製造する方法。
    ［式（ＸＶＩ）、式（ＸＸ）、および式（ＸＩＸ）中、
    Ｍ、Ｌ、およびＲ５３は、請求項１９に記載のものと同義である。］
     
  20. 請求項１８もしくは１９に記載の製造方法を用いて製造された化合物またはその塩を、
    加水分解を行って、下記式（ＸＸＩ）で示される化合物もしくはその塩：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
     を製造し、下記に示される化合物：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
     と縮合させることにより、下記式（ＸＸＩＩ）で示される化合物もしくはその塩：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
     を製造する方法。
    ［式（ＸＸＩ）、式（ＸＸＩＩ）中、
    ＭおよびＬは、請求項１８もしくは１９に記載の定義と同義である。］
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