WO2014185529A1 - 有機ｅｌ素子、及び、有機ｅｌ素子の製造方法 - Google Patents

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基央 野田
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住友化学株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to an organic EL element and a method for manufacturing the organic EL element.
  • Patent Document 1 discloses an organic EL (Electro Luminescence) element that emits light with a predetermined light emission pattern.
  • the organic EL element includes an anode 20, a cathode 40, and an organic light emitting film 30 disposed between the anode 20 and the cathode 40.
  • the anode 20 includes a wide rough pattern including a light emission pattern.
  • the cathode 40 is formed in a pattern corresponding to the light emission pattern, and the organic light emitting film 30 is formed in a non-patterned continuous surface including both the light emission pattern and each pattern of both electrodes.
  • the light emission pattern corresponding to the pattern of an electrode (specifically cathode 40) is obtained.
  • a photolithography method, an etching method, a vapor deposition method, and the like are conceivable as a method for forming an electrode having a pattern corresponding to a light emission pattern.
  • a mask corresponding to the electrode pattern that is, the light emission pattern
  • an object of the present invention is to provide an organic EL element capable of simplifying the manufacturing method and reducing the price, and a method for manufacturing the organic EL element.
  • An organic EL device of the present invention includes an organic first electrode, an organic second electrode, and a light emitting layer disposed between the first electrode and the second electrode.
  • the light emitting layer has a plurality of light emitting regions, and at least one of the light emission color and the light emission luminance is different in at least two light emitting regions of the plurality of light emitting regions.
  • the method for producing an organic EL element of the present invention includes a step of forming a single first electrode and a light emitting layer having a plurality of light emitting regions, wherein at least two of the light emitting regions emit light.
  • the region includes a step of forming a light emitting layer in which at least one of the emission color and the light emission luminance is different, and a step of forming a single second electrode.
  • one electrode means a single plate-like electrode that is integrally formed, and physical cutting (that is, electrical disconnection) within the integrally formed electrode. It means not occurring.
  • a predetermined light emission pattern such as a character or a picture is obtained by changing at least one of the light emission color and the light emission luminance for each of the plurality of light emitting regions in the light emitting layer. Therefore, both electrodes need only be formed in one piece, and it is not necessary to form the electrodes in a light emitting pattern. As a result, it is not necessary to prepare a mask for electrode formation in accordance with the light emission pattern. Therefore, when forming a plurality of types of light emitting patterns, it is not necessary to prepare a mask for forming an electrode for each light emitting pattern, and the manufacturing method can be simplified and the cost can be reduced.
  • the light emitting material contained in the light emitting layer in each of the light emitting regions may be different in at least two of the light emitting regions described above.
  • a coating liquid containing different light emitting materials is applied to each light emitting region by pattern coating to form a coating film.
  • the light emitting layer of each light emitting region may be formed by solidifying the coating film.
  • a predetermined light emission pattern such as a character or a picture can be formed by making the light emission color different for each of the plurality of light emitting regions in the light emitting layer.
  • the light emitting layer in the boundary region between adjacent light emitting regions among the plurality of light emitting regions described above is adjacent to the light emitting material included in the light emitting layer in one light emitting region of the adjacent light emitting regions.
  • the light emitting material contained in the light emitting layer in the other light emitting region may be included.
  • the boundary region between adjacent light emitting regions among the plurality of light emitting regions is coated with the light emitting material of the light emitting layer in one of the adjacent light emitting regions. While applying a liquid, you may apply
  • the boundary between adjacent light emitting regions may be blurred due to wet spreading of a coating liquid (for example, ink containing a light emitting material).
  • a coating liquid for example, ink containing a light emitting material
  • the inventors of the present application apply the coating liquid in the respective light emitting areas so as to overlap each other at the boundary between the light emitting areas. It has been found that the blur at the boundary of can be suppressed and the visibility can be improved. This is because the light emitting layer at the boundary between adjacent light emitting regions is thickened to form a contour with reduced light emission luminance, or the light emitting color is dark due to the light emitting color composition at the boundary between adjacent light emitting regions. This is considered to be due to the fact that these boundaries appear sharp when the contour is formed.
  • the boundary region between the adjacent light emitting regions includes both light emitting materials of the adjacent light emitting regions by using the above-described coating method, it is possible to suppress blur at the boundary of these light emitting regions, Visibility can be improved.
  • the light emitting layer in the boundary region between the adjacent light emitting regions among the plurality of light emitting regions described above includes the light emitting layer in one of the adjacent light emitting regions and the other of the adjacent light emitting regions.
  • the thickness of the light emitting layer in the light emitting region may be thinner than that of the light emitting layer having a small thickness.
  • the above-described step of forming the light emitting layer it is not necessary to apply a coating liquid containing a light emitting material in a boundary region between adjacent light emitting regions among the plurality of light emitting regions.
  • the light emitting layer at the boundary between the adjacent light emitting regions is thinned to form a contour with high light emission luminance, or the light emitting color is combined at the boundary between the adjacent light emitting regions so that the light emitting color has a bright contour. It is formed.
  • a three-dimensional visual effect can be obtained by intentionally shifting the light emission pattern at a predetermined position. For example, when there is a first light emitting region and a second light emitting region surrounding the first light emitting region, if the first light emitting region is shifted in a predetermined shift direction, the first light emitting region and the second light emitting region are located on one side of the shift direction. While the light emitting region can overlap, a gap is generated between the first light emitting region and the second light emitting region on the other side in the shift direction.
  • the light emitting layer at the boundary between adjacent light emitting regions is thickened, thereby forming a contour with reduced light emission luminance, or the boundary between adjacent light emitting regions.
  • the light emission color synthesis in to form a dark outline of the light emission color; and
  • the light emitting layer at the boundary between adjacent light emitting regions is thinned to form a contour with high light emission luminance, or the light emission color at the boundary between adjacent light emitting regions.
  • a contour having a reduced light emission luminance or a contour having a dark light emission color is formed in the boundary region between the light emitting regions adjacent to one side in the shift direction.
  • a contour with high light emission luminance or a light color contour is formed, and a three-dimensional visual effect is obtained. Is obtained.
  • the thickness of the light emitting layer in each light emitting region may be different.
  • the coating amount of the coating liquid containing the light emitting material is set so that the thickness of the light emitting layer in each light emitting region is different with respect to at least two of the light emitting regions.
  • the coating solution may be applied while differently.
  • the thickness of the light emitting layer is increased, the electric resistance is increased, so that it is difficult for current to flow and the light emission luminance is lowered. Therefore, according to this, it is possible to form a predetermined light emission pattern such as a character or a picture by varying the light emission luminance for each of the plurality of light emission regions in the light emitting layer.
  • the organic EL element described above further includes a functional layer that is disposed between the first electrode and the second electrode and is different from the light emitting layer, and in at least two light emitting regions of the plurality of light emitting regions, The thickness of the functional layer corresponding to each light emitting region may be different.
  • the method further includes a step of forming a functional layer different from the light emitting layer between the first electrode and the second electrode, and in the step of forming the functional layer, With respect to at least two light-emitting regions among the plurality of light-emitting regions, the application is performed by varying the application amount of the coating liquid containing the material constituting the functional layer so that the thickness of the functional layer corresponding to each light-emitting region is different.
  • a liquid film may be applied to form a coating film, and the coating film may be solidified to form a functional layer.
  • a predetermined light emission pattern such as a character or a picture can be formed by making the light emission luminance different for each of the plurality of light emitting regions in the light emitting layer.
  • the light emitting layer described above further includes a non-light emitting region, and the non-light emitting region is formed by applying two types of coating liquids, and one of the two types of coating liquids includes a plurality of light emitting regions.
  • the same coating liquid for the light emitting layer in the light emitting area adjacent to itself, and the other of the two coating liquids is the same as the light emitting material of the coating liquid for the light emitting layer in the light emitting area adjacent to itself. It may contain a light emitting material or a non-light emitting material and may have a viscosity higher than that of the coating liquid for the light emitting layer in the light emitting region adjacent to itself.
  • the step of forming the light emitting layer includes a sub-step of forming a non-light-emitting region in the light-emitting layer, and the sub-step of forming the non-light-emitting region includes a light-emitting region adjacent to itself among the plurality of light-emitting regions.
  • a light emitting material having a viscosity equivalent to that of the light emitting layer coating liquid in the light emitting area adjacent to itself and different from the light emitting material of the light emitting layer coating liquid in the light emitting area adjacent to itself is used.
  • the thickness of the coating liquid of the light emitting layer in the light emitting area adjacent to the other edge portion of the two kinds of coating liquid is reduced, and as a result, the periphery of the non-light emitting area is the two types of coating liquid. In some cases, light was emitted in the color of the light emitting material included in the other of the above.
  • the other of the two types of coating liquid in the non-light emitting area is the same color as the coating liquid in the light emitting area adjacent to the non-light emitting area or a non-light emitting material. Since it has a viscosity larger than that of the coating solution for the light emitting layer in the light emitting region adjacent to itself, it is possible to eliminate blur due to the flow of ink and to provide a sharp non-light emitting region.
  • the light emitting layer in one light emitting region of the adjacent light emitting regions and the light emitting layer in the other light emitting region of the adjacent light emitting regions May be in contact with each other.
  • the light emitting layer in one of the adjacent light emitting regions and the light emitting region adjacent to each other may be applied so that the light emitting layer in the other light emitting region is in contact.
  • a light emitting layer is formed without forming a barrier (bank) or the like at the boundary between adjacent light emitting regions, that is, without using a method using a mask (photolithographic method, etching method, vapor deposition method, etc.). Therefore, the manufacturing method can be further simplified and the price can be reduced.
  • a coating liquid containing a light emitting material is applied to form a coating film having a film thickness of 1 ⁇ m or more and 6 ⁇ m or less before solidification, and the light emitting layer is formed by solidifying the coating film. May be.
  • a coating liquid containing a material constituting the functional layer is applied to form a coating film having a film thickness of 1 ⁇ m or more and 6 ⁇ m or less before solidification, and the coating film is solidified.
  • a functional layer may be formed.
  • the film thickness of the peripheral portion (end portion) of the thin film after solidification may vary in thickness (thickening / thinning) with respect to the film thickness of the central portion. Yes (coffee stain phenomenon). More specifically, it is considered that the coating liquid at the peripheral portion of the coating film wetted and spread returns to the central portion during drying, so that the peripheral portion is thinned and the inner portion is thickened. Since the thinned portion becomes a bright line and the thickened portion becomes a dark line, the boundary between the two light emitting regions is visually recognized as a blurred border due to the bright line / dark line.
  • the coating liquid shrinks from the peripheral part to the center part during drying. Can be suppressed, and retreat from the end of the application position can be suppressed. Therefore, it can suppress that the film thickness of the peripheral part (edge part) of the thin film after solidification changes in film thickness (thickening / thinning) with respect to the film thickness of the central part. As a result, the occurrence of bordering at the boundary between the two light emitting regions can be suppressed, and visibility can be improved.
  • the light emitting layer may be formed by applying a coating liquid containing a light emitting material and having a viscosity of 7 cp to 20 cp to form a coating film and solidifying the coating film.
  • a functional film is formed by applying a coating liquid having a viscosity of 7 cp or more and 20 cp or less containing the material constituting the functional layer to form a coated film, and solidifying the coated film. May be.
  • the above-described method of applying the coating solution may be an inkjet printing method.
  • the ink can be applied to the desired position with high accuracy, so that the light emitting layer and the like can be patterned with high accuracy.
  • FIG. 1 is a view of an organic EL element according to the first embodiment of the present invention as seen from the light emitting surface side.
  • FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view taken along line II-II of the organic EL element shown in FIG.
  • FIG. 3 is a view of an organic EL device according to the second embodiment of the present invention as seen from the light emitting surface side.
  • FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view taken along line IV-IV of the organic EL element shown in FIG.
  • FIG. 5 is a view of an organic EL element according to the third embodiment of the present invention as seen from the light emitting surface side.
  • FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view taken along the line VI-VI of the organic EL element shown in FIG. FIG.
  • FIG. 7 is a view of an organic EL device according to the fourth embodiment of the present invention as seen from the light emitting surface side.
  • FIG. 8 is an enlarged cross-sectional view taken along line VIII-VIII of the organic EL element shown in FIG.
  • FIG. 9 is a view of an organic EL element according to the fifth embodiment of the present invention viewed from the light emitting surface side.
  • FIG. 10 is an enlarged cross-sectional view along the line XX of the organic EL element shown in FIG.
  • FIG. 11 is the figure which looked at the organic EL element which concerns on the 6th Embodiment of this invention from the light emission surface side.
  • 12 is a partially enlarged cross-sectional view of the non-light emitting region shown in FIG. FIGS.
  • FIG. 13 (a) to 13 (b) show the imaging results of the light emitting surface when (a) Example 1, (b) Example 2, and (c) Example 3 emit light, respectively.
  • 14 (a) to 14 (d) respectively show (a) the peripheral portion of the coating film that has spread after application of the coating solution, and (b) the peripheral edge of the thin film with film thickness variation during drying and after solidification of the coating film.
  • (C) is a diagram showing a boundary between two light emitting regions accompanied by a film thickness variation, and (d) a boundary between two light emitting regions where the film thickness variation is suppressed.
  • FIG. 15 shows the imaging results of the light emitting surface when Example 11 and Reference Examples 11 and 12 were caused to emit light.
  • FIG. 16 shows the imaging results of the light emitting surface when Examples 21, 22 and Reference Example 21 were caused to emit light.
  • FIG. 17 shows a photographing result of the light emitting surface when Examples 31 and 32 were caused to emit light.
  • FIG. 1 is a view of the organic EL device according to the first embodiment of the present invention viewed from the light emitting surface side
  • FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view taken along line II-II of the organic EL device shown in FIG. .
  • a predetermined functional layer other than the light emitting layer 50 may be provided between the electrodes 20 and 70.
  • the functional layer include a hole injection layer, a hole transport layer, an electron injection layer, and an electron transport layer. Below, the form provided with the positive hole injection layer 30, the positive hole transport layer 40, and the electron injection layer 60 as a functional layer is illustrated.
  • the organic EL element 1 of the present embodiment includes a substrate 10, an anode 20 formed on the substrate 10, a hole injection layer 30 formed on the anode 20, and a hole injection layer 30.
  • the substrate 10 side is a light emitting surface.
  • the anode 20 and the cathode 70 are each formed as a single unit. In other words, the anode 20 and the cathode 70 are integrally formed, and form a single plate-like electrode.
  • the light emitting layer 50 has two light emitting regions 51 and 52, and the light emitting material of the light emitting layer in each light emitting region is different in the two light emitting regions 51 and 52. As a result, the light emission colors of the two light emitting areas 51 and 52 are different.
  • the light emitting region 51 includes a red light emitting material
  • the light emitting region 52 includes a blue light emitting material.
  • the light emitting region 51 may include a red light emitting material and a green light emitting material
  • the light emitting region 52 may include a green light emitting material and a blue light emitting material. Details of each color light emitting material will be described later.
  • the light emitting layer in the light emitting region 51 and the light emitting region 52 are in contact with each other at the boundary between the adjacent light emitting regions 51 and 52.
  • the substrate 10 is a flexible substrate or a rigid substrate, such as a glass substrate or a plastic substrate.
  • the anode 20 can be a thin film made of metal oxide, metal sulfide, metal, and the like. Specifically, indium oxide, zinc oxide, tin oxide, ITO, indium zinc oxide (IndiumZincZOxide: abbreviation IZO). A thin film made of gold, platinum, silver, copper or the like is used. In the case of an organic EL device having a configuration in which light emitted from the light emitting layer is emitted outside the device through the anode, an electrode exhibiting optical transparency is used for the anode 20.
  • a known hole injection material can be used for the hole injection layer 30.
  • the hole injection material include oxides such as vanadium oxide, molybdenum oxide, ruthenium oxide, and aluminum oxide, phenylamine-based, starburst-type amine-based, phthalocyanine-based, amorphous carbon, polyaniline, and polythiophene derivatives. be able to.
  • a known hole transport material can be used for the hole transport layer 40.
  • a hole transport material polyvinylcarbazole or a derivative thereof, polysilane or a derivative thereof, a polysiloxane derivative having an aromatic amine in a side chain or a main chain, a pyrazoline derivative, an arylamine derivative, a stilbene derivative, a triphenyldiamine derivative, a polyaniline or Derivatives thereof, polythiophene or derivatives thereof, polyarylamine or derivatives thereof, polypyrrole or derivatives thereof, poly (p-phenylene vinylene) or derivatives thereof, or poly (2,5-thienylene vinylene) or derivatives thereof it can.
  • the light emitting layer 50 is generally formed of an organic substance that mainly emits fluorescence and / or phosphorescence, or an organic substance and a dopant that assists the organic substance.
  • the dopant is added, for example, in order to improve the luminous efficiency and change the emission wavelength.
  • the organic substance contained in the light emitting layer may be a low molecular compound or a high molecular compound.
  • Examples of the light emitting material constituting the light emitting layer include known dye materials, metal complex materials, polymer materials, and dopant materials.
  • dye-based materials include cyclopentamine derivatives, tetraphenylbutadiene derivative compounds, triphenylamine derivatives, oxadiazole derivatives, pyrazoloquinoline derivatives, distyrylbenzene derivatives, distyrylarylene derivatives, pyrrole derivatives, thiophene ring compounds. Pyridine ring compounds, perinone derivatives, perylene derivatives, oligothiophene derivatives, oxadiazole dimers, pyrazoline dimers, quinacridone derivatives, coumarin derivatives, and the like.
  • the metal complex material examples include rare earth metals such as Tb, Eu, and Dy, or Al, Zn, Be, Ir, Pt, etc. as a central metal, and oxadiazole, thiadiazole, phenylpyridine, phenylbenzimidazole, quinoline.
  • the metal complex which has a structure etc. in a ligand can be mentioned.
  • polystyrene resins polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, polyparaphenylene derivatives, polysilane derivatives, polyacetylene derivatives, polyfluorene derivatives, polyvinylcarbazole derivatives, the above dye materials and metal complex light emitting materials are polymerized. The thing etc. can be mentioned.
  • materials that emit blue light include distyrylarylene derivatives, oxadiazole derivatives, and polymers thereof, polyvinylcarbazole derivatives, polyparaphenylene derivatives, polyfluorene derivatives, and the like.
  • examples of materials that emit green light include quinacridone derivatives, coumarin derivatives, and polymers thereof, polyparaphenylene vinylene derivatives, polyfluorene derivatives, and the like.
  • examples of materials that emit red light include coumarin derivatives, thiophene ring compounds, and polymers thereof, polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, and polyfluorene derivatives.
  • the white color can be created by mixing the above blue, green and red colors.
  • Examples of the dopant material include perylene derivatives, coumarin derivatives, rubrene derivatives, quinacridone derivatives, squarylium derivatives, porphyrin derivatives, styryl dyes, tetracene derivatives, pyrazolone derivatives, decacyclene, phenoxazone, and the like.
  • Electron transport materials include oxadiazole derivatives, anthraquinodimethane or its derivatives, benzoquinone or its derivatives, naphthoquinone or its derivatives, anthraquinone or its derivatives, tetracyanoanthraquinodimethane or its derivatives, fluorenone derivatives, diphenyldicyanoethylene Alternatively, derivatives thereof, diphenoquinone derivatives, metal complexes of 8-hydroxyquinoline or derivatives thereof, polyquinoline or derivatives thereof, polyquinoxaline or derivatives thereof, polyfluorene or derivatives thereof, and the like can be given.
  • a known electron injection material can be used for the electron injection layer 60.
  • the electron injection material include alkali metals, alkaline earth metals, alloys containing at least one of alkali metals and alkaline earth metals, oxides of alkali metals or alkaline earth metals, halides, carbonates, or these And a mixture of these substances.
  • the material of the cathode 70 is preferably a material having a low work function, easy electron injection into the light emitting layer, and high electrical conductivity. Further, in the organic EL element configured to extract light from the anode side, the material of the cathode 70 is preferably a material having a high visible light reflectance in order to reflect the light emitted from the light emitting layer to the anode side by the cathode.
  • the cathode 70 for example, an alkali metal, an alkaline earth metal, a transition metal, a Group 13 metal of the periodic table, or the like can be used.
  • a transparent conductive electrode made of a conductive metal oxide, a conductive organic material, or the like can be used as the cathode 70.
  • the above layers and electrodes can be formed by a vapor deposition method or a coating method.
  • Application methods include spin coating, casting, micro gravure coating, gravure coating, bar coating, roll coating, wire bar coating, dip coating, slit coating, capillary coating, spray coating and Examples of the coating method include a nozzle coating method, and a coating method such as a gravure printing method, a screen printing method, a flexographic printing method, an offset printing method, a reverse printing method, and an inkjet printing method.
  • pattern coating is required, it is preferably formed by a coating method capable of pattern coating, particularly by an ink jet printing method.
  • the solvent of the ink (coating liquid) used in the coating method is not particularly limited as long as it dissolves each material.
  • Chlorine solvents such as chloroform, methylene chloride and dichloroethane
  • ether solvents such as tetrahydrofuran, toluene
  • aromatic hydrocarbon solvents such as xylene
  • ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone
  • ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate and ethyl cellosolve acetate, and water.
  • a predetermined light emission pattern such as a character or a picture is formed by changing the light emission color for each of the light emitting regions 51 and 52 in the light emitting layer 50, so that the electrode 20 , 70 may be formed together, and it is not necessary to form the electrodes 20, 70 in a light emitting pattern.
  • the present invention does not exclude a method using a mask as the light emitting layer forming method.
  • the light emitting layer 50 is also formed by a technique that does not use a mask, in other words, unless a technique that forms a barrier (bank) or the like using a mask at the boundary between adjacent light emitting regions 51 and 52 is used. If the light emitting layer 50 is formed so that the light emitting layer in the light emitting region 51 and the light emitting layer in the light emitting region 52 are in contact with each other at the boundary between the adjacent light emitting regions 51 and 52, the productivity can be further simplified and reduced. Pricing is possible. [Second Embodiment]
  • FIG. 3 is a view of an organic EL element according to the second embodiment of the present invention viewed from the light emitting surface side
  • FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view taken along line IV-IV of the organic EL element shown in FIG. .
  • the organic EL element 1 includes a light emitting layer 50A instead of the light emitting layer 50 in the organic EL element 1.
  • the light emitting layer 50A has two light emitting regions 51A and 52A, and the light emitting material of the light emitting layer in each light emitting region is different in the two light emitting regions 51A and 52A. As a result, the light emission colors of the two light emitting areas 51A and 52A are different.
  • the light emitting region 51 ⁇ / b> A contains a red light emitting material like the light emitting region 51
  • the light emitting region 52 ⁇ / b> A contains a blue light emitting material like the light emitting region 52.
  • an ink containing a red light emitting material is applied to the light emitting area 51A, and then an ink containing a blue light emitting material is applied to the light emitting area 52A.
  • the ink of each light emitting area is designed and applied so as to overlap with a predetermined width by a design value.
  • the predetermined width is, for example, 0.05 mm to 15 mm, preferably 0.1 mm to 2.0 mm, and more preferably 0.2 mm to 0.5 mm.
  • the light emitting layer 50A has a boundary region 53A between the adjacent light emitting regions 51A and 52A.
  • the boundary region 53A includes the light emitting material of the light emitting layer in the light emitting region 51A and the light emission of the light emitting layer in the light emitting region 52A. Material.
  • the light emitting material of the light emitting region 51A and the light emitting material of the light emitting region 52A may be mixed, or the light emitting material of the light emitting region 51A and the light emitting region 52A may be mixed depending on the viscosity of the ink.
  • the light emitting material may be laminated in two layers. Further, the thickness of the light emitting layer in the boundary region 53A may be larger than the thickness of the light emitting layer in the light emitting region 51A and the thickness of the light emitting layer in the light emitting region 52A.
  • the boundary between adjacent light emitting regions may be blurred due to wet spreading of ink (coating liquid).
  • ink coating liquid
  • the inventors of the present application apply the inks of the respective light emitting areas so as to overlap each other at the boundaries of these light emitting areas. It has been found that blurring can be suppressed and visibility can be improved. This is because the light emitting layer at the boundary between adjacent light emitting regions is thickened to form a contour with reduced light emission luminance, or the light emitting color is dark due to the light emitting color composition at the boundary between adjacent light emitting regions. This is considered to be due to the fact that these boundaries appear sharp when the contour is formed.
  • the boundary region 53A between the adjacent light emitting regions 51A and 52A includes both light emitting materials of the light emitting regions 51A and 52A. Therefore, blurring at the boundary between these light emitting areas 51A and 52A can be suppressed, and visibility can be improved.
  • FIG. 5 is a view of an organic EL device according to the third embodiment of the present invention viewed from the light emitting surface side
  • FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view taken along line VI-VI of the organic EL device shown in FIG. .
  • the organic EL element 1B includes a light emitting layer 50B in place of the light emitting layer 50 in the organic EL element 1.
  • the light emitting layer 50B has two light emitting regions 51B and 52B, and the light emitting material of the light emitting layer in each light emitting region is different in the two light emitting regions 51B and 52B. Thereby, the light emission colors are different between the two light emitting regions 51B and 52B.
  • the light emitting region 51 ⁇ / b> B includes a red light emitting material similarly to the light emitting region 51
  • the light emitting region 52 ⁇ / b> B includes a blue light emitting material similar to the light emitting region 52.
  • an ink containing a red light emitting material is applied to the light emitting area 51B, and then an ink containing a blue light emitting material is applied to the light emitting area 52B. At this time, the ink is applied so as to shift the light emitting region 51B in the direction along the light emitting surface with respect to the light emitting region 52B.
  • one of the two light emitting areas 51B and 52B is arranged so that one light emitting area 51B is surrounded by the other light emitting area 52B.
  • ink corresponding to one light emitting region 51B is applied so as to shift in the direction along the light emitting surface, for example, the first light emitting region and one light emitting region 51B and the other light emitting region on one side in the shift direction.
  • 52B can be overlapped, a gap is formed between one light emitting region 51B and the other light emitting region 52B on the other side in the shift direction.
  • the ink in each light emitting region is applied so as to overlap at the boundary between the light emitting region 51B and the light emitting region 52B in the direction in which the light emitting region 51B is shifted with respect to the light emitting region 52B.
  • the ink in each light emitting area is not applied by design. It is possible that a thin film is formed by flow.
  • the light emitting layer 50B has a boundary region 53B between the adjacent light emitting regions 51B and 52B.
  • the boundary region 53B is a light emitting material of the light emitting layer in the light emitting region 51B and light emission of the light emitting layer in the light emitting region 52B. Material.
  • the light emitting layer 50B has a boundary region 54B between the adjacent light emitting regions 51B and 52B.
  • the thickness of the light emitting layer in the boundary region 54B is the same as the light emitting layer in the light emitting region 51B and the light emitting layer in the light emitting region 52B. It is even thinner than the thinner one.
  • the thickness of the light emitting layer in the boundary region 54B is preferably 0.7 times or less, more preferably 0.5 times or less of the average value of the thickness of the light emitting layer in the light emitting region 51B and the thickness of the light emitting layer in the light emitting region 52B. preferable.
  • the light emitting material of the light emitting region 51B and the light emitting material of the light emitting region 52B may be mixed or the light emitting material of the light emitting region 51B and the light emitting region 52B may be mixed depending on the viscosity of the ink.
  • the light emitting material may be laminated in two layers.
  • the thickness of the light emitting layer in the boundary region 53B may be larger than the thickness of the light emitting layer in the light emitting region 51B and the thickness of the light emitting layer in the light emitting region 52B.
  • the light emitting material of the light emitting region 51B and the light emitting material of the light emitting region 52B do not exist, and an electron injection layer and a cathode may exist, or the light emitting region 51B.
  • the light emitting material and the light emitting material of the light emitting region 52B may be thinly present.
  • a three-dimensional visual effect can be obtained by shifting a predetermined light emission pattern with respect to the surrounding light emission pattern. This is, (I) On one side of the shift direction, as described above, the light emitting layer at the boundary between adjacent light emitting regions is thickened, thereby forming a contour with reduced light emission luminance, or the boundary between adjacent light emitting regions. The light emission color synthesis in to form a dark outline of the light emission color; and (Ii) On the other side in the shift direction, on the contrary, the light emitting layer at the boundary between adjacent light emitting regions is thinned to form a contour with high light emission luminance, or the light emission color at the boundary between adjacent light emitting regions. By synthesizing a bright color outline, It is considered that a three-dimensional visual effect can be obtained.
  • the shift amount is, for example, 0.05 mm to 15 mm, preferably 0.1 mm to 2.0 mm, and more preferably 0.2 mm to 0.5 mm.
  • the boundary region 53B between the adjacent light emitting regions 51B and 52B includes both light emitting materials of the light emitting regions 51B and 52B. Therefore, since the boundary region 54B between the adjacent light emitting regions 51B and 52B is thinner than the thickness of both the light emitting layers 51B and 52B, a three-dimensional effect can be obtained.
  • FIG. 7 is a view of an organic EL device according to the fourth embodiment of the present invention viewed from the light emitting surface side
  • FIG. 8 is an enlarged cross-sectional view taken along line VIII-VIII of the organic EL device shown in FIG. .
  • the organic EL element 1C shown in FIG. 7 and FIG. 8 includes a light emitting layer 50C in place of the light emitting layer 50 in the organic EL element 1.
  • the light emitting layer 50C has two light emitting regions 51C and 52C, and the thickness of the light emitting layer in each light emitting region is different in the two light emitting regions 51C and 52C. Thereby, the light emission luminance differs between the two light emitting regions 51C and 52C.
  • the light emitting region 52C is thicker than the light emitting region 51C. The thicker the light emitting layer, the higher the electrical resistance and the less the current flows. Therefore, the light emission luminance in the light emitting region 52C is lower than that in the light emitting region 51C.
  • a predetermined light emission pattern such as a character or a picture is formed by making the light emission luminance different for each of the light emitting regions 51C and 52C in the light emitting layer 50. Therefore, the electrode 20 , 70 may be formed together, and it is not necessary to form the electrodes 20, 70 in a light emitting pattern. As a result, it is not necessary to prepare a mask for electrode formation in accordance with the light emission pattern. Therefore, when forming a plurality of types of light emitting patterns, it is not necessary to prepare a mask for forming an electrode for each light emitting pattern, and the manufacturing method can be simplified and the cost can be reduced. [Fifth Embodiment]
  • FIG. 9 is a view of an organic EL element according to the fifth embodiment of the present invention as viewed from the light emitting surface side
  • FIG. 10 is an enlarged cross-sectional view along the line XX of the organic EL element shown in FIG.
  • the organic EL element 1D shown in FIGS. 9 and 10 is different from the first embodiment in that the organic EL element 1 includes a hole transport layer 40D instead of the hole transport layer 40.
  • the thicknesses of the hole transport layers corresponding to the two light emitting regions 51D and 52D are different.
  • the light emission luminance is different between the two light emitting regions 51D and 52D.
  • the light emitting region 52D is thicker than the light emitting region 51D.
  • the thicker the thickness is, the larger the electric resistance becomes, and it becomes difficult for the current to flow. Therefore, the light emitting luminance in the light emitting region 52C is lower than that in the light emitting region 51C.
  • the organic EL element 1D of the fifth embodiment has the same advantages as the organic EL element 1C of the fourth embodiment.
  • FIG. 11 is a view of an organic EL device according to the sixth embodiment of the present invention as seen from the light emitting surface side
  • FIG. 12 is a partially enlarged sectional view of the non-light emitting region shown in FIG.
  • the organic EL element 1E shown in FIGS. 11 and 12 is different from the second embodiment in that the organic EL element 1A includes a light emitting layer 50E instead of the light emitting layer 50A.
  • the light emitting layer 50E further includes a non-light emitting region 55 in addition to the two light emitting regions 51A and 52A and the boundary region 53A therebetween.
  • the non-light emitting area 55 is formed by applying two types of inks 55a and 55b in an overlapping manner.
  • the ink 55b is the same as the ink applied to the light emitting region 52A adjacent to the ink 55b.
  • the ink 55a includes the same light emitting material (that is, the same color) as the ink 55b or a non-light emitting material, and has a larger viscosity than the ink 55b.
  • the viscosity of the ink 55b is 1 cp to 20 cp, preferably 2 cp to 10 cp, and more preferably 2 cp to 5 cp.
  • the thickness of the light emitting layer in the non-light emitting region 55 is thicker than the thickness of the light emitting layer in the light emitting region 52A adjacent to itself, and as a result, the light emission luminance of the non light emitting region 55 is very low.
  • This non-light emitting area 55 is preferably used for black characters and the like.
  • the ink 55a has a viscosity equal to that of the ink 55b and includes a light emitting material different from the light emitting material of the ink 55b (that is, different color, for example, the same color as the ink applied to the light emitting region 51).
  • the thickness of the ink 55b is reduced at the edge portion A of the ink 55a.
  • the periphery of the non-light emitting region 55 emits light in the color of the light emitting material contained in the ink 55a, and the flow of the ink. In some cases, a blur is not generated and a sharp non-light emitting region is not provided.
  • the ink 55a in the non-light-emitting region 55 is the same color as the ink 55b in the light-emitting region 52A adjacent to itself or a non-light-emitting material. Even in this case, the color is black and the viscosity is higher than that of the ink 55b, so that the blur due to the flow of the ink can be eliminated and a sharp non-light emitting area can be provided.
  • each layer is coated with a coating liquid to form a coating film. It is formed by drying and solidifying, but in the process of drying and solidifying the coating film, the film thickness of the peripheral part (edge part) varies with the film thickness of the central part (thickening / thinning) ) (Coffee stain phenomenon).
  • the coating liquid on the peripheral portion 100 of the coating film that has spread after application is applied to the central portion 200 during the drying of the coating liquid as shown in FIG. 14 (b). It is considered that the outermost peripheral portion 101 of the peripheral portion 100 is thinned and the inner portion 102 is thickened. For example, it is considered that the thicker the coating solution is, the larger the width at which the coating solution shrinks from the peripheral portion 100 to the central portion 200 at the time of drying, and a large retreat from the end portion 103 at the coating position.
  • the thinned portion 101 becomes a bright line and the thickened portion 102 becomes a dark line.
  • the coating film coating liquid
  • a coating liquid containing a light emitting material is applied to form a coating film having a thickness of 1 ⁇ m to 6 ⁇ m, and the light emitting layer is solidified by solidifying the coating film.
  • the film thickness of the coating film at the time of coating the coating liquid (before the coating film is solidified) is reduced to 1 ⁇ m or more and 6 ⁇ m or less, as shown in FIG. It is possible to suppress the coating liquid from shrinking and to suppress the backward movement from the end of the coating position. Therefore, in the thin film after solidification, it is possible to suppress the film thickness variation (thickening / thinning) of the film thickness of the peripheral part (end part) with respect to the film thickness of the central part. As a result, the occurrence of bordering at the boundary between the two light emitting regions 51 and 52 can be suppressed, and the visibility can be improved.
  • the idea of the present invention can also be applied to the functional layer.
  • a coating film containing a material constituting the hole transport layer 40D is applied to form a coating film having a thickness of 1 ⁇ m or more and 6 ⁇ m or less. Even if the hole transport layer 40D is formed by forming and solidifying the coating film, as described above, in the process of drying and solidifying the coating film, the film thickness of the peripheral part (end part) is the central part.
  • the film thickness of the coating film is focused.
  • the viscosity of the coating liquid is focused.
  • the coating liquid in the peripheral portion 100 of the coating film that has spread after application returns to the central portion 200 during drying of the coating solution, whereby the peripheral portion 101 of the peripheral portion 100 is thinned.
  • the inner portion 102 is considered to be thicker.
  • the lower the viscosity of the coating solution the larger the width of the coating solution that contracts from the peripheral portion 100 to the central portion 200 during drying, and the end portion 103 of the coating position. It is thought that it will greatly recede from. It is also considered that the swell (thickening) at the peripheral edge 100 is large.
  • a coating film containing a light emitting material and having a viscosity of 7 cp to 20 cp is applied to form a coating film, and the coating film is solidified to form the light emitting layer.
  • the idea of the present invention can also be applied to the functional layer.
  • a coating film is formed by applying a coating solution having a viscosity of 7 cp or more and 20 cp or less including the material constituting the hole transport layer 40D.
  • the film thickness of the peripheral portion (end portion) is larger than the film thickness of the central portion. Variation in film thickness (thickening / thinning) can be suppressed, and as a result, the occurrence of bordering at the boundary between the two light emitting regions 51D and 52D can be suppressed, and visibility can be improved. it can.
  • the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made.
  • the mode in which the light emitting layer has two different light emitting regions is illustrated, but the light emitting layer may have three or more different light emitting regions.
  • a light emitting region having a different light emission color and a light emitting region having a different light emission luminance may be mixed.
  • anode / light emitting layer / cathode b) anode / hole injection layer / light emitting layer / cathode c) anode / hole injection layer / light emitting layer / electron injection layer / cathode d) anode / hole injection layer / light emitting layer / Electron transport layer / electron injection layer / cathode e) anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / cathode f) anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron injection layer / cathode g ) Anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer / cathode h) Anode / light emitting layer / electron injection layer / cathode i) Anode / light emitting layer / electron transport layer / electron injection Layer / cathode i)
  • the organic EL element 1A of the second embodiment shown in FIGS. 3 and 4 the organic EL element 1B of the third embodiment shown in FIGS. 5 and 6, FIGS.
  • the organic EL element 1C of the fourth embodiment shown in FIG. 8 was produced as follows. [Example 1] (Base process)
  • a base substrate having an anode 20 formed on a glass substrate 10 was prepared. Specifically, after forming a transparent conductive film (thickness 150 nm) made of ITO on the glass substrate 10, a grid-like auxiliary electrode (line width 50 ⁇ m, A pitch of 300 ⁇ m) was formed. A protective insulating film made of polyimide (Toray Photo Nice) was formed on the grid-like auxiliary electrode.
  • a hole injection layer composition (ink) was applied onto a base substrate with a protective insulating film using a spin coater and dried to form a hole injection layer 30 (film thickness 65 nm).
  • the hole transport layer composition (ink) was applied with a spin coater, dried and fired at 10 Pa and 190 ° C. for 60 minutes in a vacuum dryer, and the hole transport layer 40 (film thickness 20 nm). Formed.
  • the composition for the hole transport layer (ink) is such that the polymer for the hole transport layer is mixed with a mixed solvent of 4-methoxytoluene and cyclohexylbenzene (mixing ratio 2: 8) so that the solid content concentration becomes 0.5%. It is dissolved. (Light emitting layer process)
  • a light emitting layer 50A was formed on the base.
  • a polymer for light emission is used as a red ink in the light emitting region 51A (the cross section) on the base, and is applied to form a thin film by ink jet printing.
  • the luminescent composition (red ink) is obtained by dissolving a luminescent polymer in a mixed solvent of 4-methoxytoluene and cyclohexylbenzene (mixing ratio 2: 8) so as to have a solid concentration of 2.0%. .
  • the light emitting composition (white ink) is obtained by dissolving a light emitting polymer in a mixed solvent of 4-methoxytoluene and cyclohexylbenzene (mixing ratio 2: 8) so as to have a solid content concentration of 0.7%. .
  • the electron injection layer 60 and the cathode 70 were formed on the light emitting layer 50.
  • NaF / Mg / Al / Ag was deposited on the light emitting layer 50 by 2 nm / 2 nm / 200 nm / 100 nm. Thereafter, it was bonded to a counter substrate and divided.
  • a light emitting layer 50B was formed on the base. Specifically, a polymer for light emission is used as a red ink in the light emitting region 51B (the cross section) on the base, and is applied to form a thin film by ink jet printing. For 5 minutes.
  • the luminescent composition (red ink) is the same as in Example 1 above.
  • a white light emitting polymer was used as the light emitting region 52B (background portion), and the thin film was applied by ink jet printing, followed by vacuum drying to 10 Pa and baking at 130 ° C. for 10 minutes.
  • the luminescent composition (white ink) is the same as in Example 1 above.
  • the light emitting layer 50C was formed on the base. Specifically, with respect to the base, after vacuum drying up to 10 Pa with an inkjet printing apparatus, the light emitting region 51C (I portion) is a thin film area of 40 nm and the light emitting region 52C (background portion) is a thin film area of 60 nm. Application was performed by ink jet printing, and baking was further performed at 130 ° C. for 10 minutes.
  • the light-emitting composition (ink) is obtained by dissolving a light-emitting polymer in a mixed solvent of 4-methoxytoluene and cyclohexylbenzene (mixing ratio 2: 8) so as to have a solid concentration of 1.4%. (Post-process)
  • FIGS. 13 (a) to 13 (c) show the photographing results of the light emitting surfaces when light is emitted from Examples 1 to 3, respectively.
  • the emission color is made different for each of the light emitting regions 51A and 51B (cross beam portion) and 52A and 52B (background portion) in the light emitting layer.
  • a predetermined light emission pattern such as a character or a picture can be formed.
  • predetermined light emission patterns such as a character and a picture, can be formed by varying light emission brightness
  • Example 2 it can be seen that in Example 1, blurring at the boundary between the light emitting region 51A (cross beam portion) and the light emitting region 52A (background portion) could be suppressed. Moreover, according to FIG.13 (b), in Example 2, it turns out that the three-dimensional visual effect was acquired.
  • Example 11 of the present invention the equivalent to the organic EL element 1 of the first embodiment shown in FIGS. 1 and 2 to which the light emitting layer forming method of the seventh embodiment is applied, that is, for the light emitting layer.
  • the film thickness of the coating film is as thin as 1 ⁇ m or more and 6 ⁇ m or less, and the light emitting layer in the light emitting area 51 and the light emitting area 52 in the boundary between two adjacent light emitting areas 51 and 52.
  • the organic EL device 1 equivalent to the light emitting layer was made as follows, and Reference Examples 11 and 12 were made as follows. In FIG.
  • the constituent material of the light emitting layer 50 is shown as a red light emitting material and a blue light emitting material. However, in the following embodiments, the constituent material of the light emitting layer may be different from that of FIG. 2. is there. In the following, the ground process and the post-process are the same as those in the first embodiment, and the description thereof is omitted. [Example 11] (Light emitting layer process)
  • the light emitting layer 50 was formed on the base. Specifically, after vacuum drying up to 10 Pa with the ink jet printing apparatus with respect to the base, a polymer yellow ink for light emission is used for the light emitting region 51 (round portion) and light emitting region 52 (background portion) is used for light emission. A polymer blue ink was used to form a thin film and baked at 130 ° C. for 10 minutes.
  • the luminescent composition (yellow ink)
  • a luminescent polymer is dissolved in a mixed solvent of 4-methoxytoluene and cyclohexylbenzene (mixing ratio 2: 8) so as to have a solid content concentration of 0.7%. Used and the viscosity was 5 cp.
  • the film thickness immediately after coating was 4.5 ⁇ m.
  • the film thickness of the coating film immediately after application is a value obtained by back-calculating the numerical value obtained by measuring the film thickness after drying with a stylus by the solid content concentration (the same applies hereinafter).
  • the light emitting polymer was dissolved in a mixed solvent of 4-methoxytoluene and cyclohexylbenzene (mixing ratio 2: 8) so as to have a solid content concentration of 1.0%. Used, and the viscosity was 8 cp. The film thickness immediately after coating was 2.4 ⁇ m.
  • Example 11 is the same as Example 11 except that the film thickness immediately after application of the yellow ink is 6.8 ⁇ m.
  • Reference Example 12 [Reference Example 12]
  • Example 11 is the same as Example 11 except that the film thickness immediately after application of the yellow ink is 9.1 ⁇ m and the film thickness immediately after application of the blue ink is 4.8 ⁇ m. [Evaluation]
  • FIG. 15 shows a photographing result of the light emitting surface when Example 11 and Reference Examples 11 and 12 were caused to emit light.
  • Reference Example 12 if the thickness of the coating film when the yellow ink is applied to the light emitting region 51 (round portion) (before the coating film is solidified) is as thick as 9.1 ⁇ m, a bright line appears at the boundary between the two light emitting regions 51 and 52. In contrast, in Reference Example 11, the thickness of the coating film at the time of application of yellow ink in the light emitting region 51 (round portion) (before solidification of the coating film) was observed.
  • the two light emitting regions 51 and 52 are formed by reducing the coating film thickness to 4.5 ⁇ m when the yellow ink is applied to the light emitting region 51 (round portion) (before the coating film is solidified). It can be seen that the generation of bright lines and dark lines at the borders of the film is suppressed, and the visibility of the border is further suppressed.
  • Example 21 the equivalent to the organic EL element 1 of the first embodiment shown in FIGS. 1 and 2 to which the light emitting layer forming method of the seventh embodiment is applied, that is, the light emitting layer.
  • An organic EL element 1 equivalent to the light emitting layer 52 in contact with the light emitting layer was prepared as follows, and Reference Example 21 was prepared as follows. In addition, below, since a base
  • the light emitting layer 50 was formed on the base. Specifically, after vacuum drying up to 10 Pa with an ink jet printing apparatus on the base, a polymer purple ink for light emission is used for the light emitting region 51 (spiral portion), and light emission is performed for the light emitting region 52 (background portion).
  • the polymer red ink was used to form a thin film and baked at 130 ° C. for 10 minutes.
  • the luminescent composition (purple ink) a luminescent polymer is dissolved in a mixed solvent of 4-methoxytoluene and cyclohexylbenzene (mixing ratio 2: 8) so as to have a solid content concentration of 0.7%. Used and the viscosity was 5 cp. The film thickness immediately after application was 2.8 ⁇ m.
  • the light emitting polymer was dissolved in a mixed solvent of 4-methoxytoluene and cyclohexylbenzene (mixing ratio 2: 8) so as to have a solid content concentration of 0.7%.
  • the viscosity was 5 cp.
  • the film thickness immediately after coating was set to 3.8 ⁇ m.
  • Example 21 is the same as Example 21 except that the film thickness immediately after application of the red ink is 5.1 ⁇ m. [Reference Example 21]
  • Example 21 is the same as Example 21 except that the film thickness immediately after application of the red ink is 6.4 ⁇ m. [Evaluation]
  • FIG. 16 shows the imaging results of the light emitting surface when Examples 21, 22 and Reference Example 21 were caused to emit light.
  • Reference Example 21 when the thickness of the coating film when the red ink is applied to the light emitting region 52 (background portion) (before the coating film is solidified) is as thick as 6.4 ⁇ m, a bright line is formed at the boundary between the two light emitting regions 51 and 52. A dark line is generated and the border is visually recognized.
  • the thickness of the coating film at the time of applying the red ink in the light emitting region 52 (background part) (before the coating film is solidified) is reduced to 5.1 ⁇ m and 3.8 ⁇ m, respectively.
  • Example 31 the equivalent to the organic EL element 1 of the first embodiment shown in FIG. 1 and FIG. 2 to which the light emitting layer forming method of the seventh embodiment is applied, that is, the light emitting layer.
  • the organic EL element 1 equivalent to which the light emitting layer in 52 is in contact was prepared as follows.
  • the light emitting layer forming method of the eighth embodiment is also applied.
  • substrate process and a post process are the same as the said Example 1, description is abbreviate
  • the light emitting layer 50 was formed on the base. Specifically, after vacuum drying up to 10 Pa with the ink jet printing apparatus with respect to the above base, a light emitting polymer white ink is used for the light emitting region 51 (snow mark portion), and the light emitting region 52 (background portion) is used for light emission. A polymer blue ink was used to form a thin film and baked at 130 ° C. for 10 minutes.
  • the luminescent composition (white ink), a luminescent polymer dissolved in a mixed solvent of 4-methoxytoluene and cyclohexylbenzene (mixing ratio 2: 8) so as to have a solid content concentration of 0.7%. Used and the viscosity was 5 cp. The film thickness immediately after coating was 4.9 ⁇ m.
  • a light emitting composition blue ink
  • a light emitting polymer was dissolved in a mixed solvent of 4-methoxytoluene and cyclohexylbenzene (mixing ratio 2: 8) so as to have a solid concentration of 0.8%.
  • the viscosity was 5 cp.
  • the film thickness immediately after coating was 3.4 ⁇ m.
  • Example 31 The same as Example 31, except that the density of the white ink was 1.4%, the viscosity was 11 cp, and the film thickness immediately after coating was 1.8 ⁇ m. [Evaluation]
  • FIG. 17 shows a photographing result of the light emitting surface when Examples 31 and 32 were caused to emit light.
  • the thickness of the coating film when the blue ink is applied to the light emitting region 52 (background portion) (before the coating film is solidified) is 3.4 ⁇ m, and the white ink is applied to the light emitting region 51 (snow mark portion).
  • Example 31 a dark line, that is, a border is slightly visually recognized at the boundary between the two light emitting regions 51 and 52.
  • Example 32 by further increasing the viscosity of the white ink in the light emitting area 51 (snow mark portion) to 11 cp, the generation of dark lines at the boundary between the two light emitting areas 51 and 52 is further suppressed, and the border is drawn. The visibility of was more suppressed.
  • the present invention can be applied to organic EL elements capable of simplifying the manufacturing method and reducing the price, and uses of the organic EL element manufacturing method.

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Abstract

　本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ素子１は、ひとつらなりの第１の電極２０と、ひとつらなりの第２の電極７０と、第１の電極２０と第２の電極７０との間に配置される発光層５０とを備える有機ＥＬ素子であって、発光層５０は、２つの発光領域５１，５２を有し、２つの発光領域５１，５２では、発光色および発光輝度のうちの少なくとも一方が異なる。

Description

有機ＥＬ素子、及び、有機ＥＬ素子の製造方法
　本発明は、有機ＥＬ素子、及び、有機ＥＬ素子の製造方法に関する。
　文字や絵などを表現するデバイスとして、特許文献１には、所定の発光パターンで発光する有機ＥＬ（Electro Luminescence）素子が開示されている。この有機ＥＬ素子は、陽極２０と、陰極４０と、これらの陽極２０と陰極４０との間に配置された有機発光膜３０とを含んでおり、陽極２０は発光パターンを包含する広いラフなパターンに形成されており、陰極４０は発光パターンに対応するパターンに形成されており、有機発光膜３０は発光パターン及び両電極の各パターンのいずれも含む非パターン化連続面状に形成されている。そして当該有機ＥＬ素子では電極（具体的には陰極４０）のパターンに対応する発光パターンが得られる。
特開２００１－３５６６９号公報
　特許文献１に記載のように、発光パターンに対応するパターンの電極を形成する手法としては、フォトリソグラフィ法、エッチング法、蒸着法などが考えられる。しかしながら、これらの手法では、電極パターン（すなわち、発光パターン）に対応するマスクを作製する必要があるため、発光パターンの変更のたびにマスクの作製が必要になり、製造コストが比較的に高くなってしまう。
　そこで、本発明は、製造方法の簡易化、及び、低価格化が可能な有機ＥＬ素子、及び、有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを目的とする。
　本発明の有機ＥＬ素子は、ひとつらなりの第１の電極と、ひとつらなりの第２の電極と、第１の電極と第２の電極との間に配置される発光層とを備える有機ＥＬ素子であって、発光層は、複数の発光領域を有し、複数の発光領域のうちの少なくとも２つの発光領域では、発光色および発光輝度のうちの少なくとも一方が異なる。
　また、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、ひとつらなりの第１の電極を形成する工程と、複数の発光領域を有する発光層であって、複数の発光領域のうちの少なくとも２つの発光領域では、発光色および発光輝度のうちの少なくとも一方が異なる発光層を形成する工程と、ひとつらなりの第２の電極を形成する工程とを有する。ここで、「ひとつらなりの電極」とは、一体的に形成された一枚の板状電極を意味し、一体的に形成された電極内において物理的な切断（すなわち電気的な断絶）が生じていないことを意味する。
　この有機ＥＬ素子及び有機ＥＬ素子の製造方法によれば、発光層における複数の発光領域ごとに、発光色および発光輝度のうちの少なくとも一方を異ならせることによって、文字や絵などの所定の発光パターンを形成するので、両電極ともにひとつらなりに形成すればよく、電極を発光パターンに形成する必要がない。その結果、発光パターンに合わせて電極形成用のマスクを作製する必要がなくなる。そのため、複数種類の発光パターンを形成する際に、発光パターンごとに電極形成用のマスクを作製する必要がなく、製造方法の簡易化、及び、低価格化が可能となる。
　上記した複数の発光領域のうちの少なくとも２つの発光領域では、それぞれの発光領域における発光層に含まれる発光材料が異なっていてもよい。
　また、上記した発光層を形成する工程では、複数の発光領域のうちの少なくとも２つの発光領域に関して、それぞれ異なる発光材料を含む塗布液を各発光領域にそれぞれパターン塗布して塗布膜をパターン形成し、当該塗布膜を固化することによって各発光領域の発光層を形成してもよい。
　これによれば、発光層における複数の発光領域ごとに、発光色を異ならせることによって、文字や絵などの所定の発光パターンを形成することができる。
　また、上記した複数の発光領域のうちの隣り合う発光領域の間の境界領域における発光層が、隣り合う発光領域のうちの一方の発光領域における発光層に含まれる発光材料と、隣り合う発光領域のうちの他方の発光領域における発光層に含まれる発光材料とを含んでいてもよい。
　また、上記した発光層を形成する工程において、複数の発光領域のうちの隣り合う発光領域の間の境界領域では、隣り合う発光領域のうちの一方の発光領域における発光層の発光材料を含む塗布液を塗布するとともに、隣り合う発光領域のうちの他方の発光領域における発光層の発光材料を含む塗布液を塗布してもよい。
　例えば、塗布法を用いて発光層を形成する場合、塗布液（例えば、発光材料を含むインク）の濡れ広がりに起因して、隣り合う発光領域の境界がボケてしまうことがある。この点に関し、本願発明者らは、隣り合う発光領域それぞれに塗布液を塗布する際に、これらの発光領域の境界で、それぞれの発光領域の塗布液が重なるように塗布すると、これらの発光領域の境界におけるボケを抑制でき、視認性を改善できることを見出した。これは、隣り合う発光領域の境界における発光層が厚くなることにより、発光輝度が低下した輪郭が形成されること、もしくは、隣り合う発光領域の境界における発光色合成により、発光色が暗い色の輪郭が形成されることにより、これらの境界がシャープに見えることによるものと考える。
　これによれば、上記の塗布法を用いることにより、隣り合う発光領域の間の境界領域が、隣り合う発光領域の両方の発光材料を含むので、これらの発光領域の境界におけるボケを抑制でき、視認性を改善することができる。
　また、上記した複数の発光領域のうちの隣り合う発光領域の間の境界領域における発光層は、隣り合う発光領域のうちの一方の発光領域における発光層と、隣り合う発光領域のうちの他方の発光領域における発光層とのうちで厚みの薄い発光層よりも、更にその厚みが薄くてもよい。
　また、上記した発光層を形成する工程において、複数の発光領域のうちの隣り合う発光領域の間の境界領域では、発光材料を含む塗布液を塗布しなくてもよい。
　これによれば、隣り合う発光領域の境界における発光層が薄くなることにより、発光輝度が高い輪郭が形成される、もしくは、隣り合う発光領域の境界における発光色合成により、発光色が明るい輪郭が形成される。
　本願発明者らは、所定位置の発光パターンを意図的にずらすことにより、３次元的な視認効果が得られることを見出した。たとえば第１の発光領域と、これを囲む第２の発光領域がある場合に、第１の発光領域を所定のシフト方向にずらすと、シフト方向の一方側では第１の発光領域と第２の発光領域に重なりができる一方で、シフト方向の他方側では第１の発光領域と第２の発光領域とに隙間が生じる。この場合、
（ｉ）シフト方向の一方側では、上記したように、隣り合う発光領域の境界における発光層が厚くなることにより、発光輝度が低下した輪郭が形成されること、もしくは、隣り合う発光領域の境界における発光色合成により、発光色が暗い色の輪郭が形成されることにより、及び、
（ｉｉ）シフト方向の他方側では、反対に、隣り合う発光領域の境界における発光層が薄くなることにより、発光輝度が高い輪郭が形成されること、もしくは、隣り合う発光領域の境界における発光色合成により、発光色が明るい色の輪郭が形成されることにより、
３次元的な視認効果が得られるものと考える。
　これによれば、上記の塗布法を用いることにより、シフト方向の一方側に隣り合う発光領域の間の境界領域に、発光輝度が低下した輪郭、もしくは、発光色が暗い色の輪郭が形成される一方で、シフト方向の他方側に隣り合う発光領域の間の境界領域に、発光輝度が高い輪郭、もしくは、発光色が明るい色の輪郭が形成されることになり、３次元的な視認効果が得られる。
　また、上記した複数の発光領域のうちの少なくとも２つの発光領域では、それぞれの発光領域における発光層の厚みが異なっていてもよい。
　また、上記した発光層を形成する工程では、複数の発光領域のうちの少なくとも２つの発光領域に関して、それぞれの発光領域における発光層の厚みを異ならせるように、発光材料を含む塗布液の塗布量を異ならせて当該塗布液を塗布してもよい。
　発光層の厚みが厚いほど、電気抵抗が大きくなるので、電流が流れ難くなり、発光輝度が低下する。したがって、これによれば、発光層における複数の発光領域ごとに、発光輝度を異ならせることによって、文字や絵などの所定の発光パターンを形成することができる。
　また、上記した有機ＥＬ素子は、第１の電極と第２の電極との間に配置され、発光層とは異なる機能層をさらに備え、複数の発光領域のうちの少なくとも２つの発光領域では、それぞれの発光領域に対応する機能層の厚みが異なっていてもよい。
　また、上記した有機ＥＬ素子の製造方法では、第１の電極と第２の電極との間に、発光層とは異なる機能層を形成する工程をさらに有し、機能層を形成する工程では、複数の発光領域のうちの少なくとも２つの発光領域に関し、それぞれの発光領域に対応する機能層の厚みを異ならせるように、機能層を構成する材料を含む塗布液の塗布量を異ならせて当該塗布液を塗布して塗布膜を形成し、当該塗布膜を固化して機能層を形成してもよい。
　発光層以外の機能層でも、厚みが厚いほど、電気抵抗が大きくなるので、電流が流れ難くなり、発光輝度が低下する。これによれば、発光層における複数の発光領域ごとに、発光輝度を異ならせることによって、文字や絵などの所定の発光パターンを形成することができる。
　また、上記した発光層は、非発光領域をさらに有し、非発光領域は、２種の塗布液を塗布することによって形成されており、２種の塗布液の一方は、複数の発光領域のうちの自身に隣接する発光領域における発光層のための塗布液と同一であり、２種の塗布液の他方は、自身に隣接する発光領域における発光層のための塗布液の発光材料と同一の発光材料を含むか、もしくは、非発光材料を含んでおり、自身に隣接する発光領域における発光層のための塗布液よりも大きい粘度を有していてもよい。
　また、上記した発光層を形成する工程では、発光層に非発光領域を形成するサブ工程を含み、非発光領域を形成するサブ工程では、複数の発光領域のうちの自身に隣接する発光領域における発光層のための塗布液の発光材料と同一の発光材料を含むか、もしくは、非発光材料を含み、自身に隣接する発光領域における発光層のための塗布液よりも大きい粘度を有する塗布液を塗布した後に、自身に隣接する発光領域における発光層のための塗布液と同一の塗布液を塗布してもよい。
　従来、２種の塗布液の他方として、自身に隣接する発光領域における発光層の塗布液と同等の粘度であり、自身に隣接する発光領域における発光層の塗布液の発光材料と異なる発光材料を含んでいた。この従来形態では、２種の塗布液の他方のエッジ部において、自身に隣接する発光領域における発光層の塗布液の厚みが薄くなり、その結果、非発光領域の周囲が、２種の塗布液の他方に含まれる発光材料の色で発光してしまうことがあった。
　これによれば、非発光領域における２種の塗布液の他方が、自身に隣接する発光領域における塗布液と同色もしくは、非発光材料であり、まず、エッジ部が発光しても黒色となり、また自身に隣接する発光領域における発光層の塗布液よりも大きい粘度を有するので、インクの流動によるボケをすくなくできシャープな非発光領域を持たせられる。
　また、複数の発光領域のうちの隣り合う発光領域の間の境界領域では、隣り合う発光領域のうちの一方の発光領域における発光層と、隣り合う発光領域のうちの他方の発光領域における発光層とが当接していてもよい。
　また、発光層を形成する工程では、複数の発光領域のうちの隣り合う発光領域の間の境界領域に関し、隣り合う発光領域のうちの一方の発光領域における発光層と、隣り合う発光領域のうちの他方の発光領域における発光層とが当接するように、塗布液を塗布してもよい。
　これによれば、隣り合う発光領域の境界に障壁（バンク）等を形成することなく、すなわち、マスクを用いる手法（フォトリソグラフィ法、エッチング法、蒸着法等）を用いることなく、発光層を形成することができるので、更なる製造方法の簡易化、及び、低価格化が可能となる。
　また、発光層を形成する工程では、発光材料を含む塗布液を塗布して、固化前の膜厚として１μｍ以上６μｍ以下の塗布膜を形成し、当該塗布膜を固化することによって発光層を形成してもよい。同様に、機能層を形成する工程では、機能層を構成する材料を含む塗布液を塗布して、固化前の膜厚として１μｍ以上６μｍ以下の塗布膜を形成し、当該塗布膜を固化することによって機能層を形成してもよい。
　塗布液を塗布して固化する薄膜形成方法では、固化後の薄膜の周縁部（端部）の膜厚が中央部の膜厚に対して膜厚変動（厚膜化／薄膜化）することがある（コーヒーステイン現象）。より詳説すれば、濡れ広がった塗布膜の周縁部の塗布液が、乾燥中に中央部の方へ戻ることにより、最も周縁の部分が薄膜化し、その内側の部分が厚膜化すると考えられる。薄膜化部分は輝線となり、厚膜化部分は暗線となることから、２つの発光領域の境界が輝線・暗線によるぼけた縁取りとして視認されてしまう。
　しかしながら、これによれば、塗布液の塗布時（塗布膜の固化前）の塗布膜の膜厚を１μｍ以上６μｍ以下と薄くすることにより、乾燥時に周縁部から中央部へ塗布液が収縮することを抑制し、塗布位置の端部からの後退を抑制することができる。したがって、固化後の薄膜の周縁部（端部）の膜厚が中央部の膜厚に対して膜厚変動（厚膜化／薄膜化）することを抑制することができる。その結果、２つの発光領域の境界における縁取りの発生を抑制することができ、視認性を改善することができる。
　また、発光層を形成する工程では、発光材料を含む粘度７ｃｐ以上２０ｃｐ以下の塗布液を塗布して塗布膜を形成し、当該塗布膜を固化することによって発光層を形成してもよい。同様に、機能層を形成する工程では、機能層を構成する材料を含む粘度７ｃｐ以上２０ｃｐ以下の塗布液を塗布して塗布膜を形成し、当該塗布膜を固化することによって機能層を形成してもよい。
　これによれば、塗布液の粘度を７ｃｐ以上２０ｃｐ以下と高くすることにより、乾燥時に周縁部から中央部への塗布液の流動を抑制し、塗布位置の端部からの後退を抑制することができると共に、周縁部の盛り上がり（厚膜化）の発生をより抑制することができる。したがって、固化後の薄膜の周縁部（端部）の膜厚が中央部の膜厚に対して膜厚変動（厚膜化／薄膜化）することを抑制することができる。その結果、２つの発光領域の境界における縁取りの発生を抑制することができ、視認性を改善することができる。
　また、上記した塗布液を塗布する方法がインクジェットプリント法であってもよい。
　インクジェットプリント法を用いる場合、簡易に、所望する位置に極めて正確にインクを塗布することができるため、簡易に、発光層等を極めて正確にパターン形成することができる。
　本発明によれば、製造方法の簡易化、及び、低価格化が可能となる。
図１は、本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ素子を発光面側からみた図である。 図２は、図１に示す有機ＥＬ素子のII-II線に沿う拡大断面図である。 図３は、本発明の第２の実施形態に係る有機ＥＬ素子を発光面側からみた図である。 図４は、図３に示す有機ＥＬ素子のIV-IV線に沿う拡大断面図である。 図５は、本発明の第３の実施形態に係る有機ＥＬ素子を発光面側からみた図である。 図６は、図５に示す有機ＥＬ素子のVI-VI線に沿う拡大断面図である。 図７は、本発明の第４の実施形態に係る有機ＥＬ素子を発光面側からみた図である。 図８は、図７に示す有機ＥＬ素子のVIII-VIII線に沿う拡大断面図である。 図９は、本発明の第５の実施形態に係る有機ＥＬ素子を発光面側からみた図である。 図１０は、図９に示す有機ＥＬ素子のX-X線に沿う拡大断面図である。 図１１は、本発明の第６の実施形態に係る有機ＥＬ素子を発光面側からみた図である。 図１２は、図１１に示す非発光領域の一部拡大断面図である。 図１３（ａ）～（ｂ）はそれぞれ、（ａ）実施例１、（ｂ）実施例２、（ｃ）実施例３を発光させたときの発光面の撮影結果を示す。 図１４（ａ）～（ｄ）はそれぞれ、（ａ）塗布液を塗布した後に濡れ広がった塗布膜の周縁部、（ｂ）塗布膜の乾燥中及び固化後の膜厚変動を伴う薄膜の周縁部、（ｃ）膜厚変動を伴う２つの発光領域の境界、及び、（ｄ）膜厚変動が抑制された２つの発光領域の境界、を示す図である。 図１５は、実施例１１、及び、参考例１１、１２を発光させたときの発光面の撮影結果を示す。 図１６は、実施例２１、２２、及び、参考例２１を発光させたときの発光面の撮影結果を示す。 図１７は、実施例３１、３２を発光させたときの発光面の撮影結果を示す。
　以下、図面を参照して本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、各図面において同一又は相当の部分に対しては同一の符号を附すこととする。
［第１の実施形態］
　図１は、本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ素子を発光面側からみた図であり、図２は、図１に示す有機ＥＬ素子のII-II線に沿う拡大断面図である。
　図１及び図２に示す有機ＥＬ素子１は、陽極（第１の電極）２０と、陰極（第２の電極）７０と、これらの電極２０，７０の間に設けられた発光層５０とを備える。なお、電極２０，７０間には、発光層５０以外に所定の機能層が設けられてもよい。機能層としては、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層などが挙げられる。以下では、機能層として正孔注入層３０、正孔輸送層４０、電子注入層６０を備える形態を例示する。
　具体的には、本実施形態の有機ＥＬ素子１は、基板１０と、基板１０上に形成された陽極２０と、陽極２０上に形成された正孔注入層３０と、正孔注入層３０上に形成された正孔輸送層４０と、正孔輸送層４０上に形成された発光層５０と、発光層５０上に形成された電子注入層６０と、電子注入層６０上に形成された陰極７０とを備える。この有機ＥＬ素子１では、基板１０側が発光面である。
　陽極２０及び陰極７０は、それぞれ、ひとつらなりに形成されている。換言すれば、陽極２０及び陰極７０は、それぞれ一体的に形成されており、一枚の板状電極をなしている。
　発光層５０は２つの発光領域５１，５２を有しており、２つの発光領域５１，５２では、それぞれの発光領域における発光層の発光材料が異なっている。これにより、２つの発光領域５１，５２では、発光色が異なっている。例えば、発光領域５１は赤色発光材料を含み、発光領域５２は青色発光材料を含む。また、例えば、発光領域５１が赤色発光材料及び緑色発光材料を含み、発光領域５２が緑色発光材料及び青色発光材料を含む形態であってもよい。各色発光材料の詳細については後述する。
　また、隣り合う発光領域５１，５２の境界では、発光領域５１における発光層と発光領域５２とが当接している。
　次に、有機ＥＬ素子を構成する各層の材料および形成方法について説明する。
　基板１０には、可撓性基板またはリジットな基板が用いられ、たとえばガラス基板やプラスチック基板などが用いられる。
　陽極２０には、金属酸化物、金属硫化物および金属などからなる薄膜を用いることができ、具体的には酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、ＩＴＯ、インジウム亜鉛酸化物（ＩｎｄｉｕｍＺｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＺＯ）、金、白金、銀、および銅などから成る薄膜が用いられる。発光層から放射される光が陽極を通って素子外に出射する構成の有機ＥＬ素子の場合、陽極２０には光透過性を示す電極が用いられる。
　正孔注入層３０には公知の正孔注入材料を用いることができる。正孔注入材料としては、たとえば酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、および酸化アルミニウムなどの酸化物や、フェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、アモルファスカーボン、ポリアニリン、およびポリチオフェン誘導体などを挙げることができる。
　正孔輸送層４０には公知の正孔輸送材料を用いることができる。正孔輸送材料としては、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリピロール若しくはその誘導体、ポリ（ｐ－フェニレンビニレン）若しくはその誘導体、又はポリ（２，５－チエニレンビニレン）若しくはその誘導体などを挙げることができる。
　発光層５０は、通常、主として蛍光及び／又はりん光を発光する有機物、または該有機物とこれを補助するドーパントとから形成される。ドーパントは、例えば発光効率の向上や、発光波長を変化させるために加えられる。なお発光層に含まれる有機物は、低分子化合物でも高分子化合物でもよい。発光層を構成する発光材料としては、例えば公知の色素系材料、金属錯体系材料、高分子系材料、ドーパント材料を挙げることができる。
　色素系材料としては、例えば、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体化合物、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、ピロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体などを挙げることができる。
　金属錯体系材料としては、例えばＴｂ、Ｅｕ、Ｄｙなどの希土類金属、またはＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ、Ｉｒ、Ｐｔなどを中心金属に有し、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造などを配位子に有する金属錯体を挙げることができる。
　高分子系材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、上記色素系材料や金属錯体系発光材料を高分子化したものなどを挙げることができる。
　上記発光性材料のうち、青色に発光する材料としては、ジスチリルアリーレン誘導体、オキサジアゾール誘導体、およびそれらの重合体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。
　また、緑色に発光する材料としては、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体、およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。
　また、赤色に発光する材料としては、クマリン誘導体、チオフェン環化合物、およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。
　また、白色としては、上記した青色、緑色、赤色を混ぜて作成することが出来る。
　ドーパント材料としては、例えばペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾロン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾンなどを挙げることができる。
　電子輸送層には公知の電子輸送材料を用いることができる。電子輸送材料としては、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン若しくはその誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、ナフトキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン若しくはその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン若しくはその誘導体、ジフェノキノン誘導体、又は８－ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体などを挙げることができる。
　電子注入層６０には公知の電子注入材料を用いることができる。電子注入材料としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属およびアルカリ土類金属のうちの１種類以上を含む合金、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の酸化物、ハロゲン化物、炭酸化物、またはこれらの物質の混合物などを挙げることができる。
　陰極７０の材料としては、仕事関数が小さく、発光層への電子注入が容易で、電気伝導度の高い材料が好ましい。また陽極側から光を取出す構成の有機ＥＬ素子では、発光層から放射される光を陰極で陽極側に反射するために、陰極７０の材料としては可視光反射率の高い材料が好ましい。陰極７０には、例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属および周期表の１３族金属などを用いることができる。また、陰極７０としては導電性金属酸化物および導電性有機物などから成る透明導電性電極を用いることができる。
　上記の各層および電極は、蒸着法や塗布法によって形成することができる。塗布法としては、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法およびノズルコート法などのコート法、並びにグラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法などの塗布法を挙げることができる。パターン塗布が必要な場合には、パターン塗布が可能な塗布法によって形成され、とくにインクジェットプリント法によって形成されることが好ましい。
　なお塗布法に用いるインク（塗布液）の溶媒としては、各材料を溶解させるものであれば特に制限はなく、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタンなどの塩素系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテートなどのエステル系溶媒、および水を挙げることができる。
　この第１の実施形態の有機ＥＬ素子１によれば、発光層５０における発光領域５１，５２ごとに発光色を異ならせることによって、文字や絵などの所定の発光パターンを形成するので、電極２０，７０ともにひとつらなりに形成すればよく、電極２０，７０を発光パターンに形成する必要がない。その結果、発光パターンに合わせて電極形成用のマスクを作製する必要がなくなる。そのため、複数種類の発光パターンを形成する際に、発光パターンごとに電極形成用のマスクを作製する必要がなく、製造方法の簡易化、及び、低価格化が可能となる。
　なお、本発明は、発光層形成手法として、マスクを用いる手法を除くものではない。しかしながら、発光層５０もマスクを用いない手法で形成すれば、換言すれば、隣り合う発光領域５１，５２の境界に、マスクを用いて障壁（バンク）等を形成する手法を用いなければ、すなわち、隣り合う発光領域５１，５２の境界において、発光領域５１における発光層と発光領域５２における発光層とが当接するように発光層５０を形成すれば、更なる製造性の簡易化、及び、低価格化が可能となる。
［第２の実施形態］
　図３は、本発明の第２の実施形態に係る有機ＥＬ素子を発光面側からみた図であり、図４は、図３に示す有機ＥＬ素子のIV-IV線に沿う拡大断面図である。
　図３及び図４に示す有機ＥＬ素子１Ａは、有機ＥＬ素子１において発光層５０に代えて発光層５０Ａを備えている点で第１の実施形態と異なっている。
　発光層５０Ａは、２つの発光領域５１Ａ，５２Ａとを有しており、２つの発光領域５１Ａ，５２Ａでは、それぞれの発光領域における発光層の発光材料が異なっている。これにより、２つの発光領域５１Ａ，５２Ａでは、発光色が異なっている。例えば、発光領域５１Ａは発光領域５１と同様に赤色発光材料を含み、発光領域５２Ａは発光領域５２と同様に青色発光材料を含む。
　２つの発光領域５１Ａ，５２Ａの成膜方法としては、例えば、赤色発光材料を含むインクを発光領域５１Ａに塗布し、次に、青色発光材料を含むインクを発光領域５２Ａに塗布する。このとき、発光領域５１Ａと発光領域５２Ａとの境界では、それぞれの発光領域のインクが設計値で所定の幅で重なるように設計して塗布する。この所定の幅は、たとえば０．０５ｍｍ～１５ｍｍであり、０．１ｍｍ～２．０ｍｍが好ましく、０．２ｍｍ～０．５ｍｍがさらに好ましい。
　これにより、発光層５０Ａは、隣り合う発光領域５１Ａ，５２Ａの間に境界領域５３Ａを有し、この境界領域５３Ａは、発光領域５１Ａにおける発光層の発光材料と、発光領域５２Ａにおける発光層の発光材料とを含むこととなる。
　なお、境界領域５３Ａでは、インクの粘度等に依存して、発光領域５１Ａの発光材料と発光領域５２Ａの発光材料とが混合していてもよいし、発光領域５１Ａの発光材料と発光領域５２Ａの発光材料とが二層に積層されていてもよい。また、境界領域５３Ａの発光層の厚みが、発光領域５１Ａの発光層の厚み、及び、発光領域５２Ａの発光層の厚みより厚くなっていてもよい。
　この第２の実施形態の有機ＥＬ素子１Ａでも、第１の実施形態の有機ＥＬ素子１と同様の利点を得ることができる。
　ところで、例えば、塗布法を用いて発光層を形成する場合、インク（塗布液）の濡れ広がりに起因して、隣り合う発光領域の境界がボケてしまうことがある。この点に関し、本願発明者らは、隣り合う発光領域それぞれにインクを塗布する際に、これらの発光領域の境界で、それぞれの発光領域のインクが重なるように塗布すると、これらの発光領域の境界におけるボケを抑制でき、視認性を改善できることを見出した。これは、隣り合う発光領域の境界における発光層が厚くなることにより、発光輝度が低下した輪郭が形成されること、もしくは、隣り合う発光領域の境界における発光色合成により、発光色が暗い色の輪郭が形成されることにより、これらの境界がシャープに見えることによるものと考える。
　第２の実施形態の有機ＥＬ素子１Ａによれば、上記の塗布法を用いることにより、隣り合う発光領域５１Ａ，５２Ａの間の境界領域５３Ａが、発光領域５１Ａ，５２Ａの両方の発光材料を含むので、これらの発光領域５１Ａ，５２Ａの境界におけるボケを抑制でき、視認性を改善することができる。
［第３の実施形態］
　図５は、本発明の第３の実施形態に係る有機ＥＬ素子を発光面側からみた図であり、図６は、図５に示す有機ＥＬ素子のVI-VI線に沿う拡大断面図である。
　図５及び図６に示す有機ＥＬ素子１Ｂは、有機ＥＬ素子１において発光層５０に代えて発光層５０Ｂを備えている点で第１の実施形態と異なっている。
　発光層５０Ｂは、２つの発光領域５１Ｂ，５２Ｂとを有しており、２つの発光領域５１Ｂ，５２Ｂでは、それぞれの発光領域における発光層の発光材料が異なっている。これにより、２つの発光領域５１Ｂ，５２Ｂでは、発光色が異なっている。例えば、発光領域５１Ｂは発光領域５１と同様に赤色発光材料を含み、発光領域５２Ｂは発光領域５２と同様に青色発光材料を含む。
　２つの発光領域５１Ｂ，５２Ｂの成膜方法としては、例えば、赤色発光材料を含むインクを発光領域５１Ｂに塗布し、次に、青色発光材料を含むインクを発光領域５２Ｂに塗布する。このとき、発光領域５２Ｂに対して発光領域５１Ｂを、発光面に沿う方向にずらすようにインクを塗布する。
　本実施形態では、２つの発光領域５１Ｂ，５２Ｂのうちで、一方の発光領域５１Ｂが他方の発光領域５２Ｂに囲まれるように配置される。この場合に発光面に沿う方向にずらすように、一方の発光領域５１Ｂに対応するインクを塗布すると、たとえば第１の発光領域と、シフト方向の一方側では一方の発光領域５１Ｂと他方の発光領域５２Ｂに重なりができる一方で、シフト方向の他方側では一方の発光領域５１Ｂと他方の発光領域５２Ｂとに隙間が生じる。
　これにより、発光領域５１Ｂと発光領域５２Ｂとの境界であって、発光領域５２Ｂに対して発光領域５１Ｂをずらす方向における境界では、それぞれの発光領域のインクが重なるように塗布される。一方、発光領域５１Ｂと発光領域５２Ｂとの境界であって、発光領域５２Ｂに対して発光領域５１Ｂをずらす方向の逆方向における境界では、それぞれの発光領域のインクは設計上塗布されないが、インクの流動により薄い膜が形成されることはありうる。
　これにより、発光層５０Ｂは、隣り合う発光領域５１Ｂ，５２Ｂの間に境界領域５３Ｂを有し、この境界領域５３Ｂは、発光領域５１Ｂにおける発光層の発光材料と、発光領域５２Ｂにおける発光層の発光材料とを含むこととなる。また、発光層５０Ｂは、隣り合う発光領域５１Ｂ，５２Ｂの間に境界領域５４Ｂを有し、この境界領域５４Ｂの発光層の厚みは、発光領域５１Ｂの発光層と発光領域５２Ｂの発光層とのうちの薄い方の厚みよりも更に薄くなっている。この境界領域５４Ｂの発光層の厚みは、発光領域５１Ｂの発光層の厚みと、発光領域５２Ｂの発光層の厚みとの平均値の０．７倍以下が好ましく、さらには０．５倍以下が好ましい。
　なお、境界領域５３Ｂでは、インクの粘度等に依存して、発光領域５１Ｂの発光材料と発光領域５２Ｂの発光材料とが混合していてもよいし、発光領域５１Ｂの発光材料と発光領域５２Ｂの発光材料とが二層に積層されていてもよい。また、境界領域５３Ｂの発光層の厚みが、発光領域５１Ｂの発光層の厚み、及び、発光領域５２Ｂの発光層の厚みより厚くなっていてもよい。
　一方、境界領域５４Ｂでは、インクの粘度等に依存して、発光領域５１Ｂの発光材料及び発光領域５２Ｂの発光材料が存在せず、電子注入層、陰極が存在してもよいし、発光領域５１Ｂの発光材料と発光領域５２Ｂの発光材料とが薄く存在していてもよい。
　この第３の実施形態の有機ＥＬ素子１Ｂでも、第１の実施形態の有機ＥＬ素子１と同様の利点を得ることができる。
　ところで、本願発明者らは、周囲の発光パターンに対して所定の発光パターンをずらすことにより、３次元的な視認効果が得られることを見出した。これは、
（ｉ）シフト方向の一方側では、上記したように、隣り合う発光領域の境界における発光層が厚くなることにより、発光輝度が低下した輪郭が形成されること、もしくは、隣り合う発光領域の境界における発光色合成により、発光色が暗い色の輪郭が形成されることにより、及び、
（ｉｉ）シフト方向の他方側では、反対に、隣り合う発光領域の境界における発光層が薄くなることにより、発光輝度が高い輪郭が形成されること、もしくは、隣り合う発光領域の境界における発光色合成により、発光色が明るい色の輪郭が形成されることにより、
３次元的な視認効果が得られるものと考える。
　シフト量は、たとえば０．０５ｍｍ～１５ｍｍであり、０．１ｍｍ～２．０ｍｍが好ましく、０．２ｍｍ～０．５ｍｍがさらに好ましい。
　第３の実施形態の有機ＥＬ素子１Ｂによれば、上記の塗布法を用いることにより、隣り合う発光領域５１Ｂ，５２Ｂの間の境界領域５３Ｂが、発光領域５１Ｂ，５２Ｂの両方の発光材料を含むので、また、隣り合う発光領域５１Ｂ，５２Ｂの間の境界領域５４Ｂが、発光領域５１Ｂ，５２Ｂの両方の発光層の厚みより薄いので、３次元効果が得られる。
［第４の実施形態］
　図７は、本発明の第４の実施形態に係る有機ＥＬ素子を発光面側からみた図であり、図８は、図７に示す有機ＥＬ素子のVIII-VIII線に沿う拡大断面図である。
　図７及び図８に示す有機ＥＬ素子１Ｃは、有機ＥＬ素子１において発光層５０に代えて発光層５０Ｃを備えている点で第１の実施形態と異なっている。
　発光層５０Ｃは、２つの発光領域５１Ｃ，５２Ｃを有しており、２つの発光領域５１Ｃ，５２Ｃでは、それぞれの発光領域における発光層の厚みが異なっている。これにより、２つの発光領域５１Ｃ，５２Ｃでは、発光輝度が異なっている。例えば、発光領域５２Ｃは発光領域５１Ｃよりも厚い。発光層の厚みが厚いほど、電気抵抗が大きくなり、電流が流れ難くなるので、発光領域５２Ｃでは発光領域５１Ｃよりも発光輝度が低下することとなる。
　この第４の実施形態の有機ＥＬ素子１Ｃによれば、発光層５０における発光領域５１Ｃ，５２Ｃごとに発光輝度を異ならせることによって、文字や絵などの所定の発光パターンを形成するので、電極２０，７０ともにひとつらなりに形成すればよく、電極２０，７０を発光パターンに形成する必要がない。その結果、発光パターンに合わせて電極形成用のマスクを作製する必要がなくなる。そのため、複数種類の発光パターンを形成する際に、発光パターンごとに電極形成用のマスクを作製する必要がなく、製造方法の簡易化、及び、低価格化が可能となる。
［第５の実施形態］
　図９は、本発明の第５の実施形態に係る有機ＥＬ素子を発光面側からみた図であり、図１０は、図９に示す有機ＥＬ素子のX-X線に沿う拡大断面図である。
　図９及び図１０に示す有機ＥＬ素子１Ｄは、有機ＥＬ素子１において正孔輸送層４０に代えて正孔輸送層４０Ｄを備えている点で第１の実施形態と異なっている。
　正孔輸送層４０Ｄのうち、２つの発光領域５１Ｄ，５２Ｄに対応する正孔輸送層の厚みが異なっている。これにより、２つの発光領域５１Ｄ，５２Ｄでは、発光輝度が異なっている。例えば、発光領域５２Ｄは発光領域５１Ｄよりも厚い。発光層以外の機能層でも、厚みが厚いほど、電気抵抗が大きくなり、電流が流れ難くなるので、発光領域５２Ｃでは発光領域５１Ｃよりも発光輝度が低下することとなる。
　この第５の実施形態の有機ＥＬ素子１Ｄでも、第４の実施形態の有機ＥＬ素子１Ｃと同様の利点を有する。
［第６の実施形態］
　図１１は、本発明の第６の実施形態に係る有機ＥＬ素子を発光面側からみた図であり、図１２は、図１１に示す非発光領域の一部拡大断面図である。
　図１１及び図１２に示す有機ＥＬ素子１Ｅは、有機ＥＬ素子１Ａにおいて発光層５０Ａに代えて発光層５０Ｅを備えている点で第２の実施形態と異なっている。
　発光層５０Ｅは、２つの発光領域５１Ａ，５２Ａ及びその間に境界領域５３Ａに加えて、非発光領域５５を更に有する。非発光領域５５は、２種のインク５５ａ，５５ｂを重ねて塗布することによって形成される。インク５５ｂは、自身に隣接する発光領域５２Ａに塗布するインクと同一である。一方、インク５５ａは、インク５５ｂと同一の発光材料（すなわち、同色）、もしくは、非発光材料を含んでおり、インク５５ｂよりも大きい粘度を有するインクである。このインク５５ｂの粘度は、１ｃｐ～２０ｃｐであり、２ｃｐ～１０ｃｐが好ましく、２ｃｐ～５ｃｐがさらに好ましい。これにより、非発光領域５５における発光層の厚みは、自身に隣接する発光領域５２Ａにおける発光層の厚みよりも厚くなっており、その結果、非発光領域５５の発光輝度が非常に低くなっている。この非発光領域５５は、黒色文字等に好適に用いられる。
　ここで、従来、インク５５ａとして、インク５５ｂと同等の粘度であり、インク５５ｂの発光材料と異なる発光材料を含んでいた（すなわち、異色。例えば、発光領域５１に塗布するインクと同色）。この従来形態では、インク５５ａのエッジ部Ａにおいてインク５５ｂの厚みが薄くなり、その結果、非発光領域５５の周囲が、インク５５ａに含まれる発光材料の色で発光してしまいかつ、インクの流動によるボケが発生しシャープな非発光領域を持たせらないことがあった。
　この第６の実施形態の有機ＥＬ素子１Ｅによれば、非発光領域５５におけるインク５５ａが、自身に隣接する発光領域５２Ａにおけるインク５５ｂと同色もしくは、非発光材料であり、まず、エッジ部が発光しても黒色となり、またインク５５ｂよりも大きい粘度を有するので、インクの流動によるボケをすくなくできシャープな非発光領域を持たせられる。
［第７の実施形態］
　第１の実施形態において説明したように、発光層５０および機能層３０，４０，６０を例えば塗布法によって形成する場合、各層は、塗布液を塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜を乾燥して固化することによって形成されるが、塗布膜が乾燥・固化する過程において、周縁部（端部）の膜厚が中央部の膜厚に対して膜厚変動（厚膜化／薄膜化）することがある（コーヒーステイン現象）。
　より詳説すれば、図１４（ａ）に示すように塗布後に濡れ広がった塗布膜の周縁部１００の塗布液が、図１４（ｂ）に示すように塗布液の乾燥中に中央部２００の方へ戻ることにより、周縁部１００の最も周縁の部分１０１が薄膜化し、その内側の部分１０２が厚膜化すると考えられる。例えば、塗布液の膜厚が厚いほど、乾燥時に周縁部１００から中央部２００へ塗布液が収縮する幅が大きくなり、塗布位置の端部１０３から大きく後退すると考えられる。
　発光層５０の形成においてこのような膜厚変動が生じると、薄膜化部分１０１が輝線となり、厚膜化部分１０２が暗線となってしまう。また、第１の実施形態のように、隣り合う２つの発光領域５１，５２の境界において、発光領域５１における発光層と発光領域５２における発光層とが当接する場合、すなわち、それぞれの発光領域の塗布膜（塗布液）が当接する場合、上記した膜厚変動により、図１４（ｃ）に示すように２つの発光領域５１，５２の境界に薄膜化部分１０１による輝線や厚膜化部分１０２による暗線が生じると、境界が縁取られボケて視認されてしまう。
　そこで、第７の実施形態では、発光層を形成する際、発光材料を含む塗布液を塗布して膜厚１μｍ以上６μｍ以下の塗布膜を形成し、当該塗布膜を固化することによって発光層を形成する。
　このように、塗布液の塗布時（塗布膜の固化前）の塗布膜の膜厚を１μｍ以上６μｍ以下と薄くすることにより、図１４（ｄ）に示すように乾燥時に周縁部から中央部へ塗布液が収縮することを抑制し、塗布位置の端部からの後退を抑制することができる。したがって、固化後の薄膜において、周縁部（端部）の膜厚が中央部の膜厚に対して膜厚変動（厚膜化／薄膜化）することを抑制することができる。その結果、２つの発光領域５１，５２の境界における縁取りの発生を抑制することができ、視認性を改善することができる。
　なお、本発明の思想は、機能層にも適用可能である。例えば、第５の実施形態において、正孔輸送層（機能層）４０Ｄを形成する際、正孔輸送層４０Ｄを構成する材料を含む塗布液を塗布して膜厚１μｍ以上６μｍ以下の塗布膜を形成し、当該塗布膜を固化することによって正孔輸送層４０Ｄを形成しても、上述したように、塗布膜が乾燥・固化する過程において、周縁部（端部）の膜厚が中央部の膜厚に対して膜厚変動（厚膜化／薄膜化）することを抑制することができ、その結果、２つの発光領域５１Ｄ，５２Ｄの境界における縁取りの発生を抑制することができ、視認性を改善することができる。
［第８の実施形態］
　上記した第７の実施形態では塗布膜の膜厚に着目したが、第８の実施形態では塗布液の粘度に着目する。上述したように、塗布後に濡れ広がった塗布膜の周縁部１００の塗布液が、塗布液の乾燥中に中央部２００の方へ戻ることにより、周縁部１００の最も周縁の部分１０１が薄膜化し、その内側の部分１０２が厚膜化すると考えられるが、例えば、塗布液の粘度が低いほど、乾燥時に周縁部１００から中央部２００へ塗布液が収縮する幅が大きくなり、塗布位置の端部１０３から大きく後退すると考えられる。また、周縁部１００における盛り上がり（厚膜化）も大きいと考えられる。
　そこで、第８の実施形態では、発光層を形成する際、発光材料を含む粘度７ｃｐ以上２０ｃｐ以下の塗布液を塗布して塗布膜を形成し、当該塗布膜を固化することによって発光層を形成する。
　このように、塗布液の粘度を７ｃｐ以上２０ｃｐ以下と高くすることにより、乾燥時に周縁部から中央部への塗布液の流動を抑制し、塗布位置の端部からの後退を抑制することができると共に、周縁部の盛り上がり（厚膜化）をより抑制することができる。したがって、固化後の薄膜において、周縁部（端部）の膜厚が中央部の膜厚に対して膜厚変動（厚膜化／薄膜化）することを抑制することができる。その結果、２つの発光領域５１，５２の境界における縁取りの発生を抑制することができ、視認性を改善することができる。
　なお、本発明の思想も、機能層にも適用可能である。例えば、第５の実施形態において、正孔輸送層（機能層）４０Ｄを形成する際、正孔輸送層４０Ｄを構成する材料を含む粘度７ｃｐ以上２０ｃｐ以下の塗布液を塗布して塗布膜を形成し、当該塗布膜を固化することによって正孔輸送層４０Ｄを形成しても、上述したように、固化後の薄膜において、周縁部（端部）の膜厚が中央部の膜厚に対して膜厚変動（厚膜化／薄膜化）することを抑制することができ、その結果、２つの発光領域５１Ｄ，５２Ｄの境界における縁取りの発生を抑制することができ、視認性を改善することができる。
　なお、本発明は上記した本実施形態に限定されることなく種々の変形が可能である。例えば、本実施形態では、発光層が２つの異なる発光領域を有する形態を例示したが、発光層は、３つ以上の異なる発光領域を有していてもよい。また、発光層では、発光色が異なる発光領域と、発光輝度が異なる発光領域とが混在していてもよい。
　また、本実施形態では、一対の電極２０，７０と発光層とに加え、機能層として正孔注入層３０、正孔輸送層４０、電子注入層６０を備える形態を例示したが、本発明の特徴は、以下に示すように、様々な構成の有機ＥＬ素子に適用可能である。
ａ）陽極／発光層／陰極
ｂ）陽極／正孔注入層／発光層／陰極
ｃ）陽極／正孔注入層／発光層／電子注入層／陰極
ｄ）陽極／正孔注入層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ｅ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／陰極
ｆ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極
ｇ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ｈ）陽極／発光層／電子注入層／陰極
ｉ）陽極／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ここで、記号「／」は、記号「／」を挟む各層が隣接して積層されていることを示す。
［実施例］
　本発明の実施例１～３として、図３及び図４に示す第２の実施形態の有機ＥＬ素子１Ａ、図５及び図６に示す第３の実施形態の有機ＥＬ素子１Ｂ、図７及び図８に示す第４の実施形態の有機ＥＬ素子１Ｃを以下のように作成した。
［実施例１］
（下地工程）
　まず、ガラス基板１０上に陽極２０を形成した下地基板を準備した。具体的には、ガラス基板１０上に、ＩＴＯからなる透明導電膜（膜厚１５０ｎｍ）を形成した後、透明導電膜状にＡＰＣ膜（膜厚６００ｎｍ）からなる格子状補助電極（線幅５０μｍ、ピッチ３００μｍ）を形成した。格子状補助電極上には、ポリイミド（東レ製フォトニース）からなる保護絶縁膜を形成した。
　次に、保護絶縁膜付き下地基板上に、正孔注入層用組成物（インク）をスピンコーターにて塗布、乾燥し、正孔注入層３０（膜厚６５nm）を形成した。
　次に、正孔輸送層用組成物（インク）をスピンコーターにて塗布し、真空乾燥機にて１０Ｐａ、１９０℃で６０分の乾燥・焼成を行い、正孔輸送層４０（膜厚２０nm）を形成した。正孔輸送層用組成物（インク）は、正孔輸送層用高分子を、４－メトキシトルエンとシクロヘキシルベンゼンの混合溶媒（混合比２：８）に固形分濃度０．５％となるように溶解したものである。
（発光層工程）
　次に、上記下地上に、発光層５０Ａを形成した。具体的には、上記下地に対し、発光領域５１Ａ（井桁部）に赤色インクとして発光用高分子を用い、インクジェット印刷にて薄膜状になるように塗布し、１０Ｐａまで真空乾燥後に１３０℃で１０分の焼成を行った。発光用組成物（赤色インク）は、発光用高分子を、４－メトキシトルエンとシクロヘキシルベンゼンの混合溶媒（混合比２：８）に固形分濃度２．０％となるように溶解したものである。
　その後、発光領域５２Ａ（背景部）として白色の発光用高分子を用い、インクジェット印刷にて薄膜状になるように塗布し、１０Ｐａまで真空乾燥後に１３０℃で１０分の焼成を行った。発光用組成物（白色インク）は、発光用高分子を、４－メトキシトルエンとシクロヘキシルベンゼンの混合溶媒（混合比２：８）に固形分濃度０．７％となるように溶解したものである。
　このとき、発光領域５１Ａと発光領域５２Ａとの境界では、それぞれの発光領域のインクが設計値で約０．３ｍｍ重なるように塗布した。
（後工程）
　次に、発光層５０上に、電子注入層６０及び陰極７０を形成した。具体的には、発光層５０上に、ＮａＦ／Ｍｇ／Ａｌ／Ａｇを２ｎｍ／２ｎｍ／２００ｎｍ／１００ｎｍ蒸着した。その後、対向基板と貼り合せ、分断した。
［実施例２］
（下地工程）
　上記実施例１に同じ。
（発光層工程）
　次に、上記下地上に、発光層５０Ｂを形成した。具体的には、上記下地に対し、発光領域５１Ｂ（井桁部）に赤色インクとして発光用高分子を用い、インクジェット印刷にて薄膜状になるように塗布し、１０Ｐａまで真空乾燥後に１３０℃で１０分の焼成を行った。発光用組成物（赤色インク）は、上記実施例１に同じ。
　その後、発光領域５２Ｂ（背景部）として白色の発光用高分子を用い、インクジェット印刷にて薄膜状になるように塗布し、１０Ｐａまで真空乾燥後に１３０℃で１０分の焼成を行った。発光用組成物（白色インク）は、上記実施例１に同じ。
　このとき、発光領域５２Ｂに対して発光領域５１Ｂを、発光面に沿う方向に２ｍｍずらすようにインクを塗布した。
（後工程）
　上記実施例１に同じ。
［実施例３］
（下地工程）
　上記実施例１に同じ。
（発光層工程）
　次に、上記下地上に、発光層５０Ｃを形成した。具体的には、上記下地に対し、インクジェット印刷装置にて、１０Ｐａまでの真空乾燥後に、発光領域５１Ｃ（Ｉ部分）を４０ｎｍ、発光領域５２Ｃ（背景部分）を６０ｎｍの薄膜エリアとなるように、インクジェット印刷にて塗布を行い、さらに１３０℃で１０分の焼成を実施した。発光用組成物（インク）は、発光用高分子を、４－メトキシトルエンとシクロヘキシルベンゼンの混合溶媒（混合比２：８）に固形分濃度１．４％となるように溶解したものである。
（後工程）
　上記実施例１に同じ。
［評価］
　図１３（ａ）～（ｃ）に、それぞれ実施例１～３を発光させたときの発光面の撮影結果を示す。図１３（ａ）及び（ｂ）によれば、実施例１及び２のように、発光層における発光領域５１Ａ，５１Ｂ（井桁部）と５２Ａ，５２Ｂ（背景部）ごとに発光色を異ならせることによって、文字や絵などの所定の発光パターンを形成できることが分かる。また、図１３（ｃ）によれば、実施例３のように、発光層における発光領域５１Ｃ，５２Ｃごとに発光輝度を異ならせることによって、文字や絵などの所定の発光パターンを形成できることがわかる。
　また、図１３（ａ）によれば、実施例１では、発光領域５１Ａ（井桁部）と発光領域５２Ａ（背景部）との境界におけるボケを抑制できたことが分かる。また、図１３（ｂ）によれば、実施例２では、３次元的な視認効果が得られたことが分かる。
　次に、本発明の実施例１１として、第７の実施形態の発光層形成方法を適用した図１及び図２に示す第１の実施形態の有機ＥＬ素子１相当を、すなわち、発光層のための塗布液の塗布時（塗布膜の固化前）の塗布膜の膜厚が１μｍ以上６μｍ以下と薄く、隣り合う２つの発光領域５１，５２の境界において発光領域５１における発光層と発光領域５２における発光層とが当接する有機ＥＬ素子１相当を以下のように作成すると共に、参考例１１、１２を以下のように作成した。なお、図２では、発光層５０の構成材料について、赤色発光材料、青色発光材料と示しているが、以下の形態では発光層の構成材料について図２とは異なる材料を使用している場合がある。また、以下では、下地工程および後工程は上記実施例１に同じであるため説明を省略する。
［実施例１１］
（発光層工程）
　上記下地上に、発光層５０を形成した。具体的には、上記下地に対し、インクジェット印刷装置にて、１０Ｐａまでの真空乾燥後に、発光領域５１（丸部）に発光用高分子黄色インクを用い、発光領域５２（背景部）に発光用高分子青色インクを用い、薄膜状になるように塗布し、１３０℃で１０分の焼成を行った。
　発光用組成物（黄色インク）としては、発光用高分子を、４－メトキシトルエンとシクロヘキシルベンゼンの混合溶媒（混合比２：８）に固形分濃度０．７％となるように溶解したものを使用し、粘度を５ｃｐとした。また、塗布直後の膜厚を４．５μｍとした。なお、塗布直後の塗布膜の膜厚は、乾燥後の膜厚を触針計によって測定した数値を、固形分濃度で逆算した値である（以下同様）。
　また、発光用組成物（青色インク）としては、発光用高分子を、４－メトキシトルエンとシクロヘキシルベンゼンの混合溶媒（混合比２：８）に固形分濃度１．０％となるように溶解したものを使用し、粘度を８ｃｐとした。また、塗布直後の膜厚を２．４μｍとした。
［参考例１１］
　黄色インクの塗布直後の膜厚を６．８μｍとした点を除き、実施例１１と同一である。
［参考例１２］
　黄色インクの塗布直後の膜厚を９．１μｍとし、また青色インクの塗布直後の膜厚を４．８μｍとした点を除き、実施例１１と同一である。
［評価］
　図１５に、実施例１１および参考例１１、１２を発光させたときの発光面の撮影結果を示す。参考例１２では、発光領域５１（丸部）の黄色インクの塗布時（塗布膜の固化前）の塗布膜の膜厚が９．１μｍと厚いと、２つの発光領域５１，５２の境界に輝線、暗線が生じ、縁取りが強く視認されているのに対し、参考例１１では、発光領域５１（丸部）の黄色インクの塗布時（塗布膜の固化前）の塗布膜の膜厚を６．８μｍと比較的に薄くすると、２つの発光領域５１，５２の境界の輝線、暗線の発生が比較的に抑制され、縁取りの視認性が抑制されることがわかる。そして、実施例１１では、発光領域５１（丸部）の黄色インクの塗布時（塗布膜の固化前）の塗布膜の膜厚を４．５μｍと薄くすることにより、２つの発光領域５１，５２の境界の輝線、暗線の発生が抑制され、縁取りの視認性が更に抑制されることがわかる。
　次に、本発明の実施例２１、２２として、第７の実施形態の発光層形成方法を適用した図１及び図２に示す第１の実施形態の有機ＥＬ素子１相当を、すなわち、発光層のための塗布液の塗布時（塗布膜の固化前）の塗布膜の膜厚が１μｍ以上６μｍ以下と薄く、隣り合う２つの発光領域５１，５２の境界において発光領域５１における発光層と発光領域５２における発光層とが当接する有機ＥＬ素子１相当を以下のように作成すると共に、参考例２１を以下のように作成した。なお、以下では、下地工程および後工程は上記実施例１に同じであるため説明を省略する。
［実施例２１］
（発光層工程）
　上記下地上に、発光層５０を形成した。具体的には、上記下地に対し、インクジェット印刷装置にて、１０Ｐａまでの真空乾燥後に、発光領域５１（スパイラル部）に発光用高分子紫色インクを用い、発光領域５２（背景部）に発光用高分子赤色インクを用い、薄膜状になるように塗布し、１３０℃で１０分の焼成を行った。
　発光用組成物（紫色インク）としては、発光用高分子を、４－メトキシトルエンとシクロヘキシルベンゼンの混合溶媒（混合比２：８）に固形分濃度０．７％となるように溶解したものを使用し、粘度を５ｃｐとした。また、塗布直後の膜厚を２．８μｍとした。
　また、発光用組成物（赤色インク）としては、発光用高分子を、４－メトキシトルエンとシクロヘキシルベンゼンの混合溶媒（混合比２：８）に固形分濃度０．７％となるように溶解したものを使用し、粘度を５ｃｐとした。また、塗布直後の膜厚を３．８μｍとした。
［実施例２２］
　赤色インクの塗布直後の膜厚を５．１μｍとした点を除き、実施例２１と同一である。
［参考例２１］
　赤色インクの塗布直後の膜厚を６．４μｍとした点を除き、実施例２１と同一である。
［評価］
　図１６に、実施例２１、２２および参考例２１を発光させたときの発光面の撮影結果を示す。参考例２１では、発光領域５２（背景部）の赤色インクの塗布時（塗布膜の固化前）の塗布膜の膜厚が６．４μｍと厚いと、２つの発光領域５１，５２の境界に輝線、暗線が生じ、縁取りが視認されている。これに対して、実施例２２，２１では、発光領域５２（背景部）の赤色インクの塗布時（塗布膜の固化前）の塗布膜の膜厚をそれぞれ５．１μｍ、３．８μｍと薄くすることにより、２つの発光領域５１，５２の境界の輝線、暗線の発生が抑制され、縁取りの視認性が抑制されることがわかる。
　次に、本発明の実施例３１、３２として、第７の実施形態の発光層形成方法を適用した図１及び図２に示す第１の実施形態の有機ＥＬ素子１相当を、すなわち、発光層のための塗布液の塗布時（塗布膜の固化前）の塗布膜の膜厚が１μｍ以上６μｍ以下と薄く、隣り合う２つの発光領域５１，５２の境界において発光領域５１における発光層と発光領域５２における発光層とが当接する有機ＥＬ素子１相当を以下のように作成した。また、実施例３２では、第８の実施形態の発光層形成方法をも適用している。なお、以下では、下地工程および後工程は上記実施例１に同じであるため説明を省略する。
［実施例３１］
（発光層工程）
　上記下地上に、発光層５０を形成した。具体的には、上記下地に対し、インクジェット印刷装置にて、１０Ｐａまでの真空乾燥後に、発光領域５１（雪印部）に発光用高分子白色インクを用い、発光領域５２（背景部）に発光用高分子青色インクを用い、薄膜状になるように塗布し、１３０℃で１０分の焼成を行った。
　発光用組成物（白色インク）としては、発光用高分子を、４－メトキシトルエンとシクロヘキシルベンゼンの混合溶媒（混合比２：８）に固形分濃度０．７％となるように溶解したものを使用し、粘度を５ｃｐとした。また、塗布直後の膜厚を４．９μｍとした。
　また、発光用組成物（青色インク）としては、発光用高分子を、４－メトキシトルエンとシクロヘキシルベンゼンの混合溶媒（混合比２：８）に固形分濃度０．８％となるように溶解したものを使用し、粘度を５ｃｐとした。また、塗布直後の膜厚を３．４μｍとした。
［実施例３２］
　白色インクの濃度を１．４％、粘度を１１ｃｐ、塗布直後の膜厚を１．８μｍとした点を除き、実施例３１と同一である。
［評価］
　図１７に、実施例３１、３２を発光させたときの発光面の撮影結果を示す。実施例３１，３２では、発光領域５２（背景部）の青色インクの塗布時（塗布膜の固化前）の塗布膜の膜厚を３．４μｍ、発光領域５１（雪印部）の白色インクの塗布時（塗布膜の固化前）の塗布膜の膜厚をそれぞれ４．９μｍ、１．８μｍと薄くすることにより、２つの発光領域５１，５２の境界の輝線、暗線の発生が抑制され、縁取りの視認性が抑制されることがわかる。なお、実施例３１では、２つの発光領域５１，５２の境界に暗線、すなわち縁取りが若干視認されている。これに対して、実施例３２では、更に発光領域５１（雪印部）の白色インクの粘度を１１ｃｐと高くすることにより、２つの発光領域５１，５２の境界の暗線の発生をより抑制され、縁取りの視認性がより抑制されていた。
　本発明は、製造方法の簡易化、及び、低価格化が可能な有機ＥＬ素子、及び、有機ＥＬ素子の製造方法の用途に適用することができる。
　１，１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄ，１Ｅ…有機ＥＬ素子、１０…基板、２０…陽極（第１の電極）、３０…正孔注入層、４０，４０Ｄ…正孔輸送層、５０，５０Ａ，５０Ｂ，５０Ｃ，５０Ｅ…発光層、５１，５２，５１Ａ，５２Ａ，５１Ｂ，５２Ｂ，５１Ｃ，５２Ｃ，５１Ｄ，５２Ｄ…発光領域、５５…非発光領域、６０…電子注入層、７０…陰極（第２の電極）、１００…塗布膜の周縁部、１０１…塗布膜の周縁部の最も周縁の部分、１０２…塗布膜の周縁部の最も周縁の内側の部分、１０３…塗布膜の端部、２００…塗布膜の中央部。

Claims (21)

  1. 　ひとつらなりの第１の電極と、ひとつらなりの第２の電極と、前記第１の電極と前記第２の電極との間に配置される発光層とを備える有機ＥＬ素子であって、
    　前記発光層は、複数の発光領域を有し、
    　前記複数の発光領域のうちの少なくとも２つの発光領域では、発光色および発光輝度のうちの少なくとも一方が異なる、
    有機ＥＬ素子。
  2. 　前記複数の発光領域のうちの少なくとも２つの発光領域では、それぞれの発光領域における発光層に含まれる発光材料が異なる、請求項１に記載の有機ＥＬ素子。
  3. 　前記複数の発光領域のうちの隣り合う発光領域の間の境界領域における発光層が、前記隣り合う発光領域のうちの一方の発光領域における発光層に含まれる発光材料と、前記隣り合う発光領域のうちの他方の発光領域における発光層に含まれる発光材料とを含む、請求項１又は２に記載の有機ＥＬ素子。
  4. 　前記複数の発光領域のうちの隣り合う発光領域の間の境界領域における発光層は、前記隣り合う発光領域のうちの一方の発光領域における発光層と、前記隣り合う発光領域のうちの他方の発光領域における発光層とのうちで厚みの薄い発光層よりも、更にその厚みが薄い、請求項１～３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
  5. 　前記複数の発光領域のうちの少なくとも２つの発光領域では、それぞれの発光領域における発光層の厚みが異なる、請求項１～４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
  6. 　前記第１の電極と前記第２の電極との間に配置され、前記発光層とは異なる機能層をさらに備え、
    　前記複数の発光領域のうちの少なくとも２つの発光領域では、それぞれの発光領域に対応する機能層の厚みが異なる、請求項１～５のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
  7. 　前記発光層は、非発光領域をさらに有し、
    　前記非発光領域は、２種の塗布液を塗布することによって形成されており、
    　前記２種の塗布液の一方は、前記複数の発光領域のうちの自身に隣接する発光領域における発光層のための塗布液と同一であり、
    　前記２種の塗布液の他方は、前記自身に隣接する発光領域における発光層のための塗布液の発光材料と同一の発光材料を含むか、もしくは、非発光材料を含んでおり、前記自身に隣接する発光領域における発光層のための塗布液よりも大きい粘度を有する、
    請求項１～６のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
  8. 　前記複数の発光領域のうちの隣り合う発光領域の間の境界領域では、前記隣り合う発光領域のうちの一方の発光領域における発光層と、前記隣り合う発光領域のうちの他方の発光領域における発光層とが当接する、請求項１～７のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
  9. 　請求項１に記載の有機ＥＬ素子の製造方法であって、
    　ひとつらなりの第１の電極を形成する工程と、
    　複数の発光領域を有する発光層であって、前記複数の発光領域のうちの少なくとも２つの発光領域では、発光色および発光輝度のうちの少なくとも一方が異なる前記発光層を形成する工程と、
    　ひとつらなりの第２の電極を形成する工程と、
    を有する、有機ＥＬ素子の製造方法。
  10. 　前記発光層を形成する工程では、前記複数の発光領域のうちの少なくとも２つの発光領域に関して、それぞれ異なる発光材料を含む塗布液を各発光領域にそれぞれパターン塗布して塗布膜をパターン形成し、当該塗布膜を固化することによって各発光領域の発光層を形成する、請求項９に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
  11. 　前記発光層を形成する工程において、前記複数の発光領域のうちの隣り合う発光領域の間の境界領域では、前記隣り合う発光領域のうちの一方の発光領域における発光層の発光材料を含む塗布液を塗布するとともに、前記隣り合う発光領域のうちの他方の発光領域における発光層の発光材料を含む塗布液を塗布する、請求項９または１０に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
  12. 　前記発光層を形成する工程において、前記複数の発光領域のうちの隣り合う発光領域の間の境界領域では、発光材料を含む塗布液を塗布しない、請求項９または１０に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
  13. 　前記発光層を形成する工程では、前記複数の発光領域のうちの少なくとも２つの発光領域に関して、それぞれの発光領域における発光層の厚みを異ならせるように、発光材料を含む塗布液の塗布量を異ならせて当該塗布液を塗布する、請求項９に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
  14. 　前記第１の電極と前記第２の電極との間に、前記発光層とは異なる機能層を形成する工程をさらに有し、
    　前記機能層を形成する工程では、前記複数の発光領域のうちの少なくとも２つの発光領域に関し、それぞれの発光領域に対応する機能層の厚みを異ならせるように、前記機能層を構成する材料を含む塗布液の塗布量を異ならせて当該塗布液を塗布して塗布膜を形成し、当該塗布膜を固化して前記機能層を形成する、請求項９に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
  15. 　前記発光層を形成する工程では、前記発光層に非発光領域を形成するサブ工程を含み、
    　前記非発光領域を形成するサブ工程では、前記複数の発光領域のうちの自身に隣接する発光領域における発光層のための塗布液の発光材料と同一の発光材料を含むか、もしくは、非発光材料を含んでおり、前記自身に隣接する発光領域における発光層のための塗布液よりも大きい粘度を有する塗布液を塗布した後に、前記自身に隣接する発光領域における発光層のための塗布液と同一の塗布液を塗布する、請求項９に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
  16. 　前記発光層を形成する工程では、前記複数の発光領域のうちの隣り合う発光領域の間の境界領域に関し、前記隣り合う発光領域のうちの一方の発光領域における発光層と、前記隣り合う発光領域のうちの他方の発光領域における発光層とが当接するように、塗布液を塗布する、請求項９に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
  17. 　前記発光層を形成する工程では、発光材料を含む塗布液を塗布して膜厚１μｍ以上６μｍ以下の塗布膜を形成し、当該塗布膜を固化することによって前記発光層を形成する、請求項９に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
  18. 　前記発光層を形成する工程では、発光材料を含む粘度７ｃｐ以上２０ｃｐ以下の塗布液を塗布して塗布膜を形成し、当該塗布膜を固化することによって前記発光層を形成する、請求項９に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
  19. 　前記機能層を形成する工程では、前記機能層を構成する材料を含む塗布液を塗布して膜厚１μｍ以上６μｍ以下の塗布膜を形成し、当該塗布膜を固化することによって前記機能層を形成する、請求項１４に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
  20. 　前記機能層を形成する工程では、前記機能層を構成する材料を含む粘度７ｃｐ以上２０ｃｐ以下の塗布液を塗布して塗布膜を形成し、当該塗布膜を固化することによって前記機能層を形成する、請求項１４に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
  21. 　前記塗布液を塗布する方法がインクジェットプリント法である、請求項９から２０のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
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