JP2011233480A - 積層構造の形成方法及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本積層構造の形成方法は、疎水性表面を有する第1層を形成する第1工程と、前記第1層の前記疎水性表面上に、第2層を積層形成する第2工程と、を有し、前記第2工程は、水と、プロピレングリコールモノメチルエーテル等を含む化合物群から選ばれる一つ以上の化合物と、を含む液に材料を溶解又は分散させてなる塗布液を塗布する工程を含む。
【選択図】図1
Description
(化合物群)
プロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノノルマルプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノイソブチルエーテル、プロピレングリコールモノイソブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノノルマルプロピルメチルエーテル、テトラエチレングリコールモノメチルエーテル、テトラエチレングリコールモノノルマルブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノイソプロピルメチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノイソブチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、テトラエチレングリコールモノイソプロピルメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノイソプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、トリエチレングリコールモノノルマルブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラエチレングリコールモノイソブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノノルマルブチルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルメチルエーテル、プロピレングリコールモノノルマルプロピルメチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノイソプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノノルマルプロピルメチルエーテル、テトラエチレングリコールモノノルマルプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノノルマルブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノノルマルプロピルメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノイソブチルエーテル、プロピレングリコールモノノルマルブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルメチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノノルマルブチルエーテル、トリエチレングリコールモノイソブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノノルマルブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノノルマルプロピルメチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルメチルエーテル、エチレングリコールモノノルマルブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノノルマルプロピルメチルエーテル。
(1)水との親和性が非常に大きいこと
(2)表面張力が小さいこと
(3)水よりも高沸点・低蒸気圧であること
(4)下層の構成材料との親和性が大きいこと
前述のトップエミッション方式の有機EL素子における逆構造の2層構成では、先に形成した有機発光層の疎水性表面上に、ホール注入材料を含む塗布液を塗布して積層構造を形成する必要があるが、この積層構造の形成に上記48種類の化合物群から選ばれる1つ以上の化合物を添加した塗布液を用いることが、本実施の形態のもう一つの特徴である。
まず、ポリパラフェニレンビニレン系の有機発光材料のトルエン溶液(1.0wt%)を、ガラス基板にスピンコートして130℃・10分のベイクを行ない、膜厚82nmの有機発光層を形成した。形成した有機発光層は、疎水性表面を有する。
添加溶媒が異なること以外は実施例1と同様にして積層構造を形成した。各実施例において用いた添加溶媒(化合物名)を表1に示す。なお、表1において、『○』は均一な塗布及び良好な積層構造の形成が確認されたことを示す。
添加溶媒が異なること以外は実施例1と同様にして積層構造の形成を試みた。各比較例において用いた添加溶媒(化合物名)を表2に示す。調製した塗布液を有機発光層の疎水性表面上にスピンコートしたところ、表2に示すように、比較例1〜8の全てにおいて塗布欠陥が多数発生して均一塗布することができず、良好な積層構造を得ることができなかった。すなわち、表2の比較例1〜8に示す溶媒を用いると、塗布欠陥が起こる等の不具合が生じることが確認された。
添加溶媒が異なること以外は実施例1と同様にして積層構造の形成を試みた。各比較例において用いた添加溶媒(化合物名)を表3に示す。表3に示すように、比較例9〜18の全てにおいて、調製した塗布液は不均一な混合状態となり、実際に塗布(スピンコート)するに至らなかった。すなわち、表3の比較例9〜18に示す溶媒を用いると、均一に溶解又は分散した塗布液が得られないという不具合が生じることが確認された。
添加溶媒としてエタノールを用いること以外は実施例1と同様にして積層構造の形成を試みた。ホール注入層を形成するため、調製した塗布液を有機発光層の疎水性表面上にスピンコートしたところ、塗布液はスピンコーティング中に有機発光層の疎水性表面上からそのほとんどが周囲に飛ばされてしまい、塗布することができなかった。
添加溶媒を用いないこと以外は実施例1と同様にして積層構造の形成を試みた。ホール注入層を形成するため、調製した塗布液を有機発光層の疎水性表面上にスピンコートしようとしたところ、塗布液は有機発光層に強くはじかれ、全く塗布することができなかった。
図1に示す構造の有機EL素子10を作製した。
図2に示す構造の有機EL素子20を作製した。
図3に示す構造の有機EL表示装置30を作製した。なお、図3は、1画素分の断面図である。
図4に示す構造の有機EL表示装置40を作製した。なお、図4は、1画素分の断面図である。
2 陰極
3 有機発光層
4 インターレイヤー
5 ホール注入層
6 陽極
7 保護層
8 TFT回路
9 平坦化膜
10 画素分離膜
11 接着剤
12 封止基板
10、20 有機EL素子
30、40 有機EL表示装置
Claims (5)
- 疎水性表面を有する第1層を形成する第1工程と、
前記第1層の前記疎水性表面上に、第2層を積層形成する第2工程と、を有し、
前記第2工程は、水と、下記化合物群から選ばれる一つ以上の化合物と、を含む液に材料を溶解又は分散させてなる塗布液を塗布する工程を含む積層構造の形成方法。
(化合物群)
プロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノノルマルプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノイソブチルエーテル、プロピレングリコールモノイソブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノノルマルプロピルメチルエーテル、テトラエチレングリコールモノメチルエーテル、テトラエチレングリコールモノノルマルブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノイソプロピルメチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノイソブチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、テトラエチレングリコールモノイソプロピルメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノイソプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、トリエチレングリコールモノノルマルブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラエチレングリコールモノイソブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノノルマルブチルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルメチルエーテル、プロピレングリコールモノノルマルプロピルメチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノイソプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノノルマルプロピルメチルエーテル、テトラエチレングリコールモノノルマルプロピルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノノルマルブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノノルマルプロピルメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノイソブチルエーテル、プロピレングリコールモノノルマルブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルメチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノノルマルブチルエーテル、トリエチレングリコールモノイソブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノノルマルブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノノルマルプロピルメチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルメチルエーテル、エチレングリコールモノノルマルブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノノルマルプロピルメチルエーテル。 - 前記第1層は有機発光層であり、前記第2層はホール注入層である請求項1記載の積層構造の形成方法。
- 前記第1層はインターレイヤーであり、前記第2層はホール注入層である請求項1記載の積層構造の形成方法。
- 前記第2工程は、水と、前記化合物群から選ばれる一つ以上の化合物と、を含む液にPEDOT/PSSを溶解又は分散させてなる塗布液を塗布する工程を含む請求項2又は3記載の積層構造の形成方法。
- 基板上に陰極層を形成する第3工程と、
前記陰極層上に有機層を形成する第4工程と、
前記有機層上に陽極層を形成する第5工程と、を有し、
前記第4工程は、請求項2乃至4の何れか一項記載の形成方法で積層構造を形成する工程を含む有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
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