WO2013115136A1

WO2013115136A1 - 表示装置

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Publication number: WO2013115136A1
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Abstract

　有機ＥＬ表示装置（１）のＥＣ領域（第２の領域）には、低屈折率アクリル系樹脂からなるエッジカバー（７）と、有機層（８）と、薄膜で形成された半透過膜からなる第２の電極（９）と、が積層された光学干渉層が備えられているので、表示領域を狭くすることなく、コントラストの低下を抑制でき、かつ、信頼性の高い有機ＥＬ表示装置を実現できる。

Description

表示装置

　本発明は有機ＥＬ表示装置に関するものである。

　近年、さまざまなフラットパネルディスプレイが開発されており、特に、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ　ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置は、低消費電力化、薄型化および高画質化などを実現できる点から、優れたフラットパネルディスプレイとして高い注目を浴びている。

　しかしながら、有機ＥＬ表示装置は、外光反射率が高く、窓際や野外での使用時にコントラストが低下するという問題がある。

　フルカラー表示を行う有機ＥＬ表示装置の方式としては、大きく分けて、赤色、緑色、及び青色を発光するＥＬ層を用いてフルカラー表示を行う方式（塗り分け方式）と、白色を発光するＥＬ層と赤色、緑色、及び青色の光を透過するカラーフィルタとを用いてフルカラー表示する方式とを例に挙げることができる。

　このような有機ＥＬ表示装置の分野においては、特に、高コントラスト化を実現するためのさまざまな構造が検討されている。

　特許文献１には、図１１に図示されているように、透明な第１の支持体１１１、第１の電極１２０、有機ＥＬ層１４０、第２の電極１２５および第２の支持体１１２を、この順に積層し、且つ、第１の電極１２０と第２の電極１２５との間に、発光領域を開口し、非発光領域を覆うように、区画された絶縁層１３０が備えられており、第１の支持体１１１側を発光取り出し側とする発光型有機ＥＬ表示パネルについて記載されている。

　そして、上記発光型有機ＥＬ表示パネルには、第２の電極１２５、補助電極１２７および有機ＥＬ層１４０の一つ以上と、これらの周囲との、反射率の差や色合いの差による視認を抑制するための視認抑制層１７０が設けられている。

　このような構成によれば、第２の電極１２５、補助電極１２７および有機ＥＬ層１４０と、これらの周囲との、反射率の差や色合いの差に起因した不要な視認を抑制することができると記載されている。

　特許文献２には、発光部となる開口部間の絶縁膜上に光吸収層を設けることにより、外光反射によるコントラストの低下を防止できる表示装置について記載されている。

　また、特許文献３には、可視光における広帯域波長領域を補償できる楕円偏光板を備えることにより、有機ＥＬ装置などに組み込まれている金属電極において、広帯域波長領域の外部光の反射を防止することができると記載されている。

日本国公開特許公報「特開２００８‐２７７２７０号公報（２００８年１１月１３日公開）」日本国公開特許公報「特開２００３‐１７２７２号公報（２００３年１月１７日公開）」日本国公開特許公報「特開２００４‐２２６８４２号公報（２００４年８月１２日公開）」

　上記特許文献１の図１１に図示されている構成においては、高い開口率を確保するため、視認抑制層１７０は、発光領域１６０よりは広い開口部を有するようにパターニングされている。

　しかしながら、上記構成においては、視認抑制層１７０が発光領域１６０より広い開口部を有するように形成されているため、発光領域１６０外であって、視認抑制層１７０が形成されてない領域が存在し、このような領域においては、外光反射は生じてしまい、結果として、発光型有機ＥＬ表示パネルのコントラストの低下を招いてしまうという問題がある。

　また、上記特許文献２においても、上記特許文献１の場合と同様に、光吸収層が発光部より広い開口部を有するように形成されているため、発光部外に、光吸収層が形成されてない領域が存在し、このような領域においては、外光反射は生じてしまい、結果として、表示装置のコントラストの低下を招いてしまうという問題がある。

　また、上記特許文献３の構成においては、円偏光板を用いるために発光効率が４０％程度に低下することに加え、別途、比較的高価である可視光における広帯域波長領域を補償できる楕円偏光板を備える必要が生じるため、表示装置の製造単価の上昇を招いてしまう。

　一方、上記特許文献１および２における問題を解決するため、図１２に図示されているように、張り合わせマージンを考慮し、ブラックマトリクス（ＢＭ）２２１が発光部の一部を覆うように形成された有機ＥＬ表示装置２００とすることも考えられるが、有機ＥＬ表示装置２００の開口部が著しく低下してしまい、表示画質の低下を招いてしまう。

　以下、図１２に基づいて、白色を発光するＥＬ層と赤色、緑色、及び青色の光を透過するカラーフィルタとを用いてフルカラー表示する方式の有機ＥＬ表示装置２００の概略的な構成について説明する。

　図示されているように、支持基板２１０上には、ＴＦＴ２１１と、信号線２１２と、層間絶縁膜２１３と、第１の電極２１４と、第１の電極２１４のエッジで有機ＥＬ素子の形成層が薄くなったり電界集中が起こったりすることで、第１の電極２１４と第２の電極２１９とが短絡することを防止するための絶縁層であるエッジカバー２１５と、が備えられている。

　そして、支持基板２１０上には、エッジカバー２１５およびエッジカバー２１５の開口部によって露出している第１の電極２１４の表面を覆うように、正孔注入層および正孔輸送層２１６と、発光層２１７と、電子輸送層および電子注入層２１８と、第２の電極２１９と、が順に積層されている。

　第１の電極２１４と、正孔注入層および正孔輸送層２１６と、発光層２１７と、電子輸送層および電子注入層２１８と、第２の電極２１９と、からなる有機ＥＬ素子は、低電圧直流駆動による高輝度発光が可能であり、白色（Ｗ）光を発光する発光素子である。

　一方、封止基板２２０における上記支持基板２１０と対向する面側には、ブラックマトリクス（ＢＭ）２２１とカラーフィルタ２２２Ｒ・２２２Ｇ・２２２Ｂとが備えられている。

　そして、有機ＥＬ表示装置２００においては、上記両基板２１０・２２０は張り合わせマージン分、ブラックマトリクス（ＢＭ）２２１が発光部の一部を覆うように形成され、光取り出し部が狭くなってしまい、有機ＥＬ表示装置２００の表示画質の低下を招いてしまう。

　図１３に示す有機ＥＬ表示装置２００ａにおいては、光取り出し部が狭くなり、有機ＥＬ表示装置２００ａの表示画質が低下するのを抑制するため、ブラックマトリクス（ＢＭ）２２１の開口部を発光部より大きくなるように設けているが、このような場合においては、上述したように、上記特許文献１および２の構成と同様に、発光部外に、ブラックマトリクス（ＢＭ）２２１が形成されてない領域が存在し、このような領域においては、外光反射は生じてしまい、結果として、表示装置のコントラストの低下を招いてしまうのである。

　一方で、表示装置のコントラストの低下を抑制する方法として、上述したエッジカバー材にカーボンブラックを含有させる方法も提案されている。

　図１４は、カーボンブラックを含有するエッジカバー材を用いて、塗り分け方式で形成された有機ＥＬ表示装置２５０の概略構成を示す図である。

　図示されているように、基板２５１上には、ＴＦＴ２５２と、層間絶縁膜２５３と、第１の電極２５４およびカーボンブラックを含有するエッジカバー２５５と、が形成されている。

　そして、第１の電極２５４とエッジカバー２５５とを覆うように正孔注入層および正孔輸送層２５６が形成され、エッジカバー２５５の間の領域であり、正孔注入層および正孔輸送層２５６上には、塗り分け方法によって形成された赤色、緑色、及び青色を発光する発光層２５７Ｒ・２５７Ｇ・２５７Ｂが形成されている。

　それから、正孔注入層および正孔輸送層２５６と発光層２５７Ｒ・２５７Ｇ・２５７Ｂとを覆うように、電子輸送層および電子注入層（未図示）と、第２の電極２５８と、が形成されている。

　しかしながら、このような構成においては、コントラストの低下を満足する水準にまで抑制するには、十分な光学濃度が得られる程まで、カーボンブラックを含有させる必要があり、カーボンブラックの含有量が増加すると、エッジカバー２５５の絶縁性が低下してしまい、有機ＥＬ表示装置２５０の信頼性を確保することができないという問題がある。

　本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、コントラストの低下を抑制できる表示装置を提供することを目的とする。

　本発明の表示装置は、上記の課題を解決するために、複数の絵素がマトリクス状に配されている表示装置であって、上記各々の絵素には、第１の領域と、上記第１の領域の周辺に形成された第２の領域と、が備えられており、上記第１の領域は表示領域であり、上記第２の領域には、光学干渉により反射光を低減させる、異なる屈折率を有する複数の層からなる積層膜が設けられていることを特徴としている。

　上記構成によれば、上記第２の領域には、光学干渉により反射光を低減させる、異なる屈折率を有する複数の層からなる積層膜が設けられているので、コントラストの高い表示装置を実現することができる。

　本発明の表示装置は、以上のように、上記各々の絵素には、第１の領域と、上記第１の領域の周辺に形成された第２の領域と、が備えられており、上記第１の領域は表示領域であり、上記第２の領域には、光学干渉により反射光を低減させる、異なる屈折率を有する複数の層からなる積層膜が設けられている構成である。

　それゆえ、コントラストの低下を抑制できる表示装置を実現できる。

本発明の一実施の形態の有機ＥＬ表示装置において、Ｇ絵素部分を拡大した部分拡大図である。本発明の一実施の形態の有機ＥＬ表示装置の概略構成を示す断面図である。本発明の一実施の形態の有機ＥＬ表示装置のＥＣ領域（第２の領域）に形成された光学干渉層（積層膜）を説明するための図である。本発明の一実施の形態の有機ＥＬ表示装置の発光領域（第１の領域）に採用できるマイクロキャビティー構造を説明する図である。発光領域（第１の領域）にマイクロキャビティー構造が採用されている本発明の一実施の形態の有機ＥＬ表示装置において、ＥＣ領域（第２の領域）に設けることのできる光学干渉層の一例を示す図である。本発明の他の一実施の形態の有機ＥＬ表示装置の概略構成を示す断面図である。本発明の他の一実施の形態の有機ＥＬ表示装置のＥＣ領域（第２の領域）に形成された光学干渉層（積層膜）を説明するための図である。塗り分け方式で形成された本発明のさらに他の一実施の形態の有機ＥＬ表示装置の概略構成を示す図である。本発明のさらに他の一実施の形態の有機ＥＬ表示装置の概略構成を示す図である。本発明のさらに他の一実施の形態の有機ＥＬ表示装置がとり得る異なる構成を示す図である。特許文献１に記載の発光型有機ＥＬ表示パネルの概略構成を示す図である。白色を発光するＥＬ層と赤色、緑色、及び青色の光を透過するカラーフィルタとを用いてフルカラー表示する方式の従来の有機ＥＬ表示装置の概略的な構成を示す図である。ブラックマトリクス（ＢＭ）の開口部が発光部より大きくなっている従来の有機ＥＬ表示装置の概略的な構成を示す図である。カーボンブラックを含有するエッジカバー材を用いて、塗り分け方式で形成された従来の有機ＥＬ表示装置の概略構成を示す図である。

　以下、図面に基づいて本発明の実施の形態について詳しく説明する。ただし、この実施の形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などはあくまで一実施形態に過ぎず、これらによってこの発明の範囲が限定解釈されるべきではない。

　〔実施の形態１〕
　図２は、有機ＥＬ表示装置１の概略構成を示す断面図である。

　図示されているように、有機ＥＬ表示装置１は、支持基板１０と、支持基板１０と対向配置された封止基板１４と、支持基板１０と封止基板１４とを貼り合せるための封止樹脂１５と、を備えている。

　本実施の形態においては、封止樹脂１５で囲まれる領域内であって、支持基板１０と封止基板１４とで挟まれる領域は、中空としているが、この部分に充填樹脂などを形成することもできる。

　そして、有機ＥＬ表示装置１は、支持基板１０上で発光された光が、封止基板１４を介して出射光として出射されるトップエミッション型となっている。

　なお、本実施の形態では、発光色が白（Ｗ）色の発光層を使用し、後述するマイクロキャビティ構造を導入することでフルカラーの画像表示を実現している。

　そして、カラーフィルタ層を併用することで、有機ＥＬ層から出射した光のスペクトルを上記カラーフィルタ層によって調整することができる。

　上記白（Ｗ）色の発光層は、異なる色の複数の発光層からなり、それらの発光色の重ね合わせにより、Ｗ発光が得られる。

　上記発光色の組み合わせとしては、例えば、青色光と黄色（より好ましくは緑色と赤色とにピーク強度を持つ黄色（橙色）)光との組み合わせ、青色光と黄色光との組み合わせ等が挙げられる。また、３色の発光色の重ね合わせによりＷ発光を得る場合、上記発光色の組み合わせとしては、赤色光、青色光、緑色光の組み合わせが挙げられる。

　図１は、３つのＲ・Ｇ・Ｂ絵素からなる各々の画素がマトリクス状に配された有機ＥＬ表示装置１において、Ｇ絵素部分を拡大した部分拡大図である。

　図示されているように、支持基板１０には、絶縁基板２と、ＴＦＴ素子３と、信号線４と、層間絶縁膜５と、層間絶縁膜５に形成されたコンタクトホールを介してＴＦＴ素子３のドレイン電極に電気的に接続された第１の電極６と、第１の電極６のエッジで有機層８が薄くなったり電界集中が起こったりすることで、第１の電極６と第２の電極９とが短絡することを防止するための絶縁層であるエッジカバー７と、エッジカバー７およびエッジカバー７の開口部によって露出している第１の電極６の表面を覆うように形成された正孔注入層および正孔輸送層と発光層と電子輸送層および電子注入層とが順に積層された有機層８と、第２の電極９と、が備えられている。

　そして、図示されているように、第１の電極６と、有機層８と、第２の電極９と、が直接接している領域が発光領域（第１の領域）となり、エッジカバー７が形成されている非発光領域がＥＣ領域（第２の領域）となる。

　第１の電極６は、有機層８に正孔を注入（供給）する機能を有する層である。すなわち、本実施の形態では第１の電極６は陽極であるものとする。第１の電極６は、図１に図示されているようにコンタクトホールを介してＴＦＴ素子３と接続されている。

　第１の電極６は、電極材料をスパッタ法等で形成した後、フォトリソグラフィ技術およびエッチングにより、個々の絵素に対応してパターン形成されている。

　なお、第１の電極６は、スパッタ法以外にも、真空蒸着法、ＣＶＤ（ｃｈｅｍｉｃａｌ　ｖａｐｏｒ　ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、化学蒸着）法、プラズマＣＶＤ法、印刷法等を用いて積層することができる。

　第１の電極６としては、反射率が高い金属材料を用いることができる。第１の電極６を構成する材料として、例えば、ＡｇまたはＡｇ合金や、Ａｌ又はＡｌ合金などを挙げることができる。

　このように第１の電極６を反射率が高い材料から構成することで、有機層８で発光した光を効率よく、封止基板１４を介して出射させることができる。

　本実施の形態においては、従来からエッジカバー材料として用いられていたアクリル系樹脂（屈折率：１．５８）やポリイミド系材料（屈折率：１．６３）より屈折率が低い、低屈折率（１．３～１．４）アクリル系樹脂をエッジカバー７として用いている。

　また、有機層８における正孔注入層、正孔輸送層、あるいは正孔注入層及び正孔輸送層の材料としては、例えば、アントラセン、アザトリフェニレン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベン、トリフェニレン、ベンジン、スチリルアミン、トリフェニルアミン、ポルフィリン、トリアゾール、イミダゾール、オキサジアゾール、オキザゾール、ポリアリールアルカン、フェニレンジアミン、アリールアミン、およびこれらの誘導体、チオフェン系化合物、ポリシラン系化合物、ビニルカルバゾール系化合物、アニリン系化合物等の鎖状式あるいは複素環式共役系のモノマー、オリゴマー、またはポリマーなどを用いることができる。

　そして、有機層８における発光層は、低分子蛍光色素、金属錯体などの、発光効率が高い材料で形成されており、例えば、アントラセン、ナフタレン、インデン、フェナントレン、ピレン、ナフタセン、トリフェニレン、ペリレン、ピセン、フルオランテン、アセフェナントリレン、ペンタフェン、ペンタセン、コロネン、ブタジエン、クマリン、アクリジン、スチルベン、およびこれらの誘導体、トリス（８－キノリノラト）アルミニウム錯体、ビス（ベンゾキノリノラト）ベリリウム錯体、トリ（ジベンゾイルメチル）フェナントロリンユーロピウム錯体、ジトルイルビニルビフェニル、ヒドロキシフェニルオキサゾール、ヒドロキシフェニルチアゾールなどが挙げられる。

　それから、有機層８における電子輸送層、電子注入層、あるいは電子輸送層及び電子注入層の材料としては、例えば、トリス（８－キノリノラト）アルミニウム錯体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、フェニルキノキサリン誘導体、シロール誘導体などが挙げられる。

　本実施の形態においては、有機層８における正孔輸送層としてＮＰＢ（屈折率：１．８）を、発光層としてＡｌｑ３（屈折率：１．７１）を、電子輸送層としてＢＣＰ（屈折率：１．７１）を、それぞれ用いたが、これに限定されることはなく、これらの層として、ＣＢＰ（屈折率：１．７７）、Ｆ８ＢＴ（屈折率：１．８）、ＤＯＯ－ＭＥＨ－ＰＰＶ（屈折率：２．０６）、Ｐ３ＨＴ－ＰＣＢＭ（屈折率：２．１０）、ｓＤＰＶＢ（屈折率：１．７８）、ＰＦＯ（屈折率：１．７３）などを用いることもできる。

　なお、有機層８において発光層以外の層は必須の層ではなく、要求される有機ＥＬ素子の特性に応じて適宜形成すればよい。

　そして、第２の電極９を構成する材料としては、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ：インジウム錫酸化物）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｚｉｎｃ　Ｏｘｉｄｅ：インジウム亜鉛酸化物）、ガリウム添加酸化亜鉛（ＧＺＯ）等の透明導電材料、金（Ａｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、白金（Ｐｔ）等の金属材料、あるいはそれらの積層膜を用いることができる。

　第２の電極９の積層方法としては、スパッタ法、真空蒸着法、ＣＶＤ（ｃｈｅｍｉｃａｌ　ｖａｐｏｒ　ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、化学蒸着）法、プラズマＣＶＤ法、印刷法等を挙げることができる。

　一方、封止基板１４には、透明基板１１と、透明基板１１における支持基板１０と対向する面側には、ブラックマトリクス（ＢＭ）１２とカラーフィルタ１３Ｇと、が備えられている。

　そして、図示されているように、有機ＥＬ表示装置１においては、光取り出し部が狭くなり、有機ＥＬ表示装置１の表示画質が低下するのを抑制するため、ブラックマトリクス（ＢＭ）１２の開口部を発光領域（第１の領域）より大きくなるように設けている。

　以下、図３に基づいて、有機ＥＬ表示装置１のＥＣ領域（第２の領域）に形成された光学干渉層（積層膜）による光学干渉効果について説明する。

　図３は、有機ＥＬ表示装置１のＥＣ領域（第２の領域）に形成された光学干渉層（積層膜）を説明するための図である。

　図示されているように、有機ＥＬ表示装置１のＥＣ領域（第２の領域）には、低屈折率（１．３～１．４）アクリル系樹脂からなるエッジカバー７と、正孔輸送層としてＮＰＢ（屈折率：１．８）を、発光層としてＡｌｑ３（屈折率：１．７１）を、電子輸送層としてＢＣＰ（屈折率：１．７１）を積層した有機層８と、薄膜で形成された半透過膜からなる第２の電極９と、が積層された光学干渉層が備えられている。

　このような光学干渉層においては、第２の電極９で反射された光と、エッジカバー７と有機層８との界面で反射された光とが、干渉され反射防止効果を有する。

　したがって、ＥＣ領域（第２の領域）の一部に、ブラックマトリクス（ＢＭ）１２が形成され、ＥＣ領域（第２の領域）においてブラックマトリクス（ＢＭ）１２が形成されてない領域が存在するとしても、有機ＥＬ表示装置１においては、ＥＣ領域（第２の領域）に光学干渉層が設けられているため、外光反射は生じず、コントラストの高い有機ＥＬ表示装置１を実現することができる。

　また、アライメントフリーを実現することができる。

　また、光学干渉層の各々の層は、ブラックマトリクス（ＢＭ）１２とは異なり、所定波長範囲の光（例えば、５５０ｎｍ波長の光）の一部を透過させるので、光学干渉層の各々の層が、発光領域（第１の領域）にまで形成されたとしても、表示領域である発光領域（第１の領域）を狭くすることはないので、有機ＥＬ表示装置１の画質を低下させることはない。

　また、有機ＥＬ表示装置１によれば、光学干渉層には、カーボンブラックを含有させる必要がないので、信頼性の高い有機ＥＬ表示装置１を実現することができる。

　また、図３に図示した光学干渉層において、第２の電極９での反射光と、エッジカバー７と有機層８との界面での反射光の位相を逆転させて打ち消し合わせるためには、有機層８は下記式（１）を満たす厚さで形成されることが好ましい。

　ｄ＝λ／（４×ｎ１）　式（１）
　ｄは有機層８の膜厚を、λは反射光を抑制したい任意の波長、ｎ１は有機層８の屈折率を示す。

　なお、本実施の形態においては、正孔輸送層としてＮＰＢ（屈折率：１．８）を、発光層としてＡｌｑ３（屈折率：１．７１）を、電子輸送層としてＢＣＰ（屈折率：１．７１）を積層した有機層８を用いたが、ＥＣ領域（第２の領域）には、有機層８を構成する層中、選択した１層や２層のみを形成してもよい。

　また、本実施の形態においては、有機ＥＬ表示装置１の発光領域（第１の領域）で用いた材料を用いて、ＥＣ領域（第２の領域）に光学干渉層を形成しているが、これに限定されることはなく、有機ＥＬ表示装置１の発光領域（第１の領域）で用いない材料を用いて、ＥＣ領域（第２の領域）に光学干渉層を形成することもできる。

　なお、このような場合には、下記式（２）および下記式（３）を満たすように光学干渉層を設けるとよい。

　ｎ１＝（ｎ０×ｎ）^１／２　式（２）
　ｄ＝λ／（４×ｎ１）　式（３）
　ｎ０は空気層の屈折率を示し、ｎは光学干渉層の最下層（エッジカバー７に相当）の屈折率を示し、上記式（２）から、第２の電極９と接する下層（有機層８に相当）の屈折率をｎ１とすればよい。

　また、λは反射光を抑制したい任意の波長を示し、第２の電極９と接する下層（有機層８に相当）の膜厚は、上記式（３）から求めればよい。

　なお、有機ＥＬ表示装置１の発光領域（第１の領域）には、以下で詳しく説明するマイクロキャビティー構造が採用されていることが好ましい。

　上記構成によれば、有機ＥＬ表示装置１の発光領域（第１の領域）がマイクロキャビティー構造となっているため、ＥＣ領域（第２の領域）のみでなく、発光領域（第１の領域）においても、外光反射を抑制することができ、さらに、コントラストの高い有機ＥＬ表示装置１を実現することができる。

　以下、図４に基づいて、マイクロキャビティー構造について説明する。

　図４は、マイクロキャビティー構造による外光反射防止効果を説明する図である。

　図示されているように、ブラックマトリクス（ＢＭ）１２の開口部に設けられたカラーフィルタ１３Ｒ・１３Ｇ・１３Ｂは、第１の電極６と有機層８と第２の電極９とを備えた各有機ＥＬ素子から発光された光を外部に透過することができるとともに、外部からの入射光を上記各有機ＥＬ素子内へ入射させてしまう。

　この外部からの入射光の上記各有機ＥＬ素子における反射光は、上記各有機ＥＬ素子から発光された光と混ざって、外部に出射されると、色純度低下を招き、コントラスト低下及び視認性低下の原因となる。

　外部からの入射光を白色光とすると、赤色の絵素領域では、外部からの入射光はカラーフィルタ１３Ｒを透過しＲ光として、カラーフィルタ１３Ｒの下に設けられた赤色絵素の有機ＥＬ素子に入射する。しかし、図示されているように、有機ＥＬ表示装置１においては、赤色絵素の有機ＥＬ素子の第１の電極６と第２の電極９との距離は、赤色の光のピーク波長が共振する光路長となっている。

　このため、赤色絵素の有機ＥＬ素子に入射した外光は、第１の電極６で反射したとしても、第１の電極６と第２の電極９との間に閉じ込められ、赤色絵素の有機ＥＬ素子の外部へは出射されない。

　同様に、緑色の絵素領域では、外部からの入射光はカラーフィルタ１３Ｇを透過しＧ光として、カラーフィルタ１３Ｇの下に設けられた緑色絵素の有機ＥＬ素子に入射する。しかし、上述したように、緑色絵素の有機ＥＬ素子の第１の電極６と第２の電極９との距離は、緑色の光のピーク波長が共振する光路長となっている。

　このため、緑色絵素の有機ＥＬ素子に入射した外光は、第１の電極６で反射したとしても、第１の電極６と第２の電極９との間に閉じ込められ、緑色絵素の有機ＥＬ素子の外部へは出射されない。

　同様に、青色の絵素領域では、外部からの入射光はカラーフィルタ１３Ｂを透過しＢ光として、カラーフィルタ１３Ｂの下に設けられた青色絵素の有機ＥＬ素子に入射する。しかし、上述したように、青色絵素の有機ＥＬ素子の第１の電極６と第２の電極９との距離は、青色の光のピーク波長が共振する光路長となっている。

　このため、青色絵素の有機ＥＬ素子に入射した外光は、第１の電極６で反射したとしても、第１の電極６と第２の電極９との間に閉じ込められ、青色絵素の有機ＥＬ素子の外部へは出射されない。

　なお、上記赤色および緑色の絵素の有機ＥＬ素子では、光路長の長さを調整するために、第１の電極６と有機層８との間に、例えば、ＩＴＯ、ＩＺＯ、又はガリウム添加酸化亜鉛（ＧＺＯ）等の透明導電材料からなる透明電極層１６が形成されている。

　このような有機ＥＬ表示装置１は、色純度の高い出射光を得るとともに、第１の電極６および第２の電極９間に入射した外光の反射を抑えることができるので、コントラストが高く、視認性を向上させることができる。

　図５は、発光領域（第１の領域）にマイクロキャビティー構造が採用されている有機ＥＬ表示装置１において、ＥＣ領域（第２の領域）に設けることのできる光学干渉層の一例を示す図である。

　発光領域（第１の領域）における赤色および緑色の絵素の有機ＥＬ素子では、光路長の長さを調整するために、第１の電極６と有機層８との間に、例えば、ＩＴＯ、ＩＺＯ、又はガリウム添加酸化亜鉛（ＧＺＯ）等の透明導電材料からなる透明電極層１６が形成されている。

　図５に示す光学干渉層においては、図示されているように、エッジカバー７と有機層８との間に、透明電極層１６と同一材料の同一層からなる層１７が挿入されており、図３に示す光学干渉層より、多層膜による光学干渉効果を得ることができる。

　〔実施の形態２〕
　次に、図６および図７に基づいて、本発明の第２の実施形態について説明する。本実施の形態においては、ＥＣ領域（第２の領域）における有機層８と第２の電極９との間に、有機層８の屈折率と略等しい屈折率を有する材料で形成され、かつ、所定波長範囲の光の一部を透過させる光路調整用層１８が設けられている点が実施の形態１とは異なる。その他の構成については実施の形態１において説明したとおりである。説明の便宜上、上記の実施の形態１の図面に示した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付し、その説明を省略する。

　図６は、有機ＥＬ表示装置１ａの概略構成を示す断面図である。

　図示されているように、有機ＥＬ表示装置１ａの支持基板１０ａのＥＣ領域（第２の領域）には、有機層８と第２の電極９との間に、有機層８の屈折率と略等しい屈折率、望ましくは同じ屈折率を有する材料で形成され、かつ、所定波長範囲の光の一部を透過させる光路調整用層１８が設けられている。

　図７は、有機ＥＬ表示装置１ａのＥＣ領域（第２の領域）に形成された光学干渉層（積層膜）を説明するための図である。

　図示されているように、有機層８と第２の電極９との間に、光路調整用層１８が設けられているので、比較的その膜厚の変更が困難である有機層８の膜厚を変更する代わりに、光路調整用層１８の膜厚を変更し、光学干渉層の各々の層の表面および界面で反射された上記所定波長範囲の光を干渉させることができる。

　〔実施の形態３〕
　次に、図８に基づいて、本発明の第３の実施形態について説明する。本実施の形態においては、塗り分け方式で形成された有機ＥＬ表示装置２０のＥＣ領域（第２の領域）に光学干渉層を設けている点が実施の形態１および２とは異なる。その他の構成については実施の形態１において説明したとおりである。説明の便宜上、上記の実施の形態１および２の図面に示した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付し、その説明を省略する。

　図８は、塗り分け方式で形成された有機ＥＬ表示装置２０の概略構成を示す図である。

　図示されているように、基板２１上には、ＴＦＴ２２と、層間絶縁膜２３と、第１の電極２４と、エッジカバー２５と、が形成されている。

　そして、第１の電極２４とエッジカバー２５とを覆うように正孔注入層および正孔輸送層２６が形成され、エッジカバー２５の間の領域であり、正孔注入層および正孔輸送層２６上には、塗り分け方法によって形成された赤色、緑色、及び青色を発光する発光層２７Ｒ・２７Ｇ・２７Ｂが形成されている。

　それから、正孔輸送層２６と発光層２７Ｒ・２７Ｇ・２７Ｂとを覆うように、電子輸送層（未図示）と、第２の電極２８と、が形成されている。

　塗り分け方式で形成された有機ＥＬ表示装置２０においては、１つの画素をなす各々の絵素に備えられたそれぞれの第１の領域毎に、異なる厚みの発光層２７Ｒ・２７Ｇ・２７Ｂが形成される。

　なお、本実施の形態においては、エッジカバー２５が形成されている第２の領域には、正孔注入層および正孔輸送層２６と、電子輸送層（未図示）と、を設けているが、これに限定されることはなく、エッジカバー２５が形成されている第２の領域にまで、発光層２７Ｒ・２７Ｇ・２７Ｂを設けてもよい。

　上記第２の領域にまで、各々の発光層２７Ｒ・２７Ｇ・２７Ｂを設ける場合には、上記第２の領域は、隣り合う絵素の第１の領域に形成された各々の発光層２７Ｒ・２７Ｇ・２７Ｂが互いにオーバーラップして上記各々の第２の領域の中央付近に形成された領域と、各々の発光層２７Ｒ・２７Ｇ・２７Ｂを備えた第２の領域の端部（第１の領域近傍（２～１０μｍ））と、に分けられ、上記第２の領域の上記第１の領域近傍（２～１０μｍ）には各々の絵素に応じた厚みの有機層（正孔輸送層２６と発光層２７Ｒ・２７Ｇ・２７Ｂと電子輸送層（未図示））が形成される。

　なお、本実施の形態においては、従来からエッジカバー材料として用いられていたアクリル系樹脂（屈折率：１．５８）やポリイミド系材料（屈折率：１．６３）より屈折率が低い、低屈折率（１．３～１．４）アクリル系樹脂をエッジカバー２５として用いている。

　また、正孔輸送層としてＮＰＢ（屈折率：１．８）を、電子輸送層としてＢＣＰ（屈折率：１．７１）を用いた。

　したがって、図示されているように、有機ＥＬ表示装置２０のＥＣ領域（第２の領域）には、低屈折率（１．３～１．４）アクリル系樹脂からなるエッジカバー２５と、正孔輸送層としてのＮＰＢ（屈折率：１．８）と、電子輸送層としてのＢＣＰ（屈折率：１．７１）と（未図示）、薄膜で形成された半透過膜からなる第２の電極２８と、が積層された光学干渉層が備えられている。

　このような光学干渉層においては、第２の電極２８で反射された光と、エッジカバー２５と正孔輸送層および電子輸送層との界面で反射された光とが、干渉され反射防止効果を有する。

　なお、上記第２の領域にまで、各々の発光層２７Ｒ・２７Ｇ・２７Ｂを設けた場合には、上記第２の領域に発光層２７Ｒ・２７Ｇ・２７Ｂを含む光学干渉層を形成することもできる。

　〔実施の形態４〕
　次に、図９および１０に基づいて、本発明の第４の実施形態について説明する。本実施の形態１および２で用いられたカラーフィルタを備えた封止基板１４を有する有機ＥＬ表示装置１ｂのＥＣ領域（第２の領域）に、第２の電極９と、絶縁層１９と、封止樹脂材料２９または空気層と、からなる光学干渉層が設けられている点が実施の形態１および２とは異なる。その他の構成については実施の形態１において説明したとおりである。説明の便宜上、上記の実施の形態１および２の図面に示した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付し、その説明を省略する。

　図９は、有機ＥＬ表示装置１ｂの概略構成を示す図である。

　図示されているように、有機ＥＬ表示装置１ｂの支持基板１０ｂのＥＣ領域（第２の領域）においては、第２の電極９上に、その屈折率が後述する封止樹脂材料２９の屈折率より大きいアクリル系樹脂からなる絶縁層１９が設けられている。

　そして、発光領域（第１の領域）においては第２の電極９を覆うように、ＥＣ領域（第２の領域）においては絶縁層１９を覆うように、その屈折率が１．４１であるアクリル系樹脂からなる封止樹脂材料２９が設けられている。

　なお、封止樹脂材料２９の屈折率は、これに限定されず、絶縁層１９の屈折率より小さければよい。

　上記構成によれば、有機ＥＬ表示装置１ｂのＥＣ領域（第２の領域）には、第２の電極９と、絶縁層１９と、封止樹脂材料２９と、からなる光学干渉層が設けられている。

　したがって、有機ＥＬ表示装置１ｂのＥＣ領域（第２の領域）においては、封止樹脂材料２９と絶縁層１９との界面での反射光と、第２の電極９の表面での反射光と、は干渉され反射防止効果を有する。

　なお、上記構成によれば、有機層８とは別の層を用いて、光学干渉効果を得ることができるため、カラーフィルタ透過光の波長に合わせ、光路長を比較的自由に設定することが出来る。

　なお、絶縁層１９としては、第２の電極９の蒸着後に追加される有機層やバリア層としての封止膜（無機膜）などを用いることもできる。

　なお、封止樹脂材料２９は、支持基板１０ｂと封止基板１４との間に形成される吸湿効果のある充填樹脂層である。

　なお、本実施の形態においては、エッジカバー材料として従来から用いられていたアクリル系樹脂（屈折率：１．５８）やポリイミド系材料（屈折率：１．６３）や低屈折率（１．３～１．４）アクリル系樹脂の何れも用いることができる。

　図１０は、有機ＥＬ表示装置１ｃの概略構成を示す図である。

　図示されているように、有機ＥＬ表示装置１ｃの支持基板１０ｂのＥＣ領域（第２の領域）においては、第２の電極９上に、アクリル系樹脂からなる絶縁層１９が設けられている。

　そして、図９に示す封止樹脂材料２９の代わりに屈折率が１である空気層が支持基板１０ｂと封止基板１４との間に形成されている。

　したがって、有機ＥＬ表示装置１ｃのＥＣ領域（第２の領域）においては、空気層と絶縁層１９との界面での反射光と、第２の電極９の表面での反射光と、は干渉され反射防止効果を有する。

　本発明の表示装置の上記第２の領域に備えられている積層膜は、第１の層と、上記第１の層上に上記第１の層と接するように上記第１の層の屈折率より屈折率が大きい材料で形成された第２の層と、上記第２の層上に上記第２の層と接するように形成された、上記第２の層とは屈折率が異なる第３の層と、を備えていてもよい。

　上記構成によれば、第３の層の表面における反射光と、屈折率が大きい第２の層と屈折率が小さい第１の層との界面における反射光と、の光学干渉効果を利用し、上記第２の領域における光反射を抑制することができる。

　本発明の表示装置の上記第１の領域には、下層である第１の電極と、上記第１の電極と対向配置された上層である第２の電極と、上記第１の電極と上記第２の電極間に備えられた光を発光する複数の層が積層された有機層と、が備えられており、上記第２の領域には、隣接する上記第１の電極の端部を覆うように形成された第１絶縁層と、上記第１絶縁層上に形成された上記有機層中の少なくとも１層と、上記有機層中の少なくとも１層上に形成された上記第２の電極と、が備えられており、上記第１の層は上記第１絶縁層であり、上記第２の層は上記有機層中の少なくとも１層であり、上記第３の層は上記第２の電極の形成層であってもよい。

　上記構成によれば、表示領域である上記第１の領域に形成される層を用いて、上記第２の領域に上記積層膜（光学干渉層）を形成することができるので、上記第２の領域に上記積層膜（光学干渉層）を設けても、上記表示装置の製造プロセスの工数は増加しない。

　本発明の表示装置の上記第２の領域においては、上記有機層中の少なくとも１層と上記第２の電極の形成層との間に、上記有機層中の少なくとも１層の屈折率と略等しい屈折率を有する材料で形成された光路調整用層が設けられていることが好ましい。

　上記構成によれば、上記光路調整用層が設けられているので、比較的その膜厚の変更が困難である上記有機層の膜厚を変更する代わりに、上記光路調整用層の膜厚を変更し、上記積層膜の各々の層の表面および界面で反射された上記所定波長範囲の光を干渉させることができる。

　本発明の表示装置の上記第２の領域に備えられている積層膜は、光の一部を反射する第１の層と、上記第１の層上に上記第１の層と接するように形成された第２の層と、上記第２の層上に上記第２の層と接するように上記第２の層の屈折率より屈折率が小さい材料で形成された第３の層と、を備えていてもよい。

　上記構成によれば、光の一部を反射する第１の層によって反射された光と、上記第２の層と第３の層との界面や上記第３の層の表面で反射された光と、の光学干渉効果を利用し、上記第２の領域における光反射を抑制することができる。

　本発明の表示装置の上記第１の領域には、下層である第１の電極と、上記第１の電極と対向配置された上層である第２の電極と、上記第１の電極と上記第２の電極間に備えられた光を発光する複数の層が積層された有機層と、が備えられており、上記第２の領域には、隣接する上記第１の電極の端部を覆うように形成された第１絶縁層と、上記第１絶縁層上に形成された上記有機層中の少なくとも１層と、上記有機層中の少なくとも１層上に形成された上記第２の電極と、上記第２の電極上に形成された第２絶縁層（又は有機層）と、が備えられており、上記第１の層は上記第２の電極の形成層であり、上記第２の層は上記第２絶縁層（又は有機層）であり、上記第３の層は空気層であってもよい。

　上記構成によれば、比較的その膜厚の変更が困難である上記第１の電極と上記第２の電極間に備えられた光を発光する複数の層が積層された有機層を用いずに、上記第２の電極の形成層と第２絶縁層（又は有機層）と空気層とで積層膜（光学干渉層）を設けることができる。

　本発明の表示装置の上記第１の領域には、下層である第１の電極と、上記第１の電極と対向配置された上層である第２の電極と、上記第１の電極と上記第２の電極間に備えられた光を発光する複数の層が積層された有機層と、が備えられており、上記第２の領域には、隣接する上記第１の電極の端部を覆うように形成された第１絶縁層と、上記第１絶縁層上に形成された上記有機層中の少なくとも１層と、上記有機層中の少なくとも１層上に形成された上記第２の電極と、上記第２の電極上に形成された第２絶縁層（又は有機層）と、が備えられており、上記第１の領域の第２の電極上および上記第２の領域の第２絶縁層（又は有機層）上には、封止樹脂層が備えられており、上記第１の層は上記第２の電極の形成層であり、上記第２の層は上記第２絶縁層（又は有機層）であり、上記第３の層は上記封止樹脂層であってもよい。

　上記構成によれば、比較的その膜厚の変更が困難である上記第１の電極と上記第２の電極間に備えられた光を発光する複数の層が積層された有機層を用いずに、上記第２の電極の形成層と第２絶縁層（又は有機層）と上記封止樹脂層とで積層膜（光学干渉層）を設けることができる。

　本発明の表示装置の１つの画素をなす各々の絵素に備えられたそれぞれの第１の領域には、それぞれ異なる所定波長範囲の光を選択的に透過させる各々のカラーフィルタ層が備えられており、上記第１の領域から出射される所定波長範囲の光は、上記有機層から出射された白色光が上記各々のカラーフィルタ層を介して出射された光であってもよい。

　上記構成によれば、カラーフィルタ層が備えられているので、上記白色光を出射する有機層を上記表示装置の全ての画素に設けることができるので、上記第１の領域と上記第２の領域とを含む全面に、上記白色光を出射する有機層を設けることができる。

　したがって、上記第２の領域において、上記白色光を出射する有機層を含む積層膜（光学干渉層）を設けることができる。

　本発明の表示装置における上記有機層中の発光層は、１つの画素をなす各々の絵素毎に、異なる所定波長範囲の光を出射する材料で形成されていてもよい。

　上記構成によれば、１つの画素をなす各々の絵素毎に、異なる所定波長範囲の光を出射する材料からなる発光層が、塗り分け方式で形成されるのが一般的であるため、絵素毎に異なる厚みの発光層が形成される。

　本発明の表示装置の１つの画素をなす各々の絵素に備えられたそれぞれの第１の領域においては、上記第１の電極と上記第２の電極との間の距離が、上記カラーフィルタ層が透過する光の波長のピーク波長が共振する光路長となっていることが好ましい。

　上記構成によれば、上記第１の領域には、上記第１電極と上記第２電極との間の距離が、上記カラーフィルタ層が透過する光の波長のピーク波長が共振する光路長となっている、マイクロキャビティー構造となっているため、上記第２の領域のみでなく、上記第１の領域においても、外光反射を抑制することができ、さらに、コントラストの高い表示装置を実現することができる。

　本発明の表示装置における上記第２の領域の一部には、遮光膜が備えられていてもよい。

　上記構成によれば、上記第２の領域の一部には、遮光膜が備えられているので、さらに、外光反射は生じず、コントラストの高い表示装置を実現することができる。

　本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。

　本発明は、有機ＥＬ表示装置などの表示装置に好適に用いることができる。

　１、１ａ、１ｂ、１ｃ　　有機ＥＬ表示装置（表示装置）
　２、２１　　　　　　　　絶縁基板
　３、２２　　　　　　　　ＴＦＴ素子
　４　　　　　　　　　　　信号線
　５、２３　　　　　　　　層間絶縁膜
　６、２４　　　　　　　　第１の電極
　７、２５　　　　　　　　エッジカバー
　８　　　　　　　　　　　有機層
　９　　　　　　　　　　　第２の電極
　１０、１０ａ、１０ｂ　　支持基板
　１１　　　　　　　　　　透明基板
　１２　　　　　　　　　　ブラックマトリクス（遮光層）
　１３Ｒ・１３Ｇ・１３Ｂ　カラーフィルタ
　１４　　　　　　　　　　封止基板
　１５　　　　　　　　　　封止樹脂
　１６　　　　　　　　　　透明電極層
　１７　　　　　　　　　　透明電極層と同一層
　１８　　　　　　　　　　光路調整用層
　１９　　　　　　　　　　絶縁層
　２０　　　　　　　　　　有機ＥＬ表示装置（表示装置）
　２４　　　　　　　　　　第１の電極
　２５　　　　　　　　　　エッジカバー
　２６　　　　　　　　　　正孔注入層および正孔輸送層
　２７Ｒ・２７Ｇ・２７Ｂ　発光層
　２８　　　　　　　　　　第２の電極
　２９　　　　　　　　　　封止樹脂材料

Claims

　複数の絵素がマトリクス状に配されている表示装置であって、上記各々の絵素には、第１の領域と、上記第１の領域の周辺に形成された第２の領域と、が備えられており、上記第１の領域は表示領域であり、上記第２の領域には、光学干渉により反射光を低減させる、異なる屈折率を有する複数の層からなる積層膜が設けられていることを特徴とする表示装置。
　上記第２の領域に備えられている積層膜は、第１の層と、上記第１の層上に上記第１の層と接するように上記第１の層の屈折率より屈折率が大きい材料で形成された第２の層と、上記第２の層上に上記第２の層と接するように形成された、上記第２の層とは屈折率が異なる第３の層と、を備えていることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
　上記第１の領域には、下層である第１の電極と、上記第１の電極と対向配置された上層である第２の電極と、上記第１の電極と上記第２の電極間に備えられた光を発光する複数の層が積層された有機層と、が備えられており、
　上記第２の領域には、隣接する上記第１の電極の端部を覆うように形成された第１絶縁層と、上記第１絶縁層上に形成された上記有機層中の少なくとも１層と、上記有機層中の少なくとも１層上に形成された上記第２の電極と、が備えられており、
　上記第１の層は上記第１絶縁層であり、上記第２の層は上記有機層中の少なくとも１層であり、上記第３の層は上記第２の電極の形成層であることを特徴とする請求項２に記載の表示装置。
　上記第２の領域においては、上記有機層中の少なくとも１層と上記第２の電極の形成層との間に、上記有機層中の少なくとも１層の屈折率と略等しい屈折率を有する材料で形成された光路調整用層が設けられていることを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
　上記第２の領域に備えられている積層膜は、光の一部を反射する第１の層と、上記第１の層上に上記第１の層と接するように形成された第２の層と、上記第２の層上に上記第２の層と接するように上記第２の層の屈折率より屈折率が小さい材料で形成された第３の層と、を備えていることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
　上記第１の領域には、下層である第１の電極と、上記第１の電極と対向配置された上層である第２の電極と、上記第１の電極と上記第２の電極間に備えられた光を発光する複数の層が積層された有機層と、が備えられており、
　上記第２の領域には、隣接する上記第１の電極の端部を覆うように形成された第１絶縁層と、上記第１絶縁層上に形成された上記有機層中の少なくとも１層と、上記有機層中の少なくとも１層上に形成された上記第２の電極と、上記第２の電極上に形成された第２絶縁層と、が備えられており、
　上記第１の層は上記第２の電極の形成層であり、上記第２の層は上記第２絶縁層であり、上記第３の層は空気層であることを特徴とする請求項５に記載の表示装置。
　上記第１の領域には、下層である第１の電極と、上記第１の電極と対向配置された上層である第２の電極と、上記第１の電極と上記第２の電極間に備えられた光を発光する複数の層が積層された有機層と、が備えられており、
　上記第２の領域には、隣接する上記第１の電極の端部を覆うように形成された第１絶縁層と、上記第１絶縁層上に形成された上記有機層中の少なくとも１層と、上記有機層中の少なくとも１層上に形成された上記第２の電極と、上記第２の電極上に形成された第２絶縁層と、が備えられており、
　上記第１の領域の第２の電極上および上記第２の領域の第２絶縁層上には、封止樹脂層が備えられており、
　上記第１の層は上記第２の電極の形成層であり、上記第２の層は上記第２絶縁層であり、上記第３の層は上記封止樹脂層であることを特徴とする請求項５に記載の表示装置。
　１つの画素をなす各々の絵素に備えられたそれぞれの第１の領域には、それぞれ異なる所定波長範囲の光を選択的に透過させる各々のカラーフィルタ層が備えられており、
　上記第１の領域から出射される所定波長範囲の光は、上記有機層から出射された白色光が上記各々のカラーフィルタ層を介して出射された光であることを特徴とする請求項３、４、６および７の何れか１項に記載の表示装置。
　上記有機層中の発光層は、１つの画素をなす各々の絵素毎に、異なる所定波長範囲の光を出射する材料で形成されていることを特徴とする請求項３、４、６および７の何れか１項に記載の表示装置。
　１つの画素をなす各々の絵素に備えられたそれぞれの第１の領域においては、上記第１の電極と上記第２の電極との間の距離が、上記カラーフィルタ層が透過する光の波長のピーク波長が共振する光路長となっていることを特徴とする請求項８に記載の表示装置。
　上記第２の領域の一部には、遮光膜が備えられていることを特徴とする請求項１から１０の何れか１項に記載の表示装置。