JP2010003577A - 積層型発光表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 発光効率が高く、輝度調整がなされた積層型発光表示装置を提供する。
【解決手段】 EL層の発光領域と反射電極の反射面との間の光学的距離Lは、発光色毎に干渉条件式(1)を満たし、前記光取り出し電極側の反射界面と前記反射電極の反射面との間の光学的距離Ltは、干渉条件式(2)を満たすか、或いは前記条件式(3)を満たし、且つm’が8以上であるように構成した積層型発光表示装置。
2L/λ+δ/2π=m 干渉条件式(1)
Lt=(λ/2)・k 干渉条件式(2)
2Lt/λ+δ/2π=m’ 干渉条件式(3)
【選択図】 図1
【解決手段】 EL層の発光領域と反射電極の反射面との間の光学的距離Lは、発光色毎に干渉条件式(1)を満たし、前記光取り出し電極側の反射界面と前記反射電極の反射面との間の光学的距離Ltは、干渉条件式(2)を満たすか、或いは前記条件式(3)を満たし、且つm’が8以上であるように構成した積層型発光表示装置。
2L/λ+δ/2π=m 干渉条件式(1)
Lt=(λ/2)・k 干渉条件式(2)
2Lt/λ+δ/2π=m’ 干渉条件式(3)
【選択図】 図1
Description
本発明は、有機化合物を用いた発光素子を利用した積層型表示装置に関するものであり、さらに詳しくは、有機化合物からなる薄膜に電界を印加することにより光を放出する有機EL素子を用いた表示装置に関する。
有機EL素子(有機発光素子、有機エレクトロルミネッセンス素子)が現在盛んに研究開発されている。最近では、表示装置の共通の区域から各色を発光できるように、有機EL媒体を積層して配列した高解像度多色表示装置の研究開発が進められている。
そのため特許文献1では、各積層体から各色の光を発光させるために、夫々の層に個別のバイアス電圧を入力できるように構成され、多色表示する表示装置が開示されている。
特表平10−503878号公報
しかし、上記複数の発光層を積層させて構成する従来技術では、単に積層させるだけでは、発光効率や輝度調整がされていないという課題があった。
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、発光効率や輝度調整がなされた積層型発光表示装置の提供を目的とするものである。
上記課題を解決するために、以下を提供する。
基板と、
前記基板上に形成された反射電極及び光取り出し電極と、
前記電極間に配置され、夫々が一対の電極に狭持された、複数の積層されたEL層とを有する積層型発光表示装置において、
前記EL層の発光領域と反射電極の反射面との間の光学的距離は、発光色毎に干渉条件式(1)を満たし、
前記光取り出し電極側の反射界面と前記反射電極の反射面との間の光学的距離は、干渉条件式(2)を満たすか、或いは前記条件式(3)を満たし、且つm’が8以上であるように構成されていること特徴とする積層型発光表示装置。
2L/λ+δ/2π=m 干渉条件式(1)
Lt=(λ/2)・k 干渉条件式(2)
2Lt/λ+δ/2π=m’ 干渉条件式(3)
(式中、Lは反射電極の反射面と発光層の発光領域の間の光学的距離、Ltは反射電極の反射面と光取り出し電極側の反射界面との間の光学的距離、λは取り出される光のピーク波長、δは反射電極における位相シフト量であり、m、m’、kは整数)
前記基板上に形成された反射電極及び光取り出し電極と、
前記電極間に配置され、夫々が一対の電極に狭持された、複数の積層されたEL層とを有する積層型発光表示装置において、
前記EL層の発光領域と反射電極の反射面との間の光学的距離は、発光色毎に干渉条件式(1)を満たし、
前記光取り出し電極側の反射界面と前記反射電極の反射面との間の光学的距離は、干渉条件式(2)を満たすか、或いは前記条件式(3)を満たし、且つm’が8以上であるように構成されていること特徴とする積層型発光表示装置。
2L/λ+δ/2π=m 干渉条件式(1)
Lt=(λ/2)・k 干渉条件式(2)
2Lt/λ+δ/2π=m’ 干渉条件式(3)
(式中、Lは反射電極の反射面と発光層の発光領域の間の光学的距離、Ltは反射電極の反射面と光取り出し電極側の反射界面との間の光学的距離、λは取り出される光のピーク波長、δは反射電極における位相シフト量であり、m、m’、kは整数)
発光色毎に、発光領域と反射電極の反射面との間の光学的距離及び反射電極の反射面と光取り出し電極側の反射界面との間の光学的距離を最適化することにより、発光効率が高く、輝度調整がなされた積層型発光表示装置を提供することができた。
以下、本発明を詳細に説明する。
図5はn層積層系の有機EL素子を用いた積層型表示装置の概略部分拡大断面図の一例である。
また、図1は2層積層系の有機EL素子を用いた表示装置の概略部分拡大断面図の一例である。
本表示装置は、複数の積層構成の有機EL素子からなり、この積層構成の有機EL素子がマトリクス状に配置された構成となっている。それぞれの有機EL素子は、基板1上に、一対の電極によって狭持される発光層を含むEL層が積層された構成となっている。具体的には、基板1上に、第1反射電極2と、ホール注入層、ホール輸送層、第1発光層、電子輸送層、電子注入層からなる第1EL層3が積層されている。更にその上に、第2電極4と、ホール注入層、ホール輸送層、第2発光層、電子輸送層、電子注入層からなる第2EL層5と、第3電極6と、保護層9とが順次積層された構成となっている。例えば青、緑の順に積層された表示素子においては、青、緑のEL発光をする第1EL層31、第2EL層51が、それぞれ反射電極側から順に積層されている。さらに隣の画素は例えば、青、赤の順に積層された表示素子においては、青、赤のEL発光をする第1EL層3、第2EL層5が、それぞれ反射電極側から順に積層されている。隣り合う画素間は、7の素子分離膜により分離されている。7の素子分離膜については各素子を分離し、絶縁出来れば特に限定されない。より好ましくは外光反射の点を考慮すると、ブラックマトリクスを用いることが好ましい。
図1における1の基板は、10の支持体、11のTFT駆動回路、12の平坦化膜からなるアクティブマトリックス駆動の表示装置であるが、TFT駆動回路が不要なパッシブマトリックス駆動であってもよい。
ここで、第2電極4、第3電極6などの電極は透明であることが好ましい。さらに、第2電極4のように上下の異なるEL層3,5の間に位置する電極は、一層構成で共通電極として機能してもよい。また、第2電極を、導電層/絶縁層/導電層のように構成することにより上下のEL層を独立駆動できるようにしてもよい。
これらのEL素子に電流を通電することで、陽極から注入されたホールと陰極から注入された電子が、青緑それぞれの発光層において再結合し、そこで青緑それぞれの光を放出することになる。
この発光した光は、1の基板側、もしくは、9の保護層側、どちらからでも取り出すことが可能である。ここで、アクティブマトリックス駆動の表示装置を考えた場合、開口率の確保という観点から、9の保護層側から光を取り出す、いわゆるトップエミッション型の構成の表示装置が有利である。図1はトップエミッション構成であるが、第3電極6を反射電極とし、第1反射電極2を透明電極として透明支持体10の側から光を取り出す、ボトムエミッション型の構成としても本発明を実施することは可能であり,特に限定されるものではない。
ところで、反射性金属層と半透明金属層の2電極間に有機EL層を配置し、反射性金属層と半透明金属との間の光学的距離を最適に設計することにより共振構造とした発光表示装置が提案されている。また、このような共振構造とすれば発光効率、輝度調整を最適化可能であることも知られている。しかし、従来知られたものは単層のEL層を対象としたもので、積層型を対象としたものではなかった。積層型の場合、互いの共振構造で影響を及ぼし合ってしまうため各発光色で干渉条件を最適化することは容易ではない。
本出願人は、このような積層型発光表示装置に特有の課題に着目し、以下のように光学設計することにより積層型発光表示装置においても各発光色で干渉条件を最適化できることを見出した。
図2は3層積層系の有機EL素子を用いた表示装置の概略部分拡大断面図の一例である。図2を用いて本発明の干渉条件式について説明する。
図2の各EL層内の発光層からのEL発光が生じた場合、その光は、構成する各層の屈折率の違いにより、反射、屈折、透過、吸収等を繰り返して外部に取り出されることになる。ここで、干渉の影響を考えた場合には、発光位置から直接取り出し方向に向かう光(A)と反射電極の反射面で反射して取り出し方向へ向かう光(B)との干渉効果が最も大きくなる。特に、第2から第4電極及び、保護層が透明の場合、AとBの光、すなわち、発光領域から反射電極の反射面までの光学的距離Lを調節することで、干渉で強めあう波長を制御することが可能となる。そこで、反射電極に近い順にそれぞれの発光層の発光領域と反射電極の反射面との間の光学的距離をL1、L2・・・、対応する各発光層での多重干渉スペクトルのピーク波長をλ1、λ2・・・とする。この時、以下の関係式(1)を満たすことで、干渉による取り出し効率の向上が見込まれることとなる。
2Li/λi+δ/2π=mi(3層系の場合、i=1,2,3) (1)
(式中、δは、反射電極における位相シフト量δ、miは自然数である。)
前記式(1)は、文献Deppe J.Modern.Optics Vol 41,No2,p325 (1994)において、共振構造でのEL発光スペクトルの干渉の強め合いの条件より導出されている。
2Li/λi+δ/2π=mi(3層系の場合、i=1,2,3) (1)
(式中、δは、反射電極における位相シフト量δ、miは自然数である。)
前記式(1)は、文献Deppe J.Modern.Optics Vol 41,No2,p325 (1994)において、共振構造でのEL発光スペクトルの干渉の強め合いの条件より導出されている。
またδについては、反射電極のn(屈折率),k(吸収係数)とこの反射層に接している有機層の屈折率nとを用いて計算することができる。(例えば、「光学の原理」 Priciples of Optics,Max Born and Emil Wolf 等参照)
以下では簡略化のためmの添え字は略す。すなわち、式(1)を2L/λ+δ/2π=mとする。
以下では簡略化のためmの添え字は略す。すなわち、式(1)を2L/λ+δ/2π=mとする。
ここで、金属反射での位相シフト量δは、ほぼπラジアンと考えてよいので、式(1)は近似的に下記式(2)となる。以下では簡略化のためmの添え字は略す。
L=(λ/4)・(2m−1) (m:整数) (2)
従って、発光位置から反射面までの光学距離Lがλ/4の奇数倍のとき、光が干渉効果により強め合うことになる。
L=(λ/4)・(2m−1) (m:整数) (2)
従って、発光位置から反射面までの光学距離Lがλ/4の奇数倍のとき、光が干渉効果により強め合うことになる。
例えば,詳細は実施例で述べるが、図1の2層積層構成ではm1=1となるように青色発光層を積層し、m2=2となるように赤色発光層または緑色発光層を積層することが出来る。さらに図2の3層積層構成では、m1=1となるように青色発光層を積層し、m2=2となるように緑色発光層を積層し、m3=3となるように赤色発光層を積層することも出来る。このようにm1<m2<m3…<mnを満たせば積層数やmの値については特に限定されない。
発光層の積層順については特に限定されないが、以下に述べるように視野角特性を保つという観点で、より好ましくは光ピーク波長の短い順に発光層が反射電極側から積層されていることが好ましい。
視野角特性とm値との関係については、mが小さい方が視野角特性がよい。
すなわち、発光面に対して斜め方向θラジアンから見た場合、式(1)は次式のように書き換えられる。
2L・COSθ/(λ―Δλ)+δ/2π=m (3)
ここでΔλは、発光面を正面から見た場合の発光スペクトルのピーク波長λに対して、斜め方向θから見た場合のピーク波長のシフト量である。(3)式より、
Δλ=λ―2L・COSθ/(m−δ/2π) (4)
となり、mが小さいほどΔλが小さいということになる。
2L・COSθ/(λ―Δλ)+δ/2π=m (3)
ここでΔλは、発光面を正面から見た場合の発光スペクトルのピーク波長λに対して、斜め方向θから見た場合のピーク波長のシフト量である。(3)式より、
Δλ=λ―2L・COSθ/(m−δ/2π) (4)
となり、mが小さいほどΔλが小さいということになる。
以上より、mが小さい方が広い視野角において十分な色再現範囲を確保することができる。
図1に示したように発光ピーク波長が長いほどmの値が大きくなる傾向にあるので、発光波長が短い発光層ほど第1反射電極2に近い位置に配置した方が視野角特性の向上につなげることができる。3層積層系では第1反射電極2に近い順に青,緑、赤の発光層を配置するのが好ましい。
次に、発光層から反射電極と反対側の光取り出し方向に向かう光の一部は、屈折率差の大きい保護層9と空気層の界面で大きな反射光C,Dとなる。このような光が,反射電極で反射し、A,Bの光と干渉してしまうと、(1)の条件式のような光学設計ができなくなる。したがって、A,Bの光とC,Dの光が干渉するのをなるべく防ぐ必要がある。
そこでCとDとが弱め合う条件は、
Lt=(λ/2)・k (k:整数) (5)
ここでLtは図2で示すように、反射電極2の反射面と、保護層9の空気層との境界面(光取り出し電極である第3電極6側の反射界面)の間の光学的距離である。
Lt=(λ/2)・k (k:整数) (5)
ここでLtは図2で示すように、反射電極2の反射面と、保護層9の空気層との境界面(光取り出し電極である第3電極6側の反射界面)の間の光学的距離である。
(5)を満たすようにLtを設計してもよいが、以下のように干渉条件式(6)を満たしても実効的な干渉効果が働かないように設計してもよい。
つまり、干渉効果が起こらない条件は、
2Lt/λ+δ/2π=m’ (6)
または、δ〜πとして、
Lt=(λ/4)・(2m’−1) (m’:整数) (7)
において、Ltが2μm以上で干渉しづらくなるという条件より、
(λ/4)・(2m’−1)>2000(単位はnm)となる。
つまり、干渉効果が起こらない条件は、
2Lt/λ+δ/2π=m’ (6)
または、δ〜πとして、
Lt=(λ/4)・(2m’−1) (m’:整数) (7)
において、Ltが2μm以上で干渉しづらくなるという条件より、
(λ/4)・(2m’−1)>2000(単位はnm)となる。
これを整理して、m’>(4000/λ)+1/2が得られる。λが最大の赤の場合が一番厳しい条件となり、λ=610nmとしてm’>7.05よりm’は8以上となる。つまり、m‘を8以上として設計すれば実効的な干渉効果を起こらないようにすることができる。緑,青の場合のm’は実施例で示すように赤の場合よりも大きな値となる。
以上の諸条件を満たすようL及びLtを設計することにより、A,Bの光は干渉で強め合い、C,Dの光による干渉を少なくできるので、積層型発光表示装置においても最適な光学設計が行えるようになる。このような光学設計を、発光色毎に行なうのである。
以下、図面を参照しながら本発明を具体的に説明する。図3は、トップエミッション型のアクティブマトリックス有機EL表示装置の概略断面図であり、図3における1の基板は、10の支持体、11のTFT駆動回路、12の平坦化膜からなる。本発明で用いる支持体10としては、特に限定するものではないが、金属、セラミックス、ガラス、石英等の支持体が用いられる。また、プラスチックシート等のフレキシブルシート上にTFTを作成して、フレキシブル表示装置とすることも可能である。この上に反射電極層が形成してある。この反射電極層は、2の第1反射電極と100の透明導電膜からなり、13のコンタクトホールにより反射電極層と駆動回路との接点をとっている。2の第1反射電極の材料としては、透明導電膜との界面における反射率が少なくとも50%以上、好ましくは80%以上である材料が望ましい。特に限定されるものではないが、例えば銀やアルミニウムやクロム(銀合金、アルミニウム合金を含む)等が用いられる。また、2の第1反射電極は101ホール輸送層に注入できればよく、直接注入できるのであれば、特に透明電極を有しなくともよい。透明導電膜としては、酸化物導電膜、具体的には、酸化インジウムと酸化錫の化合物膜(ITO)や酸化インジウムと酸化亜鉛の化合物膜(IZO)等を用いることが出来る。なお、ここで用いている「透明」とは、可視光に対して80〜100%の透過率を有していることであり、より具体的には、複素屈折率のκが0.05以下、好ましくは0.01以下であることが望ましい。複素屈折率のκは、吸収の程度を示しており、このκが小さいことにより多重反射による減衰を抑えることが出来るからである。本発明における透明導電膜の厚さは、その屈折率や表示装置の発光色にも依存するが、101のホール輸送層の厚さが10〜200nm、好ましくは10〜100nmの範囲に入るように設定することが望ましい。これは、消費電力の観点から、低電圧で駆動したほうが有利だからである。
101のホール輸送層、102の発光層、103の電子輸送層、104の電子注入層に用いられる有機化合物としては、低分子材料で構成されても、高分子材料で構成されても、両者を用いて構成されてもよく、特に限定されるものではない。必要に応じてこれまで知られている材料を使用することができる。
以下にこれらの化合物例を挙げる。
ホール輸送性材料としては、陽極からのホールの注入を容易にし、また注入されたホールを発光層に輸送するに優れたモビリティを有することが好ましい。また、必要に応じて陽極とホール輸送層の間にホール注入層を狭持しても良い。ホール注入輸送性能を有する低分子および高分子系材料としては、トリアリールアミン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体等が挙げられる。さらに、オキサゾール誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、およびポリ(ビニルカルバゾール)、ポリ(シリレン)、ポリ(チオフェン)、その他導電性高分子が挙げられる。もちろんこれらに限定されるものではない。
以下に、具体例の一部を示す。
発光材料としては、発光効率の高い蛍光色素や燐光材料が用いられる。以下に具体例の一部を示す。
電子輸送性材料としては、注入された電子を発光層に輸送する機能を有するものから任意に選ぶことができ、ホール輸送材料のキャリア移動度とのバランス等を考慮し選択される。電子注入輸送性能を有する材料としては、オキサジアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、ピラジン誘導体、トリアゾール誘導体、トリアジン誘導体、ペリレン誘導体、キノリン誘導体等が挙げられる。さらに、キノキサリン誘導体、フルオレノン誘導体、アントロン誘導体、フェナントロリン誘導体、有機金属錯体等が挙げられるが、もちろんこれらに限定されるものではない。
以下に、具体例の一部を示す。
また、電子注入材料としては、前述した電子輸送性材料に、アルカリ金属やアルカリ土類金属、もしくはその化合物を0.1〜数十%含有させることにより、電子注入性を付与することが出来る。104の電子注入層は、必要不可欠な層ではないが、この後に105の透明電極を形成する際の成膜時に受けるダメージを考慮すると、良好な電子注入性を確保するために10〜100nm程度挿入した方が好ましい。
本発明の有機化合物からなる層は、一般には真空蒸着法、イオン化蒸着法、スパッタリング、プラズマあるいは、適当な溶媒に溶解させて公知の塗布法(例えば、スピンコーティング、ディッピング、キャスト法、LB法、インクジェット法等)により薄膜を形成する。特に塗布法で成膜する場合は、適当な結着樹脂と組み合わせて膜を形成することもできる。上記結着樹脂としては、広範囲な結着性樹脂より選択でき、例えば、ポリビニルカルバゾール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂等が挙げられる。さらに、ポリスチレン樹脂、ABS樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ブチラール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂等が挙げられる。さらに、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリスルホン樹脂、尿素樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらは単独または共重合体ポリマーとして1種または2種以上混合してもよい。さらに必要に応じて、公知の可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤を併用してもよい。
105、111の透明電極としては、前述したITOやIZO等の酸化物導電膜を使用することが出来る。103,109の電子輸送層、及び、104,110の電子注入層との組み合わせにより、電子注入性が良好な組み合わせを適宜選択することが望ましい。また、透明電極は、スパッタリングにより形成することが出来る。
9の保護層は、酸素や水分等との接触を防止する目的で設けられる。保護層としては、窒化シリコン、窒化酸化シリコン等の金属窒化物膜や、酸化タンタル等の金属酸化物膜、ダイヤモンド薄膜、また、フッ素樹脂等が挙げられる。さらに、ポリパラキシレン、ポリエチレン、シリコーン樹脂、ポリスチレン樹脂等の高分子膜、さらには、光硬化性樹脂等が挙げられる。
また、ガラス、気体不透過性フィルム、金属などをカバーし、適当な封止樹脂により素子自体をパッケージングすることもできる。また、防湿性を高める為に、保護層内に吸湿材を含有させても良い。
なお、透明基板上に透明電極を形成し、その上に有機EL層、反射性電極を積層したボトムエミッション構成においても本発明を実施することは可能であり、特に限定されるものではない。
また、ここでは、いわゆるダブルへテロ構成のEL素子を例にとり説明してきたが、シングルへテロ構成のEL素子にも適応可能である。
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明していくが、本発明はこれらに限定されるものではない。
<実施例1>
図1に示す構造の2層積層系の赤緑青3色からなる表示装置を以下に示す方法で作製し、図3のような構成とした。
図1に示す構造の2層積層系の赤緑青3色からなる表示装置を以下に示す方法で作製し、図3のような構成とした。
ガラス基板である支持体10上に、低温ポリシリコンからなるTFT駆動回路11を形成し、その上にアクリル樹脂からなる平坦化膜12を形成して基板1とした。この上に第1反射電極2としての銀合金(AgPdCu)を約100nmスパッタリング法にて形成してパターニングし、さらに、透明導電膜100としてのスパッタリング法にてIZOを30nm成膜してパターニングし、陽極を形成した。さらに、アクリル樹脂により図1の素子分離膜7を形成し陽極付き基板を作製した。これをイソプロピルアルコール(IPA)で超音波洗浄し、次いで、煮沸洗浄後乾燥した。さらに、UV/オゾン洗浄してから有機化合物を真空蒸着により成膜した。
次に、図3のホール輸送層101として下記構造式で示される化合物[I]を、各画素に30nmの厚さで成膜した。この際の真空度は1×10−4Pa、蒸着レートは、0.3nm/secである。
次に、発光層102として、シャドーマスクを用いて、青の発光層を成膜した。青の発光層としては、ホストとして下記に示す[II]と発光性化合物[III]を共蒸着(重量比80:20)して、20nmの発光層102を設けた。蒸着時の真空度は1×10−4Pa、成膜速度は0.1nm/secの条件で成膜した。
更に電子輸送層103としてバソフェナントロリン(Bphen)を真空蒸着法にて10nmの膜厚に形成した。蒸着時の真空度は1×10−4Pa、成膜速度は0.3nm/secの条件であった。
次に、電子注入層104として、BphenとCs2CO3を共蒸着(重量比90:10)して10nmの膜厚に形成した。蒸着時の真空度は3×10−4Pa、成膜速度は0.2nm/secの条件であった。
この電子注入層まで成膜した基板を、真空を破ること無しにスパッタ装置に移動し、シャドーマスクを用いてITOを成膜し、透明電極105とした。膜厚は以下に作成する第2番目の発光層が、赤発光層の場合は130nm、緑発光層の場合は90nmとした。
次に、真空を破ること無しに蒸着装置に移動し、ホール注入層106として、GaPcを、各画素に2nmの厚さで成膜した。この際の真空度は1×10−4Pa、蒸着レートは、0.1nm/secである。
次に、ホール輸送層107として前記構造式で示される化合物[I]を、各画素に10nmの厚さで成膜した。この際の真空度は1×10−4Pa、蒸着レートは、0.3nm/secである。
次に、図3の発光層108に対応する図1の発光層5、発光層51として、シャドーマスクを用いて、赤、緑それぞれの発光層を成膜した。赤の発光層としては、ホストとしてAlq3と、発光性化合物DCM[4−(dicyanomethylene)−2−methyl−6(p−dimethylaminostyryl)−4H−pyran]を共蒸着(重量比99:1)する。ここでは、40nmの発光層5を設けた。緑の発光層としては、ホストとしてAlq3と発光性化合物クマリン6を共蒸着(重量比99:1)して、20nmの発光層51を設けた。蒸着時の真空度は1×10−4Pa、成膜速度は0.1nm/secの条件で成膜した。
次に、図3の電子輸送層109としてバソフェナントロリン(Bphen)を真空蒸着法にて10nmの膜厚に形成した。蒸着時の真空度は1×10−4Pa、成膜速度は0.3nm/secの条件であった。
次に、電子注入層110として、BphenとCs2CO3を共蒸着(重量比90:10)してそれぞれ10nm、20nmの膜厚に形成した。蒸着時の真空度は3×10−4Pa、成膜速度は0.2nm/secの条件であった。
この電子注入層まで成膜した基板を、真空を破ること無しにスパッタ装置に移動し、シャドーマスクを用いてITOを40nm成膜し,透明電極111とした。さらに保護膜9として、窒化酸化シリコンを1200nm成膜し、表示装置を得た。
この様にして得られた表示装置において、各色に対する多重干渉スペクトルピーク波長と、mが異なる場合の設計値を表1に示す。
まず、干渉条件については、図3から各色について以下のようになる。
ここで、各層の屈折率はIZOのみ2.1でそれ以外の材料は1.9である。発光位置は発光層とホール輸送層界面とした。光学的距離は(各層の屈折率×各層膜厚)で表わされる。
青:
反射層からの各積層材料構成:IZO+HTL
Lb=2.1×30+1.9×30=120=115×(2m−1)より、m=1.02となり、ほぼλ/4設計。
反射層からの各積層材料構成:IZO+HTL
Lb=2.1×30+1.9×30=120=115×(2m−1)より、m=1.02となり、ほぼλ/4設計。
赤:
反射層からの各積層材料構成:Lb+EML+ETL+EIL+ITO+HTL
Lr=Lb+1.9×(20+10+10+130+10)=462=152.5×(2m−1)より、m=2.01となり、ほぼ3λ/4設計。
反射層からの各積層材料構成:Lb+EML+ETL+EIL+ITO+HTL
Lr=Lb+1.9×(20+10+10+130+10)=462=152.5×(2m−1)より、m=2.01となり、ほぼ3λ/4設計。
尚、HILについては膜厚が薄いので省略した。
緑:
反射層からの各積層材料構成:Lb+EML+ETL+EIL+ITO+HTL
Lg=Lb+1.9×(20+10+10+90+10)=386=130×(2m−1)より、m=1.98となり、ほぼ3λ/4設計。
反射層からの各積層材料構成:Lb+EML+ETL+EIL+ITO+HTL
Lg=Lb+1.9×(20+10+10+90+10)=386=130×(2m−1)より、m=1.98となり、ほぼ3λ/4設計。
次に非干渉条件については以下のようになる。
赤について計算すると
反射層からの各積層材料構成:Lr+EML+ETL+EIL+ITO+保護層
Lt=Lr+1.9×(40+10+10+40+1200)=2932=152.5×(2m’−1)より、m’〜10となり、8以上となるので非干渉条件を満たす。
反射層からの各積層材料構成:Lr+EML+ETL+EIL+ITO+保護層
Lt=Lr+1.9×(40+10+10+40+1200)=2932=152.5×(2m’−1)より、m’〜10となり、8以上となるので非干渉条件を満たす。
同様な計算を緑、青について行うと、m’の値はそれぞれ11,13となり,赤の場合と同様に8以上となるので非干渉条件を満たす。
比較例としては保護層の厚みを実施例の1200nmに対して770nmとした時、同様な計算により赤の場合m〜7となり非干渉条件を満たさない。
以上より、本実施例の表示装置は干渉条件式を満たし、青についてはλ/4設計、緑,赤については3λ/4設計で色設計が行なえることがわかる。
このように得られた表示装置を正面から見たところ、各色ともに発光効率が高く、良好な色度の発光色を得た。また、斜めから見たところ、良好な視野角特性であった。
一方比較例の表示装置は、色再現範囲が狭く、この表示装置を斜めから見たところ、色づれがあることを確認した。
<実施例2>
図4に示す、3層積層系の赤緑青3色からなる表示装置を以下に示す方法で作製した。
図4に示す、3層積層系の赤緑青3色からなる表示装置を以下に示す方法で作製した。
まず、実施例1の2層積層系のうちの反射基板側から青発光層、緑発光層までは同様な方法で作成し、その上に赤発光層を積層し3層系とした。
ガラス基板である支持体10上に、低温ポリシリコンからなるTFT駆動回路11を形成し、その上にアクリル樹脂からなる平坦化膜12を形成して基板1とした。この上に第1反射電極2としての銀合金(AgPdCu)を約100nmスパッタリング法にて形成してパターニングし、さらに、透明導電膜100としてのスパッタリング法にてIZOを30nm成膜してパターニングし、陽極を形成した。さらに、アクリル樹脂により図1の素子分離膜7を形成し陽極付き基板を作製した。これをイソプロピルアルコール(IPA)で超音波洗浄し、次いで、煮沸洗浄後乾燥した。さらに、UV/オゾン洗浄してから有機化合物を真空蒸着により成膜した。
次に図3のホール輸送層101として実施例1で用いた化合物[I]を、各画素に30nmの厚さで成膜した。この際の真空度は1×10−4Pa、蒸着レートは、0.3nm/secである。
次に、1番目の発光層102として、シャドーマスクを用いて、青の発光層を成膜した。青の発光層としては、ホストとして実施例1で用いた[II]と発光性化合物[III]を共蒸着(重量比80:20)して、20nmの発光層102を設けた。蒸着時の真空度は1×10−4Pa、成膜速度は0.1nm/secの条件で成膜した。
更に電子輸送層103としてバソフェナントロリン(Bphen)を真空蒸着法にて10nmの膜厚に形成した。蒸着時の真空度は1×10−4Pa、成膜速度は0.3nm/secの条件であった。
次に、電子注入層104として、BphenとCs2CO3を共蒸着(重量比90:10)して10nmの膜厚に形成した。蒸着時の真空度は3×10−4Pa、成膜速度は0.2nm/secの条件であった。
この電子注入層まで成膜した基板を、真空を破ること無しにスパッタ装置に移動し、シャドーマスクを用いてITOを90nmで成膜し、透明電極105とした。
次に、真空を破ること無しに蒸着装置に移動し、ホール注入層106として、GaPcを、各画素に2nmの厚さで成膜した。この際の真空度は1×10−4Pa、蒸着レートは、0.1nm/secである。
次に、ホール輸送層107として実施例1で用いた化合物[I]を、各画素に10nmの厚さで成膜した。この際の真空度は1×10−4Pa、蒸着レートは、0.3nm/secである。
次に、2番目の発光層108として、シャドーマスクを用いて、緑の発光層を成膜した。緑の発光層としては、ホストとしてAlq3と発光性化合物クマリン6を共蒸着(重量比99:1)して、20nmの発光層108を設けた。蒸着時の真空度は1×10−4Pa、成膜速度は0.1nm/secの条件で成膜した。
次に、電子輸送層109としてバソフェナントロリン(Bphen)を真空蒸着法にて10nmの膜厚に形成した。蒸着時の真空度は1×10−4Pa、成膜速度は0.3nm/secの条件であった。
次に、電子注入層110として、BphenとCs2CO3を共蒸着(重量比90:10)して20nmの膜厚に形成した。蒸着時の真空度は3×10−4Pa、成膜速度は0.2nm/secの条件であった。
この電子注入層まで成膜した基板を、真空を破ること無しにスパッタ装置に移動し、シャドーマスクを用いてITOを140nm成膜し、透明電極111とした。
ここまでは実施例1と同様な構成である。次にこの透明電極111上に、さらに、ホール注入層112、ホール輸送層113、3番目の赤発光層114、電子輸送層115、電子注入層116、透明電極117、保護層9の順に以下のように成膜して積層した。
まず、ホール注入層112として、GaPcを、各画素に2nmの厚さで成膜した。この際の真空度は1×10−4Pa、蒸着レートは、0.1nm/secである。
次に、ホール輸送層113として実施例1で用いた化合物[I]を、各画素に10nmの厚さで成膜した。この際の真空度は1×10−4Pa、蒸着レートは、0.3nm/secである。
次に、3番目の発光層114として、シャドーマスクを用いて、赤の発光層を成膜した。赤の発光層としては、ホストとしてAlq3と、発光性化合物DCM [4−(dicyanomethylene)−2−methyl−6(p−dimethylaminostyryl)−4H−pyran]を共蒸着(重量比99:1)した。ここでは、40nmの発光層を設けた。
次に、電子輸送層115としてバソフェナントロリン(Bphen)を真空蒸着法にて10nmの膜厚に形成した。蒸着時の真空度は1×10−4Pa、成膜速度は0.3nm/secの条件であった。
次に、電子注入層116として、BphenとCs2CO3を共蒸着(重量比90:10)して10nmの膜厚に形成した。蒸着時の真空度は3×10−4Pa、成膜速度は0.2nm/secの条件であった。
この電子注入層116まで成膜した基板を、真空を破ること無しにスパッタ装置に移動し、陰極としてシャドーマスクを用いてITOを40nm成膜し,透明電極117とした。
さらに保護膜9として、窒化酸化シリコンを1200nm成膜し、B,G,R3層積層の表示装置を得た。
この装置についての干渉条件は、青と緑については実施例1と同じ構成なので同一結果となり、満たされる。
赤について:
反射層からの各積層材料構成:EML+ETL+EIL+ITO+HTL
Lr=Lg+1.9×(20+10+20+140+10)=766=152.5×(2m−1)より、m=3.01となり、ほぼ5λ/4設計。
反射層からの各積層材料構成:EML+ETL+EIL+ITO+HTL
Lr=Lg+1.9×(20+10+20+140+10)=766=152.5×(2m−1)より、m=3.01となり、ほぼ5λ/4設計。
次に非干渉条件については以下のようになる。赤については、
反射層からの各積層材料構成:EML+ETL+EIL+ITO+HTL+EML+ETL+EIL+ITO+保護層
Lt=Lg+1.9×(20+10+20+140+10+40+10+10+40+1200)=3236=152.5×(2m’−1)より、m’〜11となり、8以上となるので非干渉条件を満たす。
反射層からの各積層材料構成:EML+ETL+EIL+ITO+HTL+EML+ETL+EIL+ITO+保護層
Lt=Lg+1.9×(20+10+20+140+10+40+10+10+40+1200)=3236=152.5×(2m’−1)より、m’〜11となり、8以上となるので非干渉条件を満たす。
同様な計算を緑、青について行うと、m’の値はそれぞれ12,14となり,赤の場合と同様に8以上となるので非干渉条件を満たす。
比較例としては保護層の厚みを実施例の1200nmに対して500nmとした時、同様な計算により赤の場合m〜7となり非干渉条件を満たさない。
比較例としては保護層の厚みを実施例の1200nmに対して500nmとした時、同様な計算により赤の場合m〜7となり非干渉条件を満たさない。
以上より、本実施例の表示装置は干渉条件式を満たし、青についてはλ/4設計、緑については3λ/4設計,赤については5λ/4設計で色設計が行なえることがわかる。
このように得られた表示装置を正面から見たところ、各色ともに発光効率が高く、良好な色度の発光色を得た。また、斜めから見たところ、良好な視野角特性であった。
一方比較例の表示装置は、色再現範囲が狭く、この表示装置を斜めから見たところ、色ずれがあることを確認した。
1 基板
2 第1反射電極
3 第1EL層
4 第2電極
5 第2EL層
6 第3電極
7 素子分離膜
8 第4電極
9 保護層
10 支持体
11 TFT駆動回路
12 平坦化膜
13 コンタクトホール
31 第1EL層
51 第2EL層
2 第1反射電極
3 第1EL層
4 第2電極
5 第2EL層
6 第3電極
7 素子分離膜
8 第4電極
9 保護層
10 支持体
11 TFT駆動回路
12 平坦化膜
13 コンタクトホール
31 第1EL層
51 第2EL層
Claims (4)
- 基板と、
前記基板上に形成された反射電極及び光取り出し電極と、
前記電極間に配置され、夫々が一対の電極に狭持された、複数の積層されたEL層とを有する積層型発光表示装置において、
前記EL層の発光領域と反射電極の反射面との間の光学的距離は、発光色毎に干渉条件式(1)を満たし、
前記光取り出し電極側の反射界面と前記反射電極の反射面との間の光学的距離は、干渉条件式(2)を満たすか、或いは前記条件式(3)を満たし、且つm’が8以上であるように構成されていること特徴とする積層型発光表示装置。
2L/λ+δ/2π=m 干渉条件式(1)
Lt=(λ/2)・k 干渉条件式(2)
2Lt/λ+δ/2π=m’ 干渉条件式(3)
(式中、Lは反射電極の反射面と発光層の発光領域の間の光学的距離、Ltは反射電極の反射面と光取り出し電極側の反射界面との間の光学的距離、λは取り出される光のピーク波長、δは反射電極における位相シフト量であり、m、m’、kは整数) - トップエミッション型の積層型発光表示装置であって、
前記反射電極は前記EL層に対して前記基板側に配置され、前記光取り出し電極は前記EL層に対して前記基板と反対側に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の積層型発光表示装置。 - ボトムエミッション型の積層型発光表示装置であって、
前記光取り出し電極は前記EL層に対して前記基板側に配置され、前記反射電極は前記EL層に対して前記基板と反対側に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の積層型発光表示装置。 - 前記EL層を狭持する一対の電極のうち、少なくとも一方は共通電極であることを特徴とする請求項1に記載の積層型発光表示装置。
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Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102479799A (zh) * | 2010-11-30 | 2012-05-30 | 佳能株式会社 | 显示装置 |
WO2012108482A1 (en) * | 2011-02-11 | 2012-08-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device and display device |
KR20120092518A (ko) * | 2011-02-11 | 2012-08-21 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 발광 장치 및 표시 장치 |
CN102683612A (zh) * | 2011-03-17 | 2012-09-19 | 索尼公司 | 发光器件、照明设备和显示设备 |
JP2012182122A (ja) * | 2011-02-11 | 2012-09-20 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光素子及び表示装置 |
JP2012238589A (ja) * | 2011-04-29 | 2012-12-06 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光素子、発光装置及び照明装置 |
US9172059B2 (en) | 2011-02-11 | 2015-10-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device and electronic device using light-emitting device |
US9287332B2 (en) | 2011-04-08 | 2016-03-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device comprising light-emitting elements having different optical path lengths |
JP2017041456A (ja) * | 2011-08-04 | 2017-02-23 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光装置 |
US9653517B2 (en) | 2014-08-08 | 2017-05-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device |
US11903232B2 (en) | 2019-03-07 | 2024-02-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device comprising charge-generation layer between light-emitting units |
-
2008
- 2008-06-20 JP JP2008162307A patent/JP2010003577A/ja active Pending
Cited By (43)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8729789B2 (en) | 2010-11-30 | 2014-05-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Display apparatus |
CN102479799A (zh) * | 2010-11-30 | 2012-05-30 | 佳能株式会社 | 显示装置 |
KR101942840B1 (ko) | 2011-02-11 | 2019-01-28 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 발광 장치 및 표시 장치 |
KR20190083631A (ko) * | 2011-02-11 | 2019-07-12 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 발광 장치 및 표시 장치 |
JP2012182125A (ja) * | 2011-02-11 | 2012-09-20 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 表示装置 |
EP2487719A3 (en) * | 2011-02-11 | 2018-02-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device and display device |
JP2012182122A (ja) * | 2011-02-11 | 2012-09-20 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光素子及び表示装置 |
US9935158B2 (en) | 2011-02-11 | 2018-04-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device and display device |
KR20120092518A (ko) * | 2011-02-11 | 2012-08-21 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 발광 장치 및 표시 장치 |
US11031439B2 (en) | 2011-02-11 | 2021-06-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device and display device |
US9000458B2 (en) | 2011-02-11 | 2015-04-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting element, light-emitting device, and display device |
US9006755B2 (en) | 2011-02-11 | 2015-04-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device and display device |
US9172059B2 (en) | 2011-02-11 | 2015-10-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device and electronic device using light-emitting device |
US10741619B2 (en) | 2011-02-11 | 2020-08-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device and display device |
US9450209B2 (en) | 2011-02-11 | 2016-09-20 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting element, light-emitting device, and display device |
US9461092B2 (en) | 2011-02-11 | 2016-10-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device and display device |
US9472601B2 (en) | 2011-02-11 | 2016-10-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device and display device |
JP2016225313A (ja) * | 2011-02-11 | 2016-12-28 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光素子及び発光装置 |
KR102071546B1 (ko) | 2011-02-11 | 2020-01-30 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 발광 장치 및 표시 장치 |
US10461134B2 (en) | 2011-02-11 | 2019-10-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device and display device |
KR20190120734A (ko) * | 2011-02-11 | 2019-10-24 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 발광 장치 및 표시 장치 |
KR102035129B1 (ko) | 2011-02-11 | 2019-10-22 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 발광 소자, 발광 장치 및 표시 장치 |
JP2012182126A (ja) * | 2011-02-11 | 2012-09-20 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 表示装置 |
US8957442B2 (en) | 2011-02-11 | 2015-02-17 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device and display device |
KR102034076B1 (ko) | 2011-02-11 | 2019-10-18 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 발광 장치 및 표시 장치 |
JP2018081939A (ja) * | 2011-02-11 | 2018-05-24 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光素子及び発光装置 |
KR20180087882A (ko) * | 2011-02-11 | 2018-08-02 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 발광 소자, 발광 장치 및 표시 장치 |
KR101896458B1 (ko) * | 2011-02-11 | 2018-09-07 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 발광 장치 및 표시 장치 |
US10084156B2 (en) | 2011-02-11 | 2018-09-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting element, light-emitting device, and display device |
KR101914577B1 (ko) | 2011-02-11 | 2018-11-02 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 발광 소자, 발광 장치 및 표시 장치 |
WO2012108482A1 (en) * | 2011-02-11 | 2012-08-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device and display device |
KR20190010690A (ko) * | 2011-02-11 | 2019-01-30 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 발광 장치 및 표시 장치 |
KR101999238B1 (ko) | 2011-02-11 | 2019-07-11 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 발광 장치 및 표시 장치 |
CN102683612A (zh) * | 2011-03-17 | 2012-09-19 | 索尼公司 | 发光器件、照明设备和显示设备 |
US10431632B2 (en) | 2011-04-08 | 2019-10-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device, electronic appliance, and lighting device |
US9847379B2 (en) | 2011-04-08 | 2017-12-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device, electronic appliance, and lighting device comprising a light-emitting element having optimized optical path length |
US9287332B2 (en) | 2011-04-08 | 2016-03-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device comprising light-emitting elements having different optical path lengths |
JP2012238589A (ja) * | 2011-04-29 | 2012-12-06 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光素子、発光装置及び照明装置 |
US9559325B2 (en) | 2011-04-29 | 2017-01-31 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device having stacked light-emitting layers |
JP2017041456A (ja) * | 2011-08-04 | 2017-02-23 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光装置 |
US9653517B2 (en) | 2014-08-08 | 2017-05-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device |
US9917271B2 (en) | 2014-08-08 | 2018-03-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device |
US11903232B2 (en) | 2019-03-07 | 2024-02-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device comprising charge-generation layer between light-emitting units |
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