WO2012115392A2 - 양면 구조를 가지는 태양전지 및 이의 제조방법 - Google Patents

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Definitions

  • the present invention relates to a solar cell, and more particularly to a double-sided solar cell and a method of manufacturing the photovoltaic structure is formed on both sides of the substrate.
  • Korean Patent Publication No. 2010-97549 discloses a technique of forming a nanowire of zinc oxide on a substrate and using a thin film silicon layer thereon.
  • US Patent No. 7653560 discloses a structure in which a lower electrode is formed of conductive nanowires and a semiconductor layer is stacked thereon.
  • the solar cell using the nanostructure has a relatively large surface area and has a short diffusion distance with respect to the source carrier, thereby contributing to the smooth transport of electric charges, thereby reducing power loss due to the internal resistance of the solar cell. There is this.
  • the first object of the present invention to solve the above problems is to provide a solar cell that can absorb light of different wavelengths through the double-sided nanostructure.
  • a second object of the present invention is to provide a method of manufacturing a solar cell used to achieve the first object.
  • the present invention for achieving the first object, the first photovoltaic layer formed on the substrate for absorbing light of a short wavelength; And a second photovoltaic layer facing the first photovoltaic layer around the substrate and including a second photovoltaic layer for absorbing long wavelength light.
  • the present invention for achieving the second object, forming a first cathode and a second cathode of a transparent conductive material facing each other on a substrate; Forming a first nanowire of zinc oxide nanostructures on the first cathode and forming a second nanowire of zinc oxide nanostructures on the second cathode; Forming a first hole transport layer including CuInS 2 (CIS) on the first nanowire; Forming a second hole transport layer comprising CuInGaS 2 (CIGS) on the second nanowire at a position opposite the first hole transport layer; Forming a first anode on the first hole transport layer; And it provides a method of manufacturing a solar cell having a double-sided nanostructure comprising the step of forming a second anode on the second hole transport layer opposed to the first anode.
  • CIS CuInS 2
  • CGS CuInGaS 2
  • the nanostructure is formed on both sides of the substrate, the light absorption operation occurs through both sides.
  • the present invention has the advantage that can absorb light of a wide range of wavelengths from one light source as forming a nanostructure on both sides of the substrate. Therefore, the photovoltaic efficiency of the solar cell can be maximized.
  • the zinc oxide nanowires using an electrochemical deposition method, it is possible to form nanowires of uniform size and density on both sides of the substrate, the formed nanowires increase the transport efficiency of the charge in the solar cell Power loss can be minimized.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing a solar cell having a double-sided nanostructure in accordance with a preferred embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 to 6 are cross-sectional views illustrating a method for manufacturing the solar cell of FIG. 1 in accordance with a preferred embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing a solar cell having a double-sided nanostructure in accordance with a preferred embodiment of the present invention.
  • the solar cell of the present invention has a substrate 100, a first photovoltaic layer 200, and a second photovoltaic layer 300.
  • the first photovoltaic layer 200 faces the second photovoltaic layer 300 around the substrate 100.
  • the first photovoltaic layer 200 has a first cathode 210, a first nanowire 220, a first hole transport layer 230, and a first anode 240.
  • the first cathode 210 is formed on the substrate 100 of a transparent material.
  • the first cathode 210 is a conductor made of a transparent material.
  • the first cathode 210 may be ITO, AZO (Al-doped ZnO), GZO (Ga-doped ZnO), MGO (Mg-doped ZnO), or Mo-doped ZnO (molybdenum-doped zinc oxide). have.
  • a first nanowire 220 is formed on the first cathode 210.
  • the first nanowire 220 preferably includes zinc oxide.
  • the zinc oxide transfers electrons generated at the interface with the first hole transport layer 220 or the first hole transport layer 220 to the lower first cathode 210.
  • the first nanowire 220 of zinc oxide may have a regular shape or an irregular shape.
  • the first nanowire 220 is oriented perpendicular to the plane formed by the first cathode 210, but according to the manufacturing method of the first nanowire 220, the first nanowire 220.
  • the 220 may be formed at various angles on the plane of the first cathode 210.
  • a seed layer of zinc oxide may be formed between the first nanowire 220 and the first cathode 210. The seed layer induces growth of the first nanowire 220 of zinc oxide in a subsequent process.
  • the first hole transport layer 230 is formed on the first nanowire 220.
  • the first hole transport layer 230 is formed while filling the space between the first nanowire 220 which is a zinc oxide nanowire.
  • the first hole transport layer 230 may include CuInS 2 (CIS).
  • the first hole transport layer 230 may be attached to the first nanowire 220 in the form of nanoparticles, and fills the separation space in a form attached to the first nanowire 220.
  • the first hole transport layer 230 includes the CIS nanoparticles on the first nanowire 220, which preferably exists in the form of a thin film by planar arrangement.
  • the first anode 240 is provided on the first hole transport layer 230.
  • the first anode 240 is a transparent conductive material, and may include NiO, graphene, CNT, or fullerene.
  • the second photovoltaic layer 300 includes a second cathode 310, a second nanowire 320, a second hole transport layer 330, and a second anode 340.
  • the second cathode 310 is formed on the transparent substrate 100 and faces the first cathode 310 and the substrate 100.
  • the second cathode 310 is shown to be formed on the lower surface of the substrate 100.
  • another film quality formed on a specific substrate or film quality surface is expressed as "formed on”. Therefore, the expression that the second cathode 310 is formed on the substrate 100 may be formed on the surface of the substrate 100, or may be formed on the surface of the interposed film quality by interfering with another film quality on the substrate 100. It should be construed as including all. The interpretation of the above expression applies equally throughout the present invention.
  • the second cathode 310 formed on the substrate 100 is a transparent conductor. Therefore, the second cathode 310 may have the same material as the first cathode 210 of the first photovoltaic layer 200. That is, the second cathode 310 may be ITO, AZO (Al-doped ZnO), GZO (Ga-doped ZnO), MGO (Mg-doped ZnO), or Mo-doped ZnO (molybdenum-doped zinc oxide). have.
  • a second nanowire 320 is formed on the second cathode 310.
  • the second nanowire 320 preferably includes zinc oxide.
  • the zinc oxide transfers electrons generated at the interface with the second hole transport layer 330 or the second hole transport layer 330 to the second cathode 310.
  • the second nanowire 320 of zinc oxide may have a regular shape or an irregular shape.
  • the second nanowire 320 is oriented perpendicular to the plane formed by the second cathode 310, but according to the manufacturing method of the second nanowire 320.
  • the 320 may be formed at various angles on the plane of the second cathode 310.
  • a seed layer made of zinc oxide may be formed between the second nanowire 320 and the second cathode 310. The seed layer induces the growth of the second nanowire 320 of zinc oxide in a subsequent process.
  • the second hole transport layer 330 is formed on the second nanowire 320.
  • the second hole transport layer 330 is formed while filling the spaced space between the second nanowire 320 which is a zinc oxide nanowire.
  • the second hole transport layer 330 may include CuInGaS 2 (CIGS).
  • the second hole transport layer 330 may be attached to the second nanowire 320 in the form of nanoparticles, and fill the separation space in the form attached to the second nanowire 320.
  • the second hole transport layer 330 is preferably present in the form of a thin film on the second nanowire 320 by the planar arrangement of the nanoparticles.
  • the second anode 340 is provided on the second hole transport layer 330.
  • the second anode 340 is a transparent conductive material, and may include Mo, Al, Au, Cu, Pt, Ag, W, Ni, Zn, Ti, Zr, Hf, Cd, or Pb.
  • FIG. 2 to 6 are cross-sectional views illustrating a method for manufacturing the solar cell of FIG. 1 in accordance with a preferred embodiment of the present invention.
  • first and second cathodes 210 and 310 are formed on both surfaces of the transparent substrate 100.
  • the first cathode 210 and the second anode 310 are formed of a transparent conductive material. Accordingly, the first cathode 210 and the second cathode 310 are doped with ITO, AZO (Al-doped ZnO), GZO (Ga-doped ZnO), MGO (Mg-doped ZnO), or Mo-doped ZnO (molybdenum). Zinc oxide). Formation of the first cathode 210 and the second cathode 310 is according to a conventional deposition method.
  • first nanowires 220 and second nanowires 320 are formed on the first and second cathodes 210 and 310, respectively.
  • first nanowire 220 is formed on the first cathode 210
  • second nanowire 320 is formed on the second cathode 310.
  • Each of the nanowires 220 and 320 is formed in the form of zinc oxide nanowires.
  • the zinc oxide nanowires are formed through a method such as hydrothermal synthesis. That is, zinc oxide nanowires may be formed by immersion and heating in a zinc oxide precursor solution.
  • the zinc oxide nanowires may also be formed through electrochemical deposition. For example, after immersing the substrate disclosed in FIG. 2 in a zinc oxide precursor solution, an electrode is introduced into the zinc oxide precursor solution, and an electrode is introduced into the first cathode 210 and the second cathode 310 to apply the voltage.
  • the first nanowire 220 may be formed on the first cathode 210 and the second nanowire 320 may be formed on the second cathode 310 by the behavior of zinc ions.
  • the first nanowire 220 and the second nanowire 320 which are formed zinc oxide nanowires, may have a shape protruding from the substrate 100, and may have a predetermined spaced space between the nanowires 220 and 320. .
  • the first hole transport layer 230 is formed on the first nanowire 220.
  • the first hole transport layer 230 has a CIS.
  • the first hole transport layer 230 is preferably formed by spin coating a solution in which CIS nanoparticles are dispersed.
  • the second nanowire 320 formed on the back surface of the substrate 100 must be shielded in advance.
  • the second nanowire 320 may be shielded by using a chemically stable polymer film.
  • the solution in which the CIS nanoparticles are dispersed may be prevented from penetrating onto the second nanowire 320. If necessary, the spin coating process may be repeated several times.
  • a second hole transport layer 330 is formed on the second nanowire 320.
  • the second hole transport layer 330 may be formed through spin coating of a solution in which CIGS nanoparticles are dispersed.
  • the polymer film attached to the second hole transport layer 330 in FIG. 4 is removed, and the first hole transport layer 230 is removed.
  • a first anode 240 is formed on the first hole transport layer 230, and a second anode 340 is formed on the second hole transport layer 330.
  • the other anode corresponding thereto is preferably shielded through a polymer film or the like.
  • the first anode 240 is formed of NiO, graphene, carbon nanotubes, fullerene or fullerene composite
  • the second hole transport layer 330 is shielded with a polymer film or the like.
  • the second anode 340 may be formed.
  • the first anode 240 may be shielded. Therefore, the second anode 340 is formed on the second hole transport layer 330.
  • the second anode 340 may include Mo, Al, Au, Cu, Pt, Ag, W, Ni, Zn, Ti, Zr, Hf, Cd, or Pb.
  • the first anode 240 and the second anode 340 may be formed through a conventional deposition method.
  • the first anode 340 and the second anode 340 need a shape having a predetermined pattern
  • the first anode 340 and the second anode 340 are formed by etching using a deposition and photolithography process. Can be.
  • a pattern of the first anode 240 and the second anode 340 may be formed through a deposition process using a deposition shadow mask.
  • the first anode 240 and the second anode 340 may also be formed through a lift-off process using the formation of the photoresist pattern, the deposition of the anode material, and the removal of the photoresist pattern.
  • a substrate having a first cathode and a second cathode formed thereon is prepared.
  • the substrate is glass, and the first cathode and the second cathode are formed of ITO.
  • the remaining washing solution with deionized water is removed.
  • the substrate is completely dried using N 2 gas.
  • Zinc oxide precursor solution is prepared to perform electrochemical deposition on the ITO surface.
  • the first nanowire and the second nanowire are formed through electrochemical deposition.
  • KCl acts as a mediator to promote the reaction.
  • a hydrate, Zn (NO 3 ) 2 .6H 2 O is formed, which acts as a precursor of Zn 2+ in electrochemical deposition.
  • a substrate on which ITO is formed is introduced into the formed zinc oxide precursor solution, and zinc oxide nanowires are formed to form first nanowires and second nanowires on both sides of the substrate.
  • Three electrodes are used for the electrochemical deposition of zinc oxide nanowires.
  • a working electrode is connected to the ITO, a counter electrode is connected to the platinum electrode, and a saturated calomel electrode is introduced into the precursor solution to serve as a reference electrode.
  • a voltage of ⁇ 1.1 V is applied at 70 ° C. for 4 hours, and zinc oxide nanowires are formed on ITO.
  • zinc oxide nanowires are formed on both sides of the substrate to simultaneously form the first nanowire and the second nanowire.
  • the zinc oxide nanowires grown through rapid heat treatment at 400 ° C. for 2 minutes in the air are structurally stabilized.
  • a chlorobenzene solution in which the CIS nanoparticles are dispersed is applied onto the substrate by spin coating at 1500 rpm for 1 minute.
  • the solvent may be removed to attach the CIS nanoparticles to the zinc oxide nanowires, and a thin film may be formed on the zinc oxide nanowires.
  • the opposite side of the substrate is covered with parafilm and the edges are sealed with an adhesive tape to prevent penetration of the chlorobenzene solution during spin coating.
  • spin coating using a chlorobenzene solution in which the CIS nanoparticles are dispersed may be performed to induce the formation of a thin thin film on the zinc oxide nanowire or to control the thickness of the thin film.
  • the parafilm adhered to the back side of the substrate is removed, and the parafilm is adhered onto the first hole transport layer composed of the CIS thin film.
  • the CIGS nanoparticles are dispersed in a chlorobenzene solution and the dispersion is spin coated on the back of the substrate at 1500 rpm for about 1 minute. After spin coating, heat is removed to remove the solvent, and the CIGS nanoparticles fill a space between the second nanowires and are adsorbed onto the surface of the second nanowires. CIGS nanoparticles may be applied in the form of a thin film on top of the second nanowire depending on the degree and the number of spin coating.
  • the spin coating is performed several times so that the CIGS nanoparticles fill a space between the second nanowires and have a thin film thereon.
  • a second hole transport layer having a CIGS is formed.
  • a highly doped p-type NiO thin film is deposited on the CIS nanoparticle thin film, which is the first hole transport layer, to form a transparent first anode.
  • a Mo electrode is formed on the CIGS nanoparticle thin film, which is the second hole transport layer on the opposite side, to form a second anode.
  • photovoltaic layers are formed on both sides of the substrate to absorb light having different wavelengths.
  • the CIS nanoparticles attached to the first nanowire 220 which is a zinc oxide nanowire formed on the front surface of the substrate 100, have an electron affinity higher than that of zinc oxide, the CIS / zinc oxide interface is formed by light absorption. Electrons and holes can be easily separated from excitons. Thus, electrons separated from the electron-hole pair are transported to the first cathode 210 through the zinc oxide nanowires. In addition, holes are transported to the first anode 240 through the first hole transport layer 230 of the CIS material formed on the first nanowire 220 of zinc oxide. In addition to the function of transporting holes, the first hole transport layer 230 also serves as an electron blocking layer that prevents electrons from leaking to the first anode 240.
  • the energy band of the CIS is larger than the CIGS, light having a short wavelength having high energy is absorbed by the first photovoltaic layer 200.
  • the low energy long wave band of light that is not absorbed passes through the first anode 240 and the substrate 100 and is absorbed by the second photovoltaic layer 300.
  • the second hole transport layer 330 of the CIGS nanoparticles attached to the second nanowire 320 of the second photovoltaic layer 300 absorbs light having a long wavelength and is separated from the light by the same mechanism as the aforementioned CIS nanoparticles. Form an electron-hole pair. Electrons in the formed electron-hole pair are transmitted to the second cathode 310 through the second nanowire 320 made of zinc oxide, and the holes are formed in the second hole transport layer 330 which serves as an electron blocking layer. It is delivered to the second anode 340 through.
  • the nanostructure is formed on both sides of the substrate, the light absorption operation occurs through both sides.
  • the present invention has the advantage that can absorb light of a wide range of wavelengths from one light source as forming a nanostructure on both sides of the substrate. Therefore, the photovoltaic efficiency of the solar cell can be maximized.
  • the zinc oxide nanowires using an electrochemical deposition method, it is possible to form nanowires of uniform size and density on both sides of the substrate, the formed nanowires increase the transport efficiency of the charge in the solar cell Power loss can be minimized.

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Abstract

투명한 기판의 양면에 나노 구조를 가지는 태양전지 및 이의 제조방법이 개시된다. 기판을 중심으로 서로 대향하며, 전자를 수송하기 위한 구조는 산화아연 나노선으로 형성된다. 또한, 단파장의 빛을 흡수하고, 발생된 정공을 전달하기 위해 CIS 나노입자를 이용한 정공전달층이 형성된다. CIS 나노입자로 구성된 정공전달층과 대향하는 측에는 비교적 장파장의 빛을 흡수하기 위해 CIGS 나노입자를 포함하는 정공전달층이 형성된다.

Description

양면 구조를 가지는 태양전지 및 이의 제조방법
본 발명은 태양전지에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 기판의 양면에 광발전 구조가 형성된 양면형 태양전지 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
화석 연료를 대체하는 새로운 재생 에너지 자원에 대한 연구는 최근에 중요한 화두로 자리잡고 있다. 연구가 진행 중인 재생 에너지 자원들 중에서 광발전, 즉 태양전지 관련 기술은 태양이라는 무한한 에너지원과 공해가 없는 청정 에너지원이라는 장점을 가진다.
반면, 태양전지가 가지는 높은 제품단가와 낮은 발전효율은 태양전지를 이용한 대규모의 전력생산의 단점으로 작용한다. 이를 해결하기 위해 새로운 소재 및 구조에 대한 연구가 진행되고 있으며, CuInS2(CIS) 및 CuInGaSe2(CIGS) 등의 화합물을 이용한 태양전지가 제시되었다. 상기 두물질은 모두 5X105cm-1 의 높은 광흡수율을 가지며, CIS는 1.5 eV, CIGS는 1.36 eV의 에너지 대역을 가진다. 또한, 상기 물질들은 독성이 적으므로 박막형 태양전지로의 활용도가 높은 것으로 평가받고 있다.
또한, 소재적 측면 이외에 구조적 측면에서 기존의 박막 구조가 아닌 나노 입자 또는 나노 와이어와 같이 양자효과가 나타나는 나노 구조를 이용한 태양전지가 제시되었다.
대한민국 공개특허 제2010-97549호는 기판 상에 산화아연의 나노와이어를 형성하고, 그 상부에 박막 실리콘층을 이용하는 기술을 개시하고 있다. 또한, 미국 등록특허 제7653560호는 하부전극을 도전성 나노와이어로 형성하고, 그 상부에 반도체층을 적층하는 구조를 개시하고 있다.
상기 나노 구조를 이용한 태양전지는 상대적으로 큰 표면적을 확보할 수 있으며, 소스 캐리어에 대해 짧은 확산 거리를 가지므로, 전하의 원활한 수송에 기여하여 태양전지 내부 저항에 의한 전력 손실을 감소시킬 수 있는 잇점이 있다.
다만, 나노 구조를 사용하는 태양전지의 경우, 서로 다른 파장대의 빛을 흡수할 수 없는 문제가 있으며, 이를 해결하기 위해 다층 구조를 이용하는 경우, 물질간의 격자 상수 및 나노 구조에서 발생되는 근본적인 제한으로 인해 실질적인 다층 구조를 형성할 수 없는 문제점이 발생한다.
따라서, 높은 표면적을 확보하고, 서로 다른 파장대의 빛을 흡수할 수 있는 태양전지의 구조가 요청된다 할 것이다.
상술한 문제점을 해결하기 위해 본 발명의 제1 목적은 양면 나노구조를 통해 서로 다른 파장대의 빛을 흡수할 수 있는 태양전지를 제공하는데 있다.
또한, 본 발명의 제2 목적은 상기 제1 목적을 달성하기 위해 사용되는 태양전지의 제조방법을 제공하는데 있다.
상기 제1 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 기판 상에 형성되고 단파장의 빛을 흡수하기 위한 제1 광발전층; 및 상기 기판을 중심으로 상기 제1 광발전층과 대향하고 장파장의 빛을 흡수하기 위한 제2 광발전층을 포함하는 양면 나노구조를 가지는 태양전지를 제공한다.
또한, 상기 제2 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 기판 상에 서로 대향하는 투명 전도성 재질의 제1 음극과 제2 음극을 형성하는 단계; 상기 제1 음극 상에 산화아연 나노구조체인 제1 나노선을 형성하고, 상기 제2 음극 상에 산화아연 나노구조체인 제2 나노선을 형성하는 단계; 상기 제1 나노선 상에 CuInS2(CIS)를 포함하는 제1 정공전달층을 형성하는 단계; 상기 제1 정공전달층과 대향하는 위치인 상기 제2 나노선 상에 CuInGaS2(CIGS)를 포함하는 제2 정공전달층을 형성하는 단계; 상기 제1 정공전달층 상에 제1 양극을 형성하는 단계; 및 상기 제1 양극에 대항하는 제2 정공전달층 상에 제2 양극을 형성하는 단계를 포함하는 양면 나노구조를 가지는 태양전지의 제조방법을 제공하는데 있다.
상술한 본 발명에 따르면, 기판 양면에는 나노 구조가 형성되고, 양면을 통한 빛의 흡수 동작이 일어난다. 기존의 텐덤형 태양전지가 다층으로 적층된 구조로 인해 여러 문제가 발생하는데 비해 본 발명은 기판의 양면에 나노 구조를 형성함에 따라 하나의 광원으로부터 광범위한 파장대의 빛을 흡수할 수 있는 잇점이 있다. 따라서, 태양전지의 광발전 효율을 극대화할 수 있다.
또한, 기판 양면에 독립적인 광발전층이 형성됨으로써 기존의 텐덤 구조에서 발생되는 직렬 연결에 기인하는 내부 저항의 발생은 최소화된다. 내부 저항은 태양전지의 전력손실을 유발하는 일요인으로 알려져 있다.
또한, 산화아연 나노선을 전기화학적 증착법을 이용하여 형성함으로써, 균일한 크기와 밀도의 나노선들을 기판의 양면에 형성할 수 있으며, 형성된 나노선들은 전하의 수송 효율을 증가시켜 태양전지 내부에서의 전력 손실을 최소화할 수 있다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따라 양면 나노구조를 가지는 태양전지를 도시한 단면도이다.
도 2 내지 도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따라 도 1의 태양전지를 제조하기 위한 방법을 도시한 단면도들이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다.
실시예
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따라 양면 나노구조를 가지는 태양전지를 도시한 단면도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 태양전지는 기판(100), 제1 광발전층(200) 및 제2 광발전층(300)을 가진다.
제1 광발전층(200)은 기판(100)을 중심으로 제2 광발전층(300)과 대향한다.
예컨대, 상기 제1 광발전층(200)은 제1 음극(210), 제1 나노선(220), 제1 정공전달층(230) 및 제1 양극(240)을 가진다.
상기 제1 음극(210)은 투명 재질의 기판(100) 상에 형성된다. 또한, 상기 제1 음극(210)은 투명재질의 도전체이다. 따라서, 상기 제1 음극(210)은 ITO, AZO(Al-doped ZnO), GZO(Ga-doped ZnO), MGO(Mg-doped ZnO) 또는 Mo-doped ZnO(몰리브덴이 도핑된 산화아연)일 수 있다.
또한, 상기 제1 음극(210) 상에는 제1 나노선(220)이 형성된다. 상기 제1 나노선(220)은 산화아연을 포함함이 바람직하다. 상기 산화아연은 제1 정공전달층(220) 또는 제1 정공전달층(220)과의 계면에서 발생되는 전자를 하부의 제1 음극(210)으로 전달한다. 산화아연 재질의 제1 나노선(220)은 규칙적인 형상 또는 불규칙적인 형상을 가질 수 있다.
본 발명의 상기 도 1에서는 제1 나노선(220)이 제1 음극(210)이 이루는 평면에 수직으로 배향된 것으로 개시되나, 제1 나노선(220)의 제조방법에 따라 상기 제1 나노선(220)은 제1 음극(210)이 이루는 평면에 다양한 각도로 형성될 수 있다. 또한, 실시의 형태에 따라 제1 나노선(220)과 제1 음극(210) 사이에는 산화아연 재질의 씨드층이 형성될 수 있다. 상기 씨드층은 이후의 공정에서 산화아연의 제1 나노선(220)의 성장을 유도한다.
제1 나노선(220) 상에는 제1 정공전달층(230)이 형성된다. 상기 제1 정공전달층(230)은 산화아연 나노선인 제1 나노선(220) 사이의 이격공간을 매립하면서 형성된다. 특히, 상기 제1 정공전달층(230)은 CuInS2(CIS)를 포함할 수 있다. 또한, 상기 제1 정공전달층(230)은 나노입자의 형태로 제1 나노선(220)에 부착될 수 있으며, 제1 나노선(220)에 부착된 형태로 이격공간을 매립한다. 또한, 상기 제1 정공전달층(230)은 제1 나노선(220) 상부의 CIS 나노입자들을 포함하며, 이는 평면적 배치에 의한 박막의 형태로 존재함이 바람직하다.
상기 제1 정공전달층(230) 상에는 제1 양극(240)이 구비된다. 상기 제1 양극(240)은 투명전도성 재질로, NiO, 그라핀, CNT 또는 풀러렌을 포함할 수 있다.
계속해서 제2 광발전층(300)은 제2 음극(310), 제2 나노선(320), 제2 정공전달층(330) 및 제2 양극(340)을 가진다.
상기 제2 음극(310)은 투명 재질의 기판(100) 상에 형성되고, 제1 음극(310)과 기판(100)을 중심으로 대항한다. 상기 도 1에서 실질적으로 제2 음극(310)은 기판(100)의 하부 표면에 형성되는 것으로 도시된다. 다만, 본 발명에서는 특정의 기판 또는 막질 표면에 형성되는 또 다른 막질을 "~상에 형성된다"라고 표현하는 것에 불구하다. 따라서, 제2 음극(310)이 기판(100) 상에 형성된다는 표현은 기판(100)의 표면에 형성되거나, 기판(100)에 다른 막질이 개입되고, 개입된 막질의 표면에 형성되는 현상을 모두 포함하는 것으로 해석되어야 한다. 상술한 표현의 해석은 본 발명의 전체를 통해 동일하게 적용된다.
기판(100) 상에 형성된 제2 음극(310)은 투명재질의 도전체이다. 따라서, 상기 제2 음극(310)은 제1 광발전층(200)의 제1 음극(210)과 동일한 재질을 가질 수 있다. 즉, 상기 제2 음극(310)은 ITO, AZO(Al-doped ZnO), GZO(Ga-doped ZnO), MGO(Mg-doped ZnO) 또는 Mo-doped ZnO(몰리브덴이 도핑된 산화아연)일 수 있다.
또한, 상기 제2 음극(310) 상에는 제2 나노선(320)이 형성된다. 상기 제2 나노선(320)은 산화아연을 포함함이 바람직하다. 상기 산화아연은 제2 정공전달층(330) 또는 제2 정공전달층(330)과의 계면에서 발생되는 전자를 제2 음극(310)으로 전달한다.
산화아연 재질의 제2 나노선(320)은 규칙적인 형상 또는 불규칙적인 형상을 가질 수 있다. 본 발명의 상기 도 1에서는 제2 나노선(320)이 제2 음극(310)이 이루는 평면에 수직으로 배향된 것으로 개시되나, 제2 나노선(320)의 제조방법에 따라 상기 제2 나노선(320)은 제2 음극(310)이 이루는 평면에 다양한 각도로 형성될 수 있다. 또한, 실시의 형태에 따라 제2 나노선(320)과 제2 음극(310) 사이에는 산화아연 재질의 씨드층이 형성될 수 있다. 상기 씨드층은 이후의 공정에서 산화아연의 제2 나노선(320)의 성장을 유도한다.
제2 나노선(320) 상에는 제2 정공전달층(330)이 형성된다. 상기 제2 정공전달층(330)은 산화아연 나노선인 제2 나노선(320) 사이의 이격공간을 매립하면서 형성된다. 특히, 상기 제2 정공전달층(330)은 CuInGaS2(CIGS)를 포함할 수 있다. 또한, 상기 제2 정공전달층(330)은 나노입자의 형태로 제2 나노선(320)에 부착될 수 있으며, 제2 나노선(320)에 부착된 형태로 이격공간을 매립한다. 또한, 상기 제2 정공전달층(330)은 제2 나노선(320) 상에서는 나노입자들의 평면적 배치에 의해 박막의 형태로 존재함이 바람직하다.
상기 제2 정공전달층(330) 상에는 제2 양극(340)이 구비된다. 상기 제2 양극(340)은 투명전도성 재질로, Mo, Al, Au, Cu, Pt, Ag, W, Ni, Zn, Ti, Zr, Hf, Cd 또는 Pb를 포함할 수 있다.
도 2 내지 도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따라 도 1의 태양전지를 제조하기 위한 방법을 도시한 단면도들이다.
도 2를 참조하면, 투명한 기판(100)의 양면에 제1 음극(210) 및 제2 음극(310)을 형성한다. 상기 제1 음극(210) 및 제2 음극(310)은 투명재질의 전도성 물질로 형성된다. 따라서, 제1 음극(210) 및 제2 음극(310)은 ITO, AZO(Al-doped ZnO), GZO(Ga-doped ZnO), MGO(Mg-doped ZnO) 또는 Mo-doped ZnO(몰리브덴이 도핑된 산화아연)을 포함한다. 상기 제1 음극(210) 및 제2 음극(310)의 형성은 통상의 증착법에 따른다.
도 3을 참조하면, 도 2에 형성된 제1 음극(210) 및 제2 음극(310) 상에 각각 제1 나노선(220) 및 제2 나노선(320)이 형성된다.
즉, 제1 음극(210) 상에는 제1 나노선(220)이 형성되고, 제2 음극(310) 상에는 제2 나노선(320)이 형성된다. 각각의 나노선들(220, 320)은 산화아연 나노선의 형태로 형성된다.
상기 산화아연 나노선은 수열합성법 등의 방법을 통해서 형성된다. 즉, 산화아연 전구체 용액에로의 침지와 가열을 통해 산화아연 나노선을 형성할 수 있다.
또한, 상기 산화아연 나노선은 전기화학적 증착을 통해서도 형성될 수 있다. 예컨대, 산화아연 전구체 용액에 상기 도 2에 개시된 기판을 침지한 후, 산화아연 전구체 용액에 전극을 투입하고, 제1 음극(210) 및 제2 음극(310)에 전극을 투입하여 인가되는 전압에 따른 아연 이온의 거동에 의해 제1 음극(210) 상에 제1 나노선(220)을 형성하고, 제2 음극(310) 상에 제2 나노선(320)을 형성할 수 있다.
형성된 산화아연 나노선인 제1 나노선(220) 및 제2 나노선(320)은 기판(100)으로부터 돌출된 형상을 가지며, 나노선들(220, 320) 사이에 소정의 이격공간을 가질 수 있다.
도 4를 참조하면, 제1 나노선(220) 상에 제1 정공전달층(230)을 형성한다. 상기 제1 정공전달층(230)은 CIS를 가진다. 상기 제1 정공전달층(230)의 형성은 CIS 나노입자가 분산된 용액을 스핀 코팅하는 방법을 통해 형성됨이 바람직하다.
제1 나노선(220) 상에만 제1 정공전달층(230)을 형성하기 위해 기판(100) 배면에 형성된 제2 나노선(320)은 미리 차폐되어야한다. 예컨대, 화학적으로 안정한 고분자 필름을 이용하여 제2 나노선(320)을 차폐할 수 있다. 이를 통해 CIS 나노입자가 분산된 용액이 제2 나노선(320) 상으로 침투하는 것을 방지할 수 있다. 필요에 따라 상기 스핀 코팅 공정은 수회 반복하여 형성될 수 있다.
도 5를 참조하면, 제2 나노선(320) 상에 제2 정공전달층(330)을 형성한다. 상기 제2 정공전달층(330)은 CIGS 나노입자가 분산된 용액의 스핀 코팅을 통해 형성될 수 있다. 또한, CIGS 나노입자를 이용하여 제2 정공전달층(330)을 형성하기 이전에 상기 도 4에서 제2 정공전달층(330) 상에 부착된 고분자 필름을 제거하고, 제1 정공전달층(230) 상에 고분자 필름을 부착하는 공정이 개재된다. 이를 통해 CIGS 나노입자가 분산된 용액은 제1 정공전달층(230)과 차단될 수 있다.
도 6을 참조하면, 제1 정공전달층(230) 상에 제1 양극(240)을 형성하고, 제2 정공전달층(330) 상에 제2 양극(340)을 형성한다. 하나의 양극을 형성할 때, 이에 상응하는 다른 양극은 고분자 필름 등을 통해 차폐됨이 바람직하다. 예컨대, 제1 양극(240)이 NiO, 그래핀, 탄소 나노튜브, 플러렌 또는 플러렌 복합체로 형성되는 동안, 상기 제2 정공전달층(330)은 고분자 필름 등으로 차폐된다.
또한, 제1 양극(240)이 형성된 이후에 제2 양극(340)이 형성될 수 있다. 제2 양극(340)의 형성시, 제1 양극(240)은 차폐될 수 있다. 따라서, 제2 정공전달층(330) 상에는 제2 양극(340)이 형성된다. 상기 제2 양극(340)은 Mo, Al, Au, Cu, Pt, Ag, W, Ni, Zn, Ti, Zr, Hf, Cd 또는 Pb를 포함할 수 있다. 상기 제1 양극(240) 및 제2 양극(340)은 통상의 증착법을 통해 형성될 수 있다.
만일 제1 양극(340) 및 제2 양극(340)이 소정의 패턴을 가진 형상이 필요한 경우, 증착 및 포토리소그래피 공정을 이용한 식각을 통해 제1 양극(340) 및 제2 양극(340)은 형성될 수 있다. 이외에 증착용 쉐도우 마스크를 이용한 증착 공정을 통해 제1 양극(240) 및 제2 양극(340)의 패턴을 형성할 수도 있다. 또한, 포토레지스트 패턴의 형성, 양극 물질의 증착 및 포토레지스트 패턴의 제거를 이용하는 리프트 오프 공정을 통해서도 제1 양극(240) 및 제2 양극(340)은 형성될 수 있다.
제조예
먼저, 도 2와 같이 양면에 제1 음극 및 제2 음극이 형성된 기판을 준비한다. 기판은 유리이며, 제1 음극 및 제2 음극은 ITO로 형성된다. 양면에 ITO가 형성된 기판을 아세톤과 2-프로페놀 용액으로 세척한 후, 탈이온수로 잔류하는 세척 용액을 제거한다. 이어서, N2 가스를 이용하여 기판을 완전히 건조시킨다.
이외에 ITO와 ITO 표면에 성장할 물질과의 계면 특성을 향상시키기 위해 UV-오존 클리너에서 10분 동안 처리한다.
ITO 표면 상에 전기화학적 증착을 수행하기 위해 산화아연 전구체 용액이 제작된다. 전기화학적 증착을 통해 제1 나노선 및 제2 나노선은 형성된다.
먼저, 5.0 mM의 Zn(NO3)2 와 0.1 M의 KCl을 200 ml의 탈이온수에 용해한다. 상기 KCl은 반응을 촉진시키는 매개체로 작용한다. 탈이온수에 용해를 통해 수화물인 Zn(NO3)2·6H2O가 형성되고, 수화물은 전기화학적 증착에서 Zn2+의 전구체로 작용한다.
형성된 산화아연 전구체 용액에 ITO가 형성된 기판을 투입하고, 산화아연 나노선을 형성하여 기판의 양면에 제1 나노선 및 제2 나노선을 형성한다.
산화아연 나노선의 전기화학적 증착을 위해 3개의 전극이 사용된다. ITO에는 주 전극(working electrode)이 연결되고, 백금 전극에 반대 전극(counter electrode)이 연결되며, 포화 칼로멜(calomel) 전극이 전구체 용액에 투입되어 기준 전극(reference electrode)으로 작용한다. 전극의 연결이 완료된 후, 70℃에서 4시간 동안 -1.1 V의 전압을 인가하고, ITO 상에 산화아연 나노선을 형성한다. 이를 통해 기판의 양면에 산화아연 나노선이 형성되어 제1 나노선 및 제2 나노선이 동시에 형성된다. 산화아연 나노선이 형성된 이후, 대기 중에서 400℃에서 2분 동안 급속 열처리를 통해 성장된 산화아연 나노선을 구조적으로 안정화시킨다.
이어서, CIS 나노입자가 분산되어 있는 클로로벤젠 용액을 기판 상에 1분 동안 1500 rpm으로 스핀코팅하여 도포한다. 열을 가해 용매를 제거하여 CIS 나노 입자를 산화아연 나노선에 부착할 수 있으며, 산화아연 나노선 상부에 얇은 필름이 형성될 수 있다. 한편, 기판의 반대편은 파라필름으로 덮고 모서리를 접착 테이프 등으로 봉인하여 스핀 코팅 시에 클로로벤젠 용액의 침투를 방지한다.
계속해서, CIS 나노입자가 분산된 클로로벤젠 용액을 이용한 스핀코팅을 수행하여 산화아연 나노선 상의 얇은 박막의 형성을 유도하거나, 박막의 두께를 제어할 수 있다.
이어서, 기판의 배면에 접착된 파라필름을 제거하고, CIS 박막으로 구성된 제1 정공전달층 상에 파라필름을 접착한다.
또한, CIGS 나노입자를 클로로벤젠 용액에 분산시키고, 분산액을 기판의 배면에 약 1분 동안 1500 rpm으로 스핀코팅한다. 스핀코팅후, 열을 가해 용매를 제거하면, CIGS 나노입자은 제2 나노선의 이격공간을 매립하고, 제2 나노선의 표면에 흡착된다. 스핀코팅의 정도 및 횟수에 따라 제2 나노선의 상부에 박막의 형태로 CIGS 나노입자가 도포될 수 있다.
바람직하기로는 수회의 스핀코팅을 통해 CIGS나노입자가 제2 나노선 사이의 이격공간을 매립하고, 그 상부에 박막의 형태를 가지도록 한다. 이를 통해 CIGS를 가지는 제2 정공전달층이 형성된다.
이어서, 고농도로 도핑된 p형 NiO 박막을 제1 정공전달층인 CIS 나노입자 박막 상에 증착하여 투명한 제1 양극을 형성한다. 또한, 반대면의 제2 정공전달층인 CIGS 나노입자 박막 상에 Mo 전극을 형성하여 제2 양극을 형성한다.
이를 통해 기판의 양면에 서로 다른 파장의 광을 흡수할 수 있는 광발전층들이 형성된다.
기판(100)의 전면부에 형성되는 산화아연 나노선인 제1 나노선(220)에 부착된 CIS 나노입자는 전자 친화도가 산화아연보다 높으므로, CIS/산화아연 계면에는 빛의 흡수에 의해 형성된 엑시톤으로부터 전자와 정공을 용이하게 분리할 수 있다. 따라서, 전자-정공쌍으로부터 분리된 전자는 산화아연 나노선을 통해 제1 음극(210)으로 수송된다. 또한, 정공은 산화아연 재질의 제1 나노선(220) 상에 형성된 CIS 재질의 제1 정공전달층(230)을 통해 제1 양극(240)으로 수송된다. 상기 제1 정공전달층(230)은 정공을 수송하는 기능 이외에 전자가 제1 양극(240)으로 누설되는 현상을 방지하는 전자 차단층의 역할도 수행한다.
CIS의 에너지 대역이 CIGS보다 크므로 에너지가 높은 단파장대의 빛은 제1 광발전층(200)에서 흡수된다. 흡수되지 않은 낮은 에너지의 장파당대의 빛은 제1 양극(240) 및 기판(100)을 통과하여 제2 광발전층(300)에 흡수된다.
제2 광발전층(300)의 제2 나노선(320)에 부착된 CIGS 나노입자의 제2 정공전달층(330)은 장파장대의 빛을 흡수하고, 상술한 CIS 나노입자와 동일한 메커니즘으로 빛으로부터 전자-정공쌍을 형성한다. 형성된 전자-정공쌍에서의 전자는 산화아연 재질의 제2 나노선(320)을 통해 제2 음극(310)으로 전송되고, 정공은 전자 차단층의 역할을 병행하는 제2 정공전달층(330)을 통해 제2 양극(340)으로 전달된다.
상술한 본 발명에 따르면, 기판 양면에는 나노 구조가 형성되고, 양면을 통한 빛의 흡수 동작이 일어난다. 기존의 텐덤형 태양전지가 다층으로 적층된 구조로 인해 여러 문제가 발생하는데 비해 본 발명은 기판의 양면에 나노 구조를 형성함에 따라 하나의 광원으로부터 광범위한 파장대의 빛을 흡수할 수 있는 잇점이 있다. 따라서, 태양전지의 광발전 효율을 극대화할 수 있다.
또한, 기판 양면에 독립적인 광발전층이 형성됨으로써 기존의 텐덤 구조에서 발생되는 직렬 연결에 기인하는 내부 저항의 발생은 최소화된다. 내부 저항은 태양전지의 전력손실을 유발하는 일요인으로 알려져 있다.
또한, 산화아연 나노선을 전기화학적 증착법을 이용하여 형성함으로써, 균일한 크기와 밀도의 나노선들을 기판의 양면에 형성할 수 있으며, 형성된 나노선들은 전하의 수송 효율을 증가시켜 태양전지 내부에서의 전력 손실을 최소화할 수 있다.

Claims (11)

  1. 기판 상에 형성되고 단파장의 빛을 흡수하기 위한 제1 광발전층; 및
    상기 기판을 중심으로 상기 제1 광발전층과 대향하고 장파장의 빛을 흡수하기 위한 제2 광발전층을 포함하는 양면 나노구조를 가지는 태양전지.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 광발전층은,
    상기 기판 상에 형성된 제1 음극;
    상기 제1 음극 상에 형성된 산화아연 나노구조의 제1 나노선;
    상기 제1 나노선에 접촉되고, CuInS2(CIS)를 포함하는 제1 정공전달층; 및
    상기 제1 정공전달층 상에 형성되는 제1 양극을 포함하는 것을 특징으로 하는 양면 나노구조를 가지는 태양전지.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제1 음극은 ITO, AZO(Al-doped ZnO), GZO(Ga-doped ZnO), MGO(Mg-doped ZnO) 또는 Mo-doped ZnO(몰리브덴이 도핑된 산화아연)를 포함하는 것을 특징으로 하는 양면 나노구조를 가지는 태양전지.
  4. 제2항에 있어서, 상기 제1 나노선은, 산화아연 전구체 용액에 전극을 투입하고, 상기 제1 음극에 전극을 투입하여 인가되는 전압에 따른 아연 이온의 거동을 이용하는 전기화학적 증착에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 양면 나노구조를 가지는 태양전지.
  5. 제2항에 있어서, 상기 제1 양극은 NiO, 그라핀, CNT 또는 풀러렌을 포함하는 것을 특징으로 하는 양면 나노구조를 가지는 태양전지.
  6. 제1항에 있어서, 상기 제2 광발전층은,
    상기 기판 상에 형성된 제2 음극;
    상기 제2 음극 상에 형성된 산화아연 나노구조의 제2 나노선;
    상기 제2 나노선에 접촉되고, CuInGaS2(CIGS)를 포함하는 제2 정공전달층; 및
    상기 제2 정공전달층 상에 형성되는 제2 양극을 포함하는 것을 특징으로 하는 양면 나노구조를 가지는 태양전지.
  7. 제6항에 있어서, 상기 제2 양극은, Mo, Al, Au, Cu, Pt, Ag, W, Ni, Zn, Ti, Zr, Hf, Cd 또는 Pb를 포함하는 것을 특징으로 하는 양면 나노구조를 가지는 태양전지.
  8. 기판 상에 서로 대향하는 투명 전도성 재질의 제1 음극과 제2 음극을 형성하는 단계;
    상기 제1 음극 상에 산화아연 나노구조체인 제1 나노선을 형성하고, 상기 제2 음극 상에 산화아연 나노구조체인 제2 나노선을 형성하는 단계;
    상기 제1 나노선 상에 CuInS2(CIS)를 포함하는 제1 정공전달층을 형성하는 단계;
    상기 제1 정공전달층과 대향하는 위치인 상기 제2 나노선 상에 CuInGaS2(CIGS)를 포함하는 제2 정공전달층을 형성하는 단계;
    상기 제1 정공전달층 상에 제1 양극을 형성하는 단계; 및
    상기 제1 양극에 대항하는 제2 정공전달층 상에 제2 양극을 형성하는 단계를 포함하는 양면 나노구조를 가지는 태양전지의 제조방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 제1 나노선 및 상기 제2 나노선은 동시에 형성되며, 산화아연 전구체 용액에 전극을 투입하고, 상기 제1 음극 및 상기 제2 음극에 전극을 투입하여 인가되는 전압에 따른 아연 이온의 거동을 이용하는 전기화학적 증착에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 양면 나노구조를 가지는 태양전지의 제조방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 산화아연 전구체 용액은, Zn(NO3)2·6H2O를 포함하는 것을 특징으로 하는 양면 나노구조를 가지는 태양전지의 제조방법.
  11. 제8항에 있어서, 상기 제1 정공전달층의 형성시, 상기 제2 나노선은 차폐되는 것을 특징으로 하는 양면 나노구조를 가지는 태양전지의 제조방법.
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102013221758B4 (de) * 2013-10-25 2019-05-23 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtungen zur aussendung und/oder zum empfang elektromagnetischer strahlung und verfahren zur bereitstellung derselben
JP6441750B2 (ja) * 2014-06-24 2018-12-19 京セラ株式会社 量子ドット型太陽電池
JP6321487B2 (ja) * 2014-08-11 2018-05-09 京セラ株式会社 量子ドット太陽電池
JP6455915B2 (ja) * 2014-08-29 2019-01-23 国立大学法人電気通信大学 太陽電池
WO2016047615A1 (ja) * 2014-09-24 2016-03-31 京セラ株式会社 光電変換装置および光電変換モジュール
KR102310516B1 (ko) * 2014-12-19 2021-10-13 한국전기연구원 누설 전류를 저감한 비정질 셀레늄 기반 Ｘ－ｒａｙ 디텍터
JP6599729B2 (ja) * 2015-10-27 2019-10-30 京セラ株式会社 光電変換装置
KR101883951B1 (ko) 2017-01-23 2018-07-31 영남대학교 산학협력단 양면수광형 ｃｉｇｓ계 태양전지 셀 및 상기 양면수광형 ｃｉｇｓ계 태양전지 셀의 제조 방법
KR102456146B1 (ko) * 2020-10-30 2022-10-19 한국과학기술원 비-화학량론적 비결정질 금속산화물 나노구조체 제조 방법
CN112786775B (zh) * 2021-01-04 2022-11-11 国网内蒙古东部电力有限公司电力科学研究院 无源自供能用压电纳米阵列传感器及其制备方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7653560B2 (en) 2001-04-25 2010-01-26 Hueler Investment Services, Inc. Independent annuity placement system and method
US20050056312A1 (en) * 2003-03-14 2005-03-17 Young David L. Bifacial structure for tandem solar cells
JP2005332645A (ja) 2004-05-19 2005-12-02 Masahiko Yoshida 色素増感型太陽電池およびその両面光活性電極の製造方法。
KR100567330B1 (ko) 2004-08-04 2006-04-04 한국전자통신연구원 이중구조의 염료감응 태양전지
US8314327B2 (en) * 2005-11-06 2012-11-20 Banpil Photonics, Inc. Photovoltaic cells based on nano or micro-scale structures
US8017860B2 (en) * 2006-05-15 2011-09-13 Stion Corporation Method and structure for thin film photovoltaic materials using bulk semiconductor materials
US7629532B2 (en) * 2006-12-29 2009-12-08 Sundiode, Inc. Solar cell having active region with nanostructures having energy wells
US20080264479A1 (en) * 2007-04-25 2008-10-30 Nanoco Technologies Limited Hybrid Photovoltaic Cells and Related Methods
US8614393B2 (en) * 2007-07-09 2013-12-24 Tallinn University Of Technology Photovoltaic cell based on zinc oxide nanorods and method for making the same
US8373061B2 (en) * 2008-04-29 2013-02-12 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Photovoltaic cells with stacked light-absorption layers and methods of fabricating the same
US8232134B2 (en) * 2008-09-30 2012-07-31 Stion Corporation Rapid thermal method and device for thin film tandem cell
KR101040956B1 (ko) 2009-02-26 2011-06-16 전자부품연구원 산화아연 나노와이어를 이용한 박막 실리콘 태양전지 및 그의 제조방법
US8563850B2 (en) * 2009-03-16 2013-10-22 Stion Corporation Tandem photovoltaic cell and method using three glass substrate configuration
KR20100123425A (ko) 2009-05-15 2010-11-24 전북대학교산학협력단 양면 태양 전지창 및 이의 제조방법
KR20110001649A (ko) 2009-06-30 2011-01-06 삼성전자주식회사 태양 전지 및 그 제조 방법
FR2947955B1 (fr) * 2009-07-08 2014-07-04 Total Sa Procede de fabrication de cellules photovoltaiques multi-jonctions et multi-electrodes
KR101103770B1 (ko) * 2009-10-12 2012-01-06 이화여자대학교 산학협력단 화합물 반도체 태양 전지 및 그 제조 방법

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