WO2012114884A1 - 光記録媒体 - Google Patents

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WO2012114884A1
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recording medium
optical recording
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light
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冬樹 宮澤
稚明 村井
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Taiyo Yuden Co Ltd
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    • G—PHYSICS
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Definitions

  • the present invention includes a substrate, a reflective layer that reflects light having a wavelength of at least 350 nm to 500 nm on the substrate, a recording layer formed by an organic dye that absorbs light having a wavelength of 350 nm to 500 nm, and 350 nm to 500 nm.
  • the present invention relates to a write-once type optical recording medium in which a light transmission layer that transmits light having a wavelength of 1 is laminated.
  • optical recording configured to record data by converging a laser beam having a wavelength of 405 nm onto a recording layer using an objective lens having a numerical aperture of 0.85.
  • a medium a so-called Blu-ray disc, has been developed and put into practical use.
  • Such an optical recording medium has a structure in which at least a recording layer and a light transmission layer that transmits a laser beam are stacked on a support substrate having a thickness of 1.1 mm. Yes. *
  • the support substrate and the light transmission layer have different thicknesses and are usually formed of materials having different physical properties such as elastic modulus, the optical recording medium is warped due to a change in environmental temperature or the like. There was a problem that it was likely to occur.
  • Patent Document 1 discloses that even when stored for a long period of time, the deterioration of the mechanical characteristics of the optical recording medium, particularly the deterioration of the radial tilt characteristics, can be prevented. It has been proposed to form a light-transmitting layer with a photocurable resin having a specific storage modulus at ° C. *
  • Patent Document 2 discloses a storage elastic modulus at 5 ° C. and 55 ° C. so as to prevent a decrease in recording / reproducing characteristics of an optical recording medium even when stored for a long time. And a storage layer having a light-transmitting layer having a storage elastic modulus at 5 ° C. and a storage elastic modulus at 55 ° C. of 10 or less, and a recording layer formed of an organic dye.
  • Type optical recording media have been proposed.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 2008-071439 merely specifies the storage elastic modulus of the photocurable resin at 25 ° C., and records data on the optical recording medium and records it on the optical recording medium.
  • the environmental temperature in the information recording / reproducing apparatus in which the optical recording medium is set is much higher than 25 ° C., so the storage elastic modulus of the photocurable resin at 25 ° C. is specified.
  • the present invention provides a substrate, a reflective layer that reflects light having a wavelength of at least 350 nm to 500 nm on the substrate, a recording layer formed by an organic dye that absorbs light having a wavelength of 350 nm to 500 nm, and 350 nm.
  • a write once optical recording medium in which a light transmission layer having a single layer structure that transmits light having a wavelength of up to 500 nm is laminated, and has good recording / reproduction characteristics even in a high temperature environment even when the environmental temperature changes. It is an object of the present invention to provide a write-once type optical recording medium that can suppress the occurrence of warping even if it is stored.
  • a recording layer is formed by an organic dye that absorbs light having a wavelength of 350 nm to 500 nm, and a light transmission layer having a single layer structure is provided.
  • the optical recording medium when the light transmission layer is formed so that the elastic modulus at 75 ° C. is 50 MPa or more and less than 170 MPa, even if the environmental temperature changes, it has good recording / reproduction characteristics, It was found that warpage can be suppressed even when stored in an environment.
  • the present invention is based on such knowledge, and the object of the present invention is to provide a substrate, a reflective layer that reflects light having a wavelength of at least 350 nm to 500 nm on the substrate, and light having a wavelength of 350 nm to 500 nm.
  • a write-once type optical recording medium in which a recording layer formed of an organic dye that absorbs light and a single-layered light transmission layer that transmits light having a wavelength of 350 nm to 500 nm are laminated, and the light transmission layer has a temperature of 75 ° C. This is achieved by a write-once type optical recording medium characterized by having an elastic modulus of 50 MPa or more and less than 170 MPa.
  • the light-transmitting layer having the single layer structure is formed by applying a photocurable resin, forming a coating film, irradiating light, and curing the coating film.
  • the elastic modulus at 75 ° C. after curing is preferably 51 MPa or more and 154 MPa or less.
  • an ultraviolet curable resin that is cured by irradiating ultraviolet rays as the photocurable resin used for forming the light transmission layer having a single layer structure.
  • the recording layer is preferably formed of an azo metal complex dye represented by the following general formula (1). *
  • M is a divalent metal selected from Group 7A, Group 8, Group 1B, and Group 2B of the periodic table, and nickel, cobalt, copper, zinc, manganese, and iron are particularly preferable.
  • A is a nitrogen-containing heteroaromatic ring
  • B has a structure having a saturated or unsaturated 5-membered ring (pentagonal) to 7-membered (hexagonal) hydrocarbon ring or condensed condensed ring. .
  • a substrate a reflective layer that reflects light having a wavelength of at least 350 nm to 500 nm on the substrate, a recording layer formed by an organic dye that absorbs light having a wavelength of 350 nm to 500 nm, and 350 nm
  • a write once optical recording medium in which a light transmission layer having a single layer structure that transmits light having a wavelength of up to 500 nm is laminated, and has good recording / reproduction characteristics even in a high temperature environment even when the environmental temperature changes.
  • FIG. 1 is a schematic longitudinal sectional view of an optical recording medium according to a preferred embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic longitudinal sectional view of an optical recording medium according to a preferred embodiment of the present invention. *
  • the optical recording medium 1 includes a substrate 10, and a reflective layer 11, a recording layer 12, a protective layer 13, and a light transmissive layer 14 having optical transparency are provided on the substrate 10.
  • a hard coat layer 15 that physically protects the light transmission layer 14 and prevents the light transmission layer 14 from being damaged is laminated on the substrate 10 in this order.
  • the optical recording medium 1 is configured such that information is recorded by a laser beam 5 having a wavelength of 405 nm, and the recorded information is reproduced, and data is recorded on the recording layer 12 of the optical recording medium 1.
  • the recording laser beam 5 for recording and the reproducing laser beam 5 for reproducing the data recorded on the recording layer 12 are optically recorded from the hard coat layer 15 side as indicated by arrows in FIG.
  • the medium 1 is configured to be irradiated. *
  • the write-once type optical recording medium 1 has a disk shape, and a center hole is formed in the central portion.
  • the substrate 10 has a disk shape and functions as a support for ensuring the mechanical strength required for the optical recording medium 1, has a thickness of about 1.1 mm, and a diameter of 120 mm. Yes. *
  • the material for forming the substrate 10 is not particularly limited as long as the mechanical strength required for the optical recording medium 1 can be ensured.
  • the substrate is made of a metal such as aluminum, glass, ceramics, resin, or the like. 10 can be formed. Of these, from the viewpoints of moldability, moisture resistance, dimensional stability, cost, and the like, resins, particularly thermoplastic resins, are preferably used.
  • the resin for forming the substrate 10 include polycarbonate resins; acrylic resins such as polymethyl methacrylate; vinyl chloride resins such as polyvinyl chloride and vinyl chloride copolymers; epoxy resins; amorphous polyolefin resins and polyester resins. It is done. Among these, polycarbonate resin is particularly preferable. *
  • a spiral guide groove 10 a is formed on the surface of the substrate 10.
  • the spiral guide groove 10a can be formed, for example, by injection molding the substrate 10 using a mold in which a stamper is set.
  • the guide groove 10a is formed with a pitch of 0.35 ⁇ m or 0.32 ⁇ m, the width of the guide groove 10a is preferably set to 160 nm to 200 nm, and the depth of the guide groove 10a is preferably 32 nm to 35 nm.
  • the width of the guide groove 10a is represented by the half width at the position where the depth of the guide groove 10a is 1/2. *
  • a reflective layer 11 is formed by sputtering or the like on the surface of the substrate 10 on the side where the spiral guide groove 10a is formed.
  • the reflective layer 11 has a function of reflecting the laser beam 5 irradiated to the optical recording medium 1 and transmitted through the recording layer 12 toward the recording layer 12, and is usually a reflectivity such as an Ag alloy or an Al alloy. Made of high metal.
  • the reflective layer 11 is formed of an Ag alloy.
  • the reflective layer 11 is preferably formed to have a thickness of 50 nm to 70 nm. *
  • the reflective layer 11 is formed on the surface of the substrate 10 on the side where the spiral guide groove 10a is formed, the reflective layer 11 is also formed with the guide groove 11a.
  • the width of the guide groove 11a formed in the reflective layer 11 is preferably 150 nm to 190 nm, and the depth of the guide groove 11a is preferably 32 nm to 35 nm.
  • a recording layer 12 is formed on the surface of the reflective layer 11, and the recording layer 12 contains an organic dye.
  • the recording layer 12 is obtained by dissolving an organic dye in 2,2,3,3-tetrafluoro-1-propanol (TFP), and applying and drying the obtained solution on the surface of the reflective layer 11 by a spin coating method. Is formed by. *
  • an organic dye preferably used for forming the recording layer 12 is an azo metal complex dye represented by the general formula (1). *
  • a protective layer 13 is formed on the surface of the recording layer 12. *
  • the protective layer 13 is formed of a photo-curing resin used for diffusing the organic dye contained in the recording layer 12 into the light transmissive layer 14 or forming the light transmissive layer 14 when the light transmissive layer 14 is formed. This is a layer for preventing the mixing phenomenon that the solvent penetrates into the recording layer 12.
  • the material that can form the protective layer 13 is not particularly limited as long as it is a transparent dielectric material.
  • silicon oxide silicon dioxide is particularly preferable
  • zinc oxide cerium oxide, zirconium oxide
  • examples thereof include oxides such as yttrium oxide and indium oxide-tin oxide (ITO); sulfides such as zinc sulfide and yttrium sulfide; nitrides such as silicon nitride; silicon carbide; and a mixture of an oxide and a sulfur compound.
  • the protective layer 13 is formed of zinc sulfide-silicon dioxide (ZnS—SiO 2 ), and is formed by sputtering or the like.
  • a light transmission layer 14 is formed on the surface of the protective layer 13. *
  • the light-transmitting layer 14 is formed by applying a photo-curing resin that is cured by ultraviolet rays or radiation onto the surface of the protective layer 13 by spin coating to form a coating film, and irradiating the coating film with ultraviolet rays or radiation. It is formed by letting.
  • the thickness of the light transmission layer 14 is set to 100 ⁇ m together with the thickness of the hard coat layer 15 formed on the light transmission layer 14.
  • the light transmission layer 14 is a photocurable resin having an elastic modulus at 75 ° C. of 50 MPa or more and less than 170 MPa after curing, preferably an elastic modulus at 75 ° C. of 51 MPa or more and 154 MPa or less after curing. It is formed of a certain photocurable resin.
  • the recording layer 12 is formed by an organic dye that absorbs light having a wavelength of 350 nm to 500 nm, and the optical recording medium 1 provided with the single-layer light transmission layer 14 has a temperature of 75 ° C.
  • the light transmission layer 14 is formed so that the elastic modulus is 50 MPa or more and less than 170 MPa, even if the environmental temperature changes, it has good recording / reproduction characteristics and can be stored in a high temperature environment. It has been found that the occurrence of warpage can be suppressed.
  • a hard coat layer 15 that physically protects the light transmission layer 14 and prevents the light transmission layer 14 from being damaged is formed on the surface of the light transmission layer 14.
  • the material for forming the hard coat layer 15 is not particularly limited, but a material excellent in transparency and wear resistance is preferable.
  • the hard coat layer 15 is a resin in which inorganic fine particles are added to an ultraviolet curable resin.
  • the composition is preferably formed by applying the composition to the surface of the light transmission layer 14 by a spin coating method. *
  • the thickness of the hard coat layer 15 is preferably 1 ⁇ m to 5 ⁇ m. *
  • a laser beam having a wavelength of 405 nm from the hard coat layer 15 side and its power set to the recording power Pw. 5 is irradiated.
  • the laser beam 5 passes through the hard coat layer 15, the light transmission layer 14 and the protective layer 13 and enters the recording layer 12. Alternatively, the laser beam 5 passes through the recording layer 12 and is reflected by the reflecting layer 11. Incident. *
  • the organic dye contained in the region of the recording layer 12 irradiated with the laser beam 5 is thermally decomposed, and the reflectance of the region increases, whereby information is written on the optical recording medium 1.
  • the laser beam 5 having a wavelength of 405 nm and its power set to the reproduction power Pr is on the hard coat layer 15 side.
  • the information recorded on the recording layer 12 is read out by photoelectrically detecting the light that is irradiated onto the optical recording medium 1 and transmitted through the recording layer 12 and reflected by the reflecting layer 11.
  • the light-transmitting layer 14 having a single layer structure is a photocurable resin having an elastic modulus at 75 ° C. after curing of 50 MPa or more and less than 170 MPa, preferably an elastic modulus at 75 ° C. after curing of 51 MPa or more. Since it is made of a photo-curable resin that is 154 MPa or less, it has good recording / reproduction characteristics even when the environmental temperature changes, and suppresses the occurrence of warping even when stored in a high temperature environment. Is possible.
  • a dynamic viscoelasticity measuring device “RMAIII” manufactured by TA Instruments was used for measuring the elastic modulus at 75 ° C. The test piece was prepared by applying a photocurable resin to a thickness of 100 ⁇ m on the disk, and after curing, peeling the resin from the disk and cutting it to a size of 5 mm ⁇ 50 mm.
  • Example 1 A disk-shaped substrate made of polycarbonate resin having an outer diameter of 120 mm and a thickness of 1.1 mm and having a spiral guide groove formed on the surface with a pitch of 0.32 ⁇ m was produced by injection molding. .
  • a reflective layer made of an Ag alloy was formed by sputtering on the surface of the substrate where the guide groove was formed, and a track corresponding to the guide groove having a depth of 33 nm and a width of 175 nm was formed on the surface of the reflective layer.
  • the thickness of the reflective layer was 60 nm.
  • nickel is used as the divalent metal, and an azo metal complex dye having a triazole structure is added to the nitrogen-containing heteroaromatic ring as 2,2,3,3-tetrafluoro.
  • a solution obtained by dissolving in 1-propanol (TFP) was applied to the surface of the reflective layer by spin coating, and dried at 80 ° C. for 30 minutes to form a recording layer having a thickness of 40 nm.
  • a protective layer having a thickness of 17 nm was formed on the surface of the recording layer by sputtering ZnS—SiO 2 .
  • an ultraviolet curable resin having an elastic modulus of 12 MPa after curing is applied to the surface of the protective layer by a spin coating method to form a coating film, and the coating film is irradiated with ultraviolet rays to be cured.
  • a light transmission layer having a thickness of 97 ⁇ m was formed.
  • a resin composition in which inorganic fine particles are added to an ultraviolet curable resin is applied to the surface of the light transmission layer by a spin coating method to form a coating film, and the coating film is irradiated with ultraviolet rays to be cured.
  • a hard coat layer having a thickness of 3 ⁇ m was formed.
  • an optical recording medium sample # 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that a light transmission layer was formed using an ultraviolet curable resin having an elastic modulus at 75 ° C. of 30 MPa after curing.
  • an optical recording medium was prepared in the same manner as that for producing optical recording medium sample # 1, except that a light transmission layer was formed using an ultraviolet curable resin having an elastic modulus at 75 ° C. of 34 MPa after curing. Sample # 3 was made. *
  • optical recording medium was prepared in the same manner as that for producing optical recording medium sample # 1, except that a light transmission layer was formed using an ultraviolet curable resin having an elastic modulus at 75 ° C. of 51 MPa after curing. Sample # 4 was made. *
  • an optical recording medium was prepared in the same manner as that for producing optical recording medium sample # 1, except that a light transmission layer was formed using an ultraviolet curable resin having an elastic modulus at 75 ° C. of 69 MPa after curing. Sample # 5 was made. *
  • optical recording medium was prepared in the same manner as that for producing optical recording medium sample # 1, except that a light transmission layer was formed using an ultraviolet curable resin having an elastic modulus at 75 ° C. of 83 MPa after curing. Sample # 6 was made. *
  • optical recording medium was prepared in the same manner as that for producing the optical recording medium sample # 1, except that the light transmission layer was formed using an ultraviolet curable resin having an elastic modulus at 75 ° C. of 154 MPa after curing. Sample # 7 was made. *
  • optical recording medium was prepared in the same manner as that for producing optical recording medium sample # 1, except that a light transmission layer was formed using an ultraviolet curable resin having an elastic modulus at 75 ° C. of 170 MPa after curing. Sample # 8 was made. *
  • the environmental temperature was set to 55 ° C., and changes in the information recording / reproducing characteristics of the optical recording medium samples # 1 to # 8 thus obtained at high temperatures were measured.
  • optical recording medium samples # 1 to # 8 are sequentially set on an information recording / reproducing apparatus “ODU-1000” (trade name) manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd.
  • the surface of the layer was irradiated with a recording laser beam to record data on the recording layer.
  • the recording power Pw of the recording laser beam was increased stepwise with respect to the design value P1.
  • each sample is set in the information recording / reproducing apparatus, the laser beam whose power is set to the reproducing power Pr is irradiated to the hard coat layer, and the data recorded in the recording layer of each sample is reproduced.
  • the recording power P2 of the recording laser beam that cannot be reproduced is obtained.
  • a data unrecoverable limit X that is an index that makes it impossible to reproduce data defined by the following equation is obtained.
  • the optical recording medium sample was determined as GOOD, and the optical recording medium sample with the information unreproducible limit X of less than 20% was determined as NO GOOD.
  • an optical recording medium sample having a data unreproducible limit X of 20% or more is determined as GOOD, and an optical recording medium sample having a data unreproducible limit X of less than 20% is determined as NO GOOD.
  • the determination was made when the user actually recorded information on the optical recording medium, due to variations in the performance of the optical recording medium, variations in the performance of the data recording / reproducing apparatus, disturbances, and the like. This is because there is a possibility that information cannot be recorded and reproduced as desired if the data unreproducible limit X is less than 20%.
  • the optical recording medium sample # 1 in which the light transmission layer is formed of an ultraviolet curable resin having an elastic modulus at 75 ° C. of 12 MPa after curing has a data non-reproducible limit X of 6.2%, and at 75 ° C. after curing.
  • the optical recording medium sample # 2 in which the light transmission layer is formed of an ultraviolet curable resin having an elastic modulus of 30 MPa has a data unrecoverable limit X of 14.3%, and an ultraviolet curable resin having an elastic modulus of 34 MPa at 75 ° C. after curing.
  • the optical recording medium sample # 3 in which the light transmission layer is formed of resin has a data non-reproducible limit X of 12.3%, and light having a light transmission layer formed of an ultraviolet curable resin having an elastic modulus at 75 ° C. of 51 MPa after curing.
  • the recording medium sample # 4 has a data non-reproducible limit X of 20.0%, and an ultraviolet curable resin having an elastic modulus of 69 MPa at 75 ° C. after curing is optically transparent
  • the optical recording medium sample # 5 in which the layer is formed has an unreproducible data reproduction limit X of 22.5%, and the optical recording medium sample # in which the light transmission layer is formed by an ultraviolet curable resin having an elastic modulus of 83 MPa at 75 ° C. after curing.
  • the data non-reproducible limit X of No. 6 is 31.2%, and the data non-reproducible limit X of the optical recording medium sample # 7 in which the light transmission layer is formed of an ultraviolet curable resin having an elastic modulus at 75 ° C. of 154 MPa after curing.
  • the data unrecoverable limit X of the optical recording medium sample # 8 in which the light transmission layer was formed of an ultraviolet curable resin having an elastic modulus at 75 ° C. of 170 MPa after curing was 38.91%.
  • the relationship between the elastic modulus at 75 ° C. of the ultraviolet curable resin forming the light transmission layer and the information reproducibility limit X was obtained in spite of the environmental temperature set at 55 ° C. Even if the temperature is set to 55 ° C., the environmental temperature of the optical recording medium sample set in the information recording / reproducing apparatus is higher than 55 ° C., and ten optical recording medium samples are set in the data recording / reproducing apparatus.
  • the ambient temperature of the optical recording medium sample when data was recorded and reproduced was 68.2 ° C. to 74.7 ° C., and ultraviolet light at 75 ° C., which is higher than the highest temperature of 74.7 ° C. This is because it is reasonable to obtain the elastic modulus of the curable resin.
  • the optical recording medium samples # 1, 2, and 3 in which the light transmission layer is formed using the ultraviolet curable resin having an elastic modulus of less than 51 MPa at 75 ° C. had an information reproduction non-recovery limit X of less than 20%.
  • optical recording medium sample # 6 with a light transmissive layer formed, ultraviolet light with an elastic modulus of 154 MPa at 75 ° C.
  • Optical recording medium sample # 7 having a light transmission layer formed using a curable resin and an ultraviolet curable resin having an elastic modulus of 170 MPa at 75 ° C.
  • the information reproducibility limit X is 20% or more. From the viewpoint of improving the information recording / reproducing characteristics in a high temperature environment, an ultraviolet ray having an elastic modulus at 75 ° C. of 51 MPa to 170 MPa It has been found that it is preferable to form the light transmission layer using a curable resin.
  • Example 2 Each of the optical recording medium samples # 1 to # 8 was held for 10 minutes in a 55 ° C. environment for 10 minutes. Measurement was performed using “SHH-20N”.
  • the warp angle of the optical recording medium sample # 2 in which the light transmission layer is formed of an ultraviolet curable resin having an elastic modulus at 75 ° C. of 12 MPa after curing is 0.15 deg, and the elastic modulus at 75 ° C. after curing is 30 MPa.
  • the warp angle of the optical recording medium sample # 3 is 0.10 deg
  • the warp angle of the optical recording medium sample # 4 in which the light transmission layer is formed of an ultraviolet curable resin having an elastic modulus of 51 MPa at 75 ° C. after curing is 0.05 deg.
  • the optical recording medium sample # 5 in which the light transmission layer was formed of an ultraviolet curable resin having an elastic modulus at 75 ° C. of 69 MPa after curing is 0.12 deg, 0.12 deg, at 75 ° C. after curing.
  • the optical recording medium sample # 7 in which the light transmission layer is formed of an ultraviolet curable resin having an elastic modulus of 154 MPa has a warp angle of 0.22 deg and light transmission by an ultraviolet curable resin having an elastic modulus at 75 ° C. of 170 MPa after curing.
  • the warp angle of the optical recording medium sample # 8 on which the layer was formed was 0.35 deg. *
  • the ultraviolet curable resin having an elastic modulus at 75 ° C. after curing of 170 MPa or more When the light transmission layer is formed, the warp angle becomes too large, and the data recording / reproducing characteristics of the optical recording medium are deteriorated.
  • the ultraviolet curable resin having an elastic modulus at 75 ° C. of less than 170 MPa after curing can It has been found that when the transmission layer is formed, the data recording / reproducing characteristics of the optical recording medium are not deteriorated by the warp of the optical recording medium.
  • an ultraviolet curable resin having an elastic modulus at 75 ° C. after curing of 51 MPa or more and less than 170 MPa particularly an ultraviolet curable resin having an elastic modulus at 75 ° C. after curing of 51 MPa or more and 154 MPa or less.
  • the optical recording medium on which the light transmission layer is formed has good recording / reproduction characteristics even when the environmental temperature changes, and it is possible to suppress the occurrence of warping even when stored in a high temperature environment. It has been found.
  • the hard coat layer 15 is formed on the surface of the light transmission layer 14, but it is not always necessary to form the hard coat layer 15 on the surface of the light transmission layer 14. Absent.

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Abstract

３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長の光を吸収する記録層を備えた光記録媒体であって、環境温度が変化しても、良好な記録再生特性を有し、高温環境下で保存をしても、反りの発生を抑制することができる光記録媒体を提供する。【解決手段】　追記型の光記録媒体は、基板１０と、基板上に、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長の光を反射する反射層１１と、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長の光を吸収する記録層１２と、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長の光を透過する一層構成の光透過層１４で、７５℃における弾性率が５０ＭＰａ以上、１７０ＭＰａ未満の光透過層１４を備えている。

Description

光記録媒体
本発明は、基板と、基板上に、少なくとも、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長の光を反射する反射層と、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長の光を吸収する有機色素によって形成された記録層と、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長の光を透過する光透過層とが積層された追記型の光記録媒体に関するものである。
近年、データの記録容量を増大させるために、４０５ｎｍの波長を有するレーザビームを開口数が０．８５の対物レンズを用いて、記録層に収束させ、データを記録するように構成された光記録媒体、いわゆるブルーレイディスクが開発され、実用化されている。　
かかる光記録媒体は、１．１ｍｍの厚さを有する支持基板上に、少なくとも、記録層と１００μｍ程度の厚さを有し、レーザビームを透過する光透過層が積層された構造を有している。　
このように、支持基板と光透過層とは、厚さを異にし、また、通常、弾性率などの物性が異なる材料によって形成されるため、環境温度の変化などによって、光記録媒体に反りが生じやすいという問題があった。　
そこで、特開２００８－０７１４３９号公報（特許文献１）は、長期保存をした場合でも、光記録媒体の機械的特性の悪化、とくに、ラジアルチルト特性の悪化を防止することができるように、２５℃において特定の貯蔵弾性率を有する光硬化性樹脂によって、光透過層を形成することを提案している。　
また、特開２００９－０２６３７９号公報（特許文献２）は、長期保存をした場合でも、光記録媒体の記録再生特性の低下を防止することができるように、５℃における貯蔵弾性率と５５℃における貯蔵弾性率とがともに１００ＭＰａ以下であり、５℃における貯蔵弾性率と５５℃における貯蔵弾性率の比が１０以下である光透過層を備え、有機色素によって形成された記録層を備えた追記型の光記録媒体を提案している。
特開２００８－０７１４３９号公報 特開２００９－０２６３７９号公報
しかしながら、特許文献１（特開２００８－０７１４３９号公報）は、２５℃における光硬化性樹脂の貯蔵弾性率を特定しているに過ぎず、光記録媒体にデータを記録し、光記録媒体に記録されたデータを再生する場合に、光記録媒体がセットされる情報記録再生装置内の環境温度は２５℃よりもはるかに高温であるため、２５℃における光硬化性樹脂の貯蔵弾性率を特定するだけでは、光記録媒体に反りが生じることを抑制することはできない。２５℃における光硬化性樹脂の貯蔵弾性率を特定するだけでは、環境温度が変化した場合に、光記録媒体に反りが生じることを防止することは不可能である。　
一方、特許文献２（特開２００９－０２６３７９号公報）に開示されるように、光透過層の５℃における貯蔵弾性率と５５℃における貯蔵弾性率が１００ＭＰａ以下である場合には、光透過層が軟らか過ぎて、光透過層の表面に傷がつきやすいため、実用的には、光透過層を弾性率が高い上層と弾性率が低い下層の二層構成にする必要があるが、光透過層を二層構成にする場合には、光記録媒体の層数が多くなり、光記録媒体の製造コストが高くなるという問題があった。　
したがって、本発明は、基板と、基板上に、少なくとも、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長の光を反射する反射層と、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長の光を吸収する有機色素によって形成された記録層と、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長の光を透過する一層構成の光透過層とが積層された追記型の光記録媒体であって、環境温度が変化しても、良好な記録再生特性を有し、高温環境下で保存をしても、反りの発生を抑制することができる追記型の光記録媒体を提供することを目的とするものである。
本発明者は本発明のかかる目的を達成するために、鋭意研究を重ねたところ、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長の光を吸収する有機色素によって、記録層が形成され、一層構成の光透過層を備えた光記録媒体においては、７５℃における弾性率が５０ＭＰａ以上、１７０ＭＰａ未満になるように光透過層を形成した場合には、環境温度が変化しても、良好な記録再生特性を有し、高温環境下で保存をしても、反りの発生を抑制することができることを見出した。　
本発明はかかる知見に基づくものであって、本発明の前記目的は、基板と、基板上に、少なくとも、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長の光を反射する反射層と、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長の光を吸収する有機色素によって形成された記録層と、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長の光を透過する一層構成の光透過層とが積層された追記型の光記録媒体であって、前記光透過層の７５℃における弾性率が５０ＭＰａ以上、１７０ＭＰａ未満であることを特徴とする追記型の光記録媒体によって達成される。　
本発明において、前記一層構成の光透過層が、光硬化性樹脂を塗布して、塗膜を形成し、光を照射して、塗膜を硬化させることによって形成され、前記光硬化性樹脂の硬化後の７５℃における弾性率が５１ＭＰａ以上、１５４ＭＰａ以下であることが好ましい。　
本発明において、一層構成の光透過層を形成するために用いる光硬化性樹脂として、紫外線を照射することによって硬化する紫外線硬化性樹脂を用いることが好ましい。　
本発明において、記録層が、下記一般式（１）で表わされるアゾ金属錯体色素によって形成されていることが好ましい。　
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 　一般式（１）において、Ｍは周期律表の７Ａ族、８族、１Ｂ族、２Ｂ族から選ばれる２価の金属であり、とくにニッケル、コバルト、銅、亜鉛、マンガン、鉄が好ましい。Ａは含窒素複素芳香環であり、Ｂは飽和または不飽和の５員環（５角形）から７員環（６角形）の炭化水素環もしくは複素環の縮合環を有する構造を有している。
本発明によれば、基板と、基板上に、少なくとも、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長の光を反射する反射層と、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長の光を吸収する有機色素によって形成された記録層と、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長の光を透過する一層構成の光透過層とが積層された追記型の光記録媒体であって、環境温度が変化しても、良好な記録再生特性を有し、高温環境下で保存をしても、反りの発生を抑制することができる追記型の光記録媒体を提供することが可能になる。
図１は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録媒体の略縦断面図である。
図１は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録媒体の略縦断面図である。　
図１に示されるように、本実施態様にかかる光記録媒体１は、基板１０を備え、基板１０上に、反射層１１、記録層１２、保護層１３、光透過性を有する光透過層１４および光透過層１４を物理的に保護し、光透過層１４に傷がつくのを防止するハードコート層１５が、この順に、基板１０上に積層されている。　
本実施態様において、光記録媒体１は４０５ｎｍの波長を有するレーザビーム５によって情報が記録され、記録された情報が再生されるように構成されており、光記録媒体１の記録層１２にデータを記録するための記録用レーザビーム５および記録層１２に記録されたデータを再生するための再生用レーザビーム５は、図１において矢印で示されるように、ハードコート層１５の側から、光記録媒体１に照射されるように構成されている。　
図１には示されていないが、本実施態様にかかる追記型光記録媒体１は円板状をなし、中央部分には、センターホールが形成されている。　
基板１０は円板状をなし、光記録媒体１に要求される機械的強度を確保する支持体として機能するものであり、約１．１ｍｍの厚さを有し、１２０ｍｍの直径を有している。　
基板１０を形成するための材料は、光記録媒体１に要求される機械的強度を確保することができれば、とくに限定されるものではなく、アルミニウムなどの金属、ガラス、セラミックス、樹脂などによって、基板１０を形成することができる。これらのうち、成型性、耐湿性、寸法安定性およびコストなどの観点から、樹脂、とくに、熱可塑性樹脂が好ましく使用される。基板１０を形成するための樹脂としては、ポリカーボネート樹脂；ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体などの塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリカーボネート樹脂がとくに好ましい。　
図１に示されるように、基板１０の表面には、らせん状の案内溝１０ａが形成されている。らせん状の案内溝１０ａは、たとえば、基板１０を、スタンパがセットされた金型を用いて射出成形することによって形成することができる。案内溝１０ａは０．３５μｍあるいは０．３２μｍのピッチで形成され、案内溝１０ａの幅は１６０ｎｍ～２００ｎｍに設定され、案内溝１０ａの深さは３２ｎｍ～３５ｎｍであることが好ましい。ここに、案内溝１０ａの幅は、案内溝１０ａの深さが１／２の位置における半値幅によって表わされる。　
図１に示されるように、基板１０のらせん状の案内溝１０ａが形成された側の表面に、スパッタリングなどによって、反射層１１が形成されている。反射層１１は、光記録媒体１に照射され、記録層１２を透過したレーザビーム５を、記録層１２に向けて反射する機能を有しており、通常、Ａｇ合金やＡｌ合金などの反射率の高い金属で形成される。本実施態様においては、Ａｇ合金によって反射層１１が形成されている。反射層１１は５０ｎｍ～７０ｎｍの厚さを有するように形成されることが好ましい。　
反射層１１は基板１０のらせん状の案内溝１０ａが形成された側の表面に形成されるため、反射層１１にも案内溝１１ａが形成されている。反射層１１に形成された案内溝１１ａの幅は１５０ｎｍ～１９０ｎｍで、案内溝１１ａの深さは３２ｎｍ～３５ｎｍであることが好ましい。　
反射層１１の表面上には、記録層１２が形成されており、記録層１２は、有機色素を含んでいる。記録層１２は、有機色素を２，２，３，３－テトラフルオロ－１－プロパノール（ＴＦＰ）に溶解し、得られた溶液を、スピンコーティング法によって、反射層１１の表面に塗布乾燥することによって形成されている。　
本発明において、記録層１２を形成するのに好ましく用いられる有機色素は、前記一般式（１）で表わされるアゾ金属錯体色素である。　
記録層１２の表面には、保護層１３が形成されている。　
保護層１３は、光透過層１４を形成する際に、記録層１２に含まれる有機色素が光透過層１４に拡散することや、光透過層１４を形成する際に用いられる光硬化性樹脂の溶剤が記録層１２に浸透する混和現象を防止するための層である。　
保護層１３を形成することができる材料は、透明な誘電体材料であれば、とくに限定されるものではなく、たとえば、酸化ケイ素（二酸化ケイ素がとくに好ましい）、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化イットリウム、酸化インジウム－酸化スズ（ＩＴＯ）などの酸化物；硫化亜鉛、硫化イットリウムなどの硫化物；窒化ケイ素などの窒化物；炭化ケイ素；酸化物と硫黄化合物との混合物などが挙げられる。本実施態様においては、硫化亜鉛－二酸化ケイ素（ＺｎＳ－ＳｉＯ２）によって保護層１３が形成され、スパッタリングなどによって形成される。　
保護層１３の表面には、光透過層１４が形成されている。　
光透過層１４は、紫外線または放射線によって硬化する光硬化性樹脂をスピンコーティング法によって、保護層１３の表面に塗布して、塗膜を形成し、塗膜に紫
外線または放射線を照射して、硬化させることによって形成されている。　
本実施態様においては、光透過層１４の厚さは、光透過層１４上に形成されるハードコート層１５の厚さと合わせて、１００μｍに設定されている。　
本実施態様において、光透過層１４は、硬化後の７５℃における弾性率が５０ＭＰａ以上、１７０ＭＰａ未満である光硬化性樹脂、好ましくは、硬化後の７５℃における弾性率が５１ＭＰａ以上、１５４ＭＰａ以下である光硬化性樹脂によって形成されている。　
本発明者の研究によれば、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長の光を吸収する有機色素によって、記録層１２が形成され、一層構成の光透過層１４を備えた光記録媒体１においては、７５℃における弾性率が５０ＭＰａ以上、１７０ＭＰａ未満になるように光透過層１４を形成した場合には、環境温度が変化しても、良好な記録再生特性を有し、高温環境下で保存をしても、反りの発生を抑制することができることが判明している。　
図１に示されるように、光透過層１４の表面には、光透過層１４を物理的に保護し、光透過層１４に傷がつくのを防止するハードコート層１５が形成されている。　
ハードコート層１５を形成するための材料はとくに限定されるものではないが、透明性および耐摩耗性に優れる材料が好ましく、ハードコート層１５は、紫外線硬化性樹脂に無機微粒子が添加された樹脂組成物をスピンコーティング法によって、光透過層１４の表面に塗布することによって、形成されることが好ましい。　
ハードコート層１５の厚さは、１μｍ～５μｍであることが好ましい。　
以上のように構成された本実施態様にかかる光記録媒体に情報を記録するにあたっては、ハードコート層１５の側から、４０５ｎｍの波長を有し、そのパワーが記録パワーＰｗに設定されたレーザビーム５が照射される。　
レーザビーム５はハードコート層１５、光透過層１４および保護層１３を透過して、記録層１２に入射し、あるいは、記録層１２を透過し、反射層１１によって反射されて、記録層１２に入射する。　
その結果、記録層１２のレーザビーム５が照射された領域に含まれた有機色素が熱分解をし、その領域の反射率が上昇することによって、光記録媒体１に情報が書き込まれる。　
一方、光記録媒体１の記録層１２に記録された情報を再生する場合には、４０５ｎｍの波長を有し、そのパワーが再生パワーＰｒに設定されたレーザビーム５が、ハードコート層１５の側から光記録媒体１に照射され、記録層１２を透過し反射層１１によって反射された光を光電的に検出することによって、記録層１２に記録された情報が読み出される。　
本実施態様においては、一層構成の光透過層１４を、硬化後の７５℃における弾性率が５０ＭＰａ以上、１７０ＭＰａ未満である光硬化性樹脂、好ましくは、硬化後の７５℃における弾性率が５１ＭＰａ以上、１５４ＭＰａ以下である光硬化性樹脂によって形成されているから、環境温度が変化しても、良好な記録再生特性を有し、高温環境下で保存をしても、反りの発生を抑制することが可能になる。　７５℃における弾性率の測定には、ＴＡ　Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製の動的粘弾性測定装置 ＲＭＡIIIを用いた。試験片は、ディスク上に光硬化性樹脂を１００μmの厚さで塗布し、硬化後、ディスク上から樹脂を剥離させて、５ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切断して準備した。
以下、本発明の効果をより一層明らかにするため、実施例および比較例を挙げる。　
実施例１　ポリカーボネート樹脂によって作られた外径１２０ｍｍ、厚さ１．１ｍｍを有し、表面に、ピッチ０．３２μｍでスパイラル状の案内溝が形成された円板状の基板を射出成型によって作製した。　
基板の案内溝が形成された側の表面に、Ａｇ合金からなる反射層をスパッタリングにより形成し、反射層の表面に、深さ３３ｎｍ、幅１７５ｎｍの案内溝に対応するトラックを形成した。反射層の厚さは６０ｎｍであった。　
次いで、下記の構造式（１０）によって表わされるように、二価の金属にニッケルを用い、含窒素複素芳香環にはトリアゾール構造を持つアゾ金属錯体色素を２，２，３，３－テトラフルオロ－１－プロパノール（ＴＦＰ）に溶解し、得られた溶液を、スピンコーティングによって、反射層の表面に塗布し、８０℃で３０分間にわたって乾燥し、４０ｎｍの厚さを有する記録層を形成した。　
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 　さらに、記録層の表面に、ＺｎＳ－ＳｉＯ２をスパッタリングして、１７ｎｍの厚さを有する保護層を形成した。　
次いで、保護層の表面に、硬化後の７５℃における弾性率が１２ＭＰａである紫外線硬化性樹脂をスピンコーティング法によって塗布して、塗膜を形成し、塗膜に紫外線を照射して、硬化させ、９７μｍの厚さを有する光透過層を形成した。　
さらに、光透過層の表面に、紫外線硬化性樹脂に無機微粒子が添加された樹脂組成物をスピンコーティング法によって塗布して、塗膜を形成し、塗膜に紫外線を照射して、硬化させて、３μｍの厚さを有するハードコート層を形成した。　
こうして、光記録媒体サンプル＃１を作製した。　
さらに、硬化後の７５℃における弾性率が３０ＭＰａである紫外線硬化性樹脂を用いて、光透過層を形成したことを除き、実施例１と同様にして、光記録媒体サンプル＃２を作製した。　
次いで、硬化後の７５℃における弾性率が３４ＭＰａである紫外線硬化性樹脂を用いて、光透過層を形成したことを除き、光記録媒体サンプル＃１を作製したのと同様にして、光記録媒体サンプル＃３を作製した。　
さらに、硬化後の７５℃における弾性率が５１ＭＰａである紫外線硬化性樹脂を用いて、光透過層を形成したことを除き、光記録媒体サンプル＃１を作製したのと同様にして、光記録媒体サンプル＃４を作製した。　
次いで、硬化後の７５℃における弾性率が６９ＭＰａである紫外線硬化性樹脂を用いて、光透過層を形成したことを除き、光記録媒体サンプル＃１を作製したのと同様にして、光記録媒体サンプル＃５を作製した。　
さらに、硬化後の７５℃における弾性率が８３ＭＰａである紫外線硬化性樹脂を用いて、光透過層を形成したことを除き、光記録媒体サンプル＃１を作製したのと同様にして、光記録媒体サンプル＃６を作製した。　
また、硬化後の７５℃における弾性率が１５４ＭＰａである紫外線硬化性樹脂を用いて、光透過層を形成したことを除き、光記録媒体サンプル＃１を作製したのと同様にして、光記録媒体サンプル＃７を作製した。　
さらに、硬化後の７５℃における弾性率が１７０ＭＰａである紫外線硬化性樹脂を用いて、光透過層を形成したことを除き、光記録媒体サンプル＃１を作製したのと同様にして、光記録媒体サンプル＃８を作製した。　
環境温度を５５℃に設定し、こうして得られた光記録媒体サンプル＃１～＃８の高温下での情報記録再生特性の変化を測定した。　
すなわち、光記録媒体サンプル＃１～＃８を、順次、パルステック工業株式会社製の情報記録再生装置「ＯＤＵ－１０００」（商品名）にセットし、環境温度５５℃で、各サンプルのハードコート層の表面に記録用レーザビームを照射して、記録層にデータを記録した。この際、記録用レーザビームの記録パワーＰｗを、設計値Ｐ１に対して、段階的に増大させた。　
次いで、各サンプルを上記情報記録再生装置にセットし、そのパワーが再生パワーＰｒに設定されたレーザビームをハードコート層に照射して、各サンプルの記録層に記録されたデータを再生し、データの再生ができなくなる記録用レーザビームの記録パワーＰ２を求めた。　
こうして測定されたレーザビームの記録パワーＰ１およびＰ２に基づいて、下式によって定義されるデータの再生が不可能になる指標になるデータ再生不能限界Ｘを求め、データ再生不能限界Ｘが２０％以上の光記録媒体サンプルをＧＯＯＤと判定し、情報再生不能限界Ｘが２０％未満の光記録媒体サンプルをＮＯ　ＧＯＯＤと判定した。　
Ｘ＝（Ｐ２－Ｐ１）／Ｐ１　ここに、データ再生不能限界Ｘが２０％以上の光記録媒体サンプルをＧＯＯＤと判定し、データ再生不能限界Ｘが２０％未満の光記録媒体サンプルをＮＯ　ＧＯＯＤと判定したのは、ユーザーが実際に光記録媒体に情報を記録する際に、光記録媒体の性能のばらつき、データ記録再生装置の性能のばらつき、外乱などに起因して、レーザビームの記録パワーＰｗが変動するおそれがあり、データ再生不能限界Ｘが２０％未満では、所望のように、情報を記録し、再生することができない場合があるからである。　
その結果、硬化後の７５℃における弾性率が１２ＭＰａである紫外線硬化性樹脂によって光透過層を形成した光記録媒体サンプル＃１のデータ再生不能限界Ｘは６．２％、硬化後の７５℃における弾性率が３０ＭＰａである紫外線硬化性樹脂によって光透過層を形成した光記録媒体サンプル＃２のデータ再生不能限界Ｘは１４．３％、硬化後の７５℃における弾性率が３４ＭＰａである紫外線硬化性樹脂によって光透過層を形成した光記録媒体サンプル＃３のデータ再生不能限界Ｘは１２．３％、硬化後の７５℃における弾性率が５１ＭＰａである紫外線硬化性樹脂によって光透過層を形成した光記録媒体サンプル＃４のデータ再生不能限界Ｘは２０．０％、硬化後の７５℃における弾性率が６９ＭＰａである紫外線硬化性樹脂によって光透過層を形成した光記録媒体サンプル＃５のデータ再生不能限界Ｘは２２．５％、硬化後の７５℃における弾性率が８３ＭＰａである紫外線硬化性樹脂によって光透過層を形成した光記録媒体サンプル＃６のデータ再生不能限界Ｘは３１．２％であり、硬化後の７５℃における弾性率が１５４ＭＰａである紫外線硬化性樹脂によって光透過層を形成した光記録媒体サンプル＃７のデータ再生不能限界Ｘは３７．１％、硬化後の７５℃における弾性率が１７０ＭＰａである紫外線硬化性樹脂によって光透過層を形成した光記録媒体サンプル＃８のデータ再生不能限界Ｘは３８．９１％であった。　
ここに、環境温度を５５℃に設定しているにもかかわらず、光透過層を形成する紫外線硬化性樹脂の７５℃における弾性率と情報再生不能限界Ｘとの関係を求めたのは、環境温度を５５℃に設定しても、情報記録再生装置の内部にセットされた光記録媒体サンプルの環境温度は５５℃よりも高く、１０枚の光記録媒体サンプルをデータ記録再生装置の内部にセットして、データを記録し、データを再生したときの光記録媒体サンプルの環境温度は６８．２℃～７４．７℃で、最も高温である７４．７℃よりもさらに高温の７５℃における紫外線硬化性樹脂の弾性率を求めるのが合理的だからである。　
このように、７５℃における弾性率が５１ＭＰａ未満の紫外線硬化性樹脂を用いて、光透過層を形成した光記録媒体サンプル＃１、２および３は情報再生不能限界Ｘが２０％未満であったのに対し、７５℃における弾性率が５１ＭＰａの紫外線硬化性樹脂を用いて、光透過層を形成した光記録媒体サンプル＃４、７５℃における弾性率が６９ＭＰａの紫外線硬化性樹脂を用いて、光透過層を形成した光記録媒体サンプル＃５および７５℃における弾性率が８３ＭＰａの紫外線硬化性樹脂を用いて、光透過層を形成した光記録媒体サンプル＃６、７５℃における弾性率が１５４ＭＰａの紫外線硬化性樹脂を用いて、光透過層を形成した光記録媒体サンプル＃７ならびに７５℃における弾性率が１７０ＭＰａの紫外線硬化性樹脂を用いて、光透過層を形成した光記録媒体サンプル＃８は情報再生不能限界Ｘが２０％以上であり、高温環境下での情報記録再生特性を向上させるという観点からは、７５℃における弾性率が５１ＭＰａ～１７０ＭＰａの紫外線硬化性樹脂を用いて、光透過層を形成することが好ましいということが判明し
た。　
実施例２　光記録媒体サンプル＃１～＃８を、それぞれ、５５℃の環境下に１０分にわたって保持した後の反り角（ｄｅｇ）を、株式会社日本電子工学製の光ディスク反り角自動測定器「ＳＨＨ－２０Ｎ」を用いて、測定した。　
その結果、硬化後の７５℃における弾性率が１２ＭＰａである紫外線硬化性樹脂によって光透過層を形成した光記録媒体サンプル＃２の反り角は０．１５ｄｅｇ、硬化後の７５℃における弾性率が３０ＭＰａである紫外線硬化性樹脂によって光透過層を形成した光記録媒体サンプル＃１の反り角は０．１０ｄｅｇ、硬化後の７５℃における弾性率が３４ＭＰａである紫外線硬化性樹脂によって光透過層を形成した光記録媒体サンプル＃３の反り角は０．１０ｄｅｇ、硬化後の７５℃における弾性率が５１ＭＰａである紫外線硬化性樹脂によって光透過層を形成した光記録媒体サンプル＃４の反り角は０．０５ｄｅｇ、硬化後の７５℃における弾性率が６９ＭＰａである紫外線硬化性樹脂によって光透過層を形成した光記録媒体サンプル＃５の反り角は０．１５ｄｅｇ、硬化後の７５℃における弾性率が８３ＭＰａである紫外線硬化性樹脂によって光透過層を形成した光記録媒体サンプル＃６の反り角は０．１２ｄｅｇ、硬化後の７５℃における弾性率が１５４ＭＰａである紫外線硬化性樹脂によって光透過層を形成した光記録媒体サンプル＃７の反り角は０．２２ｄｅｇ、硬化後の７５℃における弾性率が１７０ＭＰａである紫外線硬化性樹脂によって光透過層を形成した光記録媒体サンプル＃８の反り角は０．３５ｄｅｇであった。　
ここに、環境温度を５５℃に設定しているにもかかわらず、光透過層を形成する紫外線硬化性樹脂の７５℃における弾性率と光記録媒体サンプル＃１～＃８の反り角との関係を測定したのは、各光記録媒体サンプルの反り角を測定する測定器内にセットされた各光記録媒体サンプルは回路系などの熱影響を受け、各光記録媒体サンプルの環境温度は、５５℃よりも高く、１０枚の光記録媒体サンプルを測定器内にセットして、各光記録媒体サンプルの反り角を測定したところ、測定器内の温度は６８．２℃～７４．７℃で、最も高温である７４．７℃よりもさらに高温の７５℃における紫外線硬化性樹脂の弾性率と光記録媒体サンプル＃１～＃８の反り角を測定するのが合理的だからである。　
光記録媒体の反りが０．３５ｄｅｇ以上になると、光記録媒体のデータ記録再生特性が悪化することが認められており、したがって、硬化後の７５℃における弾性率が１７０ＭＰａ以上の紫外線硬化性樹脂によって光透過層を形成した場合には、反り角が大きくなりすぎて、光記録媒体のデータ記録再生特性が悪化し、一方、硬化後の７５℃における弾性率が１７０ＭＰａ未満の紫外線硬化性樹脂によって光透過層を形成した場合には、光記録媒体の反りによって、光記録媒体のデータ記録再生特性が悪化することはないということが判明した。　
実施例１および実施例２から、硬化後の７５℃における弾性率が５１ＭＰａ以上、１７０ＭＰａ未満の紫外線硬化性樹脂、とくに、硬化後の７５℃における弾性率が５１ＭＰａ以上、１５４ＭＰａ以下の紫外線硬化性樹脂によって光透過層を形成した光記録媒体は、環境温度が変化しても、良好な記録再生特性を有し、高温環境下で保存をしても、反りの発生を抑制することが可能になることが判明した。　
本発明は、以上の実施態様および実施例に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。　
たとえば、前記実施態様および実施例においては、光透過層１４の表面に、ハードコート層１５が形成されているが、光透過層１４の表面に、ハードコート層１５を形成することは必ずしも必要ではない。
１　光記録媒体　５　レーザビーム１０　基板１０ａ　基板に形成された案内溝１１　反射層１１ａ　反射層に形成された案内溝１２　記録層１３　保護層１４　光透過層１５　ハードコート層

Claims (4)

  1. 基板と、基板上に、少なくとも、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長の光を反射する反射層と、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長の光を吸収する記録層と、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長の光を透過する一層構成の光透過層とが積層された光記録媒体であって、前記光透過層の７５℃における弾性率が５０ＭＰａ以上、１７０ＭＰａ未満であることを特徴とする光記録媒体。
  2. 前記一層構成の光透過層が、光硬化性樹脂を塗布して、塗膜を形成し、光を照射して、塗膜を硬化させることによって形成され、前記光硬化性樹脂の硬化後の７５℃における弾性率が５１ＭＰａ以上、１５４ＭＰａ以下であることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
  3. 前記光硬化性樹脂が、紫外線を照射することによって硬化する紫外線硬化性樹脂であることを特徴とする請求項２に記載の光記録媒体。
  4. 前記記録層が、下記一般式（１）で表わされるアゾ金属錯体色素によって形成されていることを特徴とする請求項１～３のいずれか１項に記載の追記型の光記録媒体（一般式（１）において、Ｍは周期律表の７Ａ族、８族、１Ｂ族、２Ｂ族から選ばれる２価の金属であり、とくにニッケル、コバルト、銅、亜鉛、マンガン、鉄が好ましい。Ａは含窒素複素芳香環であり、Ｂは飽和または不飽和の５員環（５角形）から７員環（６角形）の炭化水素環もしくは複素環の縮合環を有する構造を有している。）。　　
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
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