WO2012081607A1 - 基板処理システム及び表示素子の製造方法 - Google Patents

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Definitions

  • the dimension in the short direction of the substrate S is, for example, about 50 cm to 2 m, and the dimension in the long direction (dimension of one round) is, for example, 10 m or more.
  • this dimension is only an example and is not limited thereto.
  • the dimension in the short direction of the substrate S may be 50 cm or less, or 2 m or more.
  • a substrate S having a dimension in the short direction exceeding 2 m may be used.
  • substrate S may be 10 m or less.
  • FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration of the substrate loading device 12.
  • the substrate loading device 12 includes a sheet roll 121R, a reader roll 122R, a sheet conveyance roller 123RL, a reader conveyance roller 124, a processing table 125, a cutter 126, an adhesive unit 127, a discharge roller 128, a connection port 129, and A discharge port (substrate insertion part) 130 is provided.
  • the carriage 42 is provided so as to be movable in the Y direction along the rail 41.
  • a recess 42 d that fits into the rail 41 is formed.
  • the carriage 42 is provided so as to be movable in the Y direction along the rail 41 in a state where the recess 42 d is fitted in the rail 41.
  • the plurality of substrate storage devices ST having the storage chambers RM for storing the substrates S and the connection ports 39 connected to each of the plurality of substrate storage devices ST are provided.
  • a plurality of substrate processing apparatuses PR that perform processing on the substrate S in a state where the apparatus ST is connected to the connection port 39 and a plurality of substrate accommodating apparatuses ST are connected to the plurality of substrate processing apparatuses PR, respectively.
  • the rail units 221 to 228 are provided with eight mounting units 211 to 218 on which the substrate storage device ST is mounted.
  • the placement units 211 to 216 are disposed at positions facing the substrate processing apparatuses PRA to PRF, respectively.
  • the placement portion 217 is disposed at a position where the substrate storage device ST is unloaded from the annular turntable TTR.
  • the placement unit 218 is disposed at a position where the substrate storage device ST is carried into the annular turntable TTR.
  • the substrate storage apparatus ST that has been processed by one substrate processing apparatus PR is temporarily retracted on the central turntable TTC, and the processing progress in the other substrate processing apparatuses PR is changed.
  • the substrate accommodating device ST can be moved from the central turntable TTC to another substrate processing apparatus PR as appropriate.
  • the third portion S3 is folded back along the fourth portion S4.
  • the third portion S3 is moved by the roller 110 so that the third portion S3 and the fourth portion S4 move in the opposite directions. Wrapped.
  • the support member 574 is integrally fixed so that the support plate 571 and the support rollers 572 and 573 do not move independently in the X direction, the Y direction, and the Z direction.
  • the ⁇ X side ends of the support rollers 572 and 573 (points that support the substrate S) and the support surface 571a are disposed on the same plane. Accordingly, the substrate S is supported by the support surface 571a and the two support rollers 572 and 573 arranged in the same plane as the support surface 571a.
  • the substrates S are accommodated double in the Y direction.
  • the configuration may be such that the windows W1 and W2 are provided side by side in the Y direction. Since processing can be performed for each of the substrates S that are doubled in the Y direction, the processing efficiency can be increased.

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

　基板を収容する収容室を有する複数の基板収容装置と、複数の基板収容装置のそれぞれに接続される接続部を有し、基板収容装置が接続部に接続された状態で基板に対して処理を行う複数の基板処理装置と、複数の基板収容装置のそれぞれが複数の基板処理装置のそれぞれに接続されるように案内する案内装置と、複数の基板収容装置のそれぞれが複数の基板処理装置のそれぞれに対して所定の順序で接続されるように案内装置を制御する制御装置とを備える。

Description

基板処理システム及び表示素子の製造方法
　本発明は、基板処理システム及び表示素子の製造方法に関する。
　本願は、２０１０年１２月１５日に出願された米国特許仮出願６１／４２３，２２２号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
　ディスプレイ装置などの表示装置を構成する表示素子として、例えば液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子が知られている。現在、これらの表示素子では、各画素に対応して基板表面に薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）を形成する能動的素子（アクティブデバイス）が主流となってきている。
　近年では、シート状の基板（例えばフィルム部材など）上に表示素子を形成する技術が提案されている。このような技術として、例えばロール・トゥ・ロール方式（以下、単に「ロール方式」と表記する）と呼ばれる手法が知られている（例えば、特許文献１参照）。ロール方式は、基板供給側の供給用ローラーに巻かれた１枚のシート状の基板（例えば、帯状のフィルム部材）を送り出すと共に送り出された基板を基板回収側の回収用ローラーで巻き取りながら、供給用ローラーと回収用ローラーとの間に設置された処理装置により基板に所望の加工を施していくものである。
　そして、基板が送り出されてから巻き取られるまでの間に、例えば複数の搬送ローラー等を用いて基板が搬送され、複数の処理装置(ユニット)を用いてＴＦＴを構成するゲート電極、ゲート絶縁膜、半導体膜、ソース・ドレイン電極等を形成し、基板の被処理面上に表示素子の構成要素を順次形成する。例えば、有機ＥＬの素子を形成する場合には、発光層、陽極、陰極、電気回路等を基板上に順次形成する。
国際公開第２００６／１００８６８号
　上記のようなロール方式を行う場合、処理効率が高く、高いスループットが得られる処理システムが求められている。
　本発明に係る態様は、高いスループットが得られる基板処理システム及び表示素子の製造方法を提供することを目的とする。
　本発明に係る一態様は、基板を収容する収容室を有する複数の基板収容装置と、複数の基板収容装置のそれぞれに接続される接続部を有し、基板収容装置が接続部に接続された状態で基板に対して処理を行う複数の基板処理装置と、複数の基板収容装置のそれぞれが複数の基板処理装置のそれぞれに接続されるように案内する案内装置と、複数の基板収容装置のそれぞれが複数の基板処理装置のそれぞれに対して所定の順序で接続されるように案内装置を制御する制御装置とを備える基板処理システムが提供される。
　本発明に係る別の態様は、上記態様における基板処理システムを用いて基板に表示素子を形成する表示素子の製造方法が提供される。
　本発明の態様によれば、高いスループットが得られる基板処理システム及び表示素子の製造方法を提供することができる。
本発明の実施の形態に係る基板処理システムの全体構成を示す正面図。 本実施形態に係る基板収容装置の構成を示す図。 本実施形態に係る基板装填装置の構成を示す図。 本実施形態に係る基板の構成を示す図。 本実施形態に係る基板処理システムの一部の構成を示す図。 本実施形態に係る基板処理システムの一部の構成を示す図。 本実施形態に係る基板処理装置の構成を示す図。 本発明の他の実施形態に係る基板処理システムの一部の構成を示す図。 本発明の他の実施形態に係る基板処理システムの一部の構成を示す図。 本発明の他の実施形態に係る基板処理システムの一部の構成を示す図。 本発明の他の実施形態に係る基板処理システムの一部の構成を示す図。 本発明の他の実施形態に係る基板処理システムの一部の構成を示す図。 基板保管装置の内部構成を示す断面図である。 基板保管装置の動作の一例を示す断面図である。 別の基板保管装置の構成を示す断面図である。 別の基板保管装置の動作の一例を示す断面図である。 基板保管装置の他の例を示す図である。 基板保管装置の他の例を示す図である。 基板保管装置の他の例を示す図である。 基板保管装置の他の例を示す図である。 基板保管装置の他の例を示す図である。
　以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。
　図１は、本実施形態に係る基板処理システムＳＹＳの全体構成を示す正面図である。
　図１に示すように、基板処理システムＳＹＳは、例えば製造工場の床面ＦＬに設けられており、一階部分１及び二階部分２を有している。
　基板処理システムＳＹＳの一階部分１には、収容装置搬入口１０、収容装置搬出口１１及び基板装填装置１２が設けられている。基板処理システムＳＹＳの二階部分２は、壁部２ａで囲まれたクリーンルームである。二階部分２には、一方向に並んで配置された複数の基板処理装置ＰＲ及が設けられている。また、一階部分１及び二階部分２には、案内装置ＧＤ及び複数の基板収容装置ＳＴが接続されている。
　以下、基板処理システムＳＹＳの説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。以下の図においては、ＸＹＺ直交座標系のうち床面ＦＬに平行な平面をＸＹ平面としている。ＸＹ平面のうち複数の基板処理装置ＰＲが並ぶ方向をＹ方向とし、Ｙ方向に直交する方向をＸ方向としている。また、床面ＦＬ（ＸＹ平面）に垂直な方向をＺ軸方向としている。
　基板処理システムＳＹＳは、帯状に形成され可撓性を有する基板Ｓの表面に各種処理を実行するロール・トゥ・ロール方式（以下、単に「ロール方式」と表記する）のシステムである。基板処理システムＳＹＳは、基板Ｓ上に例えば有機ＥＬ素子、液晶表示素子等の表示素子（電子デバイス）を形成する場合に用いられる。勿論、これらの素子以外の素子を形成する場合において基板処理システムＳＹＳを用いても構わない。
　基板処理システムＳＹＳにおいて処理対象となる基板Ｓとしては、例えば樹脂フィルムやステンレス鋼などの箔（フォイル）を用いることができる。例えば、樹脂フィルムは、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、エチレンビニル共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、などの材料を用いることができる。
　基板Ｓの短尺方向の寸法は例えば５０ｃｍ～２ｍ程度に形成されており、長尺方向の寸法（１周の寸法）は例えば１０ｍ以上に形成されている。勿論、この寸法は一例に過ぎず、これに限られることは無い。例えば基板Ｓの短尺方向の寸法が５０ｃｍ以下であっても構わないし、２ｍ以上であっても構わない。本実施形態においては、短尺方向の寸法が２ｍを超える基板Ｓを用いても構わない。また、基板Ｓの長尺方向の寸法が１０ｍ以下であっても構わない。
　基板Ｓは、例えば１ｍｍ以下の厚みを有し、可撓性を有するように形成されている。ここで可撓性とは、例えば基板に少なくとも自重程度の所定の力を加えても線断したり破断したりすることはなく、該基板を撓めることが可能な性質をいう。また、例えば上記所定の力によって屈曲する性質も可撓性に含まれる。また、上記可撓性は、該基板の材質、大きさ、厚さ、又は温度などの環境、等に応じて変わる。なお、基板Ｓとしては、１枚の帯状の基板を用いても構わないが、複数の単位基板を接続して帯状に形成される構成としても構わない。
　基板Ｓは、例えば２００℃程度の熱を受けても寸法が変わらないように熱膨張係数が小さい方が好ましい。例えば、無機フィラーを樹脂フィルムに混合して熱膨張係数を小さくすることができる。無機フィラーの例としては、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、酸化ケイ素などが挙げられる。
　図２は、基板収容装置ＳＴの構成を示す断面図である。
　図２に示すように、基板収容装置ＳＴは、複数の壁面を有する容器（筐体）２０を有している。容器２０は、例えば外形がほぼ直方体に形成されている。容器２０の内部には、容器２０を構成する壁部で囲まれた収容室ＲＭが形成されている。基板Ｓは、この収容室ＲＭに収容される。容器２０は、一の壁部２０ａに２つの開口部（ＥＮ、ＥＸ）を有している。本実施形態において、基板収容装置ＳＴは、この壁部２０ａが＋Ｘ側を向いた状態で用いられる。
　２つの開口部のうち一方は、収容室ＲＭに基板を搬入する基板搬入口ＥＮである。２つの開口部のうち他方は、収容室ＲＭの基板を搬出する基板搬出口ＥＸである。本実施形態では、基板搬入口ＥＮが基板搬出口ＥＸの－Ｚ側に配置された構成を例に挙げて説明するが、勿論逆の配置であっても構わない。
　容器２０の－Ｚ側の面（底面）には複数の車輪（ステージ駆動部）２８が設けられている。複数の車輪２８は、Ｘ方向に２列に配置されている。基板収容装置ＳＴには、容器２０がＸ方向に移動するように車輪２８を駆動させる不図示の駆動機構が設けられている。制御装置ＣＯＮＴは、この駆動機構による容器２０の移動量や移動のタイミングなどを調整可能である。
　収容室ＲＭのうち基板搬入口ＥＮの近傍には、搬入ローラー２２が設けられている。搬入ローラー２２は、基板搬入口ＥＮから収容室ＲＭへ－Ｘ方向に搬入されてくる基板ＳをＺ方向に挟む位置に一対設けられている。搬入ローラー２２は、基板搬入口ＥＮから搬入される基板Ｓを収容室ＲＭに引き込むように回転可能である。
　搬入ローラー２２の下流側には、方向転換ローラー２３が設けられている。方向転換ローラー２３は、ローラー２３ａ及び２３ｂを有している。方向転換ローラー２３の下流側には、折り返し部２４が設けられている。折り返し部２４は、複数個（ここでは８個）のローラー２４ａ～２４ｈを有している。各ローラー２４ａ～２４ｈは、それぞれ円筒状に形成されており、中心軸がＹ軸に沿って延在し、Ｘ方向において互いに平行となるように配置されている。
　ローラー２４ａ、２４ｃ、２４ｅ及び２４ｇは、容器２０の＋Ｚ側の壁部に沿って配置されている。ローラー２４ｂ、２４ｄ、２４ｆ及び２４ｈは、容器２０の－Ｚ側の壁部に沿って配置されている。基板Ｓは、このように配置されたローラー２４ａ～２４ｈに対して、ローラー２４ａ、ローラー２４ｂ、ローラー２４ｃ、ローラー２４ｄ、ローラー２４ｅ、ローラー２４ｆ、ローラー２４ｇ、ローラー２４ｈの順で掛けられている。このように、＋Ｚ側に配置されたローラーと－Ｚ側に配置されたローラーとに交互に掛けられるため、帯状に形成された基板Ｓを効率的に収容することができる構成となっている。
　ローラー２４ｈの下流側であって基板搬出口ＥＸの近傍には、搬出ローラー２５が設けられている。搬出ローラー２５は、基板ＳをＺ方向に挟む位置に一対設けられている。すなわち、搬出ローラー２５は、基板Ｓの表面側及び裏面側にそれぞれ一つ設けられている。搬出ローラー２５は、基板搬出口ＥＸから搬出される基板Ｓを収容室ＲＭの外部に送り出すように回転可能である。また、容器２０の＋Ｘ側の壁部２０ａには、＋Ｘ方向に突出した突出部２９が設けられている。
　なお、基板Ｓを図２のように折り返した状態で収容室ＲＭに収容するために、基板Ｓの搬送経路、例えば、各ローラーの間であって、基板Ｓの表面又は裏面をガイドするガイド板を設けてもよい。このガイド板は、基板Ｓの表面側又は裏面側のいずれか一方に設けてもよいし、両方に設けてもよい。また、このガイド板として、エアガイドを用いてもよい。
　図１に示すように、基板処理システムＳＹＳの一階部分１に設けられる収容装置搬入口１０は、上記の基板収容装置ＳＴを搬入する部分である。また、収容装置搬出口１１は、基板収容装置ＳＴを搬出する部分である。収容装置搬出口１１は、収容装置搬入口１０の＋Ｙ側に設けられている。基板装填装置１２は、基板収容装置ＳＴの収容室ＲＭに基板Ｓを充填させる。基板装填装置１２は、収容装置搬入口１０の－Ｙ側に設けられている。
　図３は、基板装填装置１２の構成を示す図である。
　図３に示すように、基板装填装置１２は、シートロール１２１Ｒ、リーダロール１２２Ｒ、シート搬送ローラー１２３ＲＬ、リーダ搬送ローラー１２４、加工テーブル１２５、カッター１２６、接着ユニット１２７、排出ローラー１２８、接続ポート１２９及び排出ポート（基板挿入部）１３０を有している。
　シートロール１２１Ｒは、基板収容装置ＳＴに充填させる基板Ｓの供給源であり、基板Ｓが巻きつけられている。リーダロール１２２Ｒは、基板Ｓの先端及び後端に貼り付けられるリーダＬの供給源であり、このリーダＬが巻きつけられている。シートロール１２１Ｒ及びリーダロール１２２Ｒからは、それぞれ基板Ｓ及びリーダＬが送り出されるようになっている。
　シート搬送ローラー１２３ＲＬは、シートロール１２１Ｒから送り出された基板Ｓを加工テーブル１２５へと搬送する。リーダ搬送ローラー１２４は、リーダロール１２２Ｒから送り出されたリーダＬを加工テーブル１２５へと搬送する。カッター１２６は、加工テーブル１２５へ搬送されたリーダＬを切断する。接着ユニット１２７は、切断されたリーダＬと基板Ｓの先端（あるいは後端）とを接着する。
　排出ローラー１２８は、リーダＬが接着された基板Ｓを排出ポート１３０から基板装填装置１２の外部に排出する。接続ポート１２９は、基板収容装置ＳＴの突出部２９を挿入させる凹部を有している。突出部２９が接続ポート１２９の凹部に挿入された状態で、基板収容装置ＳＴと基板装填装置１２とが接続されることになる。
　突出部２９及び接続ポート１２９にはそれぞれ不図示の端子が設けられており、突出部２９が接続ポート１２９の凹部に挿入されることで、基板収容装置ＳＴと基板装填装置１２とが電気的に接続されるようになっている。なお、突出部２９及び接続ポート１２９のそれぞれに、空圧系配管の端部や、真空系配管の端部を配置しておき、突出部２９が接続ポート１２９の凹部に挿入されることで基板収容装置ＳＴの配管と基板装填装置１２の配管とが接続される構成としても構わない。
　図４は、リーダＬが貼り付けられた状態の基板Ｓの構成を示す図である。
　図４に示すように、基板Ｓには、長尺方向に並んだ複数の領域３に素子（例えば、大型ディスプレイ等）が形成されることになる。また、リーダＬは、基板Ｓの先端Ｓｈに貼り付けられた先端リーダＬ１と、基板Ｓの後端Ｓｅに貼り付けられた後端リーダＬ２とを有している。先端リーダＬ１及び後端リーダＬ２には、それぞれ切り欠き部Ｌａや開口部Ｌｂが設けられている。
　切り欠き部Ｌａ及び開口部Ｌｂは、例えば基板処理システムＳＹＳが備える処理装置ＰＲ内の搬送系の突起部などに掛けられたり、位置あわせの基準位置として用いられたりする部分である。また、先端リーダＬ１には進行方向マークＬｃが形成されており、後端リーダＬ２には進行方向マークＬｄが形成されている。このようにリーダＬが貼り付けられた基板Ｓが基板収容装置ＳＴの収容室ＲＭに収容される。
　なお、先端リーダＬ１及び後端リーダＬ２に設けられている切り欠き部Ｌａや開口部Ｌｂは、図３に示すカッター１２６等によって加工してもよい。
　また、リーダＬには不図示のＩＣタグや磁気ストライプなどの情報記録部が設けられている。この情報記録部には、基板Ｓへの加工や処理に関わる各種データ（処理条件、処理結果、ロット管理等の情報）が記録されている。情報記録部に記録される情報は、例えば基板収容装置ＳＴに設けられる記憶部や、制御装置ＣＯＮＴに設けられる記憶部などに書き換え可能に記録されるようになっている。
　図５は、図１に示した基板処理システムＳＹＳの二階部分２の構成を上から見た平面図である。図６は、二階部分２の一部の構成を示す側面図である。
　図１、図５及び図６に示すように、基板処理システムＳＹＳの二階部分２に設けられる基板処理装置ＰＲは、基板Ｓに対して表示素子を形成するための各種処理を行う装置である。このような基板処理装置ＰＲとして、本実施形態では、例えば基板Ｓに隔壁を形成するための隔壁形成装置、有機ＥＬ素子を駆動するための電極を形成するための電極形成装置、有機ＥＬ素子の発光層を形成するための発光層形成装置などが挙げられる。
　より具体的には、液滴塗布装置（例えばインクジェット型塗布装置、グラビア印刷装置など）、蒸着装置、スパッタリング装置などの成膜装置や、露光装置、現像装置、表面改質装置、洗浄装置などが挙げられる。本実施形態では、このような各種処理を行う第一基板処理装置ＰＲ１、第二基板処理装置ＰＲ２、第三基板処理装置ＰＲ３及び第四基板処理装置ＰＲ４が基板処理装置ＰＲとして、－Ｙ側から＋Ｙ側へ順に配置されている。なお、処理装置として、その他の各種の工程（加熱等）を行う処理装置を配置してもよい。
　各基板処理装置ＰＲは、基板収容装置ＳＴとの間で基板Ｓの受け渡しを行う受け渡し部３０を有している。受け渡し部３０は、基板収容装置ＳＴの基板搬入口ＥＮへ基板Ｓを排出する排出ポート３０Ｎと、基板収容装置ＳＴの基板搬出口ＥＸから基板Ｓを取り込む取り込みポート（引き込みポート，基板引出部）３０Ｘとを有している。また、各基板処理装置ＰＲは、基板収容装置ＳＴの突出部２９に接続される接続ポート３９（図６）を有している。
　接続ポート３９にはそれぞれ不図示の端子が設けられており、突出部２９が接続ポート３９の凹部に挿入されることで、基板収容装置ＳＴとそれぞれの基板処理装置ＰＲとが電気的に接続されるようになっている。また、接続ポート３９に空圧系の配管の端部や真空系の配管の端部を配置しておき、突出部２９が接続ポート３９の凹部に挿入されることで基板収容装置ＳＴの配管と基板処理装置ＰＲの配管とが接続される構成としても構わない。
　図７は、基板処理装置ＰＲの一例として、隔壁形成装置ＰＲ１を用いた場合の構成を示す図である。
　図７に示すように、隔壁形成装置ＰＲ１は、紫外線硬化樹脂層形成部３１、温調部３２、インプリント形成部３３、紫外線照射部３４、バッファ部３５及び空調部３６を含む処理部を有している。また、隔壁形成装置ＰＲ１は、上記の排出ポート３０Ｎ及び取り込みポート３０Ｘを有している。
　紫外線硬化樹脂層形成部３１は、取り込みポート３０Ｘから装置内に取り込まれた基板Ｓの表面に紫外線硬化樹脂の層を塗布法により形成する。温調部３２は、紫外線硬化樹脂層が形成された基板Ｓの温調を行う。制御装置ＣＯＮＴは、温調部３２による調整量を制御可能である。インプリント形成部３３は、紫外線硬化樹脂層に所定のパターンを形成する。
　インプリント形成部３３は、スタンパーローラー３３ａ及び圧接ローラー３３ｂを有している。スタンパーローラー３３ａの表面には、紫外線硬化樹脂層に形成する隔壁の型が形成されている。圧接ローラー３３ｂは、スタンパーローラー３３ａの表面に基板Ｓの表面側を押し付ける。このため、基板Ｓがスタンパーローラー３３ａと圧接ローラー３３ｂとの間を搬送されることにより、基板Ｓ上の紫外線硬化樹脂層に隔壁のパターンが形成されるようになっている。
　紫外線照射部３４は、基板Ｓの紫外線硬化樹脂層に対して紫外線を照射する。紫外線照射部３４は、紫外線を照射する複数の光源を有している。紫外線照射部３４を通過した基板Ｓには、硬化された状態の隔壁が形成される。バッファ部３５は、紫外線照射部３４を通過した基板Ｓが一定量収容される部分である。バッファ部３５を介した基板Ｓは、取り込みポート３０Ｘから基板収容装置ＳＴへと排出されるようになっている。空調部３６は、隔壁形成装置ＰＲ１内の空気中から塵埃などの異物を除去するフィルター３６ａ及び３６ｂを有している。フィルター３６ａ及び３６ｂとしては、ＨＥＰＡフィルターなどが用いられる。
　また、図１に示すように、案内装置ＧＤは、トラック４０、レール（案内軌条）４１、台車（ステージ）４２、昇降機構４３及び４４を有している。案内装置ＧＤは、基板収容装置ＳＴを一階部分１及び二階部分２及びこれらの間で案内する。トラック４０は、基板収容装置ＳＴの案内方向（Ｙ方向）に一直線上に設けられている。レール４１は、Ｙ方向に延在するように形成されており、トラック４０の＋Ｚ側の面上にＸ方向に２本設けられている（図３参照）。
　台車４２は、レール４１に沿ってＹ方向に移動可能に設けられている。台車４２の－Ｚ側の面４２ｂには、レール４１にはめ込まれる凹部４２ｄが形成されている。台車４２は、凹部４２ｄがレール４１にはめ込まれた状態で、このレール４１に沿ってＹ方向に移動可能に設けられている。
　台車４２は、基板収容装置ＳＴを載置する載置面４２ａを有している。台車４２の載置面４２ａには、Ｘ方向に平行に延在する一対のレール４２ｃが形成されている。レール４２ｃには、基板収容装置ＳＴの車輪２８が載置される。この車輪２８は、それぞれレール４２ｃに対向する位置に配置されている。このため、各車輪２８はレール４２ｃに沿って移動可能である。したがって、基板収容装置ＳＴは案内装置ＧＤに対してＸ方向に独立して移動可能に設けられている。
　昇降機構４３は、基板収容装置ＳＴを載置させた状態で＋Ｚ方向に移動することにより、基板収容装置ＳＴを一階部分１から二階部分２へ搬送する。昇降機構４４は、二階部分２からの基板収容装置ＳＴを載置して－Ｚ方向に移動することにより、基板収容装置ＳＴを二階部分２から一階部分１へと搬送する。
　次に、上記のように構成された基板処理システムＳＹＳの動作を説明する。
　制御装置ＣＯＮＴは、外部から一階部分１の収容装置搬入口１０に基板収容装置ＳＴが搬入されたときに、この基板収容装置ＳＴの－Ｚ側に台車４２を配置させ、載置面４２ａに基板収容装置ＳＴを載置させる。基板収容装置ＳＴは、所定の間隔で収容装置搬入口１０から搬入される。
　基板収容装置ＳＴを載置させた後、制御装置ＣＯＮＴは、台車４２を－Ｙ方向へ移動させ、基板収容装置ＳＴを基板装填装置１２へと案内する。制御装置ＣＯＮＴは、台車４２に形成されたレール４２ｃに沿って基板収容装置ＳＴを＋Ｘ側へ移動させ、突出部２９を接続ポート１２９に挿入させる。この状態で、制御装置ＣＯＮＴは、基板装填装置１２から基板Ｓを基板収容装置ＳＴに装填させる。この基板Ｓは、図４に示すようにリーダＬが貼り付けられた状態で基板収容装置ＳＴに収容される。
　基板収容装置ＳＴに基板Ｓが収容された後、制御装置ＣＯＮＴは、台車４２を昇降機構４３上に移動させる。その後、制御装置ＣＯＮＴは、昇降機構４３を＋Ｚ側へ移動させ、台車４２を二階部分２へと搬送させる。制御装置ＣＯＮＴは、台車４２を＋Ｙ側へ移動させ、この台車４２を二階部分２のレール４１上に配置させる。台車４２の移動後、制御装置ＣＯＮＴは昇降機構４３を－Ｚ側へ移動させ、次に搬入される基板収容装置ＳＴを待機させる。このように、制御装置ＣＯＮＴは、昇降機構４３を用いて、一階部分１に搬入された基板収容装置ＳＴを順に二階部分２へと搬送させる。
　制御装置ＣＯＮＴは、二階部分２において昇降機構４３からレール４１へ移動した台車４２を、まずは第一基板処理装置ＰＲ１の－Ｘ側に配置させる。この状態で、制御装置ＣＯＮＴは台車４２の位置を固定させ、基板収容装置ＳＴを単独で＋Ｘ側へ移動させる。この動作により、突出部２９が接続ポート３９に挿入され、基板収容装置ＳＴが各基板処理装置ＰＲに接続される。
　基板収容装置ＳＴが第一基板処理装置ＰＲ１に接続された後、制御装置ＣＯＮＴは、基板収容装置ＳＴの基板搬出口ＥＸから基板Ｓを排出させる。また、制御装置ＣＯＮＴは、排出された基板Ｓを第一基板処理装置ＰＲ１の取り込みポート３０Ｘから第一基板処理装置ＰＲ１の内部へ搬入させる。第一基板処理装置ＰＲ１の内部では、基板Ｓに対してそれぞれ上記の隔壁形成処理が行われる。
　第一基板処理装置ＰＲ１において基板Ｓの全体に対して処理が行われ、基板Ｓが基板収容装置ＳＴの収容室ＲＭに収容された後、制御装置ＣＯＮＴは、基板収容装置ＳＴを－Ｘ側に移動させる。この動作により、基板収容装置ＳＴと第一基板処理装置ＰＲ１との接続が解除される。
　制御装置ＣＯＮＴは、第一基板処理装置ＰＲ１との接続が解除された基板収容装置ＳＴを第二基板処理装置ＰＲ２の＋Ｘ側へ配置させ、基板収容装置ＳＴを第二基板処理装置ＰＲ２に接続させる。制御装置ＣＯＮＴは、第二基板処理装置ＰＲ２において、基板収容装置ＳＴに収容される基板Ｓに対して処理を行わせる。処理が終了した後、第二基板処理装置ＰＲ２との接続を解除させる。
　その後、基板収容装置ＳＴを第三基板処理装置ＰＲ３及び第四基板処理装置ＰＲ４へと順に接続させ、基板Ｓに対して処理を行わせる。第二基板処理装置ＰＲ２、第三基板処理装置ＰＲ３及び第四基板処理装置ＰＲ４では、第一基板処理装置ＰＲ１で行われる隔壁形成処理の後工程としての処理が行われる。このような処理として、例えば、電極形成処理や発光層形成処理などが挙げられる。
　このような二階部分２における動作では、例えば一の基板収容装置ＳＴについて第一基板処理装置ＰＲ１での処理を終え、第二基板処理装置ＰＲ２に接続された場合、第一基板処理装置ＰＲ１は空いた状態となる。そこで、制御装置ＣＯＮＴは、この空いた状態の第一基板処理装置ＰＲ１に対して次の基板収容装置ＳＴを接続させる。このように、空いた基板処理装置ＰＲに順に次の基板収容装置ＳＴを接続させて処理を行わせることで、基板Ｓに対して高い効率で処理を行わせることが可能となる。
　各基板処理装置ＰＲでの処理（本実施形態では、第四基板処理装置ＰＲ４での処理）が完了した後、制御装置ＣＯＮＴは、台車４２を＋Ｙ側に移動させ、昇降機構４４上に載置させる。台車４２を昇降機構４４上に載置させた後、制御装置ＣＯＮＴは、昇降機構４４を－Ｚ側に移動させ、台車４２及びこの台車４２に載置される基板収容装置ＳＴを一階部分１へ搬送する。昇降機構４４が一階部分１へ到達した後、制御装置ＣＯＮＴは、台車４２を－Ｙ側へ移動させて、一階部分１のレール４１上に配置させる。なお、台車４２を移動させた後、制御装置ＣＯＮＴは昇降機構４４を＋Ｚ側へ移動させ、次に処理が終了する基板収容装置ＳＴを待機させる。
　制御装置ＣＯＮＴは、一階部分１において昇降機構４４からレール４１上に配置された台車４２を、収容装置搬出口１１の正面へ移動させる。この状態で、制御装置ＣＯＮＴは台車４２上の基板収容装置ＳＴを収容装置搬出口１１から搬出させる。基板収容装置ＳＴを搬出させた後、台車４２を収容装置搬入口１０の正面へ移動させる。この状態で、制御装置ＣＯＮＴは、次に収容装置搬入口１０から搬入される空の基板収容装置ＳＴを待機させる。このように、台車４２は、一階部分１及び二階部分２の間を循環するように移動することとなる。収容装置搬出口１１から外に搬出された基板収容装置ＳＴは、別の部屋（建物）又は工場に搬送され、表示素子のアセンブリ工程を経て、空になって収容装置搬入口１０に戻ってくる。
　このように、本実施形態によれば、基板Ｓを収容する収容室ＲＭを有する複数の基板収容装置ＳＴと、複数の基板収容装置ＳＴのそれぞれに接続される接続ポート３９を有し、基板収容装置ＳＴが接続ポート３９に接続された状態で基板Ｓに対して処理を行う複数の基板処理装置ＰＲと、複数の基板収容装置ＳＴのそれぞれが複数の基板処理装置ＰＲのそれぞれに接続されるように案内する案内装置ＧＤと、複数の基板収容装置ＳＴのそれぞれが複数の基板処理装置ＰＲのそれぞれに対して所定の順序で接続されるように案内装置ＧＤを制御する制御装置ＣＯＮＴとを備えることとしたので、基板収容装置ＳＴに収容される基板Ｓに対して効率的に処理を行わせることができる。これにより、高いスループットが得られる基板処理システムＳＹＳを提供することができる。
　また、基板収容装置ＳＴに収納される基板Ｓの所定長さ（尺長）毎のロット管理が可能となり、生産管理向上、ダウンタイムを低減することができる。
　また、基板Ｓの尺長を、例えば、表示素子の大きさ及び表示素子の数に応じて予め決定しておき、その基板Ｓを基板収容装置ＳＴに収容しておいてもよい。
　この場合、基板収容装置ＳＴに収容する基板Ｓの長さは、表示素子の大きさ及び表示素子の数に応じて、基板収容装置ＳＴ毎に異なせることができる。
　そして、制御装置ＣＯＮＴは、基板収容装置ＳＴが収容する基板Ｓの長さを考慮して、複数の基板処理装置ＰＲの処理時間等を管理することができる。
　本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
　上記実施形態においては、複数の基板処理装置ＰＲがトラック４０の＋Ｘ側に設けられた構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば、図８に示すように、基板処理装置ＰＲの一部がトラック４０の－Ｘ側に設けられた構成であっても構わない。
　図８に示す構成では、第三基板処理装置ＰＲ３と第五基板処理装置ＰＲ５とがＸ方向においてトラック４０を挟んで設けられている。第五基板処理装置ＰＲ５は、第三基板処理装置ＰＲ３と同一の処理を行う装置である。第五基板処理装置ＰＲ５は、接続ポート３９が＋Ｘ側を向くように配置されている。
　なお、第三基板処理装置ＰＲ３と第五基板処理装置ＰＲ５とが行う同一の処理とは、例えば、液滴塗布処理、蒸着処理、露光処理、成膜処理、エッチング処理、表面改質処理、洗浄処理等であり、第三基板処理装置ＰＲ３と第五基板処理装置ＰＲ５とは、このような処理機能を備えていればよく、装置メーカや、処理機構が異なっていてもよい。
　また、第三基板処理装置ＰＲ３は、トラック４０に対して＋Ｘ側に間隔を空けて配置されている。トラック４０のうち第三基板処理装置ＰＲ３と第五基板処理装置ＰＲ５とで挟まれた位置には、Ｘ方向に移動可能な可動部分４５が設けられている。可動部分４５は、Ｘ方向に延在するレール４５ａ上を移動可能に設けられている。基板収容装置ＳＴが載置された状態で可動部分４５が＋Ｘ側にスライドすると、基板処理装置ＰＲ３との間で接続可能な位置に基板収容装置ＳＴが配置されることになる。
　第五基板処理装置ＰＲ５とトラック４０との間には、ターンテーブル４６が設けられている。ターンテーブル４６は、第二ステージ駆動部（不図示）によってＺ軸を中心に回転可能に設けられている。ターンテーブル４６の＋Ｚ側の面には、レール４５ａに接続可能なレール４６ａが形成されている。レール４６ａのうちレール４５ａに接続される接続部４６ｂが＋Ｘ側に配置された状態では、可動部分４５がターンテーブル４６上に移動可能となる。
　可動部分４５がターンテーブル４６上に配置された状態でターンテーブル４６が１８０°回転すると、可動部分４５に載置された基板収容装置ＳＴの基板搬入口ＥＮ及び基板搬出口ＥＸが－Ｘ側に向けられる。このため、基板収容装置ＳＴが第五基板処理装置ＰＲ５に接続可能となる。この構成により、例えば第三基板処理装置ＰＲ３のタクトが低い場合などには、このタクトの低い工程の基板処理装置ＰＲを複線化することができる。
　なお、図８では、第三基板処理装置ＰＲ３と第五基板処理装置ＰＲ５の間に、同一構造の２つの可動部分４５がＸ方向に並ぶように設けられている。そして、その一方の可動部分４５が、基板収容装置ＳＴを第三基板処理装置ＰＲ３に接続する為にＸ方向に移動し、他方の可動部分４５が、基板収容装置ＳＴを第五基板処理装置ＰＲ３に接続する為にＸ方向に移動するように構成されている。
　このように、２つの可動部分４５を設けることによって、第三基板処理装置ＰＲ３と第五基板処理装置ＰＲ５の両方を同時に使うことができる。
　この利点を活かす為、図８ではターンテーブル４６を設けたが、代替的に、ターンテーブル４６の設置を省略し、第五基板処理装置ＰＲ５側に基板収容装置ＳＴを接続する可動部分４５が、Ｘ方向の移動と共に、Ｚ軸を中心に１８０°回転可能な機構を有するようにしてもよい。この場合、回転可能とされた可動部分４５は、可動部分及びターンテーブルの役割を担い、第二ステージ駆動部（不図示）によって移動及び回転可能な第二ステージを構成する。
　例えば、第二基板処理装置ＰＲでの処理が完了した一の基板収容装置ＳＴに対して次の処理を行わせる際に、先行する基板収容装置ＳＴが第三基板処理装置ＰＲ３に接続されている場合には、この一の基板収容装置ＳＴを第五基板処理装置ＰＲ５に接続させるようにする。これにより、基板収容装置ＳＴの処理待ちの時間を低減させることができる。このように、基板処理装置ＰＲにおける処理時間の長さに応じて、それぞれの基板収容装置ＳＴの案内先を設定することにより、基板処理システムＳＹＳ全体としてのタクト低減を抑えることができる。
　また、例えば図９Ａ及び図９Ｂに示すように、第五基板処理装置ＰＲ５が第三基板処理装置ＰＲ３の＋Ｚ側に階層的に配置された構成であっても構わない。図９Ａに示す構成では、第三基板処理装置ＰＲ３と第五基板処理装置ＰＲ５との間で基板収容装置ＳＴを搬送するエレベータ装置（第二ステージ）９０が設けられている。エレベータ装置（第二ステージ）９０は、第二ステージ駆動部（不図示）によって、Ｚ軸に沿って昇降可能に設けられている。
　エレベータ装置９０は、昇降リフト９１及び支柱部９２を有している。昇降リフト９１は、基板収容装置ＳＴを載置させる載置部９１ａ及び９１ｂを有している。載置部９１ａ及び載置部９１ｂは、Ｚ方向に２段に設けられている。この載置部９１ａと載置部９１ｂとの間隔は、第三基板処理装置ＰＲ３と第五基板処理装置ＰＲ５との間隔と等しくなっている。
　このため、載置部９１ａ及び載置部９１ｂにそれぞれ基板収容装置ＳＴを載置させることにより、図９Ｂに示すように、載置部９１ａに載置された基板収容装置ＳＴと載置部９１ｂに載置された基板収容装置ＳＴとが同時に基板処理装置ＰＲに接続されることになる。
　図９Ｂでは、載置部９１ａに載置された基板収容装置ＳＴの突出部２９が第三基板処理装置ＰＲ３の接続ポート３９に接続されると共に、載置部９１ｂに載置された基板収容装置ＳＴの突出部２９が第五基板処理装置ＰＲ５の接続ポート３９に接続されている。このように、複数の基板処理装置ＰＲが重力方向に重ねて配置された構成により、図８に示す構成と同様、第三基板処理装置ＰＲ３のタクトが低い場合などには、このタクトの低い工程の基板処理装置ＰＲを複線化することができるため、基板処理システムＳＹＳ全体としてのタクト低減を抑えることができる。
　また、上記実施形態では、基板処理装置ＰＲが直線状あるいは階層状に配置された構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば複数の基板処理装置ＰＲを円周方向に沿って配置させる構成としても構わない。図１０に示す構成では、６つの基板処理装置ＰＲＡ～ＰＲＦが、円環状に形成された環状ターンテーブル（第二ステージ）ＴＴＲを囲うように配置されている。環状ターンテーブル（第二ステージ）ＴＴＲは、第二ステージ駆動部（不図示）によって、Ｚ軸を中心に回転可能に設けられている。
　図１０に示すように、基板処理装置ＰＲＡ～ＰＲＦは、それぞれ環状ターンテーブルＴＴＲの周方向に沿って配置されている。各基板処理装置ＰＲＡ～ＰＲＦは、環状ターンテーブルＴＴＲの周方向にそれぞれ４５°置きにずれた位置に配置されている。基板処理装置ＰＲＡ～ＰＲＦは、それぞれ接続ポート３９が環状ターンテーブルＴＴＲの外周側に向くように配置されている。
　環状ターンテーブルＴＴＲ上には、レール部２２１～２２８が形成されている。レール部２２１～２２８は、それぞれ平行に配置された一対のレールを有している。レール部２２１～２２８は、環状ターンテーブルＴＴＲの中心に向けた方向に延在されている。レール部２２１～２２８は、環状ターンテーブルＴＴＲの周方向にそれぞれ４５°置きにずれた位置に配置されている。
　レール部２２１～２２８には、基板収容装置ＳＴを載置させる８つの載置部２１１～２１８が設けられている。図１０に示す状態では、載置部２１１～２１６は、それぞれ基板処理装置ＰＲＡ～ＰＲＦに対向する位置に配置されている。載置部２１７は基板収容装置ＳＴを環状ターンテーブルＴＴＲから搬出する位置に配置されている。載置部２１８は基板収容装置ＳＴを環状ターンテーブルＴＴＲに搬入する位置に配置されている。
　載置部２１１～２１８は、レール部２２１～２２８の延在方向に沿って移動可能に設けられている。基板処理装置ＰＲＡ～ＰＲＦに対向する位置に配置された載置部２１１～２１６が基板収容装置ＳＴを搭載した状態で環状ターンテーブルＴＴＲの外周側に移動することで、各載置部２１１～２１６上の基板収容装置ＳＴが基板処理装置ＰＲＡ～ＰＲＦにそれぞれ接続されるようになっている。また、この状態から載置部２１１～２１６が環状ターンテーブルＴＴＲの内周側に移動することで、各基板収容装置ＳＴと基板処理装置ＰＲＡ～ＰＲＦとの接続が解除されるようになっている。
　各基板収容装置ＳＴと基板処理装置ＰＲＡ～ＰＲＦとの接続が解除された状態で環状ターンテーブルＴＴＲを４５°回転させることにより、各基板収容装置ＳＴは、それまで接続されていた基板処理装置ＰＲＡ～ＰＲＦに隣接する基板処理装置ＰＲＡ～ＰＲＦに対向する位置に配置されることになる。このように、基板収容装置ＳＴに対して処理が終了するごとに環状ターンテーブルＴＴＲを例えば４５°回転させ、基板処理装置ＰＲＡ～ＰＲＦの各処理を順に行わせることにより、効率的な処理が可能となる。
　なお、環状ターンテーブルＴＴＲの中央部には、円板状の中央ターンテーブルＴＴＣが設けられている。中央ターンテーブルＴＴＣは、円周方向に回転可能に設けられている。中央ターンテーブルＴＴＣには、レール部２０１が形成されている。レール部２０１は、一方向に平行に配置された一対のレールを有している。
　レール部２０１の一対のレールの間隔は、環状ターンテーブルＴＴＲに設けられたレール部２２１～２２８をそれぞれ構成する一対のレールの間隔と同一となっている。したがって、中央ターンテーブルＴＴＣの角度位置に応じて、レール部２０１とレール部２２１～２２８とが接続されるようになっている。
　レール部２０１がレール部２２１～２２８のいずれかに接続された状態においては、この接続されたレール部２２１～２２８上に配置される載置部２１１～２１８が中央ターンテーブルＴＴＣ上に移動可能となる。したがって、基板収容装置ＳＴを一時的に中央ターンテーブルＴＴＣ上に退避させておくことができる。この構成により、例えば基板処理装置ＰＲＡ～ＰＲＦのいずれかで処理を一時的に中断させる場合などには、この処理を中断させる基板処理装置ＰＲに接続される基板収容装置ＳＴを一時的に中央ターンテーブルＴＴＣ上に退避させておくことができる。
　また、この構成により、例えば一の基板処理装置ＰＲで処理が完了した基板収容装置ＳＴについて一時的に中央ターンテーブルＴＴＣ上に退避させておき、他の基板処理装置ＰＲにおける処理の進捗状況に応じて適宜中央ターンテーブルＴＴＣから他の基板処理装置ＰＲへ基板収容装置ＳＴを移動させることができる。
　また、基板収容装置ＳＴの構成について、上記実施形態における構成の他に、例えば図１１に示すような構成とすることができる。図１１の構成において、基板Ｓを案内する複数のローラー１０１～１２３のうちのローラー１０１～１２１は、先の図２に示した基板Ｓの一重の折返し状態を三重にするように、当該この基板Ｓを折り返す位置に配置されている。
　具体的には、ローラー１０６において、基板Ｓの第一面Ｓａ同士が互いに向き合うように基板Ｓが折り返されている。なお、基板Ｓのうちローラー１０６によってこのローラー１０６の下流側に折り返された部分を第一部分Ｓ１と表記する。また、基板Ｓのうちローラー１０６によって第一部分Ｓ１とは逆方向に折り返された部分を第四部分Ｓ４と表記する。
　ローラー１０７においては、第一部分Ｓ１の第二面Ｓｂ同士が互いに向き合うようにこの第一部分Ｓ１が折り返されている。なお、基板Ｓのうちローラー１０７によってこのローラー１０７の下流側に折り返された部分を第二部分Ｓ２と表記する。
　ローラー１０８及びローラー１０９においては、この第二部分Ｓ２がローラー１０６に向かうように方向転換されている。なお、基板Ｓのうちローラー１０８及びローラー１０９によって方向転換された部分を第三部分Ｓ３と表記する。
　ローラー１１０においては、この第三部分Ｓ３が、第四部分Ｓ４に沿うように折り返されている。同時に、例えば、基板Ｓが基板搬入口ＥＮから基板搬出口ＥＸへ移動する状態において、第三部分Ｓ３と第四部分Ｓ４とが逆方向に移動するように、この第三部分Ｓ３がローラー１１０によって折り返されている。
　ローラー１０６からローラー１１０にかけて、上記のように基板Ｓが折り返されているため、基板Ｓのうちローラー１０１～１０７に掛けられる部分と、基板Ｓのうちローラー１０９～１１５に掛けられる部分とが、Ｚ方向とＸ方向に所定の間隔を空けて配置されることになる。同様に、ローラー１１３からローラー１１７にかけてもほぼ同様の構成で基板Ｓが折り返されているため、基板Ｓのうちローラー１０９～１１５に掛けられる部分と、基板Ｓのうちローラー１１６～１２１に掛けられる部分とがＺ方向とＸ方向に所定の間隔を空けて配置されることになる。これにより、収容室ＲＭの限られたスペースに対して効率良く基板Ｓを収容することができる。
　また、上記実施形態では、案内装置ＧＤの構成について、台車４２を循環させる案内軌条として、トラック４０に配置されたレール４１の構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、例えばワイヤーなど、他の案内軌条を用いた構成であっても構わない。
　また、本発明は、上記実施形態で説明した基板収容装置ＳＴ及び基板処理装置ＰＲ（ＰＲ１～ＰＲ５、ＰＲＡ～ＰＲＦ）の構成のみに限定されない。以下、基板収容装置（基板保管装置）及び基板処理装置（処理装置）の他の構成について図１２～図２０を参照して説明する。
　図１２は、基板保管装置（基板収容装置）ＳＴＲの内部構成を示す図である。
　図１２に示すように、基板保管装置ＳＴＲは、帯状に形成され可撓性を有する基板Ｓを収容する容器ＣＴと、基板Ｓが掛けられる基板搬送部ＣＶとを有する。基板保管装置ＳＴＲは、例えば不図示の台車４２上に車輪２８を介して載置された容器ＣＴに基板Ｓを収容すると共に基板搬送部ＣＶに掛けた状態で保管する。基板Ｓは、長尺方向が無端状に形成されている。
　容器ＣＴは、例えば外形がほぼ直方体に形成されている。なお、容器ＣＴの－Ｘ側の壁部ＣＴａは、＋Ｚ側端部が例えば＋Ｘ側に傾斜した形状になっている。また、容器ＣＴの＋Ｘ側端部ＣＴｂは、＋Ｚ側端部が例えば＋Ｘ側に突出した形状になっている。容器ＣＴの内部には、容器ＣＴを構成する壁部（壁部ＣＴａ及びＣＴｂを含む）で囲まれた収容室ＲＭが形成されている。
　容器ＣＴは、壁部ＣＴａに窓部Ｗを有している。窓部Ｗは、容器ＣＴの外部と収容室ＲＭとを連通するように壁部ＣＴａを貫通して形成された開口部である。窓部Ｗは、壁部ＣＴａのＺ方向のほぼ中央に配置されている。壁部ＣＴａには、接続部Ｊが設けられている。接続部Ｊは、例えば処理装置ＰＡなどの外部装置に設けられる装置側接続部５９０及び５９１に接続させる部分である。
　なお、窓部Ｗには、後述する扉部材が設けられており、この扉部材は、処理装置ＰＡが接続されることによって開き、処理装置ＰＡの接続が解除されることによって閉じる。すなわち、処理装置ＰＡが接続されていない状態において、この扉部材は、容器ＣＴ内に対する塵や埃等の異物の侵入を防ぐことができる。
　接続部Ｊは、処理装置ＰＡと容器ＣＴとの相対位置がずれるのを抑制するように処理装置ＰＡと容器ＣＴとを接続可能である。装置側接続部５９０及び５９１は、容器ＣＴの壁部ＣＴａのうち窓部Ｗの縁部に接続されるようになっている。この場合、接続部Ｊは、装置側接続部５９０及び５９１の接続位置に対応するように、窓部Ｗの縁部に設けられている。このように、接続部Ｊは、窓部Ｗが設けられた壁部ＣＴａと同一の壁部ＣＴａに設けられており、窓部Ｗの周囲に配置されている。
　前記処理装置ＰＡには装置側接続部５９０及び５９１の他、ニップローラー５９２及び５９３や、処理部５９５などが設けられている。ニップローラー５９２及び５９３は、Ｚ方向において処理部５９５を挟む位置に配置されている。ニップローラー５９２の＋Ｘ側端点及びニップローラー５９３の＋Ｘ側端点は、ともにＹＺ平面に平行な平面に接している。
　処理部５９５は、図１２に破線で示す処理面５９５ａに対して所定の処理を行うように形成されている。処理面５９５ａは、ＹＺ平面に平行に設定されており、例えばニップローラー５９２及び５９３の＋Ｘ側の端点を含む平面上に設定されている。前記所定の処理としては、例えば、塗布処理、膜形成処理、露光処理、現像処理、加熱処理、冷却処理などが挙げられる。勿論、他の処理を行う構成であっても構わない。
　基板搬送部ＣＶは、収容室ＲＭにおいて基板Ｓを折り返す複数個のローラーＲを有している。以下、複数のローラーＲを区別する場合には、ローラー５１１～ローラー５６６と表記する。各ローラーＲは、それぞれＹ方向に平行な軸部Ｒａを有している。各ローラーＲは、この軸部Ｒａが例えば容器ＣＴの＋Ｙ側及び－Ｙ側の壁部に回転可能に支持されている。各ローラーＲの軸部Ｒａの周りには、収容された基板Ｓが掛けられる円筒状の外周部Ｒｂが設けられている。
　複数のローラーＲは、収容室ＲＭのうち基板Ｓの搬送経路に順に配置されている。複数のローラーＲは、収容室ＲＭの中央部に対して上下に分かれて配置されている。本実施形態では、複数のローラーＲは、収容室ＲＭのうちＺ方向の中央部に対して、－Ｚ側の第一部分ＲＭ１と、収容室ＲＭのうちＺ方向の中央部に対して＋Ｚ側の第二部分ＲＭ２とに分かれて配置されている。
　収容室ＲＭのうち第一部分ＲＭ１には、Ｘ方向に８個配置された状態のローラーＲの列がＺ方向に３列設けられている。一つの列を構成するローラーＲの径は、同一となっている。また、－Ｚ側から＋Ｚ側へ収容室ＲＭのＺ方向の中央部に近づくにつれて、ローラーＲの径が小さくなっている。また、上記のローラーＲの列の他、基板Ｓの方向を転換するローラー５１２及びローラー５１３が設けられている。以下、第一部分ＲＭ１のローラーＲの列を区別する場合、収容室ＲＭの－Ｚ側から＋Ｚ側に向けて順に第一列Ｌ１～第三列Ｌ３と表記する。
　第一部分ＲＭにおいて、第一列Ｌ１、第二列Ｌ２及び第三列Ｌ３のローラーＲのうちそれぞれ最も－Ｘ側に配置されたローラー５２９、５３３、５６５は、ローラー支持部材５６７によって固定されている。ローラー支持部材５６７は、ガイド部５６８に沿ってＺ方向に移動可能に設けられている。ローラー支持部材５６７は、例えば駆動機構５６９に接続されている。この駆動機構５６９は、ローラー支持部材５６７をＺ方向にスライド移動させることができるように構成されている。この駆動機構５６９によるローラー支持部材５６７の移動量及び移動のタイミングは、例えば制御装置ＣＯＮＴによって制御されるようになっている。
　収容室ＲＭのうち第二部分ＲＭ２には、Ｘ方向に９個配置された状態のローラーＲの列がＺ方向に３列設けられている。一つの列を構成するローラーＲの径は、同一となっている。また、＋Ｚ側から－Ｚ側へ収容室ＲＭのＺ方向の中央部に近づくにつれて、ローラーＲの径が小さくなっている。第二部分ＲＭ２には、上記のローラーＲの列の他、基板Ｓの方向を転換するローラー５１１、ローラー５３１及びローラー５４９が設けられている。
　また、第二部分ＲＭ２に配置されるローラー５１１及び第一部分ＲＭ１に配置されるローラー５１２は、窓部ＷをＺ方向に挟む位置に配置されている。以下、第二部分ＲＭ２のローラーＲの列を区別する場合、収容室ＲＭの－Ｚ側から＋Ｚ側に向けて順に第四列Ｌ４～第六列Ｌ６と表記する。
　基板Ｓは、ローラー５１１～ローラー５６６に順に掛けられていくことにより、収容室ＲＭの搬送経路を案内されるようになっている。本実施形態では、基板Ｓが無端状に形成されているため、搬送経路は収容室ＲＭを循環する経路となる。以下、基板Ｓの搬送経路については、ローラー５１１を起点とし、時計回りの方向を順方向として説明する。
　ローラー５１１に掛けられた基板Ｓは、このローラー５１１の－Ｚ側に配置されるローラー５１２に掛けられて＋Ｘ側へ折り返される。基板Ｓのうちローラー５１２の下流側は、収容室ＲＭの－Ｚ側かつ＋Ｘ側の角部近傍に配置されたローラー５１３によって＋Ｚ側へ折り返される。基板Ｓのうちローラー５１３の下流側は、ローラーＲの第四列Ｌ４のうち、最も＋Ｘ側に配置されるローラー５１４に掛けられて－Ｚ側へ折り返される。
　基板Ｓのうちローラー５１４の下流側は、ローラーＲの第一列Ｌ１のうち、最も＋Ｘ側に配置されるローラー５１５に掛けられて＋Ｚ側へ折り返される。基板Ｓのうちローラー５１５の下流側は、第四列Ｌ４のうちローラー５１４の－Ｘ側に隣接して配置されたローラー５１６に掛けられて－Ｚ側へ折り返される。基板Ｓのうちローラー５１６の下流側は、第一列Ｌ１のうちローラー５１５の－Ｘ側に隣接して配置されたローラー５１７に掛けられて＋Ｚ側へ折り返される。
　以下、第四列Ｌ４のローラーＲ（ローラー５１８、５２０、５２２、５２４、５２６、５２８及び５３０）と第一列Ｌ１のローラーＲ（ローラー５１９、５２１、５２３、５２５、５２７及び５２９）とに交互に－Ｘ方向に掛けられていく。第四列Ｌ４の最も－Ｘ側のローラー５３０に掛けられた基板Ｓの下流側は－Ｘ側へ折り返され、方向転換用のローラー５３１に掛けられる。
　基板Ｓのうちローラー５３１の下流側は、ローラー５３０の＋Ｚ側に隣接して配置されるローラー５３２に掛けられて－Ｚ側へ折り返される。以下、基板Ｓは、第二列Ｌ２のローラーＲ（ローラー５３３、５３５、５３７、５３９、５４１、５４３、５４５及び５４７）と第五列Ｒ５のローラーＲ（ローラー５３４、５３６、５３８、５４０、５４２、５４４、５４６及び５４８）との間を＋Ｘ方向に交互に掛けられていく。第五列Ｌ５の最も＋Ｘ側のローラー５４８に掛けられた基板Ｓの下流側は＋Ｘ側へ折り返され、方向転換用のローラー５４９に掛けられる。
　基板Ｓのうちローラー５４９の下流側は、ローラー５４８の＋Ｚ側に隣接して配置されるローラー５５０に掛けられて－Ｚ側へ折り返される。以下、基板Ｓは、第三列Ｌ３のローラーＲ（ローラー５５１、５５３、５５５、５５７、５５９、５６１、５６３及び５６５）と第五列Ｒ５のローラーＲ（ローラー５５２、５５４、５５６、５５８、５６０、５６２、５６４及び５６６）との間を－Ｘ方向に交互に掛けられていく。第六列Ｌ６の最も－Ｘ側のローラー５６６に掛けられた基板Ｓの下流側は－Ｚ側へ折り返され、上記のローラー５１１に掛けられる。
　上記構成においては、ローラー５１１及びローラー５１２が窓部ＷをＺ方向に挟む位置に配置されているため、ローラー５１１及びローラー５１２に掛けられた基板Ｓのうちローラー５１１とローラー５１２との間の部分は、－Ｘ側の面（基板Ｓの第二面Ｓｂ）が窓部Ｗに露出する位置に配置される。
　また、基板搬送部ＣＶは、基板支持部ＳＰを有している。基板支持部ＳＰは、容器ＣＴの窓部Ｗとの間で基板Ｓを挟む位置に設けられている。基板支持部ＳＰは、Ｚ方向においてはローラー５１１とローラー５１２との間に設けられている。基板支持部ＳＰは、基板Ｓの第一面Ｓａを支持する支持板５７１と、一対の支持ローラー５７２及び５７３と、これら支持板５７１、支持ローラー５７２及び５７３を支持する支持部材５７４と、を有している。
　支持板５７１は、－Ｘ側に形成された支持面５７１ａを有している。支持面５７１ａは、平坦に形成されている。支持板５７１は、支持面５７１ａがＹＺ平面に平行になるように配置されている。この状態において、支持面５７１ａは、基板Ｓの第一面Ｓａに対向して配置される。
　支持ローラー５７２及び５７３は、Ｚ方向に支持板５７１を挟む位置に設けられている。支持ローラー５７２及び５７３は、円筒状あるいは円柱状に形成されている。支持ローラー５７２及び５７３は、中心軸がＹ方向に平行になるように配置されている。支持ローラー５７２及び５７３のＹ方向の寸法は、基板ＳのＹ方向の寸法よりも大きくなっている。支持ローラー５７２及び５７３は、支持部材５７４によって周方向に回転可能に支持されている。
　支持部材５７４は、支持板５７１、支持ローラー５７２及び５７３が独立してＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向に移動しないように一体的に固定する。支持部材５７４によって支持された状態においては、支持ローラー５７２及び５７３のそれぞれの－Ｘ側の端部（基板Ｓを支持する点）と支持面５７１ａとが同一平面上に配置されている。したがって、基板Ｓは支持面５７１ａ及びこの支持面５７１ａと同一平面状に配置された２つの支持ローラー５７２、５７３によって支持されることになる。
　支持部材５７４は、Ｘ方向に移動可能に設けられている。基板搬送部ＣＶは、支持部材５７４をＸ方向に移動させる駆動機構５７５を有している。制御装置ＣＯＮＴは、この駆動機構５７５を制御することにより、支持部材５７４のＸ方向への移動量及び移動のタイミングなどを調整可能である。
　次に、上記のように構成された基板保管装置ＳＴＲの動作を説明する。ここでは、例として基板保管装置ＳＴＲに保管された基板Ｓに対して処理を行う場合を例に挙げて説明する。
　図１３は、基板保管装置ＳＴＲの動作の一例を示す図である。
　図１３に示すように、基板保管装置ＳＴＲに保管された基板Ｓに対して処理を行う場合、まず、外部の処理装置ＰＡの装置側接続部５９０及び５９１を、基板保管装置ＳＴＲの接続部Ｊに接続させる。
　処理装置ＰＡの接続が完了した後、制御装置ＣＯＮＴは、駆動機構５７５を制御して支持部材５７４を－Ｘ方向へ移動させる。この動作により、支持ローラー５７２及び５７３が基板Ｓの第一面Ｓａに接触し、この第一面Ｓａが－Ｘ側へ引き出される。制御装置ＣＯＮＴは、支持ローラー５７２、５７３とニップローラー５９２、５９３との間で基板Ｓを挟持する位置まで、支持部材５７４を移動させる。
　支持部材５７４の移動により、基板Ｓのうち支持ローラー５７２とニップローラー５９２とで挟まれる部分と支持ローラー５７３とニップローラー５９３とで挟まれる部分の間の部分Ｓｃが窓部Ｗから収容室ＲＭの外部へ引き出され、処理装置ＰＡの処理部５９５に対して露出された状態となる。
　この露出部分Ｓｃは、支持板５７１の支持面５７１ａに支持され、この支持面５７１ａに倣ってＹＺ平面に平行に配置される。また、露出部分Ｓｃは、支持面５７１ａに倣って配置されることにより、処理装置ＰＡの処理部５９５による処理面５９５ａ上に配置されることになる。
　一方、上記動作を行うことにより、基板Ｓの搬送経路が図１２の状態から変化する。具体的には、露出部分Ｓｃが窓部Ｗから基板保管装置ＳＴＲの外部に引き出される分、基板保管装置ＳＴＲの－Ｘ側の壁部ＣＴａに沿った搬送経路が長くなる。これに対して、基板保管装置ＳＴＲに保管された基板Ｓは無端状に形成されており、長さが一定である。このため、基板Ｓに対して過度のテンションが加えられることが無いように、基板Ｓのテンションを調整する必要がある。
　そこで、制御装置ＣＯＮＴは、駆動機構５６９を制御してローラー支持部材５６７を＋Ｚ側に移動させる。この動作により、ローラー支持部材５６７と共にローラー５２９、５３３、５６５がガイド部５６８に沿って＋Ｚ側へ移動する。このため、基板Ｓのうちこのローラー５２９、５３３、５６５に掛けられる部分の搬送経路が短くなる。
　この場合、制御装置ＣＯＮＴは、支持部材５７４の移動によって変化する基板Ｓの搬送経路の変化量と、ローラー支持部材５６７の移動によって変化する搬送経路の変化量と、が等しくなるように、支持部材５７４の移動量及びローラー支持部材５６７の移動量のうち少なくとも一方を調整する。この動作により、基板Ｓの搬送経路の経路長が一定となるように維持されるため、基板Ｓに対して過度のテンションが加えられずに済むことになる。
　上記のように基板Ｓの搬送経路の経路長を一定としつつ基板Ｓを処理部５９５の処理面５９５ａ上に配置した後、処理部５９５によって基板Ｓの第二面Ｓｂに対する処理が行われる。この処理が完了した後、制御装置ＣＯＮＴは駆動機構５６９及び駆動機構５７５を制御し、基板Ｓの搬送経路の経路長を一定に保持しつつローラー支持部材５６７及び支持部材５７４を元の位置に戻す。その後、装置側接続部５９０及び５９１を接続部Ｊから外し、処理装置ＰＡを基板保管装置ＳＴＲから退避させる。このようにして、基板Ｓに対する処理が行われる。
　以上のように、本実施形態によれば、可撓性を有し無端状に形成された基板Ｓを収容する収容室ＲＭを有する容器ＣＴと、この容器ＣＴに設けられる窓部Ｗと、収容室ＲＭに収容された基板Ｓの一部Ｓｃが窓部Ｗに対向するように基板Ｓを搬送する基板搬送部ＣＶとを備えるため、窓部Ｗにおいて基板Ｓを収容室ＲＭの外部に露出させると共に、基板Ｓの残りの部分を露出させないようにすることができる。これにより、基板Ｓの露出範囲を抑えることができるため、基板Ｓに埃などの異物が付着するのを抑えることができる。
　また、基板Ｓの表面に対して加工処理を行わない時は、扉部材によって窓部Ｗを閉じておくことによって、防塵性を維持できる。
　また、本実施形態によれば、基板Ｓが収容室ＲＭに収容された状態で基板保管装置ＳＴＲに対して処理装置ＰＡを接続させ、基板Ｓに処理を行う構成としたので、基板Ｓに異物が付着しにくい環境で処理を行うことができる。これにより、基板Ｓに異物が付着するのを防ぐことができる。
　図１４は、基板保管装置ＳＴＲ２の構成を示す図である。基板保管装置ＳＴＲ２は、窓部Ｗ近傍における容器ＣＴの構成が基板保管装置ＳＴＲとは異なっているため、この相違点を中心に説明する。
　図１４に示すように、基板保管装置ＳＴＲ２は、基板Ｓを窓部Ｗから外部に引き出すための引き出し部６７０及び６７１を有している。この引き出し部６７０及び６７１は、窓部Ｗの内周部に取り付けられたアーム部６７４及び６７５を有している。アーム部６７４は、窓部Ｗの＋Ｚ側の内周面に取り付けられている。アーム部６７５は、窓部Ｗの－Ｚ側の面に取り付けられている。
　アーム部６７４及び６７５は、取り付け位置を中心としてθＹ方向に回転可能に設けられている。アーム部６７４及び６７５は、それぞれアーム駆動部６７６及び６７７に接続されている。アーム駆動部６７６及び６７７は、例えば不図示のモータ機構などを有している。制御装置ＣＯＮＴは、アーム駆動部６７６及び６７７による駆動量や駆動のタイミングを制御可能である。
　アーム部６７４及び６７５の先端部分には、案内ローラー６７２及び６７３が取り付けられている。案内ローラー６７２及び６７３は、円筒状に形成されており、中心軸がＹ軸に平行となるように配置されている。案内ローラー６７２及び６７３は、周方向（θＹ方向）に回転可能に設けられている。また、容器ＣＴには、外部の処理装置ＰＡを装着する装着部６７８が形成されている。なお、装着部６７８の代わりに、外部の処理装置ＰＡを配置するための開口部を形成してもよい。
　この状態から、基板Ｓを窓部Ｗの外部に引き出す場合、制御装置ＣＯＮＴは、アーム駆動部６７６及び６７７を制御し、アーム部６７４を図中反時計回りに、アーム部６７５を図中時計回りに、それぞれ回転させる。アーム部６７４及びアーム部６７５の回転移動に伴ってアーム部６７４及びアーム部６７５の各先端部に取り付けられた案内ローラー６７２及び６７３が基板Ｓに掛けられ、基板Ｓが窓部Ｗの外側に引き出される。
　図１５は、引き出し部６７０及び６７１によって基板Ｓが窓部Ｗから収容室ＲＭの外部に引き出された状態を示す図である。
　図１５に示すように、基板Ｓが引き出された状態においては、アーム部６７４及び６７５の先端が－Ｘ側に向くように配置される。
　基板Ｓは、案内ローラー６７２及び６７３に掛けられた状態で窓部Ｗの外側に露出される。基板Ｓのうち案内ローラー６７２及び６７３の間の露出部分Ｓｃの第二面Ｓｂには、基板支持部材６７９の支持面６７９ａが押し当てられている。支持面６７９ａは、例えば＋Ｘ側に凸となるように形成された湾曲面である。支持面６７９ａが押し当てられることにより、露出部分Ｓｃは支持面６７９ａに倣って＋Ｘ側に湾曲して配置された状態となる。なお、基板支持部材６７９は、例えば回転ドラムである。
　また、上記のアーム部６７４及び６７５の動作により、壁部ＣＴａに沿った部分の基板Ｓの搬送経路の経路長が長くなる。このため、制御装置ＣＯＮＴは、駆動機構５６９を制御してローラー支持部材５６７をガイド部５６８に沿って＋Ｚ側へ移動させ、基板Ｓの搬送経路の経路長を調整する。なお、基板保管装置ＳＴＲ２においては、基板保管装置ＳＴＲに比べて、ローラー支持部材５６７をＺ方向に広い範囲で移動可能な構成であっても構わない。これにより、基板Ｓの搬送経路の経路長の調整量が大きくなる。
　基板Ｓを収容室ＲＭの外部に引き出した後、容器ＣＴの装着部６７８に処理装置ＰＡが配置される。処理装置ＰＡが装着部６７８に装着された状態においては、処理部６９５が窓部Ｗの－Ｘ側に向けられている。このため、露出部分ＳｃはＸ方向に見て処理部６９５の対向位置に配置される。この状態で、処理部６９５は基板Ｓの第一面Ｓａに対して処理を行う。
　処理部６９５による処理が行われた後、処理装置ＰＡを装着部６７８から取り外す。処理装置ＰＡが取り外された後、制御装置ＣＯＮＴは、アーム部６７４及び６７５を容器ＣＴの収容室ＲＭに収容させると同時に、ローラー支持部材５６７を－Ｚ側に移動させる。この動作により、基板Ｓの搬送経路の経路長を一定に保ちつつ、アーム部６７４及び６７５と共に基板Ｓが収容室ＲＭに収容される。
　このように、本実施形態では、アーム部６７４及び６７５を用いて基板Ｓを窓部Ｗから外部に大きく引き出すと共に、基板Ｓの露出部分Ｓｃと容器ＣＴとの間に処理装置ＰＡなどの外部装置を装着させる構成となっているので、基板Ｓの第一面Ｓａに対して処理を行わせることができる。
　また、本実施形態では、円柱状の支持面６７９ａが形成された基板支持部材（例えば、回転ドラム）６７９を用いて基板Ｓを支持させる構成としたので、支持面６７９ａの形状に応じた形状で基板Ｓを処理部６９５の対向位置に配置させることができる。例えば、支持面６７９ａが平坦面であれば、基板Ｓは平坦な状態で処理部６９５の対向位置に配置されることになる。
　本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
　例えば、上記実施形態においては、窓部Ｗが壁部ＣＴａに配置された構成としたが、これに限られることはなく、例えば図１６に示すように、窓部Ｗが壁部ＣＴｂや他の壁部に配置された構成であっても構わない。
　また、上記実施形態では、窓部Ｗが容器ＣＴの一箇所に設けられた構成としたが、これに限られることは無く、図１６に示すように、容器ＣＴの複数個所に窓部Ｗが設けられた構成であっても構わない。この場合、一の壁部に複数窓部Ｗが配置された構成であっても構わないし、複数の壁部に一つずつあるいは複数ずつ窓部Ｗが設けられた構成であっても構わない。
　また、上記実施形態の構成に加えて、例えば図１７に示すように、前述した窓部Ｗに扉部材を設けてもよい。この扉部材として、図１７には、窓部Ｗを開閉させるスライド部材ＳＬであっても構わない。スライド部材ＳＬは、スライド駆動部７００に接続されている。スライド駆動部７００は、制御装置ＣＯＮＴの制御によって駆動量及び駆動のタイミングが制御されるようになっている。
　この構成において、制御装置ＣＯＮＴは、外部の処理装置との接続状態に応じて窓部Ｗを開閉させるようにしても構わない。この場合、制御装置ＣＯＮＴは、外部の処理装置が接続部Ｊに接続された場合には、窓部Ｗが開いた状態となるように、スライド部材ＳＬを－Ｚ側に移動させる。また、制御装置ＣＯＮＴは、外部の処理装置と接続部Ｊとの接続が解除された場合には、窓部Ｗが閉じた状態となるようにスライド部材ＳＬを＋Ｚ側に移動させる。これにより、収容室ＲＭに埃などの異物が侵入するのを防ぐことができる。
　また、上記実施形態においては、基板Ｓの第一面Ｓａ及び第二面Ｓｂの両方に接触するようにローラーＲが配置された構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば、基板Ｓの第一面Ｓａに接触し、かつ、第二面Ｓｂには接触しないように配置された構成であっても構わない。
　このような例としては、例えば図１８に示すように、直角二等辺三角形状に形成されたガイド部材７０１及び７０２を用いて基板Ｓを折り返す構成などが挙げられる。図１８に示すように、基板搬送部ＣＶは、２つの搬送部ＣＶ１及びＣＶ２を有している。図中＋Ｘ側の搬送部ＣＶ１では、基板Ｓは第一面Ｓａにのみ接触するように複数のローラーＲによって渦巻状（図中＋Ｘ側）に内側へ向けて折り返された後、ローラーＲ１によってガイド部材７０１へ向けて折り返されている。
　搬送部ＣＶ１において、基板ＳのうちローラーＲ１の下流側は、ガイド部材７０１の一辺７０１ａで折り返されている。この基板Ｓのうち一辺７０１ａの下流側は、ガイド部材７０１の斜辺７０１ｂで４５°の角度で折り返されている。また、基板Ｓのうちこの斜辺７０１ｂの下流側は、ガイド部材７０１の他辺７０１ｃにおいて折り返された後、ガイド部材７０２に向けられている。このように、基板Ｓの第一面Ｓａがガイド部材７０１に巻きつけられている。
　一方、基板Ｓのうちガイド部材７０２に向けられた部分は、ガイド部材７０２の一辺７０２ａで折り返され、ガイド部材７０１の場合と同様、斜辺７０２ｂ及び他辺７０２ｃに沿って順に折り返されている。基板Ｓのうち他辺７０２ｃの下流側は、ローラーＲ２に向けられている。このように、基板Ｓの第一面Ｓａがガイド部材７０２に巻きつけられている。
　基板ＳのうちローラーＲ２の下流側は、複数のローラーＲによって渦巻状に外側へ向けて折り返された後、図中－Ｘ側の搬送部ＣＶ２に向けられている。搬送部ＣＶ２においては、上記搬送部ＣＶ１と同様の構成となっている。つまり、基板Ｓの第一面Ｓａにのみ接触しつつこの基板Ｓを渦巻状に折り返す構成となっており、中央部にはローラーＲ１、ガイド部材７０１、７０２及びローラーＲ２が設けられている。
　図１８に示すように、第一面ＳａがローラーＲ、Ｒ１、Ｒ２及びガイド部材７０１、７０２に接触するように、かつ、第二面Ｓｂがこれらのローラー及びガイド部材に接触しないように、基板Ｓが折り返されている。この構成においては、基板搬送部ＣＶは、基板Ｓの第二面Ｓｂの表面に接触せずに基板Ｓを搬送することができるため、第二面Ｓｂの状態を保護することができる。
　なお、ガイド部材７０１及び７０２の構成については、上記のような直角二等辺三角形状に形成された構成に限られず、例えば円筒状のローラーを直角二等辺三角形の各辺に配置させた構成であっても構わない。
　また、例えば図１９に示すように、図１８に示す構成をＹ方向に重ねた構成であっても構わない。この場合、搬送部ＣＶ１及びＣＶ２の＋Ｙ側に、搬送部ＣＶ３及びＣＶ４が設けられている。搬送部ＣＶ１と搬送部ＣＶ３とは同一構成であり、搬送部ＣＶ２と搬送部ＣＶ４とは同一構成である。搬送部ＣＶ１及びＣＶ２と、搬送部ＣＶ３及びＣＶ４との間は、方向転換用ローラー８０１～８０４が配置されている。
　基板Ｓは、搬送部ＣＶ１及びＣＶ２に掛けられた後、方向転換用ローラー８０１及び８０２によって方向転換され、搬送部ＣＶ３及びＣＶ４に掛けられる。また、この基板Ｓは、搬送部ＣＶ３及びＣＶ４に掛けられた後、方向転換用ローラー８０３及び８０４によって方向転換され、搬送部ＣＶ１及び搬送部ＣＶ２に再度掛けられる。なお、方向転換用ローラー８０１～８０４に掛けられるのは常に基板Ｓの第一面Ｓａである。このように、基板Ｓは搬送部ＣＶ１～搬送部ＣＶ４の間で循環するように掛けられている。
　図１９に示す構成においては、基板ＳがＹ方向に二重に収容されることになる。この場合、Ｙ方向に並んで窓部Ｗ１及びＷ２が設けられた構成であっても構わない。Ｙ方向に二重に配置された基板Ｓのそれぞれについて処理を行うことができるため、処理効率を高めることができる。
　また、例えば図２０に示すように、図１８に示す構成をＸ方向及びＺ方向に複数配置しても構わない。この場合、搬送部ＣＶ１及びＣＶ２の－Ｚ側に、搬送部ＣＶ３及びＣＶ４が設けられている。なお、搬送部ＣＶ１と搬送部ＣＶ３とは同一構成であり、搬送部ＣＶ２と搬送部ＣＶ４とは同一構成である。図２０に示す構成においては、例えば各搬送部ＣＶ１～ＣＶ４について、それぞれ窓部Ｗ１～Ｗ４が設けられた構成であっても構わない。これにより、複数個所で処理を行うことができるため、処理効率を高めることができる。
　また、上記実施形態の構成に加えて、例えば基板保管装置ＳＴＲの収容室ＲＭに処理部が設けられた構成としても構わない。この場合、例えば基板に対してめっき処理、洗浄処理、乾燥処理、熱処理などの各処理を行う処理部を配置させることができる。図１８に示すように、基板Ｓの第二面Ｓｂが基板搬送部ＣＶに接触していない構成の場合、この第二面Ｓｂに対して処理を行う処理部ＰＡ２が収容室ＲＭに設けられていても構わない。
　なお、上記実施形態においては、長尺方向が無端状の基板を保管する保管装置について説明したが、この構成に限られるものではない。例えば、容器ＣＴ内に、供給用ローラーと、回収用ローラーと、供給ローラーに巻かれた基板を上記窓部Ｗ１に搬送するための複数のローラーと、窓部Ｗ１を介した基板を回収用ローラーで巻き取るために、基板を回収ローラーに送る複数のローラーとを配置し、ロール・トゥ・ロール方式で搬送される基板を保管してもよい。
　また、上記実施形態においては、中心軸がＹ方向に平行となるようにローラーＲが配置された構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば、中心軸がＸ方向あるいはＺ方向に平行となるようにローラーＲが配置された構成であっても、本発明の適用は可能である。
また、例えば図１８、図１９及び図２０で示した実施形態においても、基板保管装置ＳＴＲ及び基板保管装置ＳＴＲ２で採用しているような、搬送経路を短く調整する機構を採用してもよい。すなわち、基板に処理装置を用いて処理を施すために、基板を引き出して露出させる場合に、ローラーを移動させて搬送経路を短くして、基板の搬送経路の経路長が一定となるように調整する機構を採用してもよい。
　ＳＹＳ…基板処理システム　ＰＲ、ＰＲ１～ＰＲ５、ＰＲＡ～ＰＲＦ、ＰＡ…基板処理装置（処理装置）　ＧＤ…案内装置　ＳＴ、ＳＴＲ、ＳＴＲ２…基板収容装置（基板保管装置）　Ｓ…基板　ＣＯＮＴ…制御装置　２０…容器（筐体）　２９…突出部　３０Ｎ…排出ポート（基板挿入部）　３０Ｘ…引き込みポート（取り込みポート，基板引出部）　３９…接続ポート　４０…トラック　４１…レール
　Ｓａ…基板Ｓの第一面　Ｓｂ…基板Ｓの第二面　ＳＰ…基板支持部　ＣＴ…容器　ＣＶ…基板搬送部　ＣＴａ、ＣＴｂ…壁部　ＲＭ…収容室　Ｗ、Ｗ１、Ｗ２…窓部　Ｊ…接続部　Ｒ…ローラー　５６７…ローラー支持部材　５６８…ガイド部　５６９、５７５…駆動機構　５７１ａ…支持面　５９０、５９１…装置側接続部　５９２、５９３…ニップローラー　５９５…処理部　５９５ａ…処理面　６７２、６７３…案内ローラー　６７４、６７５…アーム部　６７６、６７７…アーム駆動部　６７８…装着部　６７９…基板支持部材　６７９ａ…支持面　６９５…処理部　７００…スライド駆動部　７０１、７０２…ガイド部材

Claims (13)

  1. 　基板を収容する収容室を有する複数の基板収容装置と、
    　複数の前記基板収容装置のそれぞれに接続される接続部を有し、前記基板収容装置が前記接続部に接続された状態で前記基板に対して処理を行う複数の基板処理装置と、
    　複数の前記基板収容装置のそれぞれが複数の前記基板処理装置のそれぞれに接続されるように案内する案内装置と、
    　複数の前記基板収容装置のそれぞれが複数の前記基板処理装置のそれぞれに対して所定の順序で接続されるように前記案内装置を制御する制御装置と
    　を備える基板処理システム。
  2. 　複数の前記基板処理装置は、
    　前記基板に対して第一処理を行う第一基板処理装置と、
    　前記基板に対して前記第一処理の後工程である第二処理を行う第二基板処理装置と、を含み、
    　前記制御装置は、複数の前記基板収容装置のうち前記第一処理が行われる前の前記基板を収容する前記基板収容装置が前記第一基板処理装置に接続されると共に、複数の前記基板収容装置のうち前記第一処理が行われた後の前記基板を収容する前記基板収容装置が前記第二基板処理装置に接続されるように、前記案内装置を制御する
    　請求項１に記載の基板処理システム。
  3. 　前記収容室は、前記基板を搬入する基板搬入口及び前記基板を搬出する基板搬出口を有し、
    　複数の前記基板処理装置は、
    　前記収容室に収容される前記基板を前記基板搬出口から外部へ引き出す基板引出部と、
    　前記基板引出部によって引き出された前記基板に対して処理を行う処理部と、
    　前記処理部によって処理が行われた前記基板を前記収容室の前記基板搬入口から前記収容室へ挿入する基板挿入部と、を有する
    　請求項１又は請求項２に記載の基板処理システム。
  4. 　複数の前記基板処理装置は、複数の壁面を有する筐体を有し、
    　前記接続部は、前記筐体のうち一の壁面に設けられており、
    　前記基板引出部及び前記基板挿入部のうち少なくとも一方は、前記一の壁面に設けられている
    　請求項３に記載の基板処理システム。
  5. 　前記案内装置は、
    　複数の前記基板収容装置のそれぞれを支持するステージと、
    　前記ステージを駆動するステージ駆動部と、を有する
    　請求項１から請求項４のうちいずれか一項に記載の基板処理システム。
  6. 　前記案内装置は、前記ステージを案内する案内軌条を有し、
    　前記案内軌条は、前記ステージが複数の前記基板処理装置の間を循環するように設けられている
    　請求項５に記載の基板処理システム。
  7. 　前記案内装置は、
    　複数の前記基板収容装置を支持する第二ステージと、
    　前記第二ステージを駆動する第二ステージ駆動部と、を有する
    　請求項１から請求項６のうちいずれか一項に記載の基板処理システム。
  8. 　前記第二ステージは、複数の前記基板処理装置の並ぶ方向に沿って回転可能に設けられており、
    　複数の前記基板収容装置は、前記第二ステージの回転方向に並ぶように前記第二ステージ上に配置されている
    　請求項７に記載の基板処理システム。
  9. 　複数の前記基板処理装置は、重力方向に複数重ねて配置されている
    　請求項１から請求項８のうちいずれか一項に記載の基板処理システム。　
  10. 　前記制御装置は、複数の前記基板処理装置における処理時間の長さに応じて、それぞれの前記基板収容装置の案内先を設定する
    　請求項１から請求項９のうちいずれか一項に記載の基板処理システム。
  11. 　前記複数の基板収容装置は、互いに長さが異なる基板を収容する
    　請求項１から請求項１０のうちいずれか一項に記載の基板処理システム。
  12. 　前記案内装置は、複数の前記基板処理装置のうち、同一の処理を行なう２以上の基板処理装置の何れかひとつに前記基板収容装置を搬送する
    　請求項１から請求項１１のうちいずれか一項に記載の基板処理システム。
  13. 　請求項１から請求項１２のうちいずれか一項に記載の基板処理システムを用いて前記基板に表示素子を形成する
    　表示素子の製造方法。
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