WO2012081550A1

WO2012081550A1 - 表示装置

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Publication number: WO2012081550A1
Application number: PCT/JP2011/078701
Authority: WO
Inventors: 優梶谷
Original assignee: 住友化学株式会社
Priority date: 2010-12-16
Filing date: 2011-12-12
Publication date: 2012-06-21
Also published as: KR101885937B1; JP2012129086A; CN103262655A; CN103262655B; KR20130143602A; JP5418487B2; TW201236106A; TWI544572B

Abstract

　逆テーパ形状の隔壁が備えられる表示装置において、複数の有機エレクトロルミネッセンス素子にわたって連なる第２電極が形成されうる表示装置を提供する。支持基板と、支持基板上に設けられる複数の有機エレクトロルミネッセンス素子（４）と、有機エレクトロルミネッセンス素子の支持基板の厚さ方向の一方からみた場合における外周をそれぞれ囲むように設けられる隔壁（３）とを備える表示装置（１）であって、隔壁は、外周のうちの一部に面して設けられる第１の隔壁（３ａ）と、外周のうちの一部を除く残余の部分に面して設けられる第２の隔壁（３ｂ）とを有し、第１の隔壁は、外周を囲む側面と底面との成す角が鋭角の順テーパ形状の隔壁であり、第２の隔壁は、外周を囲む側面と底面との成す角が鈍角の逆テーパ形状の隔壁である、表示装置。

Description

表示装置

　本発明は表示装置およびその製造方法に関する。

　表示装置にはその構成や原理を異にする種々の装置がある。そのひとつとして、画素の光源に有機エレクトロルミネッセンス素子（Organic　Electroluminescent　Element）を利用した表示装置が実用化されつつある。

　上記表示装置は、支持基板と、この支持基板上に設けられる多数の有機エレクトロルミネッセンス素子とを備える。支持基板上には画素領域を区画する隔壁が設けられており、上記多数の有機エレクトロルミネッセンス素子は、隔壁によって区画された領域にそれぞれ整列して配置される。

　各有機エレクトロルミネッセンス素子は、第１電極、有機層、第２電極を支持基板側からこの順で積層することにより形成される。

　上記有機層はたとえば塗布法によって形成することができる。図１６Ａ、図１６Ｂ、図１６Ｃ及び図１６Ｄを参照して有機層１８の形成方法について説明する。図１６Ａ、図１６Ｂ、図１６Ｃ及び図１６Ｄは、表示装置の製造工程を説明するための図である。
　図１６Ａに示されるように、まず支持基板１２上に第１電極１６および隔壁１３を形成する。つぎに、隔壁１３に囲まれた領域（凹部）１５に、有機層１８となる材料を含むインク１７を上方に位置するノズルから供給する。
　図１６Ｂに示されるように、供給されたインク１７は隔壁１３に囲まれた領域１５に収容される。
　図１６Ｃに示されるように、その後、インク１７の溶剤成分を気化させることにより、有機層１８を形成する。
　図１６Ｄに示されるように、つぎに第２電極１９を形成する。この第２電極１９はたとえば複数の有機エレクトロルミネッセンス素子にわたって一体的に延在し、複数の有機エレクトロルミネッセンス素子に共有される電極として設けられる。たとえば隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子の間に介在する隔壁１３上にも一体的にまたがるように延在する導電性薄膜を形成することにより、複数の有機エレクトロルミネッセンス素子にわたって連なる第２電極１９を形成する。このような第２電極１９、すなわち導電性薄膜はたとえば真空蒸着法によって形成される。

　なお図１６Ｂに示される態様において、隔壁１３がインク１７に対して親液性を示す場合、特定の凹部１５に供給されたインク１７が、隔壁１３を乗り越え、その表面を伝って隣の凹部１５にまで流出することがある。このようなインク１７の流出を防ぐために、一般に支持基板１２上にはある程度撥液性を示す隔壁１３が設けられている。

　しかしながら隔壁１３が撥液性を示す場合、凹部１５に供給されたインク１７は、隔壁１３に弾かれつつ気化して、薄膜（有機層１８）となる。そのため厚さが不均一な有機層１８が形成されることがある。たとえば凹部１５の形状によっては、有機層１８の隔壁１３に接する所定の部位（すなわち有機層１８の周縁部）の厚さが、凹部１５の中央部の近傍である有機層１８の中央部の厚さに比べて薄くなることがある。そうすると、有機層１８の周縁部の電気抵抗が中央部に比べて低くなり、有機エレクトロルミネッセンス素子を駆動する際に有機層１８の周縁部に電流が集中して流れ、有機層１８の中央部が周縁部に比べて暗くなることがある。また逆に、有機層１８の周縁部に所望の厚さの層が形成されないため、有機層１８の周縁部が意図したとおりには発光しないこともある。

　このような問題を解決するために、いわゆる逆テーパ形状の隔壁を設けた表示装置がある。その模式図を図１７Ａ、図１７Ｂおよび図１７Ｃに示す。図１７Ａ、図１７Ｂおよび図１７Ｃは、表示装置の製造工程を説明するための図である。
　図１７Ａ、図１７Ｂおよび図１７Ｃに示されるように、逆テーパ形状の隔壁１３は、延在方向に直交する方向で切断した場合の断面形状が支持基板１２（第１電極１６）から離間するにしたがって幅広になるように形成されている。そのため隔壁１３の側面と第１電極１６とが接する部位の近傍に、先細状の領域が形成される。このような逆テーパ形状の隔壁１３に囲まれた領域１５にインクを供給すると、隔壁１３の側面に接触したインクは、毛細管現象によって上記先細状の領域に吸い込まれるように充填される。この状態を維持したままインクの溶剤成分が気化すると、第１電極１６と隔壁１３とが接する部位の近傍にも有機層１８が形成される。
　図１７Ｂに示されるように、いわゆる逆テーパ形状の隔壁１３を設けることによって、たとえ撥液性を示す隔壁１３が設けられていたとしても、有機層１８の周縁部の厚さが薄くなるという問題を防ぐことができる（たとえば特許文献１参照）。

特開２００７－２２７２８９号公報

　図１７Ａ、図１７Ｂおよび図１７Ｃに示されるような逆テーパ形状の隔壁１３が設けられた基板に、複数の有機エレクトロルミネッセンス素子にわたって一体的に延在し、複数の有機エレクトロルミネッセンス素子に共有される第２電極１９を真空蒸着法によって形成すると、図１７Ｃに示されるように第２電極１９の厚さが薄い場合には、隔壁の端部で第２電極１９が切断されることがある。その結果、表示装置を駆動する際に、意図したとおりには電力が供給されずに、発光しない有機エレクトロルミネッセンス素子が形成されることがある。

　したがって本発明の目的は、逆テーパ形状の隔壁を備える表示装置において、複数の有機エレクトロルミネッセンス素子にわたって連なる第２電極が形成されうる表示装置を提供することにある。

　本発明は、下記［１］～［５］を提供する。

［１］支持基板と、前記支持基板上に設けられる複数の有機エレクトロルミネッセンス素子と、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の前記支持基板の厚さ方向の一方からみた場合における外周をそれぞれ囲むように設けられる隔壁とを備える表示装置であって、
　前記隔壁は、前記外周のうちの一部に面して設けられる第１の隔壁と、前記外周のうちの前記一部を除く残余の部分に面して設けられる第２の隔壁とを有し、
　前記第１の隔壁は、前記外周を囲む側面と底面との成す角が鋭角の順テーパ形状の隔壁であり、
　前記第２の隔壁は、前記外周を囲む側面と底面との成す角が鈍角の逆テーパ形状の隔壁である、表示装置。
［２］前記第１の隔壁は、前記支持基板の厚さ方向に直交する第１の方向にそれぞれ延在し、前記厚さ方向および前記第１の方向に直交する第２の方向に所定の間隔をあけて配置される複数本の隔壁部材から構成され、
　前記第１の隔壁と前記第２の隔壁とが重なる部位では、前記第２の隔壁は、前記支持基板と前記第１の隔壁との間に設けられる、［１］に記載の表示装置。
［３］前記有機エレクトロルミネッセンス素子は前記支持基板の厚さ方向に直交する所定の方向に延在する形状を有し、
　前記第１の隔壁は、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の短手方向の一方および他方の前記外周を囲むように配置され、
　前記第２の隔壁は、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の長手方向の一方および他方の前記外周を囲むように配置される、［１］または［２］に記載の表示装置。
［４］　前記第１の隔壁および第２の隔壁それぞれが、感光性樹脂組成物の層がパターニングされることにより形成される、［１］～［３］のいずれか１つに記載の表示装置。
［５］［１］～［４］のいずれか１つに記載の表示装置の製造方法であって、
　支持基板上に隔壁を形成する工程と、
　前記支持基板上に複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を形成する工程とを含み、
　前記隔壁を形成する工程では、フォトリソグラフィ法によって感光性樹脂組成物の層をパターニングすることにより、第１の隔壁と第２の隔壁とをそれぞれ形成する、表示装置の製造方法。

　本発明によれば、逆テーパ形状の隔壁を有する表示装置において、複数の有機エレクトロルミネッセンス素子にわたって連なる第２電極を有する表示装置を実現することができる。

図１は、表示装置の一部を拡大して模式的に示す断面図である。図２は、図１に示す切断面線Ａ－Ａの位置で切断した表示装置を拡大して模式的に示す断面図である。図３は、図１に示す切断面線Ｂ－Ｂの位置で切断した表示装置を拡大して模式的に示す断面図である。図４は、図１に示す切断面線Ｃ－Ｃの位置で切断した表示装置を拡大して模式的に示す断面図である。図５は、図１に示す切断面線Ｄ－Ｄの位置で切断した表示装置を拡大して模式的に示す断面図である。図６は、図１に示す切断面線Ｅ－Ｅの位置で切断した表示装置を拡大して模式的に示す断面図である。図７Ａは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図７Ｂは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図７Ｃは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図８Ａは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図８Ｂは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図８Ｃは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図９Ａは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図９Ｂは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図９Ｃは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１０Ａは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１０Ｂは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１０Ｃは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１１Ａは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１１Ｂは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１１Ｃは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１２Ａは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１２Ｂは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１２Ｃは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１３Ａは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１３Ｂは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１３Ｃは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１４Ａは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１４Ｂは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１４Ｃは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１５Ａは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１５Ｂは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１５Ｃは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１６Ａは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１６Ｂは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１６Ｃは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１６Ｄは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１７Ａは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１７Ｂは、表示装置の製造工程を説明するための図である。図１７Ｃは、表示装置の製造工程を説明するための図である。

　以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。なお、各図面は、発明が理解できる程度に、構成要素の形状、大きさ及び配置が概略的に示されているに過ぎない。本発明は以下の記述によって限定されるものではなく、各構成要素は本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。以下の説明に用いる図面において、同様の構成要素については同一の符号を付して示し、重複する説明については省略する場合がある。また、本発明の実施形態にかかる構成は、必ずしも図示例の配置で、製造されたり、使用されたりするわけではない。

　本発明の表示装置は、支持基板と、支持基板上に設けられる複数の有機エレクトロルミネッセンス素子と、有機エレクトロルミネッセンス素子の支持基板の厚さ方向Ｚの一方からみた場合（「平面視で」という場合がある。）における外周をそれぞれ囲むように設けられる隔壁とを備える表示装置であって、隔壁は、外周のうちの一部に面して設けられる第１の隔壁と、外周のうちの一部を除く残余の部分に面して設けられる第２の隔壁とを有し、第１の隔壁は、外周を囲む側面と底面との成す角が鋭角の順テーパ形状の隔壁であり、第２の隔壁は、外周を囲む側面と底面との成す角が鈍角の逆テーパ形状の隔壁である、表示装置である。

　本発明は複数の有機エレクトロルミネッセンス素子の各第２電極が連なって形成される表示装置に適用される。このような表示装置として本実施形態では一例としてアクティブマトリクス駆動型の表示装置について説明する。

　＜表示装置の構成＞
　図１～図６を参照して、まず表示装置の構成について説明する。図１は本実施形態の表示装置１の一部を拡大して模式的に示す断面図である。図２は図１に示す切断面線Ａ－Ａの位置で切断した表示装置を拡大して模式的に示す断面図である。図３は図１に示す切断面線Ｂ－Ｂの位置で切断した表示装置を拡大して模式的に示す断面図である。図４は図１に示す切断面線Ｃ－Ｃの位置で切断した表示装置を拡大して模式的に示す断面図である。図５は図１に示す切断面線Ｄ－Ｄの位置で切断した表示装置を拡大して模式的に示す断面図である。図６は図１に示す切断面線Ｅ－Ｅの位置で切断した表示装置を拡大して模式的に示す断面図である。

　図１に示されるように、表示装置１は、主として支持基板２と、この支持基板２上において予め設定される区画を画成する隔壁３と、隔壁３によって画成される区画に設けられる複数の有機エレクトロルミネッセンス素子４とを含む。

　隔壁３は複数の有機エレクトロルミネッセンス素子４の外周それぞれを平面視で囲むように設けられる。隔壁３は平面視で有機エレクトロルミネッセンス素子４の外周をそれぞれ囲むように設けられればよく、たとえば平面視で各有機エレクトロルミネッセンス素子４が設けられる領域を除く領域に設けられる。
　本実施形態では複数の有機エレクトロルミネッセンス素子４はそれぞれマトリクス状に配置されている（詳細は後述する）。隔壁３は、マトリクス状に配置される有機エレクトロルミネッセンス素子４を除く領域に設けられる。そのため隔壁３は支持基板２上において格子状に形成される。

　支持基板２上には、隔壁３と支持基板２とによって規定される複数の凹部５が設定される。この凹部５が、隔壁３によって画成される区画に相当する。

　支持基板２上には格子状の隔壁３が設けられるため、本実施形態では複数の凹部５が平面視でマトリクス状に配置されている。すなわち複数の凹部５は行方向Ｘに所定の間隔をあけるとともに、列方向Ｙにも所定の間隔をあけて整列して設けられている。各凹部５の平面視における形状は特に限定されない。たとえば凹部５は、平面視で略矩形状、略楕円形状などに形成される。本実施形態では、長手方向に延在する長軸と、長軸に直交する短手方向に延在する短軸とを有している、平面視で略楕円形状の凹部５が設けられている。なお本明細書において上記の行方向Ｘおよび列方向Ｙは、支持基板２の厚さ方向Ｚに直交し、かつ互いに直交している。ここで「略楕円形状」には、楕円形状のみならず、例えば互いに平行に配置された２本の線分の一端同士及び他端同士を曲線で結合した形状が含まれる。

　隔壁３は、第１の隔壁３ａと第２の隔壁３ｂとを含む。第１の隔壁３ａは、平面視で、有機エレクトロルミネッセンス素子４の外周のうちの一部、すなわち有機エレクトロルミネッセンス素子４の短手方向に位置する外周に面して設けられる。第２の隔壁３ｂは、前記有機エレクトロルミネッセンス素子４の外周のうちの前記一部を除く残余の部分、すなわち有機エレクトロルミネッセンス素子４の長手方向に位置する外周に面して設けられる。
　特に図１、図２、図３および図５に示されるように、有機エレクトロルミネッセンス素子４の外周は、一部が第１の隔壁３ａに接しており、前記一部を除く残部が第２の隔壁３ｂに接している。このように有機エレクトロルミネッセンス素子４の外周は、第１の隔壁３ａと第２の隔壁３ｂとによって囲まれている。

　本実施形態では隔壁３は格子状に形成されるため、隔壁３は、行方向Ｘに直線的に延在する複数本の隔壁部材と、列方向Ｙに直線的に延在する複数本の隔壁部材とを含む。本実施形態における隔壁３は、列方向Ｙに延在する複数本の第１の隔壁３ａと、行方向Ｘに延在する複数本の第２の隔壁３ｂとから構成される。複数本の第１の隔壁３ａは、それぞれ行方向Ｘに隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子４同士の間に設けられる。
　また図２に示されるように、複数本の第２の隔壁３ｂは、それぞれ列方向Ｙに隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子４同士の間に設けられる。このように隔壁３を配置することにより、有機エレクトロルミネッセンス素子４の行方向Ｘの一方および他方の端面には第１の隔壁３ａが接して設けられる。第１の隔壁３ａは、平面視で有機エレクトロルミネッセンス素子４の外周を囲む側面と、底面との成す角θ１が鋭角の順テーパ形状の隔壁である。

　図３に示されるように、有機エレクトロルミネッセンス素子４の列方向Ｙの一方および他方の端面には、第２の隔壁３ｂが接して設けられる。第２の隔壁３ｂは、平面視で、有機エレクトロルミネッセンス素子４の外周を囲む側面と、底面との成す角θ２が鈍角の逆テーパ形状の隔壁である。

　なお第１の隔壁３ａの底面とは、第１の隔壁３ａの外周面のうちで最も支持基板２寄りの平面を意味する。また第１の隔壁３ａの側面とは、第１の隔壁３ａの外周面のうちで最も支持基板２から離間した平面（上面）と底面とを除く面、すなわち平面視で有機エレクトロルミネッセンス素子４の外周（輪郭）を囲むように位置する面を意味する。そして、第１の隔壁３ａの側面と、第１の隔壁３ａの底面との成す角θ１とは、第１の隔壁３ａの延在する方向（本実施形態では列方向Ｙ）に直交する平面で第１の隔壁３ａを切断したときの断面における角度を意味する。

　第２の隔壁３ｂの底面とは、第２の隔壁３ｂの外周面のうちで最も支持基板２寄りの平面を意味する。また第２の隔壁３ｂの側面とは、第２の隔壁３ｂの外周面のうちで最も支持基板２から離間した平面（上面）と底面とを除く面、すなわち平面視で有機エレクトロルミネッセンス素子４の外周（輪郭）を囲むように位置する面を意味する。そして、第２の隔壁３ｂの側面と、第２の隔壁３ｂの底面との成す角θ２とは、第１の隔壁３ａの延在する方向（本実施形態では行方向Ｘ）に直交する平面で第１の隔壁３ｂを切断したときの断面における角度を意味する。

　本実施形態では列方向Ｙに延在する複数本の第１の隔壁３ａと行方向Ｘに延在する複数本の第２の隔壁３ｂとは平面視で重なる。第１の隔壁３ａと第２の隔壁３ｂとが重なる部位では第１の隔壁３ａと第２の隔壁３ｂとのうちのどちらが支持基板２寄りに配置されてもよい。第１の隔壁３ａと第２の隔壁３ｂとが重なる部位では、第２の隔壁３ｂが、第１の隔壁３ａよりも支持基板２寄りに配置されることが好ましい。すなわち第１の隔壁３ａと第２の隔壁３ｂとが重なる部位では、前記第２の隔壁３ｂは、前記支持基板２と前記第１の隔壁との間に設けられることが好ましい。このように第１の隔壁３ａ及び第２の隔壁３ｂを配置すると、後述するように第１の隔壁３ａ上に導電性薄膜１０ａが設けられるので、形成される導電性薄膜１０ａが隔壁３上で切断されるおそれがなくなり、第１の隔壁３ａの延在方向（本実施形態では列方向Ｙ）に隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子４の第２電極１０が、第１の隔壁３ａ上の導電性薄膜１０ａを介して確実に連なる。

　角θ１の角度は、通常１０°～８５°であり、３０°～６０°が好ましい。また角θ２の角度は通常９５°～１７０°であり、１１０°～１３５°が好ましい。

　有機エレクトロルミネッセンス素子４は隔壁３によって画成される区画（すなわち凹部５）に設けられる。本実施形態のように格子状の隔壁３が設けられる場合、複数の有機エレクトロルミネッセンス素子４それぞれは凹部５ごとに設けられる。すなわち複数の有機エレクトロルミネッセンス素子４は、凹部５と同様にマトリクス状に配置される。複数の有機エレクトロルミネッセンス素子４は、支持基板２上において、行方向Ｘに所定の間隔をあけるとともに、列方向Ｙにも所定の間隔をあけて整列して設けられている。

　本実施形態では３種類の有機エレクトロルミネッセンス素子４が設けられる。すなわち（１）赤色の光を出射する赤色発光有機エレクトロルミネッセンス素子４Ｒ、（２）緑色の光を出射する緑色発光有機エレクトロルミネッセンス素子４Ｇ、および（３）青色の光を出射する青色発光有機エレクトロルミネッセンス素子４Ｂが設けられる。これら３種類の有機エレクトロルミネッセンス素子４（４Ｒ、４Ｇ、４Ｂ）は、図１に示されるようにたとえば以下の（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）の行を、列方向Ｙにこの順で繰り返して配置することによって構成される。
（Ｉ）複数の赤色発光有機エレクトロルミネッセンス素子４Ｒが行方向Ｘにそれぞれ所定の間隔をあけて配置される行。
（ＩＩ）複数の緑色発光有機エレクトロルミネッセンス素子４Ｇが行方向Ｘにそれぞれ所定の間隔をあけて配置される行。
（ＩＩＩ）複数の青色発光有機エレクトロルミネッセンス素子４Ｂが行方向Ｘにそれぞれ所定の間隔をあけて配置される行。

　なお他の実施の形態として、上記３種類の有機エレクトロルミネッセンス素子に加えて、たとえば白色の光を出射する有機エレクトロルミネッセンス素子がさらに設けられてもよい。また１種類のみの有機エレクトロルミネッセンス素子を設けることによって、モノクロ表示装置を実現してもよい。

　有機エレクトロルミネッセンス素子４は、第１電極６、有機層、第２電極１０が、支持基板側からこの順で積層されて構成される。有機エレクトロルミネッセンス素子４は有機層として少なくとも１層の発光層を備える。なお有機エレクトロルミネッセンス素子４は、１層の発光層に加えて、必要に応じて発光層とは異なる層をさらに備えることもある。たとえば第１電極６と第２電極１０との間には、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層、電子輸送層、および電子注入層などが設けられる。また第１電極６と第２電極１０との間には２層以上の発光層が設けられることもある。さらには第１電極６と第２電極１０との間には無機層、または有機物と無機物とを含む混合層が設けられることもある。

　有機エレクトロルミネッセンス素子４は、陽極および陰極からなる一対の電極として、第１電極６と第２電極１０とを備える。第１電極６および第２電極１０のうちの一方の電極は陽極として設けられ、他方の電極は陰極として設けられる。

　本実施形態では一例として、陽極として機能する第１電極６、正孔注入層として機能する第１の有機層７、発光層として機能する第２の有機層９、陰極として機能する第２電極１０がこの順で支持基板２上に積層されて構成される有機エレクトロルミネッセンス素子４について説明する。

　本実施形態では３種類の有機エレクトロルミネッセンス素子４が設けられる。これら３種類の有機エレクトロルミネッセンス素子４は、第２の有機層（本実施形態では発光層）９の構成がそれぞれ異なる。赤色発光有機エレクトロルミネッセンス素子４Ｒは赤色の光を放射する赤色発光層９Ｒを備え、緑色発光有機エレクトロルミネッセンス素子４Ｇは緑色の光を放射する緑色発光層９Ｇを備え、青色発光有機エレクトロルミネッセンス素子４Ｂは青色の光を放射する青色発光層９Ｂを備える。

　本実施形態では第１電極６は有機エレクトロルミネッセンス素子４ごとに設けられる。すなわち有機エレクトロルミネッセンス素子４と同数の第１電極６が支持基板２上に設けられる。第１電極６は有機エレクトロルミネッセンス素子４の配置に対応して設けられ、有機エレクトロルミネッセンス素子４と同様にマトリクス状に配置される。なお図２、図３及び図５に示されるように本実施形態の隔壁３は、主として第１電極６外の領域に格子状に、かつ第１電極６の一部分である周縁部を覆うように形成されている。

　正孔注入層として機能する第１の有機層７は、凹部５の第１電極６上にそれぞれ設けられる。この第１の有機層７は、必要に応じて、有機エレクトロルミネッセンス素子４の種類ごとにその材料または厚さを異ならせて設けられる。なお第１の有機層７の形成工程の簡易さの観点からは、同じ材料、同じ厚さで全ての第１の有機層７を形成することが好ましい。

　発光層として機能する第２の有機層９は、凹部５において第１の有機層７上に設けられる。上述したように発光層は有機エレクトロルミネッセンス素子４の種類に応じて設けられる。そのため赤色発光層９Ｒは赤色発光有機エレクトロルミネッセンス素子４Ｒが設けられる凹部５に設けられ、緑色発光層９Ｇは緑色発光有機エレクトロルミネッセンス素子４Ｇが設けられる凹部５に設けられ、青色発光層９Ｂは青色発光有機エレクトロルミネッセンス素子４Ｂが設けられる凹部５に設けられる。

　本実施形態では、複数の有機エレクトロルミネッセンス素子４が設けられる表示領域にわたって導電性薄膜１０ａが形成される。すなわち導電性薄膜１０ａは、第２の有機層９上のみならず隔壁３上にもわたるように形成される。この導電性薄膜１０ａのうちで、第２の有機層９上に設けられるものを本明細書では第２電極１０と称する。

　なお第２電極１０は、逆テーパ形状の第２の隔壁３ｂの端部で切断されることがある。図３および図５に示されるように、たとえば平面視で有機エレクトロルミネッセンス素子４と第２の隔壁３ｂとが接する第２の隔壁３ｂの端部で、第２電極１０が切断された状態を示している。他方、図２および図５に示されるように、順テーパ形状の第１の隔壁３ａの端部では、第２電極１０が切断されることはない。このように第１の隔壁３ａ上に形成された導電性薄膜１０ａと、有機エレクトロルミネッセンス素子４の第２電極１０とは連なって一体的に形成される。そのため、行方向Ｘに隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子４の第２電極１０が、第１の隔壁３ａ上の導電性薄膜１０ａを介して連なって一体的に形成されている。さらに本実施形態では第１の隔壁３ａが列方向Ｙに延在して形成されているため、列方向Ｙに隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子４の第２電極１０が、第１の隔壁３ａ上の導電性薄膜１０ａを介して一体的に連なって形成されている。これによって、第１の隔壁３ａ上の導電性薄膜１０ａを介してすべての有機エレクトロルミネッセンス素子の第２電極１０が連なるように形成される。そのため第２電極１０がすべての有機エレクトロルミネッセンス素子４に共通する電極として機能する。

　以上の実施形態では隔壁３は、第１電極６の周縁部を覆って、支持基板２に接して設けられている。他の実施形態として、隔壁３と支持基板２との間に、さらに絶縁膜を設けてもよい。絶縁膜はたとえば隔壁３と同様に格子状に形成され、第１電極６の周縁部を覆って形成される。このような絶縁膜は好ましくは隔壁３よりも親液性を示す材料によって形成される。

　以下、図７Ａ～図１５Ｃを参照しつつ表示装置の製造方法について説明する。なおＡ図は形成途中の１つの有機エレクトロルミネッセンス素子を拡大して模式的に示す平面図であり、Ｂ図は図１の切断面線Ａ－Ａの位置で切断した形成途中の１つの有機エレクトロルミネッセンス素子を拡大して模式的に示す断面図であり、Ｃ図は図１の切断面線Ｄ－Ｄの位置で切断した形成途中の１つの有機エレクトロルミネッセンス素子を拡大して模式的に示す断面図である。なお各図のＡ図～Ｃ図において、対応する部材の縮尺は必ずしも相互に対応しているわけではない。

　（支持基板を用意する工程）
　図７Ａ、図７Ｂおよび図７Ｃに示されるように、本工程では第１電極６が形成された支持基板２を用意する。なお本工程では第１電極６が形成された支持基板を市場から入手することによって、支持基板２を用意する工程としてもよい。また本工程は、支持基板２上に第１電極６を形成する工程を含んでもよい。

　表示装置をアクティブマトリクス型とする場合、複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を個別に駆動するための回路が予め形成された基板を支持基板２として用いることができる。たとえばＴＦＴ（Thin　Film　Transistor）およびキャパシタなどが予め形成された基板を支持基板として用いることができる。

　まず用意した支持基板２上に複数の第１電極６をマトリクス状に形成する。第１電極６は、たとえば支持基板２上の一面に導電性薄膜を形成し、これをフォトリソグラフィ法によるマスクパターンの形成工程および形成されたマスクパターンをマスクとして用いるパターニング工程によりマトリクス状にパターニングすることによって形成する。またたとえば所定の部位に開口が形成されたマスクを支持基板２上に配置し、このマスクを介して支持基板２上の所定の部位に導電性材料を選択的に堆積することにより第１電極６をパターン形成してもよい。第１電極６の材料については後述する。

　（隔壁を形成する工程）
　本工程では隔壁３を形成する。本実施形態では隔壁３は、たとえば（１）フォトリソグラフィ法によって感光性樹脂組成物の層をパターニングすることにより、逆テーパ形状の第２の隔壁３ｂおよび順テーパ形状の第１の隔壁３ａを形成する、具体的には例えば第１の隔壁３ａおよび第２の隔壁３ｂそれぞれを、感光性樹脂組成物の層をパターニングすることにより形成することができ、また（２）フォトリソグラフィ法で感光性樹脂組成物の層をパターニングして、まず逆テーパ形状の第２の隔壁３ｂを形成し、次に、形成した逆テーパ形状の第２の隔壁３ｂのうち隔壁として残す部分を感光性樹脂組成物で覆い、ドライエッチング法によって逆テーパ形状を順テーパ形状に加工することにより、逆テーパ形状の第２の隔壁３ｂおよび順テーパ形状の第１の隔壁３ａを形成することができる。

　図８Ａ、図８Ｂおよび図８Ｃに示されるように、本実施形態ではまず第２の隔壁３ｂを形成する。フォトリソグラフィ法によって第２の隔壁３ｂを形成する場合、まず感光性樹脂組成物を支持基板２上に塗布成膜する。感光性樹脂組成物の塗布方法としては、たとえばスピンコート法、スリットコート法などを挙げることができる。

　感光性樹脂組成物を前記支持基板２上に塗布成膜した後、通常はプリベーク工程を行う。プリベーク工程は、たとえば８０℃～１１０℃の温度で、６０秒間～１８０秒間、支持基板を加熱することによって行われる。このプリベーク工程によって、感光性樹脂組成物中の溶剤成分を除去し、第２の隔壁形成用膜８ｂを形成する。

　つぎに第２の隔壁形成用膜８ｂが形成された支持基板２の上方に、光を遮光する所定のパターンのフォトマスク２１ｂを配置し、このフォトマスク２１ｂを介して、第２の隔壁形成用膜８ｂを露光する露光工程を行う。第２の隔壁形成用膜８ｂが含み得る感光性樹脂としては、ポジ型の感光性樹脂およびネガ型の感光性樹脂があるが、本工程ではいずれの型の樹脂を用いてもよい。
　第２の隔壁形成用膜８ｂが含み得る感光性樹脂としてポジ型の感光性樹脂を使用した場合には、形成された第２の隔壁形成用膜８ｂのうち、主に第２の隔壁３ｂが形成されるべき部位外の残余の部位に光Ｌを照射する。また感光性樹脂としてネガ型の感光性樹脂を使用した場合には、第２の隔壁形成用膜８ｂのうち、第２の隔壁３ｂが形成されるべき部位に光Ｌを照射する。
　本工程では第２の隔壁形成用膜８ｂが含み得る感光性樹脂としてネガ型の感光性樹脂を使用した場合について説明する。
　支持基板２の上方にフォトマスク２１ｂを配置し、このフォトマスク２１ｂを介して光Ｌを照射する。これにより第２の隔壁形成用膜８ｂのうち、第２の隔壁３ｂが形成されるべき部位に光Ｌが照射される。図８Ｂ及び図８Ｃにおいて、第２の隔壁形成用膜８ｂに照射される光Ｌは模式的に白抜き矢印で示されている。

　図９に示されるように、つぎに現像工程を行う。これによって第２の隔壁３ｂがパターン形成される。現像工程後、ポストベーク工程を行う。ポストベーク工程は、たとえば２００℃～２３０℃の温度で、１５分間～６０分間、基板を加熱することによって第２の隔壁形成用膜８ｂを硬化して第２の隔壁３ｂを形成する。このようにポストベーク工程を行うことにより、後述する第１の隔壁３ａを形成する際の現像工程において、第２の隔壁３ｂがエッチングされることを防ぐことができる。

　本実施形態ではいわゆる逆テーパ形状の第２の隔壁３ｂを形成する。第２の隔壁３ｂの側面と第２の隔壁３ｂの底面との成す角θ２の角度は、後述する要素を適宜調整することによって、任意の角度に調整することができる。

　図１０に示されるように、つぎに本実施形態では第１の隔壁３ａを形成する。フォトリソグラフィ法によって第１の隔壁３ａを形成する場合、まず感光性樹脂組成物を支持基板２上に塗布成膜する。感光性樹脂組成物の塗布方法としては、たとえばスピンコート法、スリットコート法などを挙げることができる。

　感光性樹脂組成物を支持基板２上に塗布成膜した後、通常はプリベーク工程を行う。プリベーク工程は、たとえば８０℃～１１０℃の温度で、６０秒間～１８０秒間、支持基板２を加熱することによって行われる。このプリベーク工程によって溶剤成分を除去し、第１の隔壁形成用膜８ａを形成する。

　つぎに支持基板２の上方に所定のパターンで光を遮光するフォトマスク２１ａを配置し、このフォトマスク２１ａを介して、第１の隔壁形成用膜８ａを露光する。感光性樹脂には、ポジ型の感光性樹脂およびネガ型の感光性樹脂がある。本工程ではいずれの型の感光性樹脂を用いてもよい。ポジ型の感光性樹脂を使用した場合には、第１の隔壁形成用膜８ａのうち、主に第１の隔壁３ａが形成されるべき部位外の残余の部位に光Ｌを照射する。またネガ型の感光性樹脂を使用した場合には、第１の隔壁形成用膜８ａのうち、主に第１の隔壁３ａが形成されるべき部位に光Ｌを照射する。本工程ではポジ型の感光性樹脂を使用した場合について、図１０を参照して説明する。
　図１０Ａ、図１０Ｂおよび図１０Ｃに示されるように、支持基板２の上方にフォトマスク２１ａを配置し、このフォトマスク２１ａを介して光Ｌを照射する。光Ｌは、第１の隔壁形成用膜８ａのうち、主に第１の隔壁３ａが形成されるべき部位外の残余の部位に照射される。また図１０Ａおよび図１０Ｂでは第１の隔壁形成用膜８ａに照射される光Ｌを模式的に白抜き矢印で示している。

　図１１Ａ、図１１Ｂおよび図１１Ｃに示されるように、つぎに現像工程を行う。これによって第１の隔壁３ａがパターン形成される。第１の隔壁形成用膜８ａを現像する際には、現像液が第２の隔壁３ｂに接触することになる。しかしながら、前述したように第２の隔壁３ｂはポストベーク工程が施されているため、第２の隔壁３ｂは、たとえ現像液に接したとしてもエッチングされない。

　現像工程後、ポストベーク工程を行う。ポストベーク工程は、たとえば２００℃～２３０℃の温度で、１５分間～６０分間、支持基板２を加熱することによって第１の隔壁形成用膜８ａを硬化し、第１の隔壁３ａを形成する。

　本実施形態では順テーパ形状の第１の隔壁３ａを形成する。第１の隔壁３ａの側面と第１の隔壁３ａの底面との成す角θ１の角度は、以下の要素を適宜調整することによって、任意の角度に調整することができる。

　第１の隔壁３ａの側面と第１の隔壁３ａの底面との成す角θ１の角度、第２の隔壁３ｂの側面と第２の隔壁３ｂの底面との成す角θ２の角度は、主に使用する感光性樹脂の種類によって定まる。そこでたとえば市場から入手可能な複数の種類の感光性樹脂のなかから、所定の条件で露光工程および現像工程を行うことにより順テーパ形状の隔壁３（第１の隔壁の３ａ）を形成し得る材料、または所定の条件で露光工程および現像工程を行うことにより逆テーパ形状の隔壁３（第２の隔壁の３ｂ）を形成し得る材料を適宜選択し、これを使用して隔壁を形成すればよい。

　なお現像時間を調整することによっても隔壁の側面と隔壁の底面との成す角を調整することができる。ネガ型の感光性樹脂を用いて逆テーパ形状の第２の隔壁３ｂを形成する場合、一般に、現像時間を長くするほど、第２の隔壁３ｂの側面と第２の隔壁３ｂの底面との成す角θ２の角度が大きくなる傾向にある。

　また露光量を調整することによっても隔壁の側面と隔壁の底面との成す角を調整することができる。ネガ型の感光性樹脂を用いて逆テーパ形状の第２の隔壁３ｂを形成する場合、一般に、露光量を小さくするほど、第２の隔壁３ｂの側面と第２の隔壁３ｂの底面との成す角θ２の角度が小さくなる傾向にある。

　またフォトマスク２１ｂと支持基板２との距離を調整することによっても隔壁の側面と隔壁の底面との成す角を調整することができる。ネガ型の感光性樹脂を用いる場合、フォトマスク２１ｂと支持基板２との距離を小さくするほど、順テーパ形状の第１の隔壁３ａを形成する場合には、一般に、第１の隔壁３ａの側面と第１の隔壁３ａの底面との成す角θ１が大きくなる傾向にあり、また逆テーパ形状の第２の隔壁３ｂを形成する場合には、一般に、第２の隔壁３ｂの側面と第２の隔壁３ｂの底面との成す角θ２が小さくなる傾向にある。

　感光性樹脂組成物は、一般にバインダー樹脂、架橋材、光反応開始材、溶媒、およびその他の添加剤を配合して使用される。

　バインダー樹脂は、予め重合された樹脂である。バインダー樹脂の例としては、自ら重合性を有しない非重合性バインダー樹脂、重合性を有する置換基が導入された重合性バインダー樹脂が挙げられる。バインダー樹脂は、ポリスチレンを標準としてゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）で求められる重量平均分子量が５０００～４０００００の範囲にある。

　バインダー樹脂としては、たとえばフェノール樹脂、ノボラック樹脂、メラミン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂などが挙げられる。バインダー樹脂としては、単量体はそれぞれ単独または２種以上を組み合わせた共重合体を使用することもできる。バインダー樹脂の割合は、上記感光性樹脂組成物の全固形分に対して、質量分率で通常５％～９０％である。

　架橋材は、光を照射することによって光重合開始剤から発生した活性ラジカル、酸などによって重合し得る化合物である。架橋剤として、たとえば、重合性炭素－炭素不飽和結合を有する化合物が挙げられる。架橋材は、分子内に重合性炭素－炭素不飽和結合を１個有する単官能の化合物であってもよいし、重合性炭素－炭素不飽和結合を２個以上有する２官能以上の多官能の化合物であってもよい。上記感光性樹脂組成物において、架橋材は、バインダー樹脂と架橋材との合計量を１００質量部とすると、通常０．１質量部以上７０質量部以下である。また上記感光性樹脂組成物において光反応開始材は、バインダー樹脂と架橋材との合計量を１００質量部とすると、通常１質量部以上３０質量部以下である。

　ポジ型感光性樹脂は、光の照射部分が現像液に対して溶解する樹脂である。ポジ型感光性樹脂は、一般的には樹脂と光反応で親水化する化合物とを複合化することで構成される。

　ポジ型感光性樹脂としては、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン、アクリル樹脂、メタアクリル樹脂、ポリイミドなどの耐薬品性および密着性を有する樹脂と光分解性化合物とを組み合わせた樹脂を使用することができる。

　現像に使用される現像液としては、たとえば塩化カリウム水溶液、水酸化テトラメチルアンモニウム（TMAH）水溶液などを挙げることができる。

　上述したように、第１の隔壁３ａの側面と第１の隔壁３ａの底面との成す角θ１、第２の隔壁３ｂの側面と第２の隔壁３ｂの底面との成す角θ２は主に使用する感光性樹脂の種類によって定まるが、市場から入手可能な複数の種類の感光性樹脂のうちの多くは、順テーパ形状の隔壁（第１の隔壁３ａ）を形成する材料として使用することができる。なお逆テーパ形状の隔壁（第２の隔壁３ｂ）を形成するための材料の例としては、日本ゼオン株式会社製の材料（ＺＰＮ２４６４、ＺＰＮ１１６８）などを挙げることができる。

　隔壁３の形状およびその配置は、画素数および解像度などの表示装置の仕様、製造の容易さなどに応じて適宜設定される。たとえば隔壁３の行方向Ｘまたは列方向Ｙの幅は５μｍ～５０μｍ程度であり、隔壁３の高さは０．５μｍ～５μｍ程度であり、行方向Ｘまたは列方向Ｙに隣り合う隔壁３間の間隔、すなわち凹部５の行方向Ｘまたは列方向Ｙの幅は１０μｍ～２００μｍ程度である。また第１電極６の行方向Ｘまたは列方向Ｙの幅はそれぞれ１０μｍ～２００μｍ程度である。

　（有機層を形成する工程）
　本工程では有機層を形成する。本実施形態では１層以上の有機層のうち、少なくとも１層の有機層を塗布法によって形成する。本実施形態では、第１の有機層７および第２の有機層９を塗布法によって形成する。

　まず正孔注入層として機能する第１の有機層７を形成する。図１２Ａ、図１２Ｂおよび図１２Ｃに示されるように、まず第１の有機層７となる材料を含むインク２２を隔壁３に囲まれた領域（凹部５）に供給する。インク２２は、隔壁３の形状、成膜工程の簡易さ、および成膜性などを勘案して適宜最適な方法によって供給される。インク２２はたとえばインクジェットプリント法、ノズルコート法、凸版印刷法、凹版印刷法などによって凹部５に供給される。

　図１３Ａ、図１３Ｂおよび図１３Ｃに示されるように、つぎに、供給されたインク２２を固化し、第１の有機層７を形成する。
インク２２の固化は、たとえば自然乾燥、加熱乾燥、真空乾燥によって行うことができる。またインク２２が、エネルギーを加えることによって重合する材料を含む場合、インク２２を凹部５に供給した後に、インク２２を加熱したり、インク２２に光を照射したりすることによって、インク２２に含まれる有機層を構成する材料を重合してもよい。このように有機層を構成する材料を重合することによって、第１の有機層７を形成し、この第１の有機層７上に第２の有機層をさらに形成する際に使用するインクに対して、第１の有機層７を難溶化することができる。

　図１４Ａ、図１４Ｂおよび図１４Ｃに示されるように、つぎに、発光層として機能する第２の有機層９を形成する。第２の有機層９は第１の有機層７と同様に形成することができる。すなわち赤色発光層９Ｒ、緑色発光層９Ｇ、青色発光層９Ｂとなる材料をそれぞれ含む３種類のインクを、隔壁３に囲まれた所定の領域（凹部５）にそれぞれ供給し、さらにこれを固化することによって赤色発光層９Ｒ、緑色発光層９Ｇ、青色発光層９Ｂが形成される。

　（第２電極を形成する工程）
　図１５Ａ、図１５Ｂおよび図１５Ｃに示されるように、つぎに第２電極１０を形成する。本実施形態では、少なくとも複数の有機エレクトロルミネッセンス素子が設けられる表示領域において、一面（全面）に導電性薄膜１０ａを形成する。たとえば蒸着法によって一面に導電性薄膜１０ａを形成する。上述したようにこの導電性薄膜１０ａのうちで、第２の有機層９上に設けられる部分が第２電極１０に相当する。

　図１５Ｃに示されるように、第２電極１０の厚さが薄い場合、たとえ一面に導電性薄膜１０ａを形成したとしても、逆テーパ形状の第２の隔壁３ｂ上ではその端部で導電性薄膜１０ａが切断されることがあり、そのために有機エレクトロルミネッセンス素子４の第２電極１０と第２の隔壁３ｂ上の導電性薄膜１０ａとが切断されることがある。

　図１５Ｂに示されるように、順テーパ形状の第１の隔壁３ａ上では、その側面（第１の隔壁３ａの底面に対して角θ１をなす面）上にも導電性薄膜１０ａが形成されるため、第１の隔壁３ａの端部で第２電極１０が切断されることがなく、有機エレクトロルミネッセンス素子４の第２電極１０と第１の隔壁３ａ上の導電性薄膜１０ａとが連なるように形成される。そのため、行方向Ｘに隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子４の第２電極１０同士が、第１の隔壁３ａ上の導電性薄膜１０ａを介して連なるように形成される。

　このように有機エレクトロルミネッセンス素子４の外周のうちの一部に面して順テーパ形状の第１の隔壁３ａが設けられると、有機エレクトロルミネッセンス素子４の第２電極１０と第１の隔壁３ａ上の導電性薄膜１０ａとが連なるように形成される。そのためたとえ逆テーパ形状の第２の隔壁３ｂが設けられるとしても、有機エレクトロルミネッセンス素子４の第２電極１０が隔壁３の端部で切断されることを防ぐことができ、複数の有機エレクトロルミネッセンス素子４上にわたって連なる第２電極１０を形成することができる。

　上述したように逆テーパ形状の隔壁３（第２の隔壁３ｂ）が設けられる場合、第２電極１０の厚さが薄いと、逆テーパ形状の隔壁３の端部で第２電極１０が切断されることがあるが、順テーパ形状の第１の隔壁３ａを設けることにより、第２電極１０の厚さを必要以上に厚くすることなく、複数の有機エレクトロルミネッセンス素子４の第２電極１０同士を連なるように形成することができる。

　また本実施形態では、第１の隔壁３ａは、支持基板２の厚さ方向Ｚに直交する第１の方向（本実施形態では行方向Ｘ）にそれぞれ延在し、厚さ方向Ｚおよび第１の方向（Ｘ）にそれぞれ直交する第２の方向（本実施形態では列方向Ｙ）に所定の間隔をあけて配置される複数本の順テーパ形状の隔壁から構成され、平面視で第１の隔壁３ａと第２の隔壁３ｂとが重なる部位では、第２の隔壁３ｂは、支持基板２と第１の隔壁３ａとの間に設けられる。そのため、平面視で第１の隔壁３ａと第２の隔壁３ｂとが重なる部位では、第２の隔壁３ｂは第１の隔壁３ａに覆われる、すなわち第１の隔壁３ａが露出することになる。このような第１の隔壁３ａが設けられた支持基板２上の全面に導電性薄膜１０ａを形成すると、平面視で第１の隔壁３ａと第２の隔壁３ｂとが重なる部位では、第２の隔壁３ｂが第１の隔壁３ａに覆われているため、第１の隔壁３ａの延在方向に沿って、当該第１の隔壁３ａ上に導電性薄膜１０ａがひとつらなりに形成される。本実施形態では第１の隔壁３ａが列方向Ｙに延在するように形成されているため、列方向Ｙに隣り合う有機エレクトロルミネッセンス素子４の第２電極１０同士が、第１の隔壁３ａ上の導電性薄膜１０ａを介して連なるように形成されている。これによって、第１の隔壁３ａ上の導電性薄膜１０ａを介してすべての有機エレクトロルミネッセンス素子の第２電極１０同士が連なるように形成される。そのため第２電極１０がすべての有機エレクトロルミネッセンス素子４に共通する電極として機能する。

　また本実施形態では、逆テーパ形状の第２隔壁３ｂが有機エレクトロルミネッセンス素子４に面して有機エレクトロルミネッセンス素子４を囲むように配置されるため、隔壁３に囲まれた領域（凹部５）に供給されたインク２２は、毛細管現象によって、第１電極１６と第２隔壁３ｂとが接続される部分の近傍の先細状の部位に吸い込まれるように充填された状態となる。この状態を維持したままインクの溶媒を蒸発させることによって、第１電極６と隔壁３とが接続される部位の近傍の先細状の部位にも有機層が形成される。これによって均一な厚さの有機層を得ることができる。

　なお順テーパ形状の第１電極６と第１隔壁３ａとが接続される部位では、隔壁３に囲まれた領域（凹部５）に供給されたインク２２は第１隔壁３ａにはじかれつつ乾燥することがありうる。しかしながら、有機エレクトロルミネッセンス素子４に面して有機エレクトロルミネッセンス素子４の一部分を囲むように逆テーパ形状の第２隔壁３ｂを設けることにより、少なくとも有機層全体としては、順テーパ形状の隔壁のみに囲まれた凹部に有機層を形成する場合よりも平坦で均一な厚さの有機層が得られる。

　なお凹部５において、有機層の厚さがより薄くなる部位は、平面視における凹部５の形状に大きく依存する。たとえば順テーパ形状の隔壁のみに囲まれた凹部に、支持基板の厚み方向に垂直な所定の方向に延在する形状を有する有機エレクトロルミネッセンス素子を形成する場合、すなわち本実施形態のように列方向Ｙに延在する有機エレクトロルミネッセンス素子を形成する場合、凹部に供給されたインキは、長手方向（列方向Ｙ）の一端および他端のいずれか、または短手方向（行方向Ｘ）の中央部に集まる傾向がある。この場合、有機層は、長手方向（列方向Ｙ）の一端側および他端側のうちのいずれかの厚さがより薄くなったり、短手方向（行方向Ｘ）の一端側および他端側の厚さがより薄くなったりする傾向にある。
　このように所定の方向に延在する有機エレクトロルミネッセンス素子の場合は、本実施の形態のように第１の隔壁３ａは、平面視で、有機エレクトロルミネッセンス素子４の短手方向（行方向Ｘ）の一方および他方の端面に面して、すなわち有機エレクトロルミネッセンス素子の短手方向の直線的な外周を囲む（外周に面する）側面が平面視で長手方向に直線的に延在するように配置され、第２の隔壁３ｂは、有機エレクトロルミネッセンス素子４の長手方向（列方向Ｙ）の一方および他方の端面に面して、すなわち有機エレクトロルミネッセンス素子の長手方向の円弧状の外周を囲む（外周に面する）側面が平面視で短手方向に円弧状に延在するように配置されることが好ましい。第２の隔壁３ｂをこのように配置すると、凹部５に供給されたインク２２は、逆テーパ形状の第２隔壁３ｂの側面に面する長手方向（列方向Ｙ）の一端側および他端側の先細状の部位に毛管現象により引き寄せられ、第２隔壁３ｂの側面で拘束されて薄膜となるため、順テーパ形状の隔壁のみに囲まれた凹部に形成される有機層よりも平坦で均一な厚さの有機層がえられる。

　また第１の隔壁３ａが、有機エレクトロルミネッセンス素子４の短手方向（行方向Ｘ）の一方および他方の端面に面して配置され、第２の隔壁３ｂが、有機エレクトロルミネッセンス素子４の長手方向（列方向Ｙ）の一方および他方の端面に面して配置されると、平面視で第２電極１０が切断されるおそれがあるのは長手方向（列方向Ｙ）の一端側と他端側（短辺）であり、第２電極１０は短手方向（行方向Ｘ）の一端側と他端側（長辺）とで隔壁３上の導電性薄膜１０ａと接続している。このような本実施の形態と、第２電極１０が短手方向（行方向Ｘ）の一端側と他端側とで切断されている形態とを比べると、隔壁３上の導電性薄膜１０ａと分断されている領域は本実施の形態の有機エレクトロルミネッセンス素子４の方が少なく、隔壁３上で導電性薄膜１０ａが一体的に構成されている領域は本実施の形態の有機エレクトロルミネッセンス素子４の方が多くなるため、配線抵抗を小さくすることができる。

　＜有機エレクトロルミネッセンス素子の構成＞
　以下では有機エレクトロルミネッセンス素子の構成についてさらに詳しく説明する。有機エレクトロルミネッセンス素子は、有機層として少なくとも１層の発光層を有する。有機エレクトロルミネッセンス素子は、上述したようにたとえば正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層、正孔ブロック層、電子輸送層、および電子注入層などの所定の層をさらに備えることがある。

　本実施の形態の有機エレクトロルミネッセンス素子のとりうる層構成の一例を以下に示す。
ａ）陽極／発光層／陰極
ｂ）陽極／正孔注入層／発光層／陰極
ｃ）陽極／正孔注入層／発光層／電子注入層／陰極
ｄ）陽極／正孔注入層／発光層／電子輸送層／陰極
ｅ）陽極／正孔注入層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ｆ）陽極／正孔輸送層／発光層／陰極
ｇ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極
ｈ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
ｉ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ｊ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／陰極
ｋ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極
ｌ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
ｍ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ｎ）陽極／発光層／電子注入層／陰極
ｏ）陽極／発光層／電子輸送層／陰極
ｐ）陽極／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
　（ここで、記号「／」は、記号「／」を挟む各層が隣接して積層されていることを示す。
以下同じ。）

　上述の実施形態では第１電極６が陽極として機能し、第２電極１０が陰極として機能する有機エレクトロルミネッセンス素子４について説明した。この形態では、たとえば上記ａ）～ｐ）の各構成要素は、より左側に示した陽極から順次に支持基板２上に積層される。なお第１電極６が陰極として機能し、第２電極１０が陽極として機能する有機エレクトロルミネッセンス素子４では、たとえば上記ａ）～ｐ）の層構成の各構成要素は、より右側に示した陰極から順次に支持基板２上に積層される。

　＜支持基板＞
　支持基板２には、有機エレクトロルミネッセンス素子４を製造する工程において化学的に変化しないものが好適に用いられ、たとえばガラス、プラスチック、高分子フィルム、およびシリコン板、並びにこれらを積層した基板などが用いられる。

　＜陽極＞
　発光層から放射される光が陽極を通って外界に出射する構成の有機エレクトロルミネッセンス素子の場合、陽極には光透過性を示す電極が用いられる。光透過性を示す電極としては、金属酸化物、金属硫化物および金属などの薄膜を用いることができ、電気伝導度および光透過率の高いものが好適に用いられる。具体的には酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、インジウムスズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ：ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｚｉｎｃ　Ｏｘｉｄｅ：ＩＺＯ）、金、白金、銀、および銅などから成る薄膜が用いられ、これらの中でもＩＴＯ、ＩＺＯ、または酸化スズから成る薄膜が好適に用いられる。
　陽極の作製方法の例としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法などを挙げることができる。また、陽極として、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などの有機の透明導電膜を用いてもよい。

　＜陰極＞
　陰極の材料としては、仕事関数が小さく、発光層への電子注入が容易で、電気伝導度の高い材料が好ましい。また陽極側から光を取出す構成の有機エレクトロルミネッセンス素子では、発光層から放射される光を陰極で陽極側に反射するために、陰極の材料としては可視光に対する反射率の高い材料が好ましい。陰極には、たとえばアルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属および周期表の第１３族金属などを用いることができる。陰極の材料としては、たとえばリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、スカンジウム、バナジウム、亜鉛、イットリウム、インジウム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、テルビウム、イッテルビウムなどの金属、前記金属のうちの２種以上の合金、前記金属のうちの１種以上と、金、銀、白金、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫のうちの１種以上との合金、またはグラファイト若しくはグラファイト層間化合物などが用いられる。合金の例としては、マグネシウム－銀合金、マグネシウム－インジウム合金、マグネシウム－アルミニウム合金、インジウム－銀合金、リチウム－アルミニウム合金、リチウム－マグネシウム合金、リチウム－インジウム合金、カルシウム－アルミニウム合金などを挙げることができる。また陰極としては導電性金属酸化物および導電性有機物などから成る透明導電性電極を用いることができる。具体的には、導電性金属酸化物の例として酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、ＩＴＯ、およびＩＺＯを挙げることができる。導電性有機物の例としてポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などを挙げることができる。なお陰極は、２層以上を積層した積層体で構成されていてもよい。
なお電子注入層が陰極として用いられることもある。

　陰極の作製方法の例としては、真空蒸着法、イオンプレーティング法などを挙げることができる。

　陽極または陰極の厚さは、求められる特性、成膜工程の簡易さなどを考慮して適宜設定することができる。陽極または陰極の厚さは、たとえば１０ｎｍ～１０μｍであり、好ましくは２０ｎｍ～１μｍであり、さらに好ましくは５０ｎｍ～５００ｎｍである。

　＜正孔注入層＞
　正孔注入層を構成する正孔注入材料の例としては、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、および酸化アルミニウムなどの酸化物、フェニルアミン化合物、スターバースト型アミン化合物、フタロシアニン化合物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、およびポリチオフェン誘導体などを挙げることができる。

　正孔注入層の成膜方法としては、たとえば正孔注入材料を含む溶液からの成膜を挙げることができる。正孔注入層は、たとえば正孔注入材料を含む溶液を所定の塗布法によって塗布成膜し、さらにこれを固化することによって形成することができる。

　正孔注入層の厚さは、求められる特性、工程の簡易さなどを考慮して適宜設定される。正孔注入層の厚さは、たとえば１ｎｍ～１μｍであり、好ましくは２ｎｍ～５００ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍ～２００ｎｍである。

　＜正孔輸送層＞
　正孔輸送層を構成する正孔輸送材料の例としては、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリピロール若しくはその誘導体、ポリ（ｐ－フェニレンビニレン）若しくはその誘導体、又はポリ（２，５－チエニレンビニレン）若しくはその誘導体などを挙げることができる。

　正孔輸送層の厚さは、求められる特性、成膜工程の簡易さなどを考慮して設定される。正孔輸送層の厚さは、たとえば１ｎｍ～１μｍであり、好ましくは２ｎｍ～５００ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍ～２００ｎｍである。

　＜発光層＞
　発光層は、通常、主として蛍光及び／又はりん光を発光する有機物、または該有機物とこれを補助するドーパントとから形成される。ドーパントは、たとえば発光効率を向上させ、また発光波長を変化させるために加えられる。なお発光層を構成する有機物は、低分子化合物でも高分子化合物でもよく、塗布法によって発光層を形成する場合には、発光層は高分子化合物を含むことが好ましい。発光層を構成する高分子化合物のポリスチレン換算の数平均分子量はたとえば１０^３～１０^８程度である。発光層を構成する発光材料としては、たとえば以下の色素材料、金属錯体材料、高分子材料、ドーパント材料を挙げることができる。

　（色素材料）
　色素材料としては、たとえば、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体化合物、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、ピロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体などを挙げることができる。

　（金属錯体材料）
　金属錯体材料としては、たとえばＴｂ、Ｅｕ、Ｄｙなどの希土類金属、またはＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ、Ｉｒ、Ｐｔなどを中心金属に有し、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造などを配位子に有する金属錯体を挙げることができる。金属錯体材料としては、たとえばイリジウム錯体、白金錯体などの三重項励起状態からの発光を有する金属錯体、アルミニウムキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾリル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、フェナントロリンユーロピウム錯体などを挙げることができる。

　（高分子材料）
　高分子材料の例としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、上記色素材料、金属錯体発光材料を高分子化した材料などを挙げることができる。

　発光層の厚さは、通常約２ｎｍ～２００ｎｍである。

　＜電子輸送層＞
　電子輸送層を構成する電子輸送材料としては、公知の材料を使用することができる。電子輸送材料の例としては、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン若しくはその誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、ナフトキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、テトラシアノアントラキノジメタン若しくはその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン若しくはその誘導体、ジフェノキノン誘導体、又は８－ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体などを挙げることができる。

　電子輸送層の厚さは、求められる特性、成膜工程の簡易さなどを考慮して適宜設定される。電子輸送層の厚さは、たとえば１ｎｍ～１μｍであり、好ましくは２ｎｍ～５００ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍ～２００ｎｍである。

　＜電子注入層＞
　電子注入層を構成する材料としては、発光層の種類に応じて最適な材料が適宜選択される。電子注入層を構成する材料の例としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属およびアルカリ土類金属のうちの１種類以上を含む合金、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩、およびこれらの物質の混合物などを挙げることができる。
　アルカリ金属、アルカリ金属の酸化物、ハロゲン化物、および炭酸塩の例としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、酸化リチウム、フッ化リチウム、酸化ナトリウム、フッ化ナトリウム、酸化カリウム、フッ化カリウム、酸化ルビジウム、フッ化ルビジウム、酸化セシウム、フッ化セシウム、炭酸リチウムなどを挙げることができる。また、アルカリ土類金属、アルカリ土類金属の酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩の例としては、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、酸化カルシウム、フッ化カルシウム、酸化バリウム、フッ化バリウム、酸化ストロンチウム、フッ化ストロンチウム、炭酸マグネシウムなどを挙げることができる。電子注入層は、２層以上を積層した積層体で構成されてもよく、たとえばＬｉＦ層およびＣａ層の積層体などを挙げることができる。

　電子注入層の厚さは、１ｎｍ～１μｍ程度が好ましい。

　上述の各有機層は、たとえばノズルプリンティング法、インクジェットプリンティング法、凸版印刷法、凹版印刷法などの塗布法、真空蒸着法、スパッタリング法、またはＣＶＤ法などによって形成することができる。

　なお塗布法では、各有機層となる有機エレクトロルミネッセンス材料を含むインクを塗布成膜し、さらに塗布成膜されたインクを固化することによって有機層を形成する。使用されるインクの溶媒には、たとえばクロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタンなどの塩素溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテートなどのエステル溶媒、および水などが用いられる。

　本発明をさらに詳細に説明するために以下に実施例を示す。本発明は下記実施例に限定されるものではない。
（実施例１）
　第１電極として機能するＩＴＯ薄膜が形成された支持基板（ＴＦＴ基板）を用意する（図７Ａ、図７Ｂおよび図７Ｃ参照）。この支持基板上に、ネガ型感光性樹脂溶液１（日本ゼオン株式会社製ZPN2464）をスピンコータを用いて塗布成膜し、ホットプレート上において110℃で90秒間加熱する、プリベーク工程を施すことによって溶剤成分を気化させる（図８Ａ、図８Ｂおよび図８Ｃ参照）。つぎにプロキシミティ露光機を用いて露光量100mJ/cm²で露光する。さらに現像液（株式会社トクヤマ製SD-1（TMAH　2.38重量％））を用いて80秒間現像し、逆テーパ形状の第２の隔壁３ｂを形成する。つぎに230℃で30分間加熱し、ポストベーク工程を施すことにより樹脂を硬化させ、厚さが0.8μmの第２の隔壁３ｂを形成する。このようにして形成された第２の隔壁３ｂの側面と第２の隔壁３ｂの底面との成す角θ２の角度は約１１５°となる。

　つぎにポジ型感光性樹脂溶液（日本ゼオン株式会社製ZPN6216）をスピンコータを用いて塗布成膜し、ホットプレート上において110℃で90秒間加熱する、プリベーク工程を施すことによって溶剤成分を気化させる（図１０Ａ、図１０Ｂおよび図１０Ｃ参照）。つぎにプロキシミティ露光機によって露光量100mJ/cm²で露光する。さらに現像液（株式会社トクヤマ製SD-1（TMAH　2.38重量％））を用いて70秒間現像し、順テーパ形状の第１の隔壁３ａを形成する。つぎに230℃で30分間加熱する、ポストベーク工程を施すことにより、樹脂を硬化させ、厚さが1.0μmの第１の隔壁３ａを形成する（図１１Ａ、図１１Ｂおよび図１１Ｃ参照）。このようにして形成された第１の隔壁３ａの側面と第２の隔壁３ａの底面との成す角θ１の角度は約３０°となる。

　隔壁が形成された支持基板に酸素プラズマによる表面処理を行い、続いてＣＦ_４プラズマによる表面処理を行い、ＩＴＯ表面を親液化し、隔壁の表面に撥液性を付与する。

　つぎにインクジェット装置（ULVAC社製　Litlex142P）を用いてインク（固形分濃度1.5%のポリ（エチレンジオキシチオフェン）（PEDOT）およびポリスチレンスルホン酸（PSS）の水分散液（バイエル社製　ＡＩ４０８３））を塗布する（図１２Ａ、図１２Ｂおよび図１２Ｃ参照）。隔壁３の上面はインクを弾くため、隔壁３に囲まれた所定の凹部内にインクが充填される。加えて、インクは、凹部の行方向Ｘの一端側および他端側に面する逆テーパ形状の第２の隔壁に沿って毛細管現象によってその端部、すなわち側面の下端部近傍の先細の間隙に引き寄せられることにより、画素（凹部）内に均一に広がる。この基板を200℃で焼成し、均一な厚さ（50nm）の正孔注入層７を形成する（図１３Ａ、図１３Ｂおよび図１３Ｃ参照）。

　つぎに赤色の光を放射する高分子発光材料を、その濃度が０．８重量％となるように有機溶媒に混合して赤色発光インクを調製する。同様に、緑色の光を放射する高分子発光材料を、その濃度が０．８重量％となるように有機溶媒に混合して緑色発光インクを調製する。さらに青色の光を放射する高分子発光材料を、その濃度が０．８重量％となるように有機溶媒に混合して青色発光インクを調製する。これら赤色発光インク、緑色発光インク、青色発光インクをそれぞれインクジェット装置（ULVAC社製　Litrex142P）を用いて所定の凹部内に塗布する。

　隔壁３の上面はインクを弾くため、隔壁３に囲まれた所定の凹部内にインクが充填される。加えて、インクは、凹部の行方向Ｘの一端および他端に面する逆テーパ形状の第２の隔壁に沿って毛細管現象によってその端部に引き寄せられ、画素内に均一に広がる。この基板を130℃で焼成し、均一な厚さ（60nm）の発光層９を形成する（図１４Ａ、図１４Ｂおよび図１４Ｃ参照）。

　つぎに真空蒸着法により厚さが20nmのCa層、厚さが150nmのＡｌ層からなる第２電極（陰極）１０を形成する。逆テーパ形状の第２の隔壁３ｂの端部ではその段差のために第２電極（陰極）１０は分断されることもあるが（図１５Ｃ参照）、順テーパ形状の第１の隔壁３ａの端部では第２電極（陰極）１０は分断することがないため、全ての有機エレクトロルミネッセンス素子４の第２電極１０が連なるように形成される。これによって配線抵抗を低下させることができ、意図したとおりに発光する複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を支持基板上に作製することができ、さらに作製された有機エレクトロルミネッセンス素子は、パネル面内において各有機エレクトロルミネッセンス素子が相互に同様の輝度で発光するとともに、各有機エレクトロルミネッセンス素子が個別に画素内において均一に発光する。

　１　　表示装置
　２　　支持基板
　３　　隔壁
　３ａ　　第１の隔壁
　３ｂ　　第２の隔壁
　４　　有機エレクトロルミネッセンス素子
　５　　凹部
　６　　第１電極
　７　　第１の有機層（正孔注入層）
　８　　隔壁形成用膜
　９　　第２の有機層（発光層）
　１０　　第２電極
　１０ａ　導電性薄膜
　１２　　支持基板
　１３　　隔壁
　１５　　隔壁に囲まれた領域
　１６　　第１電極
　１７　　インク
　１８　　有機層
　１９　　第２電極
　２１　　フォトマスク
　２２　　インク

Claims

　支持基板と、前記支持基板上に設けられる複数の有機エレクトロルミネッセンス素子と、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の前記支持基板の厚さ方向の一方からみた場合における外周をそれぞれ囲むように設けられる隔壁とを備える表示装置であって、
　前記隔壁は、前記外周のうちの一部に面して設けられる第１の隔壁と、前記外周のうちの前記一部を除く残余の部分に面して設けられる第２の隔壁とを有し、
　前記第１の隔壁は、前記外周を囲む側面と底面との成す角が鋭角の順テーパ形状の隔壁であり、
　前記第２の隔壁は、前記外周を囲む側面と底面との成す角が鈍角の逆テーパ形状の隔壁である、表示装置。
　前記第１の隔壁は、前記支持基板の厚さ方向に直交する第１の方向にそれぞれ延在し、前記厚さ方向および前記第１の方向に直交する第２の方向に所定の間隔をあけて配置される複数本の隔壁部材から構成され、
　前記第１の隔壁と前記第２の隔壁とが重なる部位では、前記第２の隔壁は、前記支持基板と前記第１の隔壁との間に設けられる、請求項１に記載の表示装置。
　前記有機エレクトロルミネッセンス素子は、前記支持基板の厚さ方向に直交する所定の方向に延在する形状を有し、
　前記第１の隔壁は、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の短手方向の一方および他方の前記外周を囲むように配置され、
　前記第２の隔壁は、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の長手方向の一方および他方の前記外周を囲むように配置される、請求項１に記載の表示装置。
　前記第１の隔壁および第２の隔壁それぞれが、感光性樹脂組成物の層がパターニングされることにより形成される、請求項１に記載の表示装置。
　請求項１に記載の表示装置の製造方法であって、
　支持基板上に隔壁を形成する工程と、
　前記支持基板上に複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を形成する工程とを含み、
　前記隔壁を形成する工程では、フォトリソグラフィ法によって感光性樹脂組成物の層をパターニングすることにより、第１の隔壁と第２の隔壁とをそれぞれ形成する、表示装置の製造方法。