WO2012035835A1 - 電子レベル及び電子レベル用標尺 - Google Patents

電子レベル及び電子レベル用標尺 Download PDF

Info

Publication number
WO2012035835A1
WO2012035835A1 PCT/JP2011/063551 JP2011063551W WO2012035835A1 WO 2012035835 A1 WO2012035835 A1 WO 2012035835A1 JP 2011063551 W JP2011063551 W JP 2011063551W WO 2012035835 A1 WO2012035835 A1 WO 2012035835A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
pattern
height
electronic level
measurement
output signal
Prior art date
Application number
PCT/JP2011/063551
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
崇司 長尾
Original Assignee
株式会社ソキア・トプコン
株式会社トプコン
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社ソキア・トプコン, 株式会社トプコン filed Critical 株式会社ソキア・トプコン
Priority to US13/818,464 priority Critical patent/US8510964B2/en
Priority to CN201180036987.7A priority patent/CN103038604B/zh
Priority to EP11824847.5A priority patent/EP2618106B1/en
Publication of WO2012035835A1 publication Critical patent/WO2012035835A1/ja

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
    • G01C9/00—Measuring inclination, e.g. by clinometers, by levels
    • G01C9/02—Details
    • G01C9/06—Electric or photoelectric indication or reading means
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
    • G01C15/00—Surveying instruments or accessories not provided for in groups G01C1/00 - G01C13/00
    • G01C15/02—Means for marking measuring points
    • G01C15/06—Surveyors' staffs; Movable markers

Definitions

  • the present invention relates to an electronic level (level) and a scale for electronic level (hereinafter simply referred to as a scale).
  • ⁇ Electronic level is the one that automatically reads the bar code and obtains the height of the measurement point by using a bar with a bar code as a scale.
  • a bar with a bar code as a scale.
  • this electronic level 2 is for collimating the scale 1 and measuring the height h of the collimation position.
  • a bar code with a black mark 11 drawn on the surface of a white background is displayed on the scale 1.
  • the standard 1 is usually set in an upright state, but it may be set in an inverted state in which the standard 1 is inverted up and down with respect to the ceiling surface C as shown. In this case, the distance h from the ceiling surface C to the collimation position is measured.
  • the widths of the marks 11 in the vertical direction are not all the same, but a plurality of types of dimensions are arranged in a predetermined order.
  • Figure 2 shows the barcode pattern.
  • the marks 11 displayed on the scale 1 are arranged at a constant pitch P.
  • the pitch P is 16 mm
  • 249 marks 11 can be displayed on the staff 1.
  • As the width dimension of the mark 11 in the vertical direction 6 types of 3 mm, 4 mm, 7 mm, 8 mm, 11 mm, and 12 mm are used.
  • the electronic level 2 is made to correspond to six kinds of integers of 0, 1, 2, 3, 4, and 5 as indicated by N in FIG. Therefore, the number sequence created from the mark 11 is represented by six types of integers, for example, the following number sequence (1).
  • the permutation created by taking out from one place is different from the permutation created by taking out from any other place.
  • the permutation obtained in the inverted state of the measure 1 needs to be different from any of the permutations obtained in the upright state of the measure 1. Therefore, the number of integers extracted from the sequence (1) is set to 5. For example, when five integers are extracted from the left end of the sequence (1), the following permutation (2) is obtained.
  • integers when five integers are taken out, these integers do not necessarily have to be continuous.
  • the electronic level 2 stores the same value as the sequence (1) as a table value, and finds out which part of the table value matches the extracted permutation (2) or (3), The height h of the collimation position is obtained from the position.
  • the integer permutation (4) extracted from the permutation (2) portion is as follows.
  • the permutation (4) is set so as not to match any part of the numerical sequence (1). Therefore, since there is no matching part if the measuring stick 1 is in the inverted state, the microcomputer 3 can determine that the measuring stick 1 is in the inverted state, display that effect, and change the order of the extracted permutation (4).
  • the height h can be obtained by inverting and comparing the inverted permutation with the number sequence (1).
  • Electronic level 2 stores this number sequence (5) in addition to number sequence (1).
  • the permutation (7) may be formed by taking out eight consecutive integers.
  • the height h of the collimation position is obtained by determining which part of the sequence (5) stored in the electronic level 2 the permutation (6) or (7) matches. Further, when the measure 1 is in an inverted state, the permutation (6) or (7) obtained is inverted, and the height h of the collimation position is obtained from the inverted permutation and the numerical sequence (5).
  • an objective optical system (objective lens and focusing lens) 21 and an automatic tilt compensation mechanism (compensator) 22 are provided inside the electronic level 2, and the received scale 1 is received.
  • the image is branched to the line sensor 24 by the beam splitter 23. What passes through the beam splitter 23 is a collimating optical system, and what is branched to the line sensor 24 is an image optical system.
  • the collimating optical system includes an objective optical system 21, an automatic tilt compensation mechanism 22, a beam splitter 23, a focusing screen 20a, and an eyepiece 20b.
  • the image optical system includes an objective optical system 21, an automatic tilt compensation mechanism 22, a beam splitter 23, and a line sensor 24.
  • the line sensor 24 converts the received image of the staff 1 into an electrical signal and outputs it to the amplifier 25.
  • the signal amplified by the amplifier 25 is sampled and held by the A / D converter 27 in synchronization with the clock signal of the clock driver 26 and converted into a digital signal.
  • the signal converted into the digital signal is stored in the RAM 28.
  • the microcomputer 3 obtains the width dimension of each mark 11 captured in the field of view of the collimation optical system based on the signal stored in the RAM 28, and obtains a predetermined number of marks 11 from the predetermined number of marks 11 around the collimation point. Find an integer permutation. For example, in the case of measurement within a predetermined distance, as shown in FIG. 4, from the width dimension of the (N ⁇ 2) th, (N ⁇ 1) th, Nth, N + 1th, and N + 2th marks 11 Find the permutation. Then, the collimated position height h is obtained by collating with the table values of the numerical sequence (1) or (5) stored in the ROM 31 in advance.
  • the drive circuit 29 is a circuit that controls the operation of the line sensor 24. Further, since the optical axis of the collimation optical system and the optical axis of the image optical system are matched with each other, the collimation point on the scale 1 and the collimation point of the image optical system are coincident with each other.
  • the measurement program executed by the microcomputer 3 for measuring the height at the electronic level 2 will be described with reference to the flowchart of FIG.
  • step S1 When the measurement program is started, the process proceeds to step S1 and an output signal from the line sensor 24 is acquired. Next, it progresses to step S2 and frequency measurement is performed with respect to the acquired output signal. Since the marks 11 are arranged on the staff 1 at a constant pitch B, the frequency component due to the arrangement of the marks 11 can be detected. The frequency is the number of marks 11 formed on a predetermined number of pixels on the line sensor 24. Therefore, if the predetermined number of pixels is divided by the number, the number of marks 11 formed on the line sensor 24 is reduced. The pitch P can be obtained as a length in units of pixels. Next, it progresses to step S3 and it is investigated whether the frequency measurement was successful. If the frequency measurement fails, the distance to the staff 1 cannot be calculated. Therefore, the process proceeds to step S8, a distance measurement error is displayed, and the measurement program is terminated.
  • the distance D to the staff 1 is obtained by the following equation.
  • step S3 When the frequency measurement is successful in step S3, the process proceeds to step 4 to perform height measurement as will be described later. Next, it is examined whether or not the height measurement is successful. If the height measurement is successful, the process proceeds to step S6, the height and distance measurement values are displayed, and the measurement program is terminated. When the height measurement fails, the process proceeds to step S7, a height measurement error is displayed, and the measurement program is terminated.
  • step S4 The height measurement in step S4 will be described in more detail with reference to FIGS. From step S3, the process proceeds to step S41, and the width dimension of the black mark 11 is measured.
  • the mark 11 forms an image on the line sensor 24 as shown in FIG. 8A
  • the output signal from the line sensor 24 changes as shown in FIG. 8B. Therefore, when the output signal from the line sensor 24 is differentiated, the falling pulse and the rising pulse can be detected as shown in FIG. 8C, so the width dimension of each mark 11 is detected from the interval w between both pulses. it can.
  • step S42 an encoding process for converting the width of each mark 11 into an integer is performed (see FIG. 2).
  • the process proceeds to step S43, where a matching point is found between the permutation obtained by converting the width of each mark 11 into an integer and the number sequence stored in advance.
  • step S44 if a matching location is found, the height measurement is performed, and then proceeding to the next step S5, and if no matching location is found, the height measurement failure is stored, and the procedure also proceeds to the next step S5. .
  • the marks 11 are arranged at an equal pitch, and an integer permutation is obtained by changing the width dimension of the marks 11. Even if it is hidden and cannot be detected, the height h can be measured.
  • the width dimensions of all kinds of marks 11 can be reliably identified, so that the number of marks 11 to be taken out to generate an integer permutation is small.
  • the distance between the staff 1 and the electronic level 2 can be reduced accordingly.
  • the mark 11 is identified by recognizing at least two types of marks 11 having close width dimensions as the same dimension and meaning the same integer. The possible distance is lengthened. In this case, the number of types of integers corresponding to each mark 11 is reduced, and the number of marks 11 necessary for specifying the collimation position is increased.
  • the distance between the scale 1 and the electronic level 2 is large. Since the number of marks 11 that fall within the field of view of the collimating optical system increases, long-distance measurement can also be performed reliably.
  • the gauge 1 is in an inverted state. Since the permutation obtained in (1) does not have a position that matches the numerical sequence (1), it can be determined that the gauge 1 may be set upside down. Therefore, if there is a matching portion in the reverse permutation obtained by inverting the extracted permutation in the reverse direction, the height is measured by determining that the measure 1 is inverted.
  • this electronic level 2 is not easily affected by disturbance because an integer permutation is obtained based on the width dimension of the mark 11 and the collimation position height is obtained.
  • the types of integers constituting the permutation are increased or decreased depending on the distance between the standard 1 and the electronic level 2, the measurable range between the standard 1 and the electronic level 2 can be expanded.
  • Patent Document 2 discloses an electronic level and a scale that can expand the measurable range. However, since this has little relation to the present invention, the description is omitted.
  • the dimension specification of the barcode pattern, the focal length and the viewing angle of the objective optical system of the electronic level 2 are disclosed.
  • the angle of view and the pixel size of the line sensor 24 are dependent on each other, and there is a problem that the measurable range cannot be easily extended to a long distance or a short distance. This is because, in order to widen the measurable range, a new pattern rule for the barcode pattern and an arithmetic processing program for recognizing the rule are required.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and can easily extend both the long-range measurement and the short-range measurement by extending the measurable range.
  • the problem is to avoid making measurements.
  • the invention according to claim 1 is an electronic level measuring scale having a pattern in which a plurality of bar-shaped marks are arranged along the longitudinal direction at equal pitches to form a shading.
  • the invention according to claim 2 is the invention according to claim 1, wherein the electronic level measure has a first surface and a second surface having different directions, and the first pattern is formed on the first surface.
  • the second pattern is formed on the second surface.
  • a line sensor that generates an output signal in accordance with the first pattern or the second pattern formed on the electronic level measure according to any one of the first and second aspects, and the first In order to correspond to the second pattern at an electronic level having a height measuring means for measuring the height of the collimation point from the output signal of the line sensor corresponding to one pattern, the output signal of the line sensor
  • the correspondence to the first pattern is changed to the second pattern. It is characterized by comprising re-measurement means for performing re-measurement by changing to correspondence or changing the correspondence to the second pattern to the correspondence to the first pattern.
  • the invention according to claim 5 is the invention according to claim 4, further comprising pattern storage means for storing whether the first pattern or the second pattern has been measured, and corresponding to the stored pattern. And performing the first measurement next time.
  • the first level pattern and the second pattern obtained by enlarging or reducing the inverse of the density of the first pattern are provided. If the electronic level is used, the height can be measured using either the first pattern or the second pattern, so that the first distance range can be measured using the first pattern, and the first pattern can be measured using the second pattern.
  • the second distance range that is longer or shorter than the distance range can be measured, and the measurement range can be easily expanded.
  • the electronic level staff includes a first surface and a second surface having different directions, the first pattern is formed on the first surface, and the second surface is formed on the second surface. Since the second pattern is formed, it is convenient that the measuring range can be expanded with one electronic level measure.
  • the electronic level of the invention since it has a height measuring means for measuring the height of the collimation point from the output signal of the line sensor corresponding to the first pattern, the first pattern is used. If you measure, you can measure as usual.
  • the height measuring means can read the height from the second pattern by inverting the density of the output signal from the line sensor by the density inversion means.
  • the second pattern is enlarged or reduced with respect to the first pattern, an accurate height cannot be obtained as it is. Therefore, when the density of the output signal from the line sensor is inverted corresponding to the second pattern, the height measuring unit uses the height measuring unit according to the scale of the second pattern with respect to the first pattern. The correct height can be obtained by correcting the measured height.
  • the first distance range can be measured using the first pattern
  • the second distance range can be measured longer or shorter than when the first pattern is used using the second pattern.
  • the measurement range can be easily expanded without changing the electronic level hardware. Moreover, erroneous measurement is not performed even when used in combination with a conventional electronic level measure.
  • the correspondence to the first pattern is changed to the correspondence to the second pattern, or Since the correspondence to the two patterns is changed to the correspondence to the first pattern and the re-measurement means for performing the re-measurement is provided, even if the first pattern or the second pattern is not manually instructed, It is convenient to automatically determine and measure either the first pattern or the second pattern.
  • storage means which memorize
  • a diagram explaining how to use a conventional electronic level and staff The figure explaining the bar code of the conventional staff Conventional electronic level block diagram
  • the figure which shows the state which collimated the staff with the conventional electronic level Flow chart of a conventional measurement program that measures height at an electronic level Diagram explaining the principle of distance measurement
  • a flowchart describing in detail a part of the measurement program The figure explaining the method of detecting the width of a mark in the conventional electronic level
  • the figure explaining the staff of one Example of this invention The figure explaining the measurement program with which the electronic level of one Example of this invention is provided
  • variety of the mark by which the shading was reversed in the said Example A table summarizing the requirements in the case of performing density inversion processing in the embodiment.
  • the staff 1 of the present embodiment is black and white (light and shade) of the first pattern 1 ⁇ / b> A, in addition to the first pattern 1 ⁇ / b> A that is the same barcode pattern as the staff 1 disclosed in Patent Document 1.
  • a similar second pattern 1B is obtained by reducing 1R.
  • the two patterns 1A and 1B may be drawn on the front and back of one measure 1, respectively, may be drawn on one surface of the two measures 1, and each of the measures 1 of the polygonal cross section. It may be drawn on the first surface and the second surface facing in different directions.
  • the electronic level 2 of the present embodiment includes the measurement program that can measure the height not only from the first pattern 1A drawn on the scale 1 but also from the second pattern 1B. This is the same as the electronic level 2 disclosed in the above.
  • step S1 acquire an output signal from the line sensor 24, and then proceeds to step S2 to perform frequency measurement on the acquired output signal. Then, the process proceeds to step S3 to check whether the frequency measurement is successful. Up to this point, when the frequency measurement has failed, the process proceeds to step S8 to display a distance measurement error and end the measurement, which is the same as that disclosed in Patent Document 1.
  • the output signal of the line sensor 24 is inverted (see B ′ in FIG. 11). Thereafter, the width w of the mark 11 can be obtained by differentiating the inverted output signal as in the prior art (see C in FIG. 11).
  • step S12 the process of inverting the output signal from the line sensor 24 is performed, and then the process proceeds to step S4 to measure the height.
  • step S4 is the same as the conventional one disclosed in Patent Document 1.
  • steps S10 to S12 correspond to the density inversion means described in claim 3
  • step S4 corresponds to the height measuring means described in claim 3.
  • step S21 the process proceeds to step S21 to check whether the height measurement is successful. If the height measurement has failed, the process proceeds to step S22 to check whether there is an error other than a coding error.
  • steps S21 to S24 correspond to the re-measurement means described in claim 4.
  • steps S31 to S32 correspond to the height correction means described in claim 3.
  • step S40 the value of the control variable J is stored. This is because, in the next measurement, the same pattern is often used to move the staff 1 to the adjacent measurement point. And it progresses to step S6, a measurement result is displayed, and it complete
  • step 40 corresponds to the pattern storage means described in claim 5.
  • Table 12 summarizes when the output signal of the line sensor 24 is inverted, and Table 13 summarizes when the remeasurement is performed.
  • the conventional measurement can be performed by using the first pattern 1A.
  • the height can be read from the second pattern 1B by inverting the density of the output signal from the line sensor 24.
  • the second pattern 1B is reduced with respect to the first pattern 1A, an accurate height cannot be obtained as it is. Therefore, when the second pattern 1B is used, the height is corrected according to the scale of the second pattern 1B with respect to the first pattern 1A to obtain the correct height.
  • the first distance range can be measured using the first pattern 1A, and the short distance measurement can be performed more easily than the first distance range using the second pattern 1B.
  • the correspondence to the first pattern 1A is changed to the correspondence to the second pattern 1B, or the second pattern 1B. Since the correspondence to the first pattern 1A is changed to the correspondence to the first pattern 1A and the re-measurement is performed, the first pattern 1A or the second pattern 1B is automatically measured without any manual instruction. It is convenient to determine and measure either one pattern 1A or the second pattern 1B.
  • the first pattern 1A or the second pattern 1B stores the height measurement, and the next first measurement is performed in correspondence with the stored pattern, unnecessary measurement is reduced. Can complete the measurement quickly.
  • the second pattern 1B drawn on the scale 1 has a similar shape obtained by reducing the black and white (shading) of the first pattern 1A and reducing the size of 1R, but conversely increasing the size. It may be a similar shape. In this case, further distance measurement is possible by using the second pattern 1B.
  • a first pattern 1A is formed on the first surface of the scale 1 as a triangular prism, and a second pattern 1B having a similar shape obtained by reducing the black and white (shading) of the first pattern 1A on the second surface is reduced.
  • a similar third pattern obtained by enlarging 1R obtained by inverting black and white (shading) of the first pattern 1A may be drawn on the third surface.
  • step S40 may be omitted.
  • step S40 can be omitted, and the possibility of failure in height measurement is small, so steps S22 to S24 can be omitted.
  • step S40 can be omitted, but it is safer to leave steps S22 to S24.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Radar, Positioning & Navigation (AREA)
  • Remote Sensing (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)

Abstract

【課題】簡単に測定可能範囲を広げて長距離測定及び短距離測定の両方を測定でき、従来の電子レベル用標尺と混在させて使用しても誤った測定をしないようにする。 【解決手段】電子レベル用標尺（１）は、第１の距離範囲での測定のために所定の規則に従って濃淡が形成された第１パターン（１Ａ）と、第１の距離範囲とは異なる第２の距離範囲での測定のために第１パターンの濃淡を逆にしたもの（１Ｒ）を拡大又は縮小した第２パターン（１Ｂ）とを有する。電子レベルは、第１パターンに対応してラインセンサの出力信号から視準点の高さを測定する高さ測定手段と、第２パターンに対応するために、ラインセンサの出力信号の濃淡を反転させる濃淡反転手段と、第２パターンの第１パターンに対する縮尺に応じて前記高さ測定手段で測定した高さを補正する高さ補正手段とを備える。

Description

電子レベル及び電子レベル用標尺
　本発明は、電子レベル（水準儀）及び電子レベル用標尺（以下、単に標尺と記載する）に関する。
　電子レベルとは、目盛りとしてバーコードの付された標尺を用いることにより、バーコードを読んで自動的に測定点の高さを求めるものである。このような電子レベルでは、外乱の影響を受けやすく、例えば標尺の背景や標尺と電子レベルとの間の障害物により測定不能になりやすいという不具合がある。
　出願人は、前記不具合を解消するため、外乱の影響を受け難い電子レベルに関する出願をしている（下記特許文献１参照）。まず、この電子レベルについて説明する。
　図１に示したように、この電子レベル２は、標尺１を視準し、視準位置の高さｈを測定するためのものである。標尺１には、白地の表面に黒色のマーク１１が描かれたバーコードが表示されている。標尺１は通常、正立状態でセットされるが、図示のように天井面Ｃを基準にして、標尺１を上下方向に反転させた倒立状態でセットする場合がある。この場合には天井面Ｃから視準位置までの距離ｈを測定する。マーク１１の上下方向の幅寸法は、全て同じ寸法ではなく、複数種類の寸法のものが所定の順序で配列されている。
　図２にバーコードパターンを示す。標尺１に表示されているマーク１１は、一定のピッチＰで配列されている。標尺１の全長を４ｍとし、ピッチＰを１６ｍｍとすると、標尺１には２４９本のマーク１１を表示することができる。マーク１１の上下方向の幅寸法としては、３ｍｍ・４ｍｍ・７ｍｍ・８ｍｍ・１１ｍｍ・１２ｍｍの６種類を用いる。電子レベル２は、マーク１１の幅寸法を求めると、図２のＮに示すように、０，１，２，３，４，５の６種類の整数に対応させることにした。従って、マーク１１から作られる数列は、６種類の整数で表されることになり、例えば、次のような数列（１）になる。
　・・・０，５，１，２，４，０，５，３，１，０，４，３，２，・・・（１）
　ここで、数列（１）から任意の個数の整数を取り出して順列を作成した場合に、１カ所から取り出して作成した順列が他のいずれの場所から取り出して作成した順列に対しても異なるようにする必要がある。また、標尺１の倒立状態で得られる順列が、標尺１の正立状態で得られる順列のいずれに対しても相違する必要がある。そこで、前記数列（１）から整数を取り出す個数を５個とした。例えば、数列（１）の左端から、５個の整数を取り出すと、次のような順列（２）が得られる。
　　　　　　０，５，１，２，４　　　　　　　　　　　　　（２）
　但し、５個の整数を取り出す場合に、これらの整数は必ずしも連続している必要はなく、例えば標尺１と電子レベル２との間の障害物等により左から３番目の整数に対応するマーク１１が隠された場合には、隠されて不明な整数を＊として、次のような順列を得るようにしても良い。
　　　　　　　０，５，＊，２，４，０　　　　　　　　　　　（３）
　一方、電子レベル２は、上記数列（１）と同じものをテーブル値として記憶しており、そのテーブル値のどの部分に、取り出した順列（２）または（３）が一致しているかを求め、その位置から視準位置の高さｈを求めるようにしている。
　また、標尺１が倒立状態であれば、前記順列（２）の部分から取り出した整数の順列（４）は次のようになる。
　　　　　　　４，２，１，５，０　　　　　　　　　　（４）
　順列（４）は、上記数列（１）のいずれの部分にも一致しないように設定されている。したがって、標尺１が倒立状態であれば一致する部分が無いことから、マイコン３は、標尺１が倒立状態であることを判断でき、その旨を表示すると共に、取り出した順列（４）の順序を反転させて、反転させた順列を前記数列（１）と比較することによって、高さｈを求めることができる。
　ところで、標尺１と電子レベル２との距離が離れると、視準光学系の視野内に位置するマーク１１の個数は増加するが、マーク１１の画像は小さくなり、幅寸法の識別精度が低下する。そこで、標尺１の画像の大きさから、スタジア測量により標尺１と電子レベル２との距離が所定値を超えたと判断すると、図２のＦに示すように、３ｍｍと４ｍｍとを同じ寸法と識別して０に対応させ、７ｍｍと８ｍｍとを同じ寸法として１に対応させ、１１ｍｍと１２ｍｍとを同じ寸法と識別して２に対応させることとした。このようにすると、３種類の整数で表わされた次のような数列（５）が得られる。
　・・・０，２，０，１，２，０，２，１，０，０，２，１・・・　（５）
　電子レベル２は、数列（１）の他にこの数列（５）も記憶している。ところで、このように数列（５）を構成する整数の種類が３種類になると、確実な高さ測定のためには、取り出す整数の個数を５個から増加させる必要があるので、８個取り出すこととした。
　例えば、数列（５）の左端から８個の整数を取ると、次のような順列（６）が得られる。
　　　　　０，２，０，１，２，０，２，１　　　　　　　　（６）
　また、いくつか（例えば２つ）のマーク１１が隠れて識別できない場合には、連続しない８個の整数を取り出して順列（７）を形成しても良い。
　　　　　０，２，０，＊，２，０，＊，１，０，０　　　　　　　（７）
　そして、順列（６）または（７）が、電子レベル２が記憶している数列（５）のどの部分に一致するかを求めて、視準位置の高さｈを求める。また、標尺１が倒立状態の場合には得られた順列（６）または（７）を反転させて、反転させた順列と数列（５）とから視準位置の高さｈを求める。
　ところで、図３に示したように、電子レベル２の内部には、対物光学系（対物レンズ及び合焦レンズ）２１及び傾斜自動補償機構（コンペンセータ）２２が設けられており、受光された標尺１の画像はビームスプリッタ２３によってラインセンサ２４に分岐される。ビームスプリッタ２３を通過するものが視準光学系であり、ラインセンサ２４へと分岐されたものが映像光学系となる。
　視準光学系は、対物光学系２１と傾斜自動補償機構２２とビームスプリッタ２３と焦点板２０ａと接眼レンズ２０ｂとで構成されている。映像光学系は対物光学系２１と傾斜自動補償機構２２とビームスプリッタ２３とラインセンサ２４とで構成されている。ラインセンサ２４は受光した標尺１の画像を電気信号に変換しアンプ２５に出力する。アンプ２５で増幅された信号は、クロックドライバ２６のクロック信号に同期してＡ・Ｄ変換器２７でサンプルホールドされ、デジタル信号に変換される。デジタル信号に変換された信号は、ＲＡＭ２８に記憶される。マイコン３は、ＲＡＭ２８に記憶されている信号を基に、視準光学系の視野内に捉えた各マーク１１の幅寸法を求め、視準点を中心にして所定数のマーク１１から所定数の整数の順列を求める。例えば、所定距離以内の測定の場合には、図４に示したように、Ｎ－２番目、Ｎ－１番目、Ｎ番目、Ｎ＋１番目、Ｎ＋２番目のマーク１１の幅寸法から５個の整数からなる順列を求める。そして、ＲＯＭ３１内に予め格納された数列（１）または（５）のテーブル値と照合して視準位置の高さｈを求める。駆動回路２９は、ラインセンサ２４の作動を制御する回路である。また、上記視準光学系の光軸と映像光学系の光軸とは互いに一致させているので、標尺１上の視準点と映像光学系の視準点とは互いに一致する。
　この電子レベル２で高さ測定を行うためにマイコン３が行う測定プログラムについては、図５のフローチャートで説明する。
　測定プログラムをスタートさせると、ステップＳ１に進んで、ラインセンサ２４からの出力信号を取得する。次に、ステップＳ２に進んで、取得した出力信号に対して周波数測定を行う。マーク１１は、標尺１上に一定のピッチＢで配置されているため、マーク１１の配列による周波数成分を検出できる。その周波数は、すなわちラインセンサ２４上の所定の画素数に結像したマーク１１の数であるので、その数で前記所定の画素数を除算すれば、ラインセンサ２４上に結像したマーク１１のピッチＰを画素を単位とした長さとして求めることができる。次にステップＳ３に進んで、周波数測定に成功したか否か調べる。周波数測定に失敗すれば標尺１までの距離算出ができないので、ステップＳ８に進んで、測距エラーを表示して測定プログラムを終了する。
　図６に示したように、予め決まっている標尺１上におけるマーク１１のピッチＢと、対物レンズの焦点距離ｆと、周波数測定から求めたラインセンサ２４上に結像したマーク１１のピッチＰから、標尺１までの距離Ｄは、次式で求まる。
　Ｄ＝ｆＢ/Ｐ　　　　　　　　　（８）
　ステップＳ３で周波数測定に成功したときは、ステップ４に進んで、後述するように高さ測定を行う。次に、高さ測定が成功したか否か調べる。高さ測定が成功すれば、ステップＳ６に進んで、高さ及び距離の測定値を表示して、この測定プログラムを終了する。高さ測定に失敗したときは、ステップＳ７に進んで、測高エラーを表示して、この測定プログラムを終了する。
　ステップＳ４における高さ測定については、図７及び図８によってさらに詳細に説明する。ステップＳ３からは、ステップＳ４１に進んで、黒のマーク１１の幅寸法を測定する。図８の（Ａ）ようにマーク１１がラインセンサ２４上に結像すると、ラインセンサ２４からの出力信号は図８の（Ｂ）ように変化する。そこで、ラインセンサ２４からの出力信号を微分すると、図８の（Ｃ）に示したように、立下りパルス及び立上りパルスが検出できるので、両パルスの間隔ｗから各マーク１１の幅寸法を検出できる。
　次にステップＳ４２に進んで、各マーク１１の幅を整数に変換するコード化処理を行う（図２参照）。次に、ステップＳ４３に進んで、各マーク１１の幅を整数化して得られた順列と予め記憶してある数列との間で一致する箇所を探す。次にステップＳ４４に進んで、一致する箇所が見つかったら高さ測定を行い、次のステップＳ５に進み、一致する箇所が見つからなかったら高さ測定失敗と記憶して、やはり次のステップＳ５に進む。
　このような標尺１と電子レベル２によれば、マーク１１を等ピッチで配列し、マーク１１の幅寸法を変えることにより整数の順列を得るようにしたので、１つのマーク１１が障害物等に隠され検出できない場合でも高さｈ測定が可能である。
　また、電子レベル２と標尺１との距離が所定距離より短い場合、全ての種類のマーク１１の幅寸法を確実に識別できるので、整数の順列を生成するために取り出すマーク１１の個数が少なくて済み、それだけ標尺１と電子レベル２との距離を縮めることができる。
　また、標尺１と電子レベル２との距離が所定距離より長い場合には、幅寸法が近い少なくとも２種類のマーク１１を同じ寸法と認識して同じ整数を意味させたことにより、マーク１１を識別し得る距離を長くしている。この場合、各マーク１１に対応する整数の種類が少なくなり、視準位置を特定するために必要とするマーク１１の本数が増えるが、標尺１と電子レベル２との距離が離れている場合には、視準光学系の視野内に入るマーク１１の本数が多くなるので、長距離測定も確実に行うことができる。
　さらに、各マーク１１から取り出された順列を反転して得られる順列も、前記数列（１）のいずれの位置から取り出した順列に対しても異なるようにしてあるので、標尺１が倒立状態の場合に得られる順列は、前記数列（１）に一致する箇所が存在しないことから、標尺１が倒立状態でセットされているかもしれないと判断できる。そこで、取り出した順列を逆方向に反転させた逆順列なら一致する部分が存在するなら、標尺１が倒立しているものと判断して高さを測定する。
　以上の説明から明らかなように、この電子レベル２は、マーク１１の幅寸法を基に整数の順列を求め視準位置の高さを求めるので外乱の影響を受けにくい。また、標尺１と電子レベル２との距離の長短により順列を構成する整数の種類を増減させたので、標尺１と電子レベル２との間の測定可能範囲を広げることができる。
　また、下記特許文献２にも、測定可能範囲を広げることができる電子レベルと標尺が開示されている。ただし、これは、本発明との関連が少ないため、説明を省略する。
特許第３７８９６２５号公報 特許第２８３８２４６号公報
　前記特許文献１に開示された電子レベル２では、バーコードのマーク１１の幅寸法を整数に変換するために、バーコードパターンの寸法仕様と、電子レベル２の対物光学系の焦点距離や視野角、ラインセンサ２４の画角や画素サイズが互いに依存関係にあって、遠距離又は近距離に測定可能範囲を簡単に広げることができないという問題があった。測定可能範囲を広げるには、バーコードパターンの新規なパターン規則と、これを認識する演算処理プログラムが必要になるからである。
　本発明は、前記問題に鑑みてなされたもので、簡単に測定可能範囲を広げて長距離測定及び短距離測定の両方を測定でき、従来の電子レベル用標尺と混在させて使用しても誤った測定をしないようにすることを課題とする。
　上記課題を解決するために、請求項１に係る発明は、複数のバー状のマークを等ピッチで長手方向に沿って配列して濃淡を形成したパターンを有する電子レベル用標尺において、前記パターンとして、第１の距離範囲での測定のために所定の規則に従って濃淡が形成された第１パターンと、前記第１の距離範囲とは異なる第２の距離範囲での測定のために前記第１パターンの濃淡を逆にしたものを拡大又は縮小した第２パターンとを有することを特徴とする。
　請求項２に係る発明は、請求項１に係る発明において、前記電子レベル用標尺は、向きが異なる第１面と第２面とを有し、前記第１面に前記第１パターンが形成され、前記第２面に前記第２パターンが形成されたことを特徴とする。
　請求項３に係る発明は、請求項１又は２のいずれかに記載の電子レベル用標尺に形成された前記第１パターン又は前記第２パターンに応じて出力信号を発生するラインセンサと、前記第１パターンに対応して前記ラインセンサの出力信号から視準点の高さを測定する高さ測定手段を有する電子レベルにおいて、前記第２パターンに対応するために、前記ラインセンサからの出力信号の濃淡を反転させる濃淡反転手段と、前記第２パターンの前記第１パターンに対する縮尺に応じて前記高さ測定手段で測定した高さを補正する高さ補正手段とを備え、請求項１又は２のいずれかに記載の電子レベル用標尺を用いても高さ測定できることを特徴とする。
　請求項４に係る発明は、請求項３に係る発明において、前記高さ測定手段で視準点の高さを測定できなかった場合に、前記第１パターンへの対応を前記第２パターンへの対応に変更し、または、前記第２パターンへの対応を前記第１パターンへの対応に変更して、再測定を行わせる再測定手段を備えたことを特徴とする。
　請求項５に係る発明は、請求項４に係る発明において、前記第１パターン又は前記第２パターンのいずれで高さ測定できたかを記憶するパターン記憶手段を備え、記憶しているパターンに対応させて次回の最初の測定を行うことを特徴とする。
　請求項１に係る発明の電子レベル用標尺によれば、第１パターンと該第１パターンの濃淡を逆にしたものを拡大又は縮小した第２パターンとを有するから、請求項３に係る発明の電子レベルを用いると、第１パターンと第２パターンのいずれを用いても高さ測定できるため、第１パターンを用いて第１の距離範囲の測定ができ、第２パターンを用いて第１の距離範囲より長距離又は短距離の第２の距離範囲の測定を行うことができ、簡単に測定範囲を広げることができる。
　請求項２に係る発明によれば、前記電子レベル用標尺は、向きが異なる第１面と第２面とを有し、前記第１面に前記第１パターンが形成され、前記第２面に前記第２パターンが形成されたから、１本の電子レベル用標尺で測定範囲を広げることができて便利である。
　請求項３に係る発明の電子レベルによれば、第１パターンに対応してラインセンサの出力信号から視準点の高さを測定する高さ測定手段を有するから、前記第１パターンを用いて測定すれば従来どおりの測定ができる。前記第２パターンを用いて測定するときは、濃淡反転手段によって前記ラインセンサからの出力信号の濃淡を反転させることによって、前記高さ測定手段で第２パターンから高さを読むことができる。ただし、第２パターンは第１パターンに対して拡大又は縮小しているので、このままでは正確な高さが得られない。そこで、第２パターンに対応させてラインセンサからの出力信号の濃淡を反転させたときは、高さ補正手段によって、前記第２パターンの前記第１パターンに対する縮尺に応じて前記高さ測定手段で測定した高さを補正させて、正しい高さを得ることができる。こうして、第１パターンを用いて第１の距離範囲の測定ができ、第２パターンを用いて第１パターンを用いたときよりも長距離又は短距離の第２の距離範囲の測定を行うことによって、電子レベルのハードウェアを変更することなく、簡単に測定範囲を広げることができる。しかも、従来の電子レベル用標尺と混在させて使用しても誤った測定をしない。
　請求項４に係る発明によれば、前記高さ測定手段で視準点の高さを測定できなかった場合に、第１パターンへの対応を第２パターンへの対応に変更し、または、第２パターンへの対応を第１パターンへの対応に変更して、再測定を行わせる再測定手段を備えたから、第１パターン又は第２パターンのいずれで測定するか人手で指示しなくても、自動的に第１パターン又は第２パターンのいずれかを判断して測定できて便利である。
　請求項５に係る発明によれば、第１パターン又は第２パターンのいずれで高さ測定できたかを記憶するパターン記憶手段を備え、記憶しているパターンに対応させて次回の最初の測定を行うから、無駄な測定をすることが少なくなって、迅速に測定を完了することができる。
従来の電子レベルと標尺の使い方を説明する図 従来の標尺のバーコードを説明する図 従来の電子レベルのブロック図 従来の電子レベルで標尺を視準した状態を示す図 従来の電子レベルで高さ測定を行う測定プログラムのフローチャート 距離測定の原理を説明する図 前記測定プログラムの一部を詳しく説明したフローチャート 従来の電子レベルでマークの幅を検出する方法を説明する図 本発明の一実施例の標尺を説明する図 本発明の一実施例の電子レベルが備える測定プログラムを説明する図 前記実施例で濃淡反転したマークの幅を検出する方法を説明する図 前記実施例で濃淡反転処理を行う場合の要件をまとめた表 前記実施例で再測定を行う場合の要件をまとめた表
　以下、図面を参照して、本発明の一実施例に係る電子レベル及び標尺について説明する。本実施例の標尺１は、図９に示したように、前記特許文献１に開示された標尺１と同じバーコードパターンである第１パターン１Ａの他に、第１パターン１Ａの白黒（濃淡）を反転させたもの１Ｒを縮小させた相似形の第２パターン１Ｂを有する。２つのパターン１Ａ、１Ｂは、それぞれ１本の標尺１の表裏に描かれていてもよいし、それぞれ２本の標尺１の一面に描かれていてもよいし、それぞれ多角形断面の標尺１の異なる方向を向いている第１面及び第２面に描かれていてもよい。
　一方、本実施例の電子レベル２は、標尺１に描かれた第１パターン１Ａだけでなく、第２パターン１Ｂからも高さ測定できるようにした測定プログラムを備える点以外は、前記特許文献１に開示された電子レベル２と同じである。
　それでは、マイコン３が行う前記測定プログラムについて説明する。図１０に示すように、前記測定プログラムをスタートさせると、ステップＳ１に進んで、ラインセンサ２４からの出力信号を取得し、次にステップＳ２に進んで、取得した出力信号に対して周波数測定を行い、次にステップＳ３に進んで、周波数測定が成功したか否かを調べる。ここまでと、周波数測定に失敗したとき、ステップＳ８に進んで、測距エラーを表示して測定を終了することは、前記特許文献１に開示されたものと同じである。
　ステップＳ３で周波数測定に成功したときは、ステップＳ１０に進んで、制御変数Ｊ，Ｋを初期化する。制御変数Ｊとは、第１パターン１Ａ（Ｊ＝１）に対応するため設定（従来と同じ設定）と、第２パターン１Ｂ（Ｊ＝２）に対応するための設定のいずれかを指示するものである。第２パターン１Ｂに対応するためには、ラインセンサ２４の出力信号を取得した（図１１のＢ参照）後に、ラインセンサ２４の出力信号を反転させる（図１１のＢ’参照）。それからは、従来と同じく反転した出力信号を微分すれば（図１１のＣ参照）、マーク１１の幅ｗを得ることができる。制御変数Ｋとは、ある測定点に関する最初の測定（Ｋ＝１）と再測定（Ｋ＝２）のどちらを行うかを指示するものである。ステップＳ１０では、制御変数Ｋについては、Ｋ＝１が設定され、制御変数Ｊについては、後述するように、前回の測定で第１パターン１Ａ（Ｊ＝１）又は第２パターン１Ｂ（Ｊ＝２）のうち高さ測定ができたほうが設定される。
　次に、ステップＳ１１に進んで、最初に第２パターン１Ｂ（Ｊ＝２）が指示されているか否か調べる。第２パターン１Ｂ（Ｊ＝２）が指示されているときは、ステップＳ１２に進んで、ラインセンサ２４からの出力信号を反転させる処理をしてから、ステップＳ４に進んで高さ測定を行う。このステップＳ４は、特許文献１に開示された従来のものと同じである。第１パターン１Ａ（Ｊ＝１）が指示されているときは、そのままステップＳ４に進んで高さ測定を行う。ここで、ステップＳ１０～Ｓ１２は、請求項３に記載の濃淡反転手段に相当し、ステップＳ４は、請求項３に記載の高さ測定手段に相当する。
　ステップＳ４で高さ測定を行うと、ステップＳ２１に進んで、高さ測定が成功したか否か調べる。高さ測定に失敗した場合は、ステップＳ２２に進んでコード化エラー以外のエラーか否か調べる。コード化エラーとは、マーク１１の検出失敗、マーク１１の幅寸法を整数化することの失敗、整数化した順列と予め記憶している数列との一致点を発見できなかったことである。コード化エラー以外のエラーのときは、ステップＳ７に進んで測高エラーを表示して終了する。コード化エラーのときは、ステップＳ２３に進んで再測定（Ｋ＝２）か否か調べる。再測定の場合は、ステップＳ７に進んで測高エラーを表示して終了する。再測定でない場合（Ｋ＝１のとき）は、ステップＳ２４に進んで再測定の設定（Ｋ＝２、Ｊ＝１ならＪ＝２へ変更、Ｊ＝２ならＪ＝１へ変更）をして、ステップＳ１１に戻る。ここで、ステップＳ２１～Ｓ２４は、請求項４に記載の再測定手段に相当する。
　ステップＳ２１で高さ測定成功と判断した場合は、ステップＳ３１に進んで、第２パターン１Ｂ（Ｊ＝２）に対応しているか否か調べる。第２パターン１Ｂは、第１パターン１Ａに対して縮小されているので、第２パターン１Ｂ（Ｊ＝２）に対応している場合は、ステップＳ３２へ進んで、第２パターン１Ｂの第１パターン１Ａに対する縮尺に応じて、ステップＳ４で測定した高さの補正処理を行って正しい高さを求め、それからステップＳ４０に進む。第２パターン１Ｂ（Ｊ＝２）に対応していない場合、すなわち第１パターン１Ａ（Ｊ＝１）に対応している場合は、そのままステップＳ４０に進む。ここで、ステップＳ３１～３２は、請求項３に記載の高さ補正手段に相当する。
　そして、ステップＳ４０に進むと、制御変数Ｊの値を記憶する。これは、次回の測定でも、標尺1を隣接する測定点に移動させるため、同じパターンが使われることが多いと考えられるからである。そして、ステップＳ６に進んで測定結果を表示して終了する。ここで、ステップ４０は、請求項５に記載されたパターン記憶手段に相当する。
　なお、表１２には、どのような場合にラインセンサ２４の出力信号を反転させるか、表１３には、どのような場合に再測定を行うかがまとめてある。
　本実施例の標尺１及び電子レベル２によれば、第１パターン１Ａを用いて測定すれば従来どおりの測定ができる。第２パターン１Ｂを用いて測定するときは、ラインセンサ２４からの出力信号の濃淡を反転させることによって、第２パターン１Ｂから高さを読むことができる。ただし、第２パターン１Ｂは第１パターン１Ａに対して縮小しているので、このままでは正確な高さは得られない。そこで、第２パターン１Ｂを用いたときは、第２パターン１Ｂの第１パターン１Ａに対する縮尺に応じて高さを補正して正しい高さを得るようにしてある。こうして、第１パターン１Ａを用いて第１の距離範囲の測定ができ、第２パターン１Ｂを用いて第１の距離範囲よりも近距離測定を簡単にできるようになる。しかも、従来の標尺と混在させて使用しても誤った測定をしないようにできる。
　また、ラインセンサ２４の出力信号から視準点の高さを測定できなかった場合には、第１パターン１Ａへの対応を第２パターン１Ｂへの対応に変更するか、または、第２パターン１Ｂへの対応を第１パターン１Ａへの対応に変更して、再測定を行わせたから、第１パターン１Ａか第２パターン１Ｂのいずれで測定するか人手で指示しなくても、自動的に第１パターン１Ａか第２パターン１Ｂのいずれかを判断して測定できて便利である。
　さらに、第１パターン１Ａ又は第２パターン１Ｂのいずれで高さ測定できたかを記憶して、記憶したパターンに対応させて次回の最初の測定を行うから、無駄な測定をすることが少なくなって、迅速に測定を完了することができる。
　ところで、本発明は実施例に限るものではなく、種々の変形が可能である。以下に、変形例のいくつかを示す。
　（１）前記実施例では、標尺１に描くパターンとして、前記特許文献１に開示されたパターンを採用したが、電子レベル用標尺として用いられているパターンであって、パターンの濃淡が反転した状態を識別できる手段があれば、どのようなパターンでも採用可能である。例えば、前記特許文献２に開示されたパターンでも採用可能である。
　（２）前記実施例では、標尺１に描かれた第２パターン１Ｂは、第１パターン１Ａの白黒（濃淡）を反転させたもの１Ｒを縮小させた相似形としたが、逆に拡大させた相似形としてもよい。この場合は、第２パターン１Ｂを用いることにより、いっそう遠距離測定が可能になる。また、標尺１を三角柱状として、第１面に第１パターン１Ａを、第２面に第１パターン１Ａの白黒（濃淡）を反転させたもの１Ｒを縮小させた相似形の第２パターン１Ｂを、第３面に第１パターン１Ａの白黒（濃淡）を反転させたもの１Ｒを拡大した相似形の第３パターンを描いてもよい。
　（３）前記実施例の測定プログラムにおいて、ステップＳ４０を省略してもよい。この場合は、ステップＳ１０でＪ＝１と設定する。すると、最初の測定では第１パターン１Ａ（Ｊ＝１）に対応してラインセンサ２４からの出力信号をそのまま用いて高さ測定し、これで高さ測定に失敗して再測定する場合は、第２パターン１Ｂ（Ｊ＝２）に対応してラインセンサ２４からの出力信号を反転させて高さ測定することになる。
　（４）前記実施例の測定プログラムにおいて、ステップＳ１０では、作業員が手動で第１パターン１Ａ（Ｊ＝１）又は第２パターン１Ｂ（Ｊ＝２）のいずれかを入力するようにしてもよい。この場合は、ステップＳ４０を省略できることはもちろん、高さ測定に失敗する可能性が小さいので、ステップＳ２２～２４を省略することも可能である。
　（５）前記実施例の測定プログラムにおいて、第１パターン１Ａ（Ｊ＝１）又は第２パターン１Ｂ（Ｊ＝２）のいずれに対応すべきか、自動的に決定してもよい。これには、黒いマーク１１が等ピッチに揃っているか否かから判断する。等ピッチであれば、第１パターン１Ａ（Ｊ＝１）を設定し、等ピッチでなければ、第２パターン１Ｂ（Ｊ＝２）を設定する。この場合は、ステップＳ４０を省略できるが、ステップＳ２２～２４は残したほうが無難である。
１　　標尺
２　　電子レベル
１１　マーク
２４　ラインセンサ

Claims (5)

  1. 　複数のバー状のマークを等ピッチで長手方向に沿って配列して濃淡を形成したパターンを有する電子レベル用標尺において、
    　前記パターンとして、第１の距離範囲での測定のために所定の規則に従って濃淡が形成された第１パターンと、前記第１の距離範囲とは異なる第２の距離範囲での測定のために前記第１パターンの濃淡を逆にしたものを拡大又は縮小した第２パターンとを有することを特徴とする電子レベル用標尺。
  2. 　前記電子レベル用標尺は、向きが異なる第１面と第２面とを有し、前記第１面に前記第１パターンが形成され、前記第２面に前記第２パターンが形成されたことを特徴とする請求項１記載の電子レベル用標尺。
  3. 　請求項１又は２のいずれかに記載の電子レベル用標尺に形成された前記第１パターン又は前記第２パターンに応じて出力信号を発生するラインセンサと、前記第１パターンに対応して前記ラインセンサの出力信号から視準点の高さを測定する高さ測定手段を有する電子レベルにおいて、
    　前記第２パターンに対応するために、前記ラインセンサからの出力信号の濃淡を反転させる濃淡反転手段と、前記第２パターンの前記第１パターンに対する縮尺に応じて前記高さ測定手段で測定した高さを補正する高さ補正手段とを備え、
    　請求項１又は２のいずれかに記載の電子レベル用標尺を用いても高さ測定できることを特徴とする電子レベル。
  4. 　前記高さ測定手段で視準点の高さを測定できなかった場合に、前記第１パターンへの対応を前記第２パターンへの対応に変更し、または、前記第２パターンへの対応を前記第１パターンへの対応に変更して、再測定を行わせる再測定手段を備えたことを特徴とする請求項３に記載の電子レベル。
  5. 　前回に前記第１パターン又は前記第２パターンのいずれで高さ測定できたかを記憶するパターン記憶手段を備え、記憶しているパターンに対応させて次回の最初の測定を行うことを特徴とする請求項４に記載の電子レベル。
PCT/JP2011/063551 2010-09-13 2011-06-14 電子レベル及び電子レベル用標尺 WO2012035835A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US13/818,464 US8510964B2 (en) 2010-09-13 2011-06-14 Electronic level and leveling rod for electronic level
CN201180036987.7A CN103038604B (zh) 2010-09-13 2011-06-14 电子水准仪及电子水准仪用标尺
EP11824847.5A EP2618106B1 (en) 2010-09-13 2011-06-14 Electronic level and leveling rod for electronic level

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010-204346 2010-09-13
JP2010204346A JP5530873B2 (ja) 2010-09-13 2010-09-13 電子レベル及び電子レベル用標尺

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2012035835A1 true WO2012035835A1 (ja) 2012-03-22

Family

ID=45831317

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2011/063551 WO2012035835A1 (ja) 2010-09-13 2011-06-14 電子レベル及び電子レベル用標尺

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8510964B2 (ja)
EP (1) EP2618106B1 (ja)
JP (1) JP5530873B2 (ja)
CN (1) CN103038604B (ja)
WO (1) WO2012035835A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2543959A1 (en) * 2011-07-04 2013-01-09 Kabushiki Kaisha Topcon Surveying staff for electronic levelling instrument

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5378259B2 (ja) * 2010-02-10 2013-12-25 株式会社 ソキア・トプコン 電子レベル
JP6189134B2 (ja) * 2013-08-08 2017-08-30 株式会社トプコン 電子レベル
US9443311B2 (en) 2014-06-12 2016-09-13 Topcon Positioning Systems, Inc. Method and system to identify a position of a measurement pole
EP3408610A4 (en) * 2016-01-25 2020-01-01 Topcon Positioning Systems, Inc. METHOD AND DEVICE FOR OPTICAL SINGLE CAMERA MEASUREMENTS
US10300573B2 (en) * 2017-05-24 2019-05-28 Trimble Inc. Measurement, layout, marking, firestop stick
US10341618B2 (en) 2017-05-24 2019-07-02 Trimble Inc. Infrastructure positioning camera system
US20220390232A1 (en) * 2020-12-12 2022-12-08 Graham Procyk Apparatus for use with a rotary laser level system

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59168116U (ja) * 1983-04-25 1984-11-10 松森　樹男 測量用標尺
JPH0364441U (ja) * 1989-10-25 1991-06-24
JPH05322562A (ja) * 1992-05-23 1993-12-07 Topcon Corp 電子レベルと電子レベル用標尺
JP2001091256A (ja) * 1999-09-21 2001-04-06 Topcon Corp 水準測量用標尺
JP3789625B2 (ja) 1997-12-19 2006-06-28 株式会社ソキア 電子レベル用標尺及び電子レベル

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19826873C1 (de) * 1998-06-17 1999-11-25 Zeiss Carl Jena Gmbh Digitalnivellierlatte
US6202314B1 (en) * 1998-07-30 2001-03-20 Chan Y. Park Calibration system for use with measuring systems
EP1593935A1 (en) * 2004-05-06 2005-11-09 Leica Geosystems AG Levelling rod, level determining apparatus for said rod and level determining method
US7373725B1 (en) * 2005-10-20 2008-05-20 Laserline Mfg., Inc. Surveying systems and methods for detecting and measuring changes in elevation
US8864327B2 (en) * 2011-01-28 2014-10-21 Rm Asset Group, Llc Illumination device for use with survey level rod and method of use

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59168116U (ja) * 1983-04-25 1984-11-10 松森　樹男 測量用標尺
JPH0364441U (ja) * 1989-10-25 1991-06-24
JPH05322562A (ja) * 1992-05-23 1993-12-07 Topcon Corp 電子レベルと電子レベル用標尺
JP3789625B2 (ja) 1997-12-19 2006-06-28 株式会社ソキア 電子レベル用標尺及び電子レベル
JP2001091256A (ja) * 1999-09-21 2001-04-06 Topcon Corp 水準測量用標尺

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2618106A4

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2543959A1 (en) * 2011-07-04 2013-01-09 Kabushiki Kaisha Topcon Surveying staff for electronic levelling instrument
US8881413B2 (en) 2011-07-04 2014-11-11 Kabushiki Kaisha Topcon Staff for electronic level

Also Published As

Publication number Publication date
CN103038604A (zh) 2013-04-10
JP2012058189A (ja) 2012-03-22
US20130152413A1 (en) 2013-06-20
CN103038604B (zh) 2014-01-01
EP2618106A4 (en) 2013-11-20
US8510964B2 (en) 2013-08-20
JP5530873B2 (ja) 2014-06-25
EP2618106B1 (en) 2014-11-05
EP2618106A1 (en) 2013-07-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5530873B2 (ja) 電子レベル及び電子レベル用標尺
JP4834661B2 (ja) 標尺、標尺を用いたレベル測定装置および測定方法
US8881413B2 (en) Staff for electronic level
US5777899A (en) Horizontal position error correction mechanism for electronic level
JP5688300B2 (ja) 電子レベル装置及びこの電子レベル装置に用いる標尺
JP3683350B2 (ja) 電子レベル用標尺及び電子レベル
CN205300605U (zh) 激光扫平仪精度测量装置
JP6614954B2 (ja) ひび割れ幅計測装置
US6907133B2 (en) Automatic surveying system
CN108020202B (zh) 具有仪器高实时精确测量功能的电子水准仪及其使用方法
JP3795190B2 (ja) 電子レベル
JP4884612B2 (ja) 標尺の文字自動読み取り装置を備えた測量機
CN108020203B (zh) 一种具有仪器高实时精确测量功能的电子水准仪及其用法
Aldalil A New Method for Measuring Leveling Heights Using Computer Vision Techniques
CN111536997B (zh) 一种水准仪自检校正方法
JP4717278B2 (ja) 標尺の目盛り自動読取り装置
JPH07229737A (ja) 電子レベル及び電子レベル用標尺
JPS623610A (ja) 二つの対象物の間の相対的位置を決定するための測定装置
RU2234061C1 (ru) Способ контроля геодезических измерений и мира для его осуществления
JPS63180815A (ja) 比高測定用水準儀
RU2307323C1 (ru) Способ контроля геодезических измерений и мира для его осуществления
JP4873922B2 (ja) 標尺領域検出方法およびその装置
LT5333B (lt) Niveliavimo matuoklių kalibravimo įrenginys
JP2012112656A (ja) オートフォーカス式測量機

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 201180036987.7

Country of ref document: CN

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 11824847

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 13818464

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2011824847

Country of ref document: EP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE