JPH07229737A - 電子レベル及び電子レベル用標尺 - Google Patents
電子レベル及び電子レベル用標尺Info
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- JPH07229737A JPH07229737A JP15598392A JP15598392A JPH07229737A JP H07229737 A JPH07229737 A JP H07229737A JP 15598392 A JP15598392 A JP 15598392A JP 15598392 A JP15598392 A JP 15598392A JP H07229737 A JPH07229737 A JP H07229737A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 電子レベル用標尺に規則的な第１パターンが
形成された第１パターン部と、第１パターンと僅かに異
なる規則的ピッチで形成された第２パターン部とを形成
し、２つのパターンのずれ及びピッチを測定することに
より、視準高を算出する。 【構成】 本発明は対物レンズ部が、第１パターン及び
第２パターンの像を形成し、エリアセンサ部が、対物レ
ンズ部によって形成された第１パターン及び第２パター
ンの像を電気信号に変換し、エリアセンサ部で変換され
た第１パターンに対応する第１パターン信号と、第２パ
ターンに対応する第２パターン信号との偏差に基づき視
準高を求めることができる。
形成された第１パターン部と、第１パターンと僅かに異
なる規則的ピッチで形成された第２パターン部とを形成
し、２つのパターンのずれ及びピッチを測定することに
より、視準高を算出する。 【構成】 本発明は対物レンズ部が、第１パターン及び
第２パターンの像を形成し、エリアセンサ部が、対物レ
ンズ部によって形成された第１パターン及び第２パター
ンの像を電気信号に変換し、エリアセンサ部で変換され
た第１パターンに対応する第１パターン信号と、第２パ
ターンに対応する第２パターン信号との偏差に基づき視
準高を求めることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子レベルと、これに
使用する電子レベル用標尺に係わり、特に、電子レベル
用標尺に規則的な第１パターンが形成された第１パター
ン部と、この第１パターンと僅かに異なる規則的ピッチ
で形成された第２パターン部とを形成し、電子レベルに
より、これら２つのパターンのずれ及びピッチを測定す
ることにより、視準高を算出することのできる電子レベ
ルに関するものである。
使用する電子レベル用標尺に係わり、特に、電子レベル
用標尺に規則的な第１パターンが形成された第１パター
ン部と、この第１パターンと僅かに異なる規則的ピッチ
で形成された第２パターン部とを形成し、電子レベルに
より、これら２つのパターンのずれ及びピッチを測定す
ることにより、視準高を算出することのできる電子レベ
ルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来から直接水準測量等を行う場合に
は、レベル（水準儀）と標尺が使用されていた。即ち、
測量者が、標尺の目盛りをレベルを使用して目視するこ
とにより視準高を測定していた。この古典的なレベルに
よる測量では、測量者による読み誤りが発生していた。
この読み誤りを解消するために、標尺の目盛り作業を電
子的に行う電子レベルが開発された。この電子レベルは
例えば、標尺側から所定信号を包含させた光を発光さ
せ、この光を電子レベル側で受光して識別し、標尺の目
盛りを読み取る様に構成されていた。
は、レベル（水準儀）と標尺が使用されていた。即ち、
測量者が、標尺の目盛りをレベルを使用して目視するこ
とにより視準高を測定していた。この古典的なレベルに
よる測量では、測量者による読み誤りが発生していた。
この読み誤りを解消するために、標尺の目盛り作業を電
子的に行う電子レベルが開発された。この電子レベルは
例えば、標尺側から所定信号を包含させた光を発光さ
せ、この光を電子レベル側で受光して識別し、標尺の目
盛りを読み取る様に構成されていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、画像処
理技術が進歩した今日では、標尺に不規則パターンを形
成し、距離に応じて倍率が変化する標尺の不規則パター
ンを画像処理することにより、アブソリュート式に標尺
の目盛りを電子測定することも可能であるが、膨大な処
理時間を必要とし、実用性に乏しいという問題点があっ
た。従って不規則パターンが形成された標尺を使用し、
アブソリュート式に膨大な画像信号処理を行うことな
く、簡易な信号処理により、電子的に標尺の目盛りを読
み取ることのできる電子レベルの出現が強く望まれてい
た。
理技術が進歩した今日では、標尺に不規則パターンを形
成し、距離に応じて倍率が変化する標尺の不規則パター
ンを画像処理することにより、アブソリュート式に標尺
の目盛りを電子測定することも可能であるが、膨大な処
理時間を必要とし、実用性に乏しいという問題点があっ
た。従って不規則パターンが形成された標尺を使用し、
アブソリュート式に膨大な画像信号処理を行うことな
く、簡易な信号処理により、電子的に標尺の目盛りを読
み取ることのできる電子レベルの出現が強く望まれてい
た。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題に鑑み
案出されたもので、測定を行う際に鉛直方向に配置さ
れ、規則的な第１パターンが形成された第１パターン部
と、この第１パターンと僅かに異なる規則的ピッチで形
成された第２パターン部とから構成された電子レベル用
標尺を使用して測定を行う電子レベルであって、前記第
１パターン及び前記第２パターンの像を形成するための
対物レンズ部と、この対物レンズ部によって形成された
前記第１パターン及び前記第２パターンの像を電気信号
に変換するためのエリアセンサ部と、このエリアセンサ
部で変換された前記第１パターンに対応する第１パター
ン信号と、前記第２パターンに対応する第２パターン信
号との偏差に基づき視準高を求めるための高さ算出部と
から構成されている。
案出されたもので、測定を行う際に鉛直方向に配置さ
れ、規則的な第１パターンが形成された第１パターン部
と、この第１パターンと僅かに異なる規則的ピッチで形
成された第２パターン部とから構成された電子レベル用
標尺を使用して測定を行う電子レベルであって、前記第
１パターン及び前記第２パターンの像を形成するための
対物レンズ部と、この対物レンズ部によって形成された
前記第１パターン及び前記第２パターンの像を電気信号
に変換するためのエリアセンサ部と、このエリアセンサ
部で変換された前記第１パターンに対応する第１パター
ン信号と、前記第２パターンに対応する第２パターン信
号との偏差に基づき視準高を求めるための高さ算出部と
から構成されている。
【０００５】また本発明の電子レベル用標尺は、測定を
行う際に鉛直方向に配置され、規則的な第１パターンが
形成された第１パターン部と、この第１パターンと僅か
に異なる規則的ピッチで形成された第２パターン部とか
ら構成されている。
行う際に鉛直方向に配置され、規則的な第１パターンが
形成された第１パターン部と、この第１パターンと僅か
に異なる規則的ピッチで形成された第２パターン部とか
ら構成されている。
【０００６】
【作用】以上の様に構成された本発明は、規則的な第１
パターンが形成された第１パターン部を測定時に鉛直方
向に配置し、この第１パターンと僅かに異なる規則的ピ
ッチで形成された第２パターン部を測定時に鉛直方向に
配置する。そして対物レンズ部が、第１パターン及び第
２パターンの像を形成し、エリアセンサ部が、対物レン
ズ部によって形成された第１パターン及び第２パターン
の像を電気信号に変換し、高さ算出部が、エリアセンサ
部で変換された第１パターンに対応する第１パターン信
号と、第２パターンに対応する第２パターン信号との偏
差に基づき視準高を求めることができる。
パターンが形成された第１パターン部を測定時に鉛直方
向に配置し、この第１パターンと僅かに異なる規則的ピ
ッチで形成された第２パターン部を測定時に鉛直方向に
配置する。そして対物レンズ部が、第１パターン及び第
２パターンの像を形成し、エリアセンサ部が、対物レン
ズ部によって形成された第１パターン及び第２パターン
の像を電気信号に変換し、高さ算出部が、エリアセンサ
部で変換された第１パターンに対応する第１パターン信
号と、第２パターンに対応する第２パターン信号との偏
差に基づき視準高を求めることができる。
【０００７】また本発明の電子レベル用標尺は、規則的
な第１パターンが形成された第１パターン部を測定時に
鉛直方向に配置し、この第１パターンと僅かに異なる規
則的ピッチで形成された第２パターン部を測定時に鉛直
方向に配置する様になっている。
な第１パターンが形成された第１パターン部を測定時に
鉛直方向に配置し、この第１パターンと僅かに異なる規
則的ピッチで形成された第２パターン部を測定時に鉛直
方向に配置する様になっている。
【０００８】
【０００９】本発明の実施例を図面に基づいて説明す
る。
る。
【００１０】図１〜図３に示す様に、本実施例の測量装
置は、電子レベル１と、電子レベル用標尺２とからなっ
ている。電子レベル１は、図３に示す様に整準装置１０
０上に載置されており、図１に示す様に、対物レンズ部
１１と、コンペンセータ１２と、ビームスプリッタ１３
と、接眼レンズ部１４と、エリアセンサ１５と、演算処
理手段１６とから構成されている。
置は、電子レベル１と、電子レベル用標尺２とからなっ
ている。電子レベル１は、図３に示す様に整準装置１０
０上に載置されており、図１に示す様に、対物レンズ部
１１と、コンペンセータ１２と、ビームスプリッタ１３
と、接眼レンズ部１４と、エリアセンサ１５と、演算処
理手段１６とから構成されている。
【００１１】対物レンズ部１１は、電子レベル用標尺２
のパターンの像を形成するためのものである。コンペン
セータ１２は、電子レベル１の光軸が多少傾いても、視
準線を自動的に水平にするための自動補償機構であり、
水平光線を上下に変化させて結像させるものである。ビ
ームスプリッタ１３は、光を接眼レンズ部１４方向と、
エリアセンサ１５方向に分割させるためのものである。
接眼レンズ部１４は、測量者が、電子レベル用標尺２を
目視するためのものである。エリアセンサ１５はエリア
センサ部に該当するもので、対物レンズ部によって形成
された電子レベル用標尺２のパターン像を電気信号に変
換するためのものである。本実施例ではＣＣＤエリアセ
ンサが使用されている。このエリアセンサ１５は、ホト
ダイオードを２次元的に配置したエリアイメージセンサ
であれば、何れのセンサを採用することができる。
のパターンの像を形成するためのものである。コンペン
セータ１２は、電子レベル１の光軸が多少傾いても、視
準線を自動的に水平にするための自動補償機構であり、
水平光線を上下に変化させて結像させるものである。ビ
ームスプリッタ１３は、光を接眼レンズ部１４方向と、
エリアセンサ１５方向に分割させるためのものである。
接眼レンズ部１４は、測量者が、電子レベル用標尺２を
目視するためのものである。エリアセンサ１５はエリア
センサ部に該当するもので、対物レンズ部によって形成
された電子レベル用標尺２のパターン像を電気信号に変
換するためのものである。本実施例ではＣＣＤエリアセ
ンサが使用されている。このエリアセンサ１５は、ホト
ダイオードを２次元的に配置したエリアイメージセンサ
であれば、何れのセンサを採用することができる。
【００１２】演算処理手段１６は、アンプ１６１と、サ
ンプルホールド１６２と、Ａ／Ｄ変換器１６３と、ＲＡ
Ｍ１６４と、クロックドライバ１６５と、マイクロコン
ピュータ１６６と、表示器１６７とから構成されてい
る。
ンプルホールド１６２と、Ａ／Ｄ変換器１６３と、ＲＡ
Ｍ１６４と、クロックドライバ１６５と、マイクロコン
ピュータ１６６と、表示器１６７とから構成されてい
る。
【００１３】アンプ１６１は、エリアセンサ１５からの
電気信号を増幅するものであり、サンプルホールド１６
２は、増幅された電気信号をクロックドライバ１６５か
らのタイミング信号でサンプルホールドするものであ
る。Ａ／Ｄ変換器１６３は、サンプルホールドされた電
気信号をＡ／Ｄ変換するためのものである。そしてＲＡ
Ｍ１６４は、Ａ／Ｄ変換されたデジタル信号を記憶する
ためのものである。またマイクロコンピュータ１６６
は、各種演算処理を行うものである。ここでマイクロコ
ンピュータ１６６は、高さ算出部の機能をも有してお
り、エリアセンサ１５で変換された第１パターンに対応
する第１パターン信号と、第２パターンに対応する第２
パターン信号との偏差に基づき視準高を求めることがで
きる。
電気信号を増幅するものであり、サンプルホールド１６
２は、増幅された電気信号をクロックドライバ１６５か
らのタイミング信号でサンプルホールドするものであ
る。Ａ／Ｄ変換器１６３は、サンプルホールドされた電
気信号をＡ／Ｄ変換するためのものである。そしてＲＡ
Ｍ１６４は、Ａ／Ｄ変換されたデジタル信号を記憶する
ためのものである。またマイクロコンピュータ１６６
は、各種演算処理を行うものである。ここでマイクロコ
ンピュータ１６６は、高さ算出部の機能をも有してお
り、エリアセンサ１５で変換された第１パターンに対応
する第１パターン信号と、第２パターンに対応する第２
パターン信号との偏差に基づき視準高を求めることがで
きる。
【００１４】そして表示器１６７は、マイクロコンピュ
ータ１６６で算出された視準高を表示するもので、液晶
表示等の表示手段を採用してもよく、更に、外部記憶手
段等に出力させる構成としてもよい。
ータ１６６で算出された視準高を表示するもので、液晶
表示等の表示手段を採用してもよく、更に、外部記憶手
段等に出力させる構成としてもよい。
【００１５】次に電子レベル用標尺２は、図２に示す様
に、測定を行う際に鉛直方向に配置され、規則的な第１
パターンが形成された第１パターン部２１と、測定を行
う際に鉛直方向に配置され、この第１パターンと僅かに
異なる規則的ピッチで形成された第２パターン部２２と
から構成されている。
に、測定を行う際に鉛直方向に配置され、規則的な第１
パターンが形成された第１パターン部２１と、測定を行
う際に鉛直方向に配置され、この第１パターンと僅かに
異なる規則的ピッチで形成された第２パターン部２２と
から構成されている。
【００１６】以上の様に構成された本測量装置の測定原
理を説明する。
理を説明する。
【００１７】まず、電子レベル１と電子レベル用標尺２
との距離を演算する方法を説明する。
との距離を演算する方法を説明する。
【００１８】本実施例の電子レベル用標尺２には、第１
パターン部２１と、第１パターンと僅かに異なる規則的
ピッチで形成された第２パターン部２２が形成されてい
るので、第１パターン部２１又は第２パターン部２２を
電子レベル１で読み取り、その波数を計測することによ
り、比例関係から、電子レベル１と電子レベル用標尺２
との概算距離を演算することができる。
パターン部２１と、第１パターンと僅かに異なる規則的
ピッチで形成された第２パターン部２２が形成されてい
るので、第１パターン部２１又は第２パターン部２２を
電子レベル１で読み取り、その波数を計測することによ
り、比例関係から、電子レベル１と電子レベル用標尺２
との概算距離を演算することができる。
【００１９】次に、視準高Ｈの測定原理を説明する。
【００２０】エリアセンサ１５から出力された第１パタ
ーン部２１と第２パターン部２２に対応する電気信号
は、図４の様になる。図４（ａ）は、電子レベル１と電
子レベル用標尺２との距離が近距離の場合である。縦軸
は光量であるが、エリアセンサ１５から出力された電気
信号に該当する。横軸は、エリアセンサ１５のフレーム
メモリの画素に相当するものである。そして実線で描か
れた（α）が、第１パターン部２１によるエリアセンサ
１５の出力電気信号である。また点線で描かれた（β）
が、第２パターン部２２によるエリアセンサ１５の出力
電気信号である。そして、視準位置近傍の第１パターン
部２１によるエリアセンサ１５の出力信号（α）と、第
２パターン部２２によるエリアセンサ１５の出力電気信
号（β）の偏差を（デルタ）とする。更に第１パターン
部２１と第２パターン部２２とが、１ピッチずれる距離
を標尺長Ｌとすれば、第１パターン部２１も第２パター
ン部２２も規則的ピッチで形成されているので、概算視
準高Ｈ0は、
ーン部２１と第２パターン部２２に対応する電気信号
は、図４の様になる。図４（ａ）は、電子レベル１と電
子レベル用標尺２との距離が近距離の場合である。縦軸
は光量であるが、エリアセンサ１５から出力された電気
信号に該当する。横軸は、エリアセンサ１５のフレーム
メモリの画素に相当するものである。そして実線で描か
れた（α）が、第１パターン部２１によるエリアセンサ
１５の出力電気信号である。また点線で描かれた（β）
が、第２パターン部２２によるエリアセンサ１５の出力
電気信号である。そして、視準位置近傍の第１パターン
部２１によるエリアセンサ１５の出力信号（α）と、第
２パターン部２２によるエリアセンサ１５の出力電気信
号（β）の偏差を（デルタ）とする。更に第１パターン
部２１と第２パターン部２２とが、１ピッチずれる距離
を標尺長Ｌとすれば、第１パターン部２１も第２パター
ン部２２も規則的ピッチで形成されているので、概算視
準高Ｈ0は、
【００２１】Ｈ0＝（デルタ／Ｐ）Ｌ
【００２２】と表すことができる。但し、Ｐはピッチで
ある。
ある。
【００２３】更に偏差（デルタ）を求めたビットと、視
準軸上のビットとの距離をｄとすれば、視準高Ｈは、
準軸上のビットとの距離をｄとすれば、視準高Ｈは、
【００２４】Ｈ＝Ｈ0＋ｄ＊ｍ ここで、ｍ＝
（Ｌ／ｆ） ｍは倍率
（Ｌ／ｆ） ｍは倍率
【００２５】となる。
【００２６】また図４（ｂ）に示す様に、電子レベル１
と電子レベル用標尺２との距離が遠距離の場合である。
この場合には、視準位置近傍で第１パターン部２１によ
るエリアセンサ１５の出力信号（α）と、第２パターン
部２２によるエリアセンサ１５の出力電気信号（β）と
の偏差（デルタ）を複数前後同数計測し、その平均値で
ある（デルタ）m を演算し、この平均値を使用して視準
高Ｈを求める様にする。本実施例では、（デルタ）1、
（デルタ）2、（デルタ）3 の３箇所の平均値を使用し
ているが、適宜の数の平均値を採用することができる。
と電子レベル用標尺２との距離が遠距離の場合である。
この場合には、視準位置近傍で第１パターン部２１によ
るエリアセンサ１５の出力信号（α）と、第２パターン
部２２によるエリアセンサ１５の出力電気信号（β）と
の偏差（デルタ）を複数前後同数計測し、その平均値で
ある（デルタ）m を演算し、この平均値を使用して視準
高Ｈを求める様にする。本実施例では、（デルタ）1、
（デルタ）2、（デルタ）3 の３箇所の平均値を使用し
ているが、適宜の数の平均値を採用することができる。
【００２７】以上の様に構成された本実施例の作用を図
５に基づいて説明する。
５に基づいて説明する。
【００２８】まず、ステップ１（以下、Ｓ１と略する）
で、被測定点に電子レベル用標尺２を設置し、電子レベ
ル１を起動させて測量を開始する。次にＳ２では、エリ
アセンサ１５が、対物レンズ部１１によって形成された
第１パターン部２１と第２パターン部２２の像を電気信
号に変換する。更にＳ３では、エリアセンサ１５から取
り込まれた電気信号をＡ／Ｄ変換し、Ｓ４で、変換され
たディジタル信号をＲＡＭ１６４に記憶させる。更にＳ
５では、エリアセンサ１５から取り込まれた電気信号の
内、第１パターンに対応する第１パターン信号を抽出
し、Ｓ６では、エリアセンサ１５から取り込まれた電気
信号の内、第２パターンに対応する第２パターン信号を
抽出する。そしてＳ７では波数により、電子レベル１と
電子レベル用標尺２との概算距離を演算する様になって
いる。
で、被測定点に電子レベル用標尺２を設置し、電子レベ
ル１を起動させて測量を開始する。次にＳ２では、エリ
アセンサ１５が、対物レンズ部１１によって形成された
第１パターン部２１と第２パターン部２２の像を電気信
号に変換する。更にＳ３では、エリアセンサ１５から取
り込まれた電気信号をＡ／Ｄ変換し、Ｓ４で、変換され
たディジタル信号をＲＡＭ１６４に記憶させる。更にＳ
５では、エリアセンサ１５から取り込まれた電気信号の
内、第１パターンに対応する第１パターン信号を抽出
し、Ｓ６では、エリアセンサ１５から取り込まれた電気
信号の内、第２パターンに対応する第２パターン信号を
抽出する。そしてＳ７では波数により、電子レベル１と
電子レベル用標尺２との概算距離を演算する様になって
いる。
【００２９】更にＳ８では、Ｓ７で算出された概略距離
が、所定距離以下であるか否かを判断する。なおＳ７で
概算距離を演算することなく、Ｓ８では波数を基準に距
離判断を行うことも可能である。そしてＳ８で、概略距
離が所定距離以下であり近距離と判断された場合には、
Ｓ９に進み、マイクロコンピュータ１６６が、視準位置
近傍の第１パターン部２１によるエリアセンサ１５の出
力信号（α）と、第２パターン部２２によるエリアセン
サ１５の出力電気信号（β）との偏差（デルタ）を求め
る。
が、所定距離以下であるか否かを判断する。なおＳ７で
概算距離を演算することなく、Ｓ８では波数を基準に距
離判断を行うことも可能である。そしてＳ８で、概略距
離が所定距離以下であり近距離と判断された場合には、
Ｓ９に進み、マイクロコンピュータ１６６が、視準位置
近傍の第１パターン部２１によるエリアセンサ１５の出
力信号（α）と、第２パターン部２２によるエリアセン
サ１５の出力電気信号（β）との偏差（デルタ）を求め
る。
【００３０】次にＳ１０では、第１パターン信号又は第
２パターン信号のパターンピッチＰを求め、Ｓ１１で
は、
２パターン信号のパターンピッチＰを求め、Ｓ１１で
は、
【００３１】Ｈ0＝（デルタ／Ｐ）Ｌ
【００３２】を演算して、概算視準高Ｈ0 を求める。更
にＳ１２では、Ｓ１１で求めた概算視準高Ｈ0 を利用し
て、
にＳ１２では、Ｓ１１で求めた概算視準高Ｈ0 を利用し
て、
【００３３】Ｈ＝Ｈ0＋ｄ＊ｍ
【００３４】を演算し、視準軸上のビット位置の視準高
Ｈを求め、表示器１６７に表示する。更にＳ１３に進
み、Ｓ１３では測定終了か否かを判断し、測定終了の場
合にはＳ１４に進んで測量を終了する。なおＳ１３で、
測定を終了しない場合には、Ｓ２に戻って測量を繰り返
す様になっている。
Ｈを求め、表示器１６７に表示する。更にＳ１３に進
み、Ｓ１３では測定終了か否かを判断し、測定終了の場
合にはＳ１４に進んで測量を終了する。なおＳ１３で、
測定を終了しない場合には、Ｓ２に戻って測量を繰り返
す様になっている。
【００３５】なおＳ８で、Ｓ７で算出された概略距離
が、所定距離を越えて遠距離と判断された場合には、Ｓ
１５に進み、マイクロコンピュータ１６６が視準位置近
傍で、第１パターン部２１によるエリアセンサ１５の出
力信号（α）と、第２パターン部２２によるエリアセン
サ１５の出力電気信号（β）との偏差（デルタ）を複数
前後同数計測する。更にＳ１６では、Ｓ１５で計測され
た複数の偏差（デルタ）の平均値を演算する。この平均
値が視準軸近傍の平均偏差となる。更にＳ１７では、第
１パターン信号又は第２パターン信号のパターンピッチ
Ｐを複数計測し、Ｓ１８で、Ｓ１７で求めた複数のパタ
ーンピッチＰの平均値を演算する。そしてＳ１１に進ん
で、複数の偏差（デルタ）の平均値及び複数のパターン
ピッチＰの平均値を使用して、概算視準高Ｈ0 を求める
ことができる。そして近距離測定の場合と同様に、Ｓ１
２で、視準軸上のビット位置の視準高Ｈを求めることが
できる。
が、所定距離を越えて遠距離と判断された場合には、Ｓ
１５に進み、マイクロコンピュータ１６６が視準位置近
傍で、第１パターン部２１によるエリアセンサ１５の出
力信号（α）と、第２パターン部２２によるエリアセン
サ１５の出力電気信号（β）との偏差（デルタ）を複数
前後同数計測する。更にＳ１６では、Ｓ１５で計測され
た複数の偏差（デルタ）の平均値を演算する。この平均
値が視準軸近傍の平均偏差となる。更にＳ１７では、第
１パターン信号又は第２パターン信号のパターンピッチ
Ｐを複数計測し、Ｓ１８で、Ｓ１７で求めた複数のパタ
ーンピッチＰの平均値を演算する。そしてＳ１１に進ん
で、複数の偏差（デルタ）の平均値及び複数のパターン
ピッチＰの平均値を使用して、概算視準高Ｈ0 を求める
ことができる。そして近距離測定の場合と同様に、Ｓ１
２で、視準軸上のビット位置の視準高Ｈを求めることが
できる。
【００３６】なお本実施例は、距離データ及び視準高デ
ータを電気的に出力できるので、データレコーダ等を使
用して作業の能率化を図ることができる。
ータを電気的に出力できるので、データレコーダ等を使
用して作業の能率化を図ることができる。
【００３７】またエリアセンサ１５の出力信号をＮＴＳ
Ｃ信号とすることも可能であり、この場合には、電子レ
ベル１をテレビカメラとして使用することができる。
Ｃ信号とすることも可能であり、この場合には、電子レ
ベル１をテレビカメラとして使用することができる。
【００３８】
【効果】以上の様に構成された本発明は、測定を行う際
に鉛直方向に配置され、規則的な第１パターンが形成さ
れた第１パターン部と、この第１パターンと僅かに異な
る規則的ピッチで形成された第２パターン部とから構成
された電子レベル用標尺を使用して測定を行う電子レベ
ルであって、前記第１パターン及び前記第２パターンの
像を形成するための対物レンズ部と、この対物レンズ部
によって形成された前記第１パターン及び前記第２パタ
ーンの像を電気信号に変換するためのエリアセンサ部
と、このエリアセンサ部で変換された前記第１パターン
に対応する第１パターン信号と、前記第２パターンに対
応する第２パターン信号との偏差に基づき視準高を求め
るための高さ算出部とから構成されているので、読み取
りミスもなく、高速処理が行えるので、水準測量を行う
時間の短縮化を図ることができるという卓越した効果が
ある。
に鉛直方向に配置され、規則的な第１パターンが形成さ
れた第１パターン部と、この第１パターンと僅かに異な
る規則的ピッチで形成された第２パターン部とから構成
された電子レベル用標尺を使用して測定を行う電子レベ
ルであって、前記第１パターン及び前記第２パターンの
像を形成するための対物レンズ部と、この対物レンズ部
によって形成された前記第１パターン及び前記第２パタ
ーンの像を電気信号に変換するためのエリアセンサ部
と、このエリアセンサ部で変換された前記第１パターン
に対応する第１パターン信号と、前記第２パターンに対
応する第２パターン信号との偏差に基づき視準高を求め
るための高さ算出部とから構成されているので、読み取
りミスもなく、高速処理が行えるので、水準測量を行う
時間の短縮化を図ることができるという卓越した効果が
ある。
【００３９】更に本発明は、特に複雑な画像処理や信号
処理を行っていないので、高速かつ安価に視準高を求め
ることができるという効果がある。
処理を行っていないので、高速かつ安価に視準高を求め
ることができるという効果がある。
【００４０】
【図１】本発明の実施例の電子レベル１の構成を示す図
である。
である。
【図２】本実施例の電子レベル用標尺２を説明する図で
ある。
ある。
【図３】本実施例の電子レベル１の外観を示す斜視図で
ある。
ある。
【図４】本実施例のエリアセンサ１５の出力信号を説明
する図である。
する図である。
【図５】本実施例の作用を説明する図である。
１ 電子レベル １１ 対物レンズ １２ コンペンセータ １３ ビームスプリッタ １４ 接眼レンズ部１４ １５ エリアセンサ １６ 演算処理手段 ２ 電子レベル用標尺 ２１ 第１パターン部 ２２ 第２パターン部
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成７年２月４日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例の電子レベル１の構成を示す図
である。
である。
【図２】本実施例の電子レベル用標尺２を説明する図で
ある。
ある。
【図３】本実施例の電子レベル１の外観を示す斜視図で
ある。
ある。
【図４（ａ）】本実施例のエリアセンサ１５の出力信号
を説明する図である。
を説明する図である。
【図４（ｂ）】本実施例のエリアセンサ１５の出力信号
を説明する図である。
を説明する図である。
【図５】本実施例の作用を説明する図である。
【符号の説明】 １ 電子レベル １１ 対物レンズ １２ コンペンセータ １３ ビームスプリッタ １４ 接眼レンズ部 １５ エリアセンサ １６ 演算処理手段 ２ 電子レベル用標尺 ２１ 第１パターン部 ２２ 第２パターン部
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図３】
【図１】
【図２】
【図４（ａ）】
【図４（ｂ）】
【図５】
Claims (2)
- 【請求項１】 測定を行う際に鉛直方向に配置され、規
則的な第１パターンが形成された第１パターン部と、こ
の第１パターンと僅かに異なる規則的ピッチで形成され
た第２パターン部とから構成された電子レベル用標尺を
使用して測定を行う電子レベルであって、前記第１パタ
ーン及び前記第２パターンの像を形成するための対物レ
ンズ部と、この対物レンズ部によって形成された前記第
１パターン及び前記第２パターンの像を電気信号に変換
するためのエリアセンサ部と、このエリアセンサ部で変
換された前記第１パターンに対応する第１パターン信号
と、前記第２パターンに対応する第２パターン信号との
偏差に基づき視準高を求めるための高さ算出部とから構
成されている電子レベル。 - 【請求項２】 測定を行う際に鉛直方向に配置され、規
則的な第１パターンが形成された第１パターン部と、こ
の第１パターンと僅かに異なる規則的ピッチで形成され
た第２パターン部とから構成された電子レベル用標尺。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15598392A JP3230165B2 (ja) | 1992-05-23 | 1992-05-23 | 電子レベル及び電子レベル用標尺 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15598392A JP3230165B2 (ja) | 1992-05-23 | 1992-05-23 | 電子レベル及び電子レベル用標尺 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07229737A true JPH07229737A (ja) | 1995-08-29 |
| JP3230165B2 JP3230165B2 (ja) | 2001-11-19 |
Family
ID=15617792
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15598392A Expired - Fee Related JP3230165B2 (ja) | 1992-05-23 | 1992-05-23 | 電子レベル及び電子レベル用標尺 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3230165B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6167629B1 (en) | 1997-12-19 | 2001-01-02 | Sokkia Co. Ltd. | Electronic level and a leveling rod for use in combination with the same |
| US6512859B2 (en) | 1997-10-21 | 2003-01-28 | Sokkia Co., Ltd. | Electronic level |
| EP2476997A2 (en) | 2011-01-13 | 2012-07-18 | Kabushiki Kaisha TOPCON | Electronic level device and level staff associated thereto |
| EP2789974A1 (en) | 2013-04-11 | 2014-10-15 | Kabushiki Kaisha Topcon | Surveying system |
-
1992
- 1992-05-23 JP JP15598392A patent/JP3230165B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6512859B2 (en) | 1997-10-21 | 2003-01-28 | Sokkia Co., Ltd. | Electronic level |
| US6167629B1 (en) | 1997-12-19 | 2001-01-02 | Sokkia Co. Ltd. | Electronic level and a leveling rod for use in combination with the same |
| EP2476997A2 (en) | 2011-01-13 | 2012-07-18 | Kabushiki Kaisha TOPCON | Electronic level device and level staff associated thereto |
| JP2012145463A (ja) * | 2011-01-13 | 2012-08-02 | Topcon Corp | 電子レベル装置及びこの電子レベル装置に用いる標尺 |
| US9121698B2 (en) | 2011-01-13 | 2015-09-01 | Kabushiki Kaisha Topcon | Electronic level device and level staff used for electronic level device |
| EP2789974A1 (en) | 2013-04-11 | 2014-10-15 | Kabushiki Kaisha Topcon | Surveying system |
| US9354054B2 (en) | 2013-04-11 | 2016-05-31 | Kabushiki Kaisha Topcon | Surveying system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3230165B2 (ja) | 2001-11-19 |
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Legal Events
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