JP3333971B2 - 遮光機構付き電子レベル - Google Patents

遮光機構付き電子レベル

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JP3333971B2
JP3333971B2 JP05133893A JP5133893A JP3333971B2 JP 3333971 B2 JP3333971 B2 JP 3333971B2 JP 05133893 A JP05133893 A JP 05133893A JP 5133893 A JP5133893 A JP 5133893A JP 3333971 B2 JP3333971 B2 JP 3333971B2
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    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/50Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
    • C04B41/5025Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with ceramic materials

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は標尺のパターン像を光電
変換器により電気信号に変換し、得られた電気信号を利
用して高低差等を自動的に計測することのできる電子レ
ベルに係わり、特に、望遠鏡光学系の接眼側から入射す
る光を遮断するためのシャッター部を備えた電子レベル
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来から直接水準測量等を行う場合に
は、レベル(水準儀)と標尺が使用されていた。即ち、
測量者が、標尺の目盛りをレベルを使用して目視するこ
とにより高低差を測定していた。この古典的なレベルに
よる測量は、測量者による読み誤りが発生していた。こ
の読み誤りを解消するために、標尺の目盛り作業を電子
的に行う電子レベルが開発された。この電子レベルは例
えば、標尺側から所定信号を包含させた光を発光させ、
この光を電子レベル側で受光して識別し、標尺の目盛り
を読み取る様に構成されていた。
【0003】本出願人は、電子的に高低差を読み取るこ
とのできる電子レベルを開発した。この電子レベル1
は、図2に示す様に、第1のパターンAと第2のパター
ンBと第3のパターンRが等間隔(p)で繰り返し配置
されている電子レベル用標尺2を使用している。即ち、
3種のパターンを1組として各ブロックが連続して形成
されており、最も左側に配置されたブロックを、0ブロ
ックと定義し、R(0)、A(0)、B(0)と記載す
れば、R(1)、A(1)、B(1)、R(2)、A
(2)、B(2)、・・・・・・・・と繰り返し配置さ
れている。なお、全てのパターンが等間隔pで繰り返さ
れているので、この間隔に対応した信号を基準信号とす
ることができる。
【0004】そして例えば第3のパターンRは、黒幅8
mmで固定幅となっており、第1のパターンAは、60
0mmで1周期となる様に黒部分の幅を変調しており、
第2のパターンBは、570mmで1周期となる様に黒
部分の幅を変調している。
【0005】ここで電子レベル用標尺2の水平位置を求
める原理を説明すると、電子レベル用標尺2の第1のパ
ターンAは、600mmで1周期となる様に黒部分の幅
を変調しているので、変調幅を0〜10mmとすれば、
第1のパターンの幅DAは、以下の式で与えられる。
【0006】 DA=5*(1+SIN(2*π*X/600−π/2))・・・第1式
【0007】となる。但し、X=(10mm、40m
m、70mm・・・・・・である)。
【0008】同様に、電子レベル用標尺2の第2のパタ
ーンBは、570mmで1周期となる様に黒部分の幅を
変調しているので、第2のパターンの幅DBは、以下の
式で与えられる。
【0009】 DB=5*(1+SIN(2*π*X/570+π/2))・・・第2式
【0010】となる。但し、X=(20mm、50m
m、80mm・・・・・・である)。
【0011】そして第1のパターンAと第2のパターン
Bとは、周期が僅かに異なっているため、両者の最小公
倍数である距離で同様のパターンが現れる。この例では
600mmと570mmの最小公倍数である11400
mmで同様のパターンが現れる。従って第1のパターン
Aによる信号と、第2のパターンBによる信号との位相
差は、0〜11400mmの範囲で0〜2πまで変化す
ることになる。
【0012】即ち、水平位置における第1のパターンA
による信号の位相をφAとし、水平位置における第2の
パターンBによる信号の位相をφBとすれば、電子レベ
ル用標尺2における水平位置Hは、
【0013】 H=11400*((φB−φA−π)/(2π))mm ・・・・第3式
【0014】となる。
【0015】次に、電子レベル1と電子レベル用標尺2
との距離を演算する必要がある。
【0016】上記電子レベル1で電子レベル用標尺2を
読み取り、フーリエ変換を施せば、図4のパワースペク
トルに示す様に、第1のパターンAの周期成分と、第2
のパターンBの周期成分と、第3のパターンRと第1の
パターンAと第2のパターンBの1組(1ブロック)と
した周期成分(基準信号の3倍の周期となる)と、基準
信号(パターンの等間隔ピッチ(p)に対応するもの)
の周期成分とが得られる。そしてスペクトル群で最も周
期の小さいものは、基準信号(パターンの等間隔ピッチ
(p)に対応するもの)であり、この等間隔ピッチは既
知であるからレンズの結像公式により、電子レベル1と
電子レベル用標尺2との距離を演算することができる。
【0017】次に水準高の測定原理を、まず遠距離測定
の場合を説明する。
【0018】電子レベル1で読み取られた電子レベル用
標尺2の像を、リニアセンサで電気信号に変換し、この
信号をフーリエ変換すれば、等間隔ピッチpに相当する
信号を得ることができる。ここで、高速フーリエ変換で
求められた位相をθとし、水平位置に相当するリニアセ
ンサのアドレス位置(第mビット目)の位相をθmとす
れば、
【0019】 H1=(θm/360゜)*p ・・・・・第4式
【0020】となる。即ち、等間隔ピッチp内を精密に
水平位置H1を測定することができる(精測定)。
【0021】また水平位置を求めるためには、電子レベ
ル用標尺2に形成された等間隔ピッチpのパターン開始
位置からの概略位置を求める必要がある。そこでリニア
センサの出力信号を、基準信号(等間隔ピッチpに相当
する信号)の前後半ピッチ分で積分する。更にこの積分
値を3つ毎に間引けば(プロダクト検波)、第1のパタ
ーンAに相当する信号1と、第2のパターンBに相当す
る信号2と、第3のパターンRに相当する信号3とが得
られる。しかしながら第3のパターンRは、幅が変調さ
れていない上、第1のパターンAと第2のパターンBの
最大変調幅が10mmに対して、第3のパターンRは8
mmしかないので、第3のパターンRに相当する信号3
は、積分値が略一定であり、信号1や信号2に比較して
約80%の値となる。
【0022】そして、第3のパターンRと、第1のパタ
ーンAと、第2のパターンBとは、定められた順番に繰
り返して配置されているので、間引かれた信号が、第3
のパターンR、第1のパターンA、第2のパターンBの
何れであるか、決定することができる。そして、(A−
R)と(B−R)の水平位置における位相を求め、第3
式に代入すれば、電子レベル用標尺2の何れの位置の、
第1のパターンA、第2のパターンB、第3のパターン
Rの組合せであるか決定することができ、電子レベル用
標尺2における水平位置を求めることができる。(粗測
定)
【0023】以上の様に水準高Hは、水平位置における
基準信号の位相を求め(精測定)、また、水平位置に相
当する基準信号が、電子レベル用標尺2のパターン開始
位置を基準に何れの位置にあるかを、第1のパターン
A、第2のパターンBの位相差より求め(粗測定)、こ
れら精測定H1と粗測定H2を桁合わせすることにより求
めることができる。
【0024】次に近距離測定の場合を説明する。
【0025】この場合にはリニアセンサの出力の立ち上
がり、立ち下がりエッジを求めるため出力信号を微分す
る。これらのエッジにより、黒部分のエッジ間の間隔を
求めることができる。更に、黒部分の中心に相当するビ
ットを求める。このビットの間隔が、第1のパターン
A、第2のパターンB、第3のパターンRの等間隔ピッ
チpである基準信号となる。
【0026】そして水平位置に相当するアドレス位置
(第mビット)の前後の基準信号の位置を求めると、基
準信号の幅は、電子レベル用標尺2上で10mmに相当
するため、前後の基準信号をそれぞれNf(第Nf ビッ
ト)、Nb(第Nbビット)とすれば、
【0027】 H1= ((m−Nf)/(Nb−Nf))*10 ・・・第5式
【0028】となる。(精測定)
【0029】また、基準信号のスタート位置をNe、最
終位置をNs とし、個数をnとすれば、各基準信号の間
隔の平均は、
【0030】k=(Ne−Ns)/n
【0031】となり、このkから、電子レベル1と電子
レベル用標尺2との概略距離を求めることができる。
【0032】そして黒部分の幅を最初より3個毎に間引
き、一定幅である第3のパターンRを認識し、第3のパ
ターンR、第1のパターンA、第2のパターンBの順に
配置されていることから、第3のパターンR、第1のパ
ターンA、第2のパターンBの対応が決定される。
【0033】更に水平位置に相当するリニアセンサ15
のアドレス位置(第mビット目)を含む基準信号が、第
3のパターンR、第1のパターンA、第2のパターンB
の何れに属するかを定めると共に、この何番目ブロック
に該当するかを決定する。即ち、R(n)、A(n)、
B(n)であれば、n番目のブロックということにな
る。
【0034】そして第1式のDAの値からnを求めるこ
とができる。そして2個のnから条件に合致したnaを
選択し、更に周期からnを求め、第2のパターンBの幅
Bを算出する。更に第2式に代入した後、DBを比較
し、一致した時のnが求めるブロック番号となる。この
ブロック番号から、概略水準高H2(粗測定)を、各パ
ターン毎に求めることができる。
【0035】従って、第3のパターンR、第1のパター
ンA、第2のパターンBに相当する信号の黒部分の幅よ
り基準信号を求め、水平位置に相当するアドレス位置の
基準信号を定めることにより精測定を行い、第1のパタ
ーンA、第2のパターンBに相当する信号の位相差によ
り粗測定を行い、これら精測定H1と粗測定H2を桁合わ
せすることにより、水準高を求めることができる。
【0036】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上述の電
子レベルは、高低差を自動的に求めることができるが、
標尺のパターン像を望遠鏡光学系により正確に読み取る
必要があり、光電変換器による光電変換時に接眼部から
の入射光が存在すると、対物レンズ側からの測定光と合
成され、信号光のS/N比が下がり精度が低下するとい
う問題点があった。特にトンネル内に電子レベルを設置
し、接眼部側をトンネルの開口部に向ければ、信号光に
対して強大な外乱光が接眼部から光電変換器に入射して
しまうという問題点があった。
【0037】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題に鑑み
案出されたもので、標尺を視準し高低差を自動的に求め
る電子レベルにおいて、該標尺パターンの信号を形成す
るための光電変換器を有する測定光学系と前記標尺を観
察するための視準光学系とを含む望遠鏡光学系と、この
光電変換器の出力信号を演算処理して前記高低差等を算
出するための信号処理部と、該光電変換器による測定時
には、前記視準光学系の接眼側の光路を遮断し、前記光
電変換器による測定時以外の場合には、前記視準光学系
の接眼側の光路を開放するためのシャッター部とから構
成されている。
【0038】また本発明は、標尺を視準し高低差を自動
的に求める電子レベルにおいて、該標尺パターンの信号
を形成するための光電変換器を有する測定光学系と前記
標尺を観察するための視準光学系とを含む望遠鏡光学系
と、この光電変換器の出力信号を演算処理して前記高低
差等を算出するための信号処理部と、前記視準光学系の
接眼部分の光量を検出するための光量検出部と、この光
量検出部の検出信号に基づき、前記望遠鏡光学系の接眼
側の光路を開放又は遮断するためのシャッター部とから
構成されている。
【0039】
【作用】以上の様に構成された本発明は、標尺を視準し
高低差を自動的に求める電子レベルであり、測定光学系
が標尺パターンの信号を形成し、視準光学系が標尺を観
察し、望遠鏡光学系からの光を受けた光電変換器がパタ
ーンを信号に変換し、信号処理部が、光電変換器の出力
信号を演算処理して高低差等を算出する様になってい
る。そしてシャッター部が、光電変換器による測定時に
は、視準光学系の接眼側の光路を遮断し、光電変換器に
よる測定時以外の場合には、視準光学系の接眼側の光路
を開放する様になっている。
【0041】また本発明は光量検出部が、視準光学系の
接眼部分の光量を検出し、シャッター部が、光量検出部
の検出信号に基づき、望遠鏡光学系の接眼側の光路を開
放又は遮断する様にすることもできる。
【0042】
【実施例】
【0043】本発明の実施例を図面に基づいて説明す
る。
【0044】図1〜図3に示す様に、本実施例の測量装
置は、電子レベル1と、電子レベル用標尺2とからなっ
ている。電子レベル1は、図3に示す様に整準装置10
0上に載置されており、図1に示す様に、対物レンズ部
11と、コンペンセータ12と、ビームスプリッタ13
と、接眼レンズ部14と、リニアセンサ15と、演算処
理手段16と、シャッター200とから構成されてい
る。
【0045】対物レンズ部11は、電子レベル用標尺2
のパターンの像を形成するためのものである。本実施例
の対物レンズ部11は、対物レンズとインターナルレン
ズとから構成されており、インターナルレンズを移動さ
せることにより、電子レベル用標尺2のパターンの像に
対するピント合わせを行うことができる。コンペンセー
タ12は、電子レベル1の光軸が多少傾いても、視準線
を自動的に水平にするための自動補償機構であり、水平
光線を上下に変化させて結像させるものである。ビーム
スプリッタ13は、光を接眼レンズ部14方向と、測定
光学系であるリニアセンサ15方向に分割させるための
ものである。接眼レンズ部14は、測量者が、電子レベ
ル用標尺2を目視するためのものである。なお対物レン
ズ部11と接眼レンズ部14とが、視準光学系に該当
し、又、対物レンズ部11と、リニアセンサ15とが測
定光学系に該当している。
【0046】リニアセンサ15は、対物レンズ部11に
よって形成された電子レベル用標尺2のパターン像を電
気信号に変換するためのものである。本実施例では、C
CDリニアセンサが使用されている。このリニアセンサ
15は、ホトダイオードを少なくとも1次元的に配置し
たリニアイメージセンサであれば、何れのセンサを採用
することができる。
【0047】演算処理手段16は信号処理部に該当する
もので、アンプ161と、サンプルホールド162と、
A/D変換器163と、RAM164と、クロックドラ
イバ165と、マイクロコンピュータ166とから構成
されている。この演算処理手段16には、表示器167
が接続されている。
【0048】シャッター200は、視準光学系の接眼側
の光路を遮断するためのものであり、マイクロコンピュ
ータ166の制御信号により、シャッタードライバ21
0がシャッター200を開閉する様に構成されている。
本実施例では、通常の電磁シャッターが使用されている
が、液晶シャッター等の電気制御可能なシャッターであ
れば何れの方式のシャッターを採用することができる。
なお、シャッター200とシャッタードライバ210と
が、シャッター部に該当するものである。
【0049】次に電子レベル用標尺2は、図2に示す様
に、第1のパターンAと第2のパターンBと第3のパタ
ーンRが等間隔(p)で繰り返し配置されている。
【0050】ここで本実施例の電子レベル1に搭載され
た演算処理手段16を詳細に説明する。アンプ161
は、リニアセンサ15からの電気信号を増幅するもので
あり、サンプルホールド162は、増幅された電気信号
をクロックドライバ165からのタイミング信号でサン
プルホールドするものである。A/D変換器163は、
サンプルホールドされた電気信号をA/D変換するため
のものである。そしてRAM164は、A/D変換され
たデジタル信号を記憶するためのものである。またマイ
クロコンピュータ166は、各種演算処理を行うもので
ある。
【0051】そして、対物レンズ部11とコンペンセー
タ12とビームスプリッタ13と接眼レンズ部14と
は、望遠鏡光学系に該当するものであり、リニアセンサ
15は光電変換器に該当するものである。
【0052】ここでマイクロコンピュータ166が果た
す機能を図5に基づいて説明すると、演算処理手段16
は、基準信号形成部1661と、パターン信号形成部1
662と、ブロック検出部1663と、算出部1664
と、シャッター制御部1668とからなっている。基準
信号形成部1661は、リニアセンサ15から得られた
電気信号から、遠距離測定の場合には、高速フーリエ変
換により等間隔ピッチpに相当する基準信号を形成し、
近距離測定の場合には、リニアセンサ15の出力信号を
微分し、立ち上がり、立ち下がりエッジから基準信号を
形成する。
【0053】パターン信号形成部1662は、遠距離測
定の場合には、基準信号の前後半ピッチ分で積分し、こ
の積分値を3つ毎に間引く(プロダクト検波)ことによ
り、第1のパターン信号と第2のパターン信号を形成
し、近距離測定の場合には、間引き動作により、第1の
パターン信号と第2のパターン信号を形成する。
【0054】ブロック検出部1663は、近距離測定の
場合に、第1のパターンAの幅DA及び第2のパターン
Bの幅DBを比較することにより、水平位置に相当する
ブロックが何番目のブロックであるかを決定する。
【0055】算出部1664は、遠距離測定の場合に
は、視準線付近の第1のパターン信号と第2のパターン
信号の位相から高低差を算出し、近距離測定の場合に
は、特定されたブロックに基づき高低差を算出する様に
なっている。
【0056】シャッター制御部1668は、リニアセン
サ15の測定時にシャッタードライバ210を駆動して
シャッター200を閉じさせ、視準光学系の接眼側の光
路を遮断させ、リニアセンサ15の測定時以外の場合に
は、シャッター200を開放して、視準光学系の接眼側
の光路を開放させるためのものである。
【0057】なお演算処理手段16は、距離の測定を行
う機能をも果たしており、前述の方式により、電子レベ
ル1と電子レベル用標尺2との水平概略距離を計算する
ことができる。
【0058】そして表示器167は、算出部1664で
算出された高低差を表示するもので、液晶表示等の表示
手段を採用してもよく、更に、外部記憶手段等に出力さ
せる構成としてもよい。
【0059】以上の様に構成された本実施例のシャッタ
ー動作を図6に基づいて説明する。
【0060】本実施例はステップ1(以下、S1と省略
する。)で、演算処理手段16が測定開始スイッチ等の
投入を検知することにより、測定が開始されたか否かを
判断する。そして演算処理手段16が測定を開始したと
判断した場合には、S2に進みシャッター制御部166
8が、シャッタードライバ210を駆動してシャッター
200を閉じさせ、視準光学系の接眼側の光路を遮断さ
せる。この結果接眼部からの外乱光の入射を防止するこ
とができ、測定光のS/N比を向上させることができ
る。なお、S1で測定が開始されていないと判断した場
合には、測定が開始されるまで判断を繰り返す様になっ
ている。
【0061】次にS3で測定を開始し、リニアセンサ1
5により光電変換された電気信号を演算処理手段16に
取り込む様になっている。更にS4では演算処理手段1
6が各種演算処理を行い、高低差等の算出を行う。そし
てS5では演算処理手段16の演算処理が終了して測定
が終了したか否かを判断し、測定が終了した場合にはS
6に進み、測定結果を表示器167に表示する様になっ
ている。S5で測定が終了していないと判断した場合に
は、S4に戻る様に構成されている。
【0062】S6で測定結果を表示した後、S7に進ん
で、シャッター制御部1668が、シャッタードライバ
210の駆動を停止させてシャッター200を開放し、
視準光学系の接眼側の光路を再び開放させる様になって
いる。
【0063】S6までの動作で一連の測定動作が完了
し、次の測定に備えてS1に戻る様に構成されている。
【0064】次に図7に基づいて、接眼部分の光量に基
づいてシャッター200の開閉制御を行う変形例を説明
する。本変形例は接眼レンズ部14にビームスプリッタ
141を形成し、このビームスプリッタ141で分割さ
れた光の光量を光量検出部300で検出する様に構成さ
れている。
【0065】光量検出部300は、集光レンズ310
と、受光素子320と、アンプ330と、コンパレータ
340とから構成されている。集光レンズ310は、ビ
ームスプリッタ141で分割された光を受光素子320
に導くためのものである。受光素子320は光量を検出
するためのもので、フォトダイオードやCdS等の光セ
ンサを使用することができる。アンプ330は受光素子
320からの受光信号を増幅するためのものである。
【0066】コンパレータ340は、アンプ330で増
幅された受光信号をディジタル信号に変換すると共に、
予め設定されたレベルと比較を行い、接眼部分の光量が
一定値以上であるか否かを判断することができる。そし
てコンパレータの出力信号は、演算処理手段16のマイ
クロコンピュータ166に送出する様に構成されてお
り、接眼部分の光量が一定値以上となった場合に、シャ
ッタードライバ210を駆動してシャッター200を閉
じさせ、視準光学系の接眼側の光路を遮断させることが
できる。
【0067】次に図8に基づいて本変形例の動作を説明
する。
【0068】本変形例はステップ1(以下、S1と省略
する。)で、演算処理手段16が測定開始スイッチ等の
投入を検知することにより、測定が開始されたか否かを
判断する。そして演算処理手段16が測定を開始したと
判断した場合には、S2に進み、光量検出部300で検
出した接眼部分の光量が一定値以上であるか否かを判断
する。即ちS2では、接眼部分に使用者の眼が当接され
ているかを判断し、眼が当接されていない場合には、接
眼部に外乱光が入射されるので接眼部分の光量が一定以
上となり、眼が当接されている場合には、接眼部に外乱
光が入射されないので接眼部分の光量が一定以下とな
る。
【0069】従って眼が当接されていない場合には、S
3に進み、シャッター制御部1668が、シャッタード
ライバ210を駆動してシャッター200を閉じさせ、
視準光学系の接眼側の光路を遮断させる。そしてS4
で、リニアセンサ15により光電変換された電気信号を
演算処理手段16に取り込み、演算処理手段16が各種
演算処理を行い、高低差等の算出を行う様になってい
る。次にS5では、測定が完了したか否かを判断し、終
了したと判断した場合にはS6に進み、測定結果である
高低差、測定距離等を表示器167に表示する様になっ
ている。
【0070】なおS2で、接眼部分の光量が一定以下で
あり、使用者の眼が当接されていると判断された場合に
は、S7に進み、シャッター制御部1668がシャッタ
ー200を開放させ、視準光学系の接眼側の光路を開放
させる。この結果、使用者が接眼部から目視を行ってい
ても、シャッター200により目視を妨げられることが
ない。更にS8で、リニアセンサ15により光電変換さ
れた電気信号を演算処理手段16に取り込み、演算処理
手段16が各種演算処理を行い、高低差等の算出を行う
様になっている。次にS9では、測定が完了したか否か
を判断し、終了したと判断した場合にはS6に進む様に
なっている。
【0071】そしてS6で測定結果を表示器167に表
示した後、S10に進み、シャッター制御部1668が
シャッター200を開放させた後、S1に戻る様に構成
されている。
【0072】
【効果】以上の様に構成された本発明は、標尺を視準し
高低差を自動的に求める電子レベルにおいて、該標尺パ
ターンの信号を形成するための光電変換器を有する測定
光学系と前記標尺を観察するための視準光学系とを含む
望遠鏡光学系と、この光電変換器の出力信号を演算処理
して前記高低差等を算出するための信号処理部と、該光
電変換器による測定時には、前記視準光学系の接眼側の
光路を遮断し、前記光電変換器による測定時以外の場合
には、前記視準光学系の接眼側の光路を開放するための
シャッター部とから構成されているので、接眼部からの
入射光をシャッター部により遮断することができ、信号
光のS/N比の低下を防止することができるという効果
がある。
【0073】また本発明は、標尺を視準し高低差を自動
的に求める電子レベルにおいて、該標尺パターンの信号
を形成するための光電変換器を有する測定光学系と前記
標尺を観察するための視準光学系とを含む望遠鏡光学系
と、この光電変換器の出力信号を演算処理して前記高低
差等を算出するための信号処理部と、前記視準光学系の
接眼部分の光量を検出するための光量検出部と、この光
量検出部の検出信号に基づき、前記望遠鏡光学系の接眼
側の光路を開放又は遮断するためのシャッター部とから
構成されているので、接眼部分に使用者の眼が当接され
ているかを判断することができ、眼が当接されていない
場合には、視準光学系の接眼側の光路を遮断させること
ができ、眼が当接されている場合には、接眼側の光路を
遮断せず使用者の目視を妨げない様にすることができる
という卓越した効果がある。
【0074】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の電子レベル1の構成を示す図
である。
【図2】本実施例の電子レベル用標尺2を説明する図で
ある。
【図3】本実施例の電子レベル1の外観を示す斜視図で
ある。
【図4】出力信号のパワースペクトラムを示す図であ
る。
【図5】本実施例の演算処理手段16の構成を示す図で
ある。
【図6】本実施例の動作を説明する図である。
【図7】本変形例の構成を説明する図である。
【図8】本変形例の動作を説明する図である。
【符号の説明】
1 電子レベル 11 対物レンズ部 12 コンペンセータ 13 ビームスプリッタ 14 接眼レンズ部 15 リニアセンサ 16 演算処理手段 1661 基準信号形成部 1662 パターン信号形成部 1663 ブロック検出部 1664 算出部 1668 シャッター制御部 2 電子レベル用標尺 200 シャッター 210 シャッタードライバ 300 光量検出部 310 集光レンズ 320 受光素子 330 アンプ 340 コンパレータ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き 審査官 福田 裕司 (56)参考文献 特開 昭62−3610(JP,A) 特開 昭63−180815(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01C 5/00 G01C 15/00

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】標尺を視準し高低差を自動的に求める電子
    レベルにおいて、該標尺パターンの信号を形成するため
    の光電変換器を有する測定光学系と前記標尺を観察する
    ための視準光学系とを含む望遠鏡光学系と、この光電変
    換器の出力信号を演算処理して前記高低差等を算出する
    ための信号処理部と、該光電変換器による測定時には、
    前記視準光学系の接眼側の光路を遮断し、前記光電変換
    器による測定時以外の場合には、前記視準光学系の接眼
    側の光路を開放するためのシャッター部とから構成され
    ていることを特徴とする遮光機構付き電子レベル。
  2. 【請求項2】標尺を視準し高低差を自動的に求める電子
    レベルにおいて、該標尺パターンの信号を形成するため
    の光電変換器を有する測定光学系と前記標尺を観察する
    ための視準光学系とを含む望遠鏡光学系と、この光電変
    換器の出力信号を演算処理して前記高低差等を算出する
    ための信号処理部と、前記視準光学系の接眼部分の光量
    を検出するための光量検出部と、この光量検出部の検出
    信号に基づき、前記望遠鏡光学系の接眼側の光路を開放
    又は遮断するためのシャッター部とから構成されている
    ことを特徴とする遮光機構付き電子レベル。
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