WO2011152095A1 - 新規な銅フタロシアニン顔料及び銅フタロシアニン微粒子の製造方法 - Google Patents

新規な銅フタロシアニン顔料及び銅フタロシアニン微粒子の製造方法 Download PDF

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WO2011152095A1
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copper phthalocyanine
fluid
fine particles
processing
treated
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前川昌輝
本田大介
榎村眞一
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エム・テクニック株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a novel copper phthalocyanine pigment.
  • Copper phthalocyanine is a blue or cyan organic pigment used in a wide range of fields such as paints, inkjet inks, color filters, and toners.
  • Metallic phthalocyanines in which the copper element located at the center of the molecular structure is replaced with hydrogen and many types of metal phthalocyanines in which other metal elements are replaced have also been synthesized. Not only is it excellent in properties, but also it has excellent durability such as water resistance, heat resistance, light resistance, and weather resistance, so the amount of copper phthalocyanine used in the industry is the largest. Copper phthalocyanine is considered to be an important material in the future because it is applied to semiconductors, catalysts, sensors, etc. in addition to the use as organic pigments and coloring materials as described above.
  • Copper phthalocyanine has many crystal polymorphs such as ⁇ , ⁇ , ⁇ , ⁇ , ⁇ , ⁇ , ⁇ , and ⁇ , and is said to have different physical properties such as color characteristics and solvent resistance depending on the crystal type.
  • the color characteristics of copper phthalocyanine not only affect the crystal type, but also the size of its primary particle size and the degree of aggregation during use, in other words, its dispersed particle size, greatly affect the color characteristics of the target crystal type.
  • a manufacturing method is required, and many methods related to control of crystal form and production of fine particles have been reported so far.
  • the wavelength ( ⁇ max) at which the transmittance of the transmission spectrum at 380 to 780 nm is the maximum is less than 478 nm.
  • copper phthalocyanine pigments containing copper phthalocyanine and a method for producing the same.
  • the copper phthalocyanine disclosed in Patent Document 3 has excellent transmission characteristics, can transmit only light in a specific wavelength region, and has a higher transmittance than before. Furthermore, in the absorption spectrum characteristics, compared with general copper phthalocyanine, even a dispersion having the same pigment concentration has higher absorbance, so it is estimated that it has better coloring power than conventional copper phthalocyanine pigments. .
  • the present invention provides a copper phthalocyanine pigment comprising at least one kind of copper phthalocyanine fine particles having a crystal form different from the ⁇ type and having an absorption spectrum shape of an ⁇ type absorption spectrum at 380 to 780 nm, and It is an object of the present invention to provide a method for producing the copper phthalocyanine fine particles.
  • copper phthalocyanine fine particles having a crystal type different from the two types of ⁇ -type and ⁇ -type and having a wavelength ( ⁇ max) at which the transmittance of the transmission spectrum at 380 to 780 nm is maximum is less than 478 nm, It is an object of the present invention to provide a copper phthalocyanine pigment containing at least one kind and a method for producing the copper phthalocyanine fine particles.
  • the first embodiment of the present invention provides at least copper phthalocyanine fine particles having a crystal type different from the ⁇ type and having an absorption spectrum shape of an ⁇ type absorption spectrum at 380 to 780 nm. It is a copper phthalocyanine pigment containing one kind.
  • At least one type of copper phthalocyanine fine particles having a crystal type different from the ⁇ type and having peaks in the regions of 600 ⁇ 15 nm and 680 ⁇ 15 nm in the absorption spectrum at 380 to 780 nm are used.
  • the third form of the present invention contains at least one kind of copper phthalocyanine fine particles whose crystal type different from the ⁇ type is one of the three types of ⁇ type, ⁇ type and ⁇ type.
  • a copper phthalocyanine pigment comprising copper phthalocyanine fine particles according to the first or second embodiment of the present invention.
  • the fourth embodiment of the present invention is a crystal type different from the two types of ⁇ type and ⁇ type, and the wavelength ( ⁇ max) at which the transmittance of the transmission spectrum at 380 to 780 nm is maximum is less than 478 nm.
  • a copper phthalocyanine fine particle in which a crystal type different from the two types of ⁇ type and ⁇ type is one of two types of ⁇ type and ⁇ type.
  • a fluid to be treated is supplied between processing surfaces that are capable of approaching / separating and relatively displaced, and between a supply pressure of the fluid to be treated and a rotating processing surface.
  • the distance between the processing surfaces is maintained at a minute distance by the balance between the force in the approaching direction including the pressure applied to the force and the force in the separation direction, and the distance between the two processing surfaces maintained at the minute distance is maintained.
  • the present invention is characterized in that the fluid to be treated forms a thin film fluid by forming a flow path of the fluid to be treated, and the copper phthalocyanine fine particles are generated as fine particles in the thin film fluid.
  • a copper phthalocyanine pigment comprising copper phthalocyanine fine particles according to any one of the first to fifth embodiments.
  • a copper containing the copper phthalocyanine fine particles according to any one of the first to sixth aspects of the present invention, wherein the shape of the copper phthalocyanine fine particles is substantially spherical. It is a phthalocyanine pigment.
  • a copper phthalocyanine pigment comprising the copper phthalocyanine fine particles according to the seventh aspect of the present invention, wherein the volume average particle diameter of the copper phthalocyanine fine particles is 1 to 600 nm. It is.
  • a ninth aspect of the present invention there is provided a method for producing copper phthalocyanine fine particles according to any one of the first to eighth aspects of the present invention, wherein the processing surface is capable of approaching / separating and relatively displaced.
  • the fluid to be treated is supplied in between, and the treatment is performed by a balance between the pressure in the approach direction and the force in the separation direction, including the supply pressure of the fluid to be treated and the pressure applied between the rotating processing surfaces.
  • the distance between the working surfaces is maintained at a minute interval, and the flow between the two treatment surfaces maintained at the minute interval is used as a flow path of the fluid to be treated, so that the fluid to be treated forms a thin film fluid.
  • a method for producing copper phthalocyanine fine particles wherein the copper phthalocyanine fine particles are deposited in a thin film fluid.
  • the tenth aspect of the present invention uses at least two kinds of fluids to be treated, and at least one kind of fluid to be treated is a copper phthalocyanine solution obtained by dissolving copper phthalocyanine in a solvent. And at least one kind of fluid to be treated is a solvent that becomes a poor solvent for copper phthalocyanine, and at least one of the copper phthalocyanine solution and the solvent that becomes a poor solvent for copper phthalocyanine.
  • the fluid to be treated contains at least one organic solvent, and the fluid to be treated is mixed in the thin film fluid.
  • the eleventh aspect of the present invention uses at least three kinds of fluids to be treated, first, second, and third, and the first fluid to be treated is copper in which copper phthalocyanine is dissolved in a solvent.
  • a phthalocyanine solution the second treated fluid is a solvent that is a poor solvent for copper phthalocyanine, and the third treated fluid contains at least one organic solvent, All the fluids to be treated are mixed in the thin film fluid, and the method for producing copper phthalocyanine fine particles according to the ninth aspect of the present invention is provided.
  • the organic solvent includes at least one of an aromatic compound solvent, a ketone compound solvent, an ether compound solvent, and a halogen compound solvent. It is a manufacturing method of the copper phthalocyanine microparticles
  • a fluid pressure applying mechanism that applies pressure to the fluid to be processed, a first processing part, and a second that can approach and separate from the first processing part.
  • the processing unit includes at least two processing units and a rotation drive mechanism that relatively rotates the first processing unit and the second processing unit, and each of the processing units faces each other.
  • the at least two processing surfaces of the first processing surface and the second processing surface are provided at positions, and each of the processing surfaces has a fluid to be processed to which the pressure is applied.
  • the fluid pressure applying mechanism receives a pressure applied to the fluid to be processed, generates a force for moving the second processing surface away from the first processing surface, and is capable of approaching / separating and rotating relatively.
  • the fluid to be treated forms the thin film fluid.
  • a kind of fluid to be treated is passed between the first treatment surface and the second treatment surface, and another kind of fluid different from the kind of fluid to be treated is used.
  • An independent separate introduction path through which the fluid to be treated is passed is provided, and at least one opening communicating with the introduction path is provided in at least one of the first processing surface and the second processing surface.
  • the other kind of fluid to be treated is introduced between the processing surfaces from the introduction path, and the kind of fluid to be treated and the kind of fluid to be treated are mixed in the thin film fluid.
  • the opening is provided on the downstream side of the point where the mixing of the fluids to be processed is a laminar flow between the processing surfaces.
  • the method for producing copper phthalocyanine fine particles according to the fourteenth aspect of the present invention is characterized in that it is installed and introduced by introducing the other kind of fluid to be treated from the opening.
  • the present invention relates to a copper phthalocyanine pigment comprising at least one kind of copper phthalocyanine fine particles having a crystal form different from the ⁇ type and having an absorption spectrum shape of an ⁇ type absorption spectrum at 380 to 780 nm, and the copper phthalocyanine described above. It was possible to provide a method for producing fine particles. It does not require a great deal of energy for changing the crystal type, and has improved the conventional problems mentioned above.
  • copper phthalocyanine fine particles particularly ⁇ type and crystalline type, which are different from the two types of ⁇ type and ⁇ type in powder X-ray diffraction measurement.
  • the copper phthalocyanine having the spectral characteristics provided in Patent Document 3 by the applicant of the present application could be provided as a crystal type having better solvent resistance than the ⁇ type.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a fluid processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • A is a schematic plan view of a first processing surface of the fluid processing apparatus shown in FIG. 1, and
  • B) is an enlarged view of a main part of the processing surface of the apparatus.
  • A) is sectional drawing of the 2nd introducing
  • B) is the principal part enlarged view of the processing surface for demonstrating the 2nd introducing
  • the absorption spectrum (solid line) of the copper phthalocyanine fine particle dispersion prepared in Example 1 of the present invention and the transmittance of the transmission spectrum provided in Patent Document 3 is ⁇ -type and the transmission spectrum at 380 to 780 nm is maximum.
  • the present invention relates to copper phthalocyanine fine particles different from the ⁇ type shown in the powder X-ray diffraction diagram, particularly any of the three types of ⁇ type (FIG. 6), ⁇ type (FIG. 7), and ⁇ type (FIG. 8).
  • the copper phthalocyanine pigment in the present invention contains a copper phthalocyanine derivative such as a sulfonated product or hydroxide of copper phthalocyanine fine particles.
  • the copper phthalocyanine pigment according to the present invention may contain a plurality of types of crystal-type copper phthalocyanine fine particles different from the ⁇ -type.
  • the diffraction angle at which the diffraction intensity peaks in the powder X-ray diffraction spectrum is the crystal type (FIG. 6 is ⁇ type (stable type), FIG. 7 is ⁇ type, and FIG. ⁇ -type) copper phthalocyanine
  • FIG. 6 is ⁇ type (stable type)
  • FIG. 7 is ⁇ type
  • FIG. ⁇ -type copper phthalocyanine
  • the crystal form of copper phthalocyanine in the present invention is different from the ⁇ -type, and, as seen in the absorption spectrum shown by the solid line in FIG. 4, is 380 to 780 nm. It can be seen that this is copper phthalocyanine having an ⁇ -type absorption spectrum.
  • the absorption spectrum shape is ⁇ -type is an absorption spectrum shape having peaks in the regions of 600 ⁇ 15 nm and 680 ⁇ 15 nm in the absorption spectrum in the wavelength region of 380 to 780 nm. Furthermore, as can be seen from the transmission spectrum shown by the solid line in FIG. 5, it is found that the wavelength ( ⁇ max) at which the transmittance of the transmission spectrum in the wavelength region 380 to 780 nm is maximum is less than 478 nm.
  • the method for measuring the absorption spectrum or transmission spectrum in the present invention is not particularly limited.
  • a method for measuring an absorption or transmission spectrum of an aqueous solution or an organic solvent-based dispersion of a copper phthalocyanine pigment or a method for measuring a dispersion applied to glass, a transparent electrode, or a film.
  • the spectrum with white circles on the solid line is the ⁇ -type crystal type provided by the applicant of the present application in Patent Document 3, and has the maximum transmittance of the transmission spectrum at 380 to 780 nm.
  • the method for producing the copper phthalocyanine pigment obtained in the present invention is not particularly limited.
  • the break-down method represented by the pulverization method can be used, and the build-up method can also be used. It can also be carried out by newly synthesizing.
  • a fluid containing a copper phthalocyanine solution in which copper phthalocyanine is dissolved in a solvent and a fluid containing a solvent that becomes a poor solvent for copper phthalocyanine are mixed to precipitate copper phthalocyanine.
  • each of the fluids described above is disposed in a thin film fluid that is disposed so as to face each other so as to be able to approach and leave, and between at least one of the processing surfaces that rotates with respect to the other.
  • a method for producing copper phthalocyanine fine particles, which is to be mixed and deposits copper phthalocyanine fine particles in the thin film fluid, can be used.
  • the crystal form of copper phthalocyanine before being dissolved in the solvent is not limited, and various crystal forms of copper phthalocyanine can be used as well as typical ⁇ -type, ⁇ -type, and ⁇ -type.
  • copper phthalocyanine containing copper phthalocyanine before the pigmentation step or amorphous copper phthalocyanine can also be used.
  • the particle diameter is not particularly limited. *
  • the fluid processing apparatus shown in FIGS. 1 to 3 is the same as the apparatus described in Patent Document 3, and between the processing surfaces in the processing unit in which at least one of which can be approached / separated rotates relative to the other.
  • a first fluid that is a first fluid to be treated among the fluids to be treated is introduced between the processing surfaces, and a flow path into which the first fluid is introduced.
  • the second fluid which is the second fluid to be treated among the fluids to be treated, is introduced between the processing surfaces from another flow path having an opening communicating between the processing surfaces. It is an apparatus that performs processing by mixing and stirring the first fluid and the second fluid between the surfaces.
  • U indicates the upper side
  • S indicates the lower side.
  • the upper, lower, front, rear, left and right only indicate a relative positional relationship, and do not specify an absolute position.
  • R indicates the direction of rotation.
  • C indicates the centrifugal force direction (radial direction).
  • This apparatus uses at least two kinds of fluids as a fluid to be treated, and at least one kind of fluid includes at least one kind of an object to be treated and is opposed to each other so as to be able to approach and separate.
  • a processing surface at least one of which rotates with respect to the other, and the above-mentioned fluids are merged between these processing surfaces to form a thin film fluid.
  • An apparatus for processing an object to be processed As described above, this apparatus can process a plurality of fluids to be processed, but can also process a single fluid to be processed.
  • This fluid processing apparatus includes first and second processing units 10 and 20 that face each other, and at least one of the processing units rotates.
  • the opposing surfaces of both processing parts 10 and 20 are processing surfaces.
  • the first processing unit 10 includes a first processing surface 1
  • the second processing unit 20 includes a second processing surface 2.
  • Both the processing surfaces 1 and 2 are connected to the flow path of the fluid to be processed and constitute a part of the flow path of the fluid to be processed.
  • the distance between the processing surfaces 1 and 2 can be changed as appropriate, but is usually adjusted to 1 mm or less, for example, a minute distance of about 0.1 ⁇ m to 50 ⁇ m.
  • the fluid to be processed that passes between the processing surfaces 1 and 2 becomes a forced thin film fluid forced by the processing surfaces 1 and 2.
  • the apparatus When processing a plurality of fluids to be processed using this apparatus, the apparatus is connected to the flow path of the first fluid to be processed and forms a part of the flow path of the first fluid to be processed. At the same time, a part of the flow path of the second fluid to be treated is formed separately from the first fluid to be treated. And this apparatus performs processing of fluid, such as making both flow paths merge and mixing both the to-be-processed fluids between the processing surfaces 1 and 2, and making it react.
  • “treatment” is not limited to a form in which the object to be treated reacts, but also includes a form in which only mixing and dispersion are performed without any reaction.
  • the first holder 11 that holds the first processing portion 10 the second holder 21 that holds the second processing portion 20, a contact pressure applying mechanism, a rotation drive mechanism, A first introduction part d1, a second introduction part d2, and a fluid pressure imparting mechanism p are provided.
  • the first processing portion 10 is an annular body, more specifically, a ring-shaped disk.
  • the second processing unit 20 is also a ring-shaped disk.
  • the first and second processing parts 10 and 20 are made of metal, ceramic, sintered metal, wear-resistant steel, sapphire, other metals subjected to hardening treatment, hard material lining or coating, It is possible to adopt a material with plating applied.
  • at least a part of the first and second processing surfaces 1 and 2 facing each other is mirror-polished in the processing units 10 and 20.
  • the surface roughness of this mirror polishing is not particularly limited, but is preferably Ra 0.01 to 1.0 ⁇ m, more preferably Ra 0.03 to 0.3 ⁇ m.
  • At least one of the holders can be rotated relative to the other holder by a rotational drive mechanism (not shown) such as an electric motor.
  • Reference numeral 50 in FIG. 1 denotes a rotation shaft of the rotation drive mechanism.
  • the first holder 11 attached to the rotation shaft 50 rotates and is used for the first processing supported by the first holder 11.
  • the unit 10 rotates with respect to the second processing unit 20.
  • the second processing unit 20 may be rotated, or both may be rotated.
  • the first and second holders 11 and 21 are fixed, and the first and second processing parts 10 and 20 are rotated with respect to the first and second holders 11 and 21. May be.
  • At least one of the first processing unit 10 and the second processing unit 20 can be approached / separated from at least either one, and both processing surfaces 1 and 2 can be approached / separated. .
  • the second processing unit 20 approaches and separates from the first processing unit 10, and the second processing unit 20 is disposed in the storage unit 41 provided in the second holder 21. It is housed in a hauntable manner.
  • the first processing unit 10 may approach or separate from the second processing unit 20, and both the processing units 10 and 20 may approach or separate from each other. It may be a thing.
  • the accommodating portion 41 is a recess that mainly accommodates a portion of the second processing portion 20 on the side opposite to the processing surface 2 side, and is a groove that has a circular shape, that is, is formed in an annular shape in plan view. .
  • the accommodating portion 41 accommodates the second processing portion 20 with a sufficient clearance that allows the second processing portion 20 to rotate.
  • the second processing unit 20 may be arranged so that only the parallel movement is possible in the axial direction, but by increasing the clearance, the second processing unit 20 is
  • the center line of the processing part 20 may be tilted and displaced so as to break the relationship parallel to the axial direction of the storage part 41. Furthermore, the center line of the second processing part 20 and the storage part 41 may be displaced.
  • the center line may be displaced so as to deviate in the radial direction. As described above, it is desirable to hold the second processing unit 20 by the floating mechanism that holds the three-dimensionally displaceably.
  • the above-described fluid to be treated is subjected to both treatment surfaces from the first introduction part d1 and the second introduction part d2 in a state where pressure is applied by a fluid pressure application mechanism p configured by various pumps, potential energy, and the like. It is introduced between 1 and 2.
  • the first introduction part d1 is a passage provided in the center of the annular second holder 21, and one end of the first introduction part d1 is formed on both processing surfaces from the inside of the annular processing parts 10, 20. It is introduced between 1 and 2.
  • the second introduction part d2 supplies the second processing fluid to be reacted with the first processing fluid to the processing surfaces 1 and 2.
  • the second introduction part d ⁇ b> 2 is a passage provided inside the second processing part 20, and one end thereof opens at the second processing surface 2.
  • the first fluid to be processed that has been pressurized by the fluid pressure imparting mechanism p is introduced from the first introduction part d1 into the space inside the processing parts 10 and 20, and the first processing surface 1 and the second processing surface 2 are supplied. It passes between the processing surfaces 2 and tries to pass outside the processing portions 10 and 20. Between these processing surfaces 1 and 2, the second fluid to be treated pressurized by the fluid pressure applying mechanism p is supplied from the second introduction part d 2, merged with the first fluid to be treated, and mixed.
  • the above-mentioned contact surface pressure applying mechanism applies a force that acts in a direction in which the first processing surface 1 and the second processing surface 2 approach each other to the processing portion.
  • the contact pressure applying mechanism is provided in the second holder 21 and biases the second processing portion 20 toward the first processing portion 10.
  • the contact surface pressure applying mechanism is a force that pushes in a direction in which the first processing surface 1 of the first processing unit 10 and the second processing surface 2 of the second processing unit 20 approach (hereinafter referred to as contact pressure). It is a mechanism for generating A thin film fluid having a minute film thickness of nm to ⁇ m is generated by the balance between the contact pressure and the force for separating the processing surfaces 1 and 2 such as fluid pressure. In other words, the distance between the processing surfaces 1 and 2 is kept at a predetermined minute distance by the balance of the forces.
  • the contact surface pressure applying mechanism is arranged between the accommodating portion 41 and the second processing portion 20.
  • a spring 43 that biases the second processing portion 20 in a direction approaching the first processing portion 10 and a biasing fluid introduction portion 44 that introduces a biasing fluid such as air or oil.
  • the contact surface pressure is applied by the spring 43 and the fluid pressure of the biasing fluid. Any one of the spring 43 and the fluid pressure of the urging fluid may be applied, and other force such as magnetic force or gravity may be used.
  • the second processing unit 20 causes the first treatment by the separation force generated by the pressure or viscosity of the fluid to be treated which is pressurized by the fluid pressure imparting mechanism p against the bias of the contact surface pressure imparting mechanism.
  • the first processing surface 1 and the second processing surface 2 are set with an accuracy of ⁇ m by the balance between the contact surface pressure and the separation force, and a minute amount between the processing surfaces 1 and 2 is set. An interval is set.
  • the separation force includes the fluid pressure and viscosity of the fluid to be processed, the centrifugal force due to the rotation of the processing part, the negative pressure when the urging fluid introduction part 44 is negatively applied, and the spring 43 is pulled.
  • the force of the spring when it is used as a spring can be mentioned.
  • This contact surface pressure imparting mechanism may be provided not in the second processing unit 20 but in the first processing unit 10 or in both.
  • the second processing unit 20 has the second processing surface 2 and the inside of the second processing surface 2 (that is, the first processing surface 1 and the second processing surface 2).
  • a separation adjusting surface 23 is provided adjacent to the second processing surface 2 and located on the entrance side of the fluid to be processed between the processing surface 2 and the processing surface 2.
  • the separation adjusting surface 23 is implemented as an inclined surface, but may be a horizontal surface.
  • the pressure of the fluid to be processed acts on the separation adjusting surface 23 to generate a force in a direction in which the second processing unit 20 is separated from the first processing unit 10. Accordingly, the pressure receiving surfaces for generating the separation force are the second processing surface 2 and the separation adjusting surface 23.
  • the proximity adjustment surface 24 is formed on the second processing portion 20.
  • the proximity adjustment surface 24 is a surface opposite to the separation adjustment surface 23 in the axial direction (upper surface in FIG. 1), and the pressure of the fluid to be processed acts on the second processing portion 20. A force is generated in a direction that causes the first processing unit 10 to approach the first processing unit 10.
  • the pressure of the fluid to be processed that acts on the second processing surface 2 and the separation adjusting surface 23, that is, the fluid pressure, is understood as a force constituting an opening force in the mechanical seal.
  • the projected area A1 of the proximity adjustment surface 24 projected on a virtual plane orthogonal to the approaching / separating direction of the processing surfaces 1 and 2, that is, the protruding and protruding direction (axial direction in FIG. 1) of the second processing unit 20 The area ratio A1 / A2 of the total area A2 of the projected areas of the second processing surface 2 and the separation adjusting surface 23 of the second processing unit 20 projected onto the virtual plane is called a balance ratio K. This is important for the adjustment of the opening force.
  • the opening force can be adjusted by the pressure of the fluid to be processed, that is, the fluid pressure, by changing the balance line, that is, the area A1 of the adjustment surface 24 for proximity.
  • P1 represents the pressure of the fluid to be treated, that is, the fluid pressure
  • K represents the balance ratio
  • k represents the opening force coefficient
  • Ps represents the spring and back pressure
  • the proximity adjustment surface 24 may be implemented with a larger area than the separation adjustment surface 23.
  • the fluid to be processed becomes a thin film fluid forced by the two processing surfaces 1 and 2 holding the minute gaps, and tends to move to the outside of the annular processing surfaces 1 and 2.
  • the mixed fluid to be processed does not move linearly from the inside to the outside of the two processing surfaces 1 and 2, but instead has an annular radius.
  • a combined vector of the movement vector in the direction and the movement vector in the circumferential direction acts on the fluid to be processed and moves in a substantially spiral shape from the inside to the outside.
  • the rotating shaft 50 is not limited to what was arrange
  • At least one of the first and second processing parts 10 and 20 may be cooled or heated to adjust the temperature.
  • the first and second processing parts 10 and 10 are adjusted.
  • 20 are provided with temperature control mechanisms (temperature control mechanisms) J1, J2.
  • the temperature of the introduced fluid to be treated may be adjusted by cooling or heating. These temperatures can also be used for the deposition of the treated material, and also to generate Benard convection or Marangoni convection in the fluid to be treated between the first and second processing surfaces 1 and 2. May be set.
  • a groove-like recess 13 extending from the center side of the first processing portion 10 to the outside, that is, in the radial direction is formed on the first processing surface 1 of the first processing portion 10. May be implemented.
  • the planar shape of the recess 13 is curved or spirally extending on the first processing surface 1, or is not shown, but extends straight outward, L It may be bent or curved into a letter shape or the like, continuous, intermittent, or branched.
  • the recess 13 can be implemented as one formed on the second processing surface 2, and can also be implemented as one formed on both the first and second processing surfaces 1, 2.
  • the base end of the recess 13 reaches the inner periphery of the first processing unit 10.
  • the tip of the recess 13 extends toward the outer peripheral surface of the first processing surface 1, and the depth (cross-sectional area) gradually decreases from the base end toward the tip.
  • a flat surface 16 without the recess 13 is provided between the tip of the recess 13 and the outer peripheral surface of the first processing surface 1.
  • the opening d20 of the second introduction part d2 is provided in the second processing surface 2, it is preferably provided at a position facing the flat surface 16 of the facing first processing surface 1.
  • the opening d20 is desirably provided on the downstream side (outside in this example) from the concave portion 13 of the first processing surface 1.
  • it is installed at a position facing the flat surface 16 on the outer diameter side from the point where the flow direction when introduced by the micropump effect is converted into a laminar flow direction in a spiral shape formed between the processing surfaces. It is desirable to do.
  • the distance n in the radial direction from the outermost position of the recess 13 provided in the first processing surface 1 is preferably about 0.5 mm or more.
  • nano-sized fine particles nano fine particles
  • the second introduction part d2 can have directionality.
  • the introduction direction from the opening d20 of the second processing surface 2 is inclined with respect to the second processing surface 2 at a predetermined elevation angle ( ⁇ 1).
  • the elevation angle ( ⁇ 1) is set to be more than 0 degrees and less than 90 degrees, and in the case of a reaction with a higher reaction rate, it is preferably set at 1 to 45 degrees.
  • the introduction direction from the opening d ⁇ b> 20 of the second processing surface 2 has directionality in the plane along the second processing surface 2.
  • the introduction direction of the second fluid is a component in the radial direction of the processing surface that is an outward direction away from the center and a component with respect to the rotation direction of the fluid between the rotating processing surfaces. Is forward.
  • a line segment in the radial direction passing through the opening d20 and extending outward is defined as a reference line g and has a predetermined angle ( ⁇ 2) from the reference line g to the rotation direction R. This angle ( ⁇ 2) is also preferably set to more than 0 degree and less than 90 degrees.
  • This angle ( ⁇ 2) can be changed and implemented in accordance with various conditions such as the type of fluid, reaction speed, viscosity, and rotational speed of the processing surface.
  • the second introduction part d2 may not have any directionality.
  • the number of fluids to be treated and the number of flow paths are two, but may be one, or may be three or more.
  • the second fluid is introduced between the processing surfaces 1 and 2 from the second introduction part d2, but this introduction part may be provided in the first processing part 10 or may be provided in both. Good.
  • the shape, size, and number of the opening for introduction provided in each processing portion are not particularly limited, and can be appropriately changed. Further, an opening for introduction may be provided immediately before or between the first and second processing surfaces 1 and 2 or further upstream.
  • reactions such as precipitation / precipitation or crystallization are arranged so as to be able to approach and separate from each other, and at least one of the processing surfaces 1 rotates with respect to the other. Occurs with forcible uniform mixing between the two.
  • the particle size and monodispersity of the copper phthalocyanine fine particles can be controlled by appropriately adjusting the rotational speed and flow rate of the processing parts 10 and 20, the distance between the processing surfaces, the raw material concentration, the dispersion medium, and the like.
  • a fluid containing a solvent that is a poor solvent for copper phthalocyanine is disposed as a first fluid so as to be able to approach and separate from each other, at least one of which is disposed Introduced between the processing surfaces 1 and 2 rotating relative to the other, a thin film fluid composed of the first fluid is made between the processing surfaces.
  • a fluid containing a copper phthalocyanine solution obtained by dissolving copper phthalocyanine, which is a reactant, in a solvent as a second fluid is directly transferred from the second introduction part d2 that is a separate channel to the thin film fluid composed of the first fluid.
  • the first fluid and the second fluid includes an organic solvent capable of transferring copper phthalocyanine, which will be described later, to a crystal type different from the ⁇ type.
  • the first fluid and the second fluid are thin films between the processing surfaces 1 and 2 whose distance is fixed by the pressure balance between the fluid supply pressure and the pressure applied between the rotating processing surfaces. While maintaining the state, it is possible to carry out a reaction that is instantaneously mixed to produce copper phthalocyanine fine particles.
  • the second fluid is introduced from the first introduction part d 1 and the first fluid is introduced from the second introduction part d 2. May be introduced.
  • the expressions “first” and “second” in each fluid have only an implication for identification that they are the nth of a plurality of fluids, and a third or higher fluid may exist.
  • a solvent that is a poor solvent for copper phthalocyanine is a solvent that has a lower solubility in copper phthalocyanine than a solvent in which copper phthalocyanine is dissolved and can be a poor solvent.
  • the third introduction part d3 can be provided in the processing apparatus.
  • the first fluid It is possible to introduce the fluid containing the organic solvent as the second fluid and the third fluid separately into the processing apparatus. If it does so, the density
  • the combination of fluids to be processed (first fluid to third fluid) to be introduced into each introduction portion can be arbitrarily set. The same applies to the case where the fourth or more introduction portions are provided, and the fluid to be introduced into the processing apparatus can be subdivided in this way.
  • the organic solvent only needs to be contained in at least the third fluid, and may be contained in at least one of the first fluid and the second fluid. It may not be contained in both the fluid and the second fluid.
  • the temperature of the fluid to be treated such as the first and second fluids is controlled, or the temperature difference between the first fluid and the second fluid (ie, the temperature difference between the fluids to be treated to be supplied) is determined. It can also be controlled.
  • the temperature of each processed fluid (processing device, more specifically, the temperature immediately before being introduced between the processing surfaces 1 and 2) is measured. It is also possible to add a mechanism for heating or cooling each fluid to be processed introduced between the processing surfaces 1 and 2. *
  • the solvent for dissolving copper phthalocyanine is not particularly limited.
  • sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, trifluoroacetic acid, phosphoric acid and the like can be used.
  • fuming sulfuric acid or fuming nitric acid is preferably used.
  • Examples of the alkali added to the organic solvent include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium methoxide, sodium ethoxide and the like.
  • Examples of the acid include sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, trifluoroacetic acid, phosphoric acid and the like as described above.
  • a solvent that can be a poor solvent for precipitating copper phthalocyanine fine particles a solvent having a lower solubility in copper phthalocyanine than in a solvent in which copper phthalocyanine is dissolved can be used.
  • water, alcohol compound solvent, amide compound solvent, ketone compound solvent, ether compound solvent, aromatic compound solvent, carbon disulfide, aliphatic compound solvent, nitrile compound solvent, sulfoxide compound solvent, halogen compound solvent, ester compound solvent examples include a pyridine compound solvent, an ionic liquid solvent, a carboxylic acid compound solvent, a sulfonic acid compound solvent, and a sulfolane compound solvent. These solvents may be used alone or can be carried out using a mixture of two or more of these.
  • an organic solvent capable of transferring copper phthalocyanine to a crystal form different from the ⁇ form either a fluid containing a solvent that can be a poor solvent or a fluid containing a copper phthalocyanine solution, Or it is preferable to contain at least one kind in both of them, and it may be contained in a third fluid different from the fluid containing the solvent that can be the poor solvent and the fluid containing the copper phthalocyanine solution.
  • the organic solvent capable of transferring copper phthalocyanine to a crystal form different from the ⁇ form is not particularly limited, but is an aromatic compound solvent, a ketone compound solvent, a halogen compound solvent, an ether compound solvent, an ester compound solvent, an aliphatic compound.
  • examples thereof include solvents and alcohol compound solvents.
  • an aromatic compound solvent, an ether compound solvent, a ketone compound solvent, and a halogen compound solvent having a high transition rate are preferable, and an aromatic compound solvent and an ether compound solvent are particularly preferable.
  • the aromatic compound solvent is not particularly limited, and examples thereof include benzene, toluene, xylene, mesitylene, styrene, cresol, cumene, nitrobenzene, benzoic acid, salicylic acid, naphthalene, and the like.
  • ether compound solvents include, but are not limited to, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, tetrahydrothiophene, anisole, propylene glycol monomethyl ether, cyclopentyl methyl ether, dimethyl ether, diethyl ether, methyl ethyl ether, dioxane, propylene carbonate, and the like. Can be mentioned.
  • the halogen compound solvent is not particularly limited, and examples thereof include dichloromethane, trichloromethane, perchloroethylene, bromopropane, chloroform, trichloroethylene, dichlorobenzene, and trichlorobenzene.
  • the ketone compound solvent is not particularly limited, and examples thereof include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, DIBK (diisobutyl ketone), cyclohexanone, DAA (diacetone alcohol) and the like.
  • the ester compound solvent is not particularly limited, but examples include ethyl acetate, methyl acetate, butyl acetate, methoxybutyl acetate, cellosolve acetate, amyl acetate, normal propyl acetate, isopropyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate. Etc.
  • the alcohol compound solvent examples include methanol, ethanol, isopropanol, n-propanol, 1-methoxy-2-propanol and the like, and branched alcohols such as linear alcohol such as n-butanol, 2-butanol and tert-butanol. And polyhydric alcohols such as linear alcohol, ethylene glycol and diethylene glycol, and propylene glycol monomethyl ether.
  • Examples of the aliphatic compound solvent include hexane, pentane, octane, and cyclohexane.
  • a fluid containing a copper phthalocyanine solution, a fluid containing a solvent that is a poor solvent for copper phthalocyanine, or both of them may contain a dispersing agent such as a block copolymer, a polymer, or a surfactant.
  • the dispersant may be contained in a third fluid different from the fluid containing the copper phthalocyanine solution and the fluid containing a solvent that becomes a poor solvent for copper phthalocyanine.
  • surfactant and dispersant various commercially available products used for pigment dispersion can be used. Although not particularly limited, for example, sodium dodecyl sulfate or dodecylbenzenesulfonic acid type such as Neogen RK (Daiichi Kogyo Seiyaku), Solsperse 20000, Solsperse 24000, Solsperse 26000, Solsperse 27000, Solsperse 28000, Solsperse 41090 ( Dispersic 160, Dispersic 161, Dispersic 162, Dispersic 163, Dispersic 166, Dispersic 170, Dispersic 180, Dispersic 181, Dispersic 182, Dispersic 183, Dispersic 184 , Disperbic 190, Disperbic 191 ⁇ ⁇ ⁇ , Disperbic 192, Disper 2000, Dispersic 2001 (above, manufactured by BYK Chemie), polymer 100 ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ , polymer 120, polymer 150, polymer 400, polymer 401
  • the surface treatment by introducing a modifying group on at least the surface of the copper phthalocyanine fine particles can be performed by including a surface modifier in the fluid introduced between the treatment surfaces 1 and 2.
  • the surface modifier may be contained in either a fluid containing a copper phthalocyanine solution (first fluid), a fluid containing a solvent that is a poor solvent for copper phthalocyanine (second fluid), or both. However, it may be contained in a third fluid different from the fluid containing the copper phthalocyanine solution and the fluid containing a solvent that is a poor solvent for copper phthalocyanine. Further, the combination of the first fluid and the second fluid is not particularly limited to the above.
  • the type of the modifying group introduced at least on the pigment surface as the surface modifying group is not particular limitation.
  • a solvent for dispersion or a dispersion What is necessary is just to use properly according to a kind.
  • polar groups such as acidic groups and basic groups, salt structures of the polar groups, highly polar atoms such as oxygen and sulfur, and / or structures with large polarizability introduced with aromatic rings, hydrogen bonding groups, hetero groups
  • polar groups such as acidic groups and basic groups, salt structures of the polar groups, highly polar atoms such as oxygen and sulfur, and / or structures with large polarizability introduced with aromatic rings, hydrogen bonding groups, hetero groups
  • polar groups such as acidic groups and basic groups, salt structures of the polar groups, highly polar atoms such as oxygen and sulfur, and / or structures with large polarizability introduced with aromatic rings, hydrogen bonding groups, hetero groups
  • polar groups such as acidic groups and basic groups, salt structures of the polar groups, highly polar
  • Examples of the acidic group include a hydroxyl group (hydroxy group), a sulfonic acid group (sulfo group), a carboxylic acid group, a phosphoric acid group, and a boric acid group.
  • An amino group etc. are mentioned as a basic group.
  • Examples of the hydrogen bonding group include a urethane moiety, a thiourethane moiety, a urea moiety, and a thiourea moiety.
  • the purpose of the surface treatment is other than the improvement of dispersibility
  • the surface of the copper phthalocyanine fine particles is made water-repellent, oleophilic, or oleophilic solvent
  • the first fluid or the second fluid, or its By including a surface modifying agent containing a lipophilic functional group in both, the lipophilic functional group can be introduced as a modifying group on the surface of the copper phthalocyanine fine particles discharged from between the processing surfaces 1 and 2 to perform lipophilic treatment.
  • the surface modifier may be contained in a third fluid different from the first fluid and the second fluid.
  • a material containing a resin is contained in the first fluid or the second fluid, or both, so that the surface between the treatment surfaces 1 and 2 At least a part of the surface of the discharged copper phthalocyanine fine particles is covered with a resin, and for example, hydrophilic treatment can be performed.
  • the resin may be contained in a third fluid different from the first fluid and the second fluid.
  • the above surface treatment is not limited to the case where the surface modification of the copper phthalocyanine fine particles is performed between the processing surfaces 1 and 2 as described above, but is performed even after the copper phthalocyanine fine particles are discharged from between the processing surfaces 1 and 2. it can. In that case, after the fluid containing the copper phthalocyanine fine particles is discharged from between the processing surfaces 1 and 2, the substance used for the surface treatment of the copper phthalocyanine fine particles is added to the discharged liquid, stirred, etc. Thus, the surface treatment of the copper phthalocyanine fine particles can be performed.
  • impurities can be removed from the fluid containing the copper phthalocyanine fine particles by a dialysis tube or the like, and then a substance for surface treatment can be added. Further, the surface treatment can be performed after drying the liquid component of the fluid containing the copper phthalocyanine fine particles discharged from between the processing surfaces 1 and 2 to obtain a copper phthalocyanine fine particle powder. Specifically, the obtained copper phthalocyanine fine particle powder is dispersed in a target solvent, and the above-described surface treatment target substance is added and subjected to a treatment such as stirring.
  • the method for producing copper phthalocyanine fine particles (forced ultrathin film rotary reaction method) in the present invention can freely change the Reynolds number of the microchannel, so that the particle diameter, particle shape, crystal type, etc.
  • copper phthalocyanine fine particles which are monodispersed and have good redispersibility can be prepared.
  • due to its self-discharging properties there is no clogging of the product even in the case of a reaction involving precipitation, and a large pressure is not required. Therefore, copper phthalocyanine fine particles can be stably produced, and the safety is excellent, the impurities are hardly mixed, and the cleaning property is good.
  • it can be scaled up according to the target production volume, it is possible to provide a method for producing copper phthalocyanine fine particles with high productivity.
  • the copper phthalocyanine pigment according to the present invention is blue, and can be used for various applications such as paints, inkjet inks, thermal transfer inks, toners, colored resins, and color filters.
  • the crystal form is a copper phthalocyanine fine particle different from the ⁇ -type, and the absorption spectrum shape at 380 to 780 nm.
  • Examples are shown in which copper phthalocyanine fine particles having an ⁇ -shaped spectral shape and copper phthalocyanine fine particles having a wavelength ( ⁇ max) at which the transmittance of the transmission spectrum at 380 to 780 nm is maximum are less than 478 nm are shown.
  • the present invention is not limited to the following examples.
  • FIG. 1 An apparatus for uniformly stirring and mixing in a thin film fluid, which is formed between processing surfaces 1 and 2, which are disposed so as to be able to approach and separate from each other and at least one rotates with respect to the other, shown in FIG. 1.
  • a copper phthalocyanine solution in which copper phthalocyanine is dissolved in a solvent and a solvent that is a poor solvent for copper phthalocyanine are mixed to precipitate copper phthalocyanine fine particles in a thin film fluid.
  • at least one of the copper phthalocyanine solution and the solvent that becomes a poor solvent for copper phthalocyanine generally contains an organic solvent capable of transferring copper phthalocyanine to a crystal form different from the ⁇ form. Shall be. *
  • “from the center” means “from the first introduction part d1” of the processing apparatus shown in FIG. 1 described above, and the first fluid is the first processed object described above.
  • the fluid refers to the fluid
  • the second fluid refers to the above-mentioned second fluid to be treated introduced from the second introduction part d2 of the processing apparatus shown in FIG.
  • “part” here means “part by weight”.
  • the particle size distribution was measured using a nanotrack particle size distribution measuring apparatus UPA-UT151 (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.), and the volume average particle diameter was adopted.
  • the absorption or transmission spectrum was measured in the wavelength region of 380 nm to 780 nm using an ultraviolet-visible spectrophotometer (UV-2450) manufactured by Shimadzu Corporation.
  • UV-2450 ultraviolet-visible spectrophotometer
  • the characteristic that the absorption spectrum of copper phthalocyanine is ⁇ -type is the same as the absorption spectrum shape of general ⁇ -type copper phthalocyanine.
  • the absorption spectrum shape being ⁇ -type is an absorption spectrum shape having peaks in the regions of 600 ⁇ 15 nm and 680 ⁇ 15 nm in the wavelength region of 380 nm to 780 nm. .
  • a copper phthalocyanine solution prepared by dissolving copper phthalocyanine in a mixed solvent of trifluoroacetic acid and dichloromethane (the crystal form was confirmed by powder X-ray diffraction) was introduced between the processing surfaces 1 and 2.
  • a copper phthalocyanine fine particle dispersion was discharged from between the processing surfaces 1 and 2.
  • the discharged copper phthalocyanine fine particles were loosely aggregated and settled by centrifugation ( ⁇ 26000 G).
  • the supernatant liquid after the centrifugation treatment was removed, a mixed solvent of pure water and isopropyl alcohol was added to make the copper phthalocyanine fine particles float up again, and then the centrifugal separation was repeated again to wash the copper phthalocyanine fine particles.
  • the finally obtained copper phthalocyanine fine particle paste was vacuum dried at 30 ° C. and ⁇ 0.1 MPaG. XRD measurement of the copper phthalocyanine fine particle powder after drying was performed.
  • a dispersion treatment was performed in a solution in which Dispersic BYK-2146 (manufactured by Big Chemie) was dissolved in m-xylene as a dispersant.
  • the dispersion of the copper phthalocyanine fine particles subjected to the dispersion treatment was subjected to particle size distribution measurement using m-xylene as a solvent.
  • a part of the m-xylene dispersion of copper phthalocyanine fine particles was diluted with m-xylene to obtain a transmission spectrum of a dispersion having a copper phthalocyanine concentration of 0.005 wt% and an absorption spectrum of a dispersion having a 0.001 wt%. It was measured.
  • Example 2 As shown in Table 1, the types of the first fluid and the second fluid, the number of revolutions, the liquid feeding temperature (temperature immediately before each fluid is introduced into the processing apparatus), and the introduction speed (flow rate) ) (Unit: ml / min.) was changed.
  • an organic solvent that can generally transfer copper phthalocyanine to a crystal form different from ⁇ -type is used as a solvent that becomes a poor solvent for copper phthalocyanine.
  • FIG. 4 shows the absorption spectrum (solid line) of the copper phthalocyanine fine particle dispersion prepared in Example 1
  • FIG. 5 shows the transmission spectrum (solid line) of the copper phthalocyanine fine particle dispersion prepared in Example 1.
  • FIGS. 4 to 5 show the absorption spectrum (solid circle on the solid line) and transmission spectrum (white circle on the solid line) for the copper phthalocyanine pigment containing copper phthalocyanine having a wavelength ( ⁇ max) at which the maximum is less than 478 nm.
  • Table 1 shows the wavelength of the absorption spectrum shape at 380 to 780 nm and the peak position of the absorption spectrum at 380 to 780 nm.
  • the TEM photograph of the copper phthalocyanine fine particle produced in Example 1 is shown in FIG. It can be seen that the obtained copper phthalocyanine fine particles have a substantially spherical shape. As shown in Table 1 and FIGS.
  • the present invention contains copper phthalocyanine fine particles whose crystal form is different from ⁇ -type and whose absorption spectrum at 380 to 780 nm is an ⁇ -type absorption spectrum. And a copper phthalocyanine pigment having a wavelength ( ⁇ max) of less than 478 nm, which is different from the two types of ⁇ -type and ⁇ -type, and has a maximum transmittance in the transmission spectrum at 380 to 780 nm.
  • a copper phthalocyanine pigment comprising phthalocyanine fine particles and a method for producing the copper phthalocyanine fine particles are provided.
  • the copper phthalocyanine fine particles constituting the copper phthalocyanine pigment have a volume average particle size of 1 to 600 nm, have a crystal type different from the ⁇ type, and can control the particle size of the copper phthalocyanine fine particles. Therefore, expression of color characteristics such as a target color tone and coloring power can be expected.

Abstract

　高い分光特性を有し、かつα型とは異なる結晶型である銅フタロシアニン微粒子を少なくとも１種類含有してなる銅フタロシアニン顔料及び上記銅フタロシアニン微粒子の製造方法を提供することを課題とする。　α型とは異なる結晶型であり、且つ、３８０～７８０ｎｍにおける吸収スペクトルがα型の吸収スペクトル形状である銅フタロシアニン微粒子を、少なくとも１種類含有してなる銅フタロシアニン顔料及び上記銅フタロシアニン微粒子の製造方法を提供する。また、α型およびε型の２種の型とは異なる結晶型であり、且つ、３８０～７８０ｎｍにおける透過スペクトルの透過率が最大となる波長（λmax）が４７８ｎｍ未満である銅フタロシアニン微粒子を、少なくとも１種類含有してなる銅フタロシアニン顔料及び上記銅フタロシアニン微粒子の製造方法を提供する。

Description

新規な銅フタロシアニン顔料及び銅フタロシアニン微粒子の製造方法
　本発明は、新規な銅フタロシアニン顔料に関する。
　銅フタロシアニンは、塗料、インクジェットインク、カラーフィルター、トナーなど広い分野に用いられている青色またはシアン色の有機顔料である。分子構造の中心に位置する銅元素が水素に置き換わった無金属フタロシアニンや他の金属元素に置き換わった多くの種類の金属フタロシアニンも合成されているが、色材としての着色力や発色力などの色特性に優れているだけでなく、耐水性や耐熱性、耐光性や耐候性などの耐久性に優れるため、産業上は銅フタロシアニンの使用量が最も多い。銅フタロシアニンは上記のような有機顔料、色材としての使用以外にも、半導体や触媒、またはセンサーなどにも応用されているため、今後も重要な材料となり得ると考えられている。
　銅フタロシアニンはα、β、γ、ε、π、χ、σ、ρなど多くの結晶多形を持ち、結晶型によって色特性や耐溶剤性などの物性が異なると言われている。しかし、銅フタロシアニンの色特性は、結晶型だけでなくその一次粒子径の大きさと、使用の際の凝集の度合い、言い換えるとその分散粒子径も大きく影響するため、目的の結晶型についての微粒子の製造方法が必要とされおり、これまで結晶型の制御と微粒子の作製に関する多くの方法が報告されている。
　例えばβまたはε型の銅フタロシアニンを作製する方法としては特許文献１に記載されるような特定の有機溶媒で処理するソルベント法や、特許文献２に記載されるような特定の溶媒中においてビーズや無機塩類で処理する所謂ソルベントミリング法またはソルベントソルトミリング法が報告されている。
　しかし、ソルベント法においては、結晶成長による粒子の粗大化の抑制が難しく、ソルベントミリングやソルベントソルトミリング法においては、結晶成長と粉砕とを平行して行うため、多大なエネルギーを必要とするだけでなく、銅フタロシアニン顔料に強い力が作用し、色調、透明性、分光特性、耐久性など、顔料ナノ粒子として期待された特性が発現しないという問題があった。
　また、特許文献３に示すように、本願出願人によって提案された新規な銅フタロシアニンとして、結晶型がα型且つ、３８０～７８０ｎｍにおける透過スペクトルの透過率が最大となる波長（λmax）が４７８ｎｍ未満である銅フタロシアニンを含有してなる銅フタロシアニン顔料並びにその製造方法がある。特許文献３に示された銅フタロシアニンは透過特性に優れ、特定の波長領域の光だけを透過することができ、またその透過率もこれまで以上に高いものであった。さらに、吸収スペクトル特性においては、一般的な銅フタロシアニンと比較して、同じ顔料濃度の分散液であってもその吸光度が高いため、これまでの銅フタロシアニン顔料よりも着色力に優れると推測される。しかし、一般的に準安定型と言われるα型の結晶が、特定の有機溶媒、特に芳香族系の有機溶媒中での使用を試みた場合に結晶成長し、その色特性を発揮できないという問題があったため、特許文献３に示されるような分光特性を持ち、且つα型とは異なる安定型、又は準安定型の銅フタロシアニンが望まれていた。
特開２００３－３１３４５６号公報 特開２００７‐３３２３１７号公報 国際公開第ＷＯ２０１０／０３５８６１号パンフレット
　上記に鑑み本発明は、α型とは異なる結晶型であり、且つ、３８０～７８０ｎｍにおける吸収スペクトルがα型の吸収スペクトル形状である銅フタロシアニン微粒子を、少なくとも１種類含有してなる銅フタロシアニン顔料及び上記銅フタロシアニン微粒子の製造方法を提供することを課題とする。
　更には、α型およびε型の２種の型とは異なる結晶型であり、且つ、３８０～７８０ｎｍにおける透過スペクトルの透過率が最大となる波長（λmax）が４７８ｎｍ未満である銅フタロシアニン微粒子を、少なくとも１種類含有してなる銅フタロシアニン顔料及び上記銅フタロシアニン微粒子の製造方法を提供することを課題とする。
　上記課題を解決するために、本発明の第１の形態は、α型とは異なる結晶型であり、且つ、３８０～７８０ｎｍにおける吸収スペクトルがα型の吸収スペクトル形状である銅フタロシアニン微粒子を、少なくとも１種類含有してなる銅フタロシアニン顔料である。
　本発明の第２の形態は、α型とは異なる結晶型であり、且つ、３８０～７８０ｎｍにおける吸収スペクトルにおいて、６００±１５ｎｍ及び６８０±１５ｎｍの領域にピークを持つ銅フタロシアニン微粒子を、少なくとも１種類を含有してなる銅フタロシアニン顔料である。
　本発明の第３の形態は、上記α型とは異なる結晶型がβ型、γ型、およびε型の３種の型のいずれかの結晶型である銅フタロシアニン微粒子を、少なくとも１種類含有することを特徴とする本発明の第１又は第２の形態に係る銅フタロシアニン微粒子を含有してなる銅フタロシアニン顔料である。
　本発明の第４の形態は、α型およびε型の２種の型とは異なる結晶型であり、且つ、３８０～７８０ｎｍにおける透過スペクトルの透過率が最大となる波長（λmax）が４７８ｎｍ未満である銅フタロシアニン微粒子を、少なくとも１種類含有してなる銅フタロシアニン顔料である。
　本発明の第５の形態は、上記のα型およびε型の２種の型とは異なる結晶型が、β型およびγ型の２種の型のいずれかの結晶型である銅フタロシアニン微粒子を、少なくとも１種類含有することを特徴とする本発明の第４の形態に係る銅フタロシアニン微粒子を含有してなる銅フタロシアニン顔料である。
　本発明の第６の形態は、接近・離反可能、且つ相対的に変位する処理用面の間に被処理流動体を供給し、当該被処理流動体の供給圧と回転する処理用面の間にかかる圧力とを含む接近方向への力と離反方向への力との圧のバランスによって処理用面間の距離を微小間隔に維持し、この微小間隔に維持された２つの処理用面間を被処理流動体の流路とすることによって、被処理流動体が薄膜流体を形成し、この薄膜流体中において微粒子として、上記銅フタロシアニン微粒子が生成されたものであることを特徴とする、本発明の第１～第５の何れかの形態に係る銅フタロシアニン微粒子を含有してなる銅フタロシアニン顔料である。
　本発明の第７の形態は、上記銅フタロシアニン微粒子の形状が略球状であることを特徴とする、本発明の第１～第６の何れかの形態に係る銅フタロシアニン微粒子を含有してなる銅フタロシアニン顔料である。
　本発明の第８の形態は、上記銅フタロシアニン微粒子の体積平均粒子径が１～６００ｎｍであることを特徴とする、本発明の第７の形態に係る銅フタロシアニン微粒子を含有してなる銅フタロシアニン顔料である。
　本発明の第９の形態は、本発明の第１～第８の何れかの形態に係る銅フタロシアニン微粒子を生成させる方法であって、接近・離反可能、且つ相対的に変位する処理用面の間に被処理流動体を供給し、当該被処理流動体の供給圧と回転する処理用面の間にかかる圧力とを含む接近方向への力と離反方向への力との圧のバランスによって処理用面間の距離を微小間隔に維持し、この微小間隔に維持された２つの処理用面間を被処理流動体の流路とすることによって、被処理流動体が薄膜流体を形成し、この薄膜流体中において上記銅フタロシアニン微粒子の析出を行うことを特徴とする銅フタロシアニン微粒子の製造方法である。
　本発明の第１０の形態は、少なくとも２種類の被処理流動体を用いるものであり、そのうちで少なくとも１種類の被処理流動体は、銅フタロシアニンを溶媒に溶解した銅フタロシアニン溶液であり、上記以外の流体で少なくとも１種類の被処理流動体は、銅フタロシアニンに対して貧溶媒となる溶媒であり、上記銅フタロシアニン溶液と上記銅フタロシアニンに対して貧溶媒となる溶媒の内、少なくともいずれか一方の被処理流動体は少なくとも１種類の有機溶媒を含むものであり、上記の被処理流動体を上記薄膜流体中で混合することを特徴とする本発明の第９の形態に係る銅フタロシアニン微粒子の製造方法である。
　本発明の第１１の形態は、第１、第２、第３の少なくとも３種類の被処理流動体を用いるものであり、上記第１の被処理流動体は、銅フタロシアニンを溶媒に溶解した銅フタロシアニン溶液であり、上記第２の被処理流動体は、銅フタロシアニンに対して貧溶媒となる溶媒であり、上記第３の被処理流動体は、少なくとも１種類の有機溶媒を含むものであり、上記全ての被処理流動体を上記薄膜流体中で混合することを特徴とする本発明の第９の形態に係る銅フタロシアニン微粒子の製造方法である。
　本発明の第１２の形態は、上記有機溶媒が、芳香族化合物溶媒、ケトン化合物溶媒、エーテル化合物溶媒、ハロゲン化合物溶媒のうち少なくとも１種類を含む事を特徴とする本発明の第１０又は第１１の形態に係る銅フタロシアニン微粒子の製造方法である。
　本発明の第１３の形態は、上記の被処理流動体に圧力を付与する流体圧付与機構と、第１処理用部、及び、この第１処理用部に対して接近・離反可能な第２処理用部の、少なくとも２つの処理用部と、上記の第１処理用部と第２処理用部とを相対的に回転させる回転駆動機構とを備え、上記の各処理用部において互いに対向する位置に、第１処理用面、及び第２処理用面の、上記少なくとも２つの処理用面が設けられており、上記の各処理用面は、上記の圧力が付与された被処理流動体が流される、密封された流路の一部を構成するものであり、上記第１処理用部と第２処理用部のうち、少なくとも第２処理用部は受圧面を備えるものであり、且つ、この受圧面の少なくとも一部が上記の第２処理用面により構成され、この受圧面は、上記の流体圧付与機構が被処理流動体に付与する圧力を受けて第１処理用面から第２処理用面を離反させる方向に移動させる力を発生させ、接近・離反可能、且つ相対的に回転する第１処理用面と第２処理用面との間に上記の圧力が付与された被処理流動体が通されることにより、上記被処理流動体が上記薄膜流体を形成し、この薄膜流体中において上記銅フタロシアニン微粒子の析出を行うことを特徴とする、本発明の第９の形態に係る銅フタロシアニン微粒子の製造方法である。
　本発明の第１４の形態は、一種の被処理流動体が上記第１処理用面と第２処理用面との間に通され、上記の一種の被処理流動体とは異なる他の一種の被処理流動体が通される独立した別途の導入路を備え、この導入路に通じる少なくとも一つの開口部が上記第１処理用面と第２処理用面の少なくとも何れか一方に設けられ、この導入路から上記の他の一種の被処理流動体を、上記両処理用面間に導入し、上記一種の被処理流動体と他の一種の被処理流動体とを、上記薄膜流体中で混合することを特徴とする、本発明の第１３の形態に係る銅フタロシアニン微粒子の製造方法である。
　本発明の第１５の形態は、上記被処理流動体の混合が、上記の一種の被処理流動体の流れが上記両処理用面間で層流となる点よりも下流側に上記開口部を設置し、上記開口部から上記の他の一種の被処理流動体を導入してなされることを特徴とする、本発明の第１４の形態に係る銅フタロシアニン微粒子の製造方法である。
　本発明は、α型とは異なる結晶型であり、且つ、３８０～７８０ｎｍにおける吸収スペクトルがα型の吸収スペクトル形状である銅フタロシアニン微粒子を、少なくとも１種類含有してなる銅フタロシアニン顔料及び上記銅フタロシアニン微粒子の製造方法を提供することができたものである。結晶型を変化させるための多大なエネルギーを必要せず、上記に挙げた従来の問題を改善できたものである。
　そして特に、本発明の第４又は第５の形態においては、粉末Ｘ線回折測定において結晶型がα型およびε型の２種の型とは異なる結晶型である銅フタロシアニン微粒子、特にβ型およびγ型の２種の型のいずれかの結晶型である銅フタロシアニン微粒子であり、且つ、３８０～７８０ｎｍにおける透過スペクトルの透過率が最大となる波長（λmax）が４７８ｎｍ未満である銅フタロシアニン微粒子を、少なくとも１種類含有する銅フタロシアニン顔料を提供することができたものである。つまり、本願出願人によって特許文献３において提供された分光特性の銅フタロシアニンを、α型よりも耐溶剤性に優れる結晶型として提供できたものである。
本発明の実施の形態に係る流体処理装置の略断面図である。 （Ａ）は図１に示す流体処理装置の第１処理用面の略平面図であり、（Ｂ）は同装置の処理用面の要部拡大図である。 （Ａ）は同装置の第２導入部の断面図であり、（Ｂ）は同第２導入部を説明するための処理用面の要部拡大図である。 本発明の実施例１において作製された銅フタロシアニン微粒子分散液の吸収スペクトル（実線）及び特許文献３において提供された、結晶型がα型で、且つ３８０～７８０ｎｍにおける透過スペクトルの透過率が最大となる波長（λmax）が４７８ｎｍ未満である銅フタロシアニンを含有してなる銅フタロシアニン顔料についての吸収スペクトル（実線に白丸）である。 本発明の実施例１において作製された銅フタロシアニン微粒子分散液の透過スペクトル（実線）及び特許文献３において提供された、結晶型がα型で、且つ３８０～７８０ｎｍにおける透過スペクトルの透過率が最大となる波長（λmax）が４７８ｎｍ未満である銅フタロシアニンを含有してなる銅フタロシアニン顔料についての透過スペクトル（実線に白丸）である。 本発明の実施例１において作製された銅フタロシアニン微粒子の粉末Ｘ線回折スペクトルである。 本発明の実施例６において作製された銅フタロシアニン微粒子の粉末Ｘ線回折スペクトルである。 本発明の実施例５において作製された銅フタロシアニン微粒子の粉末Ｘ線回折スペクトルである。 本発明の実施例１において作製された銅フタロシアニン微粒子のＴＥＭ写真である。
　本発明は、粉末Ｘ線回折図で示されるα型とは異なる銅フタロシアニン微粒子、特にβ型（図６）、γ型（図７）、およびε型（図８）の３種の型のいずれかの結晶型の銅フタロシアニン微粒子を含むものであり、且つ、図４にて実線で示す吸収スペクトル、または図５にて実線で示す透過スペクトルで示される銅フタロシアニン微粒子を、少なくとも１種類含有する銅フタロシアニン顔料である。また、本発明における銅フタロシアニン顔料は銅フタロシアニン微粒子のスルホン化物や水酸化物のような銅フタロシアニン誘導体を含む。また銅フタロシアニン微粒子の表面に水酸基やスルホ基などの官能基を導入した銅フタロシアニン顔料を含んでも実施できる。その他、本発明に係る銅フタロシアニン顔料においては、α型とは異なる複数の種類の結晶型の銅フタロシアニン微粒子を含んでいてもよい。
　図６～図８に見られるように、粉末Ｘ線回折スペクトルにおいて回折強度がピークとなる回折角がそれぞれの結晶型（図６はβ型（安定型）、図７はγ型、図８がε型）の銅フタロシアニンと一致することから、本発明における銅フタロシアニンの結晶型はα型とは異なると判断でき、また、図４にて実線で示す吸収スペクトルに見られるように、３８０～７８０ｎｍにおける吸収スペクトル形状がα型である銅フタロシアニンであることがわかる。本発明に係る銅フタロシアニンにおいて、その吸収スペクトル形状がα型であるとは、波長領域３８０～７８０ｎｍにおける吸収スペクトルにおいて、６００±１５ｎｍ及び６８０±１５ｎｍの領域にピークを持つ吸収スペクトル形状とする。さらに、図５に実線で示す透過スペクトルに見られるように、波長領域３８０～７８０ｎｍにおける透過スペクトルの透過率が最大となる波長（λmax）が４７８ｎｍ未満である銅フタロシアニンであることがわかる。本発明における吸収スペクトルまたは透過スペクトルの測定方法は特に限定されない。例えば銅フタロシアニン顔料の水溶液系、または有機溶媒系の分散液について吸収または透過スペクトルを測定する方法や、ガラスや透明電極、またはフィルムなどに塗布したものについて測定する方法が挙げられる。また、図４、図５共に実線に白丸を施したスペクトルは、本願出願人によって特許文献３において提供された、結晶型がα型で、且つ３８０～７８０ｎｍにおける透過スペクトルの透過率が最大となる波長（λmax）が４７８ｎｍ未満である銅フタロシアニンを含有してなる銅フタロシアニン顔料についての吸収スペクトル並びに透過スペクトルであり、本発明における銅フタロシアニン微粒子の吸収・透過スペクトルと比較して、ほぼ違いの無い形状である事がわかる。
　本発明で得られる銅フタロシアニン顔料の製造方法としては特に限定されない。粉砕法を代表とする、Break-down法でも実施できるし、Build-up法でも実施できる。また、新規に合成しても実施できる。
　本発明の銅フタロシアニン顔料の製造方法の一例として、銅フタロシアニンを溶媒に溶解した銅フタロシアニン溶液を含む流体と、銅フタロシアニンに対して貧溶媒となる溶媒を含む流体とを混合して銅フタロシアニンを析出させて銅フタロシアニン微粒子を製造する方法で、上記の各流体を、接近・離反可能に互いに対向して配設され、少なくとも一方が他方に対して回転する処理用面の間にできる薄膜流体中で混合するものであり、当該薄膜流体中において銅フタロシアニン微粒子を析出させることを特徴とする銅フタロシアニン微粒子の製造方法を用いることができる。以下にこの製造方法について説明する。しかし、この製造方法はほんの一例であって、本発明はこの製造方法に限定されない。なお、上記溶媒に溶かす前の銅フタロシアニンの結晶型は限定されず、代表的なα型、β型、ε型はもちろんのこと、種々の結晶型の銅フタロシアニンを用いることができる。その他、顔料化工程前の銅フタロシアニンやアモルファスな銅フタロシアニンを含有して成る銅フタロシアニンを用いる事もできる。粒子径についても特に限定されるものではない。　
　以下、この方法に用いることができる流体処理装置について説明する。
　図１～図３に示す流体処理装置は、特許文献３に記載の装置と同様であり、接近・離反可能な少なくとも一方が他方に対して相対的に回転する処理用部における処理用面の間で被処理物を処理するものであって、被処理流動体のうちの第１の被処理流動体である第１流体を処理用面間に導入し、前記第１流体を導入した流路とは独立し、処理用面間に通じる開口部を備えた別の流路から被処理流動体のうちの第２の被処理流動体である第２流体を処理用面間に導入して処理用面間で上記第１流体と第２流体を混合・攪拌して処理を行う装置である。なお、図１においてＵは上方を、Ｓは下方をそれぞれ示しているが、本発明において上下前後左右は相対的な位置関係を示すに止まり、絶対的な位置を特定するものではない。図２（Ａ）、図３（Ｂ）においてＲは回転方向を示している。図３（Ｂ）においてＣは遠心力方向（半径方向）を示している。
　この装置は、被処理流動体として少なくとも２種類の流体を用いるものであり、そのうちで少なくとも１種類の流体については被処理物を少なくとも１種類含むものであり、接近・離反可能に互いに対向して配設され、少なくとも一方が他方に対して回転する処理用面を備え、これらの処理用面の間で上記の各流体を合流させて薄膜流体とするものであり、当該薄膜流体中において上記の被処理物を処理する装置である。この装置は、上述のとおり、複数の被処理流動体を処理することができるが、単一の被処理流動体を処理することもできる。
　この流体処理装置は、対向する第１及び第２の、２つの処理用部１０，２０を備え、少なくとも一方の処理用部が回転する。両処理用部１０，２０の対向する面が、夫々処理用面となる。第１処理用部１０は第１処理用面１を備え、第２処理用部２０は第２処理用面２を備える。
　両処理用面１，２は、被処理流動体の流路に接続され、被処理流動体の流路の一部を構成する。この両処理用面１，２間の間隔は、適宜変更して実施することができるが、通常は、１ｍｍ以下、例えば０．１μｍから５０μｍ程度の微小間隔に調整される。これによって、この両処理用面１，２間を通過する被処理流動体は、両処理用面１，２によって強制された強制薄膜流体となる。
　この装置を用いて、複数の被処理流動体を処理する場合、この装置は、第１の被処理流動体の流路に接続され、当該第１被処理流動体の流路の一部を形成すると共に、第１被処理流動体とは別の、第２被処理流動体の流路の一部を形成する。そして、この装置は、両流路を合流させて、処理用面１，２間において、両被処理流動体を混合し、反応させるなどの流体の処理を行なう。なお、ここで「処理」とは、被処理物が反応する形態に限らず、反応を伴わずに混合・分散のみがなされる形態も含む。
　具体的に説明すると、上記の第１処理用部１０を保持する第１ホルダ１１と、第２処理用部２０を保持する第２ホルダ２１と、接面圧付与機構と、回転駆動機構と、第１導入部ｄ１と、第２導入部ｄ２と、流体圧付与機構ｐとを備える。
　図２（Ａ）へ示す通り、この実施の形態において、第１処理用部１０は、環状体であり、より詳しくはリング状のディスクである。また、第２処理用部２０もリング状のディスクである。第１、第２処理用部１０、２０の材質は、金属の他、セラミックや焼結金属、耐磨耗鋼、サファイア、その他金属に硬化処理を施したものや、硬質材をライニングやコーティング、メッキなどを施工したものを採用することができる。この実施の形態において、両処理用部１０，２０は、互いに対向する第１、第２の処理用面１、２の少なくとも一部が鏡面研磨されている。
　この鏡面研磨の面粗度は、特に限定されないが、好ましくはＲａ０．０１～１．０μｍ、より好ましくはＲａ０．０３～０．３μｍとする。
　少なくとも一方のホルダは、電動機などの回転駆動機構（図示せず）にて、他方のホルダに対して相対的に回転することができる。図１の５０は、回転駆動機構の回転軸を示しており、この例では、この回転軸５０に取り付けられた第１ホルダ１１が回転し、この第１ホルダ１１に支持された第１処理用部１０が第２処理用部２０に対して回転する。もちろん、第２処理用部２０を回転させるようにしてもよく、双方を回転させるようにしてもよい。また、この例では、第１、第２ホルダ１１、２１を固定しておき、この第１、第２ホルダ１１、２１に対して第１、第２処理用部１０、２０が回転するようにしてもよい。
　第１処理用部１０と第２処理用部２０とは、少なくとも何れか一方が、少なくとも何れか他方に、接近・離反可能となっており、両処理用面１，２は、接近・離反できる。
　この実施の形態では、第１処理用部１０に対して、第２処理用部２０が接近・離反するもので、第２ホルダ２１に設けられた収容部４１に、第２処理用部２０が出没可能に収容されている。但し、これとは、逆に、第１処理用部１０が、第２処理用部２０に対して接近・離反するものであってもよく、両処理用部１０，２０が互いに接近・離反するものであってもよい。
　この収容部４１は、第２処理用部２０の、主として処理用面２側と反対側の部位を収容する凹部であり、平面視において、円を呈する、即ち環状に形成された、溝である。この収容部４１は、第２処理用部２０を回転させ得る十分なクリアランスを持って、第２処理用部２０を収容する。なお、第２処理用部２０は軸方向に平行移動のみが可能なように配置してもよいが、上記クリアランスを大きくすることにより、第２処理用部２０は、収容部４１に対して、処理用部２０の中心線を、上記収容部４１の軸方向と平行の関係を崩すように傾斜して変位できるようにしてもよく、さらに、第２処理用部２０の中心線と収容部４１の中心線とが半径方向にずれるように変位できるようにしてもよい。
　このように、３次元的に変位可能に保持するフローティング機構によって、第２処理用部２０を保持することが望ましい。
　上記の被処理流動体は、各種のポンプや位置エネルギーなどによって構成される流体圧付与機構ｐによって圧力が付与された状態で、第１導入部ｄ１と、第２導入部ｄ２から両処理用面１、２間に導入される。この実施の形態において、第１導入部ｄ１は、環状の第２ホルダ２１の中央に設けられた通路であり、その一端が、環状の両処理用部１０、２０の内側から、両処理用面１、２間に導入される。第２導入部ｄ２は、第１の被処理流動体と反応させる第２の被処理流動体を処理用面１，２へ供給する。この実施の形態において、第２導入部ｄ２は、第２処理用部２０の内部に設けられた通路であり、その一端が、第２処理用面２にて開口する。流体圧付与機構ｐにより加圧された第１の被処理流動体は、第１導入部ｄ１から、両処理用部１０，２０の内側の空間に導入され、第１処理用面１と第２処理用面２との間を通り、両処理用部１０，２０の外側に通り抜けようとする。これらの処理用面１，２間において、第２導入部ｄ２から流体圧付与機構ｐにより加圧された第２の被処理流動体が供給され、第１の被処理流動体と合流し、混合、攪拌、乳化、分散、反応、晶出、晶析、析出などの種々の流体処理がなされ、両処理用面１，２から、両処理用部１０，２０の外側に排出される。なお、減圧ポンプにより両処理用部１０，２０の外側の環境を負圧にすることもできる。
　上記の接面圧付与機構は、第１処理用面１と第２処理用面２とを接近させる方向に作用させる力を、処理用部に付与する。この実施の形態では、接面圧付与機構は、第２ホルダ２１に設けられ、第２処理用部２０を第１処理用部１０に向けて付勢する。
　前記の接面圧付与機構は、第１処理用部１０の第１処理用面１と第２処理用部２０の第２処理用面２とが接近する方向に押す力（以下、接面圧力という）を発生するための機構である。この接面圧力と、流体圧力などの両処理用面１、２間を離反させる力との均衡によって、ｎｍ単位ないしμｍ単位の微小な膜厚を有する薄膜流体を発生させる。言い換えれば、上記力の均衡によって、両処理用面１、２間の間隔を所定の微小間隔に保つ。
　図１に示す実施の形態において、接面圧付与機構は、上記の収容部４１と第２処理用部２０との間に配位される。具体的には、第２処理用部２０を第１処理用部１０に近づく方向に付勢するスプリング４３と、空気や油などの付勢用流体を導入する付勢用流体導入部４４とにて構成され、スプリング４３と上記付勢用流体の流体圧力とによって、上記の接面圧力を付与する。このスプリング４３と上記付勢用流体の流体圧力とは、いずれか一方が付与されるものであればよく、磁力や重力などの他の力であってもよい。この接面圧付与機構の付勢に抗して、流体圧付与機構ｐにより加圧された被処理流動体の圧力や粘性などによって生じる離反力によって、第２処理用部２０は、第１処理用部１０から遠ざかり、両処理用面間に微小な間隔を開ける。このように、この接面圧力と離反力とのバランスによって、第１処理用面１と第２処理用面２とは、μｍ単位の精度で設定され、両処理用面１，２間の微小間隔の設定がなされる。上記離反力としては、被処理流動体の流体圧や粘性と、処理用部の回転による遠心力と、付勢用流体導入部４４に負圧を掛けた場合の当該負圧、スプリング４３を引っ張りスプリングとした場合のバネの力などを挙げることができる。この接面圧付与機構は、第２処理用部２０ではなく、第１処理用部１０に設けてもよく、双方に設けてもよい。
　上記の離反力について、具体的に説明すると、第２処理用部２０は、上記の第２処理用面２と共に、第２処理用面２の内側（即ち、第１処理用面１と第２処理用面２との間への被処理流動体の進入口側）に位置して当該第２処理用面２に隣接する離反用調整面２３を備える。この例では、離反用調整面２３は、傾斜面として実施されているが、水平面であってもよい。被処理流動体の圧力が、離反用調整面２３に作用して、第２処理用部２０を第１処理用部１０から離反させる方向への力を発生させる。従って、離反力を発生させるための受圧面は、第２処理用面２と離反用調整面２３とになる。
　さらに、この図１の例では、第２処理用部２０に近接用調整面２４が形成されている。この近接用調整面２４は、離反用調整面２３と軸方向において反対側の面（図１においては上方の面）であり、被処理流動体の圧力が作用して、第２処理用部２０を第１処理用部１０に接近させる方向への力を発生させる。
　なお、第２処理用面２及び離反用調整面２３に作用する被処理流動体の圧力、即ち流体圧は、メカニカルシールにおけるオープニングフォースを構成する力として理解される。処理用面１，２の接近・離反の方向、即ち第２処理用部２０の出没方向（図１においては軸方向）と直交する仮想平面上に投影した近接用調整面２４の投影面積Ａ１と、当該仮想平面上に投影した第２処理用部２０の第２処理用面２及び離反用調整面２３との投影面積の合計面積Ａ２との、面積比Ａ１／Ａ２は、バランス比Ｋと呼ばれ、上記オープニングフォースの調整に重要である。このオープニングフォースについては、上記バランスライン、即ち近接用調整面２４の面積Ａ１を変更することで、被処理流動体の圧力、即ち流体圧により調整できる。
　摺動面の実面圧Ｐ、即ち、接面圧力のうち流体圧によるものは次式で計算される。
　Ｐ＝Ｐ１×（Ｋ－ｋ）＋Ｐｓ
　ここでＰ１は、被処理流動体の圧力即ち流体圧を示し、Ｋは上記のバランス比を示し、ｋはオープニングフォース係数を示し、Ｐｓはスプリング及び背圧力を示す。
　このバランスラインの調整により摺動面の実面圧Ｐを調整することで処理用面１，２間を所望の微小隙間量にし被処理流動体による流動体膜を形成させ、生成物などの処理された被処理物を微細とし、また、均一な反応処理を行うのである。
　なお、図示は省略するが、近接用調整面２４を離反用調整面２３よりも広い面積を持ったものとして実施することも可能である。
　被処理流動体は、上記の微小な隙間を保持する両処理用面１，２によって強制された薄膜流体となり、環状の両処理用面１、２の外側に移動しようとする。ところが、第１処理用部１０は回転しているので、混合された被処理流動体は、環状の両処理用面１，２の内側から外側へ直線的に移動するのではなく、環状の半径方向への移動ベクトルと周方向への移動ベクトルとの合成ベクトルが被処理流動体に作用して、内側から外側へ略渦巻き状に移動する。
　尚、回転軸５０は、鉛直に配置されたものに限定するものではなく、水平方向に配位されたものであってもよく、傾斜して配位されたものであってよい。被処理流動体は両処理用面１，２間の微細な間隔にて処理がなされるものであり、実質的に重力の影響を排除できるからである。また、この接面圧付与機構は、前述の第２処理用部２０を変位可能に保持するフローティング機構と併用することによって、微振動や回転アライメントの緩衝機構としても機能する。
　第１、第２処理用部１０、２０は、その少なくともいずれか一方を、冷却或いは加熱して、その温度を調整するようにしてもよく、図１では、第１、第２処理用部１０、２０に温調機構（温度調整機構）Ｊ１，Ｊ２を設けた例を図示している。また、導入される被処理流動体を冷却或いは加熱して、その温度を調整するようにしもよい。これらの温度は、処理された被処理物の析出のために用いることもでき、また、第１、第２処理用面１、２間における被処理流動体にベナール対流若しくはマランゴニ対流を発生させるために設定してもよい。
　図２に示すように、第１処理用部１０の第１処理用面１には、第１処理用部１０の中心側から外側に向けて、即ち径方向について伸びる溝状の凹部１３を形成して実施してもよい。この凹部１３の平面形状は、図２（Ｂ）へ示すように、第１処理用面１上をカーブして或いは渦巻き状に伸びるものや、図示はしないが、真っ直ぐ外方向に伸びるもの、Ｌ字状などに屈曲あるいは湾曲するもの、連続したもの、断続するもの、枝分かれするものであってもよい。また、この凹部１３は、第２処理用面２に形成するものとしても実施可能であり、第１及び第２の処理用面１，２の双方に形成するものとしても実施可能である。この様な凹部１３を形成することによりマイクロポンプ効果を得ることができ、被処理流動体を第１及び第２の処理用面１，２間に吸引することができる効果がある。
　この凹部１３の基端は第１処理用部１０の内周に達することが望ましい。この凹部１３の先端は、第１処理用面１の外周面側に向けて伸びるもので、その深さ（横断面積）は、基端から先端に向かうにつれて、漸次減少するものとしている。
　この凹部１３の先端と第１処理用面１の外周面との間には、凹部１３のない平坦面１６が設けられている。
　前述の第２導入部ｄ２の開口部ｄ２０を第２処理用面２に設ける場合は、対向する上記第１処理用面１の平坦面１６と対向する位置に設けることが好ましい。
　この開口部ｄ２０は、第１処理用面１の凹部１３からよりも下流側（この例では外側）に設けることが望ましい。特に、マイクロポンプ効果によって導入される際の流れ方向が処理用面間で形成されるスパイラル状で層流の流れ方向に変換される点よりも外径側の平坦面１６に対向する位置に設置することが望ましい。具体的には、図２（Ｂ）において、第１処理用面１に設けられた凹部１３の最も外側の位置から、径方向への距離ｎを、約０．５ｍｍ以上とするのが好ましい。特に、流体中からナノサイズの微粒子（ナノ微粒子）を析出させる場合には、層流条件下にて複数の被処理流動体の混合と、ナノ微粒子の析出が行なわれることが望ましい。
　この第２導入部ｄ２は方向性を持たせることができる。例えば、図３（Ａ）に示すように、上記の第２処理用面２の開口部ｄ２０からの導入方向が、第２処理用面２に対して所定の仰角（θ１）で傾斜している。この仰角（θ１）は、０度を超えて９０度未満に設定されており、さらに反応速度が速い反応の場合には１度以上４５度以下で設置されるのが好ましい。
　また、図３（Ｂ）に示すように、上記の第２処理用面２の開口部ｄ２０からの導入方向が、上記の第２処理用面２に沿う平面において、方向性を有するものである。この第２流体の導入方向は、処理用面の半径方向の成分にあっては中心から遠ざかる外方向であって、且つ、回転する処理用面間における流体の回転方向に対しての成分にあっては順方向である。言い換えると、開口部ｄ２０を通る半径方向であって外方向の線分を基準線ｇとして、この基準線ｇから回転方向Ｒへの所定の角度（θ２）を有するものである。この角度（θ２）についても、０度を超えて９０度未満に設定されることが好ましい。
　この角度（θ２）は、流体の種類、反応速度、粘度、処理用面の回転速度などの種々の条件に応じて、変更して実施することができる。また、第２導入部ｄ２に方向性を全く持たせないこともできる。
　上記の被処理流動体の種類とその流路の数は、図１の例では、２つとしたが、１つであってもよく、３つ以上であってもよい。図１の例では、第２導入部ｄ２から処理用面１，２間に第２流体を導入したが、この導入部は、第１処理用部１０に設けてもよく、双方に設けてもよい。また、一種類の被処理流動体に対して、複数の導入部を用意してもよい。また、各処理用部に設けられる導入用の開口部は、その形状や大きさや数は特に制限はなく適宜変更して実施し得る。また、上記第１及び第２の処理用面間１、２の直前或いはさらに上流側に導入用の開口部を設けてもよい。
　上記装置においては、析出・沈殿または結晶化のような反応が、図１に示すように、接近・離反可能に互いに対向して配設され、少なくとも一方が他方に対して回転する処理用面１、２の間で強制的に均一混合しながら起こる。銅フタロシアニン微粒子の粒子径や単分散度は処理用部１０、２０の回転数や流速及び処理用面間の距離や、原料濃度、分散媒体等を適宜調整することにより、制御することができる。
　以下に、本発明の銅フタロシアニン微粒子を生成する反応をより詳細に説明する。
　まず、一つの流路である第１導入部ｄ１より、第１流体として銅フタロシアニンに対して貧溶媒となる溶媒を含む流体を、接近・離反可能に互いに対向して配設され、少なくとも一方が他方に対して回転する処理用面１、２間に導入して、この処理用面間に第１流体から構成された薄膜流体を作る。
　次いで別流路である第２導入部ｄ２より、第２流体として、反応物である銅フタロシアニンを溶媒に溶解した銅フタロシアニン溶液を含む流体を、上記、第１流体から構成された薄膜流体に直接導入する。なお、上記の第１流体と第２流体のうち、少なくとも何れか一方に、後述する一般的に銅フタロシアニンをα型とは異なる結晶型に転移させることのできる有機溶媒を含むものとする。
　上記のように、流体の供給圧と回転する処理用面の間にかかる圧力との圧力バランスによって距離を固定された処理用面１、２間にて、第１流体と第２流体とが薄膜状態を維持したまま、瞬間的に混合され、銅フタロシアニン微粒子が生成する反応を行う事が出来る。
　なお、処理用面１、２間にて上記反応を行う事が出来れば良いので、上記とは逆に、第１導入部ｄ１より第２流体を導入し、第２導入部ｄ２より第１流体を導入するものであっても良い。つまり、各流体における第１、第２という表現は、複数存在する流体の第ｎ番目であるという、識別のための意味合いを持つに過ぎないものであり、第３以上の流体も存在し得る。
　第１流体と第２流体の組み合わせとしては、特に限定されないが、銅フタロシアニンを溶媒に溶解した銅フタロシアニン溶液を含む流体と、銅フタロシアニンに対して貧溶媒となる溶媒を含む流体であれば実施できる。銅フタロシアニンに対して貧溶媒となる溶媒とは、銅フタロシアニンを溶解した溶媒よりも銅フタロシアニンに対する溶解度の低い、貧溶媒と成り得る溶媒とする。
　前述のように、第１導入部ｄ１、第２導入部ｄ２以外に第３導入部ｄ３を処理装置に設けることもできるが、この場合にあっては、例えば各導入部から、第１流体、第２流体、第３流体として上記有機溶媒を含む流体をそれぞれ別々に処理装置に導入することが可能である。そうすると、各溶液の濃度や圧力を個々に管理することができ、析出反応及びナノ微粒子の粒子径の安定化をより精密に制御することができる。なお、各導入部へ導入する被処理流動体（第１流体～第３流体）の組み合わせは、任意に設定できる。第４以上の導入部を設けた場合も同様であって、このように処理装置へ導入する流体を細分化できる。この場合、上記の有機溶媒は、少なくとも上記の第３流体に含まれていればよく、上記の第１流体、上記の第２流体の少なくともいずれか一方に含まれていてもよく、上記第１流体及び第２流体の双方に含まれていなくてもよい。さらに、上記第１、第２流体等の被処理流動体の温度を制御したり、上記第１流体と第２流体等との温度差（即ち、供給する各被処理流動体の温度差）を制御することもできる。供給する各被処理流動体の温度や温度差を制御するために、各被処理流動体の温度（処理装置、より詳しくは、処理用面１，２間に導入される直前の温度）を測定し、処理用面１，２間に導入される各被処理流動体の加熱又は冷却を行う機構を付加して実施することも可能である。　
　例えば、銅フタロシアニンを溶解するための溶媒としては、特に限定されないが、例えば酸性水溶液の場合は硫酸、塩酸、硝酸、トリフルオロ酢酸、燐酸などを用いる事ができる。特に表面処理された銅フタロシアニン微粒子を作製する場合には、発煙硫酸や発煙硝酸などを用いる事が好ましい。その他、１－メチル－２－ピロリジノン、１、３－ジメチル－２－イミダゾリジノン、２－ピロリジノン、ε－カプロラクタム、ホルムアミド、Ｎ－メチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ－ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ－メチルアセトアミド、Ｎ、Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルプロパンアミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミドのようなアミド系溶媒やジメチルスルホキシド、ピリジン、又はこれらの混合物等を用いる事ができる。またその他、種々の有機溶媒にアルカリ又は酸の物質を加えた溶液に銅フタロシアニンを溶解したものを銅フタロシアニン溶液としても実施できる。前記有機溶媒に加えられるアルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドなどが挙げられる。酸としては、上記と同様に硫酸、塩酸、硝酸、トリフルオロ酢酸、燐酸などを挙げる事ができる。
　銅フタロシアニン微粒子を析出させるための貧溶媒となりうる溶媒としては、上記銅フタロシアニンを溶解した溶媒よりも、銅フタロシアニンに対する溶解度の低い溶媒を用いて実施できる。例えば、水、アルコール化合物溶媒、アミド化合物溶媒、ケトン化合物溶媒、エーテル化合物溶媒、芳香族化合物溶媒、二硫化炭素、脂肪族化合物溶媒、ニトリル化合物溶媒、スルホキシド化合物溶媒、ハロゲン化合物溶媒、エステル化合物溶媒、ピリジン化合物溶媒、イオン性液体溶媒、カルボン酸化合物溶媒、スルホン酸化合物溶媒、スルホラン系化合物溶媒などが挙げられる。これらの溶媒は単独で使用しても良く、これら２種以上の混合溶媒を用いても実施できる。
　上記の溶媒の内、一般的に銅フタロシアニンをα型とは異なる結晶型に転移させることのできる有機溶媒を、上記貧溶媒となりうる溶媒を含む流体もしくは上記銅フタロシアニン溶液を含む流体の何れか、またはその両方に少なくとも１種類含む事が好ましく、また、上記貧溶媒となりうる溶媒を含む流体とも上記銅フタロシアニン溶液を含む流体とも異なる第３の流体に含んでいてもよい。銅フタロシアニンをα型とは異なる結晶型に転移させることのできる有機溶媒としては、特に限定されないが、芳香族化合物溶媒、ケトン化合物溶媒、ハロゲン化合物溶媒、エーテル化合物溶媒、エステル化合物溶媒、脂肪族化合物溶媒やアルコール化合物溶媒などが挙げられる。その中でも、転移速度の速い、芳香族化合物溶媒、エーテル化合物溶媒、ケトン化合物溶媒、ハロゲン化合物溶媒が好ましく、芳香族化合物溶媒、エーテル化合物溶媒が特に好ましい。
　芳香族化合物溶媒としては、特に限定されないが、一例を挙げると、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、スチレン、クレゾール、クメン、ニトロベンゼン、安息香酸、サリチル酸、ナフタレンなどが挙げられる。
　エーテル化合物溶媒としては、特に限定されないが、一例を挙げると、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチオフェン、アニソール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、ジオキサン、炭酸プロピレンなどが挙げられる。
　ハロゲン化合物溶媒としては、特に限定されないが、一例を挙げると、ジクロロメタン、トリクロロメタン、パークロロエチレン、ブロモプロパン、クロロホルム、トリクロロエチレン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼンなどが挙げられる。
　ケトン化合物溶媒としては、特に限定されないが、一例を挙げると、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、DIBK(ジイソブチルケトン）、シクロヘキサノン、DAA（ジアセトンアルコール）などが挙げられる。
　エステル化合物溶媒としては、特に限定されないが、一例を挙げると、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸メトキシブチル、酢酸セロソルブ、酢酸アミル、酢酸ノルマルプロピル、酢酸イソプロピル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチルなどが挙げられる。
　アルコール化合物溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ－プロパノール、１－メトキシ－２－プロパノールなどが挙げられ、さらにｎ－ブタノールなどの直鎖アルコール、２－ブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール等の分枝状アルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール等の多価アルコールや、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。
　脂肪族化合物溶媒としては、例えば、ヘキサン、ペンタン、オクタン、シクロへキサンなどが挙げられる。
　さらに、銅フタロシアニン溶液を含む流体もしくは銅フタロシアニンに対して貧溶媒となる溶媒を含む流体、またはその両方に、ブロック共重合体や高分子ポリマー、界面活性剤などの分散剤を含んでもよい。また、上記の分散剤は上記銅フタロシアニン溶液を含む流体とも銅フタロシアニンに対して貧溶媒となる溶媒を含む流体とも異なる第３の流体に含まれていてもよい。
　界面活性剤及び分散剤としては顔料の分散用途に用いられる様々な市販品を使用できる。特に限定されないが、例えばドデシル硫酸ナトリウムやまたはネオゲンＲ－Ｋ（第一工業製薬製）のようなドデシルベンゼンスルホン酸系や、ソルスパース２００００ 、ソルスパース２４０００ 、ソルスパース２６０００ 、ソルスパース２７０００ 、ソルスパース２８０００ 、ソルスパース４１０９０ （以上、アビシア社製）、ディスパービック１６０ 、ディスパービック１６１ 、ディスパービック１６２ 、ディスパービック１６３、ディスパービック１６６ 、ディスパービック１７０ 、ディスパービック１８０ 、ディスパービック１８１ 、ディスパービック１８２ 、ディスパービック１８３ 、ディスパービック１８４ 、ディスパービック１９０ 、ディスパービック１９１ 、ディスパービック１９２ 、ディスパービック２０００ 、ディスパービック２００１ （以上、ビックケミー社製）、ポリマー１００ 、ポリマー１２０ 、ポリマー１５０ 、ポリマー４００ 、ポリマー４０１ 、ポリマー４０２ 、ポリマー４０３ 、ポリマー４５０ 、ポリマー４５１ 、ポリマー４５２ 、ポリマー４ ５３ 、ＥＦＫＡ －４６ 、ＥＦＫＡ －４７、ＥＦＫＡ －４８ 、ＥＦＫＡ －４９ 、ＥＦＫＡ－１５０１ 、ＥＦＫＡ －１５０２、ＥＦＫＡ －４５４０ 、ＥＦＫＡ －４５５０ （以上、ＥＦ ＫＡ ケミカル社製）、フローレンＤＯＰＡ －１５８ 、フローレンＤＯＰＡ －２２ 、フローレンＤＯＰＡ －１７ 、フローレンＧ －７００ 、フローレンＴＧ －７２０Ｗ 、フローレン－７３０Ｗ 、フローレン－７４０Ｗ 、フローレン－７４５Ｗ 、（以上、共栄社化学社製）、アジスパーＰＡ１１１ 、アジスパーＰＢ７１１ 、アジスパーＰＢ８１１ 、アジスパーＰＢ８２１ 、アジスパーＰＷ９１１ （以上、味の素社製）、ジョンクリル６７８ 、ジョンクリル６７９ 、ジョンクリル６２ （以上、ジョンソンポリマー社製）、アクアロンＫＨ-１０、ハイテノールＮＦ-１３（以上、第一工業製薬製）等を挙げることができる。これらは単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
　また、銅フタロシアニン微粒子に表面処理を行う場合について、以下に説明する。
　銅フタロシアニン微粒子の少なくとも表面に修飾基を導入することによる表面処理は、処理用面１、２間に導入される流体に表面修飾剤を含める事によって実施できる。上記表面修飾剤は、銅フタロシアニン溶液を含む流体（第１流体）か銅フタロシアニンに対して貧溶媒と成る溶媒を含む流体（第２流体）のいずれか、またはその両方に含まれていても良いし、上記銅フタロシアニン溶液を含む流体とも銅フタロシアニンに対して貧溶媒と成る溶媒を含む流体とも異なる第３の流体に含まれていても良い。また、第１流体及び第２流体の組み合わせとしては特に上記のものに限定されない。
　表面修飾基として少なくとも顔料表面に導入する修飾基の種類としては特に限定されず、表面処理の目的を分散性の向上を目的とする場合にあっては、例えば分散を目的とする溶媒や、分散剤種に応じて使い分ければ良い。例えば酸性基や塩基性基などの極性基、前記極性基の塩構造、酸素、硫黄等の極性の大きな原子および／または芳香環等が導入された分極率の大きな構造、水素結合性基、ヘテロ環、芳香環等を有する修飾基等が挙げられる。酸性基としては、水酸基（ヒドロキシ基）やスルホン酸基（スルホ基）、カルボン酸基、燐酸基、硼酸基等が挙げられる。塩基性基としてはアミノ基等が挙げられる。水素結合性基としては、ウレタン部位、チオウレタン部位、尿素部位、チオ尿素部位等が挙げられる。
　表面処理の目的を分散性の向上以外とする場合、例えば、銅フタロシアニン微粒子の表面を撥水性、親油性、または親有機溶媒性とする場合には、上記第１流体若しくは第２流体、またはその両方に親油性官能基を含む表面修飾剤を含む事によって処理用面１、２間より吐出される銅フタロシアニン微粒子の表面に修飾基として親油性官能基を導入し、親油性処理する事ができる。また、上記表面修飾剤は上記第１流体とも上記第２流体とも異なる第３の流体に含まれていてもよい。
　銅フタロシアニン微粒子の表面に表面修飾剤として樹脂を付加する処理を施す場合には、上記第１流体若しくは第２流体、またはその両方に樹脂を含む物質を含む事によって処理用面１、２間より吐出される銅フタロシアニン微粒子の表面の少なくとも一部を樹脂で覆い、例えば親水性処理する事ができる。また、上記樹脂は上記第１流体とも上記第２流体とも異なる第３の流体に含まれていてもよい。
　上記の表面処理は、上記のように、銅フタロシアニン微粒子の表面修飾を処理用面１、２間で行う場合に限らず、銅フタロシアニン微粒子が処理用面１、２間より吐出された後でも実施できる。その場合には、上記の銅フタロシアニン微粒子の表面処理を目的として使用される物質を、銅フタロシアニン微粒子を含む流体が処理用面１、２間から吐出された後、その吐出液に加え、攪拌などの操作により銅フタロシアニン微粒子の表面処理を行う事ができる。また、銅フタロシアニン微粒子を含む流体が吐出された後、透析チューブなどにより、その銅フタロシアニン微粒子を含む流体から不純物を除去してから表面処理を目的とする物質を加えても実施できる。また、処理用面１、２間から吐出された銅フタロシアニン微粒子を含む流体の液体成分を乾燥して銅フタロシアニン微粒子粉体としてから上記表面処理を行う事ができる。具体的には得られた銅フタロシアニン微粒子粉体を目的の溶媒に分散し、上記の表面処理を目的とする物質を加えて攪拌などの処理を施して実施できる。
　本発明における銅フタロシアニン微粒子の製造方法（強制超薄膜回転式反応法）は、その微小流路のレイノルズ数を自由に変化させる事が可能であるため、粒子径、粒子形状、結晶型など、目的に応じて単分散で再分散性の良い銅フタロシアニン微粒子が作成出来る。しかもその自己排出性により、析出を伴う反応の場合であっても生成物の詰まりも無く、大きな圧力を必要としない。ゆえに、安定的に銅フタロシアニン微粒子を作製でき、また安全性に優れ、不純物の混入もほとんど無く、洗浄性も良い。さらに目的の生産量に応じてスケールアップ可能であるため、その生産性も高い銅フタロシアニン微粒子の製造方法を提供可能である。
　本発明に係る銅フタロシアニン顔料は青色のものであり、用途として、塗料、インクジェット用インク、熱転写用インク、トナー、着色樹脂、カラーフィルターなど様々な用途に利用可能である。
　以下本発明について、本願出願人による、特許文献３に記載されたものと同原理である装置を用いて、結晶型がα型とは異なる銅フタロシアニン微粒子であり、且つ３８０～７８０ｎｍにおける吸収スペクトル形状がα型のスペクトル形状である銅フタロシアニン微粒子並びに３８０～７８０ｎｍにおける透過スペクトルの透過率が最大となる波長（λmax）が４７８ｎｍ未満である銅フタロシアニン微粒子を製造した実施例を示す。しかし、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
　図１に示す、接近・離反可能に互いに対向して配設され、少なくとも一方が他方に対して回転する処理用面１、２の間にできる、薄膜流体中で均一に攪拌・混合する装置を用いて、銅フタロシアニンを溶媒に溶解した銅フタロシアニン溶液と銅フタロシアニンに対して貧溶媒となる溶媒とを混合し、薄膜流体中で銅フタロシアニン微粒子を析出させる。その際、上記の銅フタロシアニン溶液と銅フタロシアニンに対して貧溶媒となる溶媒のうち、少なくとも何れか一方に一般的に銅フタロシアニンをα型とは異なる結晶型に転移させることのできる有機溶媒を含むものとする。　
　尚、以下の実施例において、「中央から」というのは、前述した、図１に示す処理装置の「第１導入部ｄ１から」という意味であり、第１流体は、前述の第１被処理流動体を指し、第２流体は、上述した、図１に示す処理装置の第２導入部ｄ２から導入される前述の第２被処理流動体を指す。また、ここでの「部」は「重量部」のことである。
（体積平均粒子径）
　粒度分布は、ナノトラック粒度分布測定装置　 ＵＰＡ-ＵＴ151（日機装株式会社製）を用いて測定し、体積平均粒子径を採用した。
（粉末Ｘ線回折：ＸＲＤ）
　Ｘ線回折測定にはPANalytical社製の全自動多目的Ｘ線回折装置（Ｘ‘Pert PRO MPD）を用いた。回折角２θ＝５～６０°の範囲での回折強度を測定した。
（吸収・透過スペクトル）
　吸収または透過スペクトルは島津製作所製の紫外可視分光光度計（ＵＶ－２４５０）を用いて３８０ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域を測定した。本発明における、銅フタロシアニンの吸収スペクトルがα型であるという特性は、一般的なα型の銅フタロシアニンの吸収スペクトル形状と同様であることを評価基準とした。上述の通り、本発明に係る銅フタロシアニンにおいて、その吸収スペクトル形状がα型であるとは、３８０ｎｍ～７８０ｎｍの波長領域において、６００±１５ｎｍ及び６８０±１５ｎｍの領域にピークを持つ吸収スペクトル形状とする。　
（実施例１～６）
　実施例１として、中央から第１流体として25℃のｍ－キシレンとエチレンジアミンの混合溶媒を、供給圧力=０．３０ＭＰａＧ、回転数１７００ｒｐｍで送液しながら、第２流体として、結晶型がβ型（結晶型は粉末Ｘ線回折で確認）である銅フタロシアニンをトリフルオロ酢酸とジクロロメタンの混合溶媒に溶解した銅フタロシアニン溶液を処理用面１、２間に導入した。銅フタロシアニン微粒子分散液が処理用面１，２間より吐出された。吐出された銅フタロシアニン微粒子を緩く凝集させ、遠心分離（×２６０００Ｇ）にて沈降させた。遠心分離処理後の上澄み液を除去し、純水及びイソプロピルアルコールの混合溶媒を加えて銅フタロシアニン微粒子を再度浮上させた後、再度遠心分離を繰り返して、銅フタロシアニン微粒子の洗浄を行った。最終的に得られた銅フタロシアニン微粒子のペーストを３０℃、－０．１ＭＰａＧにて真空乾燥した。乾燥後の銅フタロシアニン微粒子粉末のＸＲＤ測定を行った。さらにｍ－キシレンに分散剤としてディスパービックＢＹＫ―２１４６（ビックケミー社製）を溶解した溶液に分散処理した。分散処理した銅フタロシアニン微粒子の分散液について、溶媒にｍ－キシレンを用いて粒度分布測定を行った。また、銅フタロシアニン微粒子のｍ－キシレン分散液の一部をｍ－キシレンを用いて希釈し、銅フタロシアニン濃度０．００５ｗｔ％の分散液の透過スペクトル、並びに０．００１ｗｔ％の分散液の吸収スペクトルを測定した。
　実施例２～６において、表１に示すように、第１流体と第２流体の種類、回転数、送液温度（それぞれの流体が処理装置に導入される直前の温度）並びに導入速度（流量）（単位：ml/min.）を変更して実施した。本実施例（実施例１～６）においては、銅フタロシアニンに対して貧溶媒となる溶媒として、一般的に銅フタロシアニンをα型とは異なる結晶型に転移させることのできる有機溶媒を用いている。図４に、実施例１において作製された銅フタロシアニン微粒子分散液の吸収スペクトル（実線）を、図５に、実施例１において作製された銅フタロシアニン微粒子分散液の透過スペクトル（実線）を示し、図６～図８に、実施例１（図６）、実施例６（図７）、実施例５（図８）においてそれぞれ作製された銅フタロシアニン微粒子の粉末Ｘ線回折スペクトルを示す。各実施例において作製された銅フタロシアニン微粒子分散液のスペクトル形状を比較するために、本願出願人によって特許文献３において提供された、結晶型がα型で、且つ３８０～７８０ｎｍにおける透過スペクトルの透過率が最大となる波長（λmax）が４７８ｎｍ未満である銅フタロシアニンを含有してなる銅フタロシアニン顔料についての吸収スペクトル（実線に白丸）並びに透過スペクトル（実線に白丸）を、図４～図５に示す。また、実施例１～６において作製された銅フタロシアニン微粒子またはその銅フタロシアニン微粒子の分散液の、ＸＲＤ測定結果、体積平均粒子径、３８０～７８０ｎｍにおける透過スペクトルの透過率が最大となる波長（λmax）、３８０～７８０ｎｍにおける吸収スペクトル形状並びに３８０～７８０ｎｍにおける吸収スペクトルのピーク位置を示す波長を表１に示す。また、実施例１において作製された銅フタロシアニン微粒子のＴＥＭ写真を図９に示す。得られた銅フタロシアニン微粒子の形状が、略球形状である事がわかる。表１、図４～図８に見られるように、本発明において、結晶型がα型と異なる結晶型で、且つ３８０～７８０ｎｍにおける吸収スペクトルがα型の吸収スペクトル形状である銅フタロシアニン微粒子を含有してなる銅フタロシアニン顔料、また、α型およびε型の２種の型とは異なる結晶型で、且つ３８０～７８０ｎｍにおける透過スペクトルの透過率が最大となる波長（λmax）が４７８ｎｍ未満である銅フタロシアニン微粒子を含有してなる銅フタロシアニン顔料並びに上記銅フタロシアニン微粒子の製造方法が提供された。つまり、α型とは異なる結晶型であるが、特許文献３によって提案されたα型と同等の分光特性を有し、かつα型よりも耐溶剤性に優れる銅フタロシアニン微粒子を少なくとも１種類含有してなる銅フタロシアニン顔料及び上記銅フタロシアニン微粒子の製造方法を提供することができた。また、上記銅フタロシアニン顔料を構成する銅フタロシアニン微粒子の体積平均粒子径が１～６００ｎｍであり、α型とは異なる結晶型を有し、かつ粒子径を制御した銅フタロシアニン微粒子を作製することができたことから、目的とする色調や着色力等の色特性の発現が期待できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　　１　　　第１処理用面
　　２　　　第２処理用面
　　１０　　第１処理用部
　　１１　　第１ホルダ
　　２０　　第２処理用部
　　２１　　第２ホルダ
　　２３　　離反用調整面
　　ｄ１　　第１導入部
　　ｄ２　　第２導入部
　　ｄ２０　開口部
　　ｐ　　　流体圧付与機構 

Claims (15)

  1. 　α型とは異なる結晶型であり、
    且つ、３８０～７８０ｎｍにおける吸収スペクトルがα型の吸収スペクトル形状である銅フタロシアニン微粒子を、少なくとも１種類含有してなる銅フタロシアニン顔料。
  2. 　α型とは異なる結晶型であり、
    且つ、３８０～７８０ｎｍにおける吸収スペクトルにおいて、６００±１５ｎｍ及び６８０±１５ｎｍの領域にピークを持つ銅フタロシアニン微粒子を、少なくとも１種類を含有してなる銅フタロシアニン顔料。
  3. 　上記α型とは異なる結晶型がβ型、γ型、およびε型の３種の型のいずれかの結晶型である銅フタロシアニン微粒子を、少なくとも１種類含有することを特徴とする請求項１又は２に記載の銅フタロシアニン微粒子を含有してなる銅フタロシアニン顔料。
  4. 　α型およびε型の２種の型とは異なる結晶型であり、
    且つ、３８０～７８０ｎｍにおける透過スペクトルの透過率が最大となる波長（λmax）が４７８ｎｍ未満である銅フタロシアニン微粒子を、少なくとも１種類含有してなる銅フタロシアニン顔料。
  5. 上記のα型およびε型の２種の型とは異なる結晶型が、β型およびγ型の２種の型のいずれかの結晶型である銅フタロシアニン微粒子を、少なくとも１種類含有することを特徴とする請求項４に記載の銅フタロシアニン微粒子を含有してなる銅フタロシアニン顔料。
  6. 　接近・離反可能、且つ相対的に変位する処理用面の間に被処理流動体を供給し、
    当該被処理流動体の供給圧と回転する処理用面の間にかかる圧力とを含む接近方向への力と離反方向への力との圧のバランスによって処理用面間の距離を微小間隔に維持し、
    この微小間隔に維持された２つの処理用面間を被処理流動体の流路とすることによって、被処理流動体が薄膜流体を形成し、
    この薄膜流体中において微粒子として、上記銅フタロシアニン微粒子が生成されたものであることを特徴とする、請求項１，２，４の何れかに記載の銅フタロシアニン微粒子を含有してなる銅フタロシアニン顔料。
  7. 　上記銅フタロシアニン微粒子の形状が略球状であることを特徴とする、請求項１，２，４の何れかに記載の銅フタロシアニン微粒子を含有してなる銅フタロシアニン顔料。
  8. 　上記銅フタロシアニン微粒子の体積平均粒子径が１～６００ｎｍであることを特徴とする、請求項７に記載の銅フタロシアニン微粒子を含有してなる銅フタロシアニン顔料。
  9. 　請求項１，２，４の何れかに記載の銅フタロシアニン微粒子を生成させる方法であって、
    接近・離反可能、且つ相対的に変位する処理用面の間に被処理流動体を供給し、
    当該被処理流動体の供給圧と回転する処理用面の間にかかる圧力とを含む接近方向への力と離反方向への力との圧のバランスによって処理用面間の距離を微小間隔に維持し、
    この微小間隔に維持された２つの処理用面間を被処理流動体の流路とすることによって、被処理流動体が薄膜流体を形成し、
    この薄膜流体中において上記銅フタロシアニン微粒子の析出を行うことを特徴とする銅フタロシアニン微粒子の製造方法。
  10. 　少なくとも２種類の被処理流動体を用いるものであり、
    そのうちで少なくとも１種類の被処理流動体は、銅フタロシアニンを溶媒に溶解した銅フタロシアニン溶液であり、
    上記以外の流体で少なくとも１種類の被処理流動体は、銅フタロシアニンに対して貧溶媒となる溶媒であり、
    上記銅フタロシアニン溶液と上記銅フタロシアニンに対して貧溶媒となる溶媒の内、少なくともいずれか一方の被処理流動体は少なくとも１種類の有機溶媒を含むものであり、
    上記の被処理流動体を上記薄膜流体中で混合することを特徴とする請求項９に記載の銅フタロシアニン微粒子の製造方法。
  11. 　第１、第２、第３の少なくとも３種類の被処理流動体を用いるものであり、
    上記第１の被処理流動体は、銅フタロシアニンを溶媒に溶解した銅フタロシアニン溶液であり、
    上記第２の被処理流動体は、銅フタロシアニンに対して貧溶媒となる溶媒であり、
    上記第３の被処理流動体は、少なくとも１種類の有機溶媒を含むものであり、
    上記全ての被処理流動体を上記薄膜流体中で混合することを特徴とする請求項９に記載の銅フタロシアニン微粒子の製造方法。
  12. 　上記有機溶媒が、芳香族化合物溶媒、ケトン化合物溶媒、エーテル化合物溶媒、ハロゲン化合物溶媒のうち少なくとも１種類を含む事を特徴とする請求項１０又は１１に記載の銅フタロシアニン微粒子の製造方法。
  13. 　上記の被処理流動体に圧力を付与する流体圧付与機構と、
    第１処理用部、及び、この第１処理用部に対して接近・離反可能な第２処理用部の、少なくとも２つの処理用部と、
    上記の第１処理用部と第２処理用部とを相対的に回転させる回転駆動機構とを備え、
    上記の各処理用部において互いに対向する位置に、第１処理用面、及び第２処理用面の、上記少なくとも２つの処理用面が設けられており、
    上記の各処理用面は、上記の圧力が付与された被処理流動体が流される、密封された流路の一部を構成するものであり、
    上記第１処理用部と第２処理用部のうち、少なくとも第２処理用部は受圧面を備えるものであり、且つ、この受圧面の少なくとも一部が上記の第２処理用面により構成され、
    この受圧面は、上記の流体圧付与機構が被処理流動体に付与する圧力を受けて第１処理用面から第２処理用面を離反させる方向に移動させる力を発生させ、
    接近・離反可能、且つ相対的に回転する第１処理用面と第２処理用面との間に上記の圧力が付与された被処理流動体が通されることにより、上記被処理流動体が上記薄膜流体を形成し、
    この薄膜流体中において上記銅フタロシアニン微粒子の析出を行うことを特徴とする、請求項９に記載の銅フタロシアニン微粒子の製造方法。
  14. 　一種の被処理流動体が上記第１処理用面と第２処理用面との間に通され、
    上記の一種の被処理流動体とは異なる他の一種の被処理流動体が通される独立した別途の導入路を備え、この導入路に通じる少なくとも一つの開口部が上記第１処理用面と第２処理用面の少なくとも何れか一方に設けられ、
    この導入路から上記の他の一種の被処理流動体を、上記両処理用面間に導入し、
    上記一種の被処理流動体と他の一種の被処理流動体とを、上記薄膜流体中で混合することを特徴とする、請求項１３に記載の銅フタロシアニン微粒子の製造方法。
  15. 　上記被処理流動体の混合が、上記の一種の被処理流動体の流れが上記両処理用面間で層流となる点よりも下流側に上記開口部を設置し、上記開口部から上記の他の一種の被処理流動体を導入してなされることを特徴とする、請求項１４に記載の銅フタロシアニン微粒子の製造方法。
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