WO2011090140A1 - 導電性要素、導電性要素形成用感光材料および電極 - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to a conductive element, a photosensitive material for forming a conductive element, and an electrode.
- conductive elements by various manufacturing methods have been studied.
- a conductive element produced using a photosensitive material for forming a conductive element which has a silver salt-containing layer such as a silver halide emulsion layer on a support.
- the photosensitive material is pattern-exposed in a mesh shape and developed to produce a conductive element having a mesh conductive portion made of developed silver and an opening for ensuring transparency (for example, a special element).
- a conductive element one using a conductive fiber is also known (see, for example, JP 2009-277466 A and JP 2009-116452 A).
- this conductive element is used as an electromagnetic shielding film, an organic EL element (herein, “EL” is an abbreviation for “electroluminescence”), an inorganic EL element electrode, an electrochromic element electrode, and other various electrodes. Attempts to use were unsatisfactory in conductivity.
- An object of the present invention is to provide a conductive element having high conductivity. Another object of the present invention is to provide a photosensitive material for forming a conductive element suitable for producing a conductive element having high conductivity. Another object of the present invention is to provide an electrode having high conductivity. Still another object of the present invention is to provide a method for producing a conductive element having high conductivity.
- the present inventor has found that long-term durability is insufficient when granular particles are used as the conductive fine particles.
- agglomeration is likely to occur and productivity is reduced. Therefore, the present inventor can further suppress the aggregation of the conductive fine particles by further using the sucrose fatty acid ester in combination with the acicular conductive fine particles, and further improve the durability against long-term use. The present inventors have found that this can be done and have completed the present invention.
- the first support, the metal pattern layer made of a conductive metal, the average axis length is 0.2 to 20 ⁇ m in the long axis, and 0.01 to 0 in the short axis.
- this invention provides the electroconductive element which has a support body and the electroconductive fine particle content layer containing an acicular electroconductive fine particle, a binder, and a sucrose fatty acid ester in a 2nd aspect.
- the present invention provides a conductive element forming method comprising a support, a silver salt-containing layer, and a conductive fine particle-containing layer containing acicular conductive fine particles, a binder, and a sucrose fatty acid ester.
- a photosensitive material is provided.
- the present invention provides, in the fourth aspect, a metal pattern layer composed of a conductive metal, a conductive fine particle-containing layer containing acicular conductive fine particles, a binder and a sucrose fatty acid ester, and the conductive fine particles.
- An electrode having an energized layer adjacent to a containing layer is provided.
- the present invention is the fifth aspect, wherein the conductive element-forming photosensitive material is subjected to pattern exposure and development processing to obtain a metal pattern layer composed of metallic silver, and the conductive fine particle-containing layer.
- a method of manufacturing a conductive element for preparing a conductive element having the conductive element is provided.
- the content ratio of sucrose fatty acid ester / needle-like conductive fine particles is 10 to 50% by mass, and the content of sucrose fatty acid ester contained in the conductive fine particle-containing layer.
- the amount is preferably 0.5 g / m 2 or less.
- the conductive fine particles are at least one metal oxide selected from the group consisting of SnO 2 , ZnO, TiO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , MgO, BaO and MoO 3 , and a composite metal oxide thereof.
- the metal oxide is SnO 2 doped with antimony, the inclusion of conductive fine particles contained in the conductive fine particle-containing layer The amount is preferably 0.05 g / m 2 to 0.99 g / m 2 .
- a conductive element having high conductivity a method for producing the same, and a photosensitive material for forming a conductive element suitable for obtaining the conductive element.
- the present invention provides a support, a metal pattern layer composed of a conductive metal, an average axis length of 0.2 to 20 ⁇ m in the major axis, 0.01 to 0.02 ⁇ m in the minor axis, and an aspect ratio of 20 or more. It is a conductive element having certain acicular conductive fine particles, a binder and a conductive fine particle-containing layer containing a sucrose fatty acid ester.
- the present invention provides a conductive element having a support and a conductive fine particle-containing layer containing acicular conductive fine particles, a binder, and a sucrose fatty acid ester, as well as a support, a silver salt-containing layer, and an acicular shape.
- a photosensitive element forming photosensitive material having conductive fine particles, a binder, and a conductive fine particle-containing layer containing a sucrose fatty acid ester.
- a numerical range described using “to” means a range including the numerical values described before and after “to” as the minimum value and the maximum value, respectively.
- Examples of the support used in the conductive element of the present invention include a plastic film, a plastic plate, and a glass plate.
- PET polyethylene terephthalate
- PEN polyethylene naphthalate
- PE polyethylene
- PP polypropylene
- TAC triacetyl cellulose
- PET is particularly preferable from the viewpoints of light transmittance and processability.
- the thickness of the support is selected from the range of 10 ⁇ m to 200 ⁇ m, more preferably from the range of 70 ⁇ m to 180 ⁇ m.
- the transparency of the support is preferably high.
- the total visible light transmittance of the support is preferably 70% or more, more preferably 85% or more, and particularly preferably 90% or more.
- a colored support can also be used.
- the metal pattern layer used for the conductive element of the present invention is composed of a conductive metal.
- the conductive metal any metal exhibiting conductivity can be used.
- the conductive metal copper, aluminum, silver or the like is preferable because of its excellent conductivity.
- the conductive metal may be composed of a single metal or an alloy.
- the metal which comprises a metal pattern may be a laminated structure of 2 or more types of metals, when it sees in the cross section of a surface perpendicular
- the metal pattern layer is composed of fine lines, and the pattern shape includes meshes and stripes.
- the line width of the fine line (that is, the maximum length in the direction parallel to the plane of the conductive element in the cross section of the plane perpendicular to the direction in which the fine line extends) is preferably 30 ⁇ m or less, and preferably 0.5 to 20 ⁇ m. More preferred. Further, the line thickness of the thin line (that is, the maximum length in the direction perpendicular to the line width) is generally selected from the range of 0.1 ⁇ m to 5 ⁇ m, and more preferably selected from the range of 1 ⁇ m to 3 ⁇ m. It is. From the viewpoint of improving the conductivity, it is preferable that the thin wire has a larger thickness.
- the metal pattern layer is formed, for example, by the method described in (1) to (4) below.
- a photosensitive material having an emulsion layer containing photosensitive silver halide on a support is subjected to pattern exposure and subjected to development treatment, whereby a metallic silver portion corresponding to the above pattern and light are exposed to an exposed portion and an unexposed portion, respectively.
- a method of forming a metal pattern layer by forming a transparent portion. Further, a conductive metal may be supported on the metal silver portion by further subjecting the metal silver portion to physical development and / or plating treatment.
- a method of forming a metal pattern layer by exposing and developing a photoresist film on a copper foil formed on a support to form a resist pattern, and etching the copper foil exposed from the resist pattern.
- a metal pattern layer is printed on a support by a screen printing plate or a gravure printing plate.
- a catalyst layer (containing a catalyst) corresponding to the metal pattern layer is first formed, and then metal plating is performed on the catalyst layer, whereby the metal pattern layer can be formed. Can be improved.
- acicular conductive fine particles are used as the conductive fine particles used in the conductive fine particle-containing layer.
- the acicular conductive fine particles have a minor axis length of 0.01 ⁇ m to 0.02 ⁇ m, and the aspect ratio between the major axis length and the minor axis length is preferably 10 or more.
- the needle-like conductive fine particles preferably have an average axis length of 0.2 to 20 ⁇ m for the major axis and 0.01 to 0.02 ⁇ m for the minor axis.
- the aspect ratio between the major axis and the minor axis is preferably 20 or more, more preferably 20 to 2000, and further preferably 20 to 50.
- the powder resistance is preferably 3 ⁇ cm to 1000 ⁇ cm, more preferably 100 ⁇ cm to 600 ⁇ cm.
- the average major axis length, average minor axis length, and aspect ratio of the acicular conductive fine particles are calculated from the body surface average diameter measured by the image analyzer.
- the conductive fine particles are further different from metal oxides such as SnO 2 , ZnO, TiO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , MgO, BaO, and MoO 3 , these composite oxides, and these metal oxides.
- the thing containing the compound chosen from the group which consists of a metal oxide containing an atom can be mentioned.
- An example of the heteroatom is antimony.
- Such conductive fine particles may be used in combination of two or more.
- the conductive fine particles preferably include SnO 2 , ZnO, TiO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 or MgO in terms of conductivity, and more preferably include SnO 2 .
- the conductive is most preferred, particularly including the SnO 2 antimony-0.2-2.0 mol% dope.
- the conductive fine particles having the above-mentioned characteristics FS series manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. or conductive materials manufactured by Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd. can be used.
- FS-10D manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. is preferable.
- the conductive fine particle-containing layer contains a sucrose fatty acid ester as a surfactant.
- the sucrose fatty acid ester is preferably contained at a content ratio of sucrose fatty acid ester / acicular conductive fine particles of 10 to 50% by mass, and more preferably 10 to 30% by mass. As the content ratio becomes lower than 10% by mass, aggregation of acicular conductive fine particles is likely to occur, and when used as an electrode of an EL element, a defect appears in the display portion. On the other hand, as the content ratio exceeds 50% by mass, the surface resistance of the conductive element decreases.
- the content of the sucrose fatty acid ester contained in the conductive fine particle-containing layer is preferably 0.5 g / m 2 or less, and more preferably 0.3 g / m 2 or less. As the content exceeds 0.5 g / m 2 , the surface resistance of the conductive element decreases.
- the concentration of the sucrose fatty acid ester is preferably 20% by mass or less, and preferably 10% by mass or less.
- Sucrose fatty acid esters include sucrose monofatty acid esters, sucrose difatty acid esters, and sucrose trifatty acid esters, but sucrose monofatty acid esters are more preferred, and the fatty acid moiety includes lauric acid, palmitic acid, stearin Acid and oleic acid are preferred.
- the sugar residue is sucrose
- the alkyl group or alkenyl group is preferably a lauryl group, myristyl group, palmityl group, stearyl group, oleyl group or the like.
- Specifically preferred sucrose monofatty acid esters are sucrose monolaurate and sucrose monostearate, and sucrose monolaurate is particularly preferred. These sucrose fatty acid esters are commercially available from Wako Pure Chemical Industries.
- the amount of the binder in the conductive fine particle-containing layer is preferably small, and is preferably 1 g / m 2 or less. Binder amount of the conductive fine particle-containing layer is preferably 0.5 g / m 2 or less, 0.1 g / m 2 or less is more preferable. Thereby, the electroconductive element which has high electroconductivity is obtained.
- the binder contained in the conductive fine particle-containing layer is preferably selected from those having a function of uniformly dispersing the conductive fine particles in the conductive fine particle-containing layer and fixing the conductive layer to the support surface.
- a binder both a water-insoluble polymer and a water-soluble polymer can be used as a binder, but it is preferable to use a water-soluble polymer.
- water-soluble polymer examples include, for example, gelatin, polyvinyl alcohol (PVA), polyvinyl pyrrolidone (PVP), starch and other polysaccharides, cellulose and derivatives thereof, polyethylene oxide, polysaccharides, polyvinylamine, chitosan, polylysine, Polyacrylic acid, polyalginic acid, polyhyaluronic acid, carboxycellulose and the like are included. These have neutral, anionic, and cationic properties depending on the ionicity of the functional group.
- PVA polyvinyl alcohol
- PVP polyvinyl pyrrolidone
- starch other polysaccharides, cellulose and derivatives thereof, polyethylene oxide, polysaccharides, polyvinylamine, chitosan, polylysine
- Polyacrylic acid, polyalginic acid, polyhyaluronic acid, carboxycellulose and the like have neutral, anionic, and cationic properties depending on the ionicity of the functional group.
- Gelatin may be chemically modified gelatin such as acetylation, deamination, benzoylation, dinitrophenylation, trinitrophenylation, carbamylation, phenylcarbamylation, succinylation, succination, phthalation.
- gelatin and the like there are gelatin and the like. Among these, the case where phthalated gelatin is used is preferable. When phthalated gelatin is used, it is possible to achieve both improved conductivity and improved coated surface.
- gelatin is particularly preferable as the binder.
- the conductive fine particle-containing layer can contain latex in addition to the surfactant.
- a latex examples include polymer latexes such as polylactic acid esters, polyurethanes, polycarbonates, polyesters, polyacetals, SBRs, and polyvinyl chlorides.
- polymer latexes described in JP-A-2009-79166 can be used alone or in combination.
- the latex is particularly preferably a polymer latex including polymer particles made of an acrylate-styrene copolymer or a styrene-butadiene copolymer.
- the conductive element according to the present invention may further include a protective layer / adhesion imparting layer on the conductive fine particle-containing layer.
- This protective layer / adhesion imparting layer contains a binder used for the conductive fine particle-containing layer.
- This layer can contain a latex in the same manner as the conductive fine particle-containing layer, and a polymer latex containing polymer particles composed of an acrylate-styrene copolymer or styrene-butadiene is particularly preferable.
- Conductive fine particle-containing layer the amount of the conductive fine particles that is provided to be in the range of 0.05g / m 2 ⁇ 0.99g / m 2, conductive, preferable from the viewpoint of transparency.
- the lower limit is more preferably 0.1 g / m 2, more preferably 0.2g / m 2, 0.3g / m 2 is particularly preferred.
- the upper limit is preferably 0.5 g / m 2 .
- the metal pattern layer and the conductive fine particle-containing layer are preferably arranged adjacent to each other so that electrons flow between the conductive metal and the conductive fine particles constituting the metal pattern.
- it is set as the order of a metal pattern layer and a conductive fine particle content layer from the side near a support body.
- An undercoat layer may be provided between the support and the metal pattern layer or the conductive fine particle-containing layer for the purpose of ensuring sufficient adhesion between them.
- the surface of the conductive element on the side having the metal pattern layer and the conductive fine particle-containing layer may have a protective layer for the purpose of preventing damage to the conductive fine particle-containing layer.
- the undercoat layer is a layer containing a polymer binder as a constituent component.
- the undercoat layer is set as a layer which uses a polymer binder as a protective layer as a protective layer.
- the polymer binder used for the undercoat layer or the protective layer include the binders used for the conductive fine particle-containing layer described above.
- the protective layer preferably contains silica.
- the content of silica is, 0.16 g / m 2 or more preferably, 0.24 g / m 2 or more is more preferable.
- the content of silica is more preferably not more than 0.5g / m 2, 0.4g / m 2 or less is more preferred.
- colloidal silica colloidal silica (colloidal silica) is preferably used.
- Colloidal silica refers to a colloid of silicic acid fine particles having an average particle diameter of 1 nm or more and 1 ⁇ m or less, and is described in JP-A-53-112732, JP-B-57-009051, JP-A-57-51653, and the like. You can refer to what is being done.
- These colloidal silicas can be prepared and used by a sol-gel method, or commercially available products can be used. When using a commercially available product, SNOWTEX-XL (average particle size 40-60 nm), SNOWTEX-YL (average particle size 50-80 nm), SNOWTEX-ZL (average particle size 70) manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.
- PST-2 average particle size 210 nm
- MP-3020 average particle size 328 nm
- Snowtex 20 average particle size 10 to 20 nm, SiO 2 / Na 2 O> 57
- Snowtex 30 average Particle size 10-20 nm, SiO 2 / Na 2 O> 50
- Snowtex C average particle size 10-20 nm, SiO 2 / Na 2 O> 100
- Snowtex O average particle size 10-20 nm, SiO 2 / Na 2 O> 500
- All trade names can be preferably used (all trade names.
- colloidal silica examples include colloidal silica having an elongated shape having a thickness of 1 to 50 nm and a length of 10 to 1000 nm described in JP-A-10-268464, JP-A-9-218488, or JP-A-10-111544. Also, composite particles of colloidal silica and organic polymer described in the above publication can be preferably used.
- the metal pattern layer has a square opening
- the width of the opening (one side of the square) is X (unit: ⁇ m)
- the surface resistance of the opening is Y (unit: ⁇ / ⁇ )
- the Y is more preferably formed to satisfy the following (b1), more preferably the following (b2).
- the mesh line width D is preferably as narrow as possible because high transparency is secured. Generally, it is preferably 30 ⁇ m or less, more preferably 20 ⁇ m or less, and even more preferably 15 ⁇ m or less.
- the line width is preferably 0.5 ⁇ m or more, and more preferably 3 ⁇ m or more.
- the ratio of the line width D / the width X of the opening, that is, the line / space is preferably 5/995 to 10/595.
- the width X of the opening of the metal mesh is 50 ⁇ m to 7,000 ⁇ m, more preferably 100 ⁇ m to 5,000 ⁇ m, and even more preferably 200 to 2,000 ⁇ m.
- the conductive element according to the present invention is a patterned conductive material for forming a conductive element having a support, a silver salt-containing layer, and a conductive fine particle-containing layer containing acicular conductive fine particles, a binder, and a sucrose fatty acid ester.
- a conductive element precursor having a metal pattern layer containing a metal pattern composed of a conductive fine particle-containing layer containing acicular conductive fine particles, a binder, and a sucrose fatty acid ester is formed on the metal pattern layer.
- a conductive element is formed having a support, a silver salt-containing layer, and a conductive fine particle-containing layer containing acicular conductive fine particles, a binder, and a sucrose fatty acid ester.
- Photosensitive material (a) (hereinafter also referred to as “photosensitive material (a)”) is used, and in the production method (b), a photosensitive element forming photosensitive material having a support and a silver salt-containing layer is used.
- the material (b) hereinafter also referred to as “photosensitive material (b)” is used.
- the support described above for the conductive element support is used as the support.
- silver salt-containing layer examples include inorganic silver salts such as silver halide and organic silver salts such as silver acetate. In the present invention, it is preferable to use silver halide having excellent characteristics as an optical sensor.
- the silver halide preferably used in the present invention will be described.
- a silver halide having excellent characteristics as an optical sensor it is preferable to use a silver halide having excellent characteristics as an optical sensor, and the silver halide is used as a silver halide emulsion dispersed and contained as particles in a binder as a protective colloid.
- Techniques used in silver halide photographic films, photographic papers, printing plate making films, photomask emulsion masks, etc. relating to silver halide emulsions can also be used in the present invention.
- the halogen element contained in the silver halide may be any of chlorine, bromine, iodine and fluorine, or a combination thereof.
- a binder in the silver halide emulsion layer (silver salt-containing layer), a binder can be used for the purpose of uniformly dispersing silver salt grains and assisting the adhesion between the emulsion layer and the support.
- both the water-insoluble polymer and the water-soluble polymer can be used as the binder.
- the ratio of the water-soluble binder to be removed by the immersion in hot water described below or the contact with steam is large. Is preferred.
- binder examples include gelatin, carrageenan, polyvinyl alcohol (PVA), polyvinyl pyrrolidone (PVP), starch and other polysaccharides, cellulose and derivatives thereof, polyethylene oxide, polysaccharides, polyvinylamine, chitosan, polylysine, and polyacrylic acid. , Polyalginic acid, polyhyaluronic acid, carboxycellulose and the like. These have neutral, anionic, and cationic properties depending on the ionicity of the functional group.
- gelatin is used.
- gelatin lime-processed gelatin or acid-processed gelatin may be used, and gelatin hydrolyzate, gelatin enzyme decomposition product, and others (phthalated gelatin modified with amino group and carboxyl group, acetylated gelatin) are used.
- the gelatin used in the silver salt preparation step is preferably gelatin in which the positive charge of the amino group is changed to uncharged or negative charge, and more preferably phthalated gelatin.
- the content of the binder contained in the emulsion layer is not particularly limited, and can be appropriately determined as long as the dispersibility of silver halide and the adhesion of the photosensitive layer can be exhibited. From the viewpoint of the conductive element, it is preferable that the content of the binder in the emulsion layer is small. From these viewpoints, the volume ratio of the silver halide converted to silver / the volume of the binder (hereinafter referred to as “silver / binder volume ratio”) is preferably 1/2 or more, and is 1/1 or more. It is more preferable. The upper limit of the silver / binder volume ratio is preferably 4/1 and more preferably 3/1.
- the solvent used for the formation of the emulsion layer is not particularly limited.
- water organic solvents (for example, alcohols such as methanol, ketones such as acetone, amides such as formamide, dimethyl sulfoxide, etc. Sulphoxides, esters such as ethyl acetate, ionic liquids, and mixed solvents thereof
- the content of the solvent used in the emulsion layer of the present invention includes the silver salt and binder contained in the emulsion layer. And the like, preferably in the range of 30% by mass to 90% by mass, and in the range of 50% by mass to 80% by mass.
- the emulsion layer preferably contains a fog inhibitor.
- the fogging inhibitor is preferably selected from nitrogen atom-containing heterocyclic compounds, among which indazoles, imidazoles, benzimidazoles, triazoles, benzotriazoles, tetrazoles, and triazaindolizines. These compounds are preferable in that black spots are not generated in the opening of the conductive element, and the conductivity as the conductive element accompanying the addition of the fogging inhibitor is not reduced.
- a preferred range of the amount of fog-inhibiting agent has low generation of spots of black, yet was 3mg / m 2 ⁇ 15mg / m 2 from the viewpoint of an increase in the surface resistance of the conductive element can be suppressed, still more preferably in the range of 6mg / M 2 to 13 mg / m 2 .
- the molar basis content of fog-inhibiting agent, a 0.02mmol / m 2 ⁇ 0.13mmol / m 2, more preferred range is 0.06mmol / m 2 ⁇ 0.11mmol / m 2.
- various additives conventionally added to photographic silver halide emulsions such as dyes, polymer latex, hardeners, contrast enhancers, toning agents, conductive agents, etc. Can be contained.
- the photosensitive layer of the electrically conductive element for forming the light-sensitive material of the present invention is preferably provided so that the amount of silver is in terms of silver 5g / m 2 ⁇ 30g / m 2 on a support, further A range of 7 g / m 2 to 15 g / m 2 is more preferable.
- the thickness of the photosensitive layer is preferably in the range of 1 ⁇ m to 20 ⁇ m, and more preferably in the range of 1 ⁇ m to 10 ⁇ m.
- a photosensitive material (b) including a support and a silver salt-containing layer is used.
- a photosensitive material in which a conductive fine particle-containing layer containing needle-like conductive fine particles, a binder and a sucrose fatty acid ester is further provided on the silver salt-containing layer ( a) is used.
- an undercoat layer may be provided between the support and the photosensitive layer.
- a protective layer may be further provided on the conductive fine particle-containing layer.
- a protective layer may be provided on the silver salt-containing layer.
- the production method (b) for producing the sex element will be described.
- the mesh pattern is described as the pattern of the metal pattern, but the same applies to the case of other patterns.
- a photosensitive material containing a support, a silver salt-containing layer, and a conductive fine particle-containing layer containing acicular conductive fine particles, a binder, and a sucrose fatty acid ester ( a) is pattern-exposed in a mesh shape and developed.
- the development processing includes a development step of reducing silver halide grains having latent image nuclei formed by exposure to silver and a fixing step of dissolving and removing silver halide grains in which the latent image nuclei have not been formed. It is a waste.
- the exposure is performed in a pattern such as a mesh.
- the shape of the mesh is a desired shape such as a square, a rectangle, a triangular system, or a hexagon.
- the pattern exposure method may be performed by surface exposure using a photomask, or may be performed by scanning exposure using a laser beam.
- refractive exposure using a lens or reflection exposure using a reflecting mirror may be used, and exposure methods such as contact exposure, proximity exposure, reduced projection exposure, and reflection projection exposure can be used.
- the photosensitive material (a) subjected to pattern exposure in a mesh shape is developed.
- a normal development processing technique used for silver salt photographic film, photographic paper, printing plate-making film, photomask emulsion mask, and the like is used.
- the developer is not particularly limited, but a PQ developer, MQ developer, MAA developer and the like can also be used.
- Commercially available products include, for example, CN-16, CR-56, CP45X, FD-3, papitol prescribed by Fujifilm, and C-41, E-6, RA-4, Dsd-19, D prescribed by KODAK.
- a developer such as ⁇ 72 or a developer included in the kit can be used.
- a lith developer can also be used. As the lith developer, D85 or the like prescribed by KODAK can be used.
- the development processing in the production method (a) of the present invention may include a fixing step performed for the purpose of removing and stabilizing the unexposed silver salt.
- a fixing process technique used for a silver salt photographic film, photographic paper, a printing plate making film, a photomask emulsion mask, or the like is used in the fixing step.
- the developer used in the development process can contain an image quality improver for the purpose of improving the image quality.
- the image quality improver include nitrogen-containing heterocyclic compounds such as benzotriazole.
- a lith developer it is particularly preferable to use polyethylene glycol.
- the mass of the metallic silver contained in the exposed portion after the development treatment is preferably a content of 50% by mass or more, and 80% by mass or more with respect to the mass of silver contained in the exposed portion before exposure. More preferably. If the mass of silver contained in the exposed portion is 50% by mass or more based on the mass of silver contained in the exposed portion before exposure, it is preferable because high conductivity is easily obtained.
- the metallic silver part contained in the exposed part after the development treatment is composed of silver and a nonconductive polymer, and the volume ratio of silver / nonconductive polymer is preferably 2/1 or more, and 3/1 or more. More preferably.
- the gradation after the development processing is not particularly limited, but is preferably more than 4.0. When the gradation after the development processing exceeds 4.0, the conductivity of the conductive metal portion can be increased while keeping the transparency of the light transmissive portion high.
- the developing temperature, fixing temperature and washing temperature are preferably 25 ° C. or less.
- a film with higher conductivity can be obtained by performing a smoothing process and a binder removal process as necessary after the development process.
- a mesh composed of developed silver is formed in the exposed portion, and an opening is formed in the unexposed portion.
- a conductive fine particle-containing layer containing acicular conductive fine particles, a binder and a sucrose fatty acid ester, and thus the conductive property according to the present invention. The element is obtained.
- a photosensitive material (b) including a support and a silver salt-containing layer is subjected to pattern exposure in a mesh shape, developed, and then a support and a mesh composed of developed silver.
- a conductive element precursor having a developed silver mesh layer containing is prepared.
- the same pattern exposure as in the case of the production method (a) can be applied as it is.
- the same development process as in the production method (a) is applied as it is, including the fixing process and washing with water.
- the conductive element precursor thus obtained has a mesh layer composed of developed silver on one surface of the transparent support.
- a conductive fine particle-containing layer is formed on the silver mesh layer of the conductive element precursor.
- the conductive fine particles and binder used in the conductive fine particle-containing layer the same conductive fine particles and binder as those used in the conductive fine particle-containing layer of the conductive element according to the present invention described above are used.
- the conductive fine particle-containing layer contains acicular conductive fine particles, a binder and a sucrose fatty acid ester. As described above, the conductive fine particle-containing layer has a conductive layer composed of a silver mesh layer and a conductive fine particle-containing layer on a transparent support. A conductive element according to the invention is produced.
- the conductive element precursor is subjected to oxidation treatment and reduction treatment described below. Smoothing treatment, hot water treatment or steam treatment, plating treatment, etc. may be performed.
- the developed silver after the development treatment is preferably subjected to an oxidation treatment.
- an oxidation treatment for example, when silver is slightly deposited on the light-transmitting portion, the silver can be removed, and the light-transmitting portion can be made almost 100% transparent.
- the oxidation treatment include known methods using various oxidizing agents such as Fe (III) ion treatment.
- the oxidation process is performed after the development process.
- the developed silver after pattern exposure and development processing can be processed with a solution containing Pd.
- Pd may be a divalent palladium ion or metallic palladium. By this treatment, it is possible to suppress the black color of the developed silver from changing with time.
- a mesh composed of developed silver having a specified line width, aperture ratio, and silver content is directly formed on the support by exposure / development treatment, so that the surface resistivity is sufficient. Therefore, it is not necessary to apply a physical phenomenon and / or a plating treatment to the developed silver constituting the mesh to newly impart conductivity. For this reason, a translucent conductive element can be manufactured by a simple process.
- ⁇ Reduction treatment> In order to remove silver oxide and silver sulfide which are impurities generated by the development treatment, it is preferable to perform a water washing treatment after the development treatment and immerse in a reducing aqueous solution. Thereby, the electroconductive element which has much higher electroconductivity is obtained.
- a reducing aqueous solution a sodium sulfite aqueous solution, a hydroquinone aqueous solution, a paraphenylenediamine aqueous solution, an oxalic acid aqueous solution, or the like can be used, and the aqueous solution pH is more preferably 10 or more.
- the conductive element precursor is preferably subjected to a smoothing treatment. This significantly increases the conductivity of the mesh composed of developed silver.
- the gap between the nips of at least a pair of rolls constituted by a combination in which the first calendar roll and the second calendar roll are arranged to face each other so that their respective rotation axes are parallel is 2940 N / cm or more. It is preferable to carry out by passing the conductive element precursor 20 at a linear pressure.
- the smoothing process using the calendar roll is referred to as “calendar process”.
- At least the material forming the surface is made of resin such as epoxy, polyimide, polyamide, polyimide amide, and the surface is metal.
- a configured metal roll is included.
- a calendar is formed under the following conditions in order to suppress the generation of wrinkles. It is preferable to process.
- the thickness of the support of the conductive element precursor after the development processing is 95 ⁇ m or more.
- the conductive element precursor is pressed using a first calender roll and a second calender roll arranged to face each other.
- the first calendar roll contacting the support is a resin roll.
- the second calender roll that contacts the mesh of the conductive element precursor is a metal roll.
- the surface of the metal roll is mirror-finished.
- the surface of the metal roll is embossed.
- the surface roughness of the embossed metal roll is 0.05 s to 0.8 s at the maximum height Rmax.
- the mesh has a silver / binder volume ratio of 1/1 or more.
- the calendering is performed at a line pressure between the nips of 2940 N / cm to 5880 N / cm with respect to the conductive element precursor.
- the calendering process is performed at a conveying speed of the conductive element precursor of 10 m / min to 50 m / min.
- H When the surface resistance of the conductive element precursor is R1, and the surface resistance of the conductive element is R2, 0.58 ⁇ R2 / R1 ⁇ 0.77 Be.
- the application temperature of the calendar treatment is preferably 10 ° C. (no temperature control) to 100 ° C., and the more preferable temperature is approximately 10 ° C. (temperature No adjustment) to 50 ° C.
- ⁇ Hot water treatment or steam treatment> After forming a silver mesh layer composed of developed silver on a transparent support, and before forming a conductive fine particle-containing layer, a hot water treatment in which the conductive element precursor is immersed in warm water or heated water at a temperature higher than that. Alternatively, it is preferable to perform a steam treatment in contact with water vapor. Thereby, electroconductivity and transparency can be improved simply in a short time. It is considered that a part of the water-soluble binder is removed and the bonding sites between developed silver (conductive substances) are increased. Although this process can be performed after the development process, it is desirable to perform the process after the smoothing process.
- the temperature of the hot water used in the hot water treatment is preferably 60 ° C.
- the temperature of the water vapor used in the steam treatment is preferably 100 ° C. or more and 140 ° C. or less at 1 atmosphere.
- the treatment time for hot water treatment or steam treatment varies depending on the type of water-soluble binder to be used, but when the support is 60 cm ⁇ 1 m, it is preferably about 10 seconds to about 5 minutes, preferably about 1 minute to about 5 minutes. Is more preferable.
- ⁇ Plating treatment> You may perform a metal-plating process with respect to a mesh in the front
- the plating treatment may be electrolytic plating or electroless plating. Further, the constituent material of the plating layer is preferably a metal having sufficient conductivity, and copper is preferable.
- the metal pattern layer made of a conductive metal the average axis length is 0.2 to 20 ⁇ m in the major axis, 0.01 to 0.02 ⁇ m in the minor axis, and the aspect
- the conductive element relating to the first aspect having the conductive fine particle-containing layer containing the acicular conductive fine particles having a ratio of 20 or more, the binder and the sucrose fatty acid ester has been described in detail, but is the second aspect.
- the support and the conductive fine particle-containing layer described with respect to the first aspect are also included. It can be used as well.
- a conductive element having high conductivity a photosensitive material for forming a conductive element capable of producing a conductive element having high conductivity, and a production method capable of obtaining a high conductive element.
- a metal pattern layer composed of a conductive metal, a conductive fine particle-containing layer containing acicular conductive fine particles, a binder and a sucrose fatty acid ester, and the conductive fine particle-containing layer It is preferable to produce an electrode having a current-carrying layer adjacent to the electrode.
- the conductive element according to the present invention has high conductivity, even if it is used as an electrode structure for a touch panel, an inorganic EL element, an organic EL element, or a solar cell, the visibility or light transmittance of the screen is lowered. I will not let you.
- the electroconductive element by this invention functions also as a heat_generation
- the photosensitive material for forming a conductive element according to the present invention can be easily manufactured in a large area, it can be used in an application field where a conductive element of a large area is required, for example, reducing the illuminance of incident light.
- the present invention can be applied to an electrode of an electrochromic device used for obtaining a window having a dimming function for blocking incident light.
- the EL element of the present invention has a configuration in which a phosphor layer is sandwiched between a pair of opposing electrodes, and the conductive element is included in at least one of the electrodes.
- the EL element may be an organic EL element or an inorganic EL element.
- An inorganic EL element according to a preferred embodiment of the present invention has a transparent electrode (the conductive element), a phosphor layer, a reflective insulating layer, and a back electrode in this order, and the conductive fine particle-containing layer side of the conductive element. Have a phosphor layer.
- the transparent electrode and the back electrode are electrically connected via the electrode.
- a silver paste is applied as an auxiliary electrode to the electrode in contact with the transparent electrode, and an insulating paste is applied to the phosphor layer side.
- the phosphor layer, the reflective insulating layer, and the back electrode can be printed on the transparent electrode, or can be bonded to form an element.
- “provided by printing” means that the phosphor layer, the reflective insulating layer, and the back electrode are directly printed on the transparent electrode.
- “Bonding” refers to a material formed by thermocompression bonding of a transparent electrode and a phosphor layer, a reflective insulating layer, and a back electrode integrated together.
- the conductive fine particle-containing layer of the conductive element is used in contact with the phosphor layer.
- the phosphor layer (phosphor particle layer) is formed by dispersing phosphor particles in a binder.
- a binder a polymer having a relatively high dielectric constant such as a cyanoethyl cellulose resin, or a resin such as polyethylene, polypropylene, polystyrene resin, silicone resin, epoxy resin, or vinylidene fluoride can be used.
- the thickness of the phosphor layer is preferably 1 ⁇ m or more and 50 ⁇ m or less.
- the phosphor particles contained in the phosphor layer include, as a base material, at least one element selected from the group consisting of Group II elements and Group VI elements, Group III elements and Group III elements. It is a semiconductor fine particle composed of at least one element selected from the group consisting of group V elements, and is arbitrarily selected depending on the necessary emission wavelength region. For example, ZnS, CdS, CaS, etc. can be preferably used.
- the phosphor particles have an average sphere equivalent diameter of preferably 0.1 ⁇ m to 15 ⁇ m.
- the variation coefficient of the equivalent sphere diameter is preferably 35% or less, more preferably 5% or more and 25% or less.
- These average sphere equivalent diameters can be measured with LA-500 (trade name) manufactured by Horiba, Ltd. using a laser light scattering method, a Coulter counter manufactured by Beckman Coulter, or the like.
- a reflective insulating layer (hereinafter also referred to as a dielectric layer in some cases) between the phosphor layer and the back electrode.
- a dielectric layer any material can be used as long as it has a high dielectric constant and insulation and has a high dielectric breakdown voltage. These are selected from metal oxides and nitrides, and for example, BaTiO 3 , BaTa 2 O 6 and the like are used.
- the dielectric layer containing a dielectric substance may be provided on one side of the phosphor particle layer, and is preferably provided on both sides of the phosphor particle layer.
- the phosphor layer and the dielectric layer are preferably formed by coating or screen printing using a spin coating method, a dip coating method, a bar coating method, a spray coating method, or the like.
- the EL element of the present invention preferably has an appropriate sealing material on the opposite side of the transparent conductive film, and is preferably processed so as to eliminate the influence of humidity and oxygen from the external environment.
- a moisture or oxygen shielding sheet is overlaid on the fabricated element, and the periphery can be sealed with a curable material such as epoxy.
- a shielding sheet moisture-proof film
- the dispersion type EL element is driven by alternating current. Typically, it is driven using an AC power supply of 50 Hz to 400 Hz at 100V.
- this invention can be used in combination with the technique as described in the gazette or pamphlet of the Japan publication number and international publication number which are enumerated below.
- Potassium hexachloroiridium (III) (0.005% KCl, 20% aqueous solution) and ammonium hexachlororhodate (0.001% NaCl, 20% aqueous solution) used in the three liquids were mixed with their respective complex powders, KCl 20% aqueous solution and NaCl 20%, respectively. It was dissolved in an aqueous solution and prepared by heating at 40 ° C. for 120 minutes.
- the emulsion after washing with water and desalting was adjusted to pH 6.4 and pAg 7.5, 100 mg of 1,3,3a, 7-tetraazaindene as a stabilizer, and Proxel (trade name, manufactured by ICI Co., Ltd. as a preservative). ) 100 mg was added. Finally, a silver iodochlorobromide cubic grain emulsion containing 70 mol% of silver chloride and 0.08 mol% of silver iodide and having an average grain diameter of 0.22 ⁇ m and a coefficient of variation of 9% was obtained.
- Emulsion B (Silver / Binder Volume Ratio: 4/1) >> ⁇ 1 liquid: 750 ml of water Gelatin (phthalated gelatin) 8g Sodium chloride 3g 1,3-Dimethylimidazolidine-2-thione 20mg Sodium benzenethiosulfonate 10mg Citric acid 0.7g ⁇ Two liquids 300ml 150 g silver nitrate ⁇ 3 liquid water 300ml Sodium chloride 38g Potassium bromide 32g 5 ml of potassium hexachloroiridium (III) (0.005% KCl 20% aqueous solution) Ammonium hexachlororhodate (0.001% NaCl 20% aqueous solution) 7 ml
- Potassium hexachloroiridium (III) (0.005% KCl 20% aqueous solution) and ammonium hexachlororhodate (0.001% NaCl 20% aqueous solution) used in the three liquids were mixed with their respective complex powders, KCl 20% aqueous solution, NaCl. It was dissolved in a 20% aqueous solution and prepared by heating at 40 ° C. for 120 minutes. To 1 liquid maintained at 38 ° C. and pH 4.5, 90% of the 2 and 3 liquids were simultaneously added over 20 minutes with stirring to form 0.16 ⁇ m silver halide core particles. .
- the emulsion after washing and desalting is adjusted to pH 6.4 and pAg 7.5, and 10 mg of sodium benzenethiosulfonate, 3 mg of sodium benzenethiosulfinate, 15 mg of sodium thiosulfate and 10 mg of chloroauric acid are added.
- the resulting product was chemically sensitized so as to obtain 1,3,3a, 7-tetraazaindene as a stabilizer and 100 mg of proxel (trade name, manufactured by ICI Co., Ltd.) as a preservative.
- a silver iodochlorobromide cubic grain emulsion containing 70 mol% of silver chloride and 0.08 mol% of silver iodide and having an average grain diameter of 0.22 ⁇ m and a coefficient of variation of 9% was obtained.
- ⁇ Preparation of coating liquid B The emulsion B was spectrally sensitized by adding sensitizing dye (SD-1) 5.7 ⁇ 10 ⁇ 4 mol / mol Ag. Further, KBr 3.4 ⁇ 10 ⁇ 4 mol / mol Ag and compound (Cpd-3) 8.0 ⁇ 10 ⁇ 4 mol / mol Ag were added and mixed well.
- sensitizing dye SD-1
- KBr 3.4 ⁇ 10 ⁇ 4 mol / mol Ag
- compound (Cpd-3) 8.0 ⁇ 10 ⁇ 4 mol / mol Ag were added and mixed well.
- emulsion layer coating solution A prepared as described above has a silver / binder volume ratio (silver / GEL ratio (vol)) of 1.03 / 1, Ag 8.0 g / m 2 , and gelatin 0.99 g. provided with a layer such that / m 2.
- the silver / binder volume ratio of (silver / GEL ratio (vol)) is 4.0 / 1, Ag10.0g / m 2 , provided with a layer such that the gelatin 0.32 g / m 2 .
- PET Polyethylene terephthalate
- a conductive fine particle-containing layer was provided by coating 10 cc / m 2 of the following conductive fine particle solution on the silver halide emulsion layer.
- ⁇ 1 liquid 943 ml of water 10g gelatin Sb doped tin oxide (Ishihara Sangyo Co., Ltd., trade name: FS10D, acicular conductive fine particles) 48.4g
- Sucrose fatty acid ester sucrose monolaurate manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.
- preservatives and pH adjusters were added as appropriate.
- Sucrose fatty acid ester functions as a surfactant and suppresses aggregation of conductive fine particles.
- the product name FS10D manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. has an average axis length of 0.2 to 2.0 ⁇ m for the major axis, 0.01 to 0.02 ⁇ m for the minor axis, and an aspect ratio of 20 to 30. It was a thing.
- the emulsion layer coating solution A is used for the silver halide emulsion layer, and the conductive fine particle solution 1 solution is used for the conductive fine particle-containing layer.
- the conductive fine particles are applied to the protective layer so that the conductive fine particles are 0.46 g / m 2 and the conductive fine particle / binder ratio is 4.84 / 1 (mass ratio).
- the conductive fine particles alone resistance conductive film resistance
- 10 7 Omega / ⁇ 10 7 Omega / ⁇ .
- the surface resistance ( ⁇ / ⁇ ) was measured by a digital ultrahigh resistance / microammeter 8340A (trade name, manufactured by ADC Corporation).
- Photosensitive materials 1 to 4, 6 to 8 were obtained in the same manner as the photosensitive material 5 except that the amount of sucrose fatty acid ester in the conductive fine particle-containing layer of the photosensitive material 5 was changed. In these photosensitive materials, the conductive fine particle / binder ratio and the conductive fine particle coating amount are not changed, and the coating amount of the sucrose fatty acid ester is 0, 0.01, 0.05, 0.07, and 0.12, respectively. , 0.14, or 0.19 g / m 2 was added. As comparative examples, photosensitive materials 10 to 19 in which the sucrose fatty acid esters in the conductive fine particle-containing layer were changed to the surfactants shown in Table 1 were obtained. Table 1 shows the details of changes in each photosensitive material (sample).
- Example 2 In the photosensitive material 5, the conductive fine particle-containing layer was changed to the following, and durability was evaluated.
- the conductive fine particle-containing layer was provided on the silver halide emulsion layer by coating 5 cc / m 2 of the following conductive fine particle solution.
- Two liquids 943 ml of water 10g gelatin Sb-doped tin oxide (Ishihara Sangyo Co., Ltd., trade name SN100P, granular conductive fine particles) 24.2 g Sucrose fatty acid ester (sucrose monolaurate manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 9.6 g
- preservatives and pH adjusters were added as appropriate.
- product name SN100P manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. is granular, has a primary particle diameter of 0.01 to 0.03 ⁇ m, and an aspect ratio of approximately 1.
- the emulsion layer coating solution A is used for the silver halide emulsion layer, and the conductive fine particle solution 2 solution is used for the conductive fine particle-containing layer.
- the photosensitive material A conductive particles having a particle shape of 0.23 g / m 2 and a conductive particle / binder ratio of 4.84 / 1 (mass ratio) are coated on the protective layer.
- the resistance (conductive film resistance) of the conductive fine particles alone the photosensitive material A was not exposed and developed, and only the fixing process was performed. The surface resistance was measured by removing the silver halide and found to be 10 8 ⁇ . / ⁇ .
- the photosensitive material 5 using the needle-like conductive fine particles used in Example 1 was used as the photosensitive material B, and a comparison was made with the photosensitive material A using granular conductive fine particles (trade name: SN100P, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.).
- a fixer trade name: N3X-R for CN16X: manufactured by Fujifilm
- Samples A to B manufactured as described above were incorporated into a dispersion-type inorganic EL (electroluminescence) element, and a light emission test was performed.
- a reflective insulating layer containing a pigment having an average particle size of 0.03 ⁇ m and a light emitting layer having a phosphor particle of 50 to 60 ⁇ m are coated on an aluminum sheet as a back electrode and dried at 110 ° C. for 1 hour using a hot air dryer. did. Thereafter, Samples A and B were overlaid on the phosphor layer and the dielectric layer surface of the back electrode and thermocompression bonded to form an EL element. The element was thermocompression bonded between two sheets of nylon 6 and two moisture-proof films.
- the size of the EL element was 30 cm ⁇ 30 cm.
- the power source used for light emission was a constant frequency constant voltage power source CVFT-D series (trade name, manufactured by Tokyo Seiden Co., Ltd.).
- a luminance meter BM-9 (trade name, manufactured by Topcon Techno House Co., Ltd.) was used for the measurement of luminance (cd / m 2 ).
- Samples A to B were prepared as dispersion type inorganic EL (electroluminescence) elements.
- an inorganic EL element was continuously lit at 100 V 400 Hz at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90%, and a change in luminance after 240 hours was examined.
- the results are shown in the table.
- Sample A using granular conductive fine particles produces a non-emission part when continuously emitting light, and the change in luminance is large, whereas sample B using acicular conductive fine particles does not produce a non-emission part and changes in luminance. There were few. This is presumably because the needle-like conductive fine particles are easier to form a network than the granular ones, which is useful for improving the durability.
- Table 2 The obtained results are shown in Table 2.
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Abstract
Description
しかし、この導電性要素を電磁波シールド膜、有機EL素子(ここで、「EL」は「エレクトロ ルミネッセンス」の略称である。)または無機EL素子の電極、エレクトロクロミック素子の電極等の各種の電極として使用しようとすると、導電性において不満足なものであった。
本発明の別の目的は、高い導電性を有する導電性要素を製造するのに好適な導電性要素形成用感光材料を提供することにある。
本発明の別の目的は、高い導電性を有する電極を提供することにある。
本発明の更に別の目的は、高い導電性を有する導電性要素の製造方法を提供することである。
そこで本発明者は、さらに針状導電性微粒子にショ糖脂肪酸エステルを併用することで、導電性微粒子の凝集を十分に抑制することができ、さらに長時間の使用に対する耐久性も向上させることができることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、第一の態様において、第一の支持体と、導電性金属で構成された金属パターン層と、平均軸長が長軸0.2~20μm、短軸0.01~0.02μmであり且つアスペクト比が20以上である針状導電性微粒子、バインダおよびショ糖脂肪酸エステルを含有する導電性微粒子含有層とを有する導電性要素を提供する。
また、本発明は、第二の態様において、支持体と、針状導電性微粒子、バインダおよびショ糖脂肪酸エステルを含有する導電性微粒子含有層とを有する導電性要素を提供する。
また、本発明は、第三の態様において、支持体と、銀塩含有層と、針状導電性微粒子、バインダおよびショ糖脂肪酸エステルを含有する導電性微粒子含有層とを有する導電性要素形成用感光材料を提供する。
また、本発明は、第四の態様において、導電性金属で構成された金属パターン層と、針状導電性微粒子、バインダおよびショ糖脂肪酸エステルを含有する導電性微粒子含有層と、該導電性微粒子含有層に隣接する被通電層とを有する電極を提供する。
更にまた、本発明は、第五の態様において、上記導電性要素形成用感光材料をパターン露光し、現像処理して、金属銀で構成された金属パターン層と、前記導電性微粒子含有層
とを有する導電性要素を調製する導電性要素の製造方法を提供する。
また本発明は、支持体と、針状導電性微粒子、バインダおよびショ糖脂肪酸エステルを含有する導電性微粒子含有層とを有する導電性要素、並びに、支持体と、銀塩含有層と、針状導電性微粒子、バインダおよびショ糖脂肪酸エステルを含有する導電性微粒子含有層とを有する導電性要素形成用感光材料にもある。
[支持体]
本発明の導電性要素に用いられる支持体としては、プラスチックフィルム、プラスチック板、およびガラス板などが挙げられる。
支持体としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)(融点:258℃)、ポリエチレンナフタレート(PEN)(融点:269℃)、ポリエチレン(PE)(融点:135℃)、ポリプロピレン(PP)(融点:163℃)、ポリスチレン(融点:230℃)、ポリ塩化ビニル(融点:180℃)、ポリ塩化ビニリデン(融点:212℃)やトリアセチルセルロース(TAC)(融点:290℃)等の融点が約290℃以下であるプラスチックフィルム、またはプラスチック板が好ましい。光透過性や加工性などの観点から、PETが特に好ましい。
支持体の厚みは、10μmから200μmの範囲から選ばれ、より好ましくは、70μmから180μmの範囲から選ばれる。
支持体の透明性は高いことが好ましい。支持体の全可視光透過率は70%以上が好ましく、85%以上がさらに好ましく、特に好ましくは90%以上である。
着色した支持体を用いることもできる。
本発明の導電性要素に使用される金属パターン層は、導電性金属で構成される。導電性金属としては、導電性を示す金属であれば使用することができる。導電性金属としては、銅、アルミニウム、銀などが導電性に優れるので好ましい。
導電性金属は、単一の金属で構成されても良いし、合金であってもよい。また、金属パターンを構成する金属は、導電性要素の平面に垂直な面の断面で見た場合に、2種以上の
金属の積層構造となっていても良い。
金属パターン層は細線で構成されており、そのパターン形状はメッシュやストライプなどが含まれる。細線の線幅(即ち、細線が延びる方向に垂直な面の断面における導電性要素の平面に平行な方向の最大長さ)は30μm以下であることが好ましく、0.5~20μmであることがより好ましい。また、細線の線厚(即ち、上記線幅に垂直な方向の最大長さ)は、一般的には、0.1μmから5μmの範囲から選ばれ、より好ましくは、1μmから3μmの範囲から選ばれる。なお、導電性を向上させる観点からは、細線の線厚は大きい方が好ましい。
金属パターン層は、例えば以下の(1)~(4)に記載の方法により形成される。
(1)支持体に感光性ハロゲン化銀を含有する乳剤層を有する感光材料をパターン露光し、現像処理を施すことによって、露光部及び未露光部にそれぞれ上記パターンに相当する金属銀部及び光透過性部を形成して金属パターン層を形成する方法。なお、さらに金属銀部に物理現像及び/又はめっき処理を施すことによって金属銀部に導電性金属を担持させてもよい。
(2)支持体に形成された銅箔上のフォトレジスト膜を露光、現像処理してレジストパターンを形成し、レジストパターンから露出する銅箔をエッチングすることによって、金属パターン層を形成する方法。
(3)支持体上に金属微粒子を含むペースト(触媒を含有)をパターン印刷し、印刷されたペーストに金属めっきを行うことによって、金属パターン層を形成する方法。
(4)支持体上に、金属パターン層をスクリーン印刷版又はグラビア印刷版によって印刷形成する方法。印刷にて形成する場合、金属パターン層に対応する触媒層(触媒を含有)をまず形成し、その後、その触媒層に対して金属めっきを行うことで、金属パターン層を形成でき、導電性を向上させることができる。
導電性微粒子含有層に使用される導電性微粒子には、針状導電性微粒子が使用される。針状導電性微粒子は短軸長0.01μm~0.02μmのもので、長軸長と短軸長とのアスペクト比は10以上のものが好ましい。より具体的には、針状導電性微粒子としては、平均軸長が、長軸0.2μm~20μm、短軸0.01μm~0.02μmのものが好ましい。また,長軸と短軸とのアスペクト比については20以上が好ましく、20~2000がより好ましく、20~50がさらに好ましい。その粉体抵抗は3Ωcm~1000Ωcmが好ましく、100Ωcm~600Ωcmがより好ましい。
針状導電性微粒子の平均長軸長、平均短軸長及びアスペクト比は、画像解析装置測定による体面平均径より算出される。
針状導電性微粒子を使用することで、EL素子などの電極構造を作製した場合に、耐久性が向上し、長時間一定の輝度で発光させることができる。針状導電性微粒子は、粒状のものに比べてネットワークを構成しやすく、それが耐久性向上に役立っていると本発明者らは考察する。
他方で、針状導電性微粒子を用いる場合には凝集が発生しやすく、生産性を低下させやすいが、ショ糖脂肪酸エステルを併用することで、凝集を十分に抑制することができ、生産性を向上させることができる。この効果は、導電性微粒子/バインダ体積比が大きい場合、すなわち、導電性微粒子の含有量が多い場合に、効果が大きくなる。
導電性微粒子は、SnO2、ZnO、TiO2、Al2O3、In2O3またはMgOを含むものが導電性という点で好ましく、SnO2を含むものがより好ましい。特に、ア
ンチモンがドープされたSnO2を含むものが導電性という点で更に好ましく、特にアンチモンが0.2~2.0モル%ドープされたSnO2を含むものが最も好ましい。
上記特性を有する導電性微粒子としては、石原産業社製FSシリーズや三菱マテリアル電子化成社製導電性材料が使用できる。特に、石原産業社製FS-10Dが好ましい。
導電性微粒子含有層は、界面活性剤としてショ糖脂肪酸エステルを含有する。ショ糖脂肪酸エステルは、ショ糖脂肪酸エステル/針状導電性微粒子の含有比率が10~50質量%で含有することが好ましく、10~30質量%で含有することがより好ましい。
上記含有比率が10質量%よりも低くなるにつれ、針状導電性微粒子の凝集が発生しやすくなり、EL素子の電極として使用した場合には表示部に欠陥が現れるようになる。
他方、上記含有比率が50質量%を超えるにつれ、導電性要素の表面抵抗が低下してくる。これは、針状導電性微粒子にショ糖脂肪酸エステルが付着する量が多くなりすぎるために、導電性を阻害するようになるためと推察される。
また導電性微粒子含有層に含まれるショ糖脂肪酸エステルの含有量は0.5g/m2以下であることが好ましく、0.3g/m2以下であることがより好ましい。上記含有量が0.5g/m2を超えるにつれて、導電性要素の表面抵抗が低下してくるようになる。また導電性微粒子層の構成する成分を溶解または分散した溶剤溶液を塗布液として、支持体上に塗布し、そして当該溶剤を蒸発除去して導電性微粒子層を形成する場合には、上記塗布液中には、ショ糖脂肪酸エステルの濃度は20質量%以下であることが好ましく、10質量%以下であることが好ましい。
ショ糖脂肪酸エステルとしては、ショ糖モノ脂肪酸エステル、ショ糖ジ脂肪酸エステル、ショ糖トリ脂肪酸エステルが挙げられるが、ショ糖モノ脂肪酸エステルがより好ましく、脂肪酸部分としては、ラウリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸が好ましい。即ち、糖残基がショ糖であり、アルキル基又はアルケニル基は、ラウリル基、ミリスチル基、パルミチル基、ステアリル基、オレイル基等のものが好ましい。具体的に好ましいショ糖モノ脂肪酸エステルとしては、ショ糖モノラウレート、ショ糖モノステアレートが好ましく、ショ糖モノラウレートが特に好ましい。これらのショ糖脂肪酸エステルは和光純薬工業社から市販されている。
本発明による導電性要素においては、導電性微粒子含有層のバインダ量は少ない方が好ましく、1g/m2以下とすることが好ましい。導電性微粒子含有層のバインダ量は、0.5g/m2以下が好ましく、0.1g/m2以下がより好ましい。これにより、高い導電性を有する導電性要素が得られる。
この中でも好ましいのは、フタル化ゼラチンを用いた場合である。フタル化ゼラチンを用いた場合、導電性の向上と塗布面状の向上とを両立することができる。本発明においては、バインダとしては、ゼラチンが特に好ましい。
導電性微粒子含有層には、界面活性剤に加えて、ラテックスを含有させることもできる。このようなラテックスの好ましい例としては、ポリ乳酸エステル類、ポリウレタン類、ポリカーボネート類、ポリエステル類、ポリアセタール類、SBR類、ポリ塩化ビニル類などのポリマーラテックスを挙げることができる。また、特開2009-79166に記載のポリマーラテックスを単独又は組合せて使用することができる。本実施形態では、ラテックスとしては、アクリル酸エステル-スチレン共重合体やスチレン-ブタジエン共重合体からなるポリマー粒子を含むポリマーラテックスが特に好ましい。
本発明に係る導電性要素は、導電性微粒子含有層上に、さらに保護層/密着付与層を含んでいてもよい。この保護層/密着付与層は、導電性微粒子含有層に使用されるバインダを含有するのが含まれである。この層には、上記導電性微粒子含有層と同様にラテックスを含有させることもでき、アクリル酸エステル-スチレン共重合体やスチレン-ブタジエンからなるポリマー粒子を含むポリマーラテックスが特に好ましい。
更に、支持体の金属パターン層が形成された側とは反対側の表面に、バック層を有していても良い。バック層は、導電性要素が湾曲またはカールすることを防止し、平面性の優れた導電性要素をもたらす。また、バック層は、本発明による導電性要素を例えば無機ELや有機EL等の電極として組み込む場合に、接着層としての機能を持たせたものであっても良い。
支持体とその上に隣接する層との間に下塗り層を有する場合、下塗り層としては、ポリマーバインダを構成成分とする層とされる。
また、支持体から最も離れた層として保護層を有する場合、保護層としては、ポリマーバインダを構成成分とする層とされる。
下塗り層または保護層に使用されるポリマーバインダとしては、前述の導電性微粒子含有層に使用されるバインダを挙げることができる。
シリカとしては、コロイド状シリカ(コロイダルシリカ)を用いることが好ましい。
コロイダルシリカとしては、平均粒径が1nm以上1μm以下の無水ケイ酸の微粒子の
コロイド(膠質)を指し、特開昭53-112732号、特公昭57-009051号、同57-51653号等に記載されているものを参考にすることができる。これらのコロイド状シリカはゾル-ゲル法で調製して使用することもできるし、市販品を利用することもできる。
市販品を使用する場合は、日産化学(株)製のスノーテックス-XL(平均粒径40~60nm)、スノーテックス-YL(平均粒径50~80nm)、スノーテックス-ZL(平均粒径70~100nm)、PST-2(平均粒径210nm)、MP-3020(平均粒径328nm)、スノーテックス20(平均粒径10~20nm、SiO2/Na2O>57)、スノーテックス30(平均粒径10~20nm、SiO2/Na2O>50)、スノーテックスC(平均粒径10~20nm、SiO2/Na2O>100)、スノーテックスO(平均粒径10~20nm、SiO2/Na2O>500)等を好ましく使用することができる(いずれも商品名。ここでSiO2/Na2Oとは、二酸化ケイ素と水酸化ナトリウムとの含有質量比を、水酸化ナトリウムをNa2Oに換算して表したものであり、カタログに記載されている。)。市販品を利用する場合はスノーテックス-YL、スノーテックス-ZL、PST-2、MP-3020、スノーテックスCが特に好ましい。
また、コロイダルシリカとしては、特開平10-268464号公報記載の、太さ1~50nm、長さ10~1000nmの細長い形状を有するコロイド状シリカ、特開平9-218488号公報あるいは特開平10-111544号公報記載のコロイド状シリカと有機ポリマーとの複合粒子も好ましく用いることができる。
式(a) 50≦X≦7000
式(b) 105≦Y≦(5×1023)×X-4.02
上記Yは、より好ましくは下記(b1)、さらに好ましくは下記(b2)を満たすように形成される。
式(b1) 105≦Y≦1×1023×(X)-4.02
式(b2) 105≦Y≦3×1022×(X)-4.25
メッシュの線幅Dは、導電性要素を透明電極として使用する場合には、なるべく狭い方が高い透明性が確保されるので好ましい。一般的には30μm以下が好ましく、20μm以下がより好ましく、15μm以下がさらに好ましい。線幅は、0.5μm以上が好ましく、3μm以上がより好ましい。例えば、直線格子パターンでは、線幅D/開口部の幅Xの比、すなわち、ライン/スペースが、5/995~10/595であることが好ましい。
本発明において、金属メッシュの開口部の幅Xは50μm~7,000μmであり、100μm~5,000μmであることがより好ましく、200~2,000μmであることがさらに好ましい。
以下、これらの製造方法について、説明する。
上記感光材料(a)および感光材料(b)の何れにおいても、その支持体としては、前述の導電性要素の支持体について説明したものが使用される。
上記感光材料(a)および感光材料(b)に使用される銀塩含有層に含まれる銀塩としては、ハロゲン化銀等の無機銀塩及び酢酸銀等の有機銀塩が挙げられる。本発明においては、光センサとしての特性に優れるハロゲン化銀を用いることが好ましい。
本発明においては、光センサとしての特性に優れるハロゲン化銀を用いることが好ましく、ハロゲン化銀は保護コロイドとしてのバインダ中に粒子として分散含有するハロゲン化銀乳剤として用いられる。ハロゲン化銀乳剤に関する銀塩写真フイルムや印画紙、印刷製版用フイルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等で用いられる技術は、本発明においても用いることができる。
上記ハロゲン化銀に含有されるハロゲン元素は、塩素、臭素、ヨウ素及びフッ素のいずれであってもよく、これらを組み合わせてもよい。
ハロゲン化銀乳剤層(銀塩含有層)には、銀塩粒子を均一に分散させ、且つ、乳剤層と支持体との密着を補助する目的でバインダを用いることができる。本発明において上記バインダとしては、非水溶性ポリマー及び水溶性ポリマーのいずれもバインダとして用いることができるが、後述の温水に浸漬又は蒸気に接触させる処理により除去される水溶性バインダの比率が多いことが好ましい。
上記バインダとしては、例えば、ゼラチン、カラギーナン、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリビニルピロリドン(PVP)、澱粉等の多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリサッカライド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース等が挙げられる。これらは、官能基のイオン性によって中性、陰イオン性、陽イオン性の性質を有する。
好ましくはゼラチンが使用される。ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンの他、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチンの加水分解物、ゼラチン酵素分解物、その他(アミノ基、カルボキシル基を修飾したフタル化ゼラチン、アセチル化ゼラチン)を使用することができるが、銀塩調製工程において使用するゼラチンはアミノ基の正の電荷を無電荷あるいは負の電荷に変えたゼラチンを用いることが好ましいが、さらにフタル化ゼラチンを用いるのがより好ましい。
上記乳剤層の形成に用いられる溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、水、有機溶媒(例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、イオン性液体、及びこれらの混合溶媒を挙げることができる。本発明の乳剤層に用いられる溶媒の含有量は、前記乳剤層に含まれる銀塩、バインダ等の合計の質量に対して30質量%~90質量%の範囲であり、50質量%~80質量%の範囲であることが好ましい。
また、感光層の厚みは1μm~20μmの範囲が好ましく、更に1μmから10μmの範囲がより好ましい。
上記の導電性要素形成用感光材料(a)を用いて、本発明による導電性要素を製造する製造方法(a)および上記導電性要素形成用感光材料(b)を用いて、本発明による導電性要素を製造する製造方法(b)について説明する。なお、以下の説明においては、金属パターンのバターンとして、メッシュ状のものについて説明するが、その他のパターンの場合についても同様に適用できる。
導電性要素の製造方法(a)では、先ず、支持体と、銀塩含有層と、針状導電性微粒子、バインダおよびショ糖脂肪酸エステルを含有する導電性微粒子含有層とを含有する感光
材料(a)をメッシュ状にパターン露光し、現像処理する。ここで、現像処理とは、露光により潜像核が形成されたハロゲン化銀粒子を銀に還元する現像工程と当該潜像核が形成されなかったハロゲン化銀粒子を溶解除去する定着工程を含むものである。
露光はメッシュなどのパターン状に行われる。メッシュの形状は、前述の通り、正方形、長方形、三角系、六角形など、所望の形状とされる。
パターン露光する方法は、フォトマスクを利用した面露光で行ってもよいし、レーザービームによる走査露光で行ってもよい。この際、レンズを用いた屈折式露光でも反射鏡を用いた反射式露光でもよく、コンタクト露光、プロキシミティー露光、縮小投影露光、反射投影露光などの露光方式を用いることができる。
メッシュ状にパターン露光された感光材料(a)は、現像処理される。現像処理は、銀塩写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理の技術が用いられる。現像液については特に限定はしないが、PQ現像液、MQ現像液、MAA現像液等を用いることもできる。市販品としては、例えば、富士フイルム社処方のCN-16、CR-56、CP45X、FD-3、パピトールや、KODAK社処方のC-41、E-6、RA-4、Dsd-19、D-72等の現像液、又はそのキットに含まれる現像液を用いることができる。また、リス現像液を用いることもできる。リス現像液としては、KODAK社処方のD85等を用いることができる。
現像処理後の露光部に含まれる金属銀の質量は、露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して50質量%以上の含有率であることが好ましく、80質量%以上であることがさらに好ましい。露光部に含まれる銀の質量が露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して50質量%以上であれば、高い導電性を得やすいため好ましい。
現像処理後の露光部に含まれる金属銀部は、銀及び非導電性の高分子からなり、銀/非導電性高分子の体積比率が2/1以上であることが好ましく、3/1以上であることがさらに好ましい。
現像処理後の階調は、特に限定されるものではないが、4.0を超えることが好ましい。現像処理後の階調が4.0を超えると、光透過性部の透明性を高く保ったまま、導電性金属部の導電性を高めることができる。階調を4.0以上にする手段としては、例えば、ハロゲン化銀乳剤の調製時に、ハロゲン化銀粒子にロジウムイオンまたはイリジウムイオンをドープさせる硬調化手段が挙げられる。
成されたメッシュが形成されると共に、未露光部に開口部が形成される。そして、このようにして形成された金属銀メッシュ層の上には、針状導電性微粒子、バインダおよびショ糖脂肪酸エステルを含有する導電性微粒子含有層を有しており、かくして本発明による導電性要素が得られる。
製造方法(b)においては、先ず、支持体と、銀塩含有層とを含む感光材料(b)をメッシュ状にパターン露光し、現像処理して、支持体と、現像銀で構成されたメッシュを含む現像銀メッシュ層とを有する導電性要素前駆体が作製される。パターン露光は、前記の製造方法(a)の場合と同じパターン露光がそのまま適用できる。また現像処理は、定着処理および水洗を含めて、前記の製造方法(a)の場合と同じ現像処理がそのまま適用される。
このようにして得られた導電性要素前駆体は、透明支持体の一方の表面上に、現像銀で構成されたメッシュ層を有する。
次に、導電性要素前駆体の銀メッシュ層上に、導電性微粒子含有層が形成される。
導電性微粒子含有層に使用される導電性微粒子およびバインダとしては、既に説明した本発明による導電性要素の導電性微粒子含有層に使用される導電性微粒子およびバインダと同じものが使用される。
以上により、透明支持体上に銀メッシュ層と導電性微粒子含有層とで構成された導電層を有する、本発明による導電性要素が製造される。
導電性要素の製造方法(b)においては、導電性要素前駆体を作製後、導電性微粒子含有層を形成する前に、導電性要素前駆体に対して、以下に説明する酸化処理、還元処理、平滑化処理、温水処理または蒸気処理、メッキ処理等を施してもよい。
現像処理後の現像銀には、好ましくは酸化処理が行われる。酸化処理を行うことにより、例えば、光透過性部に銀が僅かに沈着していた場合に、この銀を除去し、光透過性部の透過性をほぼ100%にすることができる。
上記酸化処理としては、例えば、Fe(III)イオン処理等、種々の酸化剤を用いた公知の方法が挙げられる。酸化処理は、現像処理後に行なわれる。
現像処理により生じる不純物である酸化銀、硫化銀を除去するために、現像処理後に水
洗処理を行い、還元水溶液に浸漬することが好ましい。これにより、一段と高い導電性を有する導電性要素が得られる。
還元水溶液としては、亜硫酸ナトリウム水溶液、ハイドロキノン水溶液、パラフェニレンジアミン水溶液、シュウ酸水溶液等を用いることができ、水溶液pHは10以上とすることがさらに好ましい。
導電性要素前駆体には、平滑化処理を施すことが好ましい。これによって現像銀で構成されるメッシュの導電性が顕著に増大する。 平滑化処理は、第1カレンダーロールと第2カレンダーロールとを各々の回転軸が平行となるように互いに対向して配置した組合せで構成される少なくとも一対のロールのニップ間を2940N/cm以上の線圧力で前記導電性要素前駆体20を通すことにより行うことが好ましい。以下、カレンダーロールを用いた平滑化処理を「カレンダー処理」と記す。
上記第1カレンダーロールおよび第2カレンダーロールに使用されるロールとしては、少なくともその表面を形成する素材がエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の樹脂で構成されている樹脂製ロールおよび表面が金属で構成されている金属製ロールが含まれる。特に、支持体の一方の表面のみに感光層を有する導電性要素形成用感光材料から作製された導電性要素前駆体の場合には、しわの発生を抑制するために、以下の条件にてカレンダー処理することが好ましい。
(2)カレンダー処理は互いに対向して配置された第1カレンダーロールと第2カレンダーロールを用いて導電性要素前駆体を押圧すること。
(3)支持体に接触する第1カレンダーロールが樹脂製ロールであること。
(a)導電性要素前駆体のメッシュに接触する第2カレンダーロールが金属製ロールであること。
(b)金属製ロールの表面が鏡面加工されていること。
(c)金属製ロールの表面がエンボス加工されていること。
(d)エンボス加工された金属製ロールの表面粗さは、最大高さRmaxで0.05s~0.8sであること。
(e)メッシュは、銀/バインダ体積比が1/1以上であること。
(f)カレンダー処理は、導電性要素前駆体に対してニップ間の線圧が2940N/cm~5880N/cmで行うこと。
(g)カレンダー処理は、導電性要素前駆体の搬送速度を10m/分~50m/分で行うこと。
(h)導電性要素前駆体の表面抵抗をR1、導電性要素の表面抵抗をR2としたとき、
0.58≦R2/R1≦0.77
であること。
透明支持体上に現像銀で構成された銀メッシュ層を形成した後、導電性微粒子含有層を形成する前に、導電性要素前駆体を温水ないしはそれ以上の温度の加熱水に浸漬させる温水処理か、または水蒸気に接触させる蒸気処理を行うことが好ましい。これにより短時間
で簡便に導電性及び透明性を向上させることができる。水溶性バインダの一部が除去されて現像銀(導電性物質)同士の結合部位が増加しているものと考えられる。
本プロセスは、現像処理後に実施できるが、平滑化処理後に行うことが望ましい。
温水処理で使用される温水の温度は好ましくは60℃以上100℃以下であり、より好ましくは80℃~100℃である。また、蒸気処理で使用される水蒸気の温度は、1気圧で100℃以上140℃以下が好ましい。温水処理または蒸気処理の処理時間は、使用する水溶性バインダの種類によって異なるが、支持体のサイズが60cm×1mの場合、約10秒間~約5分間程度が好ましく、約1分間~約5分間がさらに好ましい。
上記平滑化処理の前段又は後段で、メッシュに対してめっき処理を行ってもよい。めっき処理により、さらに表面抵抗を低減でき、導電性を高めることができる。めっき処理は平滑化処理の後段で行うことで、めっき処理が効率化され均一なめっき層が形成される。めっき処理としては、電解めっきでも無電解めっきでもよい。まためっき層の構成材料は十分な導電性を有する金属が好ましく、銅が好ましい。
以下に、本発明の電極構造をEL素子に適用する例について詳しく述べる。
本発明のEL素子は、対向する一対の電極で蛍光体層を挟持した構成をもち、少なくとも一方の電極に前記導電性要素を有する。EL素子としては、有機EL素子でも無機EL素子でもよい。
本発明の好ましい一実施態様の無機EL素子は、透明電極(前記導電性要素)、蛍光体層、反射絶縁層および背面電極をこの順で有し、前記導電性要素の導電性微粒子含有層側に蛍光体層を有する。透明電極と背面電極とは、電極を介して電気的に連結している。透明電極に接する電極には、補助電極として銀ペーストが付与され、蛍光体層側には絶縁ペーストが付与される。
合せて素子を形成することもできる。ここで、「印刷して設ける」とは、透明電極上に蛍光体層、反射絶縁層、背面電極を直接印刷して設けることをいう。「貼り合わせ」とは、透明電極と、蛍光体層、反射絶縁層及び背面電極が一体になったものとを熱圧着して形成するものをいう。
透明電極と背面電極とに電圧をかけることで、蛍光体層内の蛍光体に電位差が付与される。そして、その電位差が発光エネルギーとなり交流電源を使用して電位差を付与し続けることで発光状態が維持される。この例では、蛍光体層が被通電層となる。
本発明における透明電極としては、前記の導電性要素の導電性微粒子含有層が蛍光体層と接して用いられる。
[蛍光体層]
蛍光体層(蛍光体粒子層)は、蛍光体粒子をバインダに分散して形成する。バインダとしては、シアノエチルセルロース系樹脂のように、比較的誘電率の高いポリマーや、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン系樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フッ化ビニリデンなどの樹脂を用いることができる。蛍光体層の厚みは1μm以上50μm以下が好ましい。
蛍光体層に含有される蛍光体粒子は、その母体材料としては、具体的には第II族元素と第VI族元素とから成る群から選ばれる少なくとも一つの元素と、第III族元素と第V族元素とから成る群から選ばれる少なくとも一つの元素とから成る半導体の微粒子であり、必要な発光波長領域により任意に選択される。例えば、ZnS,CdS,CaSなどを好ましく用いることができる。
蛍光体粒子は、平均球相当直径が、好ましくは0.1μm以上~15μm以下である。球相当直径の変動係数は、35%以下であることが好ましく、より好ましくは5%以上25%以下である。これらの平均球相当直径は、レーザー光散乱方式を用いた堀場製作所製のLA-500(商品名)や、ベックマンコールター社のコールターカウンター等で測定することができる。
本発明の無機EL素子は、蛍光体層と背面電極との間に反射絶縁層(以下、場合により誘電体層ともいう)を設けることが好ましい。
誘電体層は、誘電率および絶縁性が高く、且つ高い誘電破壊電圧を有する材料であれば任意のものを用いることができる。これらは金属酸化物、窒化物から選択され、例えばBaTiO3,BaTa2O6などが用いられる。誘電体物質を含む誘電体層は、蛍光体粒子層の片側に設けてもよく、また蛍光体粒子層の両側に設けることも好ましい。
蛍光体層および誘電体層は、スピンコート法、ディップコート法、バーコート法、あるいはスプレー塗布法などを用いて塗布またはスクリーン印刷等で成膜することが好ましい。
光を取り出さない側の背面電極は、導電性を有する任意の材料が使用できる。導電性でさえあれば、例えば、ITO等の透明電極やアルミニウム/カーボン電極を用いてもよく、また上述した導電性要素を背面電極としても使用してもよい。
[封止・吸水]
本発明のEL素子は、適当な封止材料を透明導電膜の反対側に有することが好ましく、外部環境からの湿度や酸素の影響を排除するよう加工することが好ましい。素子の基板自体が十分な遮蔽性を有する場合には、作製した素子の上方に水分や酸素遮蔽性のシートを重ね、周囲をエポキシ等の硬化材料を用いて封止することができる。また、面状素子をカールさせないために両面に遮蔽性シート(防湿フィルム)を配しても良い。素子の基板が、水分透過性を有する場合は、両面に遮蔽性シートを配する必要がある。
[電圧と周波数]
通常、分散型EL素子は、交流で駆動される。典型的には、100Vで50Hz~400Hzの交流電源を用いて駆動される。
特開2004-221564、特開2004-221565、特開2007-200922、特開2006-352073、国際公開2006/001461、特開2007-129205、特開2007-235115、特開2007-207987、特開2006-012935、特開2006-010795、特開2006-228469、特開2006-332459、特開2007-207987、特開2007-226215、国際公開2006/088059、特開2006-261315、特開2007-072171、特開2007-102200、特開2006-228473、特開2006-269795、特開2006-267635、国際公開2006/098333、特開2006-324203、特開2006-228478、特開2006-228836、国際公開2006/098336、国際公開2006/098338、特開2007-009326、特開2006-336090、特開2006-336099、特開2006-348351、特開2007-270321、特開2007-270322、国際公開2006/098335、特開2007-201378、特開2007-335729、国際公開2006/098334、特開2007-134439、特開2007-149760、特開2007-208133、特開2007-178915、特開2007-334325、特開2007-310091、特開2007-116137、特開2007-088219、特開2007-207883、特開2007-013130、国際公開2007/001008、特開2005-302508、特開2008-218784、特開2008-227350、特開2008-227351、特開2008-244067、特開2008-267814、特開2008-270405、特開2008-277675、特開2008-277676、特開2008-282840、特開2008-283029、特開2008-288305、特開2008-288419、特開2008-300720、特開2008-300721、特開2009-4213、特開2009-10001、特開2009-16526、特開2009-21334、特開2009-26933、特開2008-147507、特開2008-159770、特開2008-159771、特開2008-171568、特開2008-198388、特開2008-218096、特開2008-218264、特開2008-224916、特開2008-235224、特開2008-235467、特開2008-241987、特開2008-251274、特開2008-251275、特開2008-252046、特開2008-277428、特開2009-21153。
[実施例1]
《乳剤A(銀/バインダ体積比:1/1)の調製》
・1液:
水 750ml
フタル化処理ゼラチン 20g
塩化ナトリウム 3g
1,3-ジメチルイミダゾリジン-2-チオン 20mg
ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム 10mg
クエン酸 0.7g
・2液
水 300ml
硝酸銀 150g
・3液
水 300ml
塩化ナトリウム 38g
臭化カリウム 32g
ヘキサクロロイリジウム(III)酸カリウム
(0.005%KCl 20%水溶液) 5ml
ヘキサクロロロジウム酸アンモニウム
(0.001%NaCl 20%水溶液) 7ml
水 100ml
硝酸銀 50g
・5液
水 100ml
塩化ナトリウム 13g
臭化カリウム 11g
黄血塩 5mg
上記乳剤に下記化合物(Cpd-1)8.0×10-4モル/モルAg、1,3,3a,7-テトラアザインデン1.2×10-4モル/モルAgを添加しよく混合した。次いで、膨潤率調製のため必要により、下記化合物(Cpd-2)を添加し、クエン酸を用いて塗布液pHを5.6に調整した。
・1液:
水 750ml
ゼラチン(フタル化処理ゼラチン) 8g
塩化ナトリウム 3g
1,3-ジメチルイミダゾリジン-2-チオン 20mg
ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム 10mg
クエン酸 0.7g
・2液
水 300ml
硝酸銀 150g
・3液
水 300ml
塩化ナトリウム 38g
臭化カリウム 32g
ヘキサクロロイリジウム(III)酸カリウム
(0.005%KCl 20%水溶液) 5ml
ヘキサクロロロジウム酸アンモニウム
(0.001%NaCl 20%水溶液) 7ml
38℃、pH4.5に保たれた1液に、2液と3液の各々90%に相当する量を攪拌しながら同時に20分間にわたって加え、0.16μmのハロゲン化銀の核粒子を形成した。続いて下記4液、5液を8分間にわたって加え、さらに、2液と3液の残りの10%の量を2分間にわたって加え、0.21μmまでハロゲン化銀粒子を成長させた。さらに、ヨウ化カリウム0.15gを加え5分間熟成しハロゲン化銀の粒子形成を終了した。
水 100ml
硝酸銀 50g
・5液
水 100ml
塩化ナトリウム 13g
臭化カリウム 11g
黄血塩 5mg
次に、上澄み液を約3リットル除去した(第一水洗)。さらに3リットルの蒸留水を加えてから、ハロゲン化銀が沈降するまで硫酸を加えた。再度、上澄み液を3リットル除去した(第二水洗)。第二水洗と同じ操作をさらに1回繰り返して(第三水洗)、水洗・脱塩行程を終了した。
上記乳剤Bに増感色素(SD-1)5.7×10-4モル/モルAgを加えて分光増感を施した。さらにKBr3.4×10-4モル/モルAg、化合物(Cpd-3)8.0×10-4モル/モルAgを加え、よく混合した。
次いで1,3,3a,7-テトラアザインデン1.2×10-4モル/モルAg、ハイドロキノン1.2×10-2モル/モルAg、クエン酸3.0×10-4モル/モルAg、2,4-ジクロロ-6-ヒドロキシ-1,3,5-トリアジンナトリウム塩を90mg/m2、ゼラチンに対して15%の粒径10μmのコロイダルシリカ、水性ラテックス(aqL-6)を50mg/m2、ポリエチルアクリレートラテックスを100mg/m2、メチルアクリレートと2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸ナトリウム塩と2-アセトキシエチルメタクリレートのラテックス共重合体(質量比88:5:7)を100mg/m2、コアシェル型ラテックスコア:スチレン/ブタジエン共重合体質量比37/63)、シェル:スチレン/2-アセトキシエチルアクリレート(質量比84/16、コア/シェル比=50/50)を100mg/m2、ゼラチンに対し4%の下記化合物(Cpd-7)を添加し、クエン酸を用いて塗布液pHを5.6に調整した。
乳剤Aを用いて、上記のように調製した乳剤層塗布液Aを銀/バインダ体積比(銀/GEL比(vol))が1.03/1、Ag8.0g/m2、ゼラチン0.99g/m2になるように層を設けた。
乳剤Bを用いて,の銀/バインダ体積比(銀/GEL比(vol))が4.0/1、Ag10.0g/m2、ゼラチン0.32g/m2になるように層を設けた。
(支持体としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)(厚さ100μm)を用いた。PETにはあらかじめ表面親水化処理したものを用いた。)
下記のようにして上記ハロゲン化銀乳剤層上部に下記導電性微粒子液1液を10cc/m2塗布して導電性微粒子含有層を設けた。
・1液:
水 943ml
ゼラチン 10g
Sbドープ酸化スズ
(石原産業社製、商品名 FS10D,針状導電性微粒子)48.4g
ショ糖脂肪酸エステル(和光純薬工業社製ショ糖モノラウレート)9.6g
その他適宜、防腐剤、pH調節剤を添加した。ショ糖脂肪酸エステルは界面活性剤とし
て機能し、導電性微粒子の凝集を抑制する。ここで、石原産業社製商品名FS10Dは、カタログによれば、平均軸長が長軸0.2~2.0μm、短軸0.01~0.02μmであり且つアスペクト比が20~30のものであった。
感光材料5は保護層に導電性微粒子が0.46g/m2で、導電性微粒子/バインダ比は4.84/1(質量比)で導電性微粒子を塗布している。なお、導電性微粒子単独の抵抗(導電膜抵抗)を調べるために、この感光材料Aを露光・現像処理せず、定着処理のみ行いハロゲン化銀を抜いて表面抵抗を測定したところ、107Ω/□であった。表面抵抗(Ω/□)は、デジタル超高抵抗/微少電流計8340A(商品名、株式会社エーディーシー社製)により測定した。
<塗布方法>
下塗層を施した支持体上に、乳剤面側として支持体に近い側よりハロゲン化銀乳剤層、導電性微粒子含有層,の順に2層を、35℃に保ちながらスライドビードコーター方式により硬膜剤液を加えながら同時重層塗布し、冷風セットゾーン(5℃)を通過させた後、冷風セットゾーン(5℃)を通過させた。各々のセットゾーンを通過した時点では、塗布液は充分なセット性を示した。引き続き乾燥ゾーンにて両面を同時に乾燥した。
なお,導電性微粒子含有層上にシリカを含む保護層を設けることもできるし,塗布方法も公知の方法を用いて行うことができる.
各試料について、30cm×30cm面積あたりの針状導電性微粒子の凝集が発生している頻度を調べた。ショ糖脂肪酸エステルを添加していない試料は凝集の発生が顕著であり、ショ糖脂肪酸エステルを含有させることで、上記の凝集が抑えられることがわかった。また、ショ糖脂肪酸エステルの含有量がある一定の量を超えると、表面抵抗が低下してくることがわかった。これらの結果から、感光材料5が凝集の抑制と表面抵抗が最も両立できることがわかった。また、得られた試料を用いて無機EL素子を作製し、それを発光させることで発光部に凝集が発生した場合にはそれに対応する箇所が欠点となり発光しなくなることがわかった。非発光部分を数えて、欠点の個数として評価した。なお、感光材料の露光、現像処理や無機EL素子の作製は後述の実施例2と同じである。得られた結果を表1に示す。
・α-ペルフルオロノネニルオキシ-ω-メチルポリエチレンオキシドはネオス株式会社製フタージェント215Mを使用し、
・ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルは日本エマルジョン社製エマレックスNP-30を使用し、
・オレフィンスルホン酸ソーダはライオン株式会社製F-14を使用し、
・ジオクチルスルホコハク酸ナトリウムは日本油脂社製ラピゾールB-90を使用した。
またそれ以外の界面活性剤は、社内で合成したものを使用した。
感光材料5において導電性微粒子含有層を下記に変更して,耐久性の評価を行った。
(導電性微粒子含有層)
ハロゲン化銀乳剤層上部に下記導電性微粒子液2液を5cc/m2塗布して導電性微粒子含有層を設けた。
・2液:
水 943ml
ゼラチン 10g
Sbドープ酸化スズ
(石原産業社製、商品名SN100P,粒状導電性微粒子)24.2g
ショ糖脂肪酸エステル(和光純薬工業社製ショ糖モノラウレート)9.6g
その他適宜、防腐剤、pH調節剤を添加した。ここで、石原産業社製商品名SN100Pは、カタログによれば、粒状であり、一次粒子径0.01~0.03μmであり、アスペクト比が略1である。
感光材料Aは保護層に導電性微粒子が0.23g/m2で、導電性微粒子/バインダ比は4.84/1(質量比)で粒状形状の導電性微粒子を塗布している。なお、導電性微粒子単独の抵抗(導電膜抵抗)を調べるために、この感光材料Aを露光・現像処理せず、定着処理のみ行いハロゲン化銀を抜いて表面抵抗を測定したところ、108Ω/□であった。
実施例1で使用した針状導電性微粒子を用いた感光材料5を感光材料Bとして、粒状導電性微粒子(石原産業社製、商品名 SN100P)を用いた感光材料Aとの比較を行った.
感光材料AおよびBに、ライン/スペース=5μm/595μmの現像銀像を与えうる格子状のフォトマスクライン/スペース=595μm/5μm(ピッチ600μm)の、スペースが格子状であるフォトマスクを介して高圧水銀ランプを光源とした平行光を用いて露光し、下記の現像液で現像し、さらに定着液(商品名:CN16X用N3X-R:富士フイルム社製)を用いて現像処理を行った後、純水でリンスし、試料A~Bを得た。
現像液1リットル中に、以下の化合物が含まれる。
ハイドロキノン 0.037mol/L
N-メチルアミノフェノール 0.016mol/L
メタホウ酸ナトリウム 0.140mol/L
水酸化ナトリウム 0.360mol/L
臭化ナトリウム 0.031mol/L
メタ重亜硫酸カリウム 0.187mol/L
上記のように作製された試料A~Bを分散型無機EL(エレクトロルミネッセンス)素子に組み込み、発光テストを行った。
平均粒子サイズが0.03μmの顔料を含む反射絶縁層と蛍光体粒子が50~60μmの発光層を背面電極となるアルミニウムシート上に塗布し、温風乾燥機を用いて110℃で1時間乾燥した。
その後、試料A~Bを蛍光体層、背面電極の誘電体層面上に重ね、熱圧着してEL素子を形成した。素子を2枚のナイロン6からなる吸水性シートと2枚の防湿フィルムと挟んで熱圧着した。EL素子のサイズは、30cm×30cmであった。
発光させるために用いた電源は、定周波定電圧電源 CVFT-Dシリーズ(東京精電株式会社製、商品名)を用いた。また、輝度(cd/m2)の測定には、輝度計 BM-9(株式会社トプコンテクノハウス製、商品名)を用いた。
せ、240h後の輝度の変化を調べた。結果を表に示す。粒状導電性微粒子を用いた試料Aは、連続発光させると非発光部が生じ、輝度の変化が大きいのに対し、針状導電性微粒子を用いた試料Bは非発光部が生じず、輝度変化が少なかった。これは、針状導電性微粒子は粒状のものに比べてネットワークを構成しやすく、それが耐久性向上に役立っているためと推察している。得られた結果を表2に示す。
2010年1月20日に出願された日本国特許出願第2010-010276号の開示は、その全体が参照により本明細書中に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、および技術規格は、個々の文献、特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個別に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
Claims (9)
- 支持体と、導電性金属で構成された金属パターン層と、平均軸長が長軸0.2~20μm、短軸0.01~0.02μmであり且つアスペクト比が20以上である針状導電性微粒子、バインダおよびショ糖脂肪酸エステルを含有する導電性微粒子含有層とを有する導電性要素。
- 前記ショ糖脂肪酸エステル/針状導電性微粒子の含有比率が10~50質量%である請求項1に記載の導電性要素。
- 前記導電性微粒子含有層に含まれるショ糖脂肪酸エステルの含有量が0.5g/m2以下である請求項1に記載の導電性要素。
- 前記導電性微粒子が、SnO2、ZnO、TiO2、Al2O3、In2O3、MgO、BaOまたはMoO3からなる金属酸化物、これらの複合金属酸化物、またはこれらの金属酸化物に異種原子を含む金属酸化物を含む請求項1に記載の導電性要素。
- 前記導電性微粒子が、アンチモンがドープされたSnO2を含む請求項1に記載の導電性要素。
- 前記導電性微粒子含有層に含まれる導電性微粒子の含有量が、0.05g/m2~0.99g/m2である請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の導電性要素。
- 支持体と、針状導電性微粒子、バインダおよびショ糖脂肪酸エステルを含有する導電性微粒子含有層とを有する導電性要素。
- 支持体と、銀塩含有層と、針状導電性微粒子、バインダおよびショ糖脂肪酸エステルを含有する導電性微粒子含有層とを有する導電性要素形成用感光材料。
- 導電性金属で構成された金属パターン層と、針状導電性微粒子、バインダおよびショ糖脂肪酸エステルを含有する導電性微粒子含有層と、該導電性微粒子含有層に隣接する被通電層とを有する電極。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13/522,970 US20120285726A1 (en) | 2010-01-20 | 2011-01-20 | Electrically conductive element, photosensitive material for formation of electrically conductive element, and electrode |
CN201180006053.9A CN102714075B (zh) | 2010-01-20 | 2011-01-20 | 导电性单元、导电性单元形成用感光材料以及电极 |
KR1020127021468A KR20120123431A (ko) | 2010-01-20 | 2011-01-20 | 도전성 요소, 도전성 요소 형성용 감광 재료 및 전극 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010010276 | 2010-01-20 | ||
JP2010-010276 | 2010-01-20 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2011090140A1 true WO2011090140A1 (ja) | 2011-07-28 |
Family
ID=44306940
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2011/051017 WO2011090140A1 (ja) | 2010-01-20 | 2011-01-20 | 導電性要素、導電性要素形成用感光材料および電極 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20120285726A1 (ja) |
JP (1) | JP5623922B2 (ja) |
KR (1) | KR20120123431A (ja) |
CN (1) | CN102714075B (ja) |
WO (1) | WO2011090140A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5888976B2 (ja) * | 2011-09-28 | 2016-03-22 | 富士フイルム株式会社 | 導電性組成物、導電性部材およびその製造方法、タッチパネル並びに太陽電池 |
IN2014DN03390A (ja) * | 2011-10-03 | 2015-06-05 | Hitachi Chemical Co Ltd | |
JP6005090B2 (ja) * | 2013-03-27 | 2016-10-12 | 富士フイルム株式会社 | 導電シートおよびその製造方法、タッチパネル |
JP5727641B2 (ja) * | 2013-08-20 | 2015-06-03 | 積水化学工業株式会社 | 光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途 |
RU2017124378A (ru) | 2014-12-23 | 2019-01-24 | Поготек, Инк. | Система и способы беспроводной камеры |
JP6810452B2 (ja) * | 2016-11-14 | 2021-01-06 | ナミックス株式会社 | 金属被覆粒子及び樹脂組成物 |
JP6759464B2 (ja) * | 2018-03-20 | 2020-09-23 | 株式会社東芝 | 多接合型太陽電池モジュール及び太陽光発電システム |
CN113488223B (zh) * | 2021-07-09 | 2023-04-07 | 苏州晶银新材料科技有限公司 | 不含硅油的太阳能电池导电银浆及其应用 |
CN113684102A (zh) * | 2021-09-23 | 2021-11-23 | 深圳新宙邦科技股份有限公司 | 一种清洗剂及应用 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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AU2002325192B2 (en) * | 2001-07-06 | 2008-05-22 | Veloxis Pharmaceuticals, Inc. | Controlled agglomeration |
WO2005024853A1 (ja) * | 2003-09-08 | 2005-03-17 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | 透明導電積層体とそれを用いた有機el素子、及びそれらの製造方法 |
JP4983150B2 (ja) * | 2006-04-28 | 2012-07-25 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 導電性被膜の製造方法 |
JP5478126B2 (ja) * | 2008-06-25 | 2014-04-23 | 富士フイルム株式会社 | 導電膜形成用感光材料、導電性材料及びエレクトロルミネッセンス素子 |
-
2011
- 2011-01-20 KR KR1020127021468A patent/KR20120123431A/ko not_active Application Discontinuation
- 2011-01-20 JP JP2011010216A patent/JP5623922B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-01-20 US US13/522,970 patent/US20120285726A1/en not_active Abandoned
- 2011-01-20 CN CN201180006053.9A patent/CN102714075B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-01-20 WO PCT/JP2011/051017 patent/WO2011090140A1/ja active Application Filing
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06215631A (ja) * | 1993-01-19 | 1994-08-05 | Ajinomoto Co Inc | 繊維状導電性物質及びこれを含有する導電性樹脂組成物 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102714075A (zh) | 2012-10-03 |
KR20120123431A (ko) | 2012-11-08 |
US20120285726A1 (en) | 2012-11-15 |
CN102714075B (zh) | 2014-05-28 |
JP5623922B2 (ja) | 2014-11-12 |
JP2011171292A (ja) | 2011-09-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 201180006053.9 Country of ref document: CN |
|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 11734746 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 13522970 Country of ref document: US |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 20127021468 Country of ref document: KR Kind code of ref document: A |
|
122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 11734746 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |