CN113684102A - 一种清洗剂及应用 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及清洗工艺技术领域，具体涉及一种清洗剂及应用。本发明所述清洗剂包括：水，碱性化合物，有机溶剂以及添加剂；其中添加剂含量≤水含量/(2*碱性化合物含量)，且碱性化合物含量满足使所述清洗液的pH值为11以上。本发明所述的清洗剂，通过选用浊点≥45℃的非离子表面活性剂和一定量的碱性化合物配合，用以去除掩模板上在使用一段时间后其表面形成包含金属和有机物的蒸镀膜，使用效果好，制备方法简单，具有较好的市场前景。
Description
技术领域
本发明涉及清洗工艺技术领域，具体涉及一种清洗剂及应用。
背景技术
有机电致发光显示器件(OLED)作为显示器的一大分支，因其属于自发光，不像LCD需要借助背光，故其厚度薄、可视度和亮度均高，同时，OLED对电压的需求较低，即省电效率高，加上其响应速度快、重量轻等特性，被视为21世纪最具前途的产品之一。
真空蒸镀是OLED面板生产过程中的关键环节，而作为有机材料和金属材料的蒸镀掩模板(蒸镀Mask)是这一步骤的关键构件。掩模板在使用一段时间后，其表面会形成包含金属和有机物的一层一层的蒸镀膜，会影响掩模板开孔位置的精确性，最终影响到产品的精度和良率。因此，需要对掩模板进行清洗实现掩模板的重复使用。
现有的清洗剂并不能达到同时溶解金属和有机材料的目的。因此，研发一种应用于清洗掩模板上蒸镀膜的清洗剂至关重要。
发明内容
为了解决上述技术问题，本发明提供了一种清洗剂，包含水、碱性化合物、与水互溶的有机溶剂以及添加剂的组分，通过选用浊点≥45℃的非离子表面活性剂作为添加剂，与一定浓度的碱性化合物溶液配合使用，可以实现同时清洗金属以及有机物且无残留的效果。
第一方面，本发明提供了一种清洗剂，其包括：水，碱性化合物，有机溶剂以及添加剂；其特征在于，所述清洗剂中添加剂含量≤水含量/(2*碱性化合物含量)，且碱性化合物含量满足使所述清洗液的pH值为11以上。
在本发明的某些实施方式中，所述添加剂为浊点大于或等于45℃的非离子表面活性剂。
在本发明的某些实施方式中，所述添加剂选自壬基酚聚氧乙烯醚、辛基酚聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪酸聚氧乙烯醚、二苯乙烯基苯酚聚氧乙烯醚中的至少一种。
在本发明的某些实施方式中，所述有机溶剂为与水互溶的极性有机溶剂，包括甲醇、乙醇、异丙醇、丙酮、二甲基亚砜、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮中的至少一种。
在本发明的某些实施方式中，所述碱性化合物选自季铵氢氧化物或碱金属氢氧化物中至少一种。
优选地，所述季铵氢氧化物选自四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、甲基三乙基氢氧化铵、三-(2-羟乙基)甲基氢氧化铵、苄基三甲基氢氧化铵、胆碱中的至少一种；所述碱金属氢氧化物选自氢氧化钠、氢氧化钾至少一种。
在本发明的某些实施方式中，以清洗剂的总重量为100％计：
水30-60％；
碱性化合物2-7％；
添加剂,所述添加剂的重量百分含量为A，满足1％≤A≤水含量/(2*碱性化合物含量)；
余量的为有机溶剂。
当然，需要说明的是，上述清洗剂组合物的制备方法是，将上述原料按照所述重量百分比依次混合均匀，所述混合的温度为室温。所述的混合后，还进一步包括振荡，过滤的操作。振荡的目的是为了使各原料组分充分混合，震荡速度和时间不限；过滤是为了除去不溶物。即得到本发明的清洗剂。
本发明所述的清洗剂选用浊点≥45℃的非离子表面活性剂和一定浓度的碱性化合物配合，用以去除掩模板在使用一段时间后在其表面形成的蒸镀膜，选用浊点≥45℃的非离子表面活性剂是因为其在溶液中不是以离子状态存在，所以其稳定性高，不易受强电解质存在的影响，也不易受酸和碱的影响。
这里需要说明的是，本发明人发现对于掩模板清洗后的残留物，不只是所需要去除的金属以及有机物去除不完全导致的，还与表面活性剂的稳定性相关，若选用离子表面活性剂和/或两性表面活性剂，则存在强碱性条件下的离子表面活性剂和/或两性表面活性剂会存在析出的可能，同时，选用非离子表面活性剂在清洗过程中也会存在由于碱与金属反应放热升温导致存在其析出的可能。
因此，为了能够更好的实现对掩模板的清洗，一方面是要选用稳定性更强且溶解性更好的非离子表面活性剂，尤其是浊点≥45℃的非离子表面活性剂，其在固体表面上不会发生强烈吸附，同时，控制所述浊点≥45℃的非离子表面活性剂、水以及碱性化合物三者的含量关系，使所述浊点≥45℃的非离子表面活性剂能很好地溶解于清洗剂，确保最终的清洗效果。
第二方面，本发明提供了上述清洗剂在清洗掩模板中的应用。
与现有技术相比，本发明有以下优点：
本发明提供了一种清洗剂，通过选用浊点≥45℃的非离子表面活性剂和一定浓度的碱性化合物配合，用以去除掩模板在使用一段时间后在其表面形成的蒸镀膜，选用浊点≥45℃的非离子表面活性剂是因为其在溶液中不是以离子状态存在，所以稳定性更好，且不易受强电解质存在的影响，也不易受酸和碱的影响。同时，通过严格控制清洗剂中碱的含量，使浊点≥45℃的非离子表面活性剂即可以在碱性环境下达到预期的清洗效果，同时，也不会因为碱与残留金属反应放热升温导致其析出，使用效果好，制备方法简单，具有较好的市场前景。
具体实施方式
下面将结合本发明中的实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通的技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明的保护范围。
实施例1
1)清洗剂的制备
一种清洗剂，基于清洗剂的总重量，包括：水45％、四甲基氢氧化铵2％、N-甲基吡咯烷酮46.6％、壬基酚聚氧乙烯醚6.4％。
2)具体制备方法
将上述原料按照所述重量百分比混合均匀，所述原料的添加顺序为水-碱性化合物-有机溶剂-添加剂，混合操作温度为室温。所述的混合后，还进一步包括振荡，过滤的操作。即得到本实施例1的清洗剂，其pH为11.0。
3)具体清洗方法：
将含有蒸镀膜的掩模板Mask浸入本发明实施例1制得的清洗剂中浸泡5min，清洗完成后用超纯水冲洗，最后用高纯氮气干燥。
4)金属去除效果测试
根据最终银色残留程度评判金属去除效果，残留越少，去除效果越好。
5)有机物去除效果测试
根据最终绿色残留程度评判有机物去除效果，残留越少，去除效果越好。
测试结果见表2。
实施例2
一种清洗剂，基于清洗剂的总重量，包括：水50％、苄基三甲基氢氧化铵4.0％、异丙醇39.8％、壬基酚聚氧乙烯醚6.2％，pH为11.6，制备方法和清洗方法同实施例1，见表1。测试结果见表2。
实施例3
一种清洗剂，基于清洗剂的总重量，包括：水55％、氢氧化钠7％、二甲基亚砜34.1％、壬基酚聚氧乙烯醚3.9％，pH为12.1，制备方法和清洗方法同实施例1，见表1。测试结果见表2。
实施例4
一种清洗剂，基于清洗剂的总重量，包括：水45％、四甲基氢氧化铵8.0％、N-甲基吡咯烷酮44.2％、壬基酚聚氧乙烯醚2.8％，pH为13.0，制备方法和清洗方法同实施例1，见表1。测试结果见表2。
对比例1
一种清洗剂，基于清洗剂的总重量，包括：水45％、四甲基氢氧化铵1.5％、N-甲基吡咯烷酮38.5％、壬基酚聚氧乙烯醚15％，pH为9.7，制备方法和清洗方法同实施例1，见表1。测试结果见表2。
对比例2
一种清洗剂，基于清洗剂的总重量，包括：水45％、四甲基氢氧化铵2％、N-甲基吡咯烷酮46.6％、氢化蓖麻油聚氧乙烯醚(EO聚合度＜150)6.4％，pH为11.0，制备方法和清洗方法同实施例1，见表1。测试结果见表2。
对比例3
一种清洗剂，基于清洗剂的总重量，包括：水42％、四甲基氢氧化铵5％、N-甲基吡咯烷酮46.5％、壬基酚聚氧乙烯醚6.5％，pH为11.7，制备方法和清洗方法同实施例1，见表1。测试结果见表2。
实施例5-8
实施例5-8中包括实施例1中大部分的操作步骤，其不同之处在于：
清洗液的制备过程中，加入表1中实施例5-8所示的添加剂，其他与实施例1相同。测试结果见表2。
表1
表2
| 序号 | 是否分层 | 金属去除效果 | 有机物去除效果 | pH |
| 实施例1 | 否 | 无残留 | 无残留 | 11.0 |
| 实施例2 | 否 | 无残留 | 无残留 | 11.6 |
| 实施例3 | 否 | 无残留 | 无残留 | 12.1 |
| 实施例4 | 是 | - | - | 13.0 |
| 对比例1 | 否 | 轻微残留 | 无残留 | 9.7 |
| 对比例2 | 否 | - | 轻微残留 | 11.0 |
| 对比例3 | 是 | - | - | 11.7 |
| 实施例5 | 否 | 无残留 | 无残留 | 11.0 |
| 实施例6 | 否 | 无残留 | 无残留 | 11.0 |
| 实施例7 | 否 | 无残留 | 无残留 | 11.0 |
| 实施例8 | 否 | 无残留 | 无残留 | 11.0 |
结合表1和表2进行结果分析。
具体来讲，结合表1和表2的数据可以看出，水、碱性化合物、有机溶剂、添加剂(浊点大于或等于45℃的非离子表面活性剂)这个组合物是可以用于对掩模板上形成的包含金属和有机物的蒸镀膜的清洗，清洗效果主要取决于添加剂的种类以及碱性化合物的含量。对于碱性化合物的含量而言，在本申请实施例中，分别选取四甲基氢氧化铵、苄基三甲基氢氧化铵以及氢氧化钠作为碱性化合物中的，当其含量范围在2-7％时，其与本申请所述的浊点≥45℃的非离子表面活性剂(例如壬基酚聚氧乙烯醚、辛基酚聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪酸聚氧乙烯醚、二苯乙烯基苯酚聚氧乙烯醚)配合使用时，可以达到理想的清洗效果，所配制的清洗剂不会分层，同时在清洗金属和有机物时，都可以做到无残留。
分析对比例1和实施例4可知，当碱性化合物含量过低时，无法实现对金属的有效清洗，而当碱性化合物含量过高时，则会导致清洗剂分层，因此，碱性化合物的含量是影响清洗剂清洗效果的关键因素之一。同时，将对比例2和实施例1对比分析可知，使用氢化蓖麻油聚氧乙烯醚(EO聚合度＜150)作为添加剂时，其在清洗过程中，由于掩模板表面温度上升，致使添加剂(氢化蓖麻油聚氧乙烯醚)所包裹的有机物颗粒残留，不能达到有效的清洗效果，可见，添加剂种类的选择会对清洗剂的清洗效果起到至关重要的作用。同时，结合对比例3可知，只有当选择本发明所述的浊点≥45℃的非离子表面活性剂与一定含量的碱性化合物配合使用，且满足添加剂含量≤水含量/(2*碱性化合物含量)时，才可以得到预期的清洗效果，可以有效清洗掩模板上形成的包含金属和有机物的蒸镀膜，达到无残留的技术效果。
以上借助具体实施例对本发明做了进一步描述，但是应该理解的是，这里具体的描述，不应理解为对本发明的实质和范围的限定，本领域内的普通技术人员在阅读本说明书后对上述实施例做出的各种修改，都属于本发明所保护的范围。
Claims (8)
1.一种清洗剂，其包括：水，碱性化合物，有机溶剂以及添加剂；其特征在于，所述清洗剂中添加剂含量≤水含量/(2*碱性化合物含量)，且碱性化合物含量满足使所述清洗液的pH值为11以上。
2.根据权利要求1所述的清洗剂，其特征在于，所述添加剂为浊点大于或等于45℃的非离子表面活性剂。
3.根据权利要求1或2所述的清洗剂，其特征在于，所述添加剂选自壬基酚聚氧乙烯醚、辛基酚聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪酸聚氧乙烯醚、二苯乙烯基苯酚聚氧乙烯醚中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的清洗剂，其特征在于，所述有机溶剂为与水互溶的极性有机溶剂，包括甲醇、乙醇、异丙醇、丙酮、二甲基亚砜、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的清洗剂，其特征在于，所述碱性化合物选自季铵氢氧化物或碱金属氢氧化物中至少一种。
6.根据权利要求5所述的清洗剂，其特征在于，所述季铵氢氧化物选自四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、甲基三乙基氢氧化铵、三-(2-羟乙基)甲基氢氧化铵、苄基三甲基氢氧化铵、胆碱中的至少一种；所述碱金属氢氧化物选自氢氧化钠、氢氧化钾至少一种。
7.根据权利要求1所述的清洗剂，其特征在于，以清洗剂的总重量为100％计，包括：
水30-60％；
碱性化合物2-7％；
添加剂，所述添加剂的重量百分含量为A，满足1％≤A≤水含量/(2*碱性化合物含量)；
余量的为有机溶剂。
8.权利要求1-7任一项所述的清洗剂在清洗掩模板中的应用。
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