WO2011081112A1 - 入力装置、およびこれを備えた表示装置 - Google Patents

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WO2011081112A1
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insulator
detection electrode
input device
electrode pattern
cross
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永田 康成
南 孝志
吉雄 宮崎
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京セラ株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to an input device that detects, as an input position, a place where a user performs an input operation, and a display device including the same.
  • a conventional input device such as a capacitive touch panel includes a base, a first detection electrode pattern provided on the main surface of the base, and a first detection electrode pattern provided on the main surface of the base. And intersecting second detection electrode patterns (see, for example, Patent Document 1).
  • an insulator for electrically insulating the first detection electrode pattern and the second detection electrode pattern is provided between the first detection electrode pattern and the second detection electrode pattern. That is, the insulator is provided on the main surface of the base so as to cover a part of the first detection electrode pattern, and a part of the second detection electrode pattern is provided on the upper surface of the insulator. Thus, the first detection electrode pattern and the second detection electrode pattern can be crossed while electrically insulating the first detection electrode pattern and the second detection electrode pattern.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide an input device capable of suppressing breakage of the second detection electrode pattern, and a display device including the same.
  • One aspect of the input device of the present invention includes a base body having a main surface, a first detection electrode pattern provided on the main surface of the base body, and a part of the insulator provided on the main surface of the base body. And a second detection electrode pattern that intersects the first detection electrode pattern.
  • the insulator has a convex curved surface in a region from the end portion to the top portion of the insulator in a cross section along the second detection electrode pattern.
  • FIG. 1 is the top view which expanded and represented the principal part of the input device of FIG. 1
  • FIG. 2A is a cross-sectional view taken along II in FIG. 1
  • FIG. 2B is a cross-sectional view taken along II-II in FIG. Is a diagram showing an enlarged part in the R 1 portion of FIG 3 (a).
  • (A) to (d) are diagrams for explaining a manufacturing process of the input device, and are diagrams for explaining a manufacturing process of a cross section along II in FIG.
  • FIG. 7 is an enlarged view of a portion R 2 in FIG. 6 for illustrating a change in the inclination angle ⁇ of the insulator with respect to the main surface of the substrate. It is a figure showing the input device which concerns on the 3rd Embodiment of this invention, and is sectional drawing corresponding to II of FIG. It is the top view which expanded and represented the principal part of the input device of FIG. It is a figure showing the input device which concerns on the 4th Embodiment of this invention, and is sectional drawing corresponding to II of FIG.
  • FIG. 7 is a diagram illustrating an input device according to a modification of the present invention, corresponding to II in FIG. 1. 6 shows a modification of FIG. 6, (a) is a diagram corresponding to II in FIG. 1, and (b) is an enlarged view of the R 3 portion of (a).
  • the input device X1 according to the first embodiment of the present invention will be described.
  • the input device X1 is a capacitive touch panel.
  • the input device X1 has an input area E I for inputting information by a user operating with a finger or the like, and an outer area E O positioned outside the input area E I. is doing. Further, in the outer region E O, it has an external conduction region E G is a region connected outside the drawing FPC (Flexible Printed Circuit) or the like and electrically.
  • FPC Flexible Printed Circuit
  • the input device X1 includes a base 10, a first detection electrode pattern 20, a second detection electrode pattern 30, an insulator 40, and a detection wiring 50 as shown in FIGS.
  • the base 10 has a main surface 10a.
  • substrate 10 is made into the rectangular shape, for example, it is not limited to this.
  • the material of the base 10 include a material having translucency, such as glass or plastic. In the present specification, “translucency” means having transparency to visible light.
  • translucency means having transparency to visible light.
  • the surface located on the opposite side of the main surface 10a of the base body 10 is a surface for the user to input information by operating with a finger or the like.
  • the first detection electrode pattern 20 is provided on the main surface 10 a of the base body 10.
  • the first detection electrode pattern 20 includes a first detection electrode 21 and a first connection electrode 22.
  • the first detection electrode 21 is a member having a function of detecting an input position with a finger or the like in the direction of arrow B shown in FIG.
  • First detection electrode 21 is provided on the main surface 10a of the substrate 10 corresponding to the input region E I.
  • the first detection electrodes 21 are arranged in a matrix at predetermined intervals.
  • the first detection electrode 21 has a substantially diamond shape in plan view, but is not limited thereto.
  • Examples of the material of the first detection electrode 21 include those having translucency and conductivity. For example, ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), ATO (Antimony Tin Oxide), and AZO (Al--). Doped Zinc Oxide), tin oxide, zinc oxide, or conductive polymer.
  • Examples of the method for forming the first detection electrode 21 include the following methods. First, a material such as ITO is applied onto the main surface 10a of the substrate 10 to form a film by sputtering, vapor deposition, or chemical vapor deposition (CVD). And a photosensitive resin is apply
  • a material such as ITO is applied onto the main surface 10a of the substrate 10 to form a film by sputtering, vapor deposition, or chemical vapor deposition (CVD). And a photosensitive resin is apply
  • the first connection electrode 22 is a member having a function of electrically connecting adjacent first detection electrodes 21.
  • the first connection electrode 22 is provided on the main surface 10a of the substrate 10 corresponding to the input region E I.
  • the material of the first connection electrode 22 is the same as that of the first detection electrode 21.
  • the formation method of the 1st connection electrode 22 includes the same method as the 1st detection electrode 21.
  • the second detection electrode pattern 30 is provided on the main surface 10 a of the base body 10.
  • the second detection electrode pattern 30 includes a second detection electrode 31 and a second connection electrode 32.
  • the second detection electrode 31 is a member having a function of detecting an input position with a finger or the like in the direction of arrow A shown in FIG. Second detection electrode 31 is provided on the main surface 10a of the substrate 10 corresponding to the input region E I. The second detection electrodes 31 are arranged in a matrix at a predetermined interval. The shape of the second detection electrode 31 is substantially rhombus in plan view, but is not limited thereto. The material of the second detection electrode 31 is the same as that of the first detection electrode 21. In addition, the method for forming the second detection electrode 31 includes the same method as that for the first detection electrode 21.
  • the insulator 40 is a member that plays a role of electrically insulating the first detection electrode pattern 20 and the second detection electrode pattern 30.
  • the insulator 40 is provided on the main surface 10 a of the base 10 so as to cover a part of the first connection electrode 22 in the first detection electrode pattern 20.
  • the insulator 40 has an upper surface 40a located on the opposite side of the main surface 10a of the base body 10 with respect to the first connection electrode 22. Further, the upper surface 40 a of the insulator 40 includes a top portion 41 that faces the second connection electrode 22, and an end portion 42 that is located between the top portion 41 and the second detection electrode 31.
  • Examples of the material of the insulator 40 include an insulating material such as an acrylic resin and an epoxy resin.
  • the insulator 40 has a convex curved surface 43 in a region from the end 42 to the top 41 of the insulator 40 in a cross section along the second detection electrode pattern 30. Yes. The reason why the insulator 40 has the convex curved surface 43 will be described later.
  • the second connection electrode 32 is a member having a function of electrically connecting adjacent second detection electrodes 31.
  • the second connection electrode 32 is located on the upper surface 40 a of the insulator 40. That is, a part of the second connection electrode 32 intersects a part of the first connection electrode 22 via the insulator 40. In other words, a part of the second detection electrode pattern 30 intersects a part of the first detection electrode pattern 20 via the insulator 40.
  • the material of the second connection electrode 32 is the same as that of the first detection electrode 21.
  • the method for forming the second connection electrode 32 includes the same method as that for the first detection electrode 21.
  • the insulator 40 has a convex curved surface 43 in a region from the end 42 to the top 41 of the insulator 40 in a cross section along the second detection electrode pattern 30. Therefore, compared with the case where the insulator 40 has a rectangular shape in cross section along the second detection electrode pattern 30, the end portion 42 of the insulator 40 is applied even when a pressing force by a user's finger or the like is applied to the insulator 40. It is possible to relieve the stress applied to the second connection electrode 32 located at the position. That is, since the insulator 40 is rounded from the end 42 to the top 41 of the insulator 40, the stress is relieved at the rounded portion.
  • FIG. 4 is an enlarged view of the portion R 1 in FIG. 3A, and is a view in which the vertical direction of FIG. 3A is reversed.
  • the inclination angle of the insulator 40 with respect to the main surface 10 a of the base body 10 is “ ⁇ ”
  • the inclination angle ⁇ of the insulator 40 is set to be smaller than the angle ⁇ ′ formed by the direction perpendicular to the main surface 10a of the base body 10 and the insulator 40.
  • the inclination angle ⁇ of the insulator 40 is preferably set in the range of 2 to 20 °.
  • the stress can be relaxed by the convex curved surface 43 of the insulator 40.
  • the second connection electrode 32 positioned on the upper surface 40a of the insulator 40 is difficult to be visually recognized by the user. This is because the difference between the height position of the second detection electrode 31 and the height position of the second connection electrode 32 is reduced. For this reason, the visibility of the input device X1 is improved.
  • the upper surface 40a of the insulator 40 has a flatter cross section in a direction perpendicular to the cross section than the cross section along the second detection electrode pattern 30.
  • the upper surface 40a of the insulator 40 in the cross section shown in FIG. It means that the upper surface 40a of the insulator 40 in the cross section shown in b) is flatter.
  • “flat” means that the curvature is small.
  • the “curvature” can be determined in each cross section, for example, by taking the center point in the direction along the cross section as a reference point and taking the difference between the minimum distance point and the maximum distance point from this reference point. . That is, the smaller the difference between the two points, the smaller the curvature.
  • the insulator 40 has a rectangular shape extending in the direction (arrow B direction) along the second detection electrode pattern 30 when viewed from above. .
  • the insulator 40 has a length in the direction (arrow B direction) along the second detection electrode pattern 30 as viewed from above, and the direction along the first detection electrode pattern 20 (arrow A direction). It has a rectangular shape longer than the length of. For this reason, when a pressing force by a user's finger or the like is applied to the insulator 40, a relatively large stress is applied in the direction along the second detection electrode pattern 30 of the insulator 40 (in the direction of arrow B). A relatively small stress is applied in the direction along the first detection electrode pattern 20 of the insulator 40 (arrow A direction).
  • the insulator 40 is used.
  • the relatively large stress applied in the direction along the second detection electrode pattern 30 (arrow B direction) can be concentrated and relaxed.
  • the stress applied to the second connection electrode 32 located at the end 42 of the insulator 40 can be further relaxed.
  • the detection wiring 50 is a member having a function of applying a voltage to the first detection electrode pattern 20 and the second detection electrode pattern 30.
  • the detection wiring 50 is provided on the main surface 10a of the base 10 corresponding to the outer region EO .
  • Detection wire 50 has one end connected to the first detection electrode pattern 20 and the second detection electrode pattern 30 and the electrically and the other end located outside conductive region E G.
  • Examples of the material of the detection wiring 50 include conductive materials such as ITO, tin oxide, aluminum, aluminum alloy, silver film, or silver alloy. Further, as a method for forming the detection wiring 50, the same formation method as that for the first detection electrode 21 can be used.
  • FIG. 5A to 5D are views for explaining a cross-sectional manufacturing process along II in FIG.
  • a material such as ITO is applied onto the main surface 10a of the base 10 by sputtering, vapor deposition, or chemical vapor deposition (CVD) to form a film.
  • a photosensitive resin is apply
  • a desired pattern is formed in the photosensitive resin by performing an exposure process and a development process with respect to the photosensitive resin.
  • the formed film is etched using a chemical solution or the like and patterned.
  • the first connection electrode 22 is formed as shown in FIG.
  • UV curable acrylic resin is applied to the mold K having a desired shape. Then, as shown in FIG. 5 (b), the applied mold K is pressed against the main surface 10 a of the base body 10 on which the first connection electrode 22 is provided. The acrylic resin is cured by irradiating the mold K with UV light from the side opposite to the main surface 10a of the substrate. By removing the mold K after the acrylic resin is cured, the insulator 40 is formed as shown in FIG.
  • a material such as ITO is further applied on the main surface 10a of the base 10 to form a film.
  • a material such as ITO is further applied on the main surface 10a of the base 10 to form a film.
  • the insulator 40 has a convex curved surface 43 in a region from the end 42 to the top 41 of the insulator 40 in a cross-sectional view, a sufficiently thick film can be formed on the convex curved surface 43. it can.
  • the second detection electrode 31 and the second connection electrode 32 are formed as shown in FIG.
  • the second connection electrode 32 positioned at the end 42 of the insulator 40 is sufficiently secured by the convex curved surface 43.
  • the manufacturing method of the input device X1 is not limited to this.
  • a paste-like resin is applied onto the main surface 10a of the substrate 10, and an exposure process and a development process are performed, and the rectangular insulator 40 is formed in a cross-sectional view. Then, the formed insulator 40 is heated for a predetermined time. Thereby, the viscosity of the insulator 40 may be lowered, the surface of the insulator 40 may be smoothed, and the insulator 40 having the convex curved surface 43 as in the present embodiment may be formed.
  • the finger and the first detection electrode pattern 20 and the second detection electrode pattern 30 are detected.
  • a driver (not shown) provided in the input device X1 always detects a change in electrostatic capacitance between the finger and the first detection electrode pattern 20 and the second detection electrode pattern 30.
  • this driver detects a change in capacitance that is equal to or greater than a predetermined value, the driver detects a position where the change in capacitance is detected as an input position. In this way, the input device X1 can detect the input position.
  • a mutual capacitance method or a self-capacitance method may be used as a method for the input device X1 to detect the input position.
  • Employing the mutual capacitance method is preferable compared to the case of employing the self-capacitance method because a plurality of input positions can be detected simultaneously.
  • the input device X2 is a capacitive touch panel, like the input device X1.
  • FIG. 6 is a diagram illustrating the input device X2, and is a cross-sectional view corresponding to II in FIG.
  • Figure 7 is a diagram showing an enlarged part in the R 2 portion of FIG. 6 is a diagram for explaining a change in the tilt angle ⁇ of the insulator 40 with respect to the major surface 10a of the substrate 10. 7 is an angle formed between the tangent line and the main surface 10a of the base body 10 when a tangent line is drawn at each part of the insulator 40.
  • the inclination angle ⁇ of the insulator 40 with respect to the main surface 10 a of the base 10 is such that the end 42 and the top 41 of the insulator 40 in the cross section along the second detection electrode pattern 30. And have a minimum value and a maximum value.
  • the minimum value is a value of the inclination angle ⁇ when the inclination angle ⁇ changes from decreasing to increasing in the graph of the inclination angle ⁇ .
  • the maximum value is a value of the inclination angle ⁇ when the inclination angle ⁇ changes from increasing to decreasing in the graph of the inclination angle ⁇ .
  • the insulator 40 has a concave curved surface 44 between the end portion 42 and the top portion 41 of the insulator 40.
  • the concave curved surface 44 is located between the convex curved surface 43 and the top 41.
  • the convex curved surface 43 and the concave curved surface 44 are smoothly continuous surfaces. Since the input device X2 has the concave curved surface 44 in addition to the convex curved surface 43, the convex curved surface 43 and the concave curved surface 44 of the insulator 40 are applied even when a pressing force by a user's finger or the like is applied to the insulator 40. Therefore, the stress applied to the second connection electrode 32 located at the end 42 of the insulator 40 can be further relaxed.
  • the number of concave curved surfaces 44 for one insulator 40 is not particularly limited.
  • the input device X3 is a capacitive touch panel, like the input devices X1 and X2.
  • FIG. 8 is a diagram showing the input device X3, and is a cross-sectional view corresponding to II in FIG.
  • FIG. 9 is an enlarged plan view showing a main part of the input device X3 of FIG.
  • the thickness L1 of the second connection electrode 32 in the second detection electrode pattern 30 located at the end 42 of the insulator 40 is The thickness of the second connection electrode 32 in the second detection electrode pattern 30 located at the top 41 of the insulator 40 is larger than the thickness L2. For this reason, even if stress is applied to the second connection electrode 32 positioned at the end portion 42 of the insulator 40 due to the pressing of the user's finger or the like, the thickness L1 of the second connection electrode 32 at the end portion 42 of the insulator 40. Is ensured to some extent, the durability of the second connection electrode 32 at the portion is improved. Therefore, in the input device X3, damage to the second connection electrode 32 can be further reduced.
  • the dummy electrode 32a is provided on the main surface 10a of the base 10 located in the vicinity of the end portion 42 of the insulator 40.
  • the thickness L1 of the second connection electrode 32 located at the end 42 of the insulator 40 is increased. Note that the method is not limited to this method as long as the thickness L1 of the second connection electrode 32 positioned at the end portion 42 of the insulator 40 can be increased.
  • the width M1 of the second connection electrode 32 in the second detection electrode pattern 30 located at the end portion 42 of the insulator 40 as viewed from above is the same as that of the insulator 40.
  • the width is larger than the width M ⁇ b> 2 of the second connection electrode 32 in the second detection electrode pattern 30 located at the top 41. For this reason, even if stress is applied to the second connection electrode 32 positioned at the end portion 42 of the insulator 40 due to the pressing of the user's finger or the like, the width M1 of the second connection electrode 32 at the end portion 42 of the insulator 40. Is ensured to some extent, the durability of the second connection electrode 32 at the portion is improved. Therefore, in the input device X3, damage to the second connection electrode 32 can be further reduced.
  • the thickness L1 of the second connection electrode 32 located at the end 42 of the insulator 40 is larger than the thickness L2 of the second connection electrode 32 located at the top 41 of the insulator 40, and
  • the width M1 of the second connection electrode 32 positioned at the end 42 of the insulator 40 is larger than the width M2 of the second connection electrode 32 positioned at the top 41 of the insulator 40
  • the present invention is not limited to this. . That is, in the input device X3, the widths M1 and M2 may be the same width, and the thickness L1 may be larger than the thickness L2. In the input device X3, the thicknesses L1 and L2 may be the same, and the width M1 may be larger than the width M2.
  • the input device X4 is a capacitive touch panel, like the input devices X1 to X3.
  • FIG. 10 is a diagram showing the input device X4, and is a cross-sectional view corresponding to II in FIG.
  • the surface roughness of the end portion 42 of the insulator 40 is larger than the surface roughness of the top portion 41 of the insulator 40. Since the surface roughness of the end portion 42 of the insulator 40 is larger than the surface roughness of the top portion 41 of the insulator 40, the contact area of the second connection electrode 32 positioned at the end portion 42 of the insulator 40 with respect to the insulator 40. Is larger than the contact area of the second connection electrode 32 located on the top 41 of the insulator 40 with respect to the insulator 40.
  • the adhesive strength of the second connection electrode 32 positioned at the end portion 42 of the insulator 40 is stronger than the adhesive strength of the second connection electrode 32 positioned at the top portion 41 of the insulator 40. For this reason, even if stress is applied to the second connection electrode 32 positioned at the end portion 42 of the insulator 40 by pressing of the user's finger or the like, the adhesive strength of the second connection electrode 32 at the end portion 42 of the insulator 40. Is secured to some extent, it is possible to suppress the peeling off of the second connection electrode 32 at the portion.
  • the input device X5 is a capacitive touch panel, like the input devices X1 to X4.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view showing an input device X5 according to the fifth embodiment.
  • the base 10 is warped so as to protrude to the side opposite to the side where the first detection electrode pattern 20 and the second detection electrode pattern 30 are located.
  • the base 10 is such that the central portion of the input region E I is operated on the opposite side to the side where the first detection electrode pattern 20 and the second detection electrode pattern 30 are located (that is, the user operates with a finger or the like). It is curved to protrude to the side. For this reason, even if stress is applied to the base 10 by pressing the user's finger or the like, the base 10 is curved so as to protrude to the side operated by the user with the finger or the like. The stress applied to 20 and the second detection electrode pattern 30 can be relaxed.
  • the display device Y1 includes an input device X1 and a liquid crystal display device Z1.
  • the liquid crystal display device Z1 includes a liquid crystal display panel 60, a light source device 70, and a housing 80.
  • the liquid crystal display panel 60 includes an upper substrate 61, a lower substrate 62, and a sealing member 63, and a liquid crystal layer (not shown) is interposed between the upper substrate 61 and the lower substrate 62. ) Is interposed.
  • a liquid crystal layer is sealed with a sealing member 63, thereby forming a display region P composed of a plurality of pixels for displaying an image.
  • the light source device 70 plays a role of irradiating light toward the liquid crystal display panel 60 and is disposed between the liquid crystal display panel 60 and the lower housing 82.
  • the housing 80 is a member for housing the liquid crystal display panel 60 and the light source device 70, and has an upper housing 81 and a lower housing 82.
  • Examples of the material of the housing 80 include a resin such as a polycarbonate resin, or a metal such as stainless steel and aluminum.
  • the input device X1 and the liquid crystal display device Z1 are bonded via a double-sided tape T1.
  • the fixing member used for fixing the input device X1 and the liquid crystal display device Z1 is not limited to the double-sided tape T1, and for example, an adhesive member such as a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin, or the input device X1. And a fixed structure that physically fixes the liquid crystal display device Z1.
  • the liquid crystal layer is controlled for each pixel by a liquid crystal driving circuit provided outside, the light from the light source device 70 is transmitted through the liquid crystal display panel 60, and an image is displayed on the display region P. it can.
  • the display device Z1 includes an input device X1. Thereby, the display device Y1 has the same effect as that produced by the input device X1.
  • the surface located on the opposite side of the main surface 10a of the base 10 is a surface operated by a user with a finger or the like, but is not limited thereto.
  • the main surface 10a of the base body 10 is formed via the protective substrate 10A.
  • the surface may be operated by the user with a finger or the like.
  • the insulator 40 has been described as an example in which the insulator 40 has a rectangular shape extending in the direction along the second detection electrode pattern 30 when viewed from above, the present invention is not limited thereto. That is, the insulator 40 may be circular, elliptical, or the like when viewed from above. If the insulator 40 is circular or elliptical when viewed from above, the stress applied to the insulator 40 can be further relaxed.
  • the minimum value of the insulator 40 takes a negative value, but may take a positive value as shown in FIG.
  • the display panel is a liquid crystal display panel
  • the present invention is not limited to this. That is, the display panel may be a CRT, plasma display, organic EL display, inorganic EL display, LED display, fluorescent display tube, field emission display, surface electric field display, electronic paper, or the like.
  • any of the input devices X2 to X5 may be employed instead of the input device X1.
  • a new input device may be adopted by combining at least two of the input devices X1 to X5.
  • a new input device may be adopted by combining the input device X1 and the input device X2, or a new input device may be adopted by combining the input devices X1 to X3.
  • a new input device may be adopted by combining the input devices X1 to X4, or a new input device may be adopted by combining the input devices X1 to X5.

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Abstract

 入力装置は、主面を有する基体と、基体の主面上に設けられる第1検出電極パターンと、基体の主面上に設けられ、一部が絶縁体を介して第1検出電極パターンと交差する第2検出電極パターンと、を備え、絶縁体は、第2検出電極パターンに沿った断面で、絶縁体の端部から頂部までの領域に凸曲面を有している。

Description

入力装置、およびこれを備えた表示装置
 本発明は、使用者が入力操作した箇所を入力位置として検出する入力装置、およびこれを備えた表示装置に関する。
 例えば、静電容量方式のタッチパネルのような従来の入力装置は、基体と、基体の主面上に設けられる第1検出電極パターンと、基体の主面上に設けられかつ第1検出電極パターンと交差する第2検出電極パターンとを備えている(例えば、特許文献1参照)。
 このような入力装置では、第1検出電極パターンと第2検出電極パターンとの間に、第1検出電極パターンと第2検出電極パターンとを電気的に絶縁するための絶縁体が設けられている。すなわち、絶縁体は、第1検出電極パターンの一部を覆うように基体の主面上に設けられており、第2検出電極パターンの一部は、絶縁体の上面に設けられている。これにより、第1検出電極パターンと第2検出電極パターンとを電気的に絶縁しつつ、第1検出電極パターンと第2検出電極パターンとを交差させることができる。
 しかしながら、上記従来の入力装置では、絶縁体を第2検出電極パターンに沿った断面で断面視したとき、絶縁体が矩形状をなしている。このため、絶縁体に対して使用時の押圧力等が加わると、絶縁体が変形してその上に設けられている第2検出電極パターンに応力が加わることになる。この応力が第2検出電極パターンに繰り返し加わると、第2検出電極パターンが破損する可能性があった。
特開2008-310551号公報
 本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、第2検出電極パターンの破損を抑制することができる入力装置、およびこれを備えた表示装置を提供することである。
 本発明の入力装置における一態様は、主面を有する基体と、前記基体の前記主面上に設けられる第1検出電極パターンと、前記基体の前記主面上に設けられ、一部が絶縁体を介して前記第1検出電極パターンと交差する第2検出電極パターンと、を備えている。また、前記絶縁体は、前記第2検出電極パターンに沿った断面で、該絶縁体の端部から頂部までの領域に凸曲面を有している。
本発明の第1の実施形態に係る入力装置を表す平面図である。 (a)は図1の入力装置の要部を拡大して表した平面図であり、(b)は図1の入力装置の要部を拡大して表した斜視図である。 (a)は図1のI-Iに沿った断面図であり、(b)は図1のII-IIに沿った断面図である。 図3(a)のR部分を拡大して表した図である。 (a)~(d)は、入力装置の製造工程を説明するための図であり、図1のI-Iに沿った断面の製造工程を説明するための図である。 本発明の第2の実施形態に係る入力装置を表す図であり、図1のI-Iに対応した断面図である。 図6のR部分を拡大して表した図であり、基体の主面に対する絶縁体の傾斜角度θの変化を説明するための図である。 本発明の第3の実施形態に係る入力装置を表す図であり、図1のI-Iに対応した断面図である。 図8の入力装置の要部を拡大して表した平面図である。 本発明の第4の実施形態に係る入力装置を表す図であり、図1のI-Iに対応した断面図である。 本発明の第5の実施形態に係る入力装置を表す断面図である。 第1の実施形態に係る入力装置を備えた表示装置を表す断面図である。 液晶表示パネルを示す斜視図である。 本発明の変形例に係る入力装置を表しており、図1のI-Iに対応した図である。 図6の変形例を表しており、(a)は図1のI-Iに対応した図であり、(b)は(a)のR部分を拡大して表した図である。
 以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。但し、以下で参照する各図は、説明の便宜上、本発明の一実施形態の構成部材のうち、本発明を説明するために必要な主要部材のみを簡略化して示したものである。したがって、本発明に係る入力装置、およびこれを備えた表示装置は、本明細書が参照する各図に示されていない任意の構成部材を備え得る。
 [実施の形態1]
 本発明の第1の実施形態に係る入力装置X1について説明する。入力装置X1は、静電容量方式のタッチパネルである。
 図1に示すように、入力装置X1は、使用者が指等で操作することにより情報を入力するための入力領域Eと、入力領域Eの外側に位置する外側領域Eとを有している。また、外側領域Eには、図外のFPC(Flexible Printed Circuit)等と電気的に接続される領域である外部導通領域Eを有している。
 入力装置X1は、図1~図4に示すように、基体10、第1検出電極パターン20、第2検出電極パターン30、絶縁体40、および検出用配線50を備えている。
 基体10は、図3(a)および図3(b)に示すように、主面10aを有している。基体10の平面視形状は、例えば、矩形状とされているが、これに限定されない。基体10の材料は、透光性を有するものが挙げられ、例えば、ガラスあるいはプラスチック等である。なお、本明細書において「透光性」とは、可視光に対する透過性を有することを意味する。また、入力領域Eにおいて、基体10の主面10aとは反対側に位置する面が、使用者が指等で操作することにより情報を入力するための面となる。
 第1検出電極パターン20は、基体10の主面10a上に設けられている。第1検出電極パターン20は、第1検出電極21、および第1接続電極22を有している。
 第1検出電極21は、図1で示された矢印B方向での指等による入力位置の検出を行う機能を有する部材である。第1検出電極21は、入力領域Eに対応する基体10の主面10a上に設けられている。第1検出電極21は、所定の間隔を空けてマトリックス状に配置されている。第1検出電極21は、平面視形状が略ひし形をなしているが、これには限られない。第1検出電極21の材料としては、透光性および導電性を有するものが挙げられ、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)、ATO(Antimony Tin Oxide)、AZO(Al-Doped Zinc Oxide)、酸化錫、酸化亜鉛、あるいは導電性高分子等である。
 第1検出電極21の形成方法としては、例えば、次のような方法が挙げられる。まず、スパッタリング法、蒸着法、あるいは化学気相成長(CVD)法により、ITO等の材料を基体10の主面10a上に塗布し膜を形成する。そして、形成した膜の表面に感光性樹脂を塗布し、感光性樹脂に対して露光処理、現像処理を行うことで感光性樹脂に所望のパターンを形成する。そして、形成した膜に対して薬液等を用いてエッチングを行い、パターニングする。そして、形成した膜の表面に存在する感光性樹脂を除去することで、第1検出電極21が形成される。
 第1接続電極22は、隣り合う第1検出電極21を電気的に接続する機能を有する部材である。第1接続電極22は、入力領域Eに対応する基体10の主面10a上に設けられている。第1接続電極22の材料は、第1検出電極21と同様のものが挙げられる。また、第1接続電極22の形成方法は、第1検出電極21と同様の方法が挙げられる。
 第2検出電極パターン30は、基体10の主面10a上に設けられている。第2検出電極パターン30は、第2検出電極31、および第2接続電極32を有している。
 第2検出電極31は、図1で示された矢印A方向での指等による入力位置の検出を行う機能を有する部材である。第2検出電極31は、入力領域Eに対応する基体10の主面10a上に設けられている。また、第2検出電極31は、所定の間隔を空けてマトリックス状に配置されている。第2検出電極31の形状は、平面視形状が略ひし形をなしているが、これには限られない。第2検出電極31の材料は、第1検出電極21と同様のものが挙げられる。また、第2検出電極31の形成方法は、第1検出電極21と同様の方法が挙げられる。
 絶縁体40は、第1検出電極パターン20と第2検出電極パターン30とを電気的に絶縁する役割を担う部材である。絶縁体40は、第1検出電極パターン20における第1接続電極22の一部を覆うように、基体10の主面10a上に設けられている。また、絶縁体40は、第1接続電極22に対して基体10の主面10aとは反対側に位置する上面40aを有している。また、絶縁体40の上面40aは、第2接続電極22に対向する頂部41と、頂部41と第2検出電極31との間に位置する端部42とを有している。絶縁体40の材料は、絶縁性を有するものが挙げられ、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等である。
 また、絶縁体40は、図3(a)に示すように、第2検出電極パターン30に沿った断面で、絶縁体40の端部42から頂部41までの領域に凸曲面43を有している。なお、絶縁体40に凸曲面43を有している理由については後述する。
 第2接続電極32は、隣り合う第2検出電極31を電気的に接続する機能を有する部材である。また、図2に示すように、第2接続電極32は、絶縁体40の上面40aに位置している。すなわち、第2接続電極32の一部は、絶縁体40を介して第1接続電極22の一部と交差している。言い換えれば、第2検出電極パターン30の一部が絶縁体40を介して第1検出電極パターン20の一部と交差している。第2接続電極32の材料は、第1検出電極21と同様のものが挙げられる。また、第2接続電極32の形成方法は、第1検出電極21と同様の方法が挙げられる。
 上述したように、絶縁体40は、第2検出電極パターン30に沿った断面で、絶縁体40の端部42から頂部41までの領域に凸曲面43を有している。そのため、絶縁体40が第2検出電極パターン30に沿った断面で矩形状をなす場合に比べて、使用者の指等による押圧力が絶縁体40に加わっても、絶縁体40の端部42に位置する第2接続電極32に加わる応力を緩和することができる。すなわち、絶縁体40は、絶縁体40の端部42から頂部41までの領域にかけて丸みを帯びているので、該丸みの部分で応力が緩和されることになるからである。
 図4は、図3(a)のR部分を拡大して表した図であり、図3(a)の上下方向を反対にして表した図である。図4では、基体10の主面10aに対する絶縁体40の傾斜角度を「θ」とするとともに、基体10の主面10aに直交する方向と絶縁体40とのなす角を「θ´」としている。すなわち、θ+θ´=90°の関係式が成り立つ。
 本実施形態では、絶縁体40の傾斜角度θは、基体10の主面10aに直交する方向と絶縁体40とのなす角θ´よりも小さく設定されている。また、絶縁体40の傾斜角度θは2~20°の範囲に設定されていることが好ましい。絶縁体40の傾斜角度θが2~20°の範囲に設定されていると、絶縁体40の凸曲面43でより応力を緩和することができる。また、絶縁体40の傾斜角度θが2~20°の範囲に設定されていると、絶縁体40の上面40aに位置する第2接続電極32が使用者に視認され難くなる。第2検出電極31の高さ位置と第2接続電極32の高さ位置との差が小さくなるからである。このため、入力装置X1の視認性が向上する。
 また、本実施形態では、絶縁体40の上面40aは、第2検出電極パターン30に沿った断面に比べて該断面と直交する方向の断面の方が平坦である。具体的には、図3(a)に示す断面と図3(b)に示す断面とを比べた場合に、図3(a)に示す断面における絶縁体40の上面40aよりも、図3(b)に示す断面における絶縁体40の上面40aの方が平坦であることを意味する。ここで、「平坦」とは、曲率が小さいことをいう。「曲率」は、各断面において、例えば、断面に沿った方向の中心点を基準点として、この基準点から最小距離の点と最大距離の点との2点における差をとることで、判断できる。すなわち、2点の差が小さいほど曲率が小さいことを意味している。
 また、本実施形態では、図2(a)に示すように、絶縁体40は、上面視して、第2検出電極パターン30に沿った方向(矢印B方向)に伸びる長方形状をなしている。具体的には、絶縁体40は、上面視して、第2検出電極パターン30に沿った方向(矢印B方向)の長さが、第1検出電極パターン20に沿った方向(矢印A方向)の長さよりも長い長方形状をなしている。このため、使用者の指等による押圧力が絶縁体40に加わると、絶縁体40の第2検出電極パターン30に沿った方向(矢印B方向)に比較的大きな応力が加わるのに対して、絶縁体40の第1検出電極パターン20に沿った方向(矢印A方向)には比較的小さな応力が加わることになる。
 ここで、本実施形態のように、絶縁体40の上面40aが、第2検出電極パターン30に沿った断面に比べて該断面と直交する方向の断面の方が平坦であれば、絶縁体40の第2検出電極パターン30に沿った方向(矢印B方向)に加わる比較的大きな応力を集中して緩和することができる。この結果、絶縁体40の端部42に位置する第2接続電極32に加わる応力をより緩和することができる。
 検出用配線50は、第1検出電極パターン20および第2検出電極パターン30に電圧を印加する機能を有する部材である。検出用配線50は、外側領域Eに対応する基体10の主面10a上に設けられている。検出用配線50は、一端部が第1検出電極パターン20および第2検出電極パターン30と電気的に接続され、他端部が外部導通領域Eに位置している。検出用配線50の材料は、導電性を有するものが挙げられ、例えば、ITO、酸化錫、アルミニウム、アルミニウム合金、銀膜、あるいは銀合金等である。また、検出用配線50の形成方法としては、第1検出電極21と同様の形成方法が挙げられる。
 次に、上記の入力装置X1の製造方法について、図5を参照して説明する。なお、図5(a)~(d)は、図1のI-Iに沿った断面の製造工程を説明するための図である。
 まず、スパッタリング法、蒸着法、あるいは化学気相成長(CVD)法により、ITO等の材料を基体10の主面10a上に塗布し膜を形成する。そして、形成した膜の表面に感光性樹脂を塗布し、感光性樹脂に対して露光処理、現像処理を行うことで感光性樹脂に所望のパターンを形成する。そして、形成した膜に対して薬液等を用いてエッチングを行い、パターニングする。そして、形成した膜の表面に存在する感光性樹脂を除去することで、図5(a)に示すように、第1接続電極22が形成される。
 次に、所望の形状をした金型Kに例えばUV硬化性のアクリル樹脂を塗布する。そして、図5(b)に示すように、その塗布した金型Kを第1接続電極22が設けられている基体10の主面10aに押し当てる。そして、この金型Kに対して基板の主面10aと反対側からUV光を照射させることでアクリル樹脂を硬化させる。アクリル樹脂の硬化後に、金型Kを外すことで、図5(c)に示すように、絶縁体40が形成される。
 次に、基体10の主面10a上に、さらにITO等の材料を塗布し膜を形成する。このとき、絶縁体40は、断面視において、絶縁体40の端部42から頂部41までの領域に凸曲面43を有しているので、この凸曲面43には十分厚く膜を形成することができる。形成した膜に対して、所望の形状にパターニングすることで、図5(d)に示すように、第2検出電極31および第2接続電極32が形成される。特に、絶縁体40の端部42に位置する第2接続電極32は、凸曲面43により厚みが十分に確保されることになる。
 このようにして、上記の入力装置X1が製造される。
 但し、入力装置X1の製造方法はこれに限定されない。例えば、ペースト状の樹脂を基体10の主面10a上に塗布して、露光処理および現像処理を行い、断面視して矩形状の絶縁体40を形成する。そして、形成した絶縁体40を所定時間、加熱処理する。これにより、絶縁体40の粘度を低くして、絶縁体40の表面を滑らかにし、本実施形態のような凸曲面43を有する絶縁体40を形成してもよい。
 次に、入力装置X1の入力位置の検出原理について説明する。
 入力領域Eにおいて、基体10の主面10aとは反対側に位置する面に、使用者の指が近接、接触、または押圧すると、指と第1検出電極パターン20および第2検出電極パターン30との間の静電容量が変化する。ここで、入力装置X1に備えられる図示しないドライバは、指と第1検出電極パターン20および第2検出電極パターン30との間の静電容量の変化を常に検出している。このドライバは、所定値以上の静電容量の変化を検出すると、静電容量の変化が検出された位置を入力位置として検出する。このようにして、入力装置X1は、入力位置を検出することができる。
 なお、入力装置X1が入力位置を検出する方式として、相互キャパシタンス方式および自己キャパシタンス方式のいずれの方式であってもよい。相互キャパシタンス方式を採用すると、同時に複数の入力位置を検出できるので、自己キャパシタンス方式を採用する場合と比べて、好ましい。
 [実施の形態2]
 次に、本発明の第2の実施形態に係る入力装置X2について説明する。入力装置X2は、入力装置X1と同様、静電容量方式のタッチパネルである。
 図6は、入力装置X2を表す図であり、図1のI-Iに対応した断面図である。図7は、図6のR部分を拡大して表した図であり、基体10の主面10aに対する絶縁体40の傾斜角度θの変化を説明するための図である。なお、図7の絶縁体40の各部位での傾斜角度θは、絶縁体40の各部位に接線を引いた場合における、当該接線と基体10の主面10aとがなす角度である。
 入力装置X2では、図7に示すように、基体10の主面10aに対する絶縁体40の傾斜角度θが、第2検出電極パターン30に沿った断面において、絶縁体40の端部42と頂部41との間に極小値と極大値とを有している。なお、極小値とは、傾斜角度θのグラフにおいて、傾斜角度θが減少から増加に転じるときの傾斜角度θの値である。また、極大値とは、傾斜角度θのグラフにおいて、傾斜角度θが増加から減少に転じるときの傾斜角度θの値である。
 すなわち、入力装置X2では、絶縁体40は、絶縁体40の端部42と頂部41との間に凹曲面44を有している。本実施形態では、凹曲面44は、凸曲面43と頂部41との間に位置している。本実施形態では、凸曲面43と凹曲面44とは、滑らかに連続した面である。入力装置X2では、凸曲面43に加えて、凹曲面44を有しているので、使用者の指等による押圧力が絶縁体40に加わっても、絶縁体40の凸曲面43および凹曲面44で応力が緩和されるので、絶縁体40の端部42に位置する第2接続電極32に加わる応力をより緩和することができる。なお、1つの絶縁体40に対する凹曲面44の数については特に限定されない。
 [実施の形態3]
 次に、本発明の第3の実施形態に係る入力装置X3について説明する。入力装置X3は、入力装置X1,X2と同様、静電容量方式のタッチパネルである。
 図8は、入力装置X3を表す図であり、図1のI-Iに対応した断面図である。図9は、図8の入力装置X3の要部を拡大して表した平面図である。
 入力装置X3では、図8に示すように、第2検出電極パターン30に沿った断面において、絶縁体40の端部42に位置する第2検出電極パターン30における第2接続電極32の厚みL1は、絶縁体40の頂部41に位置する第2検出電極パターン30における第2接続電極32の厚みL2よりも大きい。このため、使用者の指等の押圧により、絶縁体40の端部42に位置する第2接続電極32に応力が加わっても、絶縁体40の端部42において第2接続電極32の厚みL1がある程度確保されているので、当該部位での第2接続電極32の耐久性が向上する。そのため、入力装置X3では、第2接続電極32の破損をより低減することができる。
 なお、入力装置X3では、絶縁体40の端部42近傍に位置する基体10の主面10a上に、ダミー電極32aを設けている。ダミー電極32aを設けることで、絶縁体40の端部42に位置する第2接続電極32の厚みL1を大きくしている。なお、絶縁体40の端部42に位置する第2接続電極32の厚みL1を大きくすることができれば、この方法には限られない。
 また、入力装置X3では、図9に示すように、上面視して、絶縁体40の端部42に位置する第2検出電極パターン30における第2接続電極32の幅M1は、絶縁体40の頂部41に位置する第2検出電極パターン30における第2接続電極32の幅M2よりも大きい。このため、使用者の指等の押圧により、絶縁体40の端部42に位置する第2接続電極32に応力が加わっても、絶縁体40の端部42において第2接続電極32の幅M1がある程度確保されているので、当該部位での第2接続電極32の耐久性が向上する。そのため、入力装置X3では、第2接続電極32の破損をより低減することができる。
 なお、入力装置X3では、絶縁体40の端部42に位置する第2接続電極32の厚みL1が、絶縁体40の頂部41に位置する第2接続電極32の厚みL2よりも大きく、かつ、絶縁体40の端部42に位置する第2接続電極32の幅M1が、絶縁体40の頂部41に位置する第2接続電極32の幅M2よりも大きい場合について説明したが、これに限定されない。すなわち、入力装置X3では、上記の幅M1およびM2が同じ幅であり、かつ、上記の厚みL1が上記の厚みL2よりも大きくてもよい。また、入力装置X3では、上記の厚みL1およびL2が同じ厚みであり、かつ、上記の幅M1が上記の幅M2よりも大きくてもよい。
 [実施の形態4]
 次に、本発明の第4の実施形態に係る入力装置X4について説明する。入力装置X4は、入力装置X1~X3と同様、静電容量方式のタッチパネルである。
 図10は、入力装置X4を表す図であり、図1のI-Iに対応した断面図である。
 入力装置X4では、図10に示すように、絶縁体40の端部42の表面粗さは、絶縁体40の頂部41の表面粗さよりも大きい。絶縁体40の端部42の表面粗さが、絶縁体40の頂部41の表面粗さよりも大きいので、絶縁体40の端部42に位置する第2接続電極32の当該絶縁体40に対する接触面積は、絶縁体40の頂部41に位置する第2接続電極32の当該絶縁体40に対する接触面積よりも大きくなる。すなわち、絶縁体40の端部42に位置する第2接続電極32の接着強度は、絶縁体40の頂部41に位置する第2接続電極32の接着強度よりも強い。このため、使用者の指等の押圧により、絶縁体40の端部42に位置する第2接続電極32に応力が加わっても、絶縁体40の端部42において第2接続電極32の接着強度がある程度確保されているので、当該部位での第2接続電極32の剥がれを抑制することができる。
 [実施の形態5]
 次に、本発明の第5の実施形態に係る入力装置X5について説明する。入力装置X5は、入力装置X1~X4と同様、静電容量方式のタッチパネルである。
 図11は、第5の実施形態に係る入力装置X5を表す断面図である。
 入力装置X5では、図11に示すように、基体10は、第1検出電極パターン20および第2検出電極パターン30が位置する側とは反対側に突出するように反っている。本実施形態では、基体10は、入力領域Eの中央部分が、第1検出電極パターン20および第2検出電極パターン30が位置する側とは反対側(すなわち、使用者が指等で操作する側)に突出するように湾曲している。このため、使用者の指等の押圧により、基体10に応力が加わっても、基体10が、使用者が指等で操作する側に突出するように湾曲しているので、第1検出電極パターン20および第2検出電極パターン30に加わる応力を緩和することができる。
 次に、第1の実施形態に係る入力装置X1を備えた表示装置Y1について説明する。
 表示装置Y1は、図12に示すように、入力装置X1、および液晶表示装置Z1を備えている。また、液晶表示装置Z1は、液晶表示パネル60、光源装置70、および筐体80を備えている。
 液晶表示パネル60は、図13に示すように、上側基板61、下側基板62、および封止部材63を備えており、上側基板61と下側基板62との間に液晶層(図示せず)が介在されている。液晶表示パネル60は、液晶層を封止部材63で封止することにより、画像を表示するための複数の画素からなる表示領域Pが形成される。
 光源装置70は、液晶表示パネル60に向けて光を照射する役割を担うものであり、液晶表示パネル60と下側筐体82との間に配置されている。
 筐体80は、液晶表示パネル60および光源装置70を収容するための部材であり、上側筐体81および下側筐体82を有する。筐体80の材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂等の樹脂、あるいはステンレス、アルミニウム等の金属が挙げられる。
 入力装置X1と液晶表示装置Z1とは、両面テープT1を介して接着される。なお、入力装置X1と液晶表示装置Z1との固定に使用される固定用部材は両面テープT1には限られず、例えば、熱硬化性樹脂、あるいは紫外線硬化性樹脂等の接着部材や、入力装置X1と液晶表示装置Z1とを物理的に固定する固定構造体であってもよい。
 表示装置Y1においては、外部に設けられた液晶用駆動回路によって画素毎に液晶層を制御して、光源装置70の光を液晶表示パネル60に透過させ、表示領域Pに画像を表示させることができる。
 表示装置Z1は、入力装置X1を備えている。これにより、表示装置Y1は、入力装置X1が奏する効果と同様の効果を奏することになる。
 なお、上述した実施形態は、本発明の実施形態の具体例を示すものであり、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変形が可能である。以下、その変形例を示す。
 第1~第5の実施形態においては、基体10の主面10aとは反対側に位置する面が、使用者が指等で操作する面である例について説明したが、これに限定されない。例えば、図14に示すように、基体10の主面10a上に、接合部材G1を介して保護用基板10Aを貼り付けることにより、この保護用基板10Aを介して、基体10の主面10aが、使用者が指等で操作する面であるようにしてもよい。
 また、絶縁体40は、上面視して、第2検出電極パターン30に沿った方向に伸びる長方形状をなしている例について説明したが、これに限定されない。すなわち、絶縁体40は、上面視して、円状、楕円状等であってもよい。絶縁体40が上面視して円状、楕円状であれば、絶縁体40に加わる応力をより緩和することができる。
 また、入力装置X2では、絶縁体40の極小値が負の値をとるが、図15に示すように、正の値をとってもよい。
 また、表示装置Y1では、表示パネルが液晶表示パネルである例について説明したが、これに限定されない。すなわち、表示パネルは、CRT、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ、無機ELディスプレイ、LEDディスプレイ、蛍光表示管、電界放出ディスプレイ、表面電界ディスプレイ、あるいは電子ペーパ等であってもよい。
 また、入力装置X1を備えた表示装置Y1の例について説明したが、当該入力装置X1に代えて、入力装置X2~X5のいずれかを採用してもよい。
 さらに、入力装置X1~X5の少なくとも2つを組み合わせることにより、新たな入力装置を採用してもよい。例えば、入力装置X1と入力装置X2とを組み合わせて新たな入力装置を採用してもよいし、入力装置X1~X3を組み合わせて新たな入力装置を採用してもよい。また、例えば、入力装置X1~X4を組み合わせて新たな入力装置を採用してもよいし、入力装置X1~X5を組み合わせて新たな入力装置を採用してもよい。
X1~X5 入力装置
Y1 表示装置
Z1 液晶表示装置
10 基体
20 第1検出電極パターン
21 第1検出電極
22 第1接続電極
30 第2検出電極パターン
31 第2検出電極
32 第2接続電極
40 絶縁体
41 絶縁体の頂部
42 絶縁体の端部
43 凸曲面
60 表示パネル(液晶表示パネル)

Claims (10)

  1.  主面を有する基体と、
     前記基体の前記主面上に設けられる第1検出電極パターンと、
     前記基体の前記主面上に設けられ、一部が絶縁体を介して前記第1検出電極パターンと交差する第2検出電極パターンと、を備え、
     前記絶縁体は、前記第2検出電極パターンに沿った断面で、該絶縁体の端部から頂部までの領域に凸曲面を有していることを特徴とする入力装置。
  2.  前記基体の前記主面に対する前記絶縁体の傾斜角度が、前記第2検出電極パターンに沿った断面で、前記絶縁体の前記端部と前記頂部との間に少なくとも1個の極小値と極大値とを有する、請求項1に記載の入力装置。
  3.  前記絶縁体の上面は、前記第2検出電極パターンに沿った断面に比べて該断面と直交する方向の断面の方が、平坦である、請求項1に記載の入力装置。
  4.  前記絶縁体は、上面視して、前記第2検出電極パターンに沿った方向に伸びる長方形状をなしている、請求項1に記載の入力装置。
  5.  前記第2検出電極パターンに沿った断面で、前記絶縁体の前記端部に位置する前記第2検出電極パターンの厚みは、前記絶縁体の前記頂部に位置する前記第2検出電極パターンの厚みよりも大きい、請求項1に記載の入力装置。
  6.  上面視して、前記絶縁体の前記端部に位置する前記第2検出電極パターンの幅は、前記絶縁体の前記頂部に位置する前記第2検出電極パターンの幅よりも大きい、請求項1に記載の入力装置。
  7.  前記絶縁体の前記端部の表面粗さは、前記絶縁体の前記頂部の表面粗さよりも大きい、請求項1に記載の入力装置。
  8.  前記基体は、前記第1検出電極パターンおよび前記第2検出電極パターンが位置する側とは反対側に突出するように反っている、請求項1に記載の入力装置。
  9.  請求項1に記載の入力装置と、
     前記入力装置と対向配置される表示パネルと、を備えた表示装置。
  10.  前記表示パネルは、液晶表示パネルである、請求項9に記載の表示装置。
     
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