CN105335029A - 电容式触摸屏及其制作方法 - Google Patents

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CN105335029A CN201410395750.3A CN201410395750A CN105335029A CN 105335029 A CN105335029 A CN 105335029A CN 201410395750 A CN201410395750 A CN 201410395750A CN 105335029 A CN105335029 A CN 105335029A
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王士敏
曾富强
何云富
郭志勇
李绍宗
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Chongqing Lai Bao Science And Technology Ltd
Shenzhen Laibao Hi Tech Co Ltd
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Chongqing Lai Bao Science And Technology Ltd
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Abstract

本发明涉及平板显示技术领域,尤其涉及一种电容式触摸屏制作方法。所述电容式触摸屏制作方法至少包括以下步骤:提供一至少具有一第一表面的基板;在所述第一表面上形成多个第一电极单元;在所述第一表面上形成至少一桥接结构,所述桥接结构电性连接相邻的两所述第一电极单元,所述桥接结构至少包括一第一功能层,制成所述第一功能层的材料为不透明的导电化合物。此外,本发明还提供了一种电容式触摸屏。

Description

电容式触摸屏及其制作方法
技术领域
本发明涉及平板显示技术领域,尤其涉及一种电容式触摸屏及其制作方法。
背景技术
电容式触摸屏可分为表面电容式触摸屏和投射电容式触摸屏。表面电容式触摸屏仅能实现单点触控,而投射电容式触摸屏由于其可实现多点触控被广泛应用于各类电子产品中。
投射电容式触摸屏又分为单层或双层式,单层式的投射电容式触摸屏由于其具有工艺简单,透过率高且触控灵敏度高等优点而逐渐成为主流,其主要包括基板、第一感测电极层、第二感测电极层。第一感测电极层和第二感测电极层同时形成于基板的同一表面。第一感测电极层包括多条相互平行且间隔分布的第一感应电极串列,第二感测电极层包括多条相互平行且间隔分布的第二感应电极串列,且第一感应电极串列与第二感应电极串列在平行于基板的平面上的投影相垂直。每一第二感应电极串列被第一感应电极串列隔断为多个第二感应单元,并同一第二感应电极串列的多个第二感应单元通过桥接线串接在一起,桥接线与第一感测电极串列重叠处通过绝缘块绝缘开。
上述投射电容式触摸屏中,所述桥接线经常是由金属材料制成。然而,金属材料一般具有反光的特性,即外界光线经过所述桥接线时,所述桥接线经常会被肉眼看到,因此,极大的影响了电容式触摸屏的外观效果。
发明内容
有鉴于此,本发明提供一种有利于提高外观效果的电容式触摸屏制作方法。
此外,还有必要提供一种由上述电容式触摸屏制作方法制成的电容式触摸屏。
本发明提供的所述电容式触摸屏制作方法至少包括以下步骤:提供一至少具有一第一表面的基板;在所述第一表面上形成多个第一电极单元;在所述第一表面上形成至少一桥接结构,所述桥接结构电性连接相邻的两所述第一电极单元,所述桥接结构至少包括一第一功能层,制成所述第一功能层的材料为不透明的导电化合物。
本发明提供的所述电容式触摸屏制作方法中,所述桥接结构还包括一第二功能层,所述制作方法还包括在所述第一功能层上形成所述第二功能层的步骤,所述第二功能层至少由具有良好导电性能的材料制成,所述第二功能层在所述第一表面上的投影被所述第一功能层在所述第一表面上的投影覆盖。
本发明提供的所述电容式触摸屏制作方法中,所述桥接结构还包括一第三功能层,所述制作方法还包括在所述第二功能层上形成所述第三功能层的步骤,所述第三功能层至少由具有保护功能的材料制成。
本发明提供的所述电容式触摸屏制作方法中,所述导电化合物为金属氮化物,所述第一功能层的制作方法为,在溅射金属材料时通入氮气。
本发明提供的所述电容式触摸屏制作方法中,所述金属材料为钼或铬,所述金属氮化物为氮化钼或者氮化铬。
本发明提供的所述电容式触摸屏制作方法中,所述导电化合物为氮化钼或者氮化铬,所述第一功能层的制作方法为,在溅射金属钼或者铬材料时通入氮气。
本发明提供的所述电容式触摸屏制作方法中,所述制作方法还包括在所述第一表面上形成多个第一电极单元的同时形成多个第二电极单元以及第二连接线的步骤,所述第二连接线电性连接相邻的两所述第二电极单元,所述绝缘块形成于所述第二连接线上,所述桥接结构形成于所述绝缘块之上,所述绝缘块面向所述桥接结构的一面的表面粗糙度大于所述基板的第一表面的表面粗糙度,所述第一电极单元沿第一方向设置,所述第二电极单元沿第二方向设置。
本发明提供的所述电容式触摸屏制作方法中,所述第一表面至少包括第一区域和第二区域,所述第二区域至少位于所述第一区域的一侧且邻接于所述第一区域,多个所述第一电极单元形成于所述第一区域所在的第一表面上,所述制作方法还包括,在形成多个所述第一电极单元之前,还包括在所述第二区域上形成遮挡层的步骤。
本发明提供的所述电容式触摸屏制作方法中,所述制作方法还包括在所述第一表面形成导电引线的步骤,所述导电引线形成于所述第二区域并位于所述遮挡层之上,所述导电引线与所述桥接结构在同一制程中一并制成。
本发明还提供了一种电容式触摸屏,其至少包括:一至少具有一第一表面的基板;形成于所述第一表面上的多个第一电极单元;将相邻的两所述第一电极单元电性连接的至少一桥接结构,所述桥接结构至少包括一第一功能层,制成所述第一功能层的材料为不透明的导电化合物。
本发明还提供了另一种电容式触摸屏制作方法,其至少包括以下步骤:提供一至少具有一第一表面的基板;在所述第一表面上形成至少一桥接结构,所述桥接结构至少包括一第一功能层,制成所述第一功能层的材料为不透明的导电化合物;在所述第一表面上形成多个第一电极单元,所述桥接结构电性连接相邻的两所述第一电极单元。
本发明提供的另一种电容式触摸屏制作方法中,所述制作方法还包括在所述第一表面上形成多个第一电极单元的同时形成多个第三电极单元、多个绝缘块以及第三连接线的步骤,所述第三连接线电性连接相邻的两所述第三电极单元,所述绝缘块形成于所述桥接结构上,所述第三连接线形成于所述绝缘块之上,所述绝缘块面向所述第三连接线的一面的表面粗糙度大于所述基板的第一表面的表面粗糙度,所述第一电极单元沿第一方向设置,所述第三电极单元沿第三方向设置。
本发明提供的另一种电容式触摸屏制作方法中,所述第一表面至少包括第一区域和第二区域,所述第二区域至少位于所述第一区域的一侧且邻接于所述第一区域,多个所述第一电极单元、多个所述第三电极单元形成于所述第一区域所在的第一表面上,所述电容式触摸屏还包括形成在所述第二区域上的一遮挡层、一绝缘层以及导电引线层,所述遮挡层与所述第一功能层在同一制程中一并制成,所述绝缘层与所述绝缘块在同一制程中一并制成,所述导电引线与所述第一电极单元、第三电极单元在同一制程中一并制成。
本发明提供的所述电容式触摸屏及其制作方法中,由于所述桥接结构至少包括一由不透明导电化合物制成的第一功能层,其吸光性较强,因此可以避免现有技术中仅由金属材料制成的桥接线所造成的反光现象,因而改进了所述电容式触摸屏的外观效果。又由于所述不透明导电化合物兼具金属和陶瓷的性质,因此,其与第一电极单元、绝缘块以及其上的由金属材料制成的第二功能层均具有良好的结合性能。
附图说明
下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明,附图中:
图1为本发明提供的一较佳实施方式的电容式触摸屏100的结构示意图;
图2为图1所示电容式触摸屏100沿A-A方向的一截面示意图;
图3为图1所示的电容式触摸屏制作方法的流程示意图;
图4为本发明提供的另一较佳实施方式的电容式触摸屏200的结构示意图;
图5为图4所示的电容式触摸屏200沿B-B方向的截面示意图;
图6为图4所示的电容式触摸屏制作方法的流程示意图。
具体实施方式
为说明本发明提供的电容式触摸屏及其制作方法,以下结合说明书附图及文字说明进行详细阐述。
请参考图1和图2,其为本发明提供的一较佳实施方式的电容式触摸屏100的结构示意图以及沿A-A方向的截面示意图,所述电容式触摸屏100至少包括一基板101,多个第一电极单元121、多个第二电极单元131、第二连接线133、绝缘块140以及桥接结构123。
所述基板101至少具有一第一表面101a,本实施方式中,所述第一表面101a为一平面,在其他实施方式,第一表面还可以为曲面或不规则的表面。所述基板101可由玻璃或者柔性材料制成。所述第一表面101a至少包括第一区域和第二区域(图中未示出),所述第二区域至少位于所述第一区域的一侧且邻接于所述第一区域。在本实施方式中,所述第二区域环绕于所述第一区域。
多个所述第一电极单元121、多个第二电极单元131、多个第二连接线133同时形成于所述基板101的第一区域所在的第一表面101a上,并与所述第一表面101a直接接触,相邻的两个第二电极单元131通过所述第二连接线133电性相连,多个所述第一电极单元121沿第一方向设置,多个所述第二电极单元131沿第二方向设置。本实施方式中,每一列的所述第二电极单元131与所述第二连接线133为一连续的电极串列,每一行的所述多个第一电极单元121被所述电极串列间隔开。所述第一电极单元121、第二电极单元131以及第二连接线133均由透明导电材料例如氧化铟锡、石墨烯等材料制成。本实施方式中,所述第一方向和第二方向垂直,在其他实施方式中,所述第一方向和第二方向也可以按照其他方式设置。
所述绝缘块140形成于所述第二连接线133上,即所述绝缘块140位于所述第二连接线133与所述桥接结构123之间,所述绝缘块140并分别覆盖相邻于所述第二连接线133的两所述第一电极单元121的一部分,所述绝缘块140面向所述桥接结构123的一面的表面粗糙度大于所述基板101的第一表面101a的表面粗糙度,其有利于所述桥接结构123在其上的附着性,防止所述桥接结构123在所述绝缘块140上脱落。所述绝缘层140的作用在于使所述桥接结构123与第二连接线133绝缘。所述绝缘层140可为SiO2/Si3N4或环氧树脂类材料,如OC胶等。
所述桥接结构123形成于所述绝缘块140之上。本实施方式中,所述桥接结构123包括第一功能层123a、第二功能层123b和第三功能层123c。所述桥接结构123用于连接相邻的两第一电极单元121,并实现触控信号的传输。在其他实施方式中,所述桥接结构也可以不包括第二功能层,或者不包括第三功能层,也可以仅有第一功能层。
所述第一功能层123a形成于所述绝缘块140之上,并部分或完全覆盖所述绝缘块140。制成所述第一功能层123a的材料为不透明的导电化合物,所述导电化合物为金属氮化物或金属氧化物,所述第一功能层123a的制作方法为在溅射金属材料时通入氮气。本实施方式中,所述导电化合物为氮化钼(MoNx)或氮化铬(GrNx),即在溅射金属钼或者铬的同时通入氮气。所述第一功能层123a在满足导电特性的同时,由于其不透明,且吸光性较强,因此不会反射外界光线,因而可以改善外观效果。所述第一功能层123a既具有陶瓷的性质,又具有金属的性质,其对于由具有陶瓷性的氧化铟锡构成的电极材料(包括第二连接线133和第一电极单元121)而言,所述第一功能层123a一方面与绝缘层140、两相邻的部分第一电极单元121之间有良好的附着性,另一方面与其上由金属材料制成的第二功能层123b亦有良好的附着性。
所述第二功能层123b形成于所述第一功能层123a之上,所述第二功能层123b至少由具有良好导电性能的材料制成,所述第二功能层123b在所述第一表面101a上的投影被所述第一功能层123a在所述第一表面101a上的投影覆盖。本实施方式中,所述第二功能层123b由金属铝制成,所述第二功能层123b还可由其他的导电材料制成。所述第二功能层123b在所述桥接结构123中起到导电的作用。
所述第三功能层123c形成于所述第二功能层123b之上,所述第三功能层123c至少由具有保护性能的材料制成,本实施方式中,所述第三功能层123c为金属钼,在其他实施方式中,所述第三功能层123c还可由其他钼的氧化物、氮化物或者钼的复合金属材料构成,所述钼的复合金属材料至少包括钛、锰、银、铂等中的一种或多种耐腐蚀金属。所述第三功能层123c起到保护第二功能层123b的作用,防止其不被氧化或腐蚀。
所述电容式触摸屏100还包括形成在所述第二区域上的遮挡层以及导电引线(图中未示出),所述遮挡层形成于所述第二区域所在的第一表面101a上,所述导电引线形成于所述遮挡层之上,所述导电引线层和桥接结构123在同一制程中一并制成。制成所述遮挡层的材料为黑色油墨,制成所述导电引线的材料与制成所述桥接结构123的材料相同,或者制成所述导电引线的材料为制成所述桥接结构123的材料的一部分。由于形成所述遮挡层时,通常是将黑色油墨涂覆在所述基板101的第一表面101a上,其不可避免的会有气泡或者涂覆不均匀的非正常现象,又由于所述导电引线与所述桥接结构的材料相同,所述桥接结构之上包括一由不透明导电化合物构成的第一功能层,因此,将所述导电引线与所述桥接结构由相同的材料并在同一制程中一并制成可以平衡上述非正常现象所带来的所述电容式触摸屏100的缺陷。
如图3所示,其为图1所述电容式触摸屏100的制作方法流程示意图。所述制作方法至少包括以下步骤:
步骤S01:提供一至少具有一第一表面的基板;
所述第一表面为一平面,在其他实施方式,第一表面还可以为曲面或不规则的表面。所述基板可由玻璃或者柔性材料制成。所述第一表面至少包括第一区域和第二区域(图中未示出),所述第二区域至少位于所述第一区域的一侧且邻接于所述第一区域。在本实施方式中,所述第二区域环绕于所述第一区域。
步骤S02:在所述第一表面上形成多个第一电极单元、多个第二电极单元、第二连接线以及多个绝缘块;
多个所述第一电极单元、多个第二电极单元、多个第二连接线同时形成于所述基板的第一区域所在的第一表面上,相邻的两个第二电极单元通过所述第二连接线电性相连,多个所述第一电极单元沿第一方向设置,多个所述第二电极单元沿第二方向设置。本实施方式中,每一列的所述第二电极单元与所述第二连接线为一连续的电极串列,每一行的所述多个第一电极单元被所述电极串列间隔开。所述第一电极单元、第二电极单元以及第二连接线均由透明导电材料例如氧化铟锡、石墨烯等材料制成。本实施方式中,所述第一方向和第二方向垂直,在其他实施方式中,所述第一方向和第二方向也可以按照其他方式设置。所述绝缘块形成于所述第二连接线上,并分别覆盖相邻于所述第二连接线的两所述第一电极单元的一部分,所述绝缘块面向所述桥接结构的一面的表面粗糙度大于所述基板的第一表面的表面粗糙度,其有利于所述桥接结构在其上的附着性,防止所述桥接结构在所述绝缘块上脱落。所述绝缘层的作用在于使所述桥接结构与第二连接线绝缘。所述绝缘层可为SiO2/Si3N4或环氧树脂类材料,如OC胶等。
步骤S03:在所述绝缘层上形成至少一桥接结构,所述桥接结构包括一第一功能层,制成所述第一功能层的材料为不透明的导电化合物;
所述导电化合物为金属氮化物或金属氧化物。本实施方式中,所述导电化合物为氮化钼(MoNx)或氮化铬(GrNx)。所述第一功能层在满足导电特性的同时,由于其不透明,因此不会反射外界光线,因而可以改善外观效果。所述第一功能层既具有陶瓷的性质,又具有金属的性质,其对于由具有陶瓷性的氧化铟锡构成的电极材料(包括第二连接线和第一电极单元)而言,所述第一功能层一方面与绝缘层、两相邻的部分第一电极单元之间有良好的附着性,另一方面与其上由金属材料制成的第二功能层亦有良好的附着性。
步骤S04:在所述第一功能层上形成一第二功能层,所述第二功能层至少由具有良好导电性能的材料制成。
所述第二功能层在所述第一表面上的投影被所述第一功能层在所述第一表面上的投影覆盖。本实施方式中,所述第二功能层由金属铝制成,所述第二功能层还可由其他的导电材料制成。所述第二功能层在所述桥接结构中起到导电的作用。所述第二功能层为所述桥接结构的一部分。
步骤S05:在所述第二功能层上形成一第三功能层,所述第三功能层至少由具有保护性能的材料制成,所述第一功能层、第二功能层以及第三功能层共同构成一桥接结构。
本实施方式中,所述第三功能层为金属钼,在其他实施方式中,所述第三功能层还可由其他钼的氧化物、氮化物或者钼的复合金属材料构成,所述钼的复合金属材料至少包括钛、锰、银、铂等中的一种或多种耐腐蚀金属。所述第三功能层起到保护第二功能层的作用,防止其不被氧化或腐蚀。所述桥接结构用于连接相邻的两第一电极单元,并实现触控信号的传输。在其他实施方式中,所述桥接结构也可以不包括第二功能层,或者不包括第三功能层。
所述电容式触摸屏制作方法还包括在所述第二区域上形成遮挡层以及导电引线的步骤,所述遮挡层形成于所述第二区域所在的第一表面上,所述导电引线形成于所述遮挡层之上,所述导电引线层和桥接结构在同一制程中一并制成。制成所述遮挡层的材料为黑色油墨,制成所述导电引线的材料与制成所述桥接结构的材料相同,或者制成所述导电引线的材料为制成所述桥接结构的材料的一部分。由于形成所述遮挡层时,通常是将黑色油墨涂覆在所述基板的第一表面上,其不可避免的会有气泡或者涂覆不均匀的非正常现象,又由于所述导电引线与所述桥接结构的材料相同,所述桥接结构之上包括一由不透明导电化合物构成的第一功能层,因此,将所述导电引线与所述桥接结构由相同的材料并在同一制程中一并制成可以平衡上述非正常现象所带来的所述电容式触摸屏的缺陷。
本实施方式中,由于所述桥接结构123至少包括一由不透明导电化合物制成的第一功能层123a,其吸光性较强,因此可以避免现有技术中仅由金属材料制成的桥接线所造成的反光现象,因而改进了所述电容式触摸屏的外观效果。又由于所述不透明导电化合物兼具金属和陶瓷的性质,因此,其与第一电极单元121、绝缘块140以及其上的由金属材料制成的第二功能层123b均具有良好的结合性能。此外,由于本实施方式中的桥接结构123由三功能层制成,增大了所述桥接结构的横截面积,且所述桥接结构中具有金属材料,因此可以减小相邻两第一电极单元之间的阻抗。
如图4、图5所示,其本发明提供的另一较佳实施方式的电容式触摸屏200的结构示意图以及所述电容式触摸屏200沿B-B方向的截面示意图。
所述电容式触摸屏200包括一至少具有一第一表面201a的一基板201,多个第一电极单元221、多个第三电极单元231、第三连接线233、绝缘块240以及桥接结构223。每一列的所述第三电极单元231与所述第三连接线233为一连续的电极串列,每一行的所述多个第一电极单元221被所述电极串列间隔开。所述桥接结构223包括第一功能层223c、第二功能层223b和第三功能层223a,所述桥接结构223用于连接相邻的两电极单元221,所述桥接结构223与连接线233通过绝缘层240绝缘。所述第一电极单元221沿第一方向设置,所述第三电极单元231沿第三方向设置。
所述电容式触摸屏200与图1、图2所示的电容式触摸屏100的区别在于,桥接结构223直接形成于基板201的第一表面201a上,所述绝缘块240形成于所述桥接结构223上,所述第三连接线233形成于所述绝缘块240之上,所述绝缘块240面向所述第三连接线233的一面的表面粗糙度大于所述基板201的第一表面201a的表面粗糙度。
优选的,所述电容式触摸屏200还包括一遮挡层、一绝缘层以及一导电引线层(图中未示出),所述第一表面201a至少包括第一区域和第二区域,所述第二区域至少位于所述第一区域的一侧且邻接于所述第一区域,多个所述第一电极单元221形成于所述第一区域所在的第一表面201a上。所述遮挡层形成于所述第二区域所在的第一表面上,所述绝缘层覆盖所述遮挡层,所述导电引线层形成于所述遮挡层之上。
如图6所示,其为图4所示电容式触摸屏制作方法流程示意图。所述制作方法至少包括以下步骤:
步骤S11:提供一至少具有一第一表面的基板;
步骤S12:在所述第一表面上形成至少一桥接结构,所述桥接结构至少包括一第一功能层,制成所述第一功能层的材料为不透明的导电化合物。本实施方式中,所述桥接结构的第一功能层直接与所述第一表面相接触。
优选的,在本实施方式中,所述遮挡层与所述第一功能层在同一制程中一并制成。
步骤S13:在所述第一表面上形成多个第一电极单元,所述桥接结构电性连接相邻的两所述第一电极单元。
在步骤S13中,还包括在所述第一表面形成多个所述第一电极单元的同时形成多个第三电极单元、多个绝缘块以及第三连接线的步骤,所述第三连接线电性连接相邻的两所述第三电极单元,所述绝缘块形成于所述桥接结构上,所述绝缘块位于所述桥接结构与所述第三连接线之间,所述桥接结构位于所述第一表面与所述绝缘块之间。所述第三连接线形成于所述绝缘块之上,所述绝缘块面向所述第三连接线的一面的表面粗糙度大于所述基板的第一表面的表面粗糙度,所述第一电极单元沿第一方向设置,所述第三电极单元沿第三方向设置。
优选的,在本实施方式中,所述绝缘层与所述绝缘块在同一制程中一并制成,所述导电引线层与所述第一电极单元、第三电极单元在同一制程中一并制成。所述绝缘层将所述不透明导电化合物与所述导电引线层绝缘。
本实施方式中,将所述遮挡层与所述第一功能层在同一制程中一并制成,可以省去额外制作一层遮挡层所需的构图工艺,因此整个电容式触摸屏200较图1所示的电容式触摸屏100仅需三次构图工艺,因而简化了制作流程。
另外,图4所示的电容式触摸屏200的遮挡层、绝缘层以及一导电引线层均可采用图1所述电容式触摸屏100的制作方法来制成。
以上为本发明提供的电容式触控面板及其制作方法的较佳实施方式,并不能理解为对本发明权利保护范围的限制,本领域的技术人员应该知晓,在不脱离本发明构思的前提下,还可做多种改进或替换,所有的该等改进或替换都应该在本发明的权利保护范围内,即本发明的权利保护范围应以权利要求为准。

Claims (12)

1.一种电容式触摸屏制作方法,其至少包括以下步骤:
提供一至少具有一第一表面的基板;
在所述第一表面上形成多个第一电极单元;
在所述第一表面上形成至少一桥接结构,所述桥接结构电性连接相邻的两所述第一电极单元,所述桥接结构至少包括一第一功能层,制成所述第一功能层的材料为不透明的导电化合物。
2.如权利要求1所述的电容式触摸屏制作方法,其特征在于:所述桥接结构还包括一第二功能层,所述制作方法还包括在所述第一功能层上形成所述第二功能层的步骤,所述第二功能层至少由具有良好导电性能的材料制成,所述第二功能层在所述第一表面上的投影被所述第一功能层在所述第一表面上的投影覆盖。
3.如权利要求2所述的电容式触摸屏制作方法,其特征在于:所述桥接结构还包括一第三功能层,所述制作方法还包括在所述第二功能层上形成所述第三功能层的步骤,所述第三功能层至少由具有保护功能的材料制成。
4.如权利要求1所述的电容式触摸屏制作方法,其特征在于:所述导电化合物为金属氮化物,所述第一功能层的制作方法为,在溅射金属材料时通入氮气。
5.如权利要求4所述的电容式触摸屏制作方法,其特征在于:所述金属材料为钼或铬,所述金属氮化物为氮化钼或者氮化铬。
6.如权利要求1所述的电容式触摸屏制作方法,其特征在于:所述制作方法还包括在所述第一表面上形成多个第一电极单元的同时形成多个第二电极单元以及第二连接线的步骤,所述第二连接线电性连接相邻的两所述第二电极单元,所述绝缘块形成于所述第二连接线上,所述桥接结构形成于所述绝缘块之上,所述绝缘块面向所述桥接结构的一面的表面粗糙度大于所述基板的第一表面的表面粗糙度,所述第一电极单元沿第一方向设置,所述第二电极单元沿第二方向设置。
7.如权利要求1所述的电容式触摸屏制作方法,其特征在于:所述第一表面至少包括第一区域和第二区域,所述第二区域至少位于所述第一区域的一侧且邻接于所述第一区域,多个所述第一电极单元形成于所述第一区域所在的第一表面上,所述制作方法还包括,在形成多个所述第一电极单元之前,还包括在所述第二区域上形成遮挡层的步骤。
8.如权利要求7所述的电容式触摸屏制作方法,其特征在于:所述制作方法还包括在所述第一表面形成导电引线的步骤,所述导电引线形成于所述第二区域并位于所述遮挡层之上,所述导电引线与所述桥接结构在同一制程中一并制成。
9.一种电容式触摸屏,其至少包括:
一至少具有一第一表面的基板;
形成于所述第一表面上的多个第一电极单元;
将相邻的两所述第一电极单元电性连接的至少一桥接结构,所述桥接结构至少包括一第一功能层,制成所述第一功能层的材料为不透明的导电化合物。
10.一种电容式触摸屏制作方法,其至少包括以下步骤:
提供一至少具有一第一表面的基板;
在所述第一表面上形成至少一桥接结构,所述桥接结构至少包括一第一功能层,制成所述第一功能层的材料为不透明的导电化合物;
在所述第一表面上形成多个第一电极单元,所述桥接结构电性连接相邻的两所述第一电极单元。
11.如权利要求10所述的电容式触摸屏制作方法,其特征在于:所述制作方法还包括在所述第一表面上形成多个第一电极单元的同时形成多个第三电极单元、多个绝缘块以及第三连接线的步骤,所述第三连接线电性连接相邻的两所述第三电极单元,所述绝缘块形成于所述桥接结构上,所述第三连接线形成于所述绝缘块之上,所述绝缘块面向所述第三连接线的一面的表面粗糙度大于所述基板的第一表面的表面粗糙度,所述第一电极单元沿第一方向设置,所述第三电极单元沿第三方向设置。
12.如权利要求11所述的电容式触摸屏制作方法,其特征在于:所述第一表面至少包括第一区域和第二区域,所述第二区域至少位于所述第一区域的一侧且邻接于所述第一区域,多个所述第一电极单元、多个所述第三电极单元形成于所述第一区域所在的第一表面上,所述电容式触摸屏还包括形成在所述第二区域上的一遮挡层、一绝缘层以及导电引线层,所述遮挡层与所述第一功能层在同一制程中一并制成,所述绝缘层与所述绝缘块在同一制程中一并制成,所述导电引线与所述第一电极单元、第三电极单元在同一制程中一并制成。
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102270078A (zh) * 2011-08-23 2011-12-07 汕头超声显示器有限公司 具有低反射率连接桥的单片式电容触摸屏及其制造方法
CN102713799A (zh) * 2009-12-28 2012-10-03 京瓷株式会社 输入装置、以及具备其的显示装置
CN103412697A (zh) * 2013-07-23 2013-11-27 京东方科技集团股份有限公司 一种触摸屏及其制作方法、显示装置
CN203414940U (zh) * 2013-05-13 2014-01-29 胜华科技股份有限公司 触控面板
CN203480487U (zh) * 2013-07-23 2014-03-12 胜华科技股份有限公司 触控面板
KR101427995B1 (ko) * 2013-08-12 2014-08-08 동우 화인켐 주식회사 터치 감지 전극
CN204155249U (zh) * 2014-08-12 2015-02-11 深圳莱宝高科技股份有限公司 电容式触摸屏

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102713799A (zh) * 2009-12-28 2012-10-03 京瓷株式会社 输入装置、以及具备其的显示装置
CN102270078A (zh) * 2011-08-23 2011-12-07 汕头超声显示器有限公司 具有低反射率连接桥的单片式电容触摸屏及其制造方法
CN203414940U (zh) * 2013-05-13 2014-01-29 胜华科技股份有限公司 触控面板
CN103412697A (zh) * 2013-07-23 2013-11-27 京东方科技集团股份有限公司 一种触摸屏及其制作方法、显示装置
CN203480487U (zh) * 2013-07-23 2014-03-12 胜华科技股份有限公司 触控面板
KR101427995B1 (ko) * 2013-08-12 2014-08-08 동우 화인켐 주식회사 터치 감지 전극
CN204155249U (zh) * 2014-08-12 2015-02-11 深圳莱宝高科技股份有限公司 电容式触摸屏

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