WO2011067948A1 - ハイヒール用中敷 - Google Patents

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WO2011067948A1
WO2011067948A1 PCT/JP2010/056626 JP2010056626W WO2011067948A1 WO 2011067948 A1 WO2011067948 A1 WO 2011067948A1 JP 2010056626 W JP2010056626 W JP 2010056626W WO 2011067948 A1 WO2011067948 A1 WO 2011067948A1
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WO
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insole
ridge
foot
high heel
forming element
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PCT/JP2010/056626
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English (en)
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和芳 蒲田
朋子 蒲田
Original Assignee
Gamada Kazuyoshi
Gamada Tomoko
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Publication date
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Priority to JP2011544202A priority Critical patent/JP5364797B2/ja
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    • A43B7/1405—Footwear with health or hygienic arrangements with foot-supporting parts with pads or holes on one or more locations, or having an anatomical or curved form
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    • A43B7/142—Footwear with health or hygienic arrangements with foot-supporting parts with pads or holes on one or more locations, or having an anatomical or curved form characterised by the location under the foot situated under the medial arch, i.e. under the navicular or cuneiform bones
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    • A43B7/1475—Footwear with health or hygienic arrangements with foot-supporting parts with pads or holes on one or more locations, or having an anatomical or curved form characterised by the type of support
    • A43B7/149—Pads, e.g. protruding on the foot-facing surface

Definitions

  • the present invention relates to an insole for high heels. More particularly, the present invention relates to a high heel insole that can prevent or eliminate foot discomfort and fatigue, foot deformation, and adverse physical effects caused by wearing high heels.
  • high heels high heeled and tapered high heels
  • This high heel is known to adversely affect the feet and knees by forcibly thinning the fingertips of the feet and concentrating the weight on the fingertips of the feet.
  • the load area at the toe is small, it is unstable, and in order to extend the load area, it is necessary to incline the toe outwards or inwards, and the effect also spreads to the knees and hips. For this reason, it is known that wearing high heels will result in hallux valgus, knee O leg deformity, back pain and the like.
  • Patent Document 1 shows a shoe insole 100 provided with a protuberance 101 substantially at the center thereof, and the protuberances 101 are continuous in the longitudinal direction of the shoe insole 100. And the inner and outer ends thereof are formed at appropriate intervals from the inner and outer peripheries of the shoe insole 100, respectively, and the protuberances 101 are portions of higher hardness, which are There has been proposed a shoe insole 100 having an outer shape capable of holding an arch shape of the foot in the longitudinal direction and the width direction of the shoe insole 100 when the shoe having the liner 100 inserted therein is worn. .
  • the shoe insole 100 according to the proposal of Patent Document 1 is not sufficiently ergonomically considered, there is a problem that sufficient prevention against hallux valgus etc. can not be made, and discomfort such as pain at the time of use There is a problem that occurs.
  • the present invention has been made in view of the problems of the prior art, and it is an object of the present invention to provide a high heel insole based on ergonomic considerations.
  • a frontal ridge is formed transversely to correspond to the fingertip of the foot, and the frontal ridge enlarges the load surface on the toe to equalize the load pressure. It is characterized by In the insole for high heels of the present invention, it is preferable that the little finger side be higher than the thumb side and that a finger be applied to the outer finger of the toe. Further, in the insole for high heels of the present invention, it is preferable that a grooved portion be formed corresponding to the thumb. Furthermore, in the insole for high heels of the present invention, it is preferable that the central ridge be formed at a position avoiding the flattening of the dome structure formed by the bone arrangement of the foot.
  • the central ridge is formed by the plantar apodia on the inside, the fifth metatarsal bone and the abductor abductor on the outer side, the metatarsal head on the front side, and the bulbus on the back side. It is preferable to be enclosed. Furthermore, in the insole for high heels of the present invention, it is preferable that the central ridges be formed in a wide-open shape. Furthermore, in the insole for high heels of the present invention, it is preferable that the central protuberance be shaped to have a lower end and a higher back. Furthermore, in the insole for high heels of the present invention, it is preferable that the rear outer ridge and the rear inner ridge be formed.
  • the posterior outer ridge posterior portion and the posterior inner posterior portion abut the buttocks fat body to the center of the buttocks, and the bone arrangement between the inner and outer sides of the dome structure of the foot
  • it is formed to support from the bottom of the foot and to prevent the foot from moving in the direction of the toe in the high heel.
  • it is preferable to have a molding portion.
  • the molding portion is a synthetic rubber such as natural rubber or silicone rubber, a foam material such as ethylene vinyl acetate resin (EVA), a fiber material such as leather or synthetic leather, velvet and non-woven fabric Or preferably made of a thermoplastic resin such as vinyl chloride resin (PVC). Furthermore, in the insole for high heels of this invention, it is preferable to have a surface makeup part.
  • EVA ethylene vinyl acetate resin
  • PVC vinyl chloride resin
  • the high heel insole according to the present invention is configured as described above, the load surface on the toe (metatarsal head) is expanded to equalize the load pressure, and the lateral inclination of the toe is prevented. Play an effective In addition, there is also an excellent effect of preventing the distortion of the foot, which is a factor of hallux valgus. According to the preferred embodiment of the present invention, the toe is prevented from moving to the front of the high heels, so that the excellent effect is that the valgus eversion that is forced by the movement of the fingertip to the narrow tip is prevented. can get.
  • the flattening of the outer arch of the foot and the internal conversion of the first metatarsal are prevented, so that the external rotation of the lower leg caused by the flattening of the outer arch is prevented.
  • fatigue of the gluteus maximus muscle and thigh fascia tension muscle on the outer side of the pelvis can be prevented, and the excellent effect of preventing pain and fatigue of the pelvis and the lumbar region can also be obtained.
  • FIG. 1 is a skeletal view showing the skeletal shape of a standard Japanese leg.
  • FIG. 2 is a diagram of the plantar surface of a standard Japanese, wherein (a) shows the distribution of muscles and aponeurosis, and (b) is a region distribution diagram showing the repellent region.
  • 3A and 3B are two views of the insole for high heels according to the first embodiment of the present invention, wherein FIG. 3A shows a front view and FIG. 3B shows a right side view.
  • FIG. 4 is a three-sided view of the insole base of the same high heel, wherein (a) shows a front view, (b) shows a right side view, and (c) shows a bottom view.
  • FIG. 5 is an image view of the insole for high heels. Fig.
  • FIG. 6 is a five-face view of the front ridge forming element of the insole for the high heel, wherein (a) shows a front view, (b) shows a left side view, and (c) shows the right side. The top view is shown, the same (d) shows a bottom view, and the same (e) shows an I-I sectional view.
  • FIG. 7 is an image view of the front ridge forming element.
  • FIG. 8 is an image view showing a cross-sectional position of the front ridge forming element.
  • FIG. 9 is an image diagram of a cross section of part A in FIG.
  • FIG. 10 is an image view of a section B of FIG.
  • FIG. 11 is an image view of a section C of FIG.
  • FIG. 12 is an image view of a section D of FIG. FIG.
  • FIG. 13 is an image view of a section E of FIG.
  • FIG. 14 is an image view of a section F of FIG.
  • FIG. 15 is an image view of a cross section of a portion G in FIG.
  • FIG. 16 is a five-face view of the central ridge-forming element of the insole for the high heel, wherein (a) shows a front view, (b) shows a left side view, and (c) shows the right side. The top view is shown, (d) shows a bottom view, and (e) shows a cross-sectional view taken along the line B-B.
  • FIG. 17 is a three-sided view of the rear outer ridge forming element of the same high heel insole, wherein (a) shows a front view, (b) shows a right side view, and (c) shows a bottom view Indicates Fig. 18 is a trihedral view of the rear inner ridge forming element of the same high heel insole, wherein (a) shows a front view, (b) shows a left side view, and (c) shows a bottom view Indicates
  • FIG. 19 is a two-face view of the insole for high heels according to the second embodiment of the present invention, wherein (a) shows a front view and (b) shows a left side view.
  • FIG. 20 is an image view of the same high heel insole as viewed from above.
  • FIG. 20 is an image view of the same high heel insole as viewed from above.
  • FIG. 21 is an image of the insole seen from the upper rear.
  • FIG. 22 is an image of the insole seen from the rear side.
  • FIG. 23 is an image view of the insole seen from the inner side.
  • FIG. 24 is an image view seen from the front upper part of the insole.
  • FIG. 25 is an image view of the insole seen from the front side.
  • FIG. 26 is an image view of the insole seen from the outer side.
  • FIG. 27 is an image of the insole viewed from the outside upper side.
  • FIG. 28 is a two-face view of a shoe insole according to the proposal of Patent Document 1.
  • reference numeral B1 denotes a seed bone
  • reference numeral B2 denotes a first metatarsal bone
  • reference numeral B3 denotes a second metatarsal bone
  • reference numeral B4 denotes a third metatarsal bone
  • reference numeral B5 denotes a medial cuneiform
  • a bone is shown
  • a code B6 shows an intermediate scaly bone
  • a code B7 shows a scaly bone
  • a code B8 shows a talar bone
  • a code B9 shows a rib bone
  • a code B10 shows a fourth metatarsal bone
  • a code B11 shows The fifth metatarsal bone is shown
  • the code B12 is the lateral scaly bone
  • the code B13 is the cubic bone
  • the code B14 is the rib bone
  • the code B9a is the distal bone
  • the code B9 b is the medial bone
  • the code B9c indicates a basal
  • the standard insole bottom plate material is used for the wearer who can not use the standard type, and the convexity of the central arch elevation is used. If the shape is finely adjusted to fit the deformation of the skeleton, it is presumed that it can also be used for treatment of a disorder. Also, in the standard Japanese foot skeleton shown in FIG. 1, the buttocks and the ball parts of the ball (that is, the first metatarsophalangeal joints) play an important role in supporting weight and walking. The back part) and the first to fifth fingers form a longitudinal arch connecting them and a transverse arch structure. In other words, it has a dome shape.
  • a skeletal structure exhibiting a dome shape causes various disorders such as hallux valgus and flat feet if it is disturbed by any cause. Therefore, in order to prevent or treat the occurrence of such a disorder, it is considered important to maintain the dome structure consisting of the longitudinal arch and the transverse arch of the foot skeleton in a normal state.
  • a shoe insole or the like is easily adopted as a device for correcting the structure of the foot in order to maintain the foot skeleton in a normal state, the foot may be damaged. For example, as shown in FIG.
  • the plantar side of the foot skeleton is covered by the small toe abductor muscle or the flexor forefoot short muscle and the plantar aponeurosis running parallel thereto, as shown in FIG.
  • the position V of the second to fourth metatarsal heads is raised to a narrow range with respect to the buttock T, the position V of the second to fourth metatarsal heads, the position W of the second metatarsus, or the position X of the fifth metatarsus If the force is applied, the dome structure of the foot is relatively flattened to cause a strong stress, which may cause gait disorder and the like.
  • the symbol U indicates the position of the first metatarsal head.
  • FIG. 3 shows a high heel insole (left foot insole) A according to Embodiment 1 of the present invention. Since the right foot insole is symmetrical to the left foot insole, its illustration and description will be omitted.
  • the high heel insole A comprises a front ridge 1, a central ridge 2, and a rear outer ridge 3 and a rear inner ridge 4, as shown in FIG. Further, as shown in FIG. 3, the insole A for high heels is formed by integrating the base 10, the forming portion 20, and the surface cosmetic portion 30 into one piece. In the drawings, the thickness of each part is exaggerated in consideration of ease of understanding and convenience of drawing.
  • a substrate 11 a front ridge forming element 12 (see FIG. 6) forming the front ridge 1 and a central portion forming the central ridge 2
  • the ridge forming element 13 (see FIG. 16), the rear outer ridge forming element 14 forming the rear outer ridge 3 (see FIG. 17), and the rear inner ridge forming element 15 forming the rear inner ridge 4 18), and the front ridge forming element 12, the central ridge forming element 13, the rear outer ridge forming element 14 and the rear inner ridge forming element 15 are predetermined. It arrange
  • the insole A for high heels is formed in a tapered high heel bottom shape, but it may be a shape in which the forefoot portion (front portion relative to the front ridge forming element 12) is cut off.
  • the substrate 11 is formed in a tapered high heel bottom shape as described above.
  • the material of the substrate 11 is, for example, synthetic rubber or synthetic resin, but is not limited thereto, and various known materials conventionally used for a substrate for insoles for shoes are suitably used. It can be used. For example, leather or synthetic leather can also be used.
  • the front ridge forming element 12 is formed into an arch shape made of synthetic rubber, synthetic resin or the like and, as shown in FIG. 4 and FIG. It is set up.
  • the front ridge forming element 12 mainly prevents the foot from sliding forward in the high heel, and enlarges the load surface on the toe (metatarsal head) to equalize the load pressure on the toe, and the toe side It is intended to embody a function to prevent inclination in the direction. More specifically, as shown in FIGS. 6 and 7, the front ridge forming element 12 is a gentle downward slope with the ridge line from the fifth side (the little finger) to the second side (the inner side).
  • FIG. 8 shows the positional relationship between the front ridge forming element 12 and the finger, and FIG. 9 to FIG. 15 show cross sections of each position.
  • the symbol A indicates the fifth weir position
  • the symbol B indicates the fourth weir position
  • the symbol C indicates the third weir position
  • the symbol D indicates the second weir position
  • the symbol E indicates the second weir
  • the symbol F indicates the first wedge position
  • the symbol G indicates the inside position of the first wedge.
  • the thickness at each position indicates a thickness to be added to the thickness of the substrate 11. For example, if the thickness of the substrate 11 is 1 mm, the total thickness at the intermediate position E between the second ridge and the first ridge is 5 mm.
  • the height of the top of the fifth ridge (little finger) on the mountain-like portion 40 is 5 mm or less, the height of the top on the second ridge is about 3 mm, and the width of the bottom (hem) is about 20 to 25 mm It is assumed. Further, as shown in FIGS. 6 and 7, in the mountain-like portion 40, the front surface (the end phalanx side) 41a has a gentle inclination, and the rear surface 41b has a steep inclination.
  • the height of the independent peak portion 42 is about 3 mm to 5 mm, and the width of the bottom (hem) is about 20 mm to 25 mm.
  • the height of the side wall 44a of the U-shaped portion 44 is about 5 mm, and the length of the bottom is about 20 mm to 35 mm.
  • the reason why the rear surface 41b of the mountain-like portion 40 is steeply inclined is to embody the function as a stopper that prevents the foot from sliding forward, and the reason for raising the fifth toe (little finger) side is The purpose is to embody the function of preventing the spraining of the fifth toe (little finger) to the outside. Further, the reason why the independent peak portion 42 and the U-shaped portion 44 are provided is to realize the function of preventing the hallux valgus by suppressing the inclination of the thumb (thumb) to the fifth eyelid (little finger) side. .
  • the central ridge forming element 13 is in the shape of a box-like shape made of synthetic rubber, synthetic resin or the like, and as shown in FIGS. 4 and 5, the position V of the second to fourth metatarsal head V, the second middle A position W corresponding to the position W of the ankle bone, a position X of the fifth metatarso, and a position corresponding to the area surrounded by the buttocks T (see FIG. 2 (b))
  • the fifth metatarsal bone and the small toe abductor muscle are disposed in the area surrounded by the metatarsal head on the front side and the bulbus on the rear side. More specifically, as shown in FIG.
  • the central ridge forming element 13 is formed in a pointed and pointed shape in which the bottom of the front portion 13a is wider than the rear and the height is lower than the rear 13b, Further, the front end 13a is gently inclined, while the rear end 13b is steeply inclined. This is to embody the function to be in line with the dome structure.
  • the height of the top of the central ridge forming element 13 is about 5 mm for the front 13a and about 8 mm for the back 13b, and the width of the bottom (hem) is about 20 mm for the front 13a 13b is about 10 mm.
  • Such a shape and arrangement of the central ridge forming element 13 is for the purpose of realizing a function of preventing the flattening of the dome structure and keeping it in a normal state.
  • the aft outer ridge forming element 14 is in the form of a semicircular ridge made of synthetic rubber, synthetic resin or the like, and as shown in FIGS. 4 and 5, the semicircular surface is directed outward and the semicircular surface is on the outer side of the substrate 11.
  • the top of the outer ridge portion 13b of the central ridge forming element 13 is disposed in contact with the top of the outer ridge portion 13b.
  • the hem front end of the half split surface is positioned substantially corresponding to the center of the central ridge forming element 13, and the hem rear end of the half split surface is positioned substantially corresponding to the center of the heel portion T.
  • the ridge line of the half split surface is in an arc shape.
  • the posterior lateral ridge-forming element 14 is more specifically located with the top behind the position X of the fifth metatarsal bone, and the front part 14a is not clearly illustrated but is from the outside to the inside
  • the rear portion 14b along the outer side of the substrate 11 is not clearly shown, as well as being directed to a concave surface with a gentle slope and a downward slope, corresponding to the approximate center of the central ridge forming element 13.
  • a loosely inclined arc-shaped concave surface is formed so as to fit the wedge, and is positioned in front of the ridge portion T (see FIG. 17).
  • the hem at the rear is arc-shaped along the buttocks T (see FIG. 17).
  • the height of the top of the rear outer ridge forming element 14 is about 8 mm.
  • Such a shape and arrangement of the posterior outer ridge forming element 14 embodies the function of preventing flattening of the dome structure and maintaining it in a normal state, as well as the outward movement of the fifth metatarsal. This is to realize the function of preventing sprains. That is, it is for satisfying the conditions (1), (2), (3) and (4).
  • the rear inner ridge forming element 15 is in the shape of a semi-peak formed of synthetic rubber, synthetic resin or the like, and as shown in FIGS.
  • the semi-split face is directed inward (right foot side) and the semi-split face Along the inside of the substrate 11 and arranged parallel to the central ridge forming element 13.
  • the hem front end of the half split surface is at a position corresponding to the front top of the central ridge forming element 13, and the hem rear end of the half split surface is at a position corresponding to the rear of the heel.
  • the ridge line of the half split surface is gently inclined upward to a position corresponding to the rear end of the central ridge forming element 13, flat from the same position to the vicinity of the rear end, and from the same position to the rear end It is considered to be a steeply inclined circular arc surface up to the hem of.
  • the inside front and middle part which opposes the center part ridge formation element 13 are not clearly shown in figure, it is made into the plane of a gentle inclination. More specifically, the posterior medial ridge forming element 15 has its top located inside the position W of the second metatarsal bone, and the skirt front 15a along the medial side of the substrate 11 has an arc shape, and the posterior lateral side
  • the rear portion 15b opposite to the rear portion 14b of the ridge-forming element 14 is not shown clearly, but is a gently inclined arc-shaped concave surface so as to fit the ridge into a position in front of the ridge T (See Figure 18).
  • the hem at the rear is arc-shaped along the buttocks T (see FIG. 18).
  • the height of the top of the rear inner ridge forming element 15 is about 8 mm.
  • Such a shape and arrangement of the rear inner ridge forming element 15 is intended to realize the function of preventing the flattening of the dome structure and keeping it in a normal state. That is, it is for satisfying the conditions (1), (2), (3) and (4).
  • the forming unit 20 has the same shape as the substrate 11 and is integrally formed with the base 10.
  • the thickness of the molding portion 20 is, for example, about 2 mm to 5 mm. Further, it is desirable that the material of the molding portion 20 be a material having elasticity even after molding in order to prevent discomfort to the wearer when worn.
  • the surface cosmetic part 30 is made of a flexible material so as to cover the surface of the molded part 20 which has been molded.
  • the material having the above characteristics may be synthetic resin or cloth, but is not limited thereto, and may be, for example, leather or synthetic leather.
  • a material of the surface makeup part 30 it is desirable to have a surface that is good in touch and less in friction with socks to make it easy to wear off high heels.
  • the surface makeup part 30 may be provided as necessary, and therefore, is not necessarily provided.
  • the insole A according to the present embodiment may be sold alone to the user for use, or may be supplied to a high heel manufacturer and pre-mounted on the high heel for use. Since the insole A of this embodiment is configured as described above, the following effects can be obtained.
  • the frontal ridge 1 formed by the frontal ridge forming element 12 prevents an undue load from being applied to the fingertips of the foot, and suppresses twisting of the foot to the outside. Therefore, prevention of sprain, prevention of foot and neck turning, prevention of knee twisting, and the like can be achieved.
  • the central ridge (central arch) formed by the central ridge forming element 13 supports near the top of the dome structure of the foot.
  • the lateral lateral movement of the foot is achieved by the posterior lateral ridge (lateral arch) formed by the posterior lateral ridge forming element 14 and the posterior medial ridge (inner arch) formed by the posterior medial ridge forming element 15 Be suppressed.
  • the central arch, the lateral arch and the medial arch do not press on the muscle tendons such as the plantar aponeurosis, the abductor abductor, etc., and therefore there is no risk of inducing plantar discomfort.
  • the buttocks fat body is moved to the center of the sole, so that the sole's inherent shock absorbing ability can be maximized. it can.
  • FIG. 19 shows a high heel insole (right foot insole) A1 according to a second embodiment of the present invention.
  • the left foot insole is symmetrical to the right foot insole, its illustration and description will be omitted.
  • FIG. 19 the same reference numerals as in FIG. 3 indicate the same or similar components.
  • the high heel insole A1, as shown in FIG. 19, is a modification of the forms of the rear outer ridge forming element 14 and the rear inner ridge forming element 15 of Embodiment 1 to form a rear outer ridge forming element 14A and a rear inner side.
  • FIGS. 20 to 27 show image views of an insole A1 (for the right foot) for high heels.
  • the symbol a indicates the front ridge 1
  • the symbol b indicates the rear inner ridge 4
  • the symbol c indicates the rear outer ridge 3
  • the symbol d indicates the central ridge 2.
  • the rear outer ridge forming element 14A is such that the hem of the rear portion is formed into a convex arc shape, and the rear portion is formed into a convex arc surface continuing from the top ( See Figure 26).
  • FIG. 20 to 27 show image views of an insole A1 (for the right foot) for high heels.
  • the symbol a indicates the front ridge 1
  • the symbol b indicates the rear inner ridge 4
  • the symbol c indicates the rear outer ridge 3
  • the symbol d indicates the central ridge 2.
  • the rear outer ridge forming element 14A is such that the hem of the rear portion is formed into a convex arc shape, and the rear portion is formed into a conve
  • the rear inner ridge forming element 15A is such that the bottom of the rear is formed into a convex arc extending from the front, and the rear is formed from a convex arc extending from the top. It is assumed. In addition, the rear end is a steeply inclined arc surface (see FIG. 23). Since the insole A1 of the present embodiment is configured as described above, an effect of improving the fit at the buttocks compared to the first embodiment can be obtained. In addition, since the shapes of the rear of the rear outer ridge forming element 14A and the rear of the rear inner ridge forming element 15A are simplified, there is also an effect that molding is facilitated.
  • the insole A for high heels is formed by integrally molding the base 10, the molding portion 20, and the surface cosmetic portion 30, but the base 10 is a base layer and the molding portion 20 is a molding layer.
  • the surface cosmetic unit 30 may be a three-layer structure having the surface cosmetic layer.
  • the surface makeup unit 30 may be configured to be absorbed by the molding unit 20.
  • the inner surface of the bottom of the high heel may be provided directly with the front ridge, the central ridge, the rear outer ridge and the rear inner ridge.
  • the high heel insole of the present invention can be used in the shoe industry. In particular, it is particularly useful for high heels that are required to have a preventive or therapeutic effect on hallux valgus and flat feet.

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Abstract

ハイヒールを履いた際に、足が外側にブレることにより生ずる捻じれが予防され、またハイヒールを履いた際に生じやすい外反母趾が予防される。　足の指先部に対応させて横断的に前部隆起部１が形成され、また足裏のドーム構造の扁平化を防止する中央部隆起部２、後部外側隆起部３および後部内側隆起部４が形成されてなるハイヒール用中敷Ａである。前部隆起部１は、小指側が親指側より高くされてされ、また、前部隆起部１には、親指を受ける溝状部４４が形成されている。

Description

ハイヒール用中敷
　本発明は、ハイヒール用中敷に関する。さらに詳しくは、ハイヒールを履くことにより生ずる足の不快感や疲労感、足の変形、そして身体への悪影響を予防または解消できるハイヒール用中敷に関する。
　従来より、女性のファッションの一つとして、踵が高く先細のハイヒール（以下、単にハイヒールという。）を履くことがなされている。
　このハイヒールは、足の指先部を強制的に細くすることや体重を足の指先部に集中させることから、足や膝に悪影響を与えることが知られている。例えば、つま先における荷重面積が小さいため、不安定であり、荷重面積を広げるためにはつま先を外向きまたは内向きとなるように傾ける必要があり、その影響は膝や腰にも波及する。このため、ハイヒールを履き続けると、外反母趾、膝のＯ脚変形、腰痛などになることが知られている。
　かかるハイヒールを履くことによる足への悪影響を予防または解消するため、種々の靴中敷が提案されている。
　例えば、特許文献１には、図２８に示すように、隆起部１０１をその略中央に設けた靴中敷１００であって、該隆起部１０１は、靴中敷１００の長さ方向に連なって伸びかつその内側端および外側端が靴中敷１００の内側周縁および外側周縁とそれぞれ適当な間隔をおいて形成されており、そして前記隆起部１０１は、より高硬度の部分であって、靴中敷１００が装入された靴を履用したとき、足部を靴中敷１００の長さ方向および幅方向にわたって各々弓型を保持することができる外形を有する靴中敷１００が提案されている。
　しかしながら、特許文献１の提案に係る靴中敷１００は、充分な人間工学的な考察がなされていないため、外反母趾などに対する充分な予防がなし得ないという問題や、履用時に痛みなどの不快感が生ずるという問題がある。
特開２０００−３５４５０３号公報
　本発明はかかる従来技術の課題に鑑みなされたものであって、人間工学的な考察の上に立ったハイヒール用中敷を提供することを目的としている。
　本発明のハイヒール用中敷は、足の指先部に対応させて横断的に前部隆起部が形成され、前記前部隆起部によりつま先における荷重面が拡大されて荷重圧が均等化されてなることを特徴とする。
　本発明のハイヒール用中敷においては、小指側が親指側より高くされ、つま先の外側の指にも荷重がかかるようにされてなるのが好ましい。
　また、本発明のハイヒール用中敷においては、親指に対応させて溝状部が形成されてなるのが好ましい。
　さらに、本発明のハイヒール用中敷においては、足の骨配列により形成されるドーム構造の扁平化を避ける位置に中央部隆起部が形成されてなるのが好ましい。
　さらに、本発明のハイヒール用中敷においては、中央部隆起部は、内側が足底腱膜、外側が第５中足骨と小趾外転筋、前側が中足骨頭、後側が踵球によって囲まれてなるのが好ましい。
　さらに、本発明のハイヒール用中敷においては、中央部隆起部が先広形状とされてなるのが好ましい。
　さらに、本発明のハイヒール用中敷においては、中央隆起部が先低かつ後高形状とされてなるが好ましい。
　さらに、本発明のハイヒール用中敷においては、後部外側隆起部および後部内側隆起部が形成されてなるのが好ましい。
　さらに、本発明のハイヒール用中敷においては、後部外側隆起部後部および後部内側隆起部後部が、踵部脂肪体を踵部中央に寄せるとともに、足のドーム構造の内側と外側との骨配列を足底から支持し、足部がハイヒールの中でつま先方向に移動するのを防ぐように形成されてなるのが好ましい。
　さらに、本発明のハイヒール用中敷においては、成形部を有してなるのが好ましい。
　さらに、本発明のハイヒール用中敷においては、成形部は、天然ゴム、シリコンゴムなどの合成ゴム、エチレン酢酸ビニル樹脂（ＥＶＡ）などの発泡素材、皮革または合成皮革、ベルベットおよび不織布などの繊維素材、または塩化ビニル樹脂（ＰＶＣ）などの熱可塑性樹脂からなるものとされてなるのが好ましい。
　さらに、本発明のハイヒール用中敷においては、表面化粧部を有してなるのが好ましい。
　本発明のハイヒール用中敷は、前記の如く構成されているので、つま先（中足骨頭）における荷重面が拡大されて荷重圧が均等化され、つま先の側方への傾きが防止されという優れた効果を奏する。また、それにより外反母趾の要因となる足のゆがみも予防されるという優れた効果も奏する。
　本発明の好ましい形態によれば、つま先のハイヒール前部への移動が防止されるので、指先が細い先部へ移動することによって強制される母趾の外反が防止されるという優れた効果が得られる。
　また、別の本発明の好ましい形態によれば、足部の外側アーチの扁平化、および第１中足骨の内転化が防止されるので、外側アーチの扁平化により起こる下腿の外旋が防止されるとともに、外旋による膝関節に及ぶ回旋ストレスが予防されて膝の変形の増悪が予防されるという優れた効果が得られる。さらに、その結果、骨盤外側の中殿筋や大腿筋膜張筋の疲労が予防され、骨盤や腰部の痛みや疲労が予防されるという優れた効果も得られる。
　図１は標準的日本人の足の骨格形状を示す骨格図である。
　図２は標準的日本人の足底の図であって、同（ａ）は筋肉および腱膜の分布を示し、同（ｂ）は忌避領域を示す領域分布図である。
　図３は本発明の実施形態１に係るハイヒール用中敷の二面図であって、同（ａ）は正面図を示し、同（ｂ）は右側面図を示す。
　図４は同ハイヒール用中敷基部の三面図であって、同（ａ）は正面図を示し、同（ｂ）は右側面図を示し、同（ｃ）は底面図を示す。
　図５は同ハイヒール用中敷のイメージ図である。
　図６は同ハイヒール用中敷の前部隆起部形成要素の五面図であって、同（ａ）は正面図を示し、同（ｂ）は左側面図を示し、同（ｃ）は右側面図を示し、同（ｄ）は底面図を示し、同（ｅ）はＩ−Ｉ線断面図を示す。
　図７は同前部隆起部形成要素のイメージ図である。
　図８は同前部隆起部形成要素の断面位置を示すイメージ図である。
　図９は図８のＡ部断面のイメージ図である。
　図１０は図８のＢ部断面のイメージ図である。
　図１１は図８のＣ部断面のイメージ図である。
　図１２は図８のＤ部断面のイメージ図である。
　図１３は図８のＥ部断面のイメージ図である。
　図１４は図８のＦ部断面のイメージ図である。
　図１５は図８のＧ部断面のイメージ図である。
　図１６は同ハイヒール用中敷の中央部隆起部形成要素の五面図であって、同（ａ）は正面図を示し、同（ｂ）は左側面図を示し、同（ｃ）は右側面図を示し、同（ｄ）は底面図を示し、同（ｅ）はＢ−Ｂ線断面図を示す。
　図１７は同ハイヒール用中敷の後部外側隆起部形成要素の三面図であって、同（ａ）は正面図を示し、同（ｂ）は右側面図を示し、同（ｃ）は底面図を示す。
　図１８は同ハイヒール用中敷の後部内側隆起部形成要素の三面図であって、同（ａ）は正面図を示し、同（ｂ）は左側面図を示し、同（ｃ）は底面図を示す。
　図１９は本発明の実施形態２に係るハイヒール用中敷の二面図であって、同（ａ）は正面図を示し、同（ｂ）は左側面図を示す。
　図２０は同ハイヒール用中敷を上方から見たイメージ図である。
　図２１は同中敷を後方上部から見たイメージ図である。
　図２２は同中敷を後面側から見たイメージ図である。
　図２３は同中敷を内側面側から見たイメージ図である。
　図２４は同中敷の前方上部から見たイメージ図である。
　図２５は同中敷を前面側から見たイメージ図である。
　図２６は同中敷を外側面側から見たイメージ図である。
　図２７は同中敷を外側上部から見たイメージ図である。
　図２８は特許文献１の提案に係る靴中敷の二面図である。
　以下、添付図面を参照しながら本発明を実施形態に基づいて説明するが、本発明はかかる実施形態のみに限定されるものではない。
　まず、以後の理解を容易にするため、靴中敷（以下、単に中敷ということもある。）についての本発明者等の研究結果について概説する。
　本発明者等は、その研究結果より、日本人の健常者の足の骨格は、足の大きさと足指の長さの点を除けば、図１に示すような骨格形態を有しているとの知見を得た。この知見から、中敷底板材として標準型のものが利用できる場合が大多数であろうと推察される。図１中、符号Ｂ１は種子骨を示し、符号Ｂ２は第１中足骨を示し、符号Ｂ３は第２中足骨を示し、符号Ｂ４は第３中足骨を示し、符号Ｂ５は内側楔状骨を示し、符号Ｂ６は中間楔状骨を示し、符号Ｂ７は舟状骨を示し、符号Ｂ８は距骨を示し、符号Ｂ９は趾骨を示し、符号Ｂ１０は第４中足骨を示し、符号Ｂ１１は第５中足骨を示し、符号Ｂ１２は外側楔状骨を示し、符号Ｂ１３は立方骨を示し、符号Ｂ１４は踵骨を示し、符号Ｂ９ａは末節骨を示し、符号Ｂ９ｂは中節骨を示し、符号Ｂ９ｃは基節骨を示す。
　なお、足の骨格に変形などのわずかな障害が見られるため、標準型のものが利用できない履用者に対しては、標準型の中敷底板材を利用して、中央アーチ挙上部の凸形状を骨格の変形に合うよう削るなどして微調整すれば、障害の治療用としても活用できるものと推察される。
　また、図１に示す日本人の標準型の足の骨格においては、体重を支えて歩行するのに重要な役割を担う踵部と母趾球部（すなわち、第１中足指節関節の足裏部）、および第１ないし第５指部とが、これらを繋ぐ縦アーチおよびに横アーチ構造を形成している。つまり、ドーム形状を呈している。
　このドーム形状を呈している骨格構造（以下、ドーム構造という。）が、何等かの原因で乱れると、外反母趾や扁平足などの各種障害を引き起こすことが知られている。そこで、かかる障害の発生を予防しあるいは治療するためには、足の骨格の縦アーチ並びに横アーチからなるドーム構造を、正常な状態に維持することが重要と考えられる。
　しかしながら、足の骨格を正常な状態に維持するため、足の構造を矯正する装具として靴中敷などを安易に採用すると、かえって足を傷めることになるおそれがある。というのは、足の骨格の足底側は、図２（ａ）に示すように、小指外転筋ないし短指屈筋とそれに並走する足底腱膜によって覆われているが、図２（ｂ）に示すように、踵部Ｔ、第２ないし第４中足骨頭の位置Ｖ、第２中足骨の位置Ｗ、または第５中足骨の位置Ｘに対して、狭い範囲に挙上する力を加えると、相対的に足部のドーム構造が扁平化されて強いストレスを起し、歩行障害などが生ずることがあるからである。なお、図中、符号Ｕは第１中足骨頭の位置を示す。
　したがって、本発明のハイヒール用中敷においても、中央アーチ挙上部などのように足底を圧迫する隆起部を設けるには、前述したような押圧力集中が起こる位置を避ける必要がある。
　より具体的には、前記障害の発生を回避して、足の骨格の機能を正常な状態に維持するには、つまりドーム構造を正常な状態に維持するには、以下のような各機能、すなわち、（１）中央アーチ部を挙上してドーム構造を支えることの他に、（２）立方骨位置を挙上して外側アーチ部を支えること、（３）土踏まず部を挙上して内側アーチ部を支えること、（４）踵球部への負荷の偏りを防ぐこと、の各機能を備えたハイヒール用中敷を、それぞれの履用者の足の骨格に適合するように調整したうえで提供する必要がある。
　以下、以上の理解の上に立って、本発明を詳述する。
　実施形態１
　図３に、本発明の実施形態１に係るハイヒール用中敷（左足用中敷）Ａを示す。なお、右足用中敷は左足用中敷と左右対称とされているので、その図示説明は省略する。
　ハイヒール用中敷Ａは、図３に示すように、前部隆起部１と、中央部隆起部２と、後部外側隆起部３および後部内側隆起部４とを備えてなるものとされる。また、ハイヒール用中敷Ａは、図３に示すように、基部１０と、成形部２０と、表面化粧部３０とを一体化して成形してなるものとされている。なお、図中、各部の厚みは理解の容易さおよび作図の便宜を考慮して誇張されている。
　基部１０は、図４および図５に示すように、基板１１と、前部隆起部１を形成する前部隆起部形成要素１２（図６参照）と、中央部隆起部２を形成する中央部隆起部形成要素１３（図１６参照）と、後部外側隆起部３を形成する後部外側隆起部形成要素１４（図１７参照）と、後部内側隆起部４を形成する後部内側隆起部形成要素１５（図１８参照）とを一体化して備えてなるものとされ、前部隆起部形成要素１２、中央部隆起部形成要素１３、後部外側隆起部形成要素１４および後部内側隆起部形成要素１５が、所定配置にて基板１１表面に配設されている。つまり、前述した押圧力集中が起こる位置を避けながら、前記条件を満たすようにして基板１１表面に配設されている。なお、図示例においては、ハイヒール用中敷Ａは先細のハイヒール底形状に形成されているが、前足部（前部隆起部形成要素１２よりも前方部）を切り取った形状とされてもよい。
　基板１１は、前述したように先細のハイヒール底形状に形成されている。また、基板１１の材質は、例えば、合成ゴムや合成樹脂などとされるが、これに限定されるものではなく、従来より靴用中敷の基板に用いられている公知の各種素材を好適に用いることができる。例えば、皮革や合成皮革とすることもできる。
　前部隆起部形成要素１２は、合成ゴムや合成樹脂などからなる弓形状とされ、図４および図５に示すように、趾骨の基節骨に対応させて基板１１前部に横断的に配設されている。
　前部隆起部形成要素１２は、主にハイヒール内での足の前方への滑り込みを防ぐとともに、つま先（中足骨頭）における荷重面を拡大してつま先への荷重圧を均等化し、つま先の横方向への傾きを防止する機能を具現化させるものとされる。
　前部隆起部形成要素１２は、より具体的には図６および図７に示すように、稜線が第５趾（小指）側（外側）から第２趾側（内側）に向けた緩やかな下り勾配とされた山脈状部４０と、第２趾と母趾（親指）との間に山脈状部４０の第２趾端の裾野４０ａから連続的に起立形成された独立峰状部４２と、母趾（親指）をガイドする独立峰状部４２に隣接させて溝状に形成されたＵ字状部（溝状部）４４とを有するものとされる。
　また、図８に、前部隆起部形成要素１２と指との位置関係を示し、図９~図１５に各位置の断面を示す。図８中、符号Ａは第５趾位置を示し、符号Ｂは第４趾位置を示し、符号Ｃは第３趾位置を示し、符号Ｄは第２趾位置を示し、符号Ｅは第２趾と第１趾との中間位置を示し、符号Ｆは第１趾位置を示し、符号Ｇは第１趾の内側位置を示す。また、前記各位置における厚さは、基板１１の厚みに加算される厚みを示す。例えば、基板１１の厚みを１ｍｍとすれば、第２趾と第１趾との中間位置Ｅにおけるトータルの厚みは５ｍｍとなる。
　山脈状部４０の第５趾（小指）側の頂部の高さは５ｍｍ以下とされ、第２趾側の頂部の高さは３ｍｍ程度とされ、底部（裾部）の幅は２０ｍｍ~２５ｍｍ程度とされている。
　また、山脈状部４０は、図６および図７に示すように、前面（末節骨側）４１ａが緩傾斜とされ、後面４１ｂが急傾斜とされている。
　独立峰状部４２の高さは３ｍｍ~５ｍｍ程度とされ、底部（裾部）の幅は２０ｍｍ~２５ｍｍ程度とされている。
　Ｕ字状部４４の側壁４４ａの高さは５ｍｍ程度とされ、底部の長さは２０ｍｍ~３５ｍｍ程度とされている。
　山脈状部４０の後面４１ｂを急傾斜とするのは、足の前方へのずり落ちを予防するストッパとしての機能を具現化させるためであり、第５趾（小指）側を高くするのは、第５趾（小指）の外側へのぶれを防いで捻挫を予防する機能を具現化させるためである。
　また、独立峰状部４２およびＵ字状部４４を設けるのは、母趾（親指）の第５趾（小指）側への傾斜を抑制して外反母趾を予防する機能を具現化させるためである。
　中央部隆起部形成要素１３は、合成ゴムや合成樹脂などからなるくの字形山脈状とされ、図４および図５に示すように、第２ないし第４中足骨頭の位置Ｖ、第２中足骨の位置Ｗ、第５中足骨の位置Ｘ、および踵部Ｔに囲まれる領域（図２（ｂ）参照）に対応する位置、より厳密には、内側が足底腱膜、外側が第５中足骨と小趾外転筋、前側が中足骨頭、後側が踵球によって囲まれ領域に配設されている。
　中央部隆起部形成要素１３は、より具体的には図１６に示すように、前部１３ａの裾野が後部より広く、かつ高さが後部１３ｂより低くされた先低かつ先広形状とされ、また前端部１３ａは緩傾斜とされ、一方後端部１３ｂは急傾斜とされている。これは、ドーム構造に沿わせる機能を具現化させるためである。
　中央部隆起部形成要素１３の頂部の高さは、前部１３ａが５ｍｍ程度とされ、後部１３ｂが８ｍｍ程度とされ、底部（裾部）の幅は、前部１３ａが２０ｍｍ程度とされ、後部１３ｂが１０ｍｍ程度とされている。
　中央部隆起部形成要素１３をかかる形状および配置とするのは、ドーム構造の扁平化を予防して正常な状態に維持する機能を具現化させるためである。つまり、前記条件（１）、（２）、（３）を満足させるようにするためである。
　後部外側隆起部形成要素１４は、合成ゴムや合成樹脂などからなる半割れ山形状とされ、図４および図５に示すように、半割れ面を外側に向けかつ半割れ面を基板１１の外側に沿わせて中央部隆起部形成要素１３の外側後部１３ｂにその頂部を当接させて配設されている。ここで、半割れ面の裾前端は中央部隆起部形成要素１３のほぼ中央に対応する位置とされ、半割れ面の裾後端は踵部Ｔのほぼ中央に対応する位置とされている。また、半割れ面の稜線は円弧状とされている。
　後部外側隆起部形成要素１４は、より具体的には、頂部が第５中足骨の位置Ｘの後方に位置し、前部１４ａは、明瞭には図示はされていないが、外側から内側に向けた緩傾斜の下りこう配の凹面とされ、中央部隆起部形成要素１３のほぼ中央に対応する位置とさせられるとともに、基板１１の外側に沿う後部１４ｂは、明瞭には図示はされていないが、踵が嵌まり込むよう緩傾斜の円弧状凹面とされて踵部Ｔ手前の位置とさせられている（図１７参照）。また、後部の裾は踵部Ｔに沿うよう円弧状とされている（図１７参照）。
　後部外側隆起部形成要素１４の頂部の高さは、８ｍｍ程度とされている。
　後部外側隆起部形成要素１４をかかる形状および配置とするのは、ドーム構造の扁平化を予防して正常な状態に維持する機能を具現化させるとともに、第５中足骨の外側へのぶれを防いで捻挫を予防する機能を具現化させるためである。つまり、前記条件（１）、（２）、（３）、（４）を満足させるようにするためである。
　後部内側隆起部形成要素１５は、合成ゴムや合成樹脂などからなる半割れ山形状とされ、図４および図５に示すように、半割れ面を内側（右足側）に向けかつその半割れ面を基板１１の内側に沿わせて中央部隆起部形成要素１３に並列的に配設されている。ここで、半割れ面の裾前端は中央部隆起部形成要素１３の前部頂部に対応する位置とされ、半割れ面の裾後端は踵の後部に対応する位置とされている。また、半割れ面の稜線は中央部隆起部形成要素１３の後端に対応する位置までは緩傾斜の上りこう配とされ、同位置から後端部近傍までは平坦とされ、同位置から後端の裾までは急傾斜の円弧面とされている。
　なお、中央部隆起部形成要素１３に対向する内側の前部および中部は、明瞭には図示はされていないが、緩傾斜の平面とされている。
　後部内側隆起部形成要素１５は、より具体的には、頂部が第２中足骨の位置Ｗの内側に位置し、基板１１の内側に沿う裾部前部１５ａは円弧状とされ、後部外側隆起部形成要素１４の後部１４ｂと対向する後部１５ｂは、明瞭には図示はされていないが、踵が嵌まり込むよう緩傾斜の円弧状凹面とされて踵部Ｔ手前の位置とさせられている（図１８参照）。また、後部の裾は踵部Ｔに沿うよう円弧状とされている（図１８参照）。
　後部内側隆起部形成要素１５の頂部の高さは、８ｍｍ程度とされている。
　後部内側隆起部形成要素１５をかかる形状および配置とするのは、ドーム構造の扁平化を予防して正常な状態に維持する機能を具現化させるためである。つまり、前記条件（１）、（２）、（３）、（４）を満足させるようにするためである。
　成形部２０は、基板１１と同一形状とされて基部１０と一体成形される。成形部２０の厚みは、例えば２ｍｍ~５ｍｍ程度とされる。また、成形部２０の材質は、履用した場合における履用者に対する不快感を防止するため、成形後においても弾力性を有する素材とされるのが望ましい。かかる特性を有する素材としては、例えば天然ゴム、シリコン樹脂などの合成ゴム、ＥＶＡ（エチレン酢酸ビニル樹脂）などの発泡樹脂、皮革、合成皮革、ベルベットや不織布などの繊維素材、ＰＶＣ（塩化ビニル樹脂）やＰＵ（ポリウレタン樹脂）などの合成樹脂などとすることができる。
　表面化粧部３０は、成形がなされた成形部２０表面を覆うことができるよう可撓性を有する素材からなるものされる。前記特性を有する素材として、合成樹脂や布とすることができるがこれに限定されるものではなく、例えば皮革や合成皮革とすることもできる。
　また、表面化粧部３０の素材としては、肌触りがよくて靴下との摩擦が少ない表面を有してハイヒールの履脱を容易とするものが望ましい。
　なお、表面化粧部３０は、必要に応じて設けられればよく、そのため必ずしも設けられる必要はない。
　しかして、本実施形態の中敷Ａは、単独で利用者に販売されて利用に供されたり、あるいはハイヒール製造業者に供給されハイヒールに予め装着されて利用に供される。
　本実施形態の中敷Ａは、前記の如く構成されているので、以下の効果を奏する。
　前部隆起部形成要素１２により形成される前部隆起部１により、足の指先部へ不当な荷重がかかることが予防されるとともに、足の外側への捩りが抑制される。そのため、捻挫の予防、足やすねの回旋の予防、膝の捻れの予防などが図られる。
　中央部隆起部形成要素１３により形成される中央部隆起部（中央アーチ）により、足のドーム構造の頂点付近が支持される。そのため、ドーム構造が安定化され、また衝撃吸収力が向上する。
　後部外側隆起部形成要素１４により形成される後部外側隆起部（外側アーチ）、および後部内側隆起部形成要素１５により形成される後部内側隆起部（内側アーチ）により、足の側方への搖動が抑制される。
　中央アーチ、外側アーチおよび内側アーチは、足底腱膜、小趾外転筋などの筋腱を圧迫しないので、足底の不快感を誘発するおそれはない。
　外側アーチ後端部および内側アーチ後端部の協働により、踵部脂肪体が足底の中央部に寄せられるので、足底が本来有している衝撃吸収能力を最大限に発揮させることができる。また、足の前部への移動、つまり先細とされているつま先方向への滑り落ちも防止される。
　実施形態２
　図１９に、本発明の実施形態２に係るハイヒール用中敷（右足用中敷）Ａ１を示す。なお、左足用中敷は右足用中敷と左右対称とされているので、その図示説明は省略する。また、図１９中、図３と同一の符号は、同一または類似の構成要素を示す。
　ハイヒール用中敷Ａ１は、図１９に示すように、実施形態１の後部外側隆起部形成要素１４および後部内側隆起部形成要素１５の形態を改変して、後部外側隆起部形成要素１４Ａおよび後部内側隆起部形成要素１５Ａとしてなるものとされる。
　なお、実施形態２のその余の構成は実施形態１と同様とされているので、その構成の詳細な説明は省略する。
　図２０~図２７に、ハイヒール用中敷Ａ１（右足用）のイメージ図を示す。図中の符号ａは前部隆起部１を示し、符号ｂは後部内側隆起部４を示し、符号ｃは後部外側隆起部３を示し、符号ｄは中央部隆起部２を示す。
　後部外側隆起部形成要素１４Ａは、図１９に示すように、後部の裾が凸状の円弧状とされるとともに、後部が頂部から連なる凸状の円弧状面とされてなるものとされる（図２６参照）。
　後部内側隆起部形成要素１５Ａは、図１９に示すように、後部の裾が前部から連なる凸状の円弧状とされるとともに、後部が頂部から連なる凸状の円弧状面とされてなるものとされる。また、後部端部は急傾斜の円弧面とされている（図２３参照）。
　本実施形態の中敷Ａ１は前記の如く構成されているので、実施形態１に比して踵部におけるフィット感が向上するという効果を奏する。また、後部外側隆起部形成要素１４Ａの後部および後部内側隆起部形成要素１５Ａの後部の形状が簡素化されているので、成形が容易となるという効果も奏する。
　以上、本発明を実施形態に基づいて説明してきたが、本発明はかかる実施形態のみに限定されるものではなく、種々改変が可能である。
　例えば、本実施形態では、ハイヒール用中敷Ａは、基部１０、成形部２０、表面化粧部３０を一体成形してなるものとされるが、基部１０を基層とし、成形部２０を成形層とし、表面化粧部３０を表面化粧層とする三層構造とされてもよい。さらに、表面化粧部３０が成形部２０に吸収された構成とされてもよい。
　なお、ハイヒールの底の内側表面に前部隆起部、中央部隆起部、後部外側隆起部および後部内側隆起部を直接設けるようにされてもよい。
　本発明のハイヒール用中敷は、靴産業に利用できる。とりわけ、外反母趾や扁平足の予防や治療効果を必要とされるハイヒールにとりわけ有用である。
　Ａ　　　ハイヒール用中敷
　１　　　前部隆起部
　２　　　中央部隆起部
　３　　　後部外側隆起部
　４　　　後部内側隆起部
１０　　　基部
１１　　　基板
１２　　　前部隆起部形成要素
１３　　　中央部隆起部形成要素
１４　　　後部外側隆起部形成要素
１５　　　後部内側隆起部形成要素
２０　　　成形部
３０　　　表面化粧部
４０　　　山脈状部
４２　　　独立峰状部
４４　　　Ｕ字状部

Claims (14)

  1. 　足の指先部に対応させて横断的に前部隆起部が形成され、前記前部隆起部によりつま先における荷重面が拡大されて荷重圧が均等化されてなることを特徴とするハイヒール用中敷。
  2. 　小指側が親指側より高くされ、つま先の外側の指にも荷重がかかるようにされてなることを特徴とする請求項１記載のハイヒール用中敷。
  3. 　親指に対応させて溝状部が形成されてなることを特徴とする請求項１記載のハイヒール用中敷。
  4. 　足の骨配列により形成されるドーム構造の扁平化を避ける位置に中央部隆起部が形成されてなることを特徴とする請求項１記載のハイヒール用中敷。
  5. 　中央部隆起部は、内側が足底腱膜、外側が第５中足骨と小趾外転筋、前側が中足骨頭、後側が踵球によって囲まれてなることを特徴とする請求項４記載のハイヒール用中敷。
  6. 　中央部隆起部が、先広形状とされてなることを特徴とする請求項４記載のハイヒール用中敷。
  7. 　中央隆起部が、先低かつ後高形状とされてなることを特徴とする請求項４記載のハイヒール用中敷。
  8. 　後部外側隆起部および後部内側隆起部が形成されてなることを特徴とする請求項４記載のハイヒール用中敷。
  9. 　後部外側隆起部後部および後部内側隆起部後部が、踵部脂肪体を踵部中央に寄せるとともに、足部がつま先方向に移動するのを防ぐように形成されてなることを特徴とする請求項８記載のハイヒール用中敷。
  10. 　成形部を有してなることを特徴とする請求項１記載のハイヒール用中敷。
  11. 　成形部が、天然ゴム、シリコンゴムなどの合成ゴム、エチレン酢酸ビニル樹脂などの発泡素材、皮革または合成皮革、ベルベットおよび不織布などの繊維素材、または塩化ビニル樹脂などの熱可塑性樹脂からなるものとされてなることを特徴とする請求項１０記載のハイヒール用中敷。
  12. 　表面化粧部を有してなることを特徴とする請求項１記載のハイヒール用中敷。
  13. 　請求項１ないし請求項１２のいずれか一項に記載のハイヒール用中敷を備えてなることを特徴とするハイヒール。
  14. 　底の内側表面に、少なくとも前部隆起部が形成されてなることを特徴とするハイヒール。
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