WO2011065312A1 - エーテル化合物、これを含む潤滑剤および潤滑剤用組成物 - Google Patents

エーテル化合物、これを含む潤滑剤および潤滑剤用組成物 Download PDF

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lubricant
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白川　大祐
佳幸 牛頭
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    • C10N2040/18—Electric or magnetic purposes in connection with recordings on magnetic tape or disc

Definitions

  • the present invention relates to a fluorine-containing ether compound, a lubricant containing the same, and a composition for lubricant.
  • an external storage device of a system in which a recording / reproducing element (head) is operated by rotating a hard disk having a recording medium layer at high speed is generally used.
  • Hard disks include fixed magnetic disks, optical disks, magneto-optical disks, and the most popular hard disks are fixed magnetic disks.
  • a lubricant which is a kind of surface treatment agent, is applied to the surface of a hard disk.
  • the following are known as the lubricant.
  • a polyfluorinated polyether compound having four hydroxyl groups at its ends hereinafter, the polyfluorinated polyether compound is referred to as PFPE) (Patent Document 1).
  • the PFPE (1) has the following problems caused by hydroxyl groups. -Since the proportion of hydroxyl groups in all terminal groups is high, it is easy to adsorb moisture, and the adhesion to the hard disk surface decreases due to moisture adsorption. -Organic substances having affinity for hydroxyl groups are likely to be mixed. When a compound having a polar group is present, the polar group and the hydroxyl group react with each other, and the adhesion to the hard disk surface decreases.
  • PFPE which does not have a hydroxyl group at the terminal
  • Patent Document 2 PFPE having three vinyl groups at the ends that are aligned by ultraviolet irradiation treatment and develop adhesion to the hard disk surface
  • the present invention provides an ether compound capable of maintaining a high adhesion to a substrate even in the presence of moisture, a lubricant containing the ether compound, and a composition for the lubricant.
  • the present invention is the following [1] to [11].
  • X is group (X) which has the group represented by the following Formula (X0) at the terminal
  • W is a group (W) having a group represented by the following formula (W0) at the terminal
  • Z is a group (Z) having a group represented by the following formula (Z0) at the terminal
  • Y is a (s + t + u) -valent perfluorinated hydrocarbon group or a group (Y) in which an etheric oxygen atom is inserted between carbon-carbon atoms of the group, s is an integer from 1 to 7, t is an integer from 0 to 4, u is an integer from 0 to 2, (S + t + u) is an integer of 2 to 7.
  • R 1 to R 5 are each independently an atom or group selected from a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group, a trifluoromethyl group, a phenyl group, a perfluorophenyl group, and a hydroxyl group; The remaining three are each independently a hydrogen atom or a fluorine atom, a3 is an integer of 0 to 19.
  • the group (X) is a group represented by the following formula (X1)
  • the group (W) is a group represented by the following formula (W1)
  • the group (Z) is represented by the following formula (Z1).
  • the ether compound of [1] which is a group represented by the formula:
  • b1 to b3 are integers of 3 to 200, respectively.
  • the group (Y) is a group selected from the group consisting of a group represented by the following formula (Y-1) to a group represented by the following formula (Y-8): Ether compounds.
  • a lubricant comprising the ether compound of [1] to [7], wherein the proportion of the ether compound is 10% by mass or more out of 100% by mass of the lubricant (excluding the liquid medium). lubricant.
  • the lubricant according to [8] which is used for a magnetic recording medium.
  • a lubricant composition comprising the ether compound of [1] to [7] and a liquid medium.
  • the lubricant composition according to [10] wherein the ratio of the ether compound is 0.0001 to 10% by mass in 100% by mass of the lubricant composition.
  • the ether compound of the present invention can maintain high adhesion to a substrate even in the presence of moisture.
  • the lubricant of the present invention can maintain a high adhesion to the substrate even in the presence of moisture.
  • a lubricant coating film that can maintain a high adhesion to a substrate even in the presence of moisture can be formed.
  • a compound represented by the formula (A-1) will be referred to as a compound (A-1).
  • a group represented by the formula (X0) is referred to as a group (X0).
  • Groups represented by other formulas are also described in the same manner.
  • the ether compound represented by the following formula (A) is referred to as an ether compound (A) or a compound (A).
  • the compound (A) is a compound in which s groups (X), t groups (W) and u groups (Z) are bonded to the group (Y).
  • s is an integer from 1 to 7
  • t is an integer from 0 to 4
  • u is an integer from 0 to 2
  • (s + t + u) is an integer from 2 to 7. That is, in the compound (A), one or more groups (X) are bonded to the divalent to heptovalent group (Y).
  • the group (W) and the group (Z) are an optionally bonded group.
  • s is an integer of 1 to 7, and an integer of 1 to 4 is preferable.
  • t is an integer of 0 to 4, preferably 0 or 1.
  • u is an integer of 0 to 2, preferably 0 or 1.
  • (S + t + u) is an integer of 2 to 7, preferably an integer of 2 to 4. That is, the group (Y) is preferably a divalent to tetravalent group.
  • the group (X) is a group having the following group (X0) at the terminal.
  • Two of R 1 to R 5 are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group, a trifluoromethyl group, a phenyl group, a perfluorophenyl group, or a hydroxyl group, and the remaining three are each independently And a hydrogen atom or a fluorine atom.
  • a group (X1) is preferable.
  • the group (X1) is preferably a group selected from the group consisting of the group (X1-1) to the group (X1-5) from the viewpoint of easy availability of the compound.
  • the group (X1-1) or the group (X X1-4) is more preferred.
  • the group consists of only the group (X1-1) or only the group (X1-4).
  • groups (X) When there are a plurality of groups (X) in one molecule, they may be the same group or different groups. Groups of the same group (X) include groups having different numbers of structural units. For example, groups (X1) that differ only in the number of b1 are considered to be the same group. When several group (X) exists in 1 molecule, it is preferable that it is the same group from a viewpoint of the ease of manufacture and the effect of this invention.
  • the group (W) is a group having a group (W0) at the terminal. HO—CH 2 CF 2 O— (W0).
  • the group (W1) is preferable. HO—CH 2 CF 2 O— (CF 2 CF 2 O) b2 ⁇ (W1). b2 is an integer of 3 to 200, preferably an integer of 3 to 30, and more preferably an integer of 5 to 20.
  • the group (W) is a group that can contribute to an improvement in adhesion to the substrate because it has a hydroxyl group. For example, when the bond between the group (X) and the substrate is not uniform due to ultraviolet irradiation, the hydroxyl group of the compound (A) having the group (W) can improve the adhesion to the substrate.
  • groups (W) When there are a plurality of groups (W) in one molecule, they may be the same group or different groups.
  • the category of the group having the same group (W) includes groups having different numbers of structural units. For example, groups (W1) that differ only in the number of b2 are considered to be the same group.
  • groups (W1) that differ only in the number of b2 are considered to be the same group.
  • the group (Z) is a group having a group (Z0) at the terminal.
  • a3 is an integer of 0 to 19, preferably an integer of 3 to 30, and more preferably an integer of 5 to 20.
  • the group (Z) is a group having —CF 3 at the terminal and can contribute to the reduction of the friction coefficient.
  • the group (Z) preferably has a certain chain length from the viewpoint of increasing the degree of freedom of —CF 3 in the molecule.
  • a group (Z1) is preferable.
  • b3 is an integer of 3 to 200, preferably an integer of 3 to 30, and more preferably an integer of 5 to 20.
  • groups (Z) When a plurality of groups (Z) are present in one molecule, they may be the same group or different groups. Groups of the same group (Z) include groups having different numbers of structural units. For example, groups (Z1) that differ only in the number of a3 and b3 are considered to be the same group. When several group (Z) exists in 1 molecule, it is preferable that it is the same group from a viewpoint of the ease of manufacture and the effect of this invention.
  • the group (Y) is a (s + t + u) -valent perfluorinated hydrocarbon group or a group in which an etheric oxygen atom is inserted between carbon-carbon atoms of the group.
  • the group (Y) preferably does not have —CF 3 .
  • —CF 3 is preferably bonded to a quaternary carbon atom.
  • a quaternary carbon atom means a carbon atom bonded to four other carbon atoms.
  • the group (Y) is a group in which an etheric oxygen atom is inserted between carbon-carbon atoms
  • the number of etheric oxygen atoms is preferably 1 to 3. Since the etheric oxygen atom exists between carbon-carbon atoms, there is no etheric oxygen atom at the terminal of the group (Y) bonded to the group (X), the group (W), or the group (Z).
  • the group (Y) may have a symmetric structure or an asymmetric structure.
  • the group (Y) is preferably an asymmetric structure. Due to the asymmetric structure, the crystallinity of the compound (A) is lowered. For example, when used as a lubricant composition by dissolving in a liquid medium, the compound (A) is easily dissolved.
  • the composition of the present invention has a low viscosity, and the workability when applied on the substrate is improved.
  • the symmetry of the group (Y) means a structure that is line-symmetrical in a plane around the group (Y). Since the main chain exists linearly, the crystallinity tends to increase.
  • the group (Y) is preferably one selected from the group consisting of the groups (Y-1) to (Y-8), and since it has the asymmetric structure, the group (Y-1) and the group (Y -3) to (Y-6) are more preferable, and the group (Y-1) is particularly preferable.
  • the compound (A) preferably has no —OCF 2 O— structure from the viewpoint of chemical stability. That is, the group (X), the group (Z), the group (W) and the group (Y) are preferably groups having no —OCF 2 O— structure, and the structure of the compound (A) — It is preferred that OCF 2 O— is not present.
  • the fluorine-containing polyethers having a —OCF 2 O— structure have low chemical stability and are easily decomposed.
  • the compound having no —OCF 2 O— structure means a compound in which the presence of the structure cannot be detected by a usual analytical method ( 19 F-NMR or the like).
  • the presence of the —OCF 2 O— structure can be confirmed by the presence of a peak having a ⁇ of ⁇ 50.0 to ⁇ 56.0 ppm in 19 F-NMR (solvent: CDCl 3 ) (other structures overlap with this peak) Sometimes).
  • the presence of fluorine-containing polyethers having an —OCF 2 O— structure can be confirmed by being easily decomposed in the presence of a decomposition promoting catalyst.
  • the —OCF 2 O— structure is a structure that is likely to be contained in a fluorinated ether compound having a poly (perfluorooxypropylene) chain, and the compound (A) having a (CF 2 CF 2 O) b1 chain is usually Not included.
  • a raw material compound having a (CH 2 CH 2 O) b1 chain, which is a preferable production method described later, is used as a starting material, and a compound (A) is synthesized by directly forming a (CF 2 CF 2 O) b1 chain by a fluorination reaction. If, as long as the raw material compound has no -OCH 2 O-structure or -OCF 2 O-structure, compound (a) obtained has no -OCF 2 O-structure. Further, in the production method of the compound (A) using this direct fluorination reaction, a fluorine-containing ether compound having a —OCF 2 O— structure is not produced as a by-product.
  • an average ratio of the group (X) in the mixture that is, an average value of s / (s + t + u) is preferably 0.25 to 1.0.
  • a ratio of the group (X) of 1.0 means that the total amount of the mixture is substantially composed of the compound (A) having only the group (X).
  • the average value of s / (s + t + u) is 0.25 to 1.0, and the total of 100 mol% of the group (X), the group (W) and the group (Z) in the mixture of the compound (A) Of these, the group (X) means 25 to 100 mol%.
  • the ratio of the group (X), the group (W) and the group (Z) can be determined from the measurement results of 19 F-NMR and 1 H-NMR by a known method.
  • the ratio of said group (X) is 0.25 or more, it will be hard to adsorb
  • the compound (A) is preferably the following compound (A-1) or the following compound (A-2).
  • B10 to b40 correspond to b1 described above, and are each an integer of 3 to 200, preferably an integer of 3 to 30, and more preferably an integer of 5 to 20.
  • the number average molecular weight of the compound (A) (hereinafter referred to as Mn. Perfluoropolyether conversion value) is preferably 500 to 1,000,000, more preferably 1,000 to 10,000.
  • the molecular weight distribution of the compound (A) (hereinafter referred to as Mw / Mn. Perfluoropolyether conversion value) is preferably from 1.01 to 1.50, more preferably from 1.05 to 1.35. When Mn and Mw / Mn are within these ranges, the viscosity is low, the evaporation component is small, and the uniformity when dissolved in a liquid medium is excellent.
  • Mn is measured by gel permeation chromatography (hereinafter referred to as GPC).
  • Mw / Mn is determined from Mn and Mw (mass average molecular weight) measured by GPC.
  • Compound (A) is compound (F) whose terminal is entirely group (W) or part of terminal is group (Z) and the rest are all groups (in accordance with the method described in International Publication No. 2005/068534)
  • the compound (F) which is W) is produced, and a part or all of the terminal group (W) of the compound (F) is converted into a group (X) by a known method.
  • the compound (F) is produced as follows.
  • a compound having a terminal FC (O) -group is obtained by esterification, liquid phase fluorination, and ester decomposition reaction described in WO2005 / 068534.
  • the terminal is The compound having a —C (O) O— group obtained after liquid phase fluorination is subjected to ester exchange at the end by transesterification with alcohols, and then reduced.
  • a compound (F) which is a CH 2 -group is obtained.
  • the fluorine concentration contained in the gas blown into the liquid phase is preferably 5.0 to 50% by volume, more preferably 10 to 30% by volume.
  • the method of (1) It is preferred to select a method.
  • the leaving group in the method (1) include —O—SO 2 R F (wherein R F is a perfluoroalkyl group).
  • Compound (A-1) can be produced, for example, by the following method.
  • Compound (F) is allowed to react with a compound capable of introducing a leaving group (such as R F SO 2 F, where R F is a perfluoroalkyl group), and then —OH at the terminal of compound (F) is reacted with A method of obtaining a compound (A-1) by introducing a leaving group (—O—SO 2 R F etc.) to obtain a compound (G) and then reacting the compound (G) with phenol.
  • a leaving group such as R F SO 2 F, where R F is a perfluoroalkyl group
  • Compound (A-2) can be produced, for example, by the following method.
  • the compound (A-1) and the compound (A-2) may be purified after being produced by the above method. By purifying, the purity can be increased.
  • a purification method a known method for purifying an organic compound can be used, and examples thereof include a column chromatography method and a supercritical extraction method.
  • the ether compound (A) When the ether compound (A) is used as a lubricant, the ether compound (A) may be used as it is, and PFPE other than the ether compound (A) (hereinafter also referred to as other PFPE) is added to the ether compound (A). The ether compound (A) may be added to another PFPE.
  • PFPE other than the ether compound (A)
  • the ratio of the ether compound (A) in the lubricant is 100 so that the lubricant (the total of the ether compound (A) and other PFPEs, excluding the liquid medium) is used in order to sufficiently exhibit the properties of the ether compound (A). 10 mass% or more is preferable among 75 mass%, and 75 mass% or more is more preferable.
  • the upper limit of the ratio of the ether compound (A) in the lubricant is 100% by mass.
  • PFPE As other PFPE, other PFPE having a hydroxyl group at the terminal, other PFPE having an ultraviolet absorbing group at the terminal, and the like are preferable.
  • examples of other PFPE having a hydroxyl group at the terminal include FOMBLIN Z-DiOL and FOMBLIN Z-TetraOL manufactured by Solvay, DENMU SA manufactured by Daikin Industries, and PFPE described in International Publication No. 2005/068534.
  • PFPEs having UV-absorbing groups at the end include FOBLIN Z-DIAC, FOBLIN Z-DEAL, FOBLIN AM2001, FOBLIN Z-DISOC manufactured by Solvay, DEMNUM SH manufactured by Daikin Industries, Moresco A20H manufactured by Matsumura Oil Co., Ltd. Is mentioned.
  • Other PFPEs preferably do not contain PFPE whose terminal group is a CF 3 -group. Further, other PFPEs preferably have a number average molecular weight (Mn, converted to perfluoropolyether) of 1,000 to 10,000.
  • the amount of other PFPE is the sum of the lubricant (the ether compound (A) and the other PFPE.
  • the liquid medium in order to fully exhibit the characteristics of the present invention. 10 mass% or less is preferable, and 5 mass% is more preferable.
  • ⁇ Lubricant composition> When the ether compound (A) of the present invention is used as a lubricant, it is preferably used as a lubricant composition containing the ether compound (A) and a liquid medium.
  • the lubricant composition may contain other PFPE as required.
  • the lubricant composition may be any of a solution, a suspension or an emulsion, and a solution is preferred.
  • the lubricant composition is applied to the surface of the substrate (also referred to as an application step), the liquid medium is removed (also referred to as a drying step), and irradiation with ultraviolet rays (also referred to as an irradiation step) is performed. Is formed.
  • Liquid media include perfluoroalkylamines (perfluorotripropylamine, perfluorotributylamine, etc.), polyfluoroalkanes (AC-2000, AC-4000, AC-6000 (Asahi Glass Co., Ltd.)), Bertrell XF (DuPont) Etc.) or hydrofluoroethers (AE-3000 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), HFE-7100, 7200, 7300 (manufactured by 3M), etc.) are preferred, and hydrofluoroethers are more preferred from the viewpoint of a low ozone depletion coefficient.
  • perfluoroalkylamines perfluorotripropylamine, perfluorotributylamine, etc.
  • polyfluoroalkanes AC-2000, AC-4000, AC-6000 (Asahi Glass Co., Ltd.)
  • the removal of the liquid medium is performed by evaporating a part or the whole simultaneously with the application to the surface of the substrate, or by evaporating a part or the whole in the subsequent drying step. Therefore, the liquid medium is preferably selected from liquid media having a boiling point suitable for the coating process or the drying process. That is, a liquid medium having a boiling point of 20 to 150 ° C. is preferable, and a liquid medium having a boiling point of 50 to 100 ° C. is more preferable.
  • the concentration of the ether compound (A) in the lubricant composition is preferably 0.0001 to 10% by mass, and more preferably 0.001 to 1% by mass.
  • the composition for lubricants may contain components other than the ether compound (A), other PFPE, and the liquid medium (hereinafter referred to as other components). Examples of other components include radical scavengers (for example, X-1p (manufactured by Dow Chemicals)) and the like.
  • the lubricant composition does not contain metal ions, anions, moisture, a low-molecular polar compound, a plasticizer, and the like because the desired performance may not be achieved.
  • Metal ions Na, K, Ca, Al, etc.
  • Anions F, Cl, NO 2 , NO 3 , PO 4 , SO 4 , C 2 O 4, etc.
  • moisture may corrode the surface of the substrate. Therefore, it is preferable that each content is as follows.
  • Al and Mg are preferably 1,000 ppb or less, Na and K are each 20,000 ppb or less, Ca is 10,000 ppb or less, and Fe, Ni, Cu, and Zn are all preferably 100 ppb or less.
  • F is particularly preferably 10,000 ppm or less, and formic acid, Cl, NO 3 , SO 4 and oxalic acid are all preferably 5,000 ppb or less.
  • Low molecular polar compounds (alcohols; plasticizers eluted from the resin, etc.) may reduce the fixability between the substrate and the coating film.
  • the moisture content of the lubricant composition is preferably 2,000 ppm or less.
  • the lubricant coating is formed by applying a lubricant to the surface of a substrate and irradiating with ultraviolet rays. Or it forms by apply
  • the coating method examples include a roll coating method, a casting method, a dip coating method (dipping method), a spin coating method, a water casting method, a die coating method, a Langmuir-Projet method, a vacuum deposition method, and the like. From the viewpoint of productivity, the dipping method is preferred.
  • the drying step is preferably performed under the condition that only the liquid medium evaporates without causing the ether compound (A) and other PEPE to thermally decompose.
  • the drying temperature is preferably 50 to 200 ° C., and more preferably 50 to 150 ° C. from the viewpoint of protecting the substrate.
  • the drying time is preferably 1 to 60 minutes, and more preferably 1 to 5 minutes from the viewpoint of workability.
  • ultraviolet rays are irradiated.
  • the wavelength of the ultraviolet light is preferably 184 nm, 253 nm, or a mixed wavelength thereof.
  • the irradiation time is preferably 1 to 120 seconds, more preferably 3 to 60 seconds, and particularly preferably 5 to 30 seconds. You may wash
  • the terminal group (X) of the compound (A) can be oriented on the surface of the substrate, and the adhesion of the compound (A) to the surface of the substrate can be enhanced.
  • the lubricant coating film in which the terminal group (X) of the compound (A) is oriented has high water repellency and high oil repellency. Therefore, since the penetration
  • the surface of the lubricant coating film has the advantage of low surface energy and a low friction coefficient.
  • the water contact angle (room temperature) on the surface of the lubricant coating after ultraviolet irradiation is preferably 70 ° or more, more preferably 80 ° or more, and particularly preferably 85 ° or more.
  • the ether compound (A) is suitable as a lubricant for a magnetic recording medium such as a hard disk.
  • the base material of the magnetic recording medium include a substrate having a base layer, a recording layer, and a carbon protective film (DLC film) in this order on a NiP plated substrate (aluminum, glass, etc.).
  • the thickness of the carbon protective film is preferably 5.0 nm or less, and the average surface roughness (Ra) of the carbon protective film is preferably 2.0 nm or less.
  • the lubricant coating on the magnetic recording medium is formed by applying a lubricant to the surface of the substrate and irradiating with ultraviolet rays. Or it forms by apply
  • the thickness of the lubricant coating is preferably 5.0 nm or less, more preferably 3.0 nm or less, and particularly preferably 2.0 nm or less from the viewpoint of improving the recording density. From the viewpoint of durability, 0.25 nm or more is preferable.
  • the lubricant coating formed using the ether compound (A) of the present invention has high water repellency and suppresses the penetration of moisture into the magnetic recording medium even when placed under high temperature and high humidity. And can maintain high lubricity over a long period of time. The reason for this is not clear, but we believe it is the following mechanism.
  • the ether compound (A) of the present invention has a group (X0) having an aromatic ring structure having a conjugated ⁇ electron at the terminal, and therefore the ether compounds (A) and ether compounds ( A) and a base material couple
  • the adhesion to the substrate can be maintained in a high state even in the presence of moisture.
  • the ether compound (A) of the present invention applied to the surface of the substrate is irradiated with ultraviolet rays, a part of the group (X) in the ether compound (A) is cleaved to generate a radical, Since it is chemically bonded to the surface, it can maintain high adhesion to the substrate even in the presence of moisture.
  • MPC and Mw were measured as perfluoropolyether conversion values by GPC under the following conditions to determine the molecular weight distribution (Mw / Mn).
  • Analytical column Two PLgel MIXED-E columns (manufactured by Polymer Laboratories) connected in series.
  • Standard sample for molecular weight measurement 4 kinds of perfluoropolyethers having Mw / Mn of less than 1.1 and molecular weight of 2,000 to 10,000, and Mw / Mn of 1.1 or more, molecular weight of 1, One of 300 perfluoropolyethers was used.
  • Mobile phase flow rate 1.0 mL / min, Column temperature: 37 ° C Detector: Evaporative light scattering detector.
  • the film thickness (several nm) of the lubricant coating on the disk was measured by ellipsometry.
  • This method is a method for examining the property of the material surface by the polarization characteristics of obliquely incident reflected light, that is, a light whose polarization state is known is incident from the incident side, and the film is reflected by the amount of change in the polarization state reflected and changed by the object to be measured. This is a method of calibrating the thickness.
  • a commercially available scanning ellipsometer (MARY-102, manufactured by Fibrabo) was used as the measuring apparatus, and elliptical polarized light (spot diameter: ⁇ 35 ⁇ m ⁇ 100 ⁇ m) of He—Ne laser was used as the measuring light.
  • the film thickness of the lubricant coating was measured with an ellipsometer before and after cleaning.
  • the fixing rate is a percentage of the film thickness of the lubricant coating film after cleaning with respect to the film thickness of the lubricant coating film before cleaning.
  • the washing was performed by dipping for 10 minutes at 30 ° C. using commercially available Vertrel-XF (manufactured by DuPont).
  • the coefficient of friction of the surface of the lubricant coating was measured using a friction measuring device (Heidon, Tribogear). As a contact, a SUS ball having a diameter of 10 mm was used, and measurement was performed at a load of 1 g and a rotation speed of 25 rpm.
  • the water contact angle on the surface of the lubricant coating was measured using a contact angle meter (Face, CA-X). About 2 ⁇ L of water droplets were placed on the surface of the lubricant coating for measurement. The measurement was performed 5 times for each sample, and the average value thereof was obtained. In addition, the water contact angle was measured 5 seconds, 60 seconds, and 120 seconds after the formation of water droplets, and the stability of the surface energy was observed.
  • Example 1 In the method described in Example 11 of Example of International Publication No. 2005/068534, polyoxyethylene glycerol ether (manufactured by NOF Corporation, UNIOX G1200) is converted into diglycerin-initiated polyoxyethylene ether (manufactured by Sakamoto Pharmaceutical Co., Ltd., The reaction was carried out in the same manner except that it was changed to SC-E1500). The diglycerin-initiated polyoxyethylene ether was reacted with FC (O) CF (CF 3 ) OCF 2 CF (CF 3 ) O (CF 2 ) 3 F to obtain the following compound (B-1) that was liquid at room temperature. .
  • the average value of (b10 + b20 + b30 + b40) of the compound (B-1) is 37.0
  • R f is —CF (CF 3 ) OCF 2 CF (CF 3 ) OCF 2 CF 2 CF 3
  • Mn was 2,600 and Mw / Mn was 1.15.
  • Compound (B-1) does not have an —OCH 2 O— structure or an —OCF 2 O— structure in terms of its structure, and ⁇ -50.0 by 19 F-NMR (solvent: CDCl 3 ). A peak of ⁇ 56.0 ppm could not be confirmed.
  • Example 2 In the method described in Example 2-1 of Example of International Publication No. 2005/068534, R-113 is changed to CFE-419, and the concentration of fluorine gas contained in the gas blown into the liquid phase is changed from 20% by volume to 10%.
  • a liquid phase fluorination reaction of the compound (B-1) obtained in Example 1 was performed in the same manner except that the volume% was changed.
  • the product was a composition (c-1) containing the following compound (C-1) as a main component and having 99.9 mol% or more of hydrogen atoms in the compound (B-1) substituted with fluorine atoms.
  • the NMR spectrum measured in the composition (c-1) is as follows. 1 H-NMR ⁇ (ppm): 5.9 to 6.4. 19 F-NMR ⁇ (ppm): ⁇ 55.8, ⁇ 77.5 to ⁇ 86.0, ⁇ 88.2 to ⁇ 92.0, ⁇ 120.0 to ⁇ 139.0, ⁇ 142.0 to ⁇ 146.0.
  • Example 3 According to the method described in Example 3 of the example of International Publication No. 2005/068534, the compound (C-1) obtained in Example 2 was subjected to ester decomposition reaction, and the following compound (D-1) was the main component. A composition (d-1) was obtained.
  • Example 4 [Example 4-1] The esterification reaction was performed by reacting the compound (D-1) obtained in Example 3 with ethanol according to the method described in Example 4-1 of the example of International Publication No. 2005/068534. A composition (e-1) containing the following compound (E-1) as a main component was obtained. The composition (e-1) was used in the reaction of Example 5.
  • Example 4-2 According to the method described in Example 4-2 of the example of International Publication No. 2005/068534, a transesterification reaction was performed by reacting the compound (D-1) obtained in Example 3 with ethanol, and the following compound (E A composition having -1) as a main component was obtained.
  • Example 5 In the method described in Example 5 of Example of International Publication No. 2005/068534, the compound (E-1) obtained in Example 4-1 is subjected to a reduction reaction, and the following compound (F-1) is the main component. A composition (f-1) was obtained.
  • the NMR spectrum measured for the composition (f-1) is as follows. 1 H-NMR ⁇ (ppm): 3.94. 19 F-NMR ⁇ (ppm): ⁇ 54.0, ⁇ 80.1, ⁇ 88.2 to ⁇ 90.5, ⁇ 135.0 to ⁇ 139.0, ⁇ 145.5.
  • Example 6 Examples 1 to 5 were repeated to obtain 150 g of the composition (f-1).
  • Example 6-1 In a 250 mL round bottom flask under a nitrogen atmosphere, 100 g of the composition (f-1) obtained in Example 6 and 200 g of R-225 were added and stirred until uniform mixing. A round bottom flask was equipped with a reflux tube and an addition funnel whose outlet was kept at 0 ° C. and replaced with nitrogen gas. Next, 14 g of triethylamine (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) was added, stirred until uniform mixing, an ice bath was placed in the flask, and the internal temperature was adjusted to 10 ° C.
  • triethylamine manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.
  • the NMR spectrum measured for the composition (g-1) is as follows. 1 H-NMR ⁇ (ppm): 3.94, 4.60. 19 F-NMR ⁇ (ppm): ⁇ 54.0, ⁇ 77.6, ⁇ 80.1, ⁇ 80.9, ⁇ 88.2 to ⁇ 90.5, ⁇ 110.0, ⁇ 121.0, ⁇ 126.0, ⁇ 135.0 to ⁇ 139.0, ⁇ 145.5.
  • Example 6-2 10.92 g of cesium carbonate (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.), 5.2 g of phenol (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) and 200 g of dimethylacrylamide (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) were charged into a 500 mL four-necked flask under a nitrogen atmosphere. . A stirrer chip was placed in the flask, and a reflux tube cooled to 10 ° C. and a dropping funnel were installed on the top. After installation, the apparatus was heated using an oil bath while stirring, and the liquid temperature was maintained at 80 ° C.
  • Example 6-1 After the temperature was stabilized, 50 g of the composition (g-1) obtained in Example 6-1 was added dropwise over 2 hours. After completion of the dropwise addition, the liquid temperature was heated to 100 ° C. and stirred for 3 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, and the reaction solution was diluted with 250 g of R-225. After washing and separating twice with 500 mL of 0.05N dilute hydrochloric acid aqueous solution, the organic phase was concentrated with an evaporator, and 51.9 g of a light yellow composition (a-1) that was liquid at 25 ° C. Obtained.
  • the NMR spectrum measured in the composition (a-1) is as follows. 1 H-NMR ⁇ (ppm): 4.41, 4.75, 7.06, 7.56, 7.68. 19 F-NMR ⁇ (ppm): ⁇ 54.0, ⁇ 77.8, ⁇ 80.1, ⁇ 88.2 to ⁇ 90.5, ⁇ 135.0 to ⁇ 139.0, ⁇ 145.5.
  • Example 6-3 12.5 g of cesium carbonate (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.), 50 g of composition (f-1), and 100 g of dimethylacrylamide (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) were charged into a 500 mL four-necked flask under a nitrogen atmosphere. A stirrer chip was placed in the flask, and a reflux tube cooled to 10 ° C. and a dropping funnel were installed on the top. After heating to 80 ° C., 14.0 g of perfluorotoluene (manufactured by Hydras Chemical) was added from the dropping funnel over 1 hour.
  • the liquid temperature was raised to 100 ° C. and heated for 3 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, and the reaction solution was diluted with 250 g of R-225. After washing and separating twice with 500 mL of 0.05N dilute hydrochloric acid aqueous solution, the organic phase was concentrated with an evaporator, and 51.9 g of a light yellow composition (a-2) that was liquid at 25 ° C. Obtained.
  • the NMR spectrum measured in the composition (a-2) is as follows. 1 H-NMR ⁇ (ppm): 3.94, 4.48. 19 F-NMR ⁇ (ppm): ⁇ 54.0, ⁇ 55.1, ⁇ 77.7, ⁇ 80.1, ⁇ 88.2 to ⁇ 90.5, ⁇ 135.0 to ⁇ 139.0, ⁇ 140.0, -145.5, -155.4.
  • Example 7 Example 6-1 and Example 6-2 were repeated to obtain 100 g of the composition (a-1). Further, Example 6-3 was repeated to obtain 100 g of the composition (a-2).
  • composition (a-1) and the composition (a-2) includes a low-polarity component generated by cleavage of the C—C bond and a hydroxyl-terminated component in which no aromatic ring is introduced. Therefore, the composition (a-1) and the composition (a-2) were purified by the following column chromatography method. Granular silica gel (MS-Gel D75-120A manufactured by S-Tech Co., Ltd.) diluted with R-225 was packed into a column having a diameter of 150 mm and a length of 500 mm to form a silica gel packed phase having a height of 100 mm.
  • Granular silica gel MS-Gel D75-120A manufactured by S-Tech Co., Ltd.
  • Example 7-2 The crude product obtained in Example 7-1 has a molecular weight distribution. Therefore, the crude product (h3) and the crude product (i2) were purified by the following supercritical extraction method.
  • a crudely purified product was filled in a pressure-resistant extraction tank having an internal volume of 200 mL, heated to 60 ° C., and then extracted and purified by flowing carbon dioxide in a supercritical state at a flow rate of 10 cc / min.
  • the target product is eluted while gradually increasing the pressure of carbon dioxide to 10-25 [MPa] depending on the molecular weight, and the purified products (h3-1) to (h3-4) are recovered from the crude product (h3).
  • the purified products (i2-1) to (i2-4) were recovered from the crude product (i2). Tables 3 and 4 show the recovered amounts and the ratio of terminal groups.
  • Example 8 (Comparative example) According to the method described in Examples 1 to 7 of Examples in JP-A-2009-149835, a composition (a4-1) mainly comprising a compound (A4-1) having three vinyl groups at its terminals is obtained. It was. This was purified by column chromatography to obtain a purified product (j-1).
  • Example 9 [Example 9-1] The purified product (h3-2), (h3-3), (i2-2), (i2-3), and the composition (f-1) and the purified product (j-1) as liquid media (DuPont) 6 types of lubricant compositions were prepared by diluting to 0.01% by mass with Vertrel-XF.
  • Example 9-2 Carbon was used as a target, and DLC was deposited on glass blanks for magnetic disks (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., 2.5 "blanks) by high-frequency magnetron sputtering in an argon atmosphere to form a DLC film to produce a simulated disk.
  • the argon gas pressure is 0.003 Torr
  • the input power density during sputtering is 3 W / cm 2 per target area
  • the thickness of the DLC film is 30 nm
  • the water contact angle on the surface of the DLC film is It was 40 °.
  • Example 9-3 The simulated disk obtained in Example 9-2 was immersed in the lubricant composition obtained in Example 9-1 for 30 seconds and pulled up at a constant speed of 6 mm / second. Subsequently, the liquid medium was removed by placing on a hot plate at 100 ° C. for 60 minutes. Using an ultraviolet irradiation device (UV Crosslinker CX-2000, manufactured by UVP), the simulated disk coated with the lubricant composition with the liquid medium removed was irradiated with ultraviolet rays to form a lubricant coating. .
  • the wavelength of ultraviolet rays was a mixed wavelength of 184 nm and 253 nm, and the irradiation time was 15 seconds.
  • the obtained disk was immersed in a solvent (Vertrel-XF) for 30 seconds and washed to produce a simulated hard disk.
  • Tables 5 and 6 show the fixability, friction coefficient, and water contact angle of the lubricant film on the surface of the obtained simulated hard disk. Further, a lubricant coating film was similarly formed without the ultraviolet irradiation treatment. Tables 5 and 6 show the fixability, friction coefficient, and water contact angle of the lubricant coating on the disk surface.
  • the simulated hard disk manufactured using the lubricants (h3-2), (h3-3), (i2-2), and (i2-3), which are examples, has a low coefficient of friction, It was confirmed that the change with time of the contact angle was small, that is, it was possible to maintain a state of high adhesion to the substrate even in the presence of moisture.
  • the coating film made of the lubricant having an aromatic ring at the terminal is larger in the water contact angle by the ultraviolet irradiation treatment than the lubricant having only the hydroxyl group at the terminal, that is, the surface energy is increased. It turns out that it falls easily.
  • the change in the water contact angle with time is small and the lubricant having an aromatic ring at the end and the disk form a strong bond that is not exchanged by the polar compound.
  • a coating film made of a lubricant having a fluorinated aromatic ring at the terminal has a sufficiently low surface energy and a sufficiently small friction coefficient.
  • the simulated hard disk manufactured using the lubricants (f-1) and (j-1), which are comparative examples had a good fixing rate, but the water contact angle measured that water entered the water. The change in contact angle with time increased.
  • the ether compound of the present invention is useful as a lubricant for magnetic recording media such as hard disks.
  • the entire contents of the specification, claims and abstract of Japanese Patent Application No. 2009-268683 filed on Nov. 26, 2009 are incorporated herein as the disclosure of the specification of the present invention. It is.

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Abstract

　水分の存在下でも基材への密着力を高い状態で維持できるエーテル化合物、これを含む潤滑剤および潤滑剤用組成物を提供する。　（Ｘ－）ｓ（Ｗ－）ｔ（Ｚ－）ｕＹで表わされるエーテル化合物を用いる。 Ｘ＝末端に下式（Ｘ０）を有する基、Ｗ＝末端にＨＯ－ＣＨ２ＣＦ２Ｏ－を有する基、Ｚ＝末端にＣＦ３（ＣＦ２）ａ３Ｏ－を有する基、Ｙ＝（ｓ＋ｔ＋ｕ）価のペルフルオロ化炭化水素基等、ｘ＝１～７、ｗ＝０～４、ｚ＝０～２、（ｓ＋ｔ＋ｕ）＝２～７、ａ３＝０～１９、Ｒ１～Ｒ５＝水素原子、フッ素原子等。

Description

エーテル化合物、これを含む潤滑剤および潤滑剤用組成物
　本発明は、含フッ素エーテル化合物、これを含む潤滑剤および潤滑剤用組成物に関する。
　外部記憶装置としては、記録媒体層を有するハードディスクを高速回転させて記録・再生用素子（ヘッド）が作動する方式（ＣＳＳ方式）の外部記憶装置が一般的に用いられる。ハードディスクとしては、固定式磁気ディスク、光ディスク、光磁気ディスク等があり、最も普及しているハードディスクは固定式磁気ディスクである。
　外部記憶装置を大容量化するには、記録媒体層の面記録密度を増加する必要がある。そのためには、ビットサイズを小さくするためにヘッドとハードディスクとの間隔を狭くする必要がある。それに伴いハードディスクの表面の平滑性を上げる必要がある。しかし、ハードディスクの表面の平滑性を上げると、ハードディスクの表面にヘッドが吸着しやすくなる。
　また、高速応答性を得るために、ハードディスクの回転速度を上げる必要もある。しかし、回転速度を上げると、ハードディスクとヘッドとの接触確率、摩耗等が増加する。
　該問題を解決するために、ハードディスクの表面に表面処理剤の１種である潤滑剤を塗布することが行われている。該潤滑剤としては、下記のものが知られている。
　（１）末端に４つの水酸基を有するポリフルオロ化されたポリエーテル化合物（以下、ポリフルオロ化されたポリエーテル化合物をＰＦＰＥと記す。）（特許文献１）。
　しかし、（１）のＰＦＰＥには、水酸基に起因する下記の問題がある。
　・全末端基に占める水酸基の割合が高いため、水分を吸着しやすく、水分の吸着によってハードディスクの表面への密着力が低下する。
　・水酸基と親和性を有する有機物が混入しやすい。
　・極性基を有する化合物が存在した場合、極性基と水酸基とが反応し、ハードディスクの表面への密着力が低下する。
　一方、末端に水酸基を有さないＰＦＰＥとしては、下記のものが提案されている（特許文献２）。
　（２）紫外線照射処理によって配向してハードディスクの表面への密着力を発現するビニル基を末端に３つ有するＰＦＰＥ（特許文献２）。
国際公開第２００５／０６８５３４号 特開２００９－１４９８３５号公報
　しかし、本発明者らの検討によれば、（２）のＰＦＰＥでも、水分の存在下ではハードディスクの表面への密着力が低下しやすい傾向にあることを確認した。
　本発明は、水分の存在下でも基材への密着力を高い状態で維持できるエーテル化合物、これを含む潤滑剤および潤滑剤用組成物を提供する。
　本発明は、下記［１］～［１１］の発明である。
［１］下式（Ａ）で表わされるエーテル化合物。
　（Ｘ－）ｓ（Ｗ－）ｔ（Ｚ－）ｕＹ　・・・（Ａ）。
　ただし、Ｘは、末端に下式（Ｘ０）で表される基を有する基（Ｘ）であり、
　Ｗは、末端に下式（Ｗ０）で表される基を有する基（Ｗ）であり、
　Ｚは、末端に下式（Ｚ０）で表わされる基を有する基（Ｚ）であり、
　Ｙは、（ｓ＋ｔ＋ｕ）価のペルフルオロ化炭化水素基または該基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基（Ｙ）であり、
　ｓは、１～７の整数であり、
　ｔは、０～４の整数であり、
　ｕは、０～２の整数であり、
　（ｓ＋ｔ＋ｕ）は、２～７の整数である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　ＨＯ－ＣＨ２ＣＦ２Ｏ－　・・・（Ｗ０）、
　ＣＦ３（ＣＦ２）ａ３Ｏ－　・・・（Ｚ０）。
　ただし、Ｒ１～Ｒ５のうち、２つは、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基、ペルフルオロフェニル基、および水酸基から選ばれる原子または基であり、残りの３つは、それぞれ独立に、水素原子またはフッ素原子であり、
　ａ３は０～１９の整数である。
［２］基（Ｘ）が、下式（Ｘ１）で表わされる基であり、基（Ｗ）が、下式（Ｗ１）で表わされる基であり、基（Ｚ）が、下式（Ｚ１）で表わされる基である、［１］のエーテル化合物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　ＨＯ－ＣＨ２ＣＦ２Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ２－　・・・（Ｗ１）、
　ＣＦ３（ＣＦ２）ａ３Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ３－　・・・（Ｚ１）。
　ただし、ｂ１～ｂ３は、それぞれ３～２００の整数である。
［３］基（Ｘ１）が、下式（Ｘ１－１）で表わされる基～下式（Ｘ１－５）で表わされる基からなる群から選ばれる基である、［２］のエーテル化合物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
［４］基（Ｙ）が、下式（Ｙ－１）で表わされる基～下式（Ｙ－８）で表わされる基からなる群から選ばれる基である、［１］～［３］のエーテル化合物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
［５］－ＯＣＦ２Ｏ－構造を有さない、［１］～［４］のエーテル化合物。
［６］ｓ／（ｓ＋ｔ＋ｕ）の平均値が、０．２５～１．０である、［１］～［５］のエーテル化合物。
［７］数平均分子量（ペルフルオロポリエーテル換算値）が、５００～１００万であり、かつ分子量分布（ペルフルオロポリエーテル換算値）が、１．０１～１．５０である、［１］～［６］のエーテル化合物。
［８］［１］～［７］のエーテル化合物を含む潤滑剤であり、該エーテル化合物の割合が、潤滑剤（液状媒体を除く。）の１００質量％のうち、１０質量％以上である、潤滑剤。
［９］磁気記録媒体用である、［８］の潤滑剤。
［１０］［１］～［７］のエーテル化合物と、液状媒体とを含む、潤滑剤用組成物。
［１１］前記エーテル化合物の割合が、潤滑剤用組成物の１００質量％のうち、０．０００１～１０質量％である、［１０］の潤滑剤用組成物。
　本発明のエーテル化合物は、水分の存在下でも基材への密着力を高い状態で維持できる。
　本発明の潤滑剤は、水分の存在下でも基材への密着力を高い状態で維持できる。
　本発明の潤滑剤用組成物によれば、水分の存在下でも基材への密着力を高い状態で維持できる潤滑剤塗膜を形成できる。
　本明細書においては、式（Ａ－１）で表される化合物を化合物（Ａ－１）と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。
　また、式（Ｘ０）で表される基を基（Ｘ０）と記す。他の式で表される基も同様に記す。
＜エーテル化合物＞
　本発明においては、下式（Ａ）で表されるエーテル化合物を、エーテル化合物（Ａ）または、化合物（Ａ）と記す。
　（Ｘ－）ｓ（Ｗ－）ｔ（Ｚ－）ｕＹ　・・・（Ａ）。
　化合物（Ａ）は、基（Ｙ）にｓ個の基（Ｘ）、ｔ個の基（Ｗ）およびｕ個の基（Ｚ）が結合した化合物である。ｓは１～７の整数であり、ｔは０～４の整数であり、ｕは０～２の整数であり、（ｓ＋ｔ＋ｕ）は２～７の整数である。すなわち、化合物（Ａ）は、２～７価の基（Ｙ）に、１個以上の基（Ｘ）が結合する。基（Ｗ）および基（Ｚ）は任意に結合する基である。
　ｓは、１～７の整数であり、１～４の整数が好ましい。
　ｔは、０～４の整数であり、０または１が好ましい。
　ｕは、０～２の整数であり、０または１が好ましい。
　（ｓ＋ｔ＋ｕ）は、２～７の整数であり、２～４の整数が好ましい。すなわち、基（Ｙ）は、２～４価の基が好ましい。
（基（Ｘ））
　基（Ｘ）は、末端に下記基（Ｘ０）を有する基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　Ｒ１～Ｒ５のうち、２つは、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基、ペルフルオロフェニル基、または水酸基であり、残りの３つは、それぞれ独立に、水素原子またはフッ素原子である。
　基（Ｘ）としては、基（Ｘ１）が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　ｂ１は、３～２００の整数であり、３～３０の整数が好ましく、５～２０の整数がより好ましい。
　基（Ｘ１）としては、化合物の入手のしやすさの点から、基（Ｘ１－１）～基（Ｘ１－５）からなる群から選ばれる基が好ましく、基（Ｘ１－１）または基（Ｘ１－４）がより好ましい。１分子中に複数の基（Ｘ１）が存在する場合、基（Ｘ１－１）のみ、または基（Ｘ１－４）のみ、からなるのがとりわけ好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　１分子中に複数の基（Ｘ）が存在する場合、それぞれ同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。基（Ｘ）が同一である基の範疇には、構造単位の数が異なる基も含まれる。たとえば、ｂ１の数のみが異なる基（Ｘ１）は同一の基と考える。１分子中に複数の基（Ｘ）が存在する場合、製造しやすさと、本発明の効果の観点から同一の基であるのが好ましい。
（基（Ｗ））
　基（Ｗ）は、末端に基（Ｗ０）を有する基である。
　ＨＯ－ＣＨ２ＣＦ２Ｏ－　・・・（Ｗ０）。
　基（Ｗ）としては、基（Ｗ１）が好ましい。
　ＨＯ－ＣＨ２ＣＦ２Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ２－　・・・（Ｗ１）。
　ｂ２は、３～２００の整数であり、３～３０の整数が好ましく、５～２０の整数がより好ましい。
　基（Ｗ）は水酸基を有することより、基材への密着力向上に寄与しうる基である。たとえば、紫外線照射により基（Ｘ）による基材との結合が不均一だった場合に、基（Ｗ）を有する化合物（Ａ）の水酸基が基材に対する密着力を向上させることができる。
　１分子中に複数の基（Ｗ）が存在する場合、それぞれ同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。基（Ｗ）が同一である基の範疇には、構造単位の数が異なる基も含まれる。たとえば、ｂ２の数のみが異なる基（Ｗ１）は同一の基と考える。１分子中に複数の基（Ｗ）が存在する場合、製造しやすさと、本発明の効果の観点から同一の基であるのが好ましい。
（基（Ｚ））
　基（Ｚ）は、末端に基（Ｚ０）を有する基である。
　ＣＦ３（ＣＦ２）ａ３Ｏ－　・・・（Ｚ０）。
　ａ３は０～１９の整数であり、３～３０の整数が好ましく、５～２０の整数がより好ましい。
　基（Ｚ）は、末端に－ＣＦ３を有する基であり、摩擦係数の低下に寄与しうる基である。基（Ｚ）は、分子中における－ＣＦ３の自由度が高くなる点から、ある程度の鎖長を有することが好ましい。
　基（Ｚ）としては、基（Ｚ１）が好ましい。
　ＣＦ３（ＣＦ２）ａ３Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ３－　・・・（Ｚ１）。
　ｂ３は、３～２００の整数であり、３～３０の整数が好ましく、５～２０の整数がより好ましい。
　１分子中に複数の基（Ｚ）が存在する場合、それぞれ同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。基（Ｚ）が同一である基の範疇には、構造単位の数が異なる基も含まれる。たとえば、ａ３やｂ３の数のみが異なる基（Ｚ１）は同一の基と考える。１分子中に複数の基（Ｚ）が存在する場合、製造しやすさと、本発明の効果の観点から同一の基であるのが好ましい。
（基（Ｙ））
　基（Ｙ）は、（ｓ＋ｔ＋ｕ）価のペルフルオロ化炭化水素基または該基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基である。基（Ｙ）は、－ＣＦ３を有さないことが好ましい。基（Ｙ）が－ＣＦ３を有する場合、－ＣＦ３は４級炭素原子に結合していることが好ましい。４級炭素原子とは、４個の他の炭素原子と結合している炭素原子を意味する。
　基（Ｙ）が、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基である場合、エーテル性酸素原子の数は、１～３が好ましい。エーテル性酸素原子は炭素－炭素原子間に存在することから、基（Ｘ）、基（Ｗ）、基（Ｚ）に結合する基（Ｙ）の末端にはエーテル性酸素原子は存在しない。
　基（Ｙ）は、対称の構造であってもよく、非対称の構造であってもよい。基（Ｙ）としては、非対称の構造が好ましい。非対称の構造であることで、化合物（Ａ）の結晶性が低下し、たとえば液状媒体に溶解して潤滑剤用組成物として使用する場合に、化合物（Ａ）が溶解しやすくなり、また潤滑剤用組成物が低粘度になり、基材上に塗布する際の作業性が良好になる。なお、基（Ｙ）が対称とは、基（Ｙ）を中心に平面で線対称になる構造を意味する。主鎖が直線的に存在するため結晶性が高くなる傾向にある。
　基（Ｙ）としては、基（Ｙ－１）～基（Ｙ－８）からなる群から選ばれる１種が好ましく、上記非対称の構造であることから、基（Ｙ－１）および基（Ｙ－３）～基（Ｙ－６）がより好ましく、基（Ｙ－１）が特に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
（化合物（Ａ））
　化合物（Ａ）は、化学的安定性の点から、－ＯＣＦ２Ｏ－構造を有さないことが好ましい。すなわち、基（Ｘ）、基（Ｚ）、基（Ｗ）および基（Ｙ）は、－ＯＣＦ２Ｏ－構造を有さない基であるのが好ましく、化合物（Ａ）の構造中にも－ＯＣＦ２Ｏ－が存在しないのが好ましい。－ＯＣＦ２Ｏ－構造を有する含フッ素ポリエーテル類は、化学的安定性が低く、分解しやすい。
　－ＯＣＦ２Ｏ－構造を有さない化合物とは、通常の分析手法（１９Ｆ－ＮＭＲ等）では該構造の存在が検出できない化合物を意味する。－ＯＣＦ２Ｏ－構造の存在は、１９Ｆ－ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）においてδが－５０．０～－５６．０ｐｐｍのピークの存在により確認できる（ただし、他の構造がこのピークと重複することもある）。また、－ＯＣＦ２Ｏ－構造を有する含フッ素ポリエーテル類は、分解促進触媒の存在下で容易に分解することより、その存在を確認することもできる。
　－ＯＣＦ２Ｏ－構造は、ポリ（ぺルフルオロオキシプロピレン）鎖を有する含フッ素エーテル化合物に含まれ易い構造であり、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ１鎖を有する化合物（Ａ）には、通常含まれない。後述の好ましい製造方法である、（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｂ１鎖を有する原料化合物を出発物質とし、直接フッ素化反応で（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ１鎖を形成して化合物（Ａ）を合成する場合、原料化合物が－ＯＣＨ２Ｏ－構造や－ＯＣＦ２Ｏ－構造を有していない限り、得られる化合物（Ａ）は－ＯＣＦ２Ｏ－構造を有さない。また、この直接フッ素化反応を利用した化合物（Ａ）の製造方法では、－ＯＣＦ２Ｏ－構造を有する含フッ素エーテル化合物が副生することもない。
　化合物（Ａ）の製造においては、通常、ｓ、ｔ、ｕの値が異なる化合物（Ａ）の混合物が生成する。必要により、特定の化合物（Ａ）の割合が高いものを選択して製造することができる。また、ｓ、ｔ、ｕの値が異なる化合物（Ａ）の混合物から、特定の化合物（Ａ）の割合が高いものを分離することもできる。
　化合物（Ａ）の混合物としては、混合物における平均の基（Ｘ）の割合、すなわち、ｓ／（ｓ＋ｔ＋ｕ）の平均値が、０．２５～１．０であるものが好ましい。基（Ｘ）の割合が１．０とは、その混合物の全量が、実質的に、基（Ｘ）のみを有する化合物（Ａ）からなることをいう。ｓ／（ｓ＋ｔ＋ｕ）の平均値が０．２５～１．０であるとは、また、化合物（Ａ）の混合物における基（Ｘ）、基（Ｗ）および基（Ｚ）の合計１００モル％のうち、基（Ｘ）が２５～１００モル％であることを意味する。この基（Ｘ）、基（Ｗ）および基（Ｚ）の割合は、１９Ｆ－ＮＭＲおよび１Ｈ－ＮＭＲの測定結果から公知の手法によって求めることができる。
　上記基（Ｘ）の割合が０．２５以上であれば、水分を吸着しにくく、基材への密着力が高くなる。さらに、上記基（Ｘ）の割合は、０．５～１．０がより好ましく、０．７５～１．０がさらに好ましく、０．９５～１．０が特に好ましい。
　化合物（Ａ）としては、下記化合物（Ａ－１）または下記化合物（Ａ－２）が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　ｂ１０～ｂ４０は、上述のｂ１に相当し、それぞれ３～２００の整数であり、３～３０の整数が好ましく、５～２０の整数がより好ましい。
　化合物（Ａ）の数平均分子量（以下、Ｍｎと記す。ペルフルオロポリエーテル換算値。）は、５００～１００万が好ましく、１，０００～１０，０００がより好ましい。
　化合物（Ａ）の分子量分布（以下、Ｍｗ／Ｍｎと記す。ペルフルオロポリエーテル換算値。）は、１．０１～１．５０が好ましく、１．０５～１．３５がより好ましい。
　ＭｎおよびＭｗ／Ｍｎが該範囲にあれば、粘度が低く、蒸発成分が少なく、液状媒体に溶解した際の均一性に優れる。
　Ｍｎは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（以下、ＧＰＣと記す。）により測定される。Ｍｗ／Ｍｎは、ＧＰＣにより測定されたＭｎおよびＭｗ（質量平均分子量）から求める。
　化合物（Ａ）は、国際公開第２００５／０６８５３４号に記載の方法によって、末端がすべて基（Ｗ）である化合物（Ｆ）、または末端の一部が基（Ｚ）であり残りがすべて基（Ｗ）である化合物（Ｆ）を製造し、該化合物（Ｆ）の末端の基（Ｗ）の一部または全部を公知の手法により変換して基（Ｘ）とすることにより製造できる。
　化合物（Ｆ）は、具体的には下記のようにして製造する。
　国際公開第２００５／０６８５３４号に記載する、エステル化、液相フッ素化、エステル分解反応によって末端がＦＣ（Ｏ）－基である化合物を得る。ついで、（ａ）該末端がＦＣ（Ｏ）－基である化合物を、アルコール類または水と反応させて末端をエステルまたはカルボン酸とした後に還元することによる方法、または、（ｂ）該末端が液相フッ素化後に得られる－Ｃ（Ｏ）Ｏ－基である化合物を、アルコール類とエステル交換することにより末端をエステル化した後に還元することによる方法、のいずれかの方法によって末端がＨＯ－ＣＨ２－基である化合物（Ｆ）を得る。なお、液相フッ素化反応において、液相フッ素化反応の条件が厳しい場合、分子の末端の切断反応が起こりやすい。よって、液相フッ素化反応において、液相に吹き込むガスに含まれるフッ素濃度は、５．０～５０体積％が好ましく、１０～３０体積％がより好ましい。
　化合物（Ｆ）の末端の基（Ｗ）の一部または全部を変換して基（Ｘ）とする方法としては、下記の２種類の方法がある。
　（１）化合物（Ｆ）に脱離基を導入し、水酸基を含有する化合物を反応させる方法。
　（２）化合物（Ｆ）に水酸基を含有する化合物を反応させる方法。
　（１）、（２）の方法のいずれを選択するかは、水酸基を含有する化合物の反応性による。水酸基を含有する化合物が反応性の高いペルフルオロ化合物等の場合は（２）の方法を選択するのが好ましく、水酸基を含有する化合物が反応性の低い非フッ素含有化合物等の場合は（１）の方法を選択するのが好ましい。なお、（１）の方法における脱離基としては、－Ｏ－ＳＯ２ＲＦ（ただし、ＲＦはペルフルオロアルキル基である。）等が挙げられる。
　化合物（Ａ－１）は、たとえば、下記の方法で製造できる。
　化合物（Ｆ）に、脱離基を導入し得る化合物（ＲＦＳＯ２Ｆ等。ただし、ＲＦはペルフルオロアルキル基である。）を反応させて、化合物（Ｆ）の末端の－ＯＨに、脱離基（－Ｏ－ＳＯ２ＲＦ等）を導入して化合物（Ｇ）を得た後、化合物（Ｇ）にフェノールを反応させて化合物（Ａ－１）を得る方法。
　化合物（Ａ－２）は、たとえば、下記の方法で製造できる。
　化合物（Ｆ）に、ペルフルオロトルエンを反応させて化合物（Ａ－２）を得る方法。
　化合物（Ａ－１）および化合物（Ａ－２）は、上記方法で製造した後に、精製を行ってもよい。精製することで、純度を上げることができる。精製方法は、有機化合物を精製する公知の方法を使用することができるが、例えばカラムクロマトグラフィ法、超臨界抽出法などが挙げられる。
＜潤滑剤＞
　エーテル化合物（Ａ）を潤滑剤として用いる場合、エーテル化合物（Ａ）をそのまま用いてもよく、エーテル化合物（Ａ）にエーテル化合物（Ａ）以外のＰＦＰＥ（以下、他のＰＦＰＥともいう。）を添加して用いてもよく、他のＰＦＰＥにエーテル化合物（Ａ）を添加して用いてもよい。
　潤滑剤におけるエーテル化合物（Ａ）の割合は、エーテル化合物（Ａ）の特性を充分に発揮させために、潤滑剤（エーテル化合物（Ａ）および他のＰＦＰＥの合計。液状媒体を除く。）の１００質量％のうち、１０質量％以上が好ましく、７５質量％以上がより好ましい。潤滑剤におけるエーテル化合物（Ａ）の割合の上限は１００質量％である。
（他のＰＦＰＥ）
　他のＰＦＰＥとしては、末端に水酸基を有する他のＰＦＰＥ、末端に紫外線吸収基を有する他のＰＦＰＥ等が好ましい。
　末端に水酸基を有する他のＰＦＰＥとしては、ソルベイ社製のＦＯＭＢＬＩＮ　Ｚ－ＤｉＯＬ、ＦＯＭＢＬＩＮ　Ｚ－ＴｅｔｒａＯＬ、ダイキン工業社製のＤＥＭＮＵＭ　ＳＡ、国際公開第２００５／０６８５３４号に記載のＰＦＰＥ等が挙げられる。
　末端に紫外線吸収基を有する他のＰＦＰＥとしては、ソルベイ社製のＦＯＭＢＬＩＮ　Ｚ－ＤＩＡＣ、ＦＯＭＢＬＩＮ　Ｚ－ＤＥＡＬ、ＦＯＭＢＬＩＮ　ＡＭ２００１、ＦＯＭＢＬＩＮ　Ｚ－ＤＩＳＯＣ、ダイキン工業社製のＤＥＭＮＵＭ　ＳＨ、松村石油社製のＭｏｒｅｓｃｏＡ２０Ｈ等が挙げられる。
　他のＰＦＰＥとしては、末端基がＣＦ３－基であるＰＦＰＥを含まないものが好ましい。
　さらに、他のＰＦＰＥとしては、数平均分子量（Ｍｎ、ペルフルオロポリエーテル換算値。）が１，０００～１０，０００であるものが好ましい。
　本発明の潤滑剤に他のＰＦＰＥを添加する場合の他のＰＦＰＥの量は、本発明の特性を充分に発揮させるために、潤滑剤（エーテル化合物（Ａ）および他のＰＦＰＥの合計。液状媒体を除く。）の１００質量％のうち、１０質量％以下が好ましく、５質量％がより好ましい。
＜潤滑剤用組成物＞
　本発明のエーテル化合物（Ａ）を潤滑剤として用いる場合、エーテル化合物（Ａ）と液状媒体とを含む潤滑剤用組成物として用いることが好ましい。潤滑剤用組成物は、必要に応じて他のＰＦＰＥを含んでいてもよい。
　潤滑剤用組成物は、溶液、懸濁液または乳化液のいずれであってもよく、溶液が好ましい。潤滑剤組成物を基材の表面に塗布し（塗布工程ともいう。）、液状媒体を除去し（乾燥工程ともいう。）、紫外線を照射する（照射工程ともいう。）ことによって潤滑剤塗膜が形成される。
　液状媒体としては、ペルフルオロアルキルアミン類（ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等）、ポリフルオロアルカン類（ＡＣ－２０００、ＡＣ－４０００，ＡＣ－６０００（旭硝子社製）、バートレルＸＦ（デュポン社製）等）またはヒドロフルオロエーテル類（ＡＥ－３０００（旭硝子社製）、ＨＦＥ－７１００，７２００，７３００（３Ｍ社製）等）が好ましく、オゾン層破壊係数が低い点でヒドロフルオロエーテル類がより好ましい。
　液状媒体の除去は、基材の表面への塗布と同時に一部または全部を蒸発させるか、その後の乾燥工程で一部または全部を蒸発させて行う。したがって、液状媒体としては、塗布工程または乾燥工程に適した沸点を有する液状媒体から選択するのが好ましい。すなわち、沸点が２０～１５０℃である液状媒体が好ましく、５０～１００℃である液状媒体がより好ましい。
　潤滑剤用組成物中のエーテル化合物（Ａ）の濃度は、０．０００１～１０質量％が好ましく、０．００１～１質量％がより好ましい。
　潤滑剤用組成物は、エーテル化合物（Ａ）、他のＰＦＰＥおよび液状媒体以外の成分（以下、他の成分と記す。）を含んでいてもよい。
　他の成分としては、ラジカルスカベンジャー（たとえば、Ｘ－１ｐ（Ｄｏｗ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製）等）等が挙げられる。
　潤滑剤用組成物は、所望の性能を達成できないおそれがあることから、金属イオン類、陰イオン類、水分、低分子極性化合物、可塑剤等を含まないことが好ましい。
　金属イオン類（Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ａｌ等）は、陰イオンと結合してルイス酸触媒を生じ、ＰＦＰＥの分解反応を促進する場合がある。
　陰イオン類（Ｆ、Ｃｌ、ＮＯ２、ＮＯ３、ＰＯ４、ＳＯ４、Ｃ２Ｏ４等）および水分は、基材の表面を腐食させる場合がある。よって、それぞれの含有量はつぎのとおりであるのが好ましい。Ａｌ、Ｍｇはいずれも１，０００ｐｐｂ以下、Ｎａ、Ｋはいずれも２０，０００ｐｐｂ以下、Ｃａは１０，０００ｐｐｂ以下、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎはいずれも１００ｐｐｂ以下が好ましい。Ｆは１０，０００ｐｐｍ以下、蟻酸、Ｃｌ、ＮＯ３、ＳＯ４、シュウ酸はいずれも５，０００ｐｐｂ以下が特に好ましい。低分子極性化合物（アルコール類；樹脂から溶出する可塑剤等）は、基材と塗膜との定着性を低減させる場合がある。
　潤滑剤用組成物の含水率は、２，０００ｐｐｍ以下が好ましい。
＜潤滑剤塗膜＞
　潤滑剤塗膜は、潤滑剤を基材の表面に塗布し、紫外線を照射することによって形成される。または、潤滑剤用組成物を基材の表面に塗布し、乾燥し、必要に応じて紫外線を照射することによって形成される。
　塗布方法としては、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法（浸漬法）、スピンコート法、水上キャスト法、ダイコート法、ラングミュア・プロジェット法、真空蒸着法等が挙げられ、薄膜の均一性、生産性の点から、浸漬法が好ましい。
　乾燥工程は、エーテル化合物（Ａ）および他のＰＥＰＥが熱分解することなく、液状媒体のみが蒸発する条件で行うのが好ましい。乾燥温度は５０～２００℃であるのが好ましく、基材保護の点から、５０～１５０℃であるのがより好ましい。乾燥時間は１～６０分間であるのが好ましく、作業性の観点から、１～５分間がより好ましい。
　照射工程では、紫外線を照射する。紫外線の波長は、１８４ｎｍ、２５３ｎｍ、またはこれらの混合波長が好ましい。
　照射時間は、１～１２０秒が好ましく、３～６０秒がより好ましく、５～３０秒が特に好ましい。
　紫外線照射後の基材を、付着物の除去、余剰の表面処理剤の除去を目的に、フッ素系溶媒にて洗浄してもよい。
　紫外線照射を行うことにより、基材の表面において化合物（Ａ）の末端の基（Ｘ）を配向させることができ、基材の表面への化合物（Ａ）の密着力を高めることができる。また、化合物（Ａ）の末端の基（Ｘ）が配向した潤滑剤塗膜は、高い撥水性および高い撥油性を有する。よって、潤滑剤塗膜への水分等の侵入が抑えられるため、基材の腐食や劣化が抑えられる。また、潤滑剤塗膜の表面は低表面エネルギーとなり、摩擦係数が低くなる利点も有する。
　紫外線照射後の潤滑剤塗膜の表面における水接触角（室温）は、７０°以上が好ましく、８０°以上がより好ましく、８５°以上が特に好ましい。
＜磁気記録媒体＞
　エーテル化合物（Ａ）は、ハードディスク等の磁気記録媒体用潤滑剤として好適である。
　磁気記録媒体の基材としては、ＮｉＰメッキされた基板（アルミニウム、ガラス等）上に、下地層、記録層、カーボン保護膜（ＤＬＣ膜）を順に有したものが挙げられる。
　カーボン保護膜の厚さは、５．０ｎｍ以下が好ましく、カーボン保護膜の平均表面粗さ（Ｒａ）は、２．０ｎｍ以下が好ましい。
　磁気記録媒体における潤滑剤塗膜は、潤滑剤を基材の表面に塗布し、紫外線を照射することによって形成される。または、潤滑剤用組成物を基材の表面に塗布し、乾燥し、紫外線を照射することによって形成される。
　紫外線照射後の潤滑剤塗膜の表面は、高い撥水性を有することから、たとえ高温、高湿度下に置いたとしても、水分の磁気記録媒体内部への侵入が抑えられ、長期間にわたり高い潤滑性を維持できる。
　潤滑剤塗膜の厚さは、記録密度の向上の点から、５．０ｎｍ以下が好ましく、３．０ｎｍ以下がより好ましく、２．０ｎｍ以下が特に好ましい。耐久性の点から、０．２５ｎｍ以上が好ましい。
＜作用効果＞
　本発明のエーテル化合物（Ａ）を用いて形成された潤滑剤塗膜は、高い撥水性を有し、たとえ高温、高湿度下に置いたとしても、水分の磁気記録媒体内部への侵入が抑えられ、長期間にわたり高い潤滑性を維持できる。この理由は定かではないが、以下の機構であると考えている。
　すなわち、本発明のエーテル化合物（Ａ）にあっては、共役π電子を有する芳香環構造からなる基（Ｘ０）を末端に有するため、π―πスタッキングによってエーテル化合物（Ａ）同士やエーテル化合物（Ａ）と基材とが強固に結合し、密着力が高くなる。また、π―πスタッキングによる結合は、水との結合に置換されにくいため、水分の存在下でも基材への密着力を高い状態で維持できる。また、基材の表面に塗布された本発明のエーテル化合物（Ａ）に紫外線照射をすると、エーテル化合物（Ａ）中の基（Ｘ）の一部が切断されてラジカルが発生し、基材の表面と化学結合するため、水分の存在下でも基材への密着力を高い状態で保持できる。
　以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されない。実施例において、
　テトラメチルシランをＴＭＳ、
　ＣＣｌ２ＦＣＣｌＦ２をＲ－１１３、
　ジクロロペンタフルオロプロパンをＲ－２２５、
　ＣＣｌＦ２ＣＣｌＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＣｌＦ２をＣＦＥ－４１９、
　ヘキサフルオロイソプロピルアルコールをＨＦＩＰ、
　イソプロピルアルコールをＩＰＡ、
　と略記する。
　また、実施例における分析は、それぞれ室温（２５℃）にて行った。
（ＮＭＲ分析）
　１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、積算回数;６４）の基準物質としては、ＴＭＳを用いた。
　１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、積算回数;１２８）の基準物質としては、ＣＦＣｌ３を用いた。
　測定溶液は、化合物またはエーテル化合物の組成物のおよそ０．３ｇを溶媒（２．０ｇ）に希釈して調製した。溶媒としては、Ｒ－１１３（５．０ｇ）にＴＭＳ（０．１ｇ）またはＣＦＣｌ３（０．１ｇ）を添加したものを用いた。なお、サンプルが懸濁状態である場合は、溶解助剤としてベンゼンまたはペルフルオロベンゼンを少量ずつ添加し、測定溶液が完全に溶解した状態で測定を行った。
（ＧＰＣ分析）
　特開２００１－２０８７３６号公報に記載の方法にしたがって、下記の条件にてＧＰＣによりＭｎおよびＭｗをペルフルオロポリエーテル換算値として測定し、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を求めた。
　移動相：Ｒ－２２５（旭硝子社製、アサヒクリンＡＫ－２２５ＳＥＣグレード１）とＨＦＩＰとの混合溶媒（Ｒ－２５５／ＨＦＩＰ＝９９／１体積比）。
　分析カラム：ＰＬｇｅｌ　ＭＩＸＥＤ－Ｅカラム（ポリマーラボラトリーズ社製）を２本直列に連結したもの。
　分子量測定用標準試料：Ｍｗ／Ｍｎが１．１未満であり、分子量が２，０００～１０，０００のペルフルオロポリエーテルの４種、およびＭｗ／Ｍｎが１．１以上であり、分子量が１，３００のペルフルオロポリエーテルの１種を用いた。
　移動相流速：１．０ｍＬ／分、
　カラム温度：３７℃、
　検出器：蒸発光散乱検出器。
（膜厚）
　ディスク上の潤滑剤塗膜の膜厚（数ｎｍ）はエリプソメトリー法で測定した。本法は物質表面の性質を斜入射反射光の偏光特性によって調べる方法、すなわち入射側から偏光状態の分かっている光を入射し、被測定物で反射されて変化した偏光状態の変化量によって膜厚を検量する方法である。測定装置としては市販の走査型エリプソメータ（ファイブラボ社製、ＭＡＲＹ－１０２）を用い、測定光としてはＨｅ－Ｎｅレーザの楕円偏光（スポット径；φ３５μｍ×１００μｍ）を採用した。
（定着率）
　洗浄の前後において潤滑剤塗膜の膜厚をエリプソメータにて測定した。定着率は、洗浄前の潤滑剤塗膜の膜厚に対する洗浄後の潤滑剤塗膜の膜厚を百分率で表したものである。なお、洗浄は、市販のＶｅｒｔｒｅｌ－ＸＦ（ＤｕＰｏｎｔ社製）を用いて、３０℃において１０分間浸漬することによって行った。
（摩擦係数）
　潤滑剤塗膜の表面の摩擦係数は、摩擦測定器（Ｈｅｉｄｏｎ社製、Ｔｒｉｂｏｇｅａｒ）を用いて測定した。接触子としてはφ１０ｍｍのＳＵＳ球を用い、荷重１ｇ、回転数２５ｒｐｍにて測定した。
（水接触角）
　潤滑剤塗膜の表面における水接触角は、接触角計（Ｆａｃｅ社製、ＣＡ－Ｘ）を用いて測定した。潤滑剤塗膜の表面に、約２μＬの水滴を置いて測定した。測定は各サンプルについて５回実施し、それらの平均値を求めた。また、水滴作成後、５秒、６０秒、１２０秒後の水接触角を測定し、表面エネルギーの安定性を観察した。
〔例１〕
　国際公開第２００５／０６８５３４号の実施例の例１１に記載の方法において、ポリオキシエチレングリセロールエーテル（日本油脂社製、ユニオックスＧ１２００）を、ジグリセリン開始ポリオキシエチレンエーテル（坂本薬品工業社製、ＳＣ－Ｅ１５００）に変更した以外は、同様に反応を実施した。ジグリセリン開始ポリオキシエチレンエーテルに、ＦＣ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）３Ｆを反応させ、室温で液体の下記化合物（Ｂ－１）を得た。ＮＭＲ分析の結果、化合物（Ｂ－１）の（ｂ１０＋ｂ２０＋ｂ３０＋ｂ４０）の平均値は３７．０であり、Ｒｆは－ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３であり、Ｍｎは２，６００であり、Ｍｗ／Ｍｎは１．１５であった。
　なお、化合物（Ｂ－１）は、その構成上、－ＯＣＨ２Ｏ－構造や－ＯＣＦ２Ｏ－構造を有さず、また、１９Ｆ－ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）でδ－５０．０～－５６．０ｐｐｍのピークは確認できなかった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　１Ｈ－ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．４～３．８，４．５。
　１９Ｆ－ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：－７６．０～－８１．０，－８１．０～－８２．０，－８２．０～－８２．５，－８２．５～－８５．０，－１２８．０～－１２９．２，－１３１．１，－１４４．７。
〔例２〕
　国際公開第２００５／０６８５３４号の実施例の例２－１に記載の方法において、Ｒ－１１３をＣＦＥ－４１９に変更し、液相に吹き込むガスに含まれるフッ素ガス濃度を２０体積％から、１０体積％に変更した以外は同様の方法で、例１で得た化合物（Ｂ－１）の液相フッ素化反応を行った。生成物は、下記化合物（Ｃ－１）を主成分とし、化合物（Ｂ－１）の水素原子の９９．９モル％以上がフッ素原子に置換された組成物（ｃ－１）であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　組成物（ｃ－１）において測定したＮＭＲスペクトルは以下のとおりである。
　１Ｈ－ＮＭＲ　δ（ｐｐｍ）：５．９～６．４。
　１９Ｆ－ＮＭＲ　δ（ｐｐｍ）：－５５．８，－７７．５～－８６．０，－８８．２～－９２．０，－１２０．０～－１３９．０，－１４２．０～－１４６．０。
〔例３〕
　国際公開第２００５／０６８５３４号の実施例の例３に記載の方法にしたがって、例２で得た化合物（Ｃ－１）においてエステル分解反応を行い、下記化合物（Ｄ－１）を主成分とする組成物（ｄ－１）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
〔例４〕
〔例４－１〕
　国際公開第２００５／０６８５３４号の実施例の例４－１に記載の方法にしたがって、例３で得た化合物（Ｄ－１）とエタノールを反応させることによるエステル化反応を行った。下記化合物（Ｅ－１）を主成分とする組成物（ｅ－１）を得た。該組成物（ｅ－１）を例５の反応に用いた。
〔例４－２〕
　国際公開第２００５／０６８５３４号の実施例の例４－２に記載の方法にしたがって、例３で得た化合物（Ｄ－１）とエタノールを反応させることによるエステル交換反応を行い、下記化合物（Ｅ－１）を主成分とする組成物を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
〔例５〕
　国際公開第２００５／０６８５３４号の実施例の例５に記載の方法において、例４－１で得た化合物（Ｅ－１）の還元反応を行い、下記化合物（Ｆ－１）を主成分とする組成物（ｆ－１）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
　組成物（ｆ－１）において測定したＮＭＲスペクトルは以下のとおりである。
　１Ｈ－ＮＭＲ　δ（ｐｐｍ）：３．９４。
　１９Ｆ－ＮＭＲ　δ（ｐｐｍ）：－５４．０，－８０．１，－８８．２～－９０．５，－１３５．０～－１３９．０，－１４５．５。
〔例６〕
　例１～５を繰り返し行い、１５０ｇの組成物（ｆ－１）を得た。
〔例６－１〕
　窒素雰囲気下の２５０ｍＬの丸底フラスコに、例６で得た組成物（ｆ－１）の１００ｇおよびＲ－２２５の２００ｇを投入し、均一混合するまで撹拌した。丸底フラスコに、出口が０℃に保持され、かつ窒素ガスで置換された還流管および滴下漏斗を設置した。
　つぎに、トリエチルアミン（関東化学製）の１４ｇを投入し、均一混合するまで撹拌し、フラスコに氷浴を設置して、内温が１０℃以下となるように調整しながら、１，１，２，２，３，３，４，４，４－ノナフルオロ（ｎ－ブタン）スルホニルフルオリドの３３ｇを加えた。その後、徐々に丸底フラスコ内を室温に戻し１４時間撹拌した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、二層分離した有機層を回収した。有機層を硫酸マグネシウムの２．０ｇで乾燥した後、エバポレータで溶媒を留去し、２５℃で液体の薄黄色の組成物（ｇ－１）の４１．４ｇを得た。分析の結果、化合物（Ｆ－１）の水酸基末端（－ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ）の９０モル％が－ＣＦ２ＣＨ２ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３に置換されており、生成物は化合物（Ｇ－１）を主成分とする組成物（ｇ－１）であることを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
　組成物（ｇ－１）において測定したＮＭＲスペクトルは以下のとおりである。
　１Ｈ－ＮＭＲ　δ（ｐｐｍ）：３．９４，４．６０。
　１９Ｆ－ＮＭＲ　δ（ｐｐｍ）：－５４．０，－７７．６，－８０．１，－８０．９，－８８．２～－９０．５，－１１０．０，－１２１．０，－１２６．０，－１３５．０～－１３９．０，－１４５．５。
〔例６－２〕
　炭酸セシウム（関東化学社製）の１０．９２ｇ、フェノール（関東化学社製）の５．２ｇ、およびジメチルアクリルアミド（関東化学社製）の２００ｇを、窒素雰囲気下の５００ｍＬの４口フラスコに投入した。フラスコにはスターラーチップを投入し、上部に１０℃に冷却した還流管および滴下漏斗を設置した。装置設置後、撹拌しながらオイルバスを用いて加熱し、液温を８０℃に保持した。温度安定後、例６－１で得た組成物（ｇ－１）の５０ｇを２時間かけて滴下した。滴下終了後、液温を１００℃に加熱し、３時間攪拌を行った。その後、室温に冷却し、反応液をＲ－２２５の２５０ｇにて希釈した。０．０５Ｎ希塩酸水溶液の５００ｍＬにて２回の洗浄および分液を行った後、有機相をエバポレータにて濃縮し、２５℃で液体の薄黄色の組成物（ａ－１）の５１．９ｇを得た。分析の結果、化合物（Ｇ－１）の末端基（－ＣＦ２ＣＨ２ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）の９８モル％が－ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－Ｐｈ（ただし、Ｐｈはフェニル基を示す。以下同様）に置換されており、生成物は化合物（Ａ－１）を主成分とする組成物（ａ－１）であることを確認した。
　なお、化合物（Ｂ－１）が－ＯＣＨ２Ｏ－構造や－ＯＣＦ２Ｏ－構造を含まないことを確認していることより、組成物（ａ－１）も－ＯＣＦ２Ｏ－構造を含まないと認められる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
　組成物（ａ－１）において測定したＮＭＲスペクトルは以下のとおりである。
　１Ｈ－ＮＭＲ　δ（ｐｐｍ）：４．４１，４．７５，７．０６，７．５６，７．６８。
　１９Ｆ－ＮＭＲ　δ（ｐｐｍ）：－５４．０，－７７．８，－８０．１，－８８．２～－９０．５，－１３５．０～－１３９．０，－１４５．５。
〔例６－３〕
　炭酸セシウム（関東化学社製）の１２．５ｇ、組成物（ｆ－１）の５０ｇ、およびジメチルアクリルアミド（関東化学社製）の１００ｇを、窒素雰囲気下の５００ｍＬの４口フラスコに投入した。フラスコにはスターラーチップを投入し、上部に１０℃に冷却した還流管および滴下漏斗を設置した。８０℃まで加熱を行ったのち、ペルフルオロトルエン（ヒドラス化学社製）の１４．０ｇを滴下漏斗より１時間かけて添加した。ペルフルオロトルエンの滴下終了後、液温を１００℃にし、３時間加熱した。その後、室温に冷却し、反応液をＲ－２２５の２５０ｇにて希釈した。０．０５Ｎ希塩酸水溶液の５００ｍＬにて２回の洗浄および分液を行った後、有機相をエバポレータにて濃縮し、２５℃で液体の薄黄色の組成物（ａ－２）の５１．９ｇを得た。分析の結果、化合物（Ｆ－１）の末端基（－ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ）の９２モル％が、－ＣＦ２ＣＨ２Ｏ－Ｐｈ（Ｆ）－ＣＦ３（ただし、Ｐｈ（Ｆ）－ＣＦ３は２，３，５，６－テトラフルオロ－４－トリフルオロメチル－フェニル基を示す。）に置換されており、化合物（Ａ－２）を主成分とする組成物（ａ－２）であることを確認した。
　なお、化合物（Ｂ－１）が－ＯＣＨ２Ｏ－構造や－ＯＣＦ２Ｏ－構造を含まないことを確認していることより、組成物（ａ－２）も－ＯＣＦ２Ｏ－構造を含まないと認められる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
　組成物（ａ－２）において測定したＮＭＲスペクトルは以下のとおりである。
　１Ｈ－ＮＭＲ　δ（ｐｐｍ）：３．９４，４．４８。
　１９Ｆ－ＮＭＲ　δ（ｐｐｍ）：－５４．０，－５５．１，－７７．７，－８０．１，－８８．２～－９０．５，－１３５．０～－１３９．０，－１４０．０，－１４５．５，－１５５．４。
〔例７〕
　例６－１、例６－２を繰り返し行い、組成物（ａ－１）の１００ｇを得た。また、例６－３を繰り返し行い、組成物（ａ－２）の１００ｇを得た。
〔例７－１〕
　組成物（ａ－１）、組成物（ａ－２）は、いずれもＣ－Ｃ結合の開裂で生じた低極性成分、および芳香環が未導入の水酸基末端の成分を含む。よって、組成物（ａ－１）および組成物（ａ－２）を下記のカラムクロマトグラフィ法により精製した。
　粒状シリカゲル（エスアイテック社製、ＭＳ－Ｇｅｌ　Ｄ７５－１２０Ａ）をＲ－２２５で希釈したものを、直径１５０ｍｍ、長さ５００ｍｍのカラムに充填し、高さ１００ｍｍのシリカゲル充填相を形成した。
　組成物をシリカゲル充填相に投入した後、抽出溶媒としてＲ－２２５のみを流通して組成物中の低極性成分を溶出させた。ついで、抽出溶媒（Ｒ－２２５とＨＦＩＰまたはＩＰＡとの混合溶媒）を用い、抽出溶媒中のＨＦＩＰまたはＩＰＡの濃度を末端基の極性に応じて０％、１０％、５０％と段階的に高めながら目的物を溶出させ、組成物（ａ－１）から粗精製物（ｈ１）～（ｈ４）を回収し、組成物（ａ－２）から粗精製物（ｉ１）～（ｉ４）を回収した。それぞれの回収量と末端基の割合（％はモル％を示す）を表１、表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000023
〔例７－２〕
　例７－１で得た粗精製物は、いずれも分子量分布を有する。よって、粗精製物（ｈ３）および粗精製物（ｉ２）を下記の超臨界抽出法により精製した。
　内容積２００ｍＬの耐圧抽出槽に粗精製物を充填し、６０℃度に加熱した後、１０ｃｃ／分の流速で超臨界状態の二酸化炭素を流通し、抽出精製を行った。二酸化炭素の圧力を分子量に応じて１０～２５［ＭＰａ］へと段階的に高めながら目的物を溶出させ、粗精製物（ｈ３）から精製物（ｈ３－１）～（ｈ３－４）を回収し、粗精製物（ｉ２）から精製物（ｉ２－１）～（ｉ２－４）を回収した。それぞれの回収量と末端基の割合を表３、表４に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000025
〔例８〕（比較例）
　特開２００９－１４９８３５号公報の実施例の例１～７に記載の方法にしたがって、末端に３つのビニル基を有する化合物（Ａ４－１）を主成分とする組成物（ａ４－１）を得た。これをカラムクロマトグラフィ法により精製し、精製物（ｊ－１）を得た。
〔例９〕
〔例９－１〕
　精製物（ｈ３－２）、（ｈ３－３）、（ｉ２－２）、（ｉ２－３）、比較として組成物（ｆ－１）、精製物（ｊ－１）をそれぞれ液状媒体（ＤｕＰｏｎｔ社製、Ｖｅｒｔｒｅｌ－ＸＦ）で０．０１質量％に希釈して、６種の潤滑剤用組成物を調製した。
〔例９－２〕
　カーボンをターゲットとして用い、アルゴン雰囲気中で高周波マグネトロンスパッタにより、磁気ディスク用ガラスブランクス（旭硝子社製、２．５”ブランクス）にＤＬＣを蒸着させてＤＬＣ膜を製膜し、模擬ディスクを作製した。アルゴンのガス圧は、０．００３Ｔｏｒｒであり、スパッタ中の投入電力密度は、ターゲット面積あたり３Ｗ／ｃｍ２である。ＤＬＣ膜の厚さは、３０ｎｍとした。ＤＬＣ膜の表面の水接触角は４０°であった。
〔例９－３〕
　例９－１で得た潤滑剤用組成物に例９－２で得た模擬ディスクを３０秒間浸漬し、６ｍｍ／秒の一定速度で引き上げた。続いて、１００℃のホットプレート上で、６０分間置いて液状媒体を除去した。紫外線照射装置（ＵＶＰ社製、ＵＶクロスリンカー　ＣＸ－２０００）を用い、液状媒体が除去された状態の潤滑剤用組成物が塗布された模擬ディスクに紫外線を照射し、潤滑剤塗膜を形成した。紫外線の波長は、１８４ｎｍ、２５３ｎｍの混合波長であり、照射時間は１５秒とした。
　得られたディスクを溶媒（Ｖｅｒｔｒｅｌ－ＸＦ）に３０秒浸漬して洗浄し、模擬ハードディスクを製造した。得られた模擬ハードディスク表面の潤滑剤塗膜の定着性、摩擦係数、水接触角を表５、表６に示す。
　また、紫外線照射処理なしで、同様に潤滑剤塗膜を形成した。ディスク表面の潤滑剤塗膜の定着性、摩擦係数、水接触角を表５、表６に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000027
　実施例である潤滑剤（ｈ３－２）、（ｈ３－３）、（ｉ２－２）、（ｉ２－３）を用いて製造した模擬ハードディスクは、摩擦係数が低く、水が浸入しても水接触角の経時変化が小さい、すなわち、水分の存在下でも基材への密着力の高い状態を維持できることを確認した。また、水接触角の測定結果より、末端に水酸基のみを有する潤滑剤に比べ、末端に芳香環を有する潤滑剤からなる塗膜は、紫外線照射処理によって水接触角が大きくなる、すなわち表面エネルギーが低下しやすいことがわかる。
　また、水接触角の経時変化が小さく、末端に芳香環を有する潤滑剤とディスクとが極性化合物によって交換されない強固な結合を形成していることがわかる。特に、末端にフッ素化芳香環を有する潤滑剤からなる塗膜は、表面エネルギーが充分に低く、摩擦係数も充分に小さい。
　一方、比較例である潤滑剤（ｆ－１）、（ｊ－１）を用いて製造した模擬ハードディスクは、定着率は良好であったものの、水接触角の測定結果より、水が浸入すると水接触角の経時変化が大きくなった。
　本発明のエーテル化合物は、ハードディスク等の磁気記録媒体用潤滑剤として有用である。
　なお、２００９年１１月２６日に出願された日本特許出願２００９－２６８６８３号の明細書、特許請求の範囲及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (11)

  1. 　下式（Ａ）で表わされるエーテル化合物。
    　（Ｘ－）ｓ（Ｗ－）ｔ（Ｚ－）ｕＹ　・・・（Ａ）。
    　ただし、Ｘは、末端に下式（Ｘ０）で表される基を有する基（Ｘ）であり、
    　Ｗは、末端に下式（Ｗ０）で表される基を有する基（Ｗ）であり、
    　Ｚは、末端に下式（Ｚ０）で表わされる基を有する基（Ｚ）であり、
    　Ｙは、（ｓ＋ｔ＋ｕ）価のペルフルオロ化炭化水素基または該基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基（Ｙ）であり、
    　ｓは、１～７の整数であり、
    　ｔは、０～４の整数であり、
    　ｕは、０～２の整数であり、
    　（ｓ＋ｔ＋ｕ）は、２～７の整数である。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     　ＨＯ－ＣＨ２ＣＦ２Ｏ－　・・・（Ｗ０）、
    　ＣＦ３（ＣＦ２）ａ３Ｏ－　・・・（Ｚ０）。
    　ただし、Ｒ１～Ｒ５のうち、２つは、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基、ペルフルオロフェニル基、および水酸基から選ばれる原子または基であり、残りの３つは、それぞれ独立に、水素原子またはフッ素原子であり、
    　ａ３は０～１９の整数である。
  2. 　基（Ｘ）が、下式（Ｘ１）で表わされる基であり、
    　基（Ｗ）が、下式（Ｗ１）で表わされる基であり、
    　基（Ｚ）が、下式（Ｚ１）で表わされる基である、請求項１に記載のエーテル化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     　ＨＯ－ＣＨ２ＣＦ２Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ２－　・・・（Ｗ１）、
    　ＣＦ３（ＣＦ２）ａ３Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ３－　・・・（Ｚ１）。
    　ただし、ｂ１～ｂ３は、それぞれ３～２００の整数である。
  3. 　基（Ｘ１）が、下式（Ｘ１－１）で表わされる基～下式（Ｘ１－５）で表わされる基からなる群から選ばれる基である、請求項２に記載のエーテル化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
  4. 　基（Ｙ）が、下式（Ｙ－１）で表わされる基～下式（Ｙ－８）で表わされる基からなる群から選ばれる基である、請求項１～３のいずれか一項に記載のエーテル化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
  5. 　－ＯＣＦ２Ｏ－構造を有さない、請求項１～４のいずれか一項に記載のエーテル化合物。
  6. 　ｓ／（ｓ＋ｔ＋ｕ）の平均値が、０．２５～１．０である、請求項１～５のいずれか一項に記載のエーテル化合物。
  7. 　数平均分子量（ペルフルオロポリエーテル換算値）が、５００～１００万であり、かつ分子量分布（ペルフルオロポリエーテル換算値）が、１．０１～１．５０である、請求項１～６のいずれか一項に記載のエーテル化合物。
  8. 　請求項１～７のいずれか一項に記載のエーテル化合物を含む潤滑剤であり、
    　該エーテル化合物の割合が、潤滑剤（液状媒体を除く。）の１００質量％のうち、１０質量％以上である、潤滑剤。
  9. 　磁気記録媒体用である、請求項８に記載の潤滑剤。
  10. 　請求項１～７のいずれか一項に記載のエーテル化合物と、液状媒体とを含む、潤滑剤用組成物。
  11. 　前記エーテル化合物の割合が、潤滑剤用組成物の１００質量％のうち、０．０００１～１０質量％である、請求項１０に記載の潤滑剤用組成物。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017521478A (ja) * 2014-05-16 2017-08-03 ソルベイ スペシャルティ ポリマーズ イタリー エス．ピー．エー． ヒドロキシル置換（パー）フルオロポリエーテル鎖を有する芳香族化合物

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9765273B2 (en) * 2014-09-08 2017-09-19 Western Digital Technologies, Inc. Monodisperse lubricant including multidentate perfluoropolyether structures
JP6914835B2 (ja) 2014-11-19 2021-08-04 ソルベイ スペシャルティ ポリマーズ イタリー エス．ピー．エー． パーフルオロポリエーテルのアミノ誘導体
WO2019004275A1 (ja) * 2017-06-30 2019-01-03 昭和電工株式会社 有機フッ素化合物、潤滑剤および磁気記録媒体の処理方法
EP3434712A1 (en) 2017-07-24 2019-01-30 Freie Universität Berlin Diblock copolymer, a manufacturing method and suited applications
WO2019039200A1 (ja) * 2017-08-21 2019-02-28 昭和電工株式会社 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体
JP7063335B2 (ja) * 2017-08-31 2022-05-09 Ａｇｃ株式会社 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法
US11879109B2 (en) 2019-09-18 2024-01-23 Resonac Corporation Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium
JPWO2021060537A1 (ja) * 2019-09-27 2021-04-01
JPWO2021132252A1 (ja) 2019-12-26 2021-07-01

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07506368A (ja) * 1992-04-28 1995-07-13 ミネソタ　マイニング　アンド　マニュファクチャリング　カンパニー ペルフルオロエーテル末端部分を有する液晶化合物
JPH09507059A (ja) * 1993-12-22 1997-07-15 ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー ペルフルオロエーテル末端部分を有するキラル液晶化合物
JPH10508845A (ja) * 1994-11-14 1998-09-02 ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー ペルフルオロエーテル末端部分を有する液晶化合物
JP2001208736A (ja) 2000-01-28 2001-08-03 Asahi Glass Co Ltd フッ素系有機化合物の分子量測定方法
US20040127632A1 (en) * 2002-07-12 2004-07-01 Zen Photonics Co., Ltd. Perfluorostyrene compound, and coating solution and optical waveguide device using the same
WO2005068534A1 (ja) 2004-01-13 2005-07-28 Asahi Glass Company, Limited 含フッ素ポリエーテル化合物
WO2009078485A1 (ja) * 2007-12-19 2009-06-25 Asahi Glass Company, Limited エーテル組成物
JP2009149835A (ja) 2007-11-28 2009-07-09 Asahi Glass Co Ltd 表面処理剤
WO2009093665A1 (ja) * 2008-01-24 2009-07-30 Asahi Glass Company, Limited エーテル組成物
JP2009268683A (ja) 2008-05-07 2009-11-19 Kazushi Arai 靴脱ぎ台

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4012A (en) * 1845-04-26 Improvement in electrographic printing
JPH09312012A (ja) * 1996-05-23 1997-12-02 Showa Denko Kk 磁気記録媒体
JP2001052328A (ja) * 1999-08-03 2001-02-23 Mitsubishi Chemicals Corp 磁気記録媒体及び磁気記録装置
JP4200036B2 (ja) * 2003-04-01 2008-12-24 株式会社日立グローバルストレージテクノロジーズ 磁気ディスク装置

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07506368A (ja) * 1992-04-28 1995-07-13 ミネソタ　マイニング　アンド　マニュファクチャリング　カンパニー ペルフルオロエーテル末端部分を有する液晶化合物
JPH09507059A (ja) * 1993-12-22 1997-07-15 ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー ペルフルオロエーテル末端部分を有するキラル液晶化合物
JPH10508845A (ja) * 1994-11-14 1998-09-02 ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー ペルフルオロエーテル末端部分を有する液晶化合物
JP2001208736A (ja) 2000-01-28 2001-08-03 Asahi Glass Co Ltd フッ素系有機化合物の分子量測定方法
US20040127632A1 (en) * 2002-07-12 2004-07-01 Zen Photonics Co., Ltd. Perfluorostyrene compound, and coating solution and optical waveguide device using the same
WO2005068534A1 (ja) 2004-01-13 2005-07-28 Asahi Glass Company, Limited 含フッ素ポリエーテル化合物
JP2009149835A (ja) 2007-11-28 2009-07-09 Asahi Glass Co Ltd 表面処理剤
WO2009078485A1 (ja) * 2007-12-19 2009-06-25 Asahi Glass Company, Limited エーテル組成物
WO2009093665A1 (ja) * 2008-01-24 2009-07-30 Asahi Glass Company, Limited エーテル組成物
JP2009268683A (ja) 2008-05-07 2009-11-19 Kazushi Arai 靴脱ぎ台

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017521478A (ja) * 2014-05-16 2017-08-03 ソルベイ スペシャルティ ポリマーズ イタリー エス．ピー．エー． ヒドロキシル置換（パー）フルオロポリエーテル鎖を有する芳香族化合物

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