WO2011065105A1 - ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 - Google Patents

ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2011065105A1
WO2011065105A1 PCT/JP2010/066138 JP2010066138W WO2011065105A1 WO 2011065105 A1 WO2011065105 A1 WO 2011065105A1 JP 2010066138 W JP2010066138 W JP 2010066138W WO 2011065105 A1 WO2011065105 A1 WO 2011065105A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
glass
glass layer
laser beam
layer
glass member
Prior art date
Application number
PCT/JP2010/066138
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
聡 松本
Original Assignee
浜松ホトニクス株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 浜松ホトニクス株式会社 filed Critical 浜松ホトニクス株式会社
Priority to US13/511,674 priority Critical patent/US9233872B2/en
Priority to CN201080053486.5A priority patent/CN102666415B/zh
Priority to KR1020127010412A priority patent/KR101810253B1/ko
Publication of WO2011065105A1 publication Critical patent/WO2011065105A1/ja

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
    • C03C23/0005—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation
    • C03C23/0025—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation by a laser beam
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/02—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C27/00—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
    • C03C27/04—Joining glass to metal by means of an interlayer
    • C03C27/048—Joining glass to metal by means of an interlayer consisting of an adhesive specially adapted for that purpose
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/34—Laser welding for purposes other than joining
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
    • B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
    • B32B17/10009—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the number, the constitution or treatment of glass sheets
    • B32B17/10036—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the number, the constitution or treatment of glass sheets comprising two outer glass sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/02—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with glass
    • C03C17/04—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with glass by fritting glass powder
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C27/00—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
    • C03C27/02—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing by fusing glass directly to metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C27/00—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
    • C03C27/04—Joining glass to metal by means of an interlayer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C27/00—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
    • C03C27/06—Joining glass to glass by processes other than fusing
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/24—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
    • H01J9/26—Sealing together parts of vessels

Definitions

  • the present invention relates to a glass welding method for manufacturing a glass welded body by welding glass members together, and a glass layer fixing method therefor.
  • this invention is made
  • the present inventors have found that the glass layer in the glass welded body is leaked so that the glass disposed along the planned welding region extending in a closed ring shape. It has been found that this is due to the fact that the layer may be cut when it is fixed to the glass member by laser light irradiation. That is, in order to melt the glass powder and fix the glass layer to the glass member, as shown in FIG. 9, the laser beam along the planned welding region R with the predetermined position P of the glass layer 3 as the start point and the end point, as shown in FIG. 9.
  • the glass layer 3 When the glass layer 3 is irradiated with laser light while relatively moving the irradiation region, the glass layer 3 is cut in the vicinity of the predetermined position P in some cases. This is because, when the irradiation region of the laser beam returns to the predetermined position P, the melting end portion of the glass layer 3 contracted by the melting of the glass powder on the melting start end portion 3a of the already solidified glass layer 3. It is assumed that 3b is difficult to connect.
  • the melting end portion 3 b of the glass layer 3 rises. Therefore, even if the glass member 5 to be welded to the glass member 4 is overlapped via the glass layer 3, The glass member 5 cannot be brought into uniform contact with the glass layer 3 because the portion 3b becomes an obstacle. In this state, even if it is attempted to weld the glass member 4 and the glass member 5 by laser light irradiation, it is extremely difficult to achieve uniform and airtight welding.
  • 9 to 11 exemplify dimensions relating to the glass layer 3, the width of the glass layer 3 is about 1.0 mm, the thickness of the glass layer 3 is about 10 ⁇ m, and the height of the melting end portion 3b is about 20 ⁇ m.
  • the cut width of the glass layer 3 (that is, the interval between the melting start end portion 3a and the melting end portion 3b) is about 40 ⁇ m.
  • FIG. 12 is a diagram showing a plan photograph of the melting start end and melting end of the glass layer fixed on the glass member. As shown in the figure, the glass layer 3 is cut between the melting start end portion 3a and the melting end portion 3b. The reason why the width of the melting start end portion 3a gradually increases from the central portion is as follows.
  • the laser light generally has a temperature distribution in which the temperature of the central portion in the width direction (direction substantially orthogonal to the traveling direction of the laser light) increases. . Therefore, if the laser light is allowed to stay for a while at the irradiation start position so that it becomes a stable region where the glass layer melts from the irradiation start position over the entire width direction, The laser light absorptance of the portion increases, and the rise causes the central portion to be in a state of excessive heat input, which may cause cracks in the glass member and crystallization of the glass layer.
  • the region from the irradiation start position to the stable state gradually increases from the central portion. It becomes an unstable region where the width of the melting is widened.
  • the width of the melting start end portion 3a gradually increases from the central portion for the above reason.
  • the glass welding method according to the present invention is a glass welding method for manufacturing a glass welded body by welding a first glass member and a second glass member, and is a planned welding region extending in a closed annular shape.
  • the glass layer containing the laser light absorbing material and the glass powder is first such that the volume per unit length of a part of the glass is larger than the volume per unit length of the main part excluding the part.
  • the first laser light irradiation area is moved relatively along the planned welding area, with one or the other end of the main part connected to the glass member as a start point and an end point.
  • the glass layer fixing method according to the present invention is a glass layer fixing method for manufacturing a glass layer fixing member by fixing a glass layer to a first glass member, wherein the glass layer fixing method is applied to a welding planned region extending in a closed annular shape.
  • the glass layer containing the laser light absorbing material and the glass powder is placed along the first layer so that the volume per unit length is larger than the volume per unit length of the main part excluding a part.
  • the first laser light irradiation area is relatively moved along the planned welding area with one or the other end of the main part connected to the glass member as a starting point and an end point. Irradiating the glass layer with the first laser beam to melt the glass layer and fixing the glass layer to the first glass member.
  • the positions (the start point and end point of the first laser beam irradiation) That is, the glass layer is cut or cut at a part of the glass layer or one end or the other end of the main part of the glass layer connected to the part.
  • the first laser beam irradiation start point and The part set as the end point will swell sufficiently.
  • the thickness of a part of the glass layer is thicker than the thickness of the main part of the glass layer.
  • variety of a part of glass layer is made wider than the width
  • the first glass is defined by the second glass member superimposed on the first glass member to which the glass layer is fixed via the glass layer.
  • the part is melted, and then the glass layer is irradiated with the third laser light. It is preferable to weld the first glass member and the second glass member. In this case, it is possible to easily and surely carry out the pressing / melting process of the portion that is the start point and the end point of the irradiation with the first laser beam.
  • the second laser light is irradiated to the part in a state where the part having the start point and the end point is included in the irradiation region. In this case, it is possible to reliably melt the portions that are the starting point and the ending point of the first laser light irradiation collectively.
  • the glass welded body 1 includes a glass member (first glass member) 4 and a glass member (second glass member) through a glass layer 3 formed along the planned welding region R. ) 5 is welded.
  • the glass members 4 and 5 are, for example, rectangular plate-shaped members made of non-alkali glass and having a thickness of 0.7 mm.
  • the planned welding region R is rectangular with a predetermined width so as to follow the outer edges of the glass members 4 and 5. It is set in a ring.
  • the glass layer 3 is made of, for example, low-melting glass (vanadium phosphate glass, lead borate glass or the like), and is formed in a rectangular ring shape with a predetermined width so as to follow the planned welding region R.
  • a glass welding method for manufacturing the glass welded body 1 described above in order to manufacture the glass welded body 1 by welding the glass member 4 and the glass member 5, the glass layer 3 is fixed to the glass member 4.
  • a glass layer fixing method for producing a glass layer fixing member in order to manufacture the glass welded body 1 by welding the glass member 4 and the glass member 5, the glass layer 3 is fixed to the glass member 4.
  • a paste layer 6 is formed on the surface 4a of the glass member 4 along the planned welding region R by applying a frit paste by a dispenser, screen printing or the like.
  • the frit paste is, for example, a powdery glass frit (glass powder) 2 made of low-melting glass (vanadium phosphate glass, lead borate glass, etc.), a laser light absorbing pigment (laser) which is an inorganic pigment such as iron oxide.
  • a light absorbing material an organic solvent such as amyl acetate, and a binder that is a resin component (such as acrylic) that is thermally decomposed at a temperature lower than the softening temperature of the glass. That is, the paste layer 6 includes an organic solvent, a binder, a laser light absorbing pigment, and the glass frit 2.
  • the paste layer 6 is dried to remove the organic solvent.
  • the glass layer 3 containing the binder, the laser light absorbing pigment, and the glass frit 2 is disposed on the glass member 4 along the planned welding region R extending in a closed rectangular ring shape.
  • positioned on the surface 4a of the glass member 4 will be in the state where the light scattering exceeding the absorption characteristic of a laser beam absorptive pigment occurs by the particle property of the glass frit 2, etc., and a laser beam absorptivity is low. (For example, the glass layer 3 looks whitish under visible light).
  • the glass layer 3 is applied to the surface 4a of the glass member 4 over the entire circumference of the planned welding region R, and then the glass layer 3 is subjected to FIG. ),
  • the frit paste FP is further applied to a predetermined portion on the straight line portion of the welding planned region R, thereby forming the welding planned region R.
  • the thickness of the part 31 of the glass layer 3 is thicker than the thickness of the main part 32 of the glass layer 3 excluding the part 31. That is, in the glass layer 3 arranged on the glass member 4, the volume per unit length of the part 31 is larger than the volume per unit length of the main part 32.
  • the irradiation region of the laser beam (first laser beam) L ⁇ b> 1 along the planned welding region R with the predetermined position P in the part 31 of the glass layer 3 as the start point and the end point. are moved relatively, and the glass layer 3 is irradiated with the laser light L1.
  • the binder is gasified and the glass frit 2 is melted to fix the glass layer 3 to the glass member 4 (temporary firing), thereby obtaining the glass layer fixing member 10.
  • the absorption characteristics of the laser light-absorbing pigment appear remarkably due to the particle properties of the glass frit 2 being melted, so that the laser light absorption rate of the glass layer 3 is the same as that of the glass frit 2.
  • the state becomes higher than before (for example, the glass layer 3 looks blackish or greenish under visible light).
  • the glass layer 3 is cut, and a part 31 of the glass layer 3 is divided into a melting start end portion 3a and a melting end portion 3b.
  • a part 31 of the glass layer 3 is divided into a melting start end portion 3a and a melting end portion 3b.
  • terminus part 3b are Compared with the case where such a volume difference is not provided, the swell is greatly increased and protrudes largely from the main part 32 of the glass layer 3 to the opposite side of the glass member 4.
  • the width of the glass layer 3 is about 1.0 mm
  • the thickness of the glass layer 3 is about 10 ⁇ m
  • the height of the melting terminal portion 3 b is about 60 ⁇ m
  • the cut width of the glass layer 3 (that is, The distance between the melting start end portion 3a and the melting end portion 3b) is about 40 ⁇ m. It should be noted that the melting start end portion 3a and the melting end portion 3b of the glass layer 3 are opposed to each other with the cap G of the glass layer 3 sandwiched between the straight portions of the planned welding region R.
  • the glass member 5 is superposed on the glass layer fixing member 10 (that is, the glass member 4 in which the glass layer 3 is melted and fixed) through the glass layer 3.
  • the glass member 5 presses the melting start end portion 3a and the melting end portion 3b (the portions set as the start point and end point of the irradiation of the laser light L1) toward the glass member 4 side.
  • the laser beam L2 (second laser beam, third laser beam) is irradiated to the melting start end portion 3a and the melting end portion 3b.
  • the laser beam L2 is stopped in a state in which the irradiation region includes the melting start end portion 3a and the melting end portion 3b, and is irradiated to the melting start end portion 3a and the melting end portion 3b.
  • the laser spot diameter is 1.6 mm
  • the moving speed is 0 mm / sec
  • the laser power is 6 W.
  • the irradiation region of the laser beam L2 is formed in a ring shape, or the irradiation region of the laser beam L2 is provided on each of the melting start end portion 3a and the melting end portion 3b. It may be combined into a twin spot.
  • the irradiation start portion 3a and the melting end portion 3b are melted by the irradiation with the laser light L2, and the gap G of the glass layer 3 is filled as shown in FIG. 6 (b).
  • the sinking of the glass member 5 is stopped by the main portion 32 of the unmelted glass layer 3 and the thickness of the glass layer 3 is made uniform, so that the laser light absorptance is also uniform.
  • the glass member 5 comes into contact with the formed glass layer 3 uniformly.
  • the irradiation condition of the laser beam L2 is switched, and the glass layer 3 is irradiated with the laser beam L2 along the planned welding region R. That is, the irradiation region of the laser beam L2 is relatively moved along the planned welding region R to irradiate the glass layer 3 with the laser beam L2. Thereby, the glass layer 3 and its peripheral part (surfaces 4a and 5a part of the glass members 4 and 5) are melted and re-solidified, and the glass member 4 and the glass member 5 are welded along the planned welding region R ( Main firing) to obtain a glass welded body 1 (in the welding, the glass layer 3 may melt and the glass members 4 and 5 may not melt).
  • the laser spot diameter is 1.6 mm
  • the moving speed is 10 mm / sec
  • the laser power is 40 W.
  • the glass layer 3 is fixed to the glass member 4 by irradiation with the laser beam L1 for temporary firing.
  • the glass layer is cut at a position that is a start point and an end point of the irradiation of the laser beam L1 for temporary firing (including a case where the glass layer is cut and remarkably included).
  • the glass layer 3 since the volume per unit length of the part 31 was made larger than the volume per unit length of the main part 32, the melting start end part 3a and the melting end part 3b are sufficiently raised. It will be.
  • the thickness of the part 31 of the glass layer 3 is made larger than the thickness of the main part 32 of the glass layer 3.
  • the glass layer 3 in which the volume per unit length of the part 31 of the glass layer 3 is made larger than the volume per unit length of the main part 32 of the glass layer 3 can be obtained reliably.
  • the protrusion of the glass layer 3 in the width direction is suppressed, the effective region surrounded by the glass layer 3 in the glass welded body 1 can be widened.
  • the predetermined position P that is the start point and the end point of the irradiation of the laser beam L ⁇ b> 1
  • one end 32a or the other end 32b of the main portion 32 of the glass layer 3 connected to a part 31 of the glass layer 3 can be used.
  • the melting end portion 3b of the glass layer 3 is moved backward with respect to the melting start end portion 3a of the already solidified glass layer 3. Since it contracts, one end 32a of the main portion 32 on the front side in the traveling direction of the laser light L1 (that is, in the direction of arrow A) is more preferable than the other end 32b of the main portion 32.
  • the glass member 5 superimposed on the glass member 4 via the glass layer 3 presses the melting start end portion 3a and the melting end portion 3b toward the glass member 4, while the melting start end portion 3a and the melting end portion 3b
  • the melting start end portion 3a and the melting end portion 3b are melted, and subsequently, the glass layer 3 is irradiated with the laser light L2 for main firing, thereby forming the glass member 4 And the glass member 5 are welded.
  • the laser beam L2 before the main firing is stopped in a state where the irradiation region includes the melting start end portion 3a and the melting end portion 3b, and is irradiated to the melting start end portion 3a and the melting end portion 3b. According to this, it is possible to reliably melt the portions that are the starting point and the ending point of the irradiation with the laser beam L1 for temporary firing (that is, the melting start end portion 3a and the melting end portion 3b) collectively.
  • the present invention is not limited to the embodiment described above.
  • the width of the part 31 of the glass layer 3 may be wider than the width of the main portion 32 of the glass layer 3.
  • the glass layer 3 in which the volume per unit length of the part 31 of the glass layer 3 is made larger than the volume per unit length of the main part 32 of the glass layer 3 can be obtained reliably.
  • the frit paste needs to be applied only once, the arrangement of the glass layer 3 on the glass member 4 can be easily completed.
  • the predetermined position P used as the start point and the end point of the irradiation of the laser beam L1 is a part of the glass layer 3.
  • one end 32a or the other end 32b of the main portion 32 of the glass layer 3 connected to a part 31 of the glass layer 3 can be used.
  • the melting end portion 3b of the glass layer 3 is moved backward with respect to the melting start end portion 3a of the already solidified glass layer 3.
  • one end 32a of the main portion 32 on the front side in the traveling direction of the laser light L1 (that is, in the direction of arrow A) is preferable to the other end 32b of the main portion 32.
  • the main firing laser is subsequently applied to the main portion 32 of the glass layer 3.
  • the glass layer 3 has a portion that is a starting point and an end point of irradiation of the laser beam L1 for temporary firing (that is, a melting start end portion 3a and a melting end portion 3b) as a plate-like member (for example, a light transmissive material instead of the glass member 5).
  • the part may be melted by irradiating the part with a laser beam while pressing the part toward the glass member 4 side. Then, when the pressing and melting of the melting start end portion 3a and the melting end portion 3b are finished, the plate-like member is peeled off to obtain the glass layer fixing member 10.
  • the laser beam L2 for main firing starts irradiation on the glass layer 3 from a portion other than the start point and the end point of the irradiation of the laser beam L1 for temporary firing, and is overlapped to the glass layer 3. The irradiation of is terminated.
  • the irradiation of the laser beam L2 for main firing is not limited to the movement of the irradiation region relative to the planned welding region R, but is performed collectively on the entire glass layer 3.
  • the glass layer 3 to be irradiated with the laser beam L1 for pre-baking may correspond to a paste layer 6 containing an organic solvent, a binder, a laser light absorbing pigment, and the glass frit 2,
  • the organic solvent and the binder may be removed from the paste layer 6 to contain the laser light absorbing pigment and the glass frit 2.
  • the glass frit 2 is not limited to one having a melting point lower than that of the glass members 4 and 5, and may have a melting point equal to or higher than the melting point of the glass members 4 and 5.
  • the laser light absorbing pigment may be contained in the glass frit 2 itself.
  • the welding planned region R is not limited to a rectangular ring shape, and may be any one that extends in a closed ring shape such as a circular ring shape.
  • SYMBOLS 1 Glass welded body, 2 ... Glass frit (glass powder), 3 ... Glass layer, 4 ... Glass member (1st glass member), 5 ... Glass member (2nd glass member), 10 ... Glass layer fixing member , 31 ... part, 32 ... main part, 32a ... one end, 32b ... other end, L1 ... laser light (first laser light), L2 ... laser light (second laser light, third laser light), R: Welding planned area.

Abstract

　ガラス層３の一部３１を始点及び終点とした仮焼成用のレーザ光の照射によってガラス部材４にガラス層３を定着させると、その一部３１でガラス層３が切断される。ここで、ガラス層３では、一部３１の厚さが主部３２の厚さよりも厚くされていたため、端部３ａ，３ｂが十分に盛り上がる。この状態で、端部３ａ，３ｂをガラス部材４側に押圧しつつ、本焼成前段階のレーザ光Ｌ２の照射によって端部３ａ，３ｂを溶融させると、ギャップＧが確実に埋められると共に、ガラス層３の厚さが均一化される。このようなガラス層３に本焼成用のレーザ光Ｌ２を照射することにより、ガラス部材４とガラス部材５とを溶着する。

Description

ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
　本発明は、ガラス部材同士を溶着してガラス溶着体を製造するガラス溶着方法、及びそのためのガラス層定着方法に関する。
　上記技術分野における従来のガラス溶着方法として、有機物（有機溶剤やバインダ）、レーザ光吸収材及びガラス粉を含むガラス層を、溶着予定領域に沿うように一方のガラス部材に定着させた後、そのガラス部材にガラス層を介して他方のガラス部材を重ね合わせ、溶着予定領域に沿ってレーザ光を照射することにより、一方及び他方のガラス部材同士を溶着する方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
　ところで、ガラス部材にガラス層を定着させるために、炉内での加熱に代えて、レーザ光の照射によってガラス層から有機物を除去する技術が提案されている（例えば、特許文献２，３参照）。このような技術によれば、ガラス部材に形成された機能層等が加熱されて劣化するのを防止することができ、また、炉の使用による消費エネルギの増大及び炉内での加熱時間の長時間化を抑制することができる。
特表２００８－５２７６５５号公報 特開２００２－３６６０５０号公報 特開２００２－３６７５１４号公報
　しかしながら、レーザ光の照射によってガラス部材にガラス層を定着させ（いわゆる仮焼成）、その後、レーザ光の照射によってガラス層を介してガラス部材同士を溶着すると（いわゆる本焼成）、ガラス層でリークが起こり、気密な溶着を必要とするガラス溶着体を得ることができない場合があった。
　そこで、本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、気密な溶着を必要とするガラス溶着体を製造することができるガラス溶着方法、及びそのためのガラス層定着方法を提供することを目的とする。
　本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、ガラス溶着体においてガラス層でリークが起こるのは、閉じた環状に延在する溶着予定領域に沿うように配置されたガラス層が、レーザ光の照射によってガラス部材に定着させられるときに、切断される場合があることに起因していることを突き止めた。つまり、ガラス粉を溶融させてガラス部材にガラス層を定着させるために、図９に示されるように、ガラス層３の所定の位置Ｐを始点及び終点として、溶着予定領域Ｒに沿ってレーザ光の照射領域を相対的に移動させてガラス層３にレーザ光を照射すると、場合によっては、所定の位置Ｐの近傍でガラス層３が切断されるのである。これは、レーザ光の照射領域が所定の位置Ｐに戻って来たときに、既に固化しているガラス層３の溶融始端部３ａに、ガラス粉の溶融によって収縮するガラス層３の溶融終端部３ｂが接続し難いからと想定される。
　そして、図１０，１１に示されるように、ガラス層３の溶融終端部３ｂが盛り上がるため、ガラス部材４の溶着対象であるガラス部材５を、ガラス層３を介して重ね合わせても、溶融終端部３ｂが邪魔となって、ガラス層３にガラス部材５を均一に接触させることができない。この状態で、レーザ光の照射によってガラス部材４とガラス部材５とを溶着しようとしても、均一且つ気密な溶着を実現することは極めて困難である。なお、図９～１１の状態でのガラス層３に関する寸法を例示すると、ガラス層３の幅は１．０ｍｍ程度、ガラス層３の厚さは１０μｍ程度、溶融終端部３ｂの高さは２０μｍ程度、ガラス層３の切れ幅（すなわち、溶融始端部３ａと溶融終端部３ｂとの間隔）は４０μｍ程度である。
　図１２は、ガラス部材に定着したガラス層の溶融始端部及び溶融終端部の平面写真を示す図である。同図に示されるように、ガラス層３は、溶融始端部３ａと溶融終端部３ｂとの間で切断される。なお、溶融始端部３ａの幅が中央部から徐々に広がっているのは、次の理由による。
　すなわち、ガラス部材に配置されたガラス層においては、ガラス粉の粒子性等によって、レーザ光吸収材の吸収特性を上回る光散乱が起こり、レーザ光吸収率が低い状態となっている（例えば、可視光下において白っぽく見える）。このような状態でガラス部材にガラス層を焼き付けるためにレーザ光を照射すると、ガラス粉の溶融によって粒子性が崩れるなどして、レーザ光吸収材の吸収特性が顕著に現れ、ガラス層のレーザ光吸収率が急激に高くなる（例えば、可視光下において黒っぽく或いは緑っぽく見える）。つまり、図１３に示されるように、ガラス層の定着時にガラス層の温度が融点Ｔｍを超えるとガラス層のレーザ光吸収率が急激に高くなるのである。
　このとき、図１４に示されるように、レーザ光は、幅方向（レーザ光の進行方向と略直交する方向）における中央部の温度が高くなる温度分布を有しているのが一般的である。そのため、照射開始位置から幅方向全体にわたってガラス層が溶融する安定領域となるように、レーザ光を照射開始位置に暫く停滞させてから進行させると、幅方向における中央部で最初に始まる溶融により中央部のレーザ光吸収率が上昇し、その上昇により中央部が入熱過多の状態となり、ガラス部材にクラックが生じたりやガラス層が結晶化したりするおそれがある。
　そこで、図１５に示されるように、レーザ光の照射開始位置で幅方向全体にわたってガラス層が溶融しなくてもレーザ光を進行させると、照射開始位置から安定状態に至る領域が中央部から徐々に溶融の幅が広がる不安定領域となる。図１２において、溶融始端部３ａの幅が中央部から徐々に広がっているのは、以上の理由による。
　本発明者は、この知見に基づいて更に検討を重ね、本発明を完成させるに至った。すなわち、本発明に係るガラス溶着方法は、第１のガラス部材と第２のガラス部材とを溶着してガラス溶着体を製造するガラス溶着方法であって、閉じた環状に延在する溶着予定領域に沿い、且つ、一部の単位長さ当たりの体積が、一部を除く主部の単位長さ当たりの体積よりも大きくなるように、レーザ光吸収材及びガラス粉を含むガラス層を第１のガラス部材に配置する工程と、一部又は一部に接続する主部の一端若しくは他端を始点及び終点として、溶着予定領域に沿って第１のレーザ光の照射領域を相対的に移動させてガラス層に第１のレーザ光を照射することにより、ガラス層を溶融させ、第１のガラス部材にガラス層を定着させる工程と、ガラス層において始点及び終点とした部分を第１のガラス部材側に押圧しつつ、当該部分に第２のレーザ光を照射することにより、当該部分を溶融させる工程と、ガラス層が定着した第１のガラス部材にガラス層を介して第２のガラス部材が重ね合わせられた状態で、ガラス層に第３のレーザ光を照射することにより、第１のガラス部材と第２のガラス部材とを溶着する工程と、を含むことを特徴とする。
　また、本発明に係るガラス層定着方法は、第１のガラス部材にガラス層を定着させてガラス層定着部材を製造するガラス層定着方法であって、閉じた環状に延在する溶着予定領域に沿い、且つ、一部の単位長さ当たりの体積が、一部を除く主部の単位長さ当たりの体積よりも大きくなるように、レーザ光吸収材及びガラス粉を含むガラス層を第１のガラス部材に配置する工程と、一部又は一部に接続する主部の一端若しくは他端を始点及び終点として、溶着予定領域に沿って第１のレーザ光の照射領域を相対的に移動させてガラス層に第１のレーザ光を照射することにより、ガラス層を溶融させ、第１のガラス部材にガラス層を定着させる工程と、を含むことを特徴とする。
　これらのガラス溶着方法及びガラス層定着方法では、第１のレーザ光の照射によって第１のガラス部材にガラス層を定着させたときに、第１のレーザ光の照射の始点及び終点とした位置（すなわち、ガラス層の一部、又はその一部に接続するガラス層の主部の一端若しくは他端）でガラス層が切断され或いは切断され気味になる。ここで、ガラス層においては、一部の単位長さ当たりの体積が、その一部を除く主部の単位長さ当たりの体積よりも大きくされていたため、第１のレーザ光の照射の始点及び終点とした部分が十分に盛り上がることになる。この状態で、当該部分を第１のガラス部材側に押圧しつつ、第２のレーザ光の照射によって当該部分を溶融させると、ガラス層において切断され或いは切断され気味になった領域が確実に埋められると共に、ガラス層の厚さが全体に渡って均一化されることになる。このようなガラス層を介して第１のガラス部材に第２のガラス部材が重ね合わせられた状態で、ガラス層に第３のレーザ光を照射することにより、第１のガラス部材と第２のガラス部材とを溶着すれば、ガラス層でのリークの発生を防止して、気密な溶着を必要とするガラス溶着体を製造することが可能となる。
　また、本発明に係るガラス溶着方法においては、ガラス層の一部の厚さは、ガラス層の主部の厚さよりも厚くされていることが好ましい。或いは、ガラス層の一部の幅は、ガラス層の主部の幅よりも広くされていることが好ましい。これらの場合、一部の単位長さ当たりの体積が、その一部を除く主部の単位長さ当たりの体積よりも大きくされたガラス層を確実に得ることができる。
　また、本発明に係るガラス溶着方法においては、ガラス層が定着した第１のガラス部材にガラス層を介して重ね合わせられた第２のガラス部材によって、始点及び終点とした部分を第１のガラス部材側に押圧しつつ、当該部分に第２のレーザ光として第３のレーザ光を照射することにより、当該部分を溶融させ、続いて、ガラス層に第３のレーザ光を照射することにより、第１のガラス部材と第２のガラス部材とを溶着することが好ましい。この場合、第１のレーザ光の照射の始点及び終点とした部分の押圧・溶融工程を容易に且つ確実に実施することができる。
　また、本発明に係るガラス溶着方法においては、第２のレーザ光は、始点及び終点とした部分を照射領域に含んだ状態で、当該部分に照射されることが好ましい。この場合、第１のレーザ光の照射の始点及び終点とした部分を一括で確実に溶融させることができる。
　本発明によれば、気密な溶着を必要とするガラス溶着体を製造することが可能となる。
本発明に係るガラス溶着方法の一実施形態によって製造されたガラス溶着体の斜視図である。 図１のガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法を説明するための斜視図である。 図１のガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法を説明するための断面図である。 図１のガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法を説明するための断面図である。 図１のガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法を説明するための斜視図である。 図１のガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法を説明するための断面図である。 図１のガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法を説明するための断面図である。 図１のガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法を説明するための平面図である。 ガラス部材に定着したガラス層の溶融始端部及び溶融終端部の平面図である。 ガラス部材に定着したガラス層の溶融始端部及び溶融終端部の断面図である。 ガラス部材に定着したガラス層の溶融始端部及び溶融終端部の断面図である。 ガラス部材に定着したガラス層の溶融始端部及び溶融終端部の平面写真を示す図である。 ガラス層の温度とレーザ光吸収率との関係を示すグラフである。 レーザ照射における温度分布を示す図である。 レーザ照射における安定領域及び不安定領域を示す図である。
　以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。
　図１に示されるように、ガラス溶着体１は、溶着予定領域Ｒに沿って形成されたガラス層３を介して、ガラス部材（第１のガラス部材）４とガラス部材（第２のガラス部材）５とが溶着されたものである。ガラス部材４，５は、例えば、無アルカリガラスからなる厚さ０．７ｍｍの矩形板状の部材であり、溶着予定領域Ｒは、ガラス部材４，５の外縁に沿うように所定の幅で矩形環状に設定されている。ガラス層３は、例えば、低融点ガラス（バナジウムリン酸系ガラス、鉛ホウ酸ガラス等）からなり、溶着予定領域Ｒに沿うように所定の幅で矩形環状に形成されている。
　次に、上述したガラス溶着体１を製造するためのガラス溶着方法（ガラス部材４とガラス部材５とを溶着してガラス溶着体１を製造するために、ガラス部材４にガラス層３を定着させてガラス層定着部材を製造するガラス層定着方法を含む）について説明する。
　まず、図２に示されるように、ディスペンサやスクリーン印刷等によってフリットペーストを塗布することにより、溶着予定領域Ｒに沿ってガラス部材４の表面４ａにペースト層６を形成する。フリットペーストは、例えば、低融点ガラス（バナジウムリン酸系ガラス、鉛ホウ酸ガラス等）からなる粉末状のガラスフリット（ガラス粉）２、酸化鉄等の無機顔料であるレーザ光吸収性顔料（レーザ光吸収材）、酢酸アミル等である有機溶剤及びガラスの軟化点温度以下で熱分解する樹脂成分（アクリル等）であるバインダを混練したものである。つまり、ペースト層６は、有機溶剤、バインダ、レーザ光吸収性顔料及びガラスフリット２を含んでいる。
　続いて、ペースト層６を乾燥させて有機溶剤を除去する。これにより、閉じた矩形環状に延在する溶着予定領域Ｒに沿うように、バインダ、レーザ光吸収性顔料及びガラスフリット２を含むガラス層３がガラス部材４に配置されることになる。なお、ガラス部材４の表面４ａに配置されたガラス層３は、ガラスフリット２の粒子性等によってレーザ光吸収性顔料の吸収特性を上回る光散乱が起こり、レーザ光吸収率が低い状態となっている（例えば、可視光下においては、ガラス層３が白っぽく見える）。
　ここで、ガラス層３は、図３（ａ）に示されるように、溶着予定領域Ｒの全周に渡ってフリットペーストＦＰがガラス部材４の表面４ａに一層塗布された後、図３（ｂ）に示されるように、溶着予定領域Ｒの直線部上の所定の部分においてフリットペーストＦＰが更に一層塗布されることで、形成される。これにより、図２に示されるように、ガラス層３の一部３１の厚さは、その一部３１を除くガラス層３の主部３２の厚さよりも厚くなる。つまり、ガラス部材４に配置されたガラス層３においては、一部３１の単位長さ当たりの体積が主部３２の単位長さ当たりの体積よりも大きくなっている。
　続いて、図４に示されるように、ガラス層３の一部３１内の所定の位置Ｐを始点及び終点として、溶着予定領域Ｒに沿ってレーザ光（第１のレーザ光）Ｌ１の照射領域を相対的に移動させてガラス層３にレーザ光Ｌ１を照射する。このレーザ光Ｌ１の照射によって、バインダをガス化すると共にガラスフリット２を溶融させ、ガラス部材４にガラス層３を定着させて（仮焼成）、ガラス層定着部材１０を得る。なお、ガラス層３では、ガラスフリット２の溶融によってその粒子性が崩れるなどしてレーザ光吸収性顔料の吸収特性が顕著に現れるため、ガラス層３のレーザ光吸収率は、ガラスフリット２の溶融前に比べ高い状態となる（例えば、可視光下においては、ガラス層３が黒っぽく或いは緑っぽく見える）。
　このとき、所定の位置Ｐの近傍では、ガラス層３が切断されて、ガラス層３の一部３１が溶融始端部３ａと溶融終端部３ｂとに分かれる。これは、レーザ光Ｌ１の照射領域が所定の位置Ｐに戻って来たときに、既に固化しているガラス層３の溶融始端部３ａに、ガラスフリット２の溶融によって収縮するガラス層３の溶融終端部３ｂが接続し難いからと想定される。そして、ガラス層３の一部３１の単位長さ当たりの体積がガラス層３の主部３２の単位長さ当たりの体積よりも大きくされていたことから、溶融始端部３ａ及び溶融終端部３ｂは、そのような体積差が設けられない場合に比べ、大きく盛り上がり、ガラス層３の主部３２からガラス部材４の反対側に大きく突出している。このガラス層３に関する寸法を例示すると、ガラス層３の幅は１．０ｍｍ程度、ガラス層３の厚さは１０μｍ程度、溶融終端部３ｂの高さは６０μｍ程度、ガラス層３の切れ幅（すなわち、溶融始端部３ａと溶融終端部３ｂとの間隔）は４０μｍ程度である。なお、ガラス層３の溶融始端部３ａ及び溶融終端部３ｂは、溶着予定領域Ｒの直線部において、ガラス層３のキャップＧを挟んで対向している。
　続いて、図５に示されるように、ガラス層定着部材１０（すなわち、ガラス層３が溶融して定着したガラス部材４）にガラス層３を介してガラス部材５を重ね合わせる。そして、図６（ａ）に示されるように、ガラス部材５によって、溶融始端部３ａ及び溶融終端部３ｂ（レーザ光Ｌ１の照射の始点及び終点とした部分）をガラス部材４側に押圧しつつ、溶融始端部３ａ及び溶融終端部３ｂにレーザ光Ｌ２（第２のレーザ光、第３のレーザ光）を照射する。このレーザ光Ｌ２は、溶融始端部３ａ及び溶融終端部３ｂを照射領域が含んだ状態で停止させられて、溶融始端部３ａ及び溶融終端部３ｂに照射される。このときのレーザ光Ｌ２の照射条件を例示すると、レーザスポット径が１．６ｍｍ、移動速度が０ｍｍ／sec、レーザパワーが６Ｗである。なお、ギャップＧにおけるガラス部材４，５の過剰加熱を防止するために、レーザ光Ｌ２の照射領域をリング状としたり、レーザ光Ｌ２の照射領域を溶融始端部３ａ及び溶融終端部３ｂのそれぞれに合わせてツインスポット化したりしてもよい。
　このレーザ光Ｌ２の照射によって、溶融始端部３ａ及び溶融終端部３ｂを溶融させ、図６（ｂ）に示されるように、ガラス層３のギャップＧを埋める。このとき、ガラス部材５の沈み込みが、溶融していないガラス層３の主部３２によって停止させられて、ガラス層３の厚さが均一化されるので、レーザ光吸収率も高い状態で均一化されているガラス層３にガラス部材５が均一に接触することになる。
　続いて、レーザ光Ｌ２の照射条件を切り替えて、溶着予定領域Ｒに沿ってガラス層３にレーザ光Ｌ２を照射する。すなわち、溶着予定領域Ｒに沿ってレーザ光Ｌ２の照射領域を相対的に移動させてガラス層３にレーザ光Ｌ２を照射する。これにより、ガラス層３及びその周辺部分（ガラス部材４，５の表面４ａ，５ａ部分）を溶融・再固化させ、溶着予定領域Ｒに沿ってガラス部材４とガラス部材５とを溶着して（本焼成）、ガラス溶着体１を得る（溶着においては、ガラス層３が溶融し、ガラス部材４，５が溶融しない場合もある）。このときのレーザ光Ｌ２の照射条件を例示すると、レーザスポット径が１．６ｍｍ、移動速度が１０ｍｍ／sec、レーザパワーが４０Ｗである。
　以上説明したように、ガラス溶着体１の製造するためのガラス溶着方法（ガラス層定着方法を含む）においては、仮焼成用のレーザ光Ｌ１の照射によってガラス部材４にガラス層３を定着させたときに、仮焼成用のレーザ光Ｌ１の照射の始点及び終点とした位置でガラス層が切断される（切断され気味になる場合も含む）。ここで、ガラス層３においては、一部３１の単位長さ当たりの体積が主部３２の単位長さ当たりの体積よりも大きくされていたため、溶融始端部３ａ及び溶融終端部３ｂが十分に盛り上がることになる。この状態で、溶融始端部３ａ及び溶融終端部３ｂをガラス部材４側に押圧しつつ、本焼成前段階のレーザ光Ｌ２の照射によって溶融始端部３ａ及び溶融終端部３ｂを溶融させると、ガラス層３において切断されていた領域（すなわち、ギャップＧ）が確実に埋められると共に、ガラス層３の厚さが全体に渡って均一化されることになる。このようなガラス層３を介してガラス部材４にガラス部材５が重ね合わせられた状態で、ガラス層３に本焼成用のレーザ光Ｌ２を照射することにより、ガラス部材４とガラス部材５とを溶着すると、ガラス層３でのリークの発生を防止して、気密な溶着を必要とするガラス溶着体１を製造することが可能となる。
　なお、ガラス層の全体の単位長さ当たりの体積を通常よりも大きくすることは、現実的ではない。そのようなガラス層を介してガラス部材同士が溶着されると、残留応力が大きくなり、ガラス溶着体に損傷を生じ易くなるからである。
　また、ガラス層３をガラス部材４に配置するに際し、ガラス層３の一部３１の厚さを、ガラス層３の主部３２の厚さよりも厚くする。これにより、ガラス層３の一部３１の単位長さ当たりの体積がガラス層３の主部３２の単位長さ当たりの体積よりも大きくされたガラス層３を確実に得ることができる。しかも、この場合、ガラス層３の幅方向へのはみ出しが抑制されるので、ガラス溶着体１においてガラス層３によって囲まれた有効領域を広くすることができる。
　なお、図７に示されるように、仮焼成用のレーザ光Ｌ１を矢印Ａの方向に移動させる場合、レーザ光Ｌ１の照射の始点及び終点とする所定の位置Ｐは、ガラス層３の一部３１内（好ましくは、その中央部３１ａ）の他、ガラス層３の一部３１に接続するガラス層３の主部３２の一端３２ａ又は他端３２ｂとすることができる。ただし、レーザ光Ｌ１の照射領域が所定の位置Ｐに戻って来たときに、既に固化しているガラス層３の溶融始端部３ａに対して後退するようにガラス層３の溶融終端部３ｂが収縮するので、レーザ光Ｌ１の進行方向（すなわち、矢印Ａ方向）前側の主部３２の一端３２ａのほうが、主部３２の他端３２ｂよりも好ましい。
　また、ガラス部材４にガラス層３を介して重ね合わせられたガラス部材５によって、溶融始端部３ａ及び溶融終端部３ｂをガラス部材４側に押圧しつつ、溶融始端部３ａ及び溶融終端部３ｂに本焼成前段階のレーザ光Ｌ２を照射することにより、溶融始端部３ａ及び溶融終端部３ｂを溶融させ、続いて、ガラス層３に本焼成用のレーザ光Ｌ２を照射することにより、ガラス部材４とガラス部材５とを溶着する。これによれば、仮焼成用のレーザ光Ｌ１の照射の始点及び終点とした部分（すなわち、溶融始端部３ａ及び溶融終端部３ｂ）の押圧・溶融工程を容易に且つ確実に実施することができる。
　また、本焼成前段階のレーザ光Ｌ２は、溶融始端部３ａ及び溶融終端部３ｂを照射領域が含んだ状態で停止させられて、溶融始端部３ａ及び溶融終端部３ｂに照射される。これによれば、仮焼成用のレーザ光Ｌ１の照射の始点及び終点とした部分（すなわち、溶融始端部３ａ及び溶融終端部３ｂ）を一括で確実に溶融させることができる。
　本発明は、上述した実施形態に限定されるものではない。例えば、図８に示されるように、ガラス層３をガラス部材４に配置するに際し、ガラス層３の一部３１の幅を、ガラス層３の主部３２の幅よりも広くしてもよい。これにより、ガラス層３の一部３１の単位長さ当たりの体積がガラス層３の主部３２の単位長さ当たりの体積よりも大きくされたガラス層３を確実に得ることができる。しかも、フリットペーストの塗布が１回で済むため、ガラス部材４に対するガラス層３の配置を容易に完了することができる。
　なお、図８に示されるように、仮焼成用のレーザ光Ｌ１を矢印Ａの方向に移動させる場合、レーザ光Ｌ１の照射の始点及び終点とする所定の位置Ｐは、ガラス層３の一部３１内（好ましくは、その中央部３１ａ）の他、ガラス層３の一部３１に接続するガラス層３の主部３２の一端３２ａ又は他端３２ｂとすることができる。ただし、レーザ光Ｌ１の照射領域が所定の位置Ｐに戻って来たときに、既に固化しているガラス層３の溶融始端部３ａに対して後退するようにガラス層３の溶融終端部３ｂが収縮するので、レーザ光Ｌ１の進行方向（すなわち、矢印Ａ方向）前側の主部３２の一端３２ａのほうが、主部３２の他端３２ｂよりも好ましい。このとき、本焼成前段階用のレーザ光Ｌ２の照射領域は、ガラス層３の一部３１に合わせて大きくする必要があるので、続けて、ガラス層３の主部３２に本焼成用のレーザ光Ｌ２を照射する場合には、ガラス層３の両側をマスクしたり、レーザ光Ｌ２の照射領域をガラス層３の主部３２に合わせて小さくしたりする必要がある。
　また、ガラス層３において仮焼成用のレーザ光Ｌ１の照射の始点及び終点とした部分（すなわち、溶融始端部３ａ及び溶融終端部３ｂ）を板状部材（例えば、ガラス部材５に代わる光透過性の部材）によってガラス部材４側に押圧しつつ、当該部分にレーザ光を照射することにより、当該部分を溶融させてもよい。そして、溶融始端部３ａ及び溶融終端部３ｂの押圧及び溶融が終了したら、板状部材を剥離して、ガラス層定着部材１０を得る。この場合、本焼成用のレーザ光Ｌ２は、仮焼成用のレーザ光Ｌ１の照射の始点及び終点とした部分以外の部分からガラス層３への照射を開始し、オーバーラップさせてガラス層３への照射を終了する。
　また、本焼成用のレーザ光Ｌ２の照射は、その照射領域を溶着予定領域Ｒに沿って相対的に移動させるものに限定されず、ガラス層３の全体に対して一括で行うものであってもよい。また、仮焼成用のレーザ光Ｌ１の照射対象となるガラス層３は、有機溶剤、バインダ、レーザ光吸収性顔料及びガラスフリット２を含んだペースト層６に相当するものであってもよいし、そのようなペースト層６から有機溶剤及びバインダを除去するなどして、レーザ光吸収性顔料及びガラスフリット２を含んだものであってもよい。また、ガラスフリット２は、ガラス部材４，５の融点よりも低い融点を有するものに限定されず、ガラス部材４，５の融点以上の融点を有するものであってもよい。また、レーザ光吸収性顔料は、ガラスフリット２自体に含まれていてもよい。更に、溶着予定領域Ｒは、矩形環状に限定されず、円形環状等、閉じた環状に延在するものであればよい。
　本発明によれば、気密な溶着を必要とするガラス溶着体を製造することが可能となる。
　１…ガラス溶着体、２…ガラスフリット（ガラス粉）、３…ガラス層、４…ガラス部材（第１のガラス部材）、５…ガラス部材（第２のガラス部材）、１０…ガラス層定着部材、３１…一部、３２…主部、３２ａ…一端、３２ｂ…他端、Ｌ１…レーザ光（第１のレーザ光）、Ｌ２…レーザ光（第２のレーザ光、第３のレーザ光）、Ｒ…溶着予定領域。

Claims (6)

  1. 　第１のガラス部材と第２のガラス部材とを溶着してガラス溶着体を製造するガラス溶着方法であって、
    　閉じた環状に延在する溶着予定領域に沿い、且つ、一部の単位長さ当たりの体積が、前記一部を除く主部の単位長さ当たりの体積よりも大きくなるように、レーザ光吸収材及びガラス粉を含むガラス層を前記第１のガラス部材に配置する工程と、
    　前記一部又は前記一部に接続する前記主部の一端若しくは他端を始点及び終点として、前記溶着予定領域に沿って第１のレーザ光の照射領域を相対的に移動させて前記ガラス層に前記第１のレーザ光を照射することにより、前記ガラス層を溶融させ、前記第１のガラス部材に前記ガラス層を定着させる工程と、
    　前記ガラス層において前記始点及び前記終点とした部分を前記第１のガラス部材側に押圧しつつ、当該部分に第２のレーザ光を照射することにより、当該部分を溶融させる工程と、
    　前記ガラス層が定着した前記第１のガラス部材に前記ガラス層を介して前記第２のガラス部材が重ね合わせられた状態で、前記ガラス層に第３のレーザ光を照射することにより、前記第１のガラス部材と前記第２のガラス部材とを溶着する工程と、を含むことを特徴とするガラス溶着方法。
  2. 　前記ガラス層の前記一部の厚さは、前記ガラス層の前記主部の厚さよりも厚くされていることを特徴とする請求項１記載のガラス溶着方法。
  3. 　前記ガラス層の前記一部の幅は、前記ガラス層の前記主部の幅よりも広くされていることを特徴とする請求項１記載のガラス溶着方法。
  4. 　前記ガラス層が定着した前記第１のガラス部材に前記ガラス層を介して重ね合わせられた前記第２のガラス部材によって、前記始点及び前記終点とした部分を前記第１のガラス部材側に押圧しつつ、当該部分に前記第２のレーザ光として前記第３のレーザ光を照射することにより、当該部分を溶融させ、続いて、前記ガラス層に前記第３のレーザ光を照射することにより、前記第１のガラス部材と前記第２のガラス部材とを溶着することを特徴とする請求項１記載のガラス溶着方法。
  5. 　前記第２のレーザ光は、前記始点及び前記終点とした部分を照射領域が含んだ状態で、当該部分に照射されることを特徴とする請求項１記載のガラス溶着方法。
  6. 　第１のガラス部材にガラス層を定着させてガラス層定着部材を製造するガラス層定着方法であって、
    　閉じた環状に延在する溶着予定領域に沿い、且つ、一部の単位長さ当たりの体積が、前記一部を除く主部の単位長さ当たりの体積よりも大きくなるように、レーザ光吸収材及びガラス粉を含むガラス層を前記第１のガラス部材に配置する工程と、
    　前記一部又は前記一部に接続する前記主部の一端若しくは他端を始点及び終点として、前記溶着予定領域に沿って第１のレーザ光の照射領域を相対的に移動させて前記ガラス層に前記第１のレーザ光を照射することにより、前記ガラス層を溶融させ、前記第１のガラス部材に前記ガラス層を定着させる工程と、を含むことを特徴とするガラス層定着方法。
PCT/JP2010/066138 2009-11-25 2010-09-17 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 WO2011065105A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US13/511,674 US9233872B2 (en) 2009-11-25 2010-09-17 Glass welding method and glass layer fixing method
CN201080053486.5A CN102666415B (zh) 2009-11-25 2010-09-17 玻璃熔接方法及玻璃层固定方法
KR1020127010412A KR101810253B1 (ko) 2009-11-25 2010-09-17 유리 용착 방법 및 유리층 정착 방법

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009-267817 2009-11-25
JP2009267817A JP5466929B2 (ja) 2009-11-25 2009-11-25 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2011065105A1 true WO2011065105A1 (ja) 2011-06-03

Family

ID=44066208

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2010/066138 WO2011065105A1 (ja) 2009-11-25 2010-09-17 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9233872B2 (ja)
JP (1) JP5466929B2 (ja)
KR (1) KR101810253B1 (ja)
CN (1) CN102666415B (ja)
TW (1) TWI504469B (ja)
WO (1) WO2011065105A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017154355A1 (ja) * 2016-03-11 2017-09-14 日本電気硝子株式会社 波長変換部材の製造方法及び波長変換部材

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5308718B2 (ja) 2008-05-26 2013-10-09 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
KR101665727B1 (ko) * 2008-06-11 2016-10-12 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 유리 용착 방법
WO2009157282A1 (ja) * 2008-06-23 2009-12-30 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
JP5481167B2 (ja) * 2009-11-12 2014-04-23 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
JP5567319B2 (ja) 2009-11-25 2014-08-06 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5466929B2 (ja) * 2009-11-25 2014-04-09 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5481173B2 (ja) * 2009-11-25 2014-04-23 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5535590B2 (ja) 2009-11-25 2014-07-02 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5525246B2 (ja) * 2009-11-25 2014-06-18 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5481172B2 (ja) 2009-11-25 2014-04-23 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5535589B2 (ja) * 2009-11-25 2014-07-02 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5535588B2 (ja) 2009-11-25 2014-07-02 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
WO2017056419A1 (ja) * 2015-09-29 2017-04-06 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 ガラスパネルユニットの製造方法およびガラス窓の製造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002366050A (ja) * 2001-06-12 2002-12-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 画像表示装置の製造方法、製造装置およびそれを用いて製造した画像表示装置
JP2005213125A (ja) * 2004-02-02 2005-08-11 Futaba Corp 電子管と電子管の気密容器の製造方法
JP2006524419A (ja) * 2003-04-16 2006-10-26 コーニング インコーポレイテッド フリットにより密封されたガラスパッケージおよびその製造方法
JP2008115057A (ja) * 2006-11-07 2008-05-22 Electric Power Dev Co Ltd 封止材料、ガラスパネルの製造方法および色素増感太陽電池

Family Cites Families (95)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1244346B (de) 1964-10-19 1967-07-13 Menzel Gerhard Glasbearbeitung Verfahren zum Schneiden von Glas
US3663793A (en) * 1971-03-30 1972-05-16 Westinghouse Electric Corp Method of decorating a glazed article utilizing a beam of corpuscular energy
US4343833A (en) 1979-06-26 1982-08-10 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Method of manufacturing thermal head
JPH02120259A (ja) 1988-10-28 1990-05-08 Toshiba Corp ガラスの封止接合体およびその製造方法
JPH05166462A (ja) 1991-12-17 1993-07-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 平板型表示装置用真空容器の製造方法
US5489321A (en) 1994-07-14 1996-02-06 Midwest Research Institute Welding/sealing glass-enclosed space in a vacuum
JP2000313630A (ja) 1998-08-07 2000-11-14 Shin Meiwa Ind Co Ltd ガラス融着方法、ガラス融着装置、融着ガラスおよび融着ガラスの製造方法
US6297869B1 (en) 1998-12-04 2001-10-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Substrate and a liquid crystal display panel capable of being cut by using a laser and a method for manufacturing the same
JP2001326290A (ja) 2000-03-10 2001-11-22 Seiko Epson Corp パッケージの封止方法、電子素子モジュールの製造方法、封止装置並びにパッケージ品
JP2002015108A (ja) 2000-06-30 2002-01-18 Nomura Holding Inc 企業価値分析装置及び企業価値分析方法
WO2002054436A1 (en) 2000-12-28 2002-07-11 Jae-Hong Park A method for sealing a flat panel display in a vacuum
JP2002224871A (ja) 2001-01-31 2002-08-13 Seiko Epson Corp レーザ切断方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器およびレーザ切断装置
JP2002287107A (ja) 2001-03-28 2002-10-03 Hitachi Ltd 液晶表示装置およびその製造方法
JP2002367514A (ja) 2001-06-12 2002-12-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 表示パネルおよびその製造方法およびその製造装置
US6565400B1 (en) 2001-06-26 2003-05-20 Candescent Technologies Corporation Frit protection in sealing process for flat panel displays
TW517356B (en) * 2001-10-09 2003-01-11 Delta Optoelectronics Inc Package structure of display device and its packaging method
JP2004182567A (ja) 2002-12-05 2004-07-02 Nippon Sheet Glass Co Ltd 真空ガラスパネルの製造方法、及び該製造方法により製造された真空ガラスパネル
US20050116245A1 (en) 2003-04-16 2005-06-02 Aitken Bruce G. Hermetically sealed glass package and method of fabrication
US20040206953A1 (en) 2003-04-16 2004-10-21 Robert Morena Hermetically sealed glass package and method of fabrication
JP4202836B2 (ja) 2003-06-17 2008-12-24 浜松ホトニクス株式会社 レーザ溶接方法およびレーザ溶接装置
CN100533185C (zh) 2003-07-16 2009-08-26 3M创新有限公司 层压件及制造层压件的方法
US20050103755A1 (en) 2003-11-13 2005-05-19 Baker Martin C. Hand-held laser welding wand reflection shield
US7820941B2 (en) 2004-07-30 2010-10-26 Corning Incorporated Process and apparatus for scoring a brittle material
US7371143B2 (en) 2004-10-20 2008-05-13 Corning Incorporated Optimization of parameters for sealing organic emitting light diode (OLED) displays
JP4692918B2 (ja) * 2004-12-01 2011-06-01 日本電気硝子株式会社 封着材料
US7626749B2 (en) 2005-05-16 2009-12-01 Donnelly Corporation Vehicle mirror assembly with indicia at reflective element
US20070001579A1 (en) 2005-06-30 2007-01-04 Eun-Suk Jeon Glass-to-glass joining method using laser, vacuum envelope manufactured by the method, electron emission display having the vacuum envelope
CN101242951B (zh) 2005-08-09 2012-10-31 旭硝子株式会社 薄板玻璃层压体以及利用薄板玻璃层压体的显示装置的制造方法
JP2007090405A (ja) 2005-09-29 2007-04-12 Epson Toyocom Corp 積層光学素子、及びその製造方法
US9150450B2 (en) * 2005-12-06 2015-10-06 Corning Incorporated System and method for frit sealing glass packages
US7537504B2 (en) * 2005-12-06 2009-05-26 Corning Incorporated Method of encapsulating a display element with frit wall and laser beam
CN101454860B (zh) * 2005-12-06 2012-05-23 康宁股份有限公司 用玻璃料气密密封的玻璃封装物及其制造方法
US8375744B2 (en) 2005-12-06 2013-02-19 Corning Incorporated Hermetically sealed glass package and method of manufacture
KR100673765B1 (ko) 2006-01-20 2007-01-24 삼성에스디아이 주식회사 유기전계발광 표시장치 및 그 제조방법
JP4456092B2 (ja) * 2006-01-24 2010-04-28 三星モバイルディスプレイ株式會社 有機電界発光表示装置及びその製造方法
KR100732808B1 (ko) * 2006-01-26 2007-06-27 삼성에스디아이 주식회사 유기전계발광 표시장치의 제조방법
KR100671647B1 (ko) * 2006-01-26 2007-01-19 삼성에스디아이 주식회사 유기전계발광 표시 장치
KR100713987B1 (ko) 2006-02-20 2007-05-04 삼성에스디아이 주식회사 기판 밀착장치 및 이를 이용한 유기전계발광 표시장치의밀봉방법
JP4977391B2 (ja) 2006-03-27 2012-07-18 日本電気株式会社 レーザ切断方法、表示装置の製造方法、および表示装置
KR20090006824A (ko) 2006-05-08 2009-01-15 아사히 가라스 가부시키가이샤 박판 유리 적층체, 박판 유리 적층체를 이용한 표시 장치의제조 방법 및 지지 유리 기판
KR101274807B1 (ko) * 2006-06-30 2013-06-13 엘지디스플레이 주식회사 유기 전계 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법
US20080124558A1 (en) 2006-08-18 2008-05-29 Heather Debra Boek Boro-silicate glass frits for hermetic sealing of light emitting device displays
JP2008115067A (ja) 2006-11-07 2008-05-22 Lemi Ltd フラットパネルディスプレィ薄板の割断方法
US7800303B2 (en) 2006-11-07 2010-09-21 Corning Incorporated Seal for light emitting display device, method, and apparatus
JP2008127223A (ja) 2006-11-17 2008-06-05 Lemi Ltd フラットパネルディスプレィ薄板の割断方法
DE102007008634B3 (de) 2007-02-16 2008-08-07 Jenoptik Automatisierungstechnik Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Trennen von Verbundglasscheiben
CN101541511B (zh) * 2007-05-30 2011-12-21 松下电工株式会社 叠层成形设备
JP2009070687A (ja) * 2007-09-13 2009-04-02 Canon Inc 気密容器の製造方法
US8247730B2 (en) * 2007-09-28 2012-08-21 Corning Incorporated Method and apparatus for frit sealing with a variable laser beam
JP2009123421A (ja) 2007-11-13 2009-06-04 Canon Inc 気密容器の製造方法
US7815480B2 (en) 2007-11-30 2010-10-19 Corning Incorporated Methods and apparatus for packaging electronic components
JP4928483B2 (ja) 2008-02-22 2012-05-09 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
TWI421601B (zh) 2008-04-25 2014-01-01 Au Optronics Corp 適用雷射切割技術之顯示面板及其母板
CN102015567B (zh) 2008-04-25 2013-08-28 浜松光子学株式会社 玻璃熔接方法
JP5308718B2 (ja) * 2008-05-26 2013-10-09 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
JP5308717B2 (ja) * 2008-05-26 2013-10-09 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
US8147632B2 (en) * 2008-05-30 2012-04-03 Corning Incorporated Controlled atmosphere when sintering a frit to a glass plate
US7992411B2 (en) 2008-05-30 2011-08-09 Corning Incorporated Method for sintering a frit to a glass plate
US8839643B2 (en) * 2008-06-11 2014-09-23 Hamamatsu Photonics K.K. Fusion bonding process for glass
KR101665727B1 (ko) 2008-06-11 2016-10-12 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 유리 용착 방법
US8448468B2 (en) 2008-06-11 2013-05-28 Corning Incorporated Mask and method for sealing a glass envelope
WO2009157281A1 (ja) 2008-06-23 2009-12-30 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
WO2009157282A1 (ja) 2008-06-23 2009-12-30 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
US8307674B2 (en) * 2008-07-16 2012-11-13 Ferro Corporation Hot-melt sealing glass compositions and methods of making and using the same
KR20160014771A (ko) * 2008-07-28 2016-02-11 코닝 인코포레이티드 유리 패키지 내에 액체를 밀봉하는 방법 및 이로부터 얻어진 유리 패키지
US20100095705A1 (en) * 2008-10-20 2010-04-22 Burkhalter Robert S Method for forming a dry glass-based frit
US20100116119A1 (en) 2008-11-10 2010-05-13 Bayne John F Method for separating a composite glass assembly
US8245536B2 (en) 2008-11-24 2012-08-21 Corning Incorporated Laser assisted frit sealing of high CTE glasses and the resulting sealed glass package
JP5673102B2 (ja) * 2008-11-26 2015-02-18 旭硝子株式会社 封着材料層付きガラス部材およびそれを用いた電子デバイスとその製造方法
WO2010067848A1 (ja) * 2008-12-12 2010-06-17 旭硝子株式会社 封着ガラス、封着材料層付きガラス部材、および電子デバイスとその製造方法
KR101097307B1 (ko) * 2009-04-16 2011-12-21 삼성모바일디스플레이주식회사 실링 장치
US8440479B2 (en) 2009-05-28 2013-05-14 Corning Incorporated Method for forming an organic light emitting diode device
CN102471151B (zh) * 2009-06-30 2015-04-01 旭硝子株式会社 带密封材料层的玻璃构件以及使用该构件的电子器件及其制造方法
WO2011010489A1 (ja) * 2009-07-23 2011-01-27 旭硝子株式会社 封着材料層付きガラス部材の製造方法及び製造装置、並びに電子デバイスの製造方法
JP5481167B2 (ja) * 2009-11-12 2014-04-23 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
JP5535590B2 (ja) * 2009-11-25 2014-07-02 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5535588B2 (ja) * 2009-11-25 2014-07-02 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5466929B2 (ja) * 2009-11-25 2014-04-09 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5535589B2 (ja) * 2009-11-25 2014-07-02 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5481172B2 (ja) * 2009-11-25 2014-04-23 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5481173B2 (ja) * 2009-11-25 2014-04-23 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5567319B2 (ja) * 2009-11-25 2014-08-06 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5525246B2 (ja) * 2009-11-25 2014-06-18 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
KR101113381B1 (ko) 2009-11-30 2012-03-02 삼성에스디아이 주식회사 배터리 팩
TWI497466B (zh) * 2010-03-19 2015-08-21 Asahi Glass Co Ltd Electronic device and manufacturing method thereof
WO2011130632A1 (en) * 2010-04-15 2011-10-20 Ferro Corporation Low-melting lead-free bismuth sealing glasses
CN102870230B (zh) * 2010-04-27 2016-04-20 费罗公司 用于气密密封导电馈通的方法
JP2011233479A (ja) * 2010-04-30 2011-11-17 Canon Inc 気密容器および画像表示装置の製造方法
JP5716743B2 (ja) * 2010-06-14 2015-05-13 旭硝子株式会社 封着材料ペーストとそれを用いた電子デバイスの製造方法
KR101401177B1 (ko) 2010-07-23 2014-05-29 파나소닉 주식회사 표시 패널 및 그 제조 방법
JP5947098B2 (ja) * 2011-05-13 2016-07-06 株式会社半導体エネルギー研究所 ガラス封止体の作製方法および発光装置の作製方法
JP6111022B2 (ja) * 2011-06-17 2017-04-05 株式会社半導体エネルギー研究所 封止体の作製方法および発光装置の作製方法
KR101878179B1 (ko) 2011-11-23 2018-07-16 엘지디스플레이 주식회사 구동회로기판 및 이를 포함하는 액정표시장치
KR102058387B1 (ko) * 2011-11-28 2019-12-24 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 유리 패턴 및 그 형성 방법, 밀봉체 및 그 제작 방법, 및 발광 장치
KR20130118491A (ko) 2012-04-20 2013-10-30 삼성디스플레이 주식회사 레이저 실링 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002366050A (ja) * 2001-06-12 2002-12-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 画像表示装置の製造方法、製造装置およびそれを用いて製造した画像表示装置
JP2006524419A (ja) * 2003-04-16 2006-10-26 コーニング インコーポレイテッド フリットにより密封されたガラスパッケージおよびその製造方法
JP2005213125A (ja) * 2004-02-02 2005-08-11 Futaba Corp 電子管と電子管の気密容器の製造方法
JP2008115057A (ja) * 2006-11-07 2008-05-22 Electric Power Dev Co Ltd 封止材料、ガラスパネルの製造方法および色素増感太陽電池

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017154355A1 (ja) * 2016-03-11 2017-09-14 日本電気硝子株式会社 波長変換部材の製造方法及び波長変換部材

Also Published As

Publication number Publication date
CN102666415B (zh) 2014-11-26
TW201119779A (en) 2011-06-16
JP5466929B2 (ja) 2014-04-09
US9233872B2 (en) 2016-01-12
CN102666415A (zh) 2012-09-12
KR101810253B1 (ko) 2017-12-18
TWI504469B (zh) 2015-10-21
KR20120104974A (ko) 2012-09-24
JP2011111352A (ja) 2011-06-09
US20120240628A1 (en) 2012-09-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5466929B2 (ja) ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5525246B2 (ja) ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5535654B2 (ja) ガラス溶着方法
JP5481173B2 (ja) ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5535588B2 (ja) ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5567319B2 (ja) ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5535652B2 (ja) ガラス溶着方法
JP5535653B2 (ja) ガラス溶着方法
JP5481172B2 (ja) ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5535590B2 (ja) ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
WO2011065104A1 (ja) ガラス溶着方法
JP5651327B2 (ja) ガラス溶着方法
JP2012031032A (ja) ガラス溶着方法

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 201080053486.5

Country of ref document: CN

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 10832952

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20127010412

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 13511674

Country of ref document: US

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 10832952

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1