WO2011058915A1 - 芳香族スルホニルクロライド化合物の製造方法 - Google Patents
芳香族スルホニルクロライド化合物の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2011058915A1 WO2011058915A1 PCT/JP2010/069559 JP2010069559W WO2011058915A1 WO 2011058915 A1 WO2011058915 A1 WO 2011058915A1 JP 2010069559 W JP2010069559 W JP 2010069559W WO 2011058915 A1 WO2011058915 A1 WO 2011058915A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- group
- sulfonyl chloride
- formula
- chloride
- same
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
- C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
- C07D333/26—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D333/30—Hetero atoms other than halogen
- C07D333/34—Sulfur atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
- C07C303/02—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof
- C07C303/04—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof by substitution of hydrogen atoms by sulfo or halosulfonyl groups
- C07C303/10—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof by substitution of hydrogen atoms by sulfo or halosulfonyl groups by reaction with sulfur dioxide and halogen or by reaction with sulfuryl halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C319/00—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
- C07C319/14—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides
- C07C319/20—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides by reactions not involving the formation of sulfide groups
Definitions
- the present invention relates to a method for producing an aromatic sulfonyl chloride useful as an intermediate for synthesis of pharmaceuticals and the like.
- 2-bromothiophenesulfonic acid is reacted with thionyl chloride or chlorosulfonic acid in a dimethylformamide solution of 2-bromothiophene in the presence of sulfuric acid, and then reacted with an alkali metal salt.
- the resulting alkali metal salt of 2-bromothiophenesulfonic acid is reacted with thionyl chloride or chlorosulfonic acid (Patent Document 1), or sulfuric acid is added dropwise to 1,3-dialkoxybenzene to give sulfone.
- Patent Document 2 dimethylformamide
- anisole-p-sulfonyl chloride can be obtained in a yield of about 70% by dropping an aromatic compound such as anisole into a sulfuryl chloride-N, N-dimethylformamide reactant under high temperature conditions.
- Non-Patent Document 1 Non-Patent Document 1
- an aromatic compound is sulfonated with sulfuric acid or the like and then chlorinated with chlorosulfuric acid, phosphorus pentachloride or thionyl chloride.
- the method has a problem that the process is complicated and the process is complicated.
- An object of the present invention is to provide a method capable of industrially easily and efficiently producing a high-purity aromatic sulfonyl chloride compound.
- this invention provides the manufacturing method of the following aromatic sulfonyl chloride compound.
- An aromatic sulfonyl characterized by reacting a reaction product of sulfuryl chloride, N, N-dimethylformamide and sulfuric acid with an aromatic heterocyclic compound or an aromatic hydrocarbon compound having an electron donating group
- a method for producing a chloride compound, (2) the aromatic heterocyclic compound is represented by the formula (1) or (2);
- X represents O, S or NH.
- R 1 represents a halogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a sulfanyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an amino group having a lower alkyl group as a substituent.
- N is an integer of 0 to 3
- the n R 1 groups may be the same or different, and when n is 2 or more, two carbon atoms in adjacent R 1 are connected to each other to form a ring. And a substituent may be present on the formed ring.
- X represents O, S or NH.
- R 1 and R 2 are the same or different and are each a halogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a sulfanyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a lower group as a substituent.
- An amino group having an alkyl group, n is an integer of 0 or 1.
- m is an integer of 0 to 4, and the m R 2 groups may be the same or different.
- the aromatic sulfonyl chloride compound is represented by the formula (3) or (4);
- X is the same as X in the formula (1)
- R 1 is the same group as R 1 in Formula (1)
- n is the same integer as n in the formula (1).
- R 3 is a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a sulfanyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an amino group having a lower alkyl group as a substituent.
- N is an integer of 1 to 5
- the n groups may be the same or different, and when n is 2 or more, two carbon atoms in adjacent R 3 may be connected to each other to form a ring, and a substituent is present on the formed ring. May be present.
- R 3 and R 4 are the same or different and are a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a sulfanyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an amino group having a lower alkyl group as a substituent.
- n R 3 groups may be the same or different, and m is an integer of 0 to 4, and m R 4 groups may be the same or different.
- aromatic sulfonyl chloride compound is represented by formula (7) or (8);
- R 3 is the same group as R 3 in formula (5), and n is the same integer as n in formula (5).
- R 3 and R 4 are the same groups as R 3 and R 4 in formula (6), and n and m are the same integers as n and m in formula (6).
- the manufacturing method of the aromatic sulfonyl chloride compound as described in said (1) which is a compound represented by these.
- an aromatic sulfonyl chloride compound which is an intermediate for synthesis of pharmaceuticals and the like, can be produced efficiently and with high purity by suppressing the formation of a formyl compound.
- the present invention is characterized in that an aromatic heterocyclic compound or an aromatic hydrocarbon compound having an electron donating group is reacted with a reaction product obtained by reacting sulfuryl chloride, N, N-dimethylformamide and sulfuric acid. It is a manufacturing method of a sulfonyl chloride compound.
- aromatic heterocyclic compound As the aromatic heterocyclic compound used in the present invention, for example, a compound represented by the following formula (1) or (2) can be used.
- X represents O, S or NH.
- R 1 represents a halogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a sulfanyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an amino group having a lower alkyl group as a substituent.
- N is an integer of 0 to 3
- the n R 1 groups may be the same or different, and when n is 2 or more, two carbon atoms in adjacent R 1 are connected to each other to form a ring. And a substituent may be present on the formed ring.
- R 1 and R 2 are the same or different and are each a halogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a sulfanyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a lower group as a substituent.
- An amino group having an alkyl group, n is an integer of 0 or 1.
- m is an integer of 0 to 4, and the m R 2 groups may be the same or different.
- examples of the halogen atom represented by R 1 include fluorine, chlorine, bromine and iodine. Chlorine and bromine are preferable.
- the lower alkyl group represented by R 1 for example, a methyl group, an ethyl group, n- propyl group, an isopropyl group, n- butyl group, an isobutyl group, of a t- butyl group and the like straight or branched carbon Examples thereof include alkyl groups of 1 to 4. Of these, a methyl group is preferably used.
- Examples of the lower alkoxy group represented by R 1 include linear or branched methoxy groups, ethoxy groups, n-propoxy groups, isopropoxy groups, n-butoxy groups, isobutoxy groups, t-butoxy groups, and the like. Examples thereof include an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. Of these, a methoxy group is preferably used.
- Examples of the sulfanyl group having 1 to 4 carbon atoms represented by R 1 include a methylsulfanyl group, an ethylsulfanyl group, an n-propylsulfanyl group, an isopropylsulfanyl group, an n-butylsulfanyl group, an isobutylsulfanyl group, and a t-butylsulfanyl group. Groups and the like. Of these, a methylsulfanyl group is preferably used.
- Examples of the amino group having a lower alkyl group as a substituent represented by R 1 include a dimethylamino group, a diethylamino group, a di-n-propylamino group, a di-isopropylamino group, a di-n-butylamino group, and diisobutyl.
- Examples include an amino group having a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as an amino group and a di-t-butylamino group. Among these, a dimethylamino group is preferably used.
- R 2 group in the formula (2) is the same as the definition of the R 1 group.
- n 1, for example, 2-chloro-furan, 2-bromo-furan, 3-tert-butyl-furan, 2-methyl-furan, 2-ethyl-furan, 2-propyl-furan, 2-butyl-furan, 2-methoxy-furan, 2-Ethoxy-furan, 2-propoxy-furan, 2-butoxy-furan and the like.
- Specific compounds when X is S include thiophene when n is 0.
- n 1, for example, 2-chloro-thiophene, 2-bromo-thiophene, 3-tert-butyl-thiophene, 2-methyl-thiophene, 2-ethyl-thiophene, 2-propyl-thiophene, 2-butyl-thiophene, 2-methoxy-thiophene, Examples include 2-ethoxy-thiophene, 2-propoxy-thiophene, 2-butoxy-thiophene.
- n is 1, for example, 2-chloro-1H-pyrrole, 2-bromo-1H-pyrrole, 3-tert-butyl-1H-pyrrole, 2-methyl-1H-pyrrole, 2-ethyl-1H-pyrrole, 2-propyl-1H-pyrrole, Examples include 2-butyl-1H-pyrrole, 2-methoxy-1H-pyrrole, 2-ethoxy-1H-pyrrole, 2-propoxy-1H-pyrrole, and 2-butoxy-1H-pyrrole.
- R 1 and R 5 are the same or different and are each a halogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a sulfanyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a lower group as a substituent.
- An amino group having an alkyl group, n is an integer of 0 or 1.
- l is an integer of 0 to 4, and one R 5 may be the same or different.
- R 1 group and R 5 group in Formula (9) is the same as the definition of R 1 group in Formula (1).
- n 1, for example, 3-chloro-4,5,6,7-tetrahydrobenzofuran, 3-bromo-4,5,6,7-tetrahydrobenzofuran, 3-methoxy-4,5,6,7- Tetrahydrobenzofuran etc. are mentioned.
- n 1, for example, 3-chloro-4,5,6,7-tetrahydrobenzo [b] thiophene, 3-bromo-4,5,6,7-tetrahydrobenzo [b] thiophene, 3-methoxy- 4,5,6,7-tetrahydrobenzo [b] thiophene and the like.
- n 1, for example, 3-chloro-4,5,6,7-tetrahydro-1H-indole, 3-bromo-4,5,6,7-tetrahydro-1H-indole, 3-methoxy-4, 5,6,7-tetrahydro-1H-indole and the like.
- n 1, for example, 3-chloro-benzofuran, 3-bromo-benzofuran, 3-methoxy-benzofuran and the like can be mentioned.
- Specific compounds when X is S include benzo [b] thiophene when n is 0.
- n 1, for example, 3-chloro-benzo [b] thiophene, 3-bromo-benzo [b] thiophene, 3-methoxy-benzo [b] thiophene and the like can be mentioned.
- n 1, for example, 3-chloro-1H-indole, 3-bromo-1H-indole, 3-methoxy-1H-indole and the like can be mentioned.
- aromatic hydrocarbon compound having an electron donating group used in the present invention, for example, a compound represented by the following formula (5) or (6) can be used.
- R 3 is a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a sulfanyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an amino group having a lower alkyl group as a substituent.
- N is an integer of 1 to 5
- the n groups may be the same or different, and when n is 2 or more, two carbon atoms in adjacent R 3 may be connected to each other to form a ring, and a substituent is present on the formed ring. May be present.
- R 3 and R 4 are the same or different and are a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a sulfanyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an amino group having a lower alkyl group as a substituent.
- n R 3 groups may be the same or different, and m is an integer of 0 to 4, and m R 4 groups may be the same or different.
- examples of the lower alkyl group represented by R 3 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, and a t-butyl group. And a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Of these, a methyl group is preferably used.
- Examples of the lower alkoxy group represented by R 3 include linear or branched carbon such as methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, and t-butoxy group. Examples thereof include alkoxy groups of 1 to 4. Of these, a methoxy group is preferably used.
- Examples of the sulfanyl group having 1 to 4 carbon atoms represented by R 3 include a methylsulfanyl group, an ethylsulfanyl group, an n-propylsulfanyl group, an isopropylsulfanyl group, an n-butylsulfanyl group, an isobutylsulfanyl group, and a t-butylsulfanyl group. Groups and the like. Of these, a methylsulfanyl group is preferably used.
- Examples of the amino group having a lower alkyl group as a substituent represented by R 3 include a dimethylamino group, a diethylamino group, a di-n-propylamino group, a di-isopropylamino group, a di-n-butylamino group, and diisobutyl. And an amino group having a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, such as an amino group and a di-t-butylamino group. Among these, a dimethylamino group is preferably used.
- R 4 group in the formula (6) is the same as the definition of the R 3 group.
- n 1
- specific compounds when n is 1 include, for example, toluene, ethyltoluene, methoxybenzene, ethoxybenzene, methylsulfanylbenzene, N, N-dimethylaniline and the like.
- n 2, for example, 1,2-diethyl-benzene, 1,4-diethyl-benzene, 1,2-dimethoxybenzene, 1,2-diethoxybenzene, 1,2-di-n-propoxybenzene, 1,2-diisopropoxybenzene, 1,2-di-n-butoxybenzene, 1,2-ditert-butoxybenzene, 1,2-diisobutoxybenzene, 1,3-dimethoxybenzene, 1,3-diethoxybenzene, 1,3-din- Propoxybenzene, 1,3-diisopropoxybenzene, 1,3-di-n-butoxybenzene, 1,3-ditert-butoxybenzene, 1,3-diisobutoxybenzene, 1,4-dimethoxybenzene, 1,4 -Diethoxybenzene, 1,4-di-n-propoxybenzene, 1,4-diisopropoxybenzene, 1,4-d
- Specific compounds when n is 4 include, for example, 1,2,3,4-tetramethylbenzene, 1,2,3,4-tetraethylbenzene, 1,2,3,4-tetrapropylbenzene, 1,2,3,4-tetrabutylbenzene, 1,2,3,4-tetramethoxybenzene, 1,2,3,4-tetraethoxybenzene, 1,2,3,4-tetrapropoxybenzene, 1, 2,3,4-tetrabutoxybenzene, 1,2,3,4-tetramethylsulfanylbenzene, 1,2,3,4-tetraethylsulfanylbenzene, 1,2,3,4-tetrapropylsulfanylbenzene, 1, Examples include 2,3,4-tetrabutylsulfanylbenzene.
- R 3 and R 6 are the same or different and are a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a sulfanyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an amino group having a lower alkyl group as a substituent.
- n R 3 groups may be the same or different.
- L is an integer of 0 to 4, and 1 R 6 may be the same or different.
- R 3 group and the R 6 group in the formula (10) is the same as the definition of the R 3 group in the formula (5).
- the compound represented by the formula (10) include, for example, 1,2,3,4-tetrahydro-naphthalene, 5-methoxy-1,2,3,4-tetrahydro-naphthalene, 5-ethoxy-1,2,3,4-tetrahydro-naphthalene, 5-propoxy-1, 2,3,4-tetrahydro-naphthalene, 5-methylsulfanyl-1,2,3,4-tetrahydro-naphthalene, 5-ethylsulfanyl-1,2,3,4-tetrahydro-naphthalene, 5-propylsulfanyl-1 , 2,3,4-tetrahydro-naphthalene, dimethyl- (5,6,7,8-tetrahydro-naphthalen-1-yl) -amine, diethyl- (5,6,7,8-tetrahydro-naphthalene-1- Yl) -amine, dipropyl- (5,6,7,8-te
- n 3 for example, 1,2,3-trimethoxy-naphthalene, 1,2,3-triethoxy-naphthalene, 1,2,3-tripropoxy-naphthalene, 1,2,3-tributoxy-naphthalene, 1,2,3-tris-methyl Sulfanyl-naphthalene, 1,2,3-tris-ethylsulfanyl-naphthalene, 1,2,3-tris-propylsulfanyl-naphthalene, 1-butylsulfanyl-naphthalene, 1,2,3-tris-butylsulfanyl-naphthalene, etc. Is mentioned.
- the method for producing an aromatic sulfonyl chloride compound of the present invention comprises reacting an aromatic heterocyclic compound or an aromatic hydrocarbon compound having an electron donating group with a reaction product obtained by reacting sulfuryl chloride, N, N-dimethylformamide and sulfuric acid. It is characterized by making it.
- the ratio of sulfuryl chloride to be used is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 1.5 mol, preferably 0.5 to 1.2 mol with respect to 1 mol of N, N-dimethylformamide. More preferably. When the use ratio of sulfuryl chloride is less than 0.1 mol, the reaction efficiency may be lowered.
- the proportion of sulfuric acid used is not particularly limited, but it is preferably 0.05 to 1.0 mol, preferably 0.1 to 0.8 mol, per 1 mol of N, N-dimethylformamide. Is more preferable.
- any two components may be mixed first, the remaining one component may be mixed later, or the three components may be mixed simultaneously.
- the reaction temperature for reacting sulfuryl chloride, N, N-dimethylformamide and sulfuric acid is not particularly limited, but is preferably 0 to 180 ° C., more preferably 40 to 150 ° C. When it exceeds 180 degreeC, there exists a possibility that reaction efficiency may fall.
- the reaction time varies depending on the reaction temperature, but is, for example, 10 minutes to 5 hours. In addition, it is desirable to carry out in nitrogen atmosphere.
- a solvent is not necessarily used, but an organic solvent can also be used.
- the solvent used include aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, cyclohexane and heptane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene; methyl-tert-butyl ether, diethyl ether, tetrahydrofuran, And ethers such as dioxane.
- toluene is preferably used.
- the aromatic sulfonyl chloride compound of the present invention is obtained by reacting an aromatic heterocyclic compound or an aromatic hydrocarbon compound having an electron donating group with a reaction product obtained by reacting the above-mentioned sulfuryl chloride, N, N-dimethylformamide and sulfuric acid. Can be obtained.
- the method of reacting with the aromatic heterocyclic compound or the aromatic hydrocarbon compound having an electron donating group is not particularly limited.
- a method of mixing an aromatic hydrocarbon compound having an aromatic heterocyclic compound or an electron donating group As a method for mixing the aromatic heterocyclic compound or the aromatic hydrocarbon compound having an electron donor group, for example, an aromatic heterocyclic compound or a reaction product obtained by reacting sulfuryl chloride, N, N-dimethylformamide and sulfuric acid is used. The method of dripping the aromatic hydrocarbon compound which has an electron donor group can be mentioned.
- the ratio of the reaction product obtained by reacting sulfuryl chloride, N, N-dimethylformamide and sulfuric acid is not particularly limited, but an aromatic heterocyclic compound or 1 mol of sulfuryl chloride used in the reaction solution.
- the amount of the aromatic hydrocarbon compound having an electron donating group is preferably from 0.1 to 5.0 mol, more preferably from 0.5 to 1.5 mol. If the ratio of the aromatic heterocyclic compound or the aromatic hydrocarbon compound having an electron donating group is less than 0.05 mol with respect to 1 mol of sulfuryl chloride used in the reaction solution, a by-product may be generated. There is. On the other hand, when the use ratio of the aromatic heterocyclic compound or the aromatic hydrocarbon compound having an electron donating group exceeds 1 mol with respect to 1 mol of sulfuryl chloride used in the reaction solution, the reaction efficiency may decrease. There is.
- a solvent When reacting an aromatic heterocyclic compound or an aromatic hydrocarbon compound having an electron donating group with a reaction product obtained by reacting sulfuryl chloride, N, N-dimethylformamide and sulfuric acid, a solvent is not necessarily used.
- a system solvent can also be used.
- the solvent used include aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, cyclohexane and heptane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene; methyl-tert-butyl ether, diethyl ether, tetrahydrofuran, And ethers such as dioxane.
- toluene is preferably used.
- the amount of the solvent to be used is not particularly limited, but is preferably 3000 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the aromatic heterocyclic compound or the aromatic hydrocarbon compound having an electron donating group, and is 10 to 2000 parts by weight. It is more preferable. When the usage-amount of a solvent exceeds 3000 weight part, there exists a possibility that volumetric efficiency may deteriorate.
- the temperature at which the reaction product obtained by reacting sulfuryl chloride, N, N-dimethylformamide and sulfuric acid with an aromatic heterocyclic compound or an aromatic hydrocarbon compound having an electron donating group is not particularly limited, but is 0 to 180 ° C. 40 to 150 ° C. is more preferable.
- the reaction temperature exceeds 180 ° C. the sulfuryl chloride-N, N-dimethylformamide-sulfuric acid reactant may be decomposed.
- the reaction time varies depending on the reaction temperature, but is, for example, 10 minutes to 5 hours. In addition, it is desirable to carry out in nitrogen atmosphere.
- the aromatic compound sulfonyl chloride compound obtained by the above method can be isolated by a conventionally known separation / purification method.
- the isolation method includes, for example, a method in which a predetermined amount of water is added to the reaction solution after completion of the reaction and the mixture is separated, and the resulting organic layer is cooled and the precipitated crystals are washed and dried.
- the obtained aromatic sulfonyl chloride compound is isolated by, for example, adding a predetermined amount of heptane to the reaction solution after completion of the reaction at 35 ° C. and then cooling and drying the precipitated crystals. You can also
- X is the same as X in formula (1)
- R 1 is the same group as R 1 in formula (1)
- n is the same integer as n in formula (1).
- the compound represented by the formula (3) include furan-2-sulfonyl chloride, 5-chloro-furan-2-sulfonyl chloride, 5-bromo-furan-2-sulfonyl chloride, 5-methyl- Furan-2-sulfonyl chloride, 5-ethyl-furan-2-sulfonyl chloride, 5-propyl-furan-2-sulfonyl chloride, 5-butyl-furan-2-sulfonyl chloride, 5-methoxy-furan-2-sulfonyl chloride 5-ethoxy-furan-2-sulfonyl chloride, 5-propoxy-furan-2-sulfonyl chloride, 5-butoxy-furan-2-sulfonyl chloride, 4-tert-butyl-furan-2-sulfonyl chloride, 4,5 -Dimethyl-furan-2-sulfonyl chloride, , 5-diethyl-furan-2-s, 5-
- Specific compounds represented by the formula (4) include, for example, 1H-indole-2-sulfonyl chloride, 3-chloro-1H-indole-2-sulfonyl chloride, 3-bromo-1H-indole-2 -Sulfonyl chloride, 3-methoxy-1H-indole-2-sulfonyl chloride and the like.
- R 3 is the same group as R 3 in formula (5), and n is the same integer as n in formula (5).
- Specific examples of the compound represented by the formula (7) include 4-methylbenzenesulfonyl chloride, 4-ethylbenzenesulfonyl chloride, 4-methoxybenzenesulfonyl chloride, 4-ethoxybenzenesulfonyl chloride, 4-methylsulfanylbenzenesulfonyl.
- R 3 and R 4 are the same groups as R 3 and R 4 in formula (6), and n and m are the same integers as n and m in formula (6).
- Specific compounds represented by the formula (8) include 4-methoxy-naphthalene-1-sulfonyl chloride, 4-ethoxy-naphthalene-1-sulfonyl chloride, 4-propoxy-naphthalene-1-sulfonyl chloride, 4- Butoxy-naphthalene-1-sulfonyl chloride, 2,3,4-trimethoxy-naphthalene-1-sulfonyl chloride, 2,3,4-triethoxy-naphthalene-1-sulfonyl chloride, 2,3,4-tripropoxy-naphthalene 1-sulfonyl chloride, 2,3,4-tributoxy-naphthalene-1-sulfonyl chloride, 4-methylsulfanyl-naphthalene-1-sulfonyl chloride, 4-ethylsulfanyl-naphthalene-1-sulfanyl chloride, 4-propylsulfanyl-na Talen-1-
- an aromatic sulfonyl chloride compound which is an intermediate for synthesis of pharmaceuticals and the like, can be produced efficiently and with high purity by suppressing the formation of a formyl compound.
- Example 1 A 1 L four-necked flask equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer and a dropping funnel was charged with 73.9 g (1.00 mol) of N, N-dimethylformamide and 135.0 g (1.00 mol) of sulfuryl chloride. Mol) was added dropwise at 25 ° C. over 30 minutes, and then 2.45 g (0.025 mol) of sulfuric acid was added dropwise over 30 minutes, followed by stirring for 1 hour while maintaining the same temperature. Thereafter, the temperature was raised to 70 ° C., and while maintaining the same temperature, 81.5 g (0.5 mol) of 2-bromothiophene was added dropwise over 40 minutes, and the mixture was further stirred at the same temperature for 2 hours.
- the reaction mixture was confirmed by HPLC (high performance liquid chromatography) to be 82.0 area% 5-bromothiophene-2-sulfonyl chloride and 0.0 area% 5-bromothiophenecarbaldehyde.
- HPLC high performance liquid chromatography
- the obtained organic layer was washed twice with 15 g of 15% brine, and then 150 g of heptane was distilled off under reduced pressure to obtain 101.5 g of 5-bromothiophene-2-sulfonyl chloride, yield 78 based on 2-bromothiophene. %.
- Example 2 A 100 mL four-necked flask equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer and a dropping funnel was charged with 12.1 g (0.105 mol) of N, N-dimethylformamide and 20.3 g (0.105 mol) of sulfuryl chloride. Mol) was added dropwise at 25 ° C. over 30 minutes, and then 1.96 g (0.015 mol) of sulfuric acid was added dropwise over 30 minutes. Thereafter, the temperature was raised to 90 ° C., and while maintaining the same temperature, 12.4 g (0.076 mol) of 2-chlorothiophene was added dropwise over 40 minutes, and the mixture was further stirred at the same temperature for 4 hours.
- Example 3 A 100 mL four-necked flask equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer and a dropping funnel was charged with 12.1 g (0.15 mol) of N, N-dimethylformamide and 20.3 g (0.15 mol) of sulfuryl chloride. Mol) was added dropwise at 25 ° C. over 30 minutes, and then 1.96 g (0.02 mol) of sulfuric acid was added dropwise over 30 minutes, followed by stirring for 1 hour while maintaining the same temperature. Thereafter, the temperature was raised to 90 ° C., and 10.8 g (0.1 mol) of anisole was added dropwise over 40 minutes while maintaining the same temperature, and further stirred at the same temperature for 2 hours.
- Example 4 A 100 mL four-necked flask equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer and a dropping funnel was charged with 12.1 g (0.15 mol) of N, N-dimethylformamide and 20.3 g (0.15 mol) of sulfuryl chloride. Mol) was added dropwise at 25 ° C. over 30 minutes, and then 1.96 g (0.02 mol) of sulfuric acid was added dropwise over 30 minutes. Thereafter, the temperature was raised to 90 ° C., and while maintaining the same temperature, 12.4 g (0.1 mol) of thioanisole was added dropwise over 40 minutes, and the mixture was further stirred at the same temperature for 24 hours.
- Comparative Example 2 A 100 mL four-necked flask equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer and a dropping funnel was charged with 12.1 g (0.105 mol) of N, N-dimethylformamide and 20.3 g (0.105 mol) of sulfuryl chloride. Mol) was added dropwise at 25 ° C. over 30 minutes, followed by stirring for 1 hour while maintaining the same temperature. Thereafter, the temperature was raised to 90 ° C., and while maintaining the same temperature, 12.4 g (0.076 mol) of 2-chlorothiophene was added dropwise over 40 minutes, and the mixture was further stirred at the same temperature for 4 hours.
- Comparative Example 3 A 100 mL four-necked flask equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer and a dropping funnel was charged with 12.1 g (0.15 mol) of N, N-dimethylformamide and 20.3 g (0.15 mol) of sulfuryl chloride. Mol) was added dropwise at 25 ° C. over 30 minutes, followed by stirring for 1 hour while maintaining the same temperature. Thereafter, the temperature was raised to 90 ° C., and 10.8 g (0.1 mol) of anisole was added dropwise over 40 minutes while maintaining the same temperature, and further stirred at the same temperature for 2 hours.
- Comparative Example 4 A 100 mL four-necked flask equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer and a dropping funnel was charged with 12.1 g (0.15 mol) of N, N-dimethylformamide and 20.3 g (0.15 mol) of sulfuryl chloride. Mol) was added dropwise at 25 ° C. over 30 minutes. Thereafter, the temperature was raised to 90 ° C., and while maintaining the same temperature, 12.4 g (0.1 mol) of thioanisole was added dropwise over 40 minutes, and the mixture was further stirred at the same temperature for 24 hours.
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
高純度の芳香族スルホニルクロライド化合物を、工業的に容易に効率よく製造することができる方法を提供すること。 塩化スルフリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドおよび硫酸を反応させた反応物に、芳香族複素環化合物または電子供与基を有する芳香族炭化水素化合物を反応させることにより、芳香族スルホニルクロライド化合物を高純度かつ工業的に容易に効率よく製造することができる。
Description
本発明は、医薬品等の合成用中間体として有用な芳香族スルホニルクロライドの製造方法に関する。
医薬等の重要な合成用中間体として使用される芳香族スルホニルクロライドの製造方法としては種々の方法が知られている。
芳香族スルホニルクロライドの製造方法としては、例えば、２－ブロモチオフェンのジメチルホルムアミド溶液に硫酸存在下、チオニルクロライドまたはクロロスルホン酸と反応させて２－ブロモチオフェンスルホン酸としたのち、アルカリ金属塩と反応させ、得られた２－ブロモチオフェンスルホン酸アルカリ金属塩を、チオニルクロライドまたはクロロスルホン酸と反応させる方法（特許文献１）や、１，３－ジアルコキシベンゼンに硫酸を滴下することによりこれをスルホン化して２，４－ジアルコキシベンゼンスルホン酸とし、次いで、炭酸カリウム飽和水溶液を用いて２，４－ジアルコキシベンゼンスルホン酸カリウムとした後、ジメチルホルムアミド中で塩化チオニルを滴下する方法（特許文献２）などが挙げられる。
また、高温条件下にて塩化スルフリル－Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド反応物に芳香族化合物、例えばアニソールを滴下することで７０％程度の収率でアニソール－p－スルホニルクロライドを得ることができることも知られている（非特許文献１）。
Ｔ．Ｋｏｊｔｓｃｈｅｆｆ，Ｆ．ＷＯｌｆ，＆Ｇ．Ｗｏｌｔｅｒ，Ｚ．Ｃｈｅｍ．，６，１４８（１９６６）
特許文献１および２において記載されているように、芳香族スルホニルクロライド化合物の合成法の例としては、芳香族化合物を硫酸等でスルホン化した後、クロロ硫酸、五塩化リンもしくは塩化チオニルにより塩素化する方法が知られているが、当該方法は２段階の反応からなっており、工程が煩雑であるという課題があった。
一方、単一工程からなる、芳香族スルホニルクロライド化合物の簡便かつ容易な製造方法として、非特許文献１に記載されているような塩化スルフリル－Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド反応物と芳香族化合物とを反応させる方法があるが、目的とするスルホニルクロライドの他にジメチルホルムアミド由来のホルミル体が副生するために、収率が低いという問題がある。
上記塩化スルフリル－Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド反応物を用いた反応では、ホルミル化反応とスルホニルクロライド化反応が競争することが知られている。例えば、アントラセンと塩化スルフリル－Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド反応物を反応させるとホルミル化が進行しアントラセン－９－アルデヒドが多く副生する（非特許文献１）。また２－メトキシナフトール、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリンなども同様に、ホルミル化合物が多く副生する。上記反応において、スルホニルクロライド化反応を優先して進行させるためには、高温条件下にて反応させることが必要であるが、それでも、ホルミル化合物の副生を十分に防ぐことはできず、スルホニルクロライドの収率は低下する。
従って、ホルミル化合物の副生を抑制し、スルホニルクロライドを容易かつ効率的に製造する方法が望まれている。
本発明の課題は、高純度の芳香族スルホニルクロライド化合物を、工業的に容易に効率よく製造することができる方法を提供することにある。
本発明者らは前記の点に鑑み、鋭意検討した結果、塩化スルフリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドおよび硫酸を反応させた反応物に、芳香族複素環化合物または電子供与基を有する芳香族炭化水素化合物を反応させることにより、芳香族スルホニルクロライド化合物を高純度かつ工業的に容易に効率よく製造することができる方法を見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、下記の芳香族スルホニルクロライド化合物の製造方法を提供するものである。
（１）塩化スルフリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドおよび硫酸を反応させた反応物に、芳香族複素環化合物または電子供与基を有する芳香族炭化水素化合物を反応させることを特徴とする、芳香族スルホニルクロライド化合物の製造方法、
（２）芳香族複素環化合物が、式（１）又は（２）；
（１）塩化スルフリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドおよび硫酸を反応させた反応物に、芳香族複素環化合物または電子供与基を有する芳香族炭化水素化合物を反応させることを特徴とする、芳香族スルホニルクロライド化合物の製造方法、
（２）芳香族複素環化合物が、式（１）又は（２）；
（式中、ＸはＯ、ＳまたはＮＨを示す。Ｒ１は、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、炭素数１～４のスルファニル基、又は置換基として低級アルキル基を有するアミノ基である。ｎは、０～３の整数であり、ｎ個のＲ１基は同一または異なってよい。ｎが２以上の場合、隣接するＲ１中の２つの炭素原子が互いに連結して環を形成してもよく、その形成した環上に置換基が存在してもよい。）
（式中、ＸはＯ、ＳまたはＮＨを示す。Ｒ１およびＲ２は、同一または異なり、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、炭素数１～４のスルファニル基、又は置換基として低級アルキル基を有するアミノ基である。ｎは、０又は１の整数である。ｍは、０～４の整数であり、ｍ個のＲ２基は同一または異なってよい。）
で表される化合物であり、芳香族スルホニルクロライド化合物が、式（３）又は（４）；
で表される化合物であり、芳香族スルホニルクロライド化合物が、式（３）又は（４）；
（式中、Ｘは式（１）におけるＸと同じであり、Ｒ１は、式（１）におけるＲ１と同じ基であり、ｎは、式（１）におけるｎと同じ整数である。）
（式中、Ｘは式（２）におけるＸと同じであり、Ｒ１およびＲ２は、式（２）におけるＲ１およびＲ２と同じ基である。ｎ、ｍは、式（２）におけるｎ、ｍと同じ整数である。）で表される化合物である前記（１）に記載の芳香族スルホニルクロライド化合物の製造方法、
（３）電子供与基を有する芳香族炭化水素化合物が、式（５）又は（６）；
（３）電子供与基を有する芳香族炭化水素化合物が、式（５）又は（６）；
（式中、Ｒ３は、低級アルキル基、低級アルコキシ基、炭素数１～４のスルファニル基、又は置換基として低級アルキル基を有するアミノ基である。ｎは、１～５の整数であり、ｎ個の基は同一または異なってよい。ｎが２以上の場合、隣接するＲ３中の２つの炭素原子が互いに連結して環を形成してもよく、その形成した環上に置換基が存在してもよい。）
（式中、Ｒ３およびＲ４は、同一または異なり、低級アルキル基、低級アルコキシ基、炭素数１～４のスルファニル基、又は置換基として低級アルキル基を有するアミノ基である。ｎは、１～３の整数であり、ｎ個のＲ３基は同一または異なってよい。ｍは、０～４の整数であり、ｍ個のＲ４基は同一または異なってよい。）
で表される化合物であり、芳香族スルホニルクロライド化合物が、式（７）又は（８）；
で表される化合物であり、芳香族スルホニルクロライド化合物が、式（７）又は（８）；
（式中、Ｒ３は、式（５）におけるＲ３と同じ基であり、ｎは、式（５）におけるｎと同じ整数である。）
（式中、Ｒ３およびＲ４は、式（６）におけるＲ３およびＲ４と同じ基であり、ｎ、ｍは、式（６）におけるｎ、ｍと同じ整数である。）
で表される化合物である前記（１）に記載の芳香族スルホニルクロライド化合物の製造方法。
で表される化合物である前記（１）に記載の芳香族スルホニルクロライド化合物の製造方法。
本発明によれば、医薬品等の合成用中間体である芳香族スルホニルクロライド化合物を、ホルミル化合物の生成を抑制し、効率よく高純度で製造することができる。
本発明は、塩化スルフリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドおよび硫酸を反応させた反応物に、芳香族複素環化合物または電子供与基を有する芳香族炭化水素化合物を反応させることを特徴とする、芳香族スルホニルクロライド化合物の製造方法である。
（原料化合物）
本発明に用いられる芳香族複素環化合物としては、例えば、下記式（１）又は（２）で表される化合物を用いることができる。
本発明に用いられる芳香族複素環化合物としては、例えば、下記式（１）又は（２）で表される化合物を用いることができる。
（式中、ＸはＯ、ＳまたはＮＨを示す。Ｒ１は、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、炭素数１～４のスルファニル基、又は置換基として低級アルキル基を有するアミノ基である。ｎは、０～３の整数であり、ｎ個のＲ１基は同一または異なってよい。ｎが２以上の場合、隣接するＲ１中の２つの炭素原子が互いに連結して環を形成してもよく、その形成した環上に置換基が存在してもよい。）
（式中、ＸはＯ、ＳまたはＮＨを示す。Ｒ１およびＲ２は、同一または異なり、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、炭素数１～４のスルファニル基、又は置換基として低級アルキル基を有するアミノ基である。ｎは、０又は１の整数である。ｍは、０～４の整数であり、ｍ個のＲ２基は同一または異なってよい。）
式（１）および（２）において、Ｒ１で示されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。好ましくは、塩素、臭素である。
Ｒ１で示される低級アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基等の直鎖状または分岐鎖状の炭素数１～４のアルキル基が挙げられる。これらの中で、メチル基が好適に用いられる。
Ｒ１で示される低級アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔ－ブトキシ基等の直鎖状または分岐鎖状の炭素数１～４のアルコキシ基が挙げられる。これらの中で、メトキシ基が好適に用いられる。
Ｒ１で示される炭素数１～４のスルファニル基としては、例えば、メチルスルファニル基、エチルスルファニル基、ｎ－プロピルスルファニル基、イソプロピルスルファニル基、ｎ－ブチルスルファニル基、イソブチルスルファニル基、ｔ－ブチルスルファニル基等が挙げられる。これらの中で、メチルスルファニル基が好適に用いられる。
Ｒ１で示される置換基として低級アルキル基を有するアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ－ｎ－プロピルアミノ基、ジ－イソプロピルアミノ基、ジ－ｎ－ブチルアミノ基、ジイソブチルアミノ基、ジ－ｔ－ブチルアミノ基等の直鎖状または分岐鎖状の炭素数１～４のアルキル基を有するアミノ基が挙げられる。これらの中で、ジメチルアミノ基が好適に用いられる。
式（２）におけるＲ２基の定義は、上記Ｒ１基の定義と同じである。
式（１）において、ＸがＯである場合の具体的な化合物としては、ｎが０の場合、フランが挙げられる。
ｎが１の場合、例えば、
２－クロロ－フラン、２－ブロモ－フラン、３－tert－ブチル－フラン、２－メチル－フラン、２－エチル－フラン、２－プロピル－フラン、２－ブチル－フラン、２－メトキシ－フラン、２－エトキシ－フラン、２－プロポキシ－フラン、２－ブトキシ－フラン等が挙げられる。
２－クロロ－フラン、２－ブロモ－フラン、３－tert－ブチル－フラン、２－メチル－フラン、２－エチル－フラン、２－プロピル－フラン、２－ブチル－フラン、２－メトキシ－フラン、２－エトキシ－フラン、２－プロポキシ－フラン、２－ブトキシ－フラン等が挙げられる。
ｎが２の場合の具体的な化合物としては、例えば
２，３－ジメチルフラン、２，３－ジエチルフラン、２，３－ジプロピルフラン、２，３－ジブチルフラン、２，３－ジメトキシフラン、２，３－ジエトキシフラン、２，３－ジプロポキシフラン、２，３－ジブトキシフラン等が挙げられる。
２，３－ジメチルフラン、２，３－ジエチルフラン、２，３－ジプロピルフラン、２，３－ジブチルフラン、２，３－ジメトキシフラン、２，３－ジエトキシフラン、２，３－ジプロポキシフラン、２，３－ジブトキシフラン等が挙げられる。
ｎが３の場合の具体的な化合物としては、例えば
２，３，４－トリメチルフラン、２，３，４－トリエチルフラン、２，３，４－トリプロピルフラン、２，３，４－トリブチルフラン、２，３，４－トリメトキシフラン、２，３，４－トリエトキシフラン、２，３，４－トリプロポキシフラン、２，３，４－トリブトキシフラン等が挙げられる。
２，３，４－トリメチルフラン、２，３，４－トリエチルフラン、２，３，４－トリプロピルフラン、２，３，４－トリブチルフラン、２，３，４－トリメトキシフラン、２，３，４－トリエトキシフラン、２，３，４－トリプロポキシフラン、２，３，４－トリブトキシフラン等が挙げられる。
ＸがＳである場合の具体的な化合物としては、ｎが０の場合、チオフェンが挙げられる。
ｎが１の場合、例えば、
２－クロロ－チオフェン、２－ブロモ－チオフェン、３－tert－ブチル－チオフェン、２－メチル－チオフェン、２－エチル－チオフェン、２－プロピル－チオフェン、２－ブチル－チオフェン、２－メトキシ－チオフェン、２－エトキシ－チオフェン、２－プロポキシ－チオフェン、２－ブトキシ－チオフェン等が挙げられる。
２－クロロ－チオフェン、２－ブロモ－チオフェン、３－tert－ブチル－チオフェン、２－メチル－チオフェン、２－エチル－チオフェン、２－プロピル－チオフェン、２－ブチル－チオフェン、２－メトキシ－チオフェン、２－エトキシ－チオフェン、２－プロポキシ－チオフェン、２－ブトキシ－チオフェン等が挙げられる。
ｎが２の場合の具体的な化合物としては、例えば
２，３－ジメチルチオフェン、２，３－ジエチルチオフェン、２，３－ジプロピルチオフェン、２，３－ジブチルチオフェン、２，３－ジメトキシチオフェン、２，３－ジエトキシチオフェン、２，３－ジプロポキシチオフェン、２，３－ジブトキシチオフェン等が挙げられる。
２，３－ジメチルチオフェン、２，３－ジエチルチオフェン、２，３－ジプロピルチオフェン、２，３－ジブチルチオフェン、２，３－ジメトキシチオフェン、２，３－ジエトキシチオフェン、２，３－ジプロポキシチオフェン、２，３－ジブトキシチオフェン等が挙げられる。
ｎが３の場合の具体的な化合物としては、例えば
２，３，４－トリメチルチオフェン、２，３，４－トリエチルチオフェン、２，３，４－トリプロピルチオフェン、２，３，４－トリブチルチオフェン、２，３，４－トリメトキシチオフェン、２，３，４－トリエトキシチオフェン、２，３，４－トリプロポキシチオフェン、２，３，４－トリブトキシチオフェン等が挙げられる。
２，３，４－トリメチルチオフェン、２，３，４－トリエチルチオフェン、２，３，４－トリプロピルチオフェン、２，３，４－トリブチルチオフェン、２，３，４－トリメトキシチオフェン、２，３，４－トリエトキシチオフェン、２，３，４－トリプロポキシチオフェン、２，３，４－トリブトキシチオフェン等が挙げられる。
ＸがＮＨである場合の具体的な化合物としては、ｎが０の場合、１Ｈ－ピロールが挙げられる。
ｎが１の場合、例えば、
２－クロロ－１Ｈ－ピロール、２－ブロモ－１Ｈ－ピロール、３－ｔｅｒｔ－ブチル－１Ｈ－ピロール、２－メチル－１Ｈ－ピロール、２－エチル－１Ｈ－ピロール、２－プロピル－１Ｈ－ピロール、２－ブチル－１Ｈ－ピロール、２－メトキシ－１Ｈ－ピロール、２－エトキシ－１Ｈ－ピロール、２－プロポキシ－１Ｈ－ピロール、２－ブトキシ－１Ｈ－ピロール等が挙げられる。
２－クロロ－１Ｈ－ピロール、２－ブロモ－１Ｈ－ピロール、３－ｔｅｒｔ－ブチル－１Ｈ－ピロール、２－メチル－１Ｈ－ピロール、２－エチル－１Ｈ－ピロール、２－プロピル－１Ｈ－ピロール、２－ブチル－１Ｈ－ピロール、２－メトキシ－１Ｈ－ピロール、２－エトキシ－１Ｈ－ピロール、２－プロポキシ－１Ｈ－ピロール、２－ブトキシ－１Ｈ－ピロール等が挙げられる。
ｎが２の場合の具体的な化合物としては、例えば
２，３－ジメチルピロール、２，３－ジエチルピロール、２，３－ジプロピルピロール、２，３－ジブチルピロール、２，３－ジメトキシピロール、２，３－ジエトキシピロール、２，３－ジプロポキシピロール、２，３－ジブトキシピロール等が挙げられる。
２，３－ジメチルピロール、２，３－ジエチルピロール、２，３－ジプロピルピロール、２，３－ジブチルピロール、２，３－ジメトキシピロール、２，３－ジエトキシピロール、２，３－ジプロポキシピロール、２，３－ジブトキシピロール等が挙げられる。
ｎが３の場合の具体的な化合物としては、例えば
２，３，４－トリメチルピロール、２，３，４－トリエチルピロール、２，３，４－トリプロピルピロール、２，３，４－トリブチルピロール、２，３，４－トリメトキシピロール、２，３，４－トリエトキシピロール、２，３，４－トリプロポキシピロール、２，３，４－トリブトキシピロール等が挙げられる。
２，３，４－トリメチルピロール、２，３，４－トリエチルピロール、２，３，４－トリプロピルピロール、２，３，４－トリブチルピロール、２，３，４－トリメトキシピロール、２，３，４－トリエトキシピロール、２，３，４－トリプロポキシピロール、２，３，４－トリブトキシピロール等が挙げられる。
また、式（１）において、ｎが２以上の場合に、隣接するＲ１の２つの炭素原子が互いに連結して環を形成したものとしては、例えば、下記式（９）で表される骨格を有する化合物が挙げられる。
（式中、ＸはＯ、ＳまたはＮＨを示す。Ｒ１およびＲ５は、同一または異なり、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、炭素数１～４のスルファニル基、又は置換基として低級アルキル基を有するアミノ基である。ｎは、０又は１の整数である。ｌは、０～４の整数であり、ｌ個のＲ５は、同一または異なってよい。）
式（９）におけるＲ１基およびＲ５基の定義は、式（１）におけるＲ１基の定義と同じである。
式（９）において、ＸがＯである場合の具体的な化合物としては、ｎが０の場合、４，５，６，７－テトラヒドロベンゾフランが挙げられる。
ｎが１の場合、例えば、３－クロロ－４，５，６，７－テトラヒドロベンゾフラン、３－ブロモ－４，５，６，７－テトラヒドロベンゾフラン、３－メトキシ－４，５，６，７－テトラヒドロベンゾフラン等が挙げられる。
ＸがＳである場合の具体的な化合物としては、ｎが０の場合、４，５，６，７－テトラヒドロベンゾ［ｂ］チオフェンが挙げられる。
ｎが１の場合、例えば、３－クロロ－４，５，６，７－テトラヒドロベンゾ［ｂ］チオフェン、３－ブロモ－４，５，６，７－テトラヒドロベンゾ［ｂ］チオフェン、３－メトキシ－４，５，６，７－テトラヒドロベンゾ［ｂ］チオフェン等が挙げられる。
ＸがＮＨである場合の具体的な化合物としては、ｎが０の場合、４，５，６，７－テトラヒドロ－１Ｈ－インドールが挙げられる。
ｎが１の場合、例えば、３－クロロ－４，５，６，７－テトラヒドロ－１Ｈ－インドール、３－ブロモ－４，５，６，７－テトラヒドロ－１Ｈ－インドール、３－メトキシ－４，５，６，７－テトラヒドロ－１Ｈ－インドール等が挙げられる。
また、式（２）において、ＸがＯである場合の具体的な化合物としては、ｎが０の場合、ベンゾフランが挙げられる。
ｎが１の場合、例えば、３－クロロ－ベンゾフラン、３－ブロモ－ベンゾフラン、３－メトキシ－ベンゾフラン等が挙げられる。
ＸがＳである場合の具体的な化合物としては、ｎが０の場合、ベンゾ［ｂ］チオフェンが挙げられる。
ｎが１の場合、例えば、３－クロロ－ベンゾ［ｂ］チオフェン、３－ブロモ－ベンゾ［ｂ］チオフェン、３－メトキシ－ベンゾ［ｂ］チオフェン等が挙げられる。
ＸがＮＨである場合の具体的な化合物としては、ｎが０の場合、１Ｈ－インドールが挙げられる。
ｎが１の場合、例えば、３－クロロ－１Ｈ－インドール、３－ブロモ－１Ｈ－インドール、３－メトキシ－１Ｈ－インドール等が挙げられる。
さらに、本発明に用いられる電子供与基を有する芳香族炭化水素化合物としては、例えば、下記式（５）又は（６）で表される化合物を用いることができる。
（式中、Ｒ３は、低級アルキル基、低級アルコキシ基、炭素数１～４のスルファニル基、又は置換基として低級アルキル基を有するアミノ基である。ｎは、１～５の整数であり、ｎ個の基は同一または異なってよい。ｎが２以上の場合、隣接するＲ３中の２つの炭素原子が互いに連結して環を形成してもよく、その形成した環上に置換基が存在してもよい。）
（式中、Ｒ３およびＲ４は、同一または異なり、低級アルキル基、低級アルコキシ基、炭素数１～４のスルファニル基、又は置換基として低級アルキル基を有するアミノ基である。ｎは、１～３の整数であり、ｎ個のＲ３基は同一または異なってよい。ｍは、０～４の整数であり、ｍ個のＲ４基は同一または異なってよい。）
式（５）および（６）において、Ｒ３で示される低級アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基等の直鎖状または分岐状の炭素数１～４のアルキル基が挙げられる。これらの中で、メチル基が好適に用いられる。
Ｒ３で示される低級アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔ－ブトキシ基等の直鎖状または分岐状の炭素数１～４のアルコキシ基が挙げられる。これらの中で、メトキシ基が好適に用いられる。
Ｒ３で示される炭素数１～４のスルファニル基としては、例えば、メチルスルファニル基、エチルスルファニル基、ｎ－プロピルスルファニル基、イソプロピルスルファニル基、ｎ－ブチルスルファニル基、イソブチルスルファニル基、ｔ－ブチルスルファニル基等が挙げられる。これらの中で、メチルスルファニル基が好適に用いられる。
Ｒ３で示される置換基として低級アルキル基を有するアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ－ｎ－プロピルアミノ基、ジ－イソプロピルアミノ基、ジ－ｎ－ブチルアミノ基、ジイソブチルアミノ基、ジ－ｔ－ブチルアミノ基等の直鎖状または分岐状の炭素数１～４のアルキル基を有するアミノ基が挙げられる。これらの中で、ジメチルアミノ基が好適に用いられる。
式（６）におけるＲ４基の定義は、上記Ｒ３基の定義と同じである。
式（５）において、ｎが１の場合の具体的な化合物としては、例えば、トルエン、エチルトルエン、メトキシベンゼン、エトキシベンゼン、メチルスルファニルベンゼン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン等が挙げられる。
ｎが２の場合の具体的な化合物としては、例えば、
１，２－ジエチル－ベンゼン、１，４－ジエチル－ベンゼン、１，２－ジメトキシベンゼン、１，２－ジエトキシベンゼン、１，２－ジｎ－プロポキシベンゼン、１，２－ジイソプロポキシベンゼン、１，２－ジｎ－ブトキシベンゼン、１，２－ジｔｅｒｔ－ブトキシベンゼン、１，２－ジイソブトキシベンゼン、１，３－ジメトキシベンゼン、１，３－ジエトキシベンゼン、１，３－ジｎ－プロポキシベンゼン、１，３－ジイソプロポキシベンゼン、１，３－ジｎ－ブトキシベンゼン、１，３－ジｔｅｒｔ－ブトキシベンゼン、１，３－ジイソブトキシベンゼン、１，４－ジメトキシベンゼン、１，４－ジエトキシベンゼン、１，４－ジｎ－プロポキシベンゼン、１，４－ジイソプロポキシベンゼン、１，４－ジｎ－ブトキシベンゼン、１，４－ジｔｅｒｔ－ブトキシベンゼン、１，４－ジイソブトキシベンゼン、１，２－ジメチルスルファニルベンゼン、１，２－ジエチルスルファニルベンゼン、１，２－ジｎ－プロピルスルファニルベンゼン、１，２－ジイソプロピルスルファニルベンゼン、１，２－ジｎ－ブチルスルファニルベンゼン、１，２－ジｔｅｒｔ－ブチルスルファニルベンゼン、１，２－ジイソブチルスルファニルシベンゼン、１，３－ジメチルスルファニルベンゼン、１，３－ジエチルスルファニルベンゼン、１，３－ジｎ－プロピルスルファニルベンゼン、１，３－ジイソプロピルスルファニルベンゼン、１，３－ジｎ－ブチルスルファニルベンゼン、１，３－ジｔｅｒｔ－ブチルスルファニルベンゼン、１，３－ジイソブチルスルファニルベンゼン、１，４－ジメチルスルファニルベンゼン、１，４－ジエチルスルファニルベンゼン、１，４－ジｎ－プロピルスルファニルベンゼン、１，４－ジイソプロピルスルファニルベンゼン、１，４－ジｎ－ブチルスルファニルベンゼン、１，４－ジｔｅｒｔ－ブチルスルファニルベンゼン、１，４－ジイソブチルスルファニルベンゼン等が挙げられる。
１，２－ジエチル－ベンゼン、１，４－ジエチル－ベンゼン、１，２－ジメトキシベンゼン、１，２－ジエトキシベンゼン、１，２－ジｎ－プロポキシベンゼン、１，２－ジイソプロポキシベンゼン、１，２－ジｎ－ブトキシベンゼン、１，２－ジｔｅｒｔ－ブトキシベンゼン、１，２－ジイソブトキシベンゼン、１，３－ジメトキシベンゼン、１，３－ジエトキシベンゼン、１，３－ジｎ－プロポキシベンゼン、１，３－ジイソプロポキシベンゼン、１，３－ジｎ－ブトキシベンゼン、１，３－ジｔｅｒｔ－ブトキシベンゼン、１，３－ジイソブトキシベンゼン、１，４－ジメトキシベンゼン、１，４－ジエトキシベンゼン、１，４－ジｎ－プロポキシベンゼン、１，４－ジイソプロポキシベンゼン、１，４－ジｎ－ブトキシベンゼン、１，４－ジｔｅｒｔ－ブトキシベンゼン、１，４－ジイソブトキシベンゼン、１，２－ジメチルスルファニルベンゼン、１，２－ジエチルスルファニルベンゼン、１，２－ジｎ－プロピルスルファニルベンゼン、１，２－ジイソプロピルスルファニルベンゼン、１，２－ジｎ－ブチルスルファニルベンゼン、１，２－ジｔｅｒｔ－ブチルスルファニルベンゼン、１，２－ジイソブチルスルファニルシベンゼン、１，３－ジメチルスルファニルベンゼン、１，３－ジエチルスルファニルベンゼン、１，３－ジｎ－プロピルスルファニルベンゼン、１，３－ジイソプロピルスルファニルベンゼン、１，３－ジｎ－ブチルスルファニルベンゼン、１，３－ジｔｅｒｔ－ブチルスルファニルベンゼン、１，３－ジイソブチルスルファニルベンゼン、１，４－ジメチルスルファニルベンゼン、１，４－ジエチルスルファニルベンゼン、１，４－ジｎ－プロピルスルファニルベンゼン、１，４－ジイソプロピルスルファニルベンゼン、１，４－ジｎ－ブチルスルファニルベンゼン、１，４－ジｔｅｒｔ－ブチルスルファニルベンゼン、１，４－ジイソブチルスルファニルベンゼン等が挙げられる。
ｎが３の場合の具体的な化合物としては、例えば、１，２，３－トリメチル－ベンゼン、１，２，４－トリメチル－ベンゼン、１，２，３－トリエチル－ベンゼン、１，２，４－トリエチル－ベンゼン、１，２，３－トリメトキシ－ベンゼン、１，２，４－トリメトキシ－ベンゼン、１，２，３－トリエトキシ－ベンゼン、１，２，４－トリエトキシ－ベンゼン、１，２，３－トリプロポキシ－ベンゼン、１，２，４－トリプロポキシ－ベンゼン、１，２，３－トリメチルスルファニル－ベンゼン、１，２，４－トリメチルスルファニル－ベンゼン等が挙げられる。
ｎが４の場合の具体的な化合物としては、例えば、１，２，３，４－テトラメチルベンゼン、１，２，３，４－テトラエチルベンゼン、１，２，３，４－テトラプロピルベンゼン、１，２，３，４－テトラブチルベンゼン、１，２，３，４－テトラメトキシベンゼン、１，２，３，４－テトラエトキシベンゼン、１，２，３，４－テトラプロポキシベンゼン、１，２，３，４－テトラブトキシベンゼン、１，２，３，４－テトラメチルスルファニルベンゼン、１，２，３，４－テトラエチルスルファニルベンゼン、１，２，３，４－テトラプロピルスルファニルベンゼン、１，２，３，４－テトラブチルスルファニルベンゼン等が挙げられる。
ｎが５の場合の具体的な化合物としては、例えば、１，２，３，４，５－ペンタメチルベンゼン、１，２，３，４，５－ペンタエチルベンゼン、１，２，３，４，５－ペンタプロピルベンゼン、１，２，３，４，５－ペンタブチルベンゼン、１，２，３，４，５－ペンタメトキシベンゼン、１，２，３，４，５－ペンタエトキシベンゼン、１，２，３，４，５－ペンタプロポキシベンゼン、１，２，３，４，５－ペンタブトキシベンゼン、１，２，３，４，５－ペンタメチルスルファニルベンゼン、１，２，３，４，５－ペンタエチルスルファニルベンゼン、１，２，３，４，５－ペンタプロピルスルファニルベンゼン、１，２，３，４，５－ペンタブチルスルファニルベンゼン等が挙げられる。
また、式（５）において、ｎが２以上の場合に、隣接するＲ３の２つの炭素原子が互いに連結して環を形成したものとしては、例えば、下記式（１０）で表される骨格を有する化合物が挙げられる。
（式中、Ｒ３およびＲ６は、同一または異なり、低級アルキル基、低級アルコキシ基、炭素数１～４のスルファニル基、又は置換基として低級アルキル基を有するアミノ基である。ｎは、１～３の整数であり、ｎ個のＲ３基は同一または異なってよい。ｌは、０～４の整数であり、ｌ個のＲ６は同一または異なってよい。）
式（１０）におけるＲ３基およびＲ６基の定義は、式（５）におけるＲ３基の定義と同じである。
式（１０）で表される化合物の具体例としては、例えば、
１，２，３，４－テトラヒドロ－ナフタレン、５－メトキシ－１，２，３，４－テトラヒドロ－ナフタレン、５－エトキシ－１，２，３，４－テトラヒドロ－ナフタレン、５－プロポキシ－１，２，３，４－テトラヒドロ－ナフタレン、５－メチルスルファニル－１，２，３，４－テトラヒドロ－ナフタレン、５－エチルスルファニル－１，２，３，４－テトラヒドロ－ナフタレン、５－プロピルスルファニル－１，２，３，４－テトラヒドロ－ナフタレン、ジメチル－（５，６，７，８－テトラヒドロ－ナフタレン－１－イル)－アミン、ジエチル－（５，６，７，８－テトラヒドロ－ナフタレン－１－イル）－アミン、ジプロピル－(５，６，７，８－テトラヒドロ－ナフタレン－１－イル）－アミン、ジブチル－(５，６，７，８－テトラヒドロ－ナフタレン－１－イル)－アミン等が挙げられる。
１，２，３，４－テトラヒドロ－ナフタレン、５－メトキシ－１，２，３，４－テトラヒドロ－ナフタレン、５－エトキシ－１，２，３，４－テトラヒドロ－ナフタレン、５－プロポキシ－１，２，３，４－テトラヒドロ－ナフタレン、５－メチルスルファニル－１，２，３，４－テトラヒドロ－ナフタレン、５－エチルスルファニル－１，２，３，４－テトラヒドロ－ナフタレン、５－プロピルスルファニル－１，２，３，４－テトラヒドロ－ナフタレン、ジメチル－（５，６，７，８－テトラヒドロ－ナフタレン－１－イル)－アミン、ジエチル－（５，６，７，８－テトラヒドロ－ナフタレン－１－イル）－アミン、ジプロピル－(５，６，７，８－テトラヒドロ－ナフタレン－１－イル）－アミン、ジブチル－(５，６，７，８－テトラヒドロ－ナフタレン－１－イル)－アミン等が挙げられる。
また、式（６）において、ｎが１の場合の具体的な化合物としては、例えば、１－メトキシ－ナフタレン、１－エトキシ－ナフタレン、１－プロポキシ－ナフタレン、１－ブトキシ－ナフタレン、１－メチルスルファニル－ナフタレン、１－エチルスルファニル－ナフタレン、１－プロピルスルファニル－ナフタレン、１－ブチルスルファニル－ナフタレン、ジメチル－ナフタレン－１－イル－アミン、ジエチル－ナフタレン－１－イル－アミン、ジプロピル－ナフタレン－１－イル－アミン、ジブチル－ナフタレン－１－イル－アミン等が挙げられる。
ｎが２の場合の具体的な化合物としては、例えば、１，２－ジメトキシ－ナフタレン、１，２－ジエトキシ－ナフタレン、１，２－ジプロポキシ－ナフタレン、１，２－ジブトキシ－ナフタレン、１，２－ジメチルスルファニル－ナフタレン、１，２－ジエチルスルファニル－ナフタレン、１，２－ジプロピルスルファニル－ナフタレン、１，２－ジブチルスルファニル－ナフタレン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′－テトラメチル－ナフタレン－１，２－ジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′－テトラエチル－ナフタレン－１，２－ジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′－テトラプロピル－ナフタレン－１，２－ジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′－テトラブチル－ナフタレン－１，２－ジアミン等が挙げられる。
ｎが３の場合の具体的な化合物としては、例えば、
１，２，３－トリメトキシ－ナフタレン、１，２，３－トリエトキシ－ナフタレン、１，２，３－トリプロポキシ－ナフタレン、１，２，３－トリブトキシ－ナフタレン、１，２，３－トリス－メチルスルファニル－ナフタレン、１，２，３－トリス－エチルスルファニル－ナフタレン、１，２，３－トリス－プロピルスルファニル－ナフタレン、１－ブチルスルファニル－ナフタレン、１，２，３－トリス－ブチルスルファニル－ナフタレン等が挙げられる。
１，２，３－トリメトキシ－ナフタレン、１，２，３－トリエトキシ－ナフタレン、１，２，３－トリプロポキシ－ナフタレン、１，２，３－トリブトキシ－ナフタレン、１，２，３－トリス－メチルスルファニル－ナフタレン、１，２，３－トリス－エチルスルファニル－ナフタレン、１，２，３－トリス－プロピルスルファニル－ナフタレン、１－ブチルスルファニル－ナフタレン、１，２，３－トリス－ブチルスルファニル－ナフタレン等が挙げられる。
（芳香族スルホニルクロライド化合物の製造方法）
本発明の芳香族スルホニルクロライド化合物の製造方法は、塩化スルフリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドおよび硫酸を反応させた反応物に、芳香族複素環化合物または電子供与基を有する芳香族炭化水素化合物を反応させることを特徴とするものである。
本発明の芳香族スルホニルクロライド化合物の製造方法は、塩化スルフリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドおよび硫酸を反応させた反応物に、芳香族複素環化合物または電子供与基を有する芳香族炭化水素化合物を反応させることを特徴とするものである。
本発明の製造方法を実施するに当たっては、まず、塩化スルフリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドおよび硫酸を反応させておくことが必要である。その反応させる順序は問わず、例えば、塩化スルフリルとＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミドとを混合し、次にその混合液に硫酸を混合する方法が挙げられる。当該塩化スルフリルとＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミドの混合方法としては、例えば、無溶媒下、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドに所定量の塩化スルフリルを滴下する方法が挙げられる。塩化スルフリルの使用割合は、特に制限されるものではないが、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド１モルに対して０．１～１．５モルであることが好ましく、０．５～１．２モルであることがより好ましい。塩化スルフリルの使用割合が０．１モル未満である場合は、反応効率が低下するおそれがある。
次に、当該塩化スルフリルとＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミドとを混合した混合液に、硫酸を混合する方法としては、塩化スルフリルとＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミドとを反応させた後、例えば、所定量の硫酸を滴下する方法が挙げられる。硫酸の使用割合は特に制限されるものではないが、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド１モルに対して０．０５～１．０モルであることが好ましく、０．１～０．８モルであることがより好ましい。
上記３成分の反応順序として、いずれか２成分を先に混合し、あとから残りの１成分を混合してもよく、また、３成分を同時に混合してもよい。
塩化スルフリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドおよび硫酸を反応させる際の反応温度は、特に限定されないが、０～１８０℃が好ましく、４０～１５０℃がより好ましい。１８０℃を超えると、反応効率が低下するおそれがある。また反応時間は、反応温度により異なるが、例えば、１０分～５時間である。なお、窒素雰囲気下で行うことが望ましい。
塩化スルフリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドおよび硫酸を反応させる際、溶媒は必ずしも用いる必要はないが、有機系溶媒を用いることもできる。用いる場合の溶媒としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；メチル－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類等が挙げられる。これらの中でも、トルエンが好適に用いられる。
本発明の芳香族スルホニルクロライド化合物は、上記の塩化スルフリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドおよび硫酸を反応させた反応物に、芳香族複素環化合物または電子供与基を有する芳香族炭化水素化合物を反応させることにより得られる。
前記芳香族複素環化合物または電子供与基を有する芳香族炭化水素化合物と反応させる方法は、特に限定されないが、例えば、塩化スルフリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドおよび硫酸を反応させた反応物に、芳香族複素環化合物または電子供与基を有する芳香族炭化水素化合物を混合する方法が挙げられる。当該芳香族複素環化合物または電子供与基を有する芳香族炭化水素化合物の混合方法としては、例えば、塩化スルフリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドおよび硫酸を反応させた反応物に、芳香族複素環化合物または電子供与基を有する芳香族炭化水素化合物を滴下する方法を挙げることができる。
塩化スルフリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドおよび硫酸を反応させた反応物の使用割合は、特に制限されるものではないが、反応液に用いた塩化スルフリル１モルに対して、芳香族複素環化合物または電子供与基を有する芳香族炭化水素化合物が０．１～５．０モルであることが好ましく、０．５～１．５モルであることがより好ましい。反応液に用いた塩化スルフリル１モルに対して、芳香族複素環化合物または電子供与基を有する芳香族炭化水素化合物の使用割合が０．０５モル未満である場合は、副生成物が生成するおそれがある。一方、反応液に用いた塩化スルフリル１モルに対して、芳香族複素環化合物または電子供与基を有する芳香族炭化水素化合物の使用割合が１０．０モルを超える場合は、反応効率が低下するおそれがある。
塩化スルフリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドおよび硫酸を反応させた反応物に、芳香族複素環化合物または電子供与基を有する芳香族炭化水素化合物を反応させる際、溶媒は必ずしも用いる必要はないが、有機系溶媒を用いることもできる。用いる場合の溶媒としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；メチル－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類等が挙げられる。これらの中でも、トルエンが好適に用いられる。
溶媒の使用量は、特に制限されないが、芳香族複素環化合物または電子供与基を有する芳香族炭化水素化合物１００重量部に対して３０００重量部以下であることが好ましく、１０～２０００重量部であることがより好ましい。溶媒の使用量が３０００重量部を超える場合は、容積効率が悪化するおそれがある。
塩化スルフリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドおよび硫酸を反応させた反応物に、芳香族複素環化合物または電子供与基を有する芳香族炭化水素化合物を反応させる温度は、特に限定されないが、０～１８０℃が好ましく、４０～１５０℃がより好ましい。反応温度が１８０℃を超えると、塩化スルフリル－Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド－硫酸反応物が分解するおそれがある。また反応時間は、反応温度により異なるが、例えば、１０分～５時間である。なお、窒素雰囲気下で行うことが望ましい。
上記方法により得られた芳香族化合スルホニルクロライド化合物は、従来公知の分離・精製方法により単離することができる。その単離方法としては、例えば、前記反応終了後の反応液に所定量の水を添加して分液し、得られた有機層を冷却して析出した結晶を洗浄、乾燥する方法が挙げられる。また、得られた芳香族スルホニルクロライド化合物は、例えば、前記反応終了後の反応液に所定量のヘプタンを３５℃にて添加後、冷却することで析出した結晶をろ過、乾燥することにより単離することもできる。
かくして得られる芳香族化合物スルホニルクロライド化合物は、上記式（１）、（２）、（５）および（６）で表される化合物を原料とした場合、それぞれ下記式（３）、（４）、（７）および（８）で表される化合物となる。
（式中、Ｘは式（１）におけるＸと同じであり、Ｒ１は、式（１）におけるＲ１と同じ基であり、ｎは、式（１）におけるｎと同じ整数である。）
式（３）で表される具体的な化合物としては、例えば、フラン－２－スルホニルクロライド、５－クロロ－フラン－２－スルホニルクロライド、５－ブロモ－フラン－２－スルホニルクロライド、５－メチル－フラン－２－スルホニルクロライド、５－エチル－フラン－２－スルホニルクロライド、５－プロピル－フラン－２－スルホニルクロライド、５－ブチル－フラン－２－スルホニルクロライド、５－メトキシ－フラン－２－スルホニルクロライド、５－エトキシ－フラン－２－スルホニルクロライド、５－プロポキシ－フラン－２－スルホニルクロライド、５－ブトキシ－フラン－２－スルホニルクロライド、４－ｔｅｒｔ－ブチル－フラン－２－スルホニルクロライド、４，５－ジメチル－フラン－２－スルホニルクロライド、４，５－ジエチル－フラン－２－スルホニルクロライド、４，５－ジプロピル－フラン－２－スルホニルクロライド、４，５－ジブチル－フラン－２－スルホニルクロライド、４，５－ジメトキシ－フラン－２－スルホニルクロライド、４，５－ジエトキシ－フラン－２－スルホニルクロライド、４，５－ジプロポキシ－フラン－２－スルホニルクロライド、４，５－ジブトキシ－フラン－２－スルホニルクロライド、３，４，５－トリメチル－フラン－２－スルホニルクロライド、３，４，５－トリエチル－フラン－２－スルホニルクロライド、３，４，５－トリプロピル－フラン－２－スルホニルクロライド、３，４，５－トリブチル－フラン－２－スルホニルクロライド、３，４，５－トリメトキシ－フラン－２－スルホニルクロライド、３，４，５－トリエトキシ－フラン－２－スルホニルクロライド、３，４，５－トリプロポキシ－フラン－２－スルホニルクロライド、３，４，５－トリブトキシ－フラン－２－スルホニルクロライド、４，５，６，７－テトラヒドロベンゾフラン－２－スルホニルクロライド、３－クロロ－４，５，６，７－テトラヒドロベンゾフラン－２－スルホニルクロライド、３－ブロモ－４，５，６，７－テトラヒドロベンゾフラン－２－スルホニルクロライド、３－メトキシ－４，５，６，７－テトラヒドロベンゾフラン－２－スルホニルクロライド、チオフェン－２－スルホニルクロライド、５－クロロ－チオフェン－２－スルホニルクロライド、５－ブロモ－チオフェン－２－スルホニルクロライド、４－ｔｅｒｔ－ブチル－チオフェン－２－スルホニルクロライド、５－メトキシ－チオフェン－２－スルホニルクロライド、５－エトキシ－チオフェン－２－スルホニルクロライド、５－プロポキシ－チオフェン－２－スルホニルクロライド、５－ブトキシ－チオフェン－２－スルホニルクロライド、４，５－ジメチル－チオフェン－２－スルホニルクロライド、４，５－ジエチル－チオフェン－２－スルホニルクロライド、４，５－ジプロピル－チオフェン－２－スルホニルクロライド、４，５－ジブチル－チオフェン－２－スルホニルクロライド、４，５－ジメトキシ－チオフェン－２－スルホニルクロライド、４，５－ジエトキシ－チオフェン－２－スルホニルクロライド、４，５－ジプロポキシ－チオフェン－２－スルホニルクロライド、４，５－ジブトキシ－チオフェン－２－スルホニルクロライド、３，４，５－トリメチル－チオフェン－２－スルホニルクロライド、３，４，５－トリエチル－チオフェン－２－スルホニルクロライド、３，４，５－トリプロピル－チオフェン－２－スルホニルクロライド、３，４，５－トリブチル－チオフェン－２－スルホニルクロライド、３，４，５－トリメトキシ－チオフェン－２－スルホニルクロライド、３，４，５－トリエトキシ－チオフェン－２－スルホニルクロライド、３，４，５－トリプロポキシ－チオフェン－２－スルホニルクロライド、３，４，５－トリブトキシ－チオフェン－２－スルホニルクロライド、４，５，６，７－テトラヒドロベンゾ［b］チオフェン－２－スルホニルクロライド、３－クロロ－４，５，６，７－テトラヒドロベンゾ［b］チオフェン－２－スルホニルクロライド、３－ブロモ－４，５，６，７－テトラヒドロベンゾ［b］チオフェン－２－スルホニルクロライド、３－メトキシ－４，５，６，７－テトラヒドロベンゾ［b］チオフェン－２－スルホニルクロライド、１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、５－クロロ－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、５－ブロモ－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、４－ｔｅｒｔ－ブチル－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、５－メチル－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、５－エチル－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、５－プロピル－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、５－ブチル－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、５－メトキシ－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、５－エトキシ－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、５－プロポキシ－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、５－ブトキシ－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、４，５－ジメチル－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、４，５－ジエチル－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、４，５－ジプロピル－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、４，５－ジブチル－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、４，５－ジメトキシ－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、４，５－ジエトキシ－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、４，５－ジプロポキシ－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、４，５－ジブトキシ－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、３，４，５－トリメチル－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、３，４，５－トリエチル－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、３，４，５－トリプロピル－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、３，４，５－トリブチル－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、３，４，５－トリメトキシ－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、３，４，５－トリエトキシ－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、３，４，５－トリプロポキシ－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、３，４，５－トリブトキシ－１Ｈ－ピロール－２－スルホニルクロライド、４，５，６，７－テトラヒドロ－１Ｈ－インドール－２－スルホニルクロライド、３－クロロ－４，５，６，７－テトラヒドロ－１Ｈ－インドール－２－スルホニルクロライド、３－ブロモ－４，５，６，７－テトラヒドロ－１Ｈ－インドール－２－スルホニルクロライド、３－メトキシ－４，５，６，７－テトラヒドロ－１Ｈ－インドール－２－スルホニルクロライド等が挙げられる。
（式中、Ｘは式（２）におけるＸと同じであり、Ｒ１およびＲ２は、式（２）におけるＲ１およびＲ２と同じ基である。ｎ、ｍは、式（２）におけるｎ、ｍと同じ整数である。）
式（４）で表される具体的な化合物としては、例えば、１Ｈ－インドール－２－スルホニルクロライド、３－クロロ－１Ｈ－インドール－２－スルホニルクロライド、３－ブロモ－１Ｈ－インド－ル－２－スルホニルクロライド、３－メトキシ－１Ｈ－インドール－２－スルホニルクロライド等が挙げられる。
（式中、Ｒ３は、式（５）におけるＲ３と同じ基であり、ｎは、式（５）におけるｎと同じ整数である。）
式（７）で表される具体的な化合物としては、例えば、４－メチルベンゼンスルホニルクロライド、４－エチルベンゼンスルホニルクロライド、４－メトキシベンゼンスルホニルクロライド、４－エトキシベンゼンスルホニルクロライド、４－メチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノベンゼンスルホニルクロライド、３，４－ジメチル－ベンゼンスルホニルクロライド、３，４－ジエチル－ベンゼンスルホニルクロライド、２，５－ジエチル－ベンゼンスルホニルクロライド、３，４－ジメトキシベンゼンスルホニルクロライド、３，４－ジエトキシベンゼンスルホニルクロライド、３，４－ジｎ－プロポキシベンゼンスルホニルクロライド、３，４－ジイソプロポキシベンゼンスルホニルクロライド、３，４－ジｎ－ブトキシベンゼンスルホニルクロライド、３，４－ジｔｅｒｔ－ブトキシベンゼンスルホニルクロライド、３，４－ジイソブトキシベンゼンスルホニルクロライド、２，４－ジメトキシベンゼンスルホニルクロライド、２，４－ジエトキシベンゼンスルホニルクロライド、２，４－ジｎ－プロピルオキシベンゼンスルホニルクロライド、２，４－ジイソプロピルオキシベンゼンスルホニルクロライド、２，４－ジｎ－ブチルオキシベンゼンスルホニルクロライド、２，４－ジｔｅｒｔ－ブチルオキシベンゼンスルホニルクロライド、２，４－ジイソブチルオキシベンゼンスルホニルクロライド、メチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、３，４－ジメチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、３，４－ジエチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、３，４－ジｎ－プロピルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、３，４－ジイソプロピルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、３，４－ジｎ－ブチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、３，４－ジｔｅｒｔ－ブチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、３，４－ジイソブチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、２，４－ジメチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、２，４－ジエチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、２，４－ジｎ－プロピルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、２，４－ジイソプロピルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、２，４－ジｎ－ブチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、２，４－ジｔｅｒｔ－ブチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、２，４－ジイソブチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、４－ジメチルアミノ－ベンゼンスルホニルクロライド、４－ジエチルアミノ－ベンゼンスルホニルクロライド、４－ジプロピルアミノ－ベンゼンスルホニルクロライド、４－ジブチルアミノ－ベンゼンスルホニルクロライド、３，４，５－トリメチルベンゼンスルホニルクロライド、２，４，５－トリメチル－ベンゼンスルホニルクロライド、３，４，５－トリエチルベンゼンスルホニルクロライド、２，４，５－トリエチル－ベンゼンスルホニルクロライド、３，４，５－トリメトキシベンゼンスルホニルクロライド、２，４，５－トリメトキシ－ベンゼンスルホニルクロライド、３，４，５－トリエトキシベンゼンスルホニルクロライド、２，４，５－トリエトキシ－ベンゼンスルホニルクロライド、３，４，５－トリプロポキシベンゼンスルホニルクロライド、２，４，５－トリプロポキシベンゼンスルホニルクロライド、３，４，５－トリメチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、２，４，５－トリメチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、２，３，４，５－テトラメチルベンゼンスルホニルクロライド、２，３，４，５－テトラエチルベンゼンスルホニルクロライド、２，３，４，５－テトラプロピルベンゼンスルホニルクロライド、２，３，４，５－テトラブチルベンゼンスルホニルクロライド、２，３，４，５－テトラメトキシベンゼンスルホニルクロライド、２，３，４，５－テトラエトキシベンゼンスルホニルクロライド、２，３，４，５－テトラプロポキシベンゼンスルホニルクロライド、２，３，４，５－テトラブトキシベンゼンスルホニルクロライド、２，３，４，５－テトラメチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、２，３，４，５－テトラエチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、２，３，４，５－テトラプロピルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、２，３，４，５－テトラブチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、２，３，４，５，６－ペンタメチルベンゼンスルホニルクロライド、２，３，４，５，６－ペンタエチルベンゼンスルホニルクロライド、２，３，４，５，６－ペンタプロピルベンゼンスルホニルクロライド、２，３，４，５，６－ペンタブチルベンゼンスルホニルクロライド、２，３，４，５，６－ペンタメトキシベンゼンスルホニルクロライド、２，３，４，５，６－ペンタエトキシベンゼンスルホニルクロライド、２，３，４，５，６－ペンタプロポキシベンゼンスルホニルクロライド、２，３，４，５，６－ペンタブトキシベンゼンスルホニルクロライド、２，３，４，５，６－ペンタメチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、２，３，４，５，６－ペンタエチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、２，３，４，５，６－ペンタプロピルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、２，３，４，５，６－ペンタブチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド、５，６，７，８－テトラヒドロ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、４－メトキシ－５，６，７，８－テトラヒドロ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、４－エトキシ－５，６，７，８－テトラヒドロ－ナフタレン－１－スルホニルクライド、４－プロポキシ－５，６，７，８－テトラヒドロ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、４－メチルスルファニル－５，６，７，８－テトラヒドロ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、４－エチルスルファニル－５，６，７，８－テトラヒドロ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、４－ジメチルアミノ－５，６，７，８－テトラヒドロ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、４－ジエチルアミノ－５，６，７，８－テトラヒドロ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、４－ジプロピル－５，６，７，８－テトラヒドロナフタレン－１－スルホニルクロライド、４－ジブチルアミノ－５，６，７，８－テトラヒドロ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド等が挙げられる。
（式中、Ｒ３およびＲ４は、式（６）におけるＲ３およびＲ４と同じ基であり、ｎ、ｍは、式（６）におけるｎ、ｍと同じ整数である。）
式（８）で表される具体的な化合物としては、４－メトキシ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、４－エトキシ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、４－プロポキシ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、４－ブトキシ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、２，３，４－トリメトキシ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、２，３，４－トリエトキシ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、２，３，４－トリプロポキシ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、２，３，４－トリブトキシ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、４－メチルスルファニル－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、４－エチルスルファニル－ナフタレン－１－スルファニルクロライド、４－プロピルスルファニル－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、４－ブチルスルファニル－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、３，４－ジメトキシ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、３，４－ジエトキシ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、３，４－ジプロポキシ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、３，４－ジブトキシ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、３，４－ジメチルスルファニル－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、３，４－ジエチルスルファニル－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、３，４－ジプロピルスルファニル－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、３，４－ジブチルスルファニル－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、３，４－ビス－ジメチルアミノ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、３，４－ビス－ジエチルアミノ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、３，４－ビス－ジプロピルアミノ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、３，４－ビス－ジブチルアミノ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、２，３，４－トリス－メチルスルファニル－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、２，３，４－トリス－エチルスルファニル－ナフタレン－１－スルファニルクロライド、２，３，４－トリス－プロピルスルファニル－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、２，３，４－トリス－ブチルスルファニル－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、４－ジメチルアミノ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、４－ジエチルアミノ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、４－ジプロピルアミノ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド、４－ジブチルアミノ－ナフタレン－１－スルホニルクロライド等が挙げられる。
以上のとおり、本発明によれば、医薬品等の合成用中間体である芳香族スルホニルクロライド化合物を、ホルミル化合物の生成を抑制し、効率よく高純度で製造することができる。
以下に実施例および比較例を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明は、この実施例によってなんら限定されるものではない。
実施例１
撹拌機、冷却管、温度計および滴下ロートを備え付けた１Ｌ容の４つ口フラスコに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド７３．９ｇ（１．００モル）を仕込み、塩化スルフリル１３５．０ｇ（１．００モル）を２５℃で３０分かけて滴下した後、続いて硫酸２．４５ｇ（０．０２５モル）を３０分かけて滴下した後、同温度に維持しながら１時間撹拌した。その後、７０℃まで昇温し、同温度に維持しながら、２－ブロモチオフェンを８１．５ｇ（０．５モル）を４０分かけて滴下し、さらに同温度にて２時間撹拌した。反応終了後、ＨＰＬＣ（高速液体クロマトグラフィー）にて、５－ブロモチオフェン－２－スルホニルクロライド８２．０面積％、５－ブロモチオフェンカルバルデヒド０．０面積％であることを確認した後、反応液を２５℃まで冷却し、ヘプタン１５０ｇおよび水５０ｇを添加して分液した。得られた有機層を１５％食塩水１５ｇで２回洗浄した後、減圧下ヘプタン１５０ｇを留去することで５－ブロモチオフェン－２－スルホニルクロライドを１０１．５ｇ、２－ブロモチオフェンに対する収率７８％で得た。
撹拌機、冷却管、温度計および滴下ロートを備え付けた１Ｌ容の４つ口フラスコに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド７３．９ｇ（１．００モル）を仕込み、塩化スルフリル１３５．０ｇ（１．００モル）を２５℃で３０分かけて滴下した後、続いて硫酸２．４５ｇ（０．０２５モル）を３０分かけて滴下した後、同温度に維持しながら１時間撹拌した。その後、７０℃まで昇温し、同温度に維持しながら、２－ブロモチオフェンを８１．５ｇ（０．５モル）を４０分かけて滴下し、さらに同温度にて２時間撹拌した。反応終了後、ＨＰＬＣ（高速液体クロマトグラフィー）にて、５－ブロモチオフェン－２－スルホニルクロライド８２．０面積％、５－ブロモチオフェンカルバルデヒド０．０面積％であることを確認した後、反応液を２５℃まで冷却し、ヘプタン１５０ｇおよび水５０ｇを添加して分液した。得られた有機層を１５％食塩水１５ｇで２回洗浄した後、減圧下ヘプタン１５０ｇを留去することで５－ブロモチオフェン－２－スルホニルクロライドを１０１．５ｇ、２－ブロモチオフェンに対する収率７８％で得た。
実施例２
撹拌機、冷却管、温度計および滴下ロートを備え付けた１００ｍＬ容の４つ口フラスコに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド１２．１ｇ（０．１０５モル）を仕込み、塩化スルフリル２０．３ｇ（０．１０５モル）を２５℃で３０分かけて滴下した後、続いて硫酸１．９６ｇ（０．０１５モル）を３０分かけて滴下した。その後、９０℃まで昇温し、同温度に維持しながら、２－クロロチオフェン１２．４ｇ（０．０７６モル）を４０分かけて滴下し、さらに同温度にて４時間撹拌した。その後、ＬＣ（液体クロマトグラフィー）にて測定を行い、５－クロロチオフェン－２－スルホニルクロライド８２．３面積％、５－クロロチオフェン－２－カルバルデヒド０．７面積％であることを確認した。反応液を２５℃まで冷し、トルエン１７ｇおよび水８ｇを滴下して分液した。得られた有機層を１５％食塩水８ｇで２回洗浄した後、減圧下トルエン１７ｇを留去し、５－クロロチオフェン－２－スルホニルクロライドを１５．２ｇ、２－クロロチオフェンに対する収率９２％で得た。
撹拌機、冷却管、温度計および滴下ロートを備え付けた１００ｍＬ容の４つ口フラスコに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド１２．１ｇ（０．１０５モル）を仕込み、塩化スルフリル２０．３ｇ（０．１０５モル）を２５℃で３０分かけて滴下した後、続いて硫酸１．９６ｇ（０．０１５モル）を３０分かけて滴下した。その後、９０℃まで昇温し、同温度に維持しながら、２－クロロチオフェン１２．４ｇ（０．０７６モル）を４０分かけて滴下し、さらに同温度にて４時間撹拌した。その後、ＬＣ（液体クロマトグラフィー）にて測定を行い、５－クロロチオフェン－２－スルホニルクロライド８２．３面積％、５－クロロチオフェン－２－カルバルデヒド０．７面積％であることを確認した。反応液を２５℃まで冷し、トルエン１７ｇおよび水８ｇを滴下して分液した。得られた有機層を１５％食塩水８ｇで２回洗浄した後、減圧下トルエン１７ｇを留去し、５－クロロチオフェン－２－スルホニルクロライドを１５．２ｇ、２－クロロチオフェンに対する収率９２％で得た。
実施例３
撹拌機、冷却管、温度計および滴下ロートを備え付けた１００ｍＬ容の４つ口フラスコに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド１２．１ｇ（０．１５モル）を仕込み、塩化スルフリル２０．３ｇ（０．１５モル）を２５℃で３０分かけて滴下した後、続いて硫酸１．９６ｇ（０．０２モル）を３０分かけて滴下した後、同温度に維持しながら１時間撹拌した。その後、９０℃まで昇温し、同温度に維持しながら、アニソールを１０．８ｇ（０．１モル）を４０分かけて滴下し、さらに同温度にて２時間撹拌した。その後、ＬＣ（液体クロマトグラフィー）にて測定を行い、４－メトキシベンゼンスルホニルクロライド９７．２面積％、４－メトキシベンゼンカルバルデヒド０．６面積％であることを確認した。反応液を２５℃まで冷却し、トルエン２３ｇおよび水１０ｇを添加して分液した。得られた有機層を１５％食塩水１０ｇで２回洗浄した後、減圧下トルエン２２ｇを留去し、４－メトキシベンゼンスルホニルクロライドを１８．２ｇ、アニソールに対する収率８８％で得た。
撹拌機、冷却管、温度計および滴下ロートを備え付けた１００ｍＬ容の４つ口フラスコに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド１２．１ｇ（０．１５モル）を仕込み、塩化スルフリル２０．３ｇ（０．１５モル）を２５℃で３０分かけて滴下した後、続いて硫酸１．９６ｇ（０．０２モル）を３０分かけて滴下した後、同温度に維持しながら１時間撹拌した。その後、９０℃まで昇温し、同温度に維持しながら、アニソールを１０．８ｇ（０．１モル）を４０分かけて滴下し、さらに同温度にて２時間撹拌した。その後、ＬＣ（液体クロマトグラフィー）にて測定を行い、４－メトキシベンゼンスルホニルクロライド９７．２面積％、４－メトキシベンゼンカルバルデヒド０．６面積％であることを確認した。反応液を２５℃まで冷却し、トルエン２３ｇおよび水１０ｇを添加して分液した。得られた有機層を１５％食塩水１０ｇで２回洗浄した後、減圧下トルエン２２ｇを留去し、４－メトキシベンゼンスルホニルクロライドを１８．２ｇ、アニソールに対する収率８８％で得た。
実施例４
撹拌機、冷却管、温度計および滴下ロートを備え付けた１００ｍＬ容の４つ口フラスコに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド１２．１ｇ（０．１５モル）を仕込み、塩化スルフリル２０．３ｇ（０．１５モル）を２５℃で３０分かけて滴下した後、続いて硫酸１．９６ｇ（０．０２モル）を３０分かけて滴下した。その後、９０℃まで昇温し、同温度に維持しながら、チオアニソールを１２．４ｇ（０．１モル）を４０分かけて滴下し、さらに同温度にて２４時間撹拌した。その後、ＬＣ（液体クロマトグラフィー）にて測定を行い、４－メチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド６４．３面積％、４－メチルスルファニルベンゼンカルバルデヒド０．６面積％であることを確認した。反応液を２５℃まで冷却し、トルエン２５ｇおよび水１０ｇを滴下して分液した。得られた有機層を１５％食塩水１０ｇで２回洗浄した後、減圧下トルエン２４ｇを留去し、４－メチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライドを１２．０ｇ、チオアニソールに対する収率５４％で得た。
撹拌機、冷却管、温度計および滴下ロートを備え付けた１００ｍＬ容の４つ口フラスコに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド１２．１ｇ（０．１５モル）を仕込み、塩化スルフリル２０．３ｇ（０．１５モル）を２５℃で３０分かけて滴下した後、続いて硫酸１．９６ｇ（０．０２モル）を３０分かけて滴下した。その後、９０℃まで昇温し、同温度に維持しながら、チオアニソールを１２．４ｇ（０．１モル）を４０分かけて滴下し、さらに同温度にて２４時間撹拌した。その後、ＬＣ（液体クロマトグラフィー）にて測定を行い、４－メチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド６４．３面積％、４－メチルスルファニルベンゼンカルバルデヒド０．６面積％であることを確認した。反応液を２５℃まで冷却し、トルエン２５ｇおよび水１０ｇを滴下して分液した。得られた有機層を１５％食塩水１０ｇで２回洗浄した後、減圧下トルエン２４ｇを留去し、４－メチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライドを１２．０ｇ、チオアニソールに対する収率５４％で得た。
比較例１
まず、撹拌機、冷却管、温度計および滴下ロートを備え付けた１００ｍＬ容の４つ口フラスコに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド１４．６ｇ（０．１モル）を仕込み、塩化スルフリル２６．９９ｇ（０．１モル）を２５℃で３０分かけて滴下した後、同温度に維持しながら１時間撹拌した。その後、７０℃まで昇温し、同温度に維持しながら、２－ブロモチオフェンを８．１５ｇ（０．０５モル）を４０分かけて滴下し、さらに同温度にて２時間撹拌した。反応終了後、５－ブロモチオフェン－２－スルホニルクロライド８０．０面積％、５－ブロモチオフェンカルバルデヒド５．０面積％であることを確認した後、反応液を２５℃まで冷却し、ヘプタン１５ｇおよび水５ｇを添加して分液した。得られた有機層を１５％食塩水１．５ｇで２回洗浄した後、減圧下ヘプタン１５ｇを留去することで５－ブロモチオフェン－２－スルホニルクロライドを９．０ｇ、２－ブロモチオフェンに対する収率６９％で得た。
まず、撹拌機、冷却管、温度計および滴下ロートを備え付けた１００ｍＬ容の４つ口フラスコに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド１４．６ｇ（０．１モル）を仕込み、塩化スルフリル２６．９９ｇ（０．１モル）を２５℃で３０分かけて滴下した後、同温度に維持しながら１時間撹拌した。その後、７０℃まで昇温し、同温度に維持しながら、２－ブロモチオフェンを８．１５ｇ（０．０５モル）を４０分かけて滴下し、さらに同温度にて２時間撹拌した。反応終了後、５－ブロモチオフェン－２－スルホニルクロライド８０．０面積％、５－ブロモチオフェンカルバルデヒド５．０面積％であることを確認した後、反応液を２５℃まで冷却し、ヘプタン１５ｇおよび水５ｇを添加して分液した。得られた有機層を１５％食塩水１．５ｇで２回洗浄した後、減圧下ヘプタン１５ｇを留去することで５－ブロモチオフェン－２－スルホニルクロライドを９．０ｇ、２－ブロモチオフェンに対する収率６９％で得た。
比較例２
撹拌機、冷却管、温度計および滴下ロートを備え付けた１００ｍＬ容の４つ口フラスコに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド１２．１ｇ（０．１０５モル）を仕込み、塩化スルフリル２０．３ｇ（０．１０５モル）を２５℃で３０分かけて滴下した後、同温度に維持しながら一時間撹拌した。その後、９０℃まで昇温し、同温度に維持しながら、２－クロロチオフェン１２．４ｇ（０．０７６モル）を４０分かけて滴下し、さらに同温度にて４時間撹拌した。その後、ＬＣ（液体クロマトグラフィー）にて測定を行い、５－クロロチオフェン－２－スルホニルクロライド７８．９面積％、５－クロロチオフェン－２－カルバルデヒド１１．６面積％であることを確認した。反応液を２５℃まで冷し、トルエン１７ｇおよび水８ｇを滴下して分液した。得られた有機層を１５％食塩水８ｇで２回洗浄した後、減圧下トルエン１６ｇを留去し、５－クロロチオフェン－２－スルホニルクロライドを１３．７ｇ、２－クロロチオフェンに対する収率８３％で得た。
撹拌機、冷却管、温度計および滴下ロートを備え付けた１００ｍＬ容の４つ口フラスコに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド１２．１ｇ（０．１０５モル）を仕込み、塩化スルフリル２０．３ｇ（０．１０５モル）を２５℃で３０分かけて滴下した後、同温度に維持しながら一時間撹拌した。その後、９０℃まで昇温し、同温度に維持しながら、２－クロロチオフェン１２．４ｇ（０．０７６モル）を４０分かけて滴下し、さらに同温度にて４時間撹拌した。その後、ＬＣ（液体クロマトグラフィー）にて測定を行い、５－クロロチオフェン－２－スルホニルクロライド７８．９面積％、５－クロロチオフェン－２－カルバルデヒド１１．６面積％であることを確認した。反応液を２５℃まで冷し、トルエン１７ｇおよび水８ｇを滴下して分液した。得られた有機層を１５％食塩水８ｇで２回洗浄した後、減圧下トルエン１６ｇを留去し、５－クロロチオフェン－２－スルホニルクロライドを１３．７ｇ、２－クロロチオフェンに対する収率８３％で得た。
比較例３
撹拌機、冷却管、温度計および滴下ロートを備え付けた１００ｍＬ容の４つ口フラスコに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド１２．１ｇ（０．１５モル）を仕込み、塩化スルフリル２０．３ｇ（０．１５モル）を２５℃で３０分かけて滴下した後、同温度に維持しながら１時間撹拌した。その後、９０℃まで昇温し、同温度に維持しながら、アニソールを１０．８ｇ（０．１モル）を４０分かけて滴下し、さらに同温度にて２時間撹拌した。その後、ＬＣ（液体クロマトグラフィー）にて測定を行い、４－メトキシベンゼンスルホニルクロライド８７．８面積％、４－メトキシベンゼンカルバルデヒド７．９面積％であることを確認した。反応液を２５℃まで冷却し、トルエン２５ｇおよび水１０ｇを添加して分液した。得られた有機層を１５％食塩水１０ｇで２回洗浄した後、減圧下トルエン２３ｇを留去し、４－メトキシベンゼンスルホニルクロライドを１４．９ｇ、アニソールに対する収率７２％で得た。
撹拌機、冷却管、温度計および滴下ロートを備え付けた１００ｍＬ容の４つ口フラスコに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド１２．１ｇ（０．１５モル）を仕込み、塩化スルフリル２０．３ｇ（０．１５モル）を２５℃で３０分かけて滴下した後、同温度に維持しながら１時間撹拌した。その後、９０℃まで昇温し、同温度に維持しながら、アニソールを１０．８ｇ（０．１モル）を４０分かけて滴下し、さらに同温度にて２時間撹拌した。その後、ＬＣ（液体クロマトグラフィー）にて測定を行い、４－メトキシベンゼンスルホニルクロライド８７．８面積％、４－メトキシベンゼンカルバルデヒド７．９面積％であることを確認した。反応液を２５℃まで冷却し、トルエン２５ｇおよび水１０ｇを添加して分液した。得られた有機層を１５％食塩水１０ｇで２回洗浄した後、減圧下トルエン２３ｇを留去し、４－メトキシベンゼンスルホニルクロライドを１４．９ｇ、アニソールに対する収率７２％で得た。
比較例４
撹拌機、冷却管、温度計および滴下ロートを備え付けた１００ｍＬ容の４つ口フラスコに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド１２．１ｇ（０．１５モル）を仕込み、塩化スルフリル２０．３ｇ（０．１５モル）を２５℃で３０分かけて滴下した。その後、９０℃まで昇温し、同温度に維持しながら、チオアニソールを１２．４ｇ（０．１モル）を４０分かけて滴下し、さらに同温度にて２４時間撹拌した。その後、ＬＣ（液体クロマトグラフィー）にて測定を行い、４－メチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド４２．５面積％、４－メチルスルファニルベンゼンカルバルデヒド２．１面積％であることを確認した。反応液を２５℃まで冷却し、トルエン２５ｇおよび水１０ｇを滴下して分液した。得られた有機層を１５％食塩水１０ｇで２回洗浄した後、減圧下トルエン２４ｇを留去し、４－メチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライドを９．３ｇ、チオアニソールに対する収率４２％で得た。
撹拌機、冷却管、温度計および滴下ロートを備え付けた１００ｍＬ容の４つ口フラスコに、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド１２．１ｇ（０．１５モル）を仕込み、塩化スルフリル２０．３ｇ（０．１５モル）を２５℃で３０分かけて滴下した。その後、９０℃まで昇温し、同温度に維持しながら、チオアニソールを１２．４ｇ（０．１モル）を４０分かけて滴下し、さらに同温度にて２４時間撹拌した。その後、ＬＣ（液体クロマトグラフィー）にて測定を行い、４－メチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライド４２．５面積％、４－メチルスルファニルベンゼンカルバルデヒド２．１面積％であることを確認した。反応液を２５℃まで冷却し、トルエン２５ｇおよび水１０ｇを滴下して分液した。得られた有機層を１５％食塩水１０ｇで２回洗浄した後、減圧下トルエン２４ｇを留去し、４－メチルスルファニルベンゼンスルホニルクロライドを９．３ｇ、チオアニソールに対する収率４２％で得た。
Claims (3)
- 塩化スルフリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドおよび硫酸を反応させた反応物に、芳香族複素環化合物または電子供与基を有する芳香族炭化水素化合物を反応させることを特徴とする、芳香族スルホニルクロライド化合物の製造方法。
- 芳香族複素環化合物が、式（１）又は（２）；
で表される化合物であり、芳香族スルホニルクロライド化合物が、式（３）又は（４）；
- 電子供与基を有する芳香族炭化水素化合物が、式（５）又は（６）；
で表される化合物であり、芳香族スルホニルクロライド化合物が、式（７）又は（８）；
で表される化合物である請求項１に記載の芳香族スルホニルクロライド化合物の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009259869 | 2009-11-13 | ||
| JP2009-259869 | 2009-11-13 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| WO2011058915A1 true WO2011058915A1 (ja) | 2011-05-19 |
Family
ID=43991574
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PCT/JP2010/069559 WO2011058915A1 (ja) | 2009-11-13 | 2010-11-04 | 芳香族スルホニルクロライド化合物の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| TW (1) | TW201125857A (ja) |
| WO (1) | WO2011058915A1 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04128266A (ja) * | 1988-08-24 | 1992-04-28 | Mochida Pharmaceut Co Ltd | ヒダントイン誘導体及びそれを有効成分とする医薬組成物 |
| US20050234046A1 (en) * | 2004-04-07 | 2005-10-20 | Kalypsys, Inc. | Aryl sulfonamide and sulfonyl compounds as modulators of PPAR and methods of treating metabolic disorders |
| JP2008535887A (ja) * | 2005-04-11 | 2008-09-04 | グラクソ グループ リミテッド | 第Ｘａ因子阻害剤としての３−スルホニルアミノ−ピロリジン−２−オン誘導体 |
-
2010
- 2010-11-04 WO PCT/JP2010/069559 patent/WO2011058915A1/ja active Application Filing
- 2010-11-10 TW TW99138644A patent/TW201125857A/zh unknown
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04128266A (ja) * | 1988-08-24 | 1992-04-28 | Mochida Pharmaceut Co Ltd | ヒダントイン誘導体及びそれを有効成分とする医薬組成物 |
| US20050234046A1 (en) * | 2004-04-07 | 2005-10-20 | Kalypsys, Inc. | Aryl sulfonamide and sulfonyl compounds as modulators of PPAR and methods of treating metabolic disorders |
| JP2008535887A (ja) * | 2005-04-11 | 2008-09-04 | グラクソ グループ リミテッド | 第Ｘａ因子阻害剤としての３−スルホニルアミノ−ピロリジン−２−オン誘導体 |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| HIROYUKI KAGEYAMA ET AL.: "Sulfonyl chloride as a disposable electron withdrawing substituent in halex fluorinations", JOURNAL OF FLUORINE CHEMISTRY, vol. 101, 2000, pages 85 - 89, XP004244500, DOI: doi:10.1016/S0022-1139(99)00195-5 * |
| T. KOJTSCHEFF ET AL.: "Zur Reaktionsfahigkeit von Saureamid-Saurechlorid-Komplexen auf Basi Dimethylformamid und Sulfurylchlorid", ZEITSCHRIFT FUER CHEMIE, vol. 6, 1966, pages 148 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW201125857A (en) | 2011-08-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Kumar et al. | Potassium tert-butoxide-mediated synthesis of unsymmetrical diaryl ethers, sulfides and selenides from aryl bromides | |
| Skillinghaug et al. | Synthesis of sodium aryl sulfinates from aryl bromides employing 1, 4-diazabicyclo [2.2. 2] octane bis (sulfur dioxide) adduct (DABSO) as a bench-stable, gas-free alternative to SO2 | |
| Liao et al. | One-pot synthesis of thioesters with sodium thiosulfate as a sulfur surrogate under transition metal-free conditions | |
| JP3337728B2 (ja) | ２‐アセチルベンゾ［ｂ］チオフェンの製造方法 | |
| CN105384668B (zh) | 用于制备醚化合物的方法 | |
| KR20170066429A (ko) | 1-(3,5-디클로로-4-플루오로-페닐)-2,2,2-트리플루오로-에타논의 제조 방법 | |
| WO2011058915A1 (ja) | 芳香族スルホニルクロライド化合物の製造方法 | |
| CN1332944C (zh) | 氨基酸促进的CuI催化的芳基卤化物和烃基亚磺酸盐的偶联反应 | |
| JP6399257B1 (ja) | １，２，３，５，６−ペンタチエパンの製造方法 | |
| CN115490622A (zh) | 一种三氟甲基苯硫酚化合物 | |
| CN104860856A (zh) | 一种无碱绿色合成异硫氰酸酯的方法 | |
| US20130005992A1 (en) | Method for producing optically active n-monoalkyl-3-hydroxy-3-arylpropylamine compound | |
| US6376716B1 (en) | Process for the preparation of aromatic sulfur compounds | |
| JP2010235453A (ja) | 白金錯体の製造方法 | |
| US5608080A (en) | Process for production of 2-substituted benzo[b]thiophene | |
| KR20170066428A (ko) | 5-브로모-1,2,3-트리클로로벤젠의 제조 방법 | |
| CN108997180A (zh) | 一种一锅法合成取代二苯硫醚的方法 | |
| JP6261111B2 (ja) | アレーンスルホンアミドの還元方法及びアレーンスルホン酸の製法 | |
| JP2010260805A (ja) | イソチアゾール誘導体を製造する方法 | |
| CN117715888A (zh) | 用于制备(2,2,2-三氟乙基)硫基苯胺衍生物的方法 | |
| KR101860327B1 (ko) | 아릴 티올의 단일-단계 합성방법 및 이의 응용 | |
| US4978796A (en) | N-alkylpyrrolidone solvents for preparation of aromatic thiols | |
| CN104788474B (zh) | 一种三氮唑苯并噻嗪酮稠杂环的合成方法 | |
| JP4475901B2 (ja) | ３−アセチルチオフェン類の製造方法 | |
| ES2297350T3 (es) | Nuevos derivados de 3,3-dimetil-5ciano-benzoxepina utiles para la preparacion de derivados de 5-formil-benzoxepina. |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 10829874 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
| NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
| 122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 10829874 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
| NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: JP |