WO2011037061A1 - フィルムミラー、反射装置 - Google Patents

Abstract

　軽量かつ柔軟性があり、フィルムミラー端面から光反射層が劣化することにより生じるミラー反射率の低下を低減するとともに、生産効率やメンテナンス性に優れたフィルムミラー及び反射装置を提供するため、樹脂基材上に光反射層を有するフィルムミラーであって、前記光反射層上に、劣化防止層を有し、前記フィルムミラーの何れか一方の幅が、前記フィルムミラーの反射及び集光に使用する曝射面の幅よりも長いことを特徴とするフィルムミラー。

Description

フィルムミラー、反射装置

　本発明は、フィルムミラー、反射装置に関する。

　近年、環境問題への関心が高くなると共に、太陽光を活用しようとする動きが活発になってきている。太陽光を活用する際には、太陽光を反射したり集光したりするためのミラーが通常よく用いられる。例えば、高層ビルにより太陽光を遮られてしまった低層の建物へ太陽光を当てるための採光ミラーや、建物の内部へ太陽光を導入するために用いられる光ダクト内部の反射ミラー等を例として挙げることが出来る。上記のようなミラーとしては、運搬、設置の際の取り扱いを容易にするために軽量で割れにくいミラーであること、採光量を確保するという観点から、大面積化や大量生産が可能なミラーであること、設置場所の形状とミラーの形状を合わせることの出来る柔軟性のあるミラーであること、更には、屋外で使用したり、太陽光を反射するという観点から耐光性及び耐候性に優れたミラーであることが要求されている。

　一般に、よく用いられる光反射率が高いミラーとしては、透明なガラス基板の片面に銀を蒸着又はめっきによる析出によって銀薄膜を形成したガラス製のミラーが知られている。しかし、ガラス製のミラーは、破損し易く、それにより鋭いエッジが露出することから、常に取り扱いに細心の注意が必要である。更に、ガラス基板はあまり薄いと製造時の取り扱いが困難であるため、ある程度の厚みが必要である。このため、特に大型品では質量が著しく増大し、その運搬、設置等に特別の配慮が必要となる。

　このため、破損による怪我の危険や取り扱いの困難性を考慮して、樹脂を基材としたミラーが考えられている。ミラーの基材を樹脂で構成した場合、基材をガラスで構成した場合に比べ、軽量且つ製造コストを安価にすることが可能となる。又、樹脂はフィルム状への加工が容易なために非常に柔軟性のあるミラーにすることが可能となる。

　しかし、一般に樹脂はガラスに比べ透湿度が高く、ガラスでは問題にならなかった光反射層の劣化が問題となってしまう。特に、すべての波長に対して均等に反射率の高い銀を用いた光反射層は、耐湿性が乏しいため、長期間の使用により酸化が進み黒く変色して反射率が低下してしまうという問題があった。このような光反射層の耐久性の問題に対し、特許文献１に記載のプラスチック樹脂上に光反射層を設けたミラーでは、光反射層の上に酸化アルミニウムや酸化ジルコニウム、二酸化ケイ素などの劣化防止層を設け、光反射層の耐久性の向上を図っている（特許文献１参照）。

特開２０００－２４１６１２号公報

　しかしながら、特許文献１に記載のミラーでは、光反射層の劣化の問題を十分に解決出来ておらず、ミラーの端面から光反射層が劣化し、反射率が低下してしまうという問題を有していた。太陽光を反射する目的でミラーを使用する場合、ミラーを屋外で使用することが多い。屋外で使用する場合、ミラーが風雨に曝されることになり、そのような厳しい環境化では、ミラー端面から光反射層が劣化し、反射率が低下するという問題はより顕著となる。

　ミラー端面からの光反射層の劣化を防止するために、光反射層よりも大きな面積を有する樹脂基材と劣化防止層とで、光反射層を封止する方法が考えられる。しかし、この方法では、特許文献１に記載のような円形又は矩形のミラーを枚葉で供給する場合、ミラーの光反射層を１枚ずつ封止する必要が生じるため、生産性が悪いという問題があった。

　一方、生産効率を向上させるために、ミラーの基材である樹脂の特性を活かし、樹脂基材をロールｔｏロール方式などにより連続的に製造するとともに、光反射層を帯状樹脂基材上に連続的に形成することで、生産効率を向上させることが考えられる。しかしながら、特許文献１に記載のような円形又は矩形のミラーを枚葉で供給する場合、光反射層を形成した帯状樹脂基材の製造方向と直角に交わる方向で切断し、矩形のミラーとする必要が生じる。又、円形のミラーを枚葉で供給する場合、光反射層を形成した帯状樹脂基材から円形に打ち抜き、円形のミラーとする必要がある。その際、切断面から光反射層が露出するため、切断面から光反射層が劣化してしまうという問題があった。

　切断面からの光反射層の露出を防ぐために、光反射層を成層する際に、あらかじめ光反射層が形成されない箇所を樹脂基材にパターニングし、パターニングされた箇所を切断面とする方法が考えられる。しかし、この場合、特許文献１に記載のような矩形のミラーを枚葉で供給する場合、１枚ごとにパターニングする必要があるため、連続生産が出来ず、生産効率が悪いという問題があった。

　又、光反射層の劣化に起因した反射率の低下の他に、ミラーの表面に傷が付いたり、異物が付着することによっても、ミラーの反射率の低下を招いてしまう。特に、ミラーを屋外で使用する場合、砂などの衝突によりミラーの表面に傷が付いたり、砂や埃などの異物が付着することにより、ミラーの反射率が低下するという問題は特に顕著となる。砂や埃が付着し固着するメカニズムは、鏡表面が結露することが原因の１つと考えられており、屋外に設置している場合は昼夜の温度差から結露しやすい環境にある。特許文献１に記載のミラーでは、反射や集光に利用するミラーの面積とミラー本体の面積が同じ円形のミラーになっている。そのため、ミラーの反射率が低下した場合、高い反射率を維持するためには、ミラー自体を交換する必要がある。そのため、ミラーのメンテナンスに手間が掛かるという問題もあった。

　そこで、本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、軽量かつ柔軟性があり、フィルムミラーの端面から光反射層が劣化することにより生じるミラー反射率の低下を低減すると共に、生産効率やメンテナンス性に優れたフィルムミラー及び反射装置を提供することである。

　請求項１に記載のフィルムミラーは、樹脂基材上に光反射層を有するフィルムミラーであって、前記光反射層上に、劣化防止層を有し、前記フィルムミラーの何れか一方の幅が、前記フィルムミラーの反射及び集光に使用するミラー面の曝射する面の幅よりも長いことを特徴とする。

　ミラーの基材に樹脂を用いていることにより、ミラーの基材にガラスを用いた場合に比べて軽量で、かつ衝撃による破損の心配が少なく、運搬や設置の取り扱いを容易にし、大面積化が可能となる。又、ミラーの基材に樹脂を用いることにより、非常に柔軟性のあるフィルムミラーとすることが出来る。そのため、自由に曲げたり、ロール状にしたりすることが出来る。

　光反射層上に劣化防止層を有することにより、光反射層の劣化を低減することが出来、高い反射率を維持することが可能となる。又、砂などの衝突に対して、耐傷性を向上させることが可能となる。

　フィルムミラーの何れか一方の幅が、フィルムミラーの反射及び集光に使用するミラー面の曝射する面の幅よりも長くなっている。そのため、長辺方向に対して直交する方向のフィルムミラーの端面から光反射層が劣化したとしても、曝射面へ与える劣化の影響を小さくすることが出来、フィルムミラーの反射率の低下を抑制することが出来る。よって、長辺方向に対して直交する方向に、樹脂基材上に光反射層が形成されない箇所をパターニングする必要がなくなる。つまり、長辺方向をフィルムミラーの製造方向とした場合、フィルムミラーの製造方向に対して直交する方向にパターニングをする必要がなくなる。そのため、フィルムミラーの基材に樹脂を用いてロールｔｏロール方式などによりフィルムミラーを生産する場合に、連続生産することが出来、生産効率を向上させることが出来る。

　更に、フィルムミラーの何れか一方の幅を、フィルムミラーの反射及び集光に使用するミラー面の曝射する面の幅よりも長くすることにより、傷や汚れによってフィルムミラーの反射率が低下した場合、使用していない別のミラー面を曝射面とすることにより、高い反射率を維持することが可能となる。又、フィルムミラー自体を交換する頻度を少なくすることが出来、メンテナンス性に優れたフィルムミラーを提供することが可能となる。

　請求項２に記載のフィルムミラーは、請求項１に記載の発明であって、前記フィルムミラーの何れか一方の幅が、前記フィルムミラーの反射及び集光に使用するミラー面の曝射する面の幅の２倍以上の長さを有することを特徴とする。

　請求項３に記載のフィルムミラーは、請求項１又は２に記載の発明であって、前記フィルムミラーの長辺側の両端部の両端面が、ガスバリア性を有する劣化防止層で覆われていることを特徴とする。

　フィルムミラーの幅が長辺側の両端部の両端面がガスバリア性を有する劣化防止層で覆われていることにより、フィルムミラーの長辺側の方向をフィルムミラーの製造方向とした場合、フィルムミラーの生産効率の低減を抑制することが出来る。又、フィルムミラーの長辺側の端部の両端面から光反射層が劣化するのを防止することが可能となる。

　請求項４に記載のフィルムミラーは、請求項１から３の何れか１項に記載の発明であって、前記フィルムミラーのミラー層の短辺側の両端部の両端面が、ガスバリア性を有する劣化防止層で覆われていることを特徴とする。

　フィルムミラーのミラー層の短辺側の両端部の両端面が、ガスバリア性を有する劣化防止層で覆われていることにより、フィルムミラーのミラー層の短辺側の端部の端面から光反射層が劣化するのを防止することが可能となる。

　請求項５に記載のフィルムミラーは、請求項１から４の何れか１項に記載の発明であって、前記光反射層をＡｇで構成したことを特徴とする。

　光反射層をＡｇで構成することにより、非常に高い反射率を得ることが可能となる。

　請求項６に記載のフィルムミラーは、請求項１から５の何れか１項に記載の発明であって、前記樹脂基材が、セルロースを主成分とするバイオナノファイバーを含有することを特徴とする。

　樹脂基材が、セルロースを主成分とするバイオナノファイバーを含有することにより、樹脂基材の熱による膨張差を小さくすることが出来るので、光反射層や劣化防止層のクラックの発生を防止することが可能となる。特に、フィルムミラーを屋外で使用する場合、外気の熱により樹脂基材が膨張するため、本発明の効果が顕著となる。

　請求項７に記載のフィルムミラーは、請求項１から６の何れか１項に記載の発明であって、太陽光を反射することを特徴とする。

　請求項８に記載のフィルムミラーは、請求項１から７の何れか１項に記載の発明であって、屋外で使用することを特徴とする。

　フィルムミラーを屋外で使用する場合、フィルムミラーが風雨に曝されることになり、そのような厳しい環境化では、空気中に含まれる硫化物、塩化物等により、ミラー端面から光反射層が劣化し、反射率が低下するという問題が顕著となるため、本発明の効果がよりいっそう顕著となる。又、フィルムミラーを屋外で使用することにより、屋内でフィルムミラーを使用する場合に比べ、より直接的に太陽光をフィルムミラーのミラー面の曝射する面に当てることが出来るため、より効率良く太陽光を反射及び集光することが可能となる。

　請求項９に記載のフィルムミラーは、請求項１から８の何れか１項に記載の発明であって、前記フィルムミラーの反射及び集光のため使用するミラー面の曝射する面を曝射終了後、連続している新規の曝射する面に変えることを特徴とする。

　フィルムミラーの反射及び集光のため使用するミラー面の曝射する面を曝射終了後、連続している新規のミラー面に変えることにより、傷や汚れによって曝射した面の反射率が低下した場合、使用していない別のミラー面を曝射することで、高い反射率を維持することが可能となる。又、フィルムミラー自体を交換する頻度を少なくすることが出来、メンテナンス性に優れたフィルムミラーを提供することが可能となる。

　請求項１０に記載の反射装置は、請求項１から９の何れか１項に記載のフィルムミラーを搭載したことを特徴とする。

　請求項１１に記載の反射装置は、請求項１０に記載の発明であって、前記フィルムミラーを搬送する搬送部を有することを特徴とする。

　フィルムミラーを搬送する搬送部を有することにより、反射及び集光に利用しているミラー面の反射率が低下した場合において、ミラー面の曝射する面を変えることが可能となるので、ミラー反射率の低下を防止することが可能となる。

　請求項１２に記載の反射装置は、請求項１０又は請求項１１に記載の発明であって、前記フィルムミラーの反射及び集光のためミラー面の曝射する面を、曝射終了後、連続している新規の曝射する面に移動し変えることを特徴とする。

　フィルムミラーの反射及び集光のためミラー面の曝射する面を移動させて変更することにより、傷や汚れによって曝射したミラー面の反射率が低下した場合、使用していない別のミラー面を曝射する面とすることで、高い反射率を維持することが可能となる。又、フィルムミラー自体を交換する頻度を少なくすることが出来、メンテナンス性に優れた反射体を提供することが可能となる。

　請求項１３に記載の反射体は、請求項１０から１２の何れか１項に記載の発明であって、項前記フィルムミラーを保持する保持部を有することを特徴とする。

　フィルムミラーを保持する保持部を有することにより、フィルムミラーのミラー面の曝射する面が風などの影響によって、揺らぐのを抑制することが出来るため、フィルムミラーの反射率の低下を防止することが可能となる。特に、屋外環境化では、風の影響が大きいため、本発明の効果が顕著となる。

　請求項１４に記載の反射装置は、請求項１０から１３の何れか１項に記載の発明であって、前記フィルムミラーのミラー面を清掃する清掃部を有することを特徴とする。

　フィルムミラーのミラー面を清掃する清掃部を有することにより、フィルムミラーのミラー面に付着した砂や埃などを除去することが出来るため、フィルムミラーの反射率の低下を防止することが可能となる。そのため、一度利用したミラー面であっても、清掃部によりフィルムミラー反射率を改善させることで、繰り返し同じフィルムミラー面を利用することが可能となり、フィルムミラー本体の取替えの頻度を少なくすることが可能となる。

　本発明によれば、軽量かつ柔軟性があり、フィルムミラーの端面から光反射層が劣化することにより生じるミラー反射率の低下を低減するとともに、生産効率やメンテナンス性に優れたフィルムミラー及び反射体を提供することが出来た。

本発明のフィルムミラーの一例を示す概略平面図である。 図１に示すフィルムミラーのＡ－Ａ′に沿った概略断面図である。 図２（ｃ）に示すフィルムミラーの製造工程の概略フロー図である。 下地層が形成された樹脂フィルムの下地層の上に無電解金属めっき法で金属薄膜層を形成する概略工程フロー図である。 図５は反射装置の概略図である。 図５のＢ－Ｂ′に沿った概略断面図である。 図５に示す反射装置の筐体に収納されている他の形態のフィルムミラーの概略斜視図である。 フィルムミラーのミラー面を清掃する清掃部を有する反射装置の概略斜視図である。 ミラー面に異物拡散手段を設けたフィルムミラーを使用した反射装置の概略斜視図である。

　本発明に係る実施の形態を図１から図９を参照して説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。

　図１は本発明のフィルムミラーの一例を示す概略平面図である。

　図中、１は帯状のフィルムミラーを示す。１１はフィルムミラー１のミラー面を示す。１２は帯状のフィルムミラー１の長辺側の端部を示す。１３はフィルムミラー１の他方の長辺側の端部を示す。１４は帯状のフィルムミラー１の短辺側の端部を示す。１５はフィルムミラー１の他方の短辺側の端部を示す。

　１６はフィルムミラー１において光を反射又は集光するために曝射されるミラー面１１の曝射する面を示す。フィルムミラー１は、フィルムミラー１の何れか一方の幅が、フィルムミラー１の曝射する面１６の幅（縦方向及び横方向の幅）よりも長くなっている。フィルムミラー１の何れか一方の幅が、フィルムミラー１の曝射する面１６の幅よりも長いとは、例えば本図に示される様な状態をいう。

　本発明のフィルムミラーの何れか一方の幅とは、フィルムミラーの長辺側、短辺側の何れかの幅のことを言う。

　本図に示す様に、フィルムミラー１の何れか一方の幅を、フィルムミラー１の曝射する面１６の幅よりも長くすることにより、傷や汚れによって曝射する面１６の反射率が低下した場合、使用していない別のミラー面１１を曝射する面とすることにより、高い反射率を維持することが可能となる。又、フィルムミラー自体を交換する頻度を少なくすることが出来、メンテナンス性に優れたフィルムミラーを提供することが可能となる。更に、図１に示す様に、フィルムミラー１の何れか一方の幅を、フィルムミラー１の曝射する面１６の幅よりも長くすることにより、フィルムミラー１の端部１２、端部１３、端部１４及び端部１５からミラー面１１が劣化したとしても、曝射する面へ与える劣化の影響を小さくすることが出来、ミラーの反射率の低下を抑制することが出来る。

　好ましくは、フィルムミラー１の何れか一方の幅は、腐食の影響で別の面に使用面を変更すること、表面汚れ、内側の腐食等を考慮し、フィルムミラー１の曝射する面１６の幅の２倍以上の長さを有することが好ましい。更には、５倍から５０倍が好ましい。

　フィルムミラーの長辺側の両端部の両端面が、ガスバリア性を有することが好ましい。これにより、両端面から光反射層が劣化するのを防止することが可能となる。フィルムミラーの幅が長くなっている方向をフィルムミラーの製造方向とした場合、ロールｔｏロールで連続的にガスバリア層を蒸着、又は塗布することが可能になる。フィルムミラーの生産効率の低減を抑制することが出来る。

　又、フィルムミラーの短辺側の両端部の両端面が、ガスバリア性を有することが好ましい。これにより、フィルムミラーの短辺側の両端部の両端面から光反射層が劣化するのを防止することが可能となる。

　図２は図１に示すフィルムミラーのＡ－Ａ′に沿った概略断面図である。図２（ａ）は本発明のフィルムミラーの基本的構成を示す図１に示すフィルムミラーのＡ－Ａ′に沿った概略断面図である。図２（ｂ）は下地層と反射層との間に金属薄膜層を有する本発明のフィルムミラーの構成を示す図１に示すフィルムミラーのＡ－Ａ′に沿った概略断面図である。図２（ｃ）はフィルムミラーのミラー面の端部がガスバリア性を有する劣化防止層で覆われているフィルムミラーの一例を示す図１に示すフィルムミラーのＡ－Ａ′に沿った概略断面図である。

　図２（ａ）に示されるフィルムミラーについて説明する。

　図中、１ａはフィルムミラーを示す。フィルムミラー１ａは、樹脂基材１０１（以下、樹脂フィルムともいう。）上にミラー層１０２を有している。ミラー層１０２は、光反射層１０２ａと、光反射層１０２ａ上に劣化防止層１０２ｂを積層した構成となっている。

　図２（ｂ）に示されるフィルムミラーについて説明する。

　図中、１ａ′はフィルムミラーを示す。フィルムミラー１ａ′は、樹脂フィルム１０１′上に、下地層１０２′とミラー層１０３′とを有している。ミラー層１０３′は、金属薄膜層１０３′ａと、光反射層１０３′ｂと、劣化防止層１０３′ｃとを順次有する構成となっている。

　図２（ｃ）に示されるフィルムミラーについて説明する。

　図中、１ａ″はフィルムミラーを示す。フィルムミラー１ａ″は、樹脂フィルム１０１″上に、下地層１０２″と、ミラー層１０３″を有している。ミラー層１０３″は、金属薄膜層１０３″ａと、光反射層１０３″ｂと、劣化防止層１０３″ｃとを順次有する構成となっている。劣化防層１０３″ｃは下地層１０２″と、金属薄膜層１０３″ａと、光反射層１０３″ｂの端面（図１に示すフィルムミラー１の長辺側の端部１２、１３の端面）を覆う様に形成されている。

　尚、図１に示すフィルムミラー１の短辺側の端部１４、１５の端面も本図と同様に劣化防層で被覆されている。

　図２（ａ）から図２（ｃ）に示す様な構成の中で、図２（ｃ）に示す様な構成が好ましい。図２（ｃ）に示す様な構成とすることで、フィルムミラーが外気に曝された時、ミラー層が空気中の水蒸気や酸素、及び紫外線に曝露され、下地層１０２″ａの劣化及び金属薄膜層１０２″ｂと、光反射層１０２″ｃの劣化を防止することが可能となる。劣化防止層１０２″ｄにはガスバリア性と紫外線遮断性との機能を有することが好ましい。

　フィルムミラーの端面にガスバリア性を持たせるためには、種々の公知の手段を採り得るが、後述する無機ガスバリア層を設ける、又は、当該フィルムミラーの端面を構成する樹脂等の素材にガスバリア性の素材用いる等の手段を採ることが好ましい。又、紫外線遮断性を持たせるためには、後述する紫外線遮断層を設けることが好ましい。

　尚、「ガスバリア性」とは、酸素透過度が１００（ｍｌ／ｍ^２／ｄａｙ／ａｔｍ）以下、水蒸気透過度が、温度４０℃、相対湿度９０％において、１００（ｇ／ｍ^２／ｄａｙ）以下であることをいう。

　酸素透過度は、ＯＸＴＲＡＮ（ＭＯＣＯＮ社製）により測定した値を示す。

　水蒸気透過度は、ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ（ＭＯＣＯＮ社製）により測定した値を示す。

　本発明は、図１及び図２に示されるフィルムミラー及びこのフィルムミラーを用いた反射装置に関するものである。

　以下に、図２に示されるフィルムミラーを構成している樹脂基材、下地層、金属薄膜層、光反射層、劣化防止層について説明する。

　（樹脂基材）
　樹脂基材としては、従来公地の種々の樹脂フィルムを用いることが出来る。例えば、セルロースエステル系樹脂フィルム、ポリエステル系樹脂フィルム、ポリカーボネート系樹脂フィルム、ポリアリレート系樹脂フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂フィルム、ポリエチレン樹脂フィルム、ポリプロピレン樹脂フィルム、セロファン、セルロースジアセテート樹脂フィルム、セルローストリアセテート樹脂フィルム、セルロースアセテートプロピオネート樹脂フィルム、セルロースアセテートブチレート樹脂フィルム、ポリ塩化ビニリデ樹脂ンフィルム、ポリビニルアルコール樹脂フィルム、エチレンビニルアルコール樹脂フィルム、シンジオタクティックポリスチレン系樹脂フィルム、ポリカーボネート樹脂フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテン樹脂フィルム、ポリエーテルケトン樹脂フィルム、ポリエーテルケトンイミド樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロン樹脂フィルム、ポリメチルメタクリレート樹脂フィルム、アクリル樹脂フィルム等を挙げることが出来る。中でも、ポリカーボネート系樹脂フィルム、ポリエステル系樹脂フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系樹脂フィルムが好ましい。

　特にポリエステル系樹脂フィルム、セルロースエステル系樹脂フィルムを用いることが好ましく、溶融流延製膜で製造された樹脂フィルムであっても、溶液流延製膜で製造された樹脂フィルムであってもよい。

　又、樹脂基材として、セルロースなどを主成分としたバイオナノファイバーを樹脂中に分散させた複合材料を用いることも出来る。セルロースなどを主成分としたバイオナノファイバーを樹脂中に分散させた複合材料を用いた場合、単一の樹脂材料を用いる場合に比べ、外気の熱に起因して発生する樹脂基材の膨張を小さくすることが出来る。そのため、樹脂基材上に設けた光反射層や劣化防止層のクラックを防止することが可能となる。

　当該樹脂基材の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、１０μｍから３００μｍの範囲内である。好ましくは２０μｍから２００μｍ、更に好ましくは３０μｍから１００μｍである。

　又、樹脂基材としては、ロールｔｏロール法に使用可能な巻き取りが出来る樹脂フィルムが好ましい。

　（下地層）
　本発明のフィルムミラーにおいては、高分子フィルム基材と反射層との密着性を向上させる観点から、高分子フィルム基材と反射層間に下地層を設けることが好ましい。

　本発明のフィルムミラーに係る下地層に使用する樹脂では、上記密着性の他、耐熱性及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独、又はこれらの混合樹脂が使用出来、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、更にイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。

　本発明において、下地層の厚さは、密着性、平滑性、反射層の反射率等を考慮し、０．０１μｍから３μｍが好ましく、より好ましくは０．１μｍから１μｍである。

　下地層は、導電性高分子微粒子を含有することが好ましい。導電性高分子微粒子を含有する下地層を設けることにより、樹脂基材とミラー層の密着性を改善させることが出来、ミラー層の剥離による反射率の低下を防止することが可能となる。以下、導電性高分子微粒子及び下地層の形成方法について説明する。

　〈導電性高分子微粒子〉
　導電性高分子微粒子の製造方法としては、特開２００８－１６３３７１号公報に記載の内容のように公知の技術を用いることが出来る。有機溶媒と水とアニオン系界面活性剤とを混合撹拌してなるＯ／Ｗ型の乳化液中に、π－共役二重結合を有するモノマーを添加し、当該モノマーを酸化重合することにより製造される。

　π－共役二重結合を有するモノマー及びアニオン系界面活性剤としては、ピロール、アニリン、チオフェン及び３，４－エチレンジオキシチオフェン等が挙げられ、より好ましくはピロールが挙げられる。

　反応系中でのアニオン系界面活性剤の量は、分散安定性、導電性の湿度依存性等を考慮し、π－共役二重結合を有するモノマー１ｍｏｌに対し０．２ｍｏｌ未満であることが好ましく、更に好ましくは０．０５ｍｏｌから０．１５ｍｏｌである。前記製造において乳化液の有機相を形成する有機溶媒は疎水性であることが好ましい。なかでも、芳香族系の有機溶媒であるトルエンやキシレンは、Ｏ／Ｗ型エマルションの安定性及びモノマーとの親和性の観点から好ましい。両性溶媒でもπ－共役二重結合を有するモノマーの重合を行うことは出来るが、生成した導電性高分子微粒子を回収する際の有機相と水相との分離が困難になる。

　反応系中での酸化剤の量は、モノマーの重合度、分散安定性等を考慮し、π－共役二重結合を有するモノマー１ｍｏｌに対して０．１ｍｏｌから０．８ｍｏｌであることが好ましく、更に好ましくは０．２ｍｏｌから０．６ｍｏｌである。

　導電性高分子微粒子の製造方法は、例えば以下のような工程を有する製造工程で行われる：（ａ）アニオン系界面活性剤、有機溶媒及び水を混合攪拌し乳化液を調製する工程、（ｂ）π－共役二重結合を有するモノマーを乳化液中に分散させる工程、（ｃ）モノマーを酸化重合しアニオン系界面活性剤にポリマー微粒子を接触吸着させる工程、（ｄ）有機相を分液し導電性高分子微粒子を回収する工程。

　前記各工程は、当業者に既知である手段を利用して行うことが出来る。例えば、乳化液の調製時に行う混合攪拌は、特に限定されないが、例えばマグネットスターラー、攪拌機、ホモジナイザー等を適宜選択して行うことが出来る。又、重合温度は、反応速度を考慮し、０℃から２５℃が好ましい。更に、好ましくは２０℃以下である。

　酸化重合反応が停止されると、反応系は有機相と水相の二相に分かれるが、この際に未反応のモノマー、酸化剤及び塩は水相中に溶解して残存する。ここで、有機相を分液回収し、イオン交換水で数回洗浄すると、有機溶媒に分散した導電性高分子微粒子を入手することが出来る。

　上記の製造法により得られる導電性高分子微粒子は、主としてπ－共役二重結合を有するモノマー誘導体よりなり、そしてアニオン系界面活性剤を含む微粒子である。そしてその特徴は、微細な粒径と、有機溶媒中で分散可能であることである。

　導電性高分子微粒子は球形の微粒子となるが、その平均粒径は、光散乱を考慮し、１０ｎｍから１００ｎｍとするのが好ましい。

　導電性高分子微粒子を上記のように平均粒径の小さな微粒子にすることで、導電性高分子微粒子の表面積が極めて大きくなり、同一質量の導電性高分子微粒子でも、より多くの触媒金属を吸着出来るようになり、それにより下地層形成用塗膜層の薄膜化が可能となる。

　こうして得られた有機溶媒に分散した状態の導電性高分子微粒子は、濃縮して、又は乾燥させて塗料の導電性高分子微粒子成分として使用することが出来る。

　濃縮する方法としては、導電性高分子微粒子に影響を及ぼさなければ特に限定はなく、例えば減圧、加熱等が挙げられる。

　乾燥する方法としては、導電性高分子微粒子に影響を及ぼさなければ特に限定はなく、例えば減圧、加熱等が挙げられる。

　又、上記のようにして製造された導電性高分子微粒子でなくとも、例えば、市販で入手出来る導電性高分子微粒子を下地層形成用塗料の成分として使用することも出来る。

　（金属薄膜層）
　本発明のフィルムミラーは、光反射層と下地層との間に、少なくとも一層の金属薄膜層を有することが好ましい。金属薄膜層は、光反射層の防蝕を主目的として設けられる。このため、金属薄膜層を形成する金属としては、光反射層に銀を用いた場合、銀の酸化、硫化、塩化等を考慮し、銀よりも標準電極電位が卑であることが求められ、０．６Ｖ未満が好ましく、更に好ましくは０．４Ｖ未満である。金属薄膜層を形成する金属としては、例えば、銅、ニッケル、亜鉛、クロム、鉛、スズ、コバルト等が好ましい。

　尚、金属が、その金属イオンを一定濃度含んだ電解質と接するときの金属が示す電位を標準電極電位と呼び、電位が低い金属ほど陽極的となりイオンとなって溶出及び腐食しやすい。別に「イオン化傾向」という言葉があるが、これは標準電極電位の大きさの順である。以下に金属薄膜層を形成する金属のイオン化傾向を示す。

　卑←Ｋ，Ｎａ，Ｍｇ，Ａｌ，Ｚｎ，Ｃｒ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｓｎ，（Ｈ），Ｃｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ａｕ→貴
　貴：標準電極電位の値として大きい、卑：標準電極電位の値として小さい
　ここで注意する点は、上記の順列は純粋な金属単体に関して成り立っているという点である。つまり、我々の周りに存在している金属は、特に「卑」な金属である程、酸化などの表面変化を受けやすく金属最表面は変化していると考えられ、酸化皮膜で覆われているといえる。

　この時、逆にＡｌなどの「卑」な金属の中には化学変化に安定な酸化不動態膜を最表面に形成すると言われる。不動態とは、金属表面に腐食作用に抵抗する酸化被膜が生じた状態のことであり、この被膜は溶液や酸にさらされても溶け去ることが無いため、内部の金属を腐食から保護するために用いられる。

　しかし、全ての金属が不動態となるわけではない。不動態になり易いのは、アルミニウム、ニッケル、鉄、コバルト、クロム、チタン、タンタル、ニオブなどやその合金である。

　金属薄膜層は、無電解めっき法、塗布法、蒸着法、又はスパッタ法により形成することが好ましい。特に、光反射層と同様に、無電解めっき法によることが好ましい。

　（光反射層）
　光反射層とは、可視光及び赤外光を反射する金属から構成された層のことをいう。又、光反射層は、樹脂基材上つまり、樹脂基材に対して光線入射側に形成されている。そのため、光線による樹脂基材の劣化を防止することが可能となる。

　光反射層は、銀を含有することが好ましい。銀を用いることにより、３８０ｎｍ以上の波長の光に対して、アルミニウムよりも高い反射率を得ることが出来る。

　光反射層に銀を用いる場合、基本的には、銀単体であることが望ましいが、その性質に害を及ぼさない程度の金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、パラジウムなどの金属不純物が含まれても良い。

　（劣化防止層）
　本発明のフィルムミラーは、光反射層上に劣化防止層を有している。ここで、劣化防止層とは、光反射層や樹脂基材の劣化を防止するための層のことをいう。劣化防止層は、無機ガスバリア層、又は、無機酸化物層の少なくともどちらか一方の層から構成されている。好ましくは、無機ガスバリア層と無機酸化物層の両方から構成されていることが好ましい。又、劣化防止層は、紫外線遮断層を有していても良い。以下において、無機ガスバリア層、無機酸化物層、紫外線遮断層、保護コーティング層について説明する。

　（無機ガスバリア層）
　無機ガスバリア層とは、無機材料で構成されるガス分子の透過を抑制しうる緻密な構造の薄膜であり、例えば、金属化合物からなる薄膜（金属化合物薄膜）が挙げられる。

　無機ガスバリア層の形成方法は、目的の薄膜を形成出来る方法であればいかなる方法でも用いることが出来る。形成方法としては、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法などが適しており、具体的には特許登録第３４００３２４号、特開２００２－３２２５６１号、特開２００２－３６１７７４号各公報記載の形成方法を採用することが出来る。

　無機ガスバリア層に含まれる成分は、上記性能を満たすものであれば特に限定されないが、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｃｅ及びＴａ等からなる群から選ばれる１種以上の金属を含む酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物などを用いることが出来る。好ましくは、Ｓｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ及びＺｎからなる群から選ばれた少なくとも１つ以上の金属から選ばれる。

　又、２層以上の無機ガスバリア層は、各々が同じ組成であってもよいし、異なる組成であってもよく、特に制限はされない。

　又、無機ガスバリア層としては、ガスバリア性と高透明性とを両立させることが出来る、珪素酸化物や珪素窒化物又は珪素酸化窒化物を用いるのが好ましい。無機ガスバリア層として珪素酸化物であるＳｉＯｘを用いる場合、良好なガスバリア性と高い光線透過率とを両立させるためには、１．６＜ｘ＜１．９であることが望ましい。無機ガスバリア層として珪素窒化物であるＳｉＮｙを用いる場合は、１．２＜ｙ＜１．３であることが好ましい。ｙ＜１．２となると着色が大きくなることがある。

　又、無機ガスバリア層として珪素酸化窒化物であるＳｉＯ_ｘＮ_ｙを用いる場合、密着性向上を重視するのであれば、酸素リッチの膜とすることが好ましく、具体的には１＜ｘ＜２及び、０＜ｙ＜１を満足することが好ましい。一方、ガスバリア性の向上を重視する場合には、窒素リッチの膜とすることが好ましく、具体的には０＜ｘ＜０．８及び０．８＜ｙ＜１．３を満足することが好ましい。

　（無機酸化物層）
　以下において、無機酸化物層の構成要素等について説明する。

　〈無機酸化物粒子〉
　無機酸化物粒子の組成は特に制限は無いが、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化チタン及び酸化ジルコニウムの何れかであることが好ましい。

　又、平均粒径は、光の散乱を考慮し、１ｎｍから１μｍ、好ましくは３ｎｍから３００ｎｍ、更に好ましくは５ｎｍから１００ｎｍである。

　平均粒径は、マスターサイザー２０００　シスメックス（株）製で測定した値を示す。

　通常、μｍオーダーの無機酸化物粒子の分散液より得られた塗膜を加熱処理するだけでは強固な塗膜は得られないが、使用する無機酸化物粒子がｎｍオーダーであることにより、比表面積が増大することで反応性が向上し、加熱処理によって強固な無機酸化物を形成出来る。一方で１ｎｍ以下の粒径の無機酸化物粒子は、そのもの自体を得ることが困難であるとともに、得られても短時間で粒子同士の凝集が進行してしまい、極めて不安定なものとなる。

　〈無機酸化物粒子を含有する無機酸化物膜〉
　無機酸化物膜とは、少なくとも上記の無機酸化物粒子と後述するシリカ系被膜を形成するためのポリシロキサン構造を有する化合物をその構成要素として含有する膜をいう。

　無機酸化物粒子の含有率は、成膜しやすい粘度を考慮し、無機酸化物膜の３０ｖｏｌ％から９９ｖｏｌ％が好ましく、５０ｖｏｌ％から８０ｖｏｌ％が更に好ましい。

　無機酸化物膜中の無機酸化物粒子の含有率については、フィルムミラーの断面を透過型電子顕微鏡で観察を行い、無機酸化物膜の全断面積中に含まれる無機微粒子の面積の合計の割合で示される。無機微粒子は膜中で元の粒子界面が観察されることから、無機微粒子の存在する面積を定量することが可能である。

　無機酸化物膜は蒸着法といったドライプロセスや、ゾルゲル法といったウェットプロセスにて成膜可能であるが、何れも結晶の粒界面が存在するため、ガスや水蒸気に対してのバリア性が十分ではなかったが、本発明のフィルムミラーに係る無機酸化物膜中に無機酸化物粒子が含有されていることにより、バリア性を損なう原因となるクラックの発生を極小化することが出来るため、バリア性を向上することが可能となった。

　〈ポリシロキサン構造を有する化合物〉
　ポリシロキサン構造を有する化合物としては、従来公知の種々の化合物を用いることが出来るが、シロキサンポリマー用いることが好ましい。

　シロキサンポリマーとしては、特に限定されず、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を有するポリマーである。このシロキサンポリマーの中でも、アルコキシシランの加水分解縮合物を好適に用いることが出来る。上記アルコキシシランとしては、あらゆる種類のアルコキシシランを用いることが出来る。このようなアルコキシシランとしては、例えば、下記一般式（ａ）で表される化合物を挙げることが出来る。

　一般式（ａ）：Ｒ^１ _ｎ－Ｓｉ（ＯＲ^２）_４－ｎ（式中、Ｒ^１は、水素、炭素数１から２０のアルキル基又はアリール基であり、Ｒ^２は１価の有機基であり、ｎは、０から２の整数を示す。）
　ここで、１価の有機基としては、例えば、アルキル基、アリール基、アリル基、グリジル基を挙げることが出来る。これらの中では、アルキル基及びアリール基が好ましい。アルキル基の炭素数は１から５が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等を挙げることが出来る。又、アルキル基は直鎖状であっても分岐状であってもよく、水素がフッ素により置換されていてもよい。アリール基としては、炭素数６から２０のもが好ましく、例えばフェニル基、ナフチル基等を挙げることが出来る。

　上記一般式（ａ）で表される化合物の具体例としては、
　（ａ１）ｎ＝０の場合、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等を挙げることが出来、
　（ａ２）ｎ＝１の場合、モノメチルトリメトキシシラン、モノメチルトリエトキシシラン、モノメチルトリプロポキシシラン、モノエチルトリメトキシシラン、モノエチルトリエトキシシラン、モノエチルトリプロポキシシラン、モノプロピルトリメトキシシラン、モノプロピルトリエトキシシランなどのモノアルキルトリアルコキシシラン、モノフェニルトリメトキシシラン、モノフェニルトリエトキシシランなどのモノフェニルトリアルコキシシラン等を挙げることが出来、
　（ａ３）ｎ＝２の場合、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジプロポキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジプロポキシシラン、ジプロピルジジメトキシシラン、ジプロピルジエトキシシラン、ジプロピルジプロポキシシランなどのジアルキルジアルコキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランなどのジフェニルジアルコキシシラン等を挙げることが出来る。

　シリカ系被膜形成用組成物において、シロキサンポリマーの重量平均分子量は、２００以上５００００以下であることが好ましく、１０００以上３０００以下であることがより好ましい。この範囲であれば、シリカ系被膜形成用組成物の塗布性を向上させることが出来る。

　アルコキシシランの加水分解縮合は、重合モノマーとなるアルコキシシランを、有機溶媒中、酸触媒又は塩基触媒の存在下で反応させることにより得られる。重合モノマーとなるアルコキシシランは、１種のみの使用であっても、又複数種を組み合わせて縮合してもよい。

　又、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルプロポキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリエチルプロポキシシラン、トリプロピルメトキシシラン、トリプロピルエトキシシランなどのトリアルキルアルコキシシラン、トリフェニルメトキシシラン、トリフェニルエトキシシランなどのトリフェニルアルコキシシラン等を加水分解時に添加してもよい。

　縮合の前提となるアルコキシシランの加水分解の度合いは、添加する水の量により調整することが出来るが、一般的には、前記一般式（ａ）で示されるアルコキシシランの合計モル数に対して、１．０から１０．０倍モルにすることが好ましく、１．５から８．０倍モルの割合で添加することがより好ましい。水の添加量を１．０倍モル以上にすることにより加水分解度を十分大きくすることが出来、被膜形成を良好にすることが出来る。一方で、１０．０倍モル以下にすることによりゲル化を防止することが出来、保存安定性を良好にすることが出来る。

　又、一般式（ａ）で示されるアルコキシシランの縮合においては、酸触媒を用いることが好ましく、用いられる酸触媒としては、特に限定されるものではなく、従来慣用的に使用されている有機酸、無機酸の何れも使用することが出来る。有機酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸等の有機カルボン酸を挙げることが出来、無機酸としては、塩酸、硝酸、硫酸、燐酸等が挙げられる。酸触媒は、アルコキシシランと水との混合物に直接添加するか、又は、水とともに酸性水溶液としてアルコキシシランに添加してもよい。

　加水分解反応は、通常５から１００時間程度で完了する。又、室温から８０℃を超えない加熱温度において、一般式（ａ）で示される１種以上のアルコキシシランを含む有機溶剤に酸触媒水溶液を滴下して反応させることにより、短い反応時間で反応を完了させることも可能である。加水分解されたアルコキシシランは、その後、縮合反応を起こし、その結果、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉのネットワークを形成する。

　（紫外線遮断層）
　本発明のフィルムミラーに係る劣化防止層は、紫外線遮断層を有することが好ましい。紫外遮断層とは、紫外線遮断性を有する層のことをいう。紫外線遮断性とは、紫外線を遮断し可視光及び赤外光を通過することをいう。

　紫外線遮断層としては、樹脂フィルムの吸収波長を考慮し、波長３５０ｎｍの紫外線を透過率１０％まで遮断し、好ましくは５％以下にまで遮断する紫外線遮断性を持たせることが好ましい。尚、無機ガスバリア層と紫外線遮断層は同一の層であっても、別々の層であっても良い。

　紫外線遮断層としては、特に制限はないが、例えばチアゾリドン系、ベンゾトリアゾール系、アクリロニトリル系、ベンゾフェノン系、アミノブタジエン系、トリアジン系などの有機紫外線吸収剤、あるいは酸化セリウム、酸化マグネシウムなどの微粉末系紫外線遮断剤であり、特に有機紫外線吸収剤が好ましい。当該有機紫外線吸収剤として、例えば特開昭４６－３３３５号、同５５－１５２７７６号、特開平５－１９７０７４号、同５－２３２６３０号、同５－３０７２３２号、同６－２１１８１３号、同８－５３４２７号、同８－２３４３６４号、同８－２３９３６８号、同９－３１０６７号、同１０－１１５８９８号、同１０－１４７５７７号、同１０－１８２６２１号各公報、独国特許第１９７３９７９７Ａ号、欧州特許第７１１８０４Ａ号各公報及び特表平８－５０１２９１号公報、米国特許第１，０２３，８５９号、同第２，６８５，５１２号、同第２，７３９，８８８号、同第２，７８４，０８７号、同第２，７４８，０２１号、同第３，００４，８９６号、同第３，０５２，６３６号、同第３，２１５，５３０号、同第３，２５３，９２１号、同第３，５３３，７９４号、同第３，６９２，５２５号、同第３，７０５，８０５号、同第３，７０７，３７５号、同第３，７３８，８３７号、同第３，７５４，９１９号、英国特許第１，３２１，３５５号明細書等に記載されている化合物を用いることが出来る。

　又紫外線遮断層は、光反射層に対して光線入射側に形成されている。光反射層に対して、光線入射側に位置していれば、特に限定はなく、光反射層、無機ガスバリア層、無機酸化物層の何れの間の位置に設置されても良い。又、フィルムミラーの光線入射側の最上面の位置に配置されても良い。

　（保護コーティング層）
　本発明のフィルムミラーにおいては、反射層上に保護コーティング層を有することが好ましい。

　保護コーティング層は、腐食防止剤を含み、反射層を形成する金属、例えば、銀の腐食劣化を防ぐとともに、太陽熱発電用反射装置を構成する際、保護コーティング層上に形成する粘着層との接着力向上に寄与するものである。

　保護コーティング層の形成に用いることの出来る樹脂としては、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用出来、耐候性の点からポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂が好ましく、更にイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。

　イソシアネートは、ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系、ＸＤＩ（キシレンジイソシアネート）系、ＭＤＩ（メチレンジイソシアネート）系、ＨＭＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）系等の従来から使用されてきた各種イソシアネートが使用可能であるが、耐候性の点から、ＸＤＩ系、ＭＤＩ系、ＨＭＤＩ系のイソシアネートを使用するのが好ましい。

　保護コーティング層の厚さは、密着性、耐候性等の観点から、０．０１μｍから３μｍが好ましく、より好ましくは０．１μｍから１μｍである。

　保護コーティング層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用出来る。

　保護コーティング層が含有する反射層の腐食防止剤としては、大別して、銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤と酸化防止剤が好ましく用いられる。ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ　Ｚ０１０３－２００４参照）。

　又、本発明のフィルムミラーにおいては、下塗り層が酸化防止剤を含有し、且つ保護コーティング層が銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤を含有している態様も好ましい。

　尚、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には、０．１ｇ／ｍ^２から１．０ｇ／ｍ^２の範囲内であることが好ましい。

　〈銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤〉
　本発明のフィルムミラーは銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤を有することが好ましい。具体的には、アミン類およびその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の少なくとも一種又はこれらの混合物から選ばれることが望ましい。

　アミン類及びその誘導体としては、例えば、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ－ｎ－ブチルアミン、ｏ－トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２－Ｎ－ジメチルエタノールアミン、２－アミノ－２－メチル－１，３－プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、ｐ－エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、或いはこれらの混合物が挙げられる。

　ピロール環を有する物としては、例えば、Ｎ－ブチル－２，５－ジメチルピロール，Ｎ－フェニル－２，５ジメチルピロール、Ｎ－フェニル－３－ホルミル－２，５－ジメチルピロール，Ｎ－フェニル－３，４－ジホルミル－２，５－ジメチルピロール等、或いはこれらの混合物が挙げられる。

　トリアゾール環を有する化合物としては、例えば、１，２，３－トリアゾール、１，２，４－トリアゾール、３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、３－ヒドロキシ－１，２，４－トリアゾール、３－メチル－１，２，４－トリアゾール、１－メチル－１，２，４－トリアゾール、１－メチル－３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、４－メチル－１，２，３－トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１－ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７－テトラハイドロトリアゾール、３－アミノ－１，２，４－トリアゾール、３－アミノ－５－メチル－１，２，４－トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－５′－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－５′－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′，５′－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－４－オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等、或いはこれらの混合物が挙げられる。

　ピラゾール環を有する化合物としては、例えば、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５－ジメチルピラゾール、３－メチル－５－ヒドロキシピラゾール、４－アミノピラゾール等、或いはこれらの混合物が挙げられる。

　チアゾール環を有する化合物としては、例えば、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２－Ｎ，Ｎ－ジエチルチオベンゾチアゾール、Ｐ－ジメチルアミノベンザルロダニン、２－メルカプトベンゾチアゾール等、或いはこれらの混合物が挙げられる。

　イミダゾール環を有する化合物としては、例えば、イミダゾール、ヒスチジン、２－ヘプタデシルイミダゾール、２－メチルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、２－ウンデシルイミダゾール、１－ベンジル－２－メチルイミダゾール、２－フェニル－４－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－フェニルイミダゾール、１－シアノエチル－２－エチル－４－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－ウンデシルイミダゾール、２－フェニル－４－メチル－５－ヒドロメチルイミダゾール、２－フェニル－４，５ジヒドロキシメチルイミダゾール、４－フォルミルイミダゾール、２－メチル－４－フォルミルイミダゾール、２－フェニル－４－フォルミルイミダゾール、４－メチル－５－フォルミルイミダゾール、２－エチル－４－メチル－５－フォルミルイミダゾール、２－フェニル－４－メチル－４－フォルミルイミダゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール等、或いはこれらの混合物が挙げられる。

　インダゾール環を有する化合物としては、例えば、４－クロロインダゾール、４－ニトロインダゾール、５－ニトロインダゾール、４－クロロ－５－ニトロインダゾール等、或いはこれらの混合物が挙げられる。

　銅キレート化合物類としては、例えば、アセチルアセトン銅、エチレンジアミン銅、フタロシアニン銅、エチレンジアミンテトラアセテート銅、ヒドロキシキノリン銅等、或いはこれらの混合物が挙げられる。

　チオ尿素類としては、例えば、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、或いはこれらの混合物が挙げられる。

　メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、メルカプト酢酸、チオフェノール、１，２－エタンジオール、３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、１－メチル－３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール、グリコールジメルカプトアセテート、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン等、或いはこれらの混合物が挙げられる。

　ナフタレン系としては、チオナリド等が挙げられる。

　本発明に係る保護コーティング層に用いられる反射層の腐食防止剤としては、酸化防止剤、安定剤を用いることもできる。酸化防止剤、安定剤としては、先に説明した高分子フィルムに適用可能な酸化防止剤及び安定剤と同様のものを挙げることが出来る。

　図３は、図２（ｃ）に示すフィルムミラーの製造工程の概略フロー図である。

　図中、２はフィルムミラーの製造工程を示す。製造工程２は基材供給工程２ａと、下地層形成工程２ｂと、金属薄膜層形成工程２ｃと、光反射層形成工程２ｄと、劣化防止層形成工程２ｅと、回収工程２ｆとを有している。

　尚、フィルムミラーの製造工程２は連続的に基材を搬送しても良いし、各工程毎に回収して次工程で処理しても構わない。

　基材供給工程２ａは、基材供給装置（不図示）を有し、下地層形成工程２ｂに短尺の樹脂フィルム１０１″（図１（ｃ）参照）又はロール状の帯状の樹脂フィルム１０１″（図１（ｃ）参照）が供給される。使用する樹脂フィルムは作製するフィルムミラーの用途に応じて適宜選択することが可能である。

　下地層形成工程２ｂは、塗布工程（不図示）と、乾燥工程（不図示）とを有しており、基材供給工程２ａから供給された基材の上に下地層形成用塗料が塗布された後、乾燥し下地層１０２″（図１（ｃ）参照）を形成する。

　尚、基材の上に下地層形成用塗料の塗布は、劣化防止層１０３″ｃ（図１（ｃ）参照）がミラー層１０３″（図１（ｃ）参照）の端面を覆う基材の両端部を除いた領域である。

　（下地層形成用塗料の塗布方法）
　樹脂フィルムへの塗布方法は特に限定されず、例えばグラビア印刷機、インクジェット印刷機、ディッピング、スピンコーター、ロールコーター等を用いて、印刷又はコーティングすることが出来、又、必要に応じて加熱を行って、乾燥させることによって容易に樹脂フィルム上に導電性高分子微粒子を含む下地層形成用塗膜層を形成させることが出来る。

　下地層形成用塗膜層の厚さは、塗膜強度等を考慮し、２０ｎｍから５００ｎｍとなるようにするのが好ましい。下地層形成用塗膜層の厚さは、オリンパス（株）製レーザー顕微鏡ＬＥＸＴ　ＯＬＳ３５００を使用して測定した値を示す。

　（下地層形成用塗料）
　本発明に使用する導電性高分子微粒子を含む下地層形成用塗料には、樹脂フィルムと下地層との密着性を向上させるためにバインダーを添加してもよい。

　（バインダー）
　添加するバインダーとしては、例えば、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリ（Ｎ－ビニルカルバゾール）樹脂、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド樹脂、エチルセルロース樹脂、酢酸ビニル樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂等が挙げられる。

　バインダーを使用する場合の使用量は、金属めっきの析出量、樹脂フィルムへの下地層の密着性等を考慮し、又は導電性高分子微粒子１質量部に対して０．１質量部から１０質量部が好ましい。

　又、本発明に使用する下地層形成用塗料は有機溶媒を含有するのが好ましい。使用する有機溶媒は、導電性高分子微粒子に損傷を与えず導電性高分子微粒子を分散させうるものであれば特に限定はしないが、好ましくは、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等が挙げられる。

　更に、本発明に使用する下地層形成用塗料は用途や塗布対象物等の必要に応じて、分散安定剤、増粘剤、インキバインダ等の樹脂を加えることも可能である。

　金属薄膜層形成工程２ｃでは、下地層形成工程２ｂで形成された下地層の上に金属薄膜層１０３″ａ（図１（ｃ）参照）が形成される。

　金属薄膜層は、無電解めっき法、塗布法、蒸着法、又はスパッタ法により形成することが好ましい。特に、光反射層と同様に、無電解めっき法によることが好ましい。

　尚、金属薄膜層の厚さは、生産性、反射層劣化防止等を考慮し、１０ｎｍから１０００ｎｍであることが好ましい。金属薄膜層の厚さは、オリンパス（株）製レーザー顕微鏡ＬＥＸＴ　ＯＬＳ３５００で測定した値を示す。尚、金属薄膜層形成工程２ｃについては、図３、図４で詳細に説明する。

　光反射層形成工程２ｄでは、金属薄膜層形成工程２ｃで形成された金属薄膜層１０３″ａ（図１（ｃ）参照）の上に光反射層が形成される。

　光反射層の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することが出来る。湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例を挙げるとすれば、無電解めっき法、銀鏡反応等がある。

　一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。特に、連続的に成膜するロールツーロール方式が可能な真空成膜法が好ましく用いられる。

　又、可視光領域のみならず、赤外光領域においても高反射率が得られることから、銀が最も好ましく用いられる。又、銀により光反射層を形成した場合は、より耐候劣化が顕著となる為、本発明のフィルムミラーの構成が効果的である。

　光反射層１０３″ａ（図２（ｃ）参照）の厚さは、反射率及び資源の有効利用等を考慮し、７０ｎｍから４００ｎｍが好ましく、より好ましくは１００ｎｍから３００ｎｍ、更に好ましくは１５０ｎｍから２５０ｎｍである。

　光反射層の厚さは、オリンパス（株）製レーザー顕微鏡ＬＥＸＴ　ＯＬＳ３５００で測定した値を示す。

　劣化防止層形成工程２ｅは、樹脂フィルム１０１″（図２（ｃ）参照）の上に形成された下地層１０２″（図２（ｃ）参照）と、金属薄膜層１０３″ａ（図２（ｃ）参照）と、光反射層１０３″ａ（図２（ｃ）参照）との端面と光反射層１０３″ａ（図２（ｃ）参照）との表面を被覆する様にして劣化防止層１０３″ｃ（図２（ｃ）参照）が形成され、図２（ｃ）に示される構成を有するフィルムミラー１″作製される。

　劣化防止層が無機ガスバリア層の場合の形成方法は、目的の薄膜を形成出来る方法であればいかなる方法でも用いることが出来る。形成方法としては、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法などが適しており、具体的には特許登録第３４００３２４号、特開２００２－３２２５６１号、特開２００２－３６１７７４号各公報記載の形成方法を採用することが出来る。

　又、無機ガスバリア層の厚みに関しても特に限定されないが、無機ガスバリア層の厚みは、曲げ応力によるクラック、無機ガスバリア層の均一化、ガスバリア性等を考慮し、５ｎｍから１０００ｎｍの範囲内であることが好ましく、更に好ましくは１０ｎｍから１０００ｎｍであり、最も好ましくは１０ｎｍから２００ｎｍである。

　厚さは、オリンパス（株）製レーザー顕微鏡ＬＥＸＴ　ＯＬＳ３５００で測定した値を示す。

　劣化防止層がポリシロキサン構造を有する化合物から構成される無機酸化物膜の場合の形成方法は、蒸着法といったドライプロセスや、ゾルゲル法といったウェットプロセスにて成膜可能である。

　≪シリカ系被膜の形成方法≫
　シリカ系被膜の形成方法としては、まず、シリカ系被膜形成用組成物を光反射層又は、無機ガスバリア層上に塗布する。光反射層又は無機ガスバリア層上にシリカ系被膜形成用組成物を塗布する方法としては、例えば、スプレー法、スピンコート法、ディップコート法、ロールコート法など、任意の方法を用いることが出来るが、通常スピンコート法が用いられる。

　次に、光反射層又は無機ガスバリア層上に塗布されたシリカ系被膜形成用組成物を加熱処理する。加熱処理は、その手段、温度、時間などについては特に制限されないが、一般的には、８０℃から３００℃程度の温風炉にて１０分から１時間程度の時間をかけて焼結させれば良い。

　シリカ系被膜形成用組成物によれば、加熱処理により加熱することで、酸又は塩基が発生する。この発生した酸又は塩基により加水分解が促進されるため、アルコキシ基がヒドロキシル基（水酸基）となり、アルコールが生成する。その後、２分子間でヒドロキシル基（水酸基）が重縮合することにより、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉのネットワークが形成されるため、加熱処理により、緻密なシリカ系被膜を得ることが出来る。

　又、加熱処理は、好ましくは、３段階以上、段階的に昇温することが好ましい。具体的には、大気中又は窒素などの不活性ガス雰囲気下、６０℃から１５０℃程度の温風炉にて２分間から１０分間程度第１回目の加熱処理を行ったのち、１００℃から２２０℃程度で２分間から１０分間程度第２回目の加熱処理を行い、更に１５０℃から３００℃程度で２分間から１０分間程度第３回目の加熱処理を行う。このように３段階以上、好ましくは３から６段階程度の段階的な加熱処理を行うことにより、より低い温度で、シリカ系被膜の形成をすることが出来る。

　紫外線遮断層を付加する場合には、紫外線吸収剤あるいは紫外線遮断剤を有機バインダーに分散させて紫外線遮断層を形成することが好ましい。有機バインダーは、特に制限はないが合成樹脂類を用いることが出来る。紫外線遮断層の形成方法としては、例えば塗布による方法等を挙げることが出来る。塗布方式で前記塗膜を塗設する場合には、従来用いられる種々の塗布方法、例えば、スプレーコート、スピンコート、バーコート等の方法を用いることが出来る。塗布液中の紫外線吸収剤あるいは紫外線遮断剤は、紫外線透過率を調整するうえで適宜な量が含まれるが、好ましくは０．１質量％から５０質量％であり、より好ましくは１質量％から３０質量％である。

　紫外線遮断層の厚さは、樹脂基材の保護、遮断性等を考慮し、１０ｎｍから５０００ｎｍが好ましく、５０ｎｍから５０００ｎｍが更に好ましく、１００ｎｍから５０００ｎｍが最も好ましい。紫外線遮断層の厚さは、オリンパス（株）製レーザー顕微鏡ＬＥＸＴ　ＯＬＳ３５００で測定した値を示す。

　回収工程２は、回収装置（不図示）を使用し、作製されたフィルムミラー１″（図２（ｃ）参照）の形状に合わせ回収する。例えば、基材の樹脂フィルムが短尺の樹脂フィルムの場合は、一枚ごとに回収し、帯状の樹脂フィルムの場合はロール状に巻き取り回収する。

　図４は下地層が形成された樹脂フィルムの下地層の上に無電解金属めっき法で金属薄膜層を形成する概略工程フロー図である。図４（ａ）は導電性高分子微粒子を含む下地層が形成された樹脂フィルムの下地層の上に無電解金属めっき法で金属薄膜層を形成する概略工程フロー図である。図４（ｂ）は還元性高分子微粒子を含む下地層が形成された樹脂フィルムの下地層の上に無電解金属めっき法で金属薄膜層を形成する概略工程フロー図である。

　尚、本図は図３に示したフィルムミラーの製造工程で基材にロール状の帯状の樹脂フィルム１０１″（図２（ｃ）参照）を使用した場合を示している。

　図４（ａ）に示す工程フロー図につき説明する。

　図中、２ｃは金属薄膜層形成工程を示す。工程２ｃは、脱ドープ工程２ｃ１と、第１水洗工程２ｃ２と、触媒金属付着工程２ｃ３と、第２水洗工程２ｃ４と、金属析出工程２ｃ５と、第３水洗工程２ｃ６とを有している。

　脱ドープ工程２ｃ１は、下地層１０２″（図２（ｃ）参照）に導電性高分子微粒子を用いた場合は、無電解めっきを行う前に、導電性高分子微粒子を還元性とするために脱ドープするため必要とする。

　脱ドープ工程２ｃ１では、下地層形成工程２ｂ（図２参照）から連続的に搬送されてくる下地層１０２″（図２（ｃ）参照）が形成された樹脂フィルム１０１″を前処理液２ｃ１２の中を通過させ脱ドープ処理が行われる。

　尚、脱ドープ処理とは、導電性高分子微粒子中に含まれるドーパントを抜いて、よりドーパントの少ない状態、通常は実質的にドープされていない状態にすることである。脱ドープする方法としては、ドーパントがアニオンの場合は、アルカリ溶液中に浸漬する方法、固体のアルカリと接触させる方法などが例示され、ドーパントがカチオンの場合には、酸溶液中に浸漬する方法、酸性固体と接触させる方法などが例示される。また、イオンを含まない多量の溶媒で洗浄する方法、電気化学的にドーパントを抜く方法などによっても脱ドープすることが出来る。

　脱ドープ処理により、下地層に使用された導電性高分子微粒子が、還元性微粒子と変わる。

　（前処理液）
　前処理液は、還元により脱ドープするための還元剤、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム等の水素化ホウ素化合物、ジメチルアミンボラン、ジエチルアミンボラン、トリメチルアミンボラン、トリエチルアミンボラン等のアルキルアミンボラン、及び、ヒドラジン等を含む溶液、又は、アルカリ性溶液が挙げられる。

　操作性及び経済性等の観点からアルカリ性溶液を使用するのが好ましい。

　アルカリ性溶液としては、緩和なアルカリ条件、例えば、１Ｍ　水酸化ナトリウム水溶液や、ｐＨ９から１０程度の溶液で処理することが出来る。

　具体的な溶液としては、１Ｍ　水酸化ナトリウム水溶液、ＡＴＳコンディクリンＣＩＷ２（奥野製薬工業（株）社製）の１０質量％水溶液（ｐＨ９からｐＨ１０）等が挙げられる。

　処理温度は、２０℃から７０℃、好ましくは３０℃から６０℃であり、処理時間は、２分から１０分、好ましくは、３分から７分である。

　第１水洗工程２ｃ２では、脱ドープ処理が行われた樹脂フィルム１０１″に付着している前処理液２ｃ１２の洗浄が行われる。

　触媒金属付着工程２ｃ３では、脱ドープ処理が行われた樹脂フィルム１０１″の下地層１０２″（図２（ｃ）参照）の表面に触媒金属を付着させるために触媒液２ｃ３１の中を通過させる。

　触媒金属吸着量は、樹脂基材と金属との密着性、反射率、生産コスト等を考慮し、０．１μｇ／ｃｍ^２以上となるようにするのが好ましい。更に、０．１μｇ／ｃｍ^２から１０μｇ／ｃｍ^２が好ましい。

　（触媒液）
　触媒液は、無電解めっきに対する触媒活性を有する貴金属（触媒金属）を含む溶液であり、触媒金属としては、パラジウム、金、白金、ロジウム等が挙げられ、これら金属は単体でも化合物でもよく、触媒金属を含む溶液の安定性の点からパラジウム化合物が好ましく、その中でも塩化パラジウムが特に好ましい。

　好ましい、具体的な触媒液としては、０．０２％塩化パラジウム－０．０１％塩酸水溶液（ｐＨ３）が挙げられる。

　処理温度は、触媒の密着性を考慮し、２０℃から５０℃、好ましくは３０℃から４０℃であり、処理時間は、生産性、触媒付着量等を考慮し、０．１分から１０分、好ましくは、１分から５分である。第２水洗工程２ｃ４では、樹脂フィルム１０１″の下地層１０２″（図２（ｃ）参照）の表面に付着している触媒液２ｃ３１の洗浄を行う。

　金属析出工程２ｃ５では、第２水洗工程２ｃ４で、樹脂フィルム１０１″の下地層１０２″（図２（ｃ）参照）の表面に付着している触媒液２ｃ３１の洗浄が行われた樹脂フィルム１０１″をめっき液２ｃ５１で処理することで下地層１０２″（図２（ｃ）参照）の表面に金属を析出させ、下地層１０２″（図２（ｃ）参照）の表面に金属薄膜層１０３″ｂ（図２（ｃ）参照）が形成される。

　（めっき液）
　めっき液としては、通常、無電解めっきに使用されるめっき液であれば、特に限定されない。

　即ち、無電解めっきに使用出来る金属、銅、金、銀、ニッケル、クロム等、全て適用することが出来るが、銀のマイグレーションを防止するために銅が好ましい。

　無電解銅めっき浴の具体例としては、例えば、ＡＴＳアドカッパーＩＷ浴（奥野製薬工業（株）社製）が挙げられる。

　処理温度は、めっき析出速度、めっき膜の緻密性等を考慮し、２０℃から５０℃、好ましくは３０℃から４０℃であり、処理時間は、めっき膜厚、生産性等を考慮し、１分から３０分、好ましくは、５分から１５分である。

　本発明に使用する連続的な無電解めっき方法を用いることにより、ロールｔｏロール法で無電解金属めっきが施された樹脂フィルムを連続的に製造することが出来る。

　第３水洗工程２ｃ６では、樹脂フィルム１０１″の下地層１０２″（図２（ｃ）参照）の表面に形成された金属薄膜層１０３″ｂ（図２（ｃ）参照）に付着しているめっき液２ｃ５１の洗浄を行う。

　第３水洗工程２ｃ６が終了した後、光反射層形成工程２ｄ（図３参照）に搬送される。尚、一旦巻き取り回収した後、劣化防止層形成工程２ｅ（図３参照）で処理しても構わない。

　本図に示す金属薄膜層形成工程２ｃの各工程での樹脂フィルムの処理速度は、０．１ｍ／分から１０ｍ／分であり、好ましくは０．５ｍ／分から１．５ｍ／分である。

　図４（ｂ）に示す工程フロー図につき説明する。尚、本図は図４（ａ）と同じロールｔｏロール法の場合を示している。

　図４（ａ）に示す工程フロー図との違いは、脱ドープ工程２ｃ１と、第１水洗工程２ｃ２とがない他は全て同じである。又、触媒金属付着工程２ｃ３と、第２水洗工程２ｃ４と、金属析出工程２ｃ５と、第３水洗工程２ｃ６の処理条件も同じである。

　図４（ａ）、図４（ｂ）に示す各工程の条件（温度、時間等）は、各溶液が入った槽内のロール数或いは槽の大きさを変えることにより、各工程の処理時間を調整することが可能となっている。

　本発明のフィルムミラーは、太陽光を反射するミラーであることが好ましい。更に、フィルムミラーを搭載した反射装置として屋外で使用することが好ましい。以下、反射装置について図５から図７で説明する。

　図５は反射装置の概略図である。図５（ａ）は反射装置の概略斜視図である。図５（ｂ）は図５（ａ）に示す反射装置の筐体に収納されているフィルムミラーの概略斜視図である。

　図中、３ａは反射装置を示す。３０１は反射装置の筐体を示す。３０２は筐体３０１に配設された曝射用の窓を示す。

　筐体３０１には、繰り出し部３０３ａと、巻き取り部３０３ｂとを有する搬送部３０３と、保持部３０４とを有している。搬送部３０３にはフィルムミラー１が搭載され収納されている。尚、保持部３０４はフィルムミラー１の両端を保持するため１対で構成されている。

　繰り出し部３０３ａと、巻き取り部３０３ｂとは逆であっても構わない。フィルムミラー１はロール芯に巻かれたロール状で繰り出し部３０３ａに搭載され、巻き取り部３０３ｂでロール芯に巻かれて回収される。

　１１はフィルムミラー１のミラー面を示す。１７はフィルムミラー１の長辺側の端部１２、端部１３に設けられたすべり防止突起部を示す。

　すべり防止突起部１７を設けることにより、保持部３０４の内側面とすべり防止突起部１７との接触面に摩擦がはたらき、風などの影響によりフィルムミラー１のミラー面１１の曝射する面１６がずれるのを防ぐことが可能となり、フィルムミラー１安定性を得ることが出来る。

　搬送部３０３を有することにより、反射及び集光のため太陽光に曝射しているフィルムミラー１のミラー面１１の曝射する面１６の反射率が低下した場合において、曝射する面１６を新しい面に変えることが可能となるので、曝射する面１６の反射率の低下を防止することが可能となる。

　保持部３０４は、搬送部３０３に搭載されたフィルムミラー１のミラー面１１の曝射する面１６が風などの影響によって、揺らぐのを抑制することが出来るため、ミラーの反射率の低下を防止することが可能となる。

　保持部３０４の形状は、ミラー面の形状に対応して変えることが可能である。例えば、フィルムミラー１のミラー面１１のミラー面１１の曝射する面１６が平面であれば直線形状の保持部を用いることが好ましく、フィルムミラー１のミラー面１１の曝射する面が、内側に湾曲した形状であれば湾曲形状の保持部を用いることが好ましい。本図は直線形状の保持部の場合を示している。湾曲形状の保持部に関しては図７に示す。

　本図に示す反射装置３に使用しているフィルムミラー１は図２（ｃ）に示される構成を有しており、大きさは、長い方の幅が１５ｍ、短い方の幅が１．４ｍとなっている。又、フィルムミラー１の長辺側の両端部の両端面が、ガスバリア性を有する劣化防止層１０３″ｃ（図２（ｃ）参照）で覆われている。

　フィルムミラー１の具体的な構成として、樹脂基材は、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚み１７５μｍ）を用いている。下地層は、樹脂基材上に導電性ポリピロール微粒子を含む塗料を１００ｎｍの塗膜厚で塗布により形成している。金属薄膜層は、下地層上に厚み０．３μｍの銅をめっきにより形成している。光反射層は、金属薄膜層上に厚み０．３μｍの銀をめっきにより形成している。劣化防止層は、光反射層上に無機酸化物粒子を含有する塗布液を厚さが１μｍとなるように塗布により形成している。

　すべり防止突起部１７は、樹脂基材又は劣化防止層と同一材料から構成されていても良いし、樹脂基材や劣化防止層と異なる材料から構成されていても良い。例えば、樹脂基材あるいは劣化防止層の光入射側の表面に突起形状を付与することにより、すべり防止突起部１７を形成しても良い。本図は、劣化防止層の光入射側の表面に突起形状を付与することにより、すべり防止突起部を形成している。

　すべり防止突起部１７の突起部の形状をループ状とする場合、フィルムミラー１のミラー面１１に接触する保持部３０４の内面３０４ｂにかぎ状の突起形状をつけても良い。これにより、保持部とすべり防止突起部との接触面に、より摩擦がはたらくため、さらなるフィルムミラーの固定安定性を得ることが可能となる。

　すべり防止突起部１７の形成方法としては、型押し、インクジェット塗布による凸部形成等の方法が挙げられる。

　図６は図５のＢ－Ｂ′に沿った概略断面図である。図６（ａ）は図５のＢ－Ｂ′に沿った拡大概略断面図である。

　保持部３０４の断面形状はコの字形状を有し、フィルムミラー１の裏面１９を保持する内面３０４ａは、搬送時のフィルムミラー１の平面性を保持する上から平面であることが好ましい。又、面ファスナーを設けても良い。

　フィルムミラー１のミラー面１１と接触する内面３０４ｂは、フィルムミラー１のすべりを防止するすべり防止手段を設けても構わない。又、保持部３０４としては、例えばクリップ、可動式として挟み込む方式等が挙げられる。

　図７は図５に示す反射装置の筐体に収納されている他の形態のフィルムミラーの概略斜視図である。尚、本図は筐体を省略した場合を示している。

　図中、筐体（不図示）には、繰り出し部３０３′ａと、巻き取り部３０３′ｂとを有する搬送部３０３′と、保持部３０４′とを有している。搬送部３０３′にはフィルムミラー１が搭載され収納されている。尚、保持部３０４′はフィルムミラー１の両端を保持するため１対で構成されている。

　保持部３０４′は内側に湾曲した形状をしている。このためフィルムミラー１のミラー面１１の曝射する面１６も湾曲した状態で保持される。

　繰り出し部３０３′ａと、巻き取り部３０３′ｂとは逆であっても構わない。フィルムミラー１はロール芯に巻かれたロール状で繰り出し部３０３′ａに搭載され、巻き取り部３０３′ｂでロール芯に巻かれて回収される。他の符号は図５と同義である。

　曝射する面を湾曲することで、反射光を集光することが出来、集光点をある所定の位置にしたい場合は保持部３０４′の湾曲形状を適宜設計することが可能となっている。

　図８は、フィルムミラーのミラー面を清掃する清掃部を有する反射装置の概略斜視図である。尚、本図は筐体は省略してある。

　筐体は図５（ａ）に示す反射装置の筐体で保持部３０４の代わりに清掃部４を配設した他は同じであるので清掃部４の説明をして搬送部の説明は省略する。又、使用しているフィルムミラー１′はベルト状の形状をしている。但し、フィルムミラー１′も長辺側の両端部にすべり防止突起部１７（図５（ｂ）参照）を設けていない他は図５に示すフィルムミラー１と全て同じであるので説明は省略する。

　清掃部４を配設することで、ベルト状のフィルムミラー１′のミラー面１′１に付着した砂や埃などを除去することが出来るため、ベルト状のフィルムミラー１′の反射率の低下を防止することが可能となる。そのため、一度利用したミラー面１′１であっても、清掃部４によりミラー反射率を改善させることで、繰り返し同じミラー面１′１を利用することが可能となり、ベルト状のフィルムミラー１′の取替えの頻度を少なくすることが可能となる。

　清掃部４としては、ベルト状のフィルムミラー１′のミラー面１′１に付着した砂や埃を除去することが出来るものならば、いかなる手段を用いても構わないが、例えば、エアー吹き付けノズル、吸引ノズル、ブラシ形状等のものを用いることが出来る。本図はブラシを用いた場合を示している。

　尚、ベルト状のフィルムミラー１′は、長尺のフィルムミラーの先頭と後尾を接合することで作製することが可能である。

　図９は、ミラー面に異物拡散手段を設けたフィルムミラーを使用した反射装置の概略斜視図である。尚、本図は筐体を省略してある。筐体は図５（ａ）に示す反射装置の筐体で保持部３０４を有さない他は同じであるので搬送部を含め、説明は省略する。又、使用しているフィルムミラー１″はベルト状の形状をしている。

　図中３ｃは反射装置を示す。５はフィルムミラー１″の表面上に異物拡散手段として設けた突起部を示す。突起部５の間隔は曝射面に合わせて配設されている。突起部５は、フィルムミラー１″の長辺側に対して、直交する向きに形成することが好ましい。突起部５を設けることにより、曝射面を変えるためにフィルムミラー１″を搬送するときに、液体や砂なども一緒に搬送することが可能となる。従って、液体や砂などが、曝射面を変える際に新しい曝射面に流れ出ないようにすることが可能となる。突起部の高さは１０ｍｍ以内にすることが好ましい。

　突起部の作成方法は、例えば劣化防止層を構成するシリカ系被膜をディップコート法で作成する際に凹型を押し付けることにより幅、高さともに数十μｍの突起部をつけることが出来る。又、突起部５として、金属ワイヤーや樹脂製ワイヤーをフィルムミラー１″のミラー面に接着させても良い。突起の数は少なければ反射率への影響が少なく良いが、フィルムミラー１″の傾斜させる角度によって突起の本数を増減しても良い。

　尚、ベルト状のフィルムミラー１″は、長尺のフィルムミラーの先頭と後尾を接合することで作製することが可能である。

　１、１′、１″、１ａ、１ａ′、１ａ″　フィルムミラー
　１１、１′１　ミラー面
　１２、１３、１４、１５　端部
　１６　面
　１７　すべり防止突起部
　１０１、１０１′、１０１″　樹脂基材（樹脂フィルム）
　１０２　ミラー層
　１０２ａ、１０３′ｂ、１０３″ｂ　光反射層
　１０２ｂ、１０３′ｃ、１０３″ｃ　劣化防止層
　１０２′、１０２″　下地層
　１０３′、１０３″　ミラー層
　１０３′ａ、１０３″ａ　金属薄膜層
　２　製造工程
　２ａ　基材供給工程
　２ｂ　下地層形成工程
　２ｃ　金属薄膜層形成工程
　２ｄ　光反射層形成工程
　２ｅ　劣化防止層形成工程
　２ｆ　金属薄膜層形成工程
　３ａ　反射装置
　３０２　窓
　３０３ａ、３０３′ａ　繰り出し部
　３０３ｂ、３０３′ｂ　巻き取り部
　３０４、３０４′　保持部
　４　清掃部
　５　突起部

Claims (14)

1. 　樹脂基材上に光反射層を有するフィルムミラーであって、
   　前記光反射層上に、劣化防止層を有し、
   　前記フィルムミラーの何れか一方の幅が、前記フィルムミラーの反射及び集光に使用するミラー面の曝射する面の幅よりも長いことを特徴とするフィルムミラー。
2. 　前記フィルムミラーの何れか一方の幅が、前記フィルムミラーの反射及び集光に使用するミラー面の曝射する面の幅の２倍以上の長さを有することを特徴とする請求項１に記載のフィルムミラー。
3. 　前記フィルムミラーのミラー層の長辺側の両端部の両端面が、ガスバリア性を有する劣化防止層で覆われていることを特徴とする請求項１又は２に記載のフィルムミラー。
4. 　前記フィルムミラーのミラー層の短辺側の両端部の両端面が、ガスバリア性を有する劣化防止層で覆われていることを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載のフィルムミラー。
5. 　前記光反射層をＡｇで構成したことを特徴とする請求項１から４の何れか１項に記載のフィルムミラー。
6. 　前記樹脂基材が、セルロースを主成分とするバイオナノファイバーを含有することを特徴とする請求項１から５の何れか１項に記載のフィルムミラー。
7. 　太陽光を反射することを特徴とする請求項１から６の何れか１項に記載のフィルムミラー。
8. 　屋外で使用することを特徴とする請求項１から７の何れか１項に記載のフィルムミラー。
9. 　前記フィルムミラーの反射及び集光のため使用するミラー面の曝射する面を、曝射終了後、連続している新規の曝射する面に変えることを特徴とする請求項１から８の何れか１項に記載のフィルムミラー。
10. 　請求項１から９の何れか１項に記載のフィルムミラーを搭載したことを特徴とする反射装置。
11. 　前記フィルムミラーを搬送する搬送部を有することを特徴とする請求項１０に記載の反射装置。
12. 　前記フィルムミラーの反射及び集光のため使用するミラー面の曝射する面を、曝射終了後、連続している新規の曝射する面に、前記フィルムミラーを移動させ変更することが出来ることを特徴とする請求項１０又は１１に記載の反射装置。
13. 　前記フィルムミラーを保持する保持部を有することを特徴とする請求項１０から１２の何れか１項に記載の反射装置。
14. 　前記フィルムミラー表面を清掃する清掃部を有することを特徴とする請求項１０から１３の何れか１項に記載の反射装置。

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