WO2011007782A1 - エーテル組成物および潤滑剤 - Google Patents

エーテル組成物および潤滑剤 Download PDF

Info

Publication number
WO2011007782A1
WO2011007782A1 PCT/JP2010/061848 JP2010061848W WO2011007782A1 WO 2011007782 A1 WO2011007782 A1 WO 2011007782A1 JP 2010061848 W JP2010061848 W JP 2010061848W WO 2011007782 A1 WO2011007782 A1 WO 2011007782A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
compound
ether composition
integer
composition
Prior art date
Application number
PCT/JP2010/061848
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
大祐 白川
Original Assignee
旭硝子株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 旭硝子株式会社 filed Critical 旭硝子株式会社
Publication of WO2011007782A1 publication Critical patent/WO2011007782A1/ja

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M105/00—Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound
    • C10M105/50—Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound containing halogen
    • C10M105/54—Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound containing halogen containing carbon, hydrogen, halogen and oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/002—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds
    • C08G65/005—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens
    • C08G65/007—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens containing fluorine
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M107/00—Lubricating compositions characterised by the base-material being a macromolecular compound
    • C10M107/38—Lubricating compositions characterised by the base-material being a macromolecular compound containing halogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2211/00—Organic non-macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2211/04—Organic non-macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions containing carbon, hydrogen, halogen, and oxygen
    • C10M2211/042—Alcohols; Ethers; Aldehydes; Ketones
    • C10M2211/0425—Alcohols; Ethers; Aldehydes; Ketones used as base material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2213/00—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2213/04—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions obtained from monomers containing carbon, hydrogen, halogen and oxygen
    • C10M2213/043—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions obtained from monomers containing carbon, hydrogen, halogen and oxygen used as base material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2030/00—Specified physical or chemical properties which is improved by the additive characterising the lubricating composition, e.g. multifunctional additives
    • C10N2030/06—Oiliness; Film-strength; Anti-wear; Resistance to extreme pressure
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
    • C10N2040/14—Electric or magnetic purposes
    • C10N2040/18—Electric or magnetic purposes in connection with recordings on magnetic tape or disc

Definitions

  • the present invention relates to an ether composition useful as a lubricant or the like.
  • PFPE perfluorinated polyether structure
  • PFPE useful as a lubricant or the composition thereof.
  • a is an integer from 0 to 100
  • b is an integer from 0 to 100
  • c is an integer from 1 to 100
  • d is from 1 to PFPE having an integer of 200.
  • Patent Document 1 HO— (CH 2 CH 2 O) a ⁇ (CH 2 CH (OH) CH 2 O) b — (CH 2 ) c —CF 2 O (CF 2 CF 2 O) d ⁇
  • Patent Document 2 An ether composition containing two types of PFPE having different molecular weights
  • the fixing property to the magnetic recording medium is high as the speed of the magnetic recording medium increases.
  • the surface has a low coefficient of friction when used as a coating film in order to disperse the impact when the recording element comes into contact with the magnetic recording medium.
  • the present invention provides an ether composition having a low viscosity, a high fluidity, and a high fixability to a substrate despite having a high solubility in a solvent, and a surface having a low coefficient of friction.
  • a lubricant containing Provide a lubricant containing.
  • PFPE is expressed by an average composition formula and is a composition comprising a mixture of two or more compounds, but when the ratio of specific end groups in the composition is adjusted, the balance between viscosity and fluidity is excellent. I found out that it could be PFPE. Further, it has been found that when the PFPE is applied to a base material for a magnetic recording medium, the friction coefficient is low and the fixability is excellent.
  • An ether composition comprising two or more of the following compounds (A):
  • Compound (A) includes the following group (Y), one or more groups selected from the following group (X1) bonded to the group (Y) and the following group (X2) bonded to the group (Y):
  • An ether composition having a mole ratio of 40 to 90 mol%.
  • Group (Z1) a group having an R F O— group at the end (wherein R F is a C 1-20 perfluoroalkyl group or a group in which an etheric oxygen atom is inserted between the carbon-carbon atoms of the group) .
  • Group (X3) relative to the sum of the total number of moles of group (X1), the total number of moles of group (X2), the total number of moles of group (X3) and the total number of moles of group (Z1) in the ether composition
  • the ether composition according to [1], wherein the ratio of the total number of moles) is 50 to 90% by mole.
  • the group (Y) is a perfluorinated divalent to 7-valent saturated hydrocarbon group or a group having an etheric oxygen atom inserted between carbon-carbon atoms of the group, [1] or [1] 2] ether composition.
  • the group (X1) is a group represented by the following formula (X11) (where d1 is an integer of 1 to 200), and the group (X2) is represented by the following formula (X12): A group represented by the formula (wherein a1 is 1 or 2, c1 is an integer of 1 to 100, and d2 is an integer of 1 to 200), and the group (X3) is represented by the following formula (X13 ) (Wherein a2 is an integer of 0 to 2, c2 is an integer of 1 to 100, and d3 is an integer of 1 to 200), and the group (Z1) is A group represented by the following formula (Z11) (where g is an integer of 3 to 200).
  • Z11 is a group represented by the formula (Z11), and Y is a perfluorinated (m1 + m2 + m3 + m4) -valent saturated hydrocarbon group or an etheric oxygen atom inserted between carbon-carbon atoms of the group.
  • Group. [6] The ether composition according to [1] to [5], wherein the compound (A) is a compound having no —OCF 2 O— structure.
  • a lubricant comprising the ether composition of [1] to [6].
  • a coating composition comprising the ether composition of [1] to [6] and a solvent for dissolving the compound (A).
  • the ether composition of the present invention has a low viscosity, a high fluidity, and a high fixability to a substrate despite high solubility in a solvent.
  • a lubricant comprising the ether composition of the present invention provides a surface with a low coefficient of friction.
  • the compound (A) in the present invention comprises the following group (Y), one or more groups selected from the following group (X1) bonded to the group (Y) and the following group (X2) bonded to the group (Y): And the following group (X3) bonded to the group (Y) and further having the following group (Z1) bonded to the group (Y).
  • the ether composition of the present invention is a mixture of two or more kinds of compounds (A) having different combinations of the group (X1), the group (X2), the group (X3) and the group (Z1), and the group in the ether composition
  • the ratio of the total number of moles of the group (X3) to the total number of moles of the group (X1), the total number of moles of the group (X2), the total number of moles of the group (X3) and the total number of moles of the group (Z1) 90 mol%.
  • the group (X1) is a group having a HO—CH 2 CF 2 O— group at the terminal.
  • a group represented by the following formula (X11) is preferable from the viewpoint of ease of production of the compound (A) and stability. HO—CH 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 O) d1 ⁇ (X11)
  • D1 is an integer of 1 to 200, preferably an integer of 3 to 100, and more preferably an integer of 5 to 50.
  • groups (X1) When there are a plurality of groups (X1) in one molecule, they may be the same group or different groups.
  • the category of the group having the same group (X1) includes groups having different numbers of structural units. For example, groups (X11) that differ only in the number of d1 are considered to be the same group. When several group (X1) exists in 1 molecule, it is preferable that it is the same group.
  • the group (X2) is a group having a HO—CH 2 CH 2 O— group at the terminal.
  • a group represented by the following formula (X12) is preferable from the viewpoint of ease of production of the compound (A) and stability. HO— (CH 2 CH 2 O) a1 — (CH 2 ) c1 —CF 2 O (CF 2 CF 2 O) d2 — (X12)
  • a1 is 1 or 2, and 1 is preferable.
  • c1 is an integer of 1 to 100, preferably an integer of 1 to 10, and more preferably 1 or 2.
  • d2 is an integer of 1 to 200, preferably an integer of 3 to 100, and more preferably an integer of 5 to 50.
  • groups (X2) When there are a plurality of groups (X2) in one molecule, they may be the same group or different groups.
  • the category of the group having the same group (X2) includes groups having different numbers of structural units. For example, groups (X12) that differ only in the number of d2 are considered to be the same group. In the numbers of a1, c1, and d2, groups (X12) in which a1 and c1 other than d2 are different from each other are considered to be different groups. When several group (X2) exists in 1 molecule, it is preferable that it is the same group.
  • the group (X3) is a group having a HO—CH 2 CH (OH) CH 2 O— group at the terminal.
  • a group represented by the following formula (X13) is preferable from the viewpoint of ease of production of the compound (A) and stability. HO—CH 2 CH (OH) CH 2 O— (CH 2 CH 2 O) a2 — (CH 2 ) c2 —CF 2 O (CF 2 CF 2 O) d3 — (X13)
  • a2 is an integer of 0 to 2, preferably 0 or 1.
  • c2 is an integer of 1 to 100, preferably an integer of 1 to 10, and more preferably 1 or 2.
  • d3 is an integer of 1 to 200, preferably an integer of 3 to 100, and more preferably an integer of 5 to 50.
  • a plurality of groups (X3) When a plurality of groups (X3) are present in one molecule, they may be the same group or different groups.
  • the category of the group having the same group (X3) includes groups having different numbers of structural units. For example, groups (X13) that differ only in the number of d3 are considered to be the same group. In the numbers of a2, c2, and d3, groups (X13) in which a2 and c2 other than d3 are different from each other are considered to be different groups. When several group (X3) exists in 1 molecule, it is preferable that it is the same group.
  • the group (Z1) is a group having an R F O— group at the terminal.
  • the group (Z1) is preferably a group represented by the following formula (Z11) from the viewpoint of ease of production of the compound (A) and stability.
  • R F is a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a group having an etheric oxygen atom inserted between carbon-carbon atoms of the group.
  • R F has preferably 1 to 16 carbon atoms, and more preferably 1 to 6 carbon atoms.
  • g is an integer of 3 to 200, preferably an integer of 3 to 100, more preferably an integer of 3 to 70, and particularly preferably an integer of 5 to 50.
  • the category of the group having the same group (Z1) includes groups having different numbers of structural units. For example, groups (Z11) that differ only in the number of g are considered to be the same group. When several group (Z1) exists in 1 molecule, it is preferable that it is the same group.
  • the group (Y) is a perfluorinated divalent or higher valent saturated hydrocarbon group or a group in which an etheric oxygen atom is inserted between carbon-carbon atoms of the group. There is no group (Z1) structure in the group (Y).
  • the group (Y) includes a perfluorinated divalent to 7-valent saturated hydrocarbon group or an etheric oxygen between the carbon-carbon atoms of the compound (A) from the viewpoint of ease of production and stability.
  • a group in which an atom is inserted is preferable, and a perfluorinated trivalent to pentavalent saturated hydrocarbon group or a group in which an etheric oxygen atom is inserted between carbon-carbon atoms of the group is more preferable.
  • the group (Y) preferably does not have a —CF 3 group. Even if Y has a —CF 3 group, the —CF 3 group is preferably bonded to a tertiary carbon atom.
  • the tertiary carbon atom in the group (Y) means a carbon atom having three adjacent carbon atoms (a carbon atom to which no fluorine atom is bonded).
  • the number of etheric oxygen atoms is preferably 1 to 3. Since an etheric oxygen atom exists between carbon-carbon atoms, an etheric oxygen atom is present at the end of the group (Y) bonded to the group (X1), the group (X2), the group (X3) and the group (Z1). Does not exist.
  • the group (Y) contains an etheric oxygen atom, the group (Y) preferably has no —OCF 2 O— structure, and the group (X1), group (X2), group (X3) and Those having no —OCF 2 — structure at the terminal portion bonded to the group (Z1) are preferred. In a compound having no such structure, the chemical stability is remarkably improved.
  • Examples of the trivalent group (Y) include a group (Y 3 -1) to a group (Y 3 -4). However, the group (Y 3 -4) represents a perfluorocyclohexane-1,3,5-triyl group.
  • Examples of the tetravalent group (Y) include a group (Y 4 -1) to a group (Y 4 -4), which are easy to synthesize, chemical stability of the compound, and low crystallinity. Therefore, the group (Y 4 -1) is preferable.
  • Examples of the pentavalent group (Y) include a group (Y 5 -1).
  • the compound (A) preferably has no —OCF 2 O— structure from the viewpoint of chemical stability.
  • the compound having no —OCF 2 O— structure means a compound in which the presence of the structure cannot be detected by a usual analytical method ( 19 F-NMR or the like).
  • the compound (A) is preferably a compound represented by the following formula (A) from the viewpoint of ease of production and stability. (X11-) m1 (X12-) m2 (X13-) m3 (Z11-) m4 Y (A)
  • m1 is an integer of 0 to 2
  • m2 is an integer of 0 to 2
  • m1 + m2 is an integer of 1 to 4
  • m3 is 1 or 2
  • m4 is 0 or 1
  • m1 + m2 + m3 + m4 is An integer of 2 to 7
  • X11 is a group represented by the formula (X11)
  • X12 is a group represented by the formula (X12)
  • X13 is a group represented by the formula (X13).
  • Z11 is a group represented by the formula (Z11)
  • Y is a perfluorinated (m1 + m2 + m3 + m4) -valent saturated hydrocarbon group or an etheric oxygen atom inserted between carbon-carbon atoms of the group.
  • the ether composition of the present invention is a composition comprising two or more compounds (A).
  • the ether composition in the present invention is a mixture of two or more kinds of compounds (A) having different chemical structures, even if the compound (A) can be uniquely expressed by a chemical formula. Means.
  • the composition which consists of 2 or more types of the compound (A) represented by a different chemical formula is also contained in the ether composition in this invention.
  • compositions comprising the compound (A), the group (Y), the group (X1), the group (X2), the group (X3) and the group (Z1) are the same group, and the group (X1), the group (X2 ), A composition comprising two or more compounds (A) having different numbers of groups (X3) and groups (Z1).
  • composition (2) of the compound (A) the group (Y), the group (X1), the group (X2), the group (X3) and the group (Z1) are the same group and the number of the groups (Z1) is different.
  • Compositions comprising more than one species are preferred.
  • the average of d1 in the group (X1) in the ether composition is 1 to 200, preferably 3 to 100, and more preferably 5 to 50.
  • the average of a1 in the group (X2) in the ether composition is 1 to 2, and 1 is preferable.
  • the average of c1 in the group (X2) in the ether composition is 1 to 100, preferably 1 to 10, and more preferably 1 to 2.
  • the average d2 in the group (X2) in the ether composition is 1 to 200, preferably 3 to 100, and more preferably 5 to 50.
  • the average of a2 in the group (X3) in the ether composition is 0 to 2, and preferably 0 to 1.
  • the average of c2 in the group (X3) in the ether composition is 1 to 100, preferably 1 to 10, and more preferably 1 to 2.
  • the average of d3 in the group (X3) in the ether composition is 1 to 200, preferably 3 to 100, and more preferably 5 to 50.
  • the average g in the group (Z1) in the ether composition is 3 to 200, preferably 3 to 100, more preferably 3 to 70, and particularly preferably 5 to 50.
  • Total moles of group (X3) relative to the sum of total moles of groups (X1), total moles of groups (X2), total moles of groups (X3) and total moles of groups (Z1) in the ether composition
  • the number ratio is 40 to 90 mol%, preferably 50 to 90 mol%, more preferably 55 to 85 mol%, and still more preferably 60 to 80 mol%. If the ratio of the total number of moles of group (X3) is more than the lower limit of the said range, the fixability to a base material will become high. If the ratio of the total number of moles of group (X3) is 90 mol% or less, a viscosity will become low and fluidity
  • the ether composition of the present invention preferably contains as little a compound (A) having a group (Z1) as possible from the viewpoint of fixability to a substrate.
  • Total moles of group (Z1) relative to the sum of total moles of groups (X1), total moles of groups (X2), total moles of groups (X3) and total moles of groups (Z1) in the ether composition
  • the ratio of the number is preferably 10 mol% or less, and more preferably 5 mol% or less.
  • the number of moles of the group having a HO— group at the terminal can be determined as follows.
  • the terminal is a HO—CH 2 CF 2 O— group
  • it is determined from the peak area in the vicinity of ⁇ 80 to ⁇ 81.0 ppm of 19 F-NMR derived from the fluorine atom of CF 2 in the group.
  • the terminal is a HO—CH 2 CH 2 OCH 2 CF 2 O— group
  • a peak in the vicinity of ⁇ 78.0 to ⁇ 80.0 ppm of 19 F-NMR derived from the fluorine atom of CF 2 in the group Obtain from area.
  • Another method is to use a compound having both a hydrogen atom and a fluorine atom as an internal standard substance, and obtain from the measurement results of 19 F-NMR and 1 H-NMR.
  • the internal standard substance include bistrifluoromethylbenzene.
  • the terminal when the terminal is a HO—CH 2 CF 2 O— group, it is determined from the peak area around 4.0 to 4.1 ppm of 1 H-NMR derived from CH 2 in the group.
  • the terminal is a HO—CH 2 CH 2 OCH 2 CF 2 O— group or a HO—CH 2 CH (OH) CH 2 OCH 2 CF 2 O— group, 3 derived from CH 2 adjacent to CF 2 Calculated from the peak area around 8 to 4.0 ppm.
  • it can also be determined by the ratio to the peak area around 3.5 ppm derived from CH 2 of the terminal HO—CH 2 — group. It can also be determined from the peak area around 3.7 to 3.9 ppm derived from CH in the CH (OH) portion.
  • the signals of 1 H-NMR used for quantification of the number of moles of HO— groups overlap, so that HO—
  • the group is converted into a group such as CF 3 C (O) O— or CH 3 C (O) O— by chemical modification, and from the peak area of the chemical shift of 1 H-NMR or 19 F-NMR of the group
  • the number of HO-groups can be determined.
  • the peak position of the peak derived from the HO— group varies depending on the measurement environment (pH, etc.), and particularly overlaps around 3.5 to 3.8 ppm, which is important for identification. There is. Therefore, it is desirable to add a very small amount of deuterium solvent (for example, deuterium water) to the sample to deuterate the hydrogen of the HO— group and shift it to a position that does not overlap with the aforementioned peak group.
  • deuterium solvent for example, deuterium water
  • the number of moles of a group having an R F O— group at the terminal can be quantified as follows in the case of a CF 3 O— group.
  • Examples of the method for determining the number of moles of CF 3 O— groups include a method for determining the structure of a compound contained in an ether composition and determining its content, or a method for determining the composition as it is. Specifically, in the case of obtaining by using the NMR method, 19 F-NMR of the ether composition is measured, and the peak area of the CF 3 O— group is obtained. For example, the 19 F-NMR chemical shift of the CF 3 O— group can be observed in the vicinity of ⁇ 54.0 to ⁇ 56.0 ppm.
  • the ether composition of the present invention preferably does not contain the compound (H) in which all the groups bonded to the group (Y) are the group (Z1). It does not contain compound (H) at all, or even if it is contained, the content determined by high performance liquid chromatography (hereinafter referred to as HPLC) is 2.0% by mass or less. Means. When the ether composition of the present invention does not contain the compound (H), bleed out can be suppressed and the fixability of the lubricant to the base material can be enhanced.
  • the compound (H) is preferably removed from the ether composition by a purification method described later.
  • the ether composition of the present invention includes a compound in which all the groups bonded to the group (Y) are the group (X1), a compound in which all the groups bonded to the group (Y) are the group (X2), and a bond to the group (Y). In some cases, one or more of the compounds in which all the groups are the group (X3) and the compounds in which all the groups bonded to the group (Y) are the groups (Z1) are included. 95 mass% or more is preferable with respect to an ether composition, and, as for the total amount of a compound (A), 98 mass% or more is more preferable. The total amount may be 100% by mass.
  • the number average molecular weight (hereinafter referred to as Mn) of the ether composition is preferably 500 to 1,000,000, more preferably 500 to 100,000, and particularly preferably 1,000 to 20,000.
  • the molecular weight distribution (hereinafter referred to as Mw / Mn) of the ether composition is preferably 1.01 to 1.5, more preferably 1.05 to 1.25. If Mn and Mw / Mn are in this range, the viscosity is low, the evaporation component is small, and the uniformity when dissolved in the solvent is excellent.
  • Mn is measured by gel permeation chromatography (hereinafter referred to as GPC). Mw / Mn is determined from Mn and Mw (mass average molecular weight) measured by GPC.
  • Method 1 A method of preparing an ether composition by blending each of two or more kinds of compounds (A) and purifying them.
  • Method 2) When producing one compound (A), a reaction product containing a compound (A) different from the one compound (A) as a by-product is obtained, and the reaction product is purified. And a method of forming an ether composition in which the ratio of the total number of moles of the group (X3) is in a specific range.
  • Method 3) A method in which two or more of the purified ether compositions in Method 2 are blended to form an ether composition.
  • two or more kinds of compounds (A) can be produced by changing the raw materials in the method described in International Publication No. 2005/068534 to raw materials corresponding to the respective compounds (A).
  • a compound having a terminal FC (O) -group is obtained by esterification, direct liquid phase fluorination, or ester decomposition reaction described in International Publication No. 2005/068534.
  • a method in which the terminal is an FC (O) -group is reacted with an alcohol or water to form an ester or a carboxylic acid, and then reduced, or the terminal is an FC (O) -group
  • a compound in which the terminal is a HO—CH 2 — group is obtained by a method in which the compound is esterified by transesterification with an alcohol and then reduced.
  • 2-methyl-2-propanol is subjected to ring-opening addition to a part of the terminal HO—CH 2 — group to obtain a compound (A).
  • a reaction product containing a by-product can be obtained by carrying out the reaction in the same manner as in Method 1 or by changing the reaction conditions in Method 1.
  • the compound (A) is produced by a method that directly undergoes a liquid phase fluorination reaction and when the conditions of the direct liquid phase fluorination reaction are severe, a molecular end cleavage reaction occurs, and CF 3- A compound (A) having a group may be formed. Further, by adjusting the amount of 2-methyl-2-propanol, a plurality of compounds (A) having different numbers of groups (X3) are formed at a ratio corresponding to the amount of 2-methyl-2-propanol.
  • the concentration of fluorine gas contained in the gas blown into the liquid phase is preferably 5.0 to 50% by volume, more preferably 10 to 30% by volume.
  • generation ratio of group (Z1) there exists a tendency for the production
  • the product may contain compound (H).
  • compound (H) and other impurities are contained, it is preferably removed by purification.
  • the purification method include a method of removing metal impurities, anion impurities, and the like with an ion-adsorbing polymer, a supercritical extraction method, and column chromatography, and a combination of these methods is preferable.
  • the ether composition of the present invention may be used as it is, may be used by adding other compounds, or may be used as an additive to other compounds.
  • the ether composition of the present invention may be used as it is, and a PFPE other than the compound (A) (hereinafter referred to as other PFPE) is added to the ether composition of the present invention.
  • the ether composition of the present invention may be added to another PFPE.
  • the amount of the other PFPE is not limited to the total amount of the ether composition (the ether composition of the present invention and the other PFPE) in order to fully exhibit the characteristics of the present invention. Is preferably 10% by mass or less, and more preferably 5% by mass or less.
  • the amount of the other PFPE is 50% by mass or less based on the total amount of the ether composition (the total of the ether composition of the present invention and the other PFPE). Preferably, 30 mass% or less is more preferable.
  • PFPE other PFPE having a HO-group at the terminal, other PFPE having an ultraviolet absorbing group at the terminal, and the like are preferable.
  • examples of other PFPE having a HO-terminal group include FOMBLIN Z-DiOL, FOMBLIN Z-TetraOL manufactured by Solvay, and DEMNUM SA manufactured by Daikin Industries.
  • Other PFPEs having UV-absorbing groups at the end include FOBLIN Z-DIAC, FOBLIN Z-DEAL, FOBLIN AM2001, FOBLIN Z-DISOC manufactured by Solvay, DEMNUM SH manufactured by Daikin Industries, Moresco A20H manufactured by Matsumura Oil Co., Ltd. Is mentioned.
  • PFPEs are preferably those that do not contain PFPE whose terminal groups are only CF 3 -groups. Further, as other PFPE, those having a number average molecular weight of 1,000 to 10,000 are preferable.
  • the lubricant of the present invention is a lubricant containing the ether composition of the present invention in the following form (i) or (ii). These lubricants can be used by adding a solvent when applied to a substrate.
  • the composition containing the solvent and the lubricant is referred to as a coating composition.
  • the coating composition of the present invention is a composition containing the lubricant of the present invention and a solvent in the following form (iii) or (iv). After applying the coating composition to the substrate, the solvent is volatilized by means such as drying, and the solvent is removed from the lubricant of the present invention.
  • a lubricant containing only an ether composition is a lubricant containing only an ether composition.
  • a lubricant comprising an ether composition and components other than the ether composition and the solvent (hereinafter referred to as other components).
  • a coating composition in which an ether composition is dissolved or dispersed in a solvent in which an ether composition is dissolved or dispersed in a solvent.
  • a coating composition comprising an ether composition, a solvent, and other components.
  • solvent used in the coating composition of the present invention examples include perfluoroamines (perfluorotripropylamine, perfluorotributylamine, etc.), perfluoroalkanes (Bertrel XF (manufactured by DuPont), etc.) or hydrofluoroethers (AE-3000). (Asahi Glass Co., Ltd.) is preferred, and hydrofluoroethers are more preferred from the viewpoint of a low ozone depletion coefficient.
  • the coating composition of the present invention may be a solution, a suspension or an emulsion, and is preferably a solution.
  • the concentration of the ether composition in the coating composition of the present invention is preferably 0.001 to 50% by mass, more preferably 0.01 to 20% by mass.
  • Examples of other components used in the lubricant and coating composition of the present invention include radical scavengers (for example, X1p (manufactured by Dow Chemicals)).
  • examples of other components when the lubricant of the present invention is used as a surface modifier include coupling agents (silane-based, epoxy-based, titanium-based, aluminum-based, etc.). The coupling agent improves the fixability between the substrate and the coating film.
  • These other components are not volatile and are components that are not removed from the ether composition of the present invention at the same time as the solvent is removed.
  • the lubricant of the present invention may not achieve desired performance, it is preferable that the lubricant does not contain metal ions, anions, moisture, low-molecular polar compounds, and the like. Moreover, when the coating composition of this invention is used, it is preferable that the lubricant after solvent removal does not contain a solvent substantially.
  • Metal ions Na, K, Ca, Al, etc.
  • Anions F, Cl, NO 2 , NO 3 , PO 4 , SO 4 , C 2 O 4, etc.
  • moisture may corrode the surface of the substrate. Therefore, it is preferable that each content is as follows.
  • Al and Mg are preferably 1,000 ppb or less, Na and K are each 20,000 ppb or less, Ca is 10,000 ppb or less, and Fe, Ni, Cu, and Zn are all preferably 100 ppb or less.
  • F is preferably 10,000 ppm or less, and formic acid, Cl, NO 3 , SO 4 and oxalic acid are all preferably 5,000 ppb or less.
  • the moisture content of the lubricant is preferably 2,000 ppm or less, particularly preferably 1,000 ppm or less.
  • Low molecular polar compounds may reduce the fixability between the substrate and the coating film.
  • a known method of using a lubricant can be applied.
  • a lubricant or a coating composition is applied to the surface of a magnetic recording medium substrate to form a lubricant layer.
  • a coating composition is used, the solvent is removed after coating to form a lubricant layer.
  • Application methods for lubricants and coating compositions include roll coating methods, casting methods, dip coating methods (dipping methods), spin coating methods, water casting methods, die coating methods, Langmuir project methods, vacuum deposition methods, etc. And a dip coating method, a spin coating method or a vacuum deposition method is preferable.
  • the thickness of the carbon protective film is preferably 5.0 nm or less, and the average surface roughness (Ra) of the carbon protective film is preferably 2.0 nm or less.
  • adsorption treatment so that the lubricant is firmly adsorbed on the surface of the carbon protective film.
  • the adsorption treatment include heat treatment, infrared irradiation treatment, ultraviolet irradiation treatment, plasma treatment, and the like. Heat treatment or ultraviolet irradiation treatment is preferable, and an additive such as an ultraviolet absorber is unnecessary, and thus heat treatment is more preferable.
  • the substrate is preferably treated at 100 to 150 ° C. because the substrate does not deteriorate during the treatment.
  • the magnetic recording medium after the adsorption treatment may be washed with a fluorine-based solvent for the purpose of removing the deposits and excess lubricant. Since the surface of the lubricant film after the adsorption treatment has high water repellency, even if it is placed under high temperature and high humidity, moisture can be prevented from entering the magnetic recording medium, and high lubrication can be achieved over a long period of time. Can maintain sex.
  • the thickness of the coating film formed from the ether composition of the present invention is preferably 5.0 nm or less, more preferably 3.0 nm or less, and particularly preferably 2.0 nm or less from the viewpoint of improving the recording density. From the viewpoint of durability, 0.25 nm or more is preferable.
  • the ether composition of the present invention can be applied to surfaces other than magnetic recording medium substrates.
  • a surface modifier that is applied to the surface of the polymer substrate to control the refractive index of the polymer substrate a surface modifier that improves the chemical resistance of the polymer substrate, a wire coating material, an ink repellent (for example, Ink repellent for coating, ink repellent for printing equipment (inkjet, etc.), adhesive for semiconductor elements (for example, adhesive for lead-on-chip tape), protective coating for semiconductor (for example, moisture-proof coating, for solder) Anti-cracking agents, etc.), additives for thin films used in the optical field (for example, pellicle films), lubricants for antireflection films for displays, antireflection films for resists, etc.
  • ink repellent for example, Ink repellent for coating, ink repellent for printing equipment (inkjet, etc.
  • adhesive for semiconductor elements for example, adhesive for lead-on-chip tape
  • protective coating for semiconductor for example, moisture-proof coating, for solder
  • the coating film obtained from the ether composition of the present invention is transparent, has a low refractive index, and is excellent in heat resistance or chemical resistance.
  • the coating film retains high lubricity and has self-repairing properties.
  • the ether composition of the present invention is also useful as a surfactant.
  • it can be used as an additive for reducing the surface tension of paint, a leveling agent for paint, a leveling agent for polishing liquid, and the like.
  • the addition amount of the ether composition of the present invention is preferably 0.01 to 5% by mass relative to the paint.
  • HPLC analysis Using an HPLC apparatus (Prominence, manufactured by Shimadzu Corporation), HPLC analysis was performed under the following conditions. Specifically, in one cycle of analysis, the ether composition was eluted by gradually increasing the concentration of HFIP in the mobile phase from 0% to 100%, and the polarity of the compound was analyzed from the elution time.
  • Analysis column normal phase silica gel column (manufactured by YMC, SIL-gel), Mobile phase: R-225 (Asahi Glass Co., Ltd., Asahi Clin AK-225G) and HFIP, Mobile phase flow rate: 1.0 mL / min, Column temperature: 37 ° C Detector: Evaporative light scattering detector.
  • Viscosity measurement About each ether composition, the viscosity measurement in 20 degreeC and 80 degreeC was performed. A rotary viscometer (manufactured by Tokimec, TV-20) was used as the apparatus. A cone and plate type rotator was used as the measuring element.
  • Example 1 In the method described in Example 11 of International Publication No. 2005/068534, polyoxyethylene glycerol ether (manufactured by NOF Corporation, UNIOX G1200) is converted to diglycerin-initiated polyoxyethylene glycerol ether (manufactured by Sakamoto Pharmaceutical Co., Ltd.). The reaction was carried out in the same manner except that it was changed to SC-E1500). Diglycerin-initiated polyoxyethylene glycerol ether is reacted with FC (O) CF (CF 3 ) OCF 2 CF (CF 3 ) O (CF 2 ) 3 F to obtain the following compound (B-1) that is liquid at room temperature. It was.
  • FC (O) CF (CF 3 ) OCF 2 CF (CF 3 ) O (CF 2 ) 3 F FC (O) CF (CF 3 ) OCF 2 CF (CF 3 ) O (CF 2 ) 3 F
  • Example 2 In the method described in Example 2-1 of Example of International Publication No. 2005/068534, R-113 is changed to CFE-419, and the concentration of fluorine gas contained in the gas blown into the liquid phase is changed from 20% by volume to 10%. A liquid phase fluorination reaction was similarly carried out except that the volume% was changed.
  • the product was a composition (c-1) containing the following compound (C-1) as a main component and having 99.9 mol% or more of hydrogen atoms in the compound (B-1) substituted with fluorine atoms.
  • the NMR spectrum measured in the composition (c-1) is as follows. 1 H-NMR ⁇ (ppm): 5.9 to 6.4. 19 F-NMR ⁇ (ppm): ⁇ 55.8, ⁇ 77.5 to ⁇ 86.0, ⁇ 88.2 to ⁇ 92.0, ⁇ 120.0 to ⁇ 139.0, ⁇ 142.0 to ⁇ 146.0.
  • Example 3 According to the method described in Example 3 of Example of International Publication No. 2005/068534, the composition (c-1) was subjected to ester decomposition reaction, and the composition (d-1) as a main component (d -1) was obtained.
  • Example 4 [Example 4-1] According to the method described in Example 4-1 of Example of International Publication No. 2005/068534, an esterification reaction was performed by reacting the composition (d-1) with ethanol. A composition (e-1) containing the following compound (E-1) as a main component was obtained. The composition (e-1) was used in the reaction of Example 5.
  • Example 4-2 According to the method described in Example 4-2 of the example of International Publication No. 2005/068534, a transesterification reaction was performed by reacting the composition (d-1) with ethanol to obtain the following compound (E-1). A composition containing the main component was obtained.
  • Example 5 In the method described in Example 5 of Example of International Publication No. 2005/068534, the composition (e-1) is subjected to a reduction reaction, and the composition (f-1) containing the following compound (F-1) as a main component (f-1) )
  • the NMR spectrum measured for the composition (f-1) is as follows. 1 H-NMR ⁇ (ppm): 3.94. 19 F-NMR ⁇ (ppm): ⁇ 54.0, ⁇ 80.1, ⁇ 88.2 to ⁇ 90.5, ⁇ 135.0 to ⁇ 139.0.
  • Example 6 [Example 6-1] Examples 1 to 5 were repeated to obtain 400 g of the composition (f-1). In a 250 mL round bottom flask under a nitrogen atmosphere, 40 g of the composition (f-1) and 20 g of 2-methyl-2-propanol were added and stirred until uniform mixing. A reflux tube having an outlet maintained at 20 ° C. and replaced with nitrogen gas was installed in the round bottom flask. Next, 1.5 g of potassium t-butoxide was put into a round bottom flask, heated to 70 ° C. and stirred for 30 minutes. Further, while maintaining the internal temperature at 70 ° C., 3.6 g of 2,3-epoxy-1-propanol was added dropwise over 2 hours and stirred for 12 hours.
  • the round bottom flask was cooled to 25 ° C. and replaced with nitrogen gas, and then 50 mL of 0.2 g / L hydrochloric acid was added dropwise to obtain a two-layer separated liquid.
  • the organic layer of the liquid was recovered, and a solution obtained by adding 50 mL of R-225 was washed twice with 500 mL of sodium bicarbonate water, dehydrated with magnesium sulfate, and then the solvent was distilled off with an evaporator. 41.4 g of a pale yellow composition (g-1) was obtained.
  • Example 6-2 The synthesis was carried out in the same manner as described in Example 6-1 except that 3 g of 2,3-epoxy-1-propanol was changed to 2.6 g, and a light yellow composition (g -2) 41.0 g was obtained.
  • Example 6-3 The synthesis was carried out in the same manner as described in Example 6-1 except that 3 g of 2,3-epoxy-1-propanol was changed to 2.3 g, and a light yellow composition (g -3) 40.7 g was obtained.
  • Example 6-4 The synthesis was carried out in the same manner as described in Example 6-1 except that 3 g of 2,3-epoxy-1-propanol was changed to 2.0 g, and a light yellow composition (g 40.9 g of -4) was obtained.
  • Example 6-5 The synthesis was carried out in the same manner as described in Example 6-1 except that 3 g of 2,3-epoxy-1-propanol was changed to 1.5 g, and a light yellow composition (g 40.9 g of -5) was obtained.
  • Example 6-6 The synthesis was carried out in the same manner as described in Example 6-1 except that 3 g of 2,3-epoxy-1-propanol was changed to 1.1 g, and a light yellow composition (g 40.3 g of -6) was obtained.
  • Example 6-7 Synthesis as described in Example 6-1 except that 1.5 g of potassium t-butoxide was changed to 0.6 g and 3 g of 2,3-epoxy-1-propanol was changed to 1.5 g. And 40.5 g of a light yellow composition (g-7) which was liquid at 25 ° C. was obtained.
  • Example 6-8 The synthesis was carried out in the same manner as described in Example 6-1 except that 3 g of 2,3-epoxy-1-propanol was changed to 0.9 g, and a light yellow composition (g 40.2 g of -8) was obtained.
  • the NMR spectra measured for the compositions (g-1) to (g-8) are as follows.
  • compositions (g-1) to (g-8) were purified by the following column chromatography method.
  • Granular silica gel (MS-Gel D75-120A manufactured by S-Tech Co., Ltd.) diluted with R-225 was packed into a column having a diameter of 150 mm and a length of 500 mm to form a silica gel packed phase having a height of 100 mm.
  • the solution eluted from the silica gel packing phase was concentrated with an evaporator to recover a crude product.
  • the above operations were carried out for the compositions (g-1) to (g-8), respectively, to obtain roughly purified products (g′-1) to (g′-8).
  • Example 8 Crude products (g′-1) to (g′-8) were purified by the following supercritical extraction method. Thick stainless steel container (inner diameter ⁇ 33 mm ⁇ depth 45 mm) with inlet and outlet, supercritical carbon dioxide fluid feed pump (manufactured by JASCO Corporation, SCF-201), automatic pressure control valve (manufactured by JASCO Corporation, 880- 81), an apparatus equipped with a column oven used for ordinary column chromatography was prepared. 30 g of the crude product was injected into the container, and supercritical carbon dioxide was allowed to flow at a liquefied carbon dioxide equivalent flow rate of 5.0 cc / min.
  • the temperature in the container was fixed at 100 ° C., the pressure in the container was set to 20 MPa, and extraction operation was performed for 3 hours to fractionate and remove low-polar components.
  • the pressure in the container was set to 28 Pa, and R-225 as an extraction aid was supplied at 0.25 cc / min from an auxiliary liquid pump (manufactured by JASCO Corporation, SCF-201).
  • Extraction operation was performed for 6 hours, and the solution containing the purified product was recovered.
  • the dissolution aid of the extracted solution was removed under reduced pressure in a high-pressure vacuum drying furnace, and a crude product was recovered.
  • the above operations were performed on the crude compositions (g′-1) to (g′-8), respectively, to obtain purified products (g ′′ -1) to (g ′′ -8).
  • each purified product was subjected to NMR analysis. As a result, each purified product was found to be a composition comprising two or more of the following compound (A-1).
  • the terminal group X in the formula is selected from the following group (X1-1), group (X3-1) and group (Z1-1), and one or more terminal groups X are the group (X3-1).
  • Group (X1-1) HO—CH 2 CF 2 O— group.
  • Group (X3-1) HO—CH 2 CH (OH) CH 2 OCH 2 CF 2 O— group.
  • Group (Z1-1) CF 3 O— group.
  • the group (X3-1) is formed by ring-opening addition of 2,3-epoxy-1-propanol to the group (X1-1) in the compound (F-1) in the step of Example 6. .
  • the group (X1-1) is the one in which 2,3-epoxy-1-propanol remained without ring-opening addition to the group (X1-1) in the compound (F-1) in the step of Example 6. is there.
  • the group (Z1-1) is a group generated by elimination and fluorination of an ester group in the liquid phase fluorination reaction of Example 2.
  • the number of moles of each group in the purified product can be determined by 19 F-NMR and 1 H-NMR.
  • the group (X1-1) and the group (X3-1) can be separated by the difference in acidity of the HO— group.
  • the number of moles of the group (X1-1): HO—CH 2 CF 2 O— group is determined from the peak area around ⁇ 80 to ⁇ 81.0 ppm derived from the fluorine atom of CF 2 in the group.
  • the number of moles of the group (X3-1): HO—CH 2 CH (OH) CH 2 OCH 2 CF 2 O— is from ⁇ 75.0 to ⁇ 78.0 ppm derived from the fluorine atom of CF 2 in the group. Obtained from nearby peak area.
  • the number of moles of the group (Z1-1): CF 3 O— group is determined from the peak area around ⁇ 54.0 to ⁇ 56.0 ppm derived from the fluorine atom of the group.
  • glycidyl addition rate 2,3-epoxy-1-propanol (also known as glycidyl alcohol) was calculated using the following formula: did.
  • Glycidyl addition ratio [mol%] group (X3-1) [mol] / ⁇ group (X1-1) [mol] + group (X3-1) [mol] + group (Z1-1) [mol] ⁇ ⁇ 100.
  • Table 1 shows the NMR analysis results and the glycidyl addition rate of each purified product.
  • Example 10 [Example 10-1] The purified product (g ′′ -1) to (g ′′ -8), the composition (f-1) and the compound (FT) were subjected to GPC analysis and HPLC analysis. The results are shown in Table 1.
  • the purified products (g ′′ -1) to (g ′′ -8) and the composition (f-1) have a tendency that the molecular weight apparently decreases as the glycidyl addition rate increases. This is because the adsorption / desorption rate in the GPC column decreases with increasing polarity of the compound and the elution time increases, so that when the calibration is performed based on the elution time, the molecular weight is converted to be lower than the actual molecular weight.
  • Example 10-2 The purified product (g ′′ -1) to (g ′′ -8), the composition (f-1) and the compound (FT) were measured for viscosity and evaluated for fluidity. The results are shown in Table 1.
  • the purified products (g ′′ -1) to (g ′′ -8) and the composition (f-1) tend to increase in viscosity as the glycidyl addition rate increases. This is because the interaction between functional groups increases as the polarity of the compound increases.
  • fluidity as an oil in a wide range of about ⁇ 30 to 80 ° C. is required due to the recent expansion of applications.
  • Example 10-3 The purified products (g ′′ -1) to (g ′′ -8), the composition (f-1) and the compound (FT) were evaluated for solubility. The results are shown in Table 1.
  • the purified products (g ′′ -1) to (g ′′ -7) and the composition (f-1) tend to have lower solubility in fluorine solvents as the glycidyl addition rate increases. This is also due to a decrease in the affinity for the fluorine solvent, which is a nonpolar solvent, as the polarity of the compound increases.
  • PFPE fluorine solvent having a small surface tension
  • Example 11 [Example 11-1]
  • Example of stability test of purified product (g ′′ -4) The purified product (g ′′ -4) was heated from 25 ° C. to 500 ° C. at a rate of 10 ° C./min in a nitrogen atmosphere (100 mL / min) to reduce the mass of the purified product (g ′′ -4) by 25 mg.
  • the stability test was performed by the method of measuring on a differential thermobalance. As a result, the mass did not decrease until reaching 350 ° C. and was almost constant.
  • the stability test of 25 mg of the purified product (g ′′ -4) was conducted in the presence of 0.5 g of ⁇ -alumina fine powder (N-611N, manufactured by JGC Chemical Co., Ltd.) as an acid catalyst. It was the same as when no acid catalyst was used, and showed excellent stability.
  • Example 11-2 Examples of stability test of known PFPE: Using a known PFPE (compound (FT)), a stability test was conducted in the same manner as in Example 11-1. As a result, the total amount of the compound was instantly decomposed at 250 ° C. in the presence of ⁇ -alumina fine powder, and vaporized as a low molecular weight compound.
  • PFPE compound (FT)
  • the purified products (g ′′ -2) to (g ′′ -5) and (g ′′ -7) of the present invention are excellent in thermal stability as compared with the compound (FT). High fluidity, excellent solubility in solvents, and excellent fixability on magnetic recording media.
  • the purified product (g ′′ -1) having a glycidyl addition rate exceeding 90 mol% has a particularly high viscosity at 20 ° C. and is insufficient in fluidity and solubility in a solvent.
  • the purified products (g ′′ -6) and (g ′′ -8) having a ratio of less than 40 mol% have a low polarity and, for example, when used as a lubricant for magnetic recording media, have poor fixability to magnetic recording media. Further, the composition (f-1) having a glycidyl addition rate of 0 mol% has low polarity, and, for example, when used as a lubricant for a magnetic recording medium, the fixing property to the magnetic recording medium is insufficient. Compound (FT) has insufficient thermal stability.
  • the ether composition of the present invention is useful as a lubricant or the like. It should be noted that the entire contents of the specification, claims and abstract of Japanese Patent Application No. 2009-167059 filed on July 15, 2009 are incorporated herein as the disclosure of the specification of the present invention. It is.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Emergency Medicine (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Lubricants (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polyethers (AREA)

Abstract

　粘度が低く、流動性が高く、溶媒への溶解性が高いにもかかわらず、基材への定着性が高いエーテル組成物、低摩擦係数の表面を与える潤滑剤を提供する。　化合物（Ａ）の２種以上からなるエーテル組成物であり、化合物（Ａ）は、基（Ｙ）と、基（Ｙ）に結合した基（Ｘ１）または基（Ｘ２）と、基（Ｙ）に結合した基（Ｘ３）とを有し、基（Ｙ）に結合した基（Ｚ１）を有してもよい化合物であり、エーテル組成物中の基（Ｘ１）～基（Ｘ３）および基（Ｚ１）の総モル数の合計に対する基（Ｘ３）の総モル数の割合が４０～９０モル％である。基（Ｙ）：ペルフルオロ化された２価以上の飽和炭化水素基等。基（Ｘ１）：末端にＨＯ－ＣＨ２ＣＦ２Ｏ－基を有する基。基（Ｘ２）：末端にＨＯ－ＣＨ２ＣＨ２Ｏ－基を有する基。基（Ｘ３）：末端にＨＯ－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ－基を有する基。基（Ｚ１）：末端にＲＦＯ－基を有する基（ＲＦは炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基等。）

Description

エーテル組成物および潤滑剤
　本発明は、潤滑剤等として有用なエーテル組成物に関する。
　ペルフルオロ化されたポリエーテル構造を有する化合物（以下、ＰＦＰＥと記す。）は、磁気記録媒体の表面に適用する潤滑剤等として用いられている（非特許文献１）。
　該潤滑剤としては、従来から分子の末端に２つの－ＣＨ２ＯＨ基を有するＰＦＰＥが汎用されている。
　また、潤滑剤等として有用なＰＦＰＥまたはその組成物として、本発明者は下記を提案している。
　（１）下式（１）で表される基（ただし、式（１）中のａは０～１００の整数、ｂは０～１００の整数、ｃは１～１００の整数、ｄは１～２００の整数を示す。）を２個以上有するＰＦＰＥ（特許文献１）。
　ＨＯ－（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ・（ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ）ｂ－（ＣＨ２）ｃ－ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ－　（１）
　（２）分子量の異なる２種のＰＦＰＥを含むエーテル組成物（特許文献２）。
　近年、磁気記録媒体の記録密度の増大に伴い、磁気記録媒体と記録素子との間の空隙の狭化および磁気記録媒体の回転の高速化が進んでいる。そのため、磁気記録媒体の表面に塗布される潤滑剤の使用環境は、より厳しいものとなっている。そこで、該潤滑剤には、下記の性質が要求されている。
　（ｉ）磁気記録媒体の高速化に伴い、磁気記録媒体への定着性が高いこと。
　（ii）磁気記録媒体に記録素子が接触した際の衝撃を分散するために、塗膜としたときの表面の摩擦係数が低いこと。
　（iii）均一な磁気記録媒体の表面ができるために、粘度が低く、流動性が高いこと。
　しかし、本発明者らの検討によれば、従来の潤滑剤において（iii）の性質が良好である場合には、（ｉ）および（ii）の性質に劣る傾向があり、（ｉ）～（iii）の全ての性質において満足な潤滑剤は得られていなかった。
国際公開第２００５／０６８５３４号 国際公開第２００７／０１３４１２号
「月刊トライボロジ」、１９９５年、第９９巻、１１月号、ｐ．３７－３８
　本発明は、粘度が低く、流動性が高く、溶媒への溶解性が高いにもかかわらず、基材への定着性が高いエーテル組成物、低摩擦係数の表面を与える、該エーテル組成物を含む潤滑剤を提供する。
　そこで、本発明者は、さらなる検討を行った結果、分子量が同程度であったとしても、末端基の構造によって、粘度や流動性を変化させられることを見いだした。通常、ＰＦＰＥは平均組成式で表され、２種以上の化合物の混合物からなる組成物であるが、該組成物中の特定の末端基の割合を調節すると、粘度と流動性のバランスに優れたＰＦＰＥになりうることを見いだした。また該ＰＦＰＥを磁気記録媒体用の基材に塗布した場合には、摩擦係数が低く、定着性にも優れることを見いだした。
　本発明は、下記［１］～［９］の発明である。
［１］下記化合物（Ａ）の２種以上からなるエーテル組成物であり、
　化合物（Ａ）は、下記基（Ｙ）と、前記基（Ｙ）に結合した下記基（Ｘ１）および前記基（Ｙ）に結合した下記基（Ｘ２）から選ばれる１種以上の基と、前記基（Ｙ）に結合した下記基（Ｘ３）とを有し、前記基（Ｙ）に結合した下記基（Ｚ１）をさらに有してもよい化合物であり、
　前記エーテル組成物中の基（Ｘ１）の総モル数、基（Ｘ２）の総モル数、基（Ｘ３）の総モル数および基（Ｚ１）の総モル数の合計に対する基（Ｘ３）の総モル数の割合が、４０～９０モル％である、エーテル組成物。
　基（Ｙ）　：ペルフルオロ化された２価以上の飽和炭化水素基または該基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基。
　基（Ｘ１）：末端にＨＯ－ＣＨ２ＣＦ２Ｏ－基を有する基。
　基（Ｘ２）：末端にＨＯ－ＣＨ２ＣＨ２Ｏ－基を有する基。
　基（Ｘ３）：末端にＨＯ－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ－基を有する基。
　基（Ｚ１）　：末端にＲＦＯ－基を有する基（ただし、ＲＦは炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基または該基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基）。
［２］前記エーテル組成物中の基（Ｘ１）の総モル数、基（Ｘ２）の総モル数、基（Ｘ３）の総モル数および基（Ｚ１）の総モル数の合計に対する基（Ｘ３）の総モル数の割合が、５０～９０モル％である、［１］のエーテル組成物。
［３］前記基（Ｙ）が、ペルフルオロ化された２～７価の飽和炭化水素基または該基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基である、［１］または［２］のエーテル組成物。
［４］前記基（Ｘ１）が、下式（Ｘ１１）で表される基（ただし、ｄ１は１～２００の整数である。）であり、前記基（Ｘ２）が、下式（Ｘ１２）で表される基（ただし、ａ１は１または２であり、ｃ１は１～１００の整数であり、ｄ２は１～２００の整数である。）であり、前記基（Ｘ３）が、下式（Ｘ１３）で表される基（ただし、ａ２は０～２の整数であり、ｃ２は１～１００の整数であり、ｄ３は１～２００の整数である。）であり、前記基（Ｚ１）が、下式（Ｚ１１）で表される基（ただし、ｇは３～２００の整数である。
）である、［１］～［３］のエーテル組成物。
　ＨＯ－ＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ１－　　（Ｘ１１）
　ＨＯ－（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ１－（ＣＨ２）ｃ１－ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ２－　　（Ｘ１２）
　ＨＯ－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ－（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ２－（ＣＨ２）ｃ２－ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ３－　　（Ｘ１３）
　ＲＦＯ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ－　　（Ｚ１１）
　（ただし、ＲＦは炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基または該基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基）
［５］前記化合物（Ａ）が、下式（Ａ）で表わされる化合物である、［４］のエーテル組成物。
（Ｘ１１－）ｍ１（Ｘ１２－）ｍ２（Ｘ１３－）ｍ３（Ｚ１１－）ｍ４Ｙ　（Ａ）
　ただし、ｍ１は０～２の整数であり、ｍ２は０～２の整数であり、ｍ１＋ｍ２は１～４の整数であり、ｍ３は１または２であり、ｍ４は０または１であり、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４は２～７の整数であり、Ｘ１は前記式（Ｘ１１）で表される基であり、Ｘ１２は前記式（Ｘ１２）で表される基であり、Ｘ１３は前記式（Ｘ１３）で表される基であり、Ｚ１１は前記式（Ｚ１１）で表される基であり、Ｙは、ペルフルオロ化された（ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４）価の飽和炭化水素基または該基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基である。
［６］前記化合物（Ａ）が、－ＯＣＦ２Ｏ－構造を有さない化合物である、［１］～［５］のエーテル組成物。
［７］［１］～［６］のエーテル組成物を含む、潤滑剤。
［８］［１］～［６］のエーテル組成物と、前記化合物（Ａ）を溶解する溶媒とを含む、塗布用組成物。
［９］前記化合物（Ａ）の質量と前記溶媒の質量との合計に対する前記化合物（Ａ）の質量の割合が、０．０００１～１０質量％である、［８］の塗布用組成物。
　本発明のエーテル組成物は、粘度が低く、流動性が高く、溶媒への溶解性が高いにもかかわらず、基材への定着性が高い。
　本発明の該エーテル組成物を含む潤滑剤は、低摩擦係数の表面を与える。
＜エーテル組成物＞
　本発明における化合物（Ａ）は、下記基（Ｙ）と、基（Ｙ）に結合した下記基（Ｘ１）および基（Ｙ）に結合した下記基（Ｘ２）から選ばれる１種以上の基と、基（Ｙ）に結合した下記基（Ｘ３）とを有し、基（Ｙ）に結合した下記基（Ｚ１）をさらに有してもよい化合物である。本発明のエーテル組成物は、基（Ｘ１）、基（Ｘ２）、基（Ｘ３）および基（Ｚ１）の組み合わせが異なる２種以上の化合物（Ａ）の混合物であり、エーテル組成物中の基（Ｘ１）の総モル数、基（Ｘ２）の総モル数、基（Ｘ３）の総モル数および基（Ｚ１）の総モル数の合計に対する基（Ｘ３）の総モル数の割合が４０～９０モル％のものである。
（基（Ｘ１））
　基（Ｘ１）は、末端にＨＯ－ＣＨ２ＣＦ２Ｏ－基を有する基である。
　基（Ｘ１）としては、化合物（Ａ）の製造のしやすさおよび安定性の点から、下式（Ｘ１１）で表される基が好ましい。
　ＨＯ－ＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ１－　　（Ｘ１１）
　ｄ１は、１～２００の整数であり、３～１００の整数が好ましく、５～５０の整数がより好ましい。
　１分子中に複数の基（Ｘ１）が存在する場合、それぞれ同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。基（Ｘ１）が同一である基の範疇には、構造単位の数が異なる基も含まれる。たとえば、ｄ１の数のみが異なる基（Ｘ１１）は同一の基と考える。１分子中に複数の基（Ｘ１）が存在する場合、同一の基であるのが好ましい。
（基（Ｘ２））
　基（Ｘ２）は、末端にＨＯ－ＣＨ２ＣＨ２Ｏ－基を有する基である。
　基（Ｘ２）としては、化合物（Ａ）の製造のしやすさおよび安定性の点から、下式（Ｘ１２）で表される基が好ましい。
　ＨＯ－（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ１－（ＣＨ２）ｃ１－ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ２－　　（Ｘ１２）
　ａ１は、１または２であり、１が好ましい。
　ｃ１は、１～１００の整数であり、１～１０の整数が好ましく、１または２がより好ましい。
　ｄ２は、１～２００の整数であり、３～１００の整数が好ましく、５～５０の整数がより好ましい。
　１分子中に複数の基（Ｘ２）が存在する場合、それぞれ同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。基（Ｘ２）が同一である基の範疇には、構造単位の数が異なる基も含まれる。たとえば、ｄ２の数のみが異なる基（Ｘ１２）は同一の基と考える。ａ１、ｃ１、ｄ２の数において、ｄ２以外の数であるａ１およびｃ１がそれぞれ異なる基（Ｘ１２）は異なる基であると考える。１分子中に複数の基（Ｘ２）が存在する場合、同一の基であるのが好ましい。
（基（Ｘ３））
　基（Ｘ３）は、末端にＨＯ－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ－基を有する基である。
　基（Ｘ３）としては、化合物（Ａ）の製造のしやすさおよび安定性の点から、下式（Ｘ１３）で表される基が好ましい。
　ＨＯ－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ－（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ２－（ＣＨ２）ｃ２－ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ３－　　（Ｘ１３）
　ａ２は、０～２の整数であり、０または１が好ましい。
　ｃ２は、１～１００の整数であり、１～１０の整数が好ましく、１または２がより好ましい。
　ｄ３は、１～２００の整数であり、３～１００の整数が好ましく、５～５０の整数がより好ましい。
　１分子中に複数の基（Ｘ３）が存在する場合、それぞれ同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。基（Ｘ３）が同一である基の範疇には、構造単位の数が異なる基も含まれる。たとえば、ｄ３の数のみが異なる基（Ｘ１３）は同一の基と考える。ａ２、ｃ２、ｄ３の数において、ｄ３以外の数であるａ２およびｃ２がそれぞれ異なる基（Ｘ１３）は異なる基であると考える。１分子中に複数の基（Ｘ３）が存在する場合、同一の基であるのが好ましい。
（基（Ｚ１））
　基（Ｚ１）は、末端にＲＦＯ－基を有する基である。
　基（Ｚ１）としては、化合物（Ａ）の製造のしやすさおよび安定性の点から、下式（Ｚ１１）で表される基が好ましい。
　ＲＦＯ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ－　　（Ｚ１１）
　ＲＦは、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基または該基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基である。ＲＦの炭素数は、１～１６が好ましく、１～６がより好ましい。
　ｇは、３～２００の整数であり、３～１００の整数が好ましく、３～７０の整数がより好ましく、５～５０の整数が特に好ましい。
　１分子中に複数の基（Ｚ１）が存在する場合、それぞれ同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。基（Ｚ１）が同一である基の範疇には、構造単位の数が異なる基も含まれる。たとえば、ｇの数のみが異なる基（Ｚ１１）は同一の基と考える。１分子中に複数の基（Ｚ１）が存在する場合、同一の基であるのが好ましい。
（基（Ｙ））
　基（Ｙ）は、ペルフルオロ化された２価以上の飽和炭化水素基または該基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基である。基（Ｙ）中には基（Ｚ１）の構造は存在しない。
　基（Ｙ）としては、化合物（Ａ）の製造のしやすさおよび安定性の点から、ペルフルオロ化された２～７価の飽和炭化水素基または該基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基が好ましく、ペルフルオロ化された３～５価の飽和炭化水素基または該基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基がより好ましい。
　基（Ｙ）は、－ＣＦ３基を有さないことが好ましい。Ｙが－ＣＦ３基を有していたとしても、－ＣＦ３基は３級炭素原子に結合することが好ましい。基（Ｙ）中の３級炭素原子とは、隣接する３個の炭素原子を有する炭素原子（フッ素原子が結合していない炭素原子）を意味する。－ＣＦ３基が１級炭素原子（ＣＦ２）または２級炭素原子（ＣＦ）に結合している場合には、分子内での自由度が高いため、摩擦係数の低下、低粘度化に寄与する一方、定着性を阻害する傾向がある。
　基（Ｙ）が、炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基である場合、エーテル性酸素原子の数は、１～３が好ましい。エーテル性酸素原子は炭素－炭素原子間に存在することから、基（Ｘ１）、基（Ｘ２）、基（Ｘ３）および基（Ｚ１）に結合する基（Ｙ）の末端にはエーテル性酸素原子は存在しない。基（Ｙ）がエーテル性酸素原子を含む場合、基（Ｙ）としては－ＯＣＦ２Ｏ－構造を有さないものが好ましく、また、基（Ｘ１）、基（Ｘ２）、基（Ｘ３）および基（Ｚ１）と結合する末端部分に－ＯＣＦ２－構造を有さないものが好ましい。該構造が存在しない化合物においては、化学的安定性が顕著に向上する。
　３価の基（Ｙ）としては、基（Ｙ３－１）～基（Ｙ３－４）が挙げられる。ただし、基（Ｙ３－４）は、ペルフルオロシクロヘキサン－１，３，５－トリイル基を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　４価の基（Ｙ）としては、基（Ｙ４－１）～基（Ｙ４－４）が挙げられ、合成のしやすさ、化合物の化学的安定性、および結晶性の低さの点から、基（Ｙ４－１）が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　５価の基（Ｙ）としては、基（Ｙ５－１）が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
（化合物（Ａ））
　化合物（Ａ）は、化学的安定性の点から、－ＯＣＦ２Ｏ－構造を有さないことが好ましい。－ＯＣＦ２Ｏ－構造を有さない化合物とは、通常の分析手法（１９Ｆ－ＮＭＲ等）では該構造の存在が検出できない化合物を意味する。
　化合物（Ａ）としては、製造のしやすさおよび安定性の点から、下式（Ａ）で表わされる化合物が好ましい。
　（Ｘ１１－）ｍ１（Ｘ１２－）ｍ２（Ｘ１３－）ｍ３（Ｚ１１－）ｍ４Ｙ　（Ａ）
　ただし、ｍ１は０～２の整数であり、ｍ２は０～２の整数であり、ｍ１＋ｍ２は１～４の整数であり、ｍ３は１または２であり、ｍ４は０または１であり、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４は２～７の整数であり、Ｘ１１は前記式（Ｘ１１）で表される基であり、Ｘ１２は前記式（Ｘ１２）で表される基であり、Ｘ１３は前記式（Ｘ１３）で表される基であり、Ｚ１１は前記式（Ｚ１１）で表される基であり、Ｙは、ペルフルオロ化された（ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４）価の飽和炭化水素基または該基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基である。
（エーテル組成物）
　本発明のエーテル組成物は、２種以上の化合物（Ａ）からなる組成物である。
　本発明におけるエーテル組成物は、化合物（Ａ）が化学式で一義的に表現できる場合においても、該化学式は平均組成式であり、化学構造の異なる２種以上の化合物（Ａ）の混合物であることを意味する。また異なる化学式で表される化合物（Ａ）の２種以上からなる組成物もまた、本発明におけるエーテル組成物に含まれる。
　化合物（Ａ）からなる組成物としては、基（Ｙ）、基（Ｘ１）、基（Ｘ２）、基（Ｘ３）および基（Ｚ１）が同一の基であり、基（Ｘ１）、基（Ｘ２）、基（Ｘ３）および基（Ｚ１）の数が異なる化合物（Ａ）の２種以上からなる組成物が挙げられる。該組成物は、基（Ｙ）、基（Ｘ１）、基（Ｘ２）、基（Ｘ３）および基（Ｚ１）が同一の基であり、基（Ｚ１）の数が異なる化合物（Ａ）の２種以上からなる組成物が好ましい。
　エーテル組成物中の基（Ｘ１）におけるｄ１の平均は、１～２００であり、３～１００が好ましく、５～５０がより好ましい。
　エーテル組成物中の基（Ｘ２）におけるａ１の平均は、１～２であり、１が好ましい。
　エーテル組成物中の基（Ｘ２）におけるｃ１の平均は、１～１００であり、１～１０が好ましく、１～２がより好ましい。
　エーテル組成物中の基（Ｘ２）におけるｄ２の平均は、１～２００であり、３～１００が好ましく、５～５０がより好ましい。
　エーテル組成物中の基（Ｘ３）におけるａ２の平均は、０～２であり、０～１が好ましい。
　エーテル組成物中の基（Ｘ３）におけるｃ２の平均は、１～１００であり、１～１０が好ましく、１～２がより好ましい。
　エーテル組成物中の基（Ｘ３）におけるｄ３の平均は、１～２００であり、３～１００が好ましく、５～５０がより好ましい。
　エーテル組成物中の基（Ｚ１）におけるｇの平均は、３～２００であり、３～１００が好ましく、３～７０がより好ましく、５～５０が特に好ましい。
　エーテル組成物中の基（Ｘ１）の総モル数、基（Ｘ２）の総モル数、基（Ｘ３）の総モル数および基（Ｚ１）の総モル数の合計に対する基（Ｘ３）の総モル数の割合は、４０～９０モル％であり、５０～９０モル％が好ましく、５５～８５モル％がより好ましく、６０～８０モル％がさらに好ましい。基（Ｘ３）の総モル数の割合が上記範囲の下限値以上であれば、基材への定着性が高くなる。基（Ｘ３）の総モル数の割合が９０モル％以下であれば、粘度が低くなり、流動性が高くなる。また、基（Ｘ３）の総モル数の割合が８５モル％以下であれば、さらに、溶媒への溶解性が高くなる。
　本発明のエーテル組成物は、基材への定着性の点からは、基（Ｚ１）を有する化合物（Ａ）をできるだけ含まないことが好ましい。エーテル組成物中の基（Ｘ１）の総モル数、基（Ｘ２）の総モル数、基（Ｘ３）の総モル数および基（Ｚ１）の総モル数の合計に対する基（Ｚ１）の総モル数の割合は、１０モル％以下が好ましく、５モル％以下がより好ましい。
　末端にＨＯ－基を有する基のモル数は、以下のようにして求めることができる。
　末端がＨＯ－ＣＨ２ＣＦ２Ｏ－基である場合には、該基中のＣＦ２のフッ素原子に由来する１９Ｆ－ＮＭＲの－８０～－８１．０ｐｐｍ付近のピーク面積から求める。
　末端がＨＯ－ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ－基である場合には、該基中のＣＦ２のフッ素原子に由来する１９Ｆ－ＮＭＲの－７８．０～－８０．０ｐｐｍ付近のピーク面積から求める。
　末端がＨＯ－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ－基である場合には、該基中のＣＦ２のフッ素原子に由来する１９Ｆ－ＮＭＲの－７５．０～－７８．０ｐｐｍ付近のピーク面積から求める。
　また別の方法として、水素原子とフッ素原子を併有する化合物を内部標準物質として用い、１９Ｆ－ＮＭＲと１Ｈ－ＮＭＲの測定結果から求める方法が挙げられる。内部標準物質としては、ビストリフルオロメチルベンゼン等が挙げられる。
　たとえば、末端がＨＯ－ＣＨ２ＣＦ２Ｏ－基である場合には、該基中のＣＨ２に由来する１Ｈ－ＮＭＲの４．０～４．１ｐｐｍ付近のピーク面積から求める。
　末端がＨＯ－ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ－基またはＨＯ－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ－基である場合には、ＣＦ２に隣接するＣＨ２に由来する３．８～４．０ｐｐｍ付近のピーク面積から求める。または末端のＨＯ－ＣＨ２－基のＣＨ２に由来する３．５ｐｐｍ付近のピーク面積との比でも求めることができる。またＣＨ（ＯＨ）部分のＣＨに由来する３．７～３．９ｐｐｍ付近のピーク面積からも求めることができる。
　ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２とＣＨ２ＣＨ２Ｏを併有する場合には、ＨＯ－基のモル数の定量に用いる１Ｈ－ＮＭＲのシグナルが重複することから、該基に結合するＨＯ－基を化学修飾により、ＣＦ３Ｃ（Ｏ）Ｏ－、またはＣＨ３Ｃ（Ｏ）Ｏ－等の基に変換し、該基の１Ｈ－ＮＭＲまたは１９Ｆ－ＮＭＲのケミカルシフトのピーク面積からＨＯ－基の数を求めることができる。
　さらに１Ｈ－ＮＭＲの測定の際には、ＨＯ－基に由来するピークは測定環境（ｐＨ等）によってピーク位置が変動し、特に同定上重要な３．５～３．８ｐｐｍ付近に重複する場合がある。したがって、ごく微量の重水素溶媒（たとえば、重水）をサンプルに加えることで、ＨＯ－基の水素を重水素化し、前述したピーク群に重複しない位置にシフトさせることが望ましい。
　末端にＲＦＯ－基を有する基のモル数は、ＣＦ３Ｏ－基の場合、以下のようにして定量できる。
　ＣＦ３Ｏ－基のモル数を求める方法としては、エーテル組成物中に含まれる化合物の構造を同定し、含有量を定量することにより求める方法、または組成物のまま求める方法が挙げられる。
　具体的には、ＮＭＲ法を用いて求める場合において、エーテル組成物の１９Ｆ－ＮＭＲを測定し、ＣＦ３Ｏ－基のピーク面積を求める。たとえば、ＣＦ３Ｏ－基の１９Ｆ－ＮＭＲのケミカルシフトは－５４．０～－５６．０ｐｐｍ付近に観測できる。
　本発明のエーテル組成物は、基（Ｙ）に結合した基がすべて基（Ｚ１）である化合物（Ｈ）を含まないのが好ましい。化合物（Ｈ）を含まないとは、全く含まれていないか、含まれていたとしても、高速液体クロマトグラフィ（以下、ＨＰＬＣと記す。）で定量する含有量が２．０質量％以下であることを意味する。
　本発明のエーテル組成物が化合物（Ｈ）を含まないことにより、ブリードアウトを抑制でき、基材に対する潤滑剤の定着性を高くできる。化合物（Ｈ）は、後述する精製方法によりエーテル組成物から除去することが好ましい。
　本発明のエーテル組成物は、基（Ｙ）に結合した基がすべて基（Ｘ１）である化合物、基（Ｙ）に結合した基がすべて基（Ｘ２）である化合物、基（Ｙ）に結合した基がすべて基（Ｘ３）である化合物、および基（Ｙ）に結合した基がすべて基（Ｚ１）である化合物の１種以上を含む場合がある。
　化合物（Ａ）の総量は、エーテル組成物に対して９５質量％以上が好ましく、９８質量％以上がより好ましい。該総量は、１００質量％であってもよい。
　エーテル組成物の数平均分子量（以下、Ｍｎと記す。）は、５００～１，０００，０００が好ましく、５００～１００，０００がより好ましく、１，０００～２０，０００が特に好ましい。
　エーテル組成物の分子量分布（以下、Ｍｗ／Ｍｎと記す。）は、１．０１～１．５が好ましく、１．０５～１．２５がより好ましい。
　ＭｎおよびＭｗ／Ｍｎが該範囲にあれば、粘度が低く、蒸発成分が少なく、溶媒に溶解した際の均一性に優れる。
　Ｍｎは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（以下、ＧＰＣと記す。）により測定される。Ｍｗ／Ｍｎは、ＧＰＣにより測定されたＭｎおよびＭｗ（質量平均分子量）から求める。
　本発明のエーテル組成物の製造方法としては、下記方法が挙げられる。
　方法１）２種以上の化合物（Ａ）をそれぞれ製造して精製した後に、それぞれを配合してエーテル組成物を調製する方法。
　方法２）１種の化合物（Ａ）を製造する際に、該１種の化合物（Ａ）とは異なる化合物（Ａ）を副生成物として含む反応生成物を得て、該反応生成物を精製して基（Ｘ３）の総モル数の割合が特定の範囲であるエーテル組成物とする方法。
　方法３）方法２において精製後のエーテル組成物の２種以上を配合してエーテル組成物とする方法。
　たとえば、方法１による場合、２種以上の化合物（Ａ）は、国際公開第２００５／０６８５３４号に記載の方法における原料をそれぞれの化合物（Ａ）に対応する原料に変更することにより製造できる。具体的には、国際公開第２００５／０６８５３４号に記載する、エステル化、直接液相フッ素化、エステル分解反応によって末端がＦＣ（Ｏ）－基である化合物を得る。ついで、該末端がＦＣ（Ｏ）－基である化合物を、アルコール類または水と反応させて末端をエステルまたはカルボン酸とした後に還元することによる方法または該末端がＦＣ（Ｏ）－基である化合物を、アルコール類とエステル交換することにより末端をエステル化した後に還元することによる方法によって末端がＨＯ－ＣＨ２－基である化合物を得る。ついで、末端のＨＯ－ＣＨ２－基の一部に２－メチル－２－プロパノールを開環付加させ、化合物（Ａ）を得る。
　方法２による場合、方法１と同様に反応を行うことにより、または、方法１における反応条件を変更することにより副生成物を含む反応生成物が得られる。たとえば、化合物（Ａ）を、直接液相フッ素化反応を経る方法により製造する場合で、かつ直接液相フッ素化反応の条件が厳しい場合、分子の末端の切断反応が起こり、末端にＣＦ３－基を有する化合物（Ａ）が生成することがある。また、２－メチル－２－プロパノールの量を調整することによって、基（Ｘ３）の数の異なる複数の化合物（Ａ）が、２－メチル－２－プロパノールの量に対応した割合で生成する。
　直接液相フッ素化反応において、液相に吹き込むガスに含まれるフッ素ガス濃度は、５．０～５０体積％が好ましく、１０～３０体積％がより好ましい。フッ素ガス濃度が５０体積％以下であると、基（Ｚ１）の生成割合が低くなる傾向がある。
　直接液相フッ素化反応の条件によっては、生成物に化合物（Ｈ）が含まれることがある。
　化合物（Ｈ）、他の不純物が含まれる場合、精製により除くことが好ましい。
　精製方法としては、イオン吸着ポリマーによって金属不純物、陰イオン不純物等を除去する方法、超臨界抽出法、カラムクロマトグラフィが挙げられ、これらを組み合わせた方法が好ましい。
（他のＰＦＰＥ）
　本発明のエーテル組成物は、そのまま用いてもよく、他の化合物を添加して用いてもよく、他の化合物への添加剤として用いてもよい。
　たとえば、潤滑剤として用いる場合には、本発明のエーテル組成物をそのまま用いてもよく、本発明のエーテル組成物に化合物（Ａ）以外のＰＦＰＥ（以下、他のＰＦＰＥという）を添加して用いてもよく、他のＰＦＰＥに本発明のエーテル組成物を添加して用いてもよい。
　本発明のエーテル組成物に他のＰＦＰＥを添加する場合の他のＰＦＰＥの量は、本発明の特性を充分に発揮させるために、エーテル組成物の全量（本発明のエーテル組成物および他のＰＦＰＥの合計）に対して、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましい。
　他のＰＦＰＥに本発明のエーテル組成物を添加する場合の他のＰＦＰＥの量は、エーテル組成物の全量（本発明のエーテル組成物および他のＰＦＰＥの合計）に対して、５０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましい。他のＰＦＰＥに本発明のエーテル組成物を添加することにより、他のＰＦＰＥの粘度調整および定着性を改善できる。
　他のＰＦＰＥとしては、末端にＨＯ－基を有する他のＰＦＰＥ、末端に紫外線吸収基を有する他のＰＦＰＥ等が好ましい。
　末端にＨＯ－基を有する他のＰＦＰＥとしては、ソルベイ社製のＦＯＭＢＬＩＮ　Ｚ－ＤｉＯＬ、ＦＯＭＢＬＩＮ　Ｚ－ＴｅｔｒａＯＬ、ダイキン工業社製のＤＥＭＮＵＭ　ＳＡ等が挙げられる。
　末端に紫外線吸収基を有する他のＰＦＰＥとしては、ソルベイ社製のＦＯＭＢＬＩＮ　Ｚ－ＤＩＡＣ、ＦＯＭＢＬＩＮ　Ｚ－ＤＥＡＬ、ＦＯＭＢＬＩＮ　ＡＭ２００１、ＦＯＭＢＬＩＮ　Ｚ－ＤＩＳＯＣ、ダイキン工業社製のＤＥＭＮＵＭ　ＳＨ、松村石油社製のＭｏｒｅｓｃｏＡ２０Ｈ等が挙げられる。
　他のＰＦＰＥとしては、末端基がＣＦ３－基のみであるＰＦＰＥを含まないものが好ましい。
　さらに、他のＰＦＰＥとしては、数平均分子量が１，０００～１０，０００であるものが好ましい。
＜潤滑剤および塗布用組成物＞
　本発明の潤滑剤は、下記（ｉ）または（ii）の形態の、本発明のエーテル組成物を含む潤滑剤である。これら潤滑剤は、基材に適用する際に溶媒を添加して使用することができる。この溶媒と潤滑剤とを含む組成物を以下塗布用組成物という。本発明の塗布用組成物は、下記（iii）または（iv）の形態の、本発明の潤滑剤と溶媒を含む組成物である。塗布用組成物を基材に適用した後、乾燥などの手段で溶媒を揮発させ、本発明潤滑剤中から溶媒が除去される。
　（ｉ）エーテル組成物のみを含む潤滑剤。
　（ii）エーテル組成物と、エーテル組成物および溶媒以外の成分（以下、他の成分と記す。）とを含む潤滑剤。
　（iii）エーテル組成物を溶媒に溶解または分散させた塗布用組成物。
　（iv）エーテル組成物と、溶媒と、他の成分とを含む塗布用組成物。
　本発明の塗布用組成物に用いる溶媒としては、ペルフルオロアミン類（ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等）、ペルフルオロアルカン類（バートレルＸＦ（デュポン社製）等）またはヒドロフルオロエーテル類（ＡＥ－３０００（旭硝子社製）等）が好ましく、オゾン破壊係数が低い点から、ヒドロフルオロエーテル類がより好ましい。
　本発明の塗布用組成物は、溶液、懸濁液または乳化液のいずれであってもよく、溶液が好ましい。
　本発明の塗布用組成物中のエーテル組成物の濃度は、０．００１～５０質量％が好ましく、０．０１～２０質量％がより好ましい。
　本発明の潤滑剤や塗布用組成物に用いる他の成分としては、ラジカルスカベンジャー（たとえば、Ｘ１ｐ（Ｄｏｗ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製）等）等が挙げられる。
　本発明の潤滑剤を表面改質剤として用いる場合の他の成分としては、カップリング剤（シラン系、エポキシ系、チタン系、アルミニウム系等）等が挙げられる。カップリング剤は、基材と塗膜との定着性を向上させる。
　これら他の成分は揮発性ではなく、溶媒除去の際に同時に本発明エーテル組成物から除去されない成分である。
　本発明の潤滑剤は、所望の性能を達成できないおそれがあることから、金属イオン類、陰イオン類、水分、低分子極性化合物等を含まないことが好ましい。また、本発明の塗布用組成物を使用した場合は、溶媒除去後の潤滑剤は溶媒を実質的に含まないことが好ましい。
　金属イオン類（Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ａｌ等）は、陰イオンと結合してルイス酸触媒を生成し、ＰＦＰＥの分解反応を促進する場合がある。陰イオン類（Ｆ、Ｃｌ、ＮＯ２、ＮＯ３、ＰＯ４、ＳＯ４、Ｃ２Ｏ４等）および水分は、基材の表面を腐食させる場合がある。よって、それぞれの含有量は次のとおりであるのが好ましい。Ａｌ、Ｍｇはいずれも１，０００ｐｐｂ以下、Ｎａ、Ｋはいずれも２０，０００ｐｐｂ以下、Ｃａは１０，０００ｐｐｂ以下、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎはいずれも１００ｐｐｂ以下が好ましい。Ｆは１，００００ｐｐｍ以下、蟻酸、Ｃｌ、ＮＯ３、ＳＯ４、シュウ酸はいずれも５，０００ｐｐｂ以下が好ましい。潤滑剤の含水率は、２，０００ｐｐｍ以下が好ましく、１，０００ｐｐｍ以下が特に好ましい。低分子極性化合物（アルコール類；樹脂から溶出する可塑剤等）は、基材と塗膜との定着性を低減させる場合がある。
　本発明の潤滑剤を、磁気記録媒体用の潤滑剤として用いる場合には、公知の潤滑剤の使用方法を適用できる。たとえば、磁気記録媒体用の基材表面へ潤滑剤や塗布用組成物を塗布して、潤滑剤層を形成させる。塗布用組成物を使用した場合は、塗布後溶媒を除去して潤滑剤層とする。潤滑剤や塗布用組成物の塗布方法としては、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法（浸漬法）、スピンコート法、水上キャスト法、ダイコート法、ラングミュア・プロジェット法、真空蒸着法等が挙げられ、ディップコート法、スピンコート法または真空蒸着法が好ましい。
　基材としては、ＮｉＰメッキされた基板（アルミニウム、ガラス等。）上に、下地層、記録層、カーボン保護膜を順に有するものが挙げられる。
　カーボン保護膜の厚さは、５．０ｎｍ以下が好ましく、カーボン保護膜の平均表面粗さ（Ｒａ）は、２．０ｎｍ以下が好ましい。
　潤滑剤層を形成させた磁気記録媒体においては、吸着処理を行い、潤滑剤をカーボン保護膜の表面に強固に吸着させるのが好ましい。
　吸着処理としては、加熱処理、赤外線照射処理、紫外線照射処理、プラズマ処理等が挙げられ、加熱処理または紫外線照射処理が好ましく、紫外線吸収剤等の添加剤が不要なため、加熱処理がより好ましい。加熱処理の場合、処理中に基材が劣化しないことから、１００～１５０℃で処理するのが好ましい。紫外線照射処理の場合、潤滑剤に紫外線吸収剤を添加し、常温で５～１０分かけて処理するのが好ましい。さらに、吸着処理後の磁気記録媒体を、付着物の除去、余剰の潤滑剤の除去を目的に、フッ素系溶媒にて洗浄してもよい。
　吸着処理後の潤滑剤塗膜の表面は、高い撥水性を有することから、たとえ高温、高湿度下に置いたとしても、水分の磁気記録媒体内部への侵入が防止され、長期間にわたり高い潤滑性を維持できる。
　本発明のエーテル組成物から形成される塗膜の厚さは、記録密度の向上の点から、５．０ｎｍ以下が好ましく、３．０ｎｍ以下がより好ましく、２．０ｎｍ以下が特に好ましい。耐久性の点から、０．２５ｎｍ以上が好ましい。
　本発明のエーテル組成物は、磁気記録媒体用基材以外の表面にも適用可能である。たとえば、ポリマー基材の表面に塗布してポリマー基材の屈折率を制御する表面改質剤、ポリマー基材の耐薬品性を改善する表面改質剤、電線被覆材、撥インク剤（たとえば、塗装用撥インク剤、印刷機器（インクジェット等）用撥インク剤等）、半導体素子用接着剤（たとえば、リードオンチップテープ用接着剤等）、半導体用保護コート（たとえば、防湿コート剤、半田用這い上がり防止剤等）、光学分野に用いる薄膜（たとえば、ペリクル膜等）への添加剤、ディスプレイ用反射防止膜の潤滑剤、レジスト用反射防止膜等としても有用である。
　本発明のエーテル組成物から得られた塗膜は、透明であり、屈折率が低く、または耐熱性もしくは耐薬品性に優れる。また、塗膜は、高い潤滑性を保持し、かつ自己修復性を有する。
　また、本発明のエーテル組成物は、界面活性剤としても有用である。たとえば、塗料の表面張力を低下させる添加剤、塗料のレベリング剤、研磨液のレベリング剤等として用いうる。塗料に添加する場合、本発明のエーテル組成物の添加量は、塗料に対して０．０１～５質量％が好ましい。
　以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されない。実施例において、
　テトラメチルシランをＴＭＳ、
　ＣＣｌ２ＦＣＣｌＦ２をＲ－１１３、
　ジクロロペンタフルオロプロパンをＲ－２２５、
　ＣＣｌＦ２ＣＣｌＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＣｌＦ２をＣＦＥ－４１９、
　ヘキサフルオロイソプロピルアルコールをＨＦＩＰ、
　イソプロピルアルコールをＩＰＡ、
　重水素化メタノールをＣＤ３ＯＤ、
　重水素化水をＤ２Ｏ
　と略記する。
　また、実施例における分析は、それぞれ室温（２５℃）にて行った。
（ＮＭＲ分析）
　１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、積算回数;６４）の基準物質としては、ＴＭＳを、１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、積算回数;１２８）の基準物質としては、ＣＦＣｌ３を用いた。
　測定溶液は、化合物またはエーテル組成物のおよそ０．３ｇを溶媒（２．０ｇ）に希釈して調製した。溶媒としては、Ｒ－１１３（５０ｇ）に少量のＤ２Ｏ（０．５ｇ）、ＴＭＳ（０．１ｇ）、ＣＦＣｌ３（０．１ｇ）をそれぞれ添加したものを用いた。なお、サンプルが懸濁状態である場合は、ＣＤ３ＯＤを少量ずつ添加し、測定溶液が完全に溶解した状態で測定を行った。
（ＧＰＣ分析）
　特開２００１－２０８７３６号公報に記載の方法にしたがって、下記の条件にてＧＰＣによりＭｎおよびＭｗを測定し、Ｍｗ／Ｍｎを求めた。
　移動相：Ｒ－２２５（旭硝子社製、アサヒクリンＡＫ－２２５ＳＥＣグレード１）とＨＦＩＰとの混合溶媒（Ｒ－２５５／ＨＦＩＰ＝９９／１体積比）、
　分析カラム：ＰＬｇｅｌ　ＭＩＸＥＤ－Ｅカラム（ポリマーラボラトリーズ社製）を２本直列に連結したもの、
　分子量測定用標準試料：Ｍｗ／Ｍｎが１．１未満であり、分子量が２，０００～１０，０００のペルフルオロポリエーテルの４種およびＭｗ／Ｍｎが１．１以上であり、分子量が１，３００のペルフルオロポリエーテルの１種、
　移動相流速：１．０ｍＬ／分、
　カラム温度：３７℃、
　検出器：蒸発光散乱検出器。
（ＨＰＬＣ分析）
　ＨＰＬＣ装置（島津製作所社製、Ｐｒｏｍｉｎｅｎｃｅ）を用い、下記の条件にてＨＰＬＣ分析を行った。具体的には、１サイクルの分析において、移動相中のＨＦＩＰの濃度を０％から１００％に徐々に増加させてエーテル組成物を溶出させ、溶出時間から化合物の極性を分析した。
　分析カラム：順相系シリカゲルカラム（ワイエムシー社製、ＳＩＬ－ｇｅｌ）、
　移動相：Ｒ－２２５（旭硝子社製、アサヒクリンＡＫ－２２５Ｇ）およびＨＦＩＰ、
　移動相流速：１．０ｍＬ／分、
　カラム温度：３７℃、
　検出器：蒸発光散乱検出器。
（粘度測定）
　各エーテル組成物について、２０℃、８０℃における粘度測定を行った。装置には、回転式粘度計（Ｔｏｋｉｍｅｃ社製、ＴＶ－２０）を用いた。測定子には、Ｃｏｎｅ　ａｎｄ　ｐｌａｔｅ型回転子を用いた。
（流動性評価）
　各組成物について、－３０℃での流動性を分析した。室温においてエーテル組成物中に、直径０．１ｍｍのガラス製キャピラリー管を、垂直に１０ｍｍ浸した。－３０℃に冷却したのち、温度を変えることなくキャピラリー管を引き上げ、１２時間での流出量によって、つぎの基準で評価した。
　○：完全にキャピラリー管から流出する。
　△：１０％以上がキャピラリー管から流出する。
　×：キャピラリー管からの流出が１０％未満である。
（溶解性評価）
　各エーテル組成物について、Ｒ－２２５、ＣＦ３（ＣＦＨ）２ＣＦ２ＣＦ３（デュポン社製、バートレルＸＦ）およびＣＦ２ＨＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ３（旭硝子社製、ＡＥ－３０００）に対する室温での溶解性を調べた。化合物の濃度が１～５質量％になるようにエーテル組成物と溶媒とをそれぞれ混合し、目視にて溶解性を確認した。溶解性は不溶成分の有無で判断し、つぎの基準で評価した。
　○：１～５質量％の範囲で沈殿が認められない。
　△：１～２．５質量％の範囲で沈殿が認められない。
　×：１質量％で沈殿が認められる。
〔例１〕
　国際公開第２００５／０６８５３４号の実施例の例１１に記載の方法において、ポリオキシエチレングリセロールエーテル（日本油脂社製、ユニオックスＧ１２００）を、ジグリセリン開始ポリオキシエチレングリセロールエーテル（坂本薬品工業社製、ＳＣ－Ｅ１５００）に変更した以外は、同様に反応を実施した。ジグリセリン開始ポリオキシエチレングリセロールエーテルに、ＦＣ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）３Ｆを反応させ、室温で液体の下記化合物（Ｂ－１）を得た。ＮＭＲ分析の結果、化合物（Ｂ－１）の（ｈ＋ｉ＋ｊ＋ｋ）の平均値は３７．０であり、Ｒｆは－ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３であり、Ｍｎは２，６００であり、Ｍｗ／Ｍｎは１．１５であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　１Ｈ－ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．４～３．８、４．５。
　１９Ｆ－ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：－７６．０～－８１．０、－８１．０～－８２．０、－８２．０～－８２．５、－８２．５～－８５．０、－１２８．０～－１２９．２、－１３１．１、－１４４．７。
〔例２〕
　国際公開第２００５／０６８５３４号の実施例の例２－１に記載の方法において、Ｒ－１１３をＣＦＥ－４１９に変更し、液相に吹き込むガスに含まれるフッ素ガス濃度を２０体積％から、１０体積％に変更した以外は同様に液相フッ素化反応を行った。生成物は、下記化合物（Ｃ－１）を主成分とし、化合物（Ｂ－１）の水素原子の９９．９モル％以上がフッ素原子に置換された組成物（ｃ－１）であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　組成物（ｃ－１）において測定したＮＭＲスペクトルは以下のとおりである。
　１Ｈ－ＮＭＲ　δ（ｐｐｍ）：５．９～６．４。
　１９Ｆ－ＮＭＲ　δ（ｐｐｍ）：－５５．８、－７７．５～－８６．０、－８８．２～－９２．０、－１２０．０～－１３９．０、－１４２．０～－１４６．０。
〔例３〕
　国際公開第２００５／０６８５３４号の実施例の例３に記載の方法にしたがって、組成物（ｃ－１）においてエステル分解反応を行い、下記化合物（Ｄ－１）を主成分とする組成物（ｄ－１）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
〔例４〕
〔例４－１〕
　国際公開第２００５／０６８５３４号の実施例の例４－１に記載の方法にしたがって、組成物（ｄ－１）とエタノールを反応させることによるエステル化反応を行った。下記化合物（Ｅ－１）を主成分とする組成物（ｅ－１）を得た。該組成物（ｅ－１）を例５の反応に用いた。
〔例４－２〕
　国際公開第２００５／０６８５３４号の実施例の例４－２に記載の方法にしたがって、組成物（ｄ－１）とエタノールを反応させることによるエステル交換反応を行い、下記化合物（Ｅ－１）を主成分とする組成物を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
〔例５〕
　国際公開第２００５／０６８５３４号の実施例の例５に記載の方法において、組成物（ｅ－１）の還元反応を行い、下記化合物（Ｆ－１）を主成分とする組成物（ｆ－１）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　組成物（ｆ－１）において測定したＮＭＲスペクトルは以下のとおりである。
　１Ｈ－ＮＭＲ　δ（ｐｐｍ）：３．９４。
　１９Ｆ－ＮＭＲ　δ（ｐｐｍ）：－５４．０、－８０．１、－８８．２～－９０．５、－１３５．０～－１３９．０。
〔例６〕
〔例６－１〕
　例１～５を繰り返し行い、４００ｇの組成物（ｆ－１）を得た。
　窒素雰囲気下の２５０ｍＬの丸底フラスコに、組成物（ｆ－１）の４０ｇ、および２－メチル－２－プロパノールの２０ｇを投入し、均一混合するまで撹拌した。丸底フラスコに、出口が２０℃に保持され、かつ窒素ガスで置換された還流管を設置した。
　つぎに、ｔ－ブトキシドカリウムの１．５ｇを丸底フラスコに投入し、７０℃に加熱して３０分間撹拌した。さらに内温を７０℃に保持して、２，３－エポキシ－１－プロパノールの３．６ｇを２時間かけて滴下し、１２時間撹拌した。丸底フラスコを２５℃に冷却し、窒素ガスで置換してから、０．２ｇ／Ｌの塩酸の５０ｍＬを滴下して２層分離液を得た。該液の有機層を回収し、Ｒ－２２５の５０ｍＬを加えた溶液を、重曹水の５００ｍＬで２回洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水してから、エバポレーターで溶媒を留去し、２５℃で液体の薄黄色の組成物（ｇ－１）の４１．４ｇを得た。
〔例６－２〕
　例６－１に記載の方法の、２，３－エポキシ－１－プロパノールの３ｇを２．６ｇに変更した以外は、同様に合成を実施し、２５℃で液体の薄黄色の組成物（ｇ－２）の４１．０ｇを得た。
〔例６－３〕
　例６－１に記載の方法の、２，３－エポキシ－１－プロパノールの３ｇを２．３ｇに変更した以外は、同様に合成を実施し、２５℃で液体の薄黄色の組成物（ｇ－３）の４０．７ｇを得た。
〔例６－４〕
　例６－１に記載の方法の、２，３－エポキシ－１－プロパノールの３ｇを２．０ｇに変更した以外は、同様に合成を実施し、２５℃で液体の薄黄色の組成物（ｇ－４）の４０．９ｇを得た。
〔例６－５〕
　例６－１に記載の方法の、２，３－エポキシ－１－プロパノールの３ｇを１．５ｇに変更した以外は、同様に合成を実施し、２５℃で液体の薄黄色の組成物（ｇ－５）の４０．９ｇを得た。
〔例６－６〕
　例６－１に記載の方法の、２，３－エポキシ－１－プロパノールの３ｇを１．１ｇに変更した以外は、同様に合成を実施し、２５℃で液体の薄黄色の組成物（ｇ－６）の４０．３ｇを得た。
〔例６－７〕
　例６－１に記載の方法の、ｔ－ブトキシドカリウムの１．５ｇを０．６ｇに変更し、２，３－エポキシ－１－プロパノールの３ｇを１．５ｇに変更した以外は、同様に合成を実施し、２５℃で液体の薄黄色の組成物（ｇ－７）の４０．５ｇを得た。
〔例６－８〕
　例６－１に記載の方法の、２，３－エポキシ－１－プロパノールの３ｇを０．９ｇに変更した以外は、同様に合成を実施し、２５℃で液体の薄黄色の組成物（ｇ－８）の４０．２ｇを得た。
　組成物（ｇ－１）～（ｇ－８）のＮＭＲ分析を行ったところ、化合物（Ｆ－１）の中のＨＯ－ＣＨ２ＣＦ２Ｏ－基（以下、基（Ｘ１－１）と記す。）の一部に２，３－エポキシ－１－プロパノールが開環付加し、ＨＯ－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ－基（以下、基（Ｘ３－１）と記す。）に変換された化合物を主成分とする組成物であることを確認した。
　組成物（ｇ－１）～（ｇ－８）において測定したＮＭＲスペクトルは以下のとおりである。
　１Ｈ－ＮＭＲ　δ（ｐｐｍ）：３．５～３．８、３．８～４．０、４．０～４．１。
　１９Ｆ－ＮＭＲ　δ（ｐｐｍ）：－５４．０～５６．０、－７５．０～－８１．０、－８８．２～－９０．５、－１３５．０～－１３９．０。
〔例７〕
　組成物（ｇ－１）～（ｇ－８）を下記のカラムクロマトグラフィ法により精製した。
　粒状シリカゲル（エスアイテック社製、ＭＳ－Ｇｅｌ　Ｄ７５－１２０Ａ）をＲ－２２５で希釈したものを、直径１５０ｍｍ、長さ５００ｍｍのカラムに充填し、高さ１００ｍｍのシリカゲル充填相を形成した。
　組成物の４０ｇをシリカゲル充填相に投入した後、抽出溶媒（Ｒ－２２５／ＩＰＡ＝５０／５０体積比の混合溶媒）を用い、ゲル化した成分の吸着除去を行った。シリカゲル充填相より溶出した溶液をエバポレーターにて濃縮して粗精製物を回収した。
　以上の操作を組成物（ｇ－１）～（ｇ－８）についてそれぞれ実施し、粗精製物（ｇ’－１）～（ｇ’－８）を得た。
〔例８〕
　粗精製物（ｇ’－１）～（ｇ’－８）を下記の超臨界抽出法により精製した。
　入口および出口を有する肉厚のステンレス容器（内径φ３３ｍｍ×深さ４５ｍｍ）、超臨界二酸化炭素流体送液ポンプ（日本分光社製、ＳＣＦ－２０１）、自動圧力調整弁（日本分光社製、８８０－８１）、通常のカラムクロマトグラフィに用いるカラムオーブンを備えた装置を用意した。
　粗精製物の３０ｇを容器内に注入し、超臨界二酸化炭素を液化二酸化炭素換算流量５．０ｃｃ／分で流した。容器内の温度を１００℃に固定し、容器内の圧力を２０ＭＰａとして３時間抽出操作を行い、低極性成分を分画除去した。抽出量が低下したところで容器内の圧力を２８Ｐａとし、かつ、補助送液ポンプ（日本分光社製、ＳＣＦ－２０１）より抽出助剤であるＲ－２２５を０．２５ｃｃ／分で供給した。６時間抽出操作を行い、精製物を含む溶液を回収した。抽出した溶液の溶解助剤を高圧真空乾燥炉にて減圧除去し、粗精製物を回収した。
　以上の操作を粗組成物（ｇ’－１）～（ｇ’－８）についてそれぞれ実施し、精製物（ｇ”－１）～（ｇ”－８）を得た。
〔例９〕
　各精製物について、ＮＭＲ分析を行った。その結果、各精製物は下記化合物（Ａ－１）の２種以上からなる組成物であることが判明した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　式中の末端基Ｘは、下記基（Ｘ１－１）、基（Ｘ３－１）および基（Ｚ１－１）から選択され、１つ以上の末端基Ｘが基（Ｘ３－１）である。
　基（Ｘ１－１）：ＨＯ－ＣＨ２ＣＦ２Ｏ－基。
　基（Ｘ３－１）：ＨＯ－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ－基。
　基（Ｚ１－１）：ＣＦ３Ｏ－基。
　基（Ｘ３－１）は、例６の工程で、化合物（Ｆ－１）の中の基（Ｘ１－１）に２，３－エポキシ－１－プロパノールが開環付加して生じたものである。
　基（Ｘ１－１）は、例６の工程で、化合物（Ｆ－１）の中の基（Ｘ１－１）に２，３－エポキシ－１－プロパノールが開環付加せずに残留したものである。
　基（Ｚ１－１）は、例２の液相フッ素化反応でエステル基が脱離、フッ素化されて生じた基である。
　精製物中の各基のモル数は、１９Ｆ－ＮＭＲ、１Ｈ－ＮＭＲよって求めることができる。基（Ｘ１－１）と基（Ｘ３－１）はＨＯ－基の酸性度の違いにより分離が可能である。
　１９Ｆ－ＮＭＲの場合は、以下のように求める。
　基（Ｘ１－１）：ＨＯ－ＣＨ２ＣＦ２Ｏ－基のモル数は、該基中のＣＦ２のフッ素原子に由来する－８０～－８１．０ｐｐｍ付近のピーク面積から求める。
　基（Ｘ３－１）：ＨＯ－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ－基のモル数は、該基中のＣＦ２のフッ素原子に由来する－７５．０～－７８．０ｐｐｍ付近のピーク面積から求める。
　基（Ｚ１－１）：ＣＦ３Ｏ－基のモル数は、該基のフッ素原子に由来する－５４．０～－５６．０ｐｐｍ付近のピーク面積から求める。
　１Ｈ－ＮＭＲの場合は、以下のように求める。
　基（Ｘ１－１）：ＨＯ－ＣＨ２ＣＦ２Ｏ－基のモル数は、該基中のＣＨ２に由来する４．０～４．１ｐｐｍ付近のピーク面積から求める。
　基（Ｘ３－１）：ＨＯ－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ－基のモル数は、該基中のＣＨ２基に由来する３．８～４．０ｐｐｍ付近のピーク面積から求める。
　１Ｈ－ＮＭＲの測定の際に、ＨＯ－基に由来するピークが他のピークと重複した場合、重水素溶媒を加えてピーク位置をシフトさせることにより定量を行った。
　また、内部標準として、ビストリフルオロメチルベンゼンを用いた。
　ＮＭＲ分析により同定した各基のモル数から、２，３－エポキシ－１－プロパノール（別名：グリシジルアルコール）の開環付加率（以下、グリシジル付加率と記す。）を、下式を用いて算出した。
　グリシジル付加率［モル％］＝基（Ｘ３－１）［モル］／｛基（Ｘ１－１）［モル］＋基（Ｘ３－１）［モル］＋基（Ｚ１－１）［モル］｝×１００。
　各精製物のＮＭＲ分析結果およびグリシジル付加率を表１に示す。
　比較のため、例５で得た組成物（ｆ－１）およびソルベイ社製のＦＯＭＢＬＩＮ　Ｚ－ＴｅｔｒａＯＬ（下記化合物（ＦＴ）、ｍ／ｎ＝１．０、Ｍｎ：３，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．２３）についても、同様にＮＭＲ分析した。
　ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ－ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＨ　　（ＦＴ）。
〔例１０〕
〔例１０－１〕
　精製物（ｇ”－１）～（ｇ”－８）、組成物（ｆ－１）および化合物（ＦＴ）について、ＧＰＣ分析およびＨＰＬＣ分析を行った。結果を表１に示す。
　ＧＰＣ分析において、精製物（ｇ”－１）～（ｇ”－８）、組成物（ｆ－１）は、グリシジル付加率の上昇とともに、見かけ上、分子量が減少する傾向がみられる。これは、化合物の極性増加とともにＧＰＣカラム中での吸脱着速度が低下し、溶出時間が大きくなるため、溶出時間による検量を行うと実際よりも分子量が低く換算されることによる。
　したがって、ＨＰＬＣ分析における化合物の溶出時間を用いて、極性の定性分析を行った。同手法で水を分析すると、その溶出時間（Ｒ．Ｔ．）は２３．５分である。ＰＦＰＥを磁気記録媒体に用いる場合、化合物の極性が水より小さいと長期の使用に際して大気中の水分で基板に吸着した官能基が交換脱離することが知られている。
〔例１０－２〕
　精製物（ｇ”－１）～（ｇ”－８）、組成物（ｆ－１）および化合物（ＦＴ）について、粘度測定および流動性評価を行った。結果を表１に示す。
　精製物（ｇ”－１）～（ｇ”－８）、組成物（ｆ－１）は、グリシジル付加率の上昇とともに、粘度が上昇する傾向がみられる。これは、化合物の極性増加とともに官能基間の相互作用が大きくなることが原因である。ＰＦＰＥを磁気記録媒体に用いる場合、昨今の用途拡大から、－３０～８０℃程度の広範でオイルとしての流動性が求められる。
〔例１０－３〕
　精製物（ｇ”－１）～（ｇ”－８）、組成物（ｆ－１）および化合物（ＦＴ）について、溶解性評価を行った。結果を表１に示す。
　精製物（ｇ”－１）～（ｇ”－７）、組成物（ｆ－１）は、グリシジル付加率の上昇とともに、フッ素溶媒への溶解性が低下する傾向がみられる。これも、化合物の極性増加とともに、非極性溶媒であるフッ素溶媒への親和性が低下することが要因である。ＰＦＰＥを磁気記録媒体に用いる場合、表面張力の小さいフッ素溶媒で希釈したのちに塗布が行われるため、これらへの充分な溶解性が求められる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
〔例１１〕
〔例１１－１〕
　精製物（ｇ”－４）の安定性試験例：
　精製物（ｇ”－４）について、窒素雰囲気（１００ｍＬ／分）下、１０℃／分の割合で２５℃から５００℃まで昇温して精製物（ｇ”－４）の２５ｍｇの質量減少を示差熱天秤上で測定する方法で安定性試験を行った。その結果、３５０℃に至るまでに質量減少はなく、ほぼ一定であった。
　酸触媒であるγ－アルミナ微粉（日揮化学社製、Ｎ－６１１Ｎ）の０．５ｇを存在させ、精製物（ｇ”－４）の２５ｍｇの安定性試験を行った。結果、質量減少プロフィールは酸触媒がない場合と同様であり、優れた安定性を示した。
〔例１１－２〕
　公知のＰＦＰＥの安定性試験例：
　公知のＰＦＰＥ（化合物（ＦＴ））を用いて、例１１－１と同様の方法で安定性試験を行った。結果、該化合物は、γ－アルミナ微粉の存在下では２５０℃で全量が一瞬に分解し、低分子量化合物となって気化した。
　本発明の精製物（ｇ”－２）～（ｇ”－５）、（ｇ”－７）は、化合物（ＦＴ）と比較して熱安定性にすぐれる。表１から、粘度が低く、流動性が高く、溶媒への溶解性にすぐれる。また、磁気記録媒体への定着性にもすぐれる。
　一方、表１から、グリシジル付加率が９０モル％を超える精製物（ｇ”－１）は、特に２０℃での粘度が高く、流動性および溶媒への溶解性が不充分である。グリシジル付加率が４０モル％未満である精製物（ｇ”－６）、（ｇ”－８）は、極性が低く、たとえば磁気記録媒体用の潤滑剤として用いる場合、磁気記録媒体への定着性が不充分である。さらにグリシジル付加率が０モル％の組成物（ｆ－１）は、極性が低く、たとえば磁気記録媒体用の潤滑剤として用いる場合、磁気記録媒体への定着性が不充分である。化合物（ＦＴ）は、熱安定性が不充分である。
　本発明のエーテル組成物は、潤滑剤等として有用である。
　なお、２００９年７月１５日に出願された日本特許出願２００９－１６７０５９号の明細書、特許請求の範囲及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (9)

  1. 　下記化合物（Ａ）の２種以上からなるエーテル組成物であり、
    　化合物（Ａ）は、
    　　下記基（Ｙ）と、
    　　前記基（Ｙ）に結合した下記基（Ｘ１）および前記基（Ｙ）に結合した下記基（Ｘ２）から選ばれる１種以上の基と、
    　　前記基（Ｙ）に結合した下記基（Ｘ３）とを有し、
    　　前記基（Ｙ）に結合した下記基（Ｚ１）をさらに有してもよい化合物であり、
    　前記エーテル組成物中の基（Ｘ１）の総モル数、基（Ｘ２）の総モル数、基（Ｘ３）の総モル数および基（Ｚ１）の総モル数の合計に対する基（Ｘ３）の総モル数の割合が、４０～９０モル％である、エーテル組成物。
    　基（Ｙ）　：ペルフルオロ化された２価以上の飽和炭化水素基または該基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基。
    　基（Ｘ１）：末端にＨＯ－ＣＨ２ＣＦ２Ｏ－基を有する基。
    　基（Ｘ２）：末端にＨＯ－ＣＨ２ＣＨ２Ｏ－基を有する基。
    　基（Ｘ３）：末端にＨＯ－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ－基を有する基。
    　基（Ｚ１）：末端にＲＦＯ－基を有する基（ただし、ＲＦは炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基または該基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基）。
  2. 　前記エーテル組成物中の基（Ｘ１）の総モル数、基（Ｘ２）の総モル数、基（Ｘ３）の総モル数および基（Ｚ１）の総モル数の合計に対する基（Ｘ３）の総モル数の割合が、５０～９０モル％である、請求項１に記載のエーテル組成物。
  3. 　前記基（Ｙ）が、ペルフルオロ化された２～７価の飽和炭化水素基または該基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基である、請求項１または２に記載のエーテル組成物。
  4. 　前記基（Ｘ１）が、下式（Ｘ１１）で表される基（ただし、ｄ１は１～２００の整数である。）であり、
    　前記基（Ｘ２）が、下式（Ｘ１２）で表される基（ただし、ａ１は１または２であり、ｃ１は１～１００の整数であり、ｄ２は１～２００の整数である。）であり、
    　前記基（Ｘ３）が、下式（Ｘ１３）で表される基（ただし、ａ２は０～２の整数であり、ｃ２は１～１００の整数であり、ｄ３は１～２００の整数である。）であり、
    　前記基（Ｚ１）が、下式（Ｚ１１）で表される基（ただし、ｇは３～２００の整数である。）である、請求項１～３のいずれか一項に記載のエーテル組成物。
    　ＨＯ－ＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ１－　　（Ｘ１１）
    　ＨＯ－（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ１－（ＣＨ２）ｃ１－ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ２－　　（Ｘ１２）
    　ＨＯ－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ－（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ２－（ＣＨ２）ｃ２－ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ３－　　（Ｘ１３）
    　ＲＦＯ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ－　　（Ｚ１１）
    　（ただし、ＲＦは炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基または該基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基）
  5. 　前記化合物（Ａ）が、下式（Ａ）で表わされる化合物である、請求項４に記載のエーテル組成物。
    　（Ｘ１１－）ｍ１（Ｘ１２－）ｍ２（Ｘ１３－）ｍ３（Ｚ１１－）ｍ４Ｙ　（Ａ）
    　ただし、ｍ１は０～２の整数であり、ｍ２は０～２の整数であり、ｍ１＋ｍ２は１～４の整数であり、ｍ３は１または２であり、ｍ４は０または１であり、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４は２～７の整数であり、Ｘ１は前記式（Ｘ１１）で表される基であり、Ｘ１２は前記式（Ｘ１２）で表される基であり、Ｘ１３は前記式（Ｘ１３）で表される基であり、Ｚ１１は前記式（Ｚ１１）で表される基であり、Ｙは、ペルフルオロ化された（ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４）価の飽和炭化水素基または該基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基である。
  6. 　前記化合物（Ａ）が、－ＯＣＦ２Ｏ－構造を有さない化合物である、請求項１～５のいずれか一項に記載のエーテル組成物。
  7. 　請求項１～６のいずれか一項に記載のエーテル組成物を含む、潤滑剤。
  8. 　請求項１～６のいずれか一項に記載のエーテル組成物と、前記化合物（Ａ）を溶解する溶媒とを含む、塗布用組成物。
  9. 　前記化合物（Ａ）の質量と前記溶媒の質量との合計に対する前記化合物（Ａ）の質量の割合が、０．０００１～１０質量％である、請求項８に記載の塗布用組成物。
PCT/JP2010/061848 2009-07-15 2010-07-13 エーテル組成物および潤滑剤 WO2011007782A1 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009167059A JP2012184275A (ja) 2009-07-15 2009-07-15 エーテル組成物および潤滑剤
JP2009-167059 2009-07-15

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2011007782A1 true WO2011007782A1 (ja) 2011-01-20

Family

ID=43449389

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2010/061848 WO2011007782A1 (ja) 2009-07-15 2010-07-13 エーテル組成物および潤滑剤

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP2012184275A (ja)
TW (1) TW201114804A (ja)
WO (1) WO2011007782A1 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10047316B2 (en) 2014-06-24 2018-08-14 Moresco Corporation Fluoropolyether compound, lubricant, and magnetic disk
JP7272745B2 (ja) * 2014-07-14 2023-05-12 ザ ケマーズ カンパニー エフシー リミテッド ライアビリティ カンパニー リチウムイオン電池の燃焼を抑制するための組成物

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004035656A1 (ja) * 2002-10-18 2004-04-29 Asahi Glass Company, Limited ペルフルオロポリエーテル誘導体
JP2004519715A (ja) * 2000-10-27 2004-07-02 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー ポリフルオロポリエーテル表面処理剤を含む光学素子
WO2005068534A1 (ja) * 2004-01-13 2005-07-28 Asahi Glass Company, Limited 含フッ素ポリエーテル化合物
WO2006011387A1 (ja) * 2004-07-27 2006-02-02 Asahi Glass Company, Limited 含フッ素ポリエーテル化合物を潤滑剤とする磁気記録媒体用潤滑剤溶液
WO2007013412A1 (ja) * 2005-07-27 2007-02-01 Asahi Glass Company, Limited エーテル組成物および溶液組成物
WO2009078485A1 (ja) * 2007-12-19 2009-06-25 Asahi Glass Company, Limited エーテル組成物
WO2009093665A1 (ja) * 2008-01-24 2009-07-30 Asahi Glass Company, Limited エーテル組成物

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004519715A (ja) * 2000-10-27 2004-07-02 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー ポリフルオロポリエーテル表面処理剤を含む光学素子
WO2004035656A1 (ja) * 2002-10-18 2004-04-29 Asahi Glass Company, Limited ペルフルオロポリエーテル誘導体
WO2005068534A1 (ja) * 2004-01-13 2005-07-28 Asahi Glass Company, Limited 含フッ素ポリエーテル化合物
WO2006011387A1 (ja) * 2004-07-27 2006-02-02 Asahi Glass Company, Limited 含フッ素ポリエーテル化合物を潤滑剤とする磁気記録媒体用潤滑剤溶液
WO2007013412A1 (ja) * 2005-07-27 2007-02-01 Asahi Glass Company, Limited エーテル組成物および溶液組成物
WO2009078485A1 (ja) * 2007-12-19 2009-06-25 Asahi Glass Company, Limited エーテル組成物
WO2009093665A1 (ja) * 2008-01-24 2009-07-30 Asahi Glass Company, Limited エーテル組成物

Also Published As

Publication number Publication date
TW201114804A (en) 2011-05-01
JP2012184275A (ja) 2012-09-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5499710B2 (ja) エーテル組成物
US8053538B2 (en) Ether composition and solution composition
KR101089078B1 (ko) 함불소 폴리에테르 화합물
US7230140B2 (en) Perfluoropolyether derivative
CN105452333B (zh) 含氟聚醚化合物、润滑剂、液状组合物以及物品
CN1989230B (zh) 以含氟聚醚化合物为润滑剂的磁记录媒体用润滑剂溶液
US20120190603A1 (en) Ether compound, lubricant containing same, and composition for lubricant containing same
JP5152199B2 (ja) エーテル組成物
JP5795457B2 (ja) エーテル化合物、潤滑剤、溶媒組成物および磁気ディスクの製造方法
WO2011007782A1 (ja) エーテル組成物および潤滑剤
JP6142915B2 (ja) 含フッ素エーテル組成物、表面改質剤、界面活性剤、液状組成物、物品
JP5309622B2 (ja) 表面処理剤

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 10799840

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 10799840

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: JP