WO2011006829A1 - Verfahren zur herstellung einer beschichteten und reflexionsverminderten scheibe - Google Patents

Verfahren zur herstellung einer beschichteten und reflexionsverminderten scheibe Download PDF

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WO2011006829A1
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electrically conductive
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glass substrate
layer
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Marcus Neander
Katja Werner
Bianca Bergs
Marc Maurer
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Saint-Gobain Glass France
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    • C03C2217/90—Other aspects of coatings
    • C03C2217/94—Transparent conductive oxide layers [TCO] being part of a multilayer coating

Definitions

  • the invention relates to a method for producing a coated and reflection-reduced disc, a disc produced by the method according to the invention and their use.
  • the reflection reduction of slices is in many cases based on the creation of a porous, structured layer on the glass surface.
  • This porous, structured layer can be produced by etching with a suitable acid or base.
  • a porous SiO 2 layer can be produced by deposition of SiO 2 on the glass surface, for example in a sol-gel process. Combinations of the two methods of etching and deposition are also possible.
  • the reflection-reducing properties are also of importance in the case of panes with optically transparent, electrically conductive coatings, such as, for example, transparent conductive oxides (TCO).
  • TCO transparent conductive oxides
  • the porous, structured layer on the glass surface often requires additional and adapted process steps.
  • the surface structure of a previously etched disk changes the deposition of the optically transparent, electrically conductive layer in many cases. This adjustment and, if necessary, amendment of Process conditions during the deposition of the optically transparent, electrically conductive coating make the production of the coated pane more expensive.
  • US 2,486,431 A discloses a method for producing a low-reflective glass surface.
  • the glass surface is etched with an H 2 SiF 6 solution. Depending on the duration of the etching process, the glass surface is removed to varying degrees and thus the optical properties of the surface are adjusted and varied.
  • DE 822 714 B discloses a method for producing a reflection-reducing film on the surface of a glass article.
  • the glass article is immersed in a solution of H 2 SiF 6 and colloidally dissolved SiO 2 .
  • the wafer surface is ablated (etched) and / or built up.
  • EP 1 056 136 B1 discloses a substrate for a solar cell comprising at least a glass plate, a first and second base coating film and a conductive film.
  • the first base coat film contains at least metal oxides such as tin oxide, titanium oxide, indium oxide or zinc oxide.
  • US2008 / 0314442 A1 discloses a transparent substrate with an optically transparent electrode consisting of at least two layers.
  • the first transparent, electrically conductive layer contains a non-doped metal oxide, such as tin oxide.
  • the second transparent, electrically conductive layer in contrast, contains a doped metal oxide.
  • US2008 / 0308146 A1 discloses a photovoltaic article having a front electrode on a textured glass substrate.
  • the texturing of the glass substrate is carried out before the application of the front electrode by a mechanical roller at 570 0 C to 750 0 C or by etching with an acid.
  • the front electrode is then applied via a pyrolysis process.
  • the object of the invention is to provide a method for producing a coated and reflection-reduced disc, which allows a coating of the disc with an optically transparent, electrically conductive coating regardless of the existing or later texturing of the disc.
  • the object of the present invention is achieved by an optically transparent glass pane, process for their preparation, and their use according to the independent claims 1, 13 and 15. Preferred embodiments will become apparent from the dependent claims.
  • the method for producing a coated, reflection-reduced pane comprises, in a first step, the application of an optically transparent, electrically conductive layer on at least a portion of the surface of a glass substrate.
  • This optically transparent, electrically conductive layer preferably has an average transmission of more than 75%, preferably more than 80% (as energy transmission according to DIN-EN 410: 1998) for light of wavelengths from 300 nm to 1300 nm.
  • an antireflection layer is formed on the uncoated surface of the glass substrate by applying a solution of an acid and / or base to the surface of the glass substrate.
  • the solution of an acid and / or base is preferably also applied to the surface of the glass substrate on the surface of the glass substrate provided with an optically transparent, electrically conductive layer.
  • the acid and / or alkali is preferably selected so that the glass surface is etched, but at the same time the optically transparent, electrically conductive layer is not attacked by the acid and / or alkali.
  • Metal oxides have, in particular, depending on their redox potential, a sufficient stability to acids and bases. This property can also be exploited for metallic layers which form corresponding passivated surfaces.
  • the antireflection layer is preferably produced by completely immersing the glass substrate containing the optically transparent electrically conductive layer in a solution of an acid and / or base. Completely includes in the context of the invention also not treated contact points of holding devices on the glass substrate with a.
  • the antireflection layer can alternatively also be produced in that a solution of an acid and / or base is sprayed onto the glass substrate with the optically transparent, electrically conductive layer.
  • the acid and / or base applied to the surface of the glass substrate preferably contains HF, H 2 SiF 6 , (SiO 2 ) m * nH 2 O, HCl, H 2 SO 4 , H 3 PO 4 , HNO 3 , CF 3 COOH, CCI 3 COOH, HCOOH, CH 3 COOH, NaOH, KOH, Ca (OH) 2 and / or mixtures thereof.
  • the acid and / or base applied to the surface of the glass substrate particularly preferably contains HF and / or H 2 SiF 6 . With these acids, particularly good results are achieved in the dipping process.
  • the optically transparent, electrically conductive layer is preferably applied by CVD (chemical vapor deposition), CLD (chemical liquid deposition), PVD (physical vapor deposition) and / or combinations thereof on the glass substrate.
  • the optically transparent, electrically conductive layer is particularly preferably applied by spraying method, pyrolysis method, sputtering, magnetron sputtering, sol-gel method, ion beam method, electron beam method, vapor deposition and / or combinations thereof on the glass substrate.
  • the optically transparent, electrically conductive layer preferably has a sheet resistance of ⁇ 20 ⁇ /, more preferably of ⁇ 15 ⁇ /, and most preferably of ⁇ 10 ⁇ / ⁇ .
  • the optically transparent, electrically conductive layer preferably has a haze of ⁇ 20%, preferably ⁇ 10%, particularly preferably ⁇ 5%, after the generation of the antireflection layer.
  • the optically transparent, electrically conductive layer preferably has a R.M.S roughness depth of 3 nm to 50 nm, preferably 5 nm to 20 nm, after the generation of the antireflection layer.
  • the R.M.S roughness (Root Mean Square) describes the root mean square of the roughness depth.
  • the R.M.S roughness depth is preferably determined using an AFM (Atomic Force Microscope) microscope.
  • the optically transparent, electrically conductive layer is preferably applied to the glass substrate with a layer thickness of 10 nm to 1500 nm, particularly preferably with a layer thickness of 400 nm to 800 nm.
  • the optically transparent, electrically conductive layer is preferably by application of tin-doped indium oxide (ITO), aluminum-doped zinc oxide (AZO), fluorine-doped tin oxide (FTO, SnO 2 : F), antimony-doped tin oxide (ATO, SnO 2 : Sb), silver, gold, tin, Tungsten, copper, silicon, carbon nanotubes and / or optically transparent, electrically conductive polymers and / or mixtures thereof.
  • ITO tin-doped indium oxide
  • AZO aluminum-doped zinc oxide
  • FTO, SnO 2 : F fluorine-doped tin oxide
  • ATO, SnO 2 : Sb antimony-doped tin oxide
  • silver gold, tin, Tungsten, copper, silicon, carbon nanotubes and / or optically transparent, electrically conductive polymers and / or mixtures thereof.
  • optically transparent, electrically conductive polymers preferably contain poly (3,4-ethylenedioxythiophene), polystyrene sulfonate, poly (4,4-dioctylcylopentadithiophene), iodo, 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone, mixtures and / or copolymers thereof.
  • the glass substrate preferably has an average transmission in the wavelength range from 300 nm to 1300 nm of> 80%, preferably of> 90%.
  • the antireflection layer preferably has an average transmission in the wavelength range from 300 nm to 1300 nm of> 80%, preferably of> 90%.
  • the antireflection layer is preferably produced with a layer thickness of 10 nm to 1000 nm, particularly preferably 50 nm to 200 nm. Good results are achieved in this layer thickness range.
  • the glass substrate preferably contains flat glass (float glass), quartz glass, borosilicate glass, soda lime glass and / or mixtures thereof. Good results are achieved with these glasses.
  • the glass substrate preferably contains 0.001% by weight to 0.05% by weight of Fe (III) as Fe 2 O 3 and / or 0.0005% by weight to 0.005% by weight of Fe (II) as FeO. These Fe (III) and Fe (II) concentrations are particularly advantageous.
  • a cover layer is preferably applied to the optically transparent, electrically conductive layer.
  • the cover layer may contain scratch-resistant layers such as Si 3 N 4 and / or acids and / or bases resistant polymers such as epoxy resins, etching and / or etching.
  • the glass substrate is preferably biased after the formation of the antireflection layer.
  • the biasing is preferably carried out as described in DE10 2009 025 788 A1.
  • the disc is heated to a temperature of 500 0 C to 800 0 C.
  • the heating of the disk is followed by rapid cooling (quenching, for example by a cold jet of air) the heated, etched disk.
  • the surface of the disk cools faster than the core zone, so that tensions form in the glass. The tensions increase the stability and strength of the glass. Heating and rapid cooling together form the tempering process of the process according to the invention.
  • the invention further relates to an optically transparent glass pane having an electrically conductive layer and an antireflection layer.
  • the glass pane comprises at least one optically transparent, electrically conductive layer on at least a portion of the surface of a glass substrate and an antireflection layer on the non-coated surface of the glass substrate.
  • the antireflection layer has a minimum light reflection of 0.5% to 7%, preferably 1% to 5%. The light reflection is determined at a wavelength of 300 nm to 1300 nm and a reflection angle of 1 ° to 40 °.
  • the optically transparent glass pane has the properties described above. The minimum light reflection of less than 7% and light reflection angle of less than 40 ° allow a high light transmission.
  • the invention further relates to an optically transparent glass pane obtained by the method according to the invention with an electrically conductive layer and an antireflection layer.
  • the invention further relates to the use of an optically transparent glass pane having an electrically conductive layer and an antireflection layer in photovoltaics, preferably in solar cells, screens, vehicle glazing and / or structural glazing.
  • FIG. 1 shows a cross section of the optically transparent glass pane according to the invention with an antireflection coating (1), glass substrate (2) and an optically transparent, electrically conductive layer (3) and
  • Figure 2 is a flow diagram of a preferred embodiment of the method according to the invention.
  • Figure 1 shows a cross section of the glass substrate (2) with the applied electrically conductive layer (3) and the anti-reflection layer (1).
  • the antireflection coating (1) lowers the proportion of the light reflected on the glass surface. This increases the proportion of light (transmission) which can pass through the glass substrate (2) and then the optically transparent, electrically conductive layer (3).
  • FIG. 2 shows a flow chart of a preferred embodiment of the method according to the invention.
  • the glass substrate (2) is provided on one side with an optically transparent, electrically conductive layer (3), in this case an optically transparent, conductive oxide (TCO).
  • TCO can be applied by various methods such as CVD or PVD, for example sputtering.
  • the layer thickness of the TCO is preferably 400 nm to 800 nm.
  • the TCO coating can be provided with an acid-resistant covering layer (4) depending on the acid used.
  • the glass substrate (2) with the TCO coating (3) is completely immersed in a hydrofluoric acid bath.
  • the hydrofluoric acid etches the uncoated glass surface of the glass substrate (2) and generates an antireflection coating (1) thereon.
  • the TCO layer (3) is not or only slightly attacked by the relatively weak acid HF, so that the TCO layer (3) shows no significant changes in its physical or chemical properties.
  • the now coated glass substrate (2) is then rinsed with distilled water and dried.
  • Example 1 In two series of experiments, the transmission, turbidity, efficiency increase and the sheet resistance of a disk produced by the process according to the invention (Example 1) and a comparative example (Example 2) were compared. Both discs (Example 1 and 2) containing a diamond ® glass (2) from Saint-Gobain Glass having a thickness of 3.2 mm. Both disks (Examples 1 and 2) contained on one side an optically transparent, electrically conductive SnO 2 : F layer (3) with a layer thickness of approximately 500 nm. The SnO 2 : F layer (3) was applied as in US2008 / 0314442 A1 described.
  • the disc produced by the process according to the invention was then precessed with an HF solution (2 wt.%) For 1 to 10 min, rinsed with deionized water and with H 2 SiF 6 (1, 25 mol / l) for Etched in a dip bath for 30 minutes to 120 minutes.
  • the pane according to the invention Example 1 was also completely immersed in the acid with the optically transparent, electrically conductive coating.
  • T ref transmission reference glass
  • T AR transmission of the disc according to the invention
  • N number of incident photons in the wavelength range ⁇ from 300 nm to 1300 nm.
  • the haze was determined using a Haze-Gard Plus (BYK Gardner GmbH, 82538 Geretsried, Germany).
  • the sheet resistance (rsq) was determined by the 4 point method.
  • the pane of the invention (Example 1) had a significantly higher transmission (T) and a significantly lower proportion of scattered light (R) than the comparative example (Example 2).
  • a high efficiency increase (E.I.) dependent on these quantities, was found to be 3.64%.
  • This Efficiency Increase (E.I) for example, has a direct effect on the efficiency of a solar module which uses a glass substrate according to the invention.
  • the constant sheet resistance (rsq) and the barely changing haze showed that the optically transparent, electrically conductive layer (3) was not attacked or abraded by the acid treatment.

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Abstract

Verfahren zur Herstellung einer optisch transparenten Glasscheibe, umfassend eine elektrisch leitfähige Schicht und eine Antireflexionsschicht, wobei a. auf zumindest einem Teilbereich der Oberfläche eines Glassubstrates (2) eine optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht (3) aufgebracht wird und b. eine Antireflexionsschicht (1) auf der nicht beschichteten Oberfläche des Glassubstrats (2) erzeugt wird, indem eine Lösung einer Säure und/oder Base auf die Oberfläche des Glassubstrats (2) aufgebracht wird.

Description

Verfahren zur Herstellung einer beschichteten und reflexionsverminderten Scheibe
Beschreibung
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer beschichteten und reflexionsverminderten Scheibe, eine mithilfe des erfindungsgemäßen Verfahrens hergestellte Scheibe und deren Verwendung.
Viele Scheiben zeigen neben der in vielen Fällen gewünschten hohen optischen Transparenz auch starke Lichtreflexionen. Trifft Licht auf eine Grenzfläche von Medien mit unterschiedlichem Brechungsindex, so wird ein Teil des einfallenden Lichts reflektiert. In Abhängigkeit von der Lichtquelle, Wellenlänge und dem Einstrahlwinkel kann die Reflexion beträchtlich sein. Beispielsweise kann die Sonnenlichtreflexion an Gebäuden oder vorausfahrenden Fahrzeugen andere Verkehrsteilnehmer blenden. Auch in der Photovoltaik ist Lichtreflexion unerwünscht, da sie die Lichtmenge auf der Photozellenoberfläche reduziert und den Wirkungsgrad der Solarzelle reduziert.
Grundsätzlich werden mehrere Verfahren zur Reflexionsverminderung von Scheiben angewandt. Die Reflexionsverminderung von Scheiben basiert in vielen Fällen auf der Erzeugung einer porösen, strukturierten Schicht auf der Glasoberfläche. Diese poröse, strukturierte Schicht kann durch Ätzen mit einer geeigneten Säure oder Base erzeugt werden. Eine poröse SiO2-Schicht kann durch Abscheidung von SiO2 auf der Glasoberfläche, beispielsweise in einem Sol-Gel-Verfahren erzeugt werden. Kombinationen der beiden Verfahren Ätzen und Abscheiden sind auch möglich.
Die reflexionsvermindernden Eigenschaften sind auch bei Scheiben mit optisch transparenten, elektrisch leitfähigen Beschichtungen wie beispielsweise transparenten leitfähigen Oxiden (TCO, transparent conductive oxides) von Bedeutung. Durch die Verringerung des Streulichtes kann die absolute Transmission dieser Schichten weiter gesteigert werden. Die poröse, strukturierte Schicht auf der Glasoberfläche erfordert jedoch oft zusätzliche und angepasste Prozesschritte. Die Oberflächenstruktur einer vorher geätzten Scheibe verändert in vielen Fällen die Abscheidung der optisch transparenten, elektrisch leitfähigen Schicht. Diese Anpassung und gegebenenfalls Änderung der Prozessbedingungen bei der Abscheidung der optisch transparenten, elektrisch leitfähigen Beschichtung verteuert die Herstellung der beschichteten Scheibe.
US 2,486,431 A offenbart ein Verfahren zur Erzeugung einer schwach reflektierenden Glasoberfläche. Die Glasoberfläche wird mit einer H2SiF6-Lösung geätzt. In Abhängigkeit von der Dauer des Ätzvorgangs wird die Glasoberfläche im unterschiedlichen Maße abgetragen und damit die optischen Eigenschaften der Oberfläche eingestellt und variiert.
DE 822 714 B offenbart ein Verfahren zur Herstellung eines reflexionsvermindernden Films auf der Oberfläche eines Glasgegenstandes. Dazu wird der Glasgegenstand in eine Lösung aus H2SiF6 und kolloidal-gelösten SiO2 getaucht. In Abhängigkeit von der F" und SiO2 Konzentration wird die Scheibenoberfläche abgetragen (geätzt) und/oder aufgebaut.
EP 1 056 136 B1 offenbart ein Substrat für eine Solarzelle, das mindestens eine Glas-Platte, einen ersten und zweiten Grundbeschichtungsfilm und einen leitfähigen Film umfasst. Der erste Grundbeschichtungsfilm enthält mindestens Metalloxide wie Zinnoxid, Titanoxid, Indiumoxid oder Zinkoxid.
US2008/0314442 A1 offenbart ein transparentes Substrat mit einer aus mindestens zwei Schichten bestehenden, optisch transparenten Elektrode. Die erste transparente, elektrisch leitfähige Schicht enthält ein nicht dotiertes Metalloxid, wie beispielsweise Zinnoxid. Die zweite transparente, elektrisch leitfähige Schicht enthält im Gegensatz dazu ein dotiertes Metalloxid.
US2008/0308146 A1 offenbart einen photovoltaischen Gegenstand mit einer Frontelektrode auf einem texturierten Glassubstrat. Die Texturierung des Glassubstrats erfolgt vor dem Aufbringen der Frontelektrode durch einen mechanischen Roller bei 570 0C bis 750 0C oder durch Ätzung mit einer Säure. Die Frontelektrode wird anschließend über ein Pyrolyseverfahren aufgebracht.
Die Aufgabe der Erfindung liegt darin, ein Verfahren zur Herstellung einer beschichteten und reflexionsverminderten Scheibe bereitzustellen, das eine Beschichtung der Scheibe mit einer optisch transparenten, elektrisch leitfähigen Beschichtung unabhängig von der bestehenden oder späteren Texturierung der Scheibe ermöglicht. Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung wird erfindungsgemäß durch eine optisch transparente Glasscheibe, Verfahren zu deren Herstellung, und deren Verwendung nach den unabhängigen Ansprüchen 1 , 13 und 15 gelöst. Bevorzugte Ausführungen gehen aus den Unteransprüchen hervor.
Das Verfahren zur Herstellung einer beschichteten, reflexionsverminderten Scheibe umfasst in einem ersten Schritt das Auftragen einer optisch transparenten, elektrisch leitfähigen Schicht auf zumindest einem Teilbereich der Oberfläche eines Glassubstrates. Diese optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht weist bevorzugt eine mittlere Transmission von mehr als 75 %, bevorzugt mehr als 80 % (als Energietransmission nach DIN-EN 410:1998) für Licht der Wellenlängen von 300 nm bis 1300 nm auf.
In einem zweiten Schritt wird eine Antireflexionsschicht auf der nicht beschichteten Oberfläche des Glassubstrats erzeugt, in dem eine Lösung einer Säure und/oder Base auf die Oberfläche des Glassubstrats aufgebracht wird. Die Lösung einer Säure und/oder Base wird auf die Oberfläche des Glassubstrats bevorzugt auch auf der mit einer optisch transparenten, elektrisch leitfähigen Schicht versehenen Oberfläche des Glassubstrats aufgebracht. Die Säure und/oder Lauge wird dabei bevorzugt so ausgewählt, dass die Glassoberfläche geätzt wird, aber gleichzeitig die optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht nicht von der Säure und/oder Lauge angegriffen wird. Metalloxide weisen insbesondere in Abhängigkeit von ihrem Redoxpotential eine hinreichende Stabilität gegenüber Säuren und Basen auf. Diese Eigenschaft kann auch bei metallischen Schichten, die entsprechende passivierte Oberflächen bilden, ausgenutzt werden.
Die Antireflexionsschicht wird bevorzugt erzeugt, in dem das Glassubstrat, das die optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht enthält, in eine Lösung einer Säure und/oder Base vollständig eingetaucht wird. Vollständig schließt dabei im Sinne der Erfindung auch gegebenenfalls nicht behandelte Kontaktstellen von Haltevorrichtungen am Glassubstrat mit ein.
Die Antireflexionsschicht kann alternativ auch erzeugt werden , in dem eine Lösung einer Säure und/oder Base auf das Glassubstrat mit der optisch transparenten, elektrisch leitfähigen Schicht aufgesprüht wird.
Die auf der Oberfläche des Glassubstrats aufgebrachte Säure und/oder Base enthält bevorzugt HF, H2SiF6, (SiO2)m *nH2O, HCl, H2SO4, H3PO4, HNO3, CF3COOH, CCI3COOH, HCOOH, CH3COOH, NaOH, KOH, Ca(OH)2 und/oder Gemische davon. Die auf der Oberfläche des Glassubstrats aufgebrachte Säure und/oder Base enthält besonders bevorzugt HF und/oder H2SiF6. Mit diesen Säuren werden besonders gute Ergebnisse im Tauchverfahren erzielt.
Die optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht wird bevorzugt durch CVD (chemical vapor deposition / Chemische Gasphasenabscheidung), CLD (chemical liquid deposition / Chemische Flüssigphasenabscheidung), PVD (physical vapor deposition) und/oder Kombinationen davon auf dem Glassubstrat aufgebracht. Die optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht wird besonders bevorzugt durch Sprühverfahren, Pyrolyseverfahren, Sputtering, Magnetronsputtering, SoI-GeI Verfahren, Inonenstrahlverfahren, Elektronenstrahlverfahren, Gasphasenabscheidung und/oder Kombinationen davon auf dem Glassubstrat aufgebracht.
Die optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht weist nach der Erzeugung der Antireflexionsschicht bevorzugt einen Flächenwiderstand von < 20 Ω/ , besonders bevorzugt von < 15 Ω/ , und ganz besonders bevorzugt von < 10 Ω/ auf.
Die optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht weist nach der Erzeugung der Antireflexionsschicht bevorzugt eine Trübung (haze) von < 20 %, bevorzugt < 10 %, besonders bevorzugt < 5 % auf.
Die optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht weist nach der Erzeugung der Antireflexionsschicht bevorzugt eine R.M.S-Rautiefe von 3 nm bis 50 nm, bevorzugt 5 nm bis 20 nm auf. Die R.M.S-Rautiefe (Root Mean Square) beschreibt den quadratischen Mittelwert der Rautiefe. Die R.M.S-Rautiefe wird bevorzugt mit einem AFM (Atomic Force Microscope) - Mikroskop bestimmt.
Die optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht wird bevorzugt mit einer Schichtdicke von 10 nm bis 1500 nm, besonders bevorzugt mit einer Schichtdicke von 400 nm bis 800 nm auf das Glassubstrat aufgebracht.
Die optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht wird bevorzugt durch Aufbringen von Zinn-dotierten Indiumoxid (ITO), Aluminium-dotierten Zinkoxid (AZO), Fluor-dotierten Zinnoxid (FTO, SnO2:F), Antimon-dotierten Zinnoxid (ATO, SnO2:Sb), Silber, Gold, Zinn, Wolfram, Kupfer, Silizium, Kohlenstoffnanoröhren und/oder optisch transparenten, elektrisch leitfähigen Polymeren und/oder Gemischen davon erzeugt.
Die optisch transparenten, elektrisch leitfähigen Polymere enthalten bevorzugt Poly(3,4- ethylenedioxythiophene), Polystyrensulfonat, Poly(4,4-dioctylcylopentadithiophen), lod, 2,3- dichloro-5,6-dicyano-1 ,4-benzoquinon, Gemische und/oder Copolymere davon.
Das Glassubstrat weist bevorzugt eine mittlere Transmission im Wellenlängenbereich von 300 nm bis 1300 nm von > 80 %, bevorzugt von > 90 % auf.
Die Antireflexionsschicht weist bevorzugt eine mittlere Transmission im Wellenlängenbereich von 300 nm bis 1300 nm von > 80 %, bevorzugt von > 90 % auf.
Die Antireflexionsschicht wird bevorzugt mit einer Schichtdicke von 10 nm bis 1000 nm, besonders bevorzugt von 50 nm bis 200 nm, erzeugt. In diesem Schichtdickenbereich werden gute Ergebnisse erzielt.
Das Glassubstrat enthält bevorzugt Flachglas (Floatglas), Quarzglas, Borosilikatglas, Kalk- Natron-Glas und/oder Gemische davon. Mit diesen Gläsern werden gute Ergebnisse erzielt.
Das Glassubstrat enthält bevorzugt 0,001 Gew. % bis 0,05 Gew. % Fe(III) als Fe2O3 und/oder 0,0005 Gew. % bis 0,005 Gew. % Fe(II) als FeO. Diese Fe(III) und Fe(II)- Konzentrationen sind besonders vorteilhaft.
Auf die optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht wird bevorzugt eine Deckschicht aufgebracht. Die Deckschicht kann kratzfeste Schichten wie Si3N4 und/oder gegen Säuren und/oder Basen beständige Polymere wie Epoxidharze, Ätzlack und/oder Ätzgrund enthalten.
Das Glassubstrat wird nach der Erzeugung der Antireflexionsschicht bevorzugt vorgespannt. Das Vorspannen erfolgt bevorzugt wie in DE10 2009 025 788 A1 beschrieben. Die Scheibe wird auf eine Temperatur von 500 0C bis 800 0C erwärmt. Dem Erwärmen der Scheibe schließt sich ein schnelles Abkühlen (Abschrecken, beispielsweise durch einen kalten Luftstrahl) der erwärmten, geätzten Scheibe an. Dabei erkaltet die Oberfläche der Scheibe schneller als die Kernzone, so dass sich im Glas Spannungen bilden. Die Spannungen erhöhen die Stabilität und Festigkeit des Glases. Erwärmen und schnelles Abkühlung bilden zusammen den Vorspannprozess des erfindungsgemäßen Verfahrens.
Die Erfindung betrifft weiter eine optisch transparente Glasscheibe mit einer elektrisch leitfähigen Schicht und einer Antireflexionsschicht. Die Glasscheibe umfasst mindestens eine optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht auf zumindest einem Teilbereich der Oberfläche eines Glassubstrates und eine Antireflexionsschicht auf der nicht beschichteten Oberfläche des Glassubstrats. Die Antireflexionsschicht weist eine minimale Lichtreflexion von 0,5 % bis 7 %, bevorzugt 1 % bis 5 % auf. Die Lichtreflexion wird bestimmt bei einer Wellenlänge von 300 nm bis 1300 nm und einem Reflexionswinkel von 1 ° bis 40°. Die optisch transparente Glasscheibe weist die vorstehend beschriebenen Eigenschaften auf. Die minimale Lichtreflexion von kleiner 7 % und Lichtreflexionswinkel von kleiner 40° ermöglichen eine hohe Lichttransmission.
Die Erfindung betrifft weiter eine durch das erfindungsgemäße Verfahren erhaltene, optisch transparente Glasscheibe mit einer elektrisch leitfähigen Schicht und einer Antireflexionsschicht.
Die Erfindung betrifft weiter die Verwendung einer optisch transparenten Glasscheibe mit einer elektrisch leitfähigen Schicht und einer Antireflexionsschicht in der Photovoltaik, bevorzugt in Solarzellen, Bildschirmen, Fahrzeugverglasung und/oder Bauverglasung.
Im Folgenden wird die Erfindung anhand einer Zeichnung und eines Ausführungs-, sowie Vergleichsbeispiels näher erläutert.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in den Zeichnungen dargestellt und wird im Folgenden näher beschrieben.
Es zeigen:
Figur 1 einen Querschnitt der erfindungsgemäßen, optisch transparenten Glasscheibe mit einer Antireflexionsschicht (1 ), Glassubstrat (2) und einer optisch transparenten, elektrisch leitfähigen Schicht (3) und
Figur 2 ein Fliesschema einer bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens. Figur 1 zeigt einen Querschnitt des Glassubstrats (2) mit der aufgebrachten elektrisch leitfähigen Schicht (3) und der Antireflexionsschicht (1 ). Die Antireflexionsschicht (1 ) senkt den Anteil des an der Glassoberfläche reflektierten Lichtes. Damit erhöht sich der Lichtanteil (Transmission), welcher das Glassubstrat (2) und anschließend die optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht (3) passieren kann.
Figur 2 zeigt ein Fliesschema einer bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens. In einem ersten Schritt wird das Glassubstrat (2) auf einer Seite mit einer optisch transparenten, elektrisch leitfähigen Schicht (3), in diesem Fall einem optisch transparenten, leitfähigen Oxid (TCO) versehen. TCO kann mit verschiedenen Methoden wie CVD oder PVD, beispielsweise Sputtern aufgebracht werden. Die Schichtdicke des TCO beträgt bevorzugt 400 nm bis 800 nm. Die TCO Beschichtung kann in Abhängigkeit von der verwendeten Säure mit einer säurebeständigen Deckschicht (4) versehen werden. In einem zweiten Schritt wird das Glassubstrat (2) mit der TCO Beschichtung (3) vollständig in ein Flusssäurebad getaucht. Die Flusssäure ätzt die nicht beschichtete Glasoberfläche des Glassubstrats (2) und erzeugt auf dieser eine Antireflexionsschicht (1 ). Die TCO Schicht (3) wird von der relativ schwachen Säure HF nicht oder nur sehr geringfügig angegriffen, so dass die TCO Schicht (3) keine entscheidenden Veränderungen ihrer physikalischen oder chemischen Eigenschaften zeigt. Das nun beidseitig beschichtete Glassubstrat (2) wird anschließend mit destilliertem Wasser gespült und getrocknet.
Im Folgenden wird die Erfindung anhand eines Beispiels des erfindungsgemäßen Verfahrens und eines Vergleichsbeispiels näher erläutert.
In zwei Versuchsreihen wurde die Transmission, Trübung, Efficiency Increase und der Flächenwiderstand einer nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten Scheibe (Beispiel 1 ) und eines Vergleichsbeispiel (Beispiel 2) verglichen. Beide Scheiben (Beispiel 1 und 2) enthielten ein Diamant® Glas (2) von SAINT-GOBAIN Glass mit einer Dicke von 3,2 mm. Beide Scheiben (Beispiel 1 und 2) enthielten auf einer Seite eine optisch transparente, elektrisch leitfähige SnO2:F Schicht (3) mit einer Schichtdicke von etwa 500 nm. Die SnO2:F Schicht (3) wurde aufgebracht wie in US2008/0314442 A1 beschrieben.
Die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellte Scheibe (Beispiel 1 ) wurde anschließend mit einer HF-Lösung (2 Gew. %) für 1 bis 10 min vorgeätzt, mit entionisiertem Wasser gespült und mit H2SiF6 (1 ,25 mol/l) für 30 min bis 120 min in einem Tauchbad geätzt. In beiden Ätzvorgängen wurde die erfindungsgemäße Scheibe (Beispiel 1 ) jeweils vollständig auch mit der optisch transparenten, elektrisch leitfähigen Beschichtung in die Säure getaucht.
Die Scheibe des Vergleichsbeispiels (Beispiel 2) wurde nicht geätzt und enthielt keine Antireflexionsschicht (1 ).
Die Ergebnisse der Transmission (T), Trübung (haze), Efficiency lncrease (E. I), minimalen Reflektion (Rmιn bei 20° / 300 nm bis 1300 nm), sowie des Flächenwiderstands (rsq) sind in Tabelle 1 zusammengefasst. Die Werte der Transmission, Efficiency lncrease und Reflektion wurden mit einem Lambda 900 WKL (Perkin Eimer, Waltham, Massachusetts 02451 , USA) ermittelt. Der Efficiency lncrease (E. I) berechnete sich gemäß Formel (1 )
E I _ ΣJAR x QEx N -∑Jref x QEx N
∑Xef x QEx N (1 )
wobei QE = Quanteneffizienz in %, Tref = Transmission Referenzglas, TAR = Transmission der erfindungsgemäßen Scheibe und N = Zahl der einfallenden Photonen im Wellenlängebereich λ von 300 nm bis 1300 nm waren.
Die Trübung (haze) wurde mit einem Haze-Gard Plus (BYK Gardner GmbH, 82538 Geretsried, Deutschland) ermittelt.
Tabelle 1 : Transmission (T), Efficiency lncrease (E.l), Trübung (haze), der Flächenwiderstand (rsq) und die minimale Reflektion (Rmin bei 20° / 300 nm bis 1300 nm) des erfindungsgemäßen Beispiels (Beispiel 1) und des Vergleichsbeispiels (Beispiel 2)
Figure imgf000010_0001
Der Flächenwiderstand (rsq) wurde mit der 4 Punkt-Methode bestimmt. Die erfindungsgemäße Scheibe (Beispiel 1 ) wies eine deutlich höhere Transmission (T) und einen deutlich niedrigeren Anteil Streulicht (R) auf als das Vergleichsbeispiel (Beispiel 2). Damit ergab sich im erfindungsgemäßen Beispiel (Beispiel 1 ) ein von diesen Größen abhängiger, hoher Efficiency lncrease (E. I) mit 3,64 %. Dieser Efficiency lncrease (E. I) wirkt sich beispielsweise direkt auf den Wirkungsgrad eines Solarmoduls aus, welches ein erfindungsgemäßes Glassubstrat verwendet. Der gleichbleibende Schichtwiderstand (rsq) und die sich kaum verändernde Trübung (haze) zeigten, dass die optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht (3) nicht von der Säure Behandlung angegriffen oder abgetragen wurde. Diese Ergebnisse waren für den Fachmann überraschend und nicht naheliegend.
Bezugszeichenliste
(1 ) Antireflexionsschicht,
(2) Glassubstrat,
(3) optisch transparente, elektrisch leitfähige Beschichtung und
(4) Deckschicht.

Claims

Patentansprüche
1 . Verfahren zur Herstellung einer optisch transparenten Glasscheibe, umfassend eine elektrisch leitfähige Schicht und eine Antireflexionsschicht, wobei a. auf zumindest einem Teilbereich der Oberfläche eines Glassubstrats (2) eine optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht (3) aufgebracht wird und b. eine Antireflexionsschicht (1 ) auf der nicht beschichteten Oberfläche des Glassubstrats (2) erzeugt wird, indem eine Lösung einer Säure und/oder Base auf die Oberfläche des Glassubstrats (2) aufgebracht wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1 , wobei die Antireflexionsschicht (1 ) erzeugt wird, in dem das Glassubstrat (2), enthaltend die optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht (3), in eine Lösung einer Säure und/oder Base eingetaucht wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 , wobei die Antireflexionsschicht (1 ) erzeugt wird, in dem eine Lösung einer Säure und/oder Base auf das Glassubstrat (2), enthaltend die optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht (3), aufgesprüht wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei Säure und/oder Base enthaltend HF, H2SiF6, (SiO2)m *nH2O, HCl, H2SO4, H3PO4, HNO3, CF3COOH, CCI3COOH, HCOOH, CH3COOH, NaOH, KOH, Ca(OH)2 und/oder Gemische davon auf die Oberfläche des Glassubstrats (2) aufgebracht werden.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei die optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht (3) durch CVD, CLD, PVD, Sprühverfahren, Pyrolyseverfahren, Sputtering, Magentronsputtering, SoI-GeI Verfahren, Inonenstrahlverfahren Elektronenstrahlverfahren, Gasphasenabscheidung und/oder Kombinationen davon aufgebracht wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei die optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht (3) nach der Erzeugung der Antireflexionsschicht (1 ) einen Flächenwiderstand von < 20 Ω/ , bevorzugt < 15 Ω/ , besonders bevorzugt < 10 Ω/ aufweist.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei die optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht (3) nach der Erzeugung der Antireflexionsschicht (1 ) eine Trübung (haze) von < 20 %, bevorzugt < 10 %, besonders bevorzugt < 5 % und/oder eine R.M.S-Rautiefe von 3 nm bis 50 nm, bevorzugt 5 nm bis 20 nm aufweist.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei die optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht (3) mit einer Schichtdicke von 10 nm bis 1500 nm, bevorzugt von 400 nm bis 800 nm aufgebracht wird.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei die optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht (3) durch Aufbringen von Zinn-dotierten Indiumoxid (ITO), Aluminium-dotierten Zinkoxid (AZO), Fluor-dotierten Zinnoxid (FTO, SnO2:F), Antimon-dotierten Zinnoxid (ATO, SnO2:Sb), Silber, Gold, Zinn, Wolfram, Kupfer, Silizium, Kohlenstoffnanoröhrchen, optisch transparente, elektrisch leitfähige Polymere Poly(3,4-ethylenedioxythiophene), Polystyrensulfonat, Poly(4,4-dioctylcylopentadithiophen), lod, 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1 ,4- benzoquinon, Gemische und/oder Copolymere davon erzeugt wird.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei die Antireflexionsschicht (1 ) mit einer Schichtdicke von 10 nm bis 1000 nm, bevorzugt von 50 nm bis 200 nm erzeugt wird.
1 1 . Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, wobei auf die optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht (3) eine Deckschicht (4) aufgebracht wird.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 1 1 , wobei das Glassubstrat (2) nach der Erzeugung der Antireflexionsschicht (1 ) vorgespannt wird.
13. Optisch transparente Glasscheibe umfassend:
a. eine optisch transparente, elektrisch leitfähige Schicht (3) auf zumindest einem Teilbereich der Oberfläche eines Glassubstrats (2) und
b. eine Antireflexionsschicht (1 ) auf der nicht beschichteten Oberfläche des Glassubstrats (2) mit einer minimalen Lichtreflexion von 0,5 % bis 7 % bestimmt bei einer mittleren Wellenlänge von 300 nm bis 1300 nm und einem Reflexionswinkel von 1 ° bis 40°.
14. Optisch transparente Glasscheibe nach Anspruch 13, die auf der optisch transparenten, elektrisch leitfähigen Schicht (3) eine Deckschicht (4) aufweist.
15. Verwendung einer optisch transparenten Glasscheibe nach Anspruch 13 oder 14 in der Photovoltaik, bevorzugt in Solarmodulen, Bildschirmen, Fahrzeugverglasung und/oder Bauverglasung.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103183480A (zh) * 2011-12-28 2013-07-03 上海北玻玻璃技术工业有限公司 Azo镀膜玻璃的制备方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102795785B (zh) * 2012-09-10 2015-04-22 刘立强 减反射玻璃及二次酸腐蚀制备减反射玻璃的方法
CN109148608A (zh) * 2017-06-16 2019-01-04 联相光电股份有限公司 低反射率太阳能天窗装置及其制造方法
CN110981208A (zh) * 2019-12-17 2020-04-10 河南豫科光学科技股份有限公司 一种超白玻璃基板的制备工艺

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2486431A (en) 1944-08-18 1949-11-01 Rca Corp Method of producing low-glare coatings
DE822714C (de) 1946-09-21 1951-11-26 Rca Corp Verfahren zur Herstellung eines die Reflexion vermindernden Films auf der Oberflaeche eines Glasgegenstandes
JPS57210676A (en) * 1981-06-22 1982-12-24 Hoya Corp Substrate for electrode
US6461736B1 (en) * 1998-09-04 2002-10-08 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Light-colored glass of high transmittance and method for production thereof, glass plate with electrically conductive film and method for production thereof, and glass article
EP1056136B1 (de) 1999-05-28 2004-04-28 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Leitendes Substrat für eine photoelektrische Umwandlungs-Vorrichtung und Verfahren zu dessen Herstellung
US20080308146A1 (en) 2007-06-14 2008-12-18 Guardian Industries Corp. Front electrode including pyrolytic transparent conductive coating on textured glass substrate for use in photovoltaic device and method of making same
US20080314442A1 (en) 2005-09-23 2008-12-25 Saint-Gobain Glass France Transparent Substrate Provided With an Electrode
DE102009025788A1 (de) 2009-05-13 2010-11-25 Saint-Gobain Sekurit Deutschland Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung einer reflexionsverminderten Scheibe

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008051730A1 (de) * 2008-10-15 2010-04-22 Saint-Gobain Sekurit Deutschland Gmbh & Co. Kg Transparenter Gegenstand mit einem örtlich begrenzten, strukturierten, elektrisch beheizbaren, transparenten Bereich, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2486431A (en) 1944-08-18 1949-11-01 Rca Corp Method of producing low-glare coatings
DE822714C (de) 1946-09-21 1951-11-26 Rca Corp Verfahren zur Herstellung eines die Reflexion vermindernden Films auf der Oberflaeche eines Glasgegenstandes
JPS57210676A (en) * 1981-06-22 1982-12-24 Hoya Corp Substrate for electrode
US6461736B1 (en) * 1998-09-04 2002-10-08 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Light-colored glass of high transmittance and method for production thereof, glass plate with electrically conductive film and method for production thereof, and glass article
EP1056136B1 (de) 1999-05-28 2004-04-28 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Leitendes Substrat für eine photoelektrische Umwandlungs-Vorrichtung und Verfahren zu dessen Herstellung
US20080314442A1 (en) 2005-09-23 2008-12-25 Saint-Gobain Glass France Transparent Substrate Provided With an Electrode
US20080308146A1 (en) 2007-06-14 2008-12-18 Guardian Industries Corp. Front electrode including pyrolytic transparent conductive coating on textured glass substrate for use in photovoltaic device and method of making same
DE102009025788A1 (de) 2009-05-13 2010-11-25 Saint-Gobain Sekurit Deutschland Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung einer reflexionsverminderten Scheibe

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
A. VARSHNEYA: "Fundamentals of Inorganic Glasses", 2006, ISBN: 0900682515, XP002605160 *
DATABASE WPI Week 198306, Derwent World Patents Index; AN 1983-13476K, XP002605162 *
DEUBENER J ET AL: "Glasses for solar energy conversion systems", JOURNAL OF THE EUROPEAN CERAMIC SOCIETY, vol. 29, no. 7, 1 April 2009 (2009-04-01), ELSEVIER SCIENCE PUBLISHERS, BARKING, ESSEX, GB, pages 1203 - 1210, XP025970569, ISSN: 0955-2219, [retrieved on 20080918], DOI: 10.1016/J.JEURCERAMSOC.2008.08.009 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103183480A (zh) * 2011-12-28 2013-07-03 上海北玻玻璃技术工业有限公司 Azo镀膜玻璃的制备方法

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