WO2009122595A1 - 板状体の搬送装置及びこれを用いた板状体の検査装置 - Google Patents

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難波貞二
望月均
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日本エレクトロセンサリデバイス株式会社
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    • G01N21/9501Semiconductor wafers
    • G01N21/9505Wafer internal defects, e.g. microcracks

Definitions

  • the present invention relates to a device for placing a plate-like body such as a wafer for solar cells in the ⁇ state, and further to a plate-like body using the same.
  • Background sickle a plate-like body such as a wafer for solar cells in the ⁇ state
  • Taiyoueha (hereinafter referred to as “weiha”) is very thin with a thickness force S of about 2 0 0 m, ⁇ in the middle! 3 ⁇ 41 often and in the middle of the day, There is a need for a thigh device that can push the wafer down to ⁇ rf to improve the yield.
  • JP51-7667A and JP2004-331395A eject air from a number of hole forces formed in the transport path to form a layer of air between the transport and the thigh path, and this layer of air. Therefore, an i3 ⁇ 4i device (hereinafter referred to as “air levitation device”) that floats a load from the road and makes the object in this state is disclosed.
  • air levitation device an i3 ⁇ 4i device
  • JP51-7667A the belt is heated against the object to stabilize the object, and the object is moved in a predetermined thigh direction by fg »J of the belt.
  • JP2004-331395A the object is moved by disliking the delicate surface of the work roller on the underside of the object and the end face of the object ⁇ ) is moved to the ⁇ of the roller. The movement in the direction is restricted.
  • the present invention has been made in view of such a sickle, and a thigh device that can thigh a thigh in a ⁇ state and in a stable direction, and a ⁇ t
  • the purpose is to set the position 3 ⁇ 4W.
  • an upper surface that forms a thigh path that extends in a disagreeable direction and that is inclined in the width direction of the distressed path is formed by placing the plate-like body in a predetermined conveying direction.
  • Ed. 2 A float stage having a plurality of first flow outlets that eject fluid from the surface, and a Ml self-float stage on the side of the tiff self-float stage where And a side guide having a plurality of second fluent outlets for ejecting fluid toward the anxiety, and the hate E3 ⁇ 4 is a plurality of first and second outlets.
  • a thigh device is carried in which the force received from the fluid ejected from the 3 ⁇ 41 balances with the weight of the body.
  • the plate-like body including the upper device and the imaging separation placed in the middle of the thigh of the self-tactile device is thoroughly detected.
  • a thigh pad, a plate-like body as a specimen, a float stage It can be transported while maintaining strength, stability, and direction without causing any worms on the side guides to prevent damage to the plate as much as possible.
  • FIG. 1 is a plan view of the web according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a front view of the couch detection apparatus according to the first embodiment.
  • FIG. 3 is a side view of the wafer detector according to the first embodiment.
  • Fig. 4 shows the force acting on uh.
  • Fig. 5 is a diagram showing the nozzle and the ue ( ⁇ standing).
  • Fig. 6 A 6 B is a diagram for explaining Uha's work.
  • FIG. 7 is a plan view of the wafer detector according to the second embodiment. Best mode for carrying out the invention
  • Fig. 1 to Fig. 3 show the general structure of the solar space (hereinafter referred to as "Uha").
  • Uha 1 is, for example, an approximately square of dozens of cm squares and has a thickness f3 ⁇ 4 2 0 ⁇ ⁇ ⁇ .
  • the evacuation is a device that inspects the edge of Hua 1 (4 sides) for defects, cracks, and binding defects during 3 ⁇ 4 of Hua 1; Wafer 1 is loaded onto the float stage 2 from a cassette (not shown) by the unillustrated tray and handling tree. The wafer 1 moves on the float stage 2 in the right direction in FIG. 1, and during this time, all edges of the wafer 1 are imaged by the line scan cameras 3a to 3h.
  • Line scan cameras 3a to 3h are power cameras with CCD image sensor elements arranged in a row, and image wafer 1 that crosses the camera's field of view.
  • the lighting devices for line scan cameras 3a to 3h are not shown in FIGS. 1 to 3, the lighting device power S consisting of a halogen lamp and a light guide for each of line scanning cameras 3a to 3h S Be placed.
  • the images captured by the line scan cameras 3 a to 3 h are displayed on the screen (not shown) 3], and the screen S is displayed on the screen by processing the captured images.
  • the presence / absence of a defect may be determined visually from a captured image displayed on the display of the image.
  • Float stage 2 extends in the direction of wafer 1.
  • the float stage upper surface 2 a constituting the wafer 1 3 ⁇ 4 ⁇ is provided with a first air outlet 4 for ejecting air upward from the float stage upper surface 2 a.
  • the air ejected from the first air outlet 4 forms a layer of air between the wafer 1 and the float stage upper surface 2 a, and the air layer 1 floats from the float stage upper surface 2 a.
  • the float stage upper surface 2 a is slightly inclined with respect to the horizontal plane H in the width direction of the conveyance path (direction perpendicular to the thigh direction).
  • the inclination angle 0 of the upper surface 2a of the float stage is set to 0.36 °, for example.
  • the entire float stage 2 is inclined and the float stage upper surface 2 a is inclined, but only the float stage upper surface 2 a may be inclined ft.
  • five side guides are provided on the float stage 2 and ⁇ ff.
  • seven porous ceramic plates constituting the second air outlet 6 are mounted side by side in the 3 ⁇ 43 ⁇ 4 direction. Air is spouted out.
  • the wafer 1 receives air from the air blown by the first and second air outlets 4 and 6, so that the wafer 1 not only floats on the float stage 2 but also from the side guide 5. Are also separated.
  • the flying height of the wafer 1 from the float stage 2 is, for example, 40 / z m, and the distance from the side guide 5 is, for example, 60 to L 0 ⁇ m.
  • first and second air outlets 4, 1, 2, and 2 so that the force received from the air jetted from the first and second air outlets 4, 6 is balanced with the weight of the wafer 1,
  • the flow rate of the air ejected from 6 is adjusted, so that the position in the width direction of the transport path of the wafer 1 is stabilized at the center in the width direction of the path.
  • Waha 1 is stable because the edge of the left or right edge becomes the side guide 5. This is due to the fact that either edge becomes the side guide 5 and the side guide.
  • No. 1 tries to rotate, the vertical force approaching the side guide 5 increases from the force that is received from the air discharged from the second air outlet 6, and the reverse moment to PJjh the rotation of wafer 1 is It is because it acts on.
  • Figure 4 shows the force acting on wafer 1.
  • the slope of the upper surface 2 a of the float stage is exaggerated and drawn for explanation.
  • the weight of the wafer 1 is W
  • the force received from the air blown from the first air outlet 4 is F
  • the air blown from the second air outlet 6 force (the resultant force of the forces acting on the upper surface of Ueha 1) and F 2 which receives, W, respectively W x a component parallel to Ueha 1 F 2, F 2 x, the orthogonal components, respectively it W y , F 2 y
  • the force acting on ueha 1 has the following formula:
  • the device is roughly divided into the four edges of wafer 1, the float stage 2 and the edge that becomes ⁇ with respect to the side guide 5 at the beginning of loading. (Hereinafter referred to as “0 ° edge”)
  • the first thigh imaging unit 1 1 that performs imaging in the wafer 1 and the first conveyance imaging unit 1 Connected downstream of 1 and transports TU 1 while rotating 90 ° counterclockwise 90 ° in Fig.
  • the second thigh imaging unit 1 3 that performs imaging of the edge perpendicular to the 0 ° edge (hereinafter referred to as “90 ° edge”) among the four edges of the The In the following, the configuration of each 3 ⁇ 4 ⁇ is described.
  • the first transport imaging unit 1 1 has a cloud nozzle 8 a 0 ° pair of line scan cameras 3 a 3 b 0 ° pair of line scan cameras 3 c 3 d.
  • the Nosunre 8a for heels is located at the uppermost stream side of the first thigh imaging unit 1 1 and at the center in the width direction of the thigh tract. By blowing air on the surface of the wafer 1, the wafer 1 Give thrust in the direction.
  • the woofer has a sufficient initial speed, or when the float stage top surface 2a is tilted in the thigh direction so that the woofer 1 is thighed by its own weight, this ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ nozzle 8a Is unnecessary.
  • FIG. 5 shows the positions of the nozzles 8 a and 1.
  • the angle ⁇ with respect to the surface of the woof is as small as possible, and its nozzle is located as close as possible to the woofer surface.
  • the reason why the angle to the surface of the wafer is made as small as possible is to make the component force in the conveying direction of the force acting on the nozzle 1 as large as possible due to the jetted air.
  • the reason for arranging the air as close as possible to the surface of the woofer is to use the air that is blown to the maximum possible leakage of the woofer 1 and to reduce wasteful air consumption. The same applies to nozzles 8 b 8 h and position P 1 It is.
  • the line scan cameras 3 a and 3 b for imaging the 0 ° edge surface are arranged on both sides of the transport path.
  • the line scan cameras 3 a and 3 b move up and are arranged so that the CCD image sensor elements are aligned in a direction perpendicular to the direction, so that the surface of the 0 ° edge of wafer 1 is imaged from directly above. Is done.
  • the line scan cameras 3c and 3d for imaging the back surface of the wafer at 0 ° edge are arranged in a portion where the i3 ⁇ 4 ⁇ is interrupted (hereinafter referred to as “slit portion”) 9.
  • the line scan cameras 3c and 3d are so powerful that the CCD image sensor element is perpendicular to the direction so that the back of the 0 ° edge of wafer 1 moving on the thigh road is imaged from directly below through the slit 9. Arranged in a direction.
  • the air force S is not supplied from the first air jet 4 force at the slit portion 9, and the wafer 1 passing through the slit portion 9 descends toward the float stage upper surface 2a, but the width of the slit portion 9 is Since it is set enough, wafer 1 will not be on the float stage top surface 2a.
  • the woofer times ⁇ 1 2 are provided with deflection nozzles 8 b, times ⁇ ffl nozzles 8 c and 8 d, and rotation nozzles 8 e and 8 f.
  • the side guide 5 is disposed only on the downstream side where the stop nose and the grooves 8e and 8f are disposed.
  • the deflection nozzle 8 b is arranged on the uppermost stream side of the wafer rotation 1 2, on the side where the float stage 2 f is connected. Due to the force received from the air ejected from the deflecting nozzle 8b, the way / 1 moves in the width direction of the 3 ⁇ 43 ⁇ 4 path (downward in FIG. 1) against the inclination of the upper surface 2a of the float stage.
  • the rotations f ffl Nos Nore 8c, 8d are arranged downstream of the deflection nozzle 8b.
  • Times ffl Noznore 8 c, 8 d air is blown vertically on the surface of woofer 1 with the center of gravity of woofer 1 seen on the left, and this creates a counterclockwise moment in FIG. And rotate wafer 1 in that direction.
  • the side guide 5 is provided in the vicinity of the position where the rotation nozzle 8 c, 8 d force 3 ⁇ 4E is placed, and the rotating wafer 1 does not contact the side guide 5 because the side guide 5 does not rotate. .
  • the rotation noses 8 e and 8 f are arranged on the most downstream side of the woofer rotation 15 1 2.
  • One of the stop nozzles 8e, 8f is placed in the ⁇ direction and ⁇ , and to is placed beside the side of the float stage 2f, perpendicular to the ⁇ direction. 3 ⁇ 4 ⁇ Stop nozzles 8e and 8f blow air to the part of the wafer surface where the center of gravity of wafer 1 is seen with the right hand, and this causes the clockwise moment in FIG. Stop the rotation of wafer 1.
  • one of the stop nozzles 8e and 8f is set as ⁇ in the thigh direction, and is arranged at right angles to the thigh direction. This is because the rotation of wafer 1 can be stopped by ⁇ 1 with a small air flow rate.
  • the jetted air can be used exclusively for stopping the rotation of ueno ⁇ 1 and preventing anyone between ueha 1 and side guide 5 ⁇ moving woofer 1 in the ⁇ direction.
  • Force S is the force that can suppress the decline.
  • FIGS. 6A and 6B show the eaves where woofer 1 rotates in ueno turn 1 2.
  • FIG. 6A (a) shows the UENO 1 just before entering the UENO rotating part 12.
  • the plan view has symbols A to D at the four corners of wafer 1.
  • the edge between A and D and the edge between C and B (0. edge) are parallel to the side guide 5.
  • the air from the deflection nozzle 8 first moves the wafer 1 in the width direction of the road against the surface of the float stage upper surface 2 a (Fig. 6 ⁇ (b)).
  • woofer 1 rotates counterclockwise due to the air from rotation ffl Noznore 8c, 8d (Fig. 6A (c)). Wafer 1 to which rotation is applied moves in the ⁇ direction on float stage 2 while rotating (Fig. 6 A (d)).
  • the second ⁇ imaging unit 13 is provided with a re-use nozzle, a nose 8 g, a shifting stop nose, and a nose 8 h in place of the nozzle 31 a for 3 ⁇ 431. Except for this, the configuration is substantially the same as that of the first bag imaging unit 11. Due to the rotation of ueha 1 ⁇ S 2 at ueha ⁇ 1 2, the image is taken by the line scan camera 3 f ⁇ 3 g of the second ⁇ 1 imaging unit 1 3 at 0 ° edge of ueha 1 The front and back of the 90 ° edge perpendicular to the angle.
  • Nozzle 8g is placed at the center of the width direction of the uppermost stream IJ of the second ⁇ imager 1 3, and once again against wafer 1 where the movement speed in the transport direction has dropped. Gives thrust and assists movement in the direction.
  • the shift stop Nore 8 1 ⁇ is arranged at the center in the width direction of the second imaging unit 13, and stops the movement of wafer 1 in the i3 ⁇ 4 ⁇ direction.
  • the stopped wafer 1 is put into a cassette (not shown) by means of a node link (not shown).
  • the wafer 1 can be kept in a stable direction without causing the wafer 1 to be placed on either the float stage 2 or the side guide 5.
  • Kamijo S ⁇ Makoto the thigh in the state of woofer 1 is possible, and damage to woofer 1 can be prevented as much as possible.
  • Fig. 7 shows the second 3 ⁇ 46 state of Yulin invention.
  • the same components as those in the first mode are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
  • description will be made focusing on the portions that are the same as those in the first 3 ⁇ 4 ⁇ mode.
  • the first image pickup unit 1 1 and the second ⁇ image pickup unit 1 3 are arranged so that their transport directions are perpendicular to each other. This corresponds to the first 3 ⁇ 43 ⁇ 4 ⁇ state of the point force in which the direction sickle portion 14 is arranged.
  • the direction changing section 14 is provided with an L float stage 15, a transfer nose, a nozzle 8 i, and a nozzle 8 j disposed at its corner 15.
  • the structure of the float stage 15 is the same as that of the float stage 2 except that the float stage upper surface 15a is L-shaped.
  • the direction force and displacement of the nozzles 8a, 8h, 8i, and 8j that blow air on the wafer surface are the same or perpendicular to the ⁇ direction, so the first 3 ⁇ 46 ⁇ state.
  • the wafer position in the above state is intended to remove the edge of wafer 1, but a camera and lighting device for adding the surface and interior of wafer 1 can be added or a line scan camera 3 a By arranging m "instead of ⁇ 3h, the surface and interior of wafer 1 can be removed.
  • line scan cameras 3a to 3h are used as cameras for capturing wafer 1, but instead of line scan cameras 3a to 3h, an area sensor camera in which CCD image sensor elements are arranged two-dimensionally is used. It is also possible to use it.
  • the present invention is not limited to solar wafers and can be widely used for thin plate-like thigh devices and devices.

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Abstract

板状体(1)を所定の搬送方向に搬送する搬送装置は、前記搬送方向に延びる搬送路を構成し、かつ、前記搬送路の幅方向に傾斜する上面(2a)と、前記上面(2a)から流体を噴出する複数の第1の流体噴出口(4)とを有するフロートステージ(2)と、前記フロートステージ(2)の前記上面(2a)が傾斜している側に、かつ、前記フロートステージ(2)と平行に配置され、前記搬送路に向けて流体を噴出する複数の第2の流体噴出口(6)を有するサイドガイド(5)と、を備え、前記板状体(1)が前記複数の第1及び第2の流体噴出口(4、6)から噴出される流体から受ける力が前記板状体(1)の自重と釣り合う。

Description

明 細 書 板状体の腿装 ¾¾びこれを用レ、た板状体の 置 鎌分野
本発明は、 太陽電池用ゥエーハ等の板状体を ^状態で する 置、 さ らには、 これを用いた板状体の 置に関する。 背景鎌
太陽鼋删ゥエーハ (以下、 「ゥエーハ」 という。 ) は、 厚さ力 S約 2 0 0 mと 非常に薄く、 ^^中で! ¾1することが多かつ 近午、 ゥエーハのさらなる薄厚 ィ匕が進められおり、 歩留まり向上のため、 ゥエーハを纖さ ^rfに腿できる腿 装置が要望されている。
この点に関し、 JP51-7667A、 JP2004-331395Aは、搬送路に形成される多数の孔 力らエアを噴出して搬 3¾¾ ^物と腿路の間にエアの層を形成し、 このエアの層に よって搬^ 物を 路から浮上させ、 この状態で «¾m ^物を する i¾i装 置 (以下、 「空気浮上 装置」 という。 ) を開示している。
このような空気浮上^^装置をゥエーハの腿に用レヽれば、 ゥエーハを腿路 に纖させることなく βすることが可能である。 発明の開示
しかしながら、 上記空気浮上 装置を用いたとしても、 物を完全に ■虫状態で することはできなレ、。
これは、 物を単に搬送路から浮上させただけでは、腿時の ¾¾¾ ^物 の姿勢、 移動方向が安定しないからである。 このため、 JP51- 7667Aでは、 対 象物の ¾にベルトを激虫させて ^物の を安定させ、 このベルトを fg»J することで 物を所定の腿方向に移動させている。 また、 JP2004- 331395A では、搬 ϋ¾ ^物の下面に職ローラの繊面を嫌させて 物を移動させ るとともに、 搬^)の端面を ローラの ^^に ¾ ^させて^^物の^^向 の移動を規制している。
本発明は、 このような鎌 を鑑みてなされたもので、腿 物を^^ 状態かつ安定した 向に腿することのできる腿装置、 ·及び、 これを ^^物の搬送に用いた^ ¾置を ¾Wすることを目的とする。
本発明のある纖によれば、板状体を所定の搬送方向に腿する¾¾置であつ て、嫌 方向に延びる腿路を構成し、 力 、 嫌 ¾¾路の幅方向に傲斜する 上面と、編 2±面から流体を噴出する複数の第 1の流 ί«出口とを有するフロート ステージと、 tiff己フロートステージの ΙίΠΒ±面カ^斗している側に、 つ、 Ml己フ ロートステージと ¥ffに配置され、 嫌 纖に向けて流体を噴出する複数の第 2 の流鍾出口を有するサイドガイドと、 を備え、 嫌 E¾状体が蘭己複数の第 1及び 第 2の流 出口から噴出される流体から受ける力が ¾1 状体の自重と釣り合う 腿装置が搬される。
また、本発明の別の鎌によれば、 上 装置と、 廳己讓装置の腿路途中 に配置される撮離置と、 を備える板状体の検 置が徹される。
本発明によれば、腿纖物、 検 物である板状体を、 フロートステージ、 サイドガイドいずれにも激虫させることなく、 力 、 安定した^^、 向を維 持したまま搬送することができ、 板状体の損傷を可能な限り防止することができ る。 図面の簡単な説明
図 1は、 第1の実¾¾¾態に係るゥェ ^»¾置の平面図でぁる。
図 2は、 第 1の実 態に係るゥ ハ検^ ¾置の正面図である。
図 3は、 第 1の実 態に係るゥ ハ検 置の側面図である。
図 4は、 ゥ ハに作用する力を示した図である。
図 5は、 用ノズルとゥェ (^立置,を示した図である。
図 6 A 6 Bは、 ゥ ハの回^)作を説明するための図である。
図 7は、 第 2の実 態に係るゥ ハ検 置の平面図である。 発明を実施するための最良の开態
以下、 謝図面を参照しながら本発明の 態について説明する。
—第 1の¾^態—
図 1〜図 3は太陽鼋翻ゥ ハ (以下、 「ゥ ハ」 という。 ) 置 の概瞧成を示している。 ゥ ハ 1は、 例えば、 十数 c m角の略正方形で、 厚さ f¾ 2 0 Ο μ πιである。
; 難置は、 ゥ ハ 1のエッジ (4方の辺) に欠け、 割れ、 縛の欠陥がな いかをゥ ハ 1の¾ ^中に検査する装置である。 図示しなレ、ハンドリング樹冓 によりゥエーハ 1が図示しないカセットからフロートステージ 2上に搬入される と、 ゥエーハ 1はフロートステージ 2上を図 1中右方向に移動し、 この間にゥエー ハ 1の全エッジがラインスキャンカメラ 3 a〜3 hによって撮像される。 ラインス キャンカメラ 3 a〜3 hは C CDィメージセンサ素子を一列に配置した力メラであ り、 カメラの視野内を横切るゥエーハ 1を に撮像する。 なお、 図 1〜図 3に はラインスキャンカメラ 3 a〜3 hの照明装置が図示されていないが、 ラインスキ ヤンカメラ 3 a〜3 hそれぞれに対してハロゲンランプ及びライトガイドからなる 照明装置力 S配置される。
ラインスキャンカメラ 3 a〜3 hによって撮像された画像は、 図示しない画^]; 3¾置に^ ί言され、 画^ ®S置は撮像された画像を画^理することによりゥェ ーハ 1のエッジに欠陥がある力 ^l ffTる。 欠陥の有無は画^] 置のディスプレ ィに表示される撮像画像から目視により判 るようにしてもよい。
フロートステージ 2はゥエーハ 1の搬 向に延びてレ、る。 ゥエーハ 1の ¾^ を構成するフロートステージ上面 2 aには、 フロートステージ上面 2 aからエアを 上方に噴出する の第 1のエア噴出口 4が設けられている。 第 1のエア噴出口 4 から噴出されるエアにより、 ゥエーハ 1とフロートステージ上面 2 aの間にはエア の層カ形成され、 このエアの層によってゥエーノヽ 1がフロートステージ上面 2 aか ら浮上する。
フロートステージ上面 2 aは、 図 3に示すように、 水平面 Hに対して搬送路の幅 方向 (腿方向に対して直角な方向) に僅かに惧斜している。 フロートステージ上 面 2 aの傾斜角 0は、 例えば、 0 . 3 6 ° に設定される。 なお、 この図ではフロ 一トステージ 2全体を 斜させてフロートステージ上面 2 aをィ 斜させているが、 フロートステージ上面 2 aのみ ft斜させてもよい。 , フロートステージ 2のフロートステージ上面 2 aが傾斜する側には、 フロートス テージ 2と ¥ffにサイドガイド 5カ設けられている。 サイドガイド 5の腿 則の 面には第 2のエア噴出口 6を構成する の多孔質セラミックスプレート 7カ、¾¾ 方向に並んで取り付けられており、 第 2のエア噴出口 6力、ら 路に向けてエア が噴出される。
ゥエーハ 1は、 第 1、 第 2のエア噴出口 4、 6力ら噴出されるエアからカを受 け、 これにより、 ゥエーハ 1は、 フロートステージ 2上に浮上するだけでなく、 サ ィドガイド 5からも離間する。 ゥエーハ 1のフロートステージ 2からの浮上量は、 例えば、 4 0 /z mであり、 サイドガイド 5からの離間量は、 例えば、 6 0〜: L 0 0 μ mである。
さらに、 ゥエーノヽ 1が第 1、 第 2のエア噴出口 4、 6力、ら噴出されるエアから受 ける力が、 ゥエーハ 1の自重と釣り合うように第 1、 第 2のエア噴出口 4、 6から 噴出されるエアの流量が調節され、 これにより、 ゥエーハ 1の搬送路の幅方向位置 力 ¾¾¾路の幅方向中央で安定する。
これは、 ゥエーハ 1力 S搬送路の幅方向中央からサイドガイド 5に近づく方向にず れると、 第 2のエア噴出口 6から噴出されるエアから受ける力力 ¾t大してゥエーノヽ 1力 S腿路の幅方向中央に押し戻され、 逆に、 ゥエーハ 1力 ^の幅方向中央か らサイドガイド 5から遠ざかる方向にずれると、 第 2のエア噴出口 6から噴出され るエアから受ける力力減少し、 ゥエーハ 1の自重によってゥエーノヽ 1が 路の幅 方向中央まで戻されるからである。
また、 ゥエーハ 1は、 レ、ずれかのエッジがサイドガイド 5と 亍となる で安 定する。 これは、 いずれかのエッジがサイドガイド 5と 亍となる錢からゥエー ノヽ 1が回転しょうとすると、 サイドガイド 5に近づく 立が第 2のエア噴出口 6か ら嘖出されるエアから受ける力力増大し、 ゥエーハ 1の回転を PJjhする逆のモーメ ントがゥエーノヽ iに作用するからである。
図 4はゥエーハ 1に作用する力を示した図である。 なお、 図 4は説明用にフロー トステージ上面 2 aの 斜を誇張して大きく描いてある。
ゥエーハ 1の自重を W、 第 1のエア噴出口 4から噴出されるエアから受ける力 (ゥエーハ 1の下面に作用する力の合力) を Fい 第 2のエア噴出口 6から噴出さ れるエアから受ける力 (ゥエーハ 1の上面に作用する力の合力) を F 2とし、 W、 F 2のゥエーハ 1に対して平行な成分をそれぞれ Wx、 F 2 x、 直角な成分をそれぞ れ Wy、 F 2 yとすると、 ゥエーハ 1に作用する力の間には、 次の 、式:
F 1 =Wy + F 2 y
Wx = F 2 y
が成立する。 第 1、 第 2のエア噴出口 4、 6から噴出されるエアの流量は、 この関 係式が満たされるように調節する。
なお、 ゥエーハ 1に作用する力は、 フロートステージ上面 2 aの傾斜角 0、 第 1、 第 2のエア噴出口 4、 6からのエアの噴出方向の影響も受けるので、 これらの パラメータを調節することで、 上記醒式が満たされるようにすることも可能であ る。
図 1〜3に戻り、 さらに^^置の構成について説明を続けると、 置 は、 大きく分けて、 ゥエーハ 1の四方のエッジのうちフロートステージ 2搬入当初 にサイドガイド 5に対して 亍となるエッジ (以下、 「0° エッジ」 という。 ) の撮像をゥエーハ 1の 中に行う第 1の腿撮像部 1 1と、 第 1の搬送撮像部 1 1の下流に接続し、 ゥ ハ 1を図 1中反時計回りに 9 0° 回転させながら搬 送するゥ ヽ回 1 2と、 ゥ 回^ 15 1 2の下流に纖し、 ゥ ハ 1の 四方のェッジのうち 0 ° エツジに対して直角なェッジ (以下、 「9 0° エッジ」 という。 ) の撮像をゥ ハ 1の 中に行う第 2の腿撮像部 1 3と、 で構成 される。 以下、 各 ¾ί立の構成について説明する。
1の腿撮像部]
第 1の搬送撮像部 1 1には、 雲用ノズル 8 a 0° エッジの表面を撮像する 一対のラインスキャンカメラ 3 a 3 b 0° エッジの裏面を撮像する一対のラ インスキャンカメラ 3 c 3 dを備える。
纖用ノスンレ 8 aは、 第 1の腿撮像部 1 1の最上流側、 力つ、腿路の幅方向 中央に配置され、 ゥエーハ 1の表面にエアを吹き付けることでゥエーハ 1
Figure imgf000009_0001
向の推力を与える。 なお、 ゥエーハ 1カ十分な初速を有しているときや、 フロート ステージ上面 2 aを腿方向にィ麟させてゥ ハ 1が自重により腿されるよう にしたときは、 この ίϋΐ用ノズル 8 aは不要である。
図 5は、纖用ノズル 8 aとゥ ハ 1の位置隱を示している。 猶用ノズル
8 aは、 ゥ ハ表面に対する角度 αがなるベく小さくなるように、 また、 その噴 口がゥ ハ表面のなるべく近くに配置される。
ゥエーハ表面に ¾ "る角度をなるベく小さくするのは、 噴出されるエアによりゥ 1に作用する力の搬送方向の分力がなるべく大きくなるようにするためであ る。 また、噴ロをゥ ハ表面のなるべく近くに配置するのは、 噴出されるエアを 最大限ゥエーハ 1の漏に利用し、無駄なエアの消費を抑えるためである。 なお、 後财る纖用ノズル 8 a以外のノズル 8 b 8 hとゥ ハ 1の位置 P も同様 である。
また、 0° エッジの表面の撮像用のラインスキャンカメラ 3 a、 3 bは、 搬送 路の両側に配置される。 ラインスキャンカメラ 3 a、 3 bは、 上を移動する ゥエーハ 1の 0° エッジの表面を真上から撮像するように、 力つ、 C C Dィメー ジセンサ素子が 向に対し直角な方向に並ぶように配置される。
これに対し、 ゥエーハの 0° エッジの裏面を撮像するラインスキャンカメラ 3 c、 3 dは、 i¾ ^が途切れた部分 (以下、 「スリット部」 という。 ) 9に配置さ れている。 ラインスキャンカメラ 3 c、 3 dは、 腿路上を移動するゥエーハ 1の 0° エッジの裏面をスリット部 9を介して真下から撮像するように、 力つ、 C C Dィメージセンサ素子が 向に対し直角な方向に並ぶように配置される。 なお、 スリット部 9では第 1のエア噴出口 4力らエア力 S供給されず、 スリット部 9を通過するゥエーハ 1はフロートステージ上面 2 aに向けて下降するが、 スリツ ト部 9の幅は十 く設定されているため、 ゥエーハ 1がフロートステージ上面 2 aに することはない。
[ゥエーハ回 ]
ゥエーハ回^^ 1 2は、 偏向用ノズノレ 8 b、 回^ fflノズノレ 8 c、 8 d、 回^止 用ノズノレ 8 e、 8 f を備える。 また、 サイドガイド 5は回 止用ノズ、ノレ 8 e、 8 fが配置される下流側の 立のみに配置される。
偏向用ノズル 8 bは、 ゥエーハ回^ 1 2の最上流側、 力つ、 フロートステージ 2 f謹している側の脇に配置される。 ゥエー/、 1は、 偏向用ノズル 8 bから噴出 されるエアから受ける力により、 フロートステージ上面 2 aの傲斜に抗して ¾¾路 の幅方向 (図 1中下方向) に移動する。 回^ fflノズノレ 8 c、 8 dは、 偏向用ノズル 8 bの下流側に配置される。 回^ fflノ ズノレ 8 c、 8 dは、 ゥエーハ 1の表面のうち、 ゥエーハ 1の重心を左手に見る 立 にエアを吹き付け、 これにより、 ゥエーハ 1に図 1中反時計回りのモーメントを作 用させ、 ゥエーハ 1をその方向に回転させる。 上記の通り、 回 ノズル 8 c、 8 d力 ¾E置される位置の近傍にはサイドガイド 5は設けられてレヽな!/ヽので、 回転する ゥエーハ 1がサイドガイド 5と^ Tることはない。
回^ 用ノズノレ 8 e、 8 fは、 ゥエーハ回^ 15 1 2の最下流側に配置される。 回 止用ノズル 8 e、 8 fのうち一方は、 ^向と 亍に配置され、 toはフ ロートステージ 2 f辭斗している側の脇、 つ、 ^^向と直角に配置される。 回 ¾^止用ノズル 8 e、 8 fは、 ゥエーハ表面のうち、 ゥエーハ 1の重心を右手に見 る部位にエアを吹き付け、 これにより、 ゥエーハ 1に図 1中時計回りのモーメント を作用させ、 ゥエーハ 1の回転を停止させる。
ここで、 回 止用ノズル 8 e、 8 f の一方を腿方向に対し 亍とし、 を 腿方向に対し直角に配置したのは、 に配 »Τると、 ゥエーハ 1により長い時 間エアを当てることができるので、 少ないエア流量でゥエーハ 1の回転を^1かに 停止させることができるからである。 また、垂直に配 Wると、 噴射されるエアを 専らゥエーノヽ 1の回転の停止とゥエーハ 1とサイドガイド 5との誰防止〖 IJ用す ることができ、 ゥエーハ 1の^^方向の移動 力 S低下するのを抑えることができ る力らである。
つまり、 回^ 止用ノズ /レ 8 e、 8 fをこのような配置とすることで、 ゥエーハ
1の 方向の移動速度をなるベく しつつ、 ゥエーハ 1の回転を かに停止 させることができる。 図 6 A、 6 Bは、 ゥエーノヽ回 1 2においてゥエーハ 1が回転する軒を示し たものである。
図 6 A (a ) はゥエーノヽ回転部 1 2に進入する直前のゥエーノヽ 1を示している。 ゥエーハ 1が回転する様子をわかりやすくするために、 平面図にはゥエーハ 1の四 隅に A〜Dの符号を言 ΕΛしてある。 この状態では A—D間のエッジ、 C— B間のェ ッジ (0。 エッジ) がサイドガイド 5に対して平行になっている。
ウェークヽ 1がゥエーノヽ回^ 1 2に進入すると、 まず、 偏向用ノズル 8 からの エアによって、 ゥエーハ 1がフロートステージ上面 2 aの ί辭斗に抗して 路の幅 方向に移動する (図 6 Α (b) ) 。
次に、 回^ fflノズノレ 8 c、 8 dからのエアにより、 ゥェーハ 1が反時計回りに回 転する (図 6 A ( c) )。 回転を付与されたゥエーハ 1は、 回転しながらフロート ステージ 2上を^^向に移動する (図 6 A (d) ) 。
フロートステージ上面 2 aが ί辭斗しているため、 ゥエーハ 1は、 徐々にゥエーハ 回^ 151 2の下流に配置されるサイドガイド 5に近づきつつ、 回 ^^止用ノズノレ 8 e、 8 f力 ¾Β置されている位置までtむ (図 6 B (e ) ) 。
そして、 回^^止用ノズル 8 e、 8 fからのエアによりゥエーノ、 1の回転が停止 し、 ゥエーハ 1の D— B間のエッジ、 A—C間のエッジ (9 0° エッジ) がサイ ドガイド 5に対して平行になる (図 6 B ( f ) ) 。
その後、 ゥェーハ 1は第 2の 像部 1 3に進入する力 搬送方向の移動 が落ちているため、 用ノズル 8 gからのエアにより 方向の ¾Λが再 えられる。
このように、 ゥエーハ回^ 1 2においては、 ゥエーハ 1を他の謝立に撤虫させ ることなく、 力つ、 ゥエーハ 1の腿方向の移動を停止させることなく、 ゥエーハ 1を 9 0° 回転させることが可能である。
の 像部]
第 2の ^撮像部 1 3は、 図 1、 図 2に示すように、 ¾31用ノズル 8 aに代えて 再,用ノス、ノレ 8 g、移 薛止用ノス、ノレ 8 hを備えることを除き、 第 1の拥 撮像 部 1 1と略同様の構成である。 ゥエーハ回^ 1 2においてゥエーハ 1力 S 9 0° 回転されているので、 第 2の^^撮像部 1 3のラインスキャンカメラ 3 f 〜3 gに よって撮像される 立はゥエーハ 1の 0° エッジに対して直角な 9 0° エッジの 表面と裏面となる。
|¾«用ノズ、ノレ 8 gは、 第 2の^ 撮像部 1 3の最上流值 IJ、 力つ、 の幅方 向中央に配置され、 搬送方向の移動速度が落ちたゥエーハ 1に対し再び推力を与 え、 向の移動を補助する。
移 » 止用ノズ、ノレ 8 1ιは、 第 2の 撮像部 1 3の最下流佃』、 力つ、 の幅 方向中央に配置され、 ゥエーハ 1の i¾ ^向の移動を停止させる。 停止したゥエー ハ 1は図示しないノヽンドリンク により図示しないカセットに,される。 続いて、 上言满成による作用効果について説明する。
上記構成によれば、 ゥエーハ 1をフロートステージ 2、 サイドガイド 5いずれに も させることなく、 つ、安定した 、 方向を,したまま するこ とができる。 つまり、 上曾 S†誠によれば、 ゥエーハ 1の完全 ^虫状態での腿が 可能であり、 ゥエーハ 1の損傷を可能な限り防止することができる。
また、 第 1の 像部 1 1と第 2の¾¾像部 1 3の間にゥエーハ回 2 を配置したことにより、 ゥエーハ 1の全エッジを検查することができる。 ゥエーハ 回^ 1 2では、 ゥエーノヽ 1に¾^ることなくゥエーハ 1を回転させるので、 ゥ エーハ 1を回転させる際にもゥエーハ 1に損傷を与えることがない。 また、 ゥエー ハ 1を停止させることなく回転させるので、 腿、 赚に要する時間を »Tるこ とができる。
一第 2の難形態一
図 7〖林発明の第 2の¾6^態を示している。 第 1の 態と同一の構成には 同じ参照符号を付して説明を省略し、 以下、 第 1の ¾ ^態と相 ¾1 "る部分を中心 に説明する。
第 2の ¾6©f態は、 第 1の 撮像部 1 1と第 2の^ 撮像部 1 3をそれらの搬 送方向が直角になるように配置し、 その間にゥエーハ回 1 2に代えて L の 方向鎌部 1 4を配置した点力第 1の¾¾^態と相 る。
[^向繊部]
方向転換部 1 4は、 L のフロートステージ 1 5、 そのコーナ^ 15に配置され る移 « 止用ノス、ノレ 8 i、及ぴ、 用ノズル 8 jを備える。 フロートステージ 1 5の構成はフロートステージ上面 1 5 aが L字型になってレ、る点以外、 フロート ステージ 2と同じである。
第 1の 像部 1 1からゥエーハ 1が方向繊部 1 4に進入すると、 まず、移 S 止用ノズル 8 iからのエアによりゥエーハ 1の移動力 S停止される。 そして、 再 推進用ノズノレ 8 jからのエアによりゥエーハ 1がこれまでの搬送方向と 9 0° を なす方向の ¾Λが与えられ、 ゥエーハ 1は第 2の腿撮像部 1 3へと送られる。 この構成によっても、 ゥエーハ 1はフロートステージ 2、 1 5、 サイドガイド 5 レ、ずれにも撤虫することがなく i ^され、 ゥエーハ 1の損傷を可能な限り抑えるこ とができる。
また、 ゥエーハ表面にエアを吹き付けるノズル 8 a、 8 h、 8 i、 8 jの向き 力 レ、ずれも ^方向と同じないし直角な方向になるので、 第 1の ¾6 ^態のよう. にゥエーハ 1の回^ ffl及び回^止用のノズルの位置を する必要がなく、 第 1の^^態に比 ^^置設計が容易になるという利点がある。
以上、 本発明の 態について説明したが、 上記 態 発明の趣旨を逸 脱しなレ、範囲で種々の改変が可能である。
例えば、 上記 態のゥエーハ^ g置は、 ゥエーハ 1のエッジを纖するこ とを目的としているが、 ゥエーハ 1の表面、 内部を »するためのカメラ及び照明 装置を、 追加あるいはラインスキャンカメラ 3 a〜3 hに代えて配 m "ることで、 ゥエーハ 1の表面、 内部を^ ¾することも可能である。
また、 ゥエーハ 1を撮像するカメラとしてラインスキャンカメラ 3 a〜 3 hを用 いているが、 ラインスキャンカメラ 3 a〜3 hの代わりに C CDイメージセンサ素 子を二次元に配置したエリアセンサカメラを用いることも可能である。
また、 フロートステージ上面 2 aを腿方向に it通させ、 ゥエーハ 1が自重によ り摘 されるようにレてもよく、 この^ 8\ ■用ノズンレ 8 a、 再 ¾it用ノスンレ 8 gが不要になる。 産 の利用可
本発明は、 太陽戆删ゥエーハに限らず、 薄い板状体の腿装置、 置に広 く利用することができる。

Claims

請 求 の 範 囲
1. 板状体 (1) を所定の搬送方向に腿する 置であって、
廳¾ ^方向に延びる腿路を構成し、 かつ、 膽^ ¾路の幅方向に ί 斗する上 面 (2 a) と、 前記上面 (2 a) から流体を噴出する複数の第 1の流体噴出口 (4) とを有するフロートステージ (2) と、
廳己フロートステージ (2) の廳让面 (2 a) 力 ^斜している側に、 かつ、 前 記フロートステージ (2) と に配置され、 歯己 に向けて流体を噴出する 複数の第 2の流 出口 (6) を有するサイドガイド (5) と、
を備え、 膽 状体 (1) が廳己複数の第 1及び第 2の流体噴出口(4、 6) から 噴出される流体から受ける力が廳 状体 (1) の自重と釣り合うことを とす る ^氍
2. 板状体 (1) の^常置であって、.
請求項 1に の 装置と、
歸¾ ^装置の β路途中に配置される撮難置 (3 a〜3h) と、
を備えることを «とする^
3. 請求項 2に纖の^ ¾置であって、
歸己撮蝶置 (3 a〜3h) 力 Ι5¾状体 (1) のエッジ、 表面あるいは内部 を撮像するカメラである、
ことを mとする検 ¾¾
4. 板状体 (1) の »g置であって、
請求項 1に纖の搬難置とその腿路途中に配置される第 1の撮離置 (3 a 〜3 d) からなる第 1の腿撮像部 (11) と、
請求項 1に雄の腿装置とその腿路途中に配置される第 2の撮離置 (3 e 〜3h) からなり、 tiltS¾状体 (1) の搬送方向が歯己第 1の腿撮像部 (11) における ttifS^状体 (1) の i ^方向と同一となるように配置される第 2の »撮 像部 (13) と、
l己第 1の搬送撮像部 (1 1) と Ιίίΐ己第 2の搬送撮像部 (13) の間に配置さ れ、 firtS¾状体 (1) を 90° 回転させる回^ 15 (12) と、
を備えることを糊数とする
5. 請求項 4に纖の^^置であって、
膽己第 1及び第 2の撮^ ¾置 (3 a〜3h) が識2¾状体 (1) のエッジ、表面 あるいは内部を撮像するカメラである、
ことを赚とする
6. 請求項 4に言 Bttの^ ¾置において、
鍵己回 (12) は、
廳¾ ^方向に延びる搬送路を構成し、 かつ、 肅 送路の幅方向にィ麟する 上面 (2 a) と、 嫌 B±面 (2 a) から流体を噴出する複数の流 ί«出口 (4) と を有するフロートステージ (2) と、 廳 反状体 (1) に流体を吹き付けることで tmii面 (2 a) f 斜に抗して 歸 B¾状体 (1) を廳¾¾路の幅方向に移動させる偏向用ノズル (8b) と、
Ml己偏向用ノズル (8b) の下流側に配置され、 rfE¾状体 (1) に流体を吹 き付けることで嫌 ΰ¾状体 (1) を回転させる回 fefflノズル(8 c、 8 d) と、 膽己回 ノズル (8 c、 8 d) の下流側に配置され、 歸¾5状体 (1)に流 体を吹き付けることで廳2¾状体 (1) の回転を停止させる回^止用ノズル (8 e、 8 f ) と、
を備えることを赚とする
7. 板状体 (1) の^常置であって、
請求項 1に «の腿装置とその腿路途中に配置される第 1の撮離置 (3 a 〜3 d) 力らなる第 1の腿纖部 (11) と、
請求項 1に纖の ^置とその腿路途中に配置される第 2の撮^ ¾置 ( 3 e 〜3h) からなり、嫌 S¾状体 (1) の 向が嫌己第 1の腿撮像部 (11) における歸5¾状体 (1) の搬送方向と直角になるように配置される第 2の 撮 像部 (13) と、
IS第 1の搬送撮像部 (1 1) と Ml己第 2の搬送撮像部 (13) の間に配置さ れ、 歸 状体 (1) の進行方向を 90° 回転させる方向 部 (14) と、 を備えることを とする
8. 請求項 7に記載の検¾¾置であって、
藤己第 1及び第 2の撮離置 (3 a〜3h) カ^ ilfS†反状体 (1) のエッジ、 表面 あるいは内部を撮像するカメラである、
ことを とする
9. 請求項 7に言 Ξ¾の^ 置において、
肅 向 ^部 (14) は、
L の上面 (15 a) を有し、 力つ、 己 L の上面 (15 a) から流体 を噴出する複数の流 出口 (4) を藤己 L の上面 (15 a) に有するし のフロートステージ (15) と、
觸 2¾状体 (1) に流体を吹き付けることで鍵 S¾状体 (1) を膽己 L の フロートステージ (15) のコーナー部に停止させる移動停止用ノズル (8 i) と、
膽己コーナ^ 15に停止した歸 状体 (1) に流体を吹き付けることで請 B¾ 状体 (1) をそれまでの進行方向と直角な方向に移動させる再推進用ノズル (8 j) と、
を備えることを纖とする^ ¾ o
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