WO2009118496A2 - Procede de fabrication d'un garnissage ondule-croise - Google Patents

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WO2009118496A2
WO2009118496A2 PCT/FR2009/050353 FR2009050353W WO2009118496A2 WO 2009118496 A2 WO2009118496 A2 WO 2009118496A2 FR 2009050353 W FR2009050353 W FR 2009050353W WO 2009118496 A2 WO2009118496 A2 WO 2009118496A2
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Fabrice Delcorso
François LECLERCQ
Julien Alfonsi
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L'air Liquide Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude
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Definitions

  • the present invention relates to a method of manufacturing cross-corrugated packings.
  • the packings ordinarily used are constituted by corrugated strips comprising parallel alternating corrugations each arranged in a vertical general plane and against each other.
  • the undulations are oblique and descend in opposite directions from one band to the next.
  • the perforation rate is about 10% for these so-called cross-corrugated packings.
  • GB-A-1004046 discloses packings of the cross-corrugated type.
  • CA-A-1095827 proposes an improvement of this type of lining by adding a small diameter dense perforation to allow the liquid to pass cross corrugated strips on either side.
  • This packing as illustrated in Figure 1 is generally made from flat product: metal sheets in the form of strips. The strips are first folded (or bent) so as to form a kind of strip corrugated sheet whose corrugations are oblique with respect to the axis of the strip. The folded strips are then cut into sections and then stacked by alternately turning one band out of two.
  • the various parameters for describing a corrugated-crossed packing are: the height of the waves (H), the angle of folding (p), the radius of curvature (r) and the inclination of waves ( ⁇ ).
  • the object of the invention is to improve the technology of structured packings.
  • the structured characteristic of the lining intrinsically ensures a good response to the functions in the so-called "current" zone.
  • the importance of the interface zone between modules was highlighted during the development of the modified interface packings (MELLAPACK + packings by SULZER CHEMTECH).
  • a slight modification of the interface between modules has made it possible to postpone bottlenecks and thus to obtain significant gains in the capacity of the columns to be distilled (to be connected to the function "ensure the flow of liquid against the gas flow”) by practically degrading the performance in exchange of material (to be connected to the "maintain the gas / liquid contact surface” function).
  • - US-A-5013492 Describes the vertical offset in the modules of one of two packing strips to reduce the density in the vicinity of the interfaces.
  • - FR-A-2686271 Describes the insertion of spacers between the modules.
  • JP-A-6312101 Describes the insertion of lower density modules between the distillation modules.
  • WO-A-97/16247 Describes the gradual change of the inclination of the channels up to the vertical at the edges of the strips, as well as the installation of gratings between the modules. Another possible interpretation of these phenomena is that, at
  • the liquid film can therefore be more easily disturbed and, as it is no longer maintained, it breaks to collect in large drops, causing a local engorgement.
  • the function “Ensure the flow of the liquid against the flow of gas” is therefore more difficult to fill in the "interface" between modules.
  • a method of treating a material and / or heat transfer module comprising a stack of cross-waved lamellae in which the wetting of the surface of the lamellae is reduced in at least one zone of the module characterized in that the wetting is reduced only in at least one of the low and high interface areas of the module.
  • the wetting is reduced by polishing the surface of the lamellae in at least one interface zone of the module;
  • the wetting is reduced by ensuring a chemical treatment of the surfaces of the lamellae in at least one interface zone of the module;
  • the zone is soaked in a chemical bath or sprayed with a solution; the wetting is reduced by providing a physical and / or chemical treatment from a reactive gas atmosphere excited by an electric discharge, in particular an electric discharge at atmospheric pressure; the electric discharge being of the corona, dielectric barrier (DBD) or microwave type;
  • an electric discharge in particular an electric discharge at atmospheric pressure; the electric discharge being of the corona, dielectric barrier (DBD) or microwave type;
  • the wetting of at least one interface zone of the lamella is reduced before or after folding; the wetting of the surface of the lamellae of the module is increased in the central zone of the module;
  • wetting is increased by soaking the slide in a bath of liquid or by basting it with a solution;
  • the wetting is increased by providing a physical and / or chemical treatment from a reactive gas atmosphere excited by an electric discharge, in particular an electric discharge at atmospheric pressure;
  • the electric discharge being of the corona, dielectric barrier (DBD) or microwave type;
  • the wetting of at least one zone of the module is reduced according to a property gradient of the plasma atmosphere through the module;
  • the concentration of the injected gases and / or the density and electronic temperature of the plasma are varied along the module;
  • the changes in wetting properties are progressive between two contiguous zones; the wetting modification is combined with at least one modification of geometry, density or material of the zone;
  • the slats are made of aluminum
  • the slats are made of copper.
  • At least one outer zone is treated according to one of the methods described above.
  • a column equipped with at least one packing module described above, in particular an air gas distillation column.
  • the invention consists in adapting the wettability of the surface of the lining by the cryogenic liquid functionalized in the different zones of the module. For that we will implement a technique of treatment of surface of the packing plates during their manufacture, applied in line before or after stamping.
  • the first step is to retain more liquid to ensure: o a longer contact time with the gas o better "wetting", therefore a larger surface area gas / liquid contact and thus improve the transfer of material.
  • the liquid flow rates per unit area of the lining may vary depending on the position in the column. Some areas may be more or less laden with liquid than others. To counterbalance these liquid load variations, the surface can be functionalized to make it: o More wetting where the liquid charges are low. o Less wetting where liquid loads are high. >
  • the packing modules are organized by section in the column. A section is located between a gas inlet at the bottom and usually a liquid distributor at the top. At the top of the section, the surface can thus be functionalized for rapid wetting of the packing surface by the liquid falling from the distributor.
  • the surface can be functionalized to reduce wetting in order to reduce the interaction with the incoming gas and to limit the rise of liquid.
  • the physicochemical modifications of this surface may consist in particular of: 1. in engraving and stripping,
  • the surface treatment is applied from a gaseous phase and especially by means of a cold plasma, in particular because the permissible treatment temperature by an aluminum foil is very limited.
  • a cold plasma in particular because the permissible treatment temperature by an aluminum foil is very limited.
  • an atmospheric pressure plasma process appears best suited for high efficiency continuous treatment, with the obligation of a low cost.
  • the corresponding device will easily integrate with the continuous manufacturing facility of the packings.
  • the deposition of thin layers of material is the most advantageous way to modify the wettability of the aluminum surface.
  • a microtexturing process will generally use halogenated gases posing safety and environmental problems, therefore involving constraints and additional costs.
  • a microtextured surface may have a reactivity less well known and in any case less reproducible with respect to oxygen under conditions of accidental initiation of combustion.
  • a simple chemical function grafting may be insufficient. Indeed, the packing will have to maintain the very specific level of wettability that will have been given to it during the manufacturing during many years of service, whereas the permanent contact of the liquid or diphasic oxygen will certainly end up having an effect on the grafted functionalities. (which, remember, involve only a small amount of material at the surface), changing over time the wetting properties.
  • PECVD plasma enhanced chemical vapor deposition
  • a chemical vapor of precursors of the various elements to be incorporated into the thin film material For example, to deposit silica, a mixture of monosilane SiH 4 and oxygen will be used.
  • the initial chemical molecules are dissociated into smaller fragments, in particular radicals having a very high chemical energy with respect to a surface and which will condense on said surface and then become incorporated into the layer of matter. growing irreversibly forming strong bonds.
  • the advantage of the PECVD process is that, because of the very high reactivity of the radicals conferred by the electrical excitation, the thin layer of material can form on the surface of a substrate without it being necessary to heat it significantly. , and even at almost ambient temperature.
  • the thin films of silicon nitride are generally hydrophobic, as are the films fluorocarbon polymers. Hydrophobic films of materials prepared from gaseous organosilicon precursors can also be obtained.
  • silica SiO x and titanium oxide TiO 2 films are hydrophilic. All these materials are amorphous and it is possible to reach any "intermediate" alloy composition by combining in a PECVD process several gaseous precursors of the various elements to be incorporated.
  • any wettability value can in principle be achieved.
  • the adjustment of the composition is particularly simple in a PECVD process since it is sufficient to change the flow ratios of the different gaseous chemical precursors. It is also possible to vary spatially the composition of the material, and therefore the wettability, in the direction perpendicular to the scroll during a continuous treatment of the packing strip (ie the height of the module). It suffices to inject a gas mixture whose composition varies appropriately along this direction, which does not pose a major problem when operating at atmospheric pressure.
  • the second family is that of atmospheric microwave discharges, which have the advantage of a high electron density, therefore a high conversion efficiency of gaseous precursors and therefore a high deposition rate which is a very important element in applications where there is a strong cost constraint. It is particularly It is advantageous to use a linear plasma source in flux, that is to say generating a "curtain" of plasma incident on the surface of the packing strip, and extending perpendicular to the direction of travel.
  • a plasma source is described in the French patent application FR-07 57719 of September 20, 2007, and its application to produce a device and a PECVD process in the French patent application FR-07 57720 of September 20, 2007, both in the name of the Claimant.
  • the dilution gas may be nitrogen, argon or a mixture of both.
  • a watertight enclosure ensures the confinement of the active gases in the deposition zone to avoid pollutant emissions into the atmosphere of the manufacturing workshop.
  • the system is also equipped with a system for cleaning up used gases before return to the atmosphere. Control automations ensure the traceability of the wetting characteristics of each batch produced, according to its destination in the module or in the column.
  • the deposition of thin layer can be performed on the smooth aluminum sheet before stamping, which poses the problem of maintaining its integrity during the latter operation, but it can also be performed downstream of the stamping. In this case, it may be necessary to proceed before the actual deposit to a cleaning of the surface to ensure good adhesion of the layer that will undergo heavy differential thermal stresses in service.
  • This treatment may advantageously consist in the application of a reducing plasma with a starting gas containing hydrogen or water vapor.
  • Figures 4A and 4B show different packing slats processed by the method of the invention.
  • the corrugations pass through the lamella in a conventional manner forming a constant angle with the edges of the lamella.
  • either the upper zone B or the lower zone B 'or both are treated according to a method according to the invention to reduce the wetting of their surfaces.
  • the central zone A can also be treated according to a method described above to increase the wetting.
  • Figure 4B shows a modified-edge packing where the angle of the corrugations approaches the vertical towards the lower and upper edges of the module.
  • the corrugation angle approaches 90 ° horizontally while in zone A, the angle formed is around 45 °.
  • the upper zone B or the lower zone B 'or both are treated according to a method according to the invention to reduce the wetting of their surfaces.
  • the central zone A can also be treated according to a method described above to increase the wetting.
  • zones A, B, B ' may vary but in general, the zones B and B' comprise between 2 and 20% of the height of the lamella and the central zone A comprises between 60 and 96% of the height of the lamellae. the coverslip.

Abstract

Dans un procédé de traitement d'un module de transfert de matière et/ou de chaleur, le module comprenant un empilage de lamelles ondulées croisées, on réduit le mouillage de la surface des lamelles dans au moins une zone (B, B') du module.

Description

Procédé de fabrication d'un garnissage ondulé-croisé
La présente invention est relative à un procédé de fabrication de garnissages ondulé-croisé. Les garnissages ordinairement utilisés sont constitués par des bandes ondulées comprenant des ondulations alternées parallèles disposées chacune dans un plan général vertical et les unes contre les autres. Les ondulations sont obliques et descendent dans des sens opposés d'une bande à la suivante. Le taux de perforation est d'environ 10 % pour ces garnissages dits ondulés-croisés.
GB-A-1004046 divulgue des garnissages du type ondulé-croisé.
CA-A-1095827 propose une amélioration de ce type de garnissage en ajoutant une perforation dense de petit diamètre pour permettre au liquide de transiter de part et d'autre des bandes ondulées croisées. Ce garnissage tel qu'illustré à la Figure 1 est généralement fabriqué à partir de produit plat : des feuilles métalliques sous forme de bandes. Les bandes sont d'abord pliées (ou cintrées) de façon à former une sorte de tôle ondulée en bande dont les ondulations sont obliques par rapport à l'axe de la bande. Les bandes pliées sont ensuite découpées en tronçons puis empilées en retournant alternativement une bande sur deux.
Les tronçons de garnissage ainsi obtenus sont appelés modules.
Dans le cas d'ondulations simples, comme l'on voit à la Figure 2, les différents paramètres permettant de décrire un garnissage ondulé-croisé sont : la hauteur des ondes (H), l'angle de pliage (p), le rayon de courbure (r) et l'inclinaison des ondes (δ).
L'invention a pour but d'améliorer la technologie des garnissages structurés.
La caractéristique structurée du garnissage assure intrinsèquement une bonne réponse aux fonctions dans la zone dite « courante ». L'importance de la zone d'interface entre modules a été mise en évidence lors des développements des garnissages à interface modifiée (garnissages MELLAPACK + de SULZER CHEMTECH). Une modification légère de l'interface entre modules a permis de repousser l'engorgement donc d'obtenir des gains significatifs de capacité des colonnes à distiller (à relier à la fonction « assurer l'écoulement du liquide à contre - courant du gaz ») en ne dégradant quasiment pas les performances en échange de matière (à relier à la fonction « maintenir la surface de contact gaz / liquide »).
Dans la littérature, cette légère modification d'interface a pour but annoncé, la réduction de la perte de charge gaz à l'interface.
Dans le garnissage ondulé croisé classique, le gaz est contraint de changer de direction selon un angle d'environ 90° pour passer d'un module à l'autre d'où une perte de charge particulièrement importante dans cette zone d' « interface ». Dans un garnissage à « interface » modifiée type MELLAPACK +, cette perte de charge particulière est assurée dans la zone courante : le gaz ne change pas de direction à I' « interface » mais avant et après. Dans la littérature, ce phénomène est souvent analysé en termes de rétention de liquide dans la partie basse des modules au voisinage de I' « interface » : la perte de charge subie par le gaz au changement de direction provoque une accumulation de liquide dans la zone avoisinante. L'accumulation de liquide provoque un engorgement prématuré de la colonne. Afin d'augmenter la capacité des colonnes, d'autres moyens de limiter la perte de charge gaz à l'interface entre les modules ont été imaginés :
- US-A-5013492 : Décrit le décalage vertical dans les modules d'une bande de garnissage sur deux afin de réduire la densité au voisinage des interfaces. - FR-A-2686271 : Décrit l'insertion d'entretoises entre les modules.
- JP-A-6312101 : Décrit l'insertion de modules de densité inférieure entre les modules de distillation.
- US-A-5632934 : Décrit la réduction de la hauteur d'ondulation, le changement de l'inclinaison des canaux ainsi que la réalisation d'ouvertures au voisinage de la base des modules.
- WO-A-97/16247 : Décrit le changement progressif de l'inclinaison des canaux jusqu'à la verticale aux bords des bandes, ainsi que l'installation de caillebotis entre les modules. Une autre interprétation possible de ces phénomènes est que, à
I' « interface » entre modules, entre le moment où le film liquide quitte le module supérieur et où il atteint le module inférieur, ce dernier ne bénéficie plus du maintien par capillarité de la surface du garnissage pour résister à la poussée du gaz montant.
Le film liquide peut donc être plus facilement perturbé et, comme il n'est plus maintenu, il se casse pour se rassembler en grosses gouttes, à l'origine d'un engorgement local. La fonction « Assurer l'écoulement du liquide à contre courant du gaz » est donc plus difficilement remplie dans la zone d' « interface » entre modules.
D'autres essais comparant un garnissage classique à un garnissage à « interface » modifiée par le rajout d'entretoises entre modules mettent en évidence l'importance du guidage du liquide. En effet, ce rajout d'entretoise rallonge le trajet du liquide en chute libre entre deux modules (donc le temps pendant lequel il peut être plus facilement perturbé). Cela peut expliquer la dégradation de capacité observée lors des essais.
Selon un objet de l'invention, il est prévu un procédé de traitement d'un module de transfert de matière et/ou de chaleur, le dispositif comprenant un empilage de lamelles ondulées croisées dans lequel on réduit le mouillage de la surface des lamelles dans au moins une zone du module caractérisé en ce que l'on réduit le mouillage uniquement dans au moins une des zones d'interface basse et haute du module.
Selon d'autres aspects facultatifs :
- on réduit le mouillage en polissant la surface des lamelles dans au moins une zone d'interface du module ;
- on réduit le mouillage en assurant un traitement chimique des surfaces des lamelles dans au moins une zone d'interface du module ;
- la zone est trempée dans un bain chimique ou arrosée par une solution ; - on réduit le mouillage en assurant un traitement physique et/ou chimique à partir d'une atmosphère gazeuse réactive excitée par une décharge électrique, en particulier une décharge électrique à pression atmosphérique ; - la décharge électrique étant du type couronne, à barrière diélectrique (DBD) ou micro-ondes ;
- on réduit le mouillage d'au moins une zone d'interface de la lamelle avant ou après pliage ; - on augmente le mouillage de la surface des lamelles du module dans la zone centrale du module ;
- on augmente le mouillage en trempant la lamelle dans un bain de liquide ou en l'arrosant avec une solution ;
- on augmente le mouillage en assurant un traitement physique et/ou chimique à partir d'une atmosphère gazeuse réactive excitée par une décharge électrique, en particulier une décharge électrique à pression atmosphérique ;
- la décharge électrique étant du type couronne, à barrière diélectrique (DBD) ou micro-ondes ;
- on réduit le mouillage d'au moins une zone du module selon un gradient de propriétés de l'atmosphère plasma à travers le module ;
- on varie le long du module la concentration des gaz injectés et/ou densité et température électronique du plasma ;
- les changements de propriétés de mouillage sont progressifs entre deux zones contiguës ; - la modification de mouillage est combinée à au moins une modification de géométrie, de densité ou de matériau de la zone ;
- les lamelles sont en aluminium ;
- les lamelles sont en cuivre.
Selon l'invention, il est prévu un module de garnissage traité comme décrit ci-dessus.
Pour un module ayant une zone centrale et deux zones extérieures, au moins une zone extérieure est traitée selon un des procédés décrit ci-dessus.
Selon l'invention, il est prévu une colonne équipée d'au moins un module de garnissage décrit ci-dessus, en particulier une colonne de distillation de gaz de l'air.
L'invention consiste à adapter la mouillabilité de la surface du garnissage par le liquide cryogénique fonctionnalisé dans les différentes zones du module. Pour cela on va mettre en œuvre une technique de traitement de surface des plaques de garnissage lors de leur fabrication, appliquée en ligne avant ou après l'emboutissage.
Ainsi dans la zone courante ou dans la zone d'interface du haut du module on cherchera en premier lieu à retenir plus le liquide pour assurer : o un temps de contact plus grand avec le gaz o un meilleur « mouillage » donc une plus grande surface de contact gaz / liquide et donc améliorer le transfert de matière.
Dans la zone d'interface du bas de module, on cherchera à drainer le plus possible le liquide afin d'éviter son accumulation en bordure de module, favoriser des écoulements en filets liquides pour limiter les arrachements de liquide.
De telles possibilités d'optimisation se situent également au niveau de la colonne à distiller : > Les propriétés physiques des fluides peuvent varier en fonction de la température dans la colonne. Ils peuvent ainsi être plus ou moins visqueux
(viscosité différente) ou plus ou moins mouillant (tension de surface différente).
Pour contrebalancer cette variation des propriétés physiques, on peut ainsi fonctionnaliser la surface pour la rendre ; o plus mouillante là où le liquide est plus visqueux ou moins mouillant o moins mouillante là où le liquide est moins visqueux ou plus mouillant
> Les débits liquides par unité de surface du garnissage peuvent varier en fonction de la position dans la colonne. Certaines zones peuvent être plus ou moins chargées en liquide que d'autres. Pour contrebalancer ces variations de charge liquide, on peut ainsi fonctionnaliser la surface pour la rendre : o Plus mouillante là où les charges liquide sont faibles. o Moins mouillantes là où les charges liquides sont élevées. > Les modules de garnissages sont organisés par tronçon dans la colonne. Un tronçon se situe entre une arrivée de gaz en bas et généralement un distributeur de liquide en haut. En haut de tronçon, on peut ainsi fonctionnaliser la surface pour un mouillage rapide de la surface de garnissage par le liquide tombant du distributeur
En bas de tronçon on peut fonctionnaliser la surface pour diminuer le mouillage afin de diminuer l'interaction avec le gaz entrant et limiter les remontées de liquide.
Pour adapter à la demande la mouillabilité de la surface d'aluminium initialement recouverte de la couche native d'alumine, les modifications physicochimiques de cette surface peuvent consister notamment : 1 . en gravure et décapage,
2. changement de la rugosité
3. création d'une m icrotextu ration,
4. greffages de fonctions chimiques,
5. dépôt de couches minces de matériaux d'apport, ... Pour les modifications de type 1 , 2 et 3, des traitements mécaniques pour les garnissages sont déjà bien décrits dans l'état de l'art notamment dans les brevets US-A- 4604 247, US-A- 4 296 050, EP-A-0190 435. Cet état de l'art décrit bien l'application de ces traitements à l'ensemble de la surface du garnissage et non à des zones précises à fonctionnaliser telles que décrites dans ce pli cacheté.
D'autres moyens sont par ailleurs possibles pour aboutir aux modifications recherchées.
Préférablement, le traitement de surface est appliqué à partir d'une phase gazeuse et tout particulièrement au moyen d'un plasma froid, notamment parce que la température de traitement admissible par une feuille mince d'aluminium est très limitée. Enfin, un procédé plasma à pression atmosphérique apparaît le mieux adapté pour un traitement en continu à grand rendement, avec l'obligation d'un faible coût. Le dispositif correspondant s'intégrera facilement à l'installation de fabrication en continu des garnissages. Le dépôt de couches minces de matériau est la voie la plus avantageuse pour modifier la mouillabilité de la surface d'aluminium. En effet, un procédé de microtexturation fera généralement appel à des gaz halogènes posant des problèmes de sécurité et d'environnement, donc impliquant des contraintes et coûts supplémentaires. De plus une surface microtexturée pourra présenter une réactivité moins bien connue et en tout cas moins reproductible vis-à-vis de l'oxygène en conditions d'initiation accidentelle de la combustion.
Un simple greffage de fonction chimique peut se révéler insuffisant. En effet, le garnissage devra conserver le niveau de mouillabilité bien spécifique qui lui aura été imparti à la fabrication pendant de nombreuses années de service, alors que le contact permanent de l'oxygène liquide ou diphasique finira certainement par avoir un effet sur les fonctionnalités greffées (qui, rappelons-le, n'impliquent qu'une quantité infime de matière au niveau de la surface), modifiant au cours du temps les propriétés de mouillage.
En revanche on connaît une large gamme de matériaux déposables en couche mince à partir d'un plasma chimiquement réactif, dont la mouillabilité va du très hydrophobe au très hydrophile. Ceci vaut du moins jusqu'ici vis-à-vis de l'eau et il faudra donc « réétalonner » les mouillabilités de ces gammes de matériaux par les liquides cryogéniques considérés, dans les conditions régnant en une zone donnée d'un module ou d'une colonne.
Le principe du dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) consiste à exciter dans un plasma de décharge électrique, au voisinage ou au contact du substrat, une vapeur chimique de précurseurs des différents éléments à incorporer dans le matériau en couche mince. Par exemple pour déposer de la silice on utilisera un mélange de monosilane SiH4 et d'oxygène. Dans le plasma les molécules chimiques initiales sont dissociés en fragments plus petits, notamment des radicaux présentant une très forte énergie chimique vis-à-vis d'une surface et qui vont aller se condenser sur ladite surface puis s'incorporer dans la couche de matière en train de croître en formant irréversiblement des liaisons fortes. L'avantage du procédé PECVD est que, du fait de la très forte réactivité des radicaux conférée par l'excitation électrique, la couche mince de matériau peut se former sur la surface d'un substrat sans qu'il soit nécessaire de le chauffer notablement, et même à température quasi ambiante.
Comme exemple de matériaux à propriétés contrôlées, les films minces de nitrure de silicium sont généralement hydrophobes, de même que les films de polymères fluorocarbonés. On peut aussi obtenir des films hydrophobes de matériaux préparés à partir de précurseurs organosiliciés gazeux.
Au contraire les films de silice SiOx et d'oxyde de titane TiO2, par exemple, sont hydrophiles. Tous ces matériaux sont amorphes et il est possible d'atteindre toute composition d'alliage « intermédiaire » en combinant dans un procédé PECVD plusieurs précurseurs gazeux des différents éléments à incorporer. En faisant ainsi varier de façon continue la composition entre le matériau hydrophile et le matériau hydrophobe, on peut en principe atteindre n'importe quelle valeur de mouillabilité. L'ajustement de la composition est particulièrement simple dans un procédé PECVD puisqu'il suffit de changer les rapports des débits des différents précurseurs chimiques gazeux. Il est aussi possible de faire varier spatialement la composition du matériau, donc la mouillabilité, suivant la direction perpendiculaire au défilement pendant un traitement en continu de la bande de garnissage (i.e. la hauteur du module). Il suffit pour cela d'injecter un mélange de gaz dont la composition varie de manière adaptée le long de cette direction, ce qui ne pose pas de gros problème lorsqu'on opère à pression atmosphérique.
La mise en œuvre d'un procédé PECVD atmosphérique nécessite un dispositif adapté pour l'excitation du plasma. Il existe deux grandes familles de « sources de plasma » atmosphériques non thermiques (i.e. par opposition par exemple aux arcs de soudage). La première est celle des décharges à barrière diélectrique, qui peuvent exister dans un mode filamentaire ou homogène (luminescent). Seul ce dernier est adapté pour mettre en œuvre un procédé PECVD mais ses conditions de fonctionnement sont contraignantes et en particulier le traitement en direct de substrats conducteurs n'est pas possible. Cela veut dire que l'on ne peut pas faire défiler la bande de garnissage entre deux électrodes.
La deuxième famille est celle des décharges micro-ondes atmosphériques, qui présentent l'avantage d'une densité électronique élevée, donc d'un fort rendement de conversion des précurseurs gazeux et partant d'une grande vitesse de dépôt qui est un élément très important dans des applications où il existe une forte contrainte de coût. Il est particulièrement avantageux d'utiliser une source de plasma linéaire en flux, c'est-à-dire générant un « rideau » de plasma incident sur la surface de la bande de garnissage, et s'étendant perpendiculairement à la direction du défilement. Une telle source de plasma est décrite dans la demande de brevet française FR-07 57719 du 20 Septembre 2007, et son application pour réaliser un dispositif et un procédé PECVD dans la demande de brevet française FR-07 57720 du 20 Septembre 2007, toutes deux au nom de la Demanderesse. Le gaz de dilution peut être de l'azote, de l'argon ou un mélange des deux. Une enceinte étanche assure le confinement des gaz actifs dans la zone de dépôt pour éviter les émissions polluantes dans l'atmosphère de l'atelier de fabrication. Le système est également muni d'un système de dépollution des gaz usés avant remise à l'atmosphère. Les automatismes de contrôle permettent d'assurer la traçabilité des caractéristiques de mouillage de chaque lot fabriqué, en fonction de sa destination dans le module ou dans la colonne. Le dépôt de couche mince peut être effectué sur la tôle d'alu lisse avant emboutissage, ce qui pose le problème du maintien de son intégrité au cours de cette dernière opération, mais il peut aussi être effectué en aval de l'emboutissage. Dans ce cas, il peut être nécessaire de procéder avant le dépôt proprement dit à un nettoyage de la surface pour assurer une bonne adhésion de la couche qui va subir de fortes sollicitations thermiques différentielles en service. Ce traitement peut consister avantageusement en l'application d'un plasma réducteur avec un gaz de départ contenant de l'hydrogène ou de la vapeur d'eau.
Les Figures 4A et 4B montrent des lamelles de garnissage différentes traités par le procédé de l'invention.
Dans la Figure 4A les ondulations traversent la lamelle de manière classique formant un angle constant avec les bords de la lamelle. Dans ce cas, soit la zone supérieure B soit la zone inférieure B' ou les deux sont traités selon un procédé selon l'invention pour réduire le mouillage de leurs surfaces. La zone centrale A peut également être traité selon un procédé décrit ci- dessus pour en augmenter le mouillage.
La Figure 4B montre un garnissage à bords modifiés où l'angle des ondulations s'approche de la verticale vers les bords inférieur et supérieur du module. Ainsi dans les zones B1B' l'angle d'ondulation s'approche de 90° à l'horizontale alors que dans la zone A, l'angle formé est vers 45°. Dans ce cas soit la zone supérieure B soit la zone inférieure B' ou les deux sont traitées selon un procédé selon l'invention pour réduire le mouillage de leurs surfaces. La zone centrale A peut également être traitée selon un procédé décrit ci- dessus pour en augmenter le mouillage.
Pour les zones où le mouillage est augmenté, il est également possible d'augmenter le temps de contact gaz-liquide dans ces zones, par d'autres moyens connus. Pour les zones où le mouillage est réduit, il est également possible de réduire le temps de contact gaz-liquide dans ces zones, par d'autres moyens connus.
Les hauteurs relatives des zones A, B, B' peuvent varier mais en général, les zones B et B' comprennent entre 2 et 20 % de la hauteur de la lamelle et la zone centrale A comprend entre 60 et 96 % de la hauteur de la lamelle.

Claims

REVENDICATIONS
1 . Procédé de traitement d'un module de transfert de matière et/ou de chaleur, le dispositif comprenant un empilage de lamelles ondulées croisées dans lequel on réduit le mouillage de la surface des lamelles dans au moins une zone du module (A, B, B') caractérisé en ce que l'on réduit le mouillage uniquement dans au moins une des zones (B, B') d'interface basse et haute du module.
2. Procédé selon la revendication 1 dans lequel on réduit le mouillage i) en polissant la surface des lamelles dans au moins une zone d'interface du module (B, B') ou ii) en assurant un traitement chimique des surfaces des lamelles dans au moins une zone d'interface du module (B, B') ou iii) en assurant un traitement physique et/ou chimique à partir d'une atmosphère gazeuse réactive excitée par une décharge électrique, en particulier une décharge électrique à pression atmosphérique.
3. Procédé selon la revendication 2 dans lequel la zone (B, B') est trempée dans un bain chimique ou arrosée par une solution.
4. Procédé selon la revendication 2 dans lequel la décharge électrique étant du type couronne, à barrière diélectrique (DBD) ou microondes.
5. Procédé selon l'une des revendications précédentes dans lequel on réduit le mouillage d'au moins une zone d'interface (B, B') de la lamelle avant ou après pliage.
6. Procédé selon l'une des revendications précédentes dans lequel on augmente le mouillage de la surface des lamelles du module dans la zone centrale (A) du module.
7. Procédé selon la revendication 6 dans lequel on augmente le mouillage i) en trempant la lamelle dans un bain de liquide ou en l'arrosant avec une solution ou, ii) en assurant un traitement physique et/ou chimique à partir d'une atmosphère gazeuse réactive excitée par une décharge électrique, en particulier une décharge électrique à pression atmosphérique.
8. Procédé selon la revendication 7 dans lequel la décharge électrique étant du type couronne, à barrière diélectrique (DBD) ou microondes.
9. Procédé selon l'une des revendications précédentes dans lequel on réduit le mouillage d'au moins une zone (A, B, B') du module selon un gradient de propriétés de l'atmosphère plasma à travers le module.
10. Procédé selon la revendication 9 dans lequel on varie le long du module la concentration des gaz injectés et/ou densité et température électronique du plasma.
1 1 . Procédé selon l'une des revendications précédentes dans lequel les changements de propriétés de mouillage sont progressifs entre deux zones contiguës (A, B, B').
12. Procédé selon l'une des revendications précédentes dans lequel la modification de mouillage est combinée à au moins une modification de géométrie, de densité ou de matériau de la zone (A, B, B').
13. Procédé selon l'une des revendications précédentes dans lequel les lamelles sont en aluminium ou en cuivre.
14. Module de garnissage traité selon un des procédés des revendications précédentes.
15. Colonne, de préférence de distillation de gaz de l'air, équipée d'au moins un module de garnissage selon la revendication 14.
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US12/934,450 US20110023541A1 (en) 2008-03-28 2009-03-05 Process For Manufacturing Cross-Corrugated Packings
CN2009801112891A CN102083528A (zh) 2008-03-28 2009-03-05 具有较小润湿面积的交叉波纹装置的制造方法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2186559A3 (fr) * 2008-11-12 2010-08-18 Basf Se Garnissage de colonnes d'échange de chaleur ou de matière

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG11201404429QA (en) * 2012-03-06 2014-10-30 Air Prod & Chem Structured packing
KR102513503B1 (ko) * 2015-04-22 2023-03-23 엔진거 게엠베하 비정질의 화학적으로 개질된 중합체로부터 섬유 복합체를 생산하는 방법
CN107443250B (zh) * 2017-04-28 2019-04-05 咏巨科技有限公司 抛光垫修整器及其制造方法

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1004046A (en) 1962-07-31 1965-09-08 Sulzer Ag Material exchange columns
CA1095827A (fr) 1976-01-16 1981-02-17 Max Huber Tubes de garnissage pour colonnes de transfert de liquides
US4296050A (en) 1977-05-12 1981-10-20 Sulzer Brothers Ltd. Packing element for an exchange column
US4604247A (en) 1983-06-21 1986-08-05 Glitsch, Inc. Tower packing material and method
EP0190435A1 (fr) 1985-01-30 1986-08-13 GebràœDer Sulzer Aktiengesellschaft Corps de remplissage en matière mince et pelliculaire pour colonnes d'échange de matière et de chaleur entre phases liquides et gazeuses
US5013492A (en) 1990-04-06 1991-05-07 Munters Corporation Arrangement for contact bodies for liquid and gas
FR2686271A1 (fr) 1992-01-20 1993-07-23 Air Liquide Colonne d'echange de chaleur et de matiere a garnissages ondules-croises.
JPH06312101A (ja) 1993-04-28 1994-11-08 Hitachi Ltd 気液接触用の充填材及び充填塔
WO1997016247A1 (fr) 1995-10-31 1997-05-09 Sulzer Chemtech Ag Element de remplissage structure
US5632934A (en) 1994-10-04 1997-05-27 Praxair Technology, Inc. Packing with improved capacity for rectification systems
FR2921388A1 (fr) 2007-09-20 2009-03-27 Air Liquide Dispositif et procede de depot cvd assiste par plasma tres haute frequence a la pression atmospherique, et ses applications
FR2921538A1 (fr) 2007-09-20 2009-03-27 Air Liquide Dispositifs generateurs de plasma micro-ondes et torches a plasma

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL129702C (fr) * 1963-09-03
NL133239C (fr) * 1966-09-30
US4518544A (en) * 1983-01-20 1985-05-21 Baltimore Aircoil Company, Inc. Serpentine film fill packing for evaporative heat and mass exchange
GB8802627D0 (en) * 1988-02-05 1988-03-02 Boc Group Inc Liquid-vapour contact columns
US5635035A (en) * 1995-09-12 1997-06-03 Norton Chemical Process Products Corporation Surface improved tower packing
ID22551A (id) * 1997-02-13 1999-11-04 Praxair Technology Inc Pembungkus dengan kapasitas lebih baik serta efisiensi pemindahan kumpulan tinggi
FR2771025B1 (fr) * 1997-11-17 2000-01-28 Air Liquide Bande ondulee pour garnissage ondule-croise et son application a des colonnes de distillation embarquees
DE19914007A1 (de) * 1999-03-29 2000-10-05 Creavis Tech & Innovation Gmbh Strukturierte flüssigkeitsabweisende Oberflächen mit ortsdefinierten flüssigkeitsbenetzenden Teilbereichen
US6478290B2 (en) * 1999-12-09 2002-11-12 Praxair Technology, Inc. Packing for mass transfer column
CN1217911C (zh) * 2001-06-06 2005-09-07 株式会社日本触媒 防止易聚合物质发生聚合反应的方法和生产(甲基)丙烯酸或其酯的方法
DE10162457A1 (de) * 2001-12-19 2003-07-03 Degussa Oberflächenstrukturierte Einbauten für Mehrphasentrennapparate

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1004046A (en) 1962-07-31 1965-09-08 Sulzer Ag Material exchange columns
CA1095827A (fr) 1976-01-16 1981-02-17 Max Huber Tubes de garnissage pour colonnes de transfert de liquides
US4296050B1 (en) 1977-05-12 1996-04-23 Sulzer Bros Packing element for an exchange column
US4296050A (en) 1977-05-12 1981-10-20 Sulzer Brothers Ltd. Packing element for an exchange column
US4604247A (en) 1983-06-21 1986-08-05 Glitsch, Inc. Tower packing material and method
EP0190435A1 (fr) 1985-01-30 1986-08-13 GebràœDer Sulzer Aktiengesellschaft Corps de remplissage en matière mince et pelliculaire pour colonnes d'échange de matière et de chaleur entre phases liquides et gazeuses
US5013492A (en) 1990-04-06 1991-05-07 Munters Corporation Arrangement for contact bodies for liquid and gas
FR2686271A1 (fr) 1992-01-20 1993-07-23 Air Liquide Colonne d'echange de chaleur et de matiere a garnissages ondules-croises.
JPH06312101A (ja) 1993-04-28 1994-11-08 Hitachi Ltd 気液接触用の充填材及び充填塔
US5632934A (en) 1994-10-04 1997-05-27 Praxair Technology, Inc. Packing with improved capacity for rectification systems
WO1997016247A1 (fr) 1995-10-31 1997-05-09 Sulzer Chemtech Ag Element de remplissage structure
FR2921388A1 (fr) 2007-09-20 2009-03-27 Air Liquide Dispositif et procede de depot cvd assiste par plasma tres haute frequence a la pression atmospherique, et ses applications
FR2921538A1 (fr) 2007-09-20 2009-03-27 Air Liquide Dispositifs generateurs de plasma micro-ondes et torches a plasma

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2262586A2

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2186559A3 (fr) * 2008-11-12 2010-08-18 Basf Se Garnissage de colonnes d'échange de chaleur ou de matière

Also Published As

Publication number Publication date
EP2262586A2 (fr) 2010-12-22
US20110023541A1 (en) 2011-02-03
CN102083528A (zh) 2011-06-01
WO2009118496A3 (fr) 2010-03-18
JP2011515213A (ja) 2011-05-19
FR2929134B1 (fr) 2010-12-31
FR2929134A1 (fr) 2009-10-02

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