WO2009011176A1 - Matériau de plaque d'impression lithographique photosensible et son procédé de développement - Google Patents

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Kazuhiro Oikawa
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Abstract

L'invention porte sur un matériau de plaque d'impression lithographique photosensible. Lorsque le matériau de plaque d'impression lithographique photosensible est développé par une solution de développement ne contenant pas d'acide silicique, un colorant libéré par le matériau de plaque d'impression pendant le développement n'adhère pas à nouveau au matériau de plaque d'impression. Par conséquent, la plaque d'impression résultante est elle-même exempte de souillures et, utilisée pour l'impression, donne une épreuve exempte de souillures d'image. L'invention porte également sur un procédé de développement du matériau de plaque d'impression. Ce matériau de plaque d'impression lithographique photosensible, qui doit être traité par solution de développement sans acide silicique, comprend une base de plaque d'aluminium et, appliquée à celle-ci, une composition de résine photosensible de type à photopolymérisation qui renferme un monomère muni d'une liaison à insaturation éthylénique, un initiateur de photopolymérisation, un colorant de photosensibilisateur et un liant polymère, et est caractérisée en ce que le colorant de photosensibilisateur est un composé représenté par la formule générale suivante (I). La composition contient un agent de transfert de chaîne. [Formule chimique 1] (I)
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