WO2008099950A1 - 光変調器用部品および光変調器 - Google Patents

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WO2008099950A1
WO2008099950A1 PCT/JP2008/052604 JP2008052604W WO2008099950A1 WO 2008099950 A1 WO2008099950 A1 WO 2008099950A1 JP 2008052604 W JP2008052604 W JP 2008052604W WO 2008099950 A1 WO2008099950 A1 WO 2008099950A1
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WO
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substrate
component
optical modulator
optical
optical waveguide
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Application number
PCT/JP2008/052604
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English (en)
French (fr)
Inventor
Kenji Aoki
Osamu Mitomi
Jungo Kondo
Yuichi Iwata
Tetsuya Ejiri
Original Assignee
Ngk Insulators, Ltd.
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Publication date
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Publication of WO2008099950A1 publication Critical patent/WO2008099950A1/ja
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/21Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  by interference
    • G02F1/225Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  by interference in an optical waveguide structure
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/16Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 series; tandem

Definitions

  • the present invention relates to an optical modulator component such as a traveling wave optical modulator.
  • the optical waveguide of the light control element is folded back at the end face of the substrate to increase the interaction length between the light wave and the modulated wave, thereby reducing the drive voltage and reducing the light wave.
  • High-speed operation is realized by compensating for the difference in matching speed between the signal and the signal wave.
  • the size of the modulator becomes larger because the interaction section becomes larger and longer. If a large-diameter ferroelectric single crystal wafer is used, a large modulator chip can be fabricated. However, large-diameter ferroelectric single crystals, such as It is difficult to slice a lithium niobate single crystal wafer uniformly. In order to process a large-diameter single crystal wafer, expensive equipment is required. For this reason, it was difficult to manufacture a modulator chip at low cost.
  • Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 4 1 3 5 5 7 1 4 proposes shortening the modulator by folding the optical waveguide.
  • the modulator chip is quite long and needs to be solved.
  • the high-frequency interaction part of the optical modulator needs to have a narrow electrode gap in order to reduce the drive voltage.
  • the mode size in the substrate thickness direction is limited by the substrate thickness. It becomes.
  • the mode fiber / red diameter of the optical fiber to be connected is a circle of about 10 ⁇ m. For this reason, insertion loss increases when an optical waveguide formed on a thin lithium niobate substrate is connected to an external optical fiber.
  • An object of the present invention is to provide a wafer size required for manufacturing an optical modulator in an optical modulator having an interaction unit that applies a voltage to light propagating through a branched optical waveguide and modulates the light. So that manufacturing costs can be reduced It is to be.
  • the present invention provides a modulation substrate made of an electro-optic material, an optical waveguide provided at least on a pair of branch portions, and a voltage applied to each branch portion to propagate through the branch portions.
  • the present invention includes the optical modulator component and the passive component, and the passive component is formed on a passive component substrate made of an electro-optic material and the passive component substrate.
  • the present invention relates to an optical modulator comprising an optical waveguide connected to each end face, wherein the optical modulator substrate and the passive component substrate are joined.
  • the present invention includes the above-described optical modulator component and an optical fiber one-propagation connection component, and the connection component is formed on a connection component substrate made of an electro-optic material, and this substrate.
  • the present invention relates to an optical modulator, comprising an optical waveguide connected to each end face of the optical waveguide, wherein the optical modulator substrate and the connection component substrate are connected to each other.
  • the part that performs high-frequency interaction and the optical connection part to which light transmitted through the optical fiber is incident or output are configured by separate chips as described above. Then, the connecting parts for connecting the optical fiber and the propagating light are made thicker than the modulation substrate that performs high-frequency interaction. As a result, the insertion loss when the light propagated through the optical fiber enters or exits the modulator can be reduced. In addition, the coupling loss due to spot size conversion between the connection component and the modulation component is not so large. According to “Highly Functional Hybrid Modules Using Low Loss Direct Attachment Technique with Plannar Lightwave Circuit and LiNbO3 Devices J T. Yamada et al.“ ISMOT_2005 ”pp.
  • optical waveguide substrates are connected to each other.
  • a lithium niobate optical modulator and a PLC are joined to produce an optical time division multiplexing module.
  • the optical modulator and PLC have separate functions, and it is not assumed that the optical modulator itself will be divided into active components (light modulation operation unit) and passive components.
  • FIG. 1 is a plan view schematically showing an optical modulator 1 according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 (a) is a plan view showing the optical modulator component 2
  • FIG. 2 (b) is a front view of the optical modulator component 2.
  • FIG. 3 (a) is a plan view of the passive component 3
  • FIG. 3 (b) is a front view of the passive component 3.
  • FIG. 4 is a side view of the optical modulator 1.
  • FIG. 5 is a plan view of the optical modulator 21 of the present invention.
  • FIG. 6 is a plan view showing the optical modulator component 22.
  • FIG. 7 is a plan view showing the optical modulator 31 of the present invention.
  • FIG. 8 is a plan view showing the optical modulator component 32.
  • FIG. 9 is a plan view showing the optical modulator 41 of the present invention.
  • FIG. 10 is a side view of the optical modulator 41 in FIG.
  • FIG. 11 is a plan view showing an optical modulator 51 of the present invention.
  • FIG. 12 is a side view of the optical modulator 51 in FIG. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
  • the “high frequency interaction portion” is a region where light is modulated by applying a high frequency voltage to the optical waveguide.
  • the high-frequency voltage here means a voltage with a frequency of 1 GHz or more.
  • the upper limit of this frequency is not particularly limited.
  • FIG. 1 is a plan view schematically showing an optical modulator 1 according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 (a) is a plan view showing the optical modulator component 2
  • FIG. 2 (b) is a front view of the optical modulator component 2 as viewed from the end face side.
  • FIG. 3 (a) is a plan view showing the passive component 3
  • FIG. 3 (b) is a front view of the passive component 3 as viewed from the end face side.
  • FIG. 4 is a side view showing the optical modulator 1.
  • the optical modulator component 2 shown in FIG. 2 includes a modulation substrate 4, a support base 16 and a low dielectric constant layer 17 for bonding them together. In the modulation substrate 4, the optical waveguide 6 extends from the end face 4a to the end face 4b.
  • the incident side end face 4 a is formed with the incident side end faces 15 G and 15 H of the optical waveguide, and is exposed. Further, the end faces 15, 15 B, 15 C, and 15 D of the branch portions 6 c and 6 of the optical waveguide are exposed on the emission side end face 4 b side of the component 2.
  • Passive component 3 in FIG. Like-only waveguides 6 d and 6 e are formed on the surface of the substrate 8. The end face 16 A, 16 B, 16 C, 16 D of the optical waveguide is formed on the bonding surface 8 a of the substrate 8, and the reflecting material 7 is formed on the end face 8 b of the substrate 8. Yes.
  • the optical modulator 1 shown in Fig. 1 is fabricated by joining these optical modulator components and passive components.
  • the bonding surface 4 b of the base plate 4 of the optical modulator component 2 and the bonding surface of the support base 16 are bonded to the bonding surface 8 a of the substrate 8 of the passive component 3. Can be glued through 1-9.
  • the optical waveguide on the optical modulator component side and the optical waveguide on the passive component side are optically joined to form an optical waveguide 6.
  • the light incident from the end 6a of the optical waveguide 6 branches at the branching point and passes through the branching parts 6b and 6c.
  • voltage is applied to the propagating light and modulated.
  • the electrode has a so-called CPW type electrode arrangement, but the present invention is not limited to the CPW type optical modulator and can be applied to various types of optical modulators.
  • the present invention is applicable to, for example, a so-called ACPS type optical modulator and an independent modulation type optical modulator.
  • 9 and 11 are ground electrodes, and 10 is a signal electrode.
  • a voltage is applied to the optical waveguide 6 in each gap between the ground electrodes 9 and 11 and the signal electrode 10.
  • the grounding electrode 9 on the inside is a power supply unit connected to a feedthrough (not shown)
  • the outer ground electrode 11 includes a connecting portion l i b that straddles the optical waveguide, and a branching portion 6 c,
  • Electrode parts 1 1 1 a and 1 1 c extending in parallel with 6 f are provided.
  • Signal electrode 1 0 Is a pair of feeding parts 10 a, each branching part 6 c from each feeding part 10 0 a, an electrode part 10 0 b extending in parallel with ⁇ t, and a connecting part 10 0 c connecting each electrode part 10 b It has.
  • FIG. 5 and 6 show an example in which the present invention is applied to a so-called S S B modulator.
  • FIG. 5 is a plan view showing the optical modulator 21
  • FIG. 6 is a plan view showing the optical modulator component 22 according to the present invention.
  • the optical modulator component 2 2 in FIG. 6 includes a modulation substrate 2 4, a support base 16, and a low dielectric constant layer 17 that bonds the two together.
  • the optical waveguide 26 extends from the end face 24a to the end face 24b.
  • the end face 15 G and 15 H of the optical waveguide are formed on the end face 2 4 a of the component 22 and exposed. Further, the end faces 15 E and 15 F of the optical waveguide are exposed on the opposite end face 24 b side of the component 22.
  • a primary branching portion 26c, a secondary branching portion 26d, and a primary branching portion 26e are sequentially formed.
  • the passive components 2 3 A and 2 3 B in Fig. 5 are composed of the board 2 8.
  • an incident portion 26 a and a primary branch portion 26 b are formed on a substrate 28.
  • an emission part 2 6 g and a primary branching part 2 6 f are formed on the substrate 2 8.
  • a predetermined signal voltage is applied from an appropriate ground electrode and signal electrode, and the light transmitted through the branch unit 26d is modulated.
  • the optical modulator 21 shown in FIG. 5 is manufactured by joining the passive components 2 3 A and 2 3 B to both end faces of the optical modulator component 2 2, respectively.
  • the bonding surfaces 2 4 a and 2 4 b of the optical modulator component 2 2 and the substrate 2 4 and the bonding surface of the support base 16 are connected to the passive components 2 3 A and 2 3 B. It can be bonded to the bonding surface 2 8 a of the substrate 2 8 via the adhesive layer 19.
  • the light incident from the end 26a of the optical waveguide 26 is split at the branch point. It passes through the first branching parts 26 b and 26 c, and re-enters 3 ⁇ 4, j3 ⁇ 4 and enters the branching part 26 d of the brother- ⁇ . Then, modulation is applied in the branch portion 26 d. Next, the light from the branching section 26 d is combined, passes through the first branching sections 26 e and 26 f, and further combined, passes through the output section 26 g, and exits from the modulator. Shoot.
  • each end face of each branch portion of the optical waveguide is exposed at the joint surface of the modulation substrate of the optical modulator component.
  • what is exposed at the joint surface of the modulation substrate is not limited to the end face of the branch portion of the optical waveguide.
  • 7 and 8 show an example in which the present invention is applied to a so-called CSRZ modulator.
  • FIG. 7 is a plan view showing the optical modulator 31
  • FIG. 8 is a plan view showing the optical modulator component 32 according to the present invention.
  • the optical modulator component 3 2 in FIG. 8 includes a modulation substrate 3 4, a support base 16, and a low dielectric constant layer 17 that bonds the two together.
  • the optical waveguide 36 extends from the end surface 3 4 a toward the bonding surface 3 4 b. End faces 15 G and 15 H of the optical waveguide are formed on the end face 3 4 a of the part 3 2 and are exposed. Further, the end faces 15 5 E and 15 F of the optical waveguide are exposed on the opposite end face 3 4 b side of the part 3 2.
  • the passive component 3 3 in FIG. On the substrate 38, a connecting portion 36f and a reflecting portion 36g are formed. Further, a reflecting material 7 is formed on the end face of the parts 3 3.
  • the optical modulator 3 1 shown in FIG. 7 is manufactured by bonding the passive component 3 3 to the end face 3 4 b of the optical modulator component 3 2.
  • the bonding surface 3 4 b of the substrate 3 4 of the optical modulator component 3 2 and the bonding surface of the support bases 16 are connected to the bonding surface 3 8 of the substrate 3 8 of the passive component 3 8. It can be bonded to a via the adhesive layer 19.
  • the light incident from the end portion 36 a of the optical waveguide 36 is split and absorbed, passes through the branch portion 3 6 b, and is modulated at the branch portion 36 c.
  • the light in the branch part 36 6 d is combined, passes through the waveguide parts 3 6 e and 3 6 f, and the reflection part 36 g, and is reflected by the reflector 7.
  • the light passes through the reflector 3 6 g and the waveguides 3 6 f and 3 6 e, branches, and is subjected to predetermined modulation by the modulator 3 6 c.
  • the light passes through the branch part 3 6 b, is combined, and is emitted from the waveguide part 3 6 a.
  • 9 to 12 relate to this embodiment.
  • FIG. 9 and FIG. 10 show examples in which the present invention is applied to the S S B modulator, as in FIG. 5 and FIG.
  • FIG. 9 is a plan view showing the optical modulator 41
  • FIG. 10 is a plan view showing the optical modulator 41 according to the present invention.
  • the optical modulator component 4 2 includes a modulation substrate 44, a support base 16, and a low dielectric constant layer 17 that bonds the two together.
  • the optical waveguide 26d extends from the end face 44a to the end face 44b.
  • An end face 55 of the optical waveguide is formed on the end face 4 4 a of the component 4 2 and is exposed.
  • the end face 5 6 of the optical waveguide is exposed on the side of the end face 4 4 b opposite to the component 4 2.
  • a total of four rows of secondary branch portions 26 6 d are formed between the end faces 4 4 a and 4 4 b.
  • connection parts 4 3 A and 4 3 B in Fig. 9 are each made of the board 4 8.
  • the incident part 2 6 a, the first branch parts 2 6 b and 2 6 c, and the end of the second branch part are formed on the substrate 4 8.
  • the emission part 2 6 g, the primary branch part 2 6 ′ e, 2 6 f and the end of the secondary branch part are formed on the substrate 4 8.
  • Connection parts 4 3 A and 4 3 B are connected to both end faces of optical modulator parts 4 2 respectively.
  • connection part 4 3 A, 4 3 B It can be bonded to the bonding surface 4 8 b of the substrate 48 via an adhesive layer (not shown).
  • the light propagated through the optical fiber enters from the end 2 6 a of the optical waveguide 2 6 as indicated by the arrow A, branches at the branching unit 3 9 A, and the primary branch 2 6 b , 26 c, branch at re-split part 39 B, and enter the second branch part 26 d. Then, modulation is applied in the branching section 26 d. Next, the light in branching section 26 d is multiplexed at multiplexing section 40 B, passes through primary branching section 26 e, and further multiplexed at multiplexing section 40 A, and then exit section 2 Passes 6 g and exits from the modulator as indicated by arrow B.
  • the incident light indicated by the arrow A and the outgoing light indicated by the arrow B are both transmitted through the optical fiber.
  • the optical fiber can be directly connected to the connecting parts 4 3 A and 4 3 B at both the light entrance and the light exit.
  • the optical fiber can be coupled to the optical waveguide of each connecting component through lens coupling. In both cases, the light propagated through the optical fiber is connected to the connecting component.
  • FIGS. 11 and 12 show an example in which the present invention is applied to a so-called C S RZ modulator.
  • FIG. 11 is a plan view showing the optical modulator 51
  • FIG. 12 is a side view showing the optical modulator 51.
  • the optical modulator component 52 includes a modulation substrate 54, a support base 16, and a low dielectric constant layer 17 that bonds the two together.
  • the optical waveguide 3 6 extends from the joint surface 5 4 a to the end surface 5 4 b.
  • four rows of primary branch sections 3 6 c, 3 6 d, multiplexing section 40 A, demultiplexing section 3 9 B, waveguide sections 3 6 e, 3 6 f, reflecting section 3 6 g is provided. Parts 5 2 ⁇ 4
  • the end face 55 of the optical waveguide is formed on the joint surface 5 4 a of m.
  • a reflector 7 is formed on the end face 5 4 b of the component 52.
  • connection part 5 3 is made of a substrate 5 8. On the substrate 58, an incident part 36a, an emission part 36h, a branching part 39A, a multiplexing part 40B and a primary branching part 36b are formed.
  • the optical modulator 51 is manufactured by bonding the connecting component 5 3 to the joint surface 5 4 a of the optical modulator component 5 2.
  • the bonding surface 5 4 a of the substrate 5 4 of the optical modulator component 5 2 and the bonding surface of the support base 16 are connected to the bonding surface 5 of the substrate 5 8 of the connecting component 5 3. It can be bonded to 8b via an adhesive layer (not shown).
  • the light incident from the incident part 3 6a of the optical waveguide 36 is branched at the branching part 39 A, passes through the branching part 3 6b, and is modulated at the branching part 3 6c.
  • the light in the branching section 36 d is multiplexed by the multiplexing section 40 A, passes through the waveguide sections 3 6 e and 3 6 f and the reflecting section 36 g and is reflected by the reflecting material 7.
  • the light passes through the reflecting portion 3 6 g and the waveguide portion 3 6 e, branches at the branching portion 3 9 B,
  • 3 6 c Receive the prescribed modulation. Next, it passes through branching part 3 6 b
  • An electrode for phase adjustment can be provided in the light modulation substrate or the connection substrate in order to move the bias point.
  • the electrode for phase adjustment is an electrode that is driven to adjust the dc bias point.
  • the frequency of this driving voltage is, for example, 1 kHz to 400 MHz.
  • the optical waveguide can be provided with a multiplexing part and a demultiplexing part as in each of the examples described above.
  • the multiplexing unit and the demultiplexing unit may be provided on the light modulation substrate or on the connection substrate.
  • the connection board is thicker, so there is an advantage that the propagation light is made into a single mode. JP2008 / 052604
  • the optical waveguide may be a modulation substrate, a passive component substrate, or a ridge-type optical waveguide formed directly on the connection LHJ, and is formed on one main surface of each substrate via another layer. It may be a ridge-type optical waveguide, or an optical waveguide formed in each substrate by an internal diffusion method or an ion exchange method, such as a titanium diffusion optical waveguide or a proton exchange optical waveguide. Specifically, the optical waveguide may be a ridge type optical waveguide protruding from the substrate surface. Ridge-type optical waveguides can be formed by laser processing or machining.
  • a ridge type three-dimensional optical waveguide can be formed by forming a high refractive index film on a substrate and machining or laser ablating the high refractive index film.
  • the high refractive index film can be formed by, for example, a chemical vapor deposition method, a physical vapor deposition method, a metal organic chemical vapor deposition method, a sputtering method, or a liquid phase epitaxial method.
  • the electrode is provided on the surface of the modulation substrate.
  • the electrode may be formed directly on the surface of the modulation substrate, or may be formed on the low dielectric constant layer or the buffer layer.
  • a known material such as silicon oxide, magnesium fluoride, silicon nitride, and alumina can be used.
  • the low dielectric constant layer here refers to a layer made of a material having a dielectric constant lower than the dielectric constant of the material constituting the substrate body.
  • the material constituting the modulation substrate, the passive component substrate, and the connection substrate is a ferroelectric electro-optic material, preferably a single crystal.
  • a crystal is not particularly limited as long as it can modulate light, but lithium niobate, lithium tantalate, lithium niobate monolithium monotantalate, potassium lithium niobate, KTP, G As and quartz, etc. Can be illustrated.
  • the material of the support substrate may be glass such as quartz glass in addition to the ferroelectric electro-optic material described above.
  • the modulation substrate and the (: working section) or the connection substrate) are made of the same kind of material.
  • the same kind of material is acceptable as long as the basic composition of the material is the same, and the presence or absence of a dopant component is not required.
  • joining an optical modulation substrate made of the same kind of material and a passive component board (or connection board) is based on the premise of joining different kinds of functional parts made of different materials. From 1 7 3 1 6 2, it seems unnatural and cannot be assumed.
  • the adhesive that bonds the modulation substrate and the support base is made of a material having a lower dielectric constant than the modulation substrate. Specific examples thereof are not particularly limited as long as the above-described conditions are satisfied. Epoxy adhesives, thermosetting adhesives, UV curable adhesives, VALON ceramics c (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) Expansion coefficient 1
  • the method for bonding the modulation substrate and the passive component substrate (or connection substrate) is not particularly limited, and the following can be exemplified.
  • an optical aligner that can move with submicron accuracy can be used.
  • the modulator substrate and the passive component substrate (or connection substrate) are fixed to the dedicated jig for the optical aligner.
  • the optical waveguide 36a on the modulator substrate and the optical axis of the optical fiber are aligned to a position where the optical power emitted from the optical waveguide 36e is maximized.
  • the optical waveguide 3 6 f of the substrate for passive components (or the connection substrate) and the optical waveguide 3 6 e of the modulation substrate are aligned. Then, both are joined using UV cured resin.
  • the tilt adjustment between the chips does not need to be adjusted by the assembly accuracy of the dedicated jig for the aligner, but if high accuracy is required, it can be adjusted by the tilt alignment of the aligner.
  • a gateo structure is provided on the joint surface between the modulation substrate and the passive component substrate (or connection substrate), and the joint surface with the optical fiber.
  • Tc m ' ⁇ : ⁇ can be controlled by changes in environmental temperature.
  • This kid structure is, for example,
  • the adhesive is not particularly limited, but an epoxy-based adhesive, a thermosetting adhesive, an ultraviolet curable adhesive, VALON CERAMIC C (trade name, Toa Gosei Co., Ltd. (Thermal expansion coefficient)
  • the present invention can also be applied to phase modulators with different force optical waveguide arrangements described in the case of applying the invention to an amplitude modulator.
  • the bonding surfaces 4 b, 2 4 a, 2 4 b, and 3 4 b of the modulation substrate are perpendicular to the traveling direction of the propagation light at the branching portion. It is inclined with respect to the plane L (see Fig. 1 to Fig. 12).
  • the inclination angle ⁇ is not particularly limited, but when the spot size diameter of the optical waveguide is 10 microns, it is preferably 1 ° or more, and preferably 30 ° or less.
  • the preferred ⁇ depends on the spot size of the optical waveguide to be connected, the preferred 0 is smaller when the spot size is large, and the preferred ⁇ is larger when the spot size is small. there is a possibility.
  • an inclination angle is provided in the width direction of the chip, but an inclination angle can also be provided in the thickness direction of the chip.
  • the reflection attenuation can be improved by using an antireflection coating on the end face, it is possible to make ⁇ 0 ° while securing a good return loss.
  • a passive component substrate 8 (or connection substrate), a modulation substrate 3, a low dielectric constant layer 17 and a support substrate 1 are used. Joined with 6.
  • the plate force u ⁇ -9 O mm ⁇ can be significantly reduced, and the production cost can be further reduced.
  • the thickness T of the modulation substrate is preferably 20 ⁇ m or less, and more preferably the following.
  • the thickness V of the passive component substrate is preferably 10 ⁇ ⁇ m or more, and preferably 200 ⁇ m or more. Further preferred.
  • the thickness P of the supporting substrate is not particularly limited, but is preferably 100 m or more, and 500 m or more from the viewpoint of handling the parts. Is more preferable.
  • each optical waveguide on the modulation substrate, the passive component side substrate, and the connection substrate is a diffusion optical waveguide in titanium
  • the thickness of the titanium film for forming the optical waveguide is adjusted for modulation. It is relatively small on the substrate side, and light confinement at the interaction part is weakened to achieve a single mode. This improves the light extinction ratio.
  • the thickness of the titanium film for forming the optical waveguide is relatively increased on the passive component side substrate (or the connection substrate), and the optical confinement at the bent portion of the optical waveguide is strengthened to bend. Loss due to light emission from the part can be reduced.
  • the optical modulator 1 shown in Figs. 1 and 4 was manufactured.
  • an M-Zehnder-type optical waveguide is formed on the wafer surface using an X-cut 3-inch wafer (LiNbO3 single crystal) and the titanium diffusion process and photolithographic method. Formed.
  • Optical waveguide support LiNbO3 single crystal
  • l Ze can be ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ .
  • the signal electrode 10 and the ground electrodes 9 and 11 were formed by a plating process. 2604
  • the polishing dummy substrate was fixed to the polishing platen, and the upper 5 River W main body was attached with the electrode surface facing downward.
  • the modulator substrate 4 was thinned to a thickness of 7.5 ⁇ m by horizontal polishing and lapping policing (CMP).
  • CMP horizontal polishing and lapping policing
  • the substrate 4 was fixed on the flat support substrate 16.
  • the resin for adhesion fixation was a resin thickness of ⁇ ⁇ .
  • the end face of the optical waveguide (connection to the optical fiber) was polished, and the wafer was cut by dicing to obtain each chip.
  • the chip width was 2 mm and the total device thickness was 0.5 mni.
  • the end face was provided with an inclination of 6 °.
  • the chip joint surface was subjected to oblique end polishing, and then an AR coating film 7 was formed by vapor deposition.
  • a Matsuhender type optical waveguide was formed on the surface of the wafer by a titanium diffusion process and a photolithographic method.
  • the size of the optical waveguide is
  • lZe can be ⁇ ⁇ ⁇ .
  • the wafer was processed to obtain passive components.
  • the width of this passive component was 2 mm, and the total thickness was 0.5 mni.
  • the joint surface of the passive part was inclined at an angle of 6 °.
  • AR coating was applied to the joint surface.
  • the substrates were aligned by observing the guided light in the optical waveguide, and bonded using an ultraviolet curable resin, and the modulators in Figs. 1 and 4 were obtained.
  • the gap between the signal electrode and the ground electrode was 21.5 ⁇ m.
  • the electrode thickness was 20 m.
  • the curvature radius of each curved part was 15 mm, and the full angle of the folded part was 10 °.
  • the S21's -6dB bandwidth is 25GHz or more, and 40Gb / s modulation is possible. 8 052604

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Abstract

光変調器用部品(2)は、電気光学材料からなる変調用基板(4)、この基板(4)に設けられており、少なくとも一対の分岐部(6c)を備えている光導波路(6)、および各分岐部(6c)に対して電圧を印加し、分岐部(6c)を伝搬する光を変調する相互作用部(11)を備えている。変調用基板(4)の接合面(4b)に光導波路(6)の複数の端面(15A)、(15B)、(15C)、(15D)が存在している。

Description

明細書
光変調器用部品および光変調器 発明の属する技術分野
本発明は、進行波型光変調器等の光変調器用部品に関するものである。 背景技術
特開平 4 _ 3 5 5 7 1 4では、 光制御素子の光導波路を、 基板の末端 面で折り返すことによって、 光波と変調波との相互作用長を長く し、 駆 動電圧を低下させ、 光波と信号波との整合速度差を補償して高速動作を 実現している。
「 Hisrhly Functional Hybrid Modules Lsing Low Loss Direct Attachment Technique with Plannar Lightwave Circuit and LiNbO3 Devices 」 T. Yamada et al. 「ISMOT-2005J pp. 107- 110, 2005 では、 PLC光回路と L N導波路デバイスを接続している。 また、 特開 2005- 173162 では、 PLC光回路と L N導波路デバイスとを接続す ることが記載されており、 この際、 二つの基板間で光導波路のモードフ ィールド径が異なるために、 その間にモードフィールド径を調整するた めのテーパー部を設けることが記載されている。
なお,特開 2004-245991には、いわゆるャトイ構造が記載されている。 発明の開示
SSB変調器、 DQPSK変調器など、 複雑な光導波路構成が必要な光変 調器では、 相互作用部が大きくなり、 長くなるために、 変調器が大型化 する。 大口径の強誘電単結晶ウェハを用いれば、 大型の変調器チップを 作製することは可能である。 しかし、 大口径の強誘電体単結晶、 例えば ニオブ酸リチウム単結晶ウェハを均一に薄片化するのは難しい。 ま 7"こ、 大口径の単結晶ウェハを加工するためには、 高価な設備が必要である。 このため、 低コストで変調器チップを作製することが難しかった。
特開平 4一 3 5 5 7 1 4では、 光導波路を折り返すことで変調器を短 くすることを提案している。 しかし、 それでも複雑な構造の光変調器の 場合には、 変調器チップはかなり長く、 解決が必要である。
「 Highly Functional Hybrid Modules Using Low Loss Direct Attachment Technique with Plannar Lightwave Circuit and LiNb03 Devices 」 T. Yamada et al. 「ISMOT-2005」 pp. 107-110, 2005、 およぴ特開 2005-173162 では、 二種類の異なる光導波路基板を 接合する方法が記載されているが、 両基板間での線膨張係数の不一致な ど、 デバイスの信頼性や特性に課題がある。
また、 光変調器の高周波相互作用部は、 駆動電圧を低減するために、 電極ギヤップを狭くする必要がある。一方、電極ギヤップを狭く しつつ、 同時に、 特性インピーダンス整合を保ち、 光波一マイクロ波速度整合を 達成するためには、 変調器基板の厚さを 5 β m以下にまで薄くする必要 がある。
このような非常に薄いニオブ酸リチウム基板上に例えばチタン拡散光 導波路を形成すると、 基板の厚さ方向 (縦方向) のモードサイズが基板 厚さで制約されるために、 横に偏平な形状となる。 一方、 接続するべき 光ファイバ一のモードフィ一/レド径は 1 0 μ m程度の円形である。 この ため、 薄いニオブ酸リチウム基板上に形成された光導波路を、 外部の光 ファイバーに対して接続すると、 揷入損失が増加する。
本発明の課題は、分岐型光導波路を伝搬する光に対して電圧を印加し、 変調する相互作用部を備えている光変調器において、 光変調器を作製す るのに必要なウェハサイズを小さく し、 製造コストを低減できるように することである。
本発明は、 電気光学材料からなる変調用基板、 この基板に設けられて おり、 少なく とも一対の分岐部を備えている光導波路、 および各分岐部 に対して電圧を印加し、 分岐部を伝搬する光を変調する高周波相互作用 部を備えている光変調器用部品であって、 変調用基板の接合面に光導波 路の複数の端面が存在していることを特徴とする。
また、 本発明は、 前記光変調器用部品および受動部品を備えており、 前記受動部品が、 電気光学材料からなる受動部品用基板、 およびこの受 動部品用基板に形成されており、 光導波路の各端面とそれぞれ接続する 光導波路を備えており、 光変調器用基板と受動部品用基板とが接合され ていることを特徴とする、 光変調器に係るものである。
また、 本発明は、 前記光変調器用部品および光ファイバ一伝搬光の接 続部品を備えており、 接続部品が、 電気光学材料からなる接続部品用基 板、 およびこの基板に形成されており、 光導波路の各端面とそれぞれ接 続する光導波路を備えており、 光変調器用基板と接続部品用基板とが接 合されていることを特徴とする、 光変調器に係るものである。
本発 P月によれば、 分岐部型光導波路を伝搬する光を電気的に変調する 相互作用部を備えている光変調器において、 この相互作用部の設けられ た部分を部品として別体に独立させ、 光変調器用部品の接合面に光導波 路の各端面を形成することを想到した。そして、別体の受動部品を設け、 この受動部品を変調用部品と接合することによって、 相互作用部の光導 波路端面を受動型の光導波路端面へと接続し、 これによつて光変調器と して機能させることを想到した。 この結果、 相互作用部における光導波 路構造および電極構造が複雑な場合であつても、 光変調器部品の長さは 大きく削減することができる。 更に、 受動部品を別体に分けた場合であ つても、 接合部分における光損失は最小限にとどめ得ることを確認し、 本発明に到達した。
また、 本発明によれば、 高周波相互作用を営む部分と、 光ファイバ一 伝搬光を入射または出射させるべき光接続部分とを、 上記のように別々 のチップによって構成した。 そして、 光ファイバ一伝搬光を接続する接 続用部品は、 高周波相互作用を営む変調用基板よりも厚くする。 これに よって、 光ファイバ一伝搬光を変調器に入射、 あるいは変調器から出射 させるときの挿入損失を低減できる。 また、 接続用部品と変調用部品と の間でのスポットサイズ変換に伴う結合損失は、 それほど大きくない。 なお、 「Highly Functional Hybrid Modules Using Low Loss Direct Attachment Technique with Plannar Lightwave Circuit and LiNbO3 Devices J T. Yamada et al. 「ISMOT_2005」 pp. 107-110, 2005、 およぴ特開 2005- 173162 では、 二種類の異なる光導波路基板を 結合しているが、これは例えばニオブ酸リチウム光変調器と、 P L C (石 英系平面光回路) とを接合することで、 光時分割多重モジュールを製造 するものである。 しかし、 光変調器と P L Cとはそれぞれ別個の機能を 営むものであり、 光変調器それ自体を能動部品 (光変調作用部) と受動 部品とに分割することは想定されていない。 図面の簡単な説明
図 1は、 本発明の一実施形態に係る光変調器 1を概略的に示す平面図 でめる。
図 2 ( a ) は、 光変調器用部品 2を示す平面図であり、 図 2 ( b ) は、 光変調器用部品 2の正面図である。
図 3 ( a ) は、 受動部品 3の平面図であり、 図 3 ( b ) は、 受動部品 3の正面図である。
図 4は、 光変調器 1の側面図である。 図 5は、 本発明の光変調器 2 1の平面図である。
図 6は、 光変調器用部品 2 2を示す平面図である。
図 7は、 本発明の光変調器 3 1を示す平面図である。
図 8は、 光変調器用部品 3 2を示す平面図である。
図 9は、 本発明の光変調器 4 1を示す平面図である。
図 1 0は、 図 9の光変調器 4 1の側面図である。
図 1 1は、 本発明の光変調器 5 1を示す平面図である。
図 1 2は、 図 1 1の光変調器 5 1の側面図である。 発明を実施するための最良の形態
本発明において、 「高周波相互作用部」 とは、光導波路に高周波電圧が 印加され、 光が変調される領域のことである。 ここで言う高周波電圧と は、 1GHz 以上の周波数の電圧を意味する。 この周波数の上限は特に限 定するものではない
以下、 適宜図面を参照しつつ、 本発明を更に詳細に説明する。
図 1は、 本発明の一実施形態に係る光変調器 1を概略的に示す平面図 である。 図 2 (a ) は、光変調器用部品 2を示す平面図であり、図 2 (b) は、 光変調器用部品 2をその端面側から見た正面図である。 図 3 (a) は、 受動部品 3を示す平面図であり、 図 3 (b) は、 受動部品 3を端面 側から見た正面図である。 図 4は、 光変調器 1を示す側面図である。 図 2の光変調器用部品 2は、 変調用基板 4、 支持基体 1 6および両者 を接着する低誘電率層 1 7を備えている。 変調用基板 4では、 端面 4 a から端面 4 bへと向かって光導波路 6が延ぴている。 入射側端面 4 aに は、 光導波路の入射側端面 1 5 G、 1 5 Hが形成されており、 露出して いる。また、部品 2の出射側端面 4 b側には、光導波路の各分岐部 6 c、 6 の端面1 5 、 1 5 B、 1 5 C、 1 5 Dが露出している。 図 3 の受動部品 3は基板 8からなつている。 基板 8の表面惻には尤専 波路 6 d、 6 eが形成されている。 基板 8の接合面 8 aには光導波路の 端面 1 6 A、 1 6 B、 1 6 C、 1 6 Dが形成されており、 基板 8の末端 面 8 bには反射材 7が形成されている。
これらの光変調器用部品と受動部品とを接合することで、 図 1 の光変 調器 1を作製する。 例えば、 図 4に示すように、 光変調器用部品 2の基 板 4の接合面 4 bおよび支持基体 1 6の接合面を、 受動部品 3の基板 8 の接合面 8 aに対して、 接着層 1 9を介して接着できる。
この結果、 図 1に示すように、 光変調器用部品側の光導波路と受動部 品側の光導波路とが光学的に接合され、 光導波路 6が形成される。 本例 では、 光導波路 6の端部 6 aから入射した光は、 分岐点で分岐し、 分岐 部 6 b、 6 cを通過する。 次いで、 端部 6 dを通過し、 反射材 7で反射 され、 端部 6 e、 分岐部 6 f 、 6 g、 出射部 6 hを通過して端面 4 aか ら出射する。 分岐部 6 c、 6 f において、 伝搬光に電圧を印加し、 変調 する。
本例では、 電極はいわゆる C P W型の電極配置をとつているが、 本発 明は C P W型光変調器には限定されず、 種々の形態の光変調器に対して 適用できる。 本発明は、 例えば、 いわゆる A C P S型の光変調器や、 独 立変調型の光変調器に対して、 適用可能である。
図 1の光変調器では、 9、 1 1は接地電極であり、 1 0は信号電極で ある。 本例では、 接地電極 9、 1 1 と信号電極 1 0との間の各ギャップ において光導波路 6に電圧を印加する。
内側の接地電極 9は、 図示しないフィードスルーに接続される給電部
9 a と、 主部と略平行に伸びる 1列の電極部 9 bとを備えている。 外側 の接地電極 1 1は、光導波路をまたぐ接続部 l i b、および分岐部 6 c、
6 f と平行に伸びる電極部 1 1 a、 1 1 cを備えている。 信号電極 1 0 は、 一対の給電部 1 0 a、 各給電部 1 0 aから各分岐部 6 c、 ϋ t と平 行に伸びる電極部 1 0 b、 各電極部 1 0 bを接続する接続部 1 0 cを備 えている。
図 5、 図 6は、 いわゆる S S B変調器に対して本発明を適用した例を 示すものである。 図 5は、 光変調器 2 1を示す平面図であり、 図 6は、 本発明に係る光変調器用部品 2 2を示す平面図である。
図 6の光変調器用部品 2 2は、 変調用基板 2 4、 支持基体 1 6および 両者を接着する低誘電率層 1 7を備えている。 変調用基板 2 4では、 端 面 2 4 aから端面 2 4 bへと向かって光導波路 2 6が延びている。 部品 2 2の端面 2 4 aには、 光導波路の端面 1 5 G、 1 5 Hが形成されてお り、 露出している。 また、 部品 2 2の反対側の端面 2 4 b側には、 光導 波路の端面 1 5 E、 1 5 Fが露出している。 端面 2 4 a側から見て、 第 一次の分岐部 2 6 c、 第二次の分岐部 2 6 d、. 第一次の分岐部 2 6 eが 順次形成されている。
図 5の受動部品 2 3 A、 2 3 Bは、 基板 2 8からなつている。 受動部 品 2 3 Aでは、 基板 2 8上に入射部 2 6 a、 第一次の分岐部 2 6 bが形 成されている。 受動部品 2 3 Bでは、 基板 2 8上に出射部 2 6 g、 第一 次の分岐部 2 6 f が形成されている。 相互作用部 5内において、 適当な 接地電極、 信号電極から所定の信号電圧を印加し、 分岐部 2 6 d内を伝 搬する光を変調する。
光変調器用部品 2 2の両端面にそれぞれ受動部品 2 3 A、 2 3 Bを接 合することで、 図 5の光変調器 2 1を作製する。 例えば、 図 4に示すよ うに、 光変調器用部品 2 2の基板 2 4の接合面 2 4 a、 2 4 bおよび支 持基体 1 6の接合面を、 受動部品 2 3 A、 2 3 Bの基板 2 8の接合面 2 8 aに対して、 接着層 1 9を介して接着できる。
本例では、 光導波路 2 6の端部 2 6 aから入射した光は、 分岐点で分 岐し、 第一次の分岐部 2 6 b 、 2 6 cを通過し、 再ひ: ¾、 j¾ し、 弟—^の 分岐部 2 6 dに入射する。そして、分岐部 2 6 d内で変調が加えられる。 次いで、 分岐部 2 6 dの光は合波され、 第一次の分岐部 2 6 e 、 2 6 f を通過し、 更に合波され、 出射部 2 6 gを通過して変調器外 と出射す る。
前述の各例においては、 光変調器用部品の変調用基板の接合面に、 光 導波路の各分岐部の各端面が露出していた。 このように、 光導波路の分 岐部の端面を接合面に露出させることが好ましい。 しかし、 変調用基板 の接合面に露出させるのは、光導波路の分岐部の端面には限定されない。 図 7、 図 8は、 いわゆる C S R Z変調器に対して本発明を適用した例 を示す。 図 7は、 光変調器 3 1を示す平面図であり、 図 8は、 本発明に 係る光変調器用部品 3 2を示す平面図である。
図 8の光変調器用部品 3 2は、 変調用基板 3 4、 支持基体 1 6および 両者を接着する低誘電率層 1 7を備えている。 変調用基板 3 4では、 端 面 3 4 aから接合面 3 4 bへと向かって光導波路 3 6が延びている。 部 品 3 2の端面 3 4 aには、 光導波路の端面 1 5 G、 1 5 Hが形成されて おり、 露出している。 また、 部品 3 2の反対側の端面 3 4 b側には、 光 導波路の端面 1 5 E、 1 5 Fが露出している。
図 7の受動部品 3 3は基板 3 8からなつている。 基板 3 8上には接続 部 3 6 f および反射部 3 6 gが形成されている。 また部品 3 3の末端面 には反射材 7が形成されている。
光変調器用部品 3 2の端面 3 4 bに受動部品 3 3を接合することで、 図 7の光変調器 3 1を作製する。 例えば、 図 4に示すように、 光変調器 用部品 3 2の基板 3 4の接合面 3 4 bおよび支持基体 1 6,の接合面を、 受動部品 3 3の基板 3 8の接合面 3 8 aに対して、 接着層 1 9を介して 接着できる。 本例では、 光導波路 3 6の端部 3 6 aから入射した光は、 分吸??、 力、 岐し、 分岐部 3 6 bを通過し、 分岐部 3 6 cで変調が加えられる。 次い で、 分岐部 3 6 dの光は合波され、 導波部 3 6 e、 3 6 f 、 反射部 3 6 gを通過し、 反射材 7で反射される。 次いで、 反射部 3 6 g、 導波部 3 6 f 、 3 6 eを通過し、 分岐し、 変調部 3 6 cで所定の変調を受ける。 次いで、 分岐部 3 6 bを通過し、 合波し、 導波部 3 6 aから出射する。 以下、 本発明を、 光ファイバ一伝搬光の接続用部品と高周波変調用部 品との組み合わせに対して適用した実施例について述べる。 図 9〜図 1 2はこの実施形態に係るものである。
図 9、 図 1 0は、 図 5、 図 6 と同じく、 S S B変調器に対して本発明 を適用した例を示すものである。
図 9は、 光変調器 4 1を示す平面図であり、 図 1 0は、 本発明に係る 光変調器 4 1を示す平面図である。
光変調器用部品 4 2は、 変調用基板 4 4、 支持基体 1 6および両者を 接着する低誘電率層 1 7を備えている。 変調用基板 4 4では、 端面 4 4 aから端面 4 4 bへと向かって光導波路 2 6 dが延びている。 部品 4 2 の端面 4 4 aには、 光導波路の端面 5 5が形成されており、 露出してい る。 また、 部品 4 2の反対側の端面 4 4 b側には、 光導波路の端面 5 6 が露出している。 端面 4 4 aと 4 4 bとの間には、 第二次の分岐部 2 6 dが例えば合計 4列形成されている。
図 9の接続部品 4 3 A、 4 3 Bは、 それぞれ、 基板 4 8からなつてい る。 光入射側の接続部品 4 3 Aでは、 基板 4 8上に入射部 2 6 a、 第一 次の分岐部 2 6 b、 2 6 c、 第二次の分岐部の末端が形成されている。 光出射側の接続部品 4 3 Bでは、 基板 4 8上に出射部 2 6 g、 第一次の 分岐部 2 6' e、 2 6 f および第二次の分岐部の末端が形成されている。 光変調器用部品 4 2の両端面にそれぞれ接続部品 4 3 A、 4 3 Bを接 合することで、 図 1 0の光変調器 4 1を作製する。 1タ i」え 、 兀'^:調研 Ή 部品 4 2の基板 4 4の接合面 4 4 a、 4 4 bおよび支持基体 1 6の接合 面を、 各接続部品 4 3 A、 4 3 Bの基板 4 8の接合面 4 8 bに対して、 図示しない接着層を介して接着できる。
本例では、 光ファイバ一伝搬光は、 矢印 Aのように、 光導波路 2 6の 端部 2 6 aから入射し、分波部 3 9 Aで分岐し、第一次の分岐部 2 6 b、 2 6 cを通過し、 再ぴ分波部 3 9 Bで分岐し、 第二次の分岐部 2 6 dに 入射する。 そして、 分岐部 2 6 d内で変調が加えられる。 次いで、 分岐 部.2 6 dの光は合波部 4 0 Bで合波され、 第一次の分岐部 2 6 eを通過 し、 更に合波部 4 0 Aで合波され、 出射部 2 6 gを通過し、 矢印 Bのよ うに変調器外 と出射する。
ただし、 本例では、 矢印 Aの入射光、 矢印 Bの出射光は、 いずれも、 光ファイバ一伝搬光となる。
また、 光入射部、 光出射部ともに、 光ファイバ一を直接接続部品 4 3 A、 4 3 Bへとビッグティル接続することができる。 あるいは、 光ファ ィバーをレンズ結合を通して各接続部品の光導波路へと結合することが できる。 いずれも、 光ファイバ一伝搬光が接続部品に対して接続されて レヽる。
図 1 1、 図 1 2は、 いわゆる C S R Z変調器に対して本発明を適用し た例を示す。 図 1 1は、 光変調器 5 1を示す平面図であり、 図 1 2は、 光変調器 5 1を示す側面図である。
光変調器用部品 5 2は、 変調用基板 5 4、 支持基体 1 6および両者を 接着する低誘電率層 1 7を備えている。 変調用基板 5 4では、 接合面 5 4 aから端面 5 4 bへと向かって光導波路 3 6が延ぴている。 具体的に は、 4列の第一次の分岐部 3 6 c、 3 6 d、 合波部 4 0 A、 分波部 3 9 B、 導波部 3 6 e、 3 6 f 、 反射部 3 6 gが設けられている。 部品 5 2 ■ 4
11
の接合面 5 4 aには、 光導波路の端面 5 5が形成されており、 mし いる。 部品 5 2の端面 5 4 bには反射材 7が形成されている。
接続用部品 5 3は基板 5 8からなつている。 基板 5 8上には、 入射部 3 6 a、 出射部 3 6 h、 分岐部 3 9 A、 合波部 4 0 Bおよび第一次の分 岐部 3 6 bが形成されている。
光変調器用部品 5 2の接合面 5 4 aに接続用部品 5 3を接合すること で、 光変調器 5 1を作製する。 例えば、 図 1 2に示すように、 光変調器 用部品 5 2の基板 5 4の接合面 5 4 aおよび支持基体 1 6の接合面を、 接続用部品 5 3の基板 5 8の接合面 5 8 bに対して、 図示しない接着層 を介して接着できる。
本例では、 光導波路 3 6の入射部 3 6 aから入射した光は、 分波部 3 9 Aで分岐し、 分岐部 3 6 bを通過し、 分岐部 3 6 cで変調が加えられ る。 次いで、 分岐部 3 6 dの光は合波部 4 0 Aで合波され、 導波部 3 6 e、 3 6 f 、 反射部 3 6 gを通過し、 反射材 7で反射される。 次いで、 反射部 3 6 g、 導波部 3 6 eを通過し、 分波部 3 9 Bで分岐し、 変調部
3 6 cで所定の変調を受ける。 次いで、 分岐部 3 6 bを通過し、 合波部
4 0 Bで合波し、 出射部 3 6 hから出射する。
光変調用基板、 あるいは接続用基板の中には、 バイアス点を移動する ために、 位相調整用の電極を設けることができる。 位相調整用の電極と は、 d cバイアス点を調整するために駆動する電極のことである。 この 駆動電圧の周波数は、 例えば lKHz〜 400MHzである。
また、 光導波路には、 前述した各例のように、 合波部、 分波部を設け ることができる。 この場合には、 合波部、 分波部は、 光変調用基板に設 けても良く、 接続用基板に設けても良い。 合波部、' 分波部を接続用基板 に設けた場合には、 接続用基板の方が厚いので、 伝搬光をシングルモー ド化しゃすいという利点がある。 JP2008/052604
12
光導波路は、 変調用基板、 受動部品用基板、 接続 一力 土 LHJ に直接形成されたリッジ型の光導波路であってよく、 各基板の一方の主 面の上に他の層を介して形成されたリッジ型の光導波路であってよく、 また各基板の内部に内拡散法やイオン交換法によって形成された光導波 路、 例えばチタン拡散光導波路、 プロ トン交換光導波路であってよい。 具体的には、 光導波路が、 基板表面から突出するリッジ型光導波路であ つてよい。 リッジ型の光導波路は、 レーザー加工、 機械加工によって形 成可能である。 あるいは、 高屈折率膜を基板上に形成し、 この高屈折率 膜を機械加工やレーザーアブレーション加工することによって、 リッジ 型の三次元光導波路を形成できる。 高屈折率膜は、 例えば化学的気相成 長法、 物理的気相成長法、 有機金属化学的気相成長法、 スパッタ リ ング 法、 液相ェピタキシャル法によって形成できる。
上記の各例では、 電極は変調用基板の表面に設けられているが、 変調 用基板の表面に直接形成されていてよく、 低誘電率層ないしバッファ層 の上に形成されていてよい。 低誘電率層は、 酸化シリ コン、 弗化マグネ シゥム、 窒化珪素、 及びアルミナなどの公知の材料を使用することがで きる。 ここで言う低誘電率層とは、 基板本体を構成する材質の誘電率よ りも低い誘電率を有する材料からなる層を言う。
変調用基板、 受動部品用基板、 接続用基板を構成する材料は、 強誘電 性の電気光学材料、 好ましくは単結晶からなる。 こう した結晶は、 光の 変調が可能であれば特に限定されないが、 ニオブ酸リチウム、 タンタル 酸リチウム、 ニオブ酸リチウム一タンタル酸リチウム固溶体、 ニオブ酸 カリウムリチウム、 K T P、 G a A s及ぴ水晶などを例示することがで きる。
支持基体の材質は、 上記した強誘電性の電気光学材料に加えて、 更に 石英ガラス等のガラスであってもよい。 また、 好適な実施形態においては、 変調用基板と:^勤部 ΰ¾ W ^ たは接続用基板) とが同種の材質からなる。 ここで、 同種の材質とは、 材質の基本組成が同じであればよく、 ド一プ成分の有無は問わない。 こ のように同種の材質からなる光変調基板と受動部品用基板 (または接続 用基板) とを接合することは、 異種材料からなる異種機能部品の接合を 前提とする特開 2 0 0 5— 1 7 3 1 6 2からは、 不自然であり、 想定で きないと考えられる。
変調用基板と支持基体とを接着する接着剤は、 変調用基板よりも低誘 電率である材料からなる。 その具体例は、 前記の条件を満足する限り特 に限定されないが、 エポキシ系接着剤、 熱硬化型接着剤、 紫外線硬化性 接着剤、 ァロンセラミックス c (商品名、 東亜合成社製) (熱膨張係数 1
3 X 1 0 — 6 / Κ ) を例示できる。
変調用基板と受動部品用基板 (または接続用基板) とを接合する方法 は特に限定されず、以下を例示できる。変調用基板と受動部品用基板(ま たは接続用基板) を接合するためには、 サブミクロンの精度で可動でき る光学調芯機を用いて実施することができる。 変調器基板と受動部品基 板(または接続用基板)は、光学調芯機の専用冶具にそれぞれ固定する。 最初に、 変調器基板上の光導波路 3 6 aと光ファイバの光軸を光導波路 3 6 eから出射する光パワーが最大になる位置に調芯する。 次に、 受動 部品用基板 (または接続用基板) の光導波路 3 6 f と変調用基板の光導 波路 3 6 eを調芯する。 その後、 U V硬化樹脂を使用して双方を接合す る。
なお、 チップ間のあおり調整は、 調芯機の専用冶具の組み付け精度で 調整しなく ともよいが、 高精度を要求する場合には調芯機のあおり調芯 にて調整することもできる。 変調用基板と受動部品用基板 (または接続 用基板) の接合面、 およぴ光ファイバとの接合面には、 ャトイ構造を設 2604
14
けてもよい。 この場合には、 環境温度の変化によつ Tc m '^: ^: 制するこ とが可能となる。 こ のャ トイ構造は、 たとえば、 特開
2004-245991に記載されている。
特に、 変調用基板と受動部品用基板とを接着する場合には、 接着剤は 特に限定されないが、 エポキシ系接着剤、 熱硬化型接着剤、 紫外線硬化 性接着剤、 ァロンセラミ ックス C (商品名、 東亜合成社製) (熱膨張係数
1 3 X 1 0 — 6 / K ) を例示できる。
上記した各例では、 振幅変調器に発明を適用した場合について述べた 力 光導波路配置が異なる位相変調器に対しても本発明を適用できる。 好適な実施形態においては、 良好な反射減衰を確保するために、 変調 用基板の接合面 4 b 、 2 4 a 、 2 4 b 、 3 4 bが、 分岐部における伝搬 光の進行方向に垂直な平面 Lに対して傾斜している(図 1〜図 1 2参照)。 この傾斜角度 Θは特に限定されないが、 光導波路のスポットサイズ直径 が 10 ミクロンの場合、 1° 以上が好ましく、また、 30° 以下が好ましい。 但し、 好適な Θは接続する光導波路のスポッ トサイズに依存するため、 スポットサイズが大きければ好適な 0はこれより小さくなり、 反対にス ポッ トサイズが小さい場合は、 好適な Θはこれより大きくなる可能性が ある。
図 1、 図 2では、 チップの幅方向に傾斜角度を設けているが、 チップ の厚み方向に傾斜角度を設けることもできる。
また、 端面に反射防止コ ートを用いることでも反射減衰を向上するこ とができるため、 良好な反射減衰量を確保しつつ、 Θを 0° にすること も可能である。
好適な実施形態においては、 例えば図 4、 図 1 0、 図 1 2に示すよう に、 受動部品用基板 8 (または接続用基板) ί 変調用基板 3、 低誘電 率層 1 7および支持基体 1 6と接合されている。この実施形態によれば、 52604
15
光変調器の全体を薄板加工する場合と比べて、 薄板力 u丄 -9 O mm ^ 著しく削減できるので、 生産コス トをよりいっそう低減することが可能 となる。
こうした観点からは、 変調用基板の厚さ T (図 2 (b), 図 1 0、 図 1 2参照) は、 20 μ m以下であることが好ましく、 以下である ことが更に好ましい。 また、 受動部品用基板の厚さ V (図 3 (b )、 図 1 0、 図 1 2参照) は、 1 0 ◦ μ m以上であることが好ましく、 2 0 0 μ m以上であることが更に好ましい。 支持基体の厚さ P (図 2 (b)、 図 1 0、 図 1 2参照) は特に限定されないが、 部品の取り扱いという観点か らは、 1 0 0 m以上が好ましく、 5 0 0 m以上が更に好ましい。 また、 変調用基板上、 受動部品側基板上、 接続用基板上の各光導波路 がチタン内拡散光導波路である場合には、 光導波路を形成するためのチ タン膜の厚さを、 変調用基板側において相対的に小さく し、 相互作用部 における光の閉じ込めを弱く してシングルモード化することができる。 これによつて光消光比が向上する。 更に、 光導波路を形成するためのチ タン膜の厚さを、 受動部品側基板 (または接続用基板) において相対的 に大きく し、 光導波路の曲がり部における光の閉じ込めを強く して、 曲 がり部からの光の放射による損失を低減することができる。
実施例
図 1、 図 4に示す光変調器 1を製造した。
具体的には、 Xカツ トした 3ィンチウェハ (L i N b O 3単結晶) を 使用し、 チタン拡散プロセスとフォ トリ ソグラフィ一法とによって、 ゥ ェハの表面にマッハツェンダー型の光導波路を形成した。 光導波路のサ
2
ィズは、 例えば l Ze で Ι Ο μ πιとできる。 次いで、 メ ツキプロセス により、 信号電極 1 0および接地電極 9、 1 1を形成した。 2604
16
次に、 研磨定盤に研磨ダミー基板を固定し、 その上 調 ¾5川 W 本体を、 電極面を下向きにして貼り付けた。 次に、 横型研磨、 ラップお ょぴポリツシング (CMP) にて 7.5 μ m厚みまで変調器用基板 4を薄 型加工した。 次いで、 平板状の支持基板 1 6上に基板 4を固定した。 接 着固定用の樹脂は、 樹脂厚 δθ πιとした。 光導波路の端面 (光ファイバ 一への接続部) を端面研磨し、 ダイシングにてウェハを切断し、 各チッ プを得た。チップの幅を 2mmとし、デバイスの全厚さを 0.5mniとした。
RF変調基板の接合部での反射戻り光を抑制するため、端面に角度 6° の傾斜を設けた。 チップ接合面には端面斜め研磨加工を行い、 その後 AR コート膜 7を蒸着により形成した。
—方、 Xカツトした 3ィンチウェハ(L i N b O 3単結晶)を使用し、 チタン拡散プロセスとフォ トリ ソグラフィ一法とによって、 ウェハの表 面にマツハッェンダー型の光導波路を形成した。 光導波路のサイズは、
2
例えば lZe で Ι Ο μπιとできる。 次いで、 ウェハを加工し、 受動部 品を得た。 この受動部品の幅を 2mmとし、 全厚さを 0.5mniとした。 受 動部品の接合面には角度 6° の傾斜を設けた。 そして、 接合面に ARコー トを施した。 光導波路の導波光を観察する事で両基板のァラインメント を行い、紫外線硬化型樹脂を用いて接合し、図 1、図 4の変調器を得た。 信号電極と接地電極とのギャップは 21.5μ mとした。 電極の厚みを 20 mとした。 各湾曲部の曲率半径は 1 5 mmとし、 折り返し部分の全 角を 1 0° とした。
接合した光導波路のチップ接合部での過剰損失を測定したところ、
0.2dBであった。 また、 入射光の反射減衰量も十分に確保されており、 光 源に影響がない事を確認した。 RF変調部 5に形成した RF電極 9、 1 0、 1 1の高周波特性をネットワークアナライザを用いて測定したところ、
S21の- 6dB帯域として 25GHz以上が確保されており、 40Gb/s変調が可能で 8 052604
17
ある事も確認した。
本発明の特定の実施形態を説明してきたけれども、 本発明はこれら特 定の実施形態に限定されるものではなく、 請求の範囲の範囲から離れる ことなく、 種々の変更や改変を行いながら実施できる。

Claims

請求の範囲
1 . 電気光学材料からなる変調用基板、 この基板に設けられており、 少なく とも一対の分岐部を備えている光導波路、 および前記各分岐部に 対して電圧を印加し、 前記分岐部を伝搬する光を変調する高周波相互作 用部を備えている光変調器.用部品であって、
前記変調用基板の接合面に前記光導波路の複数の端面が存在している ことを特徴とする、 光変調器用部品。
2 . 支持基体、 およびこの支持基体と前記変調用基板とを接着する 接着層を備えていることを特徴とする、請求項 1記載の光変調器用部品。
3 . 前記高周波相互作用部が、 前記分岐部に対して前記電圧を印加 するための信号電極おょぴ接地電極を備えていることを特徴とする、 請 求項 1または 2記載の光変調器用部品。
4 . 前記変調用基板の前記接合面が、 前記分岐部における前記伝搬 光の進行方向に垂直な平面に対して傾斜していることを特徴とする、 請 求項 1〜 3のいずれか一つの請求項に記載の光変調器用部品。
5 . 請求項 1〜 4のいずれか一つの請求項に記載の光変調器用部品 および受動部品を備えており、 前記受動部品が、 電気光学材料からなる 受動部品用基板、 およびこの受動部品用基板に形成されており、 前記光 導波路の前記各端面とそれぞれ接続する光導波路を備えており、 前記光 変調器用基板と前記受動部品用基板とが接合されていることを特徴とす 、 光変 HJS器。 19
6 . 前記変調用基板と前記受動部品用基板とが同種の材質からなる ことを特徴とする、 請求項 5記載の光変調器。
7 . 前記受動部品の前記光導波路が折り返し部を備えていることを 特徴とする、 請求項 5または 6記載の光変調器。
8 . 前記受動部品用基板が前記変調用基板、 前記接着層および前記 支持基体と接合されていることを特徴とする、 請求項 5〜 7のいずれか 一つの請求項に記載の光変調器。
9 . 請求項 1〜 4のいずれか一つの請求項に記載の光変調器用部品 およぴ光ファイバー伝搬光の接続部品を備えており、 前記接続部品が、 電気光学材料からなる接続部品用基板、 およびこの接続部品用基板に形 成されており、 前記光導波路の前記各端面とそれぞれ接続する光導波路 • を備えており、 前記光変調器用基板と前記接続部品用基板とが接合され ていることを特徴とする、 光変調器。
1 0 . 前記変調用基板と前記接続部品用基板とが同種の材質からな ることを特徴とする、 請求項 9記載の光変調器。
1 1 . 前記接続部品用基板が、 前記変調用基板、 前記接着層および 前記支持基体と接合されていることを特徴とする、 請求項 9または 1 0 記載の光変調器。
1 2 . 前記接続部品の前記光導波路が合波部または分波部を有する ことを特 ί敷とする、 請求項 9〜 1 1のいずれか一つの ^ "ノル 変周 。
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