WO2008049926A2 - Verfahren und vorrichtung zum austausch von objektivteilen - Google Patents

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WO2008049926A2 PCT/EP2007/061563 EP2007061563W WO2008049926A2 WO 2008049926 A2 WO2008049926 A2 WO 2008049926A2 EP 2007061563 W EP2007061563 W EP 2007061563W WO 2008049926 A2 WO2008049926 A2 WO 2008049926A2
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Guido Limbach
Harald Wölfle
Peter Deufel
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Definitions

  • the present invention relates to a method and an apparatus for exchanging
  • WO 2006/069755 A1 describes an exchangeable optical element of a lens module of a lithography system, which can be completely removed from the objective, wherein a lock chamber is proposed to avoid contamination of the objective space.
  • Salt formation can occur on the surfaces of the optical elements.
  • JP 11288870 A proposes the change of contaminated areas and subsequent cleaning of the contaminated areas for a protective device between the projection objective and the wafer of a lithography installation.
  • a further problem with replaceable components of an optical system of a lithography system is that particles adhering to the replacement parts may detach from the replacement parts and precipitate on the surfaces of the optical elements, which also degrades the imaging properties.
  • a fast exchange of objective parts with short downtimes of the objective should be made possible.
  • the present invention is based on the finding that an effective avoidance of the introduction of contaminants into the objective interior when replacing objective parts can be achieved by cleaning the exchangeable objective part immediately before installation in the objective outside the objective interior and immediately after cleaning is installed in the lens without contact with the normal ambient atmosphere. Instead of making a subsequent cleaning of optical elements that are contaminated by contaminants present in the lens, such.
  • the present invention is already in advance in the prevention of contamination.
  • the immediate installation of the replaceable lens part in the lens immediately after cleaning without further contact with the normal ambient atmosphere has the advantage that the cost of handling the cleaned lens part under exclusion of the normal ambient atmosphere can be kept low and that is avoided after cleaning again may cause deposits due to contamination on the replaceable lens part.
  • the immediate installation immediately after cleaning means that only so much time is available until the beginning of the insertion process into the objective, as are necessary for the processes of the insertion process, or that less time remains, than for a noticeable deposition of Contamination is required. In essence, therefore, the immediate installation will take place immediately after cleaning the replaceable lens part without any time delay. However, in some cases short intermediate storage times of a few minutes to a few hours may be possible. Normally, however, the installation of the exchangeable lens part is started or completed within less than 30 minutes, preferably less than 15 minutes, in particular a few minutes to a few seconds after completion of the cleaning.
  • the replaceable objective parts may relate to all parts in an objective or optical system, in particular optical lenses, mirrors, mirror elements, filters, diaphragms, membranes and the like.
  • Interchangeable means, in particular, that the corresponding objective part can be completely removed from the objective interior, ie a housing which terminates the objective interior completely leaves.
  • interchangeable objective parts differ from merely exchangeable objective parts in that, when removed, they are completely separated from the objective or can be separated off in a simple manner.
  • Lens is understood here as any optical system, even if no object is imaged on an image plane, so for example, lighting systems of
  • the corresponding lenses or optical systems can be operated in different wavelengths, in particular those for the
  • Mirkolithographie used wavelengths in the range of 248 nm, 193 nm, 157 nm and in the extreme ultraviolet light range with wavelengths of less than 30 nm, in particular in the range of 13 nm and 13.5 nm.
  • the cleaning of the replaceable lens part takes place in a closed cleaning room to ensure that a defined cleaning can take place.
  • the cleaning space preferably has a cleaning atmosphere that differs from the ambient atmosphere, so that it is precisely the contaminants, such as water, hydrocarbons and particles present in the ambient atmosphere, that can be effectively removed from the objective part to be cleaned.
  • the cleaning atmosphere may be formed by vacuum, dry air, nitrogen, dry nitrogen, argon, oxygen, helium, hydrogen, generally inert gases or noble gases, and combinations thereof.
  • the cleaning atmosphere may also be different than the atmosphere in the interior of the lens, but the atmosphere in the lens interior may also be formed by inert gases or noble gases, nitrogen, dry nitrogen and combinations thereof and vacuum.
  • the closed by the ambient atmosphere cleaning space can be provided in such a local proximity to the lens interior or there arranged that a geometrically simple exchange movement for the lens part or a temporally and / or Locally particularly short exchange movement is possible. This has the advantage that the handling wall for the cleaned objective part can be kept low.
  • a linear movement or a pivotal or rotary movement of the exchange part can be understood or generally a movement that can be realized with simple means of transport.
  • a temporally short movement corresponds to the above-defined immediate arrangement in the lens immediately after cleaning and corresponds to the definitions given there.
  • the cleaning chamber is gas-tightly coupled to the lens interior, so that advantageously a direct connection between the cleaning room and the lens interior is possible at least during the installation and removal of the replaceable lens part.
  • the detachable coupling of the cleaning chamber ensures, in particular, that the outlay for the handling of the cleaned replacement part is kept low.
  • a variable use of the cleaning space containing cleaning device can be made possible by the detachable arrangement. This can be coupled only in the case of a necessary replacement to the corresponding coupling point of the lens housing, without a permanent stationary arrangement would be required, although this is of course conceivable.
  • a service technician can bring a required replacement part and the mobile cleaning device to the location of the lens, there to arrange the cleaning device to the lens to remove the old replacement part of the lens and install the new replacement part after cleaning in the cleaning device in the lens , This ensures high flexibility and variability.
  • the cleaning device may include or interact with a magazine for replaceable lens parts.
  • a magazine for replaceable lens parts such as filters, diaphragms, lenses, mirrors, prisms or the like.
  • an exchange of objective parts can be carried out between two process steps of lens use, so that the imaging properties of the objective are matched to the consecutive process steps of lens use can, without causing long downtime of the lens.
  • the replaceable lens parts can be stored in the same atmosphere as in the cleaning room or in a separate atmosphere, which largely avoids contamination during storage in the magazine. Nevertheless, additional cleaning can take place through the introduction over the cleaning room.
  • the lens parts stored in the magazine may be subjected to cleaning repeatedly by spilling into the cleaning space during the non-replacement times.
  • a plurality of cleaning devices or cleaning rooms can be provided or connected to the lens or with each other. This allows various purification processes and stages to be run through.
  • Plasma cleaning in particular hydrogen or oxygen plasma cleaning, the
  • Cleaning, especially wiping and the like and combinations thereof may include.
  • the cleaning process may involve the elimination of one or more of these contaminants by a combination of several or all of the process steps to eliminate these contaminants.
  • the elimination of the water monolayers after the removal of the hydrocarbons is advantageous because in the elimination of Hydrocarbons, for example, by irradiation with ultraviolet light (UV irradiation), the presence of a certain amount of water molecules in the removal of hydrocarbons is advantageous.
  • UV irradiation ultraviolet light
  • the presence of water accelerates the elimination of hydrocarbons by generating radicals from the water molecules during irradiation.
  • optical plaster mixtures are generally known to the person skilled in the field of optics, in which case corresponding mixtures of alcohols and the like are used which are absolutely residue-free.
  • the irradiation of the exchangeable lens part with electromagnetic radiation, preferably ultraviolet light, at the same time a purge flow in the cleaning chamber of the cleaning device can be adjusted to flush out the transferred into the gas phase hydrocarbons or residues thereof from the cleaning room.
  • Dry nitrogen with low oxygen contents, dry air or other gas mixtures with oxygen are suitable for this purpose.
  • the plasma cleaning is suitable for the removal of hydrocarbons, both a low-pressure plasma under vacuum conditions ( ⁇ 0.1 bar) and a plasma under atmospheric pressure is possible.
  • oxygen and hydrogen are suitable as gases for the low-pressure plasma, but other gases such as argon can be used.
  • a particularly advantageous method for generating the plasma is the excitation by microwaves, wherein a corresponding microwave head can be easily provided in a corresponding cleaning device.
  • vacuum is a technical vacuum which can be produced by appropriate suction devices such as pumps and so on.
  • the heating can be done via an infrared lamp or a heating wire.
  • the removal of the water monolayers can also by sufficiently long rinsing with purge gas, ie can be achieved for example with dry nitrogen or dry air and helium.
  • This cleaning is therefore possible in an advantageous manner by the present invention, since the lens does not have to be shut down during the cleaning of the replacement part and thus sufficiently long rinsing times are possible. This is especially true if the cleaning device is designed so that at least during the replacement process, both the old replaceable lens part and the new exchangeable lens part can be taken together in the cleaning device, so that so to speak, a flying change of the lens parts can be realized.
  • the cleaning device is characterized in the present invention by the fact that a cleaning space for receiving and cleaning the replaceable lens part and a connector for gas-tight connection to a lens housing are present, so that the cleaning device detachably to a lens, in particular projection or illumination objective for microlithography can be coupled.
  • the cleaning device has further connection possibilities for, for example, a transport channel and / or one or more further cleaning devices, so that the previously described use of several cleaning rooms or cleaning devices and the use of different cleaning steps, in particular one behind the other, is made possible.
  • a transport channel in particular a separately arranged on the cleaning space transport channel is advantageous because it increases the variability of the use of the cleaning device is increased.
  • connection part of the cleaning device for the gas-tight connection to the lens housing and the connection element for the gastight connection of a transport channel and one or more further cleaning devices are identical and / or compatible to each other.
  • connection element for the gas-tight connection of a transport channel and / or cleaning devices and the connection part of the cleaning chamber or the cleaning device the lens housing a device have for mechanical decoupling while ensuring the sealing effect, such as a gas bearing with gap seal with pressure or corresponding elastic elements, such as. B. a bellows.
  • the cleaning chamber of the cleaning device is preferably gas-tight, except for a gas supply and gas removal for the purge flow, to prevent the ingress of contaminants.
  • sealing elements are provided in particular at the feed openings for the objective part to be cleaned and / or at the connection parts or elements. Sealing elements can be formed by conventional known sealing elements in the form of elastic elements or gap seals, so-called leaky seals, in which it is ensured by overpressure that contamination can not penetrate from the outside to the inside through the existing gap.
  • the cleaning device may have a handling device by means of which the exchangeable objective part is movable either only in the cleaning device or both in the cleaning device and for movement into the objective and out of the objective.
  • the handling device for the exchangeable objective part can also be integrated on the objective.
  • the kinematic parts of the handling device can be arranged partially or completely within the housing of the cleaning space or the transport channel. Under kinematic parts here all moving parts are understood. This means that, for example, only non-movable control or operating elements are provided outside the cleaning space or the cleaning device or on the outside of the cleaning device. This is for example the case when all parts such as engine, transmission and the like are provided within the cleaning device and only the electrical power supply and the controller outside.
  • the drive of the handling device is provided outside the cleaning device, in which case a gas- or vacuum-tight passage for a movable part, such as a linkage may be provided.
  • a non-contact drive for example via magnetic forces.
  • the handling device may comprise a linear motor.
  • the handling device can also be arranged mechanically decoupled from the housing of the cleaning space and / or a transport channel, whereby an air bearing can be used.
  • various types of handling equipment can be used.
  • the cleaning device comprises all the means, devices and devices required to carry out the above-described method, for example means for introducing and / or extracting gas or corresponding elements for connecting such means as pumps, vacuum pumps, gas supply devices and the like as well as corresponding cleaning devices such as UV lamps, plasma generators, such as microwave heads, evaporators, IR lamps, heating wires, etc.
  • Figure 1 is a sectional view of a portion of a lens with docked
  • Figure 2 is a sectional view of a portion of a lens with another docked cleaning device
  • Figure 3 is a sectional view of a part of a lens with a third
  • Figure 4 is a sectional view of a part of a lens docked with
  • Figure 5 is a sectional view of an EUV projection lens docked with
  • Figure 6 is a partial view of another EUV optics similar to Figure 5; and in
  • FIG. 7 shows a partial view of a third EUV optic similar to FIG. 5.
  • FIG. 1 shows in a purely schematic representation a sectional view of a part of an objective 10, which has a lens housing 18 which encloses the objective interior 14.
  • the objective interior 14 optical elements in the form of lenses 11, 12, 13 are arranged.
  • an exchangeable lens part 16 which may also be a lens or a filter or a diaphragm element designated.
  • the replaceable objective part 16 is received in the cleaning space of the cleaning device 20 as shown in FIG. 1, which is coupled or docked to the objective housing 18 in the region of the position 15 of the exchangeable objective part 16.
  • the cleaning device 20 has a connection part 21, which cooperates with a lens housing opening 17 in such a way that a gas-tight connection between the lens interior 14 and the cleaning chamber of the cleaning device 20 is produced.
  • the cleaning device 20 is detachably arranged on the objective housing 18.
  • a lens housing closure 19 is provided, the flap or
  • the sealing of the objective housing closure can be sealed by generally known sealing elements, such as elastic elements or by a so-called leaky seal, that is to say a gap seal in which the penetration of foreign substances is prevented by overpressure.
  • the lens housing closure 19 is designed such that it can be closed even when the cleaning device 20 is docked, in order to avoid that foreign substances during cleaning in the cleaning device 20 in the lens interior 14th reach. Only for the insertion and removal of the replaceable lens part 16 of the shutter 19 is opened accordingly. If the gas flow from the objective into the cleaning device 20 is sufficiently large, the closure 19 can remain open during the cleaning, as this can prevent foreign substances from entering the objective interior 14.
  • connection part 21 is mechanically decoupled from the objective housing 18. This means that vibrations that occur when or at the cleaning device 20, can not or only to a limited extent on the lens housing 18 and thus on the lens 10 can be transmitted.
  • the mechanical decoupling can be done by a corresponding configuration of the mounting of the cleaning device 20 to the lens housing 18.
  • corresponding elastic elements such as Balgan angelen or the use of air bearings can be mentioned.
  • the cleaning device 20 has in the exemplary embodiment of Figure 1, a UV lamp 23, for example in the form of a mercury vapor lamp or Xerodex (xenon) lamp with broadband wavelength spectrum or in the form of a particular pulsed UV laser with a correspondingly narrow (monochromatic) wavelength spectrum.
  • a UV lamp 23 for example in the form of a mercury vapor lamp or Xerodex (xenon) lamp with broadband wavelength spectrum or in the form of a particular pulsed UV laser with a correspondingly narrow (monochromatic) wavelength spectrum.
  • the cleaning device 20 is constructed such that the replaceable objective part 16 to be cleaned can be arranged in the irradiation area of the UV lamp 23 so that hydrocarbons present on the objective part 16 by irradiation with UV light can be eliminated.
  • the housing of the cleaning device 20 has a gas feed opening 24 and a gas discharge opening 25.
  • a gas supply is connected, with which a corresponding supply current of purge gas can be introduced into the cleaning device 20.
  • Suitable purge gases are dry nitrogen, dry air or helium.
  • Dry nitrogen is particularly preferred in projection or illumination lenses of microlithography, since such lenses usually already have a supply device for dry nitrogen, which can also be used for the cleaning device 20 with.
  • the gas outlet 25 is connected to corresponding pumping devices (not shown), which allow a particularly good removal of the gaseous medium contained in the cleaning device 20.
  • the purge flow removes the hydrocarbons or residues thereof converted into the gas phase by the UV irradiation from the cleaning space of the cleaning device 20.
  • the cleaning device 20 further comprises a closing device 22, which can be realized by a flap or a slide similar to the lens housing closure 19 and has corresponding seals.
  • an exchangeable objective part 16 which is to be introduced into the position 15 of the objective interior 14, are introduced from outside into the remoning device 20.
  • a handling device 30 which has a gripping part 31 with which the exchangeable objective part 16 can be gripped or picked up.
  • a drive 34 for example in the form of an electric motor or in the form of a manual drive is provided, which can put the gripping part 31 in a linear movement corresponding to the illustrated double arrow via a gear 33. In this way, the exchangeable objective part 16 can be introduced into or removed from the cleaning device 20.
  • the handling device 30 for the movement or the transport of the replaceable lens part 16 within the cleaning device 20 and for the transport of the replaceable lens part 16 of the cleaning device 20 in the lens interior 14 and vice versa from the position 15th of the exchangeable lens part 16 in the lens interior 14 are used in the cleaning device 20.
  • a closure element 32 is provided, which is provided with the opening device 22 open of the cleaning device 20 at the corresponding opening to close it gas-tight.
  • the gripping device 31 is connected, for example with a rod 35 which is guided by a gas-tight passage through the closure element 32 with the gear 33, so that when the cleaning device 20 is closed, a handling of the interchangeable lens part 16 is possible.
  • the replacement of the replaceable objective part 16 takes place in the following way:
  • the cleaning device 20 is docked to the connection part 21 on the objective housing 18 in the region of the objective housing opening 17.
  • the purge gas flow is then adjusted via the gas inlet 24 and the gas outlet 25 as well as the cleaning space to purge the ambient air contained in the cleaning device 20.
  • the lens housing closure 19 is opened and by means of the handling device 30, which is connected in a gastight manner to the cleaning device 20 with the closure element 32, the exchangeable objective part 16 grasped by the gripping part 31 and moved in the direction of the cleaning device.
  • the drive 34 is actuated, so that the gripping part 31 is retracted in the direction of the cleaning device 20 via the gear 33.
  • the objective housing closure 19 can be closed again and the exchangeable objective part 16 can be removed from the cleaning device 20 via the opening device 22.
  • the lens part 16 located on the gripping part 31 is introduced into the cleaning device 20 in such a way that it comes to rest in the position as shown in FIG.
  • the closure element 32 of the handling device 30 closes off the opening of the ⁇ ffhungs adopted 22 of the cleaning device 20 gas-tight.
  • the cleaning may begin with the UV lamp 23 turned on to vaporize or decompose hydrocarbons present on the surface of the lens portion 16.
  • the thus converted into the gas phase hydrocarbons or hydrocarbon parts are discharged through the gas inlet 24 introduced purge gas through the gas outlet 25 from the cleaning device 20.
  • Suitable purge gas is nitrogen, dry air or helium or other noble gases or inert gases. Since the decomposition of the hydrocarbons is supported by the presence of a certain amount of water molecules, ie a concentration of water in the ppm range, not particularly dried purge gas can be used and / or the cleaning can be started immediately after introduction of the exchangeable objective part 16. In the course of the flushing gas and water is removed.
  • the objective housing closure 19 is opened either while maintaining the flushing flow or after closing the gas inlet 24 and the gas outlet 25, in order to transfer the cleaned objective part 16 to its position 15 in the objective interior 14 by means of the handling device 30. Once the lens part 16 is in place in the lens 10, the lens housing closure 19 can be closed again and the cleaning device 20 are removed from the lens housing.
  • the cleaning device 20 is designed so that two lens parts 16 and 16 'can be accommodated in it.
  • the new objective part 16 in the cleaning device 20 can then already be cleaned for a certain period of time, while the old objective part 16 'is still in the objective 10, so that it can continue to be operated during the cleaning of the new objective part 16.
  • the old objective part 16 ' is first removed from the objective 10, temporarily stored in the cleaning device 20, as shown in FIG. 1, and the new objective part 16 introduced into the objective 10.
  • the old objective part 16 'can then be removed from the cleaning device 20 or the entire cleaning device can be removed from the objective housing 18. In this way, particularly short replacement times can be realized.
  • FIG. 2 shows a further embodiment of a cleaning device 126 according to the invention in cooperation with an objective 110 according to the invention, wherein here too a purely schematic cross-sectional representation is shown.
  • Figure 2 corresponds in many parts to that of Figure 1, so that similar or identical components are provided with the same reference numerals each added with 100. A repeated description of the corresponding components is thus unnecessary.
  • the description of Figure 2 is limited to only different configurations.
  • FIG. 2 differs from that of Figure 1 essentially in that instead of a UV lamp 23, a microwave head 123 is used to generate a plasma.
  • a microwave head 123 By means of the microwave head 123, a plasma can be excited in the cleaning space with which the surface of the exchangeable objective part 116 is cleaned.
  • a vacuum is generated in the cleaning space of the cleaning device 120 which is generated by respective suction or pumping means (not shown) connected to the outlet 125. Since no additional gas needs to be introduced in the cleaning device 120, can here on the gas inlet 24 as in the figure 1 are omitted.
  • a gas atmosphere such as hydrogen, oxygen or argon atmosphere, for which purpose only a corresponding gas inlet (not shown) with appropriate gas supply would have to be provided.
  • the cleaning device 120 is used in particular for the removal of water monolayers.
  • the removal of the water is already favored by the generation of a vacuum, since then a part of the water monolayers on the exchangeable objective part 116 is removed by evaporation.
  • the plasma excited by the microwave head 123 causes removal of the water monolayers from the surface of the lens portion 116, which are then removed by the vacuum extraction.
  • the cleaning device 120 can also be combined with the cleaning device 20, wherein, for example, the cleaning device 20 could be connected to the opening device 122 so that an exchangeable objective part 116 is first cleaned in the cleaning device 20 with respect to the hydrocarbons during insertion into the objective 110 and then in a further step in the cleaning device 120 is freed from the water monolayers.
  • the embodiment of FIG. 2 further differs from the embodiment of FIG. 1 in that the objective housing closure 119 of the objective 110 is arranged such that it is arranged outside the cleaning device 120 docked therewith and can no longer be closed. Instead, the connection part 121 of the cleaning device 120 has an additional connection part closure 150 with which the cleaning space of the cleaning device 120 can be separated from the objective interior 114 during the cleaning process.
  • FIG. 3 shows another embodiment of an objective according to the invention and a cleaning device 220 cooperating therewith.
  • identical or identical components are provided with identical reference symbols, these again being compared with the reference symbols of FIG. 1 by 200 and with respect to FIG. the reference numerals of Figure 2 have been increased by 100. Again, an additional description of the already known components is omitted.
  • FIG. 3 shows, in addition to FIGS. 1 and 2, sealing elements 227 in the region of the connection of the cleaning device 220 to the objective housing 218.
  • these may be O-rings or other strained elastic elements such as
  • Metal seals act to ensure a gas-tight seal.
  • a gas-tight seal Alternatively, a gas-tight seal.
  • Gap seal can be selected if it is ensured by appropriate overpressure in the lens 210 and the cleaning device 220 that no foreign matter in the lens 210 and the cleaning device 220 can pass.
  • FIG. 3 shows that the handling device 230 can also be completely accommodated in the cleaning device 220, so that, in particular, costly, gas-tight passages for moving parts can be dispensed with. Rather, in such an embodiment, it is only necessary to conduct electrical connection cables in a gastight manner through the housing of the cleaning device 220 in order, for example, to ensure an electrical power supply to the drive 234 of the handling device 230.
  • FIG. 4 shows a fourth embodiment of a cleaning device 320 in cooperation with an objective 310, likewise in a schematic sectional illustration like the preceding illustrations of FIGS. 1 to 3.
  • FIG. 4 shows a transport channel 340 as a component of the cleaning device 320, which, however, can be separated from the actual cleaning chamber 328, in which the position of the exchangeable objective part 316 during cleaning is shown in a dashed line.
  • the transport channel 340 receives the handling device 330.
  • the transport channel 340 may be designed without handling device.
  • the cleaning channel 340 has a connection element 341 which can be connected to the objective housing 318 in accordance with the connection parts 21, 121 and 221.
  • transport channel 340 has a corresponding connection element 343 for connection to the cleaning space 328.
  • connection elements 341 and 343 corresponding sealing elements are provided for gas-tight connection.
  • the transport channel 340 also has a gas inlet 342 and a gas outlet 344 in order to be able to carry out a flushing of the transport channel 340.
  • the embodiment of Figure 4 further differs from all previous embodiments in that the gas inlet 324 and the gas outlet 325 on the same side of the housing of the cleaning chamber 328 and the cleaning device 320th are arranged, contrary to the preceding examples, in which gas inlet 24, 224 and gas outlet 25, 225 on opposite sides of the housing, namely diagonally opposite, are provided to ensure the most complete gas exchange through the purge flow.
  • wheels 329 are shown, which are intended to illustrate schematically that the cleaning device 320 may have transport means to facilitate the movement of the transport device 320 in particular when docking and undocking to the lens housing and fürschreiben in a defined manner can.
  • transport means to facilitate the movement of the transport device 320 in particular when docking and undocking to the lens housing and fürschreiben in a defined manner can.
  • sliding elements in conjunction with rails and the like are conceivable.
  • FIG. 5 shows the application of the present invention to an EUV projection objective 410.
  • the EUV projection lens 410 has a vacuum container 418, which is shown purely schematically.
  • the reticle 401 are arranged with the structures to be imaged as well as the mirrors Ml to M6, which of a
  • Illumination system IL (not shown) and reflected on the reticle 401 on a wafer (substrate) 403, which is located on a wafer stage (substrate holder) 402 maps. Thereby, the structure of the reticle 401 is reduced in size on a photosensitive layer on the wafer 403.
  • the vacuum container 418 has a vacuum container opening 417, which includes a vacuum container closure 419, so that the vacuum container opening 417 can be closed in a vacuum-tight manner in order to maintain the vacuum present in the vacuum container 418.
  • a cleaning device 420 can be vacuum-tightly docked to the vacuum container 418, so that after opening the vacuum container closure 419 within the Cleaning device 420 and in the lens interior of the vacuum vessel 418, a vacuum can be maintained.
  • the cleaning device 420 is shown purely schematically and can be designed in accordance with the embodiments of the examples in FIGS. 1 to 4.
  • the mirror M4 can be replaced via the cleaning device 420 according to the previous examples.
  • the cleaning device can be used with a diaphragm change system, as described in US 2007/0053076 Al. Accordingly, US 2007/0053076 A1 is hereby incorporated by reference in its entirety.
  • the cleaning device may be provided in the aperture change system of US 2007/0053076 A1 in combination with the aperture magazine, for cleaning before insertion into the magazine and / or when overflowing from the magazine into the optical arrangement. Further, parts of the aperture change system of US 2007/0053076 A1 may be integrated in the cleaning device, e.g. the magazine, or vice versa, the cleaning device in the iris changing system, such. Cleaning devices in the magazine or a blind transport path.
  • the EUV projection optics 410 is shown in FIG. 5 only with a vacuum container 418.
  • the EUV optics may include other housing parts (not shown) that enclose individual elements, such as mirrors, or the light path to set a different atmosphere in the enclosed areas, such as a different vacuum state.
  • Such a configuration of optical arrangement is described in PCT / EP2007 / 008113, which is hereby incorporated by reference in its entirety.
  • the cleaning device described in the present application or the corresponding method for exchanging objective parts can also be used for such optical arrangements.
  • the cleaning device can in this case be provided on the outer vacuum container 418, as shown in FIG. 5, while only one corresponding replacement opening is to be provided in an inner housing part.
  • FIG. 6 shows a section of the vacuum container wall 418, on which a vacuum container opening 417 is provided for exchanging corresponding optical parts.
  • the vacuum container opening 417 can be vacuum-sealed with the vacuum container closure 419.
  • the cleaning device 420 is flanged onto the vacuum container wall 418.
  • a further housing 430 is provided in which one or more components of the optical arrangement can be accommodated in order to set separate atmospheric conditions with respect to the outer vacuum container.
  • a housing opening 431 is provided, which can likewise be closed in a vacuum-tight manner via a housing closure 432.
  • the closures 432 and 419 now have to be opened in order to be able to transfer an optical part out of the housing 430 into the cleaning device 420 and vice versa.
  • FIG. 7 shows a further embodiment in which a transport channel 433 is provided between the housing opening 431 and the vacuum container opening 417 in order to be able to transfer the part to be exchanged directly from the housing 430 into the cleaning device 420 or vice versa without coming into contact with the interior of the housing 430 to reach outer vacuum container.

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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Austausch von Objektivteilen insbesondere eines Projektions- oder Beleuchtungsobjektivs für die Mikrolithographie, bei welchem ein Objektiv (10) mit einem Objektivinnenraum (14) und darin vorgesehenen Objektivteilen bereitgestellt wird, bei welchem mindestens ein Objektivteil (16) austauschbar im Objektiv aufgenommen ist und wobei das austauschbare Objektivteil unmittelbar vor dem Einbau in das Objektiv außerhalb des Objektivinnenraums in mindestens einem von der Umgebungsatmosphäre abgeschlossenen Reinigungsraum gereinigt wird und sofort nach der Reinigung ohne Kontakt mit der Umgebungsatmosphäre in das Objektiv eingebaut wird.

Description

VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM AUSTAUSCH VON OBJEKTIVTEILEN
HINTERGRUND DER ERFINDUNG
GEBIET DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Austausch von
I
Objektivteilen insbesondere eines Projektions- oder Beleuchtungsobjektivs für die Mikrolithographie.
STAND DER TECHNIK
Moderne Objektive in der Lithographie weisen zunehmend austauschbare oder wechselbare Elemente auf, wie austausch- oder wechselbare Linsen, Filter, Blenden und dergleichen. Die US 2006/0176460 Al beschreibt beispielsweise ein EUV (extreme ultra violette)- Lithographiesystem mit unterschiedlich nutzbaren optischen Elementen, wie Spiegeln und dergleichen, wobei die optischen Elemente nicht ausgetauscht werden, im Sinne eines Ein- und Ausfuhrens aus dem Objektiv, sondern lediglich in Art eines Revolvermagazins innerhalb des Objektivs gewechselt werden. Dies erfordert jedoch einen sehr großen Platzbedarf.
Die WO 2006/069755 Al beschreibt dagegen ein austauschbares optisches Element eines Objektivmoduls einer Lithographieanlage, das vollständig aus dem Objektiv entfernt werden kann, wobei zur Vermeidung einer Verunreinigung des Objektivraums eine Schleusenkammer vorgeschlagen wird.
Beim Austausch von Teilen, die sich im hochreinen, gasgespülten oder evakuierten Objektiv- Innenraum befinden, besteht nämlich ein Problem darin, dass durch den Austausch Verunreinigungen in das Objektiv eingebracht werden können. Neben einer Verunreinigung über den Gasraum während des Austausches können an den austauschbaren Komponenten anhaftende Kontaminationen in das Objektiv gebracht werden, welche nachfolgend zu einer Verschlechterung der Objektiveigenschaften fuhren können. Als Kontaminationen kommen in diesem Zusammenhang insbesondere Kohlenwasserstoffe, Wasserablagerungen und sonstige Partikel in Frage. Die Kohlenwasserstoffe, die meistens als Monolagen auf der Oberfläche der Austauschteile vorliegen, lösen sich größtenteils erst durch die Bestrahlung mit dem zur Abbildung benutzten Licht des Objektivs, beispielsweise UV-Laserlicht. Entsprechend führt dies, wenn keine weitere Reinigung stattfindet, dazu, dass Kohlenwasserstoffe im Objektiv vorhanden sind, die dann an entsprechend unerwünschten Stellen chemische Reaktionen ausführen können, und so zu Ablagerungen auf den optischen Elementen fuhren können. Dadurch werden die Abbildungseigenschaften des Objektivs verschlechtert.
Gleiches gilt in ähnlicher Weise für Monolagen von Wasser, die sich ebenfalls auf den Austauschteilen befinden, wenn diese an Umgebungsatmosphäre gelangen. In der üblicherweise extrem trockenen Umgebung innerhalb des Objektivs desorbieren bzw. verdampfen die Wasser-Monolagen und befinden sich dann ebenfalls im Objektiv, wobei durch UV-Licht Ozon entstehen kann, welches sehr reaktiv ist. Auch die Wassermoleküle können dann Reaktionen ausführen, beispielsweise mit ebenfalls im Objektivinnenraum befindlichen Kohlenwasserstoffen oder mit anderen Komponenten im Objektivinnenraum, so dass es auch durch die Monolagen aus Wasser zu Abscheidungen, insbesondere zur
Salzbildung auf den Oberflächen der optischen Elemente kommen kann. Zur Vermeidung von
Abbildungsbeeinträchtigungen schlägt die US 2006/0001854 Al entsprechend vor, optische
Elemente mit mehreren nutzbaren Bereichen im Objektiv vorzusehen, so dass nach Kontamination eines Bereichs ein anderer sauberer Bereich in den Strahlengang bewegt werden kann, während der verunreinigte Bereich gereinigt werden kann.
In der JP 11288870 A wird der Wechsel von verunreinigten Bereichen und anschließende Reinigung der verunreinigten Bereiche für eine Schutzvorrichtung zwischen dem Projektionsobjektiv und dem Wafer einer Lithographieanlage vorgeschlagen.
Ein weiteres Problem bei austauschbaren Komponenten eines optischen Systems einer Lithographieanlage besteht darin, dass sich an den Austauschteilen anhaftende Partikel von den Austauschteilen lösen und auf den Oberflächen der optischen Elemente niederschlagen können, was ebenfalls die Abbildungseigenschaften verschlechtert.
Diesen Problemen wird bisher dadurch begegnet, dass ausgetauschte Objektivteile bzw. der Objektivinnenraum durch eine ausreichend lange Spülung des Objektives mit Spülgas gereinigt werden. Dadurch werden die desorbierten bzw. verdampften Wasser-Monolagen oder die bei der Beleuchtung in die Gasphase überführten Kohlenwasserstoffe bzw. Restteile davon aus dem Objektiv ausgespült, so dass die entsprechenden negativen Ablagerungen vermieden werden.
Allerdings hat diese Vorgehensweise den Nachteil, dass zunächst einmal die Kontaminationen in den Objektivinnenraum eingebracht werden und die Gefahr besteht, dass durch die anschließende Reinigung die eingebrachten Kontaminationen nicht vollständig aus dem Objektivinnenraum entfernt werden, so dass beispielsweise eine Vorrichtung gemäß der US 2006/0001854 Al erforderlich ist. Außerdem führt diese Vorgehensweise dazu, dass das Objektiv für einen langen Zeitraum nicht eingesetzt werden kann, da während dieser Zeit die Reinigung nach dem Austausch der entsprechenden Objektivteile stattfindet.
Entsprechend wurde als Lösung vorgeschlagen eine Kontamination von austauschbaren Objektivteilen dadurch zu vermeiden, dass die in das Objektiv einzubauenden Teile nach der Herstellung und Reinigung nicht mehr der Umgebungsatmosphäre ausgesetzt werden. Dies führt jedoch dazu, dass die gesamte Transportkette von der Lagerung über den Transport bis ins Objektiv in entsprechend sauberer Atmosphäre durchgeführt werden muss, was einen erheblichen Aufwand darstellt. Darüber hinaus besteht die Gefahr, dass während der Lagerung kleinste Mengen an Kontaminationen in der abgeschlossenen Atmosphäre um das austauschbare Objektivteil wiederum zu Ablagerungen führen.
GEGENSTAND DER ERFINDUNG
AUFGABE DER ERFINDUNG
Es ist deshalb Aufgabe der vorliegenden Erfindung ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Austausch von Objektivteile bereitzustellen, welche eine Einbringung von Kontaminationen in den Objektivinnenraum weitgehend vermeiden, wobei der Austausch in effektiver und einfacher Weise erfolgen soll. Insbesondere soll unter Vermeidung der Probleme des Standes der Technik ein schneller Austausch von Objektivteilen mit kurzen Ausfallzeiten des Objektivs ermöglicht werden.
TECHNISCHE LÖSUNG Die oben genannte Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 1 sowie eine Reinigungsvorrichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 16, einem Objektiv mit den Merkmalen des Anspruchs 31 sowie einem System mit den Merkmalen des Anspruchs 35. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.
Die vorliegende Erfindung geht aus von der Erkenntnis, dass eine effektive Vermeidung der Einbringung von Kontaminationen in den Objektivinnenraum beim Austausch von Objektivteilen dadurch erreicht werden kann, dass das austauschbare Objektivteil unmittelbar vor dem Einbau in das Objektiv außerhalb des Objektivinnenraums gereinigt wird und sofort nach der Reinigung ohne Kontakt mit der normalen Umgebungsatmosphäre in das Objektiv eingebaut wird. Statt eine nachträgliche Reinigung von optischen Elementen vorzunehmen, die durch im Objektiv vorhandene Kontaminationen verunreinigt werden, wie z. B. in der US 2006/0001854 Al vorgeschlagen, setzt die vorliegende Erfindung bereits im Vorfeld bei der Vermeidung von Kontaminationen an. Der unmittelbare Einbau des austauschbaren Objektivteils in das Objektiv sofort nach der Reinigung ohne weiteren Kontakt mit der normalen Umgebungsatmosphäre weist den Vorteil auf, dass der Aufwand für die Handhabung des gereinigten Objektivteils unter Ausschluss der normalen Umgebungsatmosphäre gering gehalten werden kann und dass vermieden wird, dass sich nach der Reinigung erneut Ablagerungen durch Kontaminationen auf dem austauschbaren Objektivteil ergeben können. Entsprechend bedeutet der unmittelbare Einbau sofort nach der Reinigung, dass lediglich so viel Zeit bis zum Beginn des Einschleusvorgangs in das Objektiv zur Verfügung steht, wie für die Abläufe des Einschleusvorgangs notwendig sind, bzw., dass weniger Zeit verbleibt, als für eine merkliche Abscheidung von Kontaminationen erforderlich ist. Im Wesentlichen wird also der unmittelbare Einbau sofort nach der Reinigung des austauschbaren Objektivteils ohne jegliche zeitliche Verzögerung erfolgen. Allerdings können im Einzelfall auch kurze Zwischenlagerungszeiten von einigen Minuten bis zu wenigen Stunden möglich sein. Im Normalfall wird jedoch der Einbau des austauschbaren Objektivteils innerhalb von weniger als 30 Minuten, vorzugsweise weniger als 15 Minuten, insbesondere wenige Minuten bis einige Sekunden nach Beendigung der Reinigung begonnen bzw. abgeschlossen.
Die austauschbaren Objektivteile können sämtliche in einem Objektiv oder optischen System befindlichen Teile betreffen, insbesondere optische Linsen, Spiegel, Spiegelelemente, Filter, Blenden, Membranen und dergleichen. Unter austauschbar wird insbesondere verstanden, dass das entsprechende Objektivteil vollständig aus dem Objektivinnenraum entfernt werden kann, also ein Gehäuse, welches den Objektivinnenraum abschließt, vollständig verlässt. Entsprechend unterscheiden sich austauschbare Objektivteile von lediglich wechselbaren Objektivteilen dadurch, dass sie im ausgebauten Zustand vollständig von dem Objektiv getrennt sind oder in einfacher Weise abtrennbar sind.
Unter Objektiv wird hier jegliches optisches System verstanden, auch wenn kein Objekt auf eine Bildebene abgebildet wird, also beispielsweise auch Beleuchtungssysteme von
Mikrolithographieanlagen. Die entsprechenden Objektive bzw. optischen Systeme können in unterschiedlichsten Wellenlängen betrieben werden, insbesondere den für die
Mirkolithographie eingesetzten Wellenlängen im Bereich von 248 ran, 193 nm, 157 nm sowie im extrem ultravioletten Lichtbereich mit Wellenlängen von weniger als 30 nm, insbesondere im Bereich von 13 nm bzw. 13,5 nm. Allgemein lässt sich die Erfindung für optische
Systeme, welche unterschiedlichste Wellenlängen nutzen, verwirklichen.
Die Reinigung des austauschbaren Objektivteils findet in einem abgeschlossenen Reinigungsraum statt, um sicherzustellen, dass eine definierte Reinigung erfolgen kann. Vorzugsweise weist der Reinigungsraum eine zur Umgebungsatmosphäre unterschiedliche Reinigungsatmosphäre auf, so dass gerade die in der Umgebungsatmosphäre befindlichen Kontaminationen, wie Wasser, Kohlenwasserstoffe und Partikel effektiv von dem zu reinigenden Objektivteil entfernt werden können. Die Reinigungsatmosphäre kann durch Vakuum, trockene Luft, Stickstoff, trockenen Stickstoff, Argon, Sauerstoff, Helium, Wasserstoff, allgemein inerte Gase oder Edelgase sowie Kombinationen daraus gebildet sein.
Die Reinigungsatmosphäre kann auch unterschiedlich zu der Atmosphäre im Objektivinnenraum sein, wobei jedoch die Atmosphäre im Objektivinnenraum ebenfalls durch inerte Gase oder Edelgase, Stickstoff, trockenem Stickstoff sowie Kombinationen daraus und Vakuum gebildet sein kann.
Der von der Umgebungsatmosphäre abgeschlossene Reinigungsraum kann derart in örtlicher Nähe zum Objektivinnenraum vorgesehen werden oder dort angeordnet werden, dass eine geometrisch einfache Austauschbewegung für das Objektivteil oder eine zeitlich und/oder örtlich besonders kurze Austauschbewegung möglich ist. Dies hat den Vorteil, dass der Handhabungsaurwand für das gereinigte Objektivteil niedrig gehalten werden kann.
Unter geometrisch einfacher Bewegung kann eine lineare Bewegung oder eine Schwenk- oder Drehbewegung des Austauschteils verstanden werden oder allgemein eine Bewegung die mit einfachen Transportmitteln realisierbar ist.
Eine zeitlich kurze Bewegung korrespondiert zu der oben definierten unmittelbaren Anordnung im Objektiv sofort nach der Reinigung und entspricht den dort angegebenen Definitionen.
Nach einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung wird der Reinigungsraum gasdicht an den Objektivinnenraum lösbar angekoppelt, so dass in vorteilhafter Weise eine direkte Verbindung zwischen Reinigungsraum und Objektivinnenraum zumindest während des Ein- und Ausbaus des austauschbaren Objektivteils möglich ist.
Durch die lösbare Ankoppelung des Reinigungsraums wird insbesondere gewährleistet, dass der Aufwand für die Handhabung des gereinigten Austauschteils niedrig gehalten wird. Außerdem kann durch die lösbare Anordnung eine variable Verwendung der den Reinigungsraum enthaltenden Reinigungsvorrichtung ermöglicht werden. Diese kann nur im Fall eines erforderlichen Austausches an die entsprechende Kopplungsstelle des Objektivgehäuses angekoppelt werden, ohne dass eine ständige stationäre Anordnung erforderlich wäre, obgleich dies natürlich denkbar ist. Damit kann beispielsweise ein Service- Techniker ein erforderliches Austauschteil und die mobile Reinigungsvorrichtung zum Standort des Objektivs bringen, um dort die Reinigungsvorrichtung an dem Objektiv anzuordnen, das alte Austauschteil aus dem Objektiv zu entfernen und das neue Austauschteil nach Reinigung in der Reinigungsvorrichtung in das Objektiv einzubauen. Dadurch ist eine hohe Flexibilität und Variabilität sichergestellt.
Die Reinigungsvorrichtung kann ein Magazin für austauschbare Objektivteile aufweisen oder mit diesem zusammenwirken. Dies ermöglicht, unterschiedliche Filter, Blenden, Linsen, Spiegel, Prismen oder dergleichen in dem Objektiv zu verwenden, ohne dass es zu großen Stillstandszeiten kommen würde. Mittels der Kombination einer Reinigungsvorrichtung mit einem Magazin für austauschbare Objektivteile, wie Filter, Blenden, Linsen, Spiegel, Prismen und dergleichen kann zwischen zwei Prozess-Schritten der Objektivnutzung ein Austausch von Objektivteilen vorgenommen werden, so dass die Abbildungseigenschaften des Objektivs auf die aufeinander folgenden Prozess-Schritte der Objektivnutzung abgestimmt werden können, ohne dass es zu großen Stillstandszeiten des Objektivs kommt. In dem Magazin können die austauschbaren Objektivteilen in der gleichen Atmosphäre, wie sie im Reinigungsraum herrscht oder einer gesonderten Atmosphäre gelagert sein, die eine Kontamination während der Lagerung im Magazin weitgehend vermeidet. Gleichwohl kann durch die Einbringung über dem Reinigungsraum eine zusätzliche Reinigung stattfinden. Außerdem können die im Magazin gelagerten Objektivteile während der Zeiten, in denen kein Austausch stattfindet, wiederholt durch Verbringen in den Reinigungsraum einer Reinigung unterzogen werden.
Nach einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung können mehrere Reinigungsvorrichtungen bzw. Reinigungsräume vorgesehen sein bzw. an das Objektiv oder untereinander anschließbar sein. Dies ermöglicht, dass verschiedene Reinigungsverfahren und Stufen durchlaufen werden können.
So können für die Reinigung von austauschbaren Objektivteilen verschiedene Reinigungsprozesse eingesetzt werden, welche vorzugsweise die Reinigung durch
Bestrahlung mit elektromagnetischen Wellen, insbesondere UV-Bestrahlung, die
Plasmareinigung insbesondere Wasserstoff- oder Sauerstoffplasmareinigung, das
Verdampfen, Gasspülen, Flüssigkeitsspülen, Ultraschallreinigung, Tauchbäder, mechanische
Reinigung, insbesondere Abwischen und dergleichen sowie Kombinationen davon umfassen können.
Diese Verfahren dienen der Beseitigung von Partikeln, Kohlenwasserstoffen und Wasser- Monolagen. Das Reinigungsverfahren kann die Beseitigung einzelner oder mehrerer dieser Kontaminationen betreffen und zwar durch eine Kombinationen mehrerer oder aller Verfahrensschritte zur Beseitigung dieser Kontaminationen. Bei Kombination mehrerer Reinigungsschritte ist es vorteilhaft zunächst eine Beseitigung von Partikeln, anschließend eine Beseitigung von Kohlenwasserstoffen und danach eine Beseitigung von Wasser- Monolagen durchzuführen. Insbesondere die Beseitigung der Wasser-Monolagen nach der Entfernung der Kohlenwasserstoffe ist vorteilhaft, da bei der Beseitigung der Kohlenwasserstoffe, beispielsweise durch Bestrahlung mit ultraviolettem Licht (UV- Bestrahlung) die Anwesenheit einer gewissen Menge an Wassermolekülen bei der Entfernung der Kohlenwasserstoffe vorteilhaft ist. Die Anwesenheit von Wasser beschleunigt die Beseitigung von Kohlenwasserstoffen durch die Erzeugung von Radikalen aus den Wassermolekülen bei der Bestrahlung.
Für die Beseitigung von Partikeln bieten sich insbesondere die Verwendung von Ultraschallbädern, Tauchbädern mit Optik-Putzmischungen sowie das mechanische Abwischen der Oberfläche der auszutauschen Objektivteile an. Die verwendbaren Optik- Putzmischungen sind dem Fachmann auf dem Gebiet der Optik allgemein bekannt, wobei hier entsprechende Mischungen aus Alkoholen und dergleichen Verwendung finden, die absolut rückstandsfrei sind.
Für die Beseitigung von Kohlenwasserstoffen eignen sich die Bestrahlung des austauschbaren Objektivteils mit elektromagnetischer Strahlung, vorzugsweise ultraviolettem Licht, wobei gleichzeitig ein Spülfluss im Reinigungsraum der Reinigungsvorrichtung eingestellt werden kann, um die in die Gasphase überführten Kohlenwasserstoffe bzw. Reste davon aus dem Reinigungsraum auszuspülen. Hierzu bietet sich trockener Stickstoff mit geringen Sauerstoffanteilen, trockene Luft oder sonstige Gasgemische mit Sauerstoff an. Für die Entfernung von Kohlenwasserstoffen ist darüber hinaus auch die Plasmareinigung geeignet, wobei sowohl ein Niederdruckplasma unter Vakuumbedingungen (~ 0,1 bar) als auch ein Plasma unter Atmosphärendruck möglich ist. Insbesondere Sauerstoff und Wasserstoff eignen sich als Gase für das Niederdruckplasma, aber auch andere Gase wie Argon können verwendet werden. Eine besonders vorteilhafte Methode zur Erzeugung des Plasmas besteht in der Anregung durch Mikrowellen, wobei ein entsprechender Mikrowellenkopf einfach in einer entsprechenden Reinigungsvorrichtung vorgesehen werden kann. Bei dem genannten Vakuum handelt es sich um ein technisches Vakuum welches durch entsprechende Absaugeinrichtungen wie Pumpen usw. erzeugt werden kann.
Für die Beseitigung von Wasser-Monolagen stehen neben der Verwendung der Plasmareinigung und hier insbesondere der Plasmareinigung im Vakuum auch das Verdampfen durch Erwärmen des austauschbaren Objektivteils zur Verfügung. Die Erwärmung kann über eine Infrarotlampe oder einen Heizdraht erfolgen. Außerdem kann die Entfernung der Wasser-Monolagen auch durch ausreichend langes Spülen mit Spülgas, also beispielsweise mit trockenem Stickstoff oder trockener Luft sowie Helium erreicht werden. Diese Reinigung ist durch die vorliegende Erfindung deshalb in vorteilhafter Weise möglich, da das Objektiv während der Reinigung des Austauschteiles nicht stillgelegt werden muss und somit ausreichend lange Spülzeiten ermöglicht werden. Dies gilt insbesondere dann, wenn die Reinigungsvorrichtung so ausgestaltet ist, dass zumindest während des Austauschvorgangs sowohl das alte austauschbare Objektivteil als auch das neue austauschbare Objektivteil gemeinsam in der Reinigungsvorrichtung aufgenommen werden können, so dass sozusagen ein fliegender Wechsel der Objektivteile realisiert werden kann.
Die Reinigungsvorrichtung zeichnet sich bei der vorliegenden Erfindung dadurch aus, dass ein Reinigungsraum zur Aufnahme und Reinigung des austauschbaren Objektivteils und ein Anschlussteil zum gasdichten Anschluss an ein Objektivgehäuse vorhanden sind, so dass die Reinigungsvorrichtung lösbar an ein Objektiv, insbesondere Projektions- oder Beleuchtungsobjektiv für die Mikrolithographie angekoppelt werden kann.
Ferner ist es vorteilhaft, wenn die Reinigungsvorrichtung weitere Anschlussmöglichkeiten für beispielsweise einen Transportkanal und/oder eine oder mehrere weitere Reinigungsvorrichtungen aufweist, so dass die vorher beschriebene Verwendung von mehreren Reinigungsräumen bzw. Reinigungsvorrichtungen und die Anwendung verschiedener Reinigungsschritte insbesondere hintereinander ermöglicht wird. Das Vorsehen eines Transportkanals, insbesondere eines separat an dem Reinigungsraum anordenbaren Transportkanals, ist deshalb vorteilhaft, weil dadurch die Variabilität des Einsatzes der Reinigungsvorrichtung erhöht wird.
Dies wird noch dadurch verstärkt, wenn sowohl das Anschlussteil der Reinigungsvorrichtung für den gasdichten Anschluss an das Objektivgehäuse als auch das Anschlusselement für den gasdichten Anschluss eines Transportkanals sowie einer oder mehrerer weiterer Reinigungsvorrichtungen identisch und/oder kompatibel zueinander ausgebildet sind.
Um zu vermeiden, dass durch die Reinigung oder Handhabung des austauschbaren Objektivteils in der Reinigungsvorrichtung Erschütterungen in das Objektiv übertragen werden, ist es vorteilhaft, wenn das Anschlusselement zum gasdichten Anschluss eines Transportkanals und/oder von Reinigungsvorrichtungen sowie das Anschlussteil des Reinigungsraums bzw. der Reinigungsvorrichtung an das Objektivgehäuse eine Vorrichtung zur mechanischen Entkoppelung bei gleichzeitiger Sicherstellung der Dichtwirkung aufweisen, wie beispielsweise eine Gaslagerung mit Spaltdichtung mit Überdruck oder entsprechende elastische Elemente, wie z. B. ein Balg.
Der Reinigungsraum der Reinigungsvorrichtung ist vorzugsweise mit Ausnahme einer Gaszuführung und Gasabführung für den Spülfluss gasdicht abschließbar, um das Eindringen von Kontaminationen zu vermeiden. Hierzu sind insbesondere an den Zuführöffhungen für das zu reinigende Objektivteil und/oder an den Anschlussteilen oder -elementen Dichtelemente vorgesehen. Dichtelemente können durch übliche bekannte Dichtelemente in Form von elastischen Elementen oder Spaltdichtungen, sog. leaky seals gebildet sein, bei welchen durch Überdruck sichergestellt wird, dass durch den vorhandenen Spalt keine Kontaminationen von außen nach innen eindringen können.
Die Reinigungsvorrichtung kann eine Handhabungseinrichtung aufweisen, mittels der das austauschbare Objektivteil entweder nur in der Reinigungsvorrichtung oder sowohl in der Reinigungsvorrichtung als auch zur Bewegung in das Objektiv und aus dem Objektiv heraus bewegbar ist. Alternativ kann die Handhabungseinrichtung für das austauschbare Objektivteil auch am Objektiv integriert sein.
Die kinematischen Teile der Handhabungseinrichtung können teilweise oder vollständig innerhalb des Gehäuses des Reinigungsraums bzw. des Transportkanals angeordnet sein. Unter kinematischen Teilen werden hierbei alle beweglichen Teile verstanden. Dies bedeutet, dass zum Beispiel nur noch an sich nicht bewegliche Steuerungs- oder Bedienungselemente außerhalb des Reinigungsraums bzw. der Reinigungsvorrichtung bzw. an der Außenseite der Reinigungsvorrichtung vorgesehen sind. Dies ist beispielsweise dann der Fall, wenn sämtliche Teile wie Motor, Getriebe und dergleichen innerhalb der Reinigungsvorrichtung vorgesehen sind und lediglich die elektrische Energieversorgung und die Steuerung außerhalb.
Es ist auch denkbar, dass der Antrieb der Handhabungseinrichtung außerhalb der Reinigungsvorrichtung vorgesehen ist, wobei dann eine gas- bzw. vakuumdichte Durchführung für ein bewegliches Teil, wie beispielsweise ein Gestänge vorgesehen sein kann. Um dies zu vermeiden, kann auch ein berührungsloser Antrieb, beispielsweise über magnetische Kräfte, vorgesehen sein. Insbesondere kann die Handhabungseinrichtung einen Linearmotor umfassen. Ähnlich wie die Anschlussteile bzw. Anschlusselemente kann auch die Handhabungseinrichtung mechanisch entkoppelt zum Gehäuse des Reinigungsraumes und/oder eines Transportkanals angeordnet sein, wobei ein Luftlager Verwendung finden kann. Grundsätzlich können verschiedenste Arten von Handhabungseinrichtungen Verwendung finden.
Die Reinigungsvorrichtung umfasst sämtliche Mittel, Vorrichtungen und Einrichtungen, die zur Durchfuhrung des oben beschriebenen Verfahrens erforderlich sind, beispielsweise Mittel zum Einleiten und/oder Absaugen von Gas oder entsprechende Elemente zum Anschluss derartiger Mittel, wie Pumpen, Vakuumpumpen, Gasversorgungseinrichtungen und dergleichen sowie entsprechenden Reinigungsvorrichtungen wie UV-Lampen, Plasmaerzeuger, wie Mikrowellenköpfe, Verdampfer, IR-Lampen, Heizdrähte usw.
KURZBESCHREIBUNG DER FIGUREN
Weitere Vorteile, Kennzeichen und Merkmale der vorliegenden Erfindung werden bei der nachfolgenden detaillierten Beschreibung von Ausfuhrungsbeispielen anhand der beigefugten Zeichnungen deutlich. Die Zeichnungen zeigen hierbei in rein schematischer Weise in
Figur 1 eine Schnittdarstellung eines Teils eines Objektivs mit angedockter
Reinigungsvorrichtung sowie eine Handhabungsvorrichtung;
Figur 2 eine Schnittdarstellung eines Teils eines Objektivs mit einer anderen angedockten Reinigungseinrichtung;
Figur 3 eine Schnittdarstellung eines Teils eines Objektivs mit einer dritten
Ausfuhrungsform einer angedockten Reinigungseinrichtung; Figur 4 eine Schnittdarstellung eines Teils eines Objektivs mit angedocktem
Transportkanal sowie einer vierten Ausfuhrungsform einer Reinigungseinrichtung;
Figur 5 eine Schnittdarstellung eines EUV-Projektionsobjektivs mit angedockter
Reinigungseinrichtung;
Figur 6 eine Teilansicht einer weiteren EUV-Optik ähnlich der Figur 5; und in
Figur 7 eine Teilansicht einer dritten EUV-Optik ähnlich der Figur 5. BEVORZUGTE AUSFÜHRUNGSFORMEN
Figur 1 zeigt in einer rein schematischen Darstellung eine Schnittansicht eines Teils eines Objektivs 10, welches ein Objektivgehäuse 18 aufweist, das den Objektivinnenraum 14 umschließt. In dem Objektivinnenraum 14 sind optische Elemente in Form von Linsen 11, 12, 13 angeordnet.
Mit Bezugszeichen 15 und entsprechender strichlinierter Darstellung ist die Position eines austauschbaren Objektivteils 16, welches ebenfalls eine Linse oder ein Filter oder ein Blendenelement sein kann, bezeichnet.
Das austauschbare Objektivteil 16 ist gemäß der Darstellung der Figur 1 in dem Reinigungsraum der Reinigungsvorrichtung 20 aufgenommen, welche im Bereich der Position 15 des austauschbaren Objektivteils 16 an dem Objektivgehäuse 18 angekoppelt bzw. angedockt ist.
Hierzu weist die Reinigungsvorrichtung 20 ein Anschlussteil 21 auf, welches mit einer Objektivgehäuseöffnung 17 in der Weise zusammenwirkt, dass eine gasdichte Verbindung zwischen Objektivinnenraum 14 und dem Reinigungsraum der Reinigungsvorrichtung 20 hergestellt wird.
Die Reinigungsvorrichtung 20 ist lösbar an dem Objektivgehäuse 18 angeordnet. Um die Objektivgehäuseöffnung 17 bei nicht angeordneter Reinigungsvorrichtung gasdicht abschließen zu können, ist ein Objektivgehäuseverschluss 19 vorgesehen, der als Klappe oder
Schieber ausgeführt sein kann. Die Abdichtung des Objektivgehäuseverschlusses kann durch allgemein bekannte Dichtelemente, wie elastische Elemente oder durch eine sog. leaky seal, also einer Spaltdichtung, bei der durch Überdruck ein Eindringen von Fremdstoffen vermieden wird, abgedichtet werden.
Der Objektivgehäuseverschluss 19 ist so ausgebildet, dass er auch bei angedockter Reinigungsvorrichtung 20 verschlossen werden kann, um zu vermeiden, dass Fremdstoffe während der Reinigung in der Reinigungsvorrichtung 20 in den Objektivinnenraum 14 gelangen. Lediglich zum Ein- und Ausschleusen des austauschbaren Objektivteils 16 wird der Verschluss 19 entsprechend geöffnet. Bei ausreichend großem Gasstrom vom Objektiv in die Reinigungsvorrichtung 20 kann der Verschluss 19 auch während der Reinigung geöffnet bleiben, da damit vermieden werden kann, dass Fremdstoffe in den Objektivinnenraum 14 gelangen.
Das Anschlussteil 21 ist gegenüber dem Objektivgehäuse 18 mechanisch entkoppelt. Dies bedeutet, dass Erschütterungen, die bei oder an der Reinigungsvorrichtung 20 entstehen, nicht oder nur in geringem Umfang auf das Objektivgehäuse 18 und somit auf das Objektiv 10 übertragen werden können. Die mechanische Entkopplung kann durch eine entsprechende Ausgestaltung der Lagerung der Reinigungsvorrichtung 20 an dem Objektivgehäuse 18 erfolgen. Als Beispiel hierfür können die Verwendung von entsprechenden elastischen Elementen wie zum Beispiel Balganordnungen oder die Verwendung von Luftlagern genannt werden.
Die Reinigungsvorrichtung 20 weist in dem Ausfuhrungsbeispiel der Figur 1 eine UV-Lampe 23, zum Beispiel in Form einer Quecksilberdampflampe oder Xerodex (Xenon)-Lampe mit breitbandigem Wellenlängenspektrum oder in Form eines insbesondere gepulsten UV-Lasers mit entsprechend schmalem (monochromatischem) Wellenlängenspektrum auf.
Die Reinigungsvorrichtung 20 ist so aufgebaut, dass das zu reinigende austauschbare Objektivteil 16 im Bestrahlungsbereich der UV-Lampe 23 angeordnet werden kann, so dass durch eine Bestrahlung mit UV-Licht auf dem Objektivteil 16 befindliche Kohlenwasserstoffe beseitigt werden können. Um die in die Gasphase überführten Kohlenwasserstoffe bzw. Teil der Kohlewasserstoffe aus dem Reinigungsraum abzuführen, weist das Gehäuse der Reinigungsvorrichtung 20 eine Gaszuführöffnung 24 und eine Gasabführöffnung 25 auf. An die Gaszuführöffnung 24 wird eine Gasversorgung angeschlossen, mit welcher ein entsprechender Versorgungsstrom an Spülgas in die Reinigungsvorrichtung 20 eingebracht werden kann. Als Spülgase kommen trockener Stickstoff, trockene Luft oder Helium in Betracht. Trockener Stickstoff ist insbesondere bei Projektions- oder Beleuchtungsobjektiven der Mikrolithographie bevorzugt, da derartige Objektive üblicherweise bereits über eine Versorgungseinrichtung für trockenen Stickstoff verfügen, welche für die Reinigungsvorrichtung 20 ebenfalls mit verwendet werden kann. Der Gasauslass 25 ist mit entsprechenden Pumpeinrichtungen (nicht gezeigt) verbunden, welche eine besonders gute Abfuhr des in der Reinigungsvorrichtung 20 enthaltenen gasförmigen Mediums ermöglichen. Durch den Spülfluss werden die durch die UV- Bestrahlung in die Gasphase überführten Kohlenwasserstoffe bzw. Reste davon aus dem Reinigungsraum der Reinigungsvorrichtung 20 entfernt.
Die Reinigungsvorrichtung 20 weist ferner eine Schließeinrichtung 22 auf, die ähnlich dem Objektivgehäuseverschluss 19 durch eine Klappe oder einen Schieber verwirklicht werden kann und entsprechende Dichtungen aufweist.
Durch die Öffnungseinrichtung 22 kann ein austauschbares Objektivteil 16, welches in die Position 15 des Objektivinnenraums 14 eingebracht werden soll, von außerhalb in die Remigungsvorrichtung 20 eingebracht werden.
Dazu steht eine Handhabungsvorrichtung 30 zur Verfügung, die ein Greifteil 31 aufweist, mit dem das austauschbare Objektivteil 16 ergriffen bzw. aufgenommen werden kann. Zusätzlich ist ein Antrieb 34, beispielsweise in Form eines Elektromotors oder auch in Form eines manuellen Antriebs vorgesehen, welcher über ein Getriebe 33 das Greifteil 31 in eine lineare Bewegung entsprechend des dargestellten Doppelpfeils versetzen kann. Damit kann das austauschbare Objektivteil 16 in die Reinigungsvorrichtung 20 eingeführt oder aus dieser entnommen werden.
Bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel der Figur 1 kann die Handhabungsvorrichtung 30 für die Bewegung bzw. den Transport des austauschbaren Objektivteils 16 innerhalb der Reinigungsvorrichtung 20 bzw. für den Transport des austauschbaren Objektivteils 16 von der Reinigungsvorrichtung 20 in den Objektivinnenraum 14 bzw. umgekehrt von der Position 15 des austauschbaren Objektivteils 16 im Objektivinnenraum 14 in die Reinigungsvorrichtung 20 verwendet werden. Dazu ist ein Verschlusselement 32 vorgesehen, welches bei geöffneter Öffnungseinrichtung 22 der Reinigungsvorrichtung 20 an der entsprechenden Öffnung vorgesehen ist um diese gasdicht zu verschließen. Die Greifeinrichtung 31 ist beispielsweise mit einer Stange 35, die durch eine gasdichte Durchführung durch das Verschlusselement 32 geführt ist, mit dem Getriebe 33 verbunden, so dass bei geschlossener Reinigungsvorrichtung 20 eine Handhabung des austauschbaren Objektivteils 16 möglich ist. Der Austausch des austauschbaren Objektivteils 16 erfolgt in folgender Weise:
Sofern das austauschbare Objektivteil 16 an der Position 15 im Objektivraum 14 ausgetauscht werden soll, wird an dem Objektivgehäuse 18 im Bereich der Objektivgehäuseöffnung 17 die Reinigungsvorrichtung 20 mit dem Anschlussteil 21 angedockt. In der Reinigungsvorrichtung 20 wird dann der Spülgasstrom über den Gaseinlass 24 und den Gasauslass 25 sowie den Reinigungsraum eingestellt, um die Umgebungsluft, die in der Reinigungsvorrichtung 20 enthalten ist, auszuspülen. Danach wird der Objektivgehäuseverschluss 19 geöffnet und mittels der Handhabungsvorrichtung 30, die an der Reinigungsvorrichtung 20 mit dem Verschlusselement 32 gasdicht angeschlossen ist, das austauschbare Objektivteil 16 mittels des Greifteils 31 ergriffen und in Richtung der Reinigungsvorrichtung bewegt. Dazu wird der Antrieb 34 betätigt, so dass über das Getriebe 33 das Greifteil 31 in Richtung der Reinigungsvorrichtung 20 zurückgezogen wird.
Sobald sich das austauschbare Objektivteil 16 in der Reinigungsvorrichtung 20 befindet, kann der Objektivgehäuseverschluss 19 wieder geschlossen werden und das austauschbare Objektivteil 16 über die Öffnungseinrichtung 22 aus der Reinigungsvorrichtung 20 entnommen werden.
Nunmehr kann ein anderes oder das entsprechend aufbereitete austauschbare Objektivteil 16 in umgekehrter Richtung wieder in das Objektiv 10 eingeführt werden. Dazu wird das an dem Greifteil 31 befindliche Objektivteil 16 so in die Reinigungsvorrichtung 20 eingeführt, dass es in der Position, wie in Figur 1 dargestellt ist, zum Liegen kommt. Das Verschlusselement 32 der Handhabungseinrichtung 30 schließt dabei die Öffnung der Öffhungseinrichtung 22 der Reinigungsvorrichtung 20 gasdicht ab.
Danach kann die Reinigung beginnen, wobei die UV-Lampe 23 angeschaltet wird, um Kohlenwasserstoffe, die sich auf der Oberfläche des Objektivteils 16 befinden, zu verdampfen bzw. zu zersetzen. Die dadurch in die Gasphase überführten Kohlenwasserstoffe bzw. Kohlenwasserstoffteile werden durch das beim Gaseinlass 24 eingeleitete Spülgas über den Gasauslass 25 aus der Reinigungsvorrichtung 20 ausgetragen. Als Spülgas kommt Stickstoff, trockene Luft oder Helium oder sonstige Edelgase oder Inertgase in Betracht. Da die Zersetzung der Kohlenwasserstoffe durch das Vorhandensein einer bestimmten Menge an Wassermolekülen, also einer Konzentration von Wasser im ppm-Bereich unterstützt wird, kann auch nicht besonders getrocknetes Spülgas verwendet werden und/oder die Reinigung sofort nach Einbringen des austauschbaren Objektivteils 16 gestartet werden. Im weiteren Verlauf wird durch das Spülgas auch Wasser entfernt.
Nach erfolgter Reinigung wird entweder unter Beibehaltung des Spülflusses oder nach Schließen des Gaseinlasses 24 und des Gasauslasses 25 der Objektivgehäuseverschluss 19 geöffnet, um das gereinigte Objektivteil 16 an seine Position 15 im Objektivinnenraum 14 mittels der Handhabungsvorrichtung 30 zu überführen. Sobald das Objektivteil 16 an seinem Platz im Objektiv 10 ist, kann der Objektivgehäuseverschluss 19 wieder verschlossen und die Reinigungsvorrichtung 20 vom Objektivgehäuse entfernt werden.
Durch das beschriebene Verfahren unter Verwendung der Reinigungsvorrichtung 20 ist es zum Einen beim Entfernen von austauschbaren Objektivteilen 16 nicht mehr notwendig zusätzliche Schleusenvorrichtungen vorzusehen, da die Schleusenfunktion durch die
Reinigungsvorrichtung 20 übernommen werden kann. Außerdem wird durch die
Reinigungsvorrichtung 20 und die unmittelbar vor dem Einschleusen des Objektivteils 16 vorgenommene Reinigung desselben eine aufwendige Reinigung innerhalb des Objektivs vermieden.
Erhöht wird dieser Vorteil insbesondere dann, wenn die Reinigungsvorrichtung 20 so gestaltet ist, dass zwei Objektivteile 16 und 16' in ihr aufgenommen werden können. In diesem Fall kann dann das neue Objektivteil 16 in der Reinigungsvorrichtung 20 bereits für eine bestimmte Zeitdauer gereinigt werden, während das alte Objektivteil 16' sich noch im Objektiv 10 befindet, so dass dieses während der Reinigung des neuen Objektivteils 16 weiter betrieben werden kann. Sobald die Reinigung des neuen Objektivteils 16 abgeschlossen ist, wird zunächst das alte Objektivteil 16' aus dem Objektiv 10 entfernt, in der Reinigungsvorrichtung 20 zwischengelagert, wie in der Figur 1 dargestellt, und das neue Objektivteil 16 in das Objektiv 10 eingeführt. Anschließend kann dann das alte Objektivteil 16' aus der Reinigungsvorrichtung 20 entnommen bzw. die gesamte Reinigungsvorrichtung vom Objektivgehäuse 18 entfernt werden. Auf diese Weise lassen sich besonders kurze Austauschzeiten verwirklichen. Dies gilt umso mehr, wenn das Entfernen des einen Objektivteils aus dem Objektiv und das Einfuhren des anderen Objektivteils 16 in das Objektiv 10 in einem gemeinsamen Prozessschritt erfolgen, also beispielsweise mit der gleichen Handhabungsvorrichtung die Bewegung des einen Objektivteils 16' aus dem Objektiv 10 und die Einführung des anderen Objektivteils 16 in das Objektiv gleichzeitig ausgeführt wird, wie z. B. auf einem Drehteller oder dergleichen.
Vorteilhaft kann es hierbei auch sein, ein Magazin an der Reinigungsvorrichtung vorzusehen, in welchem austauschbare Objektivteile 16, 16' gelagert werden können. Eine derartige Vorrichtung ist zwar in den beigefügten Zeichnungen nicht explizit dargestellt, kann aber in einfacher Weise durch einen gasdicht angefügten Raum verwirklicht werden, in dem ebenfalls die gleiche Atmosphäre vorliegt, wie im Reinigungsraum oder auch eine gesonderte Atmosphäre, die für die saubere Aufbewahrung der Objektivteile besonders geeignet ist.
Die Figur 2 zeigt eine weitere Ausführungsform einer erfϊndungsgemäßen Reinigungsvorrichtung 126 im Zusammenwirken mit einem erfmdungsgemäßen Objektiv 110 wobei auch hier eine rein schematische Querschnittsdarstellung gezeigt ist.
Die Ausfuhrungsform der Figur 2 entspricht in weiten Teilen derjenigen der Figur 1, so dass ähnliche oder identische Bauteile mit den gleichen Bezugszeichen jeweils mit 100 addiert versehen sind. Eine nochmalige Beschreibung der entsprechenden Komponenten erübrigt sich somit. Die Beschreibung der Figur 2 beschränkt sich damit lediglich auf unterschiedliche Ausgestaltungen.
Die Ausführungsform der Figur 2 unterscheidet sich von derjenigen der Figur 1 im Wesentlichen dadurch, dass statt einer UV-Lampe 23 ein Mikrowellenkopf 123 zur Erzeugung eines Plasmas verwendet wird. Durch den Mikrowellenkopf 123 kann in dem Reinigungsraum ein Plasma angeregt werden, mit welchem die Oberfläche des austauschbaren Objektivteils 116 gereinigt wird.
Zur Plasmaanregung wird in dem Reinigungsraum der Reinigungsvorrichtung 120 ein Vakuum erzeugt, welches durch entsprechende Saug- bzw. Pumpeinrichtungen (nicht gezeigt) erzeugt wird, welche an dem Auslass 125 angeschlossen sind. Da bei der Reinigungsvorrichtung 120 kein zusätzliches Gas eingeführt zu werden braucht, kann hier auf den Gaseinlass 24 wie in der Figur 1 verzichtet werden. Allerdings kann zur Erzeugung des Plasmas auch eine Gasatmosphäre, wie beispielsweise Wasserstoff, Sauerstoff oder Argonatmosphäre eingestellt werden, wozu dann lediglich ein entsprechender Gaseinlass (nicht gezeigt) mit entsprechender Gasversorgung bereit gestellt werden müsste.
Die Reinigungsvorrichtung 120 dient insbesondere zur Entfernung von Wasser-Monolagen. Die Entfernung des Wassers wird bereits durch die Erzeugung eines Vakuums begünstigt, da dann ein Teil der Wasser-Monolagen auf dem austauschbaren Objektivteil 116 durch Verdampfen entfernt wird.
Sobald sich ein stabiles Vakuum eingestellt hat, bewirkt das durch den Mikrowellenkopf 123 angeregte Plasma eine Entfernung der Wasser-Monolagen von der Oberfläche des Objektivteils 116, welche dann durch die Vakuumabsaugung entfernt werden.
Die Reinigungsvorrichtung 120 kann auch mit der Reinigungsvorrichtung 20 kombiniert werden, wobei beispielsweise die Reinigungsvorrichtung 20 an der Öffnungseinrichtung 122 angeschlossen werden könnte, so dass ein austauschbares Objektivteil 116 beim Einführen in das Objektiv 110 zunächst in der Reinigungsvorrichtung 20 bzgl. der Kohlenwasserstoffe gereinigt wird und dann in einem weiteren Schritt in der Reinigungsvorrichtung 120 von den Wasser-Monolagen befreit wird.
Die Ausführungsform der Figur 2 unterscheidet sich weiterhin von der Ausführungsform der Figur 1 dahingehend, dass der Objektivgehäuseverschluss 119 des Objektivs 110 so angeordnet ist, dass er bei angedockter Reinigungsvorrichtung 120 außerhalb dieser angeordnet ist und nicht mehr verschlossen werden kann. Stattdessen weist das Anschlussteil 121 der Reinigungsvorrichtung 120 einen zusätzlichen Anschlussteilverschluss 150 auf, mit dem der Reinigungsraum der Reinigungsvorrichtung 120 von dem Objektivinnenraum 114 während des Reinigungsvorgangs abgetrennt werden kann.
Die Figur 3 zeigt eine weitere Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Objektivs und einer damit zusammenwirkenden Reinigungsvorrichtung 220. Auch hier sind wie bei der Ausführungsform 2 ähnliche oder identische Komponenten mit identischen Bezugszeichen versehen, wobei diese wiederum gegenüber den Bezugszeichen der Figur 1 um 200 und bzgl. der Bezugszeichen der Figur 2 um 100 erhöht worden sind. Auch hier wird auf eine zusätzliche Beschreibung der bereits bekannten Komponenten verzichtet.
Die Figur 3 zeigt zusätzlich zu den Figuren 1 und 2 Dichtungselemente 227 im Bereich des Anschlusses der Reinigungsvorrichtung 220 an das Objektivgehäuse 218. Hierbei kann es sich im einfachsten Fall um O-Ringe oder sonstige verspannte elastische Elemente wie
Metalldichtungen handeln, die eine gasdichte Abdichtung gewährleisten. Alternativ kann eine
Spaltdichtung gewählt werden, wenn durch entsprechenden Überdruck im Objektiv 210 bzw. der Reinigungsvorrichtung 220 sichergestellt wird, dass keine Fremdstoffe in das Objektiv 210 bzw. die Reinigungsvorrichtung 220 gelangen können.
Weiterhin zeigt die Figur 3, dass die Handhabungseinrichtung 230 auch vollständig in die Reinigungsvorrichtung 220 aufgenommen sein kann, so dass insbesondere auf aufwendige gasdichte Durchführungen für bewegliche Teile verzichtet werden kann. Vielmehr ist es bei einer derartigen Ausführungsform lediglich erforderlich elektrische Anschlusskabel gasdicht durch das Gehäuse der Reinigungsvorrichtung 220 durchzuführen, um beispielsweise eine elektrische Energieversorgung des Antriebs 234 der Handhabungsvorrichtung 230 sicherzustellen.
Bei dieser Ausführungsform kann auch auf eine zusätzliche Öffnungseinrichtung 22 bzw. 122, wie bei den Ausführungsformen der Figuren 1 und 2 verzichtet werden, da die Aufnahme und Abgabe des austauschbaren Objektivteils 216 im vom Objektiv abgenommenen Zustand durch die Öffnung des Anschlussteils 221 erfolgen kann.
Um zu vermeiden, dass durch den Antrieb 234 und ein evtl. vorgesehenes Getriebe der Handhabungsvorrichtung 230 Partikel in der Reinigungsvorrichtung 220 erzeugt werden bzw. um zu vermeiden, dass gasdichte Durchführungen für bewegbare Teile, wie die Stange 35 der Handhabungsvorrichtung 30 vorgesehen werden müssen, kann auch eine berührungslose von außen angetriebene Handhabungsvorrichtung (nicht gezeigt) vorgesehen werden, die beispielsweise über magnetische Kräfte funktioniert. Ein Beispiel hierfür wäre ein Linearmotor. Die Figur 4 zeigt eine vierte Ausfuhrungsform einer Reinigungsvorrichtung 320 in Kooperation mit einem Objektiv 310, ebenfalls in einer schematischen Schnittdarstellung wie die vorangegangenen Darstellungen der Figuren 1 bis 3.
Auch hier gilt wiederum, dass identische oder ähnliche Komponenten mit identischen Bezugszeichen, allerdings gegenüber der Figur 1 um 300, gegenüber der Figur 2 um 200 und gegenüber der Figur 3 um 100 erhöht dargestellt sind. Entsprechend wird auch hier wiederum auf die Beschreibung bereits bekannter Komponenten verzichtet, sondern vielmehr nur zusätzliche Komponenten und Bauteile beschrieben.
Die Figur 4 zeigt einen Transportkanal 340 als Bestandteil der Reinigungsvorrichtung 320, welcher jedoch von dem eigentlichen Reinigungsraum 328 trennbar ist, in welchem in strichlinierter Darstellung die Position des austauschbaren Objektivteils 316 während der Reinigung dargestellt ist.
Bei dem gezeigten Ausführungsbeispiel der Figur 4 nimmt der Transportkanal 340 die Handhabungseinrichtung 330 auf. Allerdings kann der Transportkanal 340 auch ohne Handhabungsvorrichtung gestaltet sein.
Der Reinigungskanal 340 weist ein Anschlusselement 341 auf, welches entsprechend den Anschlussteilen 21, 121 und 221 an dem Objektivgehäuse 318 anschließbar ist.
Darüber hinaus weist der Transportkanal 340 ein entsprechendes Anschlusselement 343 zur Verbindung mit dem Reinigungsraum 328 auf.
An den Anschlusselementen 341 sowie 343 sind entsprechende Dichtelemente zur gasdichten Verbindung vorgesehen.
Ferner weist der Transportkanal 340 auch einen Gaseinlass 342 und einen Gasauslass 344 auf, um auch eine Spülung des Transportkanals 340 vornehmen zu können.
Die Ausführungsform der Figur 4 unterscheidet sich weiterhin von allen vorangegangenen Ausführungsbeispielen dadurch, dass der Gaseinlass 324 und der Gasauslass 325 an derselben Seite des Gehäuses des Reinigungsraums 328 bzw. der Reinigungsvorrichtung 320 angeordnet sind, entgegen den vorangegangenen Beispielen, bei denen Gaseinlass 24, 224 und Gasauslass 25, 225 auf gegenüberliegenden Seiten des Gehäuses, und zwar diagonal gegenüberliegend, vorgesehen sind, um einen möglichst vollständigen Gasaustausch durch den Spülfluss zu gewährleisten.
Ferner sind in Figur 4 am Gehäuse des Reinigungsraums 328 Räder 329 dargestellt, die schematisch verdeutlichen sollen, dass die Reinigungsvorrichtung 320 Transportmittel aufweisen kann, um die Bewegung der Transportvorrichtung 320 insbesondere beim An- und Abdocken an das Objektivgehäuse zu erleichtern und in definierter Weise durchfuhren zu können. Neben Rädern sind hier Gleitelemente in Verbindung mit Schienen und dergleichen denkbar.
Die Figur 5 zeigt die Anwendung der vorliegenden Erfindung bei einem EUV- Projektionsobjektiv 410. Damit ist exemplarisch dargestellt, dass die vorliegende Erfindung vielfältig bei unterschiedlichsten optischen Systemen, wie Beleuchtungssystemen oder Projektionsoptiken, die bei unterschiedlichen Wellenlängenbereichen arbeiten, in der Mikrolithographie eingesetzt werden kann.
Das EUV-Projektionsobjektiv 410 weist einen Vakuumbehälter 418 auf, welcher lediglich rein schematisch dargestellt ist. In dem Vakuumbehälter 418 sind das Retikel 401 mit den abzubildenden Strukturen sowie die Spiegel Ml bis M6 angeordnet, welche das von einem
Beleuchtungssystem IL (nicht gezeigt) kommende und am Retikel 401 reflektierte Licht auf einen Wafer (Substrat) 403, der sich auf einer Waferstage (Substrathalterung) 402 befindet, abbildet. Dadurch wird auf einer photosensitiven Schicht auf dem Wafer 403 die Struktur des Retikels 401 in verkleinerter Form abgebildet.
Der Vakuumbehälter 418 weist eine Vakuumbehälteröffnung 417 auf, welche einen Vakuumbehälterverschluss 419 umfasst, so dass die Vakuumbehälteröffhung 417 vakuumdicht verschlossen werden kann, um das im Vakuumbehälter 418 vorliegende Vakuum aufrecht zu erhalten.
Um einen Austausch eines Objektivteils, nämlich des Spiegels M4 vornehmen zu können, kann eine Reinigungsvorrichtung 420 an dem Vakuumbehälter 418 vakuumdicht angedockt werden, so dass nach Öffnen des Vakuumbehälterverschlusses 419 innerhalb der Reinigungsvorrichtung 420 und im Objektivinnenraum des Vakuumbehälters 418 ein Vakuum aufrecht erhalten werden kann.
Die Reinigungsvorrichtung 420 ist lediglich rein schematisch dargestellt und kann entsprechend den Ausführungsformen der Beispiele in den Figuren 1 bis 4 ausgebildet sein. Somit kann der Spiegel M4 über die Reinigungsvorrichtung 420 entsprechend den vorangegangenen Beispielen ausgetauscht werden. Statt des Spiegels M4 können auch andere Objektivteüe für den Austausch vorgesehen sein, wie z. B. insbesondere Blenden für die Spiegel Ml bis M6. Insbesondere kann die Reinigungsvorrichtung mit einem Blendenwechselsystem eingesetzt werden, wie es in der US 2007/0053076 Al beschrieben ist. Entsprechend wird die US 2007/0053076 Al hiermit durch Verweis vollständig hierin mit aufgenommen. Die Reinigungsvorrichtung kann bei dem Blendenwechselsystem der US 2007/0053076 Al in Kombination mit dem Blendenmagazin vorgesehen sein, und zwar zur Reinigung vor dem Einbringen in das Magazin und/oder beim Überfuhren aus dem Magazin in die optische Anordnung. Ferner können Teile des Blendenwechselsystems der US 2007/0053076 Al in der Reinigungsvorrichtung integriert sein, wie z.B. das Magazin, oder umgekehrt die Reinigungsvorrichtung im Blendenwechselsystem, wie z.B. Reinigungseinrichtungen im Magazin oder einem Blendentransportpfad.
Die EUV-Projektionsoptik 410 ist in der Figur 5 lediglich mit einem Vakuumbehälter 418 dargestellt. Allerdings kann die EUV-Optik weitere Gehäuseteile (nicht gezeigt) umfassen, die einzelne Elemente, wie Spiegel, oder den Lichtpfad umschließen, um in den umschlossenen Bereichen eine unterschiedliche Atmosphäre, wie beispielsweise einen unterschiedlichen Vakuumzustand einzustellen. Eine derartige Gestaltung einer optischen Anordnung ist in der PCT/EP2007/008113 beschrieben, welche hiermit durch Verweis vollständig hierin mit aufgenommen wird. Die in der vorliegenden Anmeldung beschriebene Reinigungsvorrichtung bzw. das entsprechende Verfahren zum Austausch von Objektivteilen kann auch für derartige optische Anordnungen Verwendung finden.
Die Reinigungsvorrichtung kann hierbei an dem äußeren Vakuumbehälter 418, wie in der Figur 5 gezeigt, vorgesehen werden, während in einem inneren Gehäuseteil lediglich eine entsprechende Austauschöffnung vorzusehen ist. Dies ist schematisch in der Figur 6 dargestellt. Die Figur 6 zeigt einen Ausschnitt der Vakuumbehälterwand 418, an welcher eine Vakuumbehälteröffnung 417 zum Austausch von entsprechenden Optikteilen vorgesehen ist. Die Vakuumbehälteröffnung 417 kann mit dem Vakuumbehälterverschluss 419 vakuumdicht verschlossen werden. Zum Austausch eines entsprechenden Objektiv- bzw. Optikteils wird die Reinigungsvorrichtung 420, wie sie in den Figuren 1 bis 4 beispielhaft beschrieben ist, an die Vakuumbehälterwand 418 angeflanscht. Auf der linken Seite der Vakuumbehälterwand 418, also im Inneren des Vakuumbehälters, ist ein weiteres Gehäuse 430 vorgesehen, in welchem ein oder mehrere Komponenten der optischen Anordnung aufgenommen sein können, um gegenüber dem äußeren Vakuumbehälter gesonderte Atmosphärenbedingungen einzustellen. Für den Austausch eines entsprechenden Optik- bzw. Objektivteils ist eine Gehäuseöffnung 431 vorgesehen, die ebenfalls über einen Gehäuseverschluss 432 entsprechend vakuumdicht abgeschlossen werden kann. Zum Austausch eines Optikteils müssen nunmehr nur die Verschlüsse 432 und 419 geöffnet werden, um ein Optikteil aus dem Gehäuse 430 in die Reinigungsvorrichtung 420 und umgekehrt überführen zu können.
Die Figur 7 zeigt eine weitere Ausgestaltung, bei welcher zwischen der Gehäuseöffnung 431 und der Vakuumbehälteröffnung 417 ein Transportkanal 433 vorgesehen ist, um das auszutauschende Teil direkt aus dem Gehäuse 430 in die Reinigungsvorrichtung 420 oder umgekehrt überführen zu können, ohne in Kontakt mit dem Innenraum des äußeren Vakuumbehälters zu gelangen.
Obwohl die vorliegende Erfindung in Bezug auf die vorgestellten Ausführungsbeispiele detailliert beschrieben worden ist, ist für den Fachmann selbstverständlich, dass die Erfindung nicht auf diese Ausführungsbeispiele beschränkt ist, sondern dass vielmehr Abwandlungen insbesondere durch Kombination einzelner Komponenten oder Weglassen bestimmter Einzelteile verwirklicht werden können, ohne den Schutzbereich der beigefügten Ansprüche zu verlassen.

Claims

Patentansprüche
1. Verfahren zum Austausch von Objektivteilen insbesondere eines Projektions- oder Beleuchtungsobjektivs für die Mikrolithographie, bei welchem ein Objektiv (10, 110, 210, 310) mit einem Obj ektivinnenraum (14, 114, 214, 314) und darin vorgesehenen
Objektivteilen bereitgestellt wird, bei welchem mindestens ein Objektivteil (16, 116, 216,316) austauschbar im Objektiv aufgenommen ist, dadurch gekennzeichnet, dass das austauschbare Objektivteil unmittelbar vor dem Einbau in das Objektiv außerhalb des Objektivinnenraums in mindestens einem von der Umgebungsatmosphäre abgeschlossenen Reinigungsraum gereinigt wird und sofort nach der Reinigung ohne Kontakt mit der Umgebungsatmosphäre in das Objektiv eingebaut wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass das Objektivteil aus einer Gruppe ausgewählt wird, welche optische Linsen, Spiegel,
Spiegelelemente, Filter, Blenden oder sonstige Elemente innerhalb eines reinen Objektivinnenraums umfasst.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der von der Umgebungsatmosphäre abgeschlossene Reinigungsraum eine zur
Umgebungsatmosphäre unterschiedliche Reinigungsatmosphäre aufweist.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigungsatmosphäre aus einer Gruppe ausgewählt wird, welche Vakuum, trockene Luft, Stickstoff, trockenen Stickstoff, Argon, Sauerstoff, Helium, Wasserstoff, inerte
Gase, Edelgase oder Kombinationen davon umfasst.
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der von der Umgebungsatmosphäre abgeschlossene Reinigungsraum in örtlicher Nähe zum Objektivinnenraum vorgesehen oder angeordnet wird, so dass insbesondere durch eine geometrisch einfache, vorzugsweise lineare Bewegung oder Schwenk- oder Drehbewegung, und/oder zeitlich kurze Bewegung das austauschbare Objektivteil aus dem Reinigungsraum in den Objektivinnenraum bewegt wird.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Reinigungsraum gasdicht an den Objektivinnenraum lösbar angekoppelt wird.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere Reinigungsräume vorgesehen sind, die insbesondere so miteinander verbunden sind, dass das austauschbare Objektivteil die Reinigungsräume nacheinander durchläuft.
8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in dem oder den Reinigungsräumen Reinigungsprozesse durchgeführt werden, die aus der
Gruppe ausgewählt sind, die die Reinigung durch Bestrahlung mit elektromagnetischen Wellen, insbesondere UV-Bestrahlung, Plasmareinigung, insbesondere Sauerstoff- oder Wasserstoffplasma-Reinigung, Verdampfen, Gasspülen, Flüssigkeitsspülen, Ultraschallreinigung, Tauchbäder, mechanische Reinigung, insbesondere Abwischen und Kombinationen davon umfasst.
9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigung in dem oder den Reinigungsräumen die Beseitigung von Partikeln und/oder die Beseitigung von Kohlenwasserstoffen und/oder die Beseitigung von Wasser- Monolagen umfasst, insbesondere in der Reihenfolge der Aufzählung.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Beseitigung von Partikeln durch Maßnahmen erfolgt, die aus der Gruppe ausgewählt werden, die die Verwendung eines Ultraschallbades, eines Tauchbades in einer Optik- Putzmischung und das Abwischen und Kombinationen davon umfasst.
11. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Beseitigung von Kohlenwasserstoffen durch Maßnahmen erfolgt, die aus der Gruppe ausgewählt werden, die die Bestrahlung mit insbesondere breitbandigem UV-Licht unter gleichzeitiger Gasspülung mit insbesondere trockenem Stickstoff und geringer
Sauerstoffbeimengung oder trockener Luft und die Plasmareinigung, insbesondere mittels durch Mikrowellenenergie angeregtes Sauerstoffplasma bei Vakuumbedingungen unter gleichzeitiger Absaugung des Reinigungsräums und Kombinationen davon umfasst.
12. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Beseitigung von Wasser-Monolagen durch Maßnahmen erfolgt, die aus der Gruppe ausgewählt werden, die das Verdampfen, insbesondere Erwärmen mittels einer Infrarot(IR)-Lampe oder einem Heizdraht, die Plasmareinigung und das Spülen mit trockenem Stickstoff, trockener Luft oder Helium und Kombinationen davon umfasst.
13. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein Magazin für austauschbare Objektivteile vorgesehen wird, welches das insbesondere saubere Aufbewahren und schnelle Wechseln von Objektivteilen über den
Reinigungsraum ermöglicht.
14. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das austauschbare Objektivteil ein Teil eines optischen Systems für die UV (ultraviolett)- oder EUV (extrem ultraviolett)-Lithographie ist.
15. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Objektivteil vollständig aus dem Objektivinnenraum entfernt wird und/oder aus einer vom Objektivinnenraum beabstandeten Position in den Objektivinnenraum eingebracht wird.
16. Reinigungsvorrichtung für austauschbare Objektivteile insbesondere eines Projektionsoder Beleuchtungsobjektivs für die Mikrolithographie, dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigungsvorrichtung (20, 120, 220, 320) einen Reinigungsraum zur Aufnahme und Reinigung des austauschbaren Objektivteils und ein Anschlussteil (21, 121, 212, 321) zum gasdichten Anschluss an ein Objektivgehäuse umfasst.
17. Reinigungsvorrichtung nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Anschlusselement zum gasdichten Anschluss eines Transportkanals und/oder einer oder mehrerer weiterer Reinigungs Vorrichtungen vorgesehen ist.
18. Reinigungsvorrichtung nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, dass Anschlussteil und Anschlusselement identisch und/oder kompatibel zueinander ausgebildet sind.
19. Reinigungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 16 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass ein Transportkanal (340) insbesondere mit einem Anschlussteil 341 zum gasdichten
Anschluss an ein Objektivgehäuse vorgesehen ist.
20. Reinigungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 16 bis 19, dadurch gekennzeichnet, dass das Anschlussteil eine Vorrichtung zur mechanischen Entkopplung von dem Objektivgehäuse, insbesondere eine Luftlagerung oder elastische Lagerung, insbesondere mittels eines Balgs umfasst.
21. Reinigungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 16 bis 20, dadurch gekennzeichnet, dass der Reinigungsraum gasdicht abschließbar ist, wobei insbesondere an Zuruhröffhungen für das zu reinigende Objektivteil und/oder Anschlussteilen oder -elementen
Dichtelemente insbesondere in Form von elastischen Elementen oder einer Spaltdichtung mit Überdruck vorgesehen sind.
22. Reinigungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 16 bis 21, dadurch gekennzeichnet, dass eine Handhabungseinrichtung vorgesehen ist, mittels der das austauschbare Objektivteil in der Reinigungsvorrichtung bewegbar ist.
23. Reinigungsvorrichtung nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, dass die Handhabungseinrichtung (30, 230, 330) so ausgebildet ist, dass das Objektivteil aus der Reinigungsvorrichtung in das Objektiv und umgekehrt bewegbar ist.
24. Reinigungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 22 oder 23, dadurch gekennzeichnet, dass die kinematischen Teile der Handhabungseinrichtung teilweise oder vollständig innerhalb des Gehäuses des Reinigungsraums und/oder eines Transportkanals angeordnet sind.
25. Reinigungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 22 oder 23, dadurch gekennzeichnet, dass die Handhabungseinrichtung einen Linearmotor umfasst.
26. Reinigungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 22 bis 25, dadurch gekennzeichnet, dass die Handhabungseinrichtung mechanische entkoppelt insbesondere unter Verwendung eines Luftlagers zum Gehäuse des Reinigungsraums und/oder eines Transportkanals angeordnet ist.
27. Reinigungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 16 bis 26, dadurch gekennzeichnet, dass
Mittel zum Einleiten und/oder Absaugen von Gas oder Elemente zum Anschluss derartiger Mittel umfassend Pumpen, insbesondere Vakuumpumpen, Gasversorgungseinrichtungen und dergleichen vorgesehen sind.
28. Reinigungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 16 bis 27, dadurch gekennzeichnet, dass
Reinigungsvorrichtungen vorgesehen sind, die aus der Gruppe ausgewählt sind, die Bestrahlungseinrichtungen zum Bestrahlen mit elektromagnetischen Wellen, insbesondere UV-Bestrahlung, Plasmareinigungsvorrichtungen, insbesondere Mikrowellenköpfe,
Verdampfer, insbesondere IR-Lampen oder Heizdrähte, Gasspüleinrichtungen, Flüssigkeitsspüleinrichtungen, Ultraschallreiniger, Tauchbäder, mechanische Reinigungsvorrichtungen, insbesondere Wischeinrichtungen und Kombinationen davon umfasst.
29. Reinigungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 16 bis 28, dadurch gekennzeichnet, dass ein Magazin für austauschbare Objektivteile vorgesehen ist, welches mit dem Reinigungsraum so verbindbar ist, dass Objektivteile vom Reinigungsraum in das Magazin und umgekehrt überführt werden können.
30. Reinigungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 16 bis 29, dadurch gekennzeichnet, dass das Anschlussteil einen Schnellkoppelmechanismus zum schnellen Verbinden und Lösen mit dem Objektiv aufweist.
31. Objektiv, insbesondere Projektions- oder Beleuchtungsobjektiv für die Mikrolithographie, mit einem Objektivgehäuse, in welchem mindestens ein austauschbares Objektivteil vorgesehen ist, dadurch gekennzeichnet, dass das Objektivgehäuse im Bereich des austauschbaren Objektivteils mindestens ein Kopplungselement zum Ankoppeln einer Reinigungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 16 bis 30 umfasst.
32. Objektiv nach Anspruch 31, dadurch gekennzeichnet, dass das Objektiv ein optisches System ist, das hergerichtet ist zur Verwendung mit UV (ultra violettem)-Licht oder EUV (extrem ultraviolettem)-Licht.
33. Objektiv nach Anspruch 31 oder 32, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere Gehäuse oder Behälter vorgesehen sind, die zumindest teilweise ineinander angeordnet sind und korrespondierende Öffnungen zum Austausch von Komponenten aufweisen.
34. Objektiv nach Anspruch 33, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen zwei Gehäusen oder Behältern ein insbesondere vakuumdichter Transportkanal vorgesehen ist.
35. System umfassend mindestens eine Reinigungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 16 bis 30 und ein Objektiv nach einem der Ansprüche 31 bis 34.
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