WO2007148396A1 - アーク蒸発源および真空蒸着装置 - Google Patents

アーク蒸発源および真空蒸着装置 Download PDF

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WO2007148396A1
WO2007148396A1 PCT/JP2006/312489 JP2006312489W WO2007148396A1 WO 2007148396 A1 WO2007148396 A1 WO 2007148396A1 JP 2006312489 W JP2006312489 W JP 2006312489W WO 2007148396 A1 WO2007148396 A1 WO 2007148396A1
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electrode
vacuum
electrodes
power source
anode
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PCT/JP2006/312489
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English (en)
French (fr)
Inventor
Yasuhiro Koizumi
Kouichi Nose
Original Assignee
Shinmaywa Industries, Ltd.
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • C23C14/325Electric arc evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material

Definitions

  • the present invention relates to an arc evaporation source and a vacuum vapor deposition apparatus, and more particularly to an arc evaporation source and a vacuum vapor deposition apparatus with improved recovery performance of the evaporation material in a vacuum arc vapor deposition method.
  • a high-temperature and low-activity cathode spot is usually formed on a cathode (force sword; target), and a high-energy electrode material (for example, a cathode material ion) is in a vacuum from the cathode spot.
  • a high-energy electrode material for example, a cathode material ion
  • a method of forming a film on the workpiece surface using such an electrode material is called a vacuum arc deposition method.
  • This vacuum arc vapor deposition method has various features such as excellent adhesion to the workpiece by obtaining a high energy electrode material directly from solid metal, and the ability to eliminate containers for accumulating electrode materials such as crucibles and boats. It has the advantages of
  • Patent Document 1 provided with the first and second electrodes facing each other, the droplets discharged by the first and second electrode forces move through the gap between the two electrodes. Then, they adhere to each other, and the force can recover the droplets.
  • the present invention has been made in view of such circumstances, and provides an arc evaporation source and a vacuum evaporation apparatus capable of appropriately recovering a vapor deposition material released by a force sword force of vacuum arc discharge. For the purpose.
  • an arc evaporation source includes first and second electrodes facing each other with a gap therebetween, and at least any of the first and second electrodes.
  • One electrode is used as a force sword, and the other electrode force of the first and second electrodes is based on the vacuum arc discharge generated between the force sword and the anode. It is configured to be able to recover the evaporated substance released from the tank.
  • the vacuum vapor deposition apparatus generates electric power that causes a vacuum arc discharge between the vacuum tank in which the arc evaporation source is disposed in a depressurizable interior and the force sword and the anode. And a power supply means for supplying power to the force sword and the anode.
  • the evaporation substance released from the force sword at the time of the vacuum arc discharge is preferably attached to the other electrode and collected.
  • the circuit configuration of vacuum arc discharge can be simplified.
  • the evaporating substances are droplets and ions that also have a material force of the force sword.
  • the first and second electrodes may be arranged with their longitudinal directions aligned, and the workpiece may be arranged at a position facing the gap.
  • a recovery member disposed in the vacuum chamber for recovering the evaporated substance, wherein a surface of the recovery member is curved so as to surround the gap except for a region between the workpiece and the gap. It may be configured.
  • the first and second electrode forces are released in almost all directions facing the gap excluding the region where the workpiece is arranged.
  • the released electrode material force is almost adhered to the inner surface of the recovery member. .
  • the vacuum evaporation apparatus has a first use state in which the first electrode is the force sword and a second use state in which the second electrode is the force sword. Also good.
  • a switching unit that performs switching between the first usage state and the second usage state may be provided.
  • the second electrode is recovered during the first use state.
  • the evaporated material is reused as part of the second electrode that functions as a force sword during the next second use state, and is collected in the first electrode during the second use state.
  • the evaporated material is preferably reused as a part of the first electrode functioning as a force sword during the first use state for the next time.
  • the power supply means is a direct current power source
  • the switching means switches between the first electrode and the second electrode for connection to the cathode side terminal of the direct current power source. It can be a switch to do.
  • the power supply means is an AC power source
  • the switching means is provided between one terminal of the AC power source and the first electrode and between the other terminal of the AC power source and a second terminal.
  • a rectifying element that rectifies the power supplied from the AC power source may be provided between the electrode and the other electrode.
  • the power supply means is connected to the first DC power source having a negative terminal connected to the first electrode and a positive terminal connected to the anode, and to the second electrode.
  • a second DC power source having a negative terminal and a positive terminal connected to the anode.
  • the first DC power source supplies the first electrode with power for vacuum arc discharge and the second DC power source.
  • Power supply for vacuum arc discharge to the second electrode is performed at the same time, and this causes uneven deposition thickness distribution of the coating material on the workpiece due to the first use state and the second use. It is expected that the uneven deposition thickness distribution of the coating material on the workpiece depending on the working conditions will cancel each other out, and the uneven deposition thickness distribution of the coating material on the workpiece can be prevented.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration of an arc evaporation source for a vacuum vapor deposition apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing a configuration of an arc evaporation source for a vacuum evaporation apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a schematic diagram for explaining a configuration example of a vacuum vapor deposition apparatus according to the present embodiment.
  • FIG. 4 is a diagram for explaining the coating material scattering form on the workpiece in the first use state and the coating material scattering form on the workpiece in the second use state.
  • FIG. 5 is a schematic diagram for explaining a configuration example of a vacuum vapor deposition apparatus according to Modification Example 1.
  • FIG. 6 is a schematic diagram for explaining a structural example of a vacuum vapor deposition apparatus according to Modification 2.
  • FIG. 7 is a schematic diagram for explaining a configuration example of a vacuum vapor deposition apparatus according to Modification 3. Explanation of symbols
  • FIG. 1 and 2 are cross-sectional views showing the configuration of an arc evaporation source for a vacuum evaporation apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • Fig. 1 is a cross-sectional view along the plane parallel to the flange 15 in the central part of the first and second electrodes 14A, 14B of the arc evaporation units 10A, 10B. It is sectional drawing of the surface along a line.
  • the arc evaporation source 100 includes an arc evaporation unit 10A, 10B via a pair of arc evaporation units 10A, 10B and insulating members 17A, 17B of the arc evaporation units 10A, 10B as shown in FIGS.
  • Disc-shaped metal flange that holds the power supply rod members 16A and 16B 15 And have.
  • the arc evaporation unit 10A includes a first electrode 14A having a columnar shape (rod shape) having a noble metal force as shown in FIG. 1 and a round hole in the center, and the first electrode 14A is inserted into the round hole.
  • the electrode holder 13A In the state where the square plate-like metal electrode holder 13A holding the first electrode 14A and the circular surface SA1 at one end of the first electrode 14A are in contact with each other, the electrode holder 13A is appropriately fixed (screw or the like; And a substantially rectangular metal bracket 12A that is fixedly held by a non-illustrated).
  • the arc evaporation unit 10A extends through the through hole (not shown) of the flange 15 as shown in FIG. 2 so as to straddle the flange 15, and extends to the side surface of the bracket 12A (on the contact surface of the first electrode 14A).
  • a cylindrical metal power supply that is fixed to the orthogonal surface) by appropriate fixing means (screws, etc .; not shown) and configured to supply a predetermined power to the first electrode 14A via the bracket 12A.
  • a cylindrical member that is inserted between the bar member 16A and the peripheral surface of the through hole of the power feed bar member 16A and the flange 15 and makes it possible to maintain electrical insulation between the power feed bar member 16A and the flange 15 It has a through hole that allows the insulating member 17A and the first electrode 14A to pass through the circular surface SA2 at the other end for a predetermined length, and borders the bracket 12A, electrode holder 13A, first electrode 14A, and flange 15.
  • the configuration of the arc evaporation unit 10B is the same as that of the arc evaporation unit 10A, and for the components of the arc evaporation unit 10B corresponding to the components of the arc evaporation unit 10A, the end of the reference symbol is ⁇ It is shown as being changed from “A” to “B”. Therefore, detailed description of each component of the arc evaporation unit 10B is omitted here.
  • the cylindrical first and second electrodes 14A and 14B extend in the axial direction so as to pass through the through holes of the cover members 11A and 11B and come close to each other.
  • the first and second electrodes 14A 14B are arranged opposite to each other so as to maintain a predetermined disc-shaped gap G sandwiched between the circular surfaces SA2 and SB2 at the other end of 14B.
  • the first and second electrodes 14A and 14B serve as a force sword (cathode; target) for vacuum arc discharge. It also serves as a member that collects the evaporated substances released from the power swords of split and vacuum arc discharge.
  • the bracket 12A in a state where the first electrode 14A is held via the electrode holder 13A is formed by rotating the power feed rod member 16A in the circumferential direction. It can rotate over a predetermined rotation range about the axial center PA of 16A.
  • the bracket 12B in a state where the second electrode 14B is held via the electrode holder 13B rotates the power supply rod member 16B in the circumferential direction, so that a predetermined centering on the axial center PB of the power supply rod member 16B is performed. It can be rotated over a range of rotation.
  • the electrode holders 13A and 13B have a protruding portion (not shown) protruding from the side force of the electrode holders 13A and 13B, and the central portion in the width direction of the protruding portion is the diameter of the round hole. A slit hole (not shown) that reaches this round hole is formed along the direction. Then, the first and second electrodes 14A and 14B are fixed to the electrode holders 13A and 13B, respectively, by fastening means (screws or the like; not shown) for fastening the protrusions in the circumferential direction of the round hole. .
  • the electrode holders 13A and 13B are made of a metal (for example, stainless steel) that can withstand heating by vacuum arc discharge through the first and second electrodes 14A and 14B.
  • the brackets 12A and 12B and the power feed rod members 16A and 16B both have a hollow area (not shown), and water or the like supplied from a coolant supply means (not shown) is provided in the hollow area. Circulating coolant. For this reason, the high temperature of the first and second electrodes 14A and 14B accompanying the vacuum arc discharge is appropriately suppressed by heat exchange with the coolant via the brackets 12A and 12B.
  • the cover members 11 A and 1 IB are grounded via the flange 15 and the vacuum chamber 20 (described later), whereby the power supply rod members 16 A and 16 B and the brackets 12 A and 12 B and the electrode holders 13 A and 13 B and the first and first
  • the discharge area when the power for vacuum arc discharge is applied to the second electrodes 14A and 14B is limited to the circular surfaces SA2 and SB2 at the other ends of the first and second electrodes 14A and 14B. It plays the role of a shield plate that can be prevented.
  • FIG. 3 is a schematic diagram for explaining a configuration example of the vacuum evaporation apparatus according to the present embodiment.
  • the arc evaporation source 100 only the first and second electrodes 14A and 14B of its constituent elements are representatively illustrated.
  • the first and second arc evaporation units 10A and 10B of the arc evaporation source 100 shown in FIGS. 1 and 2 are opened through an opening (not shown) provided in the wall of the vacuum chamber 20 of the apparatus 110.
  • the flange 15 of the arc evaporation source 100 is vacuum-sealed based on a seal member (O ring or the like; not shown), and appropriate fixing means (screws or the like; It is fixed to the wall of the vacuum chamber 20 (not shown) (the same applies to FIGS. 5, 6 and 7) o
  • the vacuum evaporation apparatus 110 includes an arc evaporation source having a vacuum chamber 20 capable of reducing the pressure inside, and first and second electrodes 14A and 14B disposed at appropriate positions inside the vacuum chamber 20.
  • a workpiece 21 arranged at a proper position inside the vacuum chamber 20, and one of the first and second electrodes 14A and 14B and the vacuum chamber 20 (anode; anode)
  • a positive electrode terminal is connected to the vacuum chamber 20 so as to cause a vacuum arc discharge, and it is connected to one of the first and second electrodes 14A and 14B via the switching switch 22.
  • a DC power source (power supply means) 23 to which the negative electrode side terminal is connected. Since the vacuum chamber 20 is grounded, the positive terminal of the DC power source 23 is maintained at the ground potential.
  • the structural member of the vacuum chamber 20 is made of a conductive material and is configured as a part of a circuit (member) for performing vacuum arc discharge, while the first and second electrodes 14A, 14B is a force configured to be insulated from the vacuum chamber 20.
  • a vacuum chamber 20 and a separate anode (metal plate, etc .; not shown) are arranged inside the vacuum chamber 20, and a DC power source is provided there. You may connect the terminal on the positive pole side of 23.
  • the first and second electrodes 14A and 14B are aligned in the longitudinal direction of the first and second electrodes 14A and 14B so that a gap G is formed by the circular surfaces SA2 and SB2 (end surfaces).
  • the first and second electrodes 14 are arranged so that the workpiece 21 can be exposed from the gap G.
  • a and 14B are spaced apart in the radial direction. If the workpiece 21 is arranged in such a direction with respect to the first and second electrodes 14A and 14B, one of the first and second electrodes 14A and 14B and the vacuum chamber 20 It is known that the amount of droplets scattered in the direction of the workpiece 21 generated due to the vacuum arc discharge during the period is small and suitable. Of course, if adhesion of the droplet to the workpiece 21 is confirmed, various existing droplet countermeasure technologies can be introduced inside the vacuum chamber 20 to prevent the droplet from attaching to the workpiece 21. good.
  • the DC power source 23 outputs a voltage of about 10 to 100 V (volt) and a current of about 10 to 500 A (ampere) as DC power.
  • the negative electrode side terminal of the DC power source 23 is connected to the first electrode 14A made of noble metal (gold, silver, etc.) by switching the switching switch 22, and the second
  • the first electrode 14A functions as a power sword (cathode; target) for vacuum arc discharge. "Used state”).
  • the noble metal electrode material that constitutes the first electrode 14A from the circular surface SA2 at the other end of the first electrode 14A.
  • the noble metal droplets constituting the first electrode 14A are mainly emitted in the axial direction of the first electrode 14A from the circular surface SA2 at the other end of the first electrode 14A.
  • the electrode material discharged from the first electrode 14A is placed on the circular surface SB2 on the other end of the second electrode 14B facing the circular surface SA2 on the other end of the first electrode 14A with a gap G therebetween. Part and droplets (evaporation material) are deposited, so that this evaporation material can be efficiently collected on the second electrode 14B.
  • the negative electrode side terminal of the DC power source 23 is connected to the second electrode 14B of the noble metal (gold, silver, etc.) by switching of the switching switch 22, and the first electrode 14A is electrically connected.
  • the second electrode 14B When placed in a floating state, the second electrode 14B is used as a vacuum arc discharge cathode (cathode; target). "Use state of". ) Is realized. Then, based on the vacuum arc discharge generated between the second electrode 14B and the vacuum chamber 20, the electrode material force of the noble metal constituting the second electrode 14B from the circular surface SB2 at the other end of the second electrode 14B.
  • the noble metal droplets constituting the second electrode 14B are emitted mainly from the circular surface SB2 at the other end of the second electrode 14B in the axial direction of the second electrode 14B.
  • the evaporated material from which the second electrode 14B force has also been released adheres to the circular surface SA2 at the other end of the first electrode 14A that faces the circular surface SB2 at the other end of the second electrode 14B with a gap G therebetween.
  • the evaporated substance can be efficiently recovered by the first electrode 14A.
  • the evaporated material collected in the second electrode 14B is reused as a part of the second electrode 14B functioning as a force sword during the next second use state.
  • the evaporated substance collected in the first electrode 14A during this period is preferably reused as a part of the first electrode 14A functioning as a force sword.
  • the vacuum vapor deposition apparatus 110 includes a control device (not shown) that controls the operation thereof, and this control apparatus appropriately controls the vacuum arc discharge in the vacuum vapor deposition apparatus 110. Next, the operation of the vacuum evaporation apparatus 110 according to the present embodiment will be described.
  • both the power supply conditions for generating the vacuum arc discharge and the gas conditions inside the vacuum chamber 20 are based on known techniques, and detailed description thereof will be omitted here.
  • the discharge gas is guided from an appropriate place on the wall of the vacuum chamber 20, and the vacuum chamber 20 has a predetermined degree of vacuum (for example, lPa).
  • the vacuum exhaust device is operated so as to keep the
  • ignition of the vacuum arc discharge is performed by, for example, a contact ignition method. That is, the first and second electrodes 14A and 14B are rotated so as to approach each other around the axial centers PA and PB (see FIG. 1), and the first and second electrodes 14A and 14B are brought into contact with each other.
  • a contact ignition method That is, the first and second electrodes 14A and 14B are rotated so as to approach each other around the axial centers PA and PB (see FIG. 1), and the first and second electrodes 14A and 14B are brought into contact with each other.
  • predetermined power is applied to the first electrode 14A and the vacuum chamber 20 so as to execute the first use state in the vacuum deposition apparatus 110.
  • the noble metal coating material constituting the first electrode 14A is deposited on the work 21, and the second electrode 14B is The evaporated substance released from the electrode 14A of 1 is collected, and the collected evaporated substance is reused in the next second use state.
  • the vacuum of the vacuum vapor deposition apparatus 110 is released to the atmosphere, and the work 21 inside the vacuum chamber 20 is replaced. Then, the same vacuum arc discharge inducing operation is performed again. After that, predetermined power is applied to the second electrode 14B and the vacuum chamber 20 so that the workpiece 21 is used in the second usage state in the vacuum deposition apparatus 110. Then, based on the vacuum arc discharge between the second electrode 14B and the vacuum chamber 20, the noble metal coating material constituting the second electrode 14B is deposited on the work 21 and the first electrode 14B is deposited. The evaporated substance released from the second electrode 14B is collected in the electrode 14A, and the collected evaporated substance is reused in the next first use state.
  • FIG. 5 is a schematic diagram for explaining a configuration example of a vacuum vapor deposition apparatus according to this modification.
  • the vacuum vapor deposition apparatus 120 instead of the direct current power source 23 and the switching switch 22 in the vacuum vapor deposition apparatus 110 (FIG. 3) of the embodiment, the vacuum vapor deposition apparatus 120 according to this modification includes an alternating current power source 32 (power Supply means) and four first to fourth diodes (rectifier elements) 31A, 31B, 31C, and 3 ID.
  • the AC power source 32 outputs a voltage of about 10 to 100 V (volt) and a current of about 10 to 500 A (ampere) as AC power such as a rectangular wave.
  • the first diode 31A is connected between the wiring between the one terminal of the AC power source 32 and the vacuum chamber 20 so that the terminal force of the first diode 31A is also directed toward the vacuum chamber 20 to conduct (forward direction). Inserted.
  • the second diode 31B has a terminal force between the one terminal of the AC power source 32 and the second electrode 14B and does not conduct electricity toward the second electrode 14B. Direction).
  • the third diode 31C is connected between the other terminal of the AC power source 32 and the vacuum chamber 20, and the other terminal force is also directed to the vacuum chamber 20 to conduct in the direction (forward direction). It is inserted so that the fourth diode 31D is not electrically conductive between the other terminal of the AC power source 32 and the first electrode 14A from the other terminal toward the first electrode 14A (reverse) Direction).
  • the first electrode 14A and the second electrode are in accordance with the AC cycle of the AC power source 32 with reference to the potential of the vacuum chamber 20 (actually the ground potential).
  • a negative potential is alternately applied to 14B.
  • the first usage state (the coating material scattering pattern of the A pattern in FIG. 4) and the second usage state (the coating pattern of the B pattern in FIG. 4) in the vacuum deposition apparatus 120.
  • the material scattering mode is automatically switched over many times at a single interval during the period of one batch corresponding to the AC frequency of the AC power source 32. For this reason, by adjusting the AC frequency of the AC power source 32 appropriately, uneven deposition thickness distribution of the coating material on the work 21 in the first use state and the film on the work 21 in the second use state It is expected that the uneven film thickness distribution of the material will offset each other, and the uneven film thickness distribution of the coating material on the workpiece 21 can be prevented.
  • FIG. 6 is a schematic diagram for explaining a configuration example of a vacuum vapor deposition apparatus equipped with an arc evaporation source according to this modification.
  • the vacuum vapor deposition apparatus 130 in place of the DC power source 23 and the switching switch 22 in the vacuum vapor deposition apparatus 110 (FIG. 3) of the embodiment, includes the first electrode 14A A first DC power source 41 (power supply means) capable of supplying power to the second electrode 14B, and a second DC power source 42 (power supply means) capable of supplying power to the second electrode 14B. ing.
  • the vacuum chamber 20 has a first arc discharge so that a vacuum arc discharge is generated between the first electrode 14A (force sword; target) and the vacuum chamber 20 (positive electrode; anode).
  • the terminal on the positive electrode side of the DC power source 41 is connected, and the terminal on the negative electrode side is connected to the first electrode 14A. Since the vacuum chamber 20 is grounded, the positive terminal of the first DC power source 41 is maintained at the ground potential.
  • a vacuum chamber is formed so that a vacuum arc discharge is generated between the second electrode 14B (force sword; target) and the vacuum chamber 20 (anode; anode).
  • the terminal on the positive side of the second DC power source 42 is connected to 20 and the terminal on the negative side is connected to the second electrode 14B. Since the vacuum chamber 20 is grounded, the terminal on the positive electrode side of the second direct current power source 42 is kept at the ground potential.
  • the first DC power source 41 supplies the first electrode 14A with power for vacuum arc discharge and the second DC power source 42 uses the second electrode 14B.
  • Power supply for vacuum arc discharge is performed at the same time, which results in uneven film thickness distribution of the coating material on the workpiece 21 due to the first use condition and the second use condition. It is expected that the uneven film thickness distribution of the coating material on the workpiece 21 and the force cancel each other, and the uneven deposition thickness distribution of the coating material on the workpiece 21 can be prevented.
  • the first electrode 14A has a circular arc SA generated between the first electrode 14A and the vacuum chamber 20, and the second surface SA2 of the other end of the first electrode 14A
  • the noble metal electrode material composing one electrode 14A is uniformly emitted in each direction facing the circular surface SA2.
  • the second use state of the vacuum deposition apparatus 120 based on the vacuum arc discharge generated between the second electrode 14B and the vacuum chamber 20, the circular surface SB2 at the other end of the second electrode 14B.
  • the noble metal electrode material constituting the second electrode 14B is uniformly emitted in each direction facing the circular surface SB2.
  • the electrode material that has also released the first and second electrodes 14A and 14B in each direction facing the gap G (circular surfaces SA2 and SB2) excluding the area where the workpiece 21 is disposed is not recovered. It adheres to the wall of the vacuum chamber 20 and the internal structure of the vacuum chamber 20.
  • FIG. 7 is a schematic diagram for explaining a configuration example of the vacuum vapor deposition apparatus according to this modification, and is a view of the axial force of the first and second electrodes 14A and 14B.
  • the vacuum vapor deposition device 140 is provided with a collection member 51 that is disposed inside the vacuum chamber 20 and is substantially divided into half cylindrical members.
  • the recovery member 51 is arranged with the longitudinal direction of the recovery member 51 (direction orthogonal to the width direction) parallel to the axial direction of the first and second electrodes 14A and 14B, and the recovery member 51
  • the inner surface 52 is curved so as to surround the gap G except for the region between the workpiece 21 and the gap G.
  • the electrode material discharged from the first and second electrodes 14A and 14B is exposed in each direction facing the gap G (circular surfaces SA2 and SB2) excluding the region where the workpiece 21 is disposed. Almost all adhere to the inner surface 52 of the recovery member 51.
  • the electrode material is recovered by an appropriate peeling method. The electrode material can be reliably recovered by peeling from the collecting member 51.
  • the arc evaporation source and the vacuum evaporation apparatus according to the present invention are useful, for example, as an apparatus for forming a film on a workpiece by vacuum arc discharge.

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Abstract

 真空アーク放電のカソードから放出された蒸発物質を適正に回収することを可能にしたアーク蒸発源および真空蒸着装置を提供する。アーク蒸発源(100)は、間隙(G)を隔てて互いに対向する第1および第2の電極(14A、14B)を備え、第1および第2の電極(14A、14B)のうちの少なくとも何れか一方の電極をカソードとして、カソードとアノードとの間に発生する真空アーク放電に基づいて、第1および第2の電極(14A、14B)のうちの他方の電極が、カソードから放出された蒸発物質を回収可能に構成されている。

Description

明 細 書
アーク蒸発源および真空蒸着装置
技術分野
[0001] 本発明は、アーク蒸発源および真空蒸着装置に係り、更に詳しくは、真空アーク蒸 着法における蒸発材料の回収性能を改良したアーク蒸発源および真空蒸着装置に 関する。
背景技術
[0002] 真空アーク放電では、通常、陰極 (力ソード;ターゲット)上に高温かつ活性の小さな 陰極点が形成され、この陰極点から高エネルギーの電極材料 (例えば、陰極材料ィ オン)が真空中に放出される。こうした電極材料を利用してワーク表面に被膜を形成 する手法が、真空アーク蒸着法と称されている。そして、この真空アーク蒸着法は、 固体金属から直接高エネルギーの電極材料が得られることによりワークとの密着性に 優れる点や、坩堝やボート等の電極材料を溜める容器を無くし得る点等、各種の利 点を備えている。
し力しながら、真空アーク蒸着法の最大の欠点は、真空アーク放電の力ソードの陰 極点からドロップレットと呼ばれる粒子 (粒子径: 20 μ m〜100 μ m)を生じせしめるこ とにあり、こうしたドロップレットのワーク表面への付着によって、ワーク表面の被膜の 均一性劣化が懸念されて!ヽる。
[0003] このため、従来からドロップレットの発生自体を抑制する手法 (例えば、パルス放電 法)およびドロップレットを除去した真空空間を利用する手法 (例えば、シールド法)並 びに元々ドロップレットの少ない真空空間を利用する手法等、各種のドロップレット対 処技術が提案されている。
このようなドロップレット対処技術の一例として、真空雰囲気中に、互いに近接して 対向する第 1電極と第 2電極の間に放電電力を印加する方法がある。これにより、第 1および第 2電極の表面が相互加熱されると共に、第 1および第 2の電極力もの熱電 子放出が活性ィ匕されて、これらの電極の表面が更に加熱される。そうすると、力ソード としての第 1または第 2の電極の陰極点が大きくなつて、第 1または第 2の電極におけ るドロップレットの発生を極端に減少させる効果が発揮される(特許文献 1参照)。 特許文献 1:特開 2002— 69664号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0004] 以上に述べた状況において、本件発明者等は、既存のドロップレット対処技術の枠 組みから離れ、真空アーク放電の力ソードにおいて発生したドロップレットやワークの 表面の蒸着に利用可能な力ソードイオン被膜材料等の電極材料 (以下、これらを総 称して「蒸発物質」という。)を、積極的に回収し再利用する技術の開発に取り組んで いる。
なお、互いに対向する第 1および第 2電極を備えた、特許文献 1に記載のプラズマ 加工技術でも一見すると、第 1および第 2電極力 放出されたドロップレットは、両電 極間の間隙を移動して互いに付着し合 、、あた力もドロップレットを回収できる如くな つている。
[0005] し力しながら、この特許文献 1に記載のプラズマ加工技術では、ドロップレットの発 生自体を抑制することにのみ着眼点が置かれ、その結果として、蒸発物質の回収や 再利用という課題認識を欠くものであって、蒸発物質を可能な限り放出し易い条件に 調整してこれを回収かつ再利用するという本発明の課題と完全に相反するものであ る。
また、特許文献 1に記載のプラズマ加工技術では、第 1および第 2電極の一方の電 極が力ソードになる場合には、その他方の電極は、アノード(陽極)になる。そうなると 仮に、アノードがドロップレットを回収できたとしても、力ソード力も放出された力ソード イオン (プラスイオン)を回収することが困難である。このため、特許文献 1に記載の技 術は、蒸発物質の回収および再利用という本発明の課題力も見て中途半端なものと 言える。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、真空アーク放電の力ソード 力 放出された蒸着物質を適正に回収することを可能にしたアーク蒸発源および真 空蒸着装置を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段 [0006] 上記課題を解決するため、本発明に係るアーク蒸発源は、間隙を隔てて互いに対 向する第 1および第 2の電極を備え、前記第 1および第 2の電極のうちの少なくとも何 れか一方の電極を力ソードとして、前記力ソードとアノードとの間に発生する真空ァー ク放電に基づいて、前記第 1および第 2の電極のうちの他方の電極力 前記力ソード カゝら放出された蒸発物質を回収可能に構成されている。
ここで、本発明に係る真空蒸着装置は、上記のアーク蒸発源を減圧可能な内部に 配置した真空槽と、前記力ソードと前記アノードとの間に真空アーク放電を生じせし める電力を、前記力ソードおよび前記アノードに供給する電力供給手段と、を備えた 装置である。
このようなアーク蒸発源および真空蒸着装置の構成によれば、真空アーク放電の 際に力ソードから放出された蒸発物質が上記の他方の電極に付着して回収され好適 である。
なお、前記アノードが、前記真空槽であれば、真空アーク放電の回路構成を簡素 化可能である。
[0007] また、前記蒸発物質は、前記力ソードの材料力もなるドロップレットおよびイオンであ る。
また、前記真空槽の内部に配置されたワークを備え、前記第 1および第 2の電極は 棒材であり、前記第 1および第 2の電極は、これらの端面により前記間隙が挟まれるよ うに前記第 1および第 2の電極の長手方向を揃えて配置され、前記ワークは前記間 隙から臨める位置に配置されても良い。
更に、前記真空槽の内部に配置され、前記蒸発物質を回収する回収部材を備え、 前記回収部材の面が、前記ワークと前記間隙との間の領域を除き、前記間隙を囲む ように湾曲して構成されても良 、。
[0008] こうした回収部材の配置構成により、ワークを配置した領域を除いた間隙を臨める 各方向について、第 1および第 2の電極力 放出した電極材料力 殆ど回収部材の 内面に付着することになる。
ここで、真空蒸着装置は、前記第 1の電極が、前記力ソードである第 1の使用状態と 、前記第 2の電極が、前記力ソードである第 2の使用状態と、を有しても良い。そして、 前記第 1の使用状態と前記第 2の使用状態との間の切り替えを実行する切り替え手 段を備えても良い。
こうすると、真空蒸着装置における第 1の使用状態と第 2の使用状態とを、切り替え 手段を介して一定期間毎に切り替えて反復させると、第 1の使用状態の間において 第 2の電極に回収された蒸発物質が、次回の第 2の使用状態の間には、力ソードとし て機能する第 2の電極の一部として再利用され、第 2の使用状態の間において第 1の 電極に回収された蒸発物質は、次回の第 1の使用状態の間には、力ソードとして機 能する第 1の電極の一部として再利用され好適である。
ここで、前記電力供給手段は、直流電力源であり、前記切り替え手段は、前記直流 電力源の陰極側の端子との接続を、前記第 1の電極と第 2の電極との間でスィッチン グするスィッチであっても良 、。
また、前記電力供給手段は、交流電力源であり、前記切り替え手段は、前記交流 電力源の一方の端子と前記第 1の電極との間、および前記交流電力源の他方の端 子と第 2の電極との間において、前記交流電力源から供給される電力を整流する整 流素子を有しても良い。
[0009] このような交流電力源を使った真空蒸着装置によれば、交流電力源の交流周期を 適正に調整することにより、第 1の使用状態によるワークへの被膜材料の蒸着膜厚分 布ムラと、第 2の使用状態によるワークへの被膜材料の蒸着膜厚分布ムラと、が、互 いに相殺し合って、ワークへの被膜材料の蒸着膜厚分布ムラが防止できると期待さ れる。
[0010] また、前記電力供給手段は、前記第 1の電極に接続する負極側の端子および前記 アノードに接続する正極側の端子を有する第 1の直流電力源と、前記第 2の電極に 接続する負極側の端子および前記アノードに接続する正極側の端子を有する第 2の 直流電力源と、を備えても良い。
このような第 1および第 2の直流電力源を使った真空蒸着装置によれば、第 1の直 流電力源による第 1の電極への真空アーク放電用の電力供給および第 2の直流電 力源による第 2の電極への真空アーク放電用の電力供給が同時期に実行され、これ により、第 1の使用状態によるワークへの被膜材料の蒸着膜厚分布ムラと、第 2の使 用状態によるワークへの被膜材料の蒸着膜厚分布ムラと、が、互いに相殺し合って、 ワークへの被膜材料の蒸着膜厚分布ムラが防止できると期待される。
[0011] 本発明の上記目的、他の目的、特徴、及び利点は、添付図面参照の下、以下の好 適な実施態様の詳細な説明から明らかにされる。
発明の効果
[0012] 本発明によれば、真空アーク放電の力ソードから放出された蒸発物質を適正に回 収することを可能にしたアーク蒸発源および真空蒸着装置が得られる。
図面の簡単な説明
[0013] [図 1]図 1は本発明の実施の形態に係る真空蒸着装置用のアーク蒸発源の構成を示 した断面図である。
[図 2]図 2は本発明の実施の形態に係る真空蒸着装置用のアーク蒸発源の構成を示 した断面図である。
[図 3]図 3は本実施の形態に係る真空蒸着装置の一構成例を説明する模式図である
[図 4]図 4は第 1の使用状態によるワークへの被膜材料飛散形態と第 2の使用状態に よるワークへの被膜材料飛散形態を説明した図である。
[図 5]図 5は変形例 1に係る真空蒸着装置の一構成例を説明する模式図である。
[図 6]図 6は変形例 2に係る真空蒸着装置の一構成例を説明する模式図である。
[図 7]図 7は変形例 3に係る真空蒸着装置の一構成例を説明する模式図である。 符号の説明
[0014] 10A、 10B アーク蒸発ユニット
11A、 11B カバー部材
12A、 12B ブラケット
13 Aゝ 13B 電極保持具
14A 第 1の電極
14B 第 2の電極
15 フランジ
16A、 16B 給電棒部材 17 A, 17B 絶縁部材
20 真空槽
21 ワーク
22 切り替えスィッチ
23 直流電力源
31 A 第 1のダイオード
31B 第 2のダイオード
31C 第 3のダイオード
31D 第 4のダイオード
32 交流電力源
41 第 1の直流電力源
42 第 2の直流電力源
51 回収部材
52 内面
100 アーク蒸発源
110、 120、 130、 140 真空蒸着装置
PA、PB 軸中心
G 間隙
SA1、 SA2、 SB1、 SB2 円形面
発明を実施するための最良の形態
[0015] 以下、本発明の好ましい実施の形態を、図面を参照しながら説明する。
図 1および図 2は、本発明の実施の形態に係る真空蒸着装置用のアーク蒸発源の 構成を示した断面図である。図 1は、アーク蒸発ユニット 10A、 10Bの第 1および第 2 の電極 14A、 14Bの中央部分における、フランジ 15と平行な平面に沿った断面図で あり、図 2は、図 1の A— A線に沿った面の断面図である。
[0016] アーク蒸発源 100は、図 1および図 2に示す如ぐ一対のアーク蒸発ユニット 10A、 10Bと、アーク蒸発ユニット 10A、 10Bの絶縁部材 17A、 17Bを介して、アーク蒸発 ユニット 10A、 10Bの給電棒部材 16A、 16Bを保持する円盤状の金属製フランジ 15 と、を有している。
アーク蒸発ユニット 10Aは、図 1に示す如ぐ貴金属力 なる円柱状 (棒状)の第 1の 電極 14Aと、中央に丸孔を有しこの丸孔に第 1の電極 14Aを挿入せしめてこの第 1 の電極 14Aを保持する角板状の金属製電極保持具 13Aと、第 1の電極 14Aの一端 の円形面 SA1を当接させた状態で電極保持具 13Aを適宜の固定手段 (螺子等;不 図示)により固定して保持する略矩形状の金属製ブラケット 12Aと、を備えて構成さ れている。
また、アーク蒸発ユニット 10Aは、図 2に示す如ぐフランジ 15の貫通孔(不図示)を 貫通してフランジ 15を跨ぐように延びてブラケット 12Aの側面(第 1の電極 14Aの当 接面に直交する面)に適宜の固定手段 (螺子等;不図示)により固定され、ブラケット 1 2Aを介して第 1の電極 14Aに対して所定の電力を供給可能に構成された円柱状の 金属製給電棒部材 16Aと、給電棒部材 16Aとフランジ 15の貫通孔の周面との間に 挿入されこの給電棒部材 16Aとフランジ 15との間の電気的な絶縁を保つことを可能 にする円筒状の絶縁部材 17Aと、第 1の電極 14Aをその他端の円形面 SA2から所 定長分貫通させる貫通孔を有して、ブラケット 12A、電極保持具 13A、第 1の電極 14 A、フランジ 15を境にした給電棒部材 16Aのうちの第 1の電極 14Aの側の部分およ びフランジ 15を境にした絶縁部材のうちの第 1の電極 14Aの側の部分を覆って適宜 の固定手段 (螺子等;不図示)によりフランジ 15に取り付けられた金属製 (ステンレス 製)のカバー部材 11Aと、を備えて構成されている。
なお、アーク蒸発ユニット 10Bの構成は、アーク蒸発ユニット 10Aの構成と同一であ つて、アーク蒸発ユニット 10Aの各構成要素に対応するアーク蒸発ユニット 10Bの各 構成要素については、参照符号の末尾を「A」から「B」に振り替えて図示している。よ つて、ここではアーク蒸発ユニット 10Bの各構成要素の詳細な説明は省略する。 円柱状の第 1および第 2の電極 14A、 14Bは、カバー部材 11A、 11Bの貫通孔を 貫通して互いに近接するように軸方向に延び、その結果として、第 1および第 2の電 極 14A、 14Bの他端の円形面 SA2、 SB2により挟まれた所定の円盤状の間隙 Gを 保つように互いに対向して配置されている。そして、後程詳しく述べるように、第 1およ び第 2の電極 14A、 14Bは、真空アーク放電の力ソード(陰極;ターゲット)としての役 割および真空アーク放電の力ソードから放出された蒸発物質を回収する部材として 役割を兼ね備えることになる。
また、図 1および図 2に示すように、電極保持具 13Aを介して第 1の電極 14Aを保 持した状態のブラケット 12Aは、給電棒部材 16Aを周方向に回すことにより、この給 電棒部材 16Aの軸中心 PAを中心にして所定の回転範囲に亘つて回動し得る。同様 に、電極保持具 13Bを介して第 2の電極 14Bを保持した状態のブラケット 12Bは、給 電棒部材 16Bを周方向に回すことにより、この給電棒部材 16Bの軸中心 PBを中心 にして所定の回転範囲に亘つて回動し得る。このようなブラケット 12A、 12Bの回転 によって、第 1の電極 14Aの他端の円形面 SA2と第 2の電極 14Bの他端の円形面 S B2との間の間隙 Gの寸法が簡易に調整され得ると共に、両電極 14A、 14Bを互いに 接触させて引き離すという真空アーク放電のアーク点弧 (後記)が行われる。
電極保持具 13A、 13Bは、詳しくは、これらの電極保持具 13A、 13Bの側面力ゝら突 出する突出部 (不図示)を有し、この突出部の幅方向中央部分を丸孔の径方向に沿 つて欠いて、この丸孔に至るスリット孔 (不図示)が形成されている。そして、この突出 部を丸孔の周方向に締め付ける締め付け手段 (螺子等;不図示)によって、第 1およ び第 2の電極 14A、 14Bが各々、電極保持具 13A、 13Bに固定されている。なお、こ の電極保持具 13A、 13Bは、第 1および第 2の電極 14A、 14Bを介した真空アーク 放電による加熱に耐え得るような金属(例えば、ステンレス)で構成されている。
ブラケット 12A、 12Bの内部および給電棒部材 16A、 16Bの内部は共に、中空領 域 (不図示)を有しており、この中空領域に冷却剤供給手段 (不図示)から供給された 水等の冷却剤を循環させている。このため、ブラケット 12A、 12Bを介した冷却剤との 熱交換により真空アーク放電に伴う第 1および第 2の電極 14A、 14Bの高温化が適 正に抑制されている。
カバー部材 11 A、 1 IBはフランジ 15および真空槽 20 (後記)を介して接地され、こ れにより、給電棒部材 16A、 16Bおよびブラケット 12A、 12Bおよび電極保持具 13A 、 13B並びに第 1および第 2の電極 14A、 14Bに真空アーク放電用の電力が印加さ れた際の放電領域を、第 1および第 2の電極 14A、 14Bの他端の円形面 SA2、 SB2 に制限して異常放電を防止可能なシールド板の役割を果たしている。 次に、以上に述べたアーク蒸発源 100を、真空槽 20の内部に装着させた真空蒸着 装置の構成例を説明する。
図 3は、本実施の形態に係る真空蒸着装置の一構成例を説明する模式図である。 なおここでは、図面の簡素化を図るため、アーク蒸発源 100として、その構成要素 のうちの第 1および第 2の電極 14A、 14Bのみを代表的に図示している力 実際には 、真空蒸着装置 110の真空槽 20の壁部に設けた開口部 (不図示)を介して、図 1お よび図 2に示したアーク蒸発源 100におけるアーク蒸発ユニット 10A、 10Bの第 1お よび第 2の電極 14A、 14Bを、真空槽 20の内部に挿入した上で、アーク蒸発源 100 のフランジ 15をシール部材 (Oリング等;不図示)に基づく真空シールを施して適宜の 固定手段 (螺子等;不図示)により真空槽 20の壁部に固定している(以下、図 5およ び図 6並びに図 7においても同じ。 ) o
図 3によれば、真空蒸着装置 110は、内部を減圧可能な真空槽 20と、この真空槽 2 0の内部の適所に配置された第 1および第 2の電極 14A、 14Bを有するアーク蒸発 源 100と、真空槽 20の内部の適所に配置されたワーク 21と、第 1および第 2の電極 1 4A、 14Bのうちの何れか一方の電極と真空槽 20 (陽極;アノード)との間に真空ァー ク放電を生じせしめるように、真空槽 20に正極側の端子が接続される共に、切り替え スィッチ 22を介して第 1および第 2の電極 14A、 14Bのうちの何れか一方の電極に負 極側の端子が接続される直流電力源 (電力供給手段) 23と、を備えて構成されて!ヽ る。なお、真空槽 20は接地されており、このことから直流電力源 23の正極側の端子 は接地電位に保たれる。
またここでは、真空槽 20の構造部材は、導電性の材料からなり、真空アーク放電を 実行するための回路 (部材)の一部として構成されている一方、第 1および第 2の電極 14A、 14Bは、真空槽 20と絶縁して構成されている力 勿論、真空槽 20の内部に真 空槽 20と別体のアノード (金属板等;不図示)を配置して、これに直流電力源 23の正 極側の端子を接続させても良い。
第 1および第 2の電極 14A、 14Bは詳しくは、これらの円形面 SA2、 SB2 (端面)に より間隙 Gが形成されるようにして第 1および第 2の電極 14A、 14Bの長手方向に揃 えて配置される一方、ワーク 21は間隙 Gから臨めるように、第 1および第 2の電極 14 A、 14Bの側方にて径方向に離れて配置されている。ワーク 21を、第 1および第 2の 電極 14A、 14Bに対してこの様な方向に配置すれば、第 1および第 2の電極 14A、 1 4Bのうちの何れか一方の電極と真空槽 20との間の真空アーク放電に起因して発生 するドロップレットのワーク 21の方向への飛散量が少なく好適であることが分かってい る。勿論、ドロップレットのワーク 21への付着が確認されれば、既存の各種のドロップ レット対処技術をこの真空槽 20の内部に導入して、ドロップレットのワーク 21への付 着を防止しても良い。
直流電力源 23は、約 10〜100V (ボルト)程度の電圧と、約 10〜500A (アンペア) 程度の電流を直流電力として出力する。
以上に述べた真空蒸着装置 110の構成により、直流電力源 23の負極側の端子が 、切り替えスィッチ 22のスイッチングによって貴金属(金や銀等)の第 1の電極 14Aに 接続されると共に、第 2の電極 14Bが電気的にフローティングに置かれる場合には、 第 1の電極 14Aが真空アーク放電の力ソード(陰極;ターゲット)として機能するという 真空蒸着装置 110の使用状態 (以下、「第 1の使用状態」という。)が実現される。そう なると、第 1の電極 14Aと真空槽 20との間に発生する真空アーク放電に基づき、第 1 の電極 14Aの他端の円形面 SA2からこの第 1の電極 14Aを構成する貴金属の電極 材料 (貴金属プラスイオン等)が、この円形面 SA2を臨める各方向に向け一様に放出 され、その結果、この電極材料の一部が被膜材料としてワーク 21の表面に到達して この表面に蒸着される。同時に、第 1の電極 14Aの他端の円形面 SA2からこの第 1 の電極 14Aを構成する貴金属のドロップレットは主として、第 1の電極 14Aの軸方向 に放出される。このため、第 1の電極 14Aの他端の円形面 SA2と間隙 Gを隔てて対 向する第 2の電極 14Bの他端の円形面 SB2に、第 1の電極 14Aから放出された電極 材料の一部およびドロップレット (蒸発物質)が付着され、これにより、この蒸発物質が 効率的に第 2の電極 14Bに回収され得る。
一方、直流電力源 23の負極側の端子が、切り替えスィッチ 22のスイッチングによつ て貴金属 (金や銀等)の第 2の電極 14Bに接続される共に、第 1の電極 14Aが電気 的にフローティングに置かれる場合には、第 2の電極 14Bが真空アーク放電のカソー ド (陰極;ターゲット)として機能するという真空蒸着装置 110の使用状態 (以下、「第 2 の使用状態」という。)が実現される。そうなると、第 2の電極 14Bと真空槽 20との間に 発生する真空アーク放電に基づき、第 2の電極 14Bの他端の円形面 SB2からこの第 2の電極 14Bを構成する貴金属の電極材料力 この円形面 SB2を臨める各方向に 向け一様に放出され、その結果、この電極材料の一部が被膜材料としてワーク 21の 表面に到達してこの表面に蒸着される。同時に、第 2の電極 14Bの他端の円形面 SB 2からこの第 2の電極 14Bを構成する貴金属のドロップレットは主として、第 2の電極 1 4Bの軸方向に放出される。このため、第 2の電極 14Bの他端の円形面 SB2と間隙 G を隔てて対向する第 1の電極 14Aの他端の円形面 SA2に、第 2の電極 14B力も放出 された蒸発物質が付着され、これにより、この蒸発物質が効率的に第 1の電極 14Aに 回収され得る。
こうして真空蒸着装置 110における第 1の使用状態と第 2の使用状態とを、切り替え スィッチ 22を介して一定期間毎 (例えば、一バッチ期間毎)に切り替えて繰り返すと、 第 1の使用状態の間において第 2の電極 14Bに回収された蒸発物質が、次回の第 2 の使用状態の間には、力ソードとして機能する第 2の電極 14Bの一部として再利用さ れ、第 2の使用状態の間において第 1の電極 14Aに回収された蒸発物質は、次回の 第 1の使用状態の間には、力ソードとして機能する第 1の電極 14Aの一部として再利 用され好適である。
なお、真空蒸着装置 110は、その動作を制御する制御装置 (不図示)を備え、この 制御装置が、真空蒸着装置 110における真空アーク放電を適正に制御している。 次に、本実施の形態に係る真空蒸着装置 110の動作を説明する。
なお、真空アーク放電を発生する電力供給条件や真空槽 20の内部のガス条件は 共に、公知技術に基づいており、ここでは、これらの詳細な説明は省略する。
真空蒸着装置 110の真空槽 20の内部にワーク 21およびアーク蒸発源 100を設置 した後、真空槽 20の壁部の適所から放電ガスを導いて、真空槽 20を所定の真空度( 例えば、 lPa)に保つように真空排気装置を動作させる。
この状態で、真空アーク放電の点弧を、例えば接触点弧法によって実行する。即ち 、第 1および第 2の電極 14A、 14Bを各々、軸中心 PA、 PBを中心に互いに近づくよ うに回転させて(図 1参照)、第 1および第 2の電極 14A、 14Bを互いに接触させた状 態にする。この状態で、両電極 14A、 14Bの間に電流を流して、その後、両電極 14 A、 14Bを引き離すと、両電極 14A、 14Bを引き離した瞬間に発生する火花放電によ つて真空アーク放電が誘起される。
続いて、真空蒸着装置 110における第 1の使用状態を実行するように、第 1の電極 14Aと真空槽 20に所定の電力が印加される。そうすると、第 1の電極 14Aと真空槽 2 0との間の真空アーク放電に基づいてワーク 21に第 1の電極 14Aを構成する貴金属 の被膜材料が蒸着されると共に、第 2の電極 14Bに第 1の電極 14Aから放出された 蒸発物質が回収され、回収された蒸発物質は次回の第 2の使用状態において再利 用される。
そして一バッチ期間を終えて、真空蒸着装置 110の真空を大気開放して、真空槽 2 0の内部のワーク 21を取り替えた後、再び、同様の真空アーク放電誘起動作が実行 される。その後、ワーク 21を真空蒸着装置 110における第 2の使用状態を実行するよ うに、第 2の電極 14Bと真空槽 20に所定の電力が印加される。そうすると、第 2の電 極 14Bと真空槽 20との間の真空アーク放電に基づ!/、てワーク 21に第 2の電極 14B を構成する貴金属の被膜材料が蒸着されると共に、第 1の電極 14Aに第 2の電極 14 Bから放出された蒸発物質が回収され、回収された蒸発物質は次回の第 1の使用状 態において再利用される。
〔変形例 1〕
上記実施の形態では、真空蒸着装置 110における第 1の使用状態と第 2の使用状 態との間の切り替えを、一バッチ毎に実行する例を説明した。しかしながら、こうした ノ ツチ単位の切り替えを行った場合には、図 4に示すように、第 1の使用状態によるヮ ーク 21への被膜材料の蒸着は、実線で示した Aパターンの被膜材料飛散形態に基 づきなされ、第 2の使用状態によるワーク 21への被膜材料の蒸着は、点線で示した B ノ《ターンの被膜材料飛散形態に基づきなされる。このことから被膜材料の飛散分布 力 切り替え毎 (即ち、バッチ毎)に変化して、延いては、ワーク 21への被膜材料の蒸 着膜厚分布ムラを誘発させかねな 、。
ここでは、このようなワーク 21への被膜材料の蒸着膜厚分布ムラ誘発を適切に防止 する真空蒸着装置の一構成例を説明する。 図 5は、本変形例に係る真空蒸着装置の一構成例を説明する模式図である。
図 5によれば、実施の形態の真空蒸着装置 110 (図 3)における直流電力源 23およ び切り替えスィッチ 22に替えて、本変形例に係る真空蒸着装置 120は、交流電力源 32 (電力供給手段)および 4個の第 1〜第 4のダイオード (整流素子) 31A、 31B、 31 C、 3 IDを備えて構成されている。
なお、上記以外の真空蒸着装置 120の構成は、真空蒸着装置 110 (図 3)の構成と 同じため、両者に共通する構成の説明は省く。
[0018] 交流電力源 32は、約 10〜100V (ボルト)程度の電圧と、約 10〜500A (アンペア) 程度の電流を矩形波等の交流電力として出力する。
第 1のダイオード 31Aは、交流電力源 32の一方の端子と真空槽 20との間の配線間 に、この一方の端子力も真空槽 20に向力つて導電する方向(順方向)になるように挿 入されている。また、第 2のダイオード 31Bは、交流電力源 32の一方の端子と第 2の 電極 14Bとの間の配線間に、この一方の端子力 第 2の電極 14Bに向かって導電し ない方向(逆方向)になるように挿入されている。
[0019] 第 3のダイオード 31Cは、交流電力源 32の他方の端子と真空槽 20との間の配線間 に、この他方の端子力も真空槽 20に向力つて導電する方向(順方向)になるように挿 入されている。また、第 4のダイオード 31Dは、交流電力源 32の他方の端子と第 1の 電極 14Aとの間の配線間に、この他方の端子から第 1の電極 14Aに向かって導電し ない方向(逆方向)になるように挿入されている。
このような真空蒸着装置 120の構成によれば、真空槽 20の電位 (実際には接地電 位)を基準にして、交流電力源 32の交流周期に従って、第 1の電極 14Aおよび第 2 の電極 14Bに対し交互にマイナス電位が印加されることになる。
そうすると、真空蒸着装置 120の一バッチ期間中に真空蒸着装置 120における第 1 の使用状態(図 4の Aパターンの被膜材料飛散形態)と、第 2の使用状態(図 4の Bパ ターンの被膜材料飛散形態)と、が、交流電力源 32の交流周波数相当分、一バッチ 期間中に単インターバルで多数回数に亘つて自動的に切り替えられる。このため、交 流電力源 32の交流周波数を適正に調整することにより、第 1の使用状態によるワーク 21への被膜材料の蒸着膜厚分布ムラと、第 2の使用状態によるワーク 21への被膜 材料の蒸着膜厚分布ムラと、が、互いに相殺し合って、ワーク 21への被膜材料の蒸 着膜厚分布ムラが防止できると期待される。
〔変形例 2〕
ここでは、図 4を参照して述べたワーク 21への被膜材料の蒸着膜厚分布ムラ誘発 を、適切に防止する真空蒸着装置に他の構成例を説明する。
[0020] 図 6は、本変形例に係るアーク蒸発源を装着した真空蒸着装置の一構成例を説明 する模式図である。
図 6によれば、実施の形態の真空蒸着装置 110 (図 3)における直流電力源 23およ び切り替えスィッチ 22に替えて、本変形例に係る真空蒸着装置 130は、第 1の電極 1 4Aに電力を供給可能な第 1の直流電力源 41 (電力供給手段)と、第 2の電極 14Bに 電力を供給可能な第 2の直流電力源 42 (電力供給手段)と、を備えて構成されてい る。
なお、上記以外の真空蒸着装置 120の構成は、真空蒸着装置 110 (図 3)の構成と 同じため、両者に共通する構成の説明は省く。
第 1の直流電力源 41では、第 1の電極 14A (力ソード;ターゲット)と真空槽 20 (陽 極;アノード)との間に真空アーク放電を生じせしめるように、真空槽 20に第 1の直流 電力源 41の正極側の端子が接続される共に、第 1の電極 14Aにその負極側の端子 が接続されている。なお、真空槽 20は接地されており、このことから第 1の直流電力 源 41の正極側の端子は接地電位に保たれる。
[0021] 同様に、第 2の直流電力源 42では、第 2の電極 14B (力ソード;ターゲット)と真空槽 20 (陽極;アノード)との間に真空アーク放電を生じせしめるように、真空槽 20に第 2 の直流電力源 42の正極側の端子が接続される共に、第 2の電極 14Bにその負極側 の端子が接続されている。なお、真空槽 20は接地されており、このことから第 2の直 流電力源 42の正極側の端子は接地電位に保たれる。
このような真空蒸着装置 130の構成によれば、第 1の直流電力源 41による第 1の電 極 14Aへの真空アーク放電用の電力供給および第 2の直流電力源 42による第 2の 電極 14Bへの真空アーク放電用の電力供給が同時期に実行され、これにより、第 1 の使用状態によるワーク 21への被膜材料の蒸着膜厚分布ムラと、第 2の使用状態に よるワーク 21への被膜材料の蒸着膜厚分布ムラと、力 互いに相殺し合って、ワーク 21への被膜材料の蒸着膜厚分布ムラが防止できると期待される。
もっとも、本変形例のデメリットとして、第 1および第 2の電極 14A、 14Bにおいて力 ソードイオン (プラスイオン)の回収が困難になることが想定される。
〔変形例 3〕
真空蒸着装置 110の第 1の使用状態によれば、第 1の電極 14Aと真空槽 20との間 に発生する真空アーク放電に基づき、第 1の電極 14Aの他端の円形面 SA2からこの 第 1の電極 14Aを構成する貴金属の電極材料が、この円形面 SA2を臨める各方向 に向け一様に放出される。同様に、真空蒸着装置 120の第 2の使用状態によれば、 第 2の電極 14Bと真空槽 20との間に発生する真空アーク放電に基づき、第 2の電極 14Bの他端の円形面 SB2からこの第 2の電極 14Bを構成する貴金属の電極材料が 、この円形面 SB2を臨める各方向に向け一様に放出される。このため、ワーク 21を配 置した領域を除いた間隙 G (円形面 SA2、 SB2)を臨める各方向に、第 1および第 2 の電極 14A、 14B力も放出した電極材料は、回収されること無く真空槽 20の壁部や 真空槽 20の内部の構造体に付着される。
ここでは、このような電極材料を回収する真空蒸着装置の一構成例を説明する。 図 7は、本変形例に係る真空蒸着装置の一構成例を説明する模式図であり、第 1 および第 2の電極 14A、 14Bの軸方向力 見た図である。
図 7によれば、真空蒸着装置 140は、真空槽 20の内部に配置され、円筒部材を略 半割りした回収部材 51を備えて構成されている。
即ち、この回収部材 51は回収部材 51の長手方向(幅方向と直交する方向)を、第 1および第 2の電極 14A、 14Bの軸方向に並行にして配置されると共に、回収部材 5 1の内面 52は、ワーク 21と間隙 Gとの間の領域を除き間隙 Gを囲むように湾曲してい る。
このような回収部材 51によれば、ワーク 21を配置した領域を除いた間隙 G (円形面 SA2、 SB2)を臨める各方向に、第 1および第 2の電極 14A、 14Bから放出した電極 材料が、殆ど回収部材 51の内面 52に付着する。そして、電極材料を付着した状態 の回収部材 51を真空槽 20から取り出すと、この電極材料を、適宜の剥離法により回 収部材 51から剥離でき電極材料が確実に回収される。
上記説明から、当業者にとっては、本発明の多くの改良や他の実施形態が明らか である。従って、上記説明は、例示としてのみ解釈されるべきであり、本発明を実行 する最良の態様を当業者に教示する目的で提供されたものである。本発明の精神を 逸脱することなぐその構造及び Z又は機能の詳細を実質的に変更できる。
産業上の利用可能性
本発明によるアーク蒸発源および真空蒸着装置は、例えば、真空アーク放電によ つてワークに被膜を形成する装置として有用である。

Claims

請求の範囲
[1] 間隙を隔てて互いに対向する第 1および第 2の電極を備え、
前記第 1および第 2の電極のうちの少なくとも何れか一方の電極を力ソードとして、 前記力ソードとアノードとの間に発生する真空アーク放電に基づいて、前記第 1およ び第 2の電極のうちの他方の電極が、前記力ソードから放出された蒸発物質を回収 可能に構成されているアーク蒸発源。
[2] 請求項 1記載のアーク蒸発源を減圧可能な内部に配置した真空槽と、前記カソー ドと前記アノードとの間に真空アーク放電を生じせしめる電力を、前記力ソードおよび 前記アノードに供給する電力供給手段と、を備えた真空蒸着装置。
[3] 前記アノードが、前記真空槽である請求項 2記載の真空蒸着装置。
[4] 前記蒸発物質は、前記力ソードの材料力もなるドロップレットおよびイオンである請 求項 2記載の真空蒸着装置。
[5] 前記真空槽の内部に配置されたワークを備え、
前記第 1および第 2の電極は棒材であり、前記第 1および第 2の電極は、これらの端 面により前記間隙が挟まれるように前記第 1および第 2の電極の長手方向を揃えて配 置され、前記ワークは前記間隙から臨める位置に配置されている請求項 2記載の真 空蒸着装置。
[6] 前記真空槽の内部に配置され、前記蒸発物質を回収する回収部材を備え、
前記回収部材の面が、前記ワークと前記間隙との間の領域を除き、前記間隙を囲 むように湾曲して構成される請求項 5記載の真空蒸着装置。
[7] 前記第 1の電極が、前記力ソードである第 1の使用状態と、前記第 2の電極が、前記 力ソードである第 2の使用状態と、を有する請求項 2記載の真空蒸着装置。
[8] 前記第 1の使用状態と前記第 2の使用状態との間の切り替えを実行する切り替え手 段を備えた請求項 7記載の真空蒸着装置。
[9] 前記電力供給手段は、直流電力源であり、
前記切り替え手段は、前記直流電力源の陰極側の端子との接続を、前記第 1の電 極と第 2の電極との間でスイッチングするスィッチである請求項 8記載の真空蒸着装 置。
[10] 前記電力供給手段は、交流電力源であり、
前記切り替え手段は、前記交流電力源の一方の端子と前記第 1の電極との間、お よび前記交流電力源の他方の端子と第 2の電極との間において、前記交流電力源 から供給される電力を整流する整流素子を有する請求項 8記載の真空蒸着装置。
[11] 前記電力供給手段は、前記第 1の電極に接続する負極側の端子および前記ァノー ドに接続する正極側の端子を有する第 1の直流電力源と、前記第 2の電極に接続す る負極側の端子および前記アノードに接続する正極側の端子を有する第 2の直流電 力源と、を備えた請求項 2記載の真空蒸着装置。
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