WO2007139072A1 - Snめっきの耐熱剥離性に優れるCu-Zn系合金条及びそのSnめっき条 - Google Patents

Snめっきの耐熱剥離性に優れるCu-Zn系合金条及びそのSnめっき条 Download PDF

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Definitions

  • the present invention relates to a Cu—Zn alloy strip that is suitable as a conductive material such as a connector, a terminal, a relay, and a switch and that has excellent heat resistance peelability for Sn plating, and its Sn plating strip.
  • Cu-Zn alloys are widely used as electrical contact materials for connectors, terminals, relays, switches and the like because they are less expensive than phosphor bronze, beryllium copper, Corson alloys, etc., but are inexpensive.
  • a typical Cu-Zn alloy is brass, and alloys such as C2600 and C2680 are defined in JIS H3100.
  • Sn plating is often applied to obtain low contact resistance stably.
  • Cu—Zn alloy Sn plating strips make use of Sn's excellent solder wettability, corrosion resistance, and electrical connectivity, and are used for automotive wiring harness terminals, printed circuit board (PCB) terminals, and consumer connector contacts. Used in large quantities for electrical and electronic parts such as!
  • thermal peeling a phenomenon in which the plating layer peels from the base material.
  • Addition of Zn to the copper alloy improves the thermal debonding characteristics. Therefore, the heat-resistant peelability of the Cu—Zn alloy is relatively good.
  • Cu-Zn-based alloy Cu plating is generally used for Sn plating strips, and Cu / Ni double-layer coating may be applied for applications that require heat resistance.
  • Cu / Ni double-layer plating is a plating that has been subjected to reflow treatment after electrical plating in the order of Ni coating, Cu coating, and Sn plating.
  • the composition of the layer is Sn, Cu-Sn, Ni, and base material from the surface. Details of this technique are disclosed in Patent Documents 1 to 3 and the like.
  • Patent Document 1 JP-A-6-196349
  • Patent Document 2 Japanese Patent Laid-Open No. 2003-293187
  • Patent Document 3 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-68026
  • the inventor has intensively studied measures for improving the heat-resistant peelability of reflow Sn-plated strips of Cu-Zn alloys. As a result, it was found that by controlling the concentrations of S, ⁇ , P, As, Sb, Bi, Ca, and Mg, the heat-resistant peelability can be greatly improved.
  • the present invention has been made based on this discovery and is as follows.
  • the Cu-Zn alloy strip of (1) or (2) is used as the base material, and the plating film is composed of the Sn phase, Sn-Cu alloy phase, and Cu phase layers from the surface to the base material.
  • the thickness of the phase is 0.;! ⁇ 1.5 ⁇ m, the thickness of the Sn—Cu alloy phase is 0 ⁇ ! ⁇ 1 ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇
  • the thickness of the Cu phase is 0 ⁇ 0.8 m Cu-Zn alloy Sn plating strip with excellent heat-resistant peelability.
  • the plating film is composed of the Sn phase, Sn-Cu alloy phase, and Ni phase layers from the surface to the base material.
  • Phase thickness is 0.;! ⁇ 1.5 ⁇ m, Sn—Cu Alloy Thickness Strength 0.1— 1. ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ Ni Thickness Thickness Strength 0.1—0.8 m Zn-based alloy Sn plating strip.
  • the Sn plating of Cu-Zn alloy can be performed before pressing the part (pre-plating) and after pressing (post-plating). Is obtained.
  • FIG. 1 A profile in the depth direction of the copper concentration of the sample of Invention Example 23 (Table 2, Cu undercoat).
  • the present invention is intended for a copper alloy containing 15 to 40% by mass of Zn, and the effect of the invention is not exhibited for a copper alloy in which Zn is out of this range.
  • Brass is mentioned as a copper alloy containing 15 to 40% by mass of Zn.
  • yellow powers such as C2600, C2680, and C2720 are specified. Beyond Zn force 40 mass 0/0, and manufacturability is deteriorated, lowering the greater conductivity. If the Zn content is less than 15% by mass, the strength will be insufficient. Preferably it is 27-38 mass%.
  • the alloy of the present invention further includes Sn, Ni, Si, Fe, Mn, Co, Ti, Cr, Zr, Al, and Ag for the purpose of improving the strength, heat resistance, stress relaxation resistance, etc. of the alloy.
  • One or more of the above can be added in a total amount of 0 ⁇ 01-5.0% by mass.
  • the addition of alloy elements may lead to a decrease in electrical conductivity, a decrease in manufacturability, an increase in raw material costs, and so on, so this must be taken into consideration.
  • the total amount of these elements is less than 0.01% by mass, the effect of improving the characteristics is not exhibited.
  • the total amount of the above elements exceeds 5.0% by mass, the decrease in conductivity becomes significant. Therefore, the total amount is defined as 0.01-5.0 mass%. Preferably it is 0.;!-3.0 mass%.
  • VB group P, As, Sb and Bi are elements that promote thermal exfoliation by concentrating at the interface between the plating and the base metal. Therefore, the total concentration is regulated to 100 mass ppm or less. A more preferred concentration is 5 mass ppm or less.
  • P is an element often used as a deoxidizer and alloying element for copper alloys. For example, as shown in JP-A-60-86230, P should be added to a Cu-Zn alloy to improve its characteristics. There is also. In order to keep the P concentration low, it is necessary not to add P as a deoxidizer or alloy element, but also to not use copper alloy scrap containing P as a raw material.
  • Sb, and Bi are typical impurities contained in electrolytic copper, which is a main raw material for copper products. In order to keep these concentrations low, it is necessary to avoid the use of low-grade electrolytic copper.
  • the lower limit of the total concentration of P, As, Sb, and Bi is not particularly restricted, but if you try to lower it to less than 1 mass p pm, a great deal of cost is required. Usually it is.
  • Mg and Ca as elements that promote thermal separation by concentrating at the interface between the plating and the base metal. Therefore, the total concentration of Mg and Ca is regulated to 100 mass ppm or less. More preferred! /, Concentration is less than 5 ppm by mass.
  • Mg is an element often used as a deoxidizer and alloying element for copper alloys.
  • Mg has a remarkable effect on stress relaxation properties, so it is often used as an additive component.
  • it is necessary not to add Mg as a deoxidizer or alloy element, but also to not use copper alloy scrap containing Mg as a raw material.
  • Ca is an element that is likely to be mixed from a refractory, a molten metal coating, or the like when a Cu-Zn alloy is melted. It is important to use materials that do not contain Ca as materials that come into contact with the molten metal.
  • the lower limit of the total concentration of Mg and Ca is not particularly restricted, it is becoming more than 0.5 mass ppm because it requires a great deal of cost to reduce it to less than 0.5 mass ppm. It is normal.
  • Each concentration of O and S is regulated to 30 mass ppm or less. If any concentration exceeds 30 mass pp m, the heat-resistant peelability of the Sn plating deteriorates.
  • it is effective to coat the molten metal surface with charcoal during ingot production. In this case, if moisture is adsorbed on the charcoal, this moisture becomes a source of oxygen contamination, so it is important to use charcoal that is sufficiently dry.
  • the charcoal coating is composed of chloride, fluoride, etc. If a salt coating is used in combination, the molten metal is cut off from the atmosphere, so a higher deoxidation effect can be obtained.
  • a desulfurizing agent such as CO can be added to the molten metal to remove S contained in the molten metal.
  • a Cu plating layer and a Sn plating layer are sequentially formed on the Cu-Zn alloy base material by electric plating, and then reflow treatment is performed.
  • the Cu plating layer reacts with the Sn plating layer to form a Sn—Cu alloy phase, and the plating layer structure becomes Sn phase, Sn—Cu alloy phase, and Cu phase from the surface side.
  • the solder wettability decreases, and when it exceeds 1.5 111, the thermal stress generated inside the adhesion layer when heated is increased, and the plating peeling is promoted.
  • the more preferred range is 0 ⁇ 2 ⁇ ; L O ⁇ m.
  • the Sn—Cu alloy phase Since the Sn—Cu alloy phase is hard, if it exists in a thickness of 0.1 ⁇ m or more, it contributes to a reduction in soot input. On the other hand, when the thickness of the Sn—Cu alloy phase exceeds 1.5 m, the thermal stress generated inside the adhesion layer when heated increases, and the plating peeling is promoted. A more preferable thickness is 0 • 5 to .2 m.
  • solder wettability is improved by performing Cu undercoating. Therefore, it is necessary to apply Cu grounding of 0.1 m or more during electrodeposition.
  • This Cu base coating may be consumed and lost during Sn-Cu alloy phase formation during reflow. That is, the lower limit value of the Cu phase thickness after reflow is not regulated, and the thickness may be zero.
  • the upper limit of the thickness of the Cu phase is set to 0 ⁇ 8 Hm or less in the state after reflow. If it exceeds 0.8 jm, the thermal stress generated inside the adhesion layer when heated is increased, and plating peeling is promoted.
  • a more preferable Cu phase thickness is 0.4 m or less.
  • the thickness of each plating at the time of electrical plating is set to 0 for Sn plating.
  • a Ni plating layer, a Cu plating layer, and a Sn plating layer are sequentially formed on the Cu-Zn alloy base material by electric plating, and then reflow treatment is performed.
  • reflow treatment Cu plating reacts with Sn to become Sn-Cu alloy phase, and Cu phase disappears.
  • the Ni layer remains in a state where the thickness immediately after the electroplating is maintained. As a result, the structure of the plating layer becomes Sn phase, Sn—Cu alloy phase, and Ni phase from the surface side.
  • the solder wettability decreases, and when it exceeds 1.5 111, the thermal stress generated inside the adhesion layer when heated is increased, and the plating peeling is promoted.
  • a more preferred range is 0 ⁇ 2 ⁇ ; L O ⁇ m.
  • the Sn-Cu alloy phase Since the Sn-Cu alloy phase is hard, if it exists with a thickness of 0.1 m or more, it contributes to a reduction in the input power. On the other hand, when the thickness of the Sn—Cu alloy phase exceeds 1.5 m, the thermal stress generated inside the adhesion layer when heated increases, and the plating peeling is promoted. More preferred thickness is 0
  • the thickness of the Ni phase is 0 ⁇ ;! ⁇ 0 ⁇ 8 ⁇ m. If the Ni thickness is less than 0 ⁇ 1 m, the corrosion resistance and heat resistance will decrease. When the Ni thickness exceeds 0.8 m, the thermal stress generated in the adhesion layer when heated is increased, and plating peeling is promoted. More preferable N ⁇ thickness is 0
  • the thickness of each plating at the time of electroplating is in the range of 0.5 to 1.8 nm for Sn plating, Cu plating (or 0.1 to 0.4 m, Ni plating) (Make appropriate adjustment in the range of 0.1 to 0.8 ⁇ m, and perform reflow treatment under appropriate conditions in the range of 230 to 600 ° C and 3 to 30 seconds.
  • Electrolysis was performed in a copper nitrate bath using commercially available electrolytic copper as an anode, and high-purity copper was deposited on a force sword.
  • the P, As, Sb, Bi, Ca, Mg, and S concentrations in this high purity copper were all less than 1 ppm by mass.
  • this high purity copper was used as an experimental material.
  • the molten metal was poured into a mold to produce an ingot having a width of 60 mm and a thickness of 30 mm, and processed into a Cu underlayer reflow Sn plating material and a Cu / Ni underlayer reflow Sn plating material in the following steps.
  • Step 1 After heating at 800 ° C. for 3 hours, hot rolling to a thickness of 8 mm.
  • Step 2 Remove the oxidized scale on the surface of the hot rolled sheet with a grinder.
  • Step 4 Heat at 400 ° C for 30 minutes as recrystallization annealing.
  • Step 5 Pick up with 10% sulfuric acid-1% hydrogen peroxide solution and mechanical polishing with # 1200 emery paper in order to remove the surface oxide film.
  • Step 7 Heat at 400 ° C for 30 minutes as recrystallization annealing.
  • Step 8 Pickle with 10% sulfuric acid 1% hydrogen peroxide solution to remove the surface oxide film.
  • Step 10 Perform electrolytic degreasing under the following conditions using a sample as a force sword in an alkaline aqueous solution. Current density: 3A / dm 2.
  • Degreasing agent Trademark “Pakuna P105” manufactured by Yuken Industry Co., Ltd. Degreasing agent concentration:
  • Step 11 Pickling using a 10 mass% sulfuric acid aqueous solution.
  • Plating bath composition nickel sulfate 250g / L, nickel chloride 45g / L, boric acid 30g / L.
  • Ni plating thickness is adjusted by electrodeposition time.
  • Plating bath composition copper sulfate 200g / L, sulfuric acid 60g / L.
  • Step 14 Apply Sn plating under the following conditions.
  • 'Plating bath composition stannous oxide 41g / L, phenolsulfonic acid 268g / L, surfactant 5g / L.
  • Step 15 As a reflow treatment, put the sample in a heating furnace adjusted to 400 ° C and nitrogen (oxygen lvol% or less) for 10 seconds and cool with water.
  • Zn and Sn concentrations are measured by I CP emission spectroscopy, and P, As, Sb, Bi, Ca, Mg and S concentrations are determined by ICP mass spectrometry, and O The concentration was measured by an inert gas melting infrared absorption method.
  • the concentration profiles of Sn, Cu, and Ni in the depth direction were determined by GDS (Glow Discharge Optical Emission Spectrometer). The measurement conditions are as follows.
  • Fig. 1 shows the data of Invention Example 23 (Table 2, Cu base coating), which will be described later, as a typical concentration profile by GDS.
  • Table 2 Cu base coating
  • the thickness of this layer was read as the Cu phase thickness.
  • the thickness of the Ni base plating (Ni phase) was determined from the Ni concentration profile data.
  • Strip specimens with a width of 10 mm were collected and heated to a temperature of 105 ° C or 150 ° C up to 3000 hours in the atmosphere. In the meantime, the sample was taken out of the heating furnace every 100 hours and subjected to 90 ° bending and bending back with a bending radius of 0.5 mm (90 ° bending was performed once and again). Then, the surface of the inner periphery of the sample was observed with an optical microscope (magnification 50 times) to examine the presence or absence of plating peeling.
  • the Cu / Ni underlaying material electroplating is performed at 400 ° C with a Ni thickness of 0.2 ⁇ 111, a Cu thickness of 0.3 mm, and a Sn thickness of 0.8 m.
  • the Sn phase thickness was about 0.4 ⁇ 111 and the Cu-Sn alloy phase was about 1 m in all invention examples and comparative examples.
  • the Cu phase disappeared and the Ni phase disappeared. Remained in the thickness (0 ⁇ 2 m) at the time of electrodeposition.
  • Mg and Ca concentrations are changed under conditions where the P, As, Sb, Bi, S, and O concentrations are low.
  • the stripping time at 105 ° C is less than 3000 hours regardless of whether the substrate is Cu or Cu / Ni.
  • shortening of the peeling time is not observed at 150 ° C, and the adverse effects of Mg and Ca are more prominent at 105 ° C.
  • Comparative Examples 6 and 7 are alloys in which S and O exceed 30 mass ppm, respectively. In both cases, the peel-off time of 105 ° C and 150 ° C is less than 3000 hours regardless of whether the substrate is Cu or Cu / Ni.
  • Inventive Examples 10 to 13 are the force S that changes the Zn concentration within the scope of the present invention, and in any case, plating peeling does not occur after 3000 hours.
  • Inventive Examples 14 to 20 are small examples selected from the group consisting of Sn, Ni, Si, Fe, Mn, Co, Ti, Cr, Zr, Al, and Ag within the scope of the present invention. Even if at least one kind is added, the strength is V, the displacement is! /, But no plating peeling occurs after 3000 hours.
  • Tables 2 and 3 show examples in which the effect of plating thickness on heat-resistant peelability was investigated.
  • the base material composition is Cu—30.0% by mass21, the total concentration of P, As, Sb, and Bi is 3.2 mass ppm, the total concentration of Mg and Ca is 2.1 mass ppm, the O concentration is 18 mass ppm, and the S concentration is 12 Mass at p pm.
  • the electrodeposition thickness of the Cu base was set to 0.8 111, and the thickness of Sn was changed.
  • the Sn electrodeposition thickness was 2.0 m and reflow was performed under the same conditions as the others, the thickness of the Sn phase after reflow exceeded 1.5 mm.
  • Comparative Example 9 in which the Sn electrodeposition thickness was 2.0 m and the reflow time was extended, the Sn—Cu alloy phase thickness after reflow exceeded 1.5 111.
  • the peeling time was less than 3000 hours at both 105 ° C and 150 ° C.
  • Table 3 shows data for Cu / Ni undercoat.
  • Invention Examples 29 to 35 which are the alloys of the present invention, plating peeling occurred even after heating for 3,000 hours at 105 ° C and 150 ° C.
  • the electrodeposition thickness of Sn was set to 0.9 ⁇ ⁇ Cu, and the thickness of the Ni underlayer was changed to 0.2111.
  • the stripping time was less than 3000 hours at both 105 ° C and 150 ° C.
  • the electrodeposition thickness of the Cu underlayer was set to 0. ⁇ ⁇ Ni, and the thickness of Sn was varied.
  • the peeling time was below 3000 hours at both 105 ° C and 150 ° C.

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Abstract

 Snめっきの耐熱剥離性を改善したCu-Zn系合金条及びそのSnめっき条を提供する。15~40質量%のZnを含有し残部がCuおよび不可避的不純物からなるCu-Zn系合金条において、P、As、Sb及びBi濃度の合計を100質量ppm以下、Ca及びMg濃度の合計を100質量ppm以下、O及びS濃度をそれぞれ30質量ppm以下に規制する。

Description

明 細 書
Snめっきの耐熱剥離性に優れる Cu— Zn系合金条及びその Snめっき条 技術分野
[0001] 本発明は、コネクタ、端子、リレー、スィッチ等の導電性材料として好適で、 Snめつ きの耐熱剥離性に優れる Cu— Zn系合金条及びその Snめっき条に関する。
背景技術
[0002] Cu— Zn系合金は、りん青銅、ベリリウム銅、コルソン合金等と比較するとばね性が 劣るものの廉価なため、コネクタ、端子、リレー、スィッチ等の電気接点材料として広く 使用されている。 Cu— Zn系合金として代表的なものは黄銅であり、 C2600、 C2680 等の合金が JIS H3100に規定されている。 Cu— Zn系合金を電気接点材料に用い る場合、低い接触抵抗を安定して得るために Snめっきを施すことが多い。 Cu— Zn 系合金の Snめっき条は、 Snの優れた半田濡れ性、耐食性、電気接続性を生かし、 自動車電装用ワイヤーハーネスの端子、印刷回路基板 (PCB)の端子、民生用のコ ネクタ接点等の電気 ·電子部品に大量に使われて!/、る。
[0003] 通常、銅合金のリフロー Snめっき条を高温で長時間保持すると、めっき層が母材よ り剥離する現象(以下、熱剥離)が生じる。銅合金に Znを添加すると、熱剥離特性は 向上する。したがって、 Cu— Zn系合金の耐熱剥離性は比較的良好である。
上記 Cu— Zn系合金の Snめっき条は、脱脂及び酸洗の後、電気めつき法により下 地めつき層を形成し、次に電気めつき法により Snめっき層を形成し、最後にリフロー 処理を施し Snめっき層を溶融させる工程で製造される。
Cu— Zn系合金 Snめっき条の下地めつきとしては、 Cu下地めつきが一般的であり、 耐熱性が求められる用途に対しては Cu/Ni二層下地めつきが施されることもある。こ こで、 Cu/Ni二層下地めつきとは、 Ni下地めつき、 Cu下地めつき、 Snめっきの順に 電気めつきを行った後にリフロー処理を施しためっきであり、リフロー後のめっき皮膜 層の構成は表面から Sn相、 Cu— Sn相、 Ni相、母材となる。この技術の詳細は特許 文献 1〜3等に開示されている。
[0004] 特許文献 1 :特開平 6— 196349号公報 特許文献 2 :特開 2003— 293187号公報
特許文献 3:特開 2004— 68026号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0005] しかしながら、近年、耐熱剥離性に対し、より高温で長期間の信頼性が求められる ようになり、従来の比較的良好な耐熱剥離性を有している Cu— Zn系合金に対しても 、更に良好な耐熱剥離性が求められるようになった。
本発明の目的は、すずめつきの耐熱剥離性を改善した Cu— Zn系合金すずめつき 条を提供することであり、特に、 Cu下地めつき、又は Cu/Ni二層下地めつきに関し て改善された耐熱剥離性を有する Cu— Zn系合金すずめつき条を提供することであ 課題を解決するための手段
[0006] 本発明者は、 Cu— Zn系合金のリフロー Snめっき条の耐熱剥離性を改善する方策 を鋭意研究した。その結果、 S、〇、 P、 As、 Sb、 Bi、 Ca及び Mgの濃度を規制するこ とにより、耐熱剥離性を大幅に改善できることを見出した。
本発明は、この発見に基づき成されたものであり、以下の通りである。
( 1 ) 1 5〜40質量%の Znを含有し残部が Cuおよび不可避的不純物からなり、不可 避的不純物中 P、 As、 Sb及び Bi濃度の合計が 100質量 ppm以下、 Ca及び Mg濃度 の合計が 100質量 ppm以下、 O濃度が 30質量 ppm以下、 S濃度が 30質量 ppm以 下であることを特徴とする Snめっきの耐熱剥離性に優れる Cu— Zn系合金条。
(2) Sn、 Ni、 Si、 Fe、 Mn、 Co、 Ti、 Cr、 Zr、 Al及び Agの中の一種以上を 0· 0;!〜 5 . 0質量%の範囲で含有することを特徴とする(1 )の Cu— Zn系合金条。
(3) ( 1 )または(2)の Cu— Zn系合金条を母材とし、表面から母材にかけて、 Sn相、 S n— Cu合金相、 Cu相の各層でめっき皮膜が構成され、 Sn相の厚みが 0.;!〜 1. 5 μ m、 Sn— Cu合金相の厚みが 0·;!〜 1 · δ μ ηι^ Cu相の厚みが 0〜0· 8 mであるこ とを特徴とする、耐熱剥離性に優れる Cu— Zn系合金 Snめっき条。
(4) ( 1 )または(2)の Cu— Zn系合金条を母材とし、表面から母材にかけて、 Sn相、 S n— Cu合金相、 Ni相の各層でめっき皮膜が構成され、 Sn相の厚みが 0.;!〜 1. 5 μ m、 Sn— Cu合金申目の厚み力 0. 1— 1. δ μ ΐ ^ Ni申目の厚み力 0. 1—0. 8 mである ことを特徴とする、耐熱剥離性に優れる Cu— Zn系合金 Snめっき条。
なお、 Cu— Zn系合金の Snめっきは、部品へのプレス加工の前に行う場合(前めつ き)とプレス加工後に行う場合(後めつき)がある力 両場合とも、本発明の効果は得ら れる。
図面の簡単な説明
[0007] [図 1]発明例 23 (表 2、 Cu下地めつき)の試料の銅濃度の深さ方向のプロファイルで ある。
発明を実施するための最良の形態
[0008] ( 1 )母材の成分
(ィ)合金元素
本発明は 15〜40質量%の Znを含有する銅合金を対象とするものであり、 Znがこ の範囲から外れる銅合金に対しては、発明の作用効果が発現しない。
15〜40質量%の Znを含有する銅合金として黄銅が挙げられる。 JIS— H3100で は C2600、 C2680、 C2720等の黄同力規定されている。 Zn力 40質量0 /0を超えると 、製造性が劣化し、導電率低下も大きくなる。 Znが 15質量%未満になると強度が不 足する。好ましくは 27〜38質量%である。
本発明の合金には、更に、合金の強度、耐熱性、耐応力緩和性等を改善する目的 で、 Sn、 Ni、 Si、 Fe、 Mn、 Co、 Ti、 Cr、 Zr、 Al及び Agの中の一種以上を合計で 0· 01 - 5. 0質量%添加することができる。ただし、合金元素の追加は、導電率の低下 、製造性の低下、原料コストの増加等を招くことがあるので、この点への配慮は必要 である。これら元素の合計量が 0. 01質量%未満では、特性改善効果が発現しない 。一方、上記元素の合計量が 5. 0質量%を超えると、導電率低下が著しくなる。そこ で、合計量を 0. 01 - 5. 0質量%に規定する。好ましくは 0. ;!〜 3. 0質量%である。
[0009] (口)不純物
VB族の P、 As、 Sb及び Biは、めっきと母材との界面に濃化することにより、熱剥離 を促進する元素である。そこで、これらの濃度を合計で 100質量 ppm以下に規制す る。より好ましい濃度は 5質量 ppm以下である。 Pは銅合金の脱酸剤や合金元素として良く用いられる元素であり、例えば特開昭 6 0— 86230号公報に見られるように、特性改善のため Cu— Zn系合金に Pを添加する こともある。 P濃度を低く抑えるためには、脱酸剤や合金元素として Pを添加しないこと はもちろん、 Pを含有する銅合金スクラップを原料として用いないことなども必要であ
[0010] As、 Sb及び Biは、伸銅品の主要原料である電気銅が含有する代表的な不純物で ある。これらの濃度を低く抑えるためには、品位の低い電気銅の使用を避ける必要が ある。
P、 As、 Sb及び Biの合計濃度の下限値は特に規制されるものではないが、 1質量 p pm未満に下げようとすると多大な精鍊コストが必要となるため、 1質量 ppm以上とな つているのが通常である。
次に、めっきと母材の界面に濃化することにより熱剥離を促進する元素として、 P、 A s、 Sb、 Bi以外に、 Mgと Caがある。そこで、 Mgと Caの濃度を合計で 100質量 ppm 以下に規制する。より好まし!/、濃度は 5質量 ppm以下である。
Mgは銅合金の脱酸剤や合金元素として良く用いられる元素であり、特に応力緩和 特性に対する Mgの効果は顕著であるため添加成分として使用されることが多い。 M gを低く抑えるためには、脱酸剤や合金元素として Mgを添加しないことはもちろん、 Mgを含有する銅合金スクラップを原料として用いないことなども必要である。
[0011] Caは、 Cu— Zn系合金を溶製する際に、耐火物や溶湯被覆剤等から混入しやすい 元素である。溶湯と接触する資材に Caを含有しないものを用いることが肝要である。
Mg及び Caの合計濃度の下限値は特に規制されるものではないが、 0. 5質量 ppm 未満に下げようとすると多大な精鍊コストが必要となるため、 0. 5質量 ppm以上となつ ているのが通常である。
O及び Sの各濃度は、 30質量 ppm以下に規制する。いずれかの濃度が 30質量 pp mを超えると、 Snめっきの耐熱剥離性が劣化する。 O濃度を低く抑えるためには、ィ ンゴット製造時に溶湯表面を木炭で被覆することが有効である。この場合、木炭に水 分が吸着しているとこの水分が酸素の混入源となるため、十分に乾燥した木炭を使 用することが肝要である。また、木炭被覆に塩化物や弗化物等から構成される溶融 塩による被覆を併用すれば、溶湯が大気と遮断されるため、より高い脱酸効果が得ら れる。
s濃度を低く抑えるためには、原料、溶湯と接触する耐火物、溶湯被覆剤等からの Sの混入を防止することが必要であり、これらの品質を厳選することが必要であるが、 Na CO等の脱硫剤を溶湯上に添加し、溶湯中に含有された Sを除去することもでき
[0012] (2)めっきの厚み
(2— l ) Cu下地めつき
Cu下地めつきの場合、 Cu— Zn系合金母材上に、電気めつきにより Cuめっき層及 び Snめっき層を順次形成し、その後リフロー処理を行う。このリフロー処理により、 Cu めっき層と Snめっき層が反応して Sn— Cu合金相が形成され、めっき層構造は、表 面側より Sn相、 Sn— Cu合金相、 Cu相となる。
リフロー後のこれら各相の厚みは、
•¾n¾ : 0. 1〜丄. 5 m、
•Sn— Cu合金相: 0. 1— 1. δ β ϊη^
•Cu相: 0〜0. 8 β ϊη
の範囲に調整する。
Sn相が 0. 未満になると半田濡れ性が低下し、 1. 5 111を超えると加熱した 際にめつき層内部に発生する熱応力が高くなり、めっき剥離が促進される。より好まし い範囲は 0 · 2〜; L O ^ mである。
[0013] Sn— Cu合金相は硬質なため、 0. 1 μ m以上の厚さで存在すると揷入力の低減に 寄与する。一方、 Sn— Cu合金相の厚さが 1. 5 mを超えると、加熱した際にめつき 層内部に発生する熱応力が高くなり、めっき剥離が促進される。より好ましい厚みは 0 • 5〜 . 2 mである。
Cu— Zn系合金では Cu下地めつきを行うことにより、半田濡れ性が向上する。した がって、電着時に 0. 1 m以上の Cu下地めつきを施す必要がある。この Cu下地め つきは、リフロー時に Sn— Cu合金相形成に消費され消失しても良い。すなわち、リフ ロー後の Cu相厚みの下限値は規制されず、厚みがゼロになってもよい。 [0014] Cu相の厚みの上限値は、リフロー後の状態で 0· 8 H m以下とする。 0. 8 j mを超 えると加熱した際にめつき層内部に発生する熱応力が高くなり、めっき剥離が促進さ れる。より好ましい Cu相の厚みは 0· 4 m以下である。
上記めつき構造を得るためには、電気めつき時の各めつきの厚みを、 Snめっきは 0
• 5—1. 8〃mの範囲、 Cuめっきは 0· 1— 1. 2 mの範囲で適宜調整し、 230—60 0°C、 3〜 30秒間の範囲の中の適当な条件でリフロー処理を行う。
[0015] (2— 2) Cu/Ni下地めつき
Cu/Ni下地めつきの場合、 Cu— Zn系合金母材上に、電気めつきにより Niめっき 層、 Cuめっき層及び Snめっき層を順次形成し、その後リフロー処理を行う。このリフ ロー処理により、 Cuめっきは Snと反応して Sn- Cu合金相となり、 Cu相は消失する。 一方 Ni層は、ほぼ電気めつき直後の厚みを維持したままの状態で残留する。その結 果、めっき層の構造は、表面側より Sn相、 Sn— Cu合金相、 Ni相となる。
リフロー後のこれら各相の厚みは、
•¾n¾ : 0. 1〜丄. 5 m、
•Sn— Cu合金相: 0. 1— 1. 5 u m^
•Ni相: 0. 1 ~0. 8 ^ 111
の範囲に調整する。
Sn相が 0. 未満になると半田濡れ性が低下し、 1. 5 111を超えると加熱した 際にめつき層内部に発生する熱応力が高くなり、めっき剥離が促進される。より好まし い範囲は 0· 2〜; L O ^ mである。
Sn— Cu合金相は硬質なため、 0. 1 m以上の厚さで存在すると揷入力の低減に 寄与する。一方、 Sn— Cu合金相の厚さが 1. 5 mを超えると、加熱した際にめつき 層内部に発生する熱応力が高くなり、めっき剥離が促進される。より好ましい厚みは 0
• 5〜 . 2 mである。
[0016] Ni相の厚みは 0·;!〜 0· 8 ί mとする。Niの厚みが0· 1 m未満ではめつきの耐食 性や耐熱性が低下する。 Niの厚みが 0. 8 mを超えると加熱した際にめつき層内部 に発生する熱応力が高くなり、めっき剥離が促進される。より好ましい N湘の厚みは 0
• 〜 0· 3 mである。 上記めつき構造を得るためには、電気めつき時の各めつきの厚みを、 Snめっきは 0 . 5~ 1. 8 n mの範囲、 Cuめっき (ま 0. 1 ~0. 4 m、 Niめっき (ま 0. 1 ~0. 8 μ mの 範囲で適宜調整し、 230〜600°C、 3〜30秒間の範囲の中の適当な条件でリフロー 処理を行う。
実施例
[0017] 本発明の実施例で採用した製造、めっき、測定方法を以下に示す。
市販の電気銅をアノードとして、硝酸銅浴中で電解を行い、力ソードに高純度銅を 析出させた。この高純度銅中の P、 As、 Sb、 Bi、 Ca、 Mg及び S濃度は、いずれも 1 質量 ppm未満であった。以下、この高純度銅を実験材料に用いた。
高周波誘導炉を用い、内径 60mm、深さ 200mmの黒鉛るつぼ中で 2kgの高純度 銅を溶解した。溶湯表面を木炭片で覆った後、所定量の Zn及びその他の合金元素 を添加した。次に、 P、 As、 Sb、 Bi、 Ca、 Mg及び Sを添加して不純物濃度を調整し た。 O濃度が高い試料を作製する場合は、溶湯表面の一部を被覆した木炭から露出 させた。
その後、溶湯を金型に铸込み、幅 60mm、厚み 30mmのインゴットを製造し、以下 の工程で、 Cu下地リフロー Snめっき材及び Cu/Ni下地リフロー Snめっき材に加工 した。
[0018] (工程 1) 800°Cで 3時間加熱した後、厚さ 8mmまで熱間圧延する。
(工程 2)熱間圧延板表面の酸化スケールをグラインダーで研肖 ij、除去する。
(工程 3)板厚 1 · 5mmまで冷間圧延する。
(工程 4)再結晶焼鈍として 400°Cで 30分間加熱する。
(工程 5) 10質量%硫酸— 1質量%過酸化水素溶液による酸洗及び # 1200エメリー 紙による機械研磨を順次行い、表面酸化膜を除去する。
(工程 6)板厚 0· 43mmまで冷間圧延する。
(工程 7)再結晶焼鈍として 400°Cで 30分間加熱する。
(工程 8) 10質量%硫酸 1質量%過酸化水素溶液による酸洗を行い、表面酸化膜 を除去する。
(工程 9)板厚 0· 3mmまで冷間圧延する。 (工程 10)アルカリ水溶液中で試料を力ソードとして次の条件で電解脱脂を行う。 電流密度: 3A/dm2。脱脂剤:ュケン工業 (株)製商標「パクナ P105」。脱脂剤濃度:
40g/L。温度: 50°C。時間 30秒。電流密度: 3A/dm2
(工程 11) 10質量%硫酸水溶液を用いて酸洗する。
(工程 12)次の条件で Ni下地めつきを施す(Cu/Ni下地の場合のみ)。
•めっき浴組成:硫酸ニッケル 250g/L、塩化ニッケル 45g/L、ホウ酸 30g/L。
•めっき浴温度: 50°C。
•電流密度: 5A/dm2
•Niめっき厚みは、電着時間により調整。
(工程 13)次の条件で Cu下地めつきを施す。
•めっき浴組成:硫酸銅 200g/L、硫酸 60g/L。
•めっき浴温度: 25°C。
•電流密度: 5A/dm2
•Cuめっき厚みは、電着時間により調整。
(工程 14)次の条件で Snめっきを施す。
'めっき浴組成:酸化第 1錫 41g/L、フエノールスルホン酸 268g/L、界面活性剤 5 g/し。
•めっき浴温度: 50°C。
•電流密度: 9A/dm2
•Snめっき厚みは、電着時間により調整。
(工程 15)リフロー処理として、温度を 400°C、雰囲気ガスを窒素(酸素 lvol%以下) に調整した加熱炉中に、試料を 10秒間揷入し水冷する。
このように作製した試料につ!/、て、次の評価を行った。
(a)母材の成分分析
機械研磨と化学エッチングによりめつき層を完全に除去した後、 Zn及び Sn濃度を I CP 発光分光法で、 P、 As、 Sb、 Bi、 Ca、 Mg及び S濃度を ICP 質量分析法で、 O濃度を不活性ガス溶融 赤外線吸収法で測定した。
(b)電解式膜厚計によるめつき厚測定 リフロー後の試料に対し Sn相及び Sn— Cu合金相の厚みを測定した。なお、この 方法では Cu相及び Ni相の厚みを測ることはできない。
[0020] (c) GDSによるめつき厚測定
リフロー後の試料をアセトン中で超音波脱脂した後、 GDS (グロ一放電発光分光分 析装置)により、 Sn、 Cu、 Niの深さ方向の濃度プロファイルを求めた。測定条件は次 の通りである。
•装置: JOBIN YBON社製 JY5000RF-PSS型。
• Current Method Program:し NBinteei_12aa_0。
•Moae: Constant Electric Power=40Wo
•Ar_Presser:775Pa。
•Current Value :40mA(700V)。
•Flush Time:20sec。
• Preburn Time:2sec。
•Determination Time: Analysis Time=30sec、 Sampling Time=0.020sec/point。
[0021] GDSで得られる Cu濃度プロファイルデータより、リフロー後に残留している Cu下地 めっき(Cu相)の厚みを求めた。 GDSによる代表的な濃度プロファイルとして後述す る発明例 23 (表 2、 Cu下地めつき)のデータを図 1に示す。深さ 1. 7 111のところに、 母材より Cu濃度が高い部分が認められる。この部分はリフロー後に残留している Cu 下地めつき層であり、この層の厚みを読み取り Cu相の厚みとした。なお、母材より Cu 濃度が高い部分が認められない場合は、 Cu下地めつきは消失した(Cu相の厚みは ゼロ)と見なした。同様に、 Ni濃度プロファイルデータより、 Ni下地めつき(Ni相)の厚 みを求めた。
[0022] (d)耐熱剥離性
幅 10mmの短冊試験片を採取し、 105°Cまたは 150°Cの温度で、大気中 3000時 間まで加熱した。その間、 100時間毎に試料を加熱炉から取り出し、曲げ半径 0. 5m mの 90° 曲げと曲げ戻し(90° 曲げを往復一回)を行った。そして、試料の曲げ内 周部表面を光学顕微鏡 (倍率 50倍)で観察し、めっき剥離の有無を調べた。
[0023] 発明例;!〜 20及び比較例;!〜 7 への影響を輩
Figure imgf000011_0001
[0024] Cu下地めつき材につ!/、ては、 Cuの厚みを 0· 3〃 m、 Snの厚みを 0. 8 μ mとして 電気めつきを行い、 400°Cで 10秒間リフローしたところ、全ての発明例、比較例でい ずれも Sn相の厚みは約 0· 4 ^ 111, Cu— Sn合金相の厚みは約 l ^ mとなり、 Cu相は 消失していた。
Cu/Ni下地めつき材については、 Niの厚みを 0· 2 ^ 111, Cuの厚みを 0· 3〃 m、 S nの厚みを 0. 8 mとして電気めつきを行い、 400°Cで 10秒間リフローしたところ、全 ての発明例、比較例でいずれも Sn相の厚みは約 0· 4 ^ 111, Cu— Sn合金相の厚み は約 1 mとなり、 Cu相は消失し、 Ni相は電着時の厚み(0· 2 m)のまま残留して いた。
[0025] 本発明合金である発明例 1〜20では、 Cu下地、 Cu/Ni下地にかかわらず、 105 °C、 150°Cとも 3000時間加熱してもめっき剥離が生じていない。
発明例 1〜4及び比較例;!〜 3では、 Mg、 Ca、 S、 O濃度が低い条件下で、 P、 As、 Sb及び Bi濃度を変化させている。 P、 As、 Sb、 Biの合計濃度が 100質量 ppmを超え ると、 Cu下地、 Cu/Ni下地にかかわらず 150°Cでの剥離時間が 3000時間を下回 つている。剥離時間の短縮は 105°C、 150°C共に P、 As、 Sb、 Biの合計濃度が高い ほど顕著である。また、 150°Cでの剥離時間が 105°Cでの剥離時間より短ぐ P、 As、 Sb、 Biの悪影響は 150°Cでより顕著に発現するといえる。
[0026] 発明例 5〜9及び比較例 4〜5では、 P、 As、 Sb、 Bi、 S、 O濃度が低い条件下で、 Mg及び Ca濃度を変化させている。 Mgと Caの合計濃度が 100質量 ppmを超えると 、 Cu下地、 Cu/Ni下地にかかわらず 105°Cでの剥離時間が 3000時間を下回って いる。一方、 150°Cでは剥離時間の短縮が認められず、 Mgと Caの悪影響は 105°C でより顕著に発現するとレ、える。
比較例 6及び 7は、それぞれ S及び Oが 30質量 ppmを超える合金である。両者とも に Cu下地、 Cu/Ni下地にかかわらず 105°C及び 150°Cのめつき剥離時間が 3000 時間を下回っている。
発明例 10〜13は、本発明の範囲内で Zn濃度を変化させている力 S、いずれにおい ても 3000時間経過後にめっき剥離が生じていない。又、発明例 14〜20は、本発明 の範囲内で Sn、 Ni、 Si、 Fe、 Mn、 Co、 Ti、 Cr、 Zr、 Al及び Agの群から選ばれた少 なくとも一種を添加してレ、る力 V、ずれにお!/、ても 3000時間経過後にめっき剥離が 生じていない。
[0027] 発明例 2;!〜 35及び比較例 8〜; 13
めっきの厚みが耐熱剥離性に及ぼす影響を調査した実施例を表 2及び 3に示す。 母材組成は Cu— 30.0質量%21で、 P、 As、 Sb及び Biの合計濃度は 3.2質量 pp m、 Mgと Caの合計濃度は 2.1質量 ppm、 O濃度は 18質量 ppm、 S濃度は 12質量 p pmであつに。
[0028] [表 2]
Figure imgf000013_0001
[0029] [表 3] 電着時の厚み(μπι) リフ口一後の厚み(μΓτι) めっき剥離時間 (h)
No. リフ口 —条件 Sn-Cu
Sn相 相 赚 Sn相 Ni相 105°C 150°C 合金相
29 0.90 0.20 0.15 棚 x 10秒 0.48 0.99 0.15 >3000 >3000
30 0.90 0.20 0.50 400°C χ10秒 0.48 1.01 0.50 >3000 >3000 発 31 0.90 0.20 0.70 400°C χ10秒 0.49 0.98 0.69 >3000 >3000 明 32 0.50 0.15 0.20 ■。C χ10秒 0.13 1.02 0.19 >3000 >3000 例 33 0.60 0.15 0.20 400°C χ10秒 0.25 1.03 0.19 >謂0 >3000
34 1.20 0,15 0.20 400 : x10秒 0.75 1.01 0.20 >3000 >3000
35 1.80 0.15 0.20 ■。C x10秒 1.37 1.00 0.20 >3000 >3000 比 11 2.00 0.15 0.20 400°C χ10秒 1.57 1.01 0.20 2600 2400
12 2.00 0.60 0.20 400°C x30秒 1.32 1.53 0.19 2200 2500 例 13 0.90 0,20 0.90 400°C x10秒 0.47 0.98 0.90 2200 2800 [0030] 表 2 (発明例 2;!〜 28及び比較例 8〜10)は Cu下地めつきでのデータである。本発 明合金である発明例 2;!〜 28については、 105°C、 150°Cとも 3000時間カロ熱しても めっき剥離が生じていない。
発明例 2;!〜 24及び比較例 10では、 Snの電着厚みを 0. 9 111とし、 Cu下地の厚 みを変化させている。リフロー後の Cu下地厚みが 0. 8 mを超えた比較例 10では 1 05°C、 150°Cとも、剥離時間が 3000時間を下回っている。
発明例 23、 25〜28及び比較例 8〜9では Cu下地の電着厚みを 0. 8 111とし、 Sn の厚みを変化させている。 Snの電着厚みを 2. 0 mとし他と同じ条件でリフローを行 つた比較例 8では、リフロー後の Sn相の厚みが 1. 5〃mを超えている。また Snの電 着厚みを 2. 0 mとしリフロー時間を延ばした比較例 9ではリフロー後の Sn— Cu合 金相厚みが 1. 5 111を超えている。 Sn相または Sn— Cu合金相の厚みが規定範囲 を超えたこれら合金では、 105°C、 150°Cとも、剥離時間が 3000時間を下回ってい
[0031] 表 3(発明例 29〜35及び比較例;!;!〜 13)は Cu/Ni下地めつきでのデータである 。本発明合金である発明例 29〜35については、 105°C、 150°Cとも 3000時間カロ熱 してもめっき剥離が生じてレ、なレ、。
発明例 29〜31及び比較例 13では、 Snの電着厚みを 0. 9μΐ ^ Cuの電着厚みを 0. 2 111とし、 Ni下地の厚みを変化させている。リフロー後の Ni相の厚みが 0. 8βϊη を超えた比較例 13では 105°C、 150°Cとも、剥離時間が 3000時間を下回っている。 発明例 32〜35及び比較例 11では Cu下地の電着厚みを 0. Ιδμΐ ^ Ni下地の電 着厚みを 0· 2 111とし、 Snの厚みを変化させている。リフロー後の Sn相の厚みが 1· 5 111を超えた比較例 11では 105°C、 150°Cとも、剥離時間が 3000時間を下回って いる。
Snの電着厚みを 2· O^m, Cuの電着厚みを 0· 6 111とし、リフロー時間を他の実 施例より延ばした比較例 12では、 Sn— Cu合金相厚みが 1. 5 mを超え、 105°C、 1 50°Cとも、剥離時間が 3000時間を下回っている。

Claims

請求の範囲
[1] 15〜40質量%の Znを含有し残部が Cuおよび不可避的不純物からなり、不可避 的不純物中 P、 As、 Sb及び Bi濃度の合計が 100質量 ppm以下、 Ca及び Mg濃度の 合計が 100質量 ppm以下、 O濃度が 30質量 ppm以下、 S濃度が 30質量 ppm以下 であることを特徴とする Snめっきの耐熱剥離性に優れる Cu— Zn系合金条。
[2] Sn、 Ni、 Si、 Fe、 Mn、 Co、 Ti、 Cr、 Zr、 Al及び Agの群から選ばれた少なくとも一 種を 0. 01 -5. 0質量%の範囲で含有することを特徴とする請求項 1の Cu— Zn系
[3] 請求項 1または請求項 2の Cu— Zn系合金条を母材とし、表面から母材にかけて、 Sn相、 Sn— Cu合金相、 Cu相の各層でめっき皮膜が構成され、 Sn相の厚みが 0· 1 —1. 5〃m、 Sn— Cu合金申目の厚み力 0. 1— 1. 5〃m、 Cu申目の厚み力 0〜0. 8 μ mであることを特徴とする、耐熱剥離性に優れる Cu— Zn系合金 Snめっき条。
[4] 請求項 1または請求項 2の Cu— Zn系合金条を母材とし、表面から母材にかけて、 Sn相、 Sn— Cu合金相、 Ni相の各層でめっき皮膜が構成され、 Sn相の厚みが 0· 1 —1. Sn— Cu合金申目の厚み力 0. 1— 1. 5 m、 Ni申目の厚み力 0. 1—0. 8 a mであることを特徴とする、耐熱剥離性に優れる Cu— Zn系合金 Snめっき条。
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