WO2007138700A1

WO2007138700A1 - プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法

Info

Publication number: WO2007138700A1
Application number: PCT/JP2006/310915
Authority: WO
Inventors: Taiki Makino; Masahiro Sawa; Koji Ohira; Akihiro Fujimoto
Original assignee: Hitachi Plasma Display Limited
Priority date: 2006-05-31
Filing date: 2006-05-31
Publication date: 2007-12-06
Also published as: JPWO2007138700A1; US20090302763A1

Description

明細書

プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法

技術分野

[0001] 本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下「PDP」と記す)およびその製造方法に関し、さらに詳しくは、前面側の基板と背面側の基板を対向させて周辺を封着材で封着する PDPおよびその製造方法に関する。

背景技術

[0002] 従来の PDPとして、 AC型の 3電極面放電型 PDPが知られて!/ヽる。この PDPは、電極、誘電体層、蛍光体層、リブ (隔壁)等の所望の構成物を形成した前面側の基板と背面側の基板を対向させて周辺を封着することで製造される。この周辺を封着する工程は、封止工程、封着工程、封着排気工程などと称されるが、本明細書では封着工程と称する。

[0003] この封着工程では、通常は背面側の基板の周辺にガラス封着材を塗布し、背面側の基板に前面側の基板を重ね合わせ、両基板の周辺部をクリップで挟んで仮止めし、その状態で加熱プロセスを経て両基板を気密接着させる。この加熱プロセスでは、ガラス封着材を加熱溶融しながら、 PDP内部を負圧にすることで PDPの内部力不純物ガスを排気し、それに続いて PDP内の放電空間に放電ガスを充填するようにしている。

[0004] 上記クリップによる仮止めは、基板周辺を複数箇所 (たとえば 4箇所)クリップで挟むことにより行う。このため、前面側の基板と背面側の基板が一定の隙間で封着されるように、基板周辺のクリップ挟持領域までダミーリブを形成するようにして、る。

[0005] 一方、 PDPのリブ構造は、複数のリブを縦方向（表示の列方向）に設けることで放電空間を横方向（表示の行方向）にだけ仕切る直線状の構造 (ストライプリブ構造)のものや、リブを横方向と縦方向に設けることで放電空間をセル毎に仕切る格子状の構造 (ボックスリブ構造、ワッフルリブ構造)のものなどがある。近年では、画素の高精細化のためにボックスリブ構造の PDPの要望が高まって!/、る。

発明の開示発明が解決しょうとする課題

[0006] し力しながら、ボックスリブ構造の PDPは、閉鎖型のリブ構造であるため、ストライプリブ構造の PDPと比較して、パネル内部の通気コンダクタンスが小さぐ不純物ガスの排気が難しいという問題がある。不純物ガスの除去が不充分であると、パネルの特性が悪ィ匕する。具体的には、蛍光体劣化による輝度の低下や電圧変動が生じ、パネルの表示ムラを引き起こしやすくなる。

[0007] このため、パネル内の通気パスを良好にする各種の構造が提案されている。一例として、非表示領域の通気パス拡大を狙ったものとして、非表示領域に溝を設けたものが知られている（特許文献 1参照)。また、パネルの長辺側の通気パスを短辺側よりも多くとることで排気効率を良くするものが知られて、る (特許文献 2参照)。

特許文献 1：特開平 11― 238466号公報

特許文献 2：特開 2003— 217457号公報

[0008] 本発明は、このような事情を考慮してなされたもので、非表示領域に通気路を形成することにより、閉鎖型リブ構造の PDPにおけるパネル内の排気を良好にするものである。

課題を解決するための手段

[0009] 本発明は、一対の基板が対向配置されて周辺が封着され、その封着の際に基板間に存在する不純物ガスが排出されることで製造されるパネルであって、一対の基板間には、縦リブと横リブ力なるセル画定用のリブが表示領域に形成されるとともに、表示領域の外縁から基板の周辺部にまたがる非表示領域に前記セル画定用のリブと同じ形状のダミーリブが形成されてなり、ダミーリブが形成された非表示領域に通気路が設けられてなるプラズマディスプレイパネルである。

発明の効果

[0010] 本発明によれば、ダミーリブが形成された非表示領域に通気路を設けたので、基板間に閉鎖型のリブを形成した PDPにおいて、一対の基板を対向配置して周辺を封着する際に、基板間に存在する不純物ガスの排出が十分に行われ、これにより PDP を高品質で信頼性の高いものとすることができる。図面の簡単な説明

[0011] [図 1]本発明の PDPの構成を示す説明図である。

[図 2]PDPの詳細な部分分解斜視図である。

[図 3]本発明の実施形態 1の構成を示す説明図である。

[図 4]通気路を形成して、な、PDPの比較例である。

[図 5]本発明の実施形態 2の構成を示す説明図である。

[図 6]本発明の実施形態 3の構成を示す説明図である。

[図 7]本発明の実施形態 4の構成を示す説明図である。

[図 8]表示領域のコーナーに位置するボックスリブの平面図である。

[図 9]表示領域のコーナーに位置するボックスリブの平面図である。符号の説明

[0012] 10 PDP

11 前面側の基板

12 透明電極

13 バス電極

17, 24 誘電体層

18 保護膜

21 背面側の基板

28R, 28G, 28B 蛍光体層

29 ボックスリブ

29a ボックスリブの角部

29b 外縁ボックスリブ

30 放電空間

31 表示領域

32 非表示領域

33 ダミーリブ

34 クリップ挟持領域

41 ガラス封着材 43 通気路

A アドレス電極

L 表示ライン

X, Y 表示電極

発明を実施するための最良の形態

[0013] 本発明にお、て、一対の基板としては、ガラス、石英、セラミックス等の基板や、これらの基板上に、電極、絶縁膜、誘電体層、保護膜等の所望の構成物を形成した基板が含まれる。

[0014] 上記電極は、当該分野で公知の各種の材料と方法を用いて形成することができる。

電極に用いられる材料としては、例えば、 ITO、 SnOなどの透明な導電性材料や、

2

Ag、 Au、 Al、 Cu、 Crなどの金属の導電性材料が挙げられる。電極の形成方法としては、当該分野で公知の各種の方法を適用することができる。たとえば、印刷などの厚膜形成技術を用いて形成してもよ、し、物理的堆積法または化学的堆積法力ゝらなる薄膜形成技術を用いて形成してもよい。厚膜形成技術としては、スクリーン印刷法などが挙げられる。薄膜形成技術の内、物理的堆積法としては、蒸着法ゃスパッタ法などが挙げられる。化学的堆積方法としては、熱 CVD法や光 CVD法、あるいはブラズマ CVD法などが挙げられる。

[0015] 本発明において、セル画定用のリブは、縦リブと横リブからなるものであればよい。

縦リブと横リブは、特に直交している必要はなぐ任意の角度で交差するものであればよい。縦リブと横リブの高さは、同一である必要はなぐ異なる高さであってもよい。

[0016] 通気路は、ダミーリブが形成された非表示領域に設けられてヽればよヽ。この通気路は、その通気路となる位置にリブを形成しないことで、形成することができる。通気路は、直線状であってもよぐ曲線状であてもよい。

[0017] 上記構成において、通気路が複数の通気路で構成され、ダミーリブの形成された非表示領域が、それら複数の通気路によって複数の島状に分断されていてもよい。この場合、島状に分断された領域のコーナーに位置するダミーリブの角部は、丸みを帯びて形成されてヽることが望ましヽ。 [0018] 通気路は、表示領域と非表示領域の境界部分に設けられ、表示領域のコーナーに位置するリブの角部が丸みを帯びて形成されていてもよい。また、表示領域の外縁に位置するリブは、少なくともコーナー部分の幅が、外縁に位置しないリブの幅よりも広く形成されて、ることが望ま U、。

[0019] 通気路は、一対の基板が対向配置されて周辺が封着される際に一対の基板がタリップで挟まれる仮止め領域を避けて形成されてヽることが望ま、。

[0020] 本発明は、また、一方の基板の表示領域に縦リブと横リブ力なるセル画定用のリブを形成するとともに、表示領域の外縁から基板の周辺部にまたがる非表示領域に前記セル画定用のリブと同じ形状のダミーリブを形成する際、ダミーリブを形成した非表示領域に通気路を形成し、その後、一方の基板を他方の基板に対向配置して周辺を封着し、その封着の際に両基板間から不純物ガスを排出させる工程を備えてなるプラズマディスプレイパネルの製造方法である。

[0021] 以下、図面に示す実施形態に基づいて本発明を詳述する。なお、本発明はこれによって限定されるものではなぐ各種の変形が可能である。

[0022] 図 1 (a)および図 1 (b)は本発明の PDPの構成を示す説明図である。図 1 (a)は全体図、図 1 (b)は部分分解斜視図である。この PDPはカラー表示用の AC駆動型の 3 電極面放電型 PDPである。

[0023] PDP10は、 PDPとして機能する構成要素が形成された前面側の基板 11と背面側の基板 21から構成されている。前面側の基板 11と背面側の基板 21としては、ガラス基板を用いているが、ガラス基板以外に、石英基板、セラミックス基板等も使用することがでさる。

[0024] 前面側の基板 11の内側面には、水平方向に表示電極 Xと表示電極 Yが等間隔に配置されてヽる。隣接する表示電極 Xと表示電極 Yとの間が全て表示ライン Lとなる。各表示電極 X, Yは、 ITO、 SnOなどの幅の広い透明電極 12と、例えば Ag、 Au、 A

2

1、 Cu、 Cr及びそれらの積層体 (例えば CrZCuZCrの積層構造)等力もなる金属製の幅の狭いバス電極 13から構成されている。表示電極 X, Yは、 Ag、 Auについてはスクリーン印刷のような厚膜形成技術を用い、その他については蒸着法、スパッタ法等の薄膜形成技術とエッチング技術を用いることにより、所望の本数、厚さ、幅及び間隔で形成することができる。

[0025] なお、本 PDPでは、表示電極 Xと表示電極 Yが等間隔に配置され、隣接する表示電極 Xと表示電極 Yとの間が全て表示ライン Lとなる、いわゆる ALIS構造の PDPとなつているが、対となる表示電極 X, Yが放電の発生しない間隔 (非放電ギャップ)を隔てて配置された構造の PDPであっても、本発明を適用することができる。

[0026] 表示電極 X, Yの上には、表示電極 X, Yを覆うように誘電体層 17が形成されている。誘電体層 17は、ガラスフリット、バインダー榭脂、および溶媒力もなるガラスペーストを、前面側の基板 11上にスクリーン印刷法で塗布し、焼成することにより形成している。誘電体層 17は、プラズマ CVD法で SiO膜を成膜することにより形成してもよい。

2

[0027] 誘電体層 17の上には、表示の際の放電により生じるイオンの衝突による損傷から誘電体層 17を保護するための保護膜 18が形成されている。この保護膜は MgOで形成されている。保護膜は、電子ビーム蒸着法ゃスパッタ法のような、当該分野で公知の薄膜形成プロセスによって形成することができる。

[0028] 背面側の基板 21の内側面には、平面的にみて表示電極 X, Yと交差する方向に複数のアドレス電極 Aが形成され、そのアドレス電極 Aを覆って誘電体層 24が形成されている。アドレス電極 Aは、 Y電極との交差部で発光セルを選択するためのアドレス放電を発生させるものであり、 CrZCuZCrの 3層構造で形成されている。このアドレス電極 Aは、その他に、例えば Ag、 Au、 Al、 Cu、 Cr等で形成することもできる。アドレス電極 Aも、表示電極 X, Yと同様に、 Ag、 Auについてはスクリーン印刷のような厚膜形成技術を用い、その他については蒸着法、スパッタ法等の薄膜形成技術とエツチング技術を用いることにより、所望の本数、厚さ、幅及び間隔で形成することができる。誘電体層 24は、誘電体層 17と同じ材料、同じ方法を用いて形成することができる

[0029] 隣接するアドレス電極 Aとアドレス電極 Aとの間の誘電体層 24上には、放電空間をセルごとに区画する格子状のリブ 29が形成されている。格子状のリブ 29はボックスリブゃメッシュ状リブ、ワッフルリブなどとも呼ばれる。リブ 29は、サンドブラスト法、フォトエッチング法等により形成することができる。例えば、サンドブラスト法では、ガラスフリット、バインダー榭脂、溶媒等力もなるガラスペーストを誘電体層 24上に塗布して乾燥させた後、そのガラスペースト層上にリブパターンの開口を有する切削マスクを設けた状態で切削粒子を吹きつけて、マスクの開口に露出したガラスペースト層を切削し、さらに焼成することにより形成する。また、フォトエッチング法では、切削粒子で切削することに代えて、ノインダー榭脂に感光性の榭脂を使用し、マスクを用いた露光及び現像の後、焼成することにより形成する。

[0030] 格子状のリブ 29で囲まれた平面視矩形のセルの側面及び底面には、赤 (R)、緑（ G)、青（B)の蛍光体層 28R, 28G, 28Bが形成されている。蛍光体層 28R, 28G, 2 8Bは、蛍光体粉末とバインダー榭脂と溶媒とを含む蛍光体ペーストをリブ 29で囲まれたセル内にスクリーン印刷、又はディスペンサーを用いた方法などで塗布し、これを各色毎に繰り返した後、焼成することにより形成している。この蛍光体層 28R, 28G , 28Bは、蛍光体粉末と感光性材料とバインダー榭脂とを含むシート状の蛍光体層材料 (いわゆるグリーンシート）を使用し、フォトリソグラフィー技術で形成することもできる。この場合、所望の色のシートを基板上の表示領域全面に貼り付けて、露光、現像を行い、これを各色毎に繰り返すことで、対応するセル内に各色の蛍光体層を形成することができる。

[0031] PDPは、上記した前面側の基板 11と背面側の基板 21とを、表示電極 X, Yとァドレス電極 Aとが交差するように対向配置し、周囲を封着し、リブ 29で囲まれた放電空間 30に Xeと Neとを混合した放電ガスを充填することにより作製されている。この PDPでは、表示電極 X, Yとアドレス電極 Aとの交差部の放電空間 30が、表示の最小単位である 1つのセル（単位発光領域）となる。 1画素は R、 G、 Bの 3つのセルで構成される。

[0032] 図 2 (a)および図 2 (b)は PDPの詳細な部分分解斜視図である。図 2 (a)は前面側の基板を示し、図 2 (b)は背面側の基板を示している。

図 2 (b)に示すように、背面側の基板 21には、表示領域 31に、縦リブと横リブからなるセル画定用のリブ 29が形成されるとともに、表示領域 31の外縁から基板の周辺部にまたがる非表示領域 32に、セル画定用のリブと同じ形状のダミーリブ 33が表示領域のセル画定用リブに連続して形成されている。

[0033] 表示領域 31に形成されたセル画定用の格子状リブはボックスリブ 29と呼び、非表示領域 32に形成された格子状のリブはダミーリブ 33と呼ぶ。表示領域 31のセルには蛍光体層が形成されている力非表示領域 32のセルには蛍光体層は形成されていない。ダミーリブ 33が形成された非表示領域 32には、後述する通気路が設けられてヽる。

[0034] 背面側の基板 21の周囲には、ガラス封着材 41が塗布されている。このガラス封着材 41は、ガラスフリット、バインダー榭脂、溶媒等力もなるガラスペーストを塗布して乾燥させた後、仮焼成して、ノインダー榭脂成分を焼失させたものである。

[0035] 図 3は PDPの実施形態 1の構成を平面的にみた状態を示す説明図である。

PDP10は、上述したように、表示電極、誘電体層、保護膜を形成した前面側の基板 11と、アドレス電極、誘電体層、格子状のリブ、蛍光体層を形成した背面側の基板 21とを対向配置し、基板の周囲をガラス封着材 41で封着し、リブで囲まれた放電空間に Xeと Neとを混合した放電ガスを充填することにより作製されている。背面側の基板 21の表示領域 31にはボックスリブが形成され、非表示領域 32にはダミーリブが形成されている。

[0036] そして、ダミーリブが形成された非表示領域 32には、基板の左右に幅 Lの直線状の通気路 43が縦方向に形成されてヽる。この通気路 43は以下のようにして形成する。

[0037] ボックスリブとダミーリブの形成は、サンドブラスト法で行う。このサンドブラスト法では、ガラスフリット、バインダー榭脂、溶媒等カゝらなるガラスペーストを基板上に塗布して乾燥させた後、そのガラスペースト層上にリブパターンの開口を有する切削マスクを設けた状態で切削粒子を吹きつけて、マスクの開口に露出したガラスペースト層を切削し、それを焼成することにより形成する。この場合、切削マスクは、感光性のドライフイルムレジストを基板にラミネートした後、フォトマスクを介して露光し、現像することで形成するのである力通気路 43は、その際のフォトマスクの形状を、通気路を設けた形状とすることで形成することができる。リブをフォトエッチング法で形成する場合でも、フォトマスクの形状を、通気路を設けた形状とすることで形成することができる。

[0038] 前面側の基板 11と背面側の基板 21の周辺を封着する封着工程では、背面側の基板 21の周辺にガラス封着材 41を塗布して仮焼成した後、背面側の基板 21に前面側の基板 11を対向させ、両基板を金属製のクリップ（図示して、な、）で挟んで仮止めし、その状態で加熱プロセスを経て両基板を気密接着させる。この加熱プロセスでは、ガラス封着材 41を加熱溶融しながら、背面側の基板 21形成した通気孔 42から空気を抜いて PDP内部を負圧にすることで、 PDPの内部力不純物ガスを排気し、それに続いて PDP内の放電空間に放電ガスを充填する。この際、非表示領域 32とガラス封着材 41との間の隙間と、通気路 43が通気 (排気)パスとなる。

[0039] 上記クリップによる仮止めは、基板周辺の 4箇所に形成したクリップ挟持領域 (仮止め領域） 34をクリップで挟持することにより行う。このため、基板周辺のクリップ挟持領域 34までダミーリブを形成し、前面側の基板 11と背面側の基板 21がクリップの挟持で湾曲せず、一定の隙間で封着されるようにして、る。

[0040] 本実施形態では、クリップ挟持領域 34をパネル左右の 4箇所としたが、クリップ挟持領域 34の位置、数、大きさについては特に制約はない。ただし、パネル強度に対してのバランスを保っため、クリップ位置は等間隔に配置することが望ましい。

[0041] 本実施形態では、基板の短辺側でボックスリブとダミーリブとを分離しており、この分離した部分を幅 Lの通気路 43とし、通気パスに利用する。このため、ダミーリブが通気路 43で島状に分断された形態となっている。このようにダミーリブの周囲が完全に別のリブと分離されて、るリブを島状ダミーリブと呼ぶ。

[0042] 図 4は比較例であり、通気路を形成していない PDPを平面的にみた状態を示す説明図である。この図に示すように、非表示領域 32に通気路を形成していない場合には、封着工程の際の通気パスは、非表示領域 32とガラス封着材 41との間の隙間のみである。

[0043] これに対し、上述の実施形態では、通気路を設けて!/、るので、不純物ガスの排気、および放電ガスの充填を十分に行うことができる。また、クリップ位置におけるダミーリブは比較例と変わらな、ため、パネル強度も比較例とほぼ同じ強度とすることができる。

[0044] このように、クリップの仮止め領域を確保しながら、ダミーリブを形成した非表示領域内に、非表示領域を貫通する通気路を形成し、この通気路を通気パスとして確保する。これにより、従来と同様にクリップで基板を挟持して、封着工程における不純物ガスの排気および放電ガスの充填を良好に行うことができ、 PDPの品質向上を図ることができる。 [0045] 図 5は PDPの実施形態 2の構成を平面的にみた状態を示す説明図である。

実施形態 1との違いは、左右の島状ダミーリブが複数の島状ダミーリブに分断されている点である。こうすることで、ダミーリブの間に複数の通気路ができ、これら複数の通気路を通気パスとして利用することができる。通気パスの幅を広く形成しすぎると、外圧に対するパネル強度が低下するが、本実施形態のように複数の島状ダミーリブに分離すれば、外圧に対するパネル強度を低下させずに通気パスを広くすることができる。

[0046] この場合でも、通気路はクリップ挟持領域には設けな、ようにする。ただし、パネル内部の通気コンダクタンスにバラツキがでないように、クリップ挟持領域を基準にして島状ダミーリブを等間隔に配置することが好ましい。

[0047] 図 6は PDPの実施形態 3の構成を平面的にみた状態を示す説明図である。

実施形態 2との違いは、複数に分断した島状ダミーリブのコーナーに位置するダミ一リブの角部に Rを設け、丸みを帯びた形状にした点である。

[0048] その理由は以下の通りである。すなわち、ボックスリブおよびダミーリブを形成する際、サンドブラストで形成すると、切削粒子を吹き付けるノズルを移動させたとき、切削マスクのノズル移動方向におけるリブの端部において、リブのサイドカットが生じる

[0049] このため、その後の焼成工程でリブを焼成した際、このサイドカットの部分が跳ね上力 Sることがある。リブの端部が跳ね上がると、この跳ね上がりにより、背面側の基板と前面側の基板を対向させたとき、前面側の基板が反り、この反った前面側の基板が、電極に電圧を印加する際の駆動パルスの影響により振動し、この振動が可聴領域となり異音が発生することがある。

[0050] したがって、この跳ね上がり防止策として、島状ダミーリブのコーナーに位置するダミーリブの角部に Rを設けて、角部を丸く形成する。この場合、この跳ね上がりを考慮して、ダミーリブの高さを予め低めに設計し、リブを形成するようにしてもよい。

[0051] 図 7は PDPの実施形態 4の構成を平面的にみた状態を示す説明図である。

実施形態 3との違いは、表示領域の外周の 4辺に通気路を設けていることである。つまり表示領域と非表示領域との全ての境界部分に通気路を設け、表示領域のコーナ一に位置するボックスリブの角部に Rを設け、丸みを帯びた形状にした点である。

[0052] この形状にするのは、上述した理由と同じであり、リブの端部の跳ね上がりを防止するためである。しかし、表示領域の 4辺に通気路を設けた場合、表示領域のボックスリブが崩れ、表示領域の端部の表示セルが損なわれる恐れがある。そのための解決策として図 8および図 9を示す。

[0053] 図 8および図 9は表示領域のコーナーに位置するボックスリブの平面図である。図 8 はコーナーのリブの幅を太くした例を示し、図 9は外周のリブの幅を太くした例を示している。

[0054] 第 1の解決策は、図 8に示すように、表示領域のコーナーに位置するボックスリブの角部 29aの幅を、他のボックスリブ 29の幅よりも太くする。そうすることで、表示セルを損なうことなぐボックスリブの角部 29aに Rを形成することができる。跳ね上がり量をより少なくするためには、 Rの半径が大きいほどよい。ただし、熱収縮によるリブの跳ね上がり量のバラツキが大きくならな、ように、リブを太くしすぎな、ようにする。

[0055] 第 2の解決策は、図 9に示すように、表示領域の外縁に位置する外縁ボックスリブ 2 9bの幅を、外縁に位置しないボックスリブ 29の幅よりも太くする。外縁ボックスリブ 29 bの幅を太くすると、通気パスを若干狭めることになる力角部の Rを大きくすることができる。

[0056] このように、ダミーリブを形成した非表示領域に通気路を設けることにより、基板の封着工程の際の通気パスを確保して、不純物ガスの排気、および放電ガスの充填を十分に行うことが可能になる。さらに、非表示領域に通気路を設けることで、ダミーリブとガラス封着材との間の通気パスを狭くすることができるので、その結果、パネルの外形をより小型にすることが可能になる。

[0057] 以上説明したように、本実施例によれば、クリップの仮止め領域を確保しながら、非表示領域に通気路を形成することにより、閉鎖型リブ構造の PDPにおけるパネル内の排気、およびパネル内への放電ガスの充填を良好に行うことができ、 PDPの品質向上を図ることができる。

Claims

請求の範囲

[1] 一対の基板が対向配置されて周辺が封着され、その封着の際に基板間に存在する不純物ガスが排出されることで製造されるパネルであって、

一対の基板間には、縦リブと横リブ力なるセル画定用のリブが表示領域に形成されるとともに、表示領域の外縁から基板の周辺部にまたがる非表示領域に前記セル画定用のリブと同じ形状のダミーリブが形成されてなり、

ダミーリブが形成された非表示領域に通気路が設けられてなるプラズマディスプレィパネノレ。

[2] 前記通気路が複数の通気路からなり、前記ダミーリブの形成された非表示領域が、それら複数の通気路によって複数の島状に分断されてなる請求項 1記載のプラズマディスプレイパネル。

[3] 前記島状に分断された領域のコーナーに位置するダミーリブの角部が丸みを帯びて形成されてなる請求項 2記載のプラズマディスプレイパネル。

[4] 前記通気路が、表示領域と非表示領域の境界部分に設けられ、表示領域のコーナ一に位置するリブの角部が丸みを帯びて形成されてなる請求項 2記載のプラズマデイスプレイパネノレ。

[5] 前記表示領域の外縁に位置するリブは、少なくともコーナー部分の幅が、外縁に位置しないリブの幅よりも太く形成されてなる請求項 4記載のプラズマディスプレイパネル。

[6] 前記通気路が、一対の基板が対向配置されて周辺が封着される際に一対の基板がクリップで挟まれる仮止め領域を避けて形成されてなる請求項 1〜5のいずれか 1 つに記載のプラズマディスプレイパネル。

[7] 一方の基板の表示領域に縦リブと横リブ力なるセル画定用のリブを形成するとともに、表示領域の外縁から基板の周辺部にまたがる非表示領域に前記セル画定用のリブと同じ形状のダミーリブを形成する際、ダミーリブを形成した非表示領域に通気路を形成し、

その後、一方の基板を他方の基板に対向配置して周辺を封着し、その封着の際に両基板間から不純物ガスを排出させる工程を備えてなるプラズマディスプレイパネルの製造方法。