WO2007119636A1 - プローブシートの製造方法 - Google Patents

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WO2007119636A1
WO2007119636A1 PCT/JP2007/057358 JP2007057358W WO2007119636A1 WO 2007119636 A1 WO2007119636 A1 WO 2007119636A1 JP 2007057358 W JP2007057358 W JP 2007057358W WO 2007119636 A1 WO2007119636 A1 WO 2007119636A1
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WO
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base
probe sheet
synthetic resin
layer
metal material
Prior art date
Application number
PCT/JP2007/057358
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English (en)
French (fr)
Inventor
Kazuhito Hamada
Takashi Akiniwa
Satoshi Narita
Original Assignee
Kabushiki Kaisha Nihon Micronics
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Publication date
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/073Multiple probes
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R3/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture or maintenance of measuring instruments, e.g. of probe tips
    • GPHYSICS
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    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/06711Probe needles; Cantilever beams; "Bump" contacts; Replaceable probe pins
    • G01R1/06716Elastic
    • G01R1/06727Cantilever beams

Definitions

  • the present invention relates to a method for manufacturing a probe sheet suitable for use in an energization test of a flat object such as an integrated circuit or a display device substrate.
  • a flexible insulating synthetic resin film and a probe sheet main body having a conductive path supported by the synthetic resin film and protruding from one surface of the probe sheet main body.
  • a probe sheet including a plurality of contacts formed and connected to the conductive path is used between a tester body and an object to be inspected (for example, see Patent Document 1).
  • Each contact of the probe sheet is connected to an electric circuit of the tester body through a conductive path of the probe sheet body.
  • the probe sheet is applied to the test object so that the needle tip of each contact comes into contact with the corresponding electrode of the test object.
  • the test object is connected to the tester body by electrical contact with the probe sheet.
  • each contactor is formed from the distal end serving as the needle tip toward the proximal end serving as the connection end to the probe sheet main body (for example, Patent Documents 2 to 4) After each contact is formed, each contact is coupled to the probe sheet body such that each proximal end is connected to a corresponding conductive path in the probe sheet body.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 2 0 0 2-3 4 0 9 3 2
  • Patent Document 2 Japanese Patent Laid-Open No. 2 0 0 3-4 3 0 6 4
  • Patent Document 3 Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2 0 0 3-2 2 7 8 4 9
  • Patent Document 4 Special Table 2 0 0 2— 5 0 9 6 0 4
  • an object of the present invention is to provide a probe sheet that can arrange the needle tip at an accurate predetermined position without performing a troublesome position adjustment operation of the #F tip in the operation of joining each contactor and the probe sheet main body. It is to provide a manufacturing method.
  • the present invention basically includes a probe sheet main body having a flexible insulating synthetic resin film, a conductive path supported by the synthetic resin film, and protruding from one surface of the probe sheet main body.
  • a method of manufacturing a probe sheet including a plurality of contacts connected to a conductive path, and using a photolithographic technique on a base, a metal material for the plurality of contacts from each needle tip A plurality of contacts are formed on the base by sequentially depositing them toward the base, and a probe sheet body coupled at the base of each of the contacts held on the front base is mounted on the base. And forming the contactor integrally with the probe sheet main body from the base.
  • the plurality of contacts formed at predetermined positions on the base are not individually separated, and these needle tips are placed at predetermined positions on the base.
  • a probe sheet main body coupled to the base of each contact is formed on the base.
  • the contact point of each contact is held at a predetermined position.
  • the probe sheet body is integrally coupled with the probe sheet body during the process of forming the probe sheet body.
  • the contact is integrated with the probe sheet main body and separated from the base.
  • the method for producing a probe sheet according to the present invention includes a flexible insulating synthetic resin film, a probe sheet main body having a conductive path supported by the synthetic resin film, and the probe sheet main body.
  • a method of manufacturing a probe sheet comprising a plurality of contacts that protrude from one surface and are connected to the conductive path, on a base on which a recess for a needle tip of the contact is formed, Photoresist technology is used to form a photoresist that imitates each of the needle tips and the arm portion connected to the needle tip, and a metal material is deposited in a recess imitated by the photoresist to form the contact
  • the flexi A second step of forming a resin synthetic resin layer, a third step of forming an opening reaching the arm portion through the flexible synthetic resin layer and the sacrificial layer, and depositing a metal material in the opening.
  • the contact is separated from the base integrally with the probe sheet main body.
  • a typical example of the synthetic resin film or the flexible synthetic resin layer is polyimide.
  • a synthetic resin film called dry film can be used as the sacrificial layer.
  • a stainless steel plate can be used for the base.
  • Nickel or an alloy thereof can be used as the metal material for the contact.
  • the nickel layer and the copper layer can be sequentially stacked on the nickel layer.
  • the copper layer functions to facilitate peeling of the arm portion from the base.
  • the nickel layer serves to promote the growth of copper on the base. It is desirable to deposit the metal material for forming the arm portion on the base via both layers.
  • the deposition of the metal material and the stacking of the nickel layer and the copper layer for the arm portion can be performed by a plating method, respectively, and the arm portion is an electric device that is one of the plating methods. This can be done by law (electro-forming).
  • a metal material harder than the metal material of the arm part is deposited in the recess of the base.
  • a metal material for the arm portion can be deposited over the metal material.
  • a so-called dovetail joint structure can be applied to the joint between the needle tip portion and the arm portion formed thereafter. Therefore, a strong bond is obtained by both.
  • the hard metal material rhodium or palladium cobalt alloy can be used, and the metal material can be deposited by a plating method.
  • the third step is performed by irradiating the first flexible synthetic resin layer and the sacrificial layer with laser light in a state where the upper surface of the arm portion under the sacrificial layer is protected by a protective film. it can.
  • a copper plating layer can be used, and the copper plating layer can be formed on the upper surface of the arm member prior to the second step.
  • the height of the sacrificial layer is exceeded and the first flex
  • the same material as the metal material of the arm member is deposited in the opening at a height position not exceeding the sibling synthetic resin layer, and then the same material as the metal material for the conductive path is deposited on the base. It can be deposited in the opening within the thickness dimension of the synthetic resin layer.
  • the base of the contact is formed by depositing the same material as the metal material of the arm member into the opening.
  • connection boundary between the base part of the contact and the conductive path made of a metal different from the metal constituting the base part is formed. It can be positioned substantially in the first flexible synthetic resin, and the connection boundary between both metals can be protected by the first flexible resin.
  • a first conductive material for the conductive path a second conductive material having higher toughness than the first conductive material, and the first conductive material on the first flexible synthetic resin layer
  • the conductive materials can be sequentially stacked.
  • the conductive path can have a three-layer structure, and the strength against breakage of the conductive path can be increased.
  • the first conductive material can be copper, and the second conductive material can be nickel or an alloy thereof. These can be sequentially deposited on the first flexible resin by the plating method.
  • a reinforcing plate that covers an upper region of the contact can be fixed onto the first flexible synthetic resin layer and the conductive path via an adhesive sheet.
  • a second flexible synthetic resin layer covering the conductive path formed on the first flexible synthetic resin layer can be formed.
  • the conductive path is positioned between the second and first flexible resin synthetic resin layers, so that the conductive path is formed in the synthetic resin film composed of both flexible synthetic resin layers. Can be embedded in
  • a sacrificial layer is formed on the second flexible synthetic resin layer, An opening reaching the conductive path through the sacrificial layer on the second flexible synthetic resin layer and the second flexible synthetic resin layer can be formed, and a metal material can be deposited in the opening. By depositing the metal material, bumps for the conductive paths can be formed.
  • the surface of the bump can be polished so as to coincide with the surface of the sacrificial layer on the second flexible synthetic resin layer, whereby the probe sheet and the probe sheet are connected, for example Each electrical connection to the rigid wiring board can be made reliably.
  • the probe sheet main body can be peeled off integrally with the contact from the base, and then the sacrificial layers remaining on the probe sheet can be removed.
  • the probe sheet main body is changed from the formation of the needle tip by adjusting the outer shape of the probe sheet main body formed by embedding the conductive path in the first and second flexible synthetic resin layers.
  • a series of processes from finishing the outer shape to completing the probe sheet can be performed as an integrated operation.
  • the plurality of contacts formed at the predetermined positions on the base are not separated individually, but the needle tips are held at the predetermined positions on the base.
  • a probe sheet main body coupled to the base of each contact is formed on the base, and then the contact is separated from the base integrally with the probe sheet main body. Therefore, it is not necessary to connect the individual contacts to the probe sheet body as in the prior art.
  • the troublesome adjustment of the needle tip position of the contactor associated with this conventional joining operation is not required. As a result, it is possible to easily manufacture a probe sheet in which the needle tips of the respective contacts are arranged exactly on the same plane at a predetermined position as compared with the related art.
  • FIG. 1 is an exploded perspective view showing a probe assembly in which a flexible wiring board according to the present invention is incorporated.
  • FIG. 2 is a longitudinal sectional view of the probe assembly shown in FIG.
  • FIG. 3 is an enlarged bottom view showing a part of the probe sheet of the probe assembly shown in FIG.
  • FIG. 4 is a longitudinal sectional view showing a state before the probe sheet and the support block shown in FIG. 1 are joined.
  • FIG. 5 is a partially enlarged longitudinal sectional view showing a state where the probe sheet and the support block shown in FIG. 4 are coupled.
  • FIG. 6 is a process explanatory view (No. 1) showing a manufacturing process of the probe sheet according to the present invention.
  • FIG. 7 is a process explanatory diagram (No. 2) showing a process for manufacturing a probe sheet according to the present invention.
  • FIG. 8 is a process explanatory view (No. 3) showing the manufacturing process of the probe sheet according to the present invention.
  • FIG. 9 is a process explanatory view (No. 4) showing a manufacturing process of the probe sheet according to the present invention.
  • FIG. 10 is a process explanatory view (No. 5) showing a process for manufacturing a probe sheet according to the present invention.
  • FIG. 11 is a plan view of a probe sheet according to the present invention.
  • FIG. 12 is a perspective view of the probe tip of the probe according to the present invention as viewed from the distal end side.
  • FIG. 13 is a sectional view taken along line XIII-XIII shown in FIG.
  • FIG. 1 which is an exploded view of the probe assembly 10 according to the present invention
  • a rigid wiring board 12 and a block 16 which is elastically supported by the rigid wiring board via a spring member 14.
  • the flexible wiring board 18 according to the present invention is used as the probe sheet main body of the probe sheet 20.
  • the rigid wiring board 12 is composed of, for example, a plate-like electrical insulating base material made of epoxy resin containing glass fiber and a wiring path on the base material. Have.
  • the wiring path of the rigid wiring board 12 is connected to an electric circuit of a tester main body (not shown).
  • a circular rigid wiring board having a circular opening 12 a at the center is used for the rigid wiring board 12.
  • the spring member 14 is made of a flat spring material, and has an annular support portion 14 a having an outer diameter smaller than the diameter of the circular opening 12 2 a of the rigid wiring board 12, and the inside of the annular support portion. And a cross-shaped main body 1 4 b to be arranged.
  • stainless steel is connected via a port 2 2 that is screwed to the rigid wiring board 12 at a portion that does not interfere with the wiring path.
  • a circular support plate 24 made of metal is fixed. The support plate 24 supports the rigid wiring board 12 and reinforces the rigid wiring board.
  • the spring member 14 is held in the circular opening 1 2 a via an annular mounting plate 26 holding the annular support portion 14 a from both sides and a plurality of holding plates 2 8 combined in an annular shape. Is done.
  • the mounting plate 26 is coupled to the lower surface of the support plate 24 at the port 30, and each presser plate 28 is connected to the support portion of the presser plate and the spring member 14. 1 4 It is connected to the mounting plate 2 6 with a bolt 3 2 that passes through a and is screwed to the mounting plate 2 6.
  • the spring member 14 is held across the opening in the circular opening 12a.
  • a parallel adjusting screw member 3 4 for adjusting the holding posture of the spring member 14 with the bolt 30 loosened is in contact with the top surface of the mounting plate 26. It can be screwed onto the support plate 24.
  • the aforementioned block 16 is fixed to the main body portion 14 b of the spring member 14 held in the circular opening 12 a of the rigid wiring board 12.
  • the block 16 includes a stem portion 16 a having a rectangular cross section and a support portion 16 b having a regular octagonal cross section continuous to the lower end of the stem portion.
  • the support portion 16 b has a pedestal portion 36 having a constant diameter along its axis, and a bottom portion 38 having a cross-sectional shape similar to the cross-sectional shape connected to the pedestal portion.
  • the bottom portion 3 8 gradually decreases the lateral dimension, that is, the diameter across the axis of the support portion 16 b toward the lower end.
  • the block 16 has a tapered surface 40 at its bottom portion 38, and in the illustrated example, eight flat tapered surfaces 40 (see FIG. 3) are formed.
  • the block 16 is connected to the main body portion 1 4 b of the spring member 1 4 at the top surface of the stem portion 1 6 a with the bottom portion 3 8 of the pedestal portion 3 6 facing downward.
  • the fixing plate 4 2 that clamps the main body 14 b together with the stem 16 a is connected to the stem 16 a by the screw member 4 4 that is screwed to the stem 16 a. It is fixed.
  • the flexible wiring board 18 of the probe sheet 20, that is, the probe sheet main body 18, has an octagonal portion 4 formed at the center portion corresponding to the bottom portion 3 8 of the block 16. 6 and a contact region 50 is formed at the center of the octagonal portion, in which a large number of probes 48 are arranged by aligning their gold + tips 48a.
  • the contact region 50 is formed in a rectangular shape.
  • the probe sheet 20 has a number of probes 4 8 protruding from the contact region 50 of the probe sheet main body 1 8, the needle tips 4 8 a of the octagonal portion 4 facing downward.
  • the outer edge of the probe sheet 20 is coupled to the rigid wiring board 12 so that the portion extending outward from the octagonal portion 46 has a slight slack.
  • the elastic rubber ring 5 2 is arranged along the outer edge of the probe sheet 20, and the ring metal fitting 5 4 covering the elastic rubber ring 5 2 Is placed.
  • the outer edge of the probe sheet 20 and the two members 5 2 and 5 4 are positioned relative to the rigid wiring board 12 by positioning pins 5 6.
  • the outer edge portion of the probe sheet 20 is coupled to the rigid wiring board 12 2 by tightening the screw member 5 8 passing through the probe sheet 20 and both members 5 2 and 54 to the rigid wiring board 12.
  • the conductive path 18 a of the probe sheet 20 is electrically connected to the corresponding wiring path of the rigid wiring board 12, as in the past. Is done.
  • the alignment pin 60 is disposed through the long hole 60 a (see FIG. 3) provided in the probe sheet 20. At the lower end of the alignment bin 60, an alignment mark 60b that can be photographed from the camera supported by the table is provided.
  • a table that supports the object to be inspected (illustrated)
  • the relative position information of the probe assembly 10 with respect to the probe assembly 10 is obtained, and based on this position information, the probe tips 4 8a of the probes 48 of the probe assembly 10 are on the table.
  • the relative position of the probe assembly 10 with respect to the support table is adjusted so as to accurately contact the corresponding electrodes of the object to be inspected. Thereafter, the probe tip 48a of each probe 48 is electrically contacted with the corresponding electrode, whereby the current-inspection of the object to be inspected in the tester body is performed.
  • the structure of the probe sheet 20 will be described in detail with reference to FIG.
  • the probe sheet 20 includes a pair of flexible electrically insulating synthetic resin films 6 2 and 6 4 such as polyimide resin, for example, and a conductive path 18 a is embedded between the two resin films. Yes.
  • the conductive path 18 a includes a first conductive material layer 66 made of a metal material having high conductivity suitable for use as an electric wire, for example, copper, and the like.
  • a laminated structure having a metal material having higher toughness than the first conductive material layer for example, a second conductive material layer 68 formed of a metal material such as nickel or nickel phosphorus alloy.
  • a three-layer sandwich structure in which a single second conductive material layer 68 is sandwiched between a pair of first conductive material layers 66 is employed.
  • the toughness of the two types of metals is that up to the point where the two metals have the same shape and the same dimensions, for example, when each stress-strain diagram is obtained by an impact test, the two metals will break. It can be compared by the area surrounded by the stress-strain curve. When copper and nickel are compared, the area surrounded by the stress-strain curve obtained with Nickel is larger than that obtained with copper. Therefore, it can be said that Eckel is a material that is less susceptible to fracture than copper, that is, has a high toughness.
  • Both the first conductive material layers 66 are deposited to a thickness of 10 m, for example, and the second conductive material layer 68 is deposited to a thickness of 2 ⁇ , for example.
  • 8a has, for example, a thickness dimension of approximately 2 2 ⁇ .
  • Each conductive path 18a protrudes from one electrically insulating synthetic resin film 62.
  • the base of the outgoing probe 48 is connected.
  • a flat plate-like reinforcing plate 70 made of, for example, a ceramic plate having a size and shape substantially equal to the probe region. Is embedded between the two electrically insulating synthetic resin films 62 and 64 so as to partially cover the conductive path 18a.
  • the reinforcing plate 70 ′ can be fixed between the two electrically insulating synthetic resin films 62 and 64 via an adhesive sheet 72 such as a synthetic resin sheet. Since the reinforcing plate 70 has higher rigidity than the electrically insulating synthetic resin films 62 and 64, it suppresses deformation due to external force in the region corresponding to the reinforcing plate 70 of the probe sheet main body 18. Make.
  • the reinforcing plate 70 made of a ceramic plate is not easily deformed by expansion and contraction due to heat in addition to the deformation of the prop sheet main body 18 due to the external force described above. Control.
  • the reinforcing plate 70 is between the synthetic resin films 6 2 and 6 4 with respect to the conductive path 18 a on the side opposite to the side where the connecting portion between the conductive path and the probe 48 as a contact is provided. It is in place. With this arrangement, a single plate-like member 70 is reinforced to cover the entire contact area 50 without performing any special shape processing to avoid interference with each probe 48, that is, the contact 48. A plate 70 can be placed.
  • the other electric circuit forming the back surface of the probe sheet main body 18 is formed.
  • the insulating synthetic resin film 64 is provided with a convex portion 74 corresponding to the reinforcing plate 70.
  • such a convex shape corresponding to the reinforcing plate 70 is not formed on the electrically insulating synthetic resin film 62 that forms the surface of the probe sheet main body 18.
  • a flat rectangular support surface 7 6 corresponding to the contact region 50 is formed on the lower surface of the bottom 1 8 of the block 1 6 that receives the back surface of the probe sheet body 1 8. Yes.
  • the support surface 7 6 is formed at the central portion of the bottom portion 3 8, and the central portion It is formed to protrude downward from the stepped portion by an octagonal flat stepped portion 78.
  • the tapered surface 40 continues to the support surface 76 via the stepped portion 78 between the tapered surface and the support surface 76.
  • a rectangular central recess 80 for receiving the adhesive 80 a opens downward on the support surface 76 formed so as to protrude downward from the flat stepped portion 78.
  • the central recess 80 has a planar shape slightly smaller than the contact region 50. Due to the formation of the central recess 80, an annular flat support surface portion 7 6a surrounding the central recess 80 is left on the support surface 76.
  • the support surface portion 7 6 a is appropriately sized to receive the edge of the reinforcing plate 70, and the support surface portion 7 6 a has an annular groove 8 2 surrounding the recess 80. Is formed.
  • the adhesive 80 a is supplied to the central recess 80.
  • the same adhesive is also supplied to the stepped portion 78 surrounding the support surface 76.
  • the probe sheet 2 After supplying the adhesive to the block 16, as shown in FIG. 4, the probe sheet 2 is arranged so that the outer edge portion of the convex portion 74 of the probe sheet main body 18 faces the support surface portion 76 a. The relative position of 0 and block 16 is determined. In this state, as shown in FIG. 5, the probe sheet main body 18 is pressed toward the lower surface of the bottom portion 38 of the block 16.
  • the convex portion 74 of the probe sheet main body 18 disappears, and conversely, the probe sheet main body 18 is deformed into a concave shape so that the back surface thereof is along the stepped portion 8 and the support surface 76.
  • the probe sheet main body 18 is fixed to the support surface 76 and the step portion 78 which are the bottom surfaces of the bottom portion 38 (excluding the tapered surface 40).
  • the probe sheet main body 18 when the back surface of the probe sheet main body 18 is deformed so as to be along the stepped portion 78 and the support surface 76, the probe sheet main body 18 is deformed as a whole in its thickness direction. At this time, a strong shear stress acts on the conductive path 18 a due to the step between the support surface and the step portion 78 in a region corresponding to the outer edge of the support surface 76.
  • the conductive path 1 8 a is reinforced by the second conductive material layer 6 8 exhibiting high V and toughness. 8 a will not break.
  • the second conductive material Due to the reinforcing action of the layer 68, the conductive path 18a can be reliably prevented from being broken even in the manufacturing process of the probe sheet 20 as described later.
  • the excess amount of the adhesive 80 supplied to the recess 80 is obtained when the probe sheet main body 18 receives the pressing force described above. Since it is accommodated in the annular groove 8 2, this excess does not protrude beyond the support surface portion 7 6 a into the stepped portion 7 8.
  • the protrusion 7 4 disappears at the same time, and at the same time the step 7 8 and the support surface 7 6 have a level difference between the reinforcing plates 7.
  • the sum of the thicknesses of 0 appears as a step difference ⁇ on the surface of the probe sheet body 18.
  • the contact region 50 of the probe sheet main body 18 protrudes downward with a step ⁇ H from the peripheral portion.
  • this step ⁇ it is possible to increase the distance between the outer portion of the contact region 50 of the probe sheet main body 18 and the test subject. This increase in the spacing more reliably prevents the outer part of the contact region 50 of the probe sheet body 18 from interfering with the object to be inspected, thereby further preventing contamination and damage of the object under test due to the interference between the two. Make sure to prevent it. Even when the reinforcing plate 70 is not required, a step ⁇ corresponding to the protrusion of the support surface 76 can be obtained by protruding the support surface 76 from the peripheral portion thereof.
  • the probe sheet 20 when the probe sheet 20 is manufactured, no matter how the probe tip 48a of the probe 48 is prepared, if the contactor area 50 is deformed by external force or stretched by heat during its handling, The aligned postures of the probes 48 are disturbed, and as a result, the alignment of the needle tips 48a is disturbed.
  • the probe sheet body 18 is fixed to the support surface 76 in a state in which the contact area 50 is bent during adhesion to the block 16 and this stagnation is left, similarly, the needle tip 4 8 Disturbance occurs in the alignment of a.
  • the reinforcing plate 7 corresponding to the contact region 5 0 of the probe sheet body 1 8 By embedding 0 in the probe sheet main body 18, it is possible to reliably prevent the deformation as described above in the contact region 50 of the probe sheet main body. Thereby, it is possible to prevent the posture of each probe, that is, the contact 48, from being disturbed due to the deformation of the contact region 50, and to reliably prevent the needle 48 of the contact 48 from being disturbed. Can do. Therefore, the probe assembly 10 can be easily handled, and the probe assembly 10 having a high positional accuracy of the needle tip 48 a can be provided. —
  • a metal plate such as a stainless steel plate is used as the base 100 as shown in FIG. Recesses for 4 to 8 needle tips 1 0 2 are formed. Although a single recess 10 2 is shown in the drawing, as is clear from the above description, it depends on the number of probes 48 formed in the contact region 50 described above. A plurality of recesses 102 are formed at predetermined needle tip intervals.
  • the metal 10 6 for the needle tip 48 8 a is deposited, for example, by electric plating in the recess 10 2 and its vicinity (FIG. 6 (c)).
  • a hard metal such as rhodium or palladium-cobalt alloy is used as the metal material of the needle tip 48a.
  • the pattern mask 104 is removed (FIG. 6 (d)).
  • the sacrificial layer to be removed after the probe sheet 20 is completed by the photolithography technique described above.
  • the pattern mask 1 0 8 is made of photoresist.
  • the nickel layer 110 is formed by, for example, a plating method. It is deposited on the area exposed from the pattern mask 108 on the base 100. Subsequently, a copper layer 1 1 2 is similarly deposited on the nickel layer 1 10 by a plating method.
  • a metal material for forming the arm portion 48b which is the main body of the probe 48, is then deposited.
  • the copper layer 112 is formed by the deposition of the metal material. It works to facilitate peeling from the base 100. Further, since it is difficult to directly deposit the copper layer 112 on the base 100, the copper layer 112 is deposited via the Luckenore layer 110.
  • the pattern mask 108 is removed (FIG. 6 (g)). After that, a pattern mask 1 14 for the arm part connected to f fe48 a of the probe 48 is formed of the same photoresist as described above (FIG. 6).
  • the metal material for the arm portion of the probe 48 is made of the metal for the needle tip 48 a by, for example, a plating method such as electric hole forming. And deposited on the sacrificial layers 1 10, 1 12. As a result, the arm portion 48b is formed integrally with the needle tip 48a made of the metal 106 (FIG. 6 (i)).
  • a nickel phosphorus alloy is used as the metal material of the arm portion 48b.
  • a copper layer 116 that acts as a protective film in a process to be described later is deposited on the arm portion 48b by, for example, a plating method (FIG. (J)). After the formation of the copper layer 1 16, the pattern mask 1 14 is removed (FIG. 6 (k)).
  • a second sacrificial layer that becomes the reference surface of the probe sheet main body 18 is formed.
  • the pattern mask 118 which is made of a photoresist that selectively covers the arm portion 48b on which the needle tip 48a on the base 100 is formed, is described above. It is formed by the same photoresist technology (Fig. 7 (a)).
  • a metal material for the second sacrificial layer 120 is deposited (FIG. 7 (b)). Nickel is used for the second sacrificial layer 120 and can be deposited by a plating method.
  • a pattern mask 118 covering the arm portion 48b is formed. It is removed (Fig. 7 (c)). After that, a resist mask made of photoresist for partially removing the copper layer 1 1 6 on the arm part 4 8 b 1 2 2 force copper layer 1 1 6 It is formed on the entire base 100 (Fig. 7 (d)).
  • the second sacrificial layer 1 .2 0 0 and the arm portion 4 8 b serving as the reference surface of the probe sheet main body 1 8 are exposed on the base 1 1.
  • a dry film 1 2 4 which is a third sacrificial layer, a resin layer 1 2 6 for the first electrically insulating synthetic resin film 6 2 of the probe sheet body 1 8 and a protective film comprising a resist 1 2 8 are sequentially formed (FIG. 7 (g)).
  • the protective film 1 2 8 protecting the resin layer 1 2 6, that is, the surface of the electrically insulating synthetic resin film 6 2, for example, using a laser beam
  • the copper layer 1 1 6 on the arm portion 4 8 b is reached. Openings 1 3 0 are formed (FIG. 7 (h)).
  • the lower end of the opening 1 30 is the end located on the opposite side of the needle tip 4 8 a of the arm portion 4 8 b and opens onto the copper layer 1 16.
  • the copper layer 1 1 6 covers the upper surface of the arm portion 48 b to protect the arm portion from laser light.
  • the ⁇ ! Layer 1 1 6 in the opening 1 3 0 is removed by etching, and the arm portion 4 8 b is exposed in the opening 1 3 0 (FIG. 7 (i)).
  • a nickel layer 1 3 2 for forming the base portion 4 8 c of the probe 4 8 is integrally deposited on the arm portion 4 8 b by the mesh method.
  • the thickness of the nickel layer 1 3 2 in the opening 1 3 0 is the thickness of the dry film or third sacrificial layer 1 2 4 Exceeds the dimensions, but does not exceed the sum of the thickness dimensions of the sacrificial layer and the resin layer 1 2 6. Therefore, the upper surface of the nickel layer 1 3 2 is located in the thickness region of the resin layer 1 2 6 for the electrically insulating synthetic resin film 6 2.
  • a copper layer 1 3 4 is integrally deposited on the upper surface of the nickel layer 1 3 2 by a plating method. Therefore, the dissimilar metal joining region of the two metals 1 3 2 and 1 3 4 exists within the thickness range of the resin layer 1 26, that is, the electrically insulating synthetic resin film 62. As a result, the dissimilar metal joining region is protected by the electrically insulating synthetic resin film 62.
  • the copper layer 1 3 4 has a thickness dimension such that its upper surface substantially matches the upper surface of the resin layer 1 2 6. After the deposition of the copper layer 1 3 4, the protective film 1 2 8 is removed (FIG. 7 (k)).
  • the conductive path 1 8 a is grown on the resin layer 1 2 6 and the copper layer 1 3 4 exposed by removing the protective film 1 2 8 by sputtering.
  • a copper layer 1 3 6 having a thickness dimension of 0.3 m is formed.
  • a pattern mask 1 3 8 simulating a wiring path region including the upper part of the copper layer 1 3 4 is formed of a photoresist by a photolithography technique.
  • the exposed area from the pattern mask 1 3 8 includes a 10 ⁇ m thick ⁇ layer 6 6 for the conductive path 1 8 a, 2 Aim thick nickel layer 6 8 and 10 ⁇ m
  • a copper layer 66 having a thickness dimension of ⁇ is sequentially deposited, for example, by a plating method (FIG. 8 (c);).
  • the conductive path 1 8 a is formed by the deposition of the copper layer 6 6, the nickel layer 6 8, and the copper layer 6 6, the pattern mask 1 3 8 is removed (FIG. 8 (d)).
  • the portion of the copper layer 1 3 6 that protrudes from the conductive path 18 a is removed by etching (FIG. 8 (e)).
  • the conductive path 18 a having excellent strength against breakage can be formed.
  • an adhesive sheet 72 made of a synthetic resin material is adhered onto the conductive path 18a, and a ceramic plate 70 covering the contactor region 50 is disposed on the sheet. Further, after a similar adhesive sheet 72 is arranged covering the ceramic plate 70, as shown in FIG. 8 (g), the polyimide resin layer covering the other and forming the other electrically insulating synthetic resin film 64 is formed. 140 is deposited.
  • a pressing force F acts on the polyimide resin layer.
  • Part of this pressing force F is a portion indicated by reference numeral 142 at the edge of the base 48 c of the probe 48 formed by the deposition of the nickel layer 132 and the ⁇ ! Layer 134 and acts as a shearing force of the conductive path 18 a.
  • the conductive path 18a reinforced by the second conductive material layer 68 is not damaged by this shearing force.
  • a dry film 144 is adhered on the polyimide resin layer as a fourth sacrificial layer (FIG. 9 (a)).
  • FIG. 9B an opening 146 opened on the conductive path 18a is formed by the laser light through the fourth sacrificial layer 144 and the polyimide resin layer 140 which is the lower layer.
  • a metal material for pads or bumps 148 is deposited by plating. For example, nickel can be deposited as the metal material of the bump 148.
  • the bump 148 is polished so that the portion protruding from the surface of the fourth sacrificial layer 144 is flat (FIG. 9 (d)), and this flat surface has the wiring path of the rigid wiring board 12 described above.
  • a gold layer 150 for making good electrical contact is formed by, for example, a plating method.
  • the probe sheet main body 18 is removed from the base 100 together with the second sacrificial layer 120 and the fourth sacrificial layer 144 as shown in FIG. 10 (a). At this time, even if a part of the peeling force acts as a bending force on the contact region 50 of the probe sheet body 18 via the probe 48, the reinforcing plate 70 embedded in the contact region 50 Deformation is suppressed. Therefore, it is possible to prevent a deviation in the posture of each probe 48 and the needle tip 48 a due to this peeling.
  • the contour of the probe sheet main body 18 is adjusted by cutting with a laser cage or a cutter, and at a position where it does not interfere with the conductive path 18 a of the probe sheet main body 18.
  • An opening 5 6 a for receiving the positioning pin 5 6 and an elongated hole 60 0 a for receiving the alignment pin 60 are formed, respectively, and a prop assembly 10 is formed.
  • the arm portion 48 b and the base portion 48 c are sequentially formed from the needle tip 48 a of the probe 48 requiring extremely high accuracy. Formed on the platform 100.
  • the probe sheet main body 18 coupled to the probe 48 is integrally formed with the probe 48 in a state where each probe 48 is held on the base 100.
  • this probe that is, the contacts 48 8 need not be individually joined to the probe sheet main body 18, and the adjustment of the needle tip 4 8 a position of the contacts 48 is not required.
  • the probe sheet 20 in which the needle tips 48a of the child 48 are accurately arranged at predetermined positions can be easily manufactured as compared with the conventional case.
  • a series of steps from the formation of the needle tip 48 a to the completion of the probe sheet 20 by adjusting the outer shape of the probe sheet main body 18 can be efficiently performed by integrated work.
  • the needle tip 4 8 a and the arm portion 4 8 b of the contact 48 prior to depositing the metal material for the arm portion 48 b on the base 100. It is possible to deposit a metal material harder than the metal material of the arm portion 48 b in the recess 100 of the base 100. After the hard metal material is deposited, the arm portion is covered with the metal material. By depositing the metal material for 4 8 b, the needle tip 4 8 a of each contact 4 8 can be formed of the hard metal material, so that the needle tip 4 8 a of each contact 4 8 a The durability of each contact 48 can be improved by increasing the wear resistance.
  • the needle tip 48 a can be formed using photolithography technology.
  • the pattern mask 10 4 is formed on both edges of the metal 1 0 6 formed by the metal 106.
  • a skirt part 48 d that increases the width dimension toward the end face is formed.
  • the arm portion 4 8 b is formed by depositing a metal material so as to cover the skirt portion 4 8 d, a so-called dovetail connection is formed at the joint portion between the needle tip 4 8 a and the arm portion 4 8 b. The As a result, a strong bond can be obtained between the two 4 8 b and 4 8 d.
  • the arm portion 4 8 b is located at a height position that exceeds the height position of the sacrificial layer made of the dry film 1 2 4 and does not exceed the first flexible synthetic resin layer 1 2 6.
  • Material is deposited in openings 1 3 0 for base 4 8 c.
  • copper of the same material as the metal material for the conductive path 18 a is deposited on the base 48 b in the opening 1 30 within the thickness dimension of the first flexible synthetic resin layer 1 26.
  • the connection boundary between the base portion 4 8 c of the contact 48 and the conductive path 18 a made of a metal material different from the base portion substantially falls within the first flexible synthetic resin 1 2 6 (6 2). Therefore, the connection boundary between the two metals can be protected with the first flexible resin 1 2 6 (6 2).
  • the first conductive material layer 6 6 for the conductive path 1 8 a on the first flexible synthetic resin layer 1 2 6 (6 2), the first The second conductive material layer 68 having higher toughness than the first conductive material layer and the first conductive material layer 66 can be secondarily laminated.
  • the conductive path 18 a can have a three-layer structure, and the strength against breakage of the conductive path 18 a can be increased.
  • the reinforcing plate 70 covering the upper region of the contact 48 is attached to the first flexible synthetic resin layer 1 2 6 via the adhesive sheet 72. (6 2) and can be fixed on the conductive path 18 a. Placement of reinforcing plate 70
  • the step of forming the probe sheet 20 when the contact 48 of the probe sheet main body 18 is peeled from the base 100, or the block 16 of the probe sheet 20 or rigid wiring
  • deformation due to external force or deformation due to thermal expansion / contraction of the contact area 50 where each contact 48 is provided can be suppressed.
  • the displacement of the needle tip position of the contact is suppressed.

Abstract

 各接触子とプローブシート本体との結合作業での針先の煩わしい位置調整作業を行うことなく、該針先を正確な所定位置に配置し得るプローブシートの製造方法を提供する。導電路を有するプローブシート本体と、該プローブシート本体の一方の面から突出して形成され前記導電路に接続された複数の接触子とを備えるプローブシートの製造方法。前記製造方法は、基台上でフォトリソグラフィ技術を利用して複数の接触子のための金属材料をそれぞれの針先から基部に向けて順次堆積させることにより前記基台上で複数の接触子を形成すること、前記基台上に保持された前記各接触子の前記基部で結合されるプローブシート本体を前記基台上で形成すること、および前記接触子を前記プローブシート本体と一体で前記基台から分離することを含む。

Description

プローブシートの製造方法 技術分野
本発明は、 集積回路や表示装置用基板のような平板状の被検査体の通電試験に 用いるのに好適なプローブシートの製造方法に関する。
背景技術 田
従来のこの種の通電試験では、 可撓性の絶縁性合成樹脂フィルムぉよぴ該合成 樹脂フィルムに支持された導電路を有するプローブシート本体と、 該プロープシ 一ト本体の一方の面から突出して形成され前記導電路に接続された複数の接触子 とを備えるプローブシートが、 テスタ本体と被検査体との間に用いられている (例えば、 特許文献 1参照) 。
プローブシートの各接触子は、 プローブシート本体の導電路を経てテスタ本体 の電気回路に接続される。 また、 各接触子の針先が被検査体の対応する電極に接 触するように、 プローブシートが被検查体に適用される。 このプローブシートを 用レ、た電気的接触によつて被検查体はテスタ本体に接続される。
ところで、 このようなプローブシートでは、 該プローブシートに設けられた多 数の接触子の針先を被検査体の対応する電極に正確に当接させるために、 各接触 子の針先の寸法精度およびその位置精度が大きな問題となる。
そのため、 このようなプローブシートの形成では、 一般的に、 各接触子は針先 となる先端からプローブシート本体への接続端となる基端に向けて形成されてい る (例えば、 特許文献 2〜4参照) 。 これらの接触子は、 それぞれが形成された 後、 各基端がプローブシート本体の対応する導電路に接続されるように、 プロ一 プシート本体に結合される。
[特許文献 1 ] 特開 2 0 0 2— 3 4 0 9 3 2号公報
[特許文献 2 ] 特開 2 0 0 3— 4 3 0 6 4号公報 [特許文献 3 ] 特開 2 0 0 3— 2 2 7 8 4 9号公報
[特許文献 4 ] 特表 2 0 0 2— 5 0 9 6 0 4号公報
し力 し、 各接触子自体を高精度で形成したとしても、 各接触子をプローブシ 一ト本体に結合する作業で、 それぞれの接触子の針先が所定位置に正確に位置す るように、 各接触子をプローブシート本体に固定することは容易ではなく、 この 結合作業で各接触子の針先位置に誤差が生じ易い。 また、 正確な針先位置を得る ためには、 各接触子とプローブシート本体との結合する作業で、 煩わしい接触子 の #1 "先位置の調整作業が不可欠となる。 発明の開示
発明が解決しょうとする課題
そこで、 本発明の目的は、 各接触子とプローブシート本体との結合作業での #F 先の煩わしい位置調整作業を行うことなく、 該針先を正確な所定位置に配置し得 るプローブシートの製造方法を提供することにある。
課題を解決するための手段
本発明は、 基本的に、 可撓性の絶縁性合成樹脂フィルムおよび該合成樹脂フィ ルムに支持された導電路を有するプローブシート本体と、 該プローブシート本体 の一方の面から突出して形成され前記導電路に接続された複数の接触子とを備え るプローブシー卜の製造方法であって、 基台上でフォトリソグラフィ技術を利用 して複数の接触子のための金属材料をそれぞれの針先から基部に向けて順次堆積 させることにより前記基台上で複数の接触子を形成すること、 前 Ϊ3基台上に保持 された前記各接触子の前記基部で結合されるプローブシート本体を前記基台上で 形成すること、 および前記接触子を前記プローブシート本体と一体で前記基台か ら分離することを含む。
本発明に係る前記製造方法によれば、 前記基台上で所定位置に形成された複数 の接触子は個々に分離されることなく、 これらがその針先を前記基台上の所定位 置に保持された状態で、 各接触子の基部に結合されるプローブシート本体が前記 基台上で形成される。 これにより、 各接触子は、 その針先位置が所定位置に保持 された状態で、 前記プローブシート本体の形成過程中に該プロープシート本体と 一体的に結合される。 その後、 前記接触子は前記プローブシート本体と一体で前 記基台から分離される。
その結果、 個々の接触子を従来のようにプローブシート本体に結合する作業は 不要となり、 またそれに伴う煩わしい接触子の針先位置の調整作業が不要となる。 したがって、 各接触子の針先が正確に所定位置に配置されたプローブシートを従 来に比較して容易に製造することが可能となる。
本発明に係るプローブシートの製造方法は、 より具体的には、 可撓性の絶縁性 合成樹脂フィルムおよび該合成樹脂フィルムに支持された導電路を有するプロ一 プシート本体と、 該プローブシート本体の一方の面から突出して形成され前記導 電路に接続された複数の接触子とを備えるプローブシートの製造方法であって、 接触子の針先のための凹所が形成された基台上で、 フォトリソグラフィ技術を利 用して前記各針先およぴ該針先に連なるアーム部を模るフォトレジストを形成し、 該フォトレジストで模られた凹所に金属材料を堆積して前記接触子の針先および アーム部を形成する第 1のステップと、 前記フォトレジストの除去後、 前記ァー ム部の端部上に犠牲層を形成し、 該犠牲層上に前記プローブシート本体の第 1の フレキシプル合成樹脂層を形成する第 2のステップと、 前記フレキシブル合成樹 脂層および前記犠牲層を経て前記アーム部に至る開口を形成する第 3のステップ と、 前記開口内に金属材料を堆積して前記接触子の前記アーム部に連続する基部 を形成する第 4のステップと、 フォトリソグラフィ技術を利用して前記フレキシ ブル合成樹脂層上に前記開口内に形成された前記基部上を通る導電路を模るフォ トレジストを形成し、 前記合成樹脂層上に前記フォトレジストで模られた凹所に 金属材料を堆積して前記基部に結合された導電路を形成する第 5のステップとを 含み、 前記接触子を前記プローブシート本体と一体で前記基台から分離すること を特徴とする。
前記合成樹脂フィルムあるいはフレキシブル合成樹脂層として、 代表的には、 ポリイミ ドを挙げることができる。 また、 前記犠牲層として、 例えばドライフィ ルムと称される合成樹脂フィルムを用いることができる。 前記基台にステンレス板を用いることができる。 前記接触子のための金属材料 としてニッケルまたはその合金を用いることができる。 この場合、 前記第 1のス テツプでは、 前記基台上に前記アーム部のための金属材料を堆積するに先立ち、 ニッケル層と、 該ニッケル層上に前記銅層を順次積層することができる。 前記銅 層は、 前記アーム部の前記基台上からの剥離を容易にする作用をなす。 また前記 二ッケル層は前記基台上への銅の成長を促進する作用をなす。 これら両層を介し て前記基台上に前記アーム部の形成のための前記金属材料を堆積することが望ま しい。
前記アーム部のための前記金属材料の堆積およぴ前記二ッケル層およぴ銅層の 積層は、 それぞれメツキ法で行なうことができ、 前記アーム部は、 メツキ法の一 つである電铸法 (エレクロトフォーミング) で行うことができる。
前記第 1のステップでは、 前記基台上に前記アーム部のための金属材料を堆積 するに先立ち、 前記基台の前記凹所に前記アーム部の金属材料よりも硬質の金属 材料を堆積し、 該金属材料の堆積後、 該金属材料を覆って前記アーム部のための 金属材料を堆積することができる。 このような硬質金属材料の堆積により、 該硬 質金属材料で各接触子の針先を形成することができるので、 各接触子の針先の耐 摩耗性を高めて各接触子の耐久性の向上を図ることができる。
また、 前記針先を含む fF先部分の形成でフォトリソグラフィを利用することに より、 該針先部分とその後に形成される前記アーム部分との結合にいわゆる蟻溝 結合構造を適用することができるので、 両者により強固な結合が得られる。 前記硬質の金属材料として、 ロジウムまたはパラジウムコバルト合金を用いる ことができ、 該金属材料をメツキ法により堆積することができる。
前記第 3のステップは、 前記犠牲層下の前記アーム部の上面が保護膜で保護さ れた状態で、 前記第 1のフレキシブル合成樹脂層および前記犠牲層へのレーザ光 の照射により行なうことができる。
この保護膜として、 銅のメツキ層を用いることができ、 該銅メツキ層は、 前記 第 2のステツプに先立つて前記アーム部材の上面に形成することができる。 前記第 4のステップでは、 前記犠牲層の高さ位置を越えかつ前記第 1のフレキ シブル合成樹脂層を越えない高さ位置に前記アーム部材の金属材料と同一材料が 前記開口内に堆積し、 続いて該基部上に前記導電路のための金属材料と同一材料 を第 1のフレキシブル合成樹脂層の厚さ寸法内で前記開口に堆積することができ る。 前記開口内への前記アーム部材の金属材料と同一材料の堆積によつて前記接 触子の前記基部が形成される。 また、 前記開口内への前記導電路のための金属材 科と同一材料の堆積によって、 前記接触子の前記基部と、 該基部を構成する金属 と異なる金属からなる前記導電路との接続境界を実質的に第 1のフレキシブル合 成樹脂内に位置させることができ、 両金属の接続境界を前記第 1のフレキシブル 樹脂で保護することができる。
前記第 5のステップでは、 前記第 1のフレキシブノレ合成樹脂層上に前記導電路 のための第 1の導電材料、 該第 1の導電材料よりも高い靱性を有する第 2の導電 材料および前記第 1の導電材料を順次積層することができる。 これにより前記導 電路を 3層構造とすることができ、 導電路の破断に対する強度を高めることがで さる。
前記第 1の導電材料を銅とし、 前記第 2の導電材料をニッケルまたはその合金 とすることができる。 これらはメツキ法により順次第 1のフレキシブル樹脂上に 堆積することができる。
前記第 5のステップでは、 前記導電路の形成後、 前記接触子の上方領域を覆う 補強板を接着シートを介して前記第 1のフレキシブル合成樹脂層および導電路上 に固着することができる。 この補強板の配置により、 プローブシート本体の接触 子が設けられる接触子領域の外力による変形あるいは熱伸縮による変形を抑制し、 この変形に伴う接触子の針先位置のずれが抑制される。
第 6ステップでは、 前記第 1のフレキシブル合成樹脂層上に形成された前記導 電路を覆う第 2のフレキシブル合成樹脂層を形成することができる。 この第 2の フレキシプル樹脂層の形成により、 第 2および前記第 1の両フレキシプル合成樹 脂層間に前記導電路を位置させることにより、 該導電路を両フレキシプル合成樹 脂層からなる合成樹脂フィルム内に埋設することができる。
第 7ステップでは、 前記第 2のフレキシブル合成樹脂層上に犠牲層を形成し、 前記第 2のフレキシブル合成樹脂層およぴ該第 2のフレキシブル合成樹脂層上の 前記犠牲層を経て前記導電路に至る開口を形成し、 該開口内に金属材料を堆積す ることができる。 この金属材料の堆積により前記導電路のためのバンプを形成す ることができる。
第 8ステップでは、 前記バンプの表面を前記第 2のフレキシブル合成樹脂層上 の前記犠牲層の表面に一致させて研磨することができ、 これによりプローブシー トと、 該プローブシートが接続される例えばリジッド配線基板との各電気的接続 を確実になすことができる。 また、 前記したバンプ表面の研磨後、 前記基台から プローブシート本体を前記接触子と一体で剥離し、 その後、 前記プローブシート に残存する前記各犠牲層を除去することができる。
さらに、 第 9ステップでは、 前記導電路が前記第 1およぴ第 2のフレキシブル 合成樹脂層に埋設されて形成された前記プローブシート本体の外形を整えること により、 針先の形成からプローブシート本体の外形を整えてプローブシートを完 成するまでの一連の工程を一貫作業で行うことができる。
発明の効果
本努明によれば、 前記基台上で所定位置に形成された複数の接触子は個々に分 離されることなく、 これらがその針先を前記基台上の所定位置に保持された状態 で、 各接触子の基部に結合されるプローブシート本体が前記基台上で形成され、 その後、 前記接触子は前記プローブシート本体と一体で前記基台から分離される。 そのため、 個々の接触子を従来のようにプローブシート本体に結合する作業は不 要となる。 また、 この従来の結合作業に伴う煩わしい接触子の針先位置の調整作 業が不要となる。 これにより、 各接触子の針先が所定位置で正確に同一平面上に 揃って配置されたプローブシートを従来に比較して容易に製造することが可能と なる。 図面の簡単な説明
図 1は、 本発明に係るフレキシプル配線基板が組み込まれたプローブ組立体を 分解して示す斜視図である。 図 2は、 図 1に示したプローブ組立体の縦断面図である。
図 3は、 図 1に示されたプローブ組立体のプローブシートの一部を拡大して示 す底面図である。
図 4は、 図 1に示されたプローブシートと支持ブロックとの結合前の状態を示 す縦断面図である。
図 5は、 図 4に示したプローブシートと支持プロックとを結合した状態を部分 的に拡大して示す縦断面図である。
図 6は、 本発明に係るプローブシートの製造工程を示す工程説明図 (その 1 ) である。
図 7は、 本発明に係るプローブシートの製造工程を示す工程説明図 (その 2 ) である。
図 8は、 本発明に係るプローブシートの製造工程を示す工程説明図 (その 3 ) である。
図 9は、 本発明に係るプローブシートの製造工程を示す工程説明図 (その 4 ) である。
図 1 0は、 本発明に係るプローブシートの製造工程を示す工程説明図 (その 5 ) である。
図 1 1は、 本発明に係るプローブシートの平面図である。
図 1 2は、 本発明に係るプローブの針先をその先端側から見た斜視図である。 図 1 3は、 図 1 2に示した XIII- XIII線に沿って得られた断面図である。
符号の説明
1 0 プローブ組立体
1 2 リジッド配線基板
1 4 ばね部材
1 6 プロック
1 8 プローブシート本体 (フレキシブル配線基板)
1 8 a 導電路
2 0 プローブシート 4 8 接触子 (プローブ)
4 8 a 接触子の針先
4 8 b 接触子のアーム部
4 8 c 接触子の基部
5 0 接触子領域
6 2、 6 4 電気絶縁性合成樹脂フィルム
6 6 第 1の導電材料層
6 8 第 2の導電材料層
7 0 板状部材 (セラミック板)
1 0 0 基台
1 0 2 凹所
1 1 6 銅層 (保護層)
1 3 0 開口 発明を実施するための最良の形態
本発明に係るプローブ組立体 1 0は、 これを分解して示す図 1に示すように、 リジッド配線基板 1 2と、 該リジッド配線基板にばね部材 1 4を介して弾性支持 されるブロック 1 6と、 リジッド配線基板 1 2の図示しない複数の配線路に電気 的にそれぞれ接続される複数の導電路 1 8 a (図 4参照) が設けられたフレキシ プル配 #泉基板 1 8を有するプローブシート 2 0とを備える。 この実施例では、 本 発明に係るフレキシブル配線基板 1 8がプローブシート 2 0のプローブシート本 体として用いられている。
リジッド配線基板 1 2は、 従来のリジッドプリント配線基板としてよく知られ ているように、 例えばグラスファイバ入りのエポキシ樹脂からなる板状の電気絶 縁母材と、 該母材上の配線路とを有する。 リジッド配線基板 1 2の前記配線路は 図示しないテスタ本体の電気回路に接続される。 図示の例では、 リジッド配線基 板 1 2には、 中央に円形開口 1 2 aを有する円形のリジッド配線基板が用いられ ている。 ばね部材 1 4は、 平板状のばね材料からなり、 リジッド配線基板 1 2の円形開 口 1 2 aの直径よりも小さな外径を有する環状支持部 1 4 aと、 該環状支持部内 を横切って配置される十字状の本体部 1 4 bとを備える。
リジッド配線基板 1 2の上面には、 図 2に示すように、 前記配線路の妨げにな らない部分でリジッド配線基板 1 2に螺合するポルト 2 2を介して、 例えばステ ンレスのような金属からなる円形の支持板 2 4が固定されている。 支持板 2 4は、 リジッド配線基板 1 2を支持し、 該リジッド配線基板の補強作用をなす。
ばね部材 1 4は、 その環状支持部 1 4 aをその両面から挟持する環状の取付板 2 6および環状に相互に組み合わされる複数の押さえ板 2 8を介して、 円形開口 1 2 a内に保持される。 このばね部材 1 4の保持のために、 取付板 2 6は支持板 2 4の下面にポルト 3 0で結合され、 また各押さえ板 2 8は、 該押さえ板および ばね部材 1 4の前記支持部 1 4 aを貫通し取付板 2 6に螺合するボルト 3 2で取 付板 2 6に結合されている。 これにより、 ばね部材 1 4は、 円形開口 1 2 a内で 該開口を横切って保持される。
また、 図 2に示すように、 ボルト 3 0を緩めた状態でばね部材 1 4の保持姿勢 を調整するための平行調整ねじ部材 3 4が、 その先端を取付板 2 6の頂面に当接 可能に、 支持板 2 4に螺合する。
リジッド配線基板 1 2の円形開口 1 2 a内に保持されたばね部材 1 4の本体部 1 4 bに、 前記したプロック 1 6が固定されている。 ブロック 1 6は、 図示の例 では、 矩形横断面を有するステム部 1 6 aと、 該ステム部の下端に連なる正八角 形の横断面形状を有する支持部 1 6 bとを備える。 支持部 1 6 bはその軸線に沿 つて一定の径を有する台座部分 3 6と、 該台座部分に連なりその横断面形状と相 似な横断面形状を有する底部 3 8とを有する。 底部 3 8は、 支持部 1 6 bの軸線 を横切る横方向寸法すなわち径を下端に向けて漸減する。 これより、 プロック 1 6は、 その底部 3 8にテーパ面 4 0を有し、 図示の例では、 8つの平坦なテーパ 面 4 0 (図 3参照) が形成されている。
再ぴ図 2を参照するに、 プロック 1 6は、 その台座部分 3 6の底部 3 8を下方 に向けて、 ステム部 1 6 aの頂面でばね部材 1 4の本体部 1 4 bに結合されてい る。 この結合のために、 ステム部 1 6 aと共同して本体部 1 4 bを挟持する固定 板 4 2が、 ステム部 1 6 aに螺合するねじ部材 4 4により、 ステム部 1 6 aに固 定されている。
また、 プローブシート 2 0のフレキシブル配線基板 1 8すなわちプローブシー ト本体 1 8は、 図 3に示すように、 その中央部にプロック 1 6の底部 3 8に対応 して形成された八角形部分 4 6を有し、 該八角形部分の中央部には、 多数のプロ ーブ 4 8がそれらの金 +先 4 8 aを整列させて配置された接触子領域 5 0が形成さ れている。 この接触子領域 5 0は、 図 3に示す例では、 矩形に形成されている。 プローブシート 2 0は、 図 2に示したように、 そのプローブシート本体 1 8の 接触子領域 5 0から突出する多数のプローブ 4 8の針先 4 8 aを下方に向けて、 八角形部分 4 6がその背面でブロック 1 6の底部 3 8に支持されるように、 後述 するように接着剤を介して該底部の下面に固着されている。 また、 プローブシー ト 2 0は、 八角形部分 4 6から外方へ伸長する部分が僅かな弛みをもつように、 その外縁部がリジッド配線基板 1 2に結合されている。 プローブシート 2 0の前 記外縁部の結合のために、 弾†生ゴムリング 5 2がプローブシート 2 0の外縁部に 沿って配置されており、 また、 弾性ゴムリング 5 2を覆うリング金具 5 4が配置 されている。 プローブシート 2 0の外縁部および両部材 5 2、 5 4は、 位置決め ピン 5 6により、 リジッド配線基板 1 2に対する相対位置が決まる。 プローブシ ート 2 0および両部材 5 2 , 5 4を貫通するねじ部材 5 8のリジッド配線基板 1 2への締め付けによって、 プローブシート 2 0の外縁部がリジッド配線基板 1 2 に結合される。 前記外縁部のリジッド配線基板 1 2への結合によって、 従来にお けると同様に、 プローブシート 2 0の前記導電路 1 8 aがリジッド配線基板 1 2 の対応する前記配線路に電気的に接続される。
図 2およぴ図 3に示す例では、 ァライメントピン 6 0がプローブシート 2 0に 設けられた長穴 6 0 a (図 3参照) を貫通して配置されている。 ァライメントビ ン 6 0の下端には、 前記テーブルに支持されたカメラから撮影可能のァライメン トマーク 6 0 bが設けられている。
このァライメントマークの撮影画像から、 被検査体を支持するテーブル (図示 せず) に対するプローブ組立体 1 0の相対的な位置情報が得られるので、 この位 置情報に基づいて、 プローブ組立体 1 0の各プローブ 4 8の針先 4 8 aが前記テ 一ブル上の被検査体の対応する各電極に正確に接触するように、 プローブ組立体 1 0の前記支持テーブルに対する相対位置が調整される。 その後、 各プローブ 4 8の針先 4 8 aと、 対応する前記電極との電気的接触がなされることにより、 前 記テスタ本体での前記被検査体の通電検査が行われる。
前記プローブシート 2 0の構造を図 4に沿って詳細に説明する。 プローブシー ト 2 0は、 例えばポリイミド樹脂のような可撓性を有する一対の電気絶縁性合成 樹脂フィルム 6 2、 6 4を備え、 該両榭脂フィルム間に導電路 1 8 aが埋設され ている。
本発明に係るプローブ組立体 1 0では、 導電路 1 8 aは、 電線として用いるの に好適な高い導電性を有する金属材料、 例えば銅で形成された第 1の導電材料層 6 6と、 該第 1の導電材料層よりも高い靱性を有する金属材料、 例えばニッケル または二ッケル燐合金のような金属材料で形成された第 2の導電材料層 6 8とを 有する積層構造を備える。 図 4に示す例では、 一対の第 1の導電材料層 6 6間に 単一の第 2の導電材料層 6 8が挟み込まれた 3層のサンドィッチ構造が採用され ている。
2種類の金属についての靭性は、 同一形状およぴ同一寸法の両金属を用いて例 えば衝撃試験によつてそれぞれの応力一歪み線図を求めたとき、 それらの金属が 破断に至る点までの応力一歪み曲線で囲まれる面積で比較することができる。 銅 とニッケルとを比較した場合、 二ッケルで得られた応力一歪み曲線で囲まれる面 積は、 銅で得られたそれよりも大きい。 したがって、 エッケルは銅に比較して破 断が生じ難い、 すなわち靭性が高い材料であると言える。
両第 1の導電材料層 6 6は、 例えばそれぞれ 1 0 mの厚さに堆積され、 また 第 2の導電材料層 6 8は例えば 2 μ πιの厚さに堆積されることから、 導電路 1 8 aは、 例えばほぼ 2 2 μ πιの厚さ寸法を有する。 これら金属層 6 6、 6 8は後述 するように、 電気メツキ法で堆積することができる。
各導電路 1 8 aには、 それぞれ一方の電気絶縁性合成樹脂フィルム 6 2から突 出するプローブ 4 8の基部が接続されている。 また、 各プローブ 4 8が配置され た接触子領域 5 0 (図 3参照) に対応して、 該プローブ領域にほぼ等しい大きさ および形状を有する例えばセラミック板からなる平板状の捕強板 7 0が導電路 1 8 aを部分的に覆うように、 両電気絶縁性合成樹脂フィルム 6 2、 6 4間に埋設 されている。 この補強板 7 0'は、 図示のように、 合成樹脂シートのような接着シ ート 7 2を介して両電気絶縁性合成樹脂フィルム 6 2、 6 4間に固着することが できる。 補強板 7 0は、 電気絶縁性合成樹脂フィルム 6 2、 6 4よりも高い剛性 を有することから、 プローブシート本体 1 8の補強板 7 0に対応する領域での外 力による変形を抑制する作用をなす。
補強板として他の板状部材を用いることができるが、 軽量であり、 熱変形の小 さなセラミック板が好ましい。 このセラミック板からなる補強板 7 0は、 プロ一 プシート本体 1 8の前記した外力による変形に加えて、 熱による伸縮変形を生じ 難いことから、 プローブシート本体 1 8の熱伸縮による変形をも効果的に抑制す る。
前記補強板 7 0は、 合成樹脂フィルム 6 2、 6 4間で、 導電路 1 8 aに関して、 該導電路と接触子であるプローブ 4 8との接続部が設けられた側と反対の側に配 置されている。 この配置により、 単一の板状部材 7 0に各プローブ 4 8すなわち 接触子 4 8との干渉を避けるための格別な形状加工を施すことなく、 接触子領域 5 0の全域を覆うように補強板 7 0を配置することができる。
また、 補強板 7 0の埋設により、 プロープシート 2 0のプローブシート本体 1 8をブロック 1 6に固着する前では、 図 4に示すように、 プローブシート本体 1 8の背面を形成する他方の電気絶縁性合成樹脂フィルム 6 4には、 補強板 7 0に 対応した凸部 7 4が形成される。 他方、 プローブシート本体 1 8の表面を形成す る電気絶縁性合成樹脂フィルム 6 2には、 補強板 7 0に対応したそのような凸形 状が形成されることはない。
プローブシート本体 1 8の背面を受けるブロック 1 6の底部 3 8の下面には、 図 4に示すように、 ほぼ接触子領域 5 0に対応した平坦な矩形の支持面 7 6が形 成されている。 この支持面 7 6は、 底部 3 8の中央部分に形成され、 該中央部分 を取り卷く八角形の平坦な段部 7 8により、 該段部より下方へ突出して形成され ている。 これにより、 テーパ面 4 0は、 該テーパ面と支持面 7 6との間の段部 7 8を経て支持面 7 6に連なる。
平坦な段部 7 8より下方に突出して形成された支持面 7 6には、 接着剤 8 0 a を収容するための矩形の中央凹所 8 0が下方に開放する。 中央凹所 8 0は、 接触 子領域 5 0よりも僅かに小さな平面形状を有する。 中央凹所 8 0の形成により、 支持面 7 6には中央囬所 8 0を取り卷く環状の平坦な支持面部分 7 6 aが残る。 支持面部分 7 6 aは、 捕強板 7 0の縁部を受けるに適正な大きさに形成されてお り、 支持面部分 7 6 aには、 凹所 8 0を取り巻く環状溝 8 2が形成されている。 プローブシート 2 0のプロック 1 6への取付けでは、 中央凹所 8 0に接着剤 8 0 aが供給される。 また、 支持面 7 6を取り巻く段部 7 8にも同様な接着剤が供 給される。
前記した接着剤のプロック 1 6への供給後、 図 4に示すように、 プローブシー ト本体 1 8の凸部 7 4の外縁部が支持面部分 7 6 aに対向するように、 プローブ シート 2 0とブロック 1 6との相対位置が決められる。 この状態で、 図 5に示す ように、 プローブシート本体 1 8がブロック 1 6の底部 3 8の下面に向けて押圧 される。
この押圧により、 プローブシート本体 1 8の凸部 7 4が消失し、 逆に、 プロ一 ブシート本体 1 8は、 その背面が段部 Ί 8および支持面 7 6に沿うように、 凹状 に変形され、 プローブシート本体 1 8が底部 3 8の下面 (テーパ面 4 0を除く) である支持面 7 6および段部 7 8に固着される。
また、 プローブシート本体 1 8の背面が段部 7 8および支持面 7 6に沿うよう に変形するとき、 プローブシート本体 1 8はその厚さ方向へ全体的に変形を生じ る。 このとき、 支持面 7 6の外縁に対応する領域で、 該支持面と段部 7 8との間 の段差のために、 導電路 1 8 aには、 強い剪断応力が作用する。
しかしながら、 本発明に係るプローブシート 2 0では、 その導電路 1 8 aが高 V、靱性を示す第 2の導電材料層 6 8により補強されていることから、 このような 剪断力によって導電路 1 8 aが破断を生じることはない。 また、 第 2の導電材料 層 6 8の補強作用によって、 後述するようなプローブシート 2 0の製造工程にお いても、 導電路 1 8 aの破断が確実に防止できる。
前記したプローブシート本体 1 8のブロック 1 6への接着作業で、 凹所 8 0に 供給された接着剤 8 0 aの過剰分は、 プローブシート本体 1 8が前記した押圧力 を受けたとき、 環状溝 8 2に収容されることから、 この過剰分が支持面部分 7 6 aを越えて段部 7 8にはみ出すことはない。
また、 前記したプローブシート本体 1 8のブロック 1 6への押圧によって、 前 記した凸部 7 4の消失と同時に、 段部 7 8と支持面 7 6との段差分おょぴ捕強板 7 0の厚さ分の和が、 プローブシート本体 1 8の表面の段差分 ΔΗとして表れる。 その結果、 プローブシート本体 1 8の接触子領域 5 0は、 その周辺部から段差 Δ Hで以て下方に突出することになる。
この段差 ΔΗにより、 プローブシート本体 1 8の接触子領域 5 0の外方部分と 前記被検查体との間隔の増大を図ることができる。 この間隔の増大は、 プローブ シート本体 1 8の接触子領域 5 0の外方部分と前記被検査体との干渉をより確実 に防止し、 両者の干渉による前記被検査体の汚染や損傷をより確実に防止する。 補強板 7 0を不要とした場合であっても、 支持面 7 6をその周辺部より突出さ せることにより、 支持面 7 6の突出分に対応した段差 ΔΗを得ることができる。 しかしながら、 より大きな段差 ΔΗを得ること、 およびプローブシート 2 0の取 り扱いを容易とし、 プローブ 4 8の針先 4 8 aの X y平面上の乱れおょぴ針先の 高さ位置である z方向の位置の乱れを防止する上で、 補強板 7 0を用いることが 望ましい。
例えば、 プローブシート 2 0の製造時に、 プローブ 4 8の針先 4 8 aが如何に 整っていても、 その取扱中に接触子領域 5 0に外力による変形や熱による伸縮変 形が生じると、 各プローブ 4 8の整列した姿勢に乱れが生じ、 その結果、 針先 4 8 aの整列に乱れが生じる。 また、 ブロック 1 6への接着時に接触子領域 5 0に 撓みが生じ、 この橈みを残した状態でプローブシート本体 1 8が支持面 7 6に固 着されると、 同様に、 針先 4 8 aの整列に乱れが生じる。
しかしながら、 プローブシート本体 1 8の接触子領域 5 0に対応した補強板 7 0をプローブシート本体 1 8内に埋設することにより、 該プローブシート本体の 接触子領域 5 0における前記したような変形を確実に防止することができる。 こ れにより、 接触子領域 5 0の変形による各プローブすなわち接触子 4 8の姿勢の 乱れを防止することができ、 この接触子 4 8の針先 4 8 aの乱れを確実に防止す ることができる。 したがって、 プローブシート 2 0の取り扱いが容易となり、 ま た針先 4 8 aの位置精度が高いプローブ組立体 1 0が提供される。 —
次に、 本発明に係るプローブシート 2 0の製造方法を図 6ないし図 1 3に沿つ て説明する。 説明おょぴ図面の簡素化のために、 以下の例では、 同時に形成され る多数の接触子すなわちプローブを代表する単一のプ口ーブに沿って、 説明する。
(第 1ステップ)
本発明に係るプローブシートの製造方法では、 図 6 ( a ) に示すように、 例え ばステンレス板のような金属板が基台 1 0 0として用いられ、 その表面に例えば 圧子の打痕によってプローブ 4 8の針先のための凹所 1 0 2が形成される。 なお、 図面には単一の凹所 1 0 2が示されているが、 直前に述べたところから明らかな ように、 前記した接触子領域 5 0内に形成されるプローブ 4 8の数に応じた複数 の凹所 1 0 2が所定の針先間隔をおいて形成される。
凹所 1 0 2の形成後、 フォトリソグラフィ技術を用いたフォトレジストの選択 露光おょぴ現像処理によって、 凹所 1 0 2を含む領域に、 プローブ 4 8の針先 4 8 aを模るパターンマスク 1 0 4が形成される (図 6 ( b ) ) 。
このパターンマスク 1 0 4を用いて凹所 1 0 2およびその近傍に針先 4 8 aの ための金属 1 0 6が例えば電気メツキにより堆積される (図 6 ( c ) ) 。 針先 4 8 aの金属材料として、 例えばロジウムまたはパラジウムコバルト合金のような 硬質金属が用いられる。 金属 1 0 6の堆積後、 パターンマスク 1 0 4が除去され る (図 6 ( d ) ) 。
パターンマスク 1 0 4の除去後、 図 6 ( e ) に示すように、 基台 1 0 0上には、 前記したフォトリソグラフィ技術によって、 プローブシート 2 0の完成後に除去 される犠牲層のためのパターンマスク 1 0 8がフォトレジストで ^成される。 前記した犠牲層のために、 先ず、 例えばメツキ法によってニッケル層 1 1 0が 基台 100上のパターンマスク 108から露出する領域に堆積される。 続いて、 ニッケル層 1 10上に、 同様にメツキ法によって銅層 1 1 2が堆積される。 基台 100上には、 その後にプローブ 48の本体であるアーム部 48 bを形成する金 属材料が堆積されるが、 銅層 1 12は、 この金属材料の堆積によって形成される プローブ本体の基台 100からの剥離を容易にする作用をなす。 また、 基台 10 0上への銅層 112の直接的な堆積が困難であることから、 ュッケノレ層 110を 介して銅層 1 12が堆積されている。
前記犠牲層 1 10, 1 12の形成後、 パターンマスク 108が除去される (図 6 (g) ) 。 その後、 プローブ 48の f fe48 aに連なるアーム部のためのパタ ーンマスク 1 14が前記したと同様なフォトレジストで形成される (図 6
(h) ) 。 このパターンマスク 1 14から露出する領域には、 例えば電鎳法 (ェ レクト口フォーミング) のようなメツキ法により、 プローブ 48のアーム部のた めの金属材料が針先 48 aのための金属 106および前記犠牲層 1 10、 1 12 上に堆積される。 これにより、 金属 106からなる針先 48 aと一体的にアーム 部 48 bが形成される (図 6 (i) ) 。 アーム部 48 bの金属材料として、 例え ば二ッケル燐合金が用レヽられる。
パターンマスク 1 14を残した状態で、 アーム部 48 b上には、 後述する工程 での保護膜として作用する銅層 1 16が例えばメツキ法により、 堆積される (図 (j ) ) 。 この銅層 1 16の形成後、 パターンマスク 1 14が除去される (図 6 (k) ) 。
アーム部 48 bの形成後、 プローブシート本体 18の基準面となる第 2の犠牲 層が形成される。 この第 2の犠牲層の形成に先立って、 基台 100上の針先 48 aがー体的に形成されたアーム部 48 bを選択的に覆うフォトレジストからなる パターンマスク 1 18が前記したと同様なフォトレジスト技術により形成される (図 7 (a) ) 。 基台 100上のパターンマスク 1 18から露出した領域には、 第 2の犠牲層 120のための金属材料が堆積される (図 7 (b) ) 。 第 2の犠牲 層 120として、 ニッケルを用い、 これをメツキ法で堆積することができる。 第 2の犠牲層 120の形成後、 アーム部 48 bを覆うパターンマスク 118が 除去される (図 7 ( c ) ) 。 その後、 アーム部 4 8 b上の銅層 1 1 6を部分的に 除去するためのフォトレジストからなるレジストマスク 1 2 2力 銅層 1 1 6力 らなる保護膜の不要部分のみを露出させて基台 1 0 0上の全体に形成される (図 7 ( d ) ) 。
レジストマスク 1 2 2から露出した銅層 1 1 6の不要部分がエッチングにより 除去されると (図 7 ( e ) ) 、 レジストマスク 1 2 2が除去される (図 7
( f ) ) 。 この銅層 1 1 6の不要部分の除去により、 アーム部 4 8 bの撓み変形 を伴う弾性が銅層 1 1 6により損なわれることが防止される。 これにより、 プロ ープ 4 8の所定の弾性が維持される。
(第 2ステップ)
レジストマスク 1 2 2の除去により、 基台 1 0 0上に、 プローブシート本体 1 8の基準面となる第 2の犠牲層 1 .2 0およびアーム部 4 8 bを露出させた後、 こ れらの上に、 第 3の犠牲層であるドライフィルム 1 2 4、 プローブシート本体 1 8の第 1の電気絶縁性合成樹脂フィルム 6 2のための樹脂層 1 2 6およびレジス トからなる保護膜 1 2 8が順次形成される (図 7 ( g ) ) 。
(第 3ステップ)
保護膜 1 2 8により、 樹脂層 1 2 6すなわち電気絶縁性合成樹脂フィルム 6 2 の表面を保護した状態で、 例えばレーザ光を用いて、 アーム部 4 8 b上の銅層 1 1 6に達する開口 1 3 0が形成される (図 7 ( h ) ) 。 この開口 1 3 0の下端は、 アーム部 4 8 bの針先 4 8 aと反対側に位置する端部で、 銅層 1 1 6上に開放す る。 この銅層 1 1 6は、 アーム部 4 8 bの上面を覆うことにより、 該アーム部を レーザ光から保護する。
(第 4ステップ)
開口 1 3 0の形成後、 エッチングにより、 開口 1 3 0内の^!層 1 1 6が除去さ れ、 開口 1 3 0内にアーム部 4 8 bが露出する (図 7 ( i ) ) 。 開口 1 3 0内に は、 プローブ 4 8の基部 4 8 cを形成するための例えばニッケル層 1 3 2がメッ キ法により、 アーム部 4 8 b上にこれと一体に堆積される。 開口 1 3 0内のニッ ケル層 1 3 2の厚さ寸法は、 ドライフィルムすなわち第 3の犠牲層 1 2 4の厚さ 寸法を超えるが、 該犠牲層と樹脂層 1 2 6との厚さ寸法の和を超えることはない。 したがって、 二ッケル層 1 3 2の上面は、 電気絶縁性合成樹脂フィルム 6 2のた めの樹脂層 1 2 6の厚さ領域内に位置する。
このニッケル層 1 3 2の上面に、 これと一体に銅層 1 3 4がメツキ法により、 堆積される。 したがって、 この両金属 1 3 2、 1 3 4の異種金属接合領域は、 樹 脂層 1 2 6すなわち電気絶縁性合成樹脂フィルム 6 2の厚さ範囲内に存在するこ とになる。 これにより、 前記異種金属接合領域は、 電気絶縁性合成樹脂フィルム 6 2により、 保護される。 銅層 1 3 4は、 その上面が樹脂層 1 2 6の上面にほぼ —致する厚さ寸法を有する。 銅層 1 3 4の堆積後、 保護膜 1 2 8が除去される (図 7 ( k ) ) 。
(第 5ステップ)
保護膜 1 2 8の除去によって露出する榭脂層 1 2 6および銅層 1 3 4上には、 図 8 ( a ) に示すように、 スパッタリングにより、 導電路 1 8 aを成長させるた めの例えば 0 . 3 mの厚さ寸法を有する銅層 1 3 6が形成される。
その後、 図 8 ( b ) に示すように、 フォトリソグラフィ技術により、 銅層 1 3 4上を含む配線路領域を模るパターンマスク 1 3 8がフォトレジストで形成され る。 パターンマスク 1 3 8から露出した領域には、 導電路 1 8 aのための 1 0 μ mの厚さ寸法の鲖層 6 6、 2 Ai mの厚さ寸法のニッケル層 6 8および 1 0 μ τηの 厚さ寸法の銅層 6 6が、 順次、 例えばメツキ法により堆積される (図 8 ( c ) ;) 。 銅層 6 6、 ニッケル層 6 8およぴ銅層 6 6の堆積により、 導電路 1 8 aが形成 されると、 パターンマスク 1 3 8が除去され (図 8 ( d ) ) 、 続いて、 銅層 1 3 6の導電路 1 8 aからはみ出す部分が、 エッチングにより、 除去される (図 8 ( e ) ) 。
これにより、 前記したように、 破断に対する強度が優れた導電路 1 8 aを形成 することができる。
(第 6ステップ)
パターンマスク 1 3 8の除去および銅層 1 3 6の部分的な除去によって露出し た樹脂層 1 2 6すなわち電気絶縁性合成樹脂フィルム 6 2およぴ該フィルム上の 導電路 18 a上には、 図 8 (f ) に示すように、 合成樹脂材料からなる接着シー ト 72が接着され、 該シート上に接触子領域 50を覆うセラミック板 70が配置 される。 さらに、 セラミック板 70を覆って同様な接着シート 72が配置された 後、 図 8 (g) に示すように、 これらを覆って、 他方の電気絶縁性合成樹脂フィ ルム 64を形成するポリイミド樹脂層 140が堆積される。
このポリイミド樹脂層 140の形成時、 該ポリイミド樹脂層に押圧力 Fが作用 する。 この押圧力 Fの一部は、 ニッケル層 132と^!層 134との堆積によって 形成されたプローブ 48の基部 48 cの縁部の符号 142で示す部分で、 導電路 18 aの剪断力として作用するが、 第 2の導電材料層 68により補強された導電 路 18 aは、 この剪断力によって損傷を受けることはない。
(第 7ステップ)
ポリイミ ド樹脂層 140の形成後、 該ポリイミド樹脂層上に、 第 4の犠牲層と して、 ドライフィルム 144が接着される (図 9 (a) ) 。 その後、 図 9 (b) に示すように、 第 4の犠牲層 144およびその下層であるポリイミド樹脂層 14 0を経て、 導電路 18 a上に開放する開口 146がレーザ光によって形成される。 この開口 146内には、 図 9 (c) に示すように、 パッドすなわちバンプ 14 8のための金属材料がメツキによって堆積される。 バンプ 148の金属材料とし て例えば二ッケルを堆積することができる。
(第 8ステップ)
バンプ 148の第 4の犠牲層 144の表面から突出する部分が平坦になるよう に研磨加工を受け (図 9 (d) ) 、 この平坦面には、 前記したリジッド配線基板 12の前記配線路との電気的接触を良好になすための金層 150が例えばメツキ 法により形成される。
金層 150の形成後、 図 10 (a) に示すように、 プローブシート本体 18が 第 2の犠牲層 120およぴ第 4の犠牲層 144等と共に、 基台 100から取り外 される。 このとき、 プローブシート本体 18の接触子領域 50に、 プロープ 48 を経て、 たとえ剥離力の一部が曲げ力として作用しても、 接触子領域 50内に埋 設された補強板 70により、 その変形が抑制される。 したがって、 この剥離によって各プローブ 4 8の姿勢およぴ針先 4 8 aにずれ を生じることが防止される。
プローブ 4 8の剥離による基台 1 0 0の除去後、 エッチング処理によってュッ ケル層 1 1 0および銅層 1 1 2層からなる前記した第 1の犠牲層および第 2の犠 牲層 1 2 0がそれぞれ除去される (図 1 0 ( b ) ) 。 また、 第 2の犠牲層 1 2 0 の除去によって露出するドライフィルム 1 2 4が除去され、 また第 4の犠牲層 1 4 4が除去される (図 1 0 ( c ) ) 。
(第 9ステップ)
その後、 図 1 1に示すように、 レーザカ卩ェあるいはカッターによる切断加工に より、 プローブシート本体 1 8の輪郭が整えられ、 またプローブシート本体 1 8 の導電路 1 8 aに干渉しない位置に、 位置決めピン 5 6を受け入れる開口 5 6 a およびァライメントピン 6 0を受け入れる長穴 6 0 aがそれぞれ形成され、 プロ ープ組立体 1 0が形成される。
本発明に係るプローブシート 2 0の前記した製造方法によれば、 極めて高い精 度を要求されるプローブ 4 8の針先 4 8 aから、 順次そのアーム部 4 8 bおよび 基部 4 8 cが基台 1 0 0上で形成される。 また、 各プローブ 4 8が基台 1 0 0上 に保持された状態で、 このプローブ 4 8と結合されるプローブシート本体 1 8が プローブ 4 8と一体的に形成される。
したがって、 このプローブすなわち接触子 4 8を個々にプローブシート本体 1 8に結合する作業は不要となり、 それに伴う接触子 4 8の針先 4 8 a位置の調整 作業は不要となるので、 各接蝕子 4 8の針先 4 8 aが正確に所定位置に配置され たプローブシート 2 0を従来に比較して容易に製造することができる。 また、 針 先 4 8 aの形成からプローブシート本体 1 8の外形を整えてプローブシート 2 0 を完成するまでの一連の工程を一貫作業で効率的に行うことができる。
また、 接触子 4 8の針先 4 8 aおよびアーム部 4 8 bを形成する第 1のステツ プでは、 基台 1 0 0上にアーム部 4 8 bのための金属材料を堆積するに先立ち、 基台 1 0 0の凹所 1 0 2にアーム部 4 8 bの金属材料よりも硬質の金属材料を堆 積することができる。 この硬質金属材料の堆積後、 該金属材料を覆ってアーム部 4 8 bのための金属材料を堆積することにより、 該硬質金属材料で各接触子 4 8 の針先 4 8 aを形成することができるので、 各接触子 4 8の針先 4 8 aの耐摩耗 性を高めて各接触子 4 8の耐久性の向上を図ることができる。
この第 1のステップで、 前記したように、 針先 4 8 aのための形成にフォトリ ソグラフィ技術を用いることができる。 このフォトリソグラフィ技術を用いるこ とにより、 図 1 2および図 1 3に示すように、 金属 1 0 6で形成される #1·先 4 8 aの両縁部には、 パターンマスク 1 0 4の縁部の端面形状に応じて、 幅寸法を端 面に向けて増大するスカート部 4 8 dが形成される。 このスカート部 4 8 dを覆 つてアーム部 4 8 bが金属材料の堆積によって形成されることから、 針先 4 8 a とアーム部 4 8 bとの結合部に、 いわゆる蟻溝結合が構成される。 その結果、 両 者 4 8 b、 4 8 d間に強固な結合を得ることができる。
また、 前記した第 4のステップでは、 ドライフィルム 1 2 4からなる犠牲層の 高さ位置を越えかつ第 1のフレキシブル合成樹脂層 1 2 6を越えない高さ位置に アーム部 4 8 bと同一材料が基部 4 8 cのために開口 1 3 0内に堆積される。 続 いて、 基部 4 8 b上に導電路 1 8 aのための金属材料と同一材料の銅が第 1のフ レキシブル合成樹脂層 1 2 6の厚さ寸法内で開口 1 3 0内に堆積される。 その結 果、 接触子 4 8の基部 4 8 cと、 該基部と異なる金属材料からなる導電路 1 8 a との接続境界を実質的に第 1のフレキシブル合成樹脂 1 2 6 ( 6 2 ) 内に位置さ せることができるので、 両金属の接続境界を第 1のフレキシブル樹脂 1 2 6 ( 6 2 ) で保護することができる。
導電路 1 8 aを形成する第 5のステップでは、 第 1のフレキシブル合成樹脂層 1 2 6 ( 6 2 ) 上に導電路 1 8 aのための第 1の導電材料層 6 6、 該第 1の導電 材料層よりも高い靱性を有する第 2の導電材料層 6 8および前記第 1の導電材料 層 6 6を II次積層することができる。 これにより、 導電路 1 8 aを 3層構造とす ることができ、 導電路 1 8 aの破断に対する強度を高めることができる。
また、 この第 5のステップでは、 導電路 1 8 aの形成後、 接触子 4 8の上方領 域を覆う補強板 7 0を接着シート 7 2を介して第 1のフレキシブル合成樹脂層 1 2 6 ( 6 2 ) およぴ導電路 1 8 a上に固着することができる。 補強板 7 0の配置 により、 前記したように、 プローブシート 2 0の形成工程で、 プローブシート本 体 1 8の接触子 4 8を基台 1 0 0から剥離するとき、 あるいはプローブシート 2 0のプロック 1 6あるいはリジッド配線基板 1 2への組み付け等でのプローブシ ート本体 1 8の取り扱いにおいて、 各接触子 4 8が設けられる接触子領域 5 0の 外力による変形あるいは熱伸縮による変形を抑制することができ、 この変形に伴 う接触子の針先位置のずれが抑制される。
産業上の利用可能性
本発明は、 上記実施例に限定されず、 その趣旨を逸脱しない限り、 種々に変更 することができる。

Claims

請求の範囲
1 . 可撓性の絶縁性合成樹脂フィルムおよび該合成樹脂フィルムに支持された 導電路を有するプロ ブシート本体と、 該プローブシート本体の一方の面から突 出して形成され前記導電路に接続された複数の接触子とを備えるプローブシート の製造方法であって、 基台上でフォトリソグラフィ技術を利用して複数の接触子 のための金属材料をそれぞれの針先から基部に向けて順次堆積させることにより 前記基台上で複数の接触子を形成すること、 前記基台上に保持された前記各接触 子の前記基部で結合されるプローブシート本体を前記基台上で形成すること、 お よび前記接触子を前記プロ一ブシート本体と一体で前記基台から分離することを 含むプローブシートの製造方法。
2 . 可撓性の絶縁性合成樹脂フィルムおよぴ該合成樹脂フィルムに支持された 導電路を有するプローブシ一ト本体と、 該プローブシート本体の一方の面から突 出して形成され前記導電路に接続された複数の接触子とを備えるプローブシート の製造方法であって、
接触子の針先のための凹所が形成された墓台上で、 フォトリソグラフィ技術を 利用して前記各針先およぴ該針先に連なるアーム部を模るフォトレジストを形成 し、 該フォトレジストで模られた凹所に金属材料を堆積して前記接触子の針先お よびアーム部を形成する第 1のステップと、
前記フォトレジス トの除去後、 前記アーム部の端部上に犠牲層を形成し、 該犠 牲層上に前記プローブシート本体のための第 1のフレキシブル合成樹脂層を形成 する第 2のステップと、
前記フレキシブル合成樹脂層および前記犠牲層を経て前記アーム部に至る開口 を形成する第 3のスチップと、
前記開口内に金属材料を堆積して前記接触子の前記アーム部に連続する基部を 形成する第 4のステップと、
フォトリソグラフィ技術を利用して前記フレキシブル合成樹脂層上に前記開口 内に形成された前記基部上を通る導電路を模るフォトレジストを形成し、 前記合 成樹脂層上に前記フォトレジストで模られた凹所に金属材料を堆積して前記基部 に結合された導電路を形成する第 5のステップとを含み、 前記接触子を前記プロ 一プシート本体と一体で前記基台から分離することを特徴とする、 プローブシー トの製造方法。
3 . 前記基台はステンレス板からなり、 前記接触子のための金属材料は-ッケ ルまたはその合金であり、 前記第 1のステップは、 前記基台上に前記アーム部の ための金属材料を堆積するに先立ち、 該アーム部の前記基台上からの剥離を容易 にするための銅層の前記基台上への成長を促進するための-ッケル層と、 該ニッ ケル層上に前記銅層を順次積層し、 該両層を介して前記基台上に前記アーム部の 形成のための前記金属材料を堆積することを含む、 請求項 2に記載の製造方法。
4 . 前記アーム部のための前記金属材料の堆積および前記-ッケル層おょぴ銅 層の積層は、 それぞれメツキ法で行われる請求項 3に記載の製造方法。
5 . 前記第 1のステップは、 前記基台上に前記アーム部のための金属材料を堆 積するに先立ち、 前記基台の前記凹所に前記アーム部の金属材料よりも硬質の金 属材料を堆積し、 該金属材料の堆積後、 該金属材料を覆って前記アーム部のため の金属材料を堆積することを含む、 請求項 2に記載の製造方法。
6 . 前記硬質の金属材料は、 ロジウムまたはパラジウムコパルト合金であり、 該金属材料がメツキ法により堆積される、 請求項 5に記載の製造方法。
7 . 前記第 3のステップは、 前記犠牲層下の前記アーム部の上面が保護膜で保 護された状態で、 前記第 1のフレキシブル合成樹脂層おょぴ前記犠牲層へのレー ザ光の照射により行われる、 請求項 2に記載の製造方法。
8 . 前記保護膜は、 前記第 2のステップに先立って前記アーム部材の上面に形 成された銅のメツキ層である、 請求項 7に記載の製造方法。
9 . 前記第 4のステップは、 前記犠牲層の高さ位置を越えかつ前記第 1のフレ キシプル合成樹脂層を越えない高さ位置に前記アーム部材の金属材料と同一材料 が前記前記開口内に堆積し、 これにより前記基部が形成され、 続いて該基部上に 前記導電路のための金属材料と同一材料を第 1のフレキシブル合成樹脂層の厚さ 寸法内で前記開口に堆積することを含む、 請求項 1に記載の製造方法。
1 0 . 前記第 5のステップは、 前記第 1のフレキシブル合成樹脂層上に前記導 電路のための第 1の導電材料、 該第 1の導電材料よりも高い靱性を有する第 2の 導電材料および前記第 1の導電材料を順次積層することを含み、 これにより 3層 構造の前記導電路が形成される、 請求項 1に記載の製造方法。
1 1 . 前記第 1の導電材料は銅であり、 第 2の導電材料は-ッケルまたはその 合金であり、 これらはメツキ法により順次堆積される請求項 1 0に記載の製造方 法。
1 2 . 前記第 5のステップは、 前記導電路の形成後、 前記接触子の上方領域を 覆う補強板が接着シートを介して前記第 1のフレキシブル合成樹脂層おょぴ導電 路上に固着することを含む、 請求項 1に記載の製造方法。
1 3 . さらに、 前記第 1のフレキシブル合成樹脂層と共同して前記導電路を埋 設すべく前記フレキシプル合成樹脂層上に形成された前記導電路を覆う第 2のフ レキシブル合成樹脂層を形成する第 6のステップとを含む、 請求項 1に記載の製 造方法。
1 4 . さらに、 前記第 2のフレキシブル合成樹脂層上に犠牲層を形成し、 前記 第 2のフレキシブル合成樹脂層および該第 2のフレキシブル合成樹脂層上の前記 犠牲層を経て前記導電路に至る開口を形成し、 該開口内に金属材料を堆積し、 こ れにより前記導電路のためのバンプを形成する第 7のステップと、 前記バンプの 表面を前記第 2のフレキシブル合成樹脂層上の前記犠牲層の表面に一致させて研 磨する第 8のステップとを含み、 前記基台から前記接触子を前記プローブシート 本体と一体で剥離した後、 前記プローブシートに残存する前記各犠牲層を除去す ることを特徴とする、 請求項 1 3に記載の製造方法。
1 5 . さらに、 前記導電路を前記第 1およぴ第 2のフレキシブル合成樹脂層に 埋設して形成された前記プローブシート本体の外形を整える第 9のステップを含 む、 請求項 1 4に記載の製造方法。
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