WO2007080905A1 - スパッタリング方法及びスパッタリング装置 - Google Patents

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WO2007080905A1
WO2007080905A1 PCT/JP2007/050200 JP2007050200W WO2007080905A1 WO 2007080905 A1 WO2007080905 A1 WO 2007080905A1 JP 2007050200 W JP2007050200 W JP 2007050200W WO 2007080905 A1 WO2007080905 A1 WO 2007080905A1
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voltage
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targets
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Motoshi Kobayashi
Hajime Nakamura
Yoshikuni Horishita
Atsushi Ono
Shigemitsu Satou
Toshio Nakajima
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Ulvac, Inc.
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    • H01J2237/022Avoiding or removing foreign or contaminating particles, debris or deposits on sample or tube

Definitions

  • the present invention relates to a sputtering method and a sputtering apparatus that enable film formation on the surface of a processing substrate.
  • ions in a plasma atmosphere are accelerated and bombarded toward a target formed in a predetermined shape according to the composition of a thin film to be formed on the surface of a processing substrate, and target atoms are scattered. Then, a thin film is formed on the surface of the processing substrate.
  • a plasma discharge is generated by applying a voltage to the target, which is a force sword electrode, via a DC power supply or an AC power supply to cause a glow discharge between the force sword electrode and the anode electrode or the earth electrode.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 11-200036 (for example, refer to claim 1).
  • the problem of the present invention is that when film formation is performed by sputtering using an AC power supply, it is possible to quickly detect the occurrence of arc discharge and shut off the output to the target. It is an object of the present invention to provide a sputtering method and a sputtering apparatus that can effectively prevent the occurrence of splashing of particles by reducing energy when generated.
  • the sputtering method according to claim 1 applies a voltage to the pair of targets provided in the vacuum chamber by alternately changing the polarity at a predetermined frequency via an AC power source.
  • a sputtering method in which each target is alternately switched to an anode electrode and a force sword electrode, a glow discharge is generated between the anode electrode and the force sword electrode to form a plasma atmosphere, and each target is sputtered.
  • the output voltage waveform to the pair of targets is detected and it is determined that the voltage drop time of the output voltage waveform is shorter than that during normal glow discharge, the output from the AC power supply is shut off. It is a feature.
  • each target when a voltage is applied to a pair of targets via an AC power source, each target is alternately switched to an anode electrode and a force sword electrode, and a gloss is applied between the anode electrode and the force sword electrode.
  • a plasma atmosphere is formed, accelerated and bombarded toward the target that has become an ionic force sword electrode in the plasma atmosphere, and the target atoms are scattered, forming a thin film on the surface of the processing substrate.
  • an output current waveform between the pair of targets is detected, and if the absolute value of the output voltage waveform exceeds a predetermined value, it is considered that the glow discharge has occurred, and the output current waveform A current gate signal is generated from the absolute value, and a voltage pulse signal is generated from the absolute value of the output voltage waveform.
  • the current pulse signal is turned off, the output voltage waveform is turned off. It can be determined that the voltage drop time is shorter than that during normal glow discharge. According to this, since the occurrence of a voltage drop is detected when a current flows between the targets, for example, false detection of arc discharge can be reduced.
  • the predetermined value is changed in accordance with the input power to the pair of targets of the alternating current power.
  • the absolute value of the output voltage waveform also generates a voltage pulse signal, and the pulse width of the voltage pulse signal is detected.
  • the pulse width becomes smaller than a predetermined value
  • the output voltage waveform It may be determined that the voltage drop time is shorter than that during normal glow discharge. According to this, since the occurrence of arc discharge can be detected only by the voltage between the targets, there is no need to consider the phase shift between the output voltage waveform and the output current waveform. The occurrence of arc discharge can be detected even when the phases do not match.
  • the predetermined value may be determined directly from the absolute value of the output voltage waveform, or if the arc discharge does not occur, the pulse width in this case is measured in advance and determined relatively. .
  • a differential waveform proportional to a voltage drop of the output voltage waveform is detected, and the differential waveform is detected.
  • the voltage drop time of the output voltage waveform may be determined to be shorter than that during normal glow discharge.
  • the output voltage waveform is preferably a substantially sine wave.
  • an output current waveform between the pair of targets is detected, and after adjusting the phase and amplitude of the output voltage waveform and the output current waveform to substantially match, a difference waveform between these waveforms is detected.
  • this differential waveform becomes larger than a predetermined value, it may be determined that the voltage drop time of the output voltage waveform is shorter than that during normal glow discharge. According to this, if the waveform used for arc detection is composed of the differential force of the current waveform and voltage waveform adjusted appropriately, and if an arc discharge occurs, the output of the differential waveform is even larger. Since it is a waveform, it can be hardly affected by noise, and as a result, false detection can be reduced.
  • the output voltage waveform and the output current waveform are preferably substantially sine waves.
  • the sputtering apparatus has a pair of targets provided in the vacuum chamber and a polarity between the pair of targets alternately at a predetermined frequency. And an AC power supply for applying a voltage, and an arc detection means for detecting a voltage drop in which the voltage drop time of the output voltage waveform to the target is shorter than that during normal glow discharge, and an arc detection circuit And a shut-off means for shutting off the output from the AC power supply.
  • the AC power supply may be provided with phase adjusting means for substantially matching the phases of the output voltage waveform and the output current waveform to the pair of targets.
  • the arc detection means includes a first absolute value detection circuit and a second absolute value detection circuit for detecting an absolute value of an output current waveform and an output voltage waveform between the pair of targets, and a first absolute value.
  • a current gate signal generation circuit and a voltage pulse signal generation circuit provided with a comparator to which an absolute value and a detection level from the detection circuit and the second absolute value detection circuit are respectively input; and a current gate signal generation circuit and a voltage pulse signal generation When the voltage gate signal is turned off while the current gate signal is on, the current gate signal and voltage pulse signal from the circuit are input. Also, a voltage drop that is a short time is detected.
  • an absolute value detection circuit for detecting an absolute value of an output voltage waveform between the pair of targets, a voltage waveform from the absolute value detection circuit, and a detection level Is composed of a voltage pulse generation circuit provided with a comparator, and a voltage drop detection circuit to which a voltage pulse signal from the voltage pulse generation circuit is input, and the voltage pulse signal input to the voltage drop detection circuit is When the pulse width is detected and the pulse width becomes smaller than a predetermined value, a voltage drop that is shorter than that during normal glow discharge is detected.
  • the arc detection means of another form includes a differentiation circuit that detects a differential waveform proportional to a voltage drop of an output voltage waveform between the pair of targets, and an absolute voltage waveform of the differentiation circuit force.
  • the first and second gain adjustment circuits that adjust the output voltage waveform and the output current waveform between the pair of targets so as to substantially match each other.
  • a differential amplifier that detects the differential waveform of the output voltage waveform and output current waveform from each gain adjustment circuit, an absolute value detection circuit that detects the absolute value of the differential waveform of this differential amplifier force, and an absolute value detection A comparator to which the differential waveform of the circuit force and the detection level are input.
  • the sputtering method and sputtering apparatus of the present invention can quickly detect the occurrence of arc discharge and shut off the output to the target even when the film is formed by sputtering using an AC power source. There is an effect that it is possible to effectively prevent generation of splashes by reducing energy at the time of occurrence of discharge.
  • the sputtering apparatus 1 is of an in-line type, and has a vacuum chamber 11 that can be maintained at a predetermined degree of vacuum through vacuum exhaust means (not shown) such as a rotary pump and a turbo molecular pump.
  • a substrate transfer means is provided in the upper part of the vacuum chamber 11.
  • This substrate transport means has a known structure, for example, has a carrier 2 on which the process substrate S is mounted, and intermittently drives the drive means to sequentially transport the process substrates S to a position facing a target described later. it can.
  • the vacuum chamber 11 is provided with gas introduction means 3.
  • the gas introduction means 3 communicates with a gas source 33 through a gas pipe 32 provided with a mass flow controller 31, and is used for a sputtering gas such as Ar or O, H 0, H, N used for reactive sputtering.
  • Reactive gas such as
  • a cathode electrode C is arranged under the vacuum chamber 11 !.
  • the force sword electrode C has a pair of targets 41a and 41b disposed to face the processing substrate S.
  • Each target 41a, 41b is made by a known method according to the composition of the thin film to be deposited on the processing substrate S, such as Al, Ti, Mo, ITO, etc., and is substantially rectangular (rectangular in top view). Is formed.
  • Each target 41a, 41b is bonded to a backing plate 42 that cools the target 41a, 4 lb during sputtering through a bonding material such as indium tin, and is attached to the frame of the force sword electrode C through an insulating material (not shown). It is mounted and placed in a floating state in the vacuum chamber 11.
  • the targets 41a and 41b are arranged side by side so that the sputter surfaces 411 when not in use are located on the same plane parallel to the processing substrate S, and the side surfaces 412 facing each other 41a and 41b face each other. No components such as an anode and a shield are provided between them.
  • the outer dimensions of the targets 41a and 41b are set to be larger than the outer dimensions of the processing substrate S when the targets 41a and 41b are arranged side by side.
  • the force sword electrode C is equipped with a magnet assembly 5 positioned behind each of the targets 41a and 41b.
  • the magnet assembly 5 includes a support plate 51 provided in parallel to the targets 41a and 41b.
  • the support plate 51 is composed of a rectangular flat plate that is smaller than the width of each of the targets 41a and 41b and is formed so as to extend on both sides along the longitudinal direction of the targets 41a and 41b. Is made of a magnetic material.
  • a bar-shaped central magnet 52 along the longitudinal direction of the targets 41a and 41b and a peripheral magnet 53 provided along the outer periphery of the support plate 51 are provided.
  • the AC power supply E includes a power supply unit 6 that can supply power, and an oscillation unit that outputs voltages to the targets 41a and 41b by alternately changing the polarity at a predetermined frequency. It consists of seven.
  • the waveform of the output voltage is a substantially sine wave, but is not limited to this, for example, a substantially square wave.
  • the power supply unit 6 rectifies the input AC power, the first CPU circuit 61 that controls the operation thereof, the input unit 62 to which commercial AC power (three-phase AC200V or 400V) is input, and 6 diodes 63 for converting to DC power, and serves to output DC power to the oscillator 7 via DC power lines 64a and 64b.
  • the power supply unit 6 is connected to the switching transistor 65 provided between the DC power lines 64a and 64b and the first CPU circuit 61 so as to be communicable, and controls on / off of the switching transistor 65.
  • a first driver circuit 66a and a first PMW control circuit 66b are provided.
  • a detection circuit 67a and an AD conversion circuit 67b that have a current detection sensor and a voltage detection transformer and detect the current and voltage between the DC power lines 64a and 64b are provided, and are provided via the detection circuit 67a and the AD conversion circuit 67b. Input to the CPU circuit 61.
  • the oscillation unit 7 includes a second CPU circuit 71 communicatively connected to the first CPU circuit 61, and an oscillation switch circuit 72 provided between the DC power lines 64a and 64b.
  • 4 1st to 4th switching transistors 72a, 72b, 72c, 72d and 2nd CPU circuit 7U can be connected freely, and connected to each switching transistor 72a, 72b, 72c, 72d
  • a second driver circuit 73a and a second PMW control circuit 73b for controlling the turn-off are provided.
  • the second driver circuit 73a and the second PMW control circuit 73b for example, the first and fourth switching transistors 72a and 72d and the second and third switching transistors 72b and 72c are turned on.
  • the operation of each switching transistor 72a, 72b, 72c, 72d is controlled so that the OFF timing is inverted, sinusoidal AC power can be output via the AC power lines 74a, 74b from the oscillation switch circuit 72.
  • a detection circuit 75a and an AD conversion circuit 75b for detecting an oscillation voltage and an oscillation current are provided and input to the second CPU circuit 71 via the detection circuit 75a and the AD conversion circuit 75b.
  • the AC power lines 74a and 74b are connected to an output transformer 76 having a known structure via a resonance LC circuit in series, parallel, or a combination thereof, and the output cable K from the output transformer 76 is connected to a pair. Connected to targets 41a and 4 lb, respectively.
  • a detection circuit 77a and an AD conversion circuit 77b that have a current detection sensor and a voltage detection transformer and detect the output voltage and output current to the pair of targets 41a and 41b are provided, and the detection circuit 77a and the AD conversion circuit are provided.
  • the signal is input to the second CPU circuit 71 via 77b.
  • a constant voltage can be applied to the pair of targets 41a and 41b by alternately changing the polarity at a constant frequency via the AC power source E.
  • the output from the detection circuit 77a is connected to a detection circuit 78a that detects the output phase and frequency of the output voltage and the output current.
  • the phase and frequency of the output voltage and output current are input to the second CPU circuit 71 via the circuit 78b.
  • control signal from the second CPU circuit 71 controls the on / off of each switching transistor 72a, 72b, 72c, 73d of the oscillation switch circuit 72 by the second driver circuit 73a, and the output voltage and output
  • the phases of the currents can be controlled so as to substantially match each other, and the output phase frequency control circuit 78b, the second CPU circuit 71, and the second driver circuit 73a constitute a phase adjusting means.
  • the processing substrate S is transported to a position facing the pair of targets 41a and 41b by the substrate transporting means, and a predetermined sputtering gas is introduced through the gas introducing means 3.
  • An AC voltage is applied to the pair of targets 41a and 41b via the AC power source E, and the targets 41a and 41b are alternately switched between the anode electrode and the force sword electrode, and a glow discharge is generated between the anode electrode and the force sword electrode.
  • ions in the plasma atmosphere are accelerated and bombarded toward one of the targets 41a and 41b that have become force sword electrodes, and target atoms are scattered to form a thin film on the surface of the processing substrate S.
  • the magnet assembly 5 is provided with driving means such as a motor (not shown), and by this driving means, the two positions along the horizontal direction of the targets 41a and 41b are parallel and at a constant speed.
  • the erosion area is uniformly obtained over the entire surface of the targets 41a and 41b.
  • the arc detecting means for detecting a voltage drop in the oscillation unit 7 in which the voltage drop time of the output voltage waveform to the pair of targets 41a and 41b is shorter than that during normal glow discharge. It was decided to provide 8.
  • the arc detection means 8 detects the occurrence of arc discharge, a voltage drop arc output signal is output to the second CPU circuit 71 connected for communication.
  • the operation of the switching transistor 65 is controlled by the first driver circuit 66a by the control signal from the first CPU circuit 71 that can communicate with the second CPU circuit 71, and the output to the pair of targets 41a and 41b is immediately performed. It was decided to block.
  • the oscillation switch circuit 72 is set so that the potential between the AC power lines 74a and 74b becomes the same by the second driver circuit 73a by the control signal from the second CPU circuit 71, for example.
  • the operation of each of the switching transistors 72a, 72b, 72c, 72d may be controlled to immediately shut off the output to the pair of targets 41a, 41b.
  • the arc detection means 8 includes an output voltage from the detection circuit 77a, a current sensor amplifier 81 and a voltage transformer amplifier 82 that amplify the output current, and a current.
  • a first absolute value detection circuit 83a and a second absolute value detection circuit 83b that detect the absolute values of the output current waveform and the output voltage waveform amplified by the sensor amplifier 81 and the voltage transformer amplifier 82 are provided.
  • the arc detection means 8 is a comparator 841 to which the absolute values from the first and second absolute value detection circuits 83a and 83b, and the preset current gate detection level and voltage pulse detection level are input.
  • the preset current gate detection level and voltage pulse detection level are changed according to the output from the power supply unit 6 to the pair of targets 41a and 41b, for example, and the arc is detected with higher accuracy. Let it be detected.
  • the switching transistor 65 is controlled by a control signal from the first CPU circuit 61 of the power supply unit 6 to supply DC power to the oscillation unit 7 via the DC power lines 64a and 64b.
  • the operation of the first to fourth switching transistors 72a, 72b, 72c, 72d is controlled by a control signal from the second CPU circuit 71, and an AC voltage is applied to the pair of targets 41.
  • a reset signal is input to the current drop detection circuit 85 to reset it (see Fig. 3 (c)).
  • the absolute value of the current waveform from the first absolute value detection circuit 83a and the current gate detection level are input to the comparator 841 of the current gate generation circuit 84a via the detection circuit 77a, and the absolute value is If the current gate detection level is exceeded, the glow discharge in the vacuum chamber 11
  • the normal discharge signal is input to the current drop detection circuit 85 (see Fig. 3 (c)). In this case, it is preferable to input a normal discharge signal after the phases of the output voltage waveform and the output current waveform substantially coincide with each other.
  • the respective absolute values from the first and second absolute value detection circuits 83a and 83b, the current gate detection level and the preset voltage pulse detection level are input to each comparator 841, and are input to each comparator 841.
  • the current gate signal and the voltage pulse signal are input from the current gate generation circuit 84a and the voltage pulse generation circuit 84b to the voltage drop detection circuit 85, and the high-speed clock signal is input to the voltage drop detection circuit 85 to generate arc discharge. Start detection (see Fig. 3 (c)).
  • the voltage drop detection circuit 85 determines whether the current gate signal force is 0 ", and when the current gate signal is" 0 ", the current gate signal is turned off. When the current gate signal is less than 1 ⁇ ⁇ ⁇ , the voltage pulse drop waiting state is entered. In this case, it is determined whether the voltage pulse signal strength is S ⁇ l ⁇ . It is determined that a discharge has occurred. When the current gate signal becomes “0”, if the voltage pulse signal becomes “0”, the current gate signal returns to the off state.
  • the arc detection means 8 detects the occurrence of arc discharge
  • the occurrence of arc discharge is output to the second CPU circuit 71, for example, by the second driver circuit 73a by a control signal from the second CPU circuit 71,
  • the operation of each switching transistor 72a, 72b, 72c, 72d of the oscillation switch circuit 72 is controlled, and the output to the pair of targets 41a, 41b is cut off.
  • the length of the voltage drop time of the output voltage waveform to the pair of targets 41a and 41b is shortened.
  • It can quickly detect the occurrence of arc discharge and cut off the output of AC power E force.
  • it is possible to effectively prevent the generation of particles and splash by reducing the energy at the time of arc discharge occurrence, and to detect the occurrence of voltage drop when the output current is flowing. False detection can be reduced.
  • reference numeral 80 denotes arc detecting means according to another embodiment.
  • This arc detection means 80 detects the occurrence of arc discharge only by the output voltage, and the voltage transformer amplifier 810 that amplifies the output voltage from the detection circuit 77a and the output voltage waveform amplified by the voltage transformer amplifier 810 are detected.
  • an absolute value detection circuit 820 for detecting an absolute value.
  • the arc detection means 80 includes a voltage pulse generation circuit 830 provided with a comparator 830a to which an absolute value from the absolute value detection circuit 820 and a voltage pulse detection level are input, and a voltage pulse generation circuit 830, respectively.
  • a voltage drop detection circuit 840 to which a voltage pulse signal is input and a pulse width detection gate generator 841 are provided.
  • the AC power source E is operated in the same manner as described above to apply an AC voltage to the pair of targets 41a and 41b. In this case, reset by inputting a reset signal to the voltage drop detection circuit 840 (see Fig. 4 (c)).
  • the absolute value from the absolute value detection circuit 820 and the preset voltage pulse detection level are input to the comparator 830a, and the voltage pulse signal from the voltage pulse generation circuit 830 is input to the voltage drop detection circuit 840.
  • the normal discharge signal and the high-speed clock signal are input to the voltage drop detection circuit 840 to detect the occurrence of arc discharge (see Fig. 4 (c)).
  • the pulse width detection gate generator 841 generates a voltage gate signal having a pulse width that is a normal glow discharge state, and the voltage gate signal Remains at "1" (ON state), and when only the voltage noise signal becomes "0" (OFF state), the occurrence of arc discharge is detected from the drop in the output voltage (see Fig. 4 (b)).
  • the voltage drop detection circuit 840 uses a voltage gate.
  • the voltage gate signal is in the off state.
  • the voltage gate signal is “1”
  • the voltage pulse signal drop waiting state is entered. In this case, the voltage pulse signal power is ⁇ 1 ⁇ . In this state, it is determined that a normal glow discharge has occurred, and when the voltage gate signal becomes “0”, the voltage gate signal is turned off if the voltage pulse signal also becomes “0”. Return to state.
  • the voltage gate signal is directly generated via the absolute value.
  • the present invention is not limited to this.
  • the magnitude of the detected voltage width is changed. You may do it. In this case, detect the non-arc discharge state using another method, determine the relative voltage width for non-arc discharge, and detect the decrease in the arc voltage width based on this. You may make it do.
  • arc detection means 9 is an arc detection means according to still another embodiment.
  • This arc detection means 9 also detects the occurrence of arc discharge using only the output voltage, and a voltage transformer 91 that amplifies the output voltage from the detection circuit 77a and a publicly known noise that enables the removal of noise in the output voltage.
  • Noise filter 92 and differential circuit 93 The output from the differentiation circuit 93 is input to an absolute value detection circuit 94, and a voltage pulse generation circuit 95 provided with a comparator 95a to which the absolute value and the voltage differential waveform detection level are input is provided.
  • the AC power source E is operated in the same manner as described above to apply an AC voltage to the pair of targets 41a and 41b.
  • an absolute value from the absolute value detection circuit 94 that has passed through the differentiation circuit 93 and a preset voltage differential waveform detection level are input to the comparator 95a.
  • the absolute value is the voltage derivative If it is lower than the waveform detection level, it is determined that a normal glow discharge has occurred. In contrast, if the absolute value exceeds the voltage differential waveform detection level, it is determined that arc discharge has occurred (see Fig. 5 (b)).
  • the arc discharge detection circuit 9 can be realized with a simple circuit configuration, and furthermore, the occurrence of arc discharge is detected only by the voltage between the targets 41a and 41b. It is possible to detect the occurrence of arc discharge even when the voltage and current phases do not match, such as during start-up when there is no need to consider the phase shift.
  • reference numeral 90 denotes arc detecting means according to still another embodiment.
  • This arc detection means 90 detects the occurrence of a differential waveform force arc discharge between the output voltage waveform and the output current waveform, and includes a current sensor amplifier 910 that amplifies the output voltage and output current from the detection circuit 77a, and a voltage.
  • Transformer amplifier 920 and known noise filters 930a and 930b that can remove noise in the output voltage waveform and output current waveform, and the amplitude of the output voltage waveform and output current waveform that passed through the noise filters 930a and 930b are approximately the same
  • the first and second gain adjustment circuits 940a and 940b are adjusted so as to adjust.
  • the arc detection means 90 receives the output voltage waveform and the output current waveform that have passed through the first and second gain adjustment circuits 940a and 940b, respectively, and performs a differential operation according to the difference between them.
  • a differential amplifier 950 having a structure, an absolute detection circuit 960 that detects an absolute value of a differential waveform from the differential amplifier 950, and a comparator 970a to which the absolute value and the differential waveform detection level are input are provided. And a differential waveform detection circuit 970.
  • the AC power source E is operated in the same manner as described above to apply an AC voltage to the pair of targets 41a and 41b.
  • the second driver circuit 73a is controlled by the second driver circuit 73a by the control signal from the second CPU circuit 71, and the output voltage and Control is performed so that the phases of the output currents substantially coincide with each other.
  • the second CPU circuit 71 sends the current gain adjustment signal and the voltage gain adjustment signal to the first and second gain adjustment circuits. Input to 940a and 940b, respectively, and adjust each gain adjustment The output voltage waveform and the output current waveform are input to the differential amplifier 950 after adjustment so that the amplitudes of the output voltage waveform and the output current waveform are substantially matched by the paths 940a and 940b.
  • the absolute value of the differential waveform that has passed through the absolute value detection circuit 960 from the differential amplifier 950 and the preset differential waveform detection level are input to the comparator 970a.
  • the absolute value of the differential waveform is lower than the differential waveform detection level, it is determined that a normal glow discharge has occurred.
  • the absolute value exceeds the differential waveform detection level, it is determined that arc discharge has occurred (see Fig. 6 (b)).
  • the present invention is not limited to this.
  • the arc detection method of the present invention can also be applied to an apparatus in which a single AC power source is allocated so that an AC voltage is alternately applied to at least two targets.
  • FIG. 1 is a diagram schematically showing a sputtering apparatus of the present invention.
  • FIG. 2 is a diagram illustrating an AC power supply.
  • FIG. 3 (a) is a diagram schematically illustrating arc detecting means.
  • (b) is a diagram for explaining changes in the signal from the current waveform and voltage waveform when arc discharge occurs.
  • (C) is a diagram for explaining signal input to the voltage drop detection circuit.
  • (D) is a flowchart explaining arc discharge detection.
  • (E) is a figure which expands and shows the change of the signal at the time of arc discharge generation
  • FIG. 4 (a) is a diagram schematically illustrating arc detecting means according to another embodiment.
  • (b) is a figure explaining the change at the time of arc discharge generation of the signal from a voltage waveform.
  • (C) is a diagram for explaining the input of a signal to the voltage drop detection circuit.
  • (D) is a flowchart explaining arc discharge detection.
  • (E) is an enlarged view showing a change in signal at the time of arc discharge occurrence shown in (b).
  • FIG. 5 (a) is a diagram schematically illustrating an arc detection means according to still another embodiment.
  • (B) The figure explaining the change at the time of arc discharge generation of a voltage waveform.
  • FIG. 6 (a) is a diagram schematically illustrating an arc detection means according to still another embodiment. The figure explaining the change at the time of arc discharge generation of a difference waveform.

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Abstract

 交流電源を用いたスパッタリングにより成膜する際に、迅速にアーク放電発生を検出して交流電源からの出力を遮断し、アーク放電発生時のエネルギーを小さくしてパーティクルやスプラッシュの発生などを効果的に防止できるようにする。真空チャンバ11内に設けた一対のターゲット41a、41bに、交流電源Eを介して所定の周波数で交互に極性をかえて電圧を印加し、各ターゲットをアノード電極、カソード電極に交互に切替え、アノード電極及びカソード電極間にグロー放電を生じさせてプラズマ雰囲気を形成して各ターゲットをスパッタリングする。その際、一対のターゲットへの出力電圧波形を検出し、この出力電圧波形の電圧降下時間が正常なグロー放電時よりも短時間であると判断した場合、交流電源からの出力を遮断する。

Description

明 細 書
スパッタリング方法及びスパッタリング装置
技術分野
[0001] 本発明は、処理基板表面への成膜を可能とするスパッタリング方法及びスパッタリ ング装置に関する。
背景技術
[0002] スパッタリング法では、プラズマ雰囲気中のイオンを、処理基板表面に成膜しょうす る薄膜の組成に応じて所定形状に作製されたターゲットに向けて加速させて衝撃さ せ、ターゲット原子を飛散させ、処理基板表面に薄膜を形成する。この場合、力ソード 電極であるターゲットに、直流電源または交流電源を介して電圧を印加することで力 ソード電極と、アノード電極またはアース電極との間にグロ一放電を生じさせてプラズ マ雰囲気を形成している。
[0003] このようなグロ一放電中では、何らかの原因により、アーク放電が発生することが知 られており、このアーク放電が力ソード電極において局所的に生じると、パーティクル ゃスプラッシュの発生などの問題を誘発し、良好な成膜ができない。
[0004] このことから、直流電源を用いたスパッタリング法では、例えば力ソード電極とアース 電極との間の電圧を検出し、この電圧の降下量が所定値を超えて大きくなると、ァー ク放電発生を検出し、アーク放電発生後所定時間内に直流電源から電力供給を遮 断するようにしたものが知られて 、る(特許文献 1)
特許文献 1:特開平 11— 200036号公報 (例えば、請求項 1参照)。
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0005] し力しながら、交流電源を用いたスパッタリング、即ち、真空チャンバ内に相互にフ ローテイングさせて配置した一対のターゲットに交流電源を介して所定の周波数で交 互に極性をかえて電圧を印加し、各ターゲットをアノード電極、力ソード電極に交互に 切替えてスパッタリングするものでは、各ターゲットに印加する電圧の極性が常時変 化し、その上、電圧降下も毎回発生しているため、上記力ソード電極、アノード電極 間の電圧降下の検出によるアーク検知法を適用するのは困難であった。
[0006] この場合、従来では、交流電源からターゲットへの出力電圧の実効値や平均値を 求めてこの出力電圧を直流化し、この直流電圧を基にアーク検知することが考えられ ているが、交流電圧を直流電圧に変化するための時間が加算されるため、アーク放 電発生の検出に遅れが生じ、パーティクルゃスプラッシュの発生などを効果的に防 止できな!/、という問題があった。
[0007] そこで、本発明の課題は、上記点に鑑み、交流電源を用いたスパッタリングにより成 膜するときに、迅速にアーク放電発生を検出してターゲットへの出力を遮断でき、ァ ーク放電発生時のエネルギーを小さくしてパーティクルゃスプラッシュの発生などを 効果的に防止できるようにしたスパッタリング方法及びスパッタリング装置を提供する ことにある。
課題を解決するための手段
[0008] 上記課題を解決するために、請求項 1記載のスパッタリング方法は、真空チャンバ 内に設けた一対のターゲットに、交流電源を介して所定の周波数で交互に極性をか えて電圧を印加し、各ターゲットをアノード電極、力ソード電極に交互に切替え、ァノ ード電極及び力ソード電極間にグロ一放電を生じさせてプラズマ雰囲気を形成し、各 ターゲットをスパッタリングするスパッタリング方法であって、前記一対のターゲットへ の出力電圧波形を検出し、この出力電圧波形の電圧降下時間が正常なグロ一放電 時よりも短時間であると判断した場合、前記交流電源からの出力を遮断することを特 徴とする。
[0009] 本発明によれば、一対のターゲットに交流電源を介して電圧を印加すると、各ター ゲットがアノード電極、力ソード電極に交互に切替わり、アノード電極及び力ソード電 極間にグロ一放電が生じてプラズマ雰囲気が形成され、プラズマ雰囲気中のイオン 力 力ソード電極となったターゲットに向けて加速されて衝撃し、ターゲット原子を飛 散されて、処理基板表面に薄膜が形成される。
[0010] スパッタリング中にアーク放電が発生すると、プラズマのインピーダンスが急激に小 さくなつて、先ずターゲット相互間の電圧が小さくなり、それに伴って大きな電流が流 れる。この場合、ターゲットへの出力電圧波形の電圧降下時間の長短からアーク放 電の発生を直接検出するため、ターゲット相互間の電流値の変化やターゲットへの 出力電圧の実効値や平均値を求めてアーク放電を検出するものと比較して、迅速に アーク放電発生を検出してターゲットへの出力を遮断できる。その結果、アーク放電 発生時のエネルギーを小さくしてパーティクルゃスプラッシュの発生などを効果的に 防止できる。
[0011] この場合、前記一対のターゲット相互間の出力電流波形を検出し、この出力電圧 波形の絶対値が所定値を超えると、前記グロ一放電が生じているとみなし、この出力 電流波形の絶対値から電流ゲート信号を作ると共に、前記出力電圧波形の絶対値 から電圧パルス信号を作り、この電流ゲート信号のオン状態にお!、て電圧パルス信 号がオフ状態になると、前記出力電圧波形の電圧降下時間が正常なグロ一放電時 よりも短時間であると判断すればよい。これによれば、ターゲット相互間に電流が流れ ている時に電圧降下の発生を検出するため、例えばアーク放電の誤検知を少なくで きる。
[0012] より精度よくアーク放電発生を検出するには、前記スパッタリング中、前記ターゲット への出力電流波形、出力電圧波形の位相が略一致するように制御することが好まし い。
[0013] この場合、前記所定値を、交流電源力 一対のターゲットへの投入電力に応じて変 化させることが好ましい。
[0014] また、前記出力電圧波形の絶対値力も電圧パルス信号を作ると共に、この電圧パ ルス信号のパルス幅を検出し、このパルス幅が所定値より小さくなつた場合に、前記 出力電圧波形の電圧降下時間が正常なグロ一放電時よりも短時間であると判断して もよい。これによれば、ターゲット相互間の電圧のみでアーク放電発生を検出できる ため、出力電圧波形と出力電流波形との位相のずれを考慮する必要がなぐ起動時 など出力電圧波形と出力電流波形との位相が一致していない場合でもアーク放電発 生を検出できる。
[0015] この場合、前記所定値を、出力電圧波形の絶対値から直接決定するか、またはァ ーク放電の発生しな 、場合のパルス幅を予め測定して相対的に決定すればょ 、。
[0016] また、前記出力電圧波形の電圧降下に比例する微分波形を検出し、この微分波形 が所定値を超えて大きくなつた場合に、前記出力電圧波形の電圧降下時間が正常 なグロ一放電時よりも短時間であると判断してもよい。これによれば、アーク放電検出 回路を簡単な回路構成で実現でき、その上、ターゲット相互間の電圧のみでアーク 放電の発生を検出するため、出力電圧波形と出力電流波形との位相のずれを考慮 する必要がなぐ起動時など出力電圧波形と出力電流波形との位相が一致していな V、場合でもアーク放電発生を検出できる。
[0017] この場合、より精度よくアーク放電発生を検出するには、前記微分波形を検出する のに先立って、フィルター回路を介して出力電圧波形のノイズを除去することが好ま しい。
[0018] 尚、前記出力電圧波形が略正弦波であることが好ましい。
[0019] さらに、前記一対のターゲット相互間の出力電流波形を検出し、前記出力電圧波 形と出力電流波形との位相及び振幅が略一致するように調節した後にこれらの波形 の差分波形を検出し、この差分波形が所定値を超えて大きくなつた場合に、前記出 力電圧波形の電圧降下時間が正常なグロ一放電時よりも短時間であると判断しても よい。これによれば、アーク検出の際に用いる波形を、適宜調節した電流波形と電圧 波形の差分力 合成したものとすることで、アーク放電が発生した場合にはその差分 波形の出力がさらに大きな出力波形となるため、ノイズの影響を受け難くでき、その 結果、誤検出を少なくできる。
[0020] この場合、より精度よくアーク放電発生を検出するには、前記差分波形を検出する のに先立って、フィルター回路を介して出力電圧波形及び出力電流波形のノイズを 除去することが好ましい。
[0021] 尚、前記出力電圧波形及び出力電流波形が略正弦波であることが好ましい。
[0022] また、上記課題を解決するために、請求項 13記載のスパッタリング装置は、真空チ ヤンバ内に設けた一対のターゲットと、この一対のターゲット間に、所定の周波数で交 互に極性をかえて電圧を印加する交流電源とを備え、前記ターゲットへの出力電圧 波形の電圧降下時間が正常なグロ一放電時よりも短時間である電圧降下を検出する アーク検出手段と、アーク検出回路からの出力で交流電源からの出力を遮断する遮 断手段とを設けたことを特徴とする。 [0023] この場合、前記交流電源に、一対のターゲットへの出力電圧波形及び出力電流波 形の位相を略一致させる位相調節手段を設けてもょ 、。
[0024] 前記アーク検出手段は、前記一対のターゲット相互間の出力電流波形及び出力電 圧波形の絶対値を検出する第 1絶対値検出回路及び第 2絶対値検出回路と、第 1絶 対値検出回路及び第 2絶対値検出回路からの絶対値及び検出レベルがそれぞれ入 力される比較器を設けた電流ゲート信号発生回路及び電圧パルス信号発生回路と、 電流ゲート信号発生回路及び電圧パルス信号発生回路からの電流ゲート信号及び 電圧パルス信号とがそれぞれ入力される電圧降下検出回路とから構成され、この電 流ゲート信号のオン状態において電圧ゲート信号がオフ状態になると、正常なグロ一 放電時よりも短時間である電圧降下を検出するものである。
[0025] また、他の形態のアーク検出手段は、前記一対のターゲット相互間の出力電圧波 形の絶対値を検出する絶対値検出回路と、この絶対値検出回路からの電圧波形及 び検出レベルが入力される比較器を設けた電圧パルス発生回路と、電圧パルス発生 回路からの電圧パルス信号が入力される電圧降下検出回路とから構成され、電圧降 下検出回路に入力された電圧パルス信号のパルス幅を検出し、このパルス幅が所定 値より小さくなつた場合に、正常なグロ一放電時よりも短時間である電圧降下を検出 するものである。
[0026] また、他の形態のアーク検出手段は、前記一対のターゲット相互間の出力電圧波 形の電圧降下に比例する微分波形を検出する微分回路と、この微分回路力 の電 圧波形の絶対値を検出する絶対値検出回路と、絶対値検出回路からの電圧波形と 検出レベルとが入力される比較器を有する電圧微分波形回路とから構成され、この 微分波形の絶対値が所定値を超えて大きくなつた場合に、正常なグロ一放電時より も短時間である電圧降下を検出するものである。
[0027] さらに、他の形態のアーク検出手段は、前記一対のターゲット相互間の出力電圧波 形及び出力電流波形の振幅が略一致するように調節する第 1及び第 2の各ゲイン調 整回路と、各ゲイン調整回路からの出力電圧波形及び出力電流波形の差分波形を 検出する差動アンプと、この差動アンプ力 の差動波形の絶対値を検出する絶対値 検出回路と、絶対値検出回路力 の差動波形と検出レベルとが入力される比較器を 有する差分波形検出回路とから構成され、この差動波形の絶対値が所定値を超えて 大きくなつた場合に、正常なグロ一放電時よりも短時間である電圧降下を検出するも のである。
発明の効果
[0028] 以上説明したように、本発明のスパッタリング方法及びスパッタリング装置は、交流 電源を用いたスパッタリングにより成膜する場合でも、迅速にアーク放電発生を検出 してターゲットへの出力を遮断でき、アーク放電発生時のエネルギーを小さくしてパ 一テイクルゃスプラッシュの発生などを効果的に防止できるという効果を奏する。 発明を実施するための最良の形態
[0029] 図 1を参照して、 1は、本発明のマグネトロンスパッタリング装置(以下、「スパッタ装 置」という)である。スパッタ装置 1は、インライン式のものであり、ロータリーポンプ、タ ーボ分子ポンプなどの真空排気手段(図示せず)を介して所定の真空度に保持でき る真空チャンバ 11を有する。真空チャンバ 11の上部には基板搬送手段が設けられ ている。この基板搬送手段は、公知の構造を有し、例えば、処理基板 Sが装着される キャリア 2を有し、駆動手段を間欠駆動させて、後述するターゲットに対向した位置に 処理基板 Sを順次搬送できる。
[0030] 真空チャンバ 11には、ガス導入手段 3が設けられている。ガス導入手段 3は、マスフ ローコントローラ 31を設けたガス管 32を介してガス源 33に連通しており、 Arなどのス ノ ッタガスや反応性スパッタリングの際に用いる O、 H 0、 H、 Nなどの反応ガスが
2 2 2 2
真空チャンバ 11内に一定の流量で導入できる。真空チャンバ 11の下側には、カソー ド電極 Cが配置されて!、る。
[0031] 力ソード電極 Cは、処理基板 Sに対向して配置された一対のターゲット 41a、 41bを 有する。各ターゲット 41a、 41bは、 Al、 Ti、 Moや ITOなど、処理基板 S上に成膜しよ うする薄膜の組成に応じて公知の方法で作製され、略直方体 (上面視において長方 形)に形成されている。各ターゲット 41a、 41bは、スパッタリング中、ターゲット 41a、 4 lbを冷却するバッキングプレート 42に、インジウムゃスズなどのボンディング材を介し て接合され、図示しない絶縁材を介して力ソード電極 Cのフレームに取付けられ、真 空チャンバ 11内にフローティング状態に配置されて 、る。 [0032] この場合、ターゲット 41a、 41bは、その未使時のスパッタ面 411が、処理基板 Sに 平行な同一平面上に位置するように並設され、各ターゲット 41a、 41bの向かい合う 側面 412相互の間には、アノードやシールドなどの構成部品を何ら設けていない。各 ターゲット 41a、 41bの外形寸法は、各ターゲット 41a、 41bを並設した際に処理基板 Sの外形寸法より大きくなるように設定して 、る。
[0033] また、力ソード電極 Cは、各ターゲット 41a、 41bの後方に位置して磁石組立体 5を 装備している。磁石組立体 5は、各ターゲット 41a、 41bに平行に設けられた支持板 5 1を有する。この支持板 51は、各ターゲット 41a、 41bの横幅より小さく、ターゲット 41 a、 41bの長手方向に沿ってその両側に延出するように形成した長方形状の平板か ら構成され、磁石の吸着力を増幅する磁性材料製である。支持板 51上には、ターゲ ット 41a、 41bの長手方向に沿った棒状の中央磁石 52と、支持板 51の外周に沿って 設けた周辺磁石 53とが設けられている。この場合、中央磁石 52の同磁ィ匕に換算した ときの体積を、例えば周辺磁石 52の同磁ィ匕に換算したときの体積の和 (周辺磁石: 中心磁石:周辺磁石 = 1 : 2 : 1)に等しくなるように設計して 、る。
[0034] これにより、各ターゲット 41a、 41bの前方に、釣り合った閉ループのトンネル状の磁 束がそれぞれ形成され、ターゲット 41a、 41bの前方で電離した電子及びスパッタリン グによって生じた二次電子を捕捉することで、ターゲット 41a、 41bのそれぞれ前方で の電子密度を高くしてプラズマ密度を高くできる。また、一対のターゲット 41a、 41bに は、交流電源 Eからの出力ケーブル Kがそれぞれ接続され、一対のターゲット 4 la、 4 lbに、所定の周波数( 1〜400KHz)で交互に極性をかえて電圧が印加できる。
[0035] 図 2に示すように、交流電源 Eは、電力の供給を可能とする電力供給部 6と、所定の 周波数で交互に極性をかえて電圧を各ターゲット 41a、 41bに出力する発振部 7とか ら構成される。この場合、出力電圧の波形については、略正弦波であるが、これに限 定されるものではなぐ例えば略方形波でもよ 、。
[0036] 電力供給部 6は、その作動を制御する第 1の CPU回路 61と、商用の交流電力(3 相 AC200V又は 400V)が入力される入力部 62と、入力された交流電力を整流して 直流電力に変換する 6個のダイオード 63とを有し、直流電力ライン 64a、 64bを介し て直流電力を発振部 7に出力する役割を果たす。 [0037] また、電力供給部 6には、直流電力ライン 64a、 64b間に設けたスイッチングトランジ スタ 65と、第 1の CPU回路 61に通信自在に接続され、スイッチングトランジスタ 65の オン、オフを制御する第 1のドライバー回路 66a及び第 1の PMW制御回路 66bとが 設けられている。この場合、電流検出センサ及び電圧検出トランスを有し、直流電力 ライン 64a、 64b間の電流、電圧を検出する検出回路 67a及び AD変換回路 67bが 設けられ、検出回路 67a及び AD変換回路 67bを介して CPU回路 61に入力されるよ うになつている。
[0038] 他方、発振部 7には、第 1の CPU回路 61に通信自在に接続された第 2の CPU回 路 71と、直流電力ライン 64a、 64b間に設けた発振用スィッチ回路 72を構成する 4個 の第 1乃至第 4のスイッチングトランジスタ 72a、 72b, 72c, 72dと、第 2の CPU回路 7 Uこ通信自在【こ接続され、各スイッチング卜ランジスタ 72a、 72b, 72c, 72dの才ン、 オフを制御する第 2のドライバー回路 73a及び第 2の PMW制御回路 73bとが設けら れている。
[0039] そして、第 2のドライバー回路 73a及び第 2の PMW制御回路 73bによって、例えば 第 1及び第 4のスイッチングトランジスタ 72a、 72dと、第 2及び第 3のスイッチングトラ ンジスタ 72b、 72cとのオン、オフのタイミングが反転するように各スイッチングトランジ スタ 72a、 72b、 72c、 72dの作動を制御すると、発振用スィッチ回路 72からの交流電 カライン 74a、 74bを介して正弦波の交流電力が出力できる。この場合、発振電圧、 発振電流を検出する検出回路 75a及び AD変換回路 75bが設けられ、検出回路 75a 及び AD変換回路 75bを介して第 2の CPU回路 71に入力されるようになっている。
[0040] 交流電力ライン 74a、 74bは、直列もしくは並列またはこれらを組合わせた共振用 L C回路を経て公知の構造を有する出力トランス 76に接続され、出力トランス 76からの 出力ケーブル Kがー対のターゲット 41a、 4 lbにそれぞれ接続されている。この場合 、電流検出センサ及び電圧検出トランスを有し、一対のターゲット 41a、 41bへの出力 電圧、出力電流を検出する検出回路 77a及び AD変換回路 77bが設けられ、検出回 路 77a及び AD変換回路 77bを介して第 2の CPU回路 71に入力されるようになって いる。これにより、スパッタリング中、交流電源 Eを介して一定の周波数で交互に極性 をかえて一対のターゲット 41a、 41bに一定の電圧が印加できる。 [0041] また、検出回路 77aからの出力は、出力電圧と出力電流との出力位相及び周波数 を検出する検出回路 78aに接続され、この検出回路 78aに通信自在に接続された出 力位相周波数制御回路 78bを介して、出力電圧と出力電流の位相及び周波数が第 2の CPU回路 71に入力されるようになっている。これにより、第 2の CPU回路 71から の制御信号で第 2のドライバー回路 73aによって発振用スィッチ回路 72の各スィッチ ングトランジスタ 72a、 72b, 72c, 73dのオン、オフを制御し、出力電圧と出力電流の 位相が相互に略一致するように制御でき、出力位相周波数制御回路 78b、第 2の CP U回路 71及び第 2のドライバー回路 73aが位相調節手段を構成する。
[0042] そして、基板搬送手段によって処理基板 Sを一対のターゲット 41a、 41bと対向した 位置に搬送し、ガス導入手段 3を介して所定のスパッタガスを導入する。交流電源 E を介して一対のターゲット 41a、 41bに交流電圧を印加し、各ターゲット 41a、 41bを アノード電極、力ソード電極に交互に切替え、アノード電極及び力ソード電極間にグ ロー放電を生じさせてプラズマ雰囲気を形成する。これにより、プラズマ雰囲気中の イオンが力ソード電極となった一方のターゲット 41a、 41bに向けて加速されて衝撃し 、ターゲット原子が飛散されることで、処理基板 S表面に薄膜が形成される。
[0043] この場合、磁石組立体 5に、図示しないモータなどの駆動手段を設け、この駆動手 段によって、ターゲット 41a、 41bの水平方向に沿った 2箇所の位置の間で平行かつ 等速で往復動させるようにし、ターゲット 41a、 41b全面に亘つて均等に侵食領域が 得られるようにしている。
[0044] ところで、上記グロ一放電中では、何らかの原因により、アーク放電が発生すること が知られており、このアーク放電が一対のターゲット 41a、 41bで局所的に生じると、 パーティクルゃスプラッシュの発生などの問題を誘発することから、良好に薄膜を形 成するには、迅速にアーク放電発生の検出して、交流電源 Eからの出力を直ちに遮 断する必要がある。
[0045] 本実施の形態では、発振部 7に、一対のターゲット 41a、 41bへの出力電圧波形の 電圧降下時間が正常なグロ一放電時よりも短時間である電圧降下を検出するアーク 検出手段 8を設けることとした。そして、アーク検出手段 8でアーク放電発生を検出す ると、電圧降下アーク出力信号を、通信自在に接続した第 2の CPU回路 71に出力し 、第 2の CPU回路 71と通信自在な第 1の CPU回路 71からの制御信号で第 1のドライ バー回路 66aによってスイッチングトランジスタ 65の作動を制御し、一対のターゲット 41a、 41bへの出力を直ちに遮断することとした。
[0046] この場合、第 2の CPU回路 71からの制御信号で第 2のドライバー回路 73aによって 、例えば交流電力ライン 74a、 74b相互の間の電位が同一となるように、発振用スイツ チ回路 72の各スイッチングトランジスタ 72a、 72b, 72c, 72dの作動を制御し、一対 のターゲット 41a、 41bへの出力を直ちに遮断してもよい。
[0047] 図 3 (a)乃至図 3 (e)に示すように、アーク検出手段 8は、検出回路 77aからの出力 電圧、出力電流を増幅する電流センサアンプ 81及び電圧トランスアンプ 82と、電流 センサアンプ 81及び電圧トランスアンプ 82で増幅された出力電流波形及び出力電 圧波形の絶対値を検出する第 1の絶対値検出回路 83a及び第 2の絶対値検出回路 83bとを有する。また、アーク検出手段 8は、第 1及び第 2の絶対値検出回路 83a、 8 3bからのそれぞれ絶対値と、予め設定した電流ゲート検出レベル及び電圧パルス検 出レベルとが入力される比較器 841をそれぞれ有する電流ゲート発生回路 84a及び 電圧パルス発生回路 84bと、電流ゲート発生回路 84a及び電圧パルス発生回路 84b 力もの電流ゲート信号及び電圧ノ ルス信号がそれぞれ入力される電圧降下検出回 路 85とを有する。この場合、予め設定される電流ゲート検出レベル及び電圧パルス 検出レベル (所定値)は、例えば、一対のターゲット 41a、 41bへの電力供給部 6から の出力に応じて変化させ、より高精度にアーク検知できるようにしてもょ 、。
[0048] 次に、アーク検出回路 8でのアーク放電発生の検出について説明する。先ず、電力 供給部 6の第 1の CPU回路 61からの制御信号でスイッチングトランジスタ 65を制御し 、直流電力ライン 64a、 64bを介して発振部 7に直流電力を供給する。次いで、第 2の CPU回路 71からの制御信号で第 1乃至第 4のスイッチングトランジスタ 72a、 72b、 7 2c、 72dの作動を制御し、一対のターゲット 41に交流電圧を印加する。この場合、電 流降下検出回路 85にリセット信号を入力してリセットする(図 3 (c)参照)。
[0049] 次いで、検出回路 77aを経て第 1の絶対値検出回路 83aからの電流波形の絶対値 と、電流ゲート検出レベルとを電流ゲート発生回路 84aの比較器 841に入力し、その 絶対値が電流ゲート検出レベルを超えて 、る場合、真空チャンバ 11内にグロ一放電 が生じているとみなし、電流降下検出回路 85に正常放電信号を入力する(図 3 (c)参 照)。この場合、出力電圧波形と出力電流波形の位相が相互に略一致した後、正常 放電信号を入力することが好まし 、。
[0050] 次いで、第 1及び第 2の絶対値検出回路 83a、 83bからの各絶対値と、電流ゲート 検出レベル及び予め設定した電圧パルス検出レベルとを各比較器 841に入力し、そ れに基づいて電流ゲート発生回路 84a及び電圧パルス発生回路 84bから電流ゲート 信号及び電圧パルス信号を電圧降下検出回路 85に入力すると共に、高速クロック信 号を電圧降下検出回路 85に入力してアーク放電発生の検出を開始する(図 3 (c)参 照)。
[0051] ここで、一対のターゲット 41a、 41b相互間でアーク放電が発生した場合、先ず、一 対のターゲット 41a、 41bへの出力電圧が降下し、その後、出力電流が急激に増加 する。この場合、電流ゲート信号は" 1 " (オン状態)のままであるが、電圧パルス信号 のみが "0 " (オフ状態)となる(図 3 (b)参照)。つまり、アーク放電発生の検出におい ては、電圧降下検出回路 85で、電流ゲート信号力 0"であるかを判断し、電流ゲート 信号が "0 "とき、電流ゲート信号オフ状態となる。次いで、電流ゲート信号が〃 1Ίこな ると、電圧パルス降下待ち状態となり、この場合、電圧パルス信号力 S〃l〃であるかを判 断し、電圧パルス信号力 i"であれば正常なグロ一放電が発生して 、ると判断する。 そして、電流ゲート信号が" 0〃になったとき、電圧パルス信号が "0 "となれば、電流ゲ ート信号オフ状態に戻る。
[0052] それに対して、電流ゲート信号力 1"である電圧パルス降下待ち状態で、電圧パル ス信号が "0 "となった場合、電圧降下が発生し、アーク放電が発生したと判断する( 図 3 (d)参照)。この場合、高速クロック信号の 1クロックまたは 2クロック分の遅延で電 圧降下を検出できるため、迅速にアーク放電の発生を検出できる(図 3 (e)参照)。
[0053] アーク検出手段 8によってアーク放電発生を検出すると、アーク放電発生が第 2の CPU回路 71に出力され、例えば第 2の CPU回路 71からの制御信号で第 2のドライ バー回路 73aによって、発振用スィッチ回路 72の各スイッチングトランジスタ 72a、 72 b、 72c、 72dの作動を制御し、一対のターゲット 41a、 41bへの出力が遮断される。
[0054] これにより、一対のターゲット 41a、 41bへの出力電圧波形の電圧降下時間の長短 からアーク放電発生を直接検出することで、ターゲット 41a、 41b相互間の電流値の 変化やターゲット 41a、 41bへの出力電圧の実効値や平均値を求めてアーク放電を 検出するものと比較して、迅速にアーク放電発生を検出して交流電源 E力 の出力を 遮断できる。その結果、アーク放電発生時のエネルギーを小さくしてパーティクルや スプラッシュの発生などを効果的に防止でき、その上、出力電流が流れている時に電 圧降下の発生を検出するため、例えばアーク放電の誤検知を少なくできる。
[0055] 図 4 (a)乃至図 4 (e)を参照して説明すれば、 80は、他の実施の形態に係るアーク 検出手段である。このアーク検出手段 80は、出力電圧のみ力もアーク放電の発生を 検出するものであり、検出回路 77aからの出力電圧を増幅する電圧トランスアンプ 81 0と、電圧トランスアンプ 810で増幅した出力電圧波形の絶対値を検出する絶対値検 出回路 820とを有する。また、アーク検出手段 80は、絶対値検出回路 820からの絶 対値と、電圧パルス検出レベルとがそれぞれ入力される比較器 830aを設けた電圧 パルス発生回路 830と、電圧パルス発生回路 830からの電圧パルス信号が入力され る電圧降下検出回路 840及びパルス幅検出ゲート発生器 841を有する。
[0056] 次に、アーク検出回路 80でのアーク放電発生の検出について説明する。先ず、上 記と同様に交流電源 Eを作動させて一対のターゲット 41a、 41bに交流電圧を印加す る。この場合、電圧降下検出回路 840にリセット信号を入力してリセットする(図 4 (c) 参照)。
[0057] 次いで、絶対値検出回路 820からの絶対値と、予め設定した電圧パルス検出レべ ルとを比較器 830aに入力し、電圧パルス発生回路 830から電圧パルス信号を電圧 降下検出回路 840に出力すると共に、正常放電信号及び高速クロック信号を電圧降 下検出回路 840に入力してアーク放電発生の検出を開始する(図 4 (c)参照)。そし て、電圧降下検出回路 840に入力された電圧パルス信号から、パルス幅検出ゲート 発生器 841にお 、て正常なグロ一放電状態であるパルス幅をもった電圧ゲート信号 を作り、電圧ゲート信号は" 1 " (オン状態)のままで、電圧ノ ルス信号のみが "0 " (オフ 状態)となったとき、出力電圧の降下からアーク放電発生が検出される(図 4 (b)参照
) o
[0058] 即ち、アーク放電発生の検出においては、電圧降下検出回路 840で、電圧ゲート 信号が〃0 "であるとき、電圧ゲート信号オフ状態である。次いで、電圧ゲート信号が" 1 "になると、電圧パルス信号降下待ち状態となり、この場合、電圧パルス信号力〃 1〃で あるかを判断し、この状態では正常なグロ一放電が発生していると判断する。そして、 電圧ゲート信号が" 0〃になったとき、電圧パルス信号も "0 "となれば、電圧ゲート信号 オフ状態に戻る。
[0059] それに対して、電圧ノ ルス信号降下待ち状態で、電圧パルス信号が "0"となった場 合に、電圧降下が発生し、アーク放電が発生したと判断する(図 4 (d)参照)。この場 合、高速クロック信号の 1クロックまたは 2クロック分の遅延で電圧降下を検出できるた め、迅速にアーク放電の発生を検出できる(図 4 (e)参照)。
[0060] これにより、一対のターゲット 41a、 41b相互間の電圧のみでアーク放電発生を検 出するため、電圧と電流との位相のずれを考慮する必要がなぐ起動時など電圧と電 流の位相が一致しない場合でもアーク放電発生を検出できる。
[0061] 尚、上記実施の形態では、絶対値を介して電圧ゲート信号を直接作ることとしたが 、これに限定されるものではなぐ例えば、相対的に検出する電圧幅の大きさを変化 させるようにしてもよい。この場合、他の方法でアーク放電でない状態のものを検出し ておき、これからアーク放電でない場合の電圧幅を相対的に決め、それを基準にァ ーク時の電圧幅が小さくなることを検出するようにしてもよい。
[0062] 図 5 (a)及び図 5 (b)を参照して説明すれば、 9は、さらに他の実施の形態に係るァ ーク検出手段である。このアーク検出手段 9もまた、出力電圧のみ力もアーク放電の 発生を検出するものであり、検出回路 77aからの出力電圧を増幅する電圧トランスァ ンプ 91と、出力電圧のノイズの除去を可能とする公知のノイズフィルター 92と微分回 路 93とを有する。この微分回路 93からの出力は絶対値検出回路 94に入力され、こ の絶対値と、電圧微分波形検出レベルとがそれぞれ入力される比較器 95aを設けた 電圧パルス発生回路 95が設けられて 、る。
[0063] 次に、アーク検出回路 9でのアーク放電の発生の検出について説明する。先ず、上 記と同様に交流電源 Eを作動させて一対のターゲット 41a、 41bに交流電圧を印加す る。次いで、微分回路 93を経た絶対値検出回路 94からの絶対値と、予め設定した電 圧微分波形検出レベルとを比較器 95aに入力する。この場合、絶対値が、電圧微分 波形検出レベルより低い場合には、正常なグロ一放電が発生していると判断する。そ れに対して、絶対値が、電圧微分波形検出レベルを超えた場合には、アーク放電が 発生したと判断する(図 5 (b)参照)。
[0064] これにより、アーク放電検出回路 9を、簡単な回路構成で実現でき、その上、ターゲ ット 41a、 41b相互間の電圧のみでアーク放電の発生を検出するため、電圧と電流と の位相のずれを考慮する必要がなぐ起動時など電圧と電流の位相が一致しな 、場 合でもアーク放電の発生を検出できる。
[0065] 図 6 (a)及び図 6 (b)を参照して説明すれば、 90は、さらに他の実施の形態に係る アーク検出手段である。このアーク検出手段 90は、出力電圧波形及び出力電流波 形の差分波形力 アーク放電の発生を検出するものであり、検出回路 77aからの出 力電圧及び出力電流を増幅する電流センサアンプ 910及び電圧トランスアンプ 920 と、出力電圧波形及び出力電流波形のノイズの除去を可能とする公知のノイズフィル ター 930a、 930bと、ノイズフィルター 930a、 930bを経た出力電圧波形及び出力電 流波形の振幅が略一致するように調節する第 1及び第 2の各ゲイン調整回路 940a、 940bとを有する。
[0066] また、アーク検出手段 90は、第 1及び第 2の各ゲイン調整回路 940a、 940bを経た 出力電圧波形と出力電流波形とがそれぞれ入力され、それらの差に応じて差動する 公知の構造の差動アンプ 950と、差動アンプ 950からの差分波形の絶対値を検出す る絶対的検出回路 960と、この絶対値と、差分波形検出レベルとがそれぞれ入力さ れる比較器 970aを設けた差分波形検出回路 970とを有する。
[0067] 次に、アーク検出回路 90でのアーク放電の発生の検出について説明する。先ず、 上記と同様に交流電源 Eを作動させて一対のターゲット 41a、 41bに交流電圧を印加 する。次いで、第 2の CPU回路 71からの制御信号で第 2のドライバー回路 73aによつ て発振用スィッチ回路 72の各スイッチングトランジスタ 72a、 72b, 72c, 73dのオン、 オフを制御し、出力電圧と出力電流の位相が相互に略一致するように制御する。
[0068] 次いで、検出回路 77aで検出された出力電圧及び出力電流に応じて、第 2の CPU 回路 71によって、電流ゲイン調整信号及び電圧ゲイン調整信号を、第 1及び第 2の 各ゲイン調整回路 940a、 940bにそれぞれ入力し、第 1及び第 2の各ゲイン調整回 路 940a、 940bによって、出力電圧波形、出力電流波形の振幅が略一致するように 調整した後、出力電圧波形、出力電流波形を差動アンプ 950に入力する。
[0069] 次いで、差動アンプ 950から絶対値検出回路 960を経た差分波形の絶対値と、予 め設定した差分波形検出レベルとを比較器 970aに入力する。この場合、差分波形 の絶対値が、差分波形検出レベルより低い場合には、正常なグロ一放電が発生して いると判断する。それに対して、絶対値が、差分波形検出レベルを超えた場合には、 アーク放電が発生したと判断する(図 6 (b)参照)。
[0070] これにより、アーク検出の際に用いる波形を、適宜調節した電流波形と電圧波形の 差分から合成したものとすることで、アーク放電が発生した場合にはその差分波形の 出力がさらに大きな出力波形となるため(図 6 (b)参照)、ノイズの影響を受け難くでき 、その結果、誤検出を少なくできる。
[0071] 尚、上記実施の形態では、真空チャンバ 11内に対をなす 2個のターゲット 41a、 41 bを配置したものについて説明したが、これに限定されるものではなぐ複数(3枚以 上)のターゲットを並設し、少なくとも 2枚のターゲットに対し交互に交流電圧が印加さ されるように 1個の交流電源を割当てたものにも、本発明のアーク検知方法は適用で きる。
図面の簡単な説明
[0072] [図 1]本発明のスパッタリング装置を模式的に示す図。
[図 2]交流電源を説明する図。
[図 3] (a)はアーク検出手段を概略的に説明する図。 (b)は、電流波形、電圧波形か らの信号のアーク放電発生時の変化を説明する図。(c)は電圧降下検出回路への 信号の入力を説明する図。(d)はアーク放電検出を説明するフロー図。(e)は、 (b) に示すアーク放電発生時の信号の変化を拡大して示す図。
[図 4] (a)は、他の形態に係るアーク検出手段を概略的に説明する図。 (b)は、電圧 波形からの信号のアーク放電発生時の変化を説明する図。(c)は電圧降下検出回 路への信号の入力を説明する図。(d)はアーク放電検出を説明するフロー図。(e)は 、 (b)に示すアーク放電発生時の信号の変化を拡大して示す図。
[図 5] (a)は、さらに他の形態に係るアーク検出手段を概略的に説明する図。(b)は、 電圧波形のアーク放電発生時の変化を説明する図。
[図 6] (a)は、さらに他の形態に係るアーク検出手段を概略的に説明する図。 差分波形のアーク放電発生時の変化を説明する図。
符号の説明
1 スパッタリング装置
41a、 41b ターゲット
6 電力供給部
7 発振部
8 アーク検出手段
E 交流電源
K 電源ケーブル

Claims

請求の範囲
[1] 真空チャンバ内に設けた一対のターゲットに、交流電源を介して所定の周波数で交 互に極性をかえて電圧を印加し、各ターゲットをアノード電極、力ソード電極に交互に 切替え、アノード電極及び力ソード電極間にグロ一放電を生じさせてプラズマ雰囲気 を形成し、各ターゲットをスパッタリングするスパッタリング方法であって、前記一対の ターゲットへの出力電圧波形を検出し、この出力電圧波形の電圧降下時間が正常な グロ一放電時よりも短時間であると判断した場合、前記交流電源からの出力を遮断 することを特徴とするスパッタリング方法。
[2] 前記一対のターゲット相互間の出力電流波形を検出し、この出力電圧波形の絶対値 が所定値を超えると、前記グロ一放電が生じているとみなし、この出力電流波形の絶 対値カゝら電流ゲート信号を作ると共に、前記出力電圧波形の絶対値から電圧パルス 信号を作り、この電流ゲート信号のオン状態において電圧パルス信号がオフ状態に なると、前記出力電圧波形の電圧降下時間が正常なグロ一放電時よりも短時間であ ると判断することを特徴とする請求項 1記載のスパッタリング方法。
[3] 前記スパッタリング中、前記ターゲットへの出力電流波形、出力電圧波形の位相が略 一致するように制御することを特徴とする請求項 1または請求項 2記載のスパッタリン グ方法。
[4] 前記所定値を、交流電源から一対のターゲットへの投入電力に応じて変化させること を特徴とする請求項 2または請求項 3記載のスパッタリング方法。
[5] 前記出力電圧波形の絶対値カゝら電圧パルス信号を作ると共に、この電圧パルス信号 のパルス幅を検出し、このパルス幅が所定値より小さくなつた場合に、前記出力電圧 波形の電圧降下時間が正常なグロ一放電時よりも短時間であると判断することを特 徴とする請求項 1記載のスパッタリング方法。
[6] 前記所定値を、出力電圧波形の絶対値から直接決定するか、またはアーク放電の発 生しない場合のパルス幅を予め測定して相対的に決定することを特徴とする請求項
5記載のスパッタリング方法。
[7] 前記出力電圧波形の電圧降下に比例する微分波形を検出し、この微分波形が所定 値を超えて大きくなつた場合に、前記出力電圧波形の電圧降下時間が正常なグロ一 放電時よりも短時間であると判断することを特徴とする請求項 1記載のスパッタリング 方法。
[8] 前記微分波形を検出するのに先立って、フィルター回路を介して出力電圧波形のノ ィズを除去することを特徴とする請求項 7記載のスパッタリング方法。
[9] 前記出力電圧波形が略正弦波であることを特徴とする請求項 7または請求項 8記載 のスパッタリング方法。
[10] 前記一対のターゲット相互間の出力電流波形を検出し、前記出力電圧波形と出力電 流波形との位相及び振幅が略一致するように調節した後にこれらの波形の差分波形 を検出し、この差分波形が所定値を超えて大きくなつた場合に、前記出力電圧波形 の電圧降下時間が正常なグロ一放電時よりも短時間であると判断することを特徴とす る請求項 1記載のスパッタリング方法。
[11] 前記差分波形を検出するのに先立って、フィルター回路を介して出力電圧波形及び 出力電流波形のノイズを除去することを特徴とする請求項 10記載のスパッタリング方 法。
[12] 前記出力電圧波形及び出力電流波形が略正弦波であることを特徴とする請求項 10 または請求項 11記載のスパッタリング方法。
[13] 真空チャンバ内に設けた一対のターゲットと、この一対のターゲット間に、所定の周 波数で交互に極性をかえて電圧を印加する交流電源とを備え、前記ターゲットへの 出力電圧波形の電圧降下時間が正常なグロ一放電時よりも短時間である電圧降下 を検出するアーク検出手段と、アーク検出回路力もの出力で交流電源力もの出力を 遮断する遮断手段とを設けたことを特徴とするスパッタリング装置。
[14] 前記交流電源に、一対のターゲットへの出力電圧波形及び出力電流波形の位相を 略一致させる位相調節手段を設けたことを特徴とする請求項 13記載のスパッタリング 装置。
[15] 前記アーク検出手段は、前記一対のターゲット相互間の出力電流波形及び出力電 圧波形の絶対値を検出する第 1絶対値検出回路及び第 2絶対値検出回路と、第 1絶 対値検出回路及び第 2絶対値検出回路からの絶対値及び検出レベルがそれぞれ入 力される比較器を設けた電流ゲート信号発生回路及び電圧パルス信号発生回路と、 電流ゲート信号発生回路及び電圧パルス信号発生回路からの電流ゲート信号及び 電圧パルス信号とがそれぞれ入力される電圧降下検出回路とから構成され、この電 流ゲート信号のオン状態において電圧ゲート信号がオフ状態になると、正常なグロ一 放電時よりも短時間である電圧降下を検出することを特徴とする請求項 13または請 求項 14記載のスパッタリング装置。
[16] 前記アーク検出手段は、前記一対のターゲット相互間の出力電圧波形の絶対値を 検出する絶対値検出回路と、この絶対値検出回路からの絶対値及び検出レベルが 入力される比較器を設けた電圧パルス発生回路と、電圧パルス発生回路力ゝらの電圧 パルス信号が入力される電圧降下検出回路とから構成され、電圧降下検出回路に 入力された電圧パルス信号のパルス幅を検出し、このパルス幅が所定値より小さくな つた場合に、正常なグロ一放電時よりも短時間である電圧降下を検出することを特徴 とする請求項 13または請求項 14記載のスパッタリング装置。
[17] 前記アーク検出手段は、前記一対のターゲット相互間の出力電圧波形の電圧降下 に比例する微分波形を検出する微分回路と、この微分回路からの電圧波形の絶対 値を検出する絶対値検出回路と、絶対値検出回路力ゝらの絶対値と検出レベルとが入 力される比較器を有する電圧微分波形回路とから構成され、この微分波形の絶対値 が所定値を超えて大きくなつた場合に、正常なグロ一放電時よりも短時間である電圧 降下を検出することを特徴とする請求項 13または請求項 14記載のスパッタリング装 置。
[18] 前記アーク検出手段は、前記一対のターゲット相互間の出力電圧波形及び出力電 流波形の振幅が略一致するように調節する第 1及び第 2の各ゲイン調整回路と、各ゲ イン調整回路力 の出力電圧波形及び出力電流波形の差分波形を検出する差動ァ ンプと、この差動アンプからの差動波形の絶対値を検出する絶対値検出回路と、絶 対値検出回路力 の差動波形と検出レベルとが入力される比較器を有する差分波 形検出回路とから構成され、この差動波形の絶対値が所定値を超えて大きくなつた 場合に、正常なグロ一放電時よりも短時間である電圧降下を検出することを特徴とす る請求項 13または請求項 14記載のスパッタリング装置。
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