WO2007036987A1

WO2007036987A1 - 磁気ヘッド、情報記録再生装置、磁気ヘッド製造方法、および加工方法

Info

Publication number: WO2007036987A1
Application number: PCT/JP2005/017763
Authority: WO
Inventors: Manabu Watanabe
Original assignee: Fujitsu Limited
Priority date: 2005-09-27
Filing date: 2005-09-27
Publication date: 2007-04-05

Abstract

　本発明は、磁気的記録媒体に対して磁気情報の書き込み及び／又は読み出しを行う磁気ヘッドに関し、上記磁気情報の書き込み及び／又は読み出しを行う磁気素子と、上記磁気ヘッドの視認可能な位置に形成された、上記磁気素子の寸法と同一の寸法を有する参照体と、を備える。

Description

磁気ヘッド、情報記録再生装置、磁気ヘッド製造方法、および加工方法技術分野

[oooi] 本発明は、磁気的記録媒体に対し、磁気ヘッドで磁気情報の書き込み及び Z又は読み出しを行う磁気ヘッド、情報記録再生装置、磁気ヘッドを製造する磁気ヘッド製造方法、および加工対象物の加工方法に関する。

背景技術

[0002] 従来より、ハードディスク装置に代表される情報記録再生装置では、外部磁界の強さに応じて抵抗変化を示す磁気抵抗効果素子を用いて磁ィ匕を検出するタイプの磁気ヘッド (磁気抵抗効果型ヘッド）が備えられたタイプのものが知られている。この磁気抵抗効果素子は磁界の変化によって抵抗値が変化するものであり、磁気抵抗効果型ヘッドは、磁気記憶媒体における記録密度の増加や磁気記憶媒体と磁気ヘッドとの相対速度の増加が計られた場合であっても高い再生出力が得られるため、情報記録再生装置の小型化 ·大容量化に適して!/、る。

[0003] このような磁気ヘッドは、磁気記憶媒体に対向する面に磁気抵抗効果素子が露出していると再生効率が高ぐ磁気ヘッドの作成時には、磁気記憶媒体に対向する面を研磨加工することによって磁気抵抗効果素子を露出させる。このとき、露出面を底面としたときの磁気抵抗効果素子の素子高さは磁気ヘッドの再生特性に大きく影響し、磁気ヘッドの加工時における素子高さの精度が磁気ヘッドによる磁ィ匕検出の精度に大きく寄与することとなる。

[0004] 図 1は、素子高さを決める磁気ヘッドの加工を説明する図である。

[0005] 図 1 (A)には、フォトリソグラフィ一によつて基板 5上に複数個並んで形成された磁気ヘッド 1が示されている。これらの磁気ヘッド 1には、蝶の羽根のような形状の 1対の電極端子 3が備えられており、部分拡大図に示すように、その電極端子 3の先端部分の間に磁気抵抗効果素子 4が設けられている。なお、実際の磁気ヘッドでは、これらの電極端子 3や磁気抵抗効果素子 4の上には、シールド層や記録ヘッドなどが設けられて、電極端子 3や磁気抵抗効果素子 4は表面からは視認不可能な状態となっているが、ここでは説明の便宜上、図に明示している。

[0006] 磁気ヘッド 1は、磁気記憶媒体の磁化を検出するために、磁気抵抗効果素子 4が磁気記憶媒体に極めて近接した状態で使用されるものであり、この図の下方側は、ラッビングと称される研磨技術によって平滑化され、磁気抵抗効果素子 4が露出した状態となる。つまり、磁気抵抗効果素子 4の素子高さ H (部分拡大図参照）は、磁気抵抗効果素子 4の片側（図 1 (A)の下方側）が研磨された結果で決まるので、精密な研磨が必要となる。ラッピングに際しては、図 1 (A)に示されているような、複数個の磁気ヘッド 1が並んで形成された基板 5ごと研磨され、磁気ヘッド 1の相互間には、研磨量をモニタするためのモニタヘッド 2が所々に設けられている。このモニタヘッド 2には、磁気ヘッド 1と同様な電極端子 3 'が備えられており、その電極端子 3'の先端部分には、磁気抵抗効果素子 4に替えてモニタ素子が設けられている。ラッピング中には、このモニタヘッド 2の電極端子 3，を介してモニタ素子の抵抗値が測定される。モユタ素子の抵抗値は研磨量に応じて変化するため、モニタ素子の抵抗値力も素子高さが算出される。

[0007] なお、研磨技術につ!ヽては、磁気誘導型の磁気ヘッドにおけるギャップディブスを制御する研磨技術が特許文献 1に開示されており、研磨中に磁気抵抗効果素子の素子高さをモニタする工夫が特許文献 2に開示されている。

特許文献 1：特開平 3— 125309号公報

特許文献 2：特開平 11― 242806号公報

特許文献 3 :特開 2000— 67508号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0008] 図 1 (A)を参照して説明したカ卩ェ方法で精度のよい研磨を実現するためには、モニタ素子の抵抗値に基づいた素子高さの算出自体が高精度であることが当然に求められ、抵抗値と素子高さとの換算関係が事前に精度よく求められていることが必要となる。ここで、そのような換算関係を事前に求めるために従来行われている作業について説明する。

[0009] 換算関係を求めるに当たっては、先ず、試料となるいくつかの半導体基板 5が用意され、モニタ素子の抵抗値が種々の値となるようにラッピングが施される。

[0010] 次に、そのようにラッピングが施された半導体基板 5を切断して個々の磁気ヘッド 1 を切り出す。図 1 (B)には、そのように切り出された磁気ヘッド 1が、研磨された面を上向きにして示されている。上述したように、電極端子 3や磁気抵抗効果素子 4の上には、シールド層や記録ヘッドなどが設けられているので、磁気抵抗効果素子 4の素子高さをこのまま測定することはできな!、。

[0011] そこで、次に、記録ヘッドを除去して、図 1 (C)に示すように磁気シールド 6を露出させる。そして、 FIB加工によって徐々に磁気シールド 6をはぎ取ることによって、図 1 ( D)に示すように、磁気抵抗効果素子を露呈させ、その状態で光学的測定方法ゃ電子顕微鏡などによって素子高さを測定する。

[0012] このようにして、複数のサンプルを用いて、各種条件を変えたモニタ素子の抵抗値と素子高さとの関係が得られると、後は数学的手法によって抵抗値と素子高さとの換算関係が求められる。

[0013] しかし、このような素子高さの測定方法では、素子高さを測定するためにサンプルを多数要する。特に、抵抗値と素子高さとの関係を調べるためには、抵抗値 Z研磨量 Z素子高さを変えたサンプルを用意して、複数の異なる条件下での抵抗値素子高さの関係を調べなければならず、精度をより高めるにはサンプル数を増やす必要も生じる。更に、素子高さを測定するためには、磁気シールド等を除去するための工数を必要とするため、抵抗値素子高さの関係を調べるための手間が掛カりすぎて、コストアップや、新製品の製造立ち上げにおける遅延などを生じる恐れがある。

[0014] また、素子高さの測定は、上述した換算関係を求めるためのみならず、例えば、製造時における製品の加工精度の確認などの際にも必要とされ、製造時のコストゃェ数を低減するために、簡易で高精度に磁気ヘッドの素子高さを測定することが求められている。

課題を解決するための手段

[0015] 本発明は、上記事情に鑑み、素子高さの測定が容易な磁気ヘッド、そのような磁気ヘッドを搭載した高精度な情報記録再生装置、そのような磁気ヘッドを製造する磁気ヘッド製造方法および加工方法を提供することを目的とする。 [0016] 上記目的を達成する本発明の磁気ヘッドは、

磁気的記録媒体に対し、磁気情報の書き込み及び Z又は読み出しを行う磁気へッドにおいて、

上記磁気情報の書き込み及び Z又は読み出しを行う磁気素子と、

上記磁気ヘッドの視認可能な位置に形成された、上記磁気素子の寸法と同一の寸法を有する参照体と、

を備えたことを特徴とする。

[0017] 本発明の磁気ヘッドは、上記参照体が、前記磁気素子の高さと同じ高さを有するものであると!/、う形態が典型的である。

[0018] 本発明の磁気ヘッドによれば、磁気素子の寸法が外部力視認可能であるため、簡易で高精度に素子高さを測定することが出来、その結果、高精度の加工による高精度な磁気ヘッドが実現される。また、磁気ヘッドの製造後における上記サイズの確認も可能であるため、規格外品の除去などによって出荷品の精度をより向上させることも出来る。

[0019] 本発明の磁気ヘッドは、上記参照体が、非磁性材料により形成されたものであることが

好適である。

[0020] この好適な形態の磁気ヘッドによれば、参照体が磁気情報の読み書きを妨げな、ので精度よく磁気情報の読み書きを行うことができる。

[0021] また、本発明の磁気ヘッドは、

「上記磁気素子が、所定方向の寸法に依存した読み書き能力で上記磁気情報の書き込み及び Z又は読み出しを行うものであり、

上記参照体が、上記所定方向について上記磁気素子の寸法と同じ寸法を持つものである」

t 、う形態が好ましぐこの好まし!/、形態にぉ、ては、

「上記磁気素子が、外部磁界の強さに応じて抵抗変化を示すものであること」が典型である。

[0022] このような好ま、形態の磁気ヘッドによれば、磁気ヘッドの能力に影響する寸法が参照体によって測定可能であるため、磁気ヘッドの能力を容易に確認することができる。

[0023] 上記目的を達成する本発明の情報記録再生装置は、

磁気的記録媒体に対し、磁気ヘッドで磁気情報の書き込み及び Z又は読み出しを行う情報記録再生装置において、

上記磁気情報の書き込み及び Z又は読み出しを行う磁気素子と、上記磁気ヘッドの視認可能な位置に形成された、上記磁気素子の寸法と同一の寸法を有する参照体と、を備えた磁気ヘッドと、

上記磁気的記録媒体を前記磁気ヘッドに対して駆動する駆動部と、

を備えたことを特徴とする。

[0024] 本発明の情報記録再生装置によれば、磁気素子の寸法が視認可能で高精度な加ェが可能な磁気ヘッドが搭載されており、そのように高精度に加工された磁気ヘッドによる高精度な記録再生を行うことが出来る。

[0025] 上記目的を達成する本発明の磁気ヘッド製造方法は、

磁気情報の書き込み及び Z又は読み出しを行う磁気ヘッドを製造する磁気ヘッド製造方法において、

上記磁気情報の書き込み及び Z又は読み出しを行う磁気素子を基材上に形成する磁気素子形成工程と、

上記磁気素子の寸法と同一の寸法を有する参照体を上記基材上に形成する参照体形成工程と、

上記磁気素子の上記寸法を変える方向に上記基材を加工する加工工程と、を有することを特徴とする。

[0026] 本発明の磁気ヘッド製造方法によれば、参照体の寸法に基づいて磁気素子の寸法を間接的に確認しながら加工することができるので、磁気ヘッドを精度よく加工することがでさる。

[0027] 本発明の磁気ヘッド製造方法は、上記加工工程が、上記基材に対し研磨加工を施す工程であることが好まし!/、。

[0028] この好ま、磁気ヘッド製造方法によれば、精度のょ、研磨力卩ェが実現される。 [0029] また、本発明の磁気ヘッド製造方法は、上記加工工程による加工の後、上記参照体の寸法を測定する測定工程を更に有することが好ましい。

[0030] この測定工程により、加工の精度を確認することができる。

[0031] また、本発明の磁気ヘッド製造方法は、上記参照体形成工程が、上記参照体の位置を、上記磁気素子の位置と合わせるように、上記参照体を形成する工程であることが好ましい。

[0032] この好ましい磁気ヘッド製造方法によれば、参照体の位置と磁気素子の位置が合つているので、参照体と磁気素子との同時加工、および参照体を介した磁気素子の寸法確認がより容易となる。

[0033] さらに、本発明の磁気ヘッド製造方法は、上記磁気素子形成工程と上記参照体形成工程が、同一マスクを用いた露光によって上記磁気素子と上記参照体を形成する工程であることが好適である。

[0034] この好適な磁気ヘッド製造方法によれば、磁気素子と参照体との相対位置が露光精度に準じた高い精度で決まるので、参照体を介した磁気素子の寸法確認がより精度よく実現される。

[0035] 上記目的を達成する本発明の加工方法は、

加工対象物の加工方法にお!、て、

上記加工対象物の加工方向の寸法と同一寸法を有する参照体を形成する参照体形成工程と、

上記加工対象物と上記参照体とを同時に加工する加工工程と、

を有することを特徴とする。

[0036] 本発明の加工方法によれば、参照体の寸法に基づいて加工対象物の寸法を間接的に確認しながら加工することができるので、加工対象物を精度よく加工することができる。

発明の効果

[0037] 以上説明したように、本発明によれば、素子高さの測定が容易な磁気ヘッド、そのような磁気ヘッドを搭載した高精度な情報記録再生装置、そのような磁気ヘッドを製造する磁気ヘッド製造方法および加工方法が得られる。図面の簡単な説明

[0038] [図 1]素子高さを決める磁気ヘッドの加工を説明する図である。

[図 2]本発明の一実施形態に相当するハードディスク装置 (HDD)の概略構成図である。

[図 3]HDDに設置された磁気ヘッドの構成を示す図である。

[図 4]本実施形態の磁気ヘッドの作成における第 1番目の過程を示す図である。

[図 5]本実施形態の磁気ヘッドの作成における第 2番目の過程を示す図である。

[図 6]本実施形態の磁気ヘッドの作成における第 3番目の過程を示す図である。

[図 7]本実施形態の磁気ヘッドの作成における第 4番目の過程を示す図である。

[図 8]本実施形態の磁気ヘッドの作成における第 5番目の過程を示す図である。

[図 9]本実施形態の磁気ヘッドの作成における第 6番目の過程を示す図である。

[図 10]本実施形態の磁気ヘッドの作成における第 7番目の過程を示す図である。

[図 11]本実施形態の磁気ヘッドの作成における第 8番目の過程を示す図である。

[図 12]本実施形態の磁気ヘッドの作成における第 9番目の過程を示す図である。

[図 13]本実施形態の磁気ヘッドの作成における第 10番目の過程を示す図である。

[図 14]本実施形態の磁気ヘッドの作成における第 11番目の過程を示す図である。

[図 15]本実施形態の磁気ヘッドの作成における第 12番目の過程を示す図である。発明を実施するための最良の形態

[0039] 以下図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。

[0040] 図 2は、本発明の情報記録再生装置の一実施形態に相当するハードディスク装置

(HDD)の概略構成図である。

[0041] 同図に示す HDD100のハウジング 101には、回転軸 102、回転軸 102に装着される磁気ディスク 103、磁気ディスク 103の表面に近接して対向する浮上ヘッドスライダ 104、アーム軸 105、浮上ヘッドスライダ 104を先端に固着してアーム軸 105を中心に磁気ディスク 103上を水平移動するキャリッジアーム 106、およびキャリッジアーム 106の水平移動を駆動するァクチユエータ 107が収容されている。回転軸 102は図示されないモータにより駆動され、これによつて磁気ディスク 103が回転駆動される。磁気ディスク 103は本発明にいう磁気的記録媒体に相当し、回転軸 102は、本発明にいう駆動部の一例に相当する。

[0042] この HDD100では、磁気ディスク 103へ情報の記録、および磁気ディスク 103に記録された情報の再生が行われる。これらの情報の記録および再生にあたっては、まず、磁気回路で構成されたァクチユエータ 107によってキャリッジアーム 106が駆動され、浮上ヘッドスライダ 104が、回転する磁気ディスク 103上の所望のトラックに位置決めされる。浮上ヘッドスライダ 104の先端には磁気ヘッドが設置されている。この磁気ヘッドは磁気ディスク 103に近接し、磁気ディスク 103の回転にともなって、磁気デイスク 103に記録されたデータの読み出し、あるいは磁気ディスク 103へのデータの書き込みが行われる。本実施形態による HDDでは、後で詳述するように、磁気ヘッドは、記録ヘッドと再生ヘッドとからなる複合型の磁気ヘッドとなっている。記録ヘッドは、電気的な記録信号が入力されると、入力された記録信号に応じて磁気ディスク 103 に磁界を印カ卩して、その記録信号に担持された情報を記録する。また、再生ヘッドは、磁化記録された情報を、発生する磁界に応じて電気的な再生信号を生成することにより取り出す。ハウジング 101の内部空間は、図示しないカバーによって閉鎖される。

[0043] 次に、磁気ヘッドの詳細について説明する。

[0044] 図 3は、 HDDに設置された磁気ヘッドの構成を示す図である。

[0045] 図 3には、 HDD100に設置されて磁気ディスク 103に近接して位置決めされた状態にある磁気ヘッド 30が示されている。図 3に示されるように、磁気ヘッド 30は、再生ヘッド 30— 1と記録ヘッド 30— 2から構成されている複合型の磁気ヘッドであって、再生ヘッド 30— 1の背部に記録ヘッド 30— 2が付加されたピギーバッグ構造となっている。

[0046] 記録ヘッド 30— 2は、磁界を発生する記録コイル 25と、記録コイル 25の周囲を包囲して記録コイル 25に流れる電流のリークを防ぐとともに記録コイル 25を固定する、レジストなどカゝらなる絶縁層 24と、記録コイル 25を絶縁層 24とともに層厚方向に挟み、先端部が上記磁気ディスク 103に面して記録コイル 25から発生した磁界を磁気デイスク 103に面する先端部に伝える記録下部磁極（下部コア） 22および記録上部磁極 26の両磁極と、記録下部磁極 22の先端部および記録上部磁極 26の先端部の間に層厚方向に挟まれた非磁性の材料力もなる記録ギャップ層 23とからなる。記録へッド 30— 2は、上記先端部から漏れ出る磁界によって磁気ディスクの領域の磁化を反転させて、磁気ディスク 103に情報を記録する。

[0047] 図 3には、互いに直交する、 X方向、 Y方向、 Z方向それぞれの方向が、 3つの矢印それぞれによって示されている。記録ヘッド 30_2を構成する各部は、 Z方向に積層されている。ちなみに磁気ヘッド 30が、磁気ディスク 103上に近接して位置決めされた場合、 Z方向は、磁気ディスク 103のビット長方向、すなわちトラックの延びる方向となり、 X方向は、磁気ディスク 103の面に垂直な方向となり、 Y方向は、磁気ディスク 1 03のトラック幅の方向となる。以下では、磁気ヘッド 30の構成等を、これらの X方向、 Y方向、 Z方向を用いて説明する。

[0048] 再生ヘッド 30— 1は、磁気抵抗効果素子に相当するスピンバルブ素子 10、 Y方向に互、に離れた一対の硬磁性層 11、および Y方向に互、に離れた一対の電極端子 12と、これらのスピンバルブ素子 10、硬磁性層 11、および電極端子 12を層厚方向（ Z方向）に挟むように配置された絶縁材料カゝらなる下部ギャップ層および上部ギヤップ層と、これらのギャップ層を層厚方向（Z方向）〖こ挟むように配置された下部シールド 21および上部シールド 22と力もなる。この場合、下部シールド 22は上記記録下部磁極 22と兼用されている。この再生ヘッド 30— 1では、上記一対の電極端子 12の間の領域が磁気ディスク 103からの信号磁界を検知する信号検知領域となっており、この再生ヘッド 30— 1における信号再生能力は、スピンバルブ素子 10の X方向の高さ Hに依存する。

[0049] 以下、このような磁気ヘッド 30の作成方法について、詳細に説明する。

[0050] 図 4〜図 15は、本実施形態の磁気ヘッドの作成工程を示す図である。これらの図のうち、図 4〜図 14の各図には、側面図（A)と上面図（B)とが示されている。

[0051] 本実施形態の磁気ヘッドはフォトリソグラフィ一によつて作成される。図 4に示すように、第 1番目の過程では、基板 201の上にアルミナのアンダーコート 202が形成される。

[0052] 次に、図 5に示すように、アンダーコート 202の上に、下部シールド 21が形成される。この下部シールド 21の形成は、（1)基板 201上へのレジスト膜の塗布、（2)レジスト膜への下部シールド 21の形状と同形状の穴の形成、 (3)下部シールド 21の材料の基板 201へのメツキ、（4)レジスト膜除去という手順による。なお、ここでは 1つの下部シールド 21の形成について説明している力実際の磁気ヘッドの作成に際しては、図 1 (A)に示されている従来の技術と同様に複数の磁気ヘッドが同時に作成される。また、本実施形態でも磁気ヘッドに並んでモニタヘッドが作成される力図 4〜図 14 ではモニタヘッドの図示は省略する。

[0053] 図 5に示す過程で下部シールド 21が形成されると、次に、図 6に示すように、下部シ一ルド 21の周囲にアルミナの中間膜 203が形成される。この中間膜 203の形成は、（ 1)図 5に図示された基板へのスパッタによるアルミナ膜の形成、（2)表面の平坦化処理による下部シールド 21部分の露出という手順による。これによつて、アルミナ中間膜 203と下部シールド 21とが面一となる。

[0054] 次に、図 7に示すように、下部シールド 21 ·アルミナ中間膜 203の上に、絶縁膜 204 が形成される。この絶縁膜 204は、上述した下部ギャップ層となる。なお、図 7では絶縁膜 204の下に形成されている下部シールド 21の領域力破線にて図示されている

[0055] 次に、後の過程で上記スピンバルブ素子 10に加工される素子膜 205が、図 8に示すように基板全体に形成される。素子膜は、 GMR (巨大磁気抵抗)素子あるいは T MR (トンネル磁気抵抗)素子が、スパッタリングにより形成される。

[0056] 次に、図 9に示すように、素子膜 205上に、硬磁性層 11と、電極端子 12が形成される。電極端子 12は、硬磁性層 11の図 9 (A)図示上方に、硬磁性層 11に重なるように形成される。硬磁性層 11の形成は、（1)素子膜 205へのレジスト膜の塗布、（2)レジスト膜への硬磁性層 11の形状と同形状の穴の形成、（3)形成された穴内部の素子膜 205の除去、（4)硬磁性層 11の材料による膜形成、（4)レジスト膜の除去という手順〖こよる。また、電極端子 12の形成は、上述した下部シールド 21の形成の手順と同様の手順による。

[0057] 次に、図 10に示すように、図 9図示の基板上にレジスト膜 206が塗布され、磁気へッドが後で切断されるときの境界部分には、レジスト膜 206に穴が形成される（図 10 ( A)の凹み部分)。そして、エッチングによって形成された穴の内部の素子膜 205が除去されて絶縁膜 204が露出される。

[0058] 次に、図 11に示すように、耐食性に優れた金 (Au)が基板上にスパッタされて Au 膜 207が形成される。その後、レジスト膜 206が剥離され、図 12に示すように、素子膜 205の一部が Au膜 207に置き換わった状態となる。 Au膜 207は後述する参照体を構成する。

[0059] 次に、図 13に示すように、素子膜 205と Au膜 207が、一部分を残して除去され、素子高さ Hのスピンバルブ素子 10と、その素子高さ Hと同じ高さの参照体 208が形成される。これらのスピンバルブ素子 10と参照体 208の形成は、（1)基板上へのレジスト膜の塗布、（2)マスクを用いてレジスト膜を露光し保護膜を形成、（3)保護膜を除く部分の素子膜 205とモニタ膜 207の除去、（4)保護膜の剥離という手順による。

[0060] 上記したマスクは、スピンバルブ素子 10と参照体 208を位置決めするために用いられるが、この際には単一のマスクを用いる。ここで、スピンバルブ素子 10の高さ H (図 13部分拡大図参照）と、参照体 208の高さ（図 13部分拡大図の図示上下方向）とは、互いに同一となるように形成される。このとき、 1つのマスクによる露光でスピンバルブ素子 10と参照体 208の双方の高さが同時に決まるので、これらの素子の高さは露光精度と同程度の高い精度で一致することとなる。

[0061] 図 8および図 13に示す工程力本発明にいう磁気素子形成工程の一例に相当し、図 10から図 13に示す工程が、本発明にいう参照体形成工程の一例に相当する。

[0062] 図 13に示されるようにスピンバルブ素子 10と参照体 208が基板上に形成されると、次に、図 14に示すように、上述した絶縁膜 204と同材料の絶縁膜 209が形成される。ここで形成された絶縁膜 209は、上述した上部ギャップ層となり、図 5に示す過程で形成された下部シールド 21に対応する位置に上部シールド 22が形成される。上部シールド 22の形成は、下部シールド 21の形成手順と同様の手順によるため、詳細説明は省略する。

[0063] 図 15は、本実施形態の磁気ヘッドのラッピング工程及び磁気ヘッド切り出しを示す図である。

[0064] 図 15 (A)には、上述した過程で基板上に複数並べられて作成された磁気ヘッド 30 が示されている。図 15 (A)中、図示縦方向に引かれた直線は磁気ヘッドの切断箇所を示しており、参照体 208の形成位置が磁気ヘッド 30の端部であることも示されてヽる。また、これらの磁気ヘッド 30の合間にはモニタヘッド 40が設けられており、このように磁気ヘッド 30が複数並べられた状態で基板ごと研磨加工が施され、モニタヘッド 40の出力に基づ、て図の下方側が研磨されて平滑化される。

[0065] 図 15 (B)には、研磨後に個別に切断分離された磁気ヘッド 30が示されており、図 1 5 (C)には、磁気ヘッド 30が、平滑ィ匕された研磨面を上向きにして示されており、磁気ヘッド 30の端部側面には参照体 208が露出している。このように参照体 208が露出していることで、参照体 208を視認することが可能であり、磁気ヘッド 30を破壊することなく参照体 208の高さを測定することが出来る。この測定の工程が、本発明にいう測定工程の一例に相当する。

[0066] そして、上述したように、この参照体の高さは高い精度でスピンバルブ素子の素子高さに一致しているので、結局、磁気ヘッド 30を破壊することなくスピンバルブ素子の素子高さを容易に測定することが出来ることとなる。

[0067] このように素子高さが容易に測定可能であることにより、研磨力卩ェの前提となる、モユタ素子の抵抗値と素子高さとの換算関係を容易に作成することが出来るので、本実施形態の磁気ヘッドは、作成のコストダウンや、新製品の製造立ち上げの迅速ィ匕に大きく寄与する。

[0068] また、本実施形態の磁気ヘッドは、磁気ヘッドを破壊することなく素子高さが測定可能であるので、製品製造'加工時の加工精度確認にも随時利用することが出来、参照体 208の高さをラッピングカ卩ェなどの加工時に測定することで、カロェ中のスピンバルブ素子の高さを把握することが可能となるため、出荷品の高品質ィ匕にも寄与する。

[0069] ここで、参照体を用いてスピンバルブ素子の高さを間接的にせよ判別可能であるため、加工時に参照体の高さを測定するのみで十分と考えるのであるならば、モニタ素子抵抗値素子高さの相関関係を調べなくても、加工精度を判別することも可能となる。

[0070] なお、上記説明では、本発明に、う磁気記憶媒体の一例としてハードディスク装置が示されているが、本発明の情報記録再生装置は、磁気記憶媒体として、フレキシブルな磁気ディスクや磁気テープなどを用いるものであってもよ、。 [0071] また、上記説明では、磁界のみを用いて情報の記録再生の双方を行うハードデイスク装置が示されているが、本発明の情報記録再生装置は、例えば、記録時及び Z又は再生時に光照射を併用するタイプの装置であってもよぐあるいは、再生のみを行う装置であってもよい。

[0072] また、上記説明では、磁気ディスクが装置に内蔵されて交換不能なハードディスク装置が例示されているが、本発明の情報記録再生装置は、本発明にいう磁気記憶媒体として交換可能な媒体を用いるものであってもよ、。

[0073] また、上記説明では、本発明の磁気ヘッドの一例として、記録ヘッドと再生ヘッドと力なる複合型の磁気ヘッドが示されている力本発明の磁気ヘッドは再生のみを行う磁気ヘッドでもよい。

[0074] また、上記説明では、金 (Au)力もなる参照体が例示されて、るが、本発明に、う参照体の材料としては各種の非磁性金属が使用可能である。なお、本発明にいう参照体の材料は、磁気ヘッド側面で露出しているため、特に耐食性に優れた白金族の材料（Pt, Ru, Rh, Pb, Ir, Os)や金などが好ましい。

[0075] なお、本発明は磁気ヘッドのみに適用可能というわけではなぐ対象例の列記は避けるが、加工対象物の寸法等を測定するために加工対象物の破壊が必要である、加ェ対象物を視認できず寸法等を直接測定できな!、など、加工精度判別が困難な製品に対して広く適用し得る。

Claims

請求の範囲

[1] 磁気的記録媒体に対し、磁気情報の書き込み及び Z又は読み出しを行う磁気へッドにおいて、

前記磁気情報の書き込み及び Z又は読み出しを行う磁気素子と、

前記磁気ヘッドの視認可能な位置に形成された、前記磁気素子の寸法と同一の寸法を有する参照体と、

を備えたことを特徴とする磁気ヘッド。

[2] 前記参照体が、前記磁気素子の高さと同じ高さを有するものであることを特徴とする請求項 1記載の磁気ヘッド。

[3] 前記参照体が、非磁性材料により形成されたものであることを特徴とする請求項 1 記載の磁気ヘッド。

[4] 磁気的記録媒体に対し、磁気ヘッドで磁気情報の書き込み及び Z又は読み出しを行う情報記録再生装置において、

前記磁気情報の書き込み及び Z又は読み出しを行う磁気素子と、前記磁気ヘッドの視認可能な位置に形成された、前記磁気素子の寸法と同一の寸法を有する参照体と、を備えた磁気ヘッドと、

前記磁気的記録媒体を前記磁気ヘッドに対して駆動する駆動部と、

を備えたことを特徴とする情報記録再生装置。

[5] 磁気情報の書き込み及び Z又は読み出しを行う磁気ヘッドを製造する磁気ヘッド製造方法において、

前記磁気情報の書き込み及び Z又は読み出しを行う磁気素子を基材上に形成する磁気素子形成工程と、

前記磁気素子の寸法と同一の寸法を有する参照体を前記基材上に形成する参照体形成工程と、

前記磁気素子の前記寸法を変える方向に前記基材を加工する加工工程と、を有することを特徴とする磁気ヘッド製造方法。

[6] 前記加工工程が、前記基材に対し研磨加工を施す工程であることを特徴とする請求項 5記載の磁気ヘッド製造方法。

[7] 前記加工工程による加工の後、前記参照体の寸法を測定する測定工程を更に有することを特徴とする請求項 5記載の磁気ヘッド製造方法。

[8] 前記参照体形成工程が、前記参照体の位置を、前記磁気素子の位置と合わせるように、前記参照体を形成する工程であることを特徴とする請求項 5記載の磁気ヘッド製造方法。

[9] 前記磁気素子形成工程と前記参照体形成工程が、同一マスクを用いた露光によつて前記磁気素子と前記参照体を形成する工程であることを特徴とする請求項 5記載の磁気ヘッド製造方法。

[10] 加工対象物の加工方法において、

前記加工対象物の加工方向の寸法と同一寸法を有する参照体を形成する参照体形成工程と、

前記加工対象物と前記参照体とを同時に加工する加工工程と、

を有することを特徴とする加工方法。