WO2006123612A1 - ディスプレーパネル及びそのためのフィルム - Google Patents
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- B32B7/04—Interconnection of layers
- B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
Definitions
- the present invention relates to a display panel such as a plasma display panel (PDP), and a display panel film provided on the front surface thereof.
- a display panel such as a plasma display panel (PDP)
- PDP plasma display panel
- a front filter such as PDP
- a near-infrared cut film in which a near-infrared absorbing layer is provided on a base film
- an anti-reflection film in which an anti-reflection layer is provided on the base film
- a layer formed by laminating a conductive mesh for electromagnetic wave shielding between them is described in paragraph 0050 of JP-A No. 001-320193.
- Patent Document 1 JP 2001-320193 A
- each film has a base film, and each of them is further laminated. Since an adhesive layer is required, the thickness of the entire filter increases. In addition, since the process of bonding the films is required, the speed of the line is difficult to achieve. In addition, by increasing the number of steps to be bonded, the occurrence of defects due to foreign matter contamination and scratches increases. As a result, productivity and cost are not efficient.
- An object of the present invention is to provide a multi-function display panel film having a small thickness and a display panel including the film.
- the display panel film of the present invention comprises a conductive film for electromagnetic shielding, a near-infrared absorbing layer, and an antireflection layer on a single substrate film.
- This film is adhered to the front surface of the display panel.
- the display panel film of the present invention is provided with a near-infrared absorbing layer, a conductive layer, and an antireflection layer on a single base film, so that only one film is used as a whole.
- the thickness of the filter is small.
- the occurrence of defects due to foreign matter contamination and scratches without a film laminating process is prevented, productivity is improved, and manufacturing costs are reduced.
- FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of a film for a display panel of the present invention.
- FIG. 2 is an enlarged view showing an example of an antireflection layer.
- FIG. 3 is an enlarged view of an end portion of a display panel film.
- FIG. 4 is a cross-sectional view showing a method of forming the end portion of FIG.
- FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a display panel film according to another embodiment.
- FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a display panel film according to another embodiment. It is typical sectional drawing of the film for display panels which concerns on another embodiment.
- FIGS. 1, 5, 6, and 7 are schematic cross-sectional views of a display panel film according to the embodiment.
- a display panel film 1 in FIG. 1 covers a base film 2, a conductive mesh 3 as a conductive layer provided on one surface of the base film 2, and the conductive mesh 3.
- a near-infrared absorbing layer 4 (hereinafter sometimes simply referred to as the absorbing layer 4) provided on the one surface of the base film, and an adhesive layer 5 formed on the absorbing layer 4 are provided.
- an antireflection layer 6 provided on the other surface of the base film 2.
- Powerful display panel film 1 uses only one base film 2 and has a small thickness.
- polyester polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, polymethylmethacrylate (PMMA), acrylic, polycarbonate (PC), polystyrene, cellulose triacetate (TAC), polybulu alcohol, Examples thereof include polychlorinated bur, poly (vinylidene chloride), polyethylene, ethylene acetate butyl copolymer, polyurethane, cellophane and the like, preferably PET, PC, and PMMA transparent films.
- the thickness of the base film 2 is preferably 1 ⁇ m to 10 mm, particularly 10 to LOOO ⁇ m.
- the conductive mesh 3 may be made of metal fibers and Z or metal-coated organic fibers.
- those having a wire diameter of 1 ⁇ m to 1 mm and an aperture ratio of 40 to 95% are preferable.
- the wire diameter exceeds 1 mm, the force that reduces the aperture ratio and the electromagnetic shielding properties are lowered, and the two cannot be balanced. If it is less than 1 m, the strength of the mesh will be reduced and handling will be very difficult.
- the aperture ratio exceeds 95%, it is difficult to maintain the shape as a mesh. If it is less than 40%, the amount of light from the display with low light transmission will be reduced.
- Yori preferably ⁇ diameter 10 to 500 111, the aperture ratio is 50 to 90 0/0.
- the opening ratio of the conductive mesh refers to the area ratio occupied by the opening in the projected area of the conductive mesh.
- the metal of the conductive mesh 3 and the metal of the metal-coated organic fiber include copper, stainless steel, aluminum, nickel, titanium, tungsten, tin, lead, iron, silver, chromium, carbon, or alloys thereof.
- copper, nickel, stainless steel, and aluminum are used.
- organic material of the metal-coated organic fiber polyester, nylon, salt vinylidene, aramid, vinylon, cellulose and the like are used.
- a conductive mesh made of metal-coated organic fibers having excellent mesh shape maintenance characteristics in order to maintain the aperture ratio and the wire diameter.
- an etching mesh or a conductive printed mesh may be used instead of the conductive mesh.
- etching mesh a metal film etched into an arbitrary shape such as a lattice shape or a punching metal shape by a photolithography technique can be used.
- this metal film a metal film made of copper, aluminum, stainless steel, chromium, or the like is formed on the base film 2 by vapor deposition or sputtering, or a foil of these metals is used as a base film with an adhesive. What was bonded together can be used.
- adhesive epoxy type, urethane type, EVA type and the like are preferable.
- These metal films are preferably preliminarily black-printed on one or both sides.
- the shape of the conductive portion can be freely designed such as the wire diameter, so that the aperture ratio can be made higher than that of the conductive mesh.
- metallic particles such as silver, copper, aluminum, nickel, or non-metallic conductive particles such as carbon are used as binders such as epoxy, urethane, EVA, melanin, cellulose, and acrylic. It is possible to use what is mixed with the above and printed on the base film 2 with a pattern such as a lattice pattern by gravure printing, offset printing, screen printing or the like.
- dots are formed on the film surface by a substance soluble in the solvent, and a conductive material layer made of a conductive material insoluble in the solvent is formed on the film surface.
- a conductive mesh obtained by contacting the solvent with a solvent to remove the dots and the conductive material layer on the dots.
- a plating layer may be formed on the conductive layer.
- Examples of materials used for the plating treatment include copper, nickel, chromium, zinc, tin, silver, and gold. These may be used alone or as an alloy of two or more.
- the plating treatment is generally performed by a normal liquid phase plating (electrolytic plating, electroless plating, etc.).
- black glazing treatment may be performed on the surface of the conductive mesh.
- oxidation treatment of a metal film, black plating such as a chromium alloy, paint of black or dark ink, and the like can be performed.
- a transparent treatment layer 8 may be provided so as to cover the conductive mesh 3 like the display panel film 1C of FIG.
- This transparent treatment layer has the effect of leveling the unevenness of the conductive mesh and increasing the transparency of the display panel film.
- This transparent treatment layer has a transparent adhesive or adhesive, for example, acrylic adhesives such as butyl acrylate, rubber adhesives, TPE based on thermoplastic elastomers such as SEBS and SBS. Adhesives and adhesives are used.
- This clearing treatment layer 8 can be formed by coating, for example.
- the thickness of the transparent treatment layer is preferably about 5 to 500 ⁇ m, particularly 10 to about LOO ⁇ m.
- the near-infrared absorbing layer 4 can be formed by coating an ultraviolet curable or electron beam curable synthetic resin coating solution containing a near-infrared absorbing dye.
- the near-infrared absorbing dye is not particularly limited as long as it has an absorption maximum wavelength in the range of 800 to 1200 nm, but is a phthalocyanine-based, metal complex-based, nickel dithiolene complex-based, cyanine-based, squarylium-based, polymethine-based, Azomethine-based, azo-based, polyazo-based, dimonium-based, amylum-based and anthraquinone-based dyes are used.
- a function of adjusting the color tone may be provided by providing a function of absorbing neon light emission.
- a neon-emitting absorption layer may be provided, but a neon-emitting selective absorption dye may be contained in the near-infrared absorption layer.
- the selective absorption dye for neon emission examples include cyanine-based, squarylium-based, anthraquinone-based, phthalocyanine-based, polymethine-based, polyazo-based, azurenium-based, diphenylenomethane-based, triphenylmethane-based, and the like.
- Such a selective absorption dye is required to have a selective absorption of neon light around 585 nm and a small absorption with respect to other visible light wavelengths. Therefore, the absorption maximum wavelength is 575 to 595 nm, and the absorption spectrum half wavelength is half. Those having a value range force of Onm or less are preferably used.
- coloring pigments may be further added.
- the near infrared absorption characteristic is such that the transmittance at 850 to 1000 nm is 20% or less, more preferably 15% or less.
- the transmittance at 585 ⁇ m is 50% or less.
- the aim is to reduce the transmittance in the wavelength range where malfunctions to remote controllers etc. in peripheral devices have been pointed out.
- the power that causes the color reproducibility to deteriorate The aim is to absorb this orange wavelength, thereby enhancing the redness and improving the color reproducibility.
- the thickness of the absorption layer 4 is preferably about 0.5 to 50 m.
- the adhesive layer 5 is for allowing the display panel film 1 to be attached to a PDP, a glass substrate or the like.
- This adhesive layer 5 has a transparent adhesive or adhesive, for example, an acrylic adhesive such as butyl acrylate, a rubber adhesive, a TPE system based on thermoplastic elastomer such as SEBS or SBS. Adhesives and adhesives are used.
- the thickness of the adhesive layer is preferably about 5 to 500 ⁇ m, particularly about 10 to about LOO ⁇ m.
- the antireflection layer 6 is formed by laminating a high refractive index layer and a low refractive index layer so that only the low refractive index layer can be used so that the low refractive index layer is on the surface side.
- a hard coat layer may be provided between the high refractive index layer and the base film 1.
- FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a configuration in which the hard coat layer 6c , the high refractive index layer 6b, and the low refractive index layer 6a are laminated as described above.
- each layer 6a, 6b, 6c is a synthetic resin, and as this synthetic resin, an ultraviolet ray curable or electron beam curable synthetic resin, particularly a polyfunctional acrylic resin is suitable.
- any one of the high refractive index layer 6b and the hard coat layer 6c is coated with ITO, ATO, Sb 2 O 3, Sb
- conductive metal oxide fine particles such as O, InO, SnO and ZnO.
- the antireflection film has an antistatic function by setting the surface resistance of the hard coat layer 6c to 5 ⁇ 10 1 () ⁇ well or less.
- the high refractive index layer 6b is made of ITO (tin indium oxide) or ZnO, and AlO-doped ZnO, TiO, SnO, ZrO and other high refractive index metal oxide fine particles are blended to adjust the refractive index.
- the minimum reflectance of the surface reflectance of the antireflection film is 1. by setting the refractive index of the high refractive index layer 6b to 1.64 or more. 1.69 or more, preferably 1.69 ⁇ : By setting L 82, the minimum reflectance of the surface reflectance of the antireflection layer 6 should be within 1.0%. Can do.
- the minimum reflectance of the surface reflectance of the antireflection layer 6 is within 1.5% by setting the refractive index of the high refractive index layer 6b to 1.70 or more. 1. By making it 75 or more, the minimum reflectance of the surface reflectance of the antireflection layer 6 is 1.0%. Can be within.
- the hard coat layer 6c preferably has a visible light transmittance of 85% or more.
- the visible light transmittances of the high refractive index layer 6b and the low refractive index layer 6a are preferably 85% or more.
- the low refractive index layer 6a is preferably blended with about 10 to 40% by weight of fine particles such as silica and fluorine resin in order to lower the refractive index, improve the scratch resistance, and improve the sliding property.
- fine particles such as silica and fluorine resin
- cost can be reduced, film strength can be increased, chemical resistance can be improved, and moisture and heat resistance can be improved.
- the refractive index of the outermost low refractive index layer 6a is preferably 1.45-1.51.
- the refractive index of the low refractive index layer 6a is more than 1.51, the antireflection property of the antireflection film is deteriorated.
- the difference between the total thickness T of films 1 and 1A-1C and the thickness T of substrate film 2 (T-T) is 100 / zm or less.
- the thickness of the high-refractive index layer 6b in which the thickness of the hard coat layer 6c is preferably 2 to 20 ⁇ m is preferable.
- the thickness of the low-refractive index layer 6a in which the thickness of 75 to 9 Onm is preferable is 85 to Lonm. It is preferable.
- the difference between the total thickness T of the films 1 and 1A to 1C and the thickness T of the base film 2 is 100 / be less than or equal to zm
- each layer may be applied and cured one layer at a time. For example, all layers may be applied and then cured together.
- the coating method include a method in which an acrylic monomer is dissolved in a solvent such as toluene, a coating solution is coated with a gravure coater, then dried, and then cured by irradiation with ultraviolet rays or electron beams. Is done.
- This wet coating method has the advantage of being able to form a film at high speed uniformly and inexpensively. After this coating, for example, the effect of improving the adhesion and increasing the hardness of the film can be obtained by curing by irradiating with an ultraviolet ray or an electron beam.
- the base film 2 shown in FIG. In the vicinity of the edge, the neon-emitting / near-infrared absorbing layer 4 may recede from the edge of the base film 2 so that the vicinity of the edge of the conductive mesh 3 is exposed. Thus, if the vicinity of the edge of the conductive mesh 3 is exposed, the conductive mesh 3 can be easily conducted to the ground circuit.
- the exposure width L is preferably about 1 to 200 mm.
- the conductive mesh 3 is formed continuously on the raw film 20 (long, strip-shaped film) of the base film 2 in the longitudinal direction of the original film 20 and is discontinuously formed thereon.
- Absorbent layer 4 is formed. This absorbent layer 4 is formed only for the size of one product film that is not continuous in the longitudinal direction of the raw film 20, and an exposed zone of the conductive mesh 3 is formed between adjacent absorbent layers 6. Keep it.
- the original film 20 and the conductive mesh 3 are cut at the center C of the exposure zone in the width direction of the original film 20. As a result, a display panel film 1 in which the vicinity of the edge of the conductive mesh 3 is exposed as shown in FIG. 3 is obtained.
- FIG. 1 An embodiment different from that shown in FIG. 1 will be described with reference to FIGS.
- the conductive mesh 3, the near-infrared absorbing layer 4, and the antireflection layer 6 are formed in this order on one surface of the base film 2, and the other of the base film 2 is formed.
- An adhesive layer 5 is formed on the surface.
- the conductive mesh 3, the hard coat layer 6c, and the antireflection layer 6 are formed on one surface of the base film 2, and the other surface of the base film 2 is formed.
- the near-infrared absorbing layer 4 and the adhesive layer 5 are formed.
- the display panel film 1C in FIG. 7 is provided with the transparent treatment layer 8 so as to cover the conductive mesh 3 in FIG. 1, and the near-infrared absorbing layer 4 and the adhesive layer 5 thereon.
- the rest of the configuration is the same as in Figure 1.
Landscapes
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
Abstract
厚みが小さい多機能のディスプレーパネル用フィルム1は、基材フィルム2と、該基材フィルム2の一方の表面に設けられた導電性メッシュ3と、該導電性メッシュ3を覆うように該基材フィルム2の該一方の表面に設けられたネオン発光及び近赤外線の吸収層4と、該近赤外線の吸収層4の上に形成された接着剤層5と、基材フィルム2の他方の表面に設けられた反射防止層6とを有する。
Description
明 細 書
ディスプレーパネル及びそのためのフィルム 発明の分野
[0001] 本発明は、プラズマディスプレーパネル(PDP)などのディスプレーパネルと、その 前面に設けられるディスプレーパネル用フィルムに関する。
発明の背景
[0002] PDP等の前面フィルタ一として、近赤外線吸収層を基材フィルム上に設けてなる近 赤外線カットフィルムと、反射防止層を基材フィルム上に設けてなる反射防止フィルム と、両フィルムの間の電磁波シールド用導電性メッシュとを積層してなるものが特開 2 001— 320193号の第 0050段落【こ記載されて!ヽる。
特許文献 1 :特開 2001— 320193号
[0003] 上記特開 2001— 320193号のように近赤外線カットフィルムと反射防止フィルムと を積層した前面フィルターでは、各フィルムがそれぞれ基材フィルムを有し、さらにそ れぞれを積層するために粘着層が必要となるためフィルター全体として厚みが大きく なる。また、各フィルムを貼り合せる工程が必要となるため、ラインのスピードィ匕が図り づらくなる。また、貼り合せる工程が多くなることで、異物混入や傷付きによる不良の 発生も多くなる。結果として生産性、コスト性も効率的でない。
発明の概要
[0004] 本発明は、厚みが小さい多機能のディスプレーパネル用フィルムと、このフィルムを 備えたディスプレーパネルを提供することを目的とする。
[0005] 本発明のディスプレーパネル用フィルムは、 1枚の基材フィルム上に、電磁波シー ルド用の導電層と、近赤外線吸収層と、反射防止層とを設けてなるものである。
[0006] このフィルムは、ディスプレーパネルの前面に接着される。
[0007] 本発明のディスプレーパネル用フィルムは、 1枚の基材フィルム上に近赤外線吸収 層と、導電層と、反射防止層とを設けているため、全体としてフィルムは 1枚だけ用い られており、フィルターの厚みが小さい。また、フィルム貼り合わせ工程が無ぐ異物 混入や傷付きによる不良発生が防止され、生産性が向上し、製造コストも低下する。
図面の簡単な説明
[0008] [図 1]本発明のディスプレーパネル用フィルムの実施の形態を示す模式的な断面図 である。
[図 2]反射防止層の一例を示す拡大図である。
[図 3]ディスプレーパネル用フィルムの端部の拡大図である。
[図 4]図 3の端部を形成する方法を示す断面図である。
[図 5]別の実施の形態に係るディスプレーパネル用フィルムの模式的な断面図である [図 6]別の実施の形態に係るディスプレーパネル用フィルムの模式的な断面図である [図 7]別の実施の形態に係るディスプレーパネル用フィルムの模式的な断面図である 詳細な説明
[0009] 以下、図面を参照して実施の形態について説明する。
[0010] 図 1, 5, 6, 7はそれぞれ実施の形態に係るディスプレーパネル用フィルムの模式 的な断面図である。
[0011] 図 1のディスプレーパネル用フィルム 1は、基材フィルム 2と、該基材フィルム 2の一 方の表面に設けられた導電層としての導電性メッシュ 3と、該導電性メッシュ 3を覆うよ うに該基材フィルムの該一方の表面に設けられた近赤外線の吸収層 4 (以下、単に 吸収層 4ということがある。)と、該吸収層 4の上に形成された接着剤層 5と、基材フィ ルム 2の他方の表面に設けられた反射防止層 6とを有する。
[0012] 力かるディスプレーパネル用フィルム 1は、 1枚の基材フィルム 2のみを用いており、 厚さが小さい。
[0013] 基材フィルム 2としては、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチ レンテレフタレート、ポリメチルメタアタリレート(PMMA)、アクリル、ポリカーボネート( PC)、ポリスチレン、セルローストリアセテート(TAC)、ポリビュルアルコール、ポリ塩 化ビュル、ポリ塩化ビ-リデン、ポリエチレン、エチレン 酢酸ビュル共重合体、ポリ ウレタン、セロファン等、好ましくは PET、 PC、 PMMAの透明フィルムが挙げられる。
[0014] 基材フィルム 2の厚さは、 1 μ m〜10mm特に 10〜: LOOO μ mが好適である。
[0015] 導電性メッシュ 3としては、金属繊維及び Z又は金属被覆有機繊維よりなるものを 用いてもよい。本発明では、光透過性の向上、モアレ現象の防止を図る上で、例え ば、線径 1 μ m〜lmm、開口率 40〜95%のものが好ましい。この導電性メッシュに おいて、線径が lmmを超えると開口率が下がる力、電磁波シールド性が下がり、両 立させることができない。 1 m未満ではメッシュとしての強度が下がり、取り扱いが非 常に難しくなる。また、開口率は 95%を超えるとメッシュとして形状を維持することが 難しぐ 40%未満では光透過性が低ぐディスプレイからの光線量が低減されてしま う。ょり好まし ヽ線径は10〜500 111、開口率は 50〜900/0である。
[0016] 導電性メッシュの開口率とは、当該導電性メッシュの投影面積における開口部分が 占める面積割合を言う。
[0017] 導電性メッシュ 3を構成する金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、 ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、クロム、炭 素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ニッケル、ステンレス、アルミニウムが用いられ る。
[0018] 金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩ィ匕ビユリデン、 ァラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。
[0019] 本発明にお 、ては、特に、上記開口率及び線径を維持する上で、メッシュ形状の 維持特性に優れた金属被覆有機繊維よりなる導電性メッシュを用いるのが好まし 、。
[0020] 電磁波シールド材料としては、上記の導電性メッシュの代わりに、エッチングメッシ ュ又は導電印刷メッシュを用いることもできる。
[0021] エッチングメッシュとしては、金属膜をフォトリソグラフィ一の手法で格子状やパンチ ングメタル状などの任意の形状にエッチングカ卩ェしたものを用いることができる。この 金属膜としては、上記基材フィルム 2上に、銅、アルミ、ステンレス、クロムなどの金属 膜を、蒸着やスパッタリングにより形成したもの、又はこれらの金属の箔を接着剤によ つて基材フィルムに貼り合わせたものを用いることができる。この接着剤としては、ェ ポキシ系、ウレタン系、 EVA系などが好ましい。
[0022] これらの金属膜は予め、片面又は両面に黒色の印刷を施しておくことが好ましい。
フォトリソグラフィ一の手法を用いることで、導電部分の形状ゃ線径などを自由に設計 することができるため、前記導電メッシュに比較して開口率を高くすることができる。
[0023] 導電印刷メッシュとしては、銀、銅、アルミ、ニッケル等の金属粒子又はカーボン等 の非金属導電粒子を、エポキシ系、ウレタン系、 EVA系、メラニン系、セルロース系、 アクリル系等のバインダーに混合したものを、グラビア印刷、オフセット印刷、スクリー ン印刷などにより、上記基材フィルム 2上に格子状等のパターンで印刷したものを用 いることがでさる。
[0024] また、導電性メッシュとして、フィルム面に、溶剤に対して可溶な物質によってドット を形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料よりなる導電材料層を形成し、 フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによつ て得られる導電性メッシュを用いてもょ 、。
[0025] このような導電層をさらに低い抵抗値にして、電磁波シールド効果を高めたい場合 には、導電層上にメツキ層を形成してもよい。
[0026] メツキ処理に使用される材料としては、銅、ニッケル、クロム、亜鉛、スズ、銀及び金 を挙げることができる。これらは単独で使用しても、 2種以上の合金として使用しても 良い。メツキ処理としては、通常の液相メツキ (電解メツキ、無電解メツキ等)により一般 に行われる。
[0027] また、防眩性能を付与させてもよ!ヽ。この防眩化処理を行う場合、導電性メッシュの 表面に黒ィ匕処理を行っても良い。例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色 メツキ、黒又は暗色系インキの塗料等を行うことができる。
[0028] 本発明では、図 7のディスプレーパネル用フィルム 1Cのように、この導電性メッシュ 3を覆うように透明化処理層 8を設けてもよい。この透明化処理層は導電性メッシュの 凹凸を均してディスプレーパネル用フィルムの透明性を高める作用を奏する。この透 明化処理層には、透明な粘着剤又は接着剤、例えばブチルアタリレート等のアクリル 系粘着剤、ゴム系粘着剤、 SEBS, SBS等の熱可塑性エラストマ一榭脂をベースとし た TPE系粘着剤および接着剤等が用いられる。
[0029] この透明化処理層 8は例えば塗工により形成することができる。この透明化処理層 の厚さは 5〜500 μ m特に 10〜: LOO μ m程度が好適である。
[0030] 近赤外線の吸収層 4は、紫外線硬化型又は電子線硬化型の合成樹脂塗工液中に 近赤外線の吸収色素を含有させたものを塗工して形成することができる。
[0031] 近赤外線吸収色素としては、 800〜1200nmに吸収極大波長をもつものであれば 特に制限されないが、フタロシアニン系、金属錯体系、ニッケルジチオレン錯体系、 シァニン系、スクァリリウム系、ポリメチン系、ァゾメチン系、ァゾ系、ポリアゾ系、ジィモ -ゥム系、アミ-ゥム系、アントラキノン系の色素が用いられる。
[0032] 本発明では、ネオン発光の吸収機能をもたせて色調の調節機能をもたせてもよ ヽ。
このためには、ネオン発光の吸収層を設けてもよいが、上記の近赤外線吸収層にネ オン発光の選択吸収色素を含有させてもょ ヽ。
[0033] ネオン発光の選択吸収色素としてはシァニン系、スクァリリウム系、アントラキノン系 、フタロシアニン系、ポリメチン系、ポリアゾ系、ァズレニウム系、ジフエ二ノレメタン系、ト リフエ-ルメタン系等が挙げられる。かかる選択吸収色素は、 585nm付近のネオン発 光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長に対しては吸収が小さいことが必要となる ため、吸収極大波長が 575〜595nmであり、吸収スペクトル半値幅力 Onm以下で あるものが好適に用 、られる。
[0034] また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種類組み合わせる場合、プロセス 上の色素の溶解性に問題がある場合や、混合による色素間の反応や、耐熱性、耐湿 性などの低下が認められる場合はすべての近赤外線吸収色素を同一の層内に含む 必要はなぐ別の層として形成してもよいことは勿論である。
[0035] また、光学特性に大きな影響を与えない範囲であれば、さらに着色用の色素、紫外 線吸収剤、酸ィ匕防止剤を加えてもよい。
[0036] フィルムの光学特性としては近赤外線吸収特性として 850〜1000nmの透過率が 20%以下さらに好ましくは 15%以下にするのがよい。また選択吸収性としては 585η mの透過率が 50%以下であることが望ましい。特に前者の場合には、周辺機器にお けるリモコン等への誤作動が指摘されている波長域の透過度を減少させることがねら いであり、後者のそれは、 575〜595nmにピークをもつオレンジ色が色再現性を悪 化させる原因となっている力 このオレンジ色の波長を吸収することがねらいで、これ によって真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。
[0037] この吸収層 4の厚さは 0. 5〜50 m程度が好適である。
[0038] 接着剤層 5は、ディスプレーパネル用フィルム 1を PDPやガラス基板等に貼着する ことができるようにするためのものである。この接着剤層 5には、透明な粘着剤又は接 着剤、例えばブチルアタリレート等のアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、 SEBS、 SBS 等の熱可塑性エラストマ一榭脂をベースとした TPE系粘着剤および接着剤等が用い られる。
[0039] この接着剤層の厚さは 5〜500 μ m特に 10〜: LOO μ m程度が好適である。
[0040] 反射防止層 6としては、低屈折率層のみ力 なるものであってもよぐ高屈折率層と 低屈折率層とを低屈折率層が表面側となるように積層したものであってもよい、高屈 折率層と基材フィルム 1との間にハードコート層を設けてもよい。図 3はこのようにハー ドコート層 6c、高屈折率層 6b、低屈折率層 6aを積層した構成を示す模式的な断面 図である。
[0041] 各層 6a, 6b, 6cのマトリックスはいずれも合成樹脂であり、この合成樹脂としては紫 外線硬化型又は電子線硬化型の合成樹脂特に多官能アクリル榭脂が好適である。
[0042] 高屈折率層 6b及びハードコート層 6cのいずれか一方に、 ITO, ATO, Sb O , Sb
2 3
O , In O , SnO , ZnO等の導電性金属酸化物微粒子を配合することが好ましぐ
2 2 3 2
特にハードコート層 6cの表面抵抗を 5 Χ 101()ΩΖ口以下とすることにより反射防止フ イルムに帯電防止機能を持たせることが好まし 、。
[0043] 高屈折率層 6bは、 ITO (スズインジウム酸化物)又は ZnO、 A1をドープした ZnO、 T iO、 SnO、 ZrO等の高屈折率の金属酸化物微粒子を配合することにより屈折率を
2 2
1. 64以上としたものが好適である。
[0044] なお、高屈折率層 6bが導電層である場合、この高屈折率層 6bの屈折率を 1. 64以 上とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を 1. 5%以内にす ることができ、 1. 69以上、好ましくは 1. 69〜: L 82とすることにより反射防止層 6の表 面反射率の最小反射率を 1. 0%以内にすることができる。
[0045] ハードコート層 6cが導電層である場合、該高屈折率層 6bの屈折率を 1. 70以上と することにより反射防止層 6の表面反射率の最小反射率を 1. 5%以内にすることが でき、 1. 75以上とすることにより反射防止層 6の表面反射率の最小反射率を 1. 0%
以内にすることができる。
[0046] ハードコート層 6cは、可視光透過率が 85%以上であることが好ましい。高屈折率層 6b及び低屈折率層 6aの可視光透過率も、いずれも 85%以上であることが好ましい。
[0047] 低屈折率層 6aには、屈折率低下、耐傷性向上、すべり性向上のためにシリカ、フッ 素榭脂等の微粒子を 10〜40重量%程度配合することが好ましい。なお、この低屈 折率層 6aのマトリックスとして前記の通りアクリルを用いたときには、コストダウン、膜強 度増大、耐薬品性向上、耐湿熱性向上を図ることができる。
[0048] この最表層の低屈折率層 6aの屈折率は、 1. 45-1. 51が好ましい。この低屈折 率層 6aの屈折率が 1. 51超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が悪くなる。 フィルム 1, 1C及び後述のフィルム 1A, 1Bにあっては、フィルム 1, 1A〜1Cの全 体の厚み Tと基材フィルム 2の厚み Tとの差 (T— T )は 100 /z m以下であることが
1 2 1 2
好ましい。
[0049] ハードコート層 6cの厚みは 2〜20 μ mが好ましぐ高屈折率層 6bの厚みは 75〜9 Onmが好ましぐ低屈折率層 6aの厚みは 85〜: L lOnmであることが好ましい。
[0050] フィルム 1, 1C及び後述のフィルム 1A, 1Bにあっては、フィルム 1, 1A〜1Cの全 体の厚み Tと基材フィルム 2の厚み Tとの差 (T— T )は 100 /z m以下であることが
1 2 1 2
好ましい。
[0051] 各層 4, 6 (6a, 6b, 6c)を形成するには、前記の通り、未硬化の合成樹脂(必要に 応じ上記の微粒子を配合したもの)を塗工し、次いで紫外線又は電子線を照射する のが好ましい。この場合、各層を 1層ずつ塗工し硬化させてもよぐ 2以上、例えばす ベての層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。
[0052] 塗工の具体的な方法としては、アクリルモノマーをトルエン等の溶媒で溶液ィ匕した 塗布液をグラビアコータによりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線又は電子 線照射によりキュアする方法が例示される。このウエットコーティング法であれば、高 速で均一に且つ安価に成膜できると!、う利点がある。このコ一ティング後に例えば紫 外線又は電子線を照射してキュアすることにより密着性の向上、膜の硬度の上昇とい う効果が奏される。
[0053] 本発明のディスプレーパネル用フィルムにあっては、図 3の如ぐ基材フィルム 2の
端縁近傍において、基材フィルム 2の端辺よりもネオン発光、近赤外線の吸収層 4が 後退し、導電性メッシュ 3の端縁近傍が露呈している構成としてもよい。このように導 電性メッシュ 3の端縁近傍が露呈して ヽると、導電性メッシュ 3をアース回路に容易に 導通させることができる。なお、露呈幅 Lは l〜200mm程度が好適である。
[0054] このように導電性メッシュ 3の端縁近傍が露呈したディスプレーパネル用フィルムを 製造するには、図 4のようにするのが好ましい。即ち、基材フィルム 2の原反フィルム 2 0 (長 、帯状のフィルム)上に、原反フィルム 20の長手方向に連続させて導電性メッシ ュ 3を形成すると共に、その上に非連続的に吸収層 4を形成する。この吸収層 4は、 原反フィルム 20の長手方向に連続させるのではなぐ製品フィルム 1枚の大きさ分だ け形成され、隣接する吸収層 6同士の間に導電性メッシュ 3の露呈ゾーンを形成して おく。この露呈ゾーンの中央部 Cを原反フィルム 20の短手幅方向に原反フィルム 20 及び導電性メッシュ 3を切断する。これにより、図 3のように導電性メッシュ 3の端縁近 傍が露呈したディスプレーパネル用フィルム 1が得られる。
[0055] 図 5〜7を参照して図 1とは異なる実施の形態について説明する。
[0056] 図 5のディスプレーパネル用フィルム 1Aでは、基材フィルム 2の一方の面上に導電 性メッシュ 3、近赤外線吸収層 4、反射防止層 6をこの順に形成し、基材フィルム 2の 他方の面上に接着剤層 5を形成している。
[0057] 図 6のディスプレーパネル用フィルム 1Bでは、基材フィルム 2の一方の面上に導電 性メッシュ 3、ハードコート層 6c、反射防止層 6を形成し、基材フィルム 2の他方の面 上に近赤外線吸収層 4及び接着剤層 5を形成している。
[0058] 図 7のディスプレーパネル用フィルム 1Cは、図 1において、導電性メッシュ 3を覆うよ うに透明化処理層 8を設け、その上に近赤外線吸収層 4と接着剤層 5とを設けたもの であり、その他の構成は図 1と同じである。
[0059] これらのディスプレーパネル用フィルム 1A〜1Cによっても、上記ディスプレーパネ ル用フィルム 1と同様の作用効果を得ることができる。
Claims
[1] 1枚の基材フィルム上に、電磁波シールド用の導電層と、近赤外線吸収層と、反射 防止層とを設けてなるディスプレーパネル用フィルム。
[2] 請求項 1にお 、て、ハードコート層を有することを特徴とするディスプレーパネル用 フイノレム。
[3] 請求項 1にお 、て、前記導電層は導電性メッシュであることを特徴とするディスプレ 一パネル用フィルム。
[4] 請求項 1において、フィルム全体の厚み Tと前記基材フィルムの厚み Tとの差 T
1 2 1
T力 μ m以下であることを特徴とするディスプレーパネル用フィルム。
2
[5] 請求項 1にお 、て、該ディスプレーパネル用フィルムをディスプレーに貼るための接 着剤層を有することを特徴とするディスプレーパネル用フィルム。
[6] 請求項 1にお 、て、前記基材フィルムの端縁近傍にあっては、導電層が露呈して!/ヽ ることを特徴とするディスプレーパネル用フィルム。
[7] 請求項 6にお 、て、該ディスプレーパネル用フィルムは、原反フィルム上に導電層 を形成し、その上に他の層を、間隔をあけて導電層の露呈部分を生じさせるように形 成し、その後、該導電層が露呈した部分を原反フィルムの短手幅方向に切断するこ とにより製造されたものであることを特徴とするディスプレーパネル用フィルム。
[8] 請求項 1において、前記近赤外線吸収層は、ネオン発光の選択吸収色素を含有し ており、ネオン発光も吸収するものであることを特徴とするディスプレーパネル用フィ ノレム。
[9] 請求項 1に記載のフィルムをディスプレーパネルに接着するディスプレーパネル用 フィルムの使用。
[10] 請求項 1に記載のフィルムが接着されたディスプレーパネル。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007516277A JPWO2006123612A1 (ja) | 2005-05-16 | 2006-05-15 | ディスプレーパネル及びそのためのフィルム |
EP06732591A EP1884909A4 (en) | 2005-05-16 | 2006-05-15 | SCREEN AND FILM Y AFFERANT |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005-142855 | 2005-05-16 | ||
JP2005142855 | 2005-05-16 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2006123612A1 true WO2006123612A1 (ja) | 2006-11-23 |
Family
ID=37431185
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2006/309660 WO2006123612A1 (ja) | 2005-05-16 | 2006-05-15 | ディスプレーパネル及びそのためのフィルム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20080130296A1 (ja) |
EP (1) | EP1884909A4 (ja) |
JP (1) | JPWO2006123612A1 (ja) |
WO (1) | WO2006123612A1 (ja) |
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Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2009977A3 (en) | 2007-05-09 | 2011-04-27 | FUJIFILM Corporation | Electromagnetic shielding film and optical filter |
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-
2006
- 2006-05-15 EP EP06732591A patent/EP1884909A4/en not_active Withdrawn
- 2006-05-15 JP JP2007516277A patent/JPWO2006123612A1/ja active Pending
- 2006-05-15 WO PCT/JP2006/309660 patent/WO2006123612A1/ja active Application Filing
-
2007
- 2007-10-26 US US11/925,159 patent/US20080130296A1/en not_active Abandoned
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---|
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20080130296A1 (en) | 2008-06-05 |
EP1884909A1 (en) | 2008-02-06 |
EP1884909A4 (en) | 2011-01-12 |
JPWO2006123612A1 (ja) | 2008-12-25 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application | ||
WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 2007516277 Country of ref document: JP |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 2006732591 Country of ref document: EP |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: RU |
|
WWP | Wipo information: published in national office |
Ref document number: 2006732591 Country of ref document: EP |