WO2006068192A1 - 洗浄剤組成物 - Google Patents

Abstract

　アルキルグリコシド、グリセリルエーテル、炭化水素および水を含有する処理具用洗浄剤組成物および該洗浄剤組成物を用いる洗浄方法。該洗浄剤組成物は、シリコーン処理具、液晶処理具、銅板などの表面を洗浄する際に使用される。

Description

明 細 書

洗浄剤組成物

技術分野

[0001] 本発明は、洗浄剤組成物に関する。さらに詳細には、シリコーン処理具、液晶処理 具、銅板などの表面に存在する汚れの除去性およびすすぎ性に優れ、しかも安全性 の高ぐシリコーン処理具、液晶処理具、銅板などに好適に使用しうる洗浄剤組成物 に関する。本発明は、また、該洗浄剤組成物でシリコーン処理具、液晶処理具または 銅板を洗浄する方法に関する。

背景技術

[0002] シリコーンは、その疎水性および独特の摩擦特性から、塗料分野、パーソナルケア 分野などで非常に重要な原料である。従来、シリコーンを含有した製品を配合した後 の配合設備の洗浄には、中性の界面活性剤水溶液、またはアルキルベンゼンスルホ ン酸塩などの一般的な界面活性剤が使用されていた (例えば、特許文献 1)。また、 シリコーンの性状により洗浄しにくいシリコーン混入塗料の洗浄液および洗浄方法が 報告されている (例えば、特許文献 2)。

[0003] ノ ソコン用ディスプレー、テレビ、携帯電話などの表示素子に用いられる液晶化合 物およびその混合物において、求められる性能 (例えば、相転移温度、応答速度、コ ントラストなど）を維持する必要性から、異物'不純物の混入、または特性を低下させ る液晶化合物の混入を、可能な限り抑制する必要がある。また、薄いセルギャップで は駆動電圧が高いこともあり、導電性異物の混入を防ぐ必要がある。

[0004] よって液晶化合物を処理するための液晶処理具には極めて高度な清浄度が求め られる。

[0005] 従来、液晶処理具の表面に存在する液晶化合物の除去には、トリクロロェタン、テト ラクロ口エチレン等の塩素系溶剤、トリクロ口フルォロェタン等のフロン系溶剤などが 使用されていた。し力 ながら、塩素系およびフロン系の溶剤は安全性、毒性、作業 環境および環境汚染等に大きな問題を有しているという問題がある。

[0006] この問題を解決するため、非塩素系溶媒、非フロン系溶媒、または界面活性剤を主 成分とする水系洗浄剤が提案されてレ、る（特許文献 3)。

[0007] 一方、金属、ガラス、陶磁器、プラスチックなどの硬質部材の表面の洗浄には、従 来からアルカリ性洗浄剤が幅広く用いられている。アルカリ性洗浄剤が使用されてい る分野では、洗浄性を向上させるために、室温より洗浄温度を上げて洗浄を行うこと が多い。例えば、製鉄所などにおける鋼板 (鋼帯）を連続洗浄する場合、その洗浄設 備は通常、コイル状に卷き取られた鋼板 (鋼帯）を連続して洗浄する構造になってお り、 30〜： UOOmZ分程度の速度で操業され、鋼板の洗浄時間は最大でも数秒と極 めて短時間である。したがって、鋼板用の洗浄剤は、短時間で鋼板表面に付着して レ、る油分を落とすために、通常 60〜80°Cの洗浄温度で使用されるのが一般的であ る。

[0008] 前記のような硬質表面用の洗浄剤組成物としては、ポリグリセリルエーテル型ノニォ ン界面活性剤とアルカリ剤とを含有するアルカリ性洗浄剤組成物（特許文献 4)、ダリ セリルエーテル、テルペン系炭化水素、界面活性剤、アルカリ剤を含むアルカリ性洗 浄剤組成物 (特許文献 5)などが開示されてレ、る。

特許文献 1 :特開平 2— 215897号公報

特許文献 2 :特開平 6— 346010号公報

特許文献 3：特開平 4 318100号公報

特許文献 4：特開平 5 _ 194999号公報

特許文献 5：特開平 11 - 256200号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0009] シリコーンは疎水性であるがために、製品配合後の配合設備の洗浄には長時間を 要する。特に、 25°Cにおける動粘度が 0. 01m²/s以上の高粘度シリコーン、および 高粘度シリコーンとァミノ変性シリコーンとの混合物の除去は、非常に困難である。

[0010] また、シリコーンの用途によっては、顔料、染料などの色材とシリコーンを混合する 場合もあり、このような混合物の混合に使用した配合設備をある程度の清浄度まで速 やかに洗浄しなければ次の生産品目に混入し品質面で問題となる。このような問題 を解決するため、従来では、従業員が配合設備内に入り、タヮシ、スポンジなどの清 掃具で拭き取つていたため、生産性および作業性の点で課題があった。

[0011] このような課題に対し、前記特許文献 1に開示される洗浄剤では、洗浄力が不足し

、前記特許文献 2に開示される洗浄液も、高温下で高濃度アルカリを使用する必要 があり、安全性の面で課題がある。

[0012] したがって、本発明は、シリコーン処理具上のシリコーンおよびその混合物に対して 優れた溶解性、除去性を示し、特に今まで律速となっていたすすぎ性を大きく改善で き、しかも環境への負荷を低減でき、安全性の高いシリコーン処理具用洗浄剤組成 物ならびに該洗浄剤組成物を用いるシリコーン処理具の洗浄方法を提供することを 目的とする。

[0013] また、従来の塩素系溶剤による洗浄方法では、洗浄工程において液晶処理具を塩 素系溶剤で洗浄した後に、塩素系溶剤の新液、さらには親水性溶液で洗浄し、その 後純水で 10回近くのすすぎを行レ、、洗浄およびすすぎの両工程で 10回以上の処理 を行う必要があった。一方、塩素系溶剤の代替として提案されている水系洗浄剤を 用いて液晶処理具を洗浄する場合、洗浄工程において液晶処理具、特に超音波洗 浄のし難い液晶配合槽に付着する液晶化合物の十分な溶解性および除去性が得ら れず、液晶化合物処理具に必要な高度な清浄性を得ることは困難であった。また、 従来の洗浄剤を液晶処理具の洗浄に用いた場合、液晶処理具に付着した洗浄剤成 分を水で洗い流す際、すなわち、すすぎの際の負担が大きかった。

[0014] したがって、本発明は、液晶処理具に付着した液晶化合物に対して優れた溶解性 および除去性を示し、さらにすすぎ性を大きく改善でき、しかも環境汚染のおそれが 極めて少なぐ安全性の高レ、液晶処理具用洗浄剤組成物ならびに該洗浄剤組成物 を用いる液晶処理具の洗浄方法を提供することを目的とする。

[0015] 一方、特許文献 4および 5に開示されている洗浄剤組成物は、低温（50°C以下）か つ短時間の洗浄条件下における繰り返し洗浄性、低泡性などの点で充分とは言えな レ、。

[0016] さらに、前記のような従来の洗浄剤組成物を用いて長時間洗浄を行うと、 pHが低下 しゃすぐ例えば、アルミニウムなどを備える精密部品に pHの低下した洗浄剤組成 物を使用すると、アルミニウムの腐食が問題となる場合があり、洗浄力自体の大幅な 低下が認められなくても洗浄液の交換が必要である。また pHの低下によって、通常 考えられる洗浄力の低下を越えて洗浄力の低下がもたらされ、洗浄液の交換サイク ルを早める必要がある場合もある。

[0017] したがって、本発明は、硬質表面上、特に銅板表面上の各種の汚れに対し汎用的 に用いることができ、 pH変動が小さぐ低温での洗浄においてもこれらの汚れに対し て安定した溶解性、除去性を示し、特に今まで律速となっていたすすぎ性を大きく改 善でき、しかも環境への負荷を低減でき、安全性の高い硬質表面用洗浄剤組成物な らびに該洗浄剤組成物を用いる硬質表面の洗浄方法を提供することを目的とする。 課題を解決するための手段

[0018] 即ち、本発明の要旨は、

〔1〕 アルキルグリコシド、グリセリルエーテル、炭化水素化合物および水を含有する 洗浄剤組成物、

〔2〕 その用途がシリコーン処理具、液晶処理具または銅板である前記〔1〕記載の洗 浄剤組成物、および

〔3〕 前記洗浄剤組成物でシリコーン処理具、液晶処理具または銅板を洗浄する洗 浄方法

に関する。

発明の効果

[0019] 本発明により、シリコーン処理具上のシリコーンおよびその混合物に対して優れた 溶解性、除去性を示し、かつ今まで律速となっていたすすぎ性を大きく改善でき、し 力も環境への負荷を低減でき、安全性の高いシリコーン処理具用洗浄剤組成物を提 供することができ、シリコーン処理具を安全に洗浄することができるシリコーン処理具 の洗浄方法を提供することができる。

[0020] また、本発明の洗浄剤組成物は、極めて高度な清浄度が求められる液晶処理具の 洗浄に利用することができる。

[0021] さらに、本発明の洗浄剤組成物により、硬質表面上、特に銅板表面上の各種の汚 れに対し汎用的に用いることができ、 pH変動が小さぐ低温での洗浄においてもこれ らの汚れに対して安定した溶解性、除去性を示し、かつ、今まで律速となっていたす すぎ性を大きく改善でき、しかも環境への負荷を低減でき、安全性の高い硬質表面 用洗浄剤組成物を提供することができ、精密部品、冶工具類、金属、ガラス、陶磁器 、プラスチックなどの硬質部材の表面を安全に洗浄することができる硬質表面の洗浄 方法を提供することができる。

発明を実施するための最良の形態

[0022] 本発明の洗浄剤組成物は、アルキルグリコシド、グリセリルエーテル、炭化水素化 合物、および水を含有するものであり、力かる 4成分を併用することを 1つの特徴とす る。

[0023] 特に、本発明は、アルキルグリコシドとグリセリルエーテルを組み合わせることにより 、本来水に溶解しない炭化水素化合物を高含水域でも分散することができる。したが つて、高含水率でもシリコーンおよびその混合物を溶解'除去することが可能であり、 洗浄剤コストを大きく低減することができるだけでなぐ従来の洗浄剤に比べ、引火性 を考慮した厳密な水分管理を行う必要がなくなり扱いやすくなる。

[0024] また、従来の炭化水素を含む水系洗浄剤は、被洗浄物に付着した洗浄剤成分およ び再付着した油性汚れを洗レ、流すためのすすぎ時の負荷が大きかった力 本発明 の洗浄剤組成物を用いることによりすすぎが格段と容易になる。

[0025] 従来の洗浄剤は、液晶処理具に残った洗浄剤成分を洗い流すための水を用いた すすぎ時の負荷が大きかったが、本発明の洗净剤組成物を用いることにより水を用 レ、たすすぎが格段と容易になる。本発明の洗浄剤組成物は、液晶処理具に付着した 液晶化合物の除去に特に優れた効果を有する。

[0026] また、本発明の洗浄剤組成物は、液晶セルのギャップ間に存在する液晶を洗浄す ること力 Sでき、従来洗浄が困難であったギャップ間の狭レ、液晶セル内に存在する液 晶汚れも洗浄できるという効果を奏する。

[0027] 本発明の洗浄剤組成物は、低温でも十分なシリコーン処理具の洗浄性を有するが

、 50°Cよりも高い温度においても、先に示した公知の洗浄剤より優れた洗浄性を示 す。

[0028] 《洗浄対象》

本発明の洗浄対象となるシリコーン処理具としては、シリコーンを混合する際に使用 されるシリコーン配合設備、シリコーン取り扱いで使用される冶工具類などが挙げら れる。本発明においてシリコーン配合設備とは、シャンプー、コンディショナーなどの 頭髪洗浄用化粧品；ファンデーションなどのメークアップ化粧品；日焼け止め化粧品； 口唇化粧品；アイライナー化粧品；消泡剤；樹脂成形加工時に金型に塗布される離 型剤；ポリウレタン、 PVC、フヱノールフォーム用整泡剤；シリコーン配合塗料などに 用いられるシリコーンおよびその混合物を調製する際に使用される容器、充填ライン のポンプ、配管、中継槽のようなタンクなどをいう。また、本発明において冶工具類と は、シリコーンを含有する製品を容器に充填し製品化する際に使用される、充填機ノ ズルなどのシリコーンと接触する可能性のある冶工具類一般をいう。

[0029] 本発明の洗浄対象となる液晶処理具としては、液晶化合物を混合する際に使用さ れる液晶配合槽、表示素子基板に液晶を注入または滴下する際に使用される冶工 具類などが挙げられる。本発明において液晶配合槽とは、ノ ソコン用ディスプレー、 テレビ、携帯電話などの表示素子に用いられる液晶化合物およびその混合物を調製 する際に使用される容器 (例えば、 SUS製容器)をいう。また、本発明において液晶 取扱いで使用される冶工具類とは、液晶化合物をガラス基板に封入する際に使用さ れる、液晶で満たされた容器、ガラス基板を固定する冶具、ガラス基板へ液晶を滴下 する際に使用される装置のタンク、パイプ、ポンプおよびノズノレ部分などをレ、い、液晶 化合物により汚染される可能性のある冶工具類一般をいう。

[0030] 本発明の洗浄対象となる銅板とは、被洗浄物である精密部品、冶工具類などにお ける銅板をいう。

[0031] 本発明において精密部品とは、例えば、電子部品、電機部品などをいう。電子部品 としては、例えば、半導体パッケージ、プリント配線基板、 ICリードなどが挙げられる。 電機部品としては、例えば、ブラシ、ローター、ハウジングなどの電動機部品などが挙 げられる。

[0032] 本発明の洗浄剤組成物は、特に上述のうち、物理的洗浄手段として有効な超音波 洗浄を施すことが難しい液晶配合槽に付着した液晶化合物に対して高い除去性を 発揮する。

[0033] 《除去対象》 本発明の洗浄剤組成物の除去対象であるシリコーンおよびその混合物は、一般的 には流動性を有するシリコーンオイルである。シリコーンとしては、メチルポリシロキサ ン、高重合メチルポリシロキサン、高重合ジメチルシロキサン'メチル（ァミノプロピル） シロキサン共重合体などの変性シリコーンなどが挙げられる。中でも、高重合メチル ポリシロキサンなどの 25°Cにおける動粘度が 0. 01m²Zs以上の高粘度変性シリコー ンおよび/または高重合ジメチルシロキサン'メチル（ァミノプロピル）シロキサン共重 合体などのアミノ変性シリコーンを含有する混合物は非常に洗浄しにくい。したがつ て、本発明の洗浄剤組成物は、特に、高粘度変性シリコーンおよびアミノ変性シリコ ーンを除去対象とする。

[0034] また、本発明の洗浄剤組成物の除去対象である液晶化合物は、一般的に、バソコ ン用ディスプレー、テレビ、携帯電話などの表示素子に用いられる場合、エステル系 、ビフエ二ル系、ジォキサン系、フエニルシクロへキサン系など約 20種類の材料を混 合し、温度特性、電圧特性、弾性特性などの目的に応じて厳密に秤量される。よって 液晶化合物を混合する際、微量の不純物および/または前に配合した液晶混合物 がわずかに混入しても、上記特性に影響を与える可能性が大きいため、混合に使用 される液晶配合槽、また液晶化合物を取り扱う冶工具類は高度な清浄性が求められ る。液晶化合物としては、 TN、 STN、 TFT、 MIMなどの表示装置に用いられるネマ ティック液晶、コレステリック液晶、スメクティック液晶などが挙げられる。

[0035] 本発明の洗浄剤組成物の主な銅板における除去対象は、銅板表面上に付着する 液晶、油成分、フラックス（はんだ付けの際に生じる残渣)などの各種の汚れである。 本発明の洗浄剤組成物は、特に、半導体パッケージまたはプリント配線基板に残存 したフラックス、銅板の塑性カ卩ェ時に表面に付着したカ卩ェ油に対して高い洗浄性を 発揮する。さらに、これらの除去対象に金属粉、無機物粉、水分などが混入した汚れ に対しても高レ、洗浄性を発揮する。

[0036] 《アルキルダルコシド》

本発明に用いられるアルキルグリコシドはグリセリルエーテルと組み合わせることに より、本来水に溶解しない炭化水素化合物を高含水域でも分散し、シリコーンおよび その混合物を溶解'除去することができる。 [0037] 本発明に用いられるアルキルグリコシドは、下記の一般式（1)：

R¹ (OR²) G (1)

〔式中、 R¹は直鎖または分岐鎖の炭素数 8〜： 18のアルキル基、アルケニル基、また はアルキルフエ二ル基を示し、 R²は炭素数 2〜4のアルキレン基を示し、 Gは炭素数 5 〜6を有する還元糖に由来する残基を示し、 x (平均値）は 0〜5を、 y (平均値）は 1〜 5を示す〕で表される。

[0038] 式中、 Xは、好ましくは 0〜2、より好ましくは 0である。 yは、好ましくは:!〜 1. 5、より 好ましくは 1〜： 1. 4である。 R¹の炭素数は、溶解性および除去性の観点から、好まし くは 9〜： 16、さらに好ましくは 10〜： 14である。 R²は、好ましくはエチレン基である。 G は、原料として使用される単糖類または多糖類によってその構造が決定され、単糖類 としては、グルコース、ガラクトース、キシロース、マンノース、リキソース、ァラビノース 、これらの混合物などが挙げられ、多糖類としては、マルトース、キシロビオース、イソ マルトース、セロビオース、ゲンチビオース、ラタトース、スクロース、ニゲロース、ッラノ ース、ラフイノース、ゲンチアノース、メレジトース、これらの混合物などが挙げられる。 これらのうち、単糖類としては、入手性および低コストの点からグノレコースまたはフル クトースが好ましぐ多糖類ではマルトースまたはスクロースが好ましい。尚、 Xおよび y はプロトン（ ) NMRにより求める。

[0039] アルキルグリコシドとしては、前記一般式（1)を満たすものであれば特に限定はな レ、が、例えば、高い溶解性および除去性を得る観点からは、アルキルポリダルコシド が好ましぐ中でも、デシノレポリグノレコシド、ドデシルポリグルコシド、ミリスチルポリグ ルコシドなどがより好ましレ、。

[0040] ここで、アルキルポリダルコシドとは、前記一般式（1)において、 Gがグルコース由来 の残基であり、 yが 1以上であるアルキルグリコシドをレ、い、例えば、単糖類または多 糖類をその構造として含むものが挙げられる。

[0041] アルキルグリコシド、グリセリルエーテルおよび炭化水素化合物の合計量に対する アルキルグリコシドの割合は、シリコーン処理具の洗浄に対しては、高いすすぎ性を 得る観点から、 20〜80重量％が好ましぐ 20〜70重量％がより好まし 25〜65重 量％がさらに好ましぐ 30〜60重量％がさらにより好ましぐ 35〜57重量％がさらに より好ましい。

[0042] 洗浄剤組成物におけるアルキルグリコシドの含有量は、液晶処理具の洗浄に対し ては、高いすすぎ性を得る観点から、：!〜 80重量％が好ましぐ：!〜 50重量％がより 好ましぐ 2 40重量％がさらに好ましぐ 5 30重量％が特に好ましい。

[0043] また、銅板の洗浄に対しては、アルキルグリコシド、グリセリルエーテルおよび炭化 水素の合計量に対するアルキルグリコシドの割合は、高レ、すすぎ性を得る観点から、 20 80重量％が好ましぐ 30 75重量％カより好ましく、 40 70重量％がさらに 好ましぐ 40 65重量％がさらにより好ましぐ 40 62重量％がさらにより好ましい。

[0044] 《グリセリルエーテル》

本発明に用いられるグリセリルエーテルとしては、溶解性および除去性を落とさず、 かつ、使用温度範囲で透明な製品性状を維持する観点から、炭素数 4〜： 12の直鎖 または分岐鎖のアルキル基またはアルケニル基を有するものが挙げられ、例えば n— ブチル基、イソブチル基、 n キシル基、イソへキシル基、 n プチル基、 n—ォ クチル基、 2—ェチルへキシル基、 n—ノニノレ基、 n—デシル基などの炭素数 4 12 のアルキル基を有するものが好ましぐ炭素数 5〜： 10、さらに炭素数 5 8のアルキル 基を 1または 2個、特に 1個有するものがさらに好ましい。さらに本発明に用いるグリセ リルエーテルとしては、グリセリル基が 2個以上、好ましくは 2 3個のグリセリル基が エーテル結合で繋がった、モノアルキルジグリセリルエーテルまたはモノアルキルポリ グリセリルエーテルでも良レ、。特に、シリコーンおよびその混合物に対する溶解性お よび除去性に優れる観点から、モノアルキルグリセリルエーテル、モノアルキルジグリ セリルエーテルが好ましレ、。特に好ましいグリセリルエーテルは、 2 _ェチルへキシル グリセリルエーテルである。これらのグリセリルエーテルは、単独でまたは 2種以上を 混合して用いてもよレ、。本発明においては、力かるグリセリルエーテルを用いることで 、有機溶剤と水との分散性を安定させることができるため、従来、洗浄しにくいといわ れてレ、た高粘度変性シリコーンおよびその混合物に対しても、より優れた溶解性およ び除去性が得られるという利点がある。

[0045] シリコーン処理具の洗浄においては、アルキルグリコシド、グリセリルエーテルおよ び炭化水素化合物の合計量に対するグリセリルエーテルの割合は、炭化水素化合 物と水との分散を安定にさせ、高い洗浄性とすすぎ性を両立する観点から、洗浄剤 組成物から水を除いた成分中、 2〜30重量％が好ましぐ 3〜25重量％がより好まし ぐ 4〜20重量％がさらに好ましぐ 6〜： 17重量％がさらに好ましぐ 8〜： 14重量％が さらに好ましレ、。

[0046] 液晶処理具の洗浄においては、グリセリルエーテルの含有量は、炭化水素化合物 と水との分散を安定にさせ、高い除去性とすすぎ性を両立する観点から、洗浄剤組 成物中 0. 5〜80重量％が好ましぐより好ましくは 0. 5〜50重量％、さらに好ましく は 1〜30重量％、特に好ましくは 1〜20重量％である。

[0047] 銅板の洗浄においては、アルキルグリコシド、グリセリルエーテルおよび炭化水素の 合計量に対するグリセリルエーテルの割合は、炭化水素と水との分散を安定にさせ、 高い洗浄性とすすぎ性を両立する観点から、 2〜70重量％が好ましぐ 2. 5〜65重 量％がより好ましぐ 3〜60重量％がさらに好ましい。また、洗浄剤組成物の油水分 離性を良好に保つ観点から、当該割合は、 5〜30重量％が好ましぐ 8〜20重量％ 力 り好ましぐ 10〜： 18重量％がさらに好ましい。油水分離性とは、油水混合液から 遊離水又は遊離油を分離する能力をいい、油水分離性が良好であれば、排水への 油分の混入を低減することができることから、排水処理時の負荷を下げることができる

[0048] 《アルキルグリコシドとグリセリルエーテルの重量比》

シリコーン処理具の洗浄においては、アルキルグリコシド Zグリセリルエーテルの重 量比（アルキルグリコシド/グリセリルエーテル）は、 2. 7〜： 10力 S好ましレ、。 中でも、シ リコーン処理具を洗浄する場合、洗浄時の泡立ち性を抑制する観点から、アルキル グリコシド/グリセリルエーテルの重量比は、 10以下が好ましぐまた炭化水素化合 物と水を安定に分散させる観点から、 2. 7以上が好ましい。したがって、アルキルダリ コシド Zグリセリルエーテルの重量比は、より好ましくは 2. 8〜6. 7、さらに好ましくは 3. 3〜6. 3、さらにより好ましくは 3. 5〜5である。

[0049] 液晶処理具の洗浄においては、アルキルグリコシド/グリセリルエーテルの重量比 は、洗浄時の泡立ち性を抑制する観点から、 10以下が好ましぐまた炭化水素化合 物と水を安定に分散させる観点から、 1以上が好ましい。該アルキルグリコシド /ダリ セリルエーテルの重量比は、好ましくは 1〜10、より好ましくは 3〜8、さらに好ましくは 3〜6である。

[0050] 銅板の洗浄にぉレ、ては、アルキルグリコシド/グリセリルエーテルの重量比（アルキ ルグリコシド/グリセリルエーテル）は、 0. 28〜40力 S好ましレ、。中でも、洗浄時の泡 立ち性を抑制する観点から、アルキルグリコシド/グリセリルエーテルの重量比は、 2 0以下が好ましぐまた炭化水素と水を安定に分散させる観点から、 0. 5以上が好ま しい。また、洗浄剤組成物の油水分離性を良好に保つ観点から、当該重量比は、 1 〜： 10が好ましぐ 2〜7がより好ましぐ 3〜6がさらに好ましい。したがって、アルキル グリコシド/グリセリルエーテルの重量比は、より好ましくは 0· 5〜20、さらに好ましく は 0. 75〜20、さらにより好ましくは 0. 75〜： 17、さらにより好ましくは：!〜 10、さらによ り好ましくは 2〜7、さらにより好ましくは 3〜6である。

[0051] 《炭化水素化合物》

本発明に用いられる炭化水素化合物は、ォレフィン系炭化水素化合物および/ま たはパラフィン系炭化水素化合物が好ましレ、。ォレフィン系炭化水素化合物および ノ フィン系炭化水素化合物としては、炭素数 10〜18、好ましくは 10〜： 14の化合物 が好ましぐ例えば、デカン、ドデカン、テトラデカン、へキサデカン、ォクタデカン、デ セン、ドデセン、テトラデセン、へキサデセン、ォクタデセンなどの直鎖または分岐鎖 の飽和または不飽和の炭化水素化合物；シクロデカン、シクロドデセンなどのシクロ 化合物などの脂環式炭化水素化合物などが挙げられる。これらのうち、炭素数 10〜 18、好ましくは 10〜： 14の直鎖または分岐鎖の飽和または不飽和の炭化水素化合物 が好ましぐより好ましくはォレフイン系炭化水素化合物である。これらの炭化水素化 合物は、単独でまたは 2種以上を混合して用いてもょレ、。

[0052] また、本発明におレ、ては、前記ォレフィン系炭化水素化合物およびパラフィン系炭 化水素化合物に加えて、ノニルベンゼン、ドデシルベンゼンなどのアルキルベンゼン 、メチルナフタレン、ジメチルナフタレンなどのナフタレンィ匕合物などの芳香族炭化水 素化合物も使用することができる。

[0053] 液晶処理具の洗浄においては、本発明に用いられる炭化水素化合物は、炭素数 1 0〜： 18の化合物が好ましぐ例えば、デカン、ドデカン、テトラデカン、へキサデカン、 ォクタデカン、デセン、ドデセン、テトラデセン、へキサデセン、ォクタデセン等の直鎖 または分岐鎖の飽和または不飽和の炭化水素系溶剤；ノニルベンゼン、ドデシルべ ンゼン等のアルキルベンゼン、メチルナフタレン、ジメチルナフタレン等のナフタレン 化合物等の芳香族炭化水素系溶剤；シクロデカン、シクロドデセン等のシクロ化合物 等の脂環式炭化水素系溶剤等が挙げられる。これらのうち、炭素数 10〜： 18の直鎖 または分岐鎖の飽和または不飽和の炭化水素化合物が好まし より好ましいのは ォレフィン系炭化水素化合物またはパラフィン系炭化水素化合物が好ましぐ特に好 ましくはォレフイン系炭化水素化合物である。これらの炭化水素化合物は、単独でま たは 2種以上を混合して用いてもよい。

[0054] シリコーン処理具の洗浄においては、アルキルグリコシド、グリセリルエーテルおよ び炭化水素化合物の合計量に対する炭化水素化合物の割合は、炭化水素化合物 と水との分散を安定にさせ、高い洗浄性とすすぎ性を両立する観点から、浄剤組成 物から水を除いた成分中、 10〜50重量％が好ましぐ 15〜45重量％がより好ましく 、 17〜43重量％がさらに好ましぐ 20〜40重量％がさらにより好ましぐ 25〜35重 量％がさらにより好ましい。

[0055] 液晶処理具の洗浄にぉレ、ては、洗浄剤組成物における炭化水素化合物の含有量 は、高い除去性を得る観点から、 0.：!〜 80重量％が好ましぐ 0. 5〜50重量％がよ り好ましぐ液晶化合物に対する除去性とすすぎ性を両立する観点から:!〜 20重量 %がさらに好ましぐ 5〜20重量％が特に好ましい。

[0056] また、銅板の洗浄においては、アルキルグリコシド、グリセリルエーテルおよび炭化 水素化合物の合計量に対する炭化水素の割合は、炭化水素化合物と水との分散を 安定にさせ、高い洗浄性とすすぎ性を両立する観点から、 3〜50重量％が好ましぐ 5〜50重量％がより好ましぐ 7. 5〜50重量％がさらに好ましぐ 7. 5〜45重量％が さらにより好ましく、 10〜45重量％がさらにより好ましい。

[0057] 《好適な組み合わせ》

本発明における、アルキルグリコシド、グリセリルエーテルおよび炭化水素化合物の 好ましレ、組み合わせとしては、アルキルグリコシドがデシルポリグルコシドおよび/ま たはドデシルポリグルコシドであり、グリセリルエーテルが 2—ェチルへキシルグリセリ ルエーテルおよび/またはへキシルグリセリルエーテルであり、炭化水素化合物が デセン、ドデセン、テトラデセン、デカン、ドデカンおよびテトラデカンからなる群より選 択される少なくとも 1種である組み合わせが挙げられる。

[0058] 《グリコールエーテル》

本発明の洗浄剤組成物は、洗浄液の粘度を下げ、洗浄時の泡立ち性を抑制し、さ らには、洗浄直後のすすぎ時〔以下予備すすぎと呼ぶ〕の排水負荷を低減する観点 から、グリコールエーテルを含有することが好ましい。本発明の洗浄剤組成物がグリコ ールエーテルを含有する場合、特に、以下に示すような油水分離法を用いる場合、 分離特性を良好にする観点から、希釈せずに該組成物を使用することが好ましい。 本発明に用いられるグリコールエーテルとしては、エチレングリコールモノアルキル（ 炭素数：!〜 12)エーテル、ジエチレングリコールモノアルキル（炭素数:!〜 12)エーテ ル、トリエチレングリコールモノアルキル（炭素数 1〜 12)エーテル、ベンジルグリコー ル、ベンジルジグリコール、フエニルダリコール、プロピレングリコールまたはジプロピ レングリコールのモノアルキル（炭素数 1〜 12)エーテル、ジアルキルグリコール（炭 素数 2〜12)のモノアルキル（炭素数 1〜12)エーテルが挙げられ、中でも、エチレン グリコールモノへキシルエーテル、エチレングリコールモノ 2—ェチルへキシルエーテ ル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノへキシルェ ーテノレ、ジエチレングリコーノレモノ 2—ェチノレへキシノレエーテノレ、トリエチレングリコー ノレモノブチノレエーテノレ、ジプロピレングリコーノレモノブチノレエーテノレ、ジエチレングリ コールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジブチルエーテルが好ましく、 特許第 2539284号公報に記載のすすぎ液の排水負荷を低減する洗浄方法 (以下、 油水分離法と呼ぶ）を行う観点からは、ジエチレングリコールモノへキシルエーテル、 ジエチレングリコーノレモノ 2—ェチノレへキシノレエーテノレ、ジプロピレングリコーノレモノ ブチルエーテルおよびジエチレングリコールジブチルエーテルが特に好ましレ、。これ らのグリコールエーテルは、単独でまたは 2種以上を混合して用いてもよい。

[0059] シリコーン処理具の洗浄においては、グリコールエーテルの含有量は、洗浄剤組成 物の曇点を 30°C以上とし高温で洗浄し、かつ油水分離法を行う観点から、アルキル グリコシド、グリセリルエーテルおよび炭化水素化合物の合計の含有量を 100重量部 として、 10〜30重量部が好ましぐ 12〜28重量部がより好まし 15〜25重量部が さらに好ましぐ 18〜21重量部がさらにより好ましい。

[0060] 液晶処理具の洗浄においては、グリコールエーテルの含有量は、洗浄剤の曇点を 30°C以上とし高温で洗浄し、且つ油水分離法を行う観点から、洗浄剤組成物中、 0. 01〜40重量⁰ /。力好ましく、 0. 01〜30重量⁰/。力 Sより好ましく、 0. ：!〜 25重量⁰ /。がさ らに好ましぐ 0. 5〜20重量％が特に好ましぐ 0. 5〜： 15重量％が最も好ましい。

[0061] 銅板の洗浄においては、グリコールエーテルの含有量は、洗浄剤の曇点を 30°C以 上とし高温で洗浄し、かつ油水分離法を行う観点から、アルキルグリコシド、グリセリル エーテルおよび炭化水素の合計の含有量を 100重量部として、：!〜 70重量部が好ま しぐ 5〜50重量部がより好ましぐ 15〜40重量部がさらに好ましぐ 15〜36重量部 力 Sさらにより好ましい。

[0062] 《有機酸および無機酸》

本発明の洗浄剤組成物は、シリコーン処理具の洗浄においては、ァミノ変性シリコ ーンの除去性をより向上する観点から、さらに有機酸および/または無機酸を含有 することが好ましい。有機酸としては、グリコール酸、リンゴ酸、クェン酸、酒石酸、乳 酸などのヒドロキシ酸などが挙げられ、中でもグリコール酸が好ましい。無機酸として は、ホウ酸、ケィ酸などが挙げられる。これらの有機酸および無機酸は、単独でまた は 2種以上を混合して用いてもょレ、。

[0063] 有機酸または無機酸を単独で使用する場合は、各酸の含有量は、高レ、溶解性およ び除去性を維持する観点から、アルキルグリコシド、グリセリルエーテルおよび炭化水 素化合物の合計の含有量を 100重量部として、 0.：!〜 1重量部が好ましぐ 0.：!〜 0 . 5重量部がより好ましく、 0. 15〜0. 45重量部がさらに好ましく、 0. 2〜0. 4重量部 力 Sさらにより好ましい。また、有機酸または無機酸を 2種以上で使用する場合は、酸の 合計の含有量は、高い溶解性および除去性を維持する観点から、アルキルグリコシ ド、グリセリルエーテルおよび炭化水素化合物の合計の含有量を 100重量部として、 0.：!〜 1重量部が好ましぐ 0.：!〜 0. 5重量部がより好ましぐ 0. 15-0. 45重量部 力 Sさらに好ましぐ 0. 2〜0. 4重量部がさらにより好ましい。

[0064] 《無機酸塩およびべンゾトリアゾール誘導体》 本発明の洗浄剤組成物には、銅板の洗浄においては、無機酸塩および Zまたは ベンゾトリアゾール誘導体を含有させることができる。

[0065] 本発明に用いられる無機酸塩としては、オルソ珪酸ナトリウム、メタ珪酸ナトリウム、 セスキ珪酸ナトリウム（例えば、一号珪酸ナトリウム、二号珪酸ナトリウム、三号珪酸ナ トリウム）などの珪酸塩、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素ニナトリウム、リン酸三ナト リウム、ピロリン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、へキサメタリン酸ナトリウムなどの リン酸塩、炭酸ニナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸二カリウム、炭酸水素カリウム などの炭酸塩、ホウ酸ナトリウムなどのホウ酸塩などが挙げられ、中でも、オルソ珪酸 ナトリウム、メタ珪酸ナトリウムおよび炭酸ニナトリウムが好ましい。これらの無機酸塩 は、単独でまたは 2種以上を混合して用いてもょレ、。

[0066] 無機酸塩の含有量は、洗浄性および経済性の観点から、アルキルグリコシド、ダリ セリルエーテルおよび炭化水素の合計の含有量を 100重量部として、 0.：!〜 3重量 部が好ましぐ 0. 3〜2重量部がより好ましぐ 0. 5〜： 1. 5重量部がさらに好ましぐ 0 . 7〜1重量部がさらにより好ましい。

[0067] 《ベンゾトリアゾール誘導体》

本発明に用いられるベンゾトリアゾール誘導体としては、一般式：

[0068] [化 1]

〔式中、 R¹は— H、— CH OH、— CH (CO〇H) CH COOH、— CH— CH (〇H)

2 2 2

-CH〇H、一 CH CH (COOH) CH C〇〇H、一 CH N (C H OH) および一 CH

2 2 2 2 2 4 2

NH-CONH力 なる群より選択される 1つであり、 R²は一 Hまたは COOHであ

2 2

る〕 で表される化合物が挙げられる。中でも、洗浄液への溶解性および銅に対する防鲭 効果をさらに向上する観点から、一般式における R¹が _CH CH (COOH) CH CO

2 2

〇Hまたは _CH NH-CONHであり、 R²が _Hであるべンゾトリアゾール誘導体が

2 2

好ましい。

[0070] 前記一般式で表されるベンゾトリアゾール誘導体の具体例としては、 1， 2， 3 _ベン ゾトリァゾール、 1 _ (1 '， 2，一ジカルボキシェチル）ベンゾトリァゾール、 1 _ [N， N' —ビス（ヒドロキシェチル）アミノメチル]トリルトリァゾールなどが挙げられる。

[0071] ベンゾトリアゾール誘導体の含有量は、洗浄性および経済性の観点から、アルキル グリコシド、グリセリルエーテルおよび炭化水素の合計の含有量を 100重量部として、 0. 01〜0. 3重量咅カ S好ましく、 0. 03〜0. 2重量咅力 Sより好ましく、 0. 05〜0. 15 重量部がさらに好ましぐ 0. 07〜0. 1重量部がさらにより好ましい。

[0072] 《その他の成分》

本発明の洗浄剤組成物は、シリコーン処理具の洗浄においては、さらに、本発明の 効果を損なわない範囲で、洗浄剤組成物に通常用いられる、アルカリ剤、消泡剤、 他の界面活性剤、防腐剤、防鲭剤、 1一才クタノールなどの油水分離調整剤などを 含有してもよい。また、液晶処理具の洗浄においては、本発明の洗浄剤組成物には 、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じて、通常洗浄剤組成物に用いられ る、他の界面活性剤、防腐剤、防鲭剤、シリコーン等の消泡剤、 1 _ォクタノールなど の油水分離調整剤等を適宜併用することができる。

[0073] 《水》

本発明に用いられる水としては、特に限定はなぐイオン交換水、純水、脱イオン水 などが挙げられ、イオン交換水が好ましい。精密部品洗浄用途には純水が好ましぐ 冶工具類、金属、ガラス、陶磁器またはプラスチック洗浄用途にはイオン交換水が好 ましい。なお、純水とは、水道水を活性炭に通し、イオン交換処理し、さらに蒸留し、 必要に応じて所定のフィルターに通したものをいう。水の含有量は、本発明の洗浄剤 組成物の使用態様にあわせて適宜設定すればよい。

[0074] シリコーン処理具の洗浄においては、水の量は、以下のように調整される。

《態様 1》 例えば、本発明の洗浄剤組成物を水などの水性媒体で希釈してシリコーン処理具 の洗浄に用いる場合、水の含有量は、洗浄剤組成物が引火しないようにする観点お よび経済性の観点から、洗浄剤組成物中、 50〜98重量％が好まし 60〜98重量 %がより好ましぐ 70〜98重量％がさらに好まし 80〜98重量％がさらにより好ま しい。

[0075] 《態様 2》

あるいは、本発明の洗浄剤組成物をそのままシリコーン処理具の洗浄に用いる場 合、洗浄剤組成物における水の含有量は、使用時の排水負荷を低減する観点から、 洗浄剤組成物中、 20〜90重量％が好ましぐ 40〜80重量％がより好ましぐ 45〜7 5重量％がさらに好ましぐ 50〜70重量％がさらにより好ましい。

[0076] 液晶処理具の洗浄においては、水の含有量としては、洗浄剤組成物が引火しない ようにする観点およびすすぎ性を高める観点から、洗浄剤組成物中、 5〜95重量％ が好ましぐ 10〜95重量％がより好ましぐ 30〜90重量％がさらに好ましぐ 50-90 重量％が特に好ましぐ 60〜90重量％が最も好ましい。

[0077] 銅板の洗浄においては、水の量は、以下のように調整される。

《態様 1》

例えば、本発明の洗浄剤組成物を水などの水性媒体で希釈して銅板の洗浄に用 いる場合、水の含有量は、洗浄剤組成物が引火しないようにする観点および経済性 の観点から、洗浄剤組成物中、 20〜90重量％が好ましぐ 40〜80重量％がより好 ましぐ 45〜75重量％がさらに好ましぐ 50〜70重量％がさらにより好ましい。

[0078] 《態様 2》

あるいは、本発明の洗浄剤組成物をそのまま銅版の洗浄に用いる場合、水の含有 量は、使用時の排水負荷を低減する観点から、洗浄剤組成物中、 50〜99. 9重量 %が好ましぐ 80-99. 9重量％がより好ましぐ 85-99. 8重量％がさらに好ましく 、86〜99. 7重量⁰ /₀カさらにより好ましレヽ。

[0079] 〈く _PH》

銅板の洗浄においては、本発明の洗浄剤組成物の pHは、洗浄対象に応じて適宜 設定することができ、中でも、本発明の洗浄剤組成物を銅板表面に付着した圧延油 等の洗浄に用いる場合、洗浄後の銅板表面の洗浄性を向上させる観点から、 4〜： 12 であることが好ましぐ 7〜： 12がより好まし 9〜： 12がさらに好ましい。該 pHは、例え ば、塩酸、硝酸等の無機酸類、酢酸、クェン酸等の有機酸類、水酸化ナトリウム、水 酸化カリウム等の無機アルカリ類、モノエタノーノレアミン、ジエタノールァミン等の有機 アミン類等の pH調整剤を用いて、調整することができる。

[0080] 《調製方法》

以上の構成を有する本発明の洗浄剤組成物は、前記成分およびその他の成分な どを常法により混合することにより製造することができる。例えば、前記アルキルグリコ シド、前記グリセリルエーテル、前記炭化水素化合物および前記ダリコールエーテル を攪拌しながら混合し、さらに必要に応じてその他の成分を混合して、最後に水を添 加することで、製造することができる。

[0081] 《用途》

本発明の洗浄剤組成物は、シリコーン処理具の洗浄に適用することができる。また 、本発明の洗浄剤組成物は、すすぎ液の排水負荷を低減する油水分離法による洗 浄にも適用すること力 Sできる。以上のような洗浄に本発明の洗浄剤組成物を適用する ことにより、洗浄時間の短縮、省エネルギーなどの効果が奏される。したがって、本発 明はまた、前記洗浄剤組成物を用いるシリコーン処理具の洗浄方法に関する。

[0082] 本発明の洗浄剤組成物は、液晶処理具の洗浄に適用することができる。液晶処理 具の洗浄に本発明の洗浄剤組成物を適用することにより、洗浄時間の短縮、省エネ ルギ一の効果が奏される。したがって、本発明はまた、前記洗浄剤組成物を用いた 液晶処理具の洗浄方法に関する。

[0083] 本発明の洗浄剤組成物は、銅板の洗浄に適用することができる。例えば、本発明 の洗浄剤組成物は、精密部品、冶工具類、などの銅版の洗浄に適用することができ る。また、本発明の洗浄剤組成物は、低温での銅板の洗浄にも好適に適用すること ができ、特に銅板の連続洗浄、すなわち浸漬洗浄、スプレー洗浄、ブラシ洗浄、電解 洗浄などの製鉄所などにおける銅板の連続洗浄、すなわち、浸漬洗浄、シャワー洗 浄、浸漬超音波洗浄などにおいてその効果を発揮することができる。

[0084] ここで、塩化メチレンを用いた従来の液晶処理具の洗浄方法の具体例を簡単に説 明する。例えば、液晶混合後の 100Lステンレススチール (SUS)製配合槽に、 80L の塩化メチレンを投入し、常温で 30分間撹拌後廃液する。これを 3〜5回繰り返し、 その後 50〜80Lの水溶性溶剤（例えば、アセトンなど）を配合槽に投入し、常温で 3 0分間撹拌後廃液する。次いで、 80Lの純水を配合槽に投入し、 60°Cで 30分間撹 拌後廃液する。これを 10回繰り返すことで、所望の清浄性が得られる。

[0085] 《シリコーン処理具の洗浄方法》

本発明の洗浄方法は、前記洗浄剤組成物を用いてシリコーン処理具を洗浄するェ 程（以下、単に洗浄工程という場合がある）を含み、さらにシリコーン処理具に残存し てレ、る洗浄剤組成物の成分に可溶化したシリコーンおよびその混合物、および/ま たは洗浄剤組成物の成分を洗い流すためのすすぎ工程および乾燥工程を含むこと が好ましい。

[0086] 前記洗浄工程において、前記したように本発明の洗浄剤組成物をそのままシリコー ン処理具の洗浄に使用してもよいが、排水負荷の軽減の観点から、水などの水性媒 体、好ましくは水で、好ましくは 2〜20倍、より好ましくは 3〜： 15倍、さらに好ましくは 3 〜： 10倍に本発明の洗浄剤組成物を希釈してシリコーン処理具の洗浄に使用してもよ い。

[0087] 洗浄工程における洗浄温度は、シリコーン処理具に付着するシリコーンおよびその 混合物に対して十分な溶解性および除去性を発揮する観点から、好ましくは 40°C以 上、シリコーンおよびその混合物の粘度低減によって溶解性および除去性を向上す る観点から、より好ましくは 60°C以上である。また、洗浄温度は、水分の蒸発を抑制 する観点から、 90°C以下が好ましぐ 80°C以下がより好ましい。

[0088] 洗浄時間は、洗浄されるシリコーン処理具の種類および付着しているシリコーンお よびその混合物の量および種類によっても異なるので一概にはいえなレ、が、 30-60 分の洗浄時間でシリコーン処理具からシリコーンおよびその混合物が十分除去され る。

[0089] 洗浄手段としては、浸漬法、超音波洗浄法、浸漬揺動法、スプレー法、電解洗浄、 手拭き法等の各種の公知の洗浄手段が挙げられ、シリコーン処理具の種類にあわせ て、これらの手段を単独でまたは適宜組み合わせてシリコーン処理具を洗浄すること ができる。

[0090] 例えば、シリコーン処理具がシリコーン配合設備である場合、前記洗浄剤組成物そ のまま、または適当な倍率に水で希釈した洗浄剤組成物でシリコーン配合設備を満 たし、シリコーン配合設備に付帯している攪拌機を作動させてシリコーン配合設備を 洗浄する。なお攪拌装置の攪拌速度は、洗浄効果を高める意味で、設備内に乱流 が発生する速度以上であれば良レ、。

[0091] 一方、シリコーン処理具が治工具類である場合、前記洗浄剤組成物そのまま、また は適当な倍率に水で希釈した洗浄剤組成物を満たした洗浄槽に冶工具類を浸漬し 、超音波洗浄法、浸漬揺動法、または液中、気中スプレー法等各種の公知の洗浄方 法を単独または組み合わせて治工具類を洗浄する。

[0092] すすぎ工程は、洗浄工程が終了した後、洗浄剤組成物を廃棄し、シリコーン配合設 備に残存している洗浄剤組成物の成分に可溶化したシリコーンおよびその混合物、 および/または洗浄剤組成物の成分をシリコーン配合設備から取り除くため行われ る。乾燥工程は、すすぎ工程が終了した後、シリコーン処理具に残存している水分を 乾燥するために行われる。

[0093] 《液晶処理具の洗浄方法》

次に、本発明の洗浄剤組成物を用いた液晶処理具の洗浄方法の具体例を簡単に 説明する。例えば、液晶混合後の 100Lステンレススチール製配合槽に、 80Lの洗 浄剤組成物を投入し、 60°Cに昇温し、 30分間撹拌後廃液する。これを 2回繰り返し、 その後 80Lの純水を配合槽に投入し、 60°Cで 30分間撹拌後廃液する。これを 5回 繰り返すことで、所望の清浄性が得られる。

[0094] 上記のように、本発明の洗浄剤組成物を用いる液晶処理具の洗浄方法は、従来の 洗浄方法と比較して、工程数を減少することが可能なため洗浄時間を短縮することが できる。

[0095] 本発明の洗浄方法は、前記洗浄剤組成物を用いて液晶処理具を洗浄する工程（ 以下、単に洗浄工程という場合がある）を含み、さらに液晶処理具に付着した該組成 物の成分を洗レ、流すためのすすぎ工程および乾燥工程を含むことが好ましレ、。

[0096] 前記洗浄工程において、前記洗浄剤組成物は原液で用いられてもよいが、排水負 荷の軽減の観点から、好ましくは 2〜6倍、より好ましくは 3〜5倍に水で希釈して用い られる。

[0097] 洗浄工程における洗浄温度は、液晶処理具に付着する液晶化合物およびその他 の付着物に対して十分な除去性を発揮する観点から、好ましくは 40°C以上、液晶化 合物の粘度低減によって除去性を向上する観点から、より好ましくは 50°C以上、さら に好ましくは 60°C以上である。また、洗浄温度は、水分の蒸発を抑制する観点から、 90°C以下が好ましぐ 80°C以下がより好ましい。

[0098] 洗浄時間は、洗浄される液晶処理具の種類および付着してレ、る液晶化合物の量お よび種類によっても異なるので一概にはいえないが、 30〜60分の洗浄時間で液晶 処理具から液晶化合物が十分除去される。

[0099] 洗浄手段としては、浸漬法、超音波洗浄法、浸漬揺動法、スプレー法、電解洗浄、 手拭き法等の各種の公知の洗浄手段が挙げられ、液晶処理具の種類にあわせて、 これらの手段を単独でまたは適宜組み合わせて液晶処理具を洗浄することができる

[0100] 例えば、液晶処理具が液晶配合槽である場合、前記洗浄剤組成物の原液または 適当な倍率に水で希釈した洗浄剤組成物で液晶配合槽を満たし、液晶配合槽に付 帯してレ、る攪拌機を作動させて液晶配合槽を洗浄する。なお攪拌装置の攪拌速度 は、洗浄効果を高める意味で、槽内に乱流が発生する速度以上であれば良い。

[0101] 一方、液晶処理具が治工具類である場合、前記洗浄剤組成物の原液または適当 な倍率に水で希釈した洗浄剤組成物を満たした洗浄槽に冶工具類を浸漬し、超音 波洗浄法、浸漬揺動法、または液中、気中スプレー法等各種の公知の洗浄方法を 単独または組み合わせて治工具類を洗浄する。

[0102] すすぎ工程は、洗浄工程が終了した後、洗浄剤組成物を廃棄し、液晶配合槽に残 存している洗浄剤組成物の成分に可溶化した液晶化合物および/または洗浄剤組 成物の成分を液晶配合槽から取り除くため行われる。

[0103] すすぎ工程において、環境への負荷を低減する観点から、水を使用することが好ま しい。

[0104] すすぎ工程におけるすすぎ温度は、洗浄剤組成物に可溶化した液晶化合物およ び Zまたは洗浄剤組成物の成分を水に分散させやすい観点から、好ましくは 30°C 以上、より好ましくは 40°C以上、さらに好ましくは 50°C以上であり、省エネルギーの観 点から、好ましくは 90°C以下、より好ましくは 80°C以下である。

[0105] すすぎ時間および回数は、液晶処理具に残存している洗浄剤組成物に可溶化し た液晶化合物および/または洗浄剤組成物の成分の量によっても異なるのでー概 にはいえないが、液晶配合槽では 30〜60分を 4〜6回、冶工具類では 5〜： 10分を 4 〜6回行うことにより十分残存物質を除去することができる。

[0106] すすぎ手段としては、洗浄手段と同様の手段を用いることができる。

[0107] 例えば、液晶処理具が液晶配合槽である場合、洗浄剤組成物の代わりに水を用い ること以外は前記洗浄工程と同様にすすぎ工程を行うことができる。一方、液晶処理 具が治工具類である場合も、洗浄剤組成物の代わりに水を用いること以外は前記洗 浄工程と同様にすすぎ工程を行うことができる。

[0108] 乾燥工程における乾燥温度および時間は、液晶処理具に残存してレ、る水分を乾 燥できれば特に限定されないが、通常 40〜： 110°Cで 0.：!〜 1時間乾燥が行われる。

[0109] 本発明の洗浄剤組成物が従来の塩化メチレンなどの溶剤よりも、少なレ、洗浄、すす ぎ回数で所定の洗浄性が得られる理由として、以下のように推定される。

[0110] 溶剤は混合槽に残留する液晶を溶解するが、廃液時、必ず槽表面に液晶溶液が 一定量残留し、その残留量は投入された溶剤量に依存する。この残留した液晶に対 し、また新たな溶剤を投入し溶解しても、廃液時には低濃度になった液晶溶液がまた 残留するため、完全に液晶を除去することはできない。それゆえ、所定の洗浄性を得 るためには、複数回の洗浄が必要となり、特に高度な洗浄性が要求される場合には、 その洗浄回数は大幅に増加する。

[0111] 一方、本発明の洗浄剤組成物では溶液構造が水相と油相の連続相からなる、いわ ゆるバイコンティニァス構造になっていると推定され、その洗浄'すすぎ機構は以下の ように推定される。

[0112] 洗浄は本発明の洗浄剤組成物における炭化水素化合物からなる連続相が液晶に 接触、溶解することでなされる。液晶が炭化水素化合物に取込まれると同時に、油相 と親水性のガラス、或いは金属表面の間に水相が浸透、接触する。一度水相で濡れ た面は、液晶を含む油相に対し濡れに《なるので、液晶の再付着はほとんど発生し ないと思われる。洗浄の過程で液晶は、ほぼ油相に取込まれるので、槽表面のほと んどが親水面になり、水相で濡れた状態になっていると考えられる。廃液時、ほとん どの液晶は油相に溶解した状態で排出されるものの、洗浄液の一部は槽壁面に残 留するため、この洗浄液の油相には液晶が残留している。

[0113] し力 次いですすぎ用の水を投入すると、洗浄液の水相部はすすぎ水で希釈され 、水相の体積比率が油相に対して大幅に大きくなるため、液晶を含有する油相部分 は連続相を維持できなくなる。その結果、溶液構造は安定な〇/W型マイクロエマル シヨンに変化すると考えられる。このマイクロエマルシヨン構造では、油相が水相中に 安定して存在するため、さらに再付着はできなくなる。もはや、壁面の表面には液晶 のみならず油相すら残留できなくなり、少ないすすぎにより、所定の洗浄性を得ること ができる。

[0114] また、本発明の洗浄剤組成物は、すすぎ液の排水負荷を低減する油水分離法によ る洗净に用いることちでさる。

[0115] さらに、本発明の洗浄剤組成物は、液晶処理具だけではなぐ香料、色材など精密 な洗浄を必要とする分野でも使用することができる。

[0116] 《銅板の洗浄方法》

本発明の洗浄方法は、前記洗浄剤組成物を用レ、て銅板を洗浄する工程 (以下、単 に洗浄工程という場合がある）を含み、さらに銅板に残存している洗浄剤組成物の成 分に可溶化した汚れおよび Zまたは洗浄剤組成物の成分を洗い流すためのすすぎ 工程および乾燥工程を含むことが好ましレ、。

[0117] 前記洗浄工程において、前記したように本発明の洗浄剤組成物をそのまま銅板の 洗浄に使用してもよいが、排水負荷の軽減の観点から、水などの水性媒体、好ましく は水で、好ましくは 1〜： 10倍、より好ましくは 2〜8倍、さらに好ましくは 3〜6倍に本発 明の洗浄剤組成物を希釈して銅板の洗浄に使用してもよい。また、銅板の洗浄に本 発明の洗浄剤組成物を使用する場合は、水などの水性媒体、好ましくは水で、好ま しくは 5〜50倍、より好ましくは 10〜30倍、さらに好ましくは 15〜20倍に洗浄剤組成 物を希釈して銅板の洗浄に使用してもよい。 [0118] また、洗浄工程において、安定した溶解性および除去性を得る観点から、以下の 標準試験による pH変化力 S1以下である本発明の洗浄剤組成物を使用することが好 ましぐ 0. 5以下である洗浄剤組成物を使用することがより好ましい。なお、標準試験 における pHの校正方法は、 JIS Z8802に基づく。

〈標準試験〉

(1)洗浄剤組成物に純水（pH = 6〜7、 1 μ S/cm以下）を加えて 10重量％水溶液 を調製し、この水溶液の 25°Cにおける pHを測定する。

(2) (1)で調製した水溶液 lOOmLを lOOOmLガラス容器に 60°Cにて 21日間密閉 保管する。なお、保管中は、 24時間ごとに栓を外してガラス容器を 1分間 60°Cで放 置後、再度栓をして、ガラス容器を 5回振とうする。

(3) (2)における保管終了後、保管後の水溶液の 25°Cにおける pHを測定する。

(4) (1)で測定した pHと（3)で測定した pHとの差の絶対値を求め、その値を pH変化 とする。

[0119] 洗浄工程における洗浄温度は、硬質表面に付着する汚れに対して十分な溶解性 および除去性を発揮する観点から、好ましくは 40°C以上、より好ましくは 60°C以上で ある。また、洗浄温度は、水分の蒸発を抑制する観点から、 90°C以下が好ましぐ 80 °C以下がより好ましい。

[0120] 洗浄時間は、洗浄される硬質部材の種類および付着している汚れの量および種類 によっても異なるので一概にはいえなレ、が、 30〜60分の洗浄時間で硬質表面から 汚れが十分除去される。

[0121] 洗浄手段としては、浸漬法、超音波洗浄法、浸漬揺動法、スプレー法、電解洗浄、 手拭き法等の各種の公知の洗浄手段が挙げられ、硬質部材の種類にあわせて、こ れらの手段を単独でまたは適宜組み合わせて硬質表面を洗浄することができる。

[0122] すすぎ工程は、洗浄工程が終了した後、洗浄剤組成物を廃棄し、硬質表面に残存 している洗浄剤組成物の成分に可溶化した汚れおよび/または洗浄剤組成物の成 分を硬質表面から取り除くため行われる。乾燥工程は、すすぎ工程が終了した後、硬 質表面に残存してレ、る水分を乾燥するために行われる。

[0123] また、本発明の洗浄剤組成物は、すすぎ液の排水負荷を低減する油水分離法によ る洗净に用レ、ることちでさる。

[0124] 本発明の組成物では溶液構造が水相と油相の連続相からなる、いわゆるバイコン ティニァス構造になってレ、ると推定され、その洗浄 ·すすぎ機構は以下のように推定さ れる。

[0125] 洗浄は本発明の組成物における炭化水素化合物成分からなる連続相がシリコーン およびその混合物、液晶及びその混合物、油成分、フラックス等に接触、溶解するこ とでなされる。シリコーンおよびその混合物が炭化水素化合物成分に取込まれると同 時に、油相と親水性の金属表面の間に水相が浸透、接触する。一度水相で濡れた 面は、シリコーンおよびその混合物を含む油相に対し濡れにくくなるので、シリコーン およびその混合物の再付着はほとんど発生しないと思われる。洗浄の過程でシリコー ンおよびその混合物は、ほぼ油相に取込まれるので、設備などの表面のほとんどが 親水面になり、水相で濡れた状態になっていると考えられる。廃液時、ほとんどのシリ コーンおよびその混合物は油相に溶解した状態で排出されるものの、洗浄液の一部 は設備などの壁面に残留するため、この洗浄液の油相にはシリコーンおよびその混 合物が残留している。

[0126] し力し次いですすぎ用の水を投入すると、洗浄液の水相部はすすぎ水で希釈され 、水相の体積比率が油相に対して大幅に大きくなるため、シリコーンおよびその混合 物を含有する油相部分は連続相を維持できなくなる。その結果、溶液構造は安定な 〇/W型マイクロエマルシヨンに変化すると考えられる。このマイクロエマルシヨン構造 では、油相が水相中に安定して存在するため、さらに再付着はできなくなる。もはや、 壁面の表面にはシリコーンおよびその混合物のみならず油相すら残留できなくなり、 少ないすすぎにより、所定の洗浄性を得ることができる。

実施例

[0127] 実施例 I

《SUS製カップの洗浄性》

1.試験カップの作製

以下の組成の変性シリコーン 1. 5gを 500ml SUS製カップに塗り、試験カップとし [0128] [表 1]

〈変性シリコーンの組成〉

[0129] 2.洗浄剤組成物の調製

表 2に示す組成となるように、各成分を添加混合し、実施例 1および 5ならびに比較 例 1および 2の洗浄剤組成物をそれぞれ調製した。なお表中の組成はすべて重量％ である。

[0130] 上記で調製した実施例 1の洗浄剤組成物を純水を用いて 3倍および 10倍に希釈し てそれぞれ実施例 2および 3の洗浄剤組成物を調製した。また、アルキルグリコシド 2 6. 7重量⁰ /₀、 2 _ェチノレへキシノレク、'リセリノレエーテノレ 6. 7重量⁰ /₀、 1 _ドデセン 16. 6 重量％、グリコール酸 0. 15重量％および純水 49. 85重量％の洗浄剤組成物を調 製し、さらに純水を用いて 3倍に希釈して実施例 4の洗浄剤組成物を調製した。なお 、希釈後の洗浄剤組成物中の各成分の組成は表 2の通りである。

[0131] 3.洗浄試験

1.で作製した試験カップに 2.で調製した洗浄剤組成物 150gを入れ、 60°Cで 30 分撹拌した後、洗浄剤組成物を廃棄した。次いで、洗浄後のカップに 60°Cのイオン 交換水 150gを入れ、 30分間撹拌した後、すすぎ液を廃棄した。このすすぎ操作を 3 回行い、 100°Cの熱風乾燥機で 40分間乾燥を行レ、観察カップとした。

[0132] 〔洗浄性〕

観察カップに残留するシリコーンを計量し、除去性を評価した。その結果を表 2に示 す。なお、残留するシリコーンの重量は、シリコーン塗布前のカップ重量、試験カップ のカップ重量および観察カップのカップ重量から求めた。

[0133] [表 2] 実施例 比較例 組成 （重量％)

1 2 3 4 5 1 2 アルキルポリグルコシド" 26.7 8.90" 2.67'² 8.90" 16.5 - -

2 - 1チル Λキシルゲリセリル I-テ 6.7 2.23" 0.67^,! 2.23" 4 - -

1-ドデセン 16.6 5.53" 1.66" 5.53" 12 - - エチレンク'リコ-ルモハキシル I-テル - - - - 5.9 - - トリエチレンゲリコ-ルモノフ'チルエ-テル - - 一 - 2 - - グリコール酸 - - - 0.05'² 一 - 一

1-才クタノール - 一 - - 0.1 - 一 ドテ'シルへ'ンセ'ンスル本ン酸ナトリウム - - - - - 15 5 純水 50.0 95.0'² 83.29" 59.5 85 95 残留シリコーン （％〉 1.3 2.6" 4.9" 0.1" 1.5 39.5 53.7

*1： 一般式（1)において =平均炭素数 .3の直鎖アルキル基、 x-O, y=1.3、 G=グルコース残基

*2：希釈後の組成物の組成である。

*3：希釈後の組成物を用いた結果である。

[0134] 表 2の結果から、実施例:!〜 5の洗浄剤組成物は比較例 1および 2の洗浄剤組成物 と比較して明らかにシリコーンに対する溶解性および除去性に優れることがわかる。

[0135] 実施例 II

実施例：!〜 2および比較例 1

表 3に示す組成となるように、各成分を添加混合し、実施例:!〜 2および比較例 1の 洗浄剤組成物をそれぞれ調製した。

[0136] [表 3]

*： R ¹ G 1. 3 (式中、 R ¹は平均炭素数 1 1. 3の直鎖アルキル基であり

Gはグルコース残基である） で表されるアルキルグリコシド。

[0137] 試験例 1 除去性の評価

500ml SUS製カップに TFT用液晶 1.5gを量り取り、次いで実施例 1または比較 例 1で調製した洗浄剤組成物 150mlを入れ、それぞれ 60°Cまたは 25°Cで 30分撹 拌した後、洗浄剤組成物を廃棄した。次いで、洗浄後のカップにイオン交換水 150m 1を入れ、 60°Cで 10分間撹拌した後、すすぎ液を廃棄した。このすすぎ操作を 3回行 レ、、すすぎ後のカップに残留する有機分を測定し、その結果を表 4に示す。なお、有 機分の測定は、専用溶媒 S— 316 (堀場製作所社製） 200mlですすぎ後のカップ内 を洗い流し、該溶媒に溶解した有機分濃度を油分濃度計 (堀場製作所社製、 OCM A— 220)にて測定した。

[表 4]

[0139] 表 4の結果から、実施例 1の洗浄剤組成物は比較例 1の洗浄剤組成物と比較して 明らかに液晶化合物に対する除去性に優れることがわかる。

[0140] 試験例 2 すすぎ性の評価

100mlガラス製サンプル瓶に TFT用液晶 0. 5gを量り取り、次いで実施例:!〜 2ま たは比較例 1で調製した洗浄剤組成物 20mlを入れ、 30秒保持した後、 10回振盪し て洗浄し、洗浄剤組成物を廃棄した。次いで、洗浄後のサンプル瓶にイオン交換水 5 Omlを入れ、 10回振盪してすすぎをおこなレ、、すすぎ液を廃棄した。このすすぎ操作 を 1〜4回（すすぎ:!〜 4)行い、すすぎ後のサンプル瓶に残留する有機分を測定し、 その結果を表 5に示す。なお、有機分の測定は、専用溶媒 S— 316 (堀場製作所社 製） 100mlで各すすぎ後のサンプノレ瓶内を洗い流し、該溶媒に溶解した有機分濃度 を油分濃度計 (堀場製作所社製、 OCMA- 220)にて測定した。なお、洗浄および すすぎは液温 35°Cで行つた。

[0141] 5] 実施例 1 実施例 2 比較例 1

すすぎ 1後 0.33 0.25 0.52

有機分《度 すすぎ 2後 0.02 0 0.41

(PPm) すすぎ 3後 0 0 0.33

すすぎ 4後 0 0 0.20

[0142] 表 5の結果から、実施例 1および 2の洗浄剤組成物は比較例に対しすすぎ 2以降で 急激に残留有機分濃度が減少し、すすぎを非常に簡便に行うことができることがわか る。

[0143] 実施例 III

《銅板表面の洗浄性》

1.試験銅板の作製

厚さ lmmに冷間圧延された、付着油分量 70mg/m²の銅板を縦 35mm X横 120 mmの大きさに切断して試験銅板とした。

[0144] 2.洗浄剤組成物の調製

表 6に示す組成となるように、各成分を添加混合し、実施例：!〜 10および比較例 1 〜4の洗浄剤組成物をそれぞれ調製した。なお、実施例：!〜 10の洗浄剤組成物は 表 6に示す組成となるように、各成分を添加混合して調製した後、イオン交換水で 4 倍に希釈して次の 3.洗浄試験に用いた。

[0145] 3.洗浄試験

2.で調製した洗浄剤組成物を 50°Cに加温し、その中に 1.で作製した試験銅板を 浸漬し、 30秒間超音波洗浄（25kHz、 600W)した。次いで、 50°Cに加温したイオン 交換水中で、この銅板を 2〜3秒間揺動した。その後、試験銅板を 25°Cの水道水で 3 0秒間シャワーし、次いで 25°Cのクェン酸 5重量％水溶液中に 10秒間浸漬した。さら にその後、試験銅板を 25°Cの水道水で 30秒間シャワーし、次いで 25°Cのイオン交 換水中に 5秒間浸漬した。最後に、試験銅板上に残留している水滴をエアブローす ることで吹き飛ばし、試験銅板を 90°Cの熱風乾燥機で 10分間乾燥し、観察サンプノレ とした。

[0146] 〔洗浄性〕 観察サンプルを 5等分し、各観察サンプルの銅板付着油分量を油分量測定装置「 EMIA- l l lj ( (株)堀場製作所製)を用い測定し、 5枚の平均を測定値とした。その 値が lOmgZm²未満であれば合格として評価した。その結果を表 6に示す。

[0147] 〔鲭または油性シミの発生〕

観察サンプルを目視にて確認し、鲭または油性シミの発生の有無を確認し、以下の 評価基準に従い評価した。その結果を表 6に示す。なお、いずれの項目も◎または 〇のものを合格とした。

〔評価基準〕

◎：鲭または油性シミの発生なし

〇：鲭または油性シミの発生をかすかに認める

△：明らかな鲭または油性シミの発生を 1点認める

X：明らかな鲭または油性シミの発生を複数点認める

[0148] [表 6]

.逢^〔〕 S¾¾室lj逐室y ¾^ ^一id fdQ l7 l4〜〜

1 ) —般式 （1 ) において、 1^=平均炭素数1 1. 3の直鎮アルキル基、

2) 4倍希釈した後の洗浄剤組成物の評価

3)重量¹ ½

得られたものよりも、銅板の洗浄性、防鲭効果およびシミ防止に優れることがわかる。 また、実施例 8〜： 10の結果より、油性シミの発生を防止する観点からは、洗浄剤組成 物の pH力 〜； 12であることが好ましぐ 7〜12がより好ましぐ 9〜： 12がさらに好まし いことがわかる。

[0150] 〈く pH安定性》

1.洗浄剤組成物の調製

表 7に示す組成となるように、各成分を添加混合し、実施例 11および比較例 5〜6 の洗浄剤組成物をそれぞれ調製した。

[0151] 2. pH安定性試験

前記標準試験に従って pH変化を測定した。その結果を表 7に示す。

[0152] [表 7]

x = 0、 y = 1 . 3、 G =グルコース残基

[0153] 表 7の結果より、実施例 11で得られた洗浄剤組成物の標準試験による pH変化は 1 以下であり、比較例 5〜6で得られた洗浄剤組成物の標準試験による pH変化は 1を 超えていることがわかり、本発明の洗浄剤組成物は、各種汚れに対して長期間安定 して優れた溶解性および除去性を維持できると考えられる。

[0154] 《油水分離性》

1.洗浄剤組成物の調製 表 9に示す組成となるように、各成分を添加混合し、実施例 12および 13の洗浄剤 組成物をそれぞれ調製した。

[0155] 表 9に示される洗浄剤組成物の特性は、以下の方法によって評価した。

《洗浄性》

1.試験基板の作製

液晶セル（ギャップ間距離 5 μ m)のギャップ内に TFT (薄膜トランジスター）液晶を 封入し、室温で 30分間静置したものを試験基板とした。

[0156] 2.洗浄試験

洗浄剤組成物を 40°Cに加温し、その中に 1.で作製した試験基板を入れ、 10分間 超音波洗浄し（39kHz、 200W)、その後、 4槽の各純水槽 (40°C)にて 3分間すすぎ を行なった後、 90°Cの熱風乾燥機で 30分間乾燥を行い、観察サンプノレとした。

[0157] 〔洗浄性〕

観察サンプルのギャップ内に残留している液晶、ならびにすすぎ時に十分に排出さ れなかった液晶と洗浄剤組成物との混合物を偏光顕微鏡 (倍率 25倍）で観察し、液 晶セル表面の洗浄性を評価した。洗浄性の評価は、観察したギャップの全面積から 液晶および液晶と洗浄剤組成物との混合物が残留した箇所の全面積を引いた面積 を、観察したギャップの全面積で除した値を算出し、その値を元に以下の評価基準 に従って評価した。

〔評価基準〕

◎ : 90%以上

〇： 80%以上 90%未満

△ : 40%以上 80%未満

X : 40%未満

[0158] 《繰り返し洗浄性》

洗浄剤組成物の繰り返し洗浄性を評価するために液晶飽和溶解濃度を調べた。洗 浄剤組成物 20gを 40°Cに加温し、その中に TFT液晶を 0. 02g添カ卩し、 3分間 40°C で保持した。その後、洗浄剤組成物を目視にて確認し、透明であれば TFT液晶が溶 解したものと判断して、洗浄剤組成物が白濁するまで同じ操作を繰り返した。洗浄液 組成物が初めて白濁した液晶量から 0. Olgを差し引いた量力 飽和溶解濃度を算 出し、液晶飽和溶解濃度と定義した。

[0159] 例えば、 TFT液晶を 0. 24g加えた際に初めて白濁したと仮定すると、液晶飽和溶 角军濃度は、 (0. 24-0. 01) / (20 + 0. 24-0. 01) X 100で算出される。 教 晶飽和溶解濃度を用レ、、下記評価基準に基づいて繰り返し洗浄性を評価した。その 結果を表 1および表 2に示す。なお、◎または〇のものを合格とした。

〔評価基準〕

◎ : 2%以上

〇：1%以上〜 2%未満

△ : 0. 5%以上〜 1%未満

X : 0. 5%未満

[0160] 《すすぎ性》

(1)すすぎ水評価

すすぎ後のすすぎ水の状態を評価するために、各洗浄剤組成物の 5重量％水溶 液を予備すすぎ液、また各洗浄剤組成物の 0. 5重量％水溶液をすすぎ液と見なし て調製し、 60°Cでのこれら予備すすぎ液およびすすぎ液の状態を目視にて白濁して いるか否かについて観察し、すすぎ水の評価とした。なお、少なくともすすぎ液が白 濁してレ、なければ合格とした。

[0161] (2)すすぎ性評価

〈1〉 各洗浄剤組成物の 10重量％水溶液（500g)を 60°Cに加温し、その中に:!枚あ たり TFT液晶が 0. 2mg付着したガラスパネル（35 X 48mm)を 18枚 10分間浸漬し た。

〈2〉 その後、 20秒力 ナノ ネノレをゆっくり引上げ、 60。Cの純水 500gを入れた第 1す すぎ槽に 2分間浸漬した。

〈3〉 第 1すすぎ槽から〈2〉と同様にパネルを引上げ、 60°Cの純水 500gを入れた第 2すすぎ槽に 2分間浸漬した。

〈4〉 第 2すすぎ槽から〈2〉と同様にパネルを引上げ、 70°Cの純水 500gを入れた抽 出槽 (超音波槽）に浸漬し、超音波（38KHz、 400W)で 10分間処理し、パネル表面 に残存した洗浄剤組成物の成分に可溶化した液晶および zまたは洗浄剤組成物の 成分を抽出した。

〈5〉 次に各すすぎ槽 (第 1および第 2)中のすすぎ水ならびに抽出槽中の抽出水の 有機物濃度を TOC (全有機炭素計）により測定し、下式に従って、第 1すすぎ槽にお ける油分除去率を算出した。

式:第 1すすぎ槽における油分除去率（％) =

(第 1すすぎ槽中のすすぎ水の有機物重量) Z (第 1すすぎ槽中のすすぎ水の有機 物重量 +第 2すすぎ槽中のすすぎ水の有機物重量 +抽出槽中の抽出水の有機物 重量） X 100

〈6〉 〈5〉で算出した油分除去率を元に以下の評価基準に従ってすすぎ性を評価し た。その結果を表 1および表 2に示す。なお、◎または〇のものを合格とした。

〔評価基準〕

◎：第 1すすぎ槽の油分除去率が 90%以上

〇：第 1すすぎ槽の油分除去率が 70%以上〜 90%未満

△：第 1すすぎ槽の油分除去率が 50%以上〜 70%未満

X：第 1すすぎ槽の油分除去率が 50%未満

[0162] 〔油水分離性〕

各洗浄剤組成物について、水以外の成分が 5重量％となるようにイオン交換水で希 釈した洗浄剤組成物溶液を、直径 40mm、高さ 120mm、容量 100mlのガラス瓶に 入れ、 60°Cの雰囲気下にて 1時間保温静置した。その後、各洗浄剤組成物溶液の 状態 1を観察し、該溶液が上下 2層に分層している場合は、ガラス瓶を上下して激しく 振ることにより該溶液を 10秒撹拌してさらに状態 2を観察した。当該観察結果を表 8 に示す評価基準に従って評価した。その結果を表 9に示す。なお、いずれの項目も ◎または〇のものを合格とした。

〔評価基準〕

[0163] [表 8] 評価 状態 1 状態 2

◎ 上下 2層に分層 攪拌終了後 2分未満に上下 2層に分層する

〇 上下 2層に分 S 授拌終了後 2分以上 5分以内に上下 2Sに分層する 厶 上下 2層に分層 t拌終了後 5分以内に上下 2層に分層しない

X 上下 2層に分 ¾しない 一

[表 9]

*) 一般式： R¹ (OR²) _xG_yにおいて、 R'=平均炭素数 11.3の直鎖アルキル基、

x=0、 y=1.3、 G=グルコース残基

1) 日本触媒 (株)製 ソフタノール 500 表 9の結果より、実施例 12および 13の洗浄剤組成物は油水分離性に優れているこ とが分かる。このこと力 、本発明の洗浄剤組成物は、油水分離により油分を除去す ることで排水負荷を低減することができると考えられる。

産業上の利用可能性 本発明の洗浄剤組成物は、洗浄の困難なシリコーンと接触したシリコーン処理具の 洗浄に使用することができる。また、本発明の洗浄剤組成物は、極めて高度な清浄 度が求められる液晶処理具の洗浄に利用することができる。さらに、本発明の洗浄剤 組成物は、例えば、精密部品、冶工具類などに使用される銅板の洗浄に好適に使用 すること力 Sできる。

Claims

請求の範囲

[I] アルキルグリコシド、グリセリルエーテル、炭化水素化合物および水を含有する洗浄 剤組成物。

[2] 炭化水素化合物が炭素数 10〜： 18の化合物である請求項 1記載の洗浄剤組成物。

[3] さらにグリコールエーテルを含む請求項 1または 2記載の洗浄剤組成物。

[4] さらに有機酸および/または無機酸を含む請求項 1〜3いずれか記載の洗浄剤組 成物。

[5] その用途がシリコーン処理具である請求項 1〜4いずれか記載の洗浄剤組成物。

[6] アルキルグリコシド、グリセリルエーテルおよび炭化水素化合物の合計量に対する 各成分の割合が、ァノレキルグリコシド 20〜80重量⁰ /₀、グリセリルエーテル 2〜30重 量％および炭化水素化合物 10〜50重量％である請求項 5記載の洗浄剤組成物。

[7] アルキルグリコシド/グリセリルエーテルの重量比が 2. 7〜10である請求項 5また は 6記載の洗浄剤組成物。

[8] その用途が液晶処理具である請求項 1〜6いずれか記載の洗浄剤組成物。

[9] アルキルグリコシド/グリセリルエーテルの重量比が 1〜： 10である請求項 8記載の 洗浄剤組成物。

[10] 洗浄剤組成物が、アルキルグリコシド 1〜80重量％、グリセリルエーテル 0. 2〜80 重量％、炭化水素化合物 0.：!〜 80重量％および水 5〜95重量％を含有する請求 項 8または 9記載の洗浄剤組成物。

[I I] その用途が銅板である請求項 1〜4いずれか記載の洗浄剤組成物。

[12] アルキルグリコシド、グリセリルエーテルおよび炭化水素の合計量に対する各成分 の割合が、アルキルグリコシド 20〜80重量％、グリセリルエーテル 2〜70重量％、炭 化水素 3〜 50重量％である請求項 11記載の洗浄剤組成物。

[13] pH力 ¾〜： 12である請求項 11または 12記載の洗浄剤組成物。

[14] さらに、無機酸塩および/またはベンゾトリアゾール誘導体を含有する請求項 11〜

13レ、ずれか記載の洗浄剤組成物。

[15] 請求項 1〜7いずれか記載の洗浄剤組成物でシリコーン処理具を洗浄するシリコー ン処理具の洗浄方法。

[16] 請求項 1〜4および 8〜： 10いずれか記載の洗浄剤組成物で液晶処理具を洗浄す る液晶処理具の洗浄方法。

[17] 請求項 1〜4および 11〜： 14いずれか記載の洗浄剤組成物で銅板を洗浄する銅板 の洗浄方法。