WO2006049302A1

WO2006049302A1 - 液処理装置及びその運転方法

Info

Publication number: WO2006049302A1
Application number: PCT/JP2005/020459
Authority: WO
Inventors: Yuji Kamikawa
Original assignee: Tokyo Electron Limited
Priority date: 2004-11-08
Filing date: 2005-11-08
Publication date: 2006-05-11
Also published as: JP4451451B2; JPWO2006049302A1

Abstract

　ウエハＷは、ウエハ保持体３０により保持された状態で回転しながら、処理液で満たされた処理容器１０内で洗浄される。ウエハ保持体３０に結合された回転軸２１は、軸ハウジング２２内に収容されている。軸ハウジング２２と回転軸２１との間の隙間をシールする第１のシール構造２４及び可変式の第２のシール構造２６が設けられている。処理容器１０内でウエハＷの液処理が行われているとき、第２のシール構造２６は非シール状態にある。処理容器１０内でウエハＷの乾燥処理が行われるときに、第２のシール構造２６はシール状態とされ、第１のシール構造２４と第２のシール構造２６との間の中間空間２６ｄが洗浄及び乾燥される。次の液処理が実施されるときに、中間空間２６ｄ内の残留物により処理液が汚染されることはない。

Description

明細書

液処理装置及びその運転方法

技術分野

[0001] 本発明は、半導体ウェハ及び LCD用ガラス基板等の被処理体に処理液を供給して処理を施す液処理装置に係り、特にその回転機構のシール構造に関する。本発明は、更に液処理装置の運転方法に関する。

背景技術

[0002] 一般に、半導体製造装置の製造工程においては、半導体ウェハ及び LCD用ガラス基板等の被処理体を処理槽内に収容し、処理槽に薬液及びリンス液等の処理液を供給しつつ被処理体を処理液中に浸漬した状態で、被処理体に処理を施す液処理方法が広く採用されている。

[0003] このような液処理方法を実施する液処理装置の一例が日本国特許公開公幸 gJP 10 — 223585Aに開示されている。この液処理装置は、処理液が貯留された処理槽内で複数の被処理体の下部を支持して当該被処理体を起立状態で回転させる複数の回転ロッドを備えている。回転ロッドの 1つは、クランク及び連結ロッドを有する動力伝達機構を介してモータに接続されている。他の回転ロッドは駆動力伝達ギアを介して前記 1つの連結ロッドに接続され、全ての回転ロッドが各々の中心軸線を中心同一方向に回転する。これにより、回転ロッドに接する被処理体は回転ロッド上を転動する。

[0004] し力、しながら、 JP10— 223585Aに開示された液処理装置においては、駆動力伝達ギアが処理槽内で処理液に晒されているため、ギアの摩耗によるパーティクルが処理液中に拡散するおそれがある。また、処理液に晒されている回転ロッドと被処理体との接触面においてもパーティクルが発生するおそれがある。

[0005] JP10— 223585Aには明記されていなレ、が、回転ロッドの両端は軸受けにより回転自在に支持されているものと考えられる。この場合、軸受けへの処理液の侵入を防止して軸受けを処理液力保護するためにシール部材が配設されるであろう。しかし、回転軸をその回転を許容しつつシールする動的シール部材では、完全なシールは困難である。このため、シール部材と回転ロッドの間の隙間或いは軸受けまで処理液が侵入する場合がある。この侵入した処理液は、後に処理槽内に逆流して処理槽内の処理液を汚染するおそれがある。また、軸受け部分で生じたパーティクルが逆流する処理液とともに処理槽内に侵入するおそれがある。

発明の開示

[0006] 本発明は上記の実情に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、被処理体の保持体の回転軸の軸受け部分に発生するパーティクルが処理室に流入することを防止するとともに、回転軸周囲の狭い隙間に処理液が滞留することを防止することにある。

[0007] 上記課題を解決するために、本発明は、被処理体を保持することができる保持体と、前記保持体に接続された回転軸と、前記回転軸を回転駆動するモータと、前記保持体を収容する処理室を画成する処理容器と、前記処理室内に処理液を供給する処理液吐出口と、前記処理容器の少なくとも一部と結合され、前記回転軸を収容するとともに前記処理室と連通した空間を画成する軸ハウジングと、前記軸ハウジング内において回転軸を回転可能に支承する軸受けと、前記軸受けよりも処理室に近い位置に設けられて、前記軸ハウジングと前記回転軸との間の隙間を前記回転軸の回転を許容しつつシールする第 1のシール構造と、前記第 1のシール構造よりも処理室に近い位置に設けられて、前記軸ハウジングと前記回転軸との間の隙間をシールする第 2のシール構造であつて、前記軸ハウジングと前記回転軸との間の隙間をシールしている第 1状態とシールしていない第 2状態とをとることができる第 2のシール構造と、を備えた液処理装置を提供する。

[0008] 前記液処理装置には、前記第 1のシール構造と前記第 2のシール構造との間における前記軸ハウジングと回転軸との間の中間空間に接続され前記中間空間に流体を供給することができる供給路及び前記中間空間から流体を排出することができる排出路を設けることができる。この場合、前記供給路に接続された洗浄液供給源及び乾燥気体供給源と、前記洗浄液供給源及び乾燥気体供給源のレ、ずれかが前記供給路を介して前記中間空間と連通するようにする切替バルブとを更に設けることができる。 [0009] 前記軸ハウジングの内面若しくは前記回転軸の外周面に、前記第 1のシール構造と前記第 2のシール構造との間における前記軸ハウジングと前記回転軸との間の中間空間を部分的に狭くする形状が与えることができる。

[0010] 前記第 2のシール構造は、その内部空間に作動気体を供給することにより膨らみ前記第 1状態となる、可撓性を有する環状の中空シール部材を有することができる。

[0011] 好適な一実施形態において、前記第 1のシール構造は、前記回転軸の軸線方向に間隔をおいて配置された一対のシール部材からなり、前記一対のシール部材の間において前記軸ハウジングと回転軸との間にシール空間が画成され、前記シール空間に、当該シール空間に流体を供給することができる供給路及び当該シール空間から流体を排出することができる排出路が接続されている。この場合、前記供給路に乾燥用気体供給源を接続することができる。

[0012] 好適な一実施形態において、液処理装置は、前記第 1のシール構造と前記第 2のシール構造との間における前記軸ハウジングと回転軸との間の中間空間に洗浄液を供給することができる洗浄液供給系と、前記中間空間に乾燥用気体を供給することができる乾燥用気体供給系と、前記中間空間から流体を排出することができる流体排出系と、前記第 2のシール構造、前記洗浄液供給系、前記乾燥用気体供給系及び前記流体排出系を制御することができるコントローラであって、前記回転軸が回転して前記被処理体が前記処理室内で回転しながら処理液により処理されているときに、前記第 2のシール構造が前記第 2の状態となり、かつ、前記流体排出系を介して前記中間空間に侵入した処理液をそこから排出するように、前記第 2のシール構造および前記流体排出系を制御し、また、前記回転軸が回転しないで前記被処理体が前記処理室内で静止した状態で処理流体により処理されているときに、前記第 2のシール構造が前記第 1の状態となり、かつ、前記洗浄液供給系を介して前記中間空間に洗浄液が供給されるとともに前記流体排出系を介して前記中間空間から前記洗浄液が排出されるように、前記第 2のシール構造、前記洗浄液供給系及び前記流体排出系を制御するコントローラと、を更に備える。

[0013] 一実施形態において、前記処理液は薬液であり、前記処理流体は乾燥用気体である。 [0014] 好適には、前記コントローラは、前記回転軸が回転しないで前記被処理体が前記処理室内で静止した状態で処理されてレ、るときに、前記洗浄液供給系を介して前記中間空間に洗浄液が供給されるとともに前記流体排出系を介して前記中間空間から前記洗浄液が排出された後に、前記乾燥用気体供給系を介して前記中間空間に乾燥用気体が供給されるとともに前記流体排出系を介して前記中間空間から前記乾燥用気体が排出されるように、前記乾燥気体供給系及び前記流体排出系を制御するように構成されている。

[0015] 好適には、前記コントローラは、前記被処理体が前記処理室内で静止した状態で処理流体により処理されているときにおける前記流体排出系を介した前記洗浄液の排出レートが、前記被処理体が前記処理室内で回転しながら処理液により処理されているときにおける前記流体排出系を介した前記処理液の排出レートよりも大きくなるように、前記流体排出系を制御するように構成されてレ、る。

[0016] 好適な一実施形態において、前記保持体は、前記回転軸に接続された回転基体と、被処理体を保持する一対の保持棒を有しており、前記液処理装置は、前記回転軸の半径方向に前記保持棒が相互に近接する方向及び前記保持棒が相互に離間する方向に移動させる保持棒移動機構を更に備え、前記保持棒移動機構は、前記回転基体に設けられて前記保持棒を移動させるシリンダァクチユエータと、前記保持棒が相互に近接する方向又は相互に離間する方向に前記保持棒を付勢するばね部材と、前記ばね部材に抗して前記保持棒を移動させるために前記シリンダァクチュエータに作動流体を供給する作動流体通路と、を有しており、前記回転軸の内部空間及び前記回転基体内に形成された管路が、前記作動流体通路の一部を成している。

[0017] 好適な一実施形態において、前記処理容器は、その一端に前記被処理体が通過可能な開口を有するとともに他端が閉塞され、その軸線が概ね水平方向を向いた筒状の処理容器本体と、前記処理容器本体の前記開口を密閉する蓋体とを有している

[0018] 好適な一実施形態において、前記蓋体に前記軸ハウジングが結合されている。

[0019] 本発明は更に、被処理体を保持することができる保持体と、前記保持体に結合された回転軸と、前記保持体を収容する処理室を画成する処理容器と、前記処理容器の少なくとも一部と結合され、前記回転軸を収容するとともに前記処理室と連通した空間を画成する軸ハウジングと、前記軸ハウジング内において回転軸を回転可能に支承する軸受けと、前記軸受けよりも処理室に近い位置に設けられて、前記軸ハウジングと前記回転軸との間の隙間を前記回転軸の回転を許容しつつシールする第 1のシール構造と、前記第 1のシール構造よりも処理室に近い位置に設けられて、前記軸ハウジングと前記回転軸との間の隙間をシールする第 2のシール構造であつて、前記軸ハウジングと前記回転軸との間の隙間をシールしている第 1状態とシールしていない第 2状態とをとることができる第 2のシール構造と、を備えた液処理装置を運転する方法を提供する。この方法は、前記処理室内で被処理体を前記保持体により保持した状態で回転させるとともに前記処理室内に処理液を供給し、これにより前記処理液により前記被処理体を液処理する液処理工程と、前記液処理工程の後、前記被処理体の回転を停止した状態で前記処理室内に処理流体を供給し、これにより前記処理流体により前記被処理体を処理する流体処理工程と、を備え、前記液処理工程を実施しているときに、前記第 2のシール構造は前記第 2状態とされ、かつ、前記第 1のシール構造と前記第 2のシール構造との間における前記軸ハウジングと回転軸との間の中間空間から、前記処理室から前記中間空間に侵入した処理液が排出され、前記流体処理工程を実施しているときに、前記第 2のシール構造は前記第 1状態とされ、かつ、前記中間空間に洗浄液を供給しながら供給した洗浄液を前記中間空間から排出することにより前記中間空間が洗浄され、その後、前記中間空間に乾燥用気体を供給しながら供給した乾燥用気体を前記中間空間から排出することにより前記中間空間が乾燥させられる。

[0020] 好ましくは、前記流体処理工程を実施しているときにおいて前記中間空間から排出される処理液の排出レートは、前記液処理工程を実施しているときにおいて前記中間空間力排出される洗浄液の排出レートよりも高い。

[0021] 一実施形態において、前記液処理工程にて用いられる処理液が薬液であり、前記流体処理工程にて用いられる処理流体が前記被処理体を乾燥させるための乾燥用気体である。図面の簡単な説明

[0022] [図 1]本発明による液処理装置を具備する処理システムの一例を概略的に示す平面図である。

[図 2]図 1に示す処理システムの要部を概略的に示す縦断面図である。

[図 3]液処理装置の処理容器を構成する処理容器本体及び蓋体並びにこれに関連する部品を概略的に示す斜視図である。

[図 4]液処理装置の配管系統図である。

[図 5]液処理装置の処理容器の縦断面図である。

[図 6]液処理装置の軸線方向に沿った縦断面図である。

[図 7]図 6の一部を拡大して示す図である。

[図 8]液処理装置のウェハ保持機構の要部を概略的に示す斜視図である。

[図 9]図 5に示すノズルの軸線方向に沿った断面図である。

符号の説明

[0023] 10 処理容器

10a 処理室

11 蓋体

12 処理容器本体

17, 17A 排液口

18 空気抜き口

19 乾燥用気体供給口

20 ウェハ回転モータ

21 回転軸

21a 回転軸の内部空間

22 軸ハウジング

24 シール部材（第 1のシール構造）

24a シール空間

24b 給気口

24c 排気口 25 周突起

26 第 2のシール構造

26a 中空シール部材

26b 中空シール部材の内部空間

26d 中間空間

26e, 27 A, 28c, V0 中間空間のための洗浄液供給系

26e, 27, 28c, V0 中間空間のための乾燥気体供給系

26f, 29a, 29b, V2, V3 中間空間のための流体排出系

27 N2ガス（乾燥気体)供給源

27 A 純水（洗浄液)供給源

30 ウェハ保持体

31 回転基体

32 保持棒

40 処理液供給バルブ

43 吐出口

60 伸縮移動機構 (保持棒移動機構）

63 ばね（ばね部材）

64 シリンダァクチユエータ

65 保持棒移動機構用の空気 (作動流体)供給系

110 CPU (コントローラ）

W 半導体ウェハ（被処理体）

V0 切換バルブ

発明を実施するための最良の形態

[0024] 以下に、本発明の実施の形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。

[0025] 図 1及び図 2に示すように、処理システムは、搬入'搬出部 1と、ピッチ変換'搬送部 3と、キャリア搬入 ·搬出部 1とピッチ変換 ·搬送部 3との間に位置するウェハ搬送部 5 と、本発明に係る液処理装置 6を備えた処理部と、を備えている。半導体ウェハ Wすなわち被処理体を収容するキャリア C力搬入 ·搬出部 1を介して、この処理システムに受け入れられ、またこの処理システムから払い出される。キャリア C内には、複数枚例えば 25枚の半導体ウェハ Wが、上下方向に所定の間隔例えば 1 Ommの間隔を空けて、水平に保持される。ピッチ変換 ·搬送部 3には、 2台のウェハホルダ 2a, 2bが配設されている。各ウェハホルダ 2a， 2bは、複数枚例えば 25枚のウェハ Wを上下方向に所定の間隔例えば 3mmの間隔を空けて保持するように構成されている。ウェハ搬送部 5には、水平方向（X， Y方向）、鉛直方向（Z方向）に移動可能で、かつ鉛直軸線周りに回転（ Θ )可能なウェハ搬送アーム 4が設けられている。ウェハ搬送ァーム 4は、搬入'搬出部 1にあるキャリア C内のウェハ Wをウェハホルダ 2a， 2bに、或レヽはその逆に、搬送することができる。処理部には、処理容器本体 12が配置されており、処理容器本体 12は、ピッチ変換'搬送部 3に配設される蓋体 11と結合されて密閉の処理容器 10を構成する。

[0026] ピッチ変換'搬送部 3に配設される蓋体 11は、 Y方向（図 1参照）に並んだ 2台のゥェハホルダ 2a, 2bの中間に位置している。図 3に示すように、蓋体 11は、姿勢変換 · 移動機構 7に取り付けられている。蓋体 11には、後に詳述するウェハ保持体 30が設けられている。ウェハ保持体 30は、複数枚例えば 25枚のウェハ Wを等間隔例えば 3 mm間隔（ウェハホルダ 2a, 2bのウェハ保持間隔と同じ）で保持することができる。ゥェハ保持体 30がウェハ Wを保持した状態で、姿勢変換 ·移動機構 7を作動させることにより、ウェハ Wおよび蓋体 11を鉛直に起立した状態とし、更に蓋体 11が処理容器本体 12に向かって進めて処理容器本体 12の開口 13を閉塞することができる。

[0027] 液処理装置 6は、ウェハ Wを起立状態に保持することができるウェハ保持体 30と、このウェハ保持体 30によって保持されたウェハ Wを収容する処理室 10aを有する密閉式の処理容器 10と、処理容器 10内に処理液を供給する処理液供給系の一部を成す処理液供給ノズル 40 (図 5参照）と、処理液供給ノズル 40を正逆回転可能なノズノレ回転モータ 50 (図 9参照）と、ウェハ保持体 30を回転駆動するウェハ回転モータ 20 (図 6参照）と、を具備している。ウェハ回転モータ 20は、ウェハ保持体 30の回転軸 21を回転駆動することにより、ウェハ保持体 30により保持されたウェハ Wを該ゥェハ Wの中心を回転中心として回転させることができる。

[0028] 図 6に示すように、処理容器本体 12は、その中心軸線が水平方向を向いた円筒形状を有しており、処理容器本体 12の一方の側面（すなわち円筒の底面）は側壁により閉塞されており、他方の側面は開放されて開口 13をなしている。図 5に示すように、処理容器本体 12の周壁の一側（図 5では左側）の側部から下部にわたって処理液供給ノズノレ 40はを収容するための収容部 14が設けられている。処理液供給ノズル 40 外周面と収容部 14の内面との間には隙間 15がある。収容部 14の内部空間は、連通口 16を介して処理室 10aと連通している。処理容器本体 12の周壁の下端部には、急速排液口 17Aが設けられている。処理容器本体 12の周壁の上部には、空気抜き口 18及び乾燥用気体供給口 19が設けられている

[0029] 図 3及び図 6に示すように、蓋体 11は、処理容器本体 12の開口 13を閉塞すべく円板状に形成されている。蓋体 11の開口 13に対向する面に、 Oリング 11aが装着されている。従って、姿勢変換'移動機構 7により蓋体 11を処理容器本体 12の開口端に押しつけることにより、蓋体 11は処理容器本体 12に気水密に係合し、これにより密閉された処理室 10aが形成される。

[0030] 図 6乃至図 8に示すように、ウェハ保持体 30は、蓋体 11を貫通する回転軸 21に連結された回転基体 31を有する。回転基体 31は、概ね直方体形状を有し、回転軸 21 と直交する方向に、すなわちウェハ Wの半径方向に延びている。回転基体 31の両端部に、ウェハ W半径方向に移動可能な可動部材 35が接続されており、各可動部材 3 5の先端から、保持棒 32が回転軸 21と平行に延びている。ウェハ Wの外周縁部を保持するために、各保持棒 32の内側面には、複数の保持溝 33が所定の間隔を空けて刻設されている。ウェハ保持体 30には、伸縮移動機構 60すなわち保持棒移動機構が設けられている。伸縮移動機構 60を動作させることにより、一対の保持棒 32を、これらが相互に近接してウェハ Wを保持する近接位置と、これらが相互に離間してゥェハ Wを解放する離間位置との間で移動させることができる。

[0031] 図 6に示すように、ウェハ保持体 30の回転軸 21は、中空である。回転軸 21は、複数の構成部品を回転軸 21の軸線方向に連結することにより構成された軸ハウジング 22の内部空間に収容されている。軸ハウジング 22の蓋体 11側の端部は、蓋体 11に設けられた貫通孔 l ibの周りに接続され、これにより軸ハウジング 22の内部空間と処理室 10aが連通している。軸ハウジング 22と蓋体 11の間は、パッキン 22aにより気水密にシールされている。回転軸 21は、蓋体 11から遠い側の回転軸 21の端部において、ベアリング 23を介して軸ハウジング 22に回転自在に支承されている。蓋体 11から遠い側の回転軸 21の端には従動プーリ 21bが装着されている。従動プーリ 21bとウェハ回転モータ 20の駆動軸 20aに装着された駆動プーリ 20bとの間には、タイミングベルト 20cが掛け渡されてレ、る。

[0032] ウェハ回転モータ 20は、姿勢変換'移動機構 7によって、蓋体 11及びウェハ保持体 30と一緒に移動可能である。図 3において、蓋体 11の下方にある軸ハウジング 22 及びウェハ回転モータ 20等の構成部品については、図面の簡略化のため表示が省略されていることに注意されたレ、。ウェハ回転モータ 20は、図 6に CPU110 (中央演算処理装置）として表示されているコントローラに電気的に接続されている。 CPU11 0力、らの制御信号に基づいて、ウェハ回転モータ 20の回転方向、並びにウェハ回転モータ 20の回転数（例えば l〜60rpm)が制御される。前述したウェハホルダ 2a, 2b とウェハ保持体 30との間でウェハ Wの受け渡しが行われる際には、ウェハ保持体 30 は、ウェハ回転モータ 20の駆動により、ウェハ Wの受け渡しに適した角度位置に位置決めされる。

[0033] ベアリング 23より処理室 10aに近い位置において、軸ハウジング 22には、間隔をおいて配置された一対のリング状のシール部材 24を具備する第 1のシール構造が設けられている。シール部材 24は、回転軸 21の回転を許容しつつ回転軸 21の周面を気水密にシールして、軸ハウジング 22内におけるシール部材 24よりも処理室 10aに近い側の空間とシール部材 24よりもベアリング 23に近い側の空間とを隔離する。

[0034] シール部材 24すなわち第 1のシール構造より処理室 10aに近い位置において、軸ハウジング 22の内周面には周突起 25が設けられており、この周突起と回転軸 21の周面との間に狭小隙間が画成されている。この狭小隙間は「絞り」のように作用してそこを通る流体の流れを制限し、シール部材 24の負担を軽減する。狭小隙間は、後述の第 2のシール構造 26に近い位置に設けることが好ましい。なお、製造上可能であるならば、狭小隙間を画成するために回転軸 21に周突起を設けてもよい。

[0035] 狭小隙間より処理室 10aに近い位置において、軸ハウジング 22内には、可変式のシール構造 26、すなわち第 2のシール構造が設けられている。シール構造 26は、処理室 10aと軸ハウジング 22の内部空間とを気水密に隔離する隔離状態と、両者間での流体の通流を許容する連通状態とをとることができる。

[0036] なお、回転軸 21及び軸ハウジング 22は、耐薬品性及び耐食性に富む材質、例えばポリテトラフルォロエチレン (PTFE)等の合成樹脂にて形成されている。

[0037] 第 2のシール構造 26は、軸ハウジング 22に装着される可撓性を有する環状の中空シール部材 26aと、このシール部材 26aの内部空間 26bに作動気体例えば窒素（N

2

)ガスを供給する作動気体供給系とを有している。作動気体供給系は、 Nガス供給

2 源 27と、この Nガス供給源 27に接続されるとともに開閉バルブ VIが介設された第 1

2

の Nガス供給管路 28aと、この第 1の Nガス供給管路 28aと中空シール部材 26aの

2 2

内部空間 26bとを接続するために軸ハウジング 22内に設けられた連通路 26cと、を具備している。中空シール部材 26aは、耐薬品性及び耐食性に富む軟質の材質例えばフッ素系樹脂にて形成されている。

[0038] 開閉バルブ VIを開放して Nガス供給源 27から Nガスを中空シール部材 26aの内

2 2

部空間 26b内に供給すると、中空シール部材 26aが膨張する。これにより、中空シール部材 26aが回転軸 21の外周面に密接して、中空シール部材 26aよりも処理室 10a 力遠い軸ハウジング 22の内部空間を、処理室 10aから隔離することができる（第 2 のシール構造 26の「隔離状態」）。一方、開閉バルブ VIを閉じると、中空シール部材 26aの内部空間 26b内には Nガスが供給されないので、中空シール部材 26aは萎

2

んだ状態となり、軸ハウジング 22の内部空間と処理室 10aとが連通する（第 2のシール構造 26の「連通状態」）。

[0039] シール部材 24 (第 1のシール構造）と中空シール部材 26a (第 2のシール構造）との間における軸ハウジング 22内面と回転軸 21の周面との間に中間空間 26dが画成される。軸ハウジング 22には、この中間空間 26dの上部及び下部にそれぞれ開口する供給路 26e及び排出路 26fが設けられている。供給路 26eには、切換手段である切換バルブ V0を介設した供給管路 28cを介して、洗浄液供給源である純水供給源 27 A及び乾燥気体供給源である Nガス供給源 27が接続されている。図示された実施

2

形態においては、純水供給源 27A、供給管路 28c、切換バルブ V0及び供給路 26e が中間空間 26dのための洗浄液供給系を成し、 Nガス供給源 27、供給管路 28c、切換バルブ VO及び供給路 26eが中間空間のための乾燥用気体供給系を成す。排出路 26fには、排液及び排気用のドレーン管路 29aが接続されている。このドレーン管路 29aには、開閉バルブ V2が介設されている。ドレーン管路 29aにはさらに、開閉バルブ V2を迂回する分岐管路 29bが開閉バルブ V2の上流側及び下流側にて接続されており、分岐管路 29bには開閉バルブ V3が介設されている。これらは中間空間 26dのための流体排出系を成す。

[0040] 切換バルブ VOを切換操作して中間空間 26d内に純水及び Nガスを中間空間 26d

2

に順次供給することにより、回転軸 21及びこれに面する軸ハウジング 22を洗浄及び乾燥すること力 Sできる。第 2のシール構造 26が連通状態のときには、開閉バルブ V2 , V3のうちの一方 (V2)のみが開放され、軸ハウジング 22と回転軸 21との間の隙間に侵入した処理液 (薬液又は純水）が比較的小流量 (小さい排出レート）ドレーン管路 29aを介して排液される。また、第 2のシール構造 26が隔離状態のときは、開閉バルブ V2及び V3の双方が開放され、回転軸 21の洗浄に供された純水が比較的大流量 (大きな排出レート)で排出される。

[0041] 一対のシール部材 24間に空間が画成されており、この空間はシール空間 24aと称される。軸ハウジング 22には、このシール空間 24aの上部及び下部にそれぞれ開口する給気路 24bと排気路 24cが設けられている。給気路 24bには、開閉バルブ V4が介設された第 2の Nガス供給管路 28bを介して、 Nガス供給源 27が接続されている

2 2

。また、排気路 24cには、開閉バルブ V5が介設されたドレーン管路 29cが接続されている。

[0042] 万一、処理室 10a側からシール空間 24a内に処理液が浸入しても、シール空間 24 a内に Nガスを供給しつつそこから排出することにより、 Nガスによって液滴を除去し

2 2

て回転軸 21を速やかに乾燥することができる。

[0043] 伸縮移動機構 60について図 6及び図 8を参照して詳細に説明する。伸縮移動機構 60は、ウェハ保持体 30の回転基体 31に設けられたシリンダ体 61と、シリンダ体 61に摺動可能に設けられたピストンロッド 62と、ピストンロッド 62を短縮方向に付勢するるばね 63とを有するシリンダァクチユエータ 64と、このシリンダァクチユエータ 64のシリンダ体 61に作動流体例えば空気を供給する空気供給システム 65すなわち作動流体供給システムとを備えている。シリンダ体 61に空気が供給されていないとき（開閉バルブ V6が閉じているとき）、一対の保持棒 32は、ばね 63により相互に近づく方向に付勢されており、ばね 63の弾性力によりウェハ Wをしつ力りと保持することができる。シリンダ体 61に空気が供給されると（開閉バルブ V6が開いているとき）、ばね 63の弾性力に打ち勝ってピストンロッド 62が伸張方向に移動し、一対の保持棒 32は相互に離間し、ウェハ Wを解放する。蛇腹等の伸縮部材 34が各シリンダァクチユエータ 6 4を囲んでおり、各伸縮部材 34の両端は回転基体 31及び可動部材 35に気水密に連結されている。伸縮部材 34は回転基体 31及び可動部材 35の相対的変位を許容しつつ、シリンダァクチユエータ 64を処理液から保護し、かつ、シリンダァクチユエ一タ 64で生じうるパーティクルが処理室 10a内に侵入することを防止している。

[0044] 空気供給システム 65において、空気供給源 67からシリンダ体 61に空気を供給する空気供給路は、回転基体 31内に設けられた第 1の空気供給管路 66aと、この第 1の空気供給管路 66aに接続される回転軸 21の内部空間 21aと、この内部空間 21aに接続されるとともに開閉バルブ V6が介設された第 2の空気供給管路 66bと、力構成されている。

[0045] なお、ばね 63は、保持棒 32を相互に離間するように付勢するものであってもよい。

この場合、シリンダァクチユエータ 64は、空気が供給されたときに保持棒 32を相互に近接させるように作用するように構成される。

[0046] 本実施形態における伸縮移動機構 60は、シリンダァクチユエータ 64が回転基体 3 1に組み込まれており、また、シリンダァクチユエータ 64に作動空気を供給する空気供給路が回転基体 31及び回転軸 21に組み込まれているため、占有スペースが小さぐ液処理装置 6の小型化に寄与している。

[0047] 処理前のウェハ Wを保持したウェハホルダ 2a (2b)力、らウェハ保持体 30にウェハ Wが渡されるときには、まず、伸縮移動機構 60により保持棒 32をウェハ W半径方向外側に移動した状態で、ウェハ Wを保持したウェハホルダ 2aを一対の保持棒 32の間に侵入させる。次いで、伸縮移動機構 60によって保持棒 32をウェハ W半径方向内側に移動させると、保持棒 32がウェハ Wを把持する。次いで、ウェハホルダ 2aはウェハ Wを離し、ウェハ保持体 30から遠ざかる。その後、姿勢変換'移動機構 7によつて、ウェハ Wが起立して鉛直姿勢とされた後、ウェハ Wは、処理容器本体 12内に収容される。処理容器 10内で処理されたウェハ Wは、上記と逆の手順でウェハホルダ 2b (2a)に戻される。すなわち、処理済みのウェハ Wは、姿勢変換 ·移動機構 7によつて処理容器本体 12から取り出された後に水平姿勢とされる。次いで、一対の保持棒 32間にウェハホルダ 2b (2a)が揷入され、伸縮移動機構 60によって保持棒 32がウェハ W半径方向外側に移動される。これにより、ウェハ Wはウェハホルダ 2に渡される。

[0048] 次に、処理液供給ノズノレ 40 (以下に単に「ノズノレ 40」という）について図 5及び図 9 を参照して詳述する。ノズル 40は、中心部に処理液供給路 41を有する略円筒状のノズノレ本体 42に、その周面に開口するノズル本体 42の軸線方向に延びる単一のスリット状の吐出口 43、或いはノズノレ本体 42の軸線方向に間隔をおいて一列に並んだ複数の吐出口 43を設けることにより形成されている。ノズノレ 40は、処理容器本体 12 に取り付けられたノズノレケース 44のノズル収容部 14内に収容されている。ノズル収容部 14の内面とノズル本体 42の外周面との間には隙間 15が設けられている。ノズル本体 42の一側側面からノズノレ回転軸 53が突出している。ノズノレ回転軸 53は、ノズルケース 44と一体の案内筒 45内に隙間を空けて挿入されている。ノズル回転モータ 50を駆動することにより、ノズノレ 40は、処理容器本体 12 (実際にはノズルケース 44 のノズル収容部 14)に対して非接触に回転及び/又は揺動可能である。図 5に二点鎖線で示すように、ノズル 40の吐出口 43と異なる 1又は複数の角度位置（図示例では 3箇所）に、貫通孔 46を設けることが好適である。貫通孔 46から処理液を隙間 15 内に吐出することにより、隙間 15内に処理液が滞留することを防止することができる。

[0049] 図 9に示すように、ノズル回転モータ 50は、案内筒 45の外周面に嵌装される有底筒状のノズルモータ本体 50a、すなわちステーター部を具備している。このノズノレモータ本体 50aの先端部及び基端部には浮上用電磁石 51が埋設され、両浮上用電磁石 51の間には回転用電磁石 52が坦設されている。ノズノレ回転軸 53には磁石 54 が埋設されている。浮上用電磁石 51を通電して励磁することによりノズル回転軸 53 の外周面を案内筒 45の内周面から離すことができ、また、回転用電磁石 52に通電して励磁することにより、ノズル回転軸 53およびこれに接続されたノズノレ本体 42を回転させること力 Sできる。この構成においてはノズル回転軸 53の回転によりノズノレ回転軸 53が他の部材と摺動することがないため、摩耗粉由来のパーティクルによる処理液の汚染を防止することができる。ノズルモータ本体 50a及びノズル回転軸 53は、耐薬品性及び耐食性に富む材質例えばポリテトラフルォロエチレン (PTFE)等の合成樹脂にて形成されている。ノズノレ回転モータ 50は、図 6に示す CPU110力の制御信号により、その回転動作及び Z又は揺動動作が制御される。

[0050] 以下に図 4を参照して、液処理装置 6に付属する配管系統について説明する。ノズル 40の処理液供給路 41 (図 5参照）には、処理液供給用の第 1の開閉バルブ V7を介して主供給管路 70の一端が接続されている。主供給管路 70の他端には純水供給源 71が接続されている。主供給管路 70には、純水供給源 71側から順に、第 2の開閉バルブ V8、フィルタ Fl、流量計 FM1及び処理液の温度を所定の処理温度に調整する加熱機構 Hが介設されている。第 2の開閉バルブ V8、フィルタ Fl、流量計 FM1及び加熱機構 Hを迂回する分岐管路 72が、バルブ V8の上流側部分において主供給管路 70から分岐し、加熱機構 Hの下流側部分において主供給管路 70に再び合流している。分岐管路 72には純水供給源側から順に、第 3の開閉バルブ V9、フィルタ F2及び流量計 FM2が介設されてレ、る。

[0051] 主供給管路 70の途中には、切換供給バルブ Va, Vb, Vc, Vdが介設された薬液供給管路 73a, 73b, 73c, 73dをそれぞれ介して、薬液タンク 74a, 74b, 74c, 74d がそれぞれ接続されている。薬液タンク 74a, 74b, 74c, 74d内には、種類の異なる薬液、例えばアンモニア（NH OH) ,塩酸（HC1) ,フッ酸（HF)等が貯留されている

4

。処理の目的に応じて切換供給バルブ Va, Vb, Vc, Vdのいずれかが開放され、これにより前記の薬液の一つが主供給管路 70内を流れる純水と混合され、ノズノレ 40から処理容器 10内に供給される。

[0052] ノズノレケース 44のノズノレ収容部 14には、排液口 76 (図 5参照）が設けられている。

この排液口 76には、開閉バルブ V10が介設されれた排出管路 75が接続されている

。この排出管路 75は、排液管路 78Aに接続されている。

[0053] 処理容器本体 12の排液口 17 (図 5参照）には、開閉バルブ VI Iが介設された排液管路 78が接続されている。この排液管路 78には、純水用ドレーンバルブ DV1及び薬液用ドレーンバルブ DV2, DV3, DV4がそれぞれ介設された 4つのドレーン管路

79が並列に接続されている。

[0054] 処理容器本体 12の空気抜き口 18 (図 5参照）には、開度調整可能な開閉バルブ VI

2が介設された排気管路 80が接続されている。空気抜き口 18を介して、例えば、処理室 10a内に満たされる処理液中に含まれうる気泡を排出することができる。排気管路 80は、排液管路 78に接続されている。

[0055] 処理容器本体 12の乾燥用気体供給口 19 (図 5参照）には、開閉バルブ V13を介して乾燥用気体 (媒体)の供給管路、例えばクール Nガス供給管路 81、ホット Nガス

2 2 供給管路 82及びイソプロピルアルコール (IPA)供給管路 83が接続されてレ、る。必要に応じて、図示しない N2ガス供給源或レ、は IPA供給源から、クール又はホット N

2 ガス或いは IPA蒸気が処理容器 10内に供給される。

[0056] なお、供給管路 81， 82, 83に接続される供給管路 84に分岐管路を接続し、当該分岐管路から切換バノレブ V0 (図 6参照）を介して前述したシール部材 24とシール構造 26との間に形成される中間空間 26d内に乾燥用気体を供給できるようにしてもよレ、。

[0057] 処理容器本体 12の急速排液口 17A (図 5参照）には、開閉バルブ V14を介設した大口径の排液管路 78Aが接続されている。処理容器 10内でのウェハ Wの液処理が終了した後に開閉バルブ V13を開放することによって、処理容器 10内での液処理に供された処理液 (薬液又は純水）を、短時間で排液管路 78Aを介して処理容器 10外に排出できる。

[0058] 排液管路 78A力も分離独立した排液管路 78Bが設けられてレ、る。この排液管路 78 Bには、排液管路 78及び戻り管路 84が接続されている。戻り管路 84には、切換バルブ VAが介設されている。

[0059] 再度図 5を参照すると、処理容器 10の処理室 10aの上部の左右 2箇所には、倒れ防止機構 90が設けられている。倒れ防止機構 90は、特に急速排液口 17Aからの液排出時に、ウェハ保持体 30によって保持された隣接するウェハ W同士が接触することを防止する。倒れ防止機構 90は、櫛歯状に配列された複数の支持片 91を有する倒れ防止部材 92と、この倒れ防止部材 92の角度位置を変更する図示しない回転機構と、を備えている。回転機構の駆動により、倒れ防止部材 92の位置を、各支持片 9

1が隣接するウェハ W間の隙間に挿入されてウェハ Wに係合する係合位置と、図 5 に示すように各支持片 91がウェハ W間の隙間から離脱している非係合位置との間で切り替えることができる。

[0060] 図 5に示すように、処理容器本体 12の上部の周面に、超音波振動子 100を装着してもよレ、。超音波振動子 100により処理室 10aを満たす処理液に超音波振動を付与して、ウェハ Wを超音波洗浄することができる。

[0061] 切換バルブ V0と開閉バルブ V1〜V14は、 CPU110すなわちコントローラに電気的に接続されており、 CPU110からの制御信号に基づいて切換若しくは開閉制御される。

[0062] 次に、液処理装置 6の作用につレ、て説明する。

搬送アーム 4が、搬入 ·搬出部 1に載置されたキャリア Cからウェハ Wを取り出し、ゥェハホルダ 2aに渡す。これを繰り返すことにより、キャリア C内の複数枚のウェハをゥェハホルダ 2aに移載する。例示的な実施形態において、キャリア Cは隣接するゥェハ Wの間隔が 10mmとなるようにウェハ Wを保持するように構成され、ウェハホルダ 2 aは隣接するウェハ Wの間隔が 3mmとなるようにウェハ Wを保持するように構成されているため、搬送アーム 4によりキャリア Cからウェハホルダ 2aにウェハ Wを移載すると、その結果としてウェハ Wのピッチが変換（10mmから 3mmに）される。

[0063] 次に、ウェハホルダ 2aによって保持された複数枚のウェハ Wを、蓋体 11に装着されたウェハ保持体 30の保持棒 32に渡す。ウェハ Wがウェハ保持体 30に渡された後、ウェハホルダ 2aはウェハ保持体 30から退避する。姿勢変換'移動機構 7が作動して、蓋体 11及びウェハ保持体 30に保持されたウェハ Wを水平姿勢から垂直姿勢に姿勢変換するとともに、処理容器本体 12に向かって移動する。これにより、ウェハ W が処理容器本体 12内に搬入されるとともに、蓋体 11が処理容器本体 12の開口 13を密閉する。

[0064] 処理容器 10内にウェハ Wを垂直姿勢で収容した状態で、開閉バルブ V8を開放して純水供給源 71から主供給管路 70に処理温度に温調された純水を流すとともに、切換開閉バルブ Va, Vb, Vc, Vdのうちの選択された 1つを開放して薬液を純水に混合して、温調された希釈薬液をノズル 40に供給する。希釈薬液の供給開始時には、ノズノレ 40の吐出口 43は処理室 10aの下部空間を向いている。希釈薬液の供給開始後に、ノズル回転モータ 50によりノズル 40の吐出口 43が徐々に上を向くように回転し、希釈薬液のしぶきがウェハ Wに飛散するのを防止しながら、処理容器 10内に混合薬液を供給する。また、薬液の供給と同時に、ウェハ回転モータ 20によりウェハ保持体 30及びこれに保持されたウェハ W力ウェハ Wの中心を中心としてゆっくりと回転する。ノズル 40からの薬液供給時には、空気抜き口 18に接続する排気管路 80 に介設された開閉バルブ VI 2が開放されている。このため処理室 10aに供給される薬液の液流は円滑になる。このように、処理容器 10の下部に配設されたノズル 40を回転又は揺動させながら、或いはノズノレ 40を数回揺動させた後に回転させながら、回転するウェハ Wに向けて吐出口 43から薬液を吐出させることにより、薬液はウェハ Wの全面に満遍なく行き渡り、均一な薬液処理例えばエッチング処理が施される。

[0065] なお、吐出口 43の向きが図 5の二点鎖線矢印方向を向いている時間を長くすることにより、ウェハ W周辺部をより多くエッチングすることもできる。

[0066] 薬液処理中において、処理室 10a内は薬液で満たされ、ノズノレ 40から処理室 10a 内に薬液が供給されると同時に、処理室 10aから薬液が排液口 17を介して排液される。

[0067] なお、ノズル 40を 360度回転させながら収容部 14の内面とノズル 40の外周面との間の隙間 15に吐出口 43から薬液を吐出させることにより、当該隙間 15に滞留する薬液を新規な薬液により追い出すことができる。このため、隙間 15に滞留する古い薬液により液処理への悪影響が生じることはない。

[0068] 薬液処理時には、開閉バルブ VIは閉じており中空シール部材 26aの内部空間 26 bに Nガスは供給されないため、第 2のシール構造 26は連通状態にある。このため、

2

処理室 10aを満たす薬液は、シール構造 26と回転軸 21との間の隙間を通って、シール構造 26とシール部材 24 (第 1のシール構造）との間における軸ハウジング 22と回転軸 21との間の中間空間 26dに侵入する。このとき、開閉バルブ V2， V3のうちの一方の開閉バルブ V2のみが開放しており、中間空間 26d内に侵入した薬液は、ドレ一ン管路 29aを介して排液される。このため、中間空間 26d内に薬液が滞留することにより生じうる薬液処理への悪影響は生じない。また、 2つのシール部材 24のうちの処理室 10a側のシール部材 24と回転軸 21とのシール面を通って、薬液がシール空間 24aに入ることが防止される。

[0069] 更に、薬液処理時には、開閉バルブ V4も開放されて、 Nガス供給源 27から Nガ

2 2 スがシール部材 24間のシール空間 24a内に供給される。このとき、開閉バルブ V5も開放され、シール空間 24a内に供給された Nガスはドレーン管路 29cを介して排出

2

される。このため、万一、処理室 10a側のシール部材 24を超えて薬液がシール空間 24a内に侵入してきたとしても、シール空間 24a内を流れる Nガスと一緒にシール空

2

間 24aから排出される力 \或いは Nガスにより蒸発させられた後に Nガスと一緒にシ

2 2

ール空間 24aから排出される。また、ベアリング 23の摩耗により発生するパーティクルが、 2つのシール部材 24のうちのベアリング 23側のシール部材 24を超えてシール空間 24a内に侵入してきたとしても、シール空間 24a内を流れる Nガスと一緒にシーノレ

2

空間 24aから排出される。

[0070] 以上のように、薬液処理時には、 2つのシール部材 24を備えた第 1のシール構造により、薬液のベアリング 23側への侵入及びベアリング 23にて生じたパーティクルが処理容器 10側に侵入することが防止される。

[0071] なお、シール空間 24a内の圧力を高めに維持しておくことも好ましい。そうすれば、シール空間 24a内への薬液およびパーティクル（ベアリング 23によるもの）の侵入をより効果的に防止することができる。シール空間 24a内の圧力を高くするには、ドレーン管路 29cの径を小さくするか或いはそこに絞りを設けることが考えられる。

[0072] 薬液処理を所定時間行った後、開いてレ、た切換開閉バルブ (Va, Vb, Vc, Vdのいずれか）を閉じて薬液の供給を停止し、回転するノズル 40から純水のみを処理容器 10内に供給してリンス処理を行う。このときには、開閉バルブ V8を閉じるとともに開閉バルブ V9を開放し、温調されていない純水を供給する。このリンス処理時においてもウェハ回転モータ 20によりウェハ Wは回転しているので、回転するノズル 40から供給される純水はウェハ Wの全面に満遍なく行き渡り、均一なリンス処理が施される

[0073] リンス処理時にもシール構造 26は連通状態となっている力中間空間 26dに侵入した純水はドレーン管路 29aを介して排液されると共に、 2つのシール部材 24間のシール空間 24a内に Nガスが供給される。これにより薬液処理時と同様の効果が達成

2

される。

[0074] リンス処理を所定時間行った後、 CPU110からの制御信号に基づいて、開閉バルブ V9が閉じられて純水の供給が停止され、ノズル回転モータ 50の駆動が停止され、更にウェハ回転モータ 20の駆動が停止される。その後、開閉バルブ V14及び V10 を開放して、処理容器 10内の純水を、急速排液口 17A及び排液口 76から、排液管路 78Aを介して排出する。この純水の排液と同時に、乾燥用気体供給口 19から乾燥用気体例えば Nガス又は Nガスと IPAの混合気体を所定時間にわたって処理容器

2 2

10内に供給して、ウェハ Wに付着している液滴を除去して、ウェハ Wを乾燥する。

[0075] ウェハ Wの乾燥が開始されるときに、 CPU110からの制御信号に基づいて開閉バルブ VIが開放されて、 Nガス供給源 27からシール構造 26の中空シール部材 26a

2

の内部空間 26bに Nガスが供給される。これにより、中空シール部材 26aが膨隆し、

2

回転軸 21の外周面に密接して、処理室 10aと中間空間 26dとが隔離される。この状態において、中間空間 26d及びこの中間空間 26dに臨む部材（軸ハウジング 22、回転軸 21、シール部材 24、中空シール部材 26a)の表面が洗浄される。

[0076] すなわち、まず、切換バルブ V0が純水供給源 27A側に切り換わって、シール部材

24とシール構造 26との間の中間空間 26d内に純水を供給して、中間空間 26d及びこの中間空間 26dに臨む部材の表面を洗浄する。その後、切換バルブ V0が Nガス

2 供給源 27側に切り換わって、中間空間 26d内に Nガスを供給して中間空間 26d及

2

びこの中間空間 26dに臨む部材の表面を乾燥する。この洗浄及び乾燥時には、開閉バルブ V2及び V3は開放しており、純水及び Nガスを大流量で中間空間 26dから

2

排出することができるようにされている。この洗浄及び乾燥時においても、 2つのシール部材 24間のシール空間 24a内に Nガスが供給される。以上のように中間空間 26

2

d及びこの中間空間 26dに臨む部材の表面を洗浄することにより、この部分に薬液若しくはパーティクルが残留することが防止され、次の薬液処理時に、この部分から処理室 10a内に薬液及びパーティクルが入り込むおそれがない。

[0077] ウェハ Wの乾燥並びに中間空間 26dの洗浄及び乾燥の終了により、一連の液処理工程が終了する。

[0078] 次に、姿勢変換 ·移動機構 7を駆動して、蓋体 11を処理容器本体 12から引き離し、、ウェハ保持体 30によって保持されたウェハ Wを処理容器本体 12内から取り出し、そしてウェハ Wの姿勢を垂直姿勢から水平姿勢に変換する。水平姿勢にされた処理済みウェハ Wは、未処理ウェハ Wを扱ったウェハホルダ 2aではなぐ別のウェハホルダ 2bに受け取られた後、ウェハ搬送アーム 4によって空のキャリア C内に収容されて、他の処理装置に搬送される。

[0079] 以上図示された好適な実施形態に基づいて本発明について説明してきたが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、上記実施形態では、本発明による液処理装置として同時に複数枚のウェハ Wを処理するバッジ式の液処理装置を例示した力一度に夂のみのウェハ Wを処理する枚葉式の液処理装置であっても構わなレ、。

[0080] また、上記実施形態では、ウェハ保持体 30は蓋体 11に取り付けられてレ、たが、処理容器本体 12にウェハ保持体 30を設けることも可能である。この場合、ウェハの搬送機構との受け渡しを処理容器本体 12内で行えるような構造が必要となる。

[0081] また、上記実施形態では、被処理体は半導体ウェハであった力被処理体は例えば LCD用ガラス基板またはディスク基板等であってもよい。

Claims

請求の範囲

被処理体を保持することができる保持体と、

前記保持体に接続された回転軸と、

前記回転軸を回転駆動するモータと、

前記保持体を収容する処理室を画成する処理容器と、

前記処理室内に処理液を供給する処理液吐出口と、

前記処理容器の少なくとも一部と結合され、前記回転軸を収容するとともに前記処理室と連通した空間を画成する軸ハウジングと、

前記軸ハウジング内において回転軸を回転可能に支承する軸受けと、

前記軸受けよりも処理室に近レ、位置に設けられて、前記軸ハウジングと前記回転軸との間の隙間を前記回転軸の回転を許容しつつシールする第 1のシール構造と、前記第 1のシール構造よりも処理室に近い位置に設けられて、前記軸ハウジングと前記回転軸との間の隙間をシールする第 2のシール構造であって、前記軸ハウジングと前記回転軸との間の隙間をシールしている第 1状態とシールしていない第 2状態とをとることができる第 2のシール構造と、

を備えた液処理装置。

請求項 1に記載の液処理装置にぉレ、て、

前記第 1のシール構造と前記第 2のシール構造との間における前記軸ハウジングと前記回転軸との間の中間空間に接続され前記中間空間に流体を供給することができる供給路及び前記中間空間から流体を排出することができる排出路を更に備えたことを特徴とする液処理装置。

請求項 2に記載の液処理装置において、

前記供給路に接続された洗浄液供給源及び乾燥気体供給源と、

前記洗浄液供給源及び乾燥気体供給源のいずれかが前記供給路を介して前記中間空間と連通するようにする切替バルブと、

を更に備えたことを特徴とする液処理装置。

請求項 1に記載の液処理装置にぉレ、て、

前記軸ハウジングの内面若しくは前記回転軸の外周面に、前記第 1のシール構造と前記第 2のシール構造との間における前記軸ハウジングと回転軸との間の中間空間を部分的に狭くする形状が与えられている

ことを特徴とする液処理装置。

請求項 1に記載の液処理装置にぉレ、て、

前記第 2のシール構造は、その内部空間に作動気体を供給することにより膨らみ前記第 1状態となる、可撓性を有する環状の中空シール部材を有することを特徴とする液処理装置。

請求項 1に記載の液処理装置にぉレ、て、

前記第 1のシール構造は、前記回転軸の軸線方向に間隔をおいて配置された一対のシール部材からなり、

前記一対のシール部材の間において前記軸ハウジングと回転軸との間にシール空間が画成され、

前記シール空間に、当該シール空間に流体を供給することができる供給路及び当該シール空間から流体を排出することができる排出路が接続されている

ことを特徴とする液処理装置。

請求項 6に記載の液処理装置において、

前記供給路に乾燥用気体供給源が接続されていることを特徴とする液処理装置。請求項 1に記載の液処理装置にぉレ、て、

前記第 1のシール構造と前記第 2のシール構造との間における前記軸ハウジングと回転軸との間の中間空間に洗浄液を供給することができる洗浄液供給系と、前記中間空間に乾燥用気体を供給することができる乾燥用気体供給系と、前記中間空間から流体を排出することができる流体排出系と、

前記第 2のシール構造、前記洗浄液供給系、前記乾燥用気体供給系及び前記流体排出系を制御することができるコントローラであって、

前記回転軸が回転して前記被処理体が前記処理室内で回転しながら処理液により処理されているときに、前記第 2のシール構造が前記第 2の状態となり、かつ、前記流体排出系を介して前記中間空間に侵入した処理液をそこから排出するように、前記第 2のシール構造および前記流体排出系を制御し、また、前記回転軸が回転しなレ、で前記被処理体が前記処理室内で静止した状態で処理流体により処理されているときに、前記第 2のシール構造が前記第 1の状態となり、かつ、前記洗浄液供給系を介して前記中間空間に洗浄液が供給されるとともに前記流体排出系を介して前記中間空間から前記洗浄液が排出されるように、前記第 2のシール構造、前記洗浄液供給系及び前記流体排出系を制御するコントローラと、を更に備えたことを特徴とする液処理装置。

請求項 8に記載の液処理装置において、

前記コントローラは、前記回転軸が回転しなレ、で前記被処理体が前記処理室内で静止した状態で処理されているときに、前記洗浄液供給系を介して前記中間空間に洗浄液が供給されるとともに前記流体排出系を介して前記中間空間から前記洗浄液が排出された後に、前記乾燥用気体供給系を介して前記中間空間に乾燥用気体が供給されるとともに前記流体排出系を介して前記中間空間から前記乾燥用気体が排出されるように、前記乾燥気体供給系及び前記流体排出系を制御するように構成されてレヽることを特徴とする液処理装置。

請求項 8に記載の液処理装置において、

前記コントローラは、前記被処理体が前記処理室内で静止した状態で処理流体により処理されているときにおける前記流体排出系を介した前記洗浄液の排出レートが、前記被処理体が前記処理室内で回転しながら処理液により処理されているときにおける前記流体排出系を介した前記処理液の排出レートよりも大きくなるように、前記流体排出系を制御するように構成されていることを特徴とする液処理装置。

請求項 8に記載の液処理装置において、

前記処理液は薬液であり、前記処理流体は乾燥用気体であることを特徴とする液処理装置。

請求項 1に記載の液処理装置にぉレ、て、

前記保持体は、前記回転軸に接続された回転基体と、被処理体を保持する一対の保持棒を有しており、

前記液処理装置は、前記回転軸の半径方向に前記保持棒が相互に近接する方向及び前記保持棒が相互に離間する方向に移動させる保持棒移動機構を更に備え、前記保持棒移動機構は、前記回転基体に設けられて前記保持棒を移動させるシリンダァクチユエータと、前記保持棒が相互に近接する方向又は相互に離間する方向に前記保持棒を付勢するばね部材と、前記ばね部材に抗して前記保持棒を移動させるために前記シリンダァクチユエータに作動流体を供給する作動流体通路と、を有しており、

前記回転軸の内部空間及び前記回転基体内に形成された管路が、前記作動流体通路の一部を成している

ことを特徴とする液処理装置。

[13] 請求項 1に記載の液処理装置において、

前記処理容器は、その一端に前記被処理体が通過可能な開口を有するとともに他端が閉塞され、その軸線が概ね水平方向を向いた筒状の処理容器本体と、前記処理容器本体の前記開口を密閉する蓋体とを有している

ことを特徴とする液処理装置。

[14] 請求項 13記載の液処理装置において、

前記蓋体に前記軸ハウジングが結合されていることを特徴とする液処理装置。

[15] 被処理体を保持することができる保持体と、前記保持体に結合された回転軸と、前記保持体を収容する処理室を画成する処理容器と、前記処理容器の少なくとも一部と結合され、前記回転軸を収容するとともに前記処理室と連通した空間を画成する軸ハウジングと、前記軸ハウジング内において回転軸を回転可能に支承する軸受けと、前記軸受けよりも処理室に近い位置に設けられて、前記軸ハウジングと前記回転軸との間の隙間を前記回転軸の回転を許容しつつシールする第 1のシール構造と、前記第 1のシール構造よりも処理室に近い位置に設けられて、前記軸ハウジングと前記回転軸との間の隙間をシールする第 2のシール構造であつて、前記軸ハウジングと前記回転軸との間の隙間をシールしている第 1状態とシールしていない第 2状態とをとることができる第 2のシール構造と、を備えた液処理装置を運転する方法にぉレ、て、前記処理室内で被処理体を前記保持体により保持した状態で回転させるとともに前記処理室内に処理液を供給し、これにより前記処理液により前記被処理体を液処理する液処理工程と、前記液処理工程の後、前記被処理体の回転を停止した状態で前記処理室内に処理流体を供給し、これにより前記処理流体により前記被処理体を処理する流体処理工程と、

を備え、

前記液処理工程を実施しているときに、前記第 2のシール構造は前記第 2状態とされ、かつ、前記第 1のシール構造と前記第 2のシール構造との間における前記軸ハウジングと回転軸との間の中間空間から、前記処理室から前記中間空間に侵入した処理液が排出され、

前記流体処理工程を実施しているときに、前記第 2のシール構造は前記第 1状態とされ、かつ、前記中間空間に洗浄液を供給しながら供給した洗浄液を前記中間空間から排出することにより前記中間空間が洗浄され、その後、前記中間空間に乾燥用気体を供給しながら供給した乾燥用気体を前記中間空間から排出することにより前記中間空間が乾燥させられる

ことを特徴とする方法。

請求項 15記載の方法において、

前記流体処理工程を実施しているときにおいて前記中間空間力排出される処理液の排出レートは、前記液処理工程を実施しているときにおいて前記中間空間から排出される洗浄液の排出レートよりも高いことを特徴とする方法。

請求項 15に記載の方法において、

前記液処理工程にて用いられる処理液が薬液であり、前記流体処理工程にて用いられる処理流体が前記被処理体を乾燥させるための乾燥用気体であることを特徴とする方法。