WO2006035782A1

WO2006035782A1 - 微細気泡発生器及びこれを用いた足浴装置、入浴器具

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Publication number: WO2006035782A1
Application number: PCT/JP2005/017770
Authority: WO
Inventors: Toshihiko Yayama; Hisatsune Nashiki; Ichiro Teshiba; Tatsuhiko Takase; Hironori Tanaka; Takaaki Iwasaki
Original assignee: Tashizen Techno Works Co., Ltd.
Priority date: 2004-09-28
Filing date: 2005-09-27
Publication date: 2006-04-06
Also published as: JPWO2006035782A1; US7832028B2; US20080072373A1; JP5048335B2

Abstract

　流体中に不要な液流や乱流を発生させずに、大量の微細気泡混じりの流体を当該流体中へ供給可能な微細気泡発生器を提供する。微細気泡発生器（１１）は、直方体形状のケーシング（１１ａ）内に、二つの微細気泡発生部（１２，１３）を、各吐出口（２８ａ，２８ｂ）同士が互いに対向する状態で配置して形成している。微細気泡発生部（１２，１３）は、仮想中心線（２５ｃ）を包囲して設けられた周壁（２５ｄ）とその両端に設けられた隔壁（２５ａ，２５ｂ）とで形成された流体旋回室（２５）と、仮想中心線（２５ｃ）に対してねじれの位置をなす方向に沿って液体を導入するため流体旋回室（２５）に連通して設けられた液体導入経路（１８ａ，１８ｂ）と、各流体旋回室（２５）内に気体を導入するため各流体旋回室（２５）の隔壁（２５ａ）に開設された気体導入経路（１４ａ，１４ｂ）と、隔壁（２５ｂ）に開設された吐出口（２８ａ，２８ｂ）と、を備えている。

Description

微細気泡発生器及びこれを用いた足浴装置、入浴器具

技術分野

[0001] 本発明は、淡水、海水その他の液体などの各種流体中へ微細気泡混じりの流体を供給することのできる微細気泡発生器及びこれを用いた足浴装置、入浴器具に関する。

背景技術

[0002] 淡水中あるいは海水中へ気泡（空気）を供給すると、水中の溶存酸素量が高まるなどの変化が生じ、これらの変化によって様々な優れた効能が得られることは広く知られており、植物栽培、魚介類の養殖あるいは排水処理など様々な産業分野で利用されている。水中へ気泡を供給する場合、気泡外径をなるベく小さくして、気泡体積に対する気泡表面積を増大させ、気泡中の気体と水との接触面積を増大させることが有効であることが判っている。そこで、水中へ大量の微細気泡を供給することのできる微細気泡発生器として、例えば、特許文献 1に記載されたものがある。

[0003] 特許文献 1記載の微細気泡発生器は、円錐形のスペースを有する容器本体と、前記スペースの内壁円周面の一部にその接線方向に開設された加圧液体導入口と、前記スペースの円錐底部に開設された気体導入孔と、前記スペースの円錐頂部に開設された旋回気液導出口とから構成されて、る。この微細気泡発生器を水中に浸漬した状態に保ち、加圧液体導入口へ水を供給するとともに気体導入孔へ空気を供給すると、前記スペース内に気液旋回流が発生し、旋回気液導出口から微細気泡混じりの水が水中へ吐出される。

[0004] 一方、足先を湯に浸漬すると心地よぐ疲労もとれるということは、従来、知られていることであるが、近年、足先部分を浸漬することのできる湯槽を備えた足浴装置が開発されている。また、足先を湯に浸漬して温めるだけでなぐ湯中で気泡を発生させることによってマッサージ効果も得ることのできる足浴装置として、例えば、特許文献 2記載の足浴器がある。この足浴装置 (足浴器)は、水を溜める浴槽と、浴槽内に空気を送るための送風装置と、足を載せるために浴槽底面に設けられた足載せ台と、浴槽を振動させるための振動装置とを有している。そして、送風装置から送風された空気を浴槽底部に設けられた気泡孔より気泡として放出することにより、浴槽内に浸漬された足の裏をマッサージすることができる。

[0005] また、入浴中の浴槽内に気泡を発生させると、入浴者の皮膚に適度の刺激が与えられ、マッサージ効果や疲労回復効果などが得られることが広く知られている。浴槽の底部に配置された気泡発生手段に空気を圧送して湯中に気泡を発生させるものとして、例えば、特許文献 3, 4に記載のもの、あるいは浴槽内に投入した気泡発生器具に空気を導入して湯中に気泡を発生させるものとして、例えば、特許文献 5, 6に記載のものなどがある。

[0006] 特許文献 1 :特開 2003— 205228公報

特許文献 2：特開 2000— 350762号公報

特許文献 3 :特開 2004— 89391号公報

特許文献 4：特開 2001— 112662号公報

特許文献 5：実開平 7— 39828号公報

特許文献 6：特開平 11― 188070号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0007] 特許文献 1記載の微細気泡発生器を使用して微細気泡混じりの水を水中へ放出することにより、水中へ微細気泡を供給することができるが、さらに大量の微細気泡を供給した!/ヽ場合、旋回式微細気泡発生器に対する水及び空気の供給量を増大させたり、装置を大型化したりする必要がある。

[0008] し力しながら、水及び空気の供給量を増大させた場合、吐出する微細気泡の総量は増加する力気泡の外径が大きくなつて微細気泡としての特質が失われることがある。また、旋回気液導出口から吐出される微細気泡混じりの水の吐出速度及び吐出量が増大するため、水中の遠い領域まで気泡が拡散するというメリットがある反面、水中に不必要な水流、乱流が生じ、使用目的によっては弊害となることがある。

[0009] そこで、本発明が解決しょうとする第一の課題は、処理対象である流体中に不要な液流や乱流を発生させることなぐ大量の微細気泡混じりの流体を当該流体中へ供給することのできる微細気泡発生器を提供することにある。

[0010] また、特許文献 2に記載された足浴装置 (足浴器)の場合、送風装置から送風された空気を浴槽底部に設けられた気泡通し孔より放出させることによって気泡を発生させるようになつている。しかしながら、このような方式で発生する気泡の外径は mmォーダ一の比較的大きなものであるため、発生した気泡の殆どは液中で急速に浮上した後、液面で弾けて消失しまう。従って、これらの気泡によって得られるのは、マッサージ作用あるいは容器内の湯水を循環させる作用などの効果でしかない。

[0011] そこで、本発明が解決しょうとする第二の課題は、従来の足浴装置より優れた血行増進作用、鎮静作用、自律神経調整作用を得ることのできる足浴装置を提供することにある。

[0012] さらに、特許文献 3〜6に記載された気泡発生装置によって形成される気泡の外径は mmオーダーの比較的大きなものであるため、湯中に送り込まれた気泡の殆どは湯中で急速に浮上した後、湯面で弾けて消失してしまう。従って、これらの気泡によつて得られる効果は入浴者に対するマッサージ効果あるいは浴槽内の湯を循環させる効果程度である。

[0013] そこで、本発明が解決しょうとする第三の課題は、優れた血行増進作用、鎮静作用及び自律神経調整作用を得ることのできる入浴器具を提供することにある。

課題を解決するための手段

[0014] 本発明の微細気泡発生器は、仮想中心線を包囲して設けられた周壁と前記周壁の前記仮想中心線方向の両端に設けられた隔壁とで形成された流体旋回室と、前記仮想中心線に対してねじれの位置をなす方向に沿って前記流体旋回室内へ液体を導入するため前記流体旋回室に連通して設けられた液体導入経路と、前記流体旋回室内に気体を導入するため前記流体旋回室の一方の前記隔壁に開設された気体導入経路と、前記流体旋回室の他方の前記隔壁に開設された吐出口とを有する二つの微細気泡発生部を、それぞれの前記吐出口同士を互いに対向させて配置したことを特徴とする。

[0015] このような構成とすれば、液体導入経路を介してそれぞれの流体旋回室内へ液体を送給すれば、液体は各流体旋回室の仮想中心線に対してねじれの位置をなす方向に沿って流体旋回室内へ送り込まれるため、各流体旋回室内には、仮想中心線の周りに回転する旋回流が発生し、その中心部分である仮想中心線に沿って負圧空洞部が形成される。このため、各流体旋回室の一方の隔壁に開設された気体導入経路を経由して、それぞれの流体旋回室内へ気体 (例えば、空気）が導入され、各流体旋回室内には気液旋回流が形成される。

[0016] この負圧空洞部は渦キヤビテーシヨンとも呼ばれる力成長した渦キヤビテーシヨンの先端部が気液旋回流によって引き千切られ、大量の微細気泡混じりの流体となつて、各流体旋回室の他方の隔壁に開設されたそれぞれの吐出口から吐出される。対向配置された二つの吐出口から吐出された微細気泡混じりの流体は互いに衝突することによって流速が大幅に緩和された後、周囲の流体中へ穏やかに拡散していくため、処理対象である流体中に不要な液流や乱流を発生させることなぐ大量の微細気泡混じりの流体を当該流体中へ供給することができる。また、この微細気泡発生部が微細気泡混じりの流体を当該流体中へ吐出しているとき、同時に、 28kHz以上の超音波が可聴域力連続したバンドで発生することを観察できている。

[0017] この場合、二つの前記微細気泡発生部を、それぞれの前記流体旋回室の仮想中心線同士のなす角度が 180± 5度となるように対向させ、且つ、それぞれの前記流体旋回室内に発生する流体旋回流の旋回方向が互いに同方向となるように配置することが望ましい。このような構成とすれば、二つの微細気泡発生部の吐出ロカ対向して吐出される微細気泡混じりの流体の旋回流同士が略同一直線上に並ぶため、相乗効果により、流速緩和作用がさらに向上する。なお、二つの前記微細気泡発生部の前記流体旋回室内に発生する流体旋回流の旋回方向が互いに逆方向となるように配置すれば、旋回方向の流速を緩和する作用を高めることができる。

[0018] ここで、対向配置された二つの前記吐出口の間にそれぞれの前記吐出口と連通する混合室を設け、前記混合室の一部に前記混合室内へ吐出された微細気泡混じりの流体を外部へ放出する放出口を設けることもできる。このような構成とすれば、それぞれの吐出口から吐出された微細気泡混じりの流体は、混合室内で互いに衝突しな力撹拌された後、放出ロカも放出されることとなるため、さらに流速が緩和され、不要な液流や乱流の発生をなくすことができる。また、微細気泡混じりの流体の放出位置が放出口に限定されるため、所望の方向へ向けて微細気泡を放出させることも可能となる。

[0019] 次に、本発明の足浴装置は、少なくとも片方の足首より下方部分を収容可能な容積を有する足浴容器と、前記足浴容器内に収容された液体に浸漬された前記微細気泡発生器と、前記微細気泡発生器へ前記液体導入経路を経由して液体を供給する液体供給手段と、前記微細気泡発生器へ前記気体導入経路を経由して気体を供給する気体流路とを備えたことを特徴とする。このような構成とすれば、足浴容器内の流体中に浸漬された前記微細気泡発生器に対して、液体供給手段により液体を供給し、それぞれの吐出ロカ微細気泡混じりの液体を吐出させる動作を行えば、足浴容器内の液体中に向力つて大量の微細気泡混じりの流体を供給可能であり、同時に、 28kHz以上の超音波が可聴域力も連続したバンドで発生する。従って、足浴容器内の液体中に供給される大量の微細気泡及び超音波の作用により、液体中に浸潰された足に対する血行増進作用、鎮静作用、自律神経調整作用を得ることができる。

[0020] 例えば、関節痛に対する鎮静作用は 30kHz〜lMHzの周波数帯における 500m WZcm²程度の出力の超音波が有効であり、骨折部分の治癒促進のためには 10k Ηζ〜1ΜΗζの周波数帯における lWZcm²程度の出力の超音波が有効であるといわれている。なお、足浴容器内の液体として、加温された液体を用いれば、前述した各種作用に加え、温熱効果も得ることができる。

[0021] ここで、前記気体流路若しくは前記気体導入経路の一部に酸素富化器を設ければ、酸素富化器によって酸素濃度が高められた空気を流体旋回室へ供給することが可能となる。これによつて、大気中の酸素濃度より高い空気を内包した大量の微細気泡混じりの流体が吐出口から吐出することとなるため、足浴容器内の液体中から気化した酸素により、足浴容器上部の酸素濃度が高まり、爽快感を得ることができる。また、溶存酸素濃度の高い液体には人体の疼痛症状を緩和する作用もあるため、前記気体導入経路の一部に酸素富化器を設けることにより、鎮静効果も高めることができる

[0022] 次に、本発明の入浴器具は、前記微細気泡発生器と、前記微細気泡発生器へ前記液体導入経路を介して液体を供給する液体供給手段と、前記微細気泡発生器へ前記気体導入経路を経由して気体を供給する気体流路とを備えたことを特徴とする

。このような構成とすれば、浴槽内の湯中に浸漬された前記微細気泡発生器に対して、液体供給手段によって湯を供給し、それぞれの吐出口から微細気泡混じりの湯を吐出させる動作を行えば、湯中に向力つて大量の微細気泡混じりの流体を吐出させることができ、入浴器具が大気中にある状態で前記動作を行えば、吐出ロカも人体の一部などの対象物に向力つて大量の微細気泡混じりの流体を吐出させることができる。

[0023] このように各吐出ロカも微細気泡混じりの湯を吐出させた場合、同時に、 28kHz以上の超音波が可聴域力連続したバンドで発生するため、発生した超音波により、湯に浸かった人体あるいは微細気泡混じりの湯を浴びる人体に対する血行増進作用、鎮静作用及び自律神経調整作用が得ることができる。

[0024] ここで、前記気体流路若しくは前記気体導入経路の一部に酸素富化器を設ければ、酸素富化器によって酸素濃度が高められた空気を流体旋回室内へ供給可能となるため、大気より酸素濃度の高い空気を内包する微細気泡の混じり液体を吐出口から浴槽内の湯中に向力つて吐出させることができる。従って、浴槽内の湯力も気化した酸素により、浴槽上部の酸素濃度が高まり、入浴者は爽快感を得ることができる。また、溶存酸素濃度の高い湯は、人体の疼痛症状を緩和する作用もあるため、このような症状がある部位を鎮静する効果も得ることができる。

発明の効果

[0025] 本発明の微細気泡発生器により、処理対象である流体中に不要な液流や乱流を発生させることなぐ大量の微細気泡混じりの流体を当該流体中へ供給することができる。

[0026] また、本発明の足浴装置により、優れた血行増進作用、鎮静作用、自律神経調整作用を得ることができる。

[0027] さらに、本発明の入浴器具により、優れた血行増進作用、鎮静作用及び自律神経調整作用を得ることができる。

図面の簡単な説明 [図 1]本発明の実施の形態である微細気泡発生器を示す側面図である。

[図 2]図 1に示す微細気泡発生器の正面図である。

[図 3]図 1に示す入浴器具を構成する微細気泡発生部の斜視図である。

[図 4]図 3における B—B線断面図である。

[図 5]図 1における A— A断面図である。

[図 6]図 5に示す微細気泡発生器内における微細気泡発生状態を示す断面図である

[図 7]図 1に示す微細気泡発生器の使用例を示す図である。

[図 8]本発明の実施の形態である足浴装置を示す平面図である。

[図 9]図 8における C— C線断面図である。

[図 10]二つの微細気泡発生部の配置状態に関するその他の実施の形態を示す平面図である。

[図 11]二つの微細気泡発生部の配置状態に関するその他の実施の形態を示す平面図である。

[図 12]二つの微細気泡発生部の配置状態に関するその他の実施の形態を示す平面図である。

[図 13]二つの微細気泡発生部の配置状態に関するその他の実施の形態を示す平面図である。

[図 14]二つの微細気泡発生部の配置状態に関するその他の実施の形態を示す平面図である。

[図 15]二つの微細気泡発生部の配置状態に関するその他の実施の形態を示す平面図である。

[図 16]二つの微細気泡発生部の配置状態に関するその他の実施の形態を示す平面図である。

[図 17]二つの微細気泡発生部の配置状態に関するその他の実施の形態を示す平面図である。

[図 18]二つの微細気泡発生部の配置状態に関するその他の実施の形態を示す平面図である。 [図 19]本発明の実施の形態である入浴器具の使用状態を示す図である。

[図 20]図 19に示す入浴器具のその他の使用状態を示す図である。

符号の説明

10 足浴装置

11 微細気泡発生器

11a ケーシング

12, 13 微細気泡発生部

14a, 14b, 15 気体導入経路

16 酸素富化器

16a 酸素富化膜

17, 19 フイノレタ

18, 18a, 18b 液体導入経路

20 クッション材

21 凹曲面

22 排水口

22a 開閉蓋

23 分岐具

24 気液供給装置

33 電熱式発熱体

25 流体旋回室

25a, 25b 隔壁

25c 仮想中心線

25d 周面

25p 予備旋回部

26 気体導入口

27 液体導入口

28a, 28b 吐出口 29a 放出口

30 培養容器

31 培養基

32 足浴容器

32a 底板

33 電熱式発熱体

40 入浴器具

AP エアポンプ

BR 浴室

BT 浴槽

F 足

F1 足裏部分

HW 湯

NB 微細気泡

P ポンプ

R 旋回流

V 負圧空洞部

W 水

発明を実施するための最良の形態

[0030] 以下、図 1〜図 7に基づいて、本発明の実施の形態である微細気泡発生器について説明する。図 1は本発明の実施の形態である微細気泡発生器を示す側面図、図 2 は図 1に示す微細気泡発生器の正面図、図 3は図 1に示す入浴器具を構成する微細気泡発生部の斜視図、図 4は図 3における B— B線断面図、図 5は図 1における A— A断面図、図 6は図 5に示す微細気泡発生器内における微細気泡発生状態を示す断面図、図 7は図 1に示す微細気泡発生器の使用例を示す図である。

[0031] 図 1〜図 5に示すように、微細気泡発生器 11は、略直方体形状のケーシング 11a 内に、二つの微細気泡発生部 12, 13を、それぞれの吐出口 28a, 28b同士が互いに対向する状態で配置することによって形成されている。微細気泡発生部 12, 13は、仮想中心線 25cを包囲して設けられた周壁 25dと周壁 25dの仮想中心線 25c方向の両端に設けられた隔壁 25a, 25bとで形成された流体旋回室 25と、仮想中心線 25 cに対してねじれの位置をなす方向に沿って流体旋回室 25内へ液体を導入するため流体旋回室 25に連通して設けられた液体導入経路 18a, 18bと、各流体旋回室 2 5内に気体を導入するため各流体旋回室 25の一方の隔壁 25aに開設された気体導入経路 14a, 14bと、流体旋回室 25の他方の隔壁 25bに開設された吐出口 28a, 28 bと、を備えている。

[0032] 二つの気体導入経路 14a, 14bの上流側は分器具 23を介して気体導入経路 15に接続されており、大気中の空気などを気体導入経路 14a, 14bを経由して微細気泡発生器 11内の微細気泡発生部 12, 13へ供給する。また、液体導入経路 18a, 18b の上流側は液体導入経路 18に連結されており、液体導入経路 18を経由して供給される液体が液体導入経路 18a, 18bを通して微細気泡発生部 12, 13へ供給される。

[0033] ここで、図 3〜図 6を参照して、微細気泡発生部 12, 13の構造、機能などについて説明する。なお、図 5に示すように、微細気泡発生部 12, 13はケーシング 11a内に配置された状態で互いに鏡面対象な構造であり、構成部分も同じであるため、以下、微細気泡発生部 13について説明し、微細気泡発生部 12については、微細気泡発生部 13の構成部分と同じ符号を付して説明を省略する。

[0034] 微細気泡発生部 13は、仮想中心線 25cを包囲して設けられた周壁 25dと、周壁 25 dの仮想中心線 25c方向の両端に設けられた隔壁 25a, 25bとで形成された流体旋回室 25と、仮想中心線 25cに対してねじれの位置をなす方向に沿って流体旋回室 2 5内へ流体 (湯 HW)を導入するため流体旋回室 25に連通して設けられた液体導入経路 18b (18a)と、流体旋回室 25内に気体 (空気）を導入するため流体旋回室 25の一方の隔壁 25aに開設された気体導入経路 14b (14a)と、流体旋回室 25の他方の隔壁 25bに開設された吐出口 28b (28a)と、を備えている。液体導入経路 18b (18a )は液体導入口 27により流体旋回室 25に連通し、気体導入経路 14b (14a)は気体導入口 26により流体旋回室 25に連通している。

[0035] 図 7に示すように、収容槽 32内の水 W中に微細気泡発生器 11及び液体導入経路 18のフィルタ 19を浸漬した状態でポンプ Pを作動させると、収容槽 32内からフィルタ 19及び液体導入経路 18を経由して吸い込まれた水 W力液体導入経路 18a, 18b を経由して液体導入口 27から流体旋回室 25内へ流入し、図 6に示すように、流体旋回室 25内に旋回流 Rが発生する。そして、この旋回流 Rのほぼ中心線に沿って略円筒状の負圧空洞部 Vが出現し、この負圧空洞部 Vの一方の端部は流体旋回室 25の隔壁 25aに開設された気体導入口 26付近に位置するとともに、負圧空洞部 Vの他方の端部は流体旋回室 25の隔壁 25bに開設された吐出口 28a, 28b付近に位置し、吐出口 28a, 28b付近に位置する負圧空洞部 Vの端部は括れた状態となる。

[0036] このように、流体旋回室 25内に出現する負圧空洞部 Vの負圧により、気体導入口 2 6付近にも負圧が生じるため、この負圧に起因する吸引力により、フィルタ 17及び気体導入経路 15, 14a, 14bを経由して大気中から吸引された空気が気体導入口 26 力も流体旋回室 25内の負圧空洞部 V内へ連続的に流入し、流体旋回室 25内に導入された水 Wとともに旋回流 Rを形成する。

[0037] 負圧空洞部 V内へ流入した空気は、流体旋回室 25内に発生している旋回流尺に連行され吐出口 28a, 28b力吐出される。このとき、負圧空洞部 Vの吐出口 28a, 2 8b側の端部において旋回流 Rによってねじ切られて微細気泡 NBとなり、旋回流 Rを形成する流体 (水 W)とともに、微細気泡 NB混じりの流体 (水 W)となって、それぞれ吐出口 28a, 28bから混合室 29内へ吐出される。混合室 29は、対向配置された微細気泡発生部 12, 13の間に設けられ、それぞれの吐出口 28a, 28bと連通している。

[0038] このように微細気泡発生部 12, 13の吐出口 28a, 28bからそれぞれ混合室 29内へ吐出された微細気泡 NB混じりの流体 (水 W)は互いに衝突するとともに混合室 29内を循環した後、ケーシング 11aに開設された放出口 29aから収容槽 32の水 W中へ放出される。

[0039] このように、放出口 29aから水 W中へ微細気泡 NB混じりの流体（水 W)を放出することにより、収容槽 32内の水 W中へ酸素や窒素などの気体を供給、溶解させることができる。このため、酸素などの溶存濃度の高い微細気泡 NB混じりの流体 (水 W)が、収容槽 32内をムラなく穏やかに循環することとなり、収容槽 32内の水 W中に浸漬された複数の培養容器 30内の培養基 31 (例えば、透明ゲル）に対し、均等に酸素などを供給することができる。また、収容槽 32内の水 Wに不要な水流や乱流が発生しないので、例えば、培養基 31で培養されている細菌類などに悪影響を与えることもない

[0040] 微細気泡発生器 11において、対向配置された二つの微細気泡発生部 12, 13の吐出口 28a, 28bから吐出された微細気泡 NB混じりの流体 (水 W)は互いに衝突することによって流速が大幅に緩和された後、周囲の水 W中へ穏やかに拡散していくため、処理対象である水 W中に不要な液流や乱流を発生させることなぐ大量の微細気泡 NB混じりの水 Wを当該水 W中へ供給することができる。また、この微細気泡発生部 12, 13が微細気泡 NB混じりの水 Wを当該水 W中へ吐出しているとき、同時に、 28kHz以上の超音波が可聴域力連続したバンドで発生することが観察することができた。

[0041] また、二つの微細気泡発生部 12, 13は、それぞれの流体旋回室 25の仮想中心線 25c同士のなす角度が 180度となるように対向させ、且つ、それぞれの流体旋回室 2 5内に発生する流体旋回流 Rの旋回方向が互いに同方向となるように配置されている。従って、二つの微細気泡発生部 12, 13の吐出口 28a, 28bから対向して吐出される微細気泡 NB混じりの水 Wの旋回流同士が略同一直線上に並ぶため、相乗効果により、流速緩和作用がさらに向上する。なお、それぞれの流体旋回室 25内に発生する流体旋回流 Rの旋回方向は図 6に示す形態に限定しないので、二つの微細気泡発生部 12, 13を逆に配置したり、二つの微細気泡発生部 12同士を対向配置したり、二つの微細気泡発生部 13同士を対向配置したりすることもできる。また、二つの微細気泡発生部 12, 13に対して二つのポンプで個別に水 Wを供給したり、二つの微細気泡発生部 12, 13に対して一つまたは二つのエアポンプで空気を供給したりすることちでさる。

[0042] さらに、対向配置された二つの吐出口 28a, 28bの間に、それぞれの吐出口 28a, 28bと連通する混合室 29を設け、混合室 29の一部に、微細気泡 NB混じりの水 Wを外部へ放出する放出口 29aを設けている。従って、それぞれの吐出口 28a, 28bから吐出された微細気泡 NB混じりの水 Wは、混合室 29内で互いに衝突しながら撹拌された後、放出口 29aから放出されることとなるため、さらに流速が緩和され、収容槽 3 2内に不要な液流や乱流が発生しない。また、微細気泡 NB混じりの水 Wの放出位置が放出口 29aに限定されるため、所望の方向へ向けて微細気泡 NBを放出させることも可能である。なお、微細気泡 NB混じりの水 Wを放出口 29aから穏やかに放出させるためには、放出口 29aの開口断面積を、吐出口 28a, 28bの開口断面積の総和よりも大とする必要がある。

[0043] 一方、微細気泡発生部 12, 13の内部においては、その流体旋回室 25内に出現する負圧空洞部 Vの一方の端部から空気を導入しながら他方の端部の延長方向に向力つて微細気泡 NB混じりの水 Wを放出する。このため、この負圧空洞部 Vは流体旋回室 25の仮想中心線 25c付近に安定的に存在し続け、その両端もそれぞれ気体導入口 26付近及び吐出口 28a, 28b付近に安定的に位置する。従って、負圧空洞部 Vが流体旋回室 25の内面などに接触することがなぐ微細気泡発生部 12, 13内にキヤビテーシヨン'エロージョンが発生しないため、耐久性にも優れている。

[0044] また、微細気泡発生部 12, 13は、略円筒形状をした流体旋回室 25に液体導入口 27、気体導入口 26及び吐出口 28a, 28bを開設した簡素な構造であるため、取り扱いは容易であり、水 Wや空気に伴って流入した異物が詰まりやすい細かな流路もないので、定期的なメンテナンスも不要であり、取り扱いが容易である。

[0045] また、図 5に示すように、流体旋回室 25の隔壁 25aに開設された気体導入口 26を、流体旋回室 25の仮想中心線 25cに沿って内側へ突出させて配置するとともに、流体旋回室 25の周壁 25dと気体導入口 26との間に滑らかに連続した凹曲面 21を設けている。このため、図 6に示すように、流体旋回室 25内に形成される負圧空洞部 Vの隔壁 25a側の端部から空気が導入され、隔壁 25b側の端部の延長方向に向力つて微細気泡 NB混じりの流体 (水 W)を吐出する。したがって、負圧空洞部 Vは流体旋回室 25の仮想中心線 25c付近に安定的に存在し続け、その両端部も吐出口 28a, 28 b付近及び気体導入口 26付近に安定的に位置する。

[0046] このように、気体導入口 26を流体旋回室 25の内側へ突出させて配置するとともに凹曲面 21を設けたことによって負圧空洞部 Vの気体導入口 26側の端部が不規則に移動するのを防止することができる。このため、流体旋回室 25の隔壁 25a, 25bにキャビテーシヨン'エロージョンなどが生じることもなぐ優れた耐久性が得られる。また、図 4,図 5に示すように、流体旋回室 25の隔壁 25b寄りの領域には、他の領域より内径の大きい予備旋回部 25pを設けている。このため、液体導入口 27から導入された水 Wを予備旋回部 25pにおいてー且整流した後、流体旋回室 25全体へ導入することができる。これによつて、液体導入口 27から導入される水 Wの圧力変動が緩衝され、圧力変動に起因する負圧空洞部 Vの移動を防止することができるため、キヤビテーシヨン ·エロージョンの防止に有効である。

[0047] なお、本実施形態では、水中に浸漬した微細気泡発生器 11に対して水及び空気を供給して微細気泡 NB混じりの水を水中に供給する使!、方につ、て説明して、る 1S これは一例であって、これに限定するものではないので、水以外の液体に微細気泡発生器 11を浸漬し、水以外の液体及び空気以外の気体を微細気泡発生器 11 へ供給して微細気泡を発生させることもできる。また、微細気泡発生器 11の気体導入経路 14a, 14bを閉塞し、液体導入経路 18a, 18bから液体のみを流体旋回室 25 内へ供給したり、液体と気体とを混合させたものを液体導入経路 18a, 18bから流体旋回室 25内へ供給したりすることも可能である。

[0048] 次に、図 8〜図 18に基づいて本発明の実施の形態である足浴装置について説明する。図 8は本発明の実施の形態である足浴装置を示す平面図、図 9は図 8における C C線断面図、図 10〜図 18は二つの微細気泡発生部の配置状態に関するその他の実施の形態を示す平面図である。なお、図 8〜図 18において図 1〜図 7に示す符号と同じ符号を付している部分は微細気泡発生器 11の構成部分と同じ構造、機能及び効果を有する部分であるため説明を省略する。

[0049] 図 8,図 9に示すように、本実施形態の足浴装置 10は、人間の足首より下方部分（以下、足 Fとする。）を収容可能な容積を有する足浴容器 32と、この足浴容器 32内に収容された湯 HWに浸漬された微細気泡発生器 11と、微細気泡発生器 11を構成する微細気泡発生部 12, 13に対して液体導入経路 18を介して足浴容器 32内の湯 H Wを循環供給するポンプ Pと、微細気泡発生部 12, 13へ空気を供給する気体導入経路 14a, 14b, 15と、を備えている。気体導入経路 15には、エアポンプ AP、酸素富化器 16及び気体濾過用のフィルタ 17が配置され、液体導入経路 18の吸い込み口には液体濾過用のフィルタ 19が取り付けられて、る。

[0050] 足浴容器 32の底板 32aの上面には、足裏部分 F1を載置したときの感触を良くするためのクッション材 20が配置され、底板 32aの下面には、足浴容器 32内の湯 HWを加熱及び保温するための電熱式発熱体 33が配置されて、る。足浴容器 32の正面部分には、足浴容器 32内の湯 HWを排出する際に利用することができる開閉蓋 22a 付きの排水口 22力設けられて!/、る。

[0051] 気体導入経路 15は分岐具 23によって二つの気体導入経路 14a, 14bに分流されており、エアポンプ APの働きにより、大気中の空気をフィルタ 17から吸い込み、酸素富化器 16を通過して酸素富化された空気をそれぞれ気体導入経路 14a, 14bを経由して微細気泡発生部 12, 13へ供給する。また、液体導入経路 18の途中に配置されたポンプ Pの働きにより、フィルタ 19を通して吸い込んだ足浴容器 32内の湯 HWを液体導入経路 18及び分岐管 18a, 18bを通して、微細気泡発生部 12, 13へ供給する。

[0052] 二つの微細気泡発生部 12, 13は、足浴容器 32内の湯 HW中に浸漬された略直方体形状のケーシング 11a内に配置され、これらの微細気泡発生部 12, 13は、図 5 で示したように、それぞれの吐出口 28a, 28bを同一直線上で互いに対向させた状態でケーシング 11a内に配置されている。微細気泡発生部 12, 13の構造、機能については図 1〜図 7に基づいて説明した通りである。

[0053] 図 8,図 9に示す状態において、ポンプ P及びエアポンプ APを稼働させると、足浴容器 32内から液体導入経路 18を通じて吸い込まれた湯 HWが、分岐管 18a, 18bを経由して微細気泡発生部 12, 13内へ流入するとともに、エアポンプ APの圧送力により気体導入経路 15, 14a, 14bを経由して大気中から吸引された空気が微細気泡発生部 12, 13内へ流入し、それぞれの流体旋回室 25内に旋回流 Rが形成される（図 6参照)。そして、微細気泡 NB混じりの湯 HWが放出口 29aから足浴容器 32内の湯 HW中へ放出される。

[0054] このように放出口 29aから湯 HW内中へ微細気泡 NB混じりの湯 HWを放出することにより、足浴容器 32内に収容されている湯 HWに酸素や窒素などを供給、溶解させることができる。これらの微細気泡 NB混じりの湯 HWは、足浴容器 32内に差し込まれクッション材 20の上に載置された二つの足 Fの間に放出され、湯 HWとともに足浴容器 32内を循環する。このため、酸素などの溶存濃度の高い湯 HWが足浴容器 32 内全体をムラなく循環し続けることとなり、これにより、湯 HWに浸漬された足 Fに対する、血行増進作用、温熱作用、鎮静作用及び自律神経調整作用を得ることができる。なお、微細気泡発生部 12, 13の吐出口 28から混合室 29内へ吐出される微細気泡 NB混じりの流体には、微細気泡 NBより外径の大きな気泡も含まれているため、これらの気泡により、従来の足浴装置 (足浴器)と同様のマッサージ作用、湯水循環作用ち得ることがでさる。

[0055] また、このような血行増進作用、温熱作用、鎮静作用及び自律神経調整作用の影響は、湯 HW中に差し込まれた足 Fの部分だけに限らず、足 Fの上方部分から腰部分まで及ぼされることとなるため、関節痛、筋肉痛などの足腰の痛みを軽減または解消することができる。この場合、足 Fを足浴容器 32内の湯 HW中に差し込んで、ボンプ P及びエアポンプ APを作動させるだけでよ!、ので、使!、方も極めて簡単である。

[0056] また、微細気泡発生部 12, 13内で旋回している微細気泡 NB混じりの流体とキヤビテーシヨンに起因するものと考えられる超音波が発生していることを微細気泡発生器 11の放出口 29a付近で観測することができた。従って、このような超音波によって血行増進作用が高まり、前述した鎮静作用、自律神経調整作用に寄与しているのではないかと推測される。なお、微細気泡発生部 12, 13をステンレスなどの金属材料で形成した場合よりも、合成樹脂材料で形成した場合の方が、超音波が透過しやすぐ放出口 29a付近で強い超音波が発生する傾向があることも確認している。従って、微細気泡発生部 12, 13を合成樹脂材料で形成すれば、微細気泡発生部 12, 13内で発生した超音波が足浴容器 32内の湯 HW中へ効率良く放射されることとなる。なお、微細気泡発生部 12, 13はセラミックス材料で形成することもできる。

[0057] 本実施形態では、気体導入経路 15に酸素富化器 16を設けているため、この酸素富化器 16を通過することによって酸素濃度が高められた空気を流体旋回室 25へ供給することができる。従って、大気中の酸素濃度より高い酸素濃度の空気を内包した大量の微細気泡 NB混じりの流体力吐出口 28a, 28b力も放出口 29aを経由して湯 HW中へ吐出される。このため、足浴容器 32内の湯 HW中の溶存酸素濃度及び足浴容器 32上部の酸素濃度が高まり、鎮静作用及び爽快感を得ることができる。

[0058] この酸素富化器 16は有機高分子化合物で形成された複数の酸素富化膜 16aを内蔵している。このような酸素富化膜 16aを通過する窒素分子の通過速度は、酸素の通過速度よりも遅いため、大気中から吸い込んだ空気が酸素富化膜 16aを通過することにより、大気よりも酸素含有比率の高い空気が形成される。一般に大気中の空気の酸素と窒素の存在比は、酸素約 21%、窒素約 79%である力酸素富化器 16を通過した後の空気においては、酸素約 30%、窒素約 70%となり、酸素含有率が高くなる。

[0059] また、気体導入経路 15には、流体旋回室 25内へ空気を圧送するためのエアボンプ APを設けてヽるため、足浴容器 32が深ヽなどの理由により微細気泡発生器 11が水圧の高ヽ領域に配置された場合、あるいは空気が酸素富化器 16を通過する際の抵抗が大である場合においても、流体旋回室 25内へ確実に空気を供給することができる。このため、微細気泡 NB混じりの流体を足浴容器 32内の湯 HW中へ安定的に吐出させることができる。

[0060] 足浴装置 10を構成する微細気泡発生器 11においては、図 5で示したように、二つの微細気泡発生部 12, 13を、それぞれの流体旋回室 25の仮想中心線 25c同士のなす角度が 180度であって、且つ、二つの微細気泡発生部 12, 13のそれぞれの流体旋回室 25内で発生する旋回流 Rの旋回方向が互いに同方向となるように分岐管 1 8a, 18bを配管している。即ち、それぞれの中心線 25c同士が同一直線上に位置し、且つ、それぞれの流体旋回室 25内で発生する旋回流 Rの旋回方向が互いに一致するように構成している。従って、後述する検証結果を見ると分力るように、最も優れた疼痛軽減効果を得ることができる。

[0061] このような配置をすることによって最も優れた疼痛軽減効果を得ることができる理由については不明な点が多いが、それぞれの微細気泡発生部 12, 13の吐出口 28a, 28bから対向して吐出される微細気泡 NB混じりの流体の旋回方向が互いに一致するとともに、旋回流 Rの中心線でもある中心線 25c同士が同一直線上に並ぶため、相乗効果により、前述した作用がさらに向上するのではないかと予測される。

[0062] なお、本発明の足浴装置はこの配置に限定するものではないので、分岐管 18a, 1 8bのいずれか一方の、流体旋回室 25に対する配管位置を変更することにより微細気泡発生部 12, 13内の旋回流 Rの旋回方向が互いに逆方向となるようにすることもできる。また、液体導入経路 18と分岐管 18a, 18bとの連結部分に切替弁を設け、微細気泡発生部 12, 13に供給する湯 HWの供給比率を変更したり、いずれか一方のみに湯 HWを供給したりできる構成とすることもできる。同様に、気体導入経路 15と気体導入経路 14a, 14bとの連結部分に切替弁を設け、微細気泡発生部 12, 13に供給する空気の供給比率を変更したり、いずれか一方のみに空気を供給したりできる構成とすることちでさる。

[0063] さらに、足浴装置 10においては、足浴容器 32の底板 32aの下面に電熱式発熱体 3 3を配置しているため、足浴容器 32内の湯 HWの温度を予め設定した一定温度に保つことができる。従って、足浴装置 10を長時間使用する場合においても、湯 HWの温度が低下することがない。なお、足浴容器 32内に収容する液体は湯 HWに限定するものではな!/、ので、水ある、はその他の液体を収容して足浴に供することもできる。

[0064] なお、足浴容器 32の形状は特に限定するものではないので、使用条件に応じて、さらに深くしたり、広くしたりすることができる。また、本実施形態では、微細気泡発生部 12, 13の流体旋回室 25の仮想中心線 25cが水平状態となるような姿勢で微細気泡発生器 11を配置している力このような配置に限定するものではないので、足浴容器 32の形状あるいは使用者の希望に応じて、仮想中心線 25cが垂直状態あるいは斜め状態となるように微細気泡発生器 11を配置することもできる。また、本実施形態では足浴容器 32内の湯 HWに足 Fを浸漬する使い方について説明しているが、足浴装置 10の使い方はこれに限定するものではないので、足浴容器 32内の湯 HWに手を浸漬して使用することも可能であり、その場合においても前述と同様の効果を得ることがでさる。

[0065] ここで、下肢あるいは上肢に様々な疼痛症状を有する 23人の被験者 (A〜W)が本実施形態の足浴装置 10を実際に使用した場合のそれぞれの痛みの変化に関して検証を行ったので、その結果について、表 1に基づいて説明する。なお、足浴装置 1 0の微細気泡発生器 11においては、前述したように、複数の微細気泡発生部 12, 1 3が、それぞれの流体旋回室 25の仮想中心線 25c同士のなす角度が 180度をなすように対向配置され、且つ、複数の微細気泡発生部 12, 13の各流体旋回室 25内で発生する旋回流 Rの旋回方向が互いに同方向となるように分岐管 18a, 18bが配管されている。即ち、それぞれの中心線 25c同士が同一直線上に位置し、且つ、それぞれの流体旋回室 25内で発生する旋回流 Rの旋回方向が互、に一致するように構成されている。

[0066] 各被験者 (A〜W)は、微細気泡発生器 11が稼働状態にある足浴装置 10の足浴容器 32内に収容された湯 HW中に、疼痛症状のある足または手を一定時間（25分）浸漬する。そして、浸漬前の各人の痛みの程度を 10としたとき、 25分浸漬した後の各人の痛みの程度を 1〜10のうちのいずれかの数値で表現すると、表 1に示すような結果が得られた。

[0067] [表 1]

足浴装置 10を構成する微細気泡発生部 12の流体旋回室 25内においては、図 6 で示したように、左回りの旋回流 Rが発生し、微細気泡発生部 13の流体旋回室 25内には右回りの旋回流 Rが発生する。なお、「右回り」、「左回り」の表現は、微細気泡発生部 12, 13の内部からそれぞれの吐出口 28a, 28bを見た状態を基準として、時計回りを右回り、反時計回りを左回りとしている（以下、同様に表現する。 ) o表 1を見ると分力るように、足浴装置 10の足浴容器 32内の湯 HW中に、各人の症状に応じて足または手を一定時間浸漬することによって各人の疼痛症状は軽くなつており、「痛みの変化」を平均すると「10→4.26」という結果が得られた。このことにより、足浴装置 1 0を使用すれば、足や手の疼痛症状を大幅に軽減することができることが判明した。

[0069] 次に、二つの微細気泡発生部 12, 13を有する微細気泡発生器 11を備えた足浴装置 10と比較するため、 1つの微細気泡発生部 12のみを足浴容器内の湯 HW中に配置した構造の足浴装置（図示せず）についても同じ条件で検証を行った。即ち、足や手に様々な疼痛症状を有する 23人の被験者 (A〜W)が前述と同じ条件で、微細気泡発生部 12のみを足浴容器内の湯 HWに浸漬した構造の足浴装置（図示せず)を使用して、そのときの痛みの変化を調べた。この場合、微細気泡発生部 12の流体旋回室 25内には左回りの旋回流 Rが発生する。そして、浸漬前の各人の痛みの程度を 10としたとき、前記足浴装置の足浴容器内の湯中に 25分浸漬した後の各人の痛みの程度を 1〜10のうちのいずれかの数値で表現すると、表 2に示すような結果が得られた。

[0070] [表 2]

被験者浸漬部位浸漬時間症状痛みの変化

A 足 2 5分左足痛 1 0→5

B 足 2 5分左足痛 1 0→5

C 足 2 5分左足痛 1 0→8

D 足 2 5分両下肢痛 1 0→7

E 手 2 5分両手痛 1 0→5

F 足 2 5分左下肢痛 1 0→4

G 足 2 5分右下肢痛 1 0→5

H 足 2 5分両足捅 1 0→7

I 足 2 5分両足痛 1 0→7 . 5

J 足 2 5分左下肢痛 1 0→5

K 足 2 5分左下肢痛 1 0→ 1 0

L 手 2 5分両手痛 1 0→7

M 手 2 5分両手痛 1 0→5

N 足 2 5分右下肢痛 1 0→ 1

O 手 2 5分両手痛 1 0→4

P 足 2 5分両下肢 S 1 0→7 . 5

Q 足 2 5分両 F"肢甬 1 0→8

R 足 2 5分両 F¾ 1 0→ 1 0

S 足 2 5分右下肢痛 1 0→3

T 足 2 5分両足痛 1 0→6

u 足 2 5分両足痛 1 0→7

V 足 2 5分右足痛 1 0→7

w 足 2 5分両足無 1 0→6

痛みの変化の平均 1 0→ 6 . 0 9

[0071] 表 2を見ると、 1つの微細気泡発生部 12のみを配置した構造の前記足浴装置の足浴容器内の湯中に、各人の症状に応じて足または手を一定時間浸漬することにより、各人の疼痛症状は、 K, Rを除いて、若干軽くなつていることが分かる。しかしながら、痛みの変化の平均は「10→6.09」であり、足浴装置 10の場合よりも痛みの変化は小さい結果となった。このことにより、 1つの微細気泡発生部 12のみを配置した足浴装置より、二つの微細気泡発生部 12, 13を対向配置した足浴装置 10の方力足や手の疼痛症状を軽減する効果が高いことが判明した。

[0072] 次に、図 10〜図 18を参照しながら、二つの微細気泡発生部 12, 13の配置形態を変えたときに、下肢に様々な疼痛症状を有する 10人の被験者 (A〜J)における疼痛症状の軽減効果にどのような違いがあるかについて説明する。図 10〜図 18はそれぞれ二つの微細気泡発生部 12, 13の配置関係に関するその他の実施の形態を示す平面図であり、これらの図中に記載している微細気泡発生部 12, 13は、図 1〜図 6に示す微細気泡発生部 12, 13と同じ構造を有するものである。

[0073] 各被験者 (A〜J)は、図 10〜図 18に示すように配置された二つの微細気泡発生部 12, 13が稼働状態にあるそれぞれの足浴装置（図示せず)の足浴容器内の湯中に、疼痛症状のある足または手を一定時間（25分)浸漬する。そして、浸漬前の各人の痛みの程度を 10としたとき、 25分浸漬した後の各人の痛みの程度を 1〜10のうちの Vヽずれかの数値で表現すると、表 3〜表 11に示すような結果が得られた。

[0074] 図 10に示す実施の形態においては、二つの微細気泡発生部 12がそれぞれの流体旋回室 25 (図 5,図 6参照）の中心線 25cが互いに平行をなすように配置され、二つの微細気泡発生部 12の吐出口 28aから、微細気泡 NB混じりの流体が左回りに旋回しながら吐出される。このような配置形態を備えた足浴装置を各被験者 (A〜J)が使用した場合の疼痛症状の軽減効果を調べると表 3に示す結果が得られた。表 3を見ると、「痛みの変化の平均」は「10→6. 45」であり、図 10に示す配置形態の足浴装置を使用することによって各人の疼痛症状は軽くなつているが、図 8,図 9に示す足浴装置 10を使用した場合の疼痛軽減効果には及ばないことが分かる。

[0075] [表 3]

[0076] 次に、図 11に示す実施の形態においては、二つの微細気泡発生部 12がそれぞれの流体旋回室 25 (図 5,図 6参照）の中心線 25cが互いに直交するように配置され、二つの微細気泡発生部 12の吐出口 28aから、微細気泡 NB混じりの流体が左回りに旋回しながら吐出される。このような配置形態を備えた足浴装置を各被験者 (A〜J) が使用した場合の疼痛症状の軽減効果を調べると表 4のような結果が得られた。表 4 を見ると、「痛みの変化の平均」は「10→6. 35」であり、前述と同様、図 11に示す配置形態の足浴装置を使用することによって各人の疼痛症状は軽くなつて、るが、図 8 ,図 9に示す足浴装置 10を使用した場合の疼痛軽減効果に比べると低いことが分かる。

[0077] [表 4]

[0078] 次に、図 12に示す実施の形態においては、二つの微細気泡発生部 12がそれぞれの流体旋回室 25 (図 5,図 6参照）の中心線 25cが互いに 180度をなすように、即ち、同一直線上に位置するように配置され、二つの微細気泡発生部 12の吐出口 28aから、微細気泡 NB混じりの流体が左回りに旋回しながら吐出される。このような配置形態を備えた足浴装置を各被験者 (A〜J)が使用した場合の疼痛症状の軽減効果を調べると表 5のような結果が得られた。表 5に示すように、「痛みの変化の平均」は「10 →6. 5」であり、図 12に示す配置形態の足浴装置を使用することによって各人の疼痛症状は軽くなつている力図 8,図 9に示す足浴装置 10を使用した場合の疼痛軽減効果よりは低い結果となった。本実施形態の場合、二つの微細気泡発生部 12をそれぞれの流体旋回室 25 (図 6参照）の中心線 25cが互いに 180度をなすように配置しているが、二つの微細気泡発生部 12内の旋回流 R (図 6参照）の旋回方向が一致して、な、ため、充分な疼痛軽減効果が得られな、のではな!/、かと推測される。

[0079] [表 5] 被験者浸漬部位浸漬時間症状痛みの変化

A 足 2 5分右足痛 1 0→ 7

B 足 2 5分右足捅 1 0→ 8

C 足 2 5分両足捅 1 0→ 8

D 足 2 5分右下肢痛 1 0→ 5

E 足 2 5分左下肢痛 1 0→ 6

F 足 2 5分左足痛 1 0→ 5

G 足 2 5分両下肢 ί南 1 0→ 5

H 足 2 5分両足捅 1 0→ 6

] 足 2 5分両足捅 1 0→ 8

J 足 2 5分左足捅 1 0→ 7

痛みの変化の平均 1 0→ 6 . 5

[0080] 次に、図 13に示す実施の形態においては、二つの微細気泡発生部 13がそれぞれの流体旋回室 25 (図 5,図 6参照）の中心線 25cが互いに平行をなすように配置され、二つの微細気泡発生部 13の吐出口 28bから、微細気泡 NB混じりの流体が右回りに旋回しながら吐出される。このような配置形態を備えた足浴装置を各被験者 (A〜J )が使用した場合の疼痛症状の軽減効果を調べると表 6のような結果が得られた。表 6を見ると、「痛みの変化の平均」は「10→6. 4」であり、図 13に示す配置形態の足浴装置を使用することによって各人の疼痛症状は軽くなつているもの力やはり、図 8, 図 9に示す足浴装置 10を使用した場合の疼痛軽減効果には及ばなヽことが分かる。

[0081] [表 6]

次に、図 14に示す実施の形態においては、二つの微細気泡発生部 13がそれぞれの流体旋回室 25 (図 5,図 6参照）の中心線 25cが互いに直交するように配置され、二つの微細気泡発生部 13の吐出口 28bから、微細気泡 NB混じりの流体が右回りに旋回しながら吐出される。このような配置形態を備えた足浴装置を各被験者 (A〜J) が使用した場合の疼痛症状の軽減効果を調べると表 7に示す結果が得られた。表 7 を見ると、「痛みの変化の平均」は「10→6. 45」であり、図 14に示す配置形態の足浴装置を使用することによって各人の疼痛症状は軽くなつているが、図 8,図 9に示す足浴装置 10を使用した場合の疼痛軽減効果には達していないことが分かる。

[0083] [表 7]

[0084] 次に、図 15に示す実施の形態においては、二つの微細気泡発生部 13がそれぞれの流体旋回室 25 (図 5,図 6参照）の中心線 25cが互いに 180度をなすように、即ち、同一直線上に位置するように配置され、二つの微細気泡発生部 13の吐出口 28bから、微細気泡 NB混じりの流体が右回りに旋回しながら吐出される。このような配置形態を備えた足浴装置を各被験者 (A〜J)が使用した場合の疼痛症状の軽減効果を調べると、表 8に示す結果が得られた。表 8を見ると、「痛みの変化の平均」は「10→6 . 4」であり、図 15に示す配置形態の足浴装置を使用することによって各人の疼痛症状は軽くなつている力図 8,図 9に示す足浴装置 10を使用した場合の疼痛軽減効果には及ばないことが分かる。本実施形態の場合、微細気泡発生部 13をそれぞれの流体旋回室 25 (図 6参照）の中心線 25cが互いに 180度をなすように配置して、る力図 12に示す実施の形態と同様、二つの微細気泡発生部 13内の旋回流 R (図 6 参照）の旋回方向が一致していないため、充分な疼痛軽減効果が得られないのではないかと推測される。

[0085] [表 8] 被験者浸漬部位浸漬時間症状痛みの変化

A 足 2 5分両足痛 1 0→ 8

B 足 2 5分左足痛 1 0→ 6

C 足 2 5分両 F肢捅 1 0→ 6

D 足 2 5分右下肢痛 1 0→ 5

E 足 2 5分右下肢痛 1 0→ 4

F 足 2 5分右足 ft 1 0→ 7

G 足 2 5分右足痛 1 0→ 8

H 足 2 5分両足捅 1 0→ 7

] 足 2 5分両足捅 1 0→ 8

J 足 2 5分左足痛 1 0→ 5

痛みの変化の平均 1 0→ 6 . 4

[0086] 次に、図 16に示す実施の形態においては、二つの微細気泡発生部 12, 13が、それぞれの流体旋回室 25 (図 5,図 6参照）の中心線 25cが互いに平行をなすように配置されている。図 6で示したように、微細気泡発生部 12の吐出口 28aから、微細気泡 NB混じりの流体が左回りに旋回しながら吐出され、微細気泡発生部 13の吐出口 28 から、微細気泡 NB混じりの流体が右回りに旋回しながら吐出される。このような配置形態を備えた足浴装置を各被験者 (A〜J)が使用した場合の疼痛症状の軽減効果を調べると、表 9に示す結果が得られた。表 9を見ると、「痛みの変化の平均」は「1 0→6. 8」であり、図 16に示す配置形態の足浴装置を使用することによって各人の疼痛症状は軽くなつている力図 8,図 9に示す足浴装置 10を使用した場合の疼痛軽減効果には及ばないことが分かる。

[0087] [表 9]

[0088] 次に、図 17に示す実施の形態においては、二つの微細気泡発生部 12, 13が、それぞれの流体旋回室 25 (図 5,図 6参照）の中心線 25cが互いに直交するように配置されている。微細気泡発生部 12の吐出口 28aから、微細気泡 NB混じりの流体が左回りに旋回しながら吐出され、微細気泡発生部 13の吐出口 28bから、微細気泡 NB 混じりの流体が右回りに旋回しながら吐出される。このような配置形態を備えた足浴装置を各被験者 (A〜J)が使用した場合の疼痛症状の軽減効果を調べると、表 10に示す結果が得られた。表 10を見ると、「痛みの変化の平均」は「10→6. 25」であり、図 17に示す配置形態の足浴装置を使用することによって各人の疼痛症状は軽くなつているものの、図 8,図 9に示す足浴装置 10を使用した場合の疼痛軽減効果には及ばないことが分かる。

[0089] [表 10]

[0090] 最後に、図 18に示す実施の形態においては、二つの微細気泡発生部 12, 13がそれぞれの流体旋回室 25 (図 5,図 6参照）の中心線 25cが互いに 170度の角度をなすように配置されている。微細気泡発生部 12の吐出口 28aから、微細気泡 NB混じりの流体が左回りに旋回しながら吐出され、微細気泡発生部 13の吐出口 28bから、微細気泡 NB混じりの流体が右回りに旋回しながら吐出される。このような配置形態を備えた足浴装置を各被験者 (A〜J)が使用した場合の疼痛症状の軽減効果を調べると、表 11に示す結果が得られた。表 11を見ると、「痛みの変化の平均」は「10→6. 4」であり、図 18に示す配置形態の足浴装置を使用することによって各人の疼痛症状は軽くなつているが、前述した実施形態と同様、図 8,図 9に示す足浴装置 10を使用した場合の疼痛軽減効果には及ばないことが分かる。 [0091] [表 11]

[0092] 本実施形態の場合、二つの微細気泡発生部 12, 13がそれぞれの流体旋回室 25 ( 図 6参照）の中心線 25cが互、に 170度の角度をなすように配置されて、るため、図 8,図 9に示す足浴装置 10における微細気泡発生部 12, 13の配置形態に最も近いにもかかわらず、疼痛軽減効果は足浴装置 10より大幅に低いものとなった。このような結果力も判断すると、二つの微細気泡発生部 12, 13を、それぞれの流体旋回室 2 5 (05,図 6参照）の中心線 25cが互いに 180度をなすように、即ち、同一直線上に位置するように配置するとともに、微細気泡発生部 12, 13内の旋回流 Rの旋回方向がー致する場合に最も優れた疼痛軽減効果が得られることが分力ゝつた。

[0093] なお、足浴装置 10と同様の疼痛軽減効果が得られるのは、微細気泡発生部 12, 1 3をそれぞれの流体旋回室 25 (図 6参照）の中心線 25c同士のなす角度が 180± 5 度の範囲内にあるときに限られ、この範囲から外れると疼痛軽減効果は、表 11に示す程度まで低下する。従って、微細気泡発生部 12, 13の流体旋回室 25 (図 5,図 6 参照）の中心線 25c同士のなす角度は、 180± 5度の範囲内が好適であり、特に、 1 80度が最適であり、このときに最も優れた疼痛軽減効果が得られる。

[0094] 次に、図 19,図 20を参照して、本発明の実施の形態である入浴器具について説明する。図 19は本発明の実施の形態である入浴器具の使用状態を示す図、図 20は図 19に示す入浴器具のその他の使用状態を示す図である

図 19に示すように、本実施形態の入浴器具 40は、浴室 BR内の浴槽 BTの湯 HW 中に浸漬したり、後述する図 20に示すように、浴槽 BT内において入浴者 Mが手に持ったりして使用することのできる微細気泡発生器 11と、この微細気泡発生器 11に湯 HW及び空気を供給するために浴槽 BTの外に配置された気液供給装置 24とを備えている。そして、図 19に示すように、微細気泡発生器 11から浴槽 BT内の湯 HW 中へ微細気泡 NB混じりの流体 (湯 HW)を放出させたり、図 20に示すように、入浴者 Mの身体の一部に向力つて微細気泡 NB混じりの流体 (湯 HW)を放出させたりすることができる。この微細気泡発生器 11の構造、機能及び効果は図 1〜図 6で示した微細気泡発生器 11と同じである。

[0095] 図 1〜図 6で示したように、微細気泡発生器 11内には二つの微細気泡発生部 12, 13が配置され、気液供給装置 24は、微細気泡発生部 12, 13に対し液体導入経路 18を経由して浴槽 BT内の湯 HWを循環供給するポンプ Pと、微細気泡発生部 12, 1 3に対し気体導入経路 15, 14a, 14bを経由して大気中の空気を供給するエアボンプ APと、微細気泡発生部 12, 13へ供給する空気中の酸素濃度を高めるための酸素富化器 16と、大気中の空気を吸い込む際に塵埃などの不純物を除去するためのフィルタ 17とを備え、液体導入経路 18の吸込口には液体濾過用のフィルタ 19が設けられている。気液供給装置 24は、商用電源から供給される AC 100Vの電流を電源アダプタ ADで降圧、整流して得られた直流電流で作動する。

[0096] 気体導入経路 15は分岐具 23によって二つの気体導入経路 14a, 14bに分流され、エアポンプ APにより、大気中の空気をフィルタ 17を通して吸い込み、酸素富化器 1 6を通過することによって酸素富化された空気をそれぞれ気体導入経路 14a, 14bを経由して、微細気泡発生器 11内の微細気泡発生部 12, 13へ供給する。また、気液供給装置 24に設けられたポンプ Pにより、フィルタ 19を通して吸い込んだ浴槽 BT内の湯 HWを液体導入経路 18及びこれから分岐した液体導入経路 18a, 18bを通して微細気泡発生部 12, 13へ供給する。

[0097] 浴槽 BT内の湯 HW中に浸漬された微細気泡発生器 11は、二つの微細気泡発生部 12, 13を略直方体形状のケーシング 11a内に配置することによって形成されている。また、これらの微細気泡発生部 12, 13は、図 5,図 6で示したように、それぞれの吐出口 28a, 28bを同一直線上で互いに対向させた状態でケーシング 11a内に配置されている。 [0098] 図 19に示すように、浴槽 BT内の湯 HW中に微細気泡発生器 11及び液体導入経路 18のフィルタ 19を浸漬した状態で気液供給装置 24のポンプ P及びエアポンプ AP を作動させると、浴槽 BT内からフィルタ 19及び液体導入経路 18を経由して吸い込まれた湯 HWが液体導入経路 18bを経由して液体導入口 27から流体旋回室 25内へ流入するとともに、大気中から吸引された空気がエアポンプ APの圧送力により、気体導入経路 15, 14a, 14bを経由して気体導入口 26から流体旋回室 25内の負圧空洞部 V内へ連続的に流入し、流体旋回室 25内に導入された湯 HWとともに旋回流 R を形成する（図 6参照)。そして、旋回流 Rを形成する流体 (湯 HW)とともに、微細気泡 NB混じりの流体 (湯 HWH)となって吐出口 28a, 28bから混合室 29内へ吐出され、混合室 29内で互いに衝突し、循環した後、放出口 29aから浴槽 BT内の湯 HW中へ放出される。

[0099] このように、放出口 29aから湯 HW中へ微細気泡 NB混じりの流体 (湯 HW)を放出することにより、浴槽 BT内の湯 HW中へ酸素や窒素などを供給、溶解させることができる。このため、酸素などの溶存濃度の高い微細気泡 NB混じりの流体 (湯 HW)が、浴槽 BT内をムラなく循環することとなり、湯 HW中に浸漬された入浴者 Mの身体に対する、血行増進作用、温熱作用、鎮静作用及び自律神経調整作用を得ることができる。

[0100] このような血行増進作用、温熱作用、鎮静作用及び自律神経調整作用は、微細気泡 NB混じりの流体 (湯 HW)が直接当たっている部分に限らず、その他の部分まで及ぶので、関節痛、筋肉痛などの足腰の痛みなども軽減または解消することができる。また、入浴者 Mが浴槽 BT内の湯 HW中に身体を浸漬している状態で、微細気泡発生器 11を湯 HW中に投入し、気液供給装置 24のポンプ P及びエアポンプ APを作動させるだけで使用できるため、使い方も極めて簡単である。

[0101] 以上の実施の形態においては、微細気泡発生器 11を構成する二つの微細気泡発生部 12, 13に対してそれぞれ一つのポンプ P、エアポンプ APを用いて気体（空気）及び液体 (水 W,湯 HW)を供給している力これらに限定するものではないので、二つの微細気泡発生部 12, 13に対してそれぞれ個別にポンプ P、エアポンプ APを配備することもできる。この場合、微細気泡発生部 12, 13に対する、ポンプ Pからの液体供給量と、エアポンプ AP力もの気体供給量とを、それぞれ独立して制御できるようにすることもできる。また、これらの実施の形態では微細気泡発生器 11を用いて水中あるいは湯中へ微細気泡を供給している力これらに限定するものではないので、飲料水、食用油、石油類などの液体を含む流体中へ微細気泡混じりの流体を供給することちでさる。

産業上の利用可能性

本発明の微細気泡発生器は、農業、林業、漁業、製造業、魚介類養殖業、飲料水製造業、醸造業、食品加工業などのほか、飲食産業、清掃業、排水処理業などにおいて広く利用することができる。

Claims

請求の範囲

[1] 仮想中心線を包囲して設けられた周壁と前記周壁の前記仮想中心線方向の両端に設けられた隔壁とで形成された流体旋回室と、前記仮想中心線に対してねじれの位置をなす方向に沿って前記流体旋回室内へ液体を導入するため前記流体旋回室に連通して設けられた液体導入経路と、前記流体旋回室内に気体を導入するため前記流体旋回室の一方の前記隔壁に開設された気体導入経路と、前記流体旋回室の他方の前記隔壁に開設された吐出口とを有する二つの微細気泡発生部を、それぞれの前記吐出口同士を互いに対向させて配置したことを特徴とする微細気泡発生器。

[2] 二つの前記微細気泡発生部を、それぞれの前記流体旋回室の仮想中心線同士のなす角度が 180± 5度となるように対向させ、且つ、それぞれの前記流体旋回室内に発生する流体旋回流の旋回方向が互いに同方向となるように配置した請求項 1記載の微細気泡発生器。

[3] 対向配置された二つの前記吐出口の間にそれぞれの前記吐出口と連通する混合室を設け、前記混合室の一部に前記混合室内へ吐出された微細気泡混じりの流体を外部へ放出する放出口を設けた請求項 2記載の微細気泡発生器。

[4] 少なくとも片方の足首より下方部分を収容可能な容積を有する足浴容器と、前記足浴容器内に収容された液体に浸漬された請求項 1記載の微細気泡発生器と、前記微細気泡発生装器へ前記液体導入経路を経由して液体を供給する液体供給手段と、前記微細気泡発生器へ前記気体導入経路を経由して気体を供給する気体流路とを備えたことを特徴とする足浴装置。

[5] 前記気体流路若しくは前記気体導入経路の一部に酸素富化器を設けた請求項 4 記載の足浴装置。

[6] 請求項 1記載の微細気泡発生器と、前記微細気泡発生器へ前記液体導入経路を介して液体を供給する液体供給手段と、前記微細気泡発生器へ前記気体導入経路を経由して気体を供給する気体流路とを備えたことを特徴とする入浴器具。

[7] 前記気体流路若しくは前記気体導入経路の一部に酸素富化器を設けた請求項 6 記載の入浴器具。