WO2006011204A1 - 鉛フリーはんだ合金 - Google Patents

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mass
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Tsukasa Ohnishi
Tokuro Yamaki
Masazumi Amagai
Masako Watanabe
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Senju Metal Industry Co., Ltd
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/24Selection of soldering or welding materials proper
    • B23K35/26Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at less than 400 degrees C
    • B23K35/262Sn as the principal constituent
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C13/00Alloys based on tin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K2101/00Articles made by soldering, welding or cutting
    • B23K2101/36Electric or electronic devices

Definitions

  • the present invention relates to a lead-free solder alloy, particularly a lead-free solder alloy suitable for forming a minute soldering portion such as a solder bump.
  • BGA Bit Grid Arrey
  • CSP Chip Size Package
  • solder bumps are formed in advance on the electrodes, and when mounting on a printed circuit board, the solder bumps are placed on the soldered part of the printed circuit board and then heated by a heating device such as a reflow furnace. Melt the bumps. Then, the solder bumps formed on the BGA etc. will be soldered between the electrodes of the BGA etc. and the soldering part of the printed circuit board.
  • wire bonding is performed in which the electrodes on the wafer and the electrodes on the work on which the wafer is mounted are connected with a fine gold wire.
  • the connection work is very fast, and a single connection can be made in a short time of less than 0.1 seconds.
  • wire bonding can be performed at high speed, it takes time to connect all electrodes in an electronic component with a large number of electrodes, because the gold wire is connected to each electrode. I needed it.
  • gold wire is a precious metal, if the material itself is expensive, the power, the number that can be reached
  • a DCA (Direct Chip Attachment) method has been adopted in which the electrical connection between the wafer and the work is directly connected to each other without using a gold wire.
  • solder bumps are formed in advance on the electrodes of the wafer, and when the wafer is mounted on a workpiece, the solder bumps are placed on the workpiece electrodes and the solder bumps are placed. In this case, conduction is established between the two by melting the cup.
  • the DCA method does not use gold wire, so it can be manufactured at a low cost, and the power can be connected to all the electrodes in one operation. Therefore, recently, connection by solder bumps has been widely adopted for connecting electrodes in the DCA system. In this connection by solder bump, even if a large number of electrodes are installed in the center of the work, the work and the electrode of the mounted object are faced to each other and the connection is made with the solder bump. Contacting each other does not happen.
  • solder bumps on a BGA or the like or a wafer it is common to use solder balls or solder paste.
  • the conventional solder alloy for bump formation is a Pb_Sn solder alloy, and the Pb-Sn solder alloy has been widely used in the solder balls or solder pastes for the solder bumps of the BGA and the wafer as described above.
  • This Pb_Sn solder alloy has excellent solderability, so it can perform highly reliable soldering with less occurrence of soldering defects when soldering work and printed circuit boards.
  • Lead-free solder is composed of Sn as a main component and Ag, Bi, Cu, Sb, In, Ni, Zn, or the like added thereto as appropriate.
  • Conventional strengths Lead-free solders include binary alloys such as Sn-Cu, Sn_Sb, Sn-Bi, Sn_Zn, Sn-Ag, etc. with Sn as the main component, and multi-component lead-free solders with other elements added to the binary alloys. is there.
  • Sn-based lead-free solder has inferior solderability compared to conventional Pb-Sn solders, especially binary and multi-element Sn-Cu and Sn-Sb systems.
  • Sn-Ag is superior to other binary lead-free solders in terms of solderability, brittleness, aging, etc.
  • mopile electronic devices such as mobile phones, notebook computers, digital cameras, and the like
  • excellent impact resistance has been demanded in soldered portions where electronic components inside electronic devices are joined.
  • mopile electronic devices are often subjected to impacts, and the electronic device at the soldering part is peeled off by this impact, and the function as an electronic device cannot be performed.
  • the power you put in your shirt pocket slips out of your pocket when you bend forward, or on a mobile phone with a recent email function, it drops during one-handed operation. .
  • solder used in mopile electronic devices has been required to have excellent impact resistance.
  • Lead-free solder alloys tend to be less susceptible to drop impact than Pb-Sn solder alloys.
  • As a lead-free solder alloy that is resistant to drop impact there is also a lead-fuji-solder that consists of Ag0.5 5 mass%, CuO.Ol—0.1 mass%, P0.001-0.05 mass%, and the balance Sn. (Japanese Patent Application 2003-000788)
  • the invention of the Sn_Ag_Cu_Zn-based lead-free solder alloy includes ones that generate little dross and bridges during flow soldering (Japanese Patent Laid-Open No. 2003-326386), and those that have a high electrode diffusion suppression effect. (JP 2002-185130 A).
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 3-050286
  • Patent Document 2 Japanese Patent Application No. 2003-000788
  • Patent Document 3 Japanese Patent Laid-Open No. 2003-326386
  • Patent Document 4 Japanese Patent Laid-Open No. 2002-185130
  • the Sn-Ag-Cu lead-free solder alloy having excellent heat cycle resistance was not sufficiently strong in impact resistance, particularly in a soldered portion having a small soldering area.
  • recent electronic devices have become high-performance and downsized, and the electronic components incorporated in them have become smaller and more sophisticated. On the contrary, the size of is getting smaller.
  • the strength of the solder bumps formed on the electrodes of electronic components that have been reduced in this way is also small.
  • the solder in the small lead-free soldering area is weak in impact resistance, the electronic device is subject to a drop-like impact. In addition, the soldered part easily peels off and the function as an electronic device cannot be performed.
  • the present invention AgO. L-less than 2.0 wt%, CuO.01- 0.2 mass 0/0, ZnO.005- 0.1 mass 0/0, a lead-free solder alloy and the balance Sn is there.
  • Ag has an effect on heat cycle resistance. If the amount of additive is less than 0.1% by mass, the effect of improving heat cycle resistance will not appear, and the effect will be less than 2.0% by mass If it is too much, the impact resistance will be reduced.
  • Cu can further improve impact resistance. If the amount of Cu to be added is less than 0.01% by mass, the effect of improving the impact resistance will not appear, and if it is contained more than 0.2% by mass, many voids will be generated in the soldered part.
  • Addition of Zn is effective in impact resistance after thermal aging, and if the amount of addition is less than 0.005 mass%, the effect of improving impact resistance does not appear, exceeding 0.1 mass%. When added, the wettability of the solder alloy is significantly reduced and the frequency of void generation increases.
  • the Sn-Ag-Cu-Zn-based lead-free solder alloy of the present invention 0.0005 0.1% by mass of at least one selected from Ga, Ge, and P can also be added. These elements are effective in preventing yellowing of lead-free solder. This yellowing is confirmed when a high temperature storage test is performed on electronic parts such as BGA using lead-free solder. This high-temperature storage test is remarkably confirmed when left in a high-temperature atmosphere at a force of S and 125 ° C for different conditions depending on the electronic component manufacturer and the electronic device set manufacturer. If the surface of the solder bump turns yellow in the high temperature storage test, when the solder bump is inspected by image processing, it cannot be accurately inspected, causing an error. Ga, Ge and P are effective in preventing yellowing In order to prevent yellowing, it is necessary to add 0.0005% by mass of at least one of these.
  • the Sn-Ag-Cu-Zn-based lead-free solder alloy of the present invention is obtained by adding at least one selected from Ga, Ge, and P to an Ag-Cu-Zn-based lead-free solder and further adding Ni. or Co and may 0.01 0.1 0/0 added to. These elements are effective in the heat cycle resistance of lead-free solder. If the soldered part is very small like BGA, the electronic part may be used repeatedly. If it is exposed to a heat cycle for many years, the soldered part may break down. In the present invention, Sn_Ag_Cu-Zn lead-free solder,
  • the present invention is intended to improve impact resistance and heat cycle resistance at a minute soldered portion.
  • a solder bump is a suitable application for this purpose. Even when used for soldering, it is effective in improving impact resistance and heat cycle resistance.
  • solder bump formation it is often used as solder balls or solder paste. That is, solder balls are mounted on a substrate such as BGA for BGA, etc., and solder bumps are formed by melting the solder balls. Solder paste is applied to the wafer on the wafer, and the solder paste is melted. By doing so, solder bumps are formed.
  • the lead-free solder alloy of the present invention has better impact resistance after bump formation and heat cycle resistance than conventional lead-free solder alloys, it is accidentally dropped during use or transportation of electronic equipment.
  • the lead-free solder alloy of the present invention does not turn yellow even when a high-temperature test is performed after the solder bump is formed, so that no error occurs during the image inspection of the solder bump, and the inspection performance is excellent. It is. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
  • a lead-free solder alloy of the present invention was prepared with the composition shown in Table 1, and a drop impact resistance test, a heat cycle test, and a discoloration test were performed together with the solder alloy of the comparative example.
  • the lead-free solder alloy of the present invention and the solder alloy of the comparative example were prepared with the composition shown in Table 2, and the generation of voids was compared.
  • Table 1 shows examples of lead-free solder alloys and comparative examples.
  • Solder paste is printed on a CSP with a size of 10 x 10 mm and 150 electrodes, and a solder ball with a diameter of 0.3 mm is placed. With what you stored
  • Heat cycle A heat cycle is applied to a printed circuit board on which electronic components are mounted, and the number of times until the soldered portion is broken is measured.
  • Discoloration test (yellowing): The yellowing of the solder surface after high-temperature heating is visually observed.
  • solder balls placed on the CSP are melted in a reflow furnace to form solder bumps.
  • solder balls placed on the CSP are melted in a reflow furnace to form solder bumps.
  • the lead-free solder alloy of the present invention is excellent in impact resistance and heat cycle resistance after being exposed to thermal aging, and is excellent in that the solder discoloration causes little generation of voids.
  • the lead-free solder alloy of the present invention is not limited to mopile devices such as mobile phones, notebook computers, and digital cameras, but also small electronic devices such as remote controllers and printed circuit boards for manual tools that can fall. It can be applied to.

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Abstract

【課題】モバイル電子機器は使用中や搬送中に落とすことが多く、電子部品のはんだ付け部が落下の衝撃で剥離することがあった。また電子機器は使用時に内部のコイルや抵抗等が発熱してはんだ付け部が昇温し、不使用時には冷えるというヒートサイクルを受ける。従来のSn-Ag系鉛フリーはんだは、はんだバンプのような微小部分に対して耐衝撃性や耐ヒートサイクル性が充分でなかった。本発明はバンプの耐衝撃性と耐ヒートサイクル性に優れた鉛フリーはんだ合金を提供することにある。 【解決手段】本発明は、Ag0.1~2.0質量%未満、Cu0.01~0.1質量%、Zn0.005~0.1質量%、残部Snからなる鉛フリーはんだ合金であり、さらに該合金にGa、Ge、Pを添加したり、さらに該合金にNi,Coを添加したりした鉛フリーはんだである。

Description

明 細 書
鉛フリーはんだ合金
技術分野
[0001] 本発明は、鉛を含まないはんだ合金、特にはんだバンプのように微小なはんだ付け 部を形成するに適した鉛フリーはんだ合金に関する。
背景技術
[0002] 一般に BGA(Ball Grid Arrey)、 CSP(Chip Size Package),等の多機能部品(以下、 BGA等という)をプリント基板に実装するには、はんだバンプにより行っている。つまり BGA等では予め電極にはんだバンプを形成しておき、プリント基板への実装時、該 はんだバンプをプリント基板のはんだ付け部に当設してからリフロー炉のような加熱 装置で加熱してはんだバンプを溶融させる。すると BGA等に形成されたはんだバン プが BGA等の電極とプリント基板はんだ付け部の両者間をはんだ付けして導通させ るよつになる。
[0003] また QFP、 SOIC等のウェハーを搭載した電子部品では、ウェハーの電極とウェハ 一を搭載するワークの電極間を極細の金線で接続するというワイヤーボンディングを 行っている。現在のワイヤーボンディング技術は接続作業が非常に高速であり、一箇 所の接続が 0.1秒以下という短時間で行えるようになつている。し力、しながらワイヤー ボンディングは如何に高速作業が行えるといえども、電極一箇所毎に金線の接続を 行うため、電極が多数設置された電子部品では全ての電極を接続するのに時間を必 要としていた。また金線は貴金属であるため材料自体が高価であるば力、りでなぐ数
10 z mの極細線に加工することから、その加工に多大な工数がかかり、さらに高価と なる。また、ワイヤーボンディングは、電極がワークの中央部に多数設置されたものに 対しては金線同士が接触してしまうため接続が不可能であった。
[0004] そこで近時では、ウェハーとワークとの導通を金線を使わずに互いの電極同士を直 接接続するという DCA(Direct Chip Attachment)方式が採り入れられるようになつてき た。この DCA方式とは、ウェハーの電極に予めはんだバンプを形成しておき、ウェハ 一をワークに実装するときに、ワーク電極にはんだバンプを当設して、該はんだバン プを溶融させることにより両者間で導通を取るようにしたものである。 DCA方式は、金 線を使わなレ、ため安価に製造でき、し力も一度の作業で全ての電極の接続ができる ため生産性にも優れている。従って、最近では DCA方式での電極の接続に、はんだ バンプによる接続が多く採用されるようになってきた。このはんだバンプによる接続は 、電極がワークの中央部に多数設置されていても、ワークと搭載物の電極を向かい合 わせにして、この間をはんだバンプで接続するため、ワイヤーボンディングのようにヮ ィヤー同士が接触することは起こらない。
[0005] BGA等やウェハーに、はんだバンプを形成する方法としては、はんだボールやソル ダペーストを使用するのが一般的である。
ところで従来のバンプ形成用はんだ合金は、 Pb_Sn系のはんだ合金であり、 Pb-Sn 系はんだ合金は前述 BGA等やウェハーのはんだバンプ用としてのはんだボール、或 いはソルダペーストに多く使用されていた。この Pb_Sn系はんだ合金は、はんだ付け 性に優れているためワークとプリント基板のはんだ付けを行ったときに、はんだ付け不 良の発生が少ないという信頼性に優れたはんだ付けが行えるものである。
[0006] ところで Pb-Sn系はんだ合金ではんだ付けされた電子機器が老朽化や、故障が生 じた場合、性能アップや修理等をせず、ほとんどが廃棄処分されていた。廃棄処分さ れる電子機器の構成材料のうちフレームの金属、ケースのプラスチック、ディスプレー のガラス等は回収して再使用される力 プリント基板は再使用ができないため埋め立 て処分されていた。なぜならばプリント基板は、樹脂と銅箔が接着されており、また銅 箔にははんだが金属的に接合されていて、それぞれを分離することができないから である。この坦め立て処分されたプリント基板に地中に染み込んだ酸性雨が接触す ると、はんだ中の Pbが酸性雨により溶け出し、 Pb成分を含んだ酸性雨がさらに地中に 染み込んで地下水に混入する。この Pb成分を含んだ地下水を人や家畜が長年月に わたって飲用すると体内に Pbが蓄積され、ついには Pb中毒を起こすとされている。そ のため世界規模で Pbの使用が規制されるようになってきており、 Pbの含まない所謂「 鉛フリーはんだ」が使用されるようになってきた。
[0007] 鉛フリーはんだとは、 Snを主成分として、それに Ag、 Bi、 Cu、 Sb、 In、 Ni、 Zn等を適宜 添加したものである。 従来力 鉛フリーはんだとしては Sn主成分の Sn-Cu、 Sn_Sb、 Sn-Bi, Sn_Zn、 Sn-Ag 等の二元合金や該ニ元合金に他の元素を添加した多元系の鉛フリーはんだがある。 一般に Sn主成分の鉛フリーはんだは、はんだ付け性が従来の Pb-Snはんだに比べて 劣る力 特に二元および多元系の Sn-Cu系と Sn-Sb系は、さらに劣っている。また Sn-Bi系は、はんだが脆くなることから、はんだ付け部に衝撃が加わると破壊されやす いばかりでなぐリードのメツキから少量の Pbが混入するとリフトオフが発生することが ある。そして Sn-Zn系は Znが卑な金属であることからソルダペーストにしたときに経時 変化が起って印刷塗布ができなくなったり、はんだ付け後にはんだ付け部との間で 電気的な腐食を起こしたりする問題がある。 Sn主成分の鉛フリーはんだとしては
Sn-Ag系が他の二元系鉛フリーはんだに比べて、はんだ付け性、脆さ、経時変化、等 に優れている。
[0008] 電子機器は、その使用を止めるために通電を切ると、部品からの発熱がなくなって ケース内は室温に戻る。このように電子機器の使用 ·不使用を行うたびに、ケース内 が昇温と降温を繰り返すというヒートサイクルが起こる。このヒートサイクルは、はんだと 電子部品及びプリント基板の熱膨張 ·収縮を引き起こす。プリント基板と電子部品で は熱膨張率に差異があるため、ヒートサイクルに曝された場合、はんだ付け部に熱応 力が生じる。このため、はんだ付け部が疲労を起こして、ついには破壊が生じる。そ のため、電子機器に使用するはんだは、耐ヒートサイクノレ性も有していなければなら なレ、。鉛フリーはんだは、 Pb-Sn系のはんだ合金に比較しても耐ヒートサイクル性は遜 色ないが、耐ヒートサイクル性に優れたはんだ合金として Sn-Ag-Cu系はんだ合金が ある。 (特開平 3-050286号公報)
[0009] ところで携帯電話、ノート型パソコン、デジタルカメラなどの所謂モパイル電子機器 では、電子機器内部の電子部品を接合したはんだ付け部に優れた耐衝撃性が求め られるようになってきた。つまりモパイル電子機器は、衝撃を受けることが多ぐこの衝 撃ではんだ付け部の電子機器が剥離し、電子機器としての機能を果たせなくなって しまう。例えば携帯電話では、ワイシャツのポケットに入れておいたもの力 前屈みに なったときにポケットから滑り落ちてしまったり、最近のメール機能が備わった携帯電 話では、片手での操作中に落としたりする。またノート型パソコンは、鞫の中に入れて 運ぶときに該鞫を落とすことが多ぐデジタルカメラは、使用中に落とすことが多い。そ のためモパイル電子機器に使用するはんだは、優れた耐衝撃性を有するものが要求 されるようになってきた。鉛フリーはんだ合金は、 Pb-Sn系のはんだ合金に比較して落 下衝撃に弱い傾向がある。落下衝撃に強い鉛フリーはんだ合金として、 Ag0.5 5質 量%、 CuO.Ol— 0.1質量%、 P0.001— 0.05質量%、残部 Snからなることを特徴とする 鉛フジ一はんだもある。 (特願 2003— 000788号)
[0010] また Sn_Ag_Cu_Zn系鉛フリーはんだ合金の発明は、フローソルダリングする時にド ロス、ブリッジの発生の少なレ、もの(特開 2003—326386号公報)や、電極拡散抑制 効果の高レ、もの(特開 2002—185130号公報)がある。
特許文献 1:特開平 3 - 050286号公報
特許文献 2:特願 2003— 000788号
特許文献 3:特開 2003 - 326386号公報
特許文献 4 :特開 2002— 185130号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0011] 耐ヒートサイクル性に優れた Sn-Ag-Cu系鉛フリーはんだ合金は、耐衝撃性、特に はんだ付け面積の小さいはんだ付け部での耐衝撃性が充分に強いとはいえなかつ た。つまり最近の電子機器は高性能 ·小型化されてきているから、それに組み込まれ る電子部品も小型化で高機能化されたきており、 BGA等は電極数が増えているにも かかわらず、全体の大きさは逆に小さくなつている。このように小さくなつた電子部品 の電極に形成するはんだバンプも小さくなつている力 小さな鉛フリーはんだはんだ 付け部のはんだが耐衝撃性に弱いと、電子機器が落下のような衝撃を受けたときに、 はんだ付け部が簡単に剥離して、電子機器としての機能が果たせなくなってしまう。
[0012] また電子機器では、使用時に回路に電気を通すと、部品力 熱を発し、電子機器 のケース内は昇温する。この使用状況が続くと、はんだ付け部も長時間熱に曝される ことになり、はんだや接合部界面は、その金属組織形態が変化して劣化する。この場 合も前述の耐衝撃性は低下する。よって、熱時効に曝された後の耐衝撃性も重要と なる。特許文献 2の鉛フリーはんだは落下衝撃に強いはんだ合金であるが、より熱時 効に曝された後の耐衝撃性に強ぐ微細なはんだ付け部の電子機器でも落下で破 損しない、十分な耐衝撃性と十分な耐ヒートサイクル性を共有した鉛フリーはんだ合 金が求められている。
課題を解決するための手段
[0013] 本発明者らは、微小なはんだ付け部に対して、 Sn主成分の鉛フリーはんだに耐衝 撃と耐ヒートサイクルを向上させることについて鋭意研究を重ねた結果、 Snと Agと Cu の鉛フリーはんだ合金組成に Znを微量添加することによって、熱時効に曝された後も 充分な耐衝撃性があり、充分な耐ヒートサイクル性を共有した鉛フリーはんだ合金得 られることを見いだし、本発明を完成させた。
[0014] 本発明は、 AgO. l— 2.0質量%未満、 CuO.01— 0.2質量0 /0、 ZnO.005— 0.1質量0 /0、 残部 Snからなることを特徴とする鉛フリーはんだ合金である。
本発明の鉛フリーはんだ合金において Agは耐ヒートサイクル性に効果がある力 そ の添カ卩量が 0.1質量%よりも少ないと、耐ヒートサイクル性向上の効果が現れず、 2.0 質量%よりも多いと耐衝撃性が低下してしまう。
[0015] 本発明の鉛フリーはんだ合金において、 Cuは耐衝撃性をより向上させることが出来 る。添加する Cuの量が 0.01質量%よりも少ないと耐衝撃性改善の効果が現れず、 0.2 質量%よりも多く含有されるとはんだ付け部にボイドが多く発生するようになる。
[0016] Znの添加は、熱時効後の耐衝撃性に効果があり、その添カ卩量が 0.005質量%よりも 少ないと、耐衝撃性改善の効果は現れず、 0.1質量%を超えて添加するとはんだ合 金のぬれ性を著しく低下させてボイド発生頻度が増加する。
[0017] 本発明の Sn- Ag- Cu- Zn系鉛フリーはんだ合金において、さらに Ga、 Ge、 Pから選ば れた少なくとも 1種を 0.0005 0.1質量%添加することもできる。これらの元素は、鉛フ リーはんだの黄変防止に効果がある。この黄変は、鉛フリーはんだを用いた BGA等 の電子部品に対して高温放置試験を行ったときに確認される。この高温放置試験は 、電子部品メーカーや電子機器のセットメーカーによって条件が異なる力 S、 125°Cの 高温雰囲気中に 200時間放置すると顕著に確認される。高温放置試験で、はんだバ ンプ表面が黄変すると、はんだバンプの検査を画像処理によって検査をするときに、 正確な検査ができず、エラーの原因となるものである。 Ga、 Ge、 Pは黄変防止に効果 があり、黄変防止にはこれらの少なくとも 1種を 0.0005質量%添加する必要がある。
Ga、 Ge、 Pは、 0.1質量%よりも多く添加すると、はんだ付け性を悪くする。
[0018] 本発明の Sn-Ag-Cu-Zn系鉛フリーはんだ合金は、 Ag-Cu-Zn系鉛フリーはんだに Ga、 Ge、 Pから選ばれた少なくとも 1種を添加したものに、さらに Niまたは Coを 0.01 0.1質量0 /0添加することもできる。これらの元素は、鉛フリーはんだの耐ヒートサイクノレ 性に効果がある。 BGAのようにはんだ付け部が微小なものでは、電子機器を使用'不 使用を繰り返すことにより、長年月にわたりヒートサイクルに曝されると、はんだ付け部 に破壊が発生する事がある。本発明では、 Sn_Ag_Cu-Zn系鉛フリーはんだ、
Sn-Ag-Cu-Zn系鉛フリーはんだに Ga、 Ge、 Pから選ばれた少なくとも 1種を添加したも のに、さらに Mまたは Coを 1種以上で微量添カ卩すると、耐ヒートサイクル性を向上させ る効果がある。 Niや Coは、合計で 0.01質量%以上添カ卩すると効果があり、 0.1質量% よりも多く添加すると、はんだ融点を上昇させ、未溶融の問題を生じる。
[0019] なお、本発明は、微小はんだ付け部における耐衝撃性の向上と耐ヒートサイクル性 の向上を目的としたものであり、この目的に適した用途としてははんだバンプであるが 、一般のはんだ付けに使用しても耐衝撃性と耐ヒートサイクル性向上に効果を発揮 する。はんだバンプ形成には、はんだボールやソルダペーストとして使用することが 多レ、。即ち BGA等には、はんだボールを BGA等の基板に搭載し、該はんだボールを 溶融させることによりはんだバンプを形成し、ウェハーには、ソルダペーストをウェハ 一上に塗布し、該ソルダペーストを溶融させることによりはんだバンプを形成するもの である。
発明の効果
[0020] 本発明の鉛フリーはんだ合金は、バンプ形成後の耐衝撃性ゃ耐ヒートサイクル性が 従来の鉛フリーはんだ合金よりも優れているため、電子機器の使用中や搬送中に誤 つて落としてもはんだ付け部が剥離しにくぐまた長期間に渡って電子機器の使用- 不使用を繰り返しても、ヒートサイクルではんだ付け部が剥離しにくいという信頼性に 富むものである。また本発明の鉛フリーはんだ合金は、はんだバンプ形成後、高温試 験を行っても黄変しないことから、はんだバンプの画像検査時にエラーが発生せず、 検査性においても優れた効果を奏するものである。 発明を実施するための最良の形態
[0021] 本発明の鉛フリーはんだ合金を表 1の配合で作製し、比較例のはんだ合金とともに 落下耐衝撃試験と耐ヒートサイクル試験、変色試験を行った。また、表 2の配合で本 発明の鉛フリーはんだ合金および比較例のはんだ合金を作製し、ボイドの発生を比 較した。
実施例 1
[0022] 鉛フリーはんだ合金の実施例と比較例を表 1に示す。
[0023] [表 1]
Figure imgf000008_0001
[0024] 表 1の説明
落下耐衝撃:はんだバンプではんだ付けした CSPとプリント基板間に、落下による衝 撃をカ卩え、はんだ付け部にき裂が発生するまでの落下回数を測定する。はんだ付け 後の常温で保管したものと、 125°Cの熱処理を lOOhr加えたものの 2種類について測 定した。
(落下耐衝撃試験方法)
1.大きさ 10 X 10mm、電極 150個の CSPに、ソルダペーストを印刷し、直径 0.3mmのは んだボールを載置する。 保管したものと
2.はんだボールが載置された CSPをリフロー炉で加熱して電極にはんだバンプを形 成する。
3.はんだバンプが形成された CSPを 30 X 120mmのガラエポのプリント基板の中央に 搭載し、リフロー炉で加熱して CSPをプリント基板にはんだ付けする。 4. CSPがはんだ付けされたプリント基板の両端を、アルミ製の落下治具上に治具と間 隔をあけて固定する。
5.落下治具を 500mmの高さから落下させてプリント基板に衝撃を与える。このとき両 端を治具に固定されたプリント基板は、中央部が振動し、プリント基板と CSPのはんだ 付け部は、この振動による衝撃を受ける。この落下試験で CSPのはんだ付け部にき裂 が生じるまでの落下回数を測定する。初期で 100回以上、熱処理後で 40回以上を良 好と判断する。
[0025] 耐ヒートサイクル:電子部品を実装したプリント基板にヒートサイクルをかけて、はんだ 付け部の破壊が発生するまでの回数を測定する。
(耐ヒートサイクル試験方法)
1.大きさ 10 X 10mm、電極 150個の CSPに、ソルダペーストを印刷し、
直径 0.3mmのはんだボールを載置する。
2.はんだボールが載置された CSPをリフロー炉で加熱して電極にはんだバンプを形 成する。
3.はんだバンプが形成された CSPを 120 X 140mmのガラエポのプリント基板に搭載し 、リフロー炉で加熱して CSPをプリント基板にはんだ付けする。
4. CSPがはんだ付けされたプリント基板をヒートサイクル試験機にいれて、 -40°Cに 10 分間、 + 125°Cに 10分間それぞれ曝すという条件でヒートサイクルをかけて、はんだ 付け部に破壊が発生するまでの回数を測定する。 1500サイクル以上を良好とする。
[0026] 変色試験 (黄変):高温加熱後のはんだ表面の黄変を目視で観察する。
(黄変試験方法)
1. CSPに直径 0.3mmのはんだボールを載置する。
2. CSPに載置したはんだボールをリフロー炉で溶融してはんだバンプを形成する。
3.はんだバンプが形成された CSPを 150°Cの恒温槽中に 24時間放置後、 目視にて黄 変状態を観察する。黄変がほんとんどなレ、ものを無、黄変が顕著なものを有とする。
[0027] [表 2] 組 5 ボイド (バンプ数) ボイド発生率
Sn Ag Cu Zn その他 発生 観察 (%)
1 Bal 0.1 0.01 0.01 6 900 0.7 実 2 Bal 1 0.1 0.03 55 900 6.1 施 3 Bal 1 0.1 0.05 178 900 19.8 例 4 Bal 1 0.2 0.1 252 900 28.0
1 Bal 1 0.1 0.3 450 450 100.0 比
2 Bal 1 0.3 0.1 450 450 100.0 較 3 Bal 3 0.5 101 1350 7.5 例 4 Bal i Pb37 9 1350 0.7
[0028] 表 2の説明
CSPのはんだバンプを X線透過装置にてボイドを観察し、発生率を算出する。 (ボイドの発生数の算出方法は以下のとおりである)
1. CSPに直径 0.3mmのはんだボールを載置する。
2. CSPに載置したはんだボールをリフロー炉で溶融してはんだバンプを形成する。
3.はんだバンプが形成された CSPを X線透過装置に入れ、バンプ内のボイドが検出 できる強度、コントラストにする。
4. 直径が約 30 μ πι以上のボイドが発生しているバンプをカウントする。
5.観察したバンプ数でボイド発生バンプ数を除算し、ボイド発生率とする。ボイド発 生率が 30%以下のものを良好と判断する。
[0029] 本発明の鉛フリーはんだ合金は、熱時効に曝された後の耐衝撃性、耐ヒートサイク ノレ性に優れ、はんだの変色ゃボイドの発生の少なレ、優れたものである。
産業上の利用可能性
[0030] 本発明の鉛フリーはんだ合金は、携帯電話、ノート型パソコン、デジタルカメラなど のモパイル機器以外にも、リモコン、手動工具用のプリント基板など、小型で落下の 可能性のある電子機器すべてに応用可能である。

Claims

請求の範囲
80.1—2.0質量%未満、 CuO.Ol 0.2質量%、 ZnO.005— 0.1質量%、残部 Snからな ることを特徴とする鉛フリーはんだ合金。
さらに Ga、 Ge、 Pから選ばれた少なくとも 1種、または 2種以上が、 0.0005— 0.1質量% 添加されていることを特徴とする請求項 1に記載の鉛フリーはんだ合金。
さらに Nほたは Coが、合計で 0.01 0.1質量%添加されていることを特徴とする請求 項 1または 2に記載の鉛フリーはんだ合金。
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