WO2005101456A1 - エキシマuvランプ用合成石英ガラス管およびその製造方法 - Google Patents

エキシマuvランプ用合成石英ガラス管およびその製造方法 Download PDF

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WO2005101456A1
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glass tube
excimer
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PCT/JP2004/005208
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Takayuki Oshima
Akira Fujinoki
Shigeru Yamagata
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Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd.
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B23/00Re-forming shaped glass
    • C03B23/04Re-forming tubes or rods
    • C03B23/047Re-forming tubes or rods by drawing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J61/00Gas-discharge or vapour-discharge lamps
    • H01J61/02Details
    • H01J61/30Vessels; Containers

Definitions

  • the present invention relates to a synthetic quartz glass tube that constitutes a light-transmitting portion of an excimer UV lamp that emits vacuum ultraviolet light having a wavelength of 150 to 250 nm.
  • the synthetic quartz glass tube that constitutes the excimer UV lamp is required to have high dimensional accuracy in terms of discharge characteristics and luminous efficiency.However, in such a long quartz glass tube, a long quartz glass tube (over the entire length of the lamp) is required. The need for uniform discharge characteristics and luminous efficiency has led to more stringent requirements for dimensional accuracy.
  • Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-5731 discloses a high-purity silica glass for ultraviolet lamps and a method for producing the same.However, a quartz glass tube having a long dimension and high dimensional accuracy required for today's excimer UV lamps is disclosed. The conditions required for production are not limited to the date and time, but only synthetic silica glass tubes with a diameter of 30 marauders, a wall thickness of 2 mm, and a length of 200 marauders have been produced. Disclosure of the invention
  • an object of the present invention is to provide a long and highly dimensional accurate quartz glass tube required for today's excimer UV lamps, and a method of manufacturing the same.
  • the inventors of the present invention have been diligently studying impurities in a quartz glass tube in order to improve the UV lamp, and have found V as an impurity, and the concentration of this V has a predetermined value. If it exceeds, it has been found that it is not preferable because it absorbs ultraviolet rays and shifts the ultraviolet absorption end to a longer wavelength side to cause a decrease in transmittance.
  • Another object of the present invention is to improve the concentration of impurities in order to improve the performance of an excimer UV lamp device. It is an object of the present invention to provide a synthetic quartz glass tube for an excimer UV lamp device that has the highest possible accuracy.
  • a synthetic quartz glass tube made of high-purity synthetic quartz glass that emits vacuum ultraviolet light with a wavelength of 150 to 250 nm.
  • the dimensions of the synthetic quartz glass tube are lOOOOmm or more and the outer diameter is 10mm or more and 50mm. Below 0.8mm or less and .8mm or less, the surface is free from scratches with a width of 0.5 or more or a length of 150 or more. The difference between the maximum and minimum outer diameters is 1.4 or less, preferably 0.7 or more.
  • the difference between the maximum value and the minimum value of the wall thickness is 0.5 mm or less, preferably 0.3 mm or less, and the bending per 1000 mm length is 1.5 mm or less, preferably 0.7 mm or less.
  • each element concentration of Li, Na, K, Ca, Mg, Ti, Fe, Ni, Cu, Cr, Mo, W, V is less than 5 wtppb, preferably each concentration of all the above elements is less than 3 wtppb,
  • the spectral transmittance of the synthetic quartz glass tube having a wall thickness of 0.8 mm or more and 2.8 or less from the inner surface to the outer surface at a wavelength of 172 nm from the inner surface to the outer surface is 80% or more, preferably 83% or more.
  • Synthetic quartz glass tubes for excimer UV lamps to produce excimer UV lamp synthetic quartz glass tubes with a bend of less than 5 mm, preferably 0.3 mm or less, and 1.5 mm or less, preferably 0.7 mm or less per length lOOmra.
  • Internal pressure inside the pipe so that For excimer UV lamps characterized by producing tubes and extruding synthetic quartz glass tubes for excimer UV lamps while maintaining the tube drawing speed within 5% of each soil from the set value. Manufacturing method of synthetic quartz glass tube.
  • Each element concentration of Li, Na, K, Ca, Mg, Ti, Fe, Ni, Cu, Cr, Mo, W, V is less than 5 wtppb, preferably each concentration of all the above elements is less than 3 wtppb 5.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 07-10913 discloses a quartz glass tube and a method for producing the quartz glass tube.
  • the quartz glass tube is used for drawing an optical fiber and has an outer diameter. It is as large as 50 to 300 mm and has a thickness of 10 mm or more, and is completely different in technical field from the synthetic quartz glass tube for the excimer UV lamp device of the present invention.
  • FIG. 1 is a diagram for explaining an outline of an excimer UV lamp obtained according to an example of the present invention and a performance test of a synthetic quartz glass tube used therein.
  • FIG. 2 is a diagram for explaining a method of manufacturing a synthetic quartz glass tube for an excimer UV lamp according to an embodiment of the present invention.
  • a synthetic quartz glass tube for an excimer UV lamp according to an embodiment of the present invention is for an excimer UV lamp that emits vacuum ultraviolet light having a wavelength of 150 to 250 nm, and is made of high-purity synthetic quartz glass.
  • Glass tube dimension is 1000I 1 or more, outer diameter 10mm or more and 50MI or less, wall thickness 0.8mm or more and 2.8mm or less.
  • the dimensional length of the synthetic quartz glass tube is less than the above, it is impossible to cope with an increase in the size of the cleaning device.
  • the upper limit of the length is about 5000mm.
  • the strength of the lamp tube may be insufficient, and if it exceeds the above, sufficient light transmittance cannot be obtained.
  • Synthetic quartz glass tubes for excimer UV lamps have no scratches on the surface with a width of 0.5 band or more or a length of 150 recitations or more, and the difference between the maximum and minimum outer diameters is 1.4 band or less, preferably 0.7 synthetic quartz glass with a difference between the maximum and minimum wall thickness of 0.5 mm or less, preferably 0.3 mm or less, and a bend per lOOOOmm of 1.5 iM or less, preferably 0.7 or less Tubes are preferred. If there is a scratch with a width of 0.5 mm or more or a length of 150 mm or more, the excimer UV light may be scattered or the lamp itself may be damaged.
  • the difference between the maximum value and the minimum value of the outer diameter is larger than 1.4 mm, the discharge will not be performed evenly because the distance between the internal electrodes varies when an excimer UV lamp is constructed. If it is smaller than 0.001 mm, the yield will decrease, which is not desirable in terms of cost. Similarly, even if the difference between the maximum value and the minimum value of the wall thickness is greater than 0.5 bandages, and the bend per 1000 mm length exceeds 1.5 ram, it has a double pipe structure. When an excimer UV lamp is constructed, there is a possibility that the discharge characteristics between the electrodes provided on the outside of the outer tube and on the inside of the inner tube may be deteriorated. In any case, it is not preferable from the viewpoint of cost to reduce the yield if it is smaller than 0.001 mm because the yield is reduced.
  • the synthetic quartz glass tube has a concentration of each element of Li, Na, K, Ca, Mg, Ti, Cr, Fe, Ni, Cu, Mo, W and V of less than 5 wtppb, preferably each concentration of all the above elements. Is preferably less than 3 wtppb, and more preferably each concentration of all the above elements is less than lwtppb.
  • Alkali metal elements and alkaline earth metal elements such as Li, Na, K, and Ca are included in building materials of factories, etc.If they are more than the above range, recrystallization of quartz glass is promoted and cristonolite is generated. And white devitrification occurs.
  • transition metal elements such as Ti, Cr, Fe, Ni, Cu, Mo, and W are often contained in heat-resistant alloys used in equipment for manufacturing synthetic quartz glass, but their concentrations fall within the above range. Exceeding the above range absorbs ultraviolet light and shifts the ultraviolet absorption end to the longer wavelength side, causing a decrease in transmittance. This is undesirable because it causes the transmittance to decrease. However, reducing the concentration of any of the elements to less than O. Olwtppb is not desirable because all production processes require a clean production environment equivalent to that of a clean room, which increases costs. Note that V, which is an impurity, was first discovered by the present inventors at the time of the present invention.
  • the synthetic quartz glass tube having a wall thickness of 0.8 mm or more and 2.8 mm or less has a spectral transmittance at the initial wavelength of 172 nm from the inner surface to the outer surface of 8 mm or more, preferably 83! Mm or more, and a 0H group concentration of lOwtppm or more and 400 wtppm or less. It is preferable that the concentration is 190 wtppm or more and 320 wtppm or less, and the C1 element concentration is 30 wtppm or less, preferably 5 wtppm or less.
  • the 0H group is the terminal end of the structure in the quartz glass network structure, but if this 0H group is contained in the quartz glass in an appropriate amount, the internal strain in the network structure is relaxed, and the Si- 0 -Si bond angle is stabilized. It is said that the average binding energy of Si-0 increases as the value approaches. However, when the 0H group is contained in a high concentration, the transmittance in the ultraviolet region decreases. Therefore, in the synthetic quartz glass tube of the present invention, the 0H group concentration is set in the range of lOwtppm or more and 400wtppm or less.
  • the Si-Cl formed by the C1 element is a precursor of the absorption band of 210 to n0 nm, so-called E 'center.
  • the concentration of the C1 element is 30 wtppm or less, preferably 5 wtppm or less, the decrease in transmittance is hardly a problem. . It need not be less than O.Olwtppm.
  • a long synthetic quartz glass tube for an excimer UV lamp of the present invention is manufactured by cutting and polishing a cylindrical quartz glass ingot.
  • the variation range of the thickness of the cylindrical quartz glass cylinder is 1.8% or less, the surface roughness is about 18m or less, and the internal pressure of the pipe is adjusted to a predetermined diameter and thickness by the non-contact heating and stretching method. Manufacture while keeping the pipe drawing speed correctly and constant. Unless the variation width of the wall thickness of the cylindrical quartz glass cylinder, which is the original tube, is not less than 1.8, the difference between the maximum value and the minimum value of the outer diameter and the maximum value of the wall thickness when the synthetic quartz glass tube is manufactured minimum value The surface roughness is not less than 18 ⁇ and the width of the surface is not less than 0.5 mm even if the pipe is drawn by the non-contact heating and stretching method. Scratches with a length of more than 150mm may remain.
  • the variation rate of the wall thickness of the cylindrical quartz glass cylinder, which is the original tube, is defined by the following equation.
  • Fluctuation rate (%) (maximum thickness / minimum thickness) / ⁇ (maximum thickness + minimum thickness) / 2 ⁇ X 100
  • the gas phase method (VAD method) or the external method (0VD Method) etc. a cylindrical quartz glass ingot is precisely ground to a predetermined size with a cylindrical grinding device equipped with diamond abrasive grains, then polished with a cerium oxide polishing device, and sized with a non-contact laser type measuring device.
  • the hole is opened with an ultra-precision honing device to match the center of the outer diameter, etching with hydrofluoric acid, washing with pure water, and drying are performed. It is possible to obtain a cylindrical quartz glass cylinder in which the centers of the outer circumference circle and the inner circumference circle coincide.
  • the non-contact heating and drawing method using a cylindrical electric heating furnace the prescribed internal pressure and the drawing speed determined from the dimensions, thickness, glass viscosity during heating, drawing ratio, etc. of the above-mentioned cylindrical quartz glass cylinder are determined.
  • Heat processing is performed while maintaining the set value of soil 5% accurately.
  • the pressure inside the pipe is set in the range of 2 to 1/10 atmosphere, and the drawing speed is set in the range of 1 m to 60 m / min.
  • the high-temperature heat treatment at this time also eliminates the roughness and scratches of the ground surface during mechanical grinding, a long quartz glass tube with a high dimensional accuracy and a smooth surface suitable for excimer UV lamp applications Can be manufactured.
  • the pipe pressure is controlled using a precision pressure controller to maintain the pipe pressure and the pipe drawing speed accurately at 5% of the set value, respectively.
  • the pipe drawing speed is controlled by a high-precision rotary motor. Control may be performed.
  • the outer diameter is measured with a non-contact laser type measuring instrument at intervals of 50 mm for a quartz glass tube of a predetermined length, and the difference between the maximum value and the minimum value of the outer diameter on the circumference is determined.
  • the wall thickness is measured with a non-contact laser measuring instrument at intervals of 50 bands on a quartz glass tube of the specified length, and the difference between the maximum and minimum wall thickness on the circumference is determined.
  • the bend is A quartz glass tube of a predetermined length is rotated with a point of 50 mm from each end as a fulcrum, the maximum value and the minimum value of the displacement at the center of the tube are obtained with a non-contact laser complete measuring instrument, and the difference is reduced by one-half. Value.
  • the bend per 1000 mm length is a value obtained by proportionally converting the value of the bend between fulcrums into a value per 1000 mm of the synthetic quartz glass tube.
  • Transparent vitrification was performed at 160 CTC below to produce a cylindrical quartz glass ingot. Both ends of this cylindrical quartz glass ingot are cut, and the outer periphery is precisely ground to a predetermined size with a cylindrical grinding device equipped with diamond abrasive grains, and then polished with a cerium oxide polishing device and then with a non-contact laser type measuring device. The dimensions were adjusted and the center of the circle of the outer diameter was determined.
  • Holes are drilled with an ultra-precision honing device to match the outer diameter of the circle, etched with hydrofluoric acid, rinsed with pure water, and dried to produce a quartz glass with a length of 3000 mm, an outer diameter of 200 mm, and an inner diameter of 50 mm. Cylinder number one was obtained. The thickness variation rate of this quartz glass cylinder was 1.6%, and the surface roughness was 17 m.
  • the above quartz glass cylinder has a carbon cylindrical heating element as shown in Fig. 2.
  • the temperature of the cylindrical heater was set to 2200, the lower end of the tube was sealed with a dummy tube, nitrogen gas was introduced from the upper end into the tube, and the pressure While maintaining the nitrogen gas pressure in the tube accurately by a controller, the film was drawn into a synthetic quartz glass tube with an outer diameter of 35 mm and a wall thickness of l mm at a constant drawing speed by a drawing roll. Fluctuations from the set values of the internal pressure in the pipe and the drawing speed during this stretching were 33 ⁇ 4 soil and ⁇ 2%, respectively.
  • the obtained synthetic quartz glass tube was cut to a length of 1,500 mm, and the outer diameter, wall thickness, and displacement from the rotating shaft were measured using a non-contact laser type measuring instrument.
  • the difference between the maximum and minimum values of the outer diameter was measured.
  • the difference between the maximum and minimum wall thickness was 0.1 mm, and the bend was 0.6 mm. That is, the bending per 1,000 mm length was 0.43 ⁇ . No scratches with a width of 0.5MI or more or a length of 1501M1 or more were found on the surface.
  • the impurity element concentration, the transmittance at a wavelength of 172 nm, the 0H group concentration, and the C1 element concentration of the obtained synthetic quartz glass tube were as shown in Table 1, respectively.
  • a synthetic quartz glass tube with an outer diameter of 12 mm and a wall thickness of l mm was manufactured in the same manner as in (1).
  • the obtained synthetic quartz glass tube was cut into a length of 1,500 mm, and the outer diameter, wall thickness, and displacement from the rotating shaft were measured with a non-contact laser complete measuring instrument.
  • the difference between the values was 0.4 ram, and the difference between the maximum and minimum values of the wall thickness was 0.1 ⁇ .
  • the bending was 0.6 mm. That is, the bending per 1,000 mm length was 0.43 mm. Also, no scratches with a width of 0.5 ram or more or a length of 150 mra or more were found on the surface.
  • the impurity element concentration, the transmittance at a wavelength of 172 nm, the 0H group concentration, and the C 1 element concentration of the synthetic quartz glass tube were as shown in Table 1, respectively.
  • a porous soot body was prepared by a gas phase method (VAD method) in which silicon tetrachloride vaporized on a rotating evening gate was flame-hydrolyzed in oxyhydrogen to deposit silica soot.
  • VAD method gas phase method
  • a synthetic quartz glass tube having an outer diameter of 35 mm and a wall thickness of imm in the same manner as in Example 1.
  • the fluctuation rate of the thickness of the quartz glass cylinder during the production was 1.7%, and the surface roughness was 17 / _tm.
  • the obtained synthetic quartz glass tube was cut to 1500 mm in length, and the outer diameter, wall thickness, and displacement from the rotating shaft were measured by a non-contact laser complete measuring instrument, and the difference between the maximum value and the minimum value of the outer diameter was found. 0.7 iM, the difference between the maximum and minimum wall thickness was 0.3 mm, and the bend was 1.1 mm. That is, the bending per 1000 mm length was 0.79 leakage. No scratches with a width of 0.5 ram or more or a length of 150 mm or more were found on the surface.
  • the impurity element concentration, the transmittance at a wavelength of 172 nm, the 0H group concentration, and the C1 element concentration of the obtained synthetic quartz glass tube were as shown in Table 1, respectively.
  • a synthetic quartz glass tube with an outer diameter of 12 mm and a wall thickness of 1 was manufactured in the same manner as in 1.
  • the obtained synthetic quartz glass tube was cut to 1500 mm in length, and the outer diameter and the displacement from the rotating shaft were measured by a non-contact laser complete measuring instrument.
  • the maximum and minimum values of the outer diameter were measured.
  • the difference between the maximum and minimum wall thickness was 0.25 mm, and the bend was 1.1 mm. That is, the bending per 1000 mm length was 0.79 ii.
  • no scratches with a width of 0.5 mm or more or a length of 150 marauders or more were found on the surface.
  • the impurity element concentration, the transmittance at the wavelength of ⁇ 2, the 0-base concentration, and the C1 element concentration of the synthetic quartz glass tube were as shown in Table 1, respectively.
  • a synthetic quartz glass tube with an outer diameter of 35 mm and a wall thickness of 1 was used in the same manner as in Example 1, except that the hole was opened with a honing device without aligning the center of the outer diameter of the cylindrical quartz glass ingot. Manufactured. The variation rate of the wall thickness of the quartz glass cylinder during manufacture was 5.2%, and the surface roughness was 32 m.
  • the obtained synthetic quartz glass tube was cut into a length of 1,500 faces, and the outer diameter, wall thickness, and displacement from the rotating shaft were measured using a non-contact laser complete measuring instrument, and the maximum and minimum values of the outer diameter were measured.
  • the difference was 1.7 mm, the difference between the maximum and minimum wall thickness was 0.4 mm, and the bend was 3.3 imn. That is, the bending per 1 000 mm length was 2.29 thighs.
  • the impurity element concentration, the transmittance at a wavelength of 172 nm, the 0H group concentration, and the C1 element concentration of the synthetic quartz glass tube were as shown in Table 1, respectively.
  • a synthetic quartz glass tube with an outer diameter of ⁇ ⁇ and a wall thickness of Irani was manufactured in the same manner as in 1.
  • the obtained synthetic quartz glass tube was cut to a length of 1500 and the outer diameter, wall thickness, and displacement from the rotating shaft were measured with a non-contact laser type measuring instrument.
  • the difference between the maximum and minimum wall thickness was 0.35 ram, and the bend was 3.2 mm. That is, the bending per 1 000 mm length was 2.29 mm.
  • the impurity element concentration, the transmittance at a wavelength of 172 nm, the 0H group concentration, and the C1 element concentration of the synthetic quartz glass tube were as shown in Table 1, respectively.
  • the synthetic quartz glass tube obtained in (1) was used as the outer tube, and the synthetic quartz glass tube in (2) was used as the inner tube to constitute the electrode section and filled with xenon gas to form an excimer UV lamp with a total length of 1400 mm as shown in Fig. 1.
  • This lamp was connected to the high-frequency power supply device shown in FIG. 1, a predetermined voltage was applied, the lamp was turned on, and the emission light intensity at a wavelength of 172 nm on the lamp surface after 100 hours was measured. The measurement was made at a position of A) 80 mm, B) the center of the lamp, and C) 1320 mm from the end of one light emitting part toward the other end.
  • the intensity of the radiated light at each position was expressed as a relative intensity when the intensity at the position of B) in Example 1 was set to 100, the result showed that the value greatly changed depending on the measurement position as shown in Table I.
  • Example 1 Except that the tube was drawn without controlling the nitrogen gas pressure in the synthetic quartz glass cylinder and without keeping the tube drawing speed constant, the same method as in Example 1 was used. A synthetic quartz glass tube with a diameter of 35 mm and a wall thickness of lmra was manufactured. Fluctuations from the set values of the internal pressure in the tube and the drawing speed during the stretching were ⁇ 7% and ⁇ 6! 3 ⁇ 4, respectively. The obtained synthetic quartz glass tube was cut into a length of 1500 ram, and the outer diameter, wall thickness, and displacement from the rotating shaft were measured using a non-contact laser complete measuring instrument.The difference between the maximum value and the minimum value of the outer diameter was measured.
  • the impurity element concentration, the transmittance at a wavelength of 172 nm, the 0H group concentration, and the C1 element concentration of the synthetic quartz glass tube were as shown in Table 1, respectively.
  • a synthetic quartz glass tube with an outer diameter of 12 mm and a wall thickness of 1 mm was manufactured in the same manner as in 1.
  • the obtained synthetic quartz glass tube was cut into a length of 1500 mm, and the outer diameter, wall thickness, and displacement from the rotating shaft were measured using a non-contact laser type measuring instrument.
  • the difference between the maximum value and the minimum value of the outer diameter was measured.
  • the difference between the maximum and minimum wall thickness was 0.4 nim
  • the bend was 3. lmm. That is, the bending per 1,000 strokes was 2.29mm.
  • the impurity element concentration, the transmittance at a wavelength of 172 mn, the 0H group concentration, and the C1 element concentration of the synthetic glass tube were as shown in Table 1, respectively.
  • the synthetic quartz glass tube obtained in (1) is used as the outer tube, and the synthetic quartz glass tube in (2) is used as the inner tube to constitute the electrode section and filled with xenon gas.
  • This lamp was connected to the high-frequency power supply device shown in Fig. 1, a predetermined voltage was applied, the lamp was turned on, and the intensity of radiated light having a wavelength of 172 nm on the lamp surface after 100 hours was measured. It was measured at the position of A) 80imn, B) the center of the lamp and 01320mm from the end of one light emitting part to the other end.
  • the intensity of the radiated light at each position is expressed as a relative intensity when the intensity at the position of B) in Example 1 is set to 100, the value changes greatly depending on the measurement position as shown in Table 2, and the intensity is not uniform. became.
  • the obtained synthetic quartz glass tube was cut into a length of 1500 mm, and was cut with a non-contact laser type measuring instrument.
  • the difference between the maximum and minimum outer diameters was 0.7 mm
  • the difference between the maximum and minimum wall thicknesses was 0.4 mm
  • bending was performed.
  • the impurity element concentration, the transmittance at a wavelength of 172 nm, the 0H group concentration, and the C1 element concentration of the synthetic glass tube were as shown in Table 1, respectively.
  • a synthetic quartz glass tube with an outer diameter of 12IM and a wall thickness of 1 mm was manufactured in the same manner as in (1).
  • the obtained synthetic quartz glass tube was cut into a length of 1,500 strokes, and the outer diameter, wall thickness, and displacement from the rotating shaft were measured with a non-contact laser complete measuring instrument.
  • the maximum and minimum values of the outer diameter were measured.
  • the difference between the maximum and minimum wall thickness was 0.35 mm, and the bend was 1.5 mm. That is, the bending per 1,000 mm length was 1.07 mm.
  • the impurity element concentration, the transmittance at a wavelength of 172 nm, the 0H group concentration, and the C1 element concentration of the synthetic glass tube were as shown in Table 1, respectively.
  • the reason why the impurity concentration increased in this comparative example was that when drawing a synthetic quartz glass cylinder, instead of using the non-contact heating and drawing method, the synthetic quartz glass cylinder was made into graphite in a vertical resistance heating furnace. This is considered to be the result of pipe drawing using the contact heating processing method in which the guides are brought into direct contact.
  • the synthetic quartz glass tube obtained in (1) is used as the outer tube, and the synthetic quartz glass tube in (2) is used as the inner tube to constitute the electrode section and filled with xenon gas.
  • This lamp was connected to the high-frequency power supply device shown in FIG. 1, a predetermined voltage was applied, the lamp was turned on, and the emission light intensity at a wavelength of 172 nm on the lamp surface after 100 hours was measured. The measurement was made at a position of A) 80 mm, B) the center of the lamp, and C) 1320 mm from the end of one light emitting part toward the other end.
  • the intensity of the radiated light at each position is expressed as a relative intensity when the intensity at the position of B) in Example 1 is set to 100, the value is significantly lower than that of Example 1 as shown in Table 2. It became.
  • the synthetic quartz glass tube of the present invention is long and has high dimensional accuracy, when it is used to construct an excimer UV lamp having a double-tube structure, it takes up the entire length of the lamp. Thus, a long excimer UV lamp having uniform light emission characteristics can be manufactured. table 1
  • Example 1 Comparative Example 1 Comparative Example 2 Comparative Example 3 Measurement Position A) B) C) A) B) C) A) B) C) A) B) C) A) B) C) A) B) C) A) B) C)

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Abstract

本発明のエキシマUVランプ用合成石英ガラス管は、高純度の合成石英ガラスからなり、波長150~250nmの真空紫外光を放出するエキシマUVランプ用合成石英ガラス管において、該合成石英ガラス管の寸法が長さ1000mm以上、外径10mm以上50mm以下、肉厚0.8mm以上2.8mm以下で表面に幅0.5mm以上または長さ150mm以上のキズがなく、外径の最大値と最小値の差が1.4mm以下好ましくは0.7mm以下、肉厚の最大値と最小値の差が0.5mm以下好ましくは0.3mm以下、長さ1000mmあたりの曲がりが1.5mm以下好ましくは0.7mm以下であることを特徴とするものである。本発明のエキシマUVランプ用合成石英ガラス管を用いれば、高性能で均一に発光することのできるエキシマUVランプを得ることができる。

Description

明 細 書 エキシマ UVランプ用合成石英ガラス管およびその製造方法 技術分野
本発明は、 波長 1 50~ 250nmの真空紫外光を放出するエキシマ UVランプの光透 過性部分を構成する合成石英ガラス管に関する。 背景技術
LCD 基板の大型化に伴って基板の洗浄装置も大型化し、 これに搭載されるェキ シマ UVランプの寸法においても長尺化が進められている。 エキシマ UVランプを 構成する合成石英ガラス管には放電特性や発光効率の面から寸法精度の高さが求 められるが、 かかる長尺の石英ガラス管においては、 長尺 ( ランプ全長にわたつ て放電特性や発光効率が均一となることが必要であるために、 寸法精度に対する 要求がさらに厳しくなつてきている。
特開平 7- Π 5731 には紫外線ランプ用高純度シリカガラスおよびその製造方法 が開示されているが、今日のエキシマ UVランプに求められているような長尺で寸 法精度の高い石英ガラス管を製造するために必要な条件が日月らかではなく、 直径 30匪、 肉厚 2mm、 長さ 200匪 の合成石英ガラス管を作製したに留まっている。 発明の開示
そこで、本発明は、 今日のエキシマ UVランプに求められているような長尺で寸 法精度の高い石英ガラス管、 およびその製造方法を提供することを目的とするも のである。
また、 本発明の発明者らは、 UVランプの向上を図るべく、 石英ガラス管内の不 純物について鋭意研究していたところ、 不純物としての Vを発見し、 またこの V の濃度が所定値を超えると、 紫外線を吸収し紫外線吸収端を長波長側にシフトさ せ透過率の低下を招くため好ましくないことを知見した。
本発明の他の目的は、エキシマ UVランプ装置の性能を向上させるため不純物濃 度を極力 ί甲さえたエキシマ UV ランプ装置用合成石英ガラス管を提供することに ある。
以上の目的は、 下記 1. 〜 8. のいずれかの構成により達成される。
1. 高純度の合成石英ガラスからなり、 波長 150〜 250nmの真空紫外光を放出する エキシマ UVランプ用合成石英ガラス管において、該合成石英ガラス管の寸法が長 さ lOOOmm 以上、 外径 10mm以上 50mm以下、 肉厚 0.8mm以上 .8mm以下で表面に幅 0.5讓以上または長さ 150匪以上のキズがなく 、外径の最大値と最小値の差が 1. 4誦以下好ましくは 0. 7匪以下、 肉厚の最大値と最小値の差が 0. 5mm以下 好ましく 0. 3 mm以下、 長さ 1000mmあたりの曲がりが 1.5mm以下好ましくは 0.7mm以下であることを特徵とするエキシマ UVランプ用合成石英ガラス管。
2. Li、 Na、 K、 Ca、 Mg、 Ti、 Fe、 Ni、 Cu、 Cr、 Mo、 W、 Vの各元素濃度が 5wtppb 未満、好ましくは上記の全ての元素の各濃度が 3wtppb未満、 より好ましくは上記 の全ての元素の各濃度が lwtppb未満であることを特徴とする上記 1.記載のェキ シマ UVランプ用合成石英ガラス管。
3. 肉厚 0.8mm以上 2.8誦以下の合成石英ガラス管の内表面から外表面への波長 172nmにおける分光透過率が 80%以上好ましくは 83%以上であることを特徵とする 上記 1. または 2. 記載のエキシマ UVランプ用合成石英ガラス管。
4. 合成石英ガラス管中の 0H基濃度が lOwtppm以上 400wtppm以下、 C1元素濃度 が 30wtppm以下好ましくは 5wtppm以下であることを特徴とする上記 1. 〜 3. の いずれかに記載のエキシマ UVランプ用合成石英ガラス管。
5. 波長 150〜250nmの真空紫外光を放出するエキシマ UVランプ用であって、 寸 法が長さ 1000mm以上、外径 10mm以上 50mm以下、 肉厚 0.8mm以上 2.8mm以下で表 面に幅 0. 5議以上または長さ 150mm以上のキズがなく、 外径の最大値と最小値の 差が 1. 4mm以下好ましくは 0. 7 mm以下、 肉厚の最大値と最小値の差が 0. 5 mm以下好ましくは 0. 3 mm以下、 長さ lOOOmraあたりの曲がりが 1.5mm以下好ま しくは 0.7mm以下であるエキシマ UVランプ用合成石英ガラス管を製造するエキシ マ UVランプ用合成石英ガラス管の製造方法であって、 肉厚の変動率が 1. 8 %以 下、 表面粗さが 1 8 以下の石英ガラスシリンダーを、 円筒型電気加熱炉を使 つた無接触加熱延伸方法により、 所定の径と肉厚になるように、 管の中の内圧お よび管引き速度を、 設定値からの変動が各々土 5 %以内になるように維持しつつ 管引きを行って、エキシマ UVランプ用合成石英ガラス管を製造することを特徴と するエキシマ UVランプ用合成石英ガラス管の製造方法。
6. Li、 Na、 K、 Ca、 Mg、 Ti、 Fe、 Ni、 Cu、 Cr、 Mo、 W、 Vの各元素濃度が 5wtppb 未満、好ましくは上記の全ての元素の各濃度が 3wtppb未満であるのがよく、 より 好ましくは上記の全ての元素の各濃度が lwtppb 未満であることを特徴とする上 記 5. 記載のエキシマ UVランプ用合成石英ガラス管の製造方法。
7. 合成石英ガラス管の内表面から外表面への波長 172nraにおける分光透過率が 80%以上好ましくは 83%以上であることを特徴とする上記 5. または 6. 記載のェ キシマ UVランプ用合成石英ガラス管の製造方法。
8. 合成石英ガラス管中の 0H基濃度が lOwtppm以上 400wtppm以下、 C1元素濃度 が 30wtppm以下好ましくは 5wtppm以下であることを特徴とする上記 5. 〜 7. の いずれかに記載のエキシマ UVランプ用合成石英ガラス管の製造方法。
なお、 特開平 0 7 — 1 0 9 1 3 6号においては、 石英ガラス管およびその製造 方法が開示されているが、 該石英ガラス管は光ファイバの線引き用のものであつ て、 外径が 5 0〜 3 0 0 mm 、 厚さ 1 0 mm以上と大型のものであり、 本発明 のエキシマ UV ランプ装置用合成石英ガラス管とは技術分野がまったく異なるも のである。 図面の簡単な説明
図 1は、本発明の実施例により得られたエキシマ UVランプの概略及びそれに用 いられる合成石英ガラス管の性能試験を説明するための図である。
図 2は、本発明の実施例によるエキシマ UVランプ用合成石英ガラス管の製造方 法を説明するための図である。 発明を実施するための最良の形態
本発明の実施の形態によるエキシマ UVランプ用合成石英ガラス管は、 波長 150 〜250nmの真空紫外光を放出するエキシマ UVランプ用のものであって、 高純度の 合成石英ガラスからなり、 該合成石英ガラス管の寸法が長さ 1000I 1 以上、 外径 10mm以上 50MI以下、 肉厚 0.8mm以上 2.8mm以下である。
本合成石英ガラス管の寸法長さが上記未満であると、 洗浄装置の大型化に対応 できないからである。 なお、 現在のところその長さの上限値は、 5000mm程度で ある。
肉厚が上記未満であると、 ランプ管としての強度が不足するおそれがあり、 そ れをこえると、 十分な光透過性が得られなくなる。
エキシマ UV ランプ用の合成石英ガラス管には、表面に幅 0.5匪以上または長さ 150誦以上のキズがなく、 外径の最大値と最小値の差が 1. 4匪以下好ましくは 0. 7 mni 以下、 肉厚の最大値と最小値の差が 0. 5 mm 以下好ましくは 0. 3 mm 以下、 長さ lOOOmmあたりの曲がりが 1.5iM以下好ましくは 0. 7誦以下である合 成石英ガラス管が好適である。 幅 0.5mm以上あるいは長さ 150mm以上のキズがあ ると、 エキシマ UV光が散乱したり、 あるいはランプそのものが破損するおそれが ある。 また外径の最大値と最小値の差が 1. 4mmよりも大きくなるとエキシマ UV ランプを構成したときに内部電極間の距離にばらつきが出ることから放電が均等 に行われなくなる。 0.001mm よりも小さくするには歩留まりが低下し、 コストの 面から望まれない。 同様に、 肉厚の最大値と最小値の差が 0. 5匪よりも大きく なったり、長さ 1000mmあたりの曲がりが 1.5ramを超えたりするようなものについ ても、二重管構造を有するエキシマ UVランプを構成したときに外管の外側と内管 の内側各々につけられた電極間の放電特性の悪化のおそれがある。 いずれも 0.001mm よりも小さくするには歩留まりが低下するためコス卜の面から好ましく ない。
さらに該合成石英ガラス管は Li、 Na、 K、 Ca、 Mg、 Ti、 Cr、 Fe、 Ni、 Cu、 Mo、 W、 V の各元素濃度が 5wtppb 未満、 好ましくは上記の全ての元素の各濃度が 3wtppb 未満であるのがよく、より好ましくは上記の全ての元素の各濃度が lwtppb未満で あるのがよい。 Li、 Na、 K、 Ca などのアルカリ金属元素およびアルカリ土類金属 元素は工場の建材等に含まれるが、 これらが前記範囲以上であると石英ガラスの 再結晶化が促進されクリストノ ライ トを生成しやすくなり白色失透が起こる。 ま た Ti、 Cr、 Fe、 Ni、 Cu、 Mo、 Wなどの遷移金属元素は合成石英ガラスを製造する 装置に使用される耐熱合金等に含まれることが多いがこれらの濃度が前記範囲を 超えると紫外線を吸収し紫外線吸収端を長波長側にシフトさせ透過率の低下を招 くため好ましくなレ^ まためについても、 所定の濃度を超えると紫外線を吸収し 紫外線吸収端を長波長側にシフ 卜させ透過率の低下を招くため好ましくない。 し かしいずれの元素も濃度が O. Olwtppb未満になるようにするにはすべての製造ェ 程でクリーンルーム並みの清浄な製造環境が必要となりコストが高くなるため望 ましくない。 なお、 不純物である Vは、 本発明の際に、 本発明の発明者らによつ て初めて発見されたものである。
さらに肉厚 0.8mm以上 2.8mm以下の該合成石英ガラス管は内表面から外表面へ の初期の波長 172nmにおける分光透過率が 8½以上好ましくは 83!¾以上、 0H基濃 度が lOwtppm以上 400wtppm以下好ましくは 190wtppm以上 320wtppm以下、 C1元 素濃度が 30wtppm以下好ましくは 5wtppm以下であることが望ましい。波長 172nm における内表面から外表面への分光透過率が 80%未満になるとエキシマ UVランプ を構成したときに紫外線光量の不足により被洗浄物への洗浄効果が低下する。 また 0H基は石英ガラス網目構造において構造の終端部になるが、 この 0H基が 石英ガラス中に適量含まれていると網目構造内の内部歪みが緩和され、 Si- 0 - Si 結合角が安定値に近づき Si- 0の平均結合エネルギ一が上昇すると言われている。 ところが、 0H 基は高濃度に含まれると紫外域の透過率を低下させることになる。 そこで本発明の合成石英ガラス管では 0H基濃度を lOwtppm以上 400wtppm以下の 範囲とする。
また C1元素により形成する Si-Cl は 210~n0nmの吸収帯、 いわゆる E'センタ —の前駆体となるが C1元素濃度が 30wtppm以下好ましくは 5wtppm以下であれば 透過率の低下はほとんど問題にならない。 O.Olwtppm未満である必要はない。 本発明の実施の形態により、本発明のエキシマ UVランプ用の長尺の合成石英ガ ラス管を製造するには、 円柱状石英ガラスインゴッ 卜を切削 ·研磨して得られた 原管である円筒状石英ガラスシリンダ一の肉厚の変動幅を 1.8%以下、表面粗さを 18 m 以下程度にし、 さらに無接触加熱延伸方法によって、 所定の径と肉厚とな るように管の内圧と管引き速度を正しく一定に保ちながら製造する。 原管である 円筒状石英ガラスシリンダ一の肉厚の変動幅が 1.8 以下でなければ、合成石英ガ ラス管を製造したときに外径の最大値と最小値の差および肉厚の最大値と最小値 の差および曲;^'りが本発明の範囲に入らず、 表面粗さ 1 8 πι以下でなければたと え無接触加熱延伸方法で管引きを行ったとしても表面に幅 0. 5ΜΙ以上あるいは長 さ 1 50mm以上のキズが残るおそれがある。
尚、 原管である円筒状石英ガラスシリンダ一の肉厚の変動率とは次式で定義さ れる。
変動率(%) = (最大肉厚一最小肉厚) / { (最大肉厚 +最小肉厚) / 2 } X 1 0 0 すなわち、気相軸付法(VAD法)あるいは外付法(0VD法)等で作られた円柱状石英 ガラスインゴッ トをダイヤモンド砥粒を備えた円筒研削装置で所定の寸法に正確 に研削し、 次いで酸化セリゥム研磨装置で研磨し非接触レーザー式測定機で寸法 合わせを行い、 外径の円中心を正確に求めてこの外径の円中心に合わせて超精密 ホ一ニング装置で開孔し、 フッ酸によるエッチング処理、 純水による水洗、 及び 乾燥を行うと外周円と内周円の中心が一致した円筒状石英ガラスシリンダーを得 ることができる。
次に円筒型電気加熱炉を使った無接触加熱延伸方法によって、 上記円筒状石英 ガラスシリンダーの寸法、 厚さ、 加熱時のガラス粘度、 延伸比などから求まる所 定の管内圧と管引き速度を各々設定値の土 5 %正確に保持しながら加熱加工処理 を行う。 尚、 このときの管内圧は 2気圧から 1 0分の 1気圧の範囲で設定され、 管 引き速度は l m 分〜 60 m/分の範囲で設定される。 また、 このときの高温加熱処 理により機械研削時の研削面の粗さ、 キズ等も解消されるため、 エキシマ UVラン プ用途に好適な寸法精度が高く平滑な表面を持つ長尺石英ガラス管を製造するこ とができる。
管内圧と管引き速度を各々設定値の土 5 %正確に保持するには、 管内圧につい ては、 精密圧力コントローラを用いて制御を行い、 管引き速度については、 高精 度回転モータを用いた制御を行えばよい。
[寸法の測定]
外径は、 所定の長さの石英ガラス管に対し、 50mm間隔毎に非接触レーザー式測定 器で測定してその円周上での外径の最大値と最小値との差を求める。 肉厚は、 所 定の長さの石英ガラス管に対し、 50匪間隔毎に非接触レーザ一式測定器で測定し てその円周上での肉厚の最大値と最小値との差を求める。 また、 曲がりとは管の 両端からそれぞれ 50mm の箇所を支点として所定の長さの石英ガラス管を回転さ せ、 非接触レーザ一式測定器で管中央部における変位の最大値と最小値を求めて その差を Ϊ分の 1 にした値とする。長さ 1000mmあたりの曲がりとは、支点間の曲 がりの値を該合成石英ガラス管の 1000mm あたりの数値に比例換算した数値とす る。
[表面のキズ]
散乱光の下で目視観察し、 キズが発見された場合にこの大きさを測定する。
[不純物元素分析]
ICP発光分光分析法による。
[透過率測定]
真空紫外分光光度計による測定法。
[0H基濃度]
D. M. DODD and D. B. FRASER, Optical determination of OH in fused silica, Journal of Appl ied Physics, Vol. 37 (1966)p. 3911文献記載の赤外分光光度計 による測定法。
[C1元素濃度]
HF水溶液により分解後、 AgN03添加による比濁法による測定法。
[実施例 1]
①回転するタ一ゲッ ト上に気化した四塩化珪素を酸水素中で火炎加水分解してシ リカス一トを堆積させる外付法(0VD 法)により作製した大型多孔質スート体を真 空雰囲気下 160CTCで透明ガラス化して円柱状石英ガラスインゴッ トを製造した。 この円柱状石英ガラスィンゴッ 卜の両端を切断し、 その外周をダイヤモンド砥粒 を備えた円筒研削装置で所定の寸法に正確に研削し、 次いで酸化セリウム研磨装 置で研磨し非接触レーザー式測定機で寸法合わせを行い、外径の円中心を求めた。 この外径の円中 、に合わせて超精密ホーニング装置で開孔し、 フッ酸によるエツ チング処理、 純水による水洗、 及ぴ乾燥を行って長さ 3000mm、 外径 200mm、 内径 50mmの石英ガラスシリンダ一を得た。 この石英ガラスシリンダ一の肉厚の変動率 は 1.6%、 表面粗さは 17 mであった。
上記石英ガラスシリンダ一を、 図 2 に示す如くカーボン製円筒型発熱体を有す る縦型抵抗加熱炉内にセッ トし、 円筒状ヒーターの温度を 2200でに設定し、 管の 下端部をダミー管によって封止して上端部より管内に窒素ガスを導入し、 圧力コ ン卜ローラによって管内の窒素ガス圧を正確に保持しつつ、 延伸ロールにより一 定の管引き速度で外径 35mm、 肉厚 l mmの合成石英ガラス管に延伸した。 この延伸 中における管の中の内圧および管引き速度の設定値からの変動は、 それぞれ、 土 3¾ , ± 2%であった。
得られた合成石英ガラス管を長さ 1 500mmに切断し、非接触レーザー式測定器で 外径、 肉厚および回転軸からの変位をそれぞれ測定したところ、 外径の最大値と 最小値の差が 0. 3 mm、 肉厚の最大値と最小値の差が 0. 1 mm、 曲がりが 0. 6mmであ つた。 すなわち長さ 1 000mmあたりの曲がりは 0. 43ηπηであった。 また、 表面に幅 0. 5MI以上または長さ 1 5 01M1以上のキズは見られなかった。
得られた合成石英ガラス管の不純物元素濃度、波長 1 72nmの透過率、 0H基濃度、 C 1元素濃度はそれぞれ表 1 に示す通りであった。
② ①と同様の方法によって外径 1 2mm、肉厚 l mmの合成石英ガラス管を製造した。 得られた合成石英ガラス管を長さ 1 500mmに切断し、非接触レ一ザ一式測定器で外 径、 肉厚および回転軸からの変位をそれぞれ測定したところ、 外径の最大値と最 小値の差が 0. 4 ram, 肉厚の最大値と最小値の差が 0. 1 ιηπκ 曲がりが 0. 6mmであつ た。すなわち長さ 1 000mmあたりの曲がりは 0. 43mmであった。また、表面に幅 0. 5ram 以上または長さ 1 50mra以上のキズは見られなかった。
該合成石英ガラス管の不純物元素濃度、 波長 1 72nm の透過率、 0H 基濃度、 C 1 元素濃度はそれぞれ表 1 に示す通りであった。
③ 得られた①の合成石英ガラス管を外側管、また②の合成石英ガラス管を内側管 として電極部を構成しキセノンガスを封入して図 1に示す全長 1 400匪のエキシマ UVランプを作製した。 このランプを図 1記載の高周波電源装置に接続して所定の 電圧をかけ、 点灯させて 1 00時間後のランプ表面での波長 1 72nmの放射光強度を 測定した。 一方の発光部端部から他方の端部方向に A) 80mm、 B)ランプ中央、 C) 1 320mmの位置で測定した。 それぞれの位置での放射光強度を、 B)の位置におけ る強度を 1 00としたときの相対強度で表すと表 1のように測定位置によってほぼ 同一の均一な強度となった。 [実施例 2]
①回転する夕一ゲッ ト上に気化した四塩化珪素を酸水素中で火炎加水分解してシ リカスートを堆積させる気相軸付法(VAD 法)により多孔質ス一ト体を作製した以 外は実施例 1 と同様の方法によって外径 35mm、 肉厚 immの合成石英ガラス管を製 造した。 なお、 製造途中での石英ガラスシリンダーの肉厚の変動率は 1.7%、 表 面粗さは 17/_tmであった。
得られた合成石英ガラス管を長さ 1500mmに切断し、非接触レーザ一式測定器で 外径、 肉厚および回転軸からの変位をそれぞれ測定したところ、 外径の最大値と 最小値の差が 0. 7 iM、 肉厚の最大値と最小値の差が 0. 3 mm, 曲がりが 1.1mmであ つた。 すなわち長さ 1000mmあたりの曲がりは 0.79漏であった。 また、 表面に幅 0.5ram以上または長さ 150mm以上のキズは見られなかった。
得られた合成石英ガラス管の不純物元素濃度、波長 172nmの透過率、 0H基濃度、 C1元素濃度はそれぞれ表 1 に示す通りであった。
② ①と同様の方法によって外径 12mm、肉厚 1誦の合成石英ガラス管を製造した。 得られた合成石英ガラス管を長さ 1500mmに切断し、非接触レーザ一式測定器で外 径、 肉厚おょぴ回転軸からの変位をそれぞれ測定したところ、 外径の最大値と最 小値の差が 0. 7 mm, 肉厚の最大値と最小値の差が 0. 2 5 mm, 曲がりが 1.1mmであ つた。 すなわち長さ 1000mmあたりの曲がりは 0.79i iであった。 また、 表面に幅 0.5mm以上または長さ 150匪以上のキズは見られなかった。
該合成石英ガラス管の不純物元素濃度、 波長 Π2 の透過率、 0Η 基濃度、 C1 元素濃度はそれぞれ表 1 に示す通りであった。
③ 得られた①の合成石英ガラス管を外側管、また②の合成石英ガラス管を内側管 として電極部を構成しキセノンガスを封入して図 1に示す全長 1400mmのエキシマ UVランプを作製した。 このランプを図 1記載の高周波電源装置に接続して所定の 電圧をかけ、 点灯させて 100時間後のランプ表面での波長 172nmの放射光強度を 測定した。 一方の発光部端部から他方の端部方向に A)80mm、 B)ランプ中央、 C) 1320賴 の位置で測定した。 それぞれの位置での放射光強度を、 実施例 1の B) の位置における強度を 100としたときの相対強度で表すと表 1のように実施例 1 と同様に測定位置によってほぼ同一の均一な強度となった。 [比較例 1 ]
①円柱状石英ガラスインゴッ 卜の外径の円中心を合わせることなくホ一ニング装 置で開孔した以外は実施例 1 と同様にして外径 35mm、 肉厚 1匪の合成石英ガラス 管を製造した。なお、製造途中での石英ガラスシリンダ一の肉厚の変動率は 5. 2 %、 表面粗さは 32 mであった。
得られた合成石英ガラス管を長さ 1 500顏に切断し、非接触レーザ一式測定器で 外径、 肉厚および回転軸からの変位をそれぞれ測定したところ、 外径の最大値と 最小値の差が 1 . 7 mm、 肉厚の最大値と最小値の差が 0. 4 mm、 曲がりが 3. 3imnで あった。 すなわち長さ 1 000mmあたりの曲がりは 2. 29腿であった。 また、 該合成 石英ガラス管の不純物元素濃度、 波長 1 72nmの透過率、 0H基濃度、 C 1元素濃度は それぞれ表 1 に示す通りであった。
② ①と同様の方法によって外径 Π ΙΜΙ、肉厚 I raniの合成石英ガラス管を製造した。 得られた合成石英ガラス管を長さ 1 500誦に切断し、非接触レーザー式測定器で外 径、 肉厚および回転軸からの変位をそれぞれ測定したところ、 外径の最大値と最 小値の差が 1 . 8 nim、 肉厚の最大値と最小値の差が 0. 3 5 ram、 曲がりが 3. 2mmで あった。 すなわち長さ 1 000mmあたりの曲がりは 2. 29mmであった。 また、 該合成 石英ガラス管の不純物元素濃度、 波長 1 72nmの透過率、 0H基濃度、 C 1元素濃度は それぞれ表 1 に示す通りであった。
③ 得られた①の合成石英ガラス管を外側管、また②の合成石英ガラス管を内側管 として電極部を構成しキセノンガスを封入して図 1に示すような全長 1400mmのェ キシマ UVランプを作製した。このランプを図 1記載の高周波電源装置に接続して 所定の電圧をかけ、 点灯させて 100時間後のランプ表面での波長 1 72nmの放射光 強度を測定した。一方の発光部端部から他方の端部方向に A) 80mm、 B)ランプ中央、 C) 1 320mm の位置で測定した。 それぞれの位置での放射光強度を、 実施例 1の B) の位置における強度を 1 00としたときの相対強度で表すと表 Iのように測定位置 によって値が大きく変化した結果となった。
[比較例 2]
①合成石英ガラスシリンダ一内の窒素ガス圧を制御することなく、 また管引き速 度を一定に保持することなく管引きした以外は実施例 1 と同様の方法によって外 径 35mm、 肉厚 lmraの合成石英ガラス管を製造した。 この延伸中における管の中の 内圧および管引き速度の設定値からの変動はそれぞれ、 ±7%および ±6!¾であった。 得られた合成石英ガラス管を長さ 1500ramに切断し、非接触レーザ一式測定器で外 径、 肉厚および回転軸からの変位をそれぞれ測定したところ、 外径の最大値と最 小値の差が 1 . 9 mm、 肉厚の最大値と最小値の差が 0. 3 5 mm、 曲がりが 3.2ηπηで あった。 すなわち長さ 1000 あたりの曲がりは 2.29讓であった。 また、 該合成 石英ガラス管の不純物元素濃度、 波長 172nmの透過率、 0H基濃度、 C1元素濃度は それぞれ表 1 に示す通りであった。
② ①と同様の方法によって外径 12mm、肉厚 1mmの合成石英ガラス管を製造した。 得られた合成石英ガラス管を長さ 1500mmに切断し、非接触レーザー式測定器で外 径、 肉厚および回転軸からの変位をそれぞれ測定したところ、 外径の最大値と最 小値の差が 1 . 8 mm、 肉厚の最大値と最小値の差が 0. 4nim、 曲がりが 3. lmmであ つた。 すなわち長さ 1000画あたりの曲がりは 2.29mmであった。 また、 該合成石 英ガラス管の不純物元素濃度、 波長 172mnの透過率、 0H基濃度、 C1元素濃度はそ れぞれ表 1 に示す通りであった。
③ 得られた①の合成石英ガラス管を外側管、また②の合成石英ガラス管を内側管 として電極部を構成しキセノンガスを封入して図 1に示すような全長 1400皿のェ キシマ UVランプを作製した。このランプを図 1記載の高周波電源装置に接続して 所定の電圧をかけ、 点灯させて 100時間後のランプ表面での波長 172nmの放射光 強度を測定した。一方の発光部端部から他方の端部方向に A)80imn、 B)ランプ中央、 01320mm の位置で測定した。 それぞれの位置での放射光強度を、 実施例 1の B) の位置における強度を 100としたときの相対強度で表すと表 2のように測定位置 によって値が大きく変化し、 強度が不均一となった。
[比較例 3]
①合成石英ガラスシリンダーを管引きする際に、 無接触加熱延伸方法を用いる代 わりに縦型抵抗加熱炉内で当該合成石英ガラスシリンダ一にグラフアイ 卜製ガイ ドを直接接触させる接触式加熱加工法を用いて管引きした以外は実施例 1 と同様 の方法によって外径 35mm、 肉厚 1mmの合成石英ガラス管を製造した。
得られた合成石英ガラス管を長さ 1500mmに切断し、非接触レーザー式測定器で 外径、 肉厚および回転軸からの変位をそれぞれ測定したところ、 外径の最大値と 最小値の差が 0. 7 mm、 肉厚の最大値と最小値の差が 0. 4 mm, 曲がりが 1 · 7mmであ つた。 すなわち長さ 1 000mmあたりの曲がりは 1 . 21 mmであった。 また、 該合成石 英ガラス管の不純物元素濃度、 波長 1 72nmの透過率、 0H基濃度、 C 1元素濃度はそ れぞれ表 1 に示す通りであった。
② ①と同様の方法によって外径 1 2IM、肉厚 1 mmの合成石英ガラス管を製造した。 得られた合成石英ガラス管を長さ 1 500画に切断し、非接触レーザ一式測定器で外 径、 肉厚および回転軸からの変位をそれぞれ測定したところ、 外径の最大値と最 小値の差が 0. 5 mm、 肉厚の最大値と最小値の差が 0. 3 5 mm、 曲がりが 1 . 5mmであ つた。 すなわち長さ 1 000mmあたりの曲がりは 1 . 07mmであった。 また、 該合成石 英ガラス管の不純物元素濃度、 波長 1 72 nmの透過率、 0H基濃度、 C 1元素濃度はそ れぞれ表 1 に示す通りであった。
この比較例において不純物濃度が増大したのは、 合成石英ガラスシリンダーを 管引きする際に、 無接触加熱延伸方法を用いる代わりに縦型抵抗加熱炉内で当該 合成石英ガラスシリンダ一にグラフアイ ト製ガイ ドを直接接触させる接触式加熱 加工法を用いて管引きした結果であると考えられる。
③ 得られた①の合成石英ガラス管を外側管、また②の合成石英ガラス管を内側管 として電極部を構成しキセノンガスを封入して図 1に示すような全長 UO Ommのェ キシマ UVランプを作製した。このランプを図 1記載の高周波電源装置に接続して 所定の電圧をかけ、 点灯させて 100時間後のランプ表面での波長 1 72nmの放射光 強度を測定した。一方の発光部端部から他方の端部方向に A) 80mm、 B)ランプ中央、 C) 1 320mm の位置で測定した。 それぞれの位置での放射光強度を、 実施例 1の B) の位置における強度を 1 00としたときの相対強度で表すと表 2のように実施例 1 に比較して大幅に強度の低い値となった。
以上から本発明の効果が明らかである。 産業上の利用可能性
本発明の合成石英ガラス管は長尺でありながら寸法精度も高いため、 これを用 いて二重管構造を有するエキシマ UVランプを構成した場合には、ランプ全長にわ たって均一な発光特性を持つ長尺のエキシマ UVランプを製造することができる。 表 1
Figure imgf000015_0001
表 2
実施例 1 実施例 2 比較例 1 比較例 2 比較例 3 測定位置 A) B) C) A) B) C) A) B) C) A) B) C) A)B ) C)
172nm放射
光の相対強 98 100 98 98 99 97 75 90 95 85 95 70 80 75 60 度

Claims

請 求 の 範 囲
1. 高純度の合成石英ガラスからなり、 波長 150〜 250nmの真空紫外光を放出する エキシマ UVランプ用合成石英ガラス管において、該合成石英ガラス管の寸法が長 さ 1000mm以上、外径 10画以上 50mm以下、 肉厚 0.8mm以上 1.8mm以下で表面に幅 0.5匪以上または長さ 150■以上のキズがなく 、外径の最大値と最小値の差が 1. 4mm以下、 肉厚の最大値と最小値の差が 0. 5MI以下、 長さ 1 OOOmniあたりの曲 がりが 1.5mm以下であることを特徴とするエキシマ UVランプ用合成石英ガラス管。
2.外径の最大値と最小値の差が 0. 7 mm以下、肉厚の最大値と最小値の差が 0. 3 mm以下、 長さ 1000mmあたりの曲がりが 0. 7 rara以下であることを特徴とする 請求項 1のエキシマ UVランプ用合成石英ガラス管。
3. Li、 Na、 K、 Ca、 Mg、 Ti、 Fe、 Ni、 Cu、 Cr、 Mo、 W、 Vの各元素濃度が 5wtppb 未満であることを特徴とする請求項 1または 2のエキシマ UV ランプ用合成石英 ガラス管。
4. Li、 Na、 K、 Ca、 Mg、 Ti、 Fe、 Ni、 Cu、 Cr、 Mo、 W、 Vの各元素濃度が 3 wtppb 未満であることを特徴とする請求項 1または 2のエキシマ UV ランプ用合成石英 ガラス管。
5. Li、 Na、 K、 Ca、 Mg、 Ti、 Fe、 Ni、 Cu、 Cr、 Mo、 W、 Vの各元素濃度が 1 wtppb 未満であることを特徴とする請求項 1または 2のエキシマ UV ランプ用合成石英 ガラス管。
6. 肉厚 0.8mm以上 2.8mm以下の合成石英ガラス管の内表面から外表面への波長 172nmにおける分光透過率が 80%以上であることを特徴とする請求項 1~ 5のいず れかのエキシマ UVランプ用合成石英ガラス管。
7. 前記分光透過率が 8 3 %以上であることを特徴とする請求項 6のエキシマ UV ランプ用合成石英ガラス管。
8. 合成石英ガラス管中の 0H基濃度が lOwtppm以上 400wtppm以下、 C1元素濃度 が 30wtppm以下であることを特徴とする請求項 1~ 7のいずれかのエキシマ UVラ ンプ用合成石英ガラス管。
9. 合成石英ガラス管中の C1元素濃度が 5wtppm以下であることを特徴とする請 求項 1〜 8のいずれかのエキシマ UVランプ用合成石英ガラス管。
1 0. 波長 150〜250nmの真空紫外光を放出するエキシマ UVランプ用であって、 寸法が長さ 1000關以上、 外径 10誦以上 50關以下、 肉厚 0.8 mi以上 1.8mm以下で 表面に幅 0.5匪以上または長さ 150mm以上のキズがなく 、 外径の最大値と最小値 の差が 1. 4nim以下、 肉厚の最大値と最小値の差が 0. 5 mm以下、 長さ 1000mm あたりの曲がりが 1· 5ΙΜΙ以下であるエキシマ UVランプ用合成石英ガラス管を製造 するエキシマ UVランプ用合成石英ガラス管の製造方法であって、肉厚の変動率が
I . 8 %以下、 表面粗さが 1 8 m以下の石英ガラス原管である円筒状石英ガラ スシリンダ一を、 無接触加熱延伸方法により、 所定の径と肉厚になるように、 管 の中の内圧および管引き速度を、 設定値からの変動が各々 ± 5 %以内になるよう に維持しつつ管引きを行って、エキシマ UVランプ用合成石英ガラス管を製造する ことを特徴とするエキシマ UVランプ用合成石英ガラス管の製造方法。
I I . 外径の最大値と最小値の差が 0. 7mm以下、 肉厚の最大値と最小値の差が 0. 3 mm以下、 長さ 1000mmあたりの曲がりが 0. 7 mm以下であることを特徴と する請求項 1 0のエキシマ UVランプ用合成石英ガラス管の製造方法。
1 2. Li、 Na、 K、 Ca、 Mg、 Ti、 Fe、 Ni、 Cu、 Cr、 Mo、 W、 Vの各元素濃度が 5wtppb 未満であることを特徴とする請求項 1 0または 1 1のエキシマ UV ランプ用合成 石英ガラス管の製造方法。
1 3. Li、 Na、 K、 Ca、 Mg、 Ti、 Fe、 Ni、 Cu、 Cr、 Mo W、 Vの各元素濃度が 3 wtppb 未満であることを特徴とする請求項 1 0または 1 1のエキシマ UV ランプ用合成 石英ガラス管の製造方法。
1 4. Li、 Na、 K、 Ca、 Mg、 Ti、 Fe、 Ni、 Cu、 Cr、 Mo W、 Vの各元素濃度が 1 wtppb 未満であることを特徴とする請求項 1 0または 1 1のエキシマ UV ランプ用合成 石英ガラス管の製造方法。
1 5. 肉厚 0.8mm以上 2.8mm以下の合成石英ガラス管の内表面から外表面への波 長 172nmにおける分光透過率が 80%以上であることを特徴とする請求項 10 ~ 1 4 のいずれかのエキシマ UVランプ用合成石英ガラス管の製造方法。
1 6.前記分光透過率が 8 3 %以上であることを特徴とする請求項 1 5のエキシマ UVランプ用合成石英ガラス管の製造方法。
1 7. 合成石英ガラス管中の 0H基濃度が lOwtppm以上 40( vtppin以下、 C1元素濃 度が 30wtppm以下であることを特徴とする請求項 10〜 1 6のいずれかのエキシ マ UVランプ用合成石英ガラス管の製造方法。
1 8. 合成石英ガラス管中の C1元素濃度が 5 wtppm以下であることを特徴とする 請求項 10〜 1 7のいずれかのエキシマ UVランプ用合成石英ガラス管の製造方法。
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