WO2005037649A1 - ホローカソード型スパッタリングターゲットの包装装置及び包装方法 - Google Patents

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Masaru Nagasawa
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Definitions

  • the present invention relates to a packaging apparatus and a packaging method for a hollow sword type sputtering target.
  • the present invention relates to a packaging device and a packaging method for a holo sword type sputtering target capable of preventing dust and dirt from adhering and preventing moisture and oxidization.
  • This holo-sword type sputtering target can generate high-density plasma in the target area, and by giving directivity in the sputtering direction, it is possible to use a conventional collimator without using a conventional collimator. The ability to fill vias with a high aspect ratio has been obtained.
  • the hollow single-sword type sputtering target has a function of a film formation method that is more efficient and more controllable than a conventional flat plate type target.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-256843
  • Patent Document 2 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-98367
  • Patent Document 3 Japanese Patent Publication No. 2002-531690
  • Patent Document 4 JP-A-4-231461
  • Patent Document 5 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-240959
  • the bag 3 closely adheres (pins) to the peripheral portion 2 of the hollow single-sword type sputtering target 1, and the space 4 becomes difficult to be sufficiently sucked, so that sufficient oxidation prevention and the like can be prevented. A problem occurred that could not be considered a precautionary measure.
  • Reference numeral 7 in FIG. 2 is a vacuum suction unit. Disclosure of the invention
  • the present invention relates to a packaging apparatus and packaging for a hollow single-sword type sputtering target capable of performing a sufficient vacuum suction even in a hollow portion covered with a resin bag in a hollow single-sword type sputtering target. It is an object to provide a method.
  • the above problem can be solved by providing a cover for covering a space portion of a hollow single-sword type sputtering target, and modifying the cover.
  • the present invention provides: 1) a hollow sword type sputtering target, a lid sized to cover a space of the target, one or a plurality of through holes provided in the lid, A bag made of resin large enough to cover the inside of the bag, and a device for vacuum-suctioning the inside of the bag.
  • the packaging device for a holo sword type sputtering target described in (1) (3) The resin bag is a bag that does not transmit oxygen and moisture (1) or (2) A packaging device for the hollow single-sword type sputtering target according to the above.
  • the present invention also provides 5) In a hollow single-sword type sputtering target, a lid large enough to cover the space of the target is provided, one or more through holes are provided in the lid, and a resin bag is placed on these, A method for packaging a hollow single-sword sputtering target characterized by vacuum suction inside, and 6) a hollow single-sword sputtering target described in 5), wherein the lid is made of transparent resin.
  • the packaging method 7)
  • the resin bag is a bag that does not transmit oxygen and moisture,
  • the lid has rigidity.
  • the space of the target is evacuated through a through hole provided in a lid.
  • the space part which becomes the erosion part of the target there is an excellent effect that a clean target surface can be maintained without even touching the packaging resin. Therefore, a remarkable effect was obtained in that dust and dirt could be prevented from adhering, and moisture and oxidation could be prevented.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional explanatory view illustrating packaging of a hollow single-sword type sputtering target of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional explanatory view for explaining a problem that occurs when packaging a conventional hollow single-sword type sputtering target.
  • FIG. 1 shows a schematic diagram of a representative shape of a holo-force sword type snorting target 1.
  • a force having a U-shaped cross section is applicable to the present invention, as long as the target has a structure having a space inside such as a W-shaped cross section which is not particularly limited in this shape.
  • the present invention includes all of them.
  • the material of the target is not particularly limited, and various metals, alloys, silicides,
  • the present invention can be applied to ceramics such as oxidized products.
  • processing methods such as forging, rolling, rolling, and deep drawing are used. There are no particular restrictions on these manufacturing methods
  • the inner surface of the holo-sword type sputtering target 1 is an erosion surface, and the inner surface is strictly arranged. Therefore, it is necessary to avoid the dust from adhering to or scratching the inner surface of such a target, and the inner surface of the target being deteriorated by acidification.
  • a cover 5 is provided to protect the space 4.
  • a through hole 6 is provided in the lid 5.
  • the lid 5 is made of a material having rigidity that does not extremely deform or break during vacuum suction. Normally, a flat plate may be used, but it is better to provide a reinforcing bar handle or to use another three-dimensional shape.
  • the lid be transparent so that the inside can be observed, and that the resin bag be a bag substantially impermeable to oxygen and moisture (moisture).
  • the meaning of the "bag that does not transmit oxygen and moisture (moisture)" in the present invention means that at least when the sputtering target is shipped or stored, it can be shielded to the extent that it is not substantially affected by oxygen and moisture (moisture). Means The present invention includes these.
  • the lid 5 is provided with one or a plurality of through holes 6, which play an important role in vacuum suction. This is because the hollow portion 4 can be exhausted through the through hole 6.
  • a lid 5 is placed on the target 1, a bag 3 made of vinyl chloride or the like is further covered, and vacuum suction is performed through the vacuum suction unit 7.
  • the vacuum suction device is not shown in the figure, but a commonly used suction device can be used.
  • an inert gas may be introduced, but storage and transportation are possible even in the evacuation state. This can prevent dust and dirt from adhering to the inner surface of the target, and can effectively prevent moisture and oxidation.
  • the present invention can prevent dust and dirt from adhering to the inner surface of a target having a space portion, and can effectively prevent moisture and oxidization. Therefore, the present invention is most suitable for packaging of a holo sword type sputtering target.

Abstract

　ホローカソード型スパッタリングターゲットにおいて、該ターゲットの空間部を覆う大きさの蓋を設置し、該蓋に１又は複数の貫通孔を設け、これらの上に樹脂の袋を被せて、内部を真空吸引することを特徴とするホローカソード型スパッタリングターゲットの包装装置及び方法。ホローカソード型スパッタリングターゲットにおいて、樹脂製の袋で覆った中空部の内部までも真空吸引できるホローカソード型スパッタリングターゲットの包装装置及び包装方法を提供することを課題とする。

Description

明 細 書
ホロ一力ソード型スパッタリングターゲットの包装装置及び包装方法 技術分野
[0001] 本発明は、埃やごみの付着を防止し、湿気や酸ィ匕を防止できるホロ一力ソード型ス パッタリングターゲットの包装装置及び包装方法に関する。
背景技術
[0002] 近年、エレクトロニクス分野、耐食性材料や装飾の分野、触媒分野、切削，研磨材や 耐摩耗性材料の製作等、多くの分野に金属やセラミックス材料等の被膜を形成する スパッタリングが使用されている。
スパッタリング法自体は上記の分野で、よく知られた方法であるが、最近では、特に エレクトロニクスの分野において、複雑な形状の被膜の形成や回路の形成に適合す るスパッタリングターゲットが要求されて 、る。
[0003] このような中で、最近中空の力ソードスパッタリングターゲットが提案されている。この ターゲットはカップ形状を呈しており、その形状に由来してホロ一力ソード型スパッタリ ングターゲットと言われている（例えば、特許文献 1、 2、 3参照)。
このホロ一力ソード型スパッタリングターゲットは、ターゲットの領域内で高密度のプラ ズマを発生させることができ、さらにスパッタ方向に指向性を付与することにより、従来 のコリメーターを使用しなくても、高アスペクト比でビアへの充填が可能であるという性 能が得られている。
[0004] このようにホロ一力ソード型スパッタリングターゲットは、従来の平板型ターゲットに比 ベ効率的かつ、よりコントロールできる成膜方法の機能を有して 、る。
一般に、平板型のターゲットを出荷又は保管する際には、榭脂製の袋に挿入し、内 部を真空吸引したり又は不活性ガスを導入して、ごみの付着や酸ィ匕を防止することが 行われている（例えば、特許文献 4、 5参照)。
特許文献 1：特開 2000— 256843号公報
特許文献 2：特開 2001— 98367号公報
特許文献 3 :特表 2002 - 531690号公報 特許文献 4：特開平 4-231461号公報
特許文献 5：特開 2001— 240959号公報
[0005] このような袋を使用して真空吸引する方法はごみの付着や酸ィ匕防止には効果的で ある。しかし、ホロ一力ソード型スパッタリングターゲットにこれを適用しょうとした場合 、構造的に難しい問題が発生した。
それは、図 2に示すように、ホロ一力ソード型スパッタリングターゲット 1の周縁部 2に 袋 3が密着し (繋留され)、空間部 4が十分に吸引されずらくなり、酸化防止等の十分 な予防策と言えない問題を生じた。
また、空間部 4が減圧となるため、榭脂製の袋が内側に引張られ、その張力によって 、袋が破損し易いという問題も生じる。図 2における符号 7は真空吸引部である。 発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0006] 本発明は、ホロ一力ソード型スパッタリングターゲットにおいて、榭脂製の袋で覆った 中空部の内部までも十分な真空吸引ができるホロ一力ソード型スパッタリングターゲ ットの包装装置及び包装方法を提供することを課題とする。
課題を解決するための手段
[0007] 本発明は、ホロ一力ソード型スパッタリングターゲットの空間部を覆う蓋を設け、該蓋 に工夫を加えることにより、上記の問題を解決することができるとの知見を得た。
本発明は、このような知見に基づき、 1)ホロ一力ソード型スパッタリングターゲットと、 該ターゲットの空間部を覆う大きさの蓋と、該蓋に設けた 1又は複数の貫通孔と、これ らを覆う大きさの榭脂製の袋と、袋の内部を真空吸引する装置とを備えていることを 特徴とするホロ一力ソード型スパッタリングターゲットの包装装置、 2)蓋が透明な榭脂 であることを特徴とする 1)記載のホロ一力ソード型スパッタリングターゲットの包装装 置、 3)榭脂製の袋が、酸素及び水分を透過しない袋であることを特徴とする 1)又は 2)記載のホロ一力ソード型スパッタリングターゲットの包装装置。
4)蓋が剛性を有し、真空吸引後も形状を維持できる平板力 なることを特徴とする 1) 一 3)記載のホロ一力ソード型スパッタリングターゲットの包装装置、を提供する。
[0008] 本発明は、また 5)ホロ一力ソード型スパッタリングターゲットにおいて、該ターゲットの空間部を覆う大 きさの蓋を設置し、該蓋に 1又は複数の貫通孔を設け、これらの上に樹脂の袋を被せ て、内部を真空吸引することを特徴とするホロ一力ソード型スパッタリングターゲットの 包装方法、 6)蓋が透明な榭脂であることを特徴とする 5)記載のホロ一力ソード型スパ ッタリングターゲットの包装方法、 7)榭脂製の袋が、酸素及び水分を透過しない袋で あることを特徴とする請求項 5又は 6記載のホロ一力ソード型スパッタリングターゲット の包装方法、 8)蓋が剛性を有し、真空吸引後も形状を維持できる平板力 なることを 特徴とする 5)— 7)のいずれかに記載のホロ一力ソード型スパッタリングターゲットの 包装方法、を提供する。
発明の効果
[0009] 本発明は、これによつて榭脂製の袋で覆ったホロ一力ソード型スパッタリングターゲッ トの真空吸引の際に、蓋に設けた貫通孔を通して該ターゲットの空間部を真空排気 することができ、またターゲットのエロージョン部となる空間部では、包装用の榭脂す らも一切触れることがなぐ清浄ィ匕したターゲット表面を維持できるという優れた効果 を有する。したがって、従来に比べ、さらに埃やごみの付着を防止し湿気や酸化を防 止できるという、著しい効果が得られた。
図面の簡単な説明
[0010] [図 1]本発明のホロ一力ソード型スパッタリングターゲットの包装を説明する断面概略 説明図である。
[図 2]従来のホロ一力ソード型スパッタリングターゲット包装の際に発生する問題点を 説明する断面概略説明図である。
発明を実施するための最良の形態
[0011] 本発明のホロ一力ソード型スノッタリング用ターゲットを図 1に沿って説明する。図 1 に、ホロ一力ソード型スノッタリング用ターゲット 1の代表的な形状の模式図を示す。 この場合は、断面が U字形を呈している力 この形状には特に制限がなぐ断面 W 形等の内部に空間部を有している構造のターゲットであれば、全て本発明が適用で きる。本発明はこれらを全て包含するものである。
また、ターゲットの材質も特に制限されるものではなぐ各種金属、合金、珪素化物、 酸ィ匕物等のセラミックス類に適用できる。中空体 (カップ形状）に製造するには、鍛造 、圧延、転造、深絞り等の加工法を用いる。これらの製造方法にも、特に制限がない
[0012] 一般に、ホロ一力ソード型スパッタリング用ターゲット 1の内面がエロージョン面となり 、内面が厳密に整えられている。したがって、このようなターゲットの内面に、ほこりが 付着したり、傷付いたり、酸ィ匕等により変質することは避けなければならない。
本発明はこの空間部 4を保護するために蓋 5を設ける。この蓋 5には貫通孔 6が設 けられる。蓋 5は真空吸引の際に極度に変形したり、折れたりしない剛性を有する材 料とする。通常平板で良いが、補強用の桟ゃ取っ手を設けたり、それ以外の立体形 状とすることちでさる。
蓋は内部が観察できるように、透明であること、また榭脂製の袋が、酸素及び水分（ 湿気)を実質的に透過しな 、袋であることが望ま 、。
なお、榭脂製の袋による酸素及び水分 (湿気)の完全遮断が望ましいが、必ずしも 、それのみを意味するものではない。すなわち、本発明の「酸素及び水分 (湿気)を 透過しない袋」の意味は、少なくともスパッタリングターゲットを出荷又は保管する際 に、酸素及び水分 (湿気)の影響を実質的に受けない程度に遮断できることを意味す る。本発明はこれらを包含する。
[0013] 蓋 5には 1又は複数の貫通孔 6が設けられているが、これは真空吸引の際に重要な 役割を行う。この貫通孔 6を通して、中空部 4を排気できるからである。
ターゲット 1に蓋 5を載せ、さらに塩化ビニル等の袋 3を被せて、真空吸引部 7を介し て真空吸引する。真空吸引装置は図に表示しないが、一般に使用されている吸引装 置を使用することができる。
蓋 5に設けた貫通孔 6を介して中空部 4を真空排気する場合には、袋がターゲット の周縁部 2に密着することがなぐ不完全な排気は発生しない。
[0014] 真空排気後、不活性ガスを導入しても良いが、真空排気状態のままでも保管、運搬 等が可能である。これによつて、ターゲット内面における埃やごみの付着を防止し湿 気や酸ィ匕を効果的に防止できる。
また、ターゲットのエロージョン部となる空間部では、包装用の樹脂の上からの接触 が無くなり、傷発生の機会は著しく減少する。また、包装用の樹脂すらも一切触れる ことがない。したがって、清浄ィ匕したターゲット表面をそのまま維持できるという優れた 効果を有する。
産業上の利用可能性
本発明は、空間部を有するターゲット内面における、埃やごみの付着を防止し湿気 や酸ィ匕を効果的に防止できるので、ホロ一力ソード型スパッタリングターゲットの包装 に最適である。

Claims

請求の範囲
[1] ホロ一力ソード型スパッタリングターゲットと、該ターゲットの空間部を覆う大きさの蓋 と、該蓋に設けた 1又は複数の貫通孔と、これらを覆う大きさの榭脂製の袋と、袋の内 部を真空吸引する装置とを備えていることを特徴とするホロ一力ソード型スパッタリン グターゲットの包装装置。
[2] 蓋が透明な榭脂であることを特徴とする請求項 1記載のホロ一力ソード型スパッタリ ングターゲットの包装装置。
[3] 榭脂製の袋が、酸素及び水分を透過しない袋であることを特徴とする請求項 1又は
2記載のホロ一力ソード型スパッタリングターゲットの包装装置。
[4] 蓋が剛性を有し、真空吸引後も形状を維持できる平板力 なることを特徴とする請 求項 1一 3のいずれかに記載のホロ一力ソード型スパッタリングターゲットの包装装置
[5] ホロ一力ソード型スパッタリングターゲットにおいて、該ターゲットの空間部を覆う大 きさの蓋を設置し、該蓋に 1又は複数の貫通孔を設け、これらの上に樹脂の袋を被せ て、内部を真空吸引することを特徴とするホロ一力ソード型スパッタリングターゲットの 包装方法。
[6] 蓋が透明な榭脂であることを特徴とする請求項 5記載のホロ一力ソード型スパッタリ ングターゲットの包装方法。
[7] 榭脂製の袋が、酸素及び水分を透過しな 、袋であることを特徴とする請求項 5又は
6記載のホロ一力ソード型スパッタリングターゲットの包装方法。
[8] 蓋が剛性を有し、真空吸引後も形状を維持できる平板力 なることを特徴とする請 求項 5— 7のいずれかに記載のホロ一力ソード型スパッタリングターゲットの包装方法
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