WO2005005450A1 - 環状ビスジヌクレオシドの合成方法 - Google Patents

環状ビスジヌクレオシドの合成方法 Download PDF

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WO2005005450A1
WO2005005450A1 PCT/JP2004/007000 JP2004007000W WO2005005450A1 WO 2005005450 A1 WO2005005450 A1 WO 2005005450A1 JP 2004007000 W JP2004007000 W JP 2004007000W WO 2005005450 A1 WO2005005450 A1 WO 2005005450A1
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aryl
bis
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Yoshihiro Hayakawa
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Mitsui Chemicals, Inc.
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    • C07H21/02—Compounds containing two or more mononucleotide units having separate phosphate or polyphosphate groups linked by saccharide radicals of nucleoside groups, e.g. nucleic acids with ribosyl as saccharide radical
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    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
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    • Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Definitions

  • the present invention relates to a method for synthesizing a cyclic bis (3 ′ ⁇ 5 ′) dinucleotide. More specifically, the present invention relates to a method for efficiently synthesizing a cyclic bis (3 ′ ⁇ 5 ′) dinucleotide by an intramolecular cyclization reaction of a dinucleotide with a high yield.
  • Cyclic bis (3'-5 ') dinucleotide is a useful compound that is expected to be developed as a drug such as an anticancer drug because of its biological activity such as inhibiting cancer cell division. There is a need for method development. Background art
  • Cyclic bis (3 ′ ⁇ 5 ′) dinucleotide (hereinafter abbreviated as “cGpGpJ”), one of the cyclic bis (3 ′ ⁇ 5 ′) dinucleotides, has long been a functional substance that regulates cellulose biosynthesis. Although it is known, it has recently been discovered that when it is further incorporated into IVlo 4 and Jurkat cells, it is a biologically active substance that increases the amount of the CD4 receptor and reduces cell division. Because of its potential for research and clinical application as an anticancer drug, it is urgently necessary to supply a large amount of cyclic bis (3 ' ⁇ 5') dinucleotide represented by cGpGp. Have been.
  • an object of the present invention is to provide a method for efficiently synthesizing cGpGp. Disclosure of the invention
  • the present inventors have proposed cyclic bis (3 ′ ⁇ 5 ′) dinucleotide to provide an industrially practical synthesis method.
  • the protecting group of the phosphoric acid moiety applicable to the synthesis of the compound was studied diligently. As a result, they have found that an aryl group and a 2-cyanoethyl group are useful as protecting groups for the phosphoric acid moiety, and have completed the present invention.
  • R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a methoxy group, a 2-methoxyethoxy group or a hydroxyl group
  • B 2 and B 3 each independently represent a nucleobase.
  • the present invention relates to a method for synthesizing a compound represented by the formula: or a salt thereof.
  • a method for synthesizing a cyclic bis (3 ′ ⁇ 5 ′) dinucleotide with high yield can be provided.
  • the synthesis method of the present invention is a method for obtaining a compound represented by the general formula [2] or a salt thereof from a compound represented by the general formula [1].
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
  • the hydroxyl-protecting group in can be a commonly used hydroxyl-protecting group, and can be removed by a chemical method such as hydrogenolysis, hydrolysis, or photolysis. Refers to a protecting group.
  • Examples of the hydroxyl-protecting group include formyl group, aliphatic acyl group, aromatic acyl group, silyl group, silyloxymethyl group, alkoxyalkyl group, and alkoxyl group substituted with silyl group.
  • Examples include a kill group, a halogenated alkyl group, an aralkyl group, an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group and an orthoester group.
  • a silyl group, a silyloxymethyl group, an alkoxyalkyl group substituted with a silyl group, and an orthoester group are preferred as a hydroxyl-protecting group.
  • silyl group examples include a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a triisopropylsilyl group, and a t-butyldimethylsilyl group.
  • silyloxymethyl group examples include a trimethylsilyloxymethyl group, a triethylsilyloxymethyl group, a triisopropylsilyloxymethyl group, a t-butyldimethylsilyloxymethyl group, and the like.
  • alkoxyalkyl group substituted with a silyl group examples include a 2-trimethylsilylethyloxymethyl group.
  • the orthoester group includes, for example, a dimethoxymethyl group, a diethoxymethyl group, a bis (2-hydroxyethyloxy) methyl group, a bis (2-acetoxyshethyloxy) methyl group, and the like.
  • Examples of the hydroxyl group substituted with a hydroxyl-protecting group include trimethylsilyloxymethyloxy, triethylsilyloxymethyloxy, triisopropylsilyloxymethyloxy, and t-butyldimethylsilyloxymethyloxy.
  • Group, 2-trimethylsilylethyloxymethyloxy group Dimethoxymethyloxy group, diethoxymethyloxy group, bis (2-hydroxyethyloxy) methyloxy group, bis (2-acetoxethyloxy) group ) Methyloxy group and the like.
  • Nucleobases include natural or unnatural bases such as pyrimidines, purines, azapurines and diazapurines, which include halogen atoms, alkyl groups of 1 to 4 carbon atoms, haloalkyl of 1 to 4 carbon atoms.
  • alkenyl group having 1 to 4 carbon atoms alkenyl group having 1 to 4 carbon atoms, haloalkenyl group having 1 to 4 carbon atoms, alkynyl group having 1 to 4 carbon atoms, amino group, alkylamino group having 1 to 4 carbon atoms, hydroxyl group, hydroxyamino group, It may be substituted by an aminooxy group, an alkyloxy group having 1 to 4 carbon atoms, a mercapto group, an alkylthio group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group, an aryloxy group or a cyano group.
  • Examples of the halogen atom as a substituent include chlorine, fluorine, iodine, and bromine.
  • Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, and a 1-propyl group.
  • Haloarchi Examples of the fluoro group include a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a bromomethyl group, and a bromoethyl group.
  • Examples of the alkenyl group include a vinyl group, an aryl group and a 3-butenyl group.
  • Examples of the haloalkenyl group include a bromovinyl group and a chlorovinyl group.
  • Examples of the alkynyl group include an ethynyl group and a propynyl group.
  • Examples of the alkylamino group include methylamino, ethylamino, and the like.
  • Examples of the alkyloxy group include a methoxy group and an ethoxy group.
  • Examples of the alkylthio group include a methylthio group and an ethylthio group.
  • aryl group examples include a phenyl group: an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methylphenyl group and an ethylphenyl group: an alkylphenyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methoxyphenyl group and an ethoxyphenyl group.
  • Alkoxyphenyl group having an oxy group an alkylaminophenyl group having an alkylamino group having 1 to 4 carbon atoms such as a dimethylaminophenyl group and a getylaminophenyl group: a cyclophenyl group, a bromophenyl group, etc.
  • a halogenophenyl group examples include a phenyl group: an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methylphenyl group and an ethylphenyl group: an alkylphenyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a meth
  • pyrimidine bases include cytosine, peracyl, 5-fluorocytosine, 5-fluorouracil, 5-chlorocytosine, 5-chlorouracil, 5-bromocytosine, 5-promouracil, 5-ododocytosine, 5 —Dodouracil, 5-methylcytosine, 5-methylperacyl (thymine), 5-ethylethylcytosine, 5-ethylethyluracil, 5-fluorocytosine, 5-fluorouracil, 5-trifluoromethylcytosine, 5-trifluoromethyl Peracyl, 5-vinylperacyl, 5- (2-promovinyl) peracyl, 5- (2-chlorovinyl) peracyl, 5-ethynylcytosine, 5-ethynylperacyl, 5-propynylperacyl, pyrimidine-2-one, 4-hydroxy Aminopyrimidin-2-one, 4-aminopyrimidin-2-one, 4-a
  • purine bases include purine, 6-aminobulin (adenine), 6-hydroxypurine, 6-fluoropurine, 6-chloropurine, 6-methylaminopurine, 6-dimethylaminopurine, and 6-aminopurine.
  • azapurine base and the diazapurine base include 6-amino-3-dazapurine, 6-amino-18-azapurine, 2-amino-6-hydroxy-18-azapurine, and 6-amino-7-azapurine. , 6-amino-1-detazapurine, 6-amino-2-azapurine and the like.
  • the protected nucleobase refers to the nucleobase of the above-mentioned nucleobase protected by a commonly used protecting group for the ami / group.
  • the protecting group for the amino group is not particularly limited, and examples thereof include formyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, isoptyryl group, valeryl group, diphenyl acetyl group, phenoxy acetyl group, benzoyl group, and toluoyl group.
  • Examples include alkoxy groups, alkoxy groups such as aryloxycarbonyl groups, alkyl groups such as aryl groups, and amidines such as dimethylaminomethylene group.
  • the protecting group for the amino group is such that the protecting group for the phosphate ester of the compound represented by the general formula [1] can be deprotected under the same reaction conditions as the deprotection of either the 2-cyanoethyl group or the aryl group. It is preferred to choose a protecting group.
  • a protective group that can be deprotected by ammonia, amines, zero-valent palladium, a divalent palladium complex or a divalent palladium salt described below is preferable.
  • protecting groups include acyl groups such as formyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, valeryl group, diphenylacetyl group, phenoxyacetyl group, benzoyl group, and toluoyl group.
  • Amidines such as dimethylaminomethylene group, aryl group, Alternatively, an aryloxycarbonyl group is exemplified.
  • a formyl group, an acetyl group, an isoptyryl group, a benzoyl group, a phenoxyacetyl group, a dimethylaminomethylene group, an aryl group, or an aryloxycarbonyl group is particularly preferred.
  • the method of synthesizing the compound represented by the general formula [1] includes: (1) a compound represented by the following general formula (A) and 2-cyanoethanol are mixed with a molecular sieve and a condensation activator. Reacting in the presence of a compound represented by the following general formula (B); (2) then reacting the compound represented by the general formula (B) with an oxidizing agent to obtain a compound represented by the following general formula (C) (3) Next, a method comprising a step of deprotecting the compound represented by the general formula (C) to obtain a compound represented by the general formula [1] (3) Reaction formula [1]).
  • Reaction formula [1] Reaction formula [1]
  • R 9 and R 10 each independently represent a carbon atom. It may represent an alkyl group of the formulas 1 to 4, or R 9 and R 10 may form a ring containing a nitrogen atom to which they are bonded.
  • examples of the hydroxyl-protecting group for R 6 include those exemplified as the hydroxyl-protecting group for R 1 in the general formula [1].
  • the R 9 (R 10 ) N group when R 9 and R 10 are an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, the R 9 (R 10 ) N group includes a getylamino group and a di (n-propyl) group. Examples include an amino group, an ethyl (n-propyl) amino group, an ethyl (isopropyl) amino group, a diisopropylamino group, a di (n-butyl) amino group, and a diisobutylamino group.
  • R 9 and. When these form a ring containing a nitrogen atom to which they are bonded examples of the R 9 (R 10 ) N group forming such a ring include a pyrrolidino group and a piperidino group.
  • R 9 (R 10 ) N group a diisopropylamino group, a pyrrolidino group or a piperidino group is preferable.
  • R 6 and R 6 in the general formulas (B) and (C) have the same meanings as R 6 and R 6 in the general formula (A), respectively.
  • Examples of the molecular sieve used in the step (1) include molecular sieve 3A and molecular sieve 4A.
  • condensation activator used in the step (1) examples include tetrazole such as tetrazole, 5-methylthiotetrazole and 5-ethylthiotetrazole, 4,5-dicyanoimidazole, Imidazoles such as 5-dichloroimidazole, N-phenylimidazole trifluoromethanesulfonate, imidazole tetrafluoroborate, N-phenylimidazole tetrafluoroborate, N— (p —Acetylphenyl) imidazole trifluoromethanesulfonate, 2-phenylimidazole trifluoromethanesulfonate, 4-methylimidazole trifluoromethanesulfonate, 4-methylimidazole p-toluenesulfonate, 4-methyl Imidazole trifluoroacetate, 4-phenylimidazole triflu 4-methanesulfonate 4-phenylimid
  • 2-cyanoethanol is usually used in an amount of 1 to 2 equivalents to the compound represented by the general formula (A).
  • the molar sieves are usually used in an amount of 1% to 1 1 ⁇ / ⁇ with respect to the weight of the compound represented by the general formula (A). 50/0 to 30% is preferred.
  • the condensation activator is usually used in an amount of 0.1 to 4 equivalents to the compound represented by the general formula (A). Amount is used. 0.2 to 2 equivalents are preferred.
  • a solvent is usually used.
  • the solvent is preferably an unlimited force as long as it does not inhibit the reaction, such as acetonitrile, dichloromethane, chloroform, THF, 1,4-dioxane and the like.
  • the reaction temperature in the step (1) is usually from 110 ° C. to the boiling point of the solvent, but is preferably from 0 ° C. to room temperature.
  • the compound represented by the general formula (B) can be used in the step (2) without isolation from the reaction mixture containing the compound represented by the general formula (B) obtained in the step (1). Used.
  • the oxidizing agent used in the step (2) is not particularly limited as long as it is usually used for oxidizing phosphorous acid, for example, hydrogen peroxides such as aqueous hydrogen peroxide, peracetic acid, perbenzoic acid, Peracids such as m-chloroperbenzoic acid, acetone peroxide, ketone peroxides such as 2-butanone pentoxide, alcohol peroxides such as t-butyl hydroperoxide, potassium peroxysulfate, etc. Persulfates.
  • hydrogen peroxides such as aqueous hydrogen peroxide, peracetic acid, perbenzoic acid, Peracids such as m-chloroperbenzoic acid, acetone peroxide, ketone peroxides such as 2-butanone pentoxide, alcohol peroxides such as t-butyl hydroperoxide, potassium peroxysulfate, etc.
  • hydrogen peroxides such as aqueous hydrogen peroxide
  • 2-butanone peroxide is particularly preferred.
  • the above oxidizing agent can be used as a solution for the purpose of maintaining stability.
  • the solvent used for preparing the solution is not particularly limited as long as it does not dissolve the oxidizing agent and does not inhibit the oxidation, but water, alcohols such as methanol and ethanol, ketones such as acetone and 2-butanone, and toluene. And aromatic hydrocarbons such as benzene, xylene and the like, and esters such as ethyl dithioate, butyl acetate and dimethyl phthalate.
  • the oxidizing agent is usually used in an amount of 1 to 3 equivalents to the compound represented by the formula (B).
  • the reaction of the step (2) is usually performed using a solvent.
  • the solvent is not limited as long as it does not inhibit the reaction, but is preferably acetonitrile, dichloromethane, chloroform, THF, 1,4-dioxane and the like.
  • the reaction temperature in the step (2) can be usually from ⁇ 10 ° C. to the boiling point of the solvent, but is preferably from 0 ° C. to room temperature.
  • the compound represented by the general formula (C) is obtained by subjecting a reaction mixture containing the compound represented by the general formula (C) obtained in the steps (1) and (2) to a usual post-treatment operation such as liquid separation. And purify It can be used in the above step (3) without any need.
  • the R 6 group in the general formula (C) is not particularly limited as long as it is a commonly used protecting group for a hydroxyl group.However, under the reaction conditions for deprotecting the R 6 group, the protecting group represented by should not be removed. It is preferable to use a suitable protecting group.
  • protecting groups include aralkyl groups such as 4,4'-dimethoxytrityl group, t-butyldimethylsilyl group, bis (trimethylsiloxy) diphenylmethoxysilyl group, and bis (trimethylsiloxy) cyclododecyloxy group.
  • silyl groups such as silyl group.
  • reaction conditions for deprotection in the above step (3) differ depending on the R 6 group used.
  • R 6 group in the general formula (C) is an aralkyl group
  • an acid As such an acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, trifluoroacetic acid, perchloric acid, trichloroacetic acid, dichloroacetic acid and the like can be used. Dichloroacetic acid is preferred.
  • R 6 group in the general formula (G) is a silyl group
  • fluoride As such fluoride, pyridinium fluoride, tetrabutylammonium fluoride, potassium fluoride, sodium fluoride and the like can be used. Tetrabutylammonium fluoride is preferred.
  • the acid is usually used in an amount of 1 to 40 equivalents to the compound represented by the formula (C). 10 to 30 equivalents are preferred.
  • a solvent is usually used.
  • the solvent is not limited as long as it does not inhibit the reaction, but is preferably acetonitrile, dichloromethane, chloroform, THF, 1,4-dioxane and the like.
  • the reaction temperature in the step (2) is usually from 110 ° C. to the boiling point of the solvent, but is preferably from 0 ° C. to room temperature.
  • the reaction in each of the above steps (1), (2) and (3) is usually performed under atmospheric pressure.
  • the compound represented by the general formula [1] obtained in the step (3) can be separated and recovered from the reaction mixture by a known method, for example, a column chromatography technique or a crystallization technique. .
  • R 2 and R 3 in the general formula [2] are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a hydro Represents a xyl group, and B 2 and B 3 each independently represent a nucleobase.
  • halogen atom and the nucleic acid base examples include those exemplified in the description of and in the general formula [1].
  • the salt of the compound represented by the general formula [2] is not particularly limited as long as it is a salt composed of a base which forms a salt with phosphoric acid, but a salt such as an alkali metal, an alkaline earth metal or an organic amine is preferable.
  • a salt such as an alkali metal, an alkaline earth metal or an organic amine is preferable.
  • the alkali metal salt include a lithium salt, a sodium salt, a potassium salt, and the like.
  • Examples of the alkaline earth metal salts include magnesium salts, potassium salts, barium salts and the like.
  • Examples of the salts of organic amines include tertiary amine salts such as triethylammonium salt and tri (n-butyl) ammonium salt, secondary ammonium salts such as getylammonium salt and dicyclohexylammonium salt, ammonium salts, and n-butylamine.
  • Primary amine salts such as ammonium salts and cyclohexyl ammonium salts; and quaternary amine salts such as tetra (n-butyl) ammonium salts and trimethylbenzylammonium salts.
  • the general formula (1) is a hydrogen atom of in a fluorine atom, a methoxy group, 2-Metokishetoki from group or t is an heptyl dimethylsilyl O alkoxy group compounds of the general formula (2) in R 2 Contact and R Compounds in which 3 is each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, a methoxy group, a 2-methoxyethoxy group or a hydroxyl group or a salt thereof can be synthesized.
  • reaction formula [2] The method for synthesizing the compound represented by the general formula [2] from the compound represented by the general formula [1] is not particularly limited, and for example, as shown in the following reaction formula [2], ] And a compound represented by the general formula [6].
  • a compound represented by the general formula [1] is a hydrogen atom, a fluorine atom, a methoxy group, a 2-methoxyethoxy group or a t-butyldimethylsilyloxy group.
  • R 1 and R 2 in the general formula [2] are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, a methoxy group, a 2-methoxyethoxy group or a t-butyldimethylsilyloxy group.
  • R 4 in the general formula [5] each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a methoxy group, a 2-methoxyethoxy group or a hydroxyl group substituted with a hydroxyl-protecting group
  • B, and B 4 Each independently represents a nucleobase that may be protected
  • R 5 represents an aryl group or a 2-cyanoethyl group.
  • the hydroxyl group substituted with a hydroxyl-protecting group and the nucleic acid base which may be protected include those exemplified in the description of and in the general formula [1]. it can.
  • reaction formula [3] As described above, there is a method of synthesizing a compound represented by the general formula [3] or [4] and a compound represented by the general formula [1].
  • CH 2 CHCH 2 0 OCH 2 CH 2 CN
  • the method for synthesizing the compound represented by the general formula [5] is not particularly limited as long as it is a method used for synthesizing a general phosphate compound.
  • [1] [5] of the general formula [3] in, B 4, and R 4 is B 4, and R 4 as defined der y R 6 in the general formula of [5] above general formula (A) in a and R 6 respectively the same, to form a ring containing R 7 and R 8 or represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms each independently, or R 7 and R 8 combine to the nitrogen atom Is also good.
  • the R 7 (R 8 ) N group includes a getylamino group and a di ( ⁇ propyl) amino group.
  • R 7 (R 8 ) N group includes a getylamino group and a di ( ⁇ propyl) amino group.
  • the R 7 (R 8 ) N group forming such a ring includes: Examples include a pyrrolidino group and a piperidino group.
  • the R 7 (R 8 ) N group is preferably a diisopropylamino group, a pyrrolidino group or a piperidino group.
  • condensation activator used when the compound represented by the general formula [1] is condensed with the compound represented by the general formula [3] include, for example, ditrazol, 5-methylthioditrazol, 5 —Tetrazoles such as ethylthiotetrazole, imidazoles such as 4,5-dicyanimidazole and 45-dichloroimidazole, N-phenylimidazole trifluoromethanesulfonate, and imidazole tetraflur Boroborate, N-phenylimidazole ⁇ trafluoroborate, N- (p-acetylphenyl) imidazole trifluoromethanesulfonic acid Salt, 2-phenylimidazole trifluoromethanesulfonate, 4-methylimidazole trifluoromethanesulfonate, 4-methylimidazole p-toluenesulfonate, 4-methylimidazole trifluoroa
  • imidazolyl perchlorate is preferred.
  • the reaction temperature of the reaction using the condensation activator can be from 11 ° C. to the boiling point of the solvent, but is preferably from 0 ° C. to 40 ° C.
  • the oxidizing agent used when the compound represented by the general formula [1] is condensed with the compound represented by the general formula [3] and then oxidized is not limited as long as it is commonly used for the oxidation of phosphorous acid.
  • hydrogen peroxide such as aqueous hydrogen peroxide, peracids such as peracetic acid, perbenzoic acid, m-chloroperbenzoic acid, and ketones such as acetone peroxide and 2-butanone peroxide.
  • 2-butanone peroxide is preferred.
  • the above oxidizing agent can be used as a solution for the purpose of maintaining stability.
  • the solvent used for preparing the solution is not particularly limited as long as it does not dissolve the oxidizing agent and does not inhibit the oxidation, but water, alcohols such as methanol and ethanol, ketones such as acetone and 2-butanone, Preferred are aromatic hydrocarbons such as toluene, benzene and xylene, and esters such as ethyl acetate, butyl acetate and dimethyl phthalate.
  • the reaction temperature at the time of oxidation can be from 110 ° C. to the boiling point of the solvent, but is particularly preferably from 0 to 40 ° C.
  • the reaction solvent for the oxidation is not limited as long as it does not affect the oxidation reaction, but an aprotic solvent is preferable, and acetonitrile, dichloromethane and THF are particularly preferable.
  • the condensing agent for condensing the compound represented by the general formula [1] with the compound represented by the general formula [4] includes methanesulfonyl chloride, toluenesulfonyl chloride, 2,4,6-triisopropylbenzenesulfonyl chloride.
  • Sulfonyl chlorides such as mesitylene-1--2-sulfonyl chloride, 1-toluenesulfonyl lutetrazole, 1- (mesitylenesulfonyl-1-2-sulfonyl) tritolazole, 1- (2,4,6-triisopropyl) Sulfonyltetrazoles such as benzenesulfonyl) tetrazole, 3-nitro-1-toluenesulfonyl 1,2,4-triazole, 3-nitro-1- (mesitylenesulfonyl-1-sulfonyl) -1,2,4 Monotriazole, 3-nitro-1- (1,4,6-triisopropylbenzenesulfonyl) -1,2,4-triazo
  • sulfonyl benzotriazoles such as Le and the like.
  • triisopropylbenzenesulfonyl chloride is preferred.
  • a base may coexist during the condensation.
  • the base used include triethylamine, ethyldiisopropylamine, pyridine, lutidine, imidazole, N-methylimidazole, N-methylbenzimidazole and the like. Particularly, N-methylimidazole is preferred.
  • the reaction temperature for the condensation can be from 110 ° C. to the boiling point of the solvent, but is preferably from 0 ° C. to 40 ° C.
  • a dehydrating agent can be added to reduce the influence of moisture.
  • the dehydrating agent those usually used for the reaction can be used, and in particular, molecular sieves are preferable.
  • reaction solvent is usually used.
  • the reaction solvent is not limited as long as it does not affect the condensation, but acetonitrile, dichloromethane, and THF are particularly preferred, in which an aprotic solvent is preferred.
  • the R 6 group in the general formulas (3) and (4) is not particularly limited as long as it is a commonly used protecting group for a hydroxyl group.Reaction conditions for deprotecting the R 6 group or protection of the hydroxyl group of R 4 It is preferable to use a protecting group such that the group or R 5 group is not eliminated.
  • Examples of such a protecting group R 6 include an aralkyl group such as a 4,4′-dimethoxytrityl group, a t-butyldimethylsilyl group, a bis (trimethylxoxy) diphenylmethoxysilyl group, and a bis (trimethylsiloxy) group. And a silyl group such as a cyclododecyloxysilyl group.
  • a 4,4′-dimethoxytrityl group is preferred.
  • reaction conditions for deprotection of R 6 groups is different by group R 6 to be used.
  • R 6 group is an aralkyl group
  • deprotection is preferably performed using an acid.
  • an acid sulfuric acid, hydrochloric acid, trifluoroacetic acid, perchloric acid, trichloroacetic acid, dichloroacetic acid and the like can be used. Dichloroacetic acid is preferred.
  • R 6 group is a silyl group
  • fluoride As such a fluoride, pyridinium fluoride, pertrapylammonium fluoride, potassium fluoride, sodium fluoride and the like can be used. Tetrabutylammonium fluoride is preferred.
  • the acid used for deprotection is usually 1 to 40 equivalents to the theoretical amount of the compound represented by the general formula [5].
  • a solvent is usually used for the reaction in the step of deprotecting the R 6 group.
  • the solvent is not limited as long as it does not inhibit the reaction, but preferred are acetonitrile, dichloromethane, chloroform, THF, 1,4-dioxane and the like.
  • the reaction temperature in the step of deprotecting the R 6 group can be usually from 110 ° C. to the boiling point of the solvent, but is preferably from 0 ° C. to room temperature.
  • the method for synthesizing the compound represented by the general formula [6] is not particularly limited.
  • the R 5 group of the compound represented by the general formula [5] may be used. Is a 2-cyanoethyl group, a cyclization reaction is carried out after deprotection of the aryl group, and when the R 5 group of the compound represented by the general formula [5] is an aryl group, 2-cyanoethyl A method of performing a cyclization reaction after deprotection of a group is mentioned.
  • the reagent used for the deprotection reaction of the 2-cyanoethyl group is not particularly limited, and for example, ammonia or amines can be used.
  • amines examples include primary amines such as methylamine and ethylamine, secondary amines such as dimethylamine, diethylamine and piperidine, and tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine and 1-methylpiperidine. .
  • the reaction temperature for deprotection with ammonia or amines can be from 11 ° C. to the boiling point of the solvent used, and is preferably from room temperature to 70 ° C.
  • the reagent used for the deprotection reaction of the aryl group is not particularly limited, and zero-valent palladium, a divalent palladium complex or a divalent palladium salt can be used.
  • the zero-valent palladium, the divalent palladium complex or the divalent palladium salt is not particularly limited.
  • palladium carriers such as palladium charcoal and palladium hydroxide carbon, palladium acetate, palladium chloride, dichloro (1 Acid palladium salts such as 2,5-cyclooctanegen) palladium, phosphorus complexes such as tetrakis (triphenylphosphine) palladium, bis (tricyclohexylphosphine) palladium, palladium 2,4-pentanedionate, Preferred are diketo complexes such as ris (dibenzylideneacetone) di / radium monochloroform.
  • the reaction temperature for deprotection with zero-valent palladium, a divalent palladium complex or a divalent palladium salt can be from 110 ° C to the boiling point of the solvent to be used. It is preferable to carry out between 0 ° C.
  • R 5 in the general formula [5] is an aryl group, or R 4 is a hydroxyl group.
  • Is a protecting group Li, B, or if B 4 is a nucleobase protected, F ⁇ , R 4, B , and B 4, whichever is the protecting group on the reaction conditions and desorbs 2- Shianoechiru group Preferably, it is stable.
  • R 5 in the general formula [5] is a 2-cyanoethyl group, or R 4 is a protecting group for a hydroxyl group, or B 4 is a protected nucleic acid base, R 4 , B 4 It is preferred that any of the protecting groups for B 4 and B 4 be stable to the reaction conditions for eliminating the aryl group.
  • examples of the hydroxyl-protecting group in the general formula [5] include a formyl group, an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group.
  • Silyloxy group such as silyl group, trimethylsilyloxymethyl group, triethylsilyloxymethyl group, triisopropylsilyloxymethyl group, t-butyldimethylsilyloxymethyl group, and 2-trimethylsilylethyl
  • An alkoxyalkyl group substituted with a silyl group such as an oxymethyl group, a dimethoxymethyl group, Ethoxymethyl group, bis (2-hydroxy-E chill O carboxymethyl) have with methyl groups such Ol Bok ester group, such as bis (2- ⁇ Se Toki Chez chill O) methyl group like et be.
  • the general formula [5] in which R 5 is 2-Shianoechiru group
  • the general formula [5] in B the protecting group of the protected nucleic acid bases Oyopi 8 4, for example, a formyl group, Asechiru Groups, propionyl group, butyryl group, isoptyryl group, valeryl group, diphenyl acetyl group, phenoxy acetyl group, benzoyl group, toluoyl group and other acyl groups, and dimethylaminomethylene group and other amidines.
  • examples of the hydroxyl-protecting group in and R 4 in the general formula [5] include aryl groups such as an aryl group and an aryloxycarbonyl group.
  • aryl groups such as an aryl group and an aryloxycarbonyl group.
  • R 5 in the general formula [5] is an aryl group
  • examples of the protecting group for the protected nucleobases in the general formula [5] include an aryl group and an aryloxycarbonyl group.
  • Aryl groups are examples of the protecting group for the protected nucleobases in the general formula [5].
  • An ordinary method for synthesizing a phosphate ester can be used for the cyclization reaction.
  • the condensing agent used in the cyclization reaction is not particularly limited, but sulfonyl chlorides such as methanesulfonyl chloride, toluenesulfonyl chloride, 2,4,6-triisopropylbenzenesulfonyl chloride, and mesitylene-2-sulfonyl chloride; Sulfonyltetrazole such as 1-toluenesulfonyltetrazole, 1- (mesitylenesulfonyl-2-sulfonyl) tetrazole, 1- (2,4,6-triisopropylbenzenesulfonyl) tetrazole, 3-nitro-1- Toluenesulfonyl-1-, 2,4-triazole, 3-nitro-1- (mesitylenesulfonyl-1-2-sulfonyl) -1,2,4-triazole, 3-nitro-11 (2,4,6- Sulfonyl
  • the cyclization reaction can also be performed in the presence of a base.
  • a base examples include triethylamine, ethyldiisopropylamine, pyridine, lutidine, imidazole, N-methylimidazole, and monomethylbenzimidazole. Particularly, N-methylimidazole is preferred.
  • the reaction temperature for the cyclization reaction can be from 110 ° C to the boiling point of the solvent, but is preferably from 10 ° C to 40 ° C.
  • the cyclization reaction can be carried out by adding a dehydrating agent to reduce the influence of moisture.
  • a dehydrating agent used for the cyclization reaction those usually used for the reaction can be used, and in particular, molecular sieves are preferable.
  • reaction solvent is usually used for the cyclization reaction.
  • the reaction solvent is not limited as long as it does not affect the condensation, but is preferably acetonitrile, dichloromethane, or THF, which is preferably an aprotic solvent.
  • the method for synthesizing the compound represented by the general formula [2] is not particularly limited. As shown in the above reaction formula [8], there is a method in which the protecting groups B, B 4 , R 4 and R 5 of the compound represented by the general formula [6] are optionally deprotected. Reaction formula [8]
  • each protecting group is particularly important when it is necessary to purify at the stage where some protecting groups remain, or when the stability of the compound differs depending on the order of deprotection. There is no particular limitation unless it is necessary to consider it. For the purpose of reducing the number of steps, multiple protecting groups can be simultaneously deprotected using the same reaction conditions.
  • the protecting group represented by R 5 of the compound represented by the general formula [6] includes the reaction conditions for removing the R 6 group in the reaction formulas [5] and [6], and the protecting group represented by the general formula [5].
  • the reaction conditions for synthesizing the compound represented by the general formula [6] by cyclizing the compound represented by the general formula [6] include R 5 of the compound represented by the general formula [3], [4], [5] and [6].
  • the groups are stable.
  • R 4 , B, or particularly preferably Rukoto a protective group of B 4 as R 5 groups of the compound represented by the general formula (6) the protective group can be eliminated under the same conditions as the reaction conditions for deprotection.
  • a protecting group an aryl group or a 2-cyanoethyl group is preferable.
  • the protecting group of R 4, B or B 4, in the compound represented by one general formula [5] above, similar to R 4 or B 4, are preferred.
  • R 5 in the general formula [6] is an aryl group
  • the above-described reaction conditions using the above-mentioned zero-valent palladium, divalent palladium complex or divalent palladium salt are used.
  • the deprotection of R 4 , B or B 4 and the elimination of the R 5 group can be performed simultaneously.
  • Examples of the protecting group for R, R 4 , B, and B 4 in the compound represented by the general formula [6] include the above-mentioned aryl groups.
  • a protective group for a hydroxyl group in R 4 of the compound represented by the general formula [6], the one general formula [5] or a compound represented by the substituted silyl groups such Ya silyl group for R 4 is alkoxyalkyl
  • the protecting group of B or B 4 is the above-mentioned aryl group
  • the above-mentioned zero-valent palladium, divalent palladium complex or divalent palladium salt is used, and after went reaction conditions or B 4 of the elimination of deprotection and R 5 groups at the same time, or deprotection of R 4, and use the above fluoride , it can be carried out in the reaction conditions using these .
  • R 5 in the general formula [6] is a 2-cyanoethyl group
  • the above-mentioned ammonia or amine is used, and under the above-mentioned reaction conditions using these, R 4 , B or B 4 Deprotection and elimination of R 5 groups can be performed simultaneously.
  • Examples of such a protecting group for or R 4 of the compound represented by the general formula [6] include the above-mentioned acyl groups for or R 4 of the compound represented by the general formula [5]. as the protecting group of O Pi 8 4, ⁇ sill group such or amidines and the like in or B 4 of the compound represented by the general formula [5].
  • the protecting group for the hydroxyl group at R 1 3 ⁇ 4R 4 is the silyl group or an alkoxyalkyl substituted with a silyl group
  • the protecting group for B 4 is the acryl group. If the kind or amidines, using the ammonia or amines, deprotection and R 5 groups of the reaction conditions or in B 4 using these after was elimination simultaneously Gyotsu, or of R 4 Deprotection can be carried out using the above-mentioned fluorides and under the above-mentioned reaction conditions using these fluorides.
  • Examples of the compound represented by the general formula [1] of the present invention include N 2 — (aryloxycarbonyl) -1 O 6 —aryl-1 2′-0— (t-butyldimethylsilyl) guanosine 3 ′ — O— Le 2-Xia Roh-ethyl phosphate), 2 '- 0 - ( t one heptyl dimethylsilyl) one N 2 - (dimethyl chill aminomethylene) Single guanosine 3'O-(Ariru 2 Xia Roh-ethyl phosphate), N 6 — (Aryloxypropyl) -1 2′— O— (t-butyldimethylsilyl) adenosine 3′-O— (aryl 2-cyanoethylphosphate), 2′-O— (t-butyldimethylsilyl)- N 6 -Benzoyl adenosine 3 ′ ——— (aryl 2-cyanoe
  • Examples of the compound represented by the general formula [5] of the present invention include, for example, aryl [N 2 — (aryloxycarbonyl) -1 O 6 —aryl-2′-0- (t-butyldimethylsilyl) guanylyl] (3 ' ⁇ 5') [N 2- (aryloxycarbonyl) -1-O 6 -aryl-1'- ⁇ - (t-butyldimethylsilyl) guanosine 3'-O- (aryl-2-cyanoethylphosphe-1 )), Aryl [N 6 — (aryloxycarbonyl) -1- 2'-0- (t-butyldimethylsilyl) adenylyl] (3 ' ⁇ 5') [N 2- (aryloxycarbonyl) ) 1 O 6 —aryl-1 2′— O— (t-butyldimethylsilyl) guanosine 3′— O— (aryl 2-cyanoethylphosphonet)],
  • N 4 Benzoylcytidine] (3 '->5')[2'-0- (t-butyldimethylsilyl) -N 4 —Penzylcytidine 3'-O— (Aryl 2-cyanoethyl phosphate)] , Aryl [N 2 — (Aryloxyl-propyl) -O 6 —Aryl-1 2'-Doxyguanylyl] (3 ' ⁇ 5') [N 2 —
  • Examples of the compound represented by the general formula [6] of the present invention include cyclic bis (3 ′ ⁇ 5 ′) bis [N
  • the compound represented by the general formula [2], the compound represented by the general formula [5], and the compound represented by the general formula [6] can be obtained from a reaction mixture obtained in a synthesis step of each compound. Separation and recovery can be performed by the above method, for example, a column chromatography technique or a crystallization technique.
  • N 2 (aryloxycarbonyl) -1-O 6 —aryl-1 2′-0- (t-butyldimethylsilyl) —5′—O— (4,4′dimethoxytrityl) guanosine 3′—O — (Aryl N, N-diisopropyl phosphoramidite) (synthesized according to the method described in Org. Lett. 2001, 3, p815) 2,0 g (2.
  • molular sieves 3A To a 200 mg dry acetonitrile solution was added 0.16 mL (2.4 mmol) of 2-cyanoethanol, stirred for 30 minutes at room temperature, and added 0.67 g (4.0 mmol) of imidazolyl perchlorate. Stir for 30 minutes. Further, 4 mL of a 1.0 M dimethylphthalate toluene solution of 2-butanone peroxide was added thereto, followed by stirring for 5 minutes. After removing the molecular sieves 3A by filtration, ethyl acetate was added, and the mixture was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated saline, dried, and concentrated under reduced pressure.
  • Triphenylphosphine (16 mg, 0.60 mmol), n-butylamine 0.049 mL (0.48 mmol), formic acid (0.16 mL) in 1.6 mL of a THF solution of 50 mg (0.04 mmol) of the compound (10) are added.
  • the precipitate obtained by adding 1 OmL of ethyl acetate was collected by filtration, It was dried under reduced pressure.
  • reaction solution was added dropwise to saturated aqueous sodium hydrogen carbonate (100 mL), the organic layer was separated, and the aqueous layer was extracted with dichloromethane. The organic layers were combined, dried over sodium sulfate, concentrated under reduced pressure, and the concentrated residue was purified by silica gel chromatography (silica gel 50 g, methanol: dichloromethane (1:20) to (1:10)) to give the title compound 1. 53 g (mixture of diastereomers) were obtained as a colorless amorphous, yield 82%.
  • the synthesis method of the present invention can synthesize a cyclic bis (3 ′ ⁇ 5 ′) dinucleotide with high yield, and is useful as an industrial production method. Further, the cyclic bis (3 ′ ⁇ 5 ′) dinucleotide obtained by the synthesis method of the present invention is useful as a drug such as a pile cancer drug.

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Description

明細 書 環状ビスジヌクレオチドの合成方法 技術分野
本発明は環状ビス（3'→5' )ジヌクレオチドの合成方法に関する。さらに詳しくは、本 発明は、ジヌクレオチドの分子内環化反応により環状ビス（3'→5' )ジヌクレオチドを効 率的に収率良く合成する方法に関する。
環状ビス（3'—5' )ジヌクレオチドは、がん細胞分裂阻止などの生理活性を示すこと から抗がん剤などの医薬品としての開発が期待される有用な化合物であり、実用的な 合成方法の開発が求められている。 背景技術
環状ビス（3'→5' )ジヌクレオチドのひとつである環状ビス（3'→5' )ジグァニル酸 (以下、「cGpGpJと略す。）は、セルロース生合成を調節する機能性物質として古くか ら知られているが、最近さらに IVlo 4および Jurkat細胞内に取り込まれると CD4レセ プター量を増加させ、細胞分裂を減少させる生物活性をもつ物質であることが解明され た。がん細胞分裂を阻止できる可能性があることから、抗がん剤としての研究や臨床 応用が期待されている。そのため、 cGpGpに代表される環状ビス（3'→5' )ジヌクレオ チドの大量供給が緊急に必要とされている。
cGpGpの合成法としては、リン酸部位の保護基として p—クロ口フエ二ル基を用いた 方法力既に報告されてし、る（Nature, 1 987, 325, p279、および丄 Biol. Chem. ， 1 990, 265, p1 8993参照、）。また、リン酸部位の保護基として p—クロ口フエ二 Jレ基 を用いて環状ビス（3'→5' )ジァデニル酸ゃ環状ビス（3'→5' )ジゥリジル酸を合成し た J力報告されてし、る（Nucleosides &Nucleotides, 1 985, 4 (3) , p377參,照）。 し力、しな力《ら、前記の Nature, 1 987， 325, p279、および丄 Biol. Chem. , 1 99 0, 265, pi 8993中に記載された方法では、環化反応の原料となるジヌクレオチドの 合成収率が 750/0 (過剰に必要な基質を基準とした場合には 63%)と低ぐ実用的では なかった。また、リン酸部位の保護基である o—クロ口フエニル基の脱保護と核酸塩基 の保護基を脱保護する反応を別々に行う必要があつたため、多工程を要していた。さら に、各脱保護工程に 20時間、 48時間、および 1 6時間と長時間を要していたため、実 用的ではなかった。
前記の Nucleosides ^Nucleotides, 1 985, 4 (3) , p377中に記載された方法で も同様に、環化反応の原料となるジヌクレオチドの合成収率が 63%と低く、実用的で はなかった。また、リン酸部位の保護基である p—クロロフ：!:ニル基の脱保護と核酸塩 基の保護基を脱保護する反応を別々に行う必要があつたために多工程を要し、収率も 50〜66%と低かった。さらに、各脱保護工程に何れも一昼夜を要していたため、実用 的ではなかった。
したがって、本発明は、 cGpGpを効率的に合成する方法を提供することを目的とす る。 発明の開示
本発明者らは 低収率、多工程、且つ長い反応時間を要するといった従来の問題点 を鑑み、工業的に実用的な合成方法を提供するため、環状ビス（3'→5' )ジヌクレオチ ドの合成に適用可能なリン酸部位の保護基について鋭意検討した。その結果、リン酸 部位の保護基としてァリル基おょぴ 2—シァノエチル基が有用であることを見出し、本 発明を完成した。
即ち、本発明は、一般式〔1〕
Figure imgf000004_0001
〔1〕
(式中、 は水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、 2—メトキシェ卜キシ基または水酸 基の保護基で置換されたヒドロキシル基を表し、 B，は保護されていても良い核酸塩基 を表す。）で表される化合物から、一般式〔2〕
Figure imgf000005_0001
〔2〕
(式中、 R2および R3は各々独立して水素原子、ハロゲン原子、メ卜キシ基、 2—メトキシ エトキシ基またはヒドロキシル基を表し、 B2および B3は各々独立して核酸塩基を表 す。：)で表される化合物またはその塩を合成する方法に関するものである。
本発明によれば、環状ビス（3'→5' )ジヌクレオチドを収率よく合成する方法を提供 することができる。 発明を実施するための最良の形態
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の合成方法は 一般式〔1〕で表される化合物から一般式〔2〕で表される化合 またはその塩を得る方法である。
一般式〔1〕中の は、水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、 2—メトキシエトキシ基 または水酸基の保護基で置換されたヒドロキシル基を表し、 B,は保護されていても良 い核酸塩基を表す。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げら れる。
一般式〔1〕で表される化合物において、 における水酸基の保護基とは、通常用い られる水酸基の保護基が使用可能で、加水素分解、加水分解、光分解のような化学的 方法によって除去される 護基を指す。
水酸基の保護基としては、ホルミル基、脂肪族ァシル基、芳香族ァシル基、シリル基、 シリルォキシメチル基、アルコキシアルキル基、シリル基で置換されたアルコキシアル キル基、ハロゲン化アルキル基、ァラルキル基、アルコキシカルボニル基、ァラルキル ォキシカルボニル基、オルトエステル基などが挙げられる。好ましくは、シリル基、シリ ルォキシメチル基、シリル基で置換されたアルコキシアルキル基、オルトエステル基は 水酸基の保護基として好ましい。
シリル基としては、たとえばトリメチルシリル基、トリェチルシリル基、トリイソプロピル シリル基、 t—プチルジメチルシリル基などがあげられる。
シリルォキシメチル基としては、たとえば卜リメチルシリルォキシメチル基、トリェチル シリルォキシメチル基、トリイソプロビルシリルォキシメチル基、 t—ブチルジメチルシリ ルォキシメチル基などがあげられる。
シリル基で置換されたアルコキシアルキル基とは、たとえば 2—卜リメチルシリルェチ ルォキシメチル基などがあげられる。オルトエステル基とは、たとえぱジメトキシメチル 基、ジエトキシメチル基、ビス（ 2—ヒドロキシェチルォキシ）メチル基、ビス（2—ァセトキ シェチルォキシ）メチル基などがあげられる。
水酸基の保護基で置換されたヒドロキシル基としては、たとえぱトリメチルシリルォキ シメチルォキシ基、トリェチルシリルォキシメチルォキシ基、トリイソプロビルシリルォキ シメチルォキシ基、 tーブチルジメチルシリルォキシメチルォキシ基、 2—卜リメチルシリ ルェチルォキシメチルォキシ基 ジメトキシメチルォキシ基、ジエトキシメチルォキシ基、 ビス（2—ヒドロキシェチルォキシ）メチルォキシ基、ビス（2—ァセトキシェチルォキシ） メチルォキシ基などがあげられる。 "
核酸塩基としては、ピリミジン、プリン、ァザプリンおよぴデァザプリンなどの天然また は非天然型の塩基類が挙げられ、それらはハロゲン原子、炭素数 1から 4のアルキル 基、炭素数 1から 4のハロアルキル基、炭素数 1から 4のアルケニル基、炭素数 1から 4 のハロアルケニル基、炭素数 1から 4のアルキニル基、アミノ基、炭素数 1から 4のアル キルアミノ基、水酸基、ヒドロキシァミノ基、アミノキシ基、炭素数 1から 4のアルキルォ キシ基、メルカプト基、炭素数 1から 4のアルキルチオ基、ァリール基、ァリールォキシ 基またはシァノ基によって置換されていてもよい。
置換基としてのハロゲン原子としては、塩素、フッ素、ヨウ素、臭素が例示される。ァ ルキル基としては、メチル基、ェチル基、 1—プロピル基などが例示される。ハロアルキ ル基としては、フル才ロメチル基、ジフルォロメチル基、トリフルォロメチル基、プロモメ チル基、ブロモェチル基などが例示される。アルケニル基としては、ビニル基、ァリル基、 3—ブ亍ニル基などが例示される。ハロアルケニル基としては、ブロモビニル基、クロ口 ビニル基などが例示される。アルキニル基としては、ェチニル基、プロピニル基などが 例示される。アルキルアミノ基としては、メチルァミノ、ェチルァミノなどが例示される。ァ ルキルォキシ基としては、メ卜キシ基、エトキシ基などが例示される。アルキルチオ基と しては、メチルチオ基、ェチルチオ基などが例示される。ァリール基としては、フエニル 基：メチルフL二ル基、ェチルフヱニル基などの炭素数 1 ~4のアルキル基を有するアル キルフエニル基：メ卜キシフエニル基、エトキシフエニル基などの炭素数 1〜4のアルキル ォキシ基を有するアルコキシフエニル基：ジメチルァミノフエニル基、ジェチルァミノフエ ニル基などの炭素数 1〜4のアルキルアミノ基を有するアルキルアミノフエ二ル基：クロ 口フエニル基、ブロモフエニル基などのハロゲノフエニル基などが例示される。
ピリミジン塩基を具体的に例示すれば、シトシン、ゥラシル、 5—フルォロシ卜シン、 5 一フルォロウラシル、 5—クロロシトシン、 5—クロロウラシル、 5—ブロモシ卜シン、 5— プロモウラシル、 5—ョードシトシン、 5—ョ一ドウラシル、 5—メチルシトシン、 5—メチル ゥラシル（チミン）、 5—ェチルシトシン、 5—ェチルゥラシル、 5—フルォロシトシン、 5— フルォロウラシル、 5—トリフルォロメチルシ卜シン、 5—トリフルォロメチルゥラシル、 5 —ビニルゥラシル、 5—（2—プロモビニル）ゥラシル、 5—（2—クロロビニル）ゥラシル、 5—ェチニルシトシン、 5—ェチニルゥラシル、 5—プロピニルゥラシル、ピリミジン一 2 —オン、 4ーヒドロキシァミノピリミジン一 2—オン、 4ーァミノォキシピリミジン一 2—オン、 4ーメトキシピリミジン一 2—オン、 4ーァセトキシピリミジン一 2—オン、 4一フルォロピリ ミジン一 2—オン、 5—フルォロピリミジン一 2—オン、 5—ァザシトシンなどが挙げられ る。
プリン塩基を具体的に例示すれば、プリン、 6—アミノブリン（アデニン）、 6—ヒドロキ シプリン、 6—フルォロプリン、 6—クロ口プリン、 6—メチルァミノプリン、 6—ジメチルァ ミノプリン、 6—卜 Uフレ才ロメチノレアミノプリン、 6—ヒドロキシァミノプリン、 6—アミノ才 キシプリン、 6—メトキシプリン、 6—ァセトキシプリン、 6—メチルプリン、 6—ェチルプリ ン、 6—トリフルォロメチルブリン、 6—フエニルプリン、 6—メルカプトプリン、 6—メチルメ ルカプトプリン、 6—ァミノプリン一 1ーォキシド、 6—ヒドロキシプリン一 1ーォキシド、 2 —アミノー 6—ヒドロキシプリン（グァニン）、 2, 6—ジァミノプリン、 2—ァミノ一 6—クロ 口プリン、 2—ァミノ一 6—ョードプリン、 2—ァミノプリン、 2—アミノー 6—メレカプトプリ ン、 2—アミノー 6—メチルメルカプトプリン、 2—アミノー 6—ヒドロキシァミノプリン、 2— アミノー 6—メ卜キシプリン、 2—ァミノ一 6—ベンゾィ ^ /レオキシプリン、 2—ァミノ一 6—ァ セトキシプリン、 2—アミノー 6—メチルプリン、 2—アミノー 6—シクロプロピルアミノプリ ン、 2—アミノー 6—フエニルプリン、 2—アミノー 8—ブロモプリン、 6—シァノプリン、 6 一アミノー 2—クロ口プリン（2—クロロアデニン）、 6—アミノー 2—フルォロプリン（2—フ ルォロアデニン)などが挙げられる。
ァザプリン塩基およぴデァザプリン塩基を具体的に例示すれば、 6—アミノー 3—デァ ザプリン、 6—ァミノ一 8—ァザプリン、 2—ァミノ一 6—ヒドロキシ一 8—ァザプリン、 6— アミノー 7—デァザプリン、 6—アミノー 1—デテザプリン、 6—アミノー 2—ァザプリンな どが挙げられる。
保護された核酸塩基とは、前述の核酸塩基のアミ/基が通常用いられるアミ/基の保 護基で保護されたものを指す。
ァミノ基の保護基としては、特に限定されないが、例えば、ホルミル基、ァセチル基、 プロピオニル基、ブチリル基、イソプチリル基、バレリル基、ジフエニルァセチル基、フエ ノキシァセチル基、ベンゾィル基、トルオイル基などのァシル基類、あるいはァリルォキ シカルポニル基などのアルコキシ力ルポニル基類、ァリル基などのアルキル基類、ジメ チルアミノメチレン基などのアミジン類などが挙げられる。
ァミノ基の保護基として、一般式〔1〕で表される化合物のリン酸エステルの保護基で ある 2—シァノエチル基またはァリル基いずれか一方の脱保護と同じ反応条件で脱保 護できるような保護基を選ぶのが好ましい。
保護基として、アンモニア、アミン類、後記する 0価のパラジウム、 2価のパラジウム 錯体または 2価のパラジウム塩で脱保護可能な保護基は好ましい。
このような保護基としては、ホルミル基、ァセチル基、プロピオニル基、プチリル基、ィ ソブチリル基、バレリル基、ジフヱニルァセチル基、フエノキシァセチル基、ベンゾィル基、 トルオイル基などのァシル基類、ジメチルアミノメチレン基などのアミジン類、ァリル基、 あるいはァリルォキシカルボニル基などが例示される。
これらのなかで、ホルミル基、ァセチル基、イソプチリル基、ベンゾィル基、フエノキシ ァセチル基、ジメチルアミノメチレン基、ァリル基、あるいはァリルォキシカルボニル基 は特に好ましい。
B，における保護された核酸塩基としては、例えば、 N4—ァセチルシトシン、 N4—ベン ゾィルシトシン、 N4—ァセチルー 5—フルォロシ卜シン、 N4—ベンゾィルー 5—フルォロ シトシン、 N4—ァセチルー 5—ァザシ卜シン、 N4—べンゾィルー 5—ァザシトシン、 N4— (フエノキシァセチル）シトシン、 N4—（ジメチルアミノメチレン）シ卜シン、 N4—（ァリルォ キシカルボニル）シ卜シン、 N4—ァセチル一 5—メチルシトシン、 N4—べンゾィルー 5— メチルシトシン、 N4—（フエノキシァセチル）一 5—メチルシトシン、 N4— (ジメチルアミノメ チレン)一 5—メチルシトシン、 N4— (ァリルォキシカルボニル）一 5—メチルシトシン、 N6 ーァセチルアデニン、 N6—ベンゾィルアデニン、 N6— (フエノキシァセチル）アデニン、 N 6— (ジメチルアミノメチレン）アデニン、 N6— (ァリルォキシ力ルポニル）アデニン、 N6— ァセチルー 2—クロロアデニン、 N6—ベンゾィル一2—クロロアデニン、 N6—（フエノキシ ァセチル）一 2—クロロアデニン、 N6— (ジメチルアミノメチレン）一 2—クロロアデニン、 N6— (ァリルォキシカルボニル）一2—クロロアデニン、 N6—ァセチルー 2—フルォロア デニン、 N6—ペンゾィル一2—フルォロアデニン、 N6—（フエノキシァセチル）一2—フル ォロアデニン、 N6- (ジメチルアミノメチレン）一2—フルォロアデニン、 N6— (ァリルォキ シカルボニル）一 2—フルォロアデニン、 N2， N6—ジァセチル一 2, 6—ジァミノプリン、 N2, N6—ジベンゾィルー 2， 6—ジァミノプリン、 N2， N6—ビス（フエノキシァセチル）一 2, 6—ジァミノプリン、 N2， N6—ビス（ジメチルアミノメチレン）ー2， 6—ジァミノプリン、 N2, N6—ビス（ァリルォキシカルボニル）一 2, 6—ジァミノプリン、 N2—ァセチルグァニン、 N2—べンゾィルグァニン、 N2—イソプチリルグァニン、 N2— (フエノキシァセチル）グァ ニン、 N2— (ジメチルアミノメチレン）グァニン、 N2- (ァリルォキシカルボニル）グァニン、 N2- (ァリルォキシカルボニル)—O6—ァリルグァニン、 N2- (ァリルォキシカルボ二 ル）一 N1—ァリルグァニンなどが挙げられる。
一) ¾式〔1〕で表されるィ匕合物は、 Org. Lett. 2001 , 3， p81 5 ;Tetrahedron, 200
1 , 57, p8823に記載の方法を参考にして、合成することができる。 例えば、一般式〔1〕で表される化合物の合成方法としては、 ( 1 )下記一般式 (A)で 表される化合物と 2—シァノエタノールを、モレキュラーシ一ブ及ぴ縮合活性化剤の存 在下で反応させて下記一般式（B)で表される化合物を得る工程、 (2)次いで、一般式 (B)で表される化合物と酸化剤を反応させて下記一般式（C)で表される化合物を得る 工程、 (3)次いで、一般式 (C)で表される化合物の脱保護を行い、一般式〔1〕で表され る化合物を得る工程からなる方法が挙げられる（反応式〔1〕）。 反応式〔1〕
Figure imgf000010_0001
〔1〕 (C)
—般式（A)中の、 およぴ は前記の一般式〔1〕中の およぴ と同義であり、 6 は水酸基の保護基を表し、 R9および R10は各々独立して炭素数 1から 4のアルキル基 を表すか、または R9および R10はこれらが結合する窒素原子を含む環を形成しても良 い。
一般式（A)で表される化合物において、 R6の水酸基の保護基としては、前記の一般 式〔1〕中の R1における水酸基の保護基として例示されたものが挙げられる。
一般式（A)で表される化合物において、 R9および R10が炭素数 1から 4のアルキル基 である場合、 R9 (R10) N基としては、ジェチルァミノ基、ジ（n—プロピル）アミノ基、ェチ ル（n—プロピル）アミノ基、ェチル（イソプロピル）アミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ (n—プチル)ァミノ基、ジイソプチルァミノ基などが挙げられる。 一般式 (A)で表される化合物において、 R9および 。がこれらが結合する窒素原子を 含む環を形成する場合、そのような環を形成した R9 (R10) N基としては、ピロリジノ基、 ピぺリジノ基などがあげられる。
一般式（A)で表される化合物において、 R9 (R10) N基として、ジイソプロピルアミノ基、 ピロリジノ基あるいはピペリジノ基は好ましい。
一般式 (B)および一般式 (C)中の 、 R6および はそれぞれ、前記の一般式 (A) 中の 、 R6およぴ と同義である。
前記（1 )の工程で用いられるモレキュラーシーブとしては、例えば、モレキュラーシー ブ 3Aおよびモレキュラーシーブ 4Aが挙げられる。
前記（1 )の工程で用いられる縮合活性化剤としては、例えば、テトラゾール、 5—メチ ルチオテトラゾール、 5—ェチルチオテトラゾ一ルなどのテトラゾール類、 4, 5—ジシァ ノイミダゾール、 4, 5—ジクロロイミダゾールなどのイミダゾ一ル類、 N—フエ二ルイミダ ゾ一ル トリフルォロメタンスルホン酸塩、イミダゾール テトラフルォロホウ酸塩、 N—フ ェニルイミダゾール テ卜ラフルォロホウ酸塩、 N—（p—ァセチルフエニル）イミダゾール トリフルォロメタンスルホン酸塩、 2—フエ二ルイミダゾ一ル トリフルォロメタンスルホン 酸塩、 4ーメチルイミダゾール トリフルォロメタンスルホン酸塩、 4—メチルイミダゾール p—トルエンスルホン酸塩、 4ーメチルイミダゾール トリフルォロ酢酸塩、 4—フエニル イミダゾ一ル トリフルォロメタンスルホン酸塩 4一フエ二ルイミダゾール トリフルォロ 酢酸塩、ベンズイミダゾール 亍トラフルォロホウ酸塩、 N—メチルペンズイミダゾール トリフルォロメタンスルホン酸塩、 2—フエニルベンズイミダゾ一ル トリフルォロメタンス ルホン酸塩、 2—フ;]：ニルベンズイミダゾ一ル 過塩素酸塩、過塩素酸イミダゾリゥムな どのイミダゾリゥ厶塩やべンズイミダゾール塩類などがあげられる。過塩素酸イミダゾリ ゥムが特に好ましい。
前記（1 )の工程において、 2—シァノエタノールは、一般式（A)で表される化合物に対 して、通常、 1から 2当量となる量が用いられる。
モルキユラーシーブスは、一般式（A)で表される化合物の重量に対して、通常、 1 % から 1 Οθο/οとなる量が用いられる。 50/0から 30%が好ましい。
縮合活性化剤は、一般式 (A)で表される化合物に対して、通常、 0. 1から 4当量とな る量が用いられる。 0. 2から 2当量が好ましい。
前記（1 )の工程の反応には、通常、溶媒を用いる。溶媒としては、反応を阻害しない 限り限定されない力《、ァセトニトリル、ジクロロメタン、クロ口ホルム、 THF、 1 , 4ージォ キサンなどが好ましい。
前記（1 )の工程の反応温度は、通常、一 1 0°Cから溶媒の沸点で可能だが、 0°Cか ら室温の範囲が好ましい。
一般式（B)で表される化合物は、前記 ( 1 )の工程で得られる一般式（B)で表される 化合糨を含む反応混合物から単離することなく、前記（2)の工程に用いられる。
前記（2)の工程で用いられる酸化剤としては、例えば、通常亜リン酸の酸化に用い られるものなら限定されないが、過酸化水素水などの過酸化水素類、過酢酸、過安息 香酸、 m—クロ口過安息香酸などの過酸類、アセトン バーオキシド、 2—ブタノン パ 一才キシドなどのケトン過酸化物類、 t—プチルヒドロパーォキシドなどのアルコール過 酸化物類、パーォキシ硫酸カリウムなどの過硫酸類などがあげられる。
酸化剤として、特に 2—ブタノン パーォキシドが好ましい。
前記の酸化剤は、安定性を保持する目的で、溶液として用いることができる。溶液を 調整する際に用いる溶媒としては、酸化剤を溶解し、酸化を阻害しない限り特に限定さ れないが、水、メタノール、エタノールなどのアルコール類、アセトン、 2—ブタノンなどの ケトン類、トルエン、ベンゼン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、齚酸ェチル、酢酸プ チル、ジメチルフタレートなどのエステル類などが好ましい。
酸化剤は、一般式（B)で表わされる化合物に対して、通常 1から 3当量となる量が用 いられる。
前記（2)の工程の反応は、通常、溶媒を用いて行う。溶媒としては、反応を阻害しな い限り限定されないが、ァセトニトリル、ジクロロメタン、クロ口ホルム、 THF、 1， 4ージ ォキサンなどが好ましい。
前記（2)の工程の反応温度は、通常、—1 0°Cから溶媒の沸点で可能だが、 0°Cか ら室温の範囲が好ましい。
一般式 (C)で表される化合物は、前記（1 )および (2)の工程で得られる一般式 (C) で表される化合物を含む反応混合物を，分液などの通常の後処理操作を行い、精製す ることなく前記 (3)の工程に用いることができる。
一般式 (C)における R6基としては、通常用いられる水酸基の保護基であれば特に限 定されないが、 R6基を脱保護する反応条件において、 で示される保護基が脱離しな いような保護基を用いることが好ましい。そのような保護基としては、 4， 4'ージメトキシ トリチル基などのァラルキル基、 t一プチルジメチルシリル基、ビス（卜リメチルシ口キシ) ジフエニルメトキシシリル基、およびビス（トリメチルシロキシ）シクロドデシルォキシシリ ル基などのシリル基があげられる。
これらの保護基のなかでも 4， 4'ージメトキシトリチル基は好ましい。
前記（3)の工程で脱保護する際の反応条件は、使用する R6基により異なる。
一般式（C)における R6基がァラルキル基の場合には、酸を用いて脱保護するのが 好ましい。そのような酸としては、硫酸、塩酸、トリフルォロ酢酸、過塩素酸、トリクロ口 酢酸、ジクロロ酢酸などが使用できる。ジクロロ酢酸が好ましい。
一般式（G)における R6基がシリル基の場合には、フルオリドを用いて脱保護するの が好ましい。そのようなフルオリドとしては、ピリジニゥム フルオリド、テトラブチルアン モニゥム フルオリド、フッ化カリウム、フッ化ナトリウムなどが使用できる。テトラブチル アンモニゥム フルオリドが好ましい。
酸は、一般式（C)で表わされる化合物に対して、通常 1から 40当量となる量が用い られる。 1 0から 30当量が好ましい。
前記（2)の工程の反応には、通常、溶媒を用いる。溶媒としては、反応を阻害しない 限り限定されないが、ァセトニトリル、ジクロロメタン、クロ口ホルム、 THF、 1 , 4—ジォ キサンなどが好ましい。
前記（2)の工程の反応温度は、通常、一 1 0°Cから溶媒の沸点で可能だが、 0°Cか ら室温の範囲が好ましい。
前記（1 )、（2)および（3)の各工程の反応は、通常大気圧下で行われる。
前記（3)の工程で得られる一般式〔1〕で表される化合物は、公知の方法、例えば、 カラムクロマトグラフィー手法ゃ晶析手法等により、反応混合物から分離し、回収するこ とができる。
一般式〔2〕中の R2および R3は、各々独立して水素原子、ハロゲン原子またはヒドロ キシル基を表し、 B2および B3は各々独立して核酸塩基を表す。
ハロゲン原子および核酸塩基としては、前記の一般式〔1〕中の および の説明個 所に例示したものを挙げることができる。
一般式〔2〕で表される化合物の塩としては、通常リン酸と塩を形成するような塩基か ら成る塩なら限定されないが、アルカリ金属、アルカリ土類金属あるいは有機ァミンな どの塩が好ましい。アルカリ金属の塩としては、たとえばリチウム塩、ナド Jゥ厶塩、カリ ゥム塩などがあげられる。アルカリ土類金属の塩としては、たとえばマグネシウム塩、力 ルシゥ厶塩、バリウム塩などがあげられる。有機ァミンの塩としては、たとえばトリェチ ルアンモニゥム塩、トリ（n—プチル）アンモニゥム塩などの 3級ァミン塩、ジェチルアン モニゥ厶塩、ジシクロへキシルアンモニゥ厶塩などの 2級ァミン塩、アンモニゥム塩、 n —プチルアンモニゥム塩、シクロへキシルアンモニゥム塩などの 1級ァミン塩、テトラ（n 一プチル）アンモニゥム塩、トリメチル ベンジルアンモニゥム塩などの 4級ァミン塩など があげられる。
例えば、一般式〔1〕中の が水素原子、フッ素原子、メトキシ基、 2—メトキシェトキ シ基または t一プチルジメチルシリルォキシ基である化合物から、一般式〔2〕中の R2お よび R3が各々独立して水素原子、フッ素原子、メトキシ基、 2—メトキシエトキシ基また はヒドロキシル基である化合物またはその塩を合成することができる。
一般式〔1〕で表される化合物から一般式〔2〕で表される化合物の合成方法としては、 特に限定されないが、例えば、下記反応式〔2〕に示したように、一般式〔5〕および一般 式〔6〕で表される化合物を経て合成する方法があげられる。 反応式〔2〕
Figure imgf000015_0001
すなわち、 一般式 〔1〕 で表される化合物を一般式 〔5〕 で表される化合物に 誘導する工程、 次いで一般式 〔5〕 で表される化合物を一般式 〔6〕 で表される 化合物に誘導する工程、 そして一般式 〔6〕 で表される化合物を一般式 〔2〕 で 表される化合物に誘導する工程からなる合成方法を例示することができる。 例えば、一般式〔1〕中の が水素原子、フッ素原子、メトキシ基、 2—メトキシェトキ シ基または t一プチルジメチルシリルォキシ基である化合物から、一般式〔5〕および一 般式〔6〕中の およぴ が各々独立して水素原子、フッ素原子、メトキシ基、 2—メ卜 キシエトキシ基または t—プチルジメチルシリルォキシ基である化合物を経て、一般式 〔2〕中の R2およぴ1¾が各々独立して水素原子、フッ素原子、メトキシ基、 2—メトキシェ トキシ基およびヒドロキシル基である化合物を合成することができる。
一般式〔5〕中の および R4は各々独立して水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、 2 —メトキシェ卜キシ基または水酸基の保護基で置換されたヒドロキシル基を表し、 B，お よび B4は各々独立して保護されていても良い核酸塩基を表し、 R5はァリル基または 2 ーシァノエチル基を表す。なお、水酸基の保護基で置換されたヒドロキシル基および保 護されていても良い核酸塩基としては、前記の一般式〔1〕中の およぴ^の説明個 所に例示したものを挙げることができる。
一般式 〔6〕 中の R 4、 R 5、 8 1ぉょぴ6 4は、 前記の一般式 〔5〕 中 の R 4、 R 5、 および B 4と同義である。
一般式〔1〕で表される化合物から一般式〔2〕で表される化合物の合成方法を具体的に 示すとすれば、例えば、下記反応式〔3〕または反応式〔4〕に示したように、一般式〔3〕 あるいは〔4〕で表される化合物と、一般式〔1〕で表される化合物から合成する方法が あげられる。 反応式〔3〕
HOヽ B
0、、 P R1
CH2=CHCH20 OCH2CH2CN
Figure imgf000016_0001
〔3〕 〔1〕
t
Figure imgf000016_0002
〔5〕 〔6〕 〔2〕 反応式〔4〕
Figure imgf000017_0001
〔4〕 〔1〕
Figure imgf000017_0002
〔5〕 〔6〕 〔2〕
一般式〔5〕で表される化合物の合成方法としては、通常のリン酸エステル化合物を 合成するのに用いられる方法ならば特に限定されない力 例えば、下記反応式〔5〕 に示したように、一般式〔1〕で表される化合物を一般式〔3〕で表される化合物と縮合し てから酸化する方法、または下記反応式〔6〕に示したように、一般式〔1〕で表される化 合钧を一般式〔4〕で表される化合物と縮合する方法があげられる。
Figure imgf000017_0003
反応式〔6〕
Figure imgf000018_0001
〔1〕 〔5〕 一般式〔3〕中の、 B4および R4は前記の一般式〔5〕中の B4および R4と同義であ y R 6は前記の一般式（A)中の R6とそれぞれ同義であり、 R7および R8は各々独立して炭素 数 1から 4のアルキル基を表すか、または R7および R8が結合して窒素原子を含む環を 形成しても良い。
一般式〔3〕で表される化合物において、 R7および R8が炭素数 1から 4のアルキル基 である場合、 R7 (R8) N基としては、ジェチルァミノ基、ジ（η プロピル）アミノ基、ェチル (n プロピル）アミノ基、ェチル（イソプロピル）アミ/基、ジイソプロピルアミノ基、ジ（n ーブチル)アミノ基、ジイソプチルァミノ基などが挙げられる。
一般式〔3〕中で表される化合物において、 R7および R8が結合して窒素原子を含む環 を形成する場合、そのような環を形成した R7 (R8) N基としては、ピロリジノ基、ピペリジ ノ基などがあげられる。
一般式〔3〕で表される化合物において、 R7 (R8) N基として、ジイソプロピルアミノ基、 ピロリジノ基あるいはピペリジノ基は好ましい。
一般式〔4〕中の B4 R4および R6は前記の一般式〔3〕中の B4 R4および R6とそれぞ れ同義である。
一般式〔1〕で表される化合物を一般式〔3〕で表される化合物と縮合する際に用いる 縮合活性化剤としては、例えば、亍トラゾ一ル、 5—メチルチオ亍トラゾ一ル、 5—ェチル チォテ卜ラゾールなどのテトラゾール類、 4, 5—ジシァノイミダゾール、 4 5—ジクロロ イミダゾールなどのイミダゾ一ル類、 N フエ二ルイミダゾ一ル トリフルォロメタンスル ホン酸塩、イミダゾ一ル テトラフルォロホウ酸塩、 N フエ二ルイミダゾ一ル 亍トラフル ォロホウ酸塩、 N—（p—ァセチルフエニル）イミダゾール トリフルォロメタンスルホン酸 塩、 2—フエ二ルイミダゾ一ル トリフルォロメタンスルホン酸塩、 4—メチルイミダゾール トリフルォロメタンスルホン酸塩、 4一メチルイミダゾ一ル p—トルエンスルホン酸塩、 4 —メチルイミダゾール トリフルォロ酢酸塩、 4一フエ二ルイミダゾール トリフルォロメタ ンスルホン酸塩、 4一フエ二ルイミダゾール トリフルォロ酢酸塩、ベンズイミダゾール テ卜ラフルォロホウ酸塩、 N—メチルベンズイミダゾ一ル トリフルォロメタンスルホン酸 塩、 2—フエニルベンズイミダゾール トリフルォロメタンスルホン酸塩、 2—フエニルベン ズイミダゾール 過塩素酸塩、過塩素酸イミダゾリゥムなどのイミダゾリゥム塩やべンズ イミダゾール塩類などがあげられる。
縮合活性化剤として、過塩素酸イミダゾリゥ厶は好ましい。
縮合活性化剤を用いる反応の反応温度としては、一 1 o°cから溶媒の沸点で可能だ が、特に 0から 40°Cが好ましい。
一般式〔1〕で表される化合物を一般式〔3〕で表される化合物と縮合させてから酸化 する際に用いられる酸化剤としては、通常亜リン酸の酸化に用いられるものなら限定さ れないが、過酸化水素水などの過酸化水素類、過酢酸、過安息香酸、 m—クロ口過安 息香酸などの過酸類、アセトン バーオキシド、2—ブタノン パーォキシドなどのケ卜ン 過酸化物類、 t一プチルヒドロパーォキシドなどのアルコール過酸化物類、パーォキシ 硫酸力リゥムなどの過硫酸類などがあげられる。
酸化剤として、 2—ブタノン パーォキシドは好ましい。
前記の酸化剤は、安定性を保持する目的で、溶液として用いることができる。
溶液を調整する際に用いる溶媒としては、酸化剤を溶解し、酸化を阻害しない限リ特 に限定されないが、水、メタノール、エタノールなどのアルコール類、アセトン、 2—ブタノ ンなどのケトン類、トルエン、ベンゼン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、酢酸ェチル、 酢酸ブチル、ジメチルフタレー卜などのエステル類などが好ましい。
酸化する際の反応温度としては、一 1 0°Cから溶媒の沸点で可能だが、特に 0から 4 0°Cが好ましい。
酸化する際の反応溶媒としては、酸化反応に影響を与えない限り、限定されるもの ではないが、非プロトン性の溶媒が好ましく、特にァセトニトリル、ジクロロメタン、 THF が好ましし、。 一般式〔1〕で表される化合物を一般式〔4〕で表される化合物と縮合する際の縮合剤 としては、塩化メタンスルフォニル、塩化トルエンスルフォニル、塩化 2, 4, 6—トリイソ プロピルベンゼンスルフォニル、塩化メシチレン一 2—スルフォニルなどの塩化スルフォ ニル類、 1一トルエンスルフォ二ルテ卜ラゾール、 1一（メシチレンスルフォニル一2—ス ルフォニル）亍卜ラゾール、 1— (2, 4， 6—トリイソプロピルベンゼンスルフォニル）テトラ ゾールなどのスルフォニルテトラゾール類、 3—ニトロ一 1—トルエンスルフォ二ルー 1， 2， 4一トリァゾール、 3—ニトロ一 1— (メシチレンスルフォニル一2—スルフォニル）一 1， 2, 4一卜リアゾール、 3—二トロ一 1ー（2， 4， 6—トリイソプロピルベンゼンスルフォニ ル）一 1， 2， 4—卜リアゾ一ルなどのスルフォニルトリアゾール類などがあげられる。特 に塩化トリイソプロピルベンゼンスルフォニルが好ましい。
縮合の際に塩基を共存させても良い。用いられる塩基としては、卜リエチルァミン、ェ チルジイソプロピルァミン、ピリジン、ルチジン、イミダゾ一ル、 N—メチルイミダゾ一ル、 N—メチルベンズイミダゾールなどがあげられる。特に N—メチルイミダゾールが好まし い。
縮合する際の反応温度としては、一 1 0°Cから溶媒の沸点で可能だが、特に 0から 4 0°Cが好ましい。
縮合の際には、水分の影響を少なくするために脱水剤を添加して行うこともできる。 脱水剤としては、通常反応に用いられるものが使用できるが、特にモルキュラーシ一ブ スが好ましい。
縮合する際には、通常、反応溶媒を用いる。反応溶媒としては、縮合に影響を与え ない限り、限定されるものではないが、非プロトン性の溶媒が好ましぐ特にァセトニトリ ル、ジクロロメタン、 THFが好ましい。
一般式〔3〕および一般式〔4〕中の R6基としては、通常用いられる水酸基の保護基で あれば特に限定されない力 R6基を脱保護する反応条件で あるいは R4の水酸基の 保護基や R5基が脱離しないような保護基を用いることが好ましい。
そのような保護基 R6としては、 4， 4' -ジメトキシ卜リチル基などのァラルキル基、 t— プチルジメチルシリル基、ビス（卜リメチルシ口キシ）ジフエニルメトキシシリル基、および ビス (トリメチルシロキシ）シクロドデシルォキシシリル基などのシリル基が挙げられる。 これらの保護基のなかでも、 4， 4'—ジメトキシトリチル基は好ましい。
R6基を脱保護する際の反応条件は、使用する R6基により異なる。
R6基がァラルキル基の場合には、酸を用いて脱保護するのが好ましい。そのような 酸としては、硫酸、塩酸、トリフルォロ酢酸、過塩素酸、トリクロ口酢酸、ジクロロ酢酸な どが使用できる。ジクロロ酢酸が好ましい。
R6基がシリル基の場合には、フルオリドを用いて脱保護するのが好ましい。そのよう なフルオリドとしては、ピリジニゥム フルオリド、亍トラプチルアンモニゥム フルオリド、 フッ化カリウム、フッ化ナトリウムなどが使用できる。テ卜ラブチルアンモニゥム フルォ リドが好ましい。
脱保護に用いられる酸は、一般式〔5〕で表わされる化合物の理論生成量に対して、 通常、 1から 40当量となる量が用いられる力《、 1 0から 30当量が好ましい。
前記の R6基を脱保護する工程の反応には、通常、溶媒を用いる。溶媒としては、反 応を阻害しない限り限定されないが、ァセトニ卜リル、ジクロロメタン、クロ口ホルム、 TH F、 1 , 4一ジォキサンなどが好ましい。
前記の R6基を脱保護する工程の反応温度は、通常、一 1 0°Cから溶媒の沸点で可 能だが、 0°Cから室温の範囲が好ましい。
一般式〔6〕で表される化合物の合成方法としては、特に限定されないが、例えば、下 記反応式〔7〕に示したように、一般式〔5〕で表される化合物の R5基が 2—シァノエチル 基の場合には、ァリル基を脱保護した後に環化反応を行い、一般式〔5〕で表される化 合物の R5基がァリル基の場合には、 2—シァノエチル基を脱保護した後に環化反応を 行う方法があげられる。 反応式〔7〕
Figure imgf000022_0001
〔5〕
2—シァノエチル基の脱保護反応に用いられる試薬は、特に限定されないが、例え ば、アンモニアまたはアミン類を用いることができる。
アミン類としては、メチルァミン、ェチルァミンなどの 1級ァミン類、ジメチルァミン、ジ ェチルァミン、ピぺリジンなどの 2級ァミン類、トリメチルァミン、トリェチルァミン、 1ーメ チルピペリジンなどの 3級ァミンが例示される。
アンモニアまたはァミン類で脱保護する際の反応温度としては、一 1 o°cから使用す る溶媒の沸点で行うことが可能で、室温から 70°Cの間で行うことが好ましい。
ァリル基の脱保護反応に用いられる試薬は、特に限定されないが、 0価のパラジウム、 2価のパラジウム錯体または 2価のパラジウム塩を用いることができる。
0価のパラジウム、 2価のパラジウム錯体または 2価のパラジウム塩としては、特に 限定されないが、例えば、パラジウム炭秦、水酸化パラジウム炭素などのパラジウム担 体類、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、ジクロロ（1 , 5—シクロオクタンジェン）パラジ ゥムなどの酸パラジウム塩類、テトラキス（トリフエニルフォスフィン）パラジウム、ビス（卜 リシクロへキシルフォスフィン）パラジウムなどのリン錯体類、パラジウム 2, 4一ペンタ ンジォネート、卜リス（ジベンジリデンァセトン)ジ / ラジウム一クロ口ホルムなどのジケト 錯体類などが好ましいものとして挙げられる。
0価のパラジウム、 2価のパラジウム錯体または 2価のパラジウム塩で脱保護する際 の反応温度としては、一 1 0°Cから使用する溶媒の沸点で行うことが可能で、 0°Cから 5 0°Cの間で行うことが好ましい。
一般式〔5〕中の R5基を脱離させずにァリル基または 2—シァノエチル基を脱保護す るに際して、一般式〔5〕中の R5がァリル基であり、 または R4が水酸基の保護基であ リ、 B，または B4が保護された核酸塩基である場合には、 F^、 R4、 B，および B4のいず れかの保護基は 2—シァノエチル基を脱離する反応条件に対して安定であることが好 ましい。また、一般式〔5〕中の R5が 2—シァノエチル基であり、 または R4が水酸基の 保護基であり、 または B4が保護された核酸塩基である場合には、 、 R4、 B および B4のいずれかの保護基はァリル基を脱離する反応条件に対して安定なことが好まし い。
一般式〔5〕中の R5が 2—シァノエチル基である場合、一般式〔5〕中の およぴ に おける水酸基の保護基としては、例えば、ホルミル基、ァセチル基、プロピオニル基、ブ チリル基、イソプチリル基、バレリル基、ジフエニルァセチル基、フエノキシァセチル基、 ベンゾィル基、トルオイル基などのァシル基類、トリメチルシリル基、トリェチルシリル基、 トリイソプロビルシリル基、 t—プチルジメチルシリル基などのシリル基、卜リメチルシリル ォキシメチル基、トリェチルシリルォキシメチル基、トリイソプロビルシリルォキシメチル 基、 t—プチルジメチルシリルォキシメチル基などのシリルォキシメチル基、 2—トリメチ ルシリルェチルォキシメチル基などのシリル基で置換されたアルコキシアルキル基、ジ メトキシメチル基、ジエトキシメチル基、ビス（2—ヒドロキシェチルォキシ）メチル基ある いはビス（2—ァセトキシェチルォキシ）メチル基などのオル卜エステル基などが挙げら れる。
一般式〔5〕中の R5が 2—シァノエチル基である場合、一般式〔5〕中の B，およぴ84の 保護された核酸塩基の保護基としては、例えば、ホルミル基、ァセチル基、プロピオ二 ル基、プチリル基、イソプチリル基、バレリル基、ジフエニルァセチル基、フエノキシァセ チル基、ベンゾィル基、トルオイル基などのァシル基類、ジメチルアミノメチレン基など のアミジン類などが挙げられる。
一般式〔5〕中の R5がァリル基である場合、一般式〔5〕中の および R4における水 酸基の保護基としては、例えば、ァリル基、ァリルォキシカルボニル基などのァリル基 類、卜リメチルシリル基、卜リエチルシリル基、トリイソプロビルシリル基、 t一ブチルジメチ ルシリル基などのシリル基、トリメチルシリルォキシメチル基、トリェチルシリルォキシメ チル基、トリイソプロビルシリルォキシメチル基、 t—プチルジメチルシリルォキシメチル 基などのシリルォキシメチル基あるし、は 2—トリメチルシリルェチルォキシメチル基など のシリル基で置換されたアルコキシアルキル基などが挙げられる。
一般式〔5〕中の R5がァリル基である場合、一般式〔5〕中の およぴ の保護され た核酸塩基の保護基としては、例えば、ァリル基、ァリルォキシカルボニル基などのァ リル基類が挙げられる。
環化反応には、通常のリン酸エステルの合成方法を用いることができる。
環化反応に用いられる縮合剤としては、特に限定されないが、塩化メタンスルフォニ ル、塩化トルエンスルフォニル、塩化 2， 4, 6—トリイソプロピルベンゼンスルフォニル、 塩化メシチレン一 2—スルフォニルなどの塩化スルフォニル類、 1一トルエンスルフォニ ルテトラゾール、 1一（メシチレンスルフォニルー 2—スルフォニル）テトラゾール、 1一（2， 4， 6—トリイソプロピルベンゼンスルフォニル）テトラゾールなどのスルフォニルテトラゾ ール類、 3—ニトロ一 1—トルエンスルフォニル一 1 , 2, 4一トリァゾール、 3—二卜ロー 1 —(メシチレンスルフォニル一 2—スルフォニル）一1， 2， 4一トリァゾ一ル、 3—ニトロ一 1一（2, 4, 6—トリイソプロピルベンゼンスルフォニル）ー1， 2， 4—トリァゾールなどの スルフォニル卜リアゾ一ル類などがあげられる。特に塩化 2， 4， 6—トリイソプロピルべ ンゼンスルフォニルが好ましい。
環化反応は塩基の共存下に行うこともできる。環化反応に用いられる塩基としては、 卜リエチルァミン、ェチルジイソプロピルァミン、ピリジン、ルチジン、イミダゾール、 N—メ チルイミダゾール、 一メチルペンズイミダゾールなどがあげられる。特に N—メチルイミ ダゾールが好ましい。
環化反応の反応温度としては、一 1 0°Cから溶媒の沸点で可能だが、特に 1 0から 4 0°Cが好ましい。
環化反応は、水分の影響を少なくするために脱水剤を添加して行うこともできる。環 化反応に用いられる脱水剤としては、通常反応に用いられるものが使用できるが、特 にモルキユラーシーブスが好ましい。
環化反応には、通常、反応溶媒を用いる。反応溶媒としては、縮合に影響を与えな い限り、限定されるものではないが、非プロトン性の溶媒が好ましぐ特にァセ卜二卜リル、 ジクロロメタン、 THFが好ましい。
一般式〔2〕で表される化合物の合成方法としては、特に限定されないが、例えば、下 記反応式〔8〕に示したように、一般式〔6〕で表される化合物の B，、 B4、 、 R4および R 5の保護基を所望により脱保護する方法があげられる。 反応式〔8〕
R4の脱保護，
Figure imgf000025_0001
R5基の脱離
〔6〕 〔2〕 各保護基を脱保護する順番については、一部の保護基が残存する段階で精製する 必要がある場合や、脱保護する順番により化合物の安定性が異なる場合など、特に考 慮する必要がある場合を除き、特に限定されない。工程数を削減する目的で、同じ反 応条件を用いて複数の保護基を同時に脱保護することもできる。
一般式〔6〕で表される化合物の R5で示される保護基としては、反応式〔5〕や〔6〕に おいて R6基を脱離する反応条件や、一般式〔5〕で表される化合物を環化して一般式 〔6〕で表される化合物を合成する反応条件に、一般式〔3〕、 [4],〔5〕および〔6〕で表さ れる化合物の R5基が安定なことが好ましい。さらに、一般式〔6〕で表される化合物から 一般式〔2〕で表される化合物を合成する工程を短縮する目的で、一般式〔6〕で表され る化合物における 、 R4、 B，あるいは B4の保護基を脱保護する反応条件と同じ条件 で脱離することができるような保護基を一般式〔6〕で表される化合物の R5基として用い ることが特に好ましい。このような保護基としては、ァリル基もしくは 2—シァノエチル基 が好ましい。
一般式〔6〕で表される化合物の 、 R4、 B，あるいは B4の保護基としては、前記の一 般式〔5〕で表される化合物における 、 R4、 あるいは B4と同様なものが好ましい。 例えば、一般式〔6〕中の R5がァリル基である場合には、前記の 0価のパラジウム、 2 価のパラジウム錯体または 2価のパラジウム塩を用い、これらを用いる前記の反応条 件で 、 R4、 B，あるいは B4の脱保護と R5基の脱離を同時に行うことができる。
このような一般式〔6〕で表される化合物の R，、 R4、 B，および B4の保護基としては、 前記のァリル基類があげられる。
一般式〔6〕で表される化合物の あるいは R4における水酸基の保護基が、前記一 般式〔5〕で表される化合物の あるいは R4におけるシリル基類ゃシリル基で置換され たアルコキシアルキル類で、 B，あるいは B4の保護基が前記のァリル基類の場合には、 前記の 0価のパラジウム、 2価のパラジウム錯体または 2価のパラジウム塩を用い、こ れらを用いる前記の反応条件で あるいは B4の脱保護と R5基の脱離を同時に行った 後に、 あるいは R4の脱保護を、前記のフルオリドを用し、、これらを用いる前記の反応 条件で行うことができる。
また、一般式〔6〕中の R5が 2—シァノエチル基である場合には、前記のアンモニアま たはアミン類を用い、これらを用いる前記の反応条件で 、 R4、 Bあるいは B4の脱保 護と R5基の脱離を同時に行うことができる。
このような一般式〔6〕で表される化合物の あるいは R4の保護基としては、前記、 一般式〔5〕で表される化合物の あるいは R4におけるァシル基類があげられ、 B，およ ぴ84の保護基としては、前記一般式〔5〕で表される化合物の あるいは B4におけるァ シル基類あるいはアミジン類があげられる。
一般式〔6〕で表される化合物の R1 ¾ R4における水酸基の保護基が、前記シリル基 類ゃシリル基で置換されたアルコキシアルキル類で、 および B4の保護基が前記の ァシル基類あるいはアミジン類の場合には、前記のアンモニアまたはアミン類を用い、 これらを用いる前記の反応条件で あるいは B4の脱保護と R5基の脱離を同時に行つ た後に、 あるいは R4の脱保護を、前記のフルオリドを用い、これらを用いる前記の反 応条件で行うことができる。
一般式〔6〕で表される化合物から一般式〔2〕で表される化合物を合成する際に、一 般式〔6〕で表される化合物の B4、 R4の脱保護および R5基の脱離を行う反応 条件としては、一般式〔2〕で表される化合物が安定な条件を用いるのが好ましい。
本発明の一般式〔1〕で表される化合物としては、例えば、 N2—（ァリルォキシカルボ ニル）一 O6—ァリル一 2'—0—(t—プチルジメチルシリル）グアノシン 3'— O— (ァリ ル 2—シァノエチルホスフェート）、 2' - 0 - (t一プチルジメチルシリル）一 N2—（ジメ チルアミノメチレン）一グアノシン 3'— O— (ァリル 2—シァノエチルホスフェート）、 N6 —(ァリルォキシ力ルポ二ル）一 2 '— O—（t一プチルジメチルシリル）アデノシン 3' - O—（ァリル 2—シァノエチルホスフェート）、 2'一 O— (t—プチルジメチルシリル) - N6 一ベンゾィルアデノシン 3'—◦— (ァリル 2—シァノエチルホスフェート）、 N4—（ァリ ルォキシカルボニル）一 2 '—◦一（t一プチルジメチルシリル）シチジン 3 '— O— (ァリ ル 2—シァノエチルホスフェート）、 2'— Q—(t—プチルジメチルシリル）一 N4—ベンゾ ィルシチジン 3 '—O—（ァリル 2—シァノエチルホスフェート）、 N2— (ァリルォキシ力 ルポニル）一 O6—ァリルー 2'—デォキシグアノシン 3 '—◦— (ァリル 2—シァノエチ ルホスフェート）、 N2— (ジメチルアミノメチレン）一2'—デォキシグアノシン 3'— O— (ァリル 2—シァノエチルホスフェート）、 N6—（ァリルォキシカルボニル）一 2 '—デォ キシアデノシン 3 '—◦一（ァリル 2—シァノエチルホスフェート）、 N6—べンゾィルー 2'—デォキシアデノシン 3' - 0 - (ァリル 2—シァノエチルホスフェート）、 N6—（ァリ ルォキシカルボニル）一 2 '—デォキシ一 2—クロ口アデ/シン 3 '— O— (ァリル 2— シァノエチルホスフェート）、 N6—ペンゾィルー 2'—デォキシ一2—クロロアデノシン ' 3'一 O—（ァリル 2—シァノエチルホスフェート）、 N6— (ァリルォキシカルボニル）一 2'—デォキシ一 2—フルォロアデノシン 3 '— O—(ァリル 2—シァノエチルホスフエ 一ト）、 N6—ベンゾィル一2'—デォキシー 2—フルォロアデノシン 3 '—O—（ァリル 2 —シァノエチルホスフェート）、 N4- (ァリルォキシ力ルポニル）一 2'—デォキシシチジ ン 3'— O— (ァリル 2—シァノエチルホスフェート）、 N4—ベンゾィル一2'—デォキシ シチジン 3 '—◦— (ァリル 2—シァノエチルホスフェート）、 N4 - (ァリルォキシカルボ ニル）一 2'—デォキシー 5—フルォロシチジン 3'—O—（ァリル 2—シァノエチルホ スフエー卜）、 N4—ベンゾィル一2'—デォキシ一 5—フルォロシチジン 3'—◦—（ァリ ル 2—シァノエチルホスフェート）、 N4- (ァリルォキシ力ルポ二ル）一 2'—デォキシー 5—ァザシチジン 3 '— O— (ァリル 2—シァノエチルホスフェート）、 N4—ベンゾィル —2'—デォキシ一 5—ァザシチジン 3'— O— (ァリル 2—シァノエチルホスフェート）、 N4—（ァリルォキシカルボニル）一 2'—デォキシー 5—フルォロウリジン 3'— 0— (ァ リル 2—シァノエチルホスフェート）、 N4—ベンゾィルー 2'—デォキシ一 5—フルォロ ゥリジン 3'— O—（ァリル 2—シァノエチルホスフェート）、 N2— (ァリルォキシ力ルポ ニル）一 O6—ァリル一 2'—デォキシ一 2'—フルォログアノシン 3'— O—（ァリル 2 ーシァノエチルホスフェート）、 N2—（ジメチルアミノメチレン）一 2'—デォキシー 2'—フ ルォログアノシン 3，一 O—（ァリル 2—シァノエチルホスフェート）、 N6— (ァリルォキ シカルボニル）一2'—デォキシー 2'—フルォロアデノシン 3'— O— (ァリル 2—シァ ノエチルホスフェート）、 N6—べンゾィルー 2'デォキシ一2'—フルォロアデノシン 3' -0- (ァリル 2—シァノエチルホスフェート）、 N4- (ァリルォキシカルボニル）一2'— デォキシー 2'—フルォロシチジン 3'— O— (ァリル 2—シァノエチルホスフェート）、 N4—ベンゾィルー 2'—デォキシー 2'—フルォロシチジン 3'— O— (ァリル 2—シァ ノエチルホスフェート）などが挙げられる。
本発明の一般式〔5〕で表される化合物としては、例えば、ァリル [N2— (ァリルォキ シカルボニル)一 O6—ァリル— 2' -0- (t—プチルジメチルシリル）グァニルイル] (3' →5' ) [N2- (ァリルォキシカルボニル）一 O6—ァリル一2'—◦一（t—プチルジメチル シリル）グアノシン 3'— O—(ァリル 2—シァノエチルホスフエ一卜）]、ァリル [N6— (ァリルォキシカルボニル）一 2'— 0—(t—プチルジメチルシリル）アデ二ルイル] (3'→ 5' ) [N2- (ァリルォキシカルボニル）一 O6—ァリル一 2'— O—（t一ブチルジメチルシリ ル）グアノシン 3'— O— (ァリル 2—シァノエチルホスフエ一卜）]、ァリル [N2—（ァリ ルォキシカルポニル）一O6—ァリル一 2'— O—（tーブチルジメチルシリル）グァニルイ ル] (3'→5' ) [N4— (ァリルォキシ力ルポニル）一 2'— O— (t—プチルジメチルシリル） シチジン 3'— O— (ァリル 2—シァノエチルホスフェート）]、ァリル [N2— (ァリルォ キシカルボ二ル）一 O6—ァリル一 2'一 0—(t—プチルジメチルシリル）グァニルイル] (3' -→5' ) [2'— O— (t—プチルジメチルシリル）ゥリジン 3'— O— (ァリル 2—シァ ノエチルホスフェート）]、ァリル [N6—（ァリルォキシカルボニル）一 2'— O— (t—プチ ルジメチルシリル）アデ二ルイル] (3' -→5' ) [N2— (ァリルォキシカルボ二ル）一 O6—ァ リル一 2 '— O— (t—プチルジメチルシリル）グアノシン 3，一 O—（ァリル 2—シァノエ チルホスフェート）]、ァリル [N6— (ァリルォキシカルボニル)一 2' -0- (t一プチルジ メチルシリル)アデ二ルイル] (3'→5' ) [N6- (ァリルォキシカルボニル） -2'一 O— (t 一プチルジメチルシリル）アデノシン 3，— O— (ァリル 2—シァノエチルホスフェート） ]、 ァリル [N6—（ァリルォキシカルポニル）一2'— O—（t—プチルジメチルシリル）アデ二 ルイル] (3'→5' ) [N4- (ァリルォキシカルボニル）一 2' -0- (t一プチルジメチルシ リル）シチジン 3'— O—（ァリル 2—シァノエチルホスフェート）]、 2—シァノエチル
[2' -0- (t一プチルジメチルシリル）一 N2—（ジメチルアミノメチレン）一グァニルイル]
(3'→5' ) [2'— O—（t—プチルジメチルシリル）一 N2— (ジメチルアミノメチレン）ーグ ァノシン 3'— O—（ァリル 2—シァ/ェチルホスフエ一卜）]、 2—シァノエチル [2'—
◦一（t—プチルジメチルシリル）一N2—（ジメチルアミノメチレン）一グァニルイル] (3'→
5' ) [2'— O— (t—プチルジメチルシリル）一 N6—ベンゾィルアデノシン 3'— O— (ァ リル 2—シァノエチルホスフェート）]、 2—シァノエチル [2'— O—（t一ブチルジメチ ルシリル）一 N2—（ジメチルアミノメチレン）一グァニルイル] (3'→5' ) [2'一 O—（tーブ チルジメチルシリル）一 N4—べンゾィルシチジン 3'— 0- (ァリル 2—シァノエチルホ スフェート）]、 2—シァノエチル [2，一 O— (t—プチルジメチルシリル）一N4—ァセチル シチジン] (3'→5' ) [2'— O— (t—プチルジメチルシリル）一N2— ( メチルアミノメチレ ン）一グアノシン 3'— O—（ァリル 2—シァノエチルホスフエ一卜）]、 2—シァノエチル ίΖ'— Ο—（t—プチルジメチルシリル）一Ν6-ベンゾィルアデノシン] (3'→5' ) [2'— O 一（t—プチルジメチルシリル）一 N6—ペンゾィルアデノシン 3'— O— (ァリル 2—シ ァノエチルホスフエ一卜）]、 2—シァノエチル [2'—O— (t—プチルジメチルシリル）一
N4—ベンゾィルシチジン] (3' ->5' ) [2' -0- (t—プチルジメチルシリル）一 N4—ペン ゾィルシチジン 3'— O—(ァリル 2—シァノエチルホスフェート）]、ァリル [N2—（ァ リルォキシ力ルポニル）一 O6—ァリル一 2'—デォキシグァ二ルイル] (3'→5' ) [N2—
(ァリルォキシカルボ二ル）一 O6—ァリル一 2'—O—デォキシグアノシン 3'— O—（ァ リル 2—シァノエチルホスフェート）〗、ァリル [N6—(ァリルォキシカルボニル）一2'
—デォキシアデ二ルイル] (3'→5' ) [N2- (ァリルォキシカルボニル）一 O6—ァリルー
2'—デォキシグアノシン 3'— O— (ァリル 2—シァノエチルホスフェート）]、ァリル
[N2- (ァリルォキシカルボニル）一O6—ァリル一 2'—デォキシグァニルイル] (3'→
5' ) [N4- (ァリルォキシカルボニル）一 2'—デォキシシチジン 3'— O—(ァリル 2- シァノエチルホスフェート）]、ァリル [N2—（ァリルォキシカルボニル）一 O6—ァリル一
2'—デォキシグァ二ルイル] (3'→5' ) [2'—デォキシゥリジン 3' -0- (ァリル 2 ーシァノエチルホスフエ一卜）]、ァリノレ [N6— (ァリルォキシカルボニル） -2'—デォキ シァデニルイル] (3'→5' ) [N2—（ァリルォキシカルボニル）一 O6—ァリル— 2'—デォ キシグアノシン 3'— O—（ァリル 2—シァノエチルホスフェート）]、ァリル [N6—（ァ リルォキシカルボニル）一 2'—デォキ アデ二ルイル] (3'→5' ) [N6—（ァリルォキシ カルボニル）一 2'—デォキシアデノシン 3'— O—（ァリル 2—シァノエチルホスフエ一 卜）]、ァリル [N6—（ァリルォキシカルボニル）一 2'—デォキシ一 2—クロロアデニルイ ル] (3'→5' ) [N6—（ァリルォキシカルボニル） -2'—デォキシ一 2—クロロアデノシン
3'—O—（ァリル 2—シァノエチルホスフエ一卜）]、ァリル [N6—（ァリルォキシカルボ ニル）一 2'—デォキシ一 2—フルォロアデニルイル] (3'→5' ) [N6- (ァリルォキシ力 ルポ二ル）一 2'—デォキシー2—フルォロアデノシン 3'— O—（ァリル 2—シァノエ チルホスフェート）]、ァリル [N6— (ァリルォキシカルボニル）一 2'—デォキシアデ二 ルイル] (3，→5' ) [N4- (ァリルォキシカルボニル）一2'一デォキシシチジン 3' -0 一（ァリル 2—シァノエチルホスフェート）]、 2—シァノエチル [2'—デォキシー N2—
(ジメチルアミノメチレン）グァニルイル] (3'—>5' ) [2'—デォキシ一 N2— (ジメチルアミ ノメチレン）グアノシン 3'—0— (ァリル 2—シァノエチルホスフェート）]、 2—シァノエ チル [2'—デォキシ一 N2— (ジメチルアミノメチレン）一グァニルイル] (3'→5' ) [2' ーデォキシ一 N6—ベンゾィルアデ/シン 3'— O—(ァリル 2—シァノエチルホスフエ 一卜）: L 2—シァノエチル [2'—デォキシー N2—（ジメチルァミノ/'チレン）ーグァニル ィル] (3'→5' ) [2'—デォキシー N4—ペンゾィルシチジン 3'—◦一（ァリル 2—シ ァノエチルホスフエ一卜）]、 2—シァノエチル [2，—デォキシー N4—ァセチルシチジン]
(3'→5' ) [2'—デォキシー N2—（ジメチルアミノメチレン）一グアノシン 3' -0- (ァ リル 2—シァノエチルホスフェート）]、 2—シァノエチル [2'—デォキシー N6—べンゾ ィルアデノシン] (3'→5' ) [2'—デォキシー N6—ベンゾィルアデノシン 3'—O— (ァ リル 2—シァノエチルホスフェート）]、 2—シァノエチル [2'—デォキシー N4—べンゾ ィルシチジン] (3，→5' ) [2，ーデォキシ一 N4—べンゾィルシチジン 3， -0- (ァリル
2—シァノエチルホスフェート)、ァリル [N2— (ァリルォキシカルボニル)一 O6—ァリル 一 2'—デォキシ一 2'—フルォログァニルイル] (3'→5' ) [N2—（ァリルォキシカルボ ニル）一O6—ァリルー 2'— O—デォキシー 2'—フルォログアノシン 3'— O— (ァリル 2—シァノエチルホスフェート）]、ァリル [N6— (ァリルォキシカルボニル）一 2'—デォ キシー 2'—フルォロアデニルイル] (3'→5' ) [N2— (ァリルォキシ力ルポニル）一 O6— ァリル一2'—デォキシ一 2'—フルォログアノシン 3，—◦— (ァリル 2—シァノエチル ホスフェート）]、ァリル [N2— (ァリルォキシカルボニル）一 O6—ァリル一 2'—デォキ シー 2'—フルォログァニルイル] (3'→5' ) [N4—（ァリルォキシ力ルポニル）一 2'—デ ォキシ一2'—フルォロシチジン 3'— O—(ァリル 2—シァノエチルホスフェート）]、ァ リル [N2— (ァリルォキシカルボニル）—O6—ァリル一 2' -デォキシー 2'—フルォロ グァニルイル] (3'→5' ) [2'—デォキシ一2'—フルォロウリジン 3'— O— (ァリル
2—シァノエチルホスフエ一卜）]、ァリル [N6—(ァリルォキシカルボニル）一 2'—デォ キシ一 2'—フルォロアデニルイル] (3'→5' ) [N2- (ァリルォキシカルボニル） -06- ァリルー 2'—デォキシ一 2'—フルォログ Tノシン 3'— O—（ァリル 2—シァノエチル ホスフエ一卜）]、ァリル [N6— (ァリルォキシ力ルポ二ル）一 2'—デォキシー 2'—フル ォロアデニルイル] (3'→5' ) [N6- (ァリルォキシカルボニル）一 2'—デォキシー 2' - フルォロアデノシン 3'—0—(ァリル 2—シァノエチルホスフェート）]、ァリル [N6—
(ァリルォキシカルボニル）一 2'—デォキシ一 2'—フルォロアデニルイル] (3'→5' )
[N4—（ァリルォキシカルボ二ル）一 2'—デォキシ一2'—フルォロシチジン 3' -0-
(ァリル 2—シァノエチルホスフエ一卜）]、 2—シァノエチル [2'—デォキシー N2— (ジ メチルアミノメチレン）一 2'—フルォログァニルイル] (3' ->5' ) [2'—デォキシ一N2—
(ジメチルアミノメチレン）一 2'—フルォログアノシン 3'— O— (ァリル 2—シァノエチ ルホスフェート）]、 2—シァノエチル [2'—デォキシ一 N2—（ジメチルアミノメチレン）一
2'—フルォログァニルイル] (3'→5' ) [2'—デォキシ一N6—べンゾィルー 2'—フル ォロアデノシン 3'— O— (ァリル 2—シァノエチルホスフエ一卜）]、 2—シァノエチル
[2'—デォキシー N2— (ジメチルアミノメチレン）一 2'—フルォログァニルイル] (3'→
5' ) [2'—デォキシ一N4—べンゾィルー 2'—フルォロシチジン 3'— O—(ァリル 2 ーシァノエチルホスフェート）]、 2—シァノエチル [2'—デォキシー N4—ァセチルー 2'
—フルォロシチジン] (3'→5' ) [2'—デォキシー N2— (ジメチルアミノメチレン）一 2'一 フルォログアノシン 3，— O— (ァリル 2—シァノエチルホスフエ一卜）]、 2—シァノエチ ル [2'—デォキシー N6—ベンゾィル一2'—フルォロアデノシン] (3'→5' ) [2'—デ ォキシ一N6—ベンゾィルー 2'—フルォロアデノシン 3'—◦— (ァリル 2—シァノエチ ルホスフェート）]、 2—シァノエチル [2'—デォキシー N4—べンゾィルー 2'—フルォロ シチジン] (3'→5' ) [2'—デォキシ一N4—ベンゾィルー 2'—フルォロシチジン 3'— O—（ァリル 2—シァノエチルホスフエ一卜）、 2—シァノエチル [2'—デォキシー N4— ベンゾィルー 5—フルォロシチジン] (3'→5' ) [2'ーデォキシ一N4—べンゾィルー 5— フルォロシチジン 3，一◦一（ァリル 2—シァノエチルホスフェート）、 2—シァノエチル [2'—デォキシ一 N4—ベンゾィル一5—ァザシチジン ] (3'→5' ) [2'—デォキシ一 N4 一ベンゾィル一5—ァザシチジン 3'— O—（ァリル 2—シァノエチルホスフェート）、 2 ーシァノエチル [2'—デォキシー5—フルォロウリジン ] (3'→5' ) [2'—デォキシ一 5 一フルォロウリジン 3'—◦— (ァリル 2—シァノエチルホスフェート）、 2—シァノエチ ル [2'—デォキシ一 5—トリフルォロメチルゥリジン ] (3'→5' ) [2'—デォキシー 5— トリフルォロメチルゥリジン 3'— O— (ァリル 2一シァノエチルホスフェート）などが挙 げられる。
本発明の一般式〔6〕で表される化合物としては、例えば、環状ビス（3'→5' )ビス [N
2—（ァリル才キシカルボ二ル）一 O6—ァリルー 2'—O—（tーブチルジメチルシリル）グ ァニル酸] ジァリル エステル、環状ビス（3'—5' )ビス [N6—（ァリルォキシ力ルポ二 ル）一 2'—O—（tーブチルジメチルシリル）アデニル酸] ジァリル エステル、環状ビス
(3'→5' )ビス [N4— (ァリルォキシカルボニル）一 2'— O—（t—プチルジメチルシリル） シチジル酸] ジァリル エステル、環状ビス（3'→5' )ビス [2'— 0—(t—ブチルジメチ ルシリル）一 N2— (ジメチルアミノメチレン）グァニル酸] ビス（2—シァノエチル) エス テル、環状ビス（3'→5' )ビス [2'一 O—（t一プチルジメチルシリル）一 N4—ァセチルシ チジル酸] ビス（2—シァノエチル） エステル、環状ビス（3'→5' )ビス [2'— O—（t一 プチルジメチルシリル）一 N4—ベンゾィルシチジル酸] ビス（2—シァノエチル) エステ ル、環状ビス（3'—5' )ビス [2' -0- (t一プチルジメチルシリル）一 N6—べンゾィルァ デニル酸] ビス（2—シァノエチル） エステル、環状ビス（3'→5' ) [N6- (ァリルォキ シカルボニル）一 2' - 0- (t一プチルジメチルシリル)アデニル] [N2- (ァリルォキシ力 ルポニル）一 O6—ァリル— 2'—O—（t一プチルジメチルシリル）グァニル酸] ジァリル エステル、環状ビス（3'→5' )ビス [N6— (ァリルォキシカルボニル）一2'— O—（tーブ チルジメチルシリル)アデニル酸] ジァリル エステル、環状ビス（3'→5' ) [N6- (ァリ ルォキシカルボニル）一2'—O— (t—プチルジメチルシリル）アデ二リル] [N4- (ァリル ォキシカルボニル）一 2'— 0—(t—プチルジメチルシリル）シチジル酸] ジァリル エス テル、環状ビス（3'→5' ) [2， -0 - (t一プチルジメチルシリル）一 N4—ァセチルシチジ リル] [2'— (t—プチルジメチルシリル）一N2— (ジメチルアミノメチレン）グァニル 酸] ビス（2—シァノエチル） エステル、環状ビス（3'→5' ) [2'— O— (t—プチルジメ チルシリル） - N2- (ジメチルアミノメチレン）グァニリル] [2' - 0- (t一プチルジメチル シリル）一 N4—ァセチルシチジル酸] ビス（2—シァノエチル） エステル、環状ビス（3'
→5' ) [2'一 O—（t一プチルジメチルシリル）ゥリジリル] [2'— O—（t一プチルジメチル シリル）一N4—べンゾィルシチジル酸] ビス（2—シァノエチル） エステル、環状ビス
(3'→5' ) [2，一 O— (t—プチルジメチルシリル）一 N2— (ジメチルアミノメチレン）ゲァ 二リル] [2'一 O—（t一プチルジメチルシリル）一 N6—ベンゾィルアデニル酸] ビス（2
—シァノエチル） エステル、環状ビス（3'→5 ' )ビス [N2—（ァリルォキシ力ルポニル）
— O6—ァリルー 2'—デォキシグァニル酸] ジァリル エステル、環状ビス（3'→5' ) ビス [N6—（ァリルォキシカルボ二ル）一 2'—デォキシアデニル酸] ジァリル エステ ル、環状ビス（3'→5' )ビス [N4—（ァリルォキシカルボニル）一 2'—デォキシシチジル 酸] ジァリル エステル、環状ビス（3'→5' )ビス [2'—デォキシー N2—（ジメチルアミ ノメチレン）グァニル酸] ビス（2—シァ /エヂル） エステル、環状ビス（3'— >5 ' )ビス
[2'—デォキシー N4—ァセチルシチジル酸] ビス（2—シァノエチル） エステル、環状 ビス（3'→5' )ビス [2' -デォキシ一 N4—べンゾィルシチジル酸] ビス（2—シァノエチ ル） エステル、環状ビス（3'→5' )ビス [2'—デォキシー N6—ベンゾィルアデニル酸] ビス（2—シァノエチル） エステル、環状ビス（3'→5'：)ビス [2'—デォキシ一 N6—ベン ゾィルー 2—クロロアデニル酸] ビス（2—シァノエチル） エステル、環状ビス（3'→
5' )ビス [2'—デォキシー N6—べンゾィルー 2—フルォロアデニル酸] ビス（2—シァ ノエチル） エステル、環状ビス（3'→5' ) [N6—（ァリルォキシカルボニル）一 2'—デォ キシアデニル] [N2—（ァリルォキシカルボニル）一O6-ァリルー 2'—デォキシグァニ ル酸] ジァリル エステル、環状ビス（3'→5' )ビス [N6- (ァリルォキシカルボニル） 一 2'—デォキシアデニル酸] ジァリル エステル、環状ビス（3'—5' ) [N6— (ァリル ォキシカルボニル）一2'—デォキシアデ二リル] [N4—（ァリルォキシカルボニル）一2'
—デォキシシチジル酸] ジァリル エステル、環状ビス（3'→5' ) [2'ーデォキシー N4 ーァセチルシチジリル] [2'—デォキシ一N2— (ジメチルアミノメチレン）グァニル酸] ビ ス（2—シァノエチル） エステル、環状ビス（3'→5' ) [2'—デォキシー N2—（ジメチル アミノメチレン）グァニリル] [2'ーデォキシ一 N4—ァセチルシチジル酸] ビス（2—シァ ノエチル） エステル、環状ビス（3' -→5' ) 12'ーデォキシゥリジリル] [2'—デォキシ一
Ν4—べンゾィルシチジル酸] ビス（2—シァノエチル） エステル、環状ビス（3'→5' )
[2'—デォキシ一Ν2—(ジメチルアミノメチレン）グァニリル] [2'—デォキシ一 Ν6—ベン ゾィルアデニル酸] ビス（2—シァノエチル） エステル、環状ビス（3'→5' )ビス [Ν2—
(ァリルォキシカルボニル）一 Ο6—ァリル— 2'—デォキシ一 2'—フル才ログァニル酸] ジァリル エステル、環状ビス（3'→5' )ビス [Ν6—（ァリルォキシカルボ二ル）一 2'一 デォキシー 2'—フルォロアデニル酸] ジァリル エステル、環状ビス（3'→5' )ビス [Ν
4一（ァリルォキシカルボニル）一 2'—デォキシー 2'—フルォロシチジル酸] ジァリル エステル、環状ビス（3'→5' )ビス [2'—デォキシー Ν2— (ジメチルアミノメチレン）一 2'
—フルォログァニル酸] ビス（2—シァノエチル） エステル、環状ビス（3'→5' )ビス
[2'—デォキシ一 Ν4—ァセチルー 2'—フルォロシチジル酸] ビス（2—シァノエチル） エステル、環状ビス（3'→5' )ビス [2'—デォキシー Ν4—ベンゾィルー 2'—フルォロシ チジル酸] ビス（2—シァノエチル） エステル 環状ビス（3'→5' )ビス [2'—デォキシ
—Ν4—ァセチルー 5—フルォロシチジル酸] ビス（2—シァノエチル） エステル、環状 ビス（3'→5' )ビス [2'ーデォキシ一 Ν4—ベンゾィル一5—フルォロシチジル酸] ビス
(2—シァノエチル） エステル、環状ビス（3'→5' )ビス [2'—デォキシ一Ν4—ァセチ ルー 5—ァザシチジル酸] ビス（2—シァノエチル） エステル、環状ビス（3'→5' )ビス
[2'—デォキシ一 Ν4—べンゾィルー 5—ァザシチジル酸] ビス（2—シァノエチル） ェ ステル、環状ビス（3'→5' )ビス [2' -デォキシ一 5—フルォロウリジル酸] ビス（2— シァノエチル） エステル、環状ビス（3'→5' )ビス [2'ーデォキシー5—トリフルォロメ チルゥリジル酸] ビス（2—シァノエチル) エステル、環状ビス（3'→5' )ビス [2'—デ ォキシ一 Ν6—べンゾィルー 2'—フルォロアデニル酸] ビス（2—シァノエチル） エス テル、環状ビス（3'→5' ) [Ν6—（ァリルォキシカルボ二ル）— 2'—デォキシ - 2'—フ ルォロアデニル] [N2—（ァリルォキシカルボ二ル）— O6—ァリル— 2'—デォキシー 2' 一フルォログァニル酸] ジァリル エステル、環状ビス（3'→5' )ビス [N6—（ァリルォ キシカルボニル）一 2'—デォキシー 2'—フルォロアデニル酸] ジァリル エステル、 環状ビス（3'→5' ) [N6- (ァリルォキシカルボニル）一 2'—デォキシー 2'—フルォロ アデ二リル] [N4—（ァリルォキシカルボニル）一 2'—デォキシ一 2'—フルォロシチジル 酸] ジァリル エステル、環状ビス（3'→5' ) [2'—デォキシー N4—ァセチルー 2'—フ ルォロシチジリル] [2'—デォキシー N2—（ジメチルアミノメチレン）一2'—フルォログァ ニル酸] ビス（2—シァノエチル） エステル、環状ビス（3'→5' ) [2'—デ才キシ一 N2 一（ジメチルアミノメチレン）一 2'—フルォログァニリル] [2'—デォキシー N4—ァセチ ル一2 '—フルォロシチジル酸] ビス（2—シァノエチル） エステル、環状ビス（3'→ 5' ) [2'ーデォキシー 2'—フルォロウリジリル] [2'—デォキシ一N4—ベンゾィル一2' 一フルォロシチジル酸] ビス（2—シァノエチル) エステル、環状ビス（3' ~→5' ) [2'— デォキシ一N2—（ジメチルアミノメチレン）一2'—フルォログァニリル] [2'ーデォキシ —N6—ベンゾィル一2'—フルォロアデニル酸] ビス（2—シァノエチル） エステルな どが挙げられる。
前記の一般式〔2〕で表される化合物、一般式〔5〕で表される化合物および一般式 〔6〕で表される化合物は、それぞれの化合物の合成工程で得られる反応混合物から、 公知の方法、例えば、カラムクロマトグラフィー手法ゃ晶析手法等により分離し、回収 することができる。
以下に実施例をあげて本発明を具体的に説明する力 本発明はこれらによって限定 されるものではない。
実施例 1
N2- (ァリルォキシカルボニル）一O6—ァリル—2'— O—（t—プチルジメチルシリル） グアノシン 3'— O—（ァリル 2—シァノエチルホスフェート）（化合物〔8〕）の合成）
Figure imgf000036_0001
〔8〕
N2—（ァリルォキシカルボ二ル）一 O6—ァリル一 2' -0- (t—プチルジメチルシリル） —5'— O— (4， 4'ージメトキシトリチル）グアノシン 3'— O—（ァリル N， N—ジイソ プロピルホスフォロアミダイ卜）（Org. Lett. 2001 , 3, p81 5に記載の方法で合成し た。） 2, 0g(2. Ommol)、モルキユラーシーブス 3A 200mgの乾燥ァセトニ卜リル溶 液に 2—シァノエタノール 0. 1 6mL(2. 4mmol)を添加して 30分間室温で攪拌後、過 塩素酸イミダゾリゥ厶 0. 67g(4. Ommol)を加えて 30分間攪拌した。さらに 2—ブタノ ン パーォキシドの 1 . 0Mジメチルフタレ一卜 トルエン溶液 4mLを加えて 5分間攪抨 した。モルキユラーシーブス 3Aをろ去後、酢酸ェチルを加えて飽和重曹水および飽和 食塩水で洗浄、乾燥して減圧濃縮した。残渣をジクロロメタン 20mLに溶解し、水冷攪 拌下にジクロ口酢酸 3. 3mL(40mmol)を滴下して 5分間攪拌した。反応溶液を飽和 重曹水 1 OOmLに滴下し、有機層を分液後、水層をジクロロメタンで抽出した。有機層 を合わせて硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルクロマトグラフ ィー（シリカゲル 40g、へキサン：酢酸ェチル（1 : 1 )〜へキサン：酢酸ェチル：メタノール (1 0 : 10 : 1 )で精製し、表題化合物 1 . 38gを無色アモルファスとして得た。収率 9 5%。
m.(CH2Cl2): cm一1 3420, 3048， 2305, 1757， 1607, 1524, 1462, 1412， 1294, 1190, 1038； 756; 1H NMR (CDC13) δ -0.27 (s, 3H), -0.03 (s, 3H), 0.74 (s, 9H), 2.94 (t, J= 6.0 Hz, 2H), 3.85-3.97 (m, 2H), 4.30-4.43 (m, 3H), 4.70 (m, 4H), 5.00 (m， 1H), 5.08-5.10 (m, 2H), 5.24-5.52 (m, 7H), 6.00-6.20 (m， 4H), 8.39 (s, 1H); 31P MR (CD3OD) δ -4.69, -4.54. 実施例 2
ァリル [N2—（ァリルォキシカルボ二ル）— O6—ァリル—2'—O—（t一ブチルジメチ ルシリル）グァニルイル] (3，→5' ) [N2— (ァリルォキシカルボニル)—O6—ァリル- 2'—0—(t—プチルジメチルシリル）グアノシン 3'— O—（ァリル 2—シァノエチルホ スフエー卜）] (化合物〔9〕）の合成
Figure imgf000037_0001
〔9〕
N2—（ァリルォキシカルボニル）一 O6—ァリル一 2' -0- (tーブチルジメチルシリル）
-5'— O—（4， 4'—ジメトキシトリチル）グアノシン 3，— O— (ァリル N， N—ジイソ プロピルホスフォロアミダイ卜） 1 . 6g(1 . 6mmol)、化合物〔8〕1 . 1 g(1 . 6mmol)、モ ルキユラーシ一ブス 3A 0. 2gの乾燥ァセトニド Jル溶液 1 5mLを室温で 30分間攪拌 後、過塩素酸イミダゾリウム 0. 54g(3. 2mmol)を加えて 30分間攪拌した。さらに 2 ーブタノン パーォキシドの 1 . 0Mジメチルフタレート トルエン溶液 3. 2mLを加えて 5 分間攪拌した。モルキユラーシ一ブス 3Aをろ去後、減圧濃縮した。残渣をジクロ口メタ ン 20mLに溶解し、氷冷攪拌下にジクロロ酢酸 3. 3mL(40mmol)を滴下して 5分間 攪拌した。反応溶液を飽和重曹水 1 OOmLに滴下し、有機層を分液後 水層をジクロ口 メタンで抽出した。有機層を合わせて硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、濃縮残渣 をシリカゲルクロマトグラフィー (シリカゲル 40g、へキサン：酢酸ェチル（1 :1)〜へキサ ン：酢酸ェチル：メタノール（20 :20:1)で精製し、表題化合物 1 · 95g (ジァステレオマ 一混合物）を無色アモルファスとして得た。収率 94%。
1HNMR(CDC13) δ -0.36-0.03 (m, 12H), -0.68-0.77 (m, 18H), 1.78 (br s, 1H)， 2.79- 2.81 (m, 2H), 3.79-3.96 (m, 4H), 4.30-4.36 (m, 4H), 4.48-4.71 (m, 14H), 4.99-5.50 (m, 14H), 5.75-6.19 (m, 8H), 7.26-8.67 (m, 4H); 31P NMR (CD3OD) δ一 1.32, -1.24,—1.11, 一 1.05, -0.88, -0.81; HRMS (MALDI+) calcd for C55H83N11019P2Si2 + (M+i ) 1318.4797, found 1318.5267.
実施例 3
環状ビス（3'— 5' )ビス [N2— (ァリルォキシカルボニル）一 O6—ァリル一 2' -0-(t 一プチルジメチルシリル）グァニル酸] ジァリル エステル（化合物〔10〕：ジァステレオ マー〔10a〕および〔10b〕の混合物）の合成
Figure imgf000038_0001
〔10〕
化合物〔9〕0.66g(0.5mmol)のメタノール 10mL溶液に 28%アンモニア水 1mL を滴下し、室温で 30分間攪拌した。減圧濃縮後、さらにトルエン 20mLを加えて減圧濃 縮（3回）した。残渣を THF1 OOmLに溶解し、モルキユラ一シーブス 4Aを加えて脱水後,
N—メチルイミダゾール 0.08mL(1. Ommol)および塩化トリイソプロピルベンゼンス ルホニル 0.3g(1. Ommol)を加'えて室温で 20時間攪拌した。反応液を減圧濃縮して 得た残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル 40g、へキサン:酢酸ェチル（2:1 )
〜へキサン：酢酸ェチル：メタノール（30 :30:1)で精製し、表題化合物 0· 47g (ジァス 亍レオマー〔10a〕 270mgおよび〔1Qb〕 200mg)を無色アモルファスとして得た。 収率 75%。
〔1 Oa]1HNMR (CDCl3) δ -0.31,一 0.21, -0.03, 0.04 (4s's, 12H), 0.76 (s, 18H),
4.03-4.09 (m， 2H), 4.26-4.34 (m, 2H), 4.54-4.69 (m, 8H), 4.74-5.86 (m, 4H), 4.97-5.15 (m, 6H), 5.21-5.52 (m, 12H , 5.64-5.68 (m， IH), 5.74-5.82 (m, 3H), 5.94-6.01 (m, 4H), 6.08-6.18 (m, 2H), 7.53 (s, IH), 7.78 (s, IH), 7.81 (s， IH), 8.03 (s, 1H); 31P MR (CDC13) δ -2.31, 1.91; HRMS (ESI+) calcd for C52H77N10O18P2Si2 + (M+H+) 1247.4426, found 1247.4496.
〔1 0b]1H NMR (CDCl3) δ -0.22, -0.08 (2s's, 12H), 0.74 (s, 18H), 4.07 (m, 2H), 4.48-4.51 (m, 2H), 4.65-4.68 (m, 8H), 4.96 (q, J= 11 Hz, 2H), 5.03-5.13 (m, 4H), 5.19 - 5.58 (m, 16H), 5.77 (d, J= 7.0 Hz, IH), 5.93-5.97 (m, 4H), 6.11-6.17 (m, 2H)， 7.78 (s, 2H), 7.85 (s, 2H); 31P NMR (CDC13) δ 1.50; HRMS (ESI+) calcd for
C52H77N10O18P2Si2 + (M+H+) 1247.4426, found 1247.4435.
実施例 4
環状ビス（3'→5' )ジグァニル酸 (化合物〔1 1〕）の合成
Figure imgf000039_0001
〔1 1〕 化合物〔1 0〕50mg(0. 04mmol)の THF溶液 1 . 6mLにトリフエニルフォスフィン 1 6 mg(0. 060mmol)、 n—ブチルァミン 0. 049mL(0. 48mmol)、ギ酸 0. 01 8mL (0. 48mmol)および Pd2[ (C6H5CH = CH)2CO]3 -CHCI3 1 2mg(0. 01 2mmol) を添加し、室温で 1 0分間攪拌した。酢酸ェチル 1 OmLを加えて得た析出物をろ取し、 減圧乾燥した。得られた白色粉末にトリェチルァミン /3HF錯体 0. 3mLを加え、室温 で 1 2時間攪拌した。反応液 30 // Lを 0. 1 M Na2HP04水溶液 40 Lと重水 500〃L に溶解し、 31 P NMRを測定したところ、反応収率 77%であった。測定後、反応液と合 わせ、 1 mM酢酸アンモニゥム水溶液 1 mLを加えて 30〜40°Cで攪拌した。析出物を 遠心分離し、 HPLCで精製して表題化合物 1 2mgを得た。収率 40<½。
[HPLC条件]
カラム： GOSMOSiL 5C18-AR- 3OO (25 0 x 200mm)
溶離液: A液、 I mM酢酸アンモニア水溶液； B液、 0. 2mM酢酸アンモニア 水ーァセ トニトリル（20 : 80)溶液
グラジヱント条件：
時間（分） 0 8 55 63
B% 0 0 60 1 00
検出波長： 254nm、流速： 1 0mLZ分
UV (50mM職 OAc) λ 254nm (ε 23,700); 1H NMR (D20) δ 4.04-4.06 (m, 2Η), 4.38-4.44 (m, 4H), 5.08 (s, 2H), 5.33 (s, 2H), 6.12 (s, 2H), 8.25 (s, 2H); 13C NMR (D20)
5 62.8, 70.9， 73.7, 80.8， 90.6， 116.4, 136.9 (weak), 150.4 (weak), 154.1, 157.8; 31P NMR (D20) δ -0.86; HRMS (Ε8Γ) calcd for C20H23N10OlsP2" (Μ-ΙΓ) 689.0876, found 689.0853.
参考例 1
2'—0—(t—プチルジメチルシリル）一 N2—（ジメチルアミノメチレン）一 3'， 5' -0- (ジー t-プチルシリル）グアノシン（化合物〔1 2〕）の合成
Figure imgf000040_0001
〔1 2〕 2'— 0—(t—プチルジメチルシリル）ー3' , 5'—O—（ジ一 t—プチルシリル）グアノシ ン（Tetrahedron. Lett. 2002, 43, p1 983に記載の方法で合成した。 ) 1 4. 3g(25 mmol)のメタノール溶液 1 50mLに、 N， N—ジメチルホルムアミド ジメチルエーテル 1 1 . 9g ( 1 3. 3mL, 1 OOmol)を加えて 50°Cで 5時間攪拌した。冷却後に析出物を濾 取し、冷メタノールで洗浄後、減圧乾燥して表題化合物 1 4. 5gを白色粉末として得た。 収率 98%。
1H MR (CDC13) δ 0.14 (s, 6H), 0.93 (s, 9H), 1.05 (s, 9H), 1.07 (s, 9H), 3.13 (s, 3H), 3.34 (s, 3H), 4.00-4.06 (m, 1H), 4.18-4.21 (m, 2H), 4.42 (d, J= 3.6 Hz, 1H), 4.49-4.52 (m, 1H), 5.93 (s, 1H), 7.60 (s, lh), 8.59 (s, 1H).
参考例 2 ,
2'一 O—（t—プチルジメチルシリル）一N2— (ジメチルアミノメチレン）一 5' -0- (4, 4'ージメトキシ卜リチル）グアノシン（化合物〔1 3〕）の合成
Figure imgf000041_0001
〔1 3〕
2'一 O—（t—ブチルジメチルシリル）一N2— (ジメチルアミノメチレン）一 3'， 5'—◦ 一（ジー t—プチルシリル)グアノシン（化合物〔1 2〕） 1 4. 8g (25mmol)のジクロ口メタ ン 1 00mL溶液に、氷冷下、冷 HF—ピリジン 2. OmL( 1 OOmmol)のピリジン 1 2mL 溶液を添加し、 2時間攪拌した。反応液を水および飽和重曹水で洗浄後、減圧濃縮し た。残渣をピリジン 50mLに溶解し、塩化 4， 4'ージメトキシ卜リチル 9. 3g(27. 5mm ol)を加えて 1 2時間攪拌した。メタノール 5mLを加えて濃縮し、残渣を酢酸ェチルに溶 解し、水、飽和重曹水、および飽和食塩水で洗浄した。有機層をシリカゲルクロマトダラ フィ一 (シリカゲル 400g)で精製し、表題化合物 1 6gを無色アモルファスとして得た。収 率 86%。
1H NMR (CDC13) δ - 0.13 (s, 3H), 0.01 (s， 3H), 0.83 (s, 9H), 2.80 (d, J= 3.7 Hz, 2H), 3.02 (s, 3H), 3.07 (s, 3H), 3.35 (dd, J= 4.0, 10.5 Hz, 2H), 3.77 (s, 6H)， 4.20 (q, J= 3.5 Hz, 1H), 4.30 (q, J= 3.5 Hz, 1H), 4.69 (t, J= 5.5 Hz, 1H), 5.97 (d, J= 6.0 Hz, 1H), 6.80-6.82 (m, 4H), 7.18-7.32 (m, 13H), 7.41-7.43 (m, 2H), 7.80 (s, 1H), 8.51 (s， 1H), 9.46 (s, 1H). 參考例 3
2'—◦—（t一プチルジメチルシリル）一N2—（ジメチルアミノメチレン）一 5'— O—（4， 4'ージメトキシ卜リチル）グアノシン 3，一 O—（2—シァノエチル N, N—ジイソプロピ ルホスフォロアミダイ卜）（化合物〔1 4〕）の合成
Figure imgf000042_0001
〔1 4〕
2'— O—（t—プチルジメチルシリル）一 N2- (ジメチルアミノメチレン）一5' -0- (4， 4'ージメトキシトリチル）グアノシン（化合物〔1 3〕）3. 8g(5mmol)、2， 4， 6—コリジン 4. 4g(4. 8mL, 36mmol)、および N—メチ^!レイミダゾ、一 Jレ 205mg(0. 2mL, 2. 5 mmol)の THF25mL溶液に、氷冷下、 2—シァノエチル N， N—ジイソプロピル クロ 口ホスフォロアミダイト 3. Og( 1 2. 5mmol)を添加し、室温で 1時間攪拌した。酢酸ェ チルを加え、水、飽和重曹水、および飽和食塩水で洗浄後、減圧濃縮した。残渣をジク ロロメタン 20mLに溶解し、へキサン 1 Lに滴下した。性既出物を濾取し、減圧乾燥して 表題化合物 3. 7g (純度：約 90%)を白色粉末として得た。収率 78%。
1HNMR (CDC13) δ -0.13, -0.10, 0.02, 0.03 (4s, 6H), 0.81, 0.82 (2s, 9H), 1.16-1.30 (m， 12H), 2.24-2.39 (m, 2H), 2.95, 3.07, 3.08, 3.09 (4s, 6H), 3.24-3.28 (m, 1H), 3.53-3.64 (m， 4H), 3.78, 3.79, 3.80, 3.81 (4s, 6H), 4.27-4.39 (m, 2H), 4.67-4.74 (m， 1H), 5.97, 6.04 (2d, J= 6.4 Hz, 1H), 6.71-6.85 (m, 4H), 7.21-7.48 (m, 13H), 7.85, 7.88 (2s, 1H), 8.50, 8.58 (s, 1H), 8.67, 8.69 (2s, 1H); 31H MR (CDC13) δ 148.88, 150.02.
実施例 5
2'—O—（t一プチルジメチルシリル）一 N2— (ジメチルアミノメチレン）一グアノシン 3'一 O— (ァリル 2—シァノエチルホスフェート）（化合物〔1 5〕）の合成
Figure imgf000043_0001
〔1 5〕
2'— O— (t—プチルジメチルシリル）一 N2— (ジメチルアミノメチレン） -5' -0- (4， 4'—ジメトキシ卜リチル）グアノシン 3'—O—（2—シァノエチル N, N—ジイソプロピ ルホスフォロアミダイ卜）（化合物〔1 4〕）3. 82g (4. Ommol)、モルキユラ一シ一ブス 3 A 200mgの乾燥ァセトニ卜リル（1 6mL)溶液にァリルアルコール 0. 33mL(279m g, 4. 8mmol)を添加して 30分間室温で攪拌後、過塩素酸イミダゾリゥ厶 1 . 35g(8. Ommol)を加えて 30分間攪袢した。さらに 2—ブタノン パーォキシドノジメチルフタレ —卜の 6. 7 o/oトルエン溶液 8mLを加えて 5分間攪拌した。モルキユラーシーブス 3Aをろ 去後、酢酸ェチルを加えて飽和重曹水および飽和食塩水で洗浄、乾燥して減圧濃縮し た。残渣をジクロロメタン 30mLに溶解し、氷冷攪拌下にジクロロ酢酸 6. 6mL( 1 0. 4 g， 80mmol)を滴下して 5分間攪拌した。反応溶液を飽和重曹水 1 0OmLに滴下し、 有機層を分液後、水層をジクロロメタンで抽出した。有機層を合わせて硫酸ナトリウム で乾燥後、減圧濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルクロマトグラフィー〔シリカゲル 1 OOg、メ タノール：ジクロロメタン（1 : 20)〜（1 : 1 0)〕で精製し、 題化合物 2. 1 5gを無色ァモ ルファスとして得た。収率 86%。
1H NMR (CDC13) δ -0.27, -0.23 (2s, 3H),一 0.09 (s, 3H), 0.78, 0.79 (2s, 9H), 2.80 (t, J= 6.0 Hz, 2H), 3.12 (s, 3H), 3.19 (s, 3H), 3.76 (q, J= 11.6 Hz, IH), 3.88-3.91 (m, IH), 4.27-4.35 (m, 2H), 4.46-4.48 (m, IH), 4.63-4.67 (m, 2H), 4.97 (m, IH), 5.08-5.17 (m, IH), 5.31-5.37 (m, IH), 5.41-5.45 (m, IH), 5.69-5.72 (m, IH), 5.95-6.03 (m, IH), 7.63 (s, IH), 8.40 (s, IH), 9.37 (br， IH); 31H MR (CDC13) δ -2.34; HRMS (ESI+) calcd for C25H4oN708PSi+ (M+H1") mlz 626.2518, found mlz 626.2628.
実施例 6
2—シァノエチル [2' - 0- (t—プチルジメチルシリル）一 N2— (ジメチルアミノメチレ ン）グァニルイル] (3'→5' ) [2'— O— (t—プチルジメチルシリル）一 N2— (ジメチルァ ミノメチレン）グアノシン 3'— O—（ァリル 2—シァノエチルホスフエ一卜）] (化合物〔1 6〕）の合成
Figure imgf000044_0001
〔1 6〕 2'—O—（t—プチルジメチルシリル）一N2— (ジメチルアミノメチレン）一5'— O—（4， 4'—ジメトキシトリチル）グアノシン 3'—O— (2—シァノエチル N, N—ジイソプロピ レホスフ才ロアミダイ卜） 1 . 7g( 1 . 6mmol)、ィ匕合物〔1 5〕0. 98g( 1 . 6mmol)、モレ キユラーシーブス 3A 0. 2gの乾燥ァセ卜二トリル溶液 1 0mLを室温で 30分間攪拌後、 過塩素酸イミダゾリゥム 0. 54g (3. 2mmol)を加えて 30分間攪拌した。さらに 2—ブ タノン パーォキシド /ジメチルフタレートの 6. 70/0トルエン溶液 3. 2mLを加えて 5分 間攪拌した。モルキユラーシーブス 3Aをろ去後、減圧濃縮した。残渣をジクロロメタン 2 OmLに溶解し、氷冷攪拌下にジクロロ酢酸 3. 3mL(5. 2g, 40mmol)を滴下して 5 分間攪拌した。反応溶液を飽和重曹水 l OOmLに滴下し、有機層を分液後、水層をジ クロロメタンで抽出した。有機層を合わせて硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、濃 縮残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル 50g、メタノール：ジクロロメタン（1 : 2 0)〜（1 : 1 0)で精製し、表題化合物 1 . 53g (ジァステレオマー混合物）を無色ァモルフ ァスとして得た。収率 82%。
1H NMR (CDC13) 5 -0.26-0.03 (m, 12H), -0.74-0.96 (m, 18H), 2.72-2.80 (m, 4H), 3.09， 3.11, 3.22 (4s, 12H), 3.70-3.81 (m, 2H), 4.17-4.64 (m, 11H), 4.88-5.25 (m, 4H),
5.31-5.44 (m, 2H), 5.73-6.00 (m, 3H), 7.51-7.82 (m, 4H), 8.37 (s, 1H), 8.61 (s, 1H), 9.24 (br, 2H); 3IP NMR (CDC13) δ -1.78, -1.72, -1.45, -1.32,一 1.04, -0.83; HRMS (ESI+) calcd for C47H74N14015P2Si2 + (M+H1") 1193.4545, found 1193.5971.
実施例 7
環状ビス（3'→5' )ビス [2'一 O— (t—プチルジメチルシリル）一 N2— (ジメチルァミノ メチレン）グァニル酸] ビス（2—シァノエチル） エステル（化合物〔1 7〕）の合成
Figure imgf000046_0001
〔1 7〕 ィ匕合物〔1 6〕848mg(0. 71 mmol)のァセ卜ン 1 OmU容液に沃ィ匕ナ卜1 Jゥム 1 . 06g (7. 1 mmol)を加えて 2時間加熱還流した。析出物を濾取し、冷アセトン 50m Lで洗浄 し、乾燥した。得られた粉末を THFに懸濁し、 N—メチルイミダゾール 0. 1 1 mL( 1 1 5 mg, 1 . 4mmol)および塩化トリイソプロピルベンゼンスルホニル 424mg( 1 . Ommo I)を加えて室温で 36時間攪拌した。反応液に水を添加して 1時間攪抨後、酢酸ェチル で抽出した。減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル 50g、メ タノール：ジクロロメタン（1 : 20；)〜（1： 1 0)で精製し、表題化合物 676mgを無色ァモ ルファスとして得た。収率 85%。
^NMR (CD3OD) δ -0.14 (s， 6H), 0.09 (s， 6H), 0.76 (s, 18H), 2.95 (t, J= 6.0 Hz, 4H), 3.14 (s, 6H), 4.13-4.21 (m, 2H), 4.35 - 4.68 (m, 10H), 5.36, 5.38 (2d, J= 5.0 Hz, 2H), 5.31- 5.44 (m, 2h), 5.91 - 5.96 (m, 4H), 7.08 (s, 2H), 7.94 (s, 2H), 8.69 (s, 2H); 31P NMR (CD3OD) δ 1.02; HRMS (ESI+) calcd for C44H69Ni4014P2Si2 + (M+H1) 1135.4126, found 1135.4455.
実施例 8
環状ビス (3'→5' )ジグァニル酸 (化合物〔1 1〕）の合成
Figure imgf000047_0001
〔"〕 化合物〔1 7〕1 1 6mg(0. 1 mmol)のメタノール溶液 8mLにアンモニア水 8mLを添 加し、 50°Cで 1 2時間攪拌した。反応液を濃縮し、減圧乾燥した。得られた残渣に卜リエ チルァミン /3HF錯体 1 . OmLを加え、室温で 1 2時間攪拌した。反応液に 1 M 酢酸 アンモニア緩衝液 1 OmLを加えて 30〜40°Cで攪袢した。析出物を除去し、得られた溶 液を HPLGで精製して表題化合物 67mgを得た。収率 89%。
[HPLC条件]
カラム： GOSMOSiL 5C18-AR— 300(250 X 200mm)
溶離液: A液、 I mM酢酸アンモニア水溶液： B液、0. 2mM酢酸アンモニア/水一ァセ 卜二トリル（20 : 80)溶液
グラジヱント条件：
時間（分） 0 8 55 63
B% 0 0 60 1 00
検出波長： 254nm、流速： 1 OmL/分 産業上の利用可能性
本発明の合成方法は、環状ビス（3'→5' )ジヌクレオチドを収率良く合成でき、工業 的製法として有用である。また、本発明の合成方法で得られる環状ビス（3'→5' )ジヌ クレオチドは、杭がん剤などの医薬品として有用である。

Claims

請求の範囲 般式〔1〕
Figure imgf000048_0001
(式中、 は水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、 2—メトキシェトキシ基あるいは水 酸基の保護基で置換されたヒドロキシル基を表し、 は保護されていても良い核酸塩 基を表す。）で表される化合物から、一般式〔2〕
Figure imgf000048_0002
〔2〕
(式中、 R2および R3は各々独立して水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、 2—メ卜キシ エトキシ基またはヒドロキシル基を表し、 B2および B3は各々独立して核酸塩基を表 す。 )で表される化合物またはその塩を合成する方法。
2. 一般式〔3〕
Figure imgf000049_0001
(式中、 R4は水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、 2—メトキシェ卜キシ基または水酸 基の保護基で置換されたヒドロキシル基を表し、 B4は保護されていても良い核酸塩基 を表し、 R5はァリル基または 2—シァノエチル基を表し、 R6は水酸基の保護基を表し、 R7および R8は各々独立して炭素数 1から 4のアルキル基を表すか、または R7および R8 が結合して窒素原子を含む環を形成しても良い。）で表される化合物あるいは一般式 〔4〕
Figure imgf000049_0002
〔4〕
(式中、 R4、 R5、 R6およぴ84は、前記一般式〔3〕中の R4、 R5、 R6およぴ84と同義であ る。；)で表される化合物と、一般式〔1〕
Figure imgf000049_0003
〔1〕
(式中、 および B，は、前記請求の範囲 1における一般式〔1〕中の および ^と同義 である。 )で表される化合物から、一般式〔2〕
Figure imgf000050_0001
〔2〕
(式中、 R2、 R3、 B2および B3は、前記請求の範囲1における一般式〔2〕中の R2、 R3、 B 2および B3と同義である。）で表される化合物またはその塩を合成する方法。
3. 合成中間体が、一般式〔5〕
_
Figure imgf000050_0002
(式中、 および R4は各々独立して水素原子、ハロゲン原子、メ卜キシ基、 2—メトキシ エトキシ基または水酸基の保護基で置換されたヒドロキシル基を表し、 および B4は 各々独立して保護されていても良い核酸塩基を表し、 R5はァリル基または 2—シァノエ チル基である。；)で表される化合物である、請求の範囲 1または 2のいずれかに記載の 合成方法。
4. 合成中間体が、一般式〔6〕
Figure imgf000051_0001
〔6〕
(式中、 R，、 R4、 R5、 B，およぴ84は、前記請求の範囲における一般式〔5〕中の 、 R4.、 R5、 B，およぴ84と同義である。）で表される化合物である、請求の範囲 1または 2のい ずれかに記載の合成方法。
5. 一般式〔1〕において、 が水素原子、フッ素原子、メトキシ基、 2—メトキシェトキ シ基または t—プチルジメチルシリルォキシ基であり、一般式〔2〕において、 R2および R 3が各々独立して水素原子、フッ素原子、メトキシ基、 2—メトキシェトキシ基またはヒド 口キシル基である、請求の範囲 1に記載の合成方法。
6. —般式〔1 〔3〕および〔4〕において、 および R4が各々独立して水素原子、フッ 素原子、メトキシ基、 2—メトキシェトキシ基または t—プチルジメチルシリルォキシ基で あり、一般式〔2〕において、 R2および R3が各々独立して水素原子、フッ素原子、メ卜キ シ基、 2—メトキシェトキシ基またはヒドロキシル基である、請求の範囲 2に記載の合成
¾法。
7. 一般式〔1〕
Figure imgf000051_0002
〔1〕
(式中、 は、前記請求の範囲 1における一般式〔1〕中の と同義であり、 B，は保護 されていても良い核酸塩基を表す。）で表される化合物。 般式〔5〕
Figure imgf000052_0001
〔5〕
(式中、 、 R4、 R5 Bおよぴ は、前記請求の範囲 3における一般式〔5〕中の R，、 R 4、 R5、 B，および B4と同義である。 )で表される化合物。
9. 一般式〔6〕
Figure imgf000052_0002
〔6〕
(式中、 、 R4、 R5、 B，および B4は、前記請求の範囲 4における一般式〔6〕中の 、 R 4> R5、 および B4と同義である。）で表される化合物。
PCT/JP2004/007000 2003-07-15 2004-05-17 環状ビスジヌクレオシドの合成方法 WO2005005450A1 (ja)

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