WO2004064056A1 - 光記録媒体の検査方法 - Google Patents

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WO2004064056A1
WO2004064056A1 PCT/JP2003/000150 JP0300150W WO2004064056A1 WO 2004064056 A1 WO2004064056 A1 WO 2004064056A1 JP 0300150 W JP0300150 W JP 0300150W WO 2004064056 A1 WO2004064056 A1 WO 2004064056A1
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WO
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optical recording
recording medium
layer
laser beam
inspection
Prior art date
Application number
PCT/JP2003/000150
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English (en)
French (fr)
Inventor
Tsuyoshi Komaki
Toshifumi Tanaka
Mamoru Usami
Original Assignee
Tdk Corporation
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Publication date
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    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • G11B7/268—Post-production operations, e.g. initialising phase-change recording layers, checking for defects
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/002—Recording, reproducing or erasing systems characterised by the shape or form of the carrier
    • G11B7/0037—Recording, reproducing or erasing systems characterised by the shape or form of the carrier with discs
    • G11B7/00375—Recording, reproducing or erasing systems characterised by the shape or form of the carrier with discs arrangements for detection of physical defects, e.g. of recording layer

Definitions

  • the present invention relates to an inspection method for an optical recording medium, and more particularly to an inspection method for a next-generation optical recording medium having a thin, light-transmitting layer provided on a surface opposite to a support substrate.
  • optical recording media such as CD (Compact Disc) and DVD (Digital Versatile Disc) have been widely used as recording media for recording large volumes of digital data.
  • the CD has a structure in which an information recording layer and a protective layer are laminated on a light-transmitting substrate with a thickness of about 1.2 mm, and a laser beam having a wavelength of about 780 nm is irradiated on the light-transmitting substrate side. Recording and / or reproduction of data can be performed by irradiating the information recording layer from above.
  • An objective lens with a numerical aperture (NA) of about 0.45 is used to focus the laser beam, and the beam spot diameter of the laser beam on the information recording layer can be reduced to about 1.6 ⁇ m.
  • NA numerical aperture
  • the CD achieves a recording capacity of about 700 MB and a data transfer rate of about 1 Mbps at 1: 1 speed (about 1.2 / sec).
  • DVDs have an adhesive layer consisting of a laminated structure in which an information recording layer and a protective layer are laminated on a light-transmitting substrate with a thickness of about 0.6 mm, and a dummy substrate with a thickness of about 0.6 mm.
  • the data recording and z or reproduction can be performed by irradiating the information recording layer from the light transmissive substrate side with a laser beam with a wavelength of about 600 nm .
  • An objective lens with a numerical aperture (NA) of about 0.6 is used to focus the laser beam, and the beam spot diameter of the laser beam on the information recording layer is reduced to about 0.93 ⁇ .
  • NA numerical aperture
  • DVD recording and playback In, the use of a laser beam with a shorter wavelength than that of a CD and the use of an objective lens with a large numerical aperture (NA) have realized a smaller beam spot diameter than that of a CD. As a result, DVDs achieve a recording capacity of about 4.7 GB / side and a data transfer rate of about 11 Mbps at 1 ⁇ speed (about 3.5 / sec).
  • the tilt margin T can be represented by the following equation, where the wavelength of a laser beam used for recording and / or reproduction is obtained, and the thickness of a light transmission layer serving as an optical path of the laser beam is d.
  • the tilt margin decreases as the NA of the objective lens increases.
  • the refractive index of the light transmitting layer where wavefront aberration (coma aberration) occurs is n and the inclination angle is 0, the wavefront aberration coefficient W can be expressed by the following equation. ⁇ (" 2 — 1) ⁇ " 2 ⁇ sin-cos-(NAj
  • the thickness of the light transmission layer should be 200 ⁇ m or less, especially 100 ⁇ m, in order to secure sufficient tilt margin and suppress the occurrence of coma. It is considered necessary to reduce the thickness to about 0 m.
  • next-generation optical recording medium it is difficult to form an information recording layer on a light-transmitting substrate, which is an optical path of a laser beam, like the current optical recording medium, such as 0 ⁇ 130.
  • a thin light-transmitting layer is formed on an information recording layer formed on a supporting substrate, for example, by a light-transmitting sheet or the like, and is used as an optical path of a laser beam. Is being considered.
  • the film is formed sequentially from the surface opposite to the light incident surface. The membrane will be performed.
  • the flatness is lower than the surface of the transmissive substrate (the light incident surface of CD or DVD).
  • the beam spot of the laser beam formed on the light incident surface is large to some extent (CD: approx. 700 xm, DVD: approx. 500 mm). Irregularities are diluted to improve recording and playback characteristics While the effect is small, in the next-generation optical recording medium, the laser spot formed on the light incident surface has a very small beam spot (for example, 130 m). And playback characteristics may be significantly affected.
  • an object of the present invention is to provide a method for inspecting an optical recording medium having a thin light transmitting layer provided on a surface opposite to a support substrate, wherein the method inspects the surface properties of a light incident surface.
  • the object of the present invention is to provide a support substrate, a light transmission layer, an information layer provided between the support substrate and the light transmission layer, and a laser provided on the information layer via the light transmission layer.
  • a method for inspecting an optical recording medium for recording and Z or reproducing data by irradiating a beam comprising calculating a high-range surface deflection and a Z or surface deflection acceleration of a light incident surface on which the laser beam is incident. And a step of judging pass / fail based on the high-frequency surface runout amount and / or the surface runout acceleration.
  • the optical recording medium which has the unevenness which has a significant influence on recording and projection or reproduction
  • the calculating step can be performed by focusing the inspection laser beam on the light incident surface while rotating the optical recording medium.
  • the return light of the inspection laser beam is measured, and the high-frequency surface deflection is calculated based on the obtained focus error signal, and the inspection laser beam is focused. It is preferable to measure the movement of the objective lens and calculate the surface runout acceleration based on the obtained position detection signal.
  • the step of determining is that at least the high-frequency surface runout amount is
  • the step of determining, a minimum it is preferable that the surface runout acceleration is determined to be defective if a 1 0 m Z s 2 greater les. Even when the threshold value of the surface runout acceleration is set in this way, the residual focus error component caused by the high-frequency surface runout in actual recording and Z or reproduction can be reduced to approximately 10% or less.
  • the light transmitting layer has a thickness of 30 to 200 ⁇ m.
  • the optical recording medium having such a light transmitting layer is a so-called next-generation optical recording medium, and the application of the present invention is extremely difficult because the unevenness of the light incident surface has a significant effect on recording and / or reproduction. It is suitable for.
  • the information layer may include a recording layer made of a phase change material.
  • a recording layer made of a phase change material.
  • Such an optical recording medium is a so-called rewritable optical recording medium.
  • the recording layer is initialized, the reflectivity is significantly increased, and it becomes difficult to adjust the focus of the inspection laser beam to the light incident surface. By doing this, this problem can be solved.
  • FIG. 1A is a cutaway perspective view showing an appearance of an optical recording medium 10 which is an example of an optical recording medium to be inspected by the present invention.
  • FIG. 1 (b) is an enlarged partial cross-sectional view of a portion A shown in FIG. 1 (a).
  • FIG. 2 is a flowchart showing a method for manufacturing the optical recording medium 10 shown in FIG. It is.
  • FIG. 3 is a schematic configuration diagram of an inspection apparatus 100 capable of executing the optical recording medium inspection method according to the preferred embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a schematic diagram showing the configuration of the optical head 114. As shown in FIG. 4
  • FIG. 5 is a flowchart showing a method for inspecting an optical recording medium according to a preferred embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a diagram schematically showing a state where the detection laser beam L1 focuses on the light incident surface 16a of the optical recording medium precursor 10 '.
  • FIG. 7 is a flowchart showing the determination method in step S16.
  • FIG. 8 is a schematic graph showing a region determined as a non-defective product.
  • FIG. 1 (a) is a cutaway perspective view showing the appearance of an optical recording medium 1.0 which is an example of an optical recording medium to be inspected by the present invention
  • FIG. 1 (b) is a cutaway perspective view.
  • FIG. 2 is an enlarged partial sectional view of a portion A shown in FIG.
  • the optical recording medium 10 shown in FIG. 1 is a so-called rewritable optical recording medium
  • the optical recording medium to be inspected by the present invention is not limited to a rewritable optical recording medium.
  • Other types of optical recording media such as an optical recording medium of this type and a read-only optical recording medium, can also be inspected.
  • the optical recording medium 10 shown in 1 (a) and (b) is a disk-shaped optical recording medium with an outer diameter of about 120 mm and a thickness of about 1.2 mm. As shown in the figure, a support substrate 11, a reflective layer 12, a second dielectric layer 13, a recording layer 14, a first dielectric layer 15, and a light transmitting layer 16 are provided. Has been done. Although not particularly limited, the optical recording medium 10 shown in FIG. 1 has a wavelength ⁇ of 380 ⁇ ⁇ ! Laser beam L having a wavelength of about 450 nm, preferably about 405 nm This is a rewritable optical recording medium that can record and reproduce data by irradiation.
  • an objective lens having a numerical aperture of 0.7 or more, preferably about 0.85, is used, whereby the wavelength of the laser beam L is obtained.
  • NA numerical aperture
  • the numerical aperture of the objective lens is NA, it is set to ⁇ / NA 640 nm.
  • the "second" dielectric layer 13 and the “first” dielectric layer 15 mean the second and first dielectric layers, respectively, as viewed from the light incident surface 16a.
  • the support substrate 11 is a disk-shaped substrate having a thickness of about 1.1 mm used to secure the thickness (about 1.2 mm) required for the optical recording medium 10.
  • a group 11a and a land 11b for guiding the laser beam L are spirally formed from the vicinity of the center to the outer edge.
  • Various materials can be used as the material of the support substrate 11, and for example, glass, ceramics, or resin can be used. Of these, polycarbonate resins are generally often used from the viewpoint of ease of molding.
  • the reflection layer 12 plays a role of reflecting the laser beam L incident from the light transmission layer 16 side and emitting the laser beam L again from the light transmission layer 16.
  • Various materials capable of reflecting the laser beam L can be used as the material of the reflection layer 12.
  • magnesium (Mg), aluminum (A 1), titanium (T i), chromium (C r), iron (F e), cobalt (Co), nickel (Ni), copper (Cu), zinc (Zn), germanium (Ge), silver (Ag), platinum (Pt) , Gold (Au), etc. are used.
  • the thickness of the reflective layer 13 is set to 5 to 300 nm.
  • the first dielectric layer 15 and the second dielectric layer 13 play a role of physically or chemically protecting the recording layer 14 provided therebetween, and the recording layer 14 ′ By being sandwiched between the first dielectric layer 13 and the second dielectric layer 15, deterioration of recorded information is effectively prevented for a long period after optical recording.
  • the materials forming the first dielectric layer 15 and the second dielectric layer 13 are used.
  • the material is not particularly limited as long as it is a dielectric material that is transparent in the wavelength region of the laser beam L to be irradiated.
  • a force S that can use an oxide, a sulfide, a nitride, or a combination thereof as a main component S, a support substrate 11 thermal deformation prevention etc., as well as, in view of the protective properties with respect to the recording layer 1 4, a 1 2 ⁇ 3, a 1 n, Z n O, Z n S, G e n, G e C r n, C E_ ⁇ 2, S i O, S i 0 2, S i 3 N 4, S i C, L a 2 0 3, T A_ ⁇ , T i ⁇ 2, S i A l ON ( S i ⁇ 2, A 1 2 O a, a mixture of S i 3 N 4 and a 1 mixture of N) and L a
  • the thickness of the first dielectric layer 15 and the second dielectric layer 13 is set to 3 to 200 nm.
  • the recording layer 14 is a layer on which a reversible recording mark is formed, and is made of a phase change material. Since the reflectivity of a phase change material in a crystalline state is different from the reflectivity in an amorphous state, data is recorded using this.
  • the recorded data is, for example, the length of the recording mark in the amorphous state (the length from the leading edge to the trailing edge of the recording mark) and the length of the blank area in the crystalline state (from the trailing edge of the recording mark). (Length to the leading edge of the next recording mark).
  • the laser beam L emitted from the light incident surface 16a is formed into a pulse waveform having an amplitude from the recording power P to the base power Pb.
  • the recording layer 14 is heated to a temperature equal to or higher than the melting point, and then rapidly cooled by setting the power of the laser beam L to the base power Pb.
  • the power of the laser beam L irradiated from the light incident surface 16a is set to the erasing power Pe to change the recording layer 14 to the crystalline state.
  • the region heated to a temperature higher than the crystallization temperature is gradually cooled by moving the laser beam L away, so that the region is crystallized. Change to a state.
  • the relationship between the recording power P w, the erasing power P e, and the base power P b is
  • phase change material constituting the recording layer 14 is not particularly limited, but in order to enable direct overwriting at high speed, a structural change from an amorphous state to a crystalline state is required. It is preferable to select a material that requires a short period of time (crystallization time), and examples of such a material include SbTe-based materials.
  • the layer thickness of the recording layer 14 is set to 2 to 40 nm.
  • the light transmission layer 16 is a layer that constitutes an incident surface of the laser beam L and serves as an optical path of the laser beam L, and has a thickness of 30 to 200 ⁇ m, preferably about 100 ⁇ m. Is set to The material of the light-transmitting layer 16 is not particularly limited as long as it has a high light transmittance in the wavelength region of the laser beam L to be used, and is not particularly limited. However, an acryl-based or epoxy-based ultraviolet curable resin is used. Is preferably used. Further, instead of the film formed by curing the ultraviolet curable resin, the light transmitting layer 16 can be formed by using a light transmitting sheet made of a light transmitting resin and various adhesives or adhesives.
  • a layer provided between the support substrate 11 and the light transmitting layer 16 may be collectively referred to as an “information layer”.
  • information is held by a pit row provided on the support substrate 11, so that a layer corresponding to the recording layer 14 is not provided.
  • the reflective layer is used as the information layer.
  • a support substrate 11 on which a group 11a and a land 11b are formed is manufactured by an injection molding method using a stamper (step S1).
  • the production of the support substrate 11 is not limited to the injection molding method, and it may be produced by another method such as the 2P method.
  • the reflection layer 12 is formed on the surface of the support substrate 11 on which the group 11a and the land 11b are provided (step S2).
  • the reflective layer 12 is preferably formed by a vapor deposition method using a chemical species containing the constituent elements of the reflective layer 12. Examples of the vapor phase growth method include a sputtering method and a vacuum evaporation method, and among them, the sputtering method is more preferable.
  • a second dielectric layer 13 is formed on the reflective layer 12 (Step S3). Also for the formation of the second dielectric layer 13, it is preferable to use a vapor deposition method using a chemical species containing a constituent element of the second dielectric layer 13, and it is more preferable to use a sputtering method.
  • the recording layer 14 is formed on the second dielectric layer 13 (Step S4). Also for the formation of the recording layer 14, it is preferable to use a vapor deposition method using a chemical species containing a constituent element of the recording layer 14, and it is more preferable to use a sputtering method.
  • the phase change material immediately after sputtering is in an amorphous state, and is changed to a crystalline state in a subsequent initialization step.
  • a first dielectric layer 15 is formed on the recording layer 14 (Step S5). Also for the formation of the first dielectric layer 15, it is preferable to use a vapor deposition method using a chemical species containing a constituent element of the first dielectric layer 15, and it is more preferable to use a sputtering method.
  • a light transmitting layer 16 is formed on the first dielectric layer 15 (step S6).
  • the light transmitting layer 16 is formed, for example, by coating a acryl-based or epoxy-based UV curable resin whose viscosity has been adjusted by a Sincoat method or the like, and irradiating it with ultraviolet rays to cure it. It can be formed by attaching a light transmitting sheet made of resin with an adhesive.
  • the surface (light incident surface 16a) of the light transmissive layer 16 formed by spin coating or laminating a light transmissive sheet is a light transmissive substrate that is the light incident surface of a CDDVD. The flatness tends to be lower than that of the surface.
  • optical recording medium precursor 10 ′ the optical recording medium after the completion of the film forming step.
  • optical recording medium precursor 10 ′ the optical recording medium precursor 10 ′ may be simply referred to as “optical recording medium” for convenience.
  • the optical recording medium precursor 10 ′ is placed on a rotating table of a laser irradiation device (not shown), and rotated (in the circumferential direction) along the group 11 a and the land 11 b while rotating.
  • the optical recording medium precursor is continuously irradiated with a rectangular initialization laser beam having a short length in the direction and a long length in a direction (radial direction) perpendicular to the group 11a and the land 11b.
  • the laser beam for initialization is irradiated on almost the entire surface of the recording layer 14. That is, the recording layer 14 is initialized (step S7).
  • the phase change material in the region irradiated with the initialization laser beam is heated to a temperature exceeding the melting point, and then cooled by moving the initialization laser beam away, so that the entire surface of the recording layer 14 is in a crystalline state. That is, it is in an unrecorded state.
  • the initialization step is completed, and the optical recording medium 10 is completed.
  • the crystal grain size becomes relatively large, and as a result, the reflectance of the recording layer 14 becomes extremely high.
  • the method of manufacturing the optical recording medium 10 is not particularly limited to the above-described method, and a known manufacturing technique used for manufacturing an optical recording medium can be used.
  • the inspection may be performed at any timing after the completion of the film forming process, but as described below, the recording layer
  • step S6 Since the inspection becomes difficult if the reflectance of 14 is high, it is necessary to execute the inspection after the film formation process is completed and before the initialization process (between step S6 and step S7). Is preferred. Therefore, the case where the above-described optical recording medium precursor 10 ′ is to be inspected will be described below as an example.
  • FIG. 3 is a schematic configuration diagram of an inspection apparatus 100 capable of executing the optical recording medium inspection method according to the preferred embodiment of the present invention.
  • an inspection apparatus 100 irradiates a spindle motor 101 for rotating an optical recording medium precursor 10 ′ and a laser beam L 1 for inspection to the optical recording medium precursor 10 ′.
  • the optical system 110 and the traverse motor 102 that move the optical system 110 in the radial direction of the optical recording medium precursor 10 ′ and the laser drive signal 103 a are supplied to the optical system 110.
  • the optical system 110 parallels the laser light source 111 that generates the inspection laser beam L1 based on the laser drive signal 103a and the inspection laser beam L1 that the laser light source 111 emits.
  • a collimator lens 111 that converts the light into a light beam
  • a beam splitter 113 that separates the inspection laser beam L1 from its return light L2
  • an optical recording medium precursor 110 ′ that converts the inspection laser beam L1.
  • a photodetector 115 that generates a focus error signal FE based on the return light L2 of the detection laser beam.
  • FIG. 4 is a schematic diagram showing the configuration of the optical head 114.
  • the optical head 114 moves the objective lens 114a up and down based on the objective lens 114a for converging the inspection laser beam L1 and the lens drive signal 104a.
  • Actuator 1 1 4 b to be moved and objective lens 1 1 4 a
  • a coil 114d provided to surround the permanent magnet 111c.
  • the permanent magnet 114c and the coil 114d surrounding it serve as a position detector for detecting the position of the objective lens 114a in the vertical direction.
  • the current flowing through 4d is supplied to the controller 105 as the position detection signal P.
  • the spindle motor 101 can rotate the optical recording medium precursor 10 ′ at a desired rotation speed under the control of the controller 105.
  • the traverse motor 102 is used for moving the optical system 110 in the radial direction of the optical recording medium precursor 10 ′ under the control of the controller 105.
  • the laser drive circuit 103 is used to supply a laser drive signal 103a to the laser light source 111 in the optical system 110 under the control of the controller 105.
  • the lens driving circuit 104 is used to supply a lens driving signal 104 a to the optical head 114 under the control of the controller 105.
  • the actuator 114 b in the optical head 114 that has received the lens drive signal 104 a moves the objective lens 114 a up and down based on this.
  • the beam spot of the inspection laser beam L1 can be correctly focused on a desired surface.
  • the controller 105 includes a focus control circuit 105a and a determination circuit 105b, and when the focus control circuit 105a is activated, control of the lens driving circuit 104 is performed. Thereby, the beam spot of the inspection laser beam L1 is in a state of being focused on a desired surface.
  • the determination circuit 105 b determines whether the optical recording medium precursor 10 ′ to be inspected is a non-defective or defective product, and is generated by the photodetector 115. The determination is made based on the focus error signal FE and the position detection signal P generated by the position detector.
  • FIG. 5 is a flowchart showing a method for inspecting an optical recording medium according to a preferred embodiment of the present invention.
  • the light to be inspected is After setting the recording medium precursor 100 ′ in the inspection apparatus 100, first, the optical recording medium precursor 10 ′ is rotated by the spindle motor 101 under the control of the controller 105 (step In step S11), the laser driving circuit 103 is driven to irradiate the inspection laser beam L1 onto the optical recording medium / precursor 10 '(step S12). At this time, the inspection position can be adjusted in the radial direction of the optical recording medium precursor 10 'by driving the traverse motor 102.
  • the rotation of the optical recording medium precursor 10 ′ by the spindle motor 101 is preferably controlled so that the linear velocity is constant with respect to the inspection laser beam L 1. It is preferable that the linear velocity substantially coincides with the linear velocity at the time of recording and at the time of reproduction or reproduction. If the linear velocity at the time of inspection is approximately equal to the linear velocity at the time of recording and / or reproduction, the effect of irregularities on the light incident surface 16a on actual data recording and Z or reproduction should be considered. An inspection can be performed.
  • Step S13 the lens driving circuit 104 is driven to focus the inspection laser beam L1 on the light incident surface 16a of the optical recording medium precursor 10 '.
  • the inspection laser beam L 1 is focus-locked to the light incident surface 16 a of the optical recording medium precursor 10 ′.
  • Step S14 the lens drive signal 104a is supplied in real time to the actuator 114b of the optical head 114 so that the objective lens 114a follows the unevenness of the light incident surface 16a. Will be.
  • FIG. 6 is a diagram schematically showing a state in which the inspection laser beam L1 is focus-locked to the light incident surface 16a of the optical recording medium precursor 10 '. Since the light incident surface 16a usually has a reflectivity of about 5%, the light incident surface 1a is used in the same manner as when the focus is locked on the recording layer 14 during data recording or reproduction. Focus lock can also be performed on 6a, but if the reflectance of the recording layer 14 is too high compared to the light incident surface 16a, the inspection laser beam L 1 Focus locked It is difficult. Therefore, it is desirable that the reflectance of the recording layer 14 be low during the inspection. It is for this reason that the inspection process shown in FIG. 5 is preferably performed before the initialization process (between steps S6 and S7).
  • the determination circuit 105 b included in the controller 105 receives the position detection signal P supplied from the optical head 114 and the focus error signal FE supplied from the photodetector 115.
  • the monitoring is performed, and the surface runout acceleration and the high-range surface runout are calculated based on the monitoring (step S15).
  • plane runout acceleration refers to the acceleration generated in the objective lens 114 a
  • the high-range plane runout J is the objective lens 111 among the unevenness existing on the surface of the light incident surface 16 a.
  • the degree of acceleration applied to the objective lens 114a by the unevenness that can be followed by the objective lens 114a among the irregularities existing on the surface of the light incident surface 16a It is possible to calculate the force of the occurrence, that is, the “plane runout acceleration”.
  • the inspection laser beam L1 The focus is shifted from the light incident surface 16a. In other words, the deviation amount appears as a focus error signal FE.
  • the focus error signal FE will indicate that the focus is correct.
  • the focus error signal FE referring to the focus error signal FE, among the irregularities existing on the surface of the light incident surface 16a, the existence and the size of the steep convex that the objective lens 114a cannot follow cannot be determined, that is, " It is possible to calculate the “high-frequency surface runout amount”.
  • the limit of the four convexes that the objective lens 114a can follow depends on the components used, but is approximately 500 Hz when using components for CD. That is, if the frequency component of the unevenness existing on the surface of the light incident surface 16a 'is about 500 Hz or less, the objective lens 114a can follow, while the frequency component is If it exceeds about 500 Hz, the objective lens 114a will not be able to follow this.
  • the surface property of the light incident surface 16a can be obtained. It is possible to calculate the plane runout acceleration and the area runout amount representing the area.
  • the determination circuit 105 b included in the controller 105 determines the optical recording to be detected based on the surface vibration acceleration and the high-frequency surface vibration amount calculated in step S 15. It is determined whether the medium precursor 10 'is good or defective (step S16).
  • FIG. 7 is a flowchart showing the determination method in step S16.
  • step S16 first, the high-frequency surface runout obtained from the focus error signal FE is referred to, and it is determined whether or not this exceeds the high-frequency surface runout threshold (step S2). 1).
  • the “threshold of the high-range surface runout amount” is the maximum allowable size of the unevenness existing on the light incident surface 16a, which is allowed by the steep unevenness that cannot be followed by the objective lens 114a.
  • the threshold value of the high-range surface deflection is set to 0.3 to 0.4 ⁇ , In particular, it is preferable to set the thickness to about 0.35 ⁇ m.
  • the residual focus error component caused by the high-frequency surface deflection in actual recording and / or reproduction can be reduced to about 10% or less. If the residual focus error component exceeds 10%, the effect on jitter becomes very remarkable. Therefore, it is necessary to eliminate such an optical recording medium precursor 10 'in this inspection step.
  • step S21 if the maximum value of the high-frequency surface runout exceeds the threshold value (S21: YES), it is determined to be defective. On the other hand, if the maximum value of the surface runout does not exceed the threshold value (S21: NO), then the maximum value of the surface runout acceleration of the light incident surface 16a is extracted, and this is calculated as the surface runout. It is determined whether the acceleration threshold has been exceeded (step S22).
  • the “threshold of the plane runout acceleration” is the maximum allowable value of the acceleration generated in the objective lens 114a based on the unevenness existing on the light incident surface 16a.
  • the objective is to eliminate the optical recording medium precursor 10 'that has a run-out that may cause the focus to deviate depending on the performance of the drive actually used by the user even if it is possible to follow.
  • the threshold of the run-out acceleration is 5 to 15 m / s 2 , It is preferable to set about 1 O mZ s 2 .
  • FIG. 8 is a schematic graph showing a region determined to be non-defective according to the criteria shown in FIG. As shown in FIG. 8, the judgment can be made based on the criterion shown in FIG. 7, and the area judged to be good is a rectangle having two sides in contact with both axes on the graph. It can be seen that the product is determined to be non-defective only when the value is below the predetermined threshold value.
  • the present embodiment in the inspection of the next-generation type optical recording medium 10 having the thin light transmitting layer 16 provided on the surface opposite to the support substrate 11,
  • the surface of the light incident surface 16a is inspected based on the position detection signal P and the focus error signal FE obtained when the focus of the inspection laser beam L1 is aligned with the surface 16a and the focus is locked.
  • the optical recording medium 10 having a defect that causes a problem in recording and Z reproduction on the light incident surface 16a.
  • the “light incident surface” refers to a surface of the surface of the optical recording medium on which a laser beam used for recording and / or reproduction is incident, and need not be the surface of the light transmitting layer 16. Therefore, when a hard coat layer or the like is provided on the surface of the light transmitting layer 16, the surface becomes a “light incident surface”.
  • the determination is made based on both the high-frequency surface vibration amount and the surface vibration acceleration in step S16 (see FIG. 7).
  • the judgment may be made based on one of the surface runout accelerations.
  • both the high-frequency surface runout and the surface runout acceleration are required. It is most preferable to make the determination based on the amount of high-frequency surface runout.
  • the position detection A position detector consisting of a permanent magnet 114c and a coil 114d is used to generate the signal P, but the acceleration generated in the objective 114a can be measured by other methods. It does not matter.
  • a capacitance type position detector can be provided to measure the acceleration occurring in the objective lens 114a. is there.
  • the surface property of the light incident surface is inspected by focusing the inspection laser beam L1 on the light incident surface of the optical recording medium.
  • the present invention is not limited to this.
  • an electromagnetic wave or a sound wave is irradiated on the light incident surface of a rotating optical recording medium, and the frequency shift of the reflected wave caused by the Doppler effect is measured to obtain the light incident surface. May be inspected for surface properties.
  • the supporting substrate 11 is set in a sputtering apparatus, and silver (Ag), palladium (Pd) and copper (Pd) are formed on the surface on which the group 11a and the land 11b are formed.
  • One dielectric layer 15 was sequentially formed by a sputtering method.
  • the center hole of the support substrate 11 is closed using a closing jig, the ultraviolet curable resin is discharged onto the jig, and the number of rotations is set to 200 r. Rotated for seconds.
  • Sample # 1 and Sample # 2 were prepared using the above method. No uneven coating was observed on the light incident surface 16a of sample # 1, but uneven coating of height 2.1 im and width 2.6 mm was observed on the light incident surface 16a of sample # 2. Was observed.
  • a reflective layer 12, a second dielectric layer 13, a recording layer 14, and a first dielectric layer 15 are formed in this order on the support substrate 11 in the same manner as described above, and A UV curable resin (SD318, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) is coated on the dielectric layer 15 by spin coating, and a 5 ⁇ m-thick adhesive layer is formed by irradiating UV rays on the resin.
  • a light-transmitting sheet made of polycarbonate having a thickness of 100 m was attached onto the adhesive layer. Thereafter, the adhesive layer was irradiated with ultraviolet light via a light-transmitting sheet to form a light-transmitting layer 16 having a thickness of 105 ⁇ m. This completed Sample # 3.
  • each of the above samples # 1 to # 3 was set on an inspection device (ODA-II type mechanical accuracy measuring device manufactured by Shin Denshi Kogyo Co., Ltd.), and a linear velocity of 6.
  • each of the above samples # 1 to # 3 was set in an optical disk evaluation device (DDU100, manufactured by Pulstec), and rotated at a linear speed of 6. S mZ sec S 1.0m / sec.
  • the recording layer 14 is irradiated along a track with a laser beam L having a wavelength of 405 nm through an objective lens having a numerical aperture of 0.85, and the obtained residual focus error component is determined. It was measured.
  • the measurement of the residual focus error component was performed as follows. '' First, the focus error signal obtained when the distance between the sample and the objective lens is changed without using the focus servo is detected, and the distance (displacement) between the sample and the objective lens and the output of the focus error signal are detected.
  • a focus sensitivity curve showing the relationship was obtained.
  • the difference between the positive peak value and the negative peak value in the focus sensitivity curve was determined, and this value was defined as “F”.
  • the focus error signal obtained when the focus servo is applied by the knife-edge method is detected, and the difference between the positive peak value and the negative peak value is calculated. Defined.
  • the residual focus error component was calculated by R / F.
  • Residual focus error component (%) 2.33 3.26 4.53 6.16 7.56 High-frequency surface runout (jUm) 0.32 0.36 0.40 0.45 0.47 sample
  • Residual focus error component (%) 4.88 10.70 14.30 16.63 19.24 High frequency surface runout (jtim) 0.31 0.35 0.39 0.43 0.46 sample
  • Residual focus error component (%) 3.49 8.60 12.37 15.47 18.84 As shown in the table, in all samples, the residual focus error component was 10% at the linear velocity at which the high-frequency surface runout was 0.35 ⁇ m or less. Below, the residual focus error component exceeded 10% at linear velocities where the high-frequency surface deflection exceeded 0.35 m. Also, any sample In also the surface runout acceleration is 1 Om / s 2 or less and comprising a linear velocity the residual focus error component has been filed with 1 0% or less, surface deflection residual focus in acceleration 1 0 m / s 2 than to become linear velocity In most cases, the error component was more than 10%.

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Abstract

本発明は、支持基板と、光透過層と、支持基板と光透過層との間に設けられた情報層とを備え、光透過層を介して情報層にレーザビームを照射することによってデータの記録及び/又は再生を行う光記録媒体の検査方法に関する。本発明においては、レーザビームが入射する光入射面の高域面振れ量及び/又は面振れ加速度を算出するステップと、高域面振れ量及び/又は面振れ加速度に基づいて良否を判定するステップとを備えている。本発明によれば、光入射面に記録及び/又は再生に重大な影響を与える凹凸が存在する光記録媒体を簡単且つ確実に排除することができる。したがって、本発明は、光入射面の凹凸が記録及び/又は再生に与える影響が顕著である次世代型の光記録媒体の検査に非常に好適である。

Description

明細書 光記録媒体の検査方法 技術分野
本発明は光記録媒体の検査方法に関し、 特に、 支持基板とは反対側 の面に設けられた薄レ、光透過層を有する次世代型の光記録媒体の検査 方法に関する。 従来の技術
近年、 大容量のデジタルデータを記録するための記録媒体として、 C D (Compact Disc) や D VD (Digital Versatile Disc) に代表さ れる光記録媒体が広く用いられている。
CDは、 厚さ約 1. 2 mmの光透過性基板上に情報記録層及ぴ保護 層が積層された構造を有しており、 波長約 7 8 0 n mのレーザビーム を光透過性基板側から情報記録層に照射することによってデータの記 録及び/又は再生を行うことができる。 レーザビームの集束には開口 数 （NA) が約 0. 4 5の対物レンズが用いられ、 これにより情報記 録層上におけるレーザビームのビームスポッ ト径は約 1. 6 μ mまで 絞られる。 これにより、 CDでは、 約 7 0 0 MBの記録容量と、 等倍 速 （約 1. 2 / s e c ) において約 1 Mb p s のデータ転送レート が実現されている。
これに対し DVDは、 厚さ約 0. 6 mmの光透過性基板上に情報記 録層及び保護層が積層された積層体と、 厚さ約 0. 6 mmのダミー基 板とが接着層を介して貼り合わされた構造を有しており、 波長約 6 5 0 nmのレーザビームを光透過性基板側から情報記録層に照射するこ とによってデータの記録及び z又は再生を行うことができる。 レーザ ビームの集束には開口数 （NA) が約 0. 6の対物レンズが用いられ、 これにより情報記録層上におけるレーザビームのビームスポット径は 約 0. 9 3 μ πιまで絞られる。 このように、 DVDの記録及びノ再生 においては、 C Dよりも波長の短いレーザビームが用いられるととも に、 開口数 （NA) が大きい対物レンズが用いられていることから、 CDに比べてより小さいビームスポッ ト径が実現されている。 これに より、 DVDでは、 約 4. 7 G B/面の記録容量と、 等倍速 （約 3. 5 / s e c ) において約 1 1 M b p sのデータ転送レートが実現さ れている。
一方、 近年における情報化社会の高度化に伴い、 DVDを越えるデ ータの記録容量を有し、 且つ、 DVDを越えるデータ転送レートを実 現可能な光記録媒体の実用化が求められており、 その開発が行われて いる。 このような次世代型の光記録媒体においては、 大容量 ' 高デー タ転送レー トを実現するため、 必然的に、 データの記録及び/又は再 生に用いるレーザビームのビームスポッ ト径をさらに小さく絞らなけ ればならず、 そのためには、 レーザビームを集束するための対物レン ズの開口数 （NA) をさらに大きくするとともに、 レーザビームの波 長をさらに短くする必要がある。
しかしながら、 レーザビームを集束するための対物レンズを高 N A 化すると、 光記録媒体の反りや傾きの許容度、 すなわちチルトマージ ンが非常に小さくなるという問題が生じる。 チルトマージン Tは、 記 録及ぴ 又は再生に用いるレーザビームの波長をえ、 レーザビームの 光路となる光透過層の厚さを dとすると、 次式によって表すことがで きる。
T = ~^~ (1)
d-NA3 、 J
式 （ 1 ) から明らかなように、 チルトマージンは対物レンズの N A が大きいほど小さくなつてしまう。 また、 波面収差 （コマ収差） が発 生する光透過層の屈折率を n、 傾き角を 0 とすると、 波面収差係数 W は、 次式によって表すことができる。 · ("2— 1)· "2 · sin - cos - (NAj
(2)
2λ(η2 - sin 2 式 （ 1 ) 及び式 （2) から明らかなように、 チルトマージンを大き く し、 且つ、 コマ収差の発生を抑えるためには、 記録 '再生に用いる レーザビームが入射する光透過層の厚さ dを小さくすることが非常に 有効である。 CD (NA =約 0. 4 5) に使用される光透過性基板の 厚みが約 1. 2 mmであるのに対し、 DVD. (NA =約 0. 6) に使 用される光透過性基板の厚みが約 0. 6 mmに設定されているのはこ のためである。
上述した理由から、 次世代型の光記録媒体においては、 十分なチル トマージンを確保しつつ、 コマ収差の発生を抑えるために、 光透過層 の厚さを 2 0 0 μ m以下、 特に 1 0 0 m程度まで薄くする必要があ るものと考えられる。
このため、 次世代型の光記録媒体においては、 〇0ゃ13 0等、 現 行の光記録媒体のようにレーザビームの光路となる光透過性基板上に 情報記録層を形成することは困難であり、 支持基板上に形成した情報 記録層等の上に、 スビンコ一ト法ゃ光透過性シートの貼り付け等によ つて薄い光透過層を形成し、 これをレーザビームの光路として用いる 方法が検討されている。 このよ うに、 次世代型の光記録媒体の作製に おいては、 光入射面側から順次成膜が行われる現行の光記録媒体とは 異なり、光入射面とは反対側の面から順次成膜が行われることになる。
しかしながら、 スビンコ一ト法ゃ光透過性シー トの貼り付け等によ つて形成した光透過層の表面 （次世代型光記録媒体の光入射面） は、 主に射出成形法により作製される光透過性基板の表面 （CDや D VD の光入射面） に比べて平坦性が低いという問題がある。 しかも、 CD や DVD おいては、 光入射面上に形成されるレーザビームのビーム スポッ トがある程度大きいことから （CD :約 7 0 0 x m, DVD ： 約 5 0 0mm)、光入射面上の凹凸は希釈され、記録特性や再生特性に 与える影響が小さくなる一方、 次世代型の光記録媒体においては、 光 入射面上に形成されるレーザビームのビームスポッ トが非常に小さい ことから （例えば 1 3 0 m)、僅かな凹凸が記録特性や再生特性に大 きな影響を与える可能性がある。
このため、 次世代型光記録媒体の製造工程においては、 光入射面の 表面性を検査し、 その表面性が低い場合には不良品として排除するこ とが求められる。 発明の開示
したがって、 本発明の目的は、 支持基板とは反対側の面に設けられ た薄い光透過層を有する光記録媒体の検査方法であって、 光入射面の 表面性を検査する方法を提供することを目的とする。
本発明のかかる目的は、 支持基板と、 光透過層と、 前記支持基板と 前記光透過層との間に設けられた情報層とを備え、 前記光透過層を介 して前記情報層にレーザビームを照射することによってデータの記録 及び Z又は再生を行う光記録媒体の検査方法であって、 前記レーザビ ームが入射する光入射面の高域面振れ量及び Z又は面振れ加速度を算 出するステップと、 前記高域面振れ量及び/又は前記面振れ加速度に 基づいて良否を判定するステップとを備えることを特徴とする光記録 媒体の検査方法によって達成される。
本発明によれば、 光入射面に記録及びノ又は再生に重大な影響を与 える凹凸が存在する光記録媒体を簡単且つ確実に排除することができ る。 したがって、 本発明は、 光入射面の凹凸が記録及び/又は再生に 与える影響が顕著である次世代型の光記録媒体の検査に非常に好適で ある。
また、前記算出するステップは、前記光記録媒体を回転させながら、 検査用レーザビームのフォーカスを前記光入射面に合わせることによ つて行うことができる。 この場合、 前記検査用レーザビームの戻り光 を測定し、 得られるフォーカスエラー信号に基づいて前記高域面振れ 量を算出することが好ましく、 前記検査用レーザビームを集束させる 対物レンズの動きを測定し、 得られる位置検出信号に基づいて前記面 振れ加速度を算出することが好ましい。
また、 前記判定するステップは、 少なく とも、 前記高域面振れ量が
0 . 3 5 // m超である場合に不良品であると判定することが好ましレ、。 高域面振れ量のしきい値をこのように設定すれば、 実際の記録及ぴ/ 又は再生において高域面振れに起因する残留フォーカスエラー成分を ほぼ 1 0 %以下とすることが可能となる。
さらに、 前記判定するステップは、 少なく とも、 前記面振れ加速度 が 1 0 m Z s 2超である場合に不良品であると判定することが好まし レ、。 面振れ加速度のしきい値をこのように設定した場合においても、 実際の記録及び Z又は再生において高域面振れに起因する残留フォー カスエラー成分をほぼ 1 0 %以下とすることができる。
また、 前記光透過層の層厚が 3 0〜 2 0 0 μ mであることが好まし レ、。 このような光透過層を有する光記録媒体はいわゆる次世代型の光 記録媒体であり、 光入射面の凹凸が記録及び/又は再生に与える影響 が顕著であることから、 本発明の適用が非常に好適である。
さらに、 前記情報層には、 相変化材料からなる記録層が含まれてい ても構わない。 このような光記録媒体は、 いわゆる書き換え型の光記 録媒体である。 この場合、 前記記録層を初期化する前に、 前記算出す るステップを実行することが好ましい。 記録層を初期化すると反射率 が大幅に高くなってしまい、 光入射面に検査用レーザビームのフォー カスを合わせることが困難となってしまうが、 記録層を初期化する前 に前記算出するステップを実行すれば、 この問題を解決することが可 能となる。 図面の簡単な説明
図 1 ( a ) は、 本発明による検査方法の対象となる光記録媒体の一 例である光記録媒体 1 0の外観を示す切り欠き斜視図である。
図 1 ( b ) は、 図 1 ( a ) に示す A部を拡大した部分断面図である。 図 2は、 図 1に示す光記録媒体 1 0の製造方法を示すフローチヤ一 トである。
図 3は、 本発明の好ましい実施態様による光記録媒体の検査方法を 実行可能な検査装置 1 0 0の概略構成図である。
図 4は、 光ヘッド 1 1 4の構成を示す概略図である。
図 5は、 本発明の好ましい実施態様による光記録媒体の検査方法を 示すフローチヤ一トである。
図 6は、検查用レーザビーム L 1が光記録媒体前駆体 1 0'の光入射 面 1 6 aにフォーカス口ックした状態を模式的に示す図である。
図 7は、 ステップ S 1 6による判定方法を示すフローチヤ一トであ る。
図 8は、 良品と判定される領域を示す模式的なグラフである。 発明の実施の形態
以下、 添付図面を参照しながら、 本発明の好ましい実施態様につい て詳細に説明する。
図 1 (a ) は、 本発明による検査方法の対象となる光記録媒体の一 例である光記録媒体 1.0の外観を示す切り欠き斜視図であり、 図 1 (b) は、 図 1 (a ) に示す A部を拡大した部分断面図である。 図 1 に示す光記録媒体 1 0はいわゆる書き換え型の光記録媒体であるが、 本発明による検査方法の対象となる光記録媒体が書き換え型の光記録 媒体に限定されるものではなく、 追記型の光記録媒体や再生専用型の 光記録媒体等、 他のタイプの光記録媒体についても検査対象とするこ とができる。
囪 1 (a )， (b) に示す光記録媒体 1 0は、 外径が約 1 2 0mm、 厚みが約 1. 2 mmである円盤状の光記録媒体であり、 図 1 (b) に 示すように、 支持基板 1 1 と、 反射層 1 2と、 第 2誘電体層 1 3と、 記録層 1 4と、 第 1誘電体層 1 5と、 光透過層 1 6とを備えて構成さ れている。 特に限定されるものではないが、 図 1に示す光記録媒体 1 0は、 波長 λが 3 8 0 η π！〜 4 5 0 n m、 好ましくは約 40 5 n mで あるレーザビーム Lを光透過層 1 6の表面である光入射面 1 6 aより 照射することによってデータの記録及び再生を行うことが可能な書き 換え型の光記録媒体である。 光記録媒体 1 0に対するデータの記録及 び再生においては、 開口数が 0. 7以上、 好ましくは 0. 8 5程度の 対物レンズが用いられ、 これによつて、 レーザビーム Lの波長をえ、 対物レンズの開口数を NAとした場合、 λ /N A 64 0 n mに設定 される。 尚、 「第 2」 誘電体層 1 3及び 「第 1」 誘電体層 1 5とは、 光 入射面 1 6 aから見てそれぞれ 2番目及び 1番目の誘電体層であるこ とを意味する。
支持基板 1 1は、 光記録媒体 1 0に求められる厚み （約 1. 2 mm) を確保するために用いられる厚さ約 1. 1 mmの円盤状の基板であり、 その一方の面には、 その中心部近傍から外縁部に向けて、 レーザビー ム Lをガイ ドするためのグループ 1 1 a及びランド 1 1 bが螺旋状に 形成されている。 支持基板 1 1の材料としては種々の材料を用いるこ とが可能であり、 例えば、 ガラス、 セラミックス、 あるいは樹脂を用 いることができる。 これらのうち、 成形の容易性の観点から、 一般に ポリカーボネート樹脂が用いられることが多い。
反射層 1 2は、 光透過層 1 6側から入射されるレーザビーム Lを反 射し、 再び光透過層 1 6から出射させる役割を果たす。 反射層 1 2の 材料としては、 レーザビーム Lを反射可能である種々の材料を用いる ことが可能であり、 例えば、 マグネシウム （Mg), アルミニウム （A 1 )， チタン （T i )， クロム （C r)， 鉄 （F e ), コバルト （C o)， ニッケル （N i )， 銅 （C u)， 亜鉛 （Z n)， ゲルマニウム （G e)， 銀 （A g), 白金 （P t ), 金 （Au) 等が用いられる。 反射層 1 3の 厚さとしては、 5〜 300 nmに設定される。
第 1誘電体層 1 5及び第 2誘電体層 1 3は、 これらの間に設けられ る記録層 1 4を物理的及ぴ 又は化学的に保護する役割を果たし、 記 録層 1 4'はこれら第 1誘電体層 1 3及び第 2誘電体層 1 5に挟持され ることによって、 光記録後、 長期間にわたって記録情報の劣化が効果 的に防止される。
第 1誘電体層 1 5及び第 2誘電体層 1 3を構成する材料は、 使用さ れるレーザビーム Lの波長領域において透明な誘電体であれば特に限 定されず、 例えば、 酸化物、 硫化物、 窒化物又はこれらの組み合わせ を主成分として用いることができる力 S、支持基板 1 1等の熱変形防止、 並びに、 記録層 1 4に対する保護特性の観点から、 A 1 2〇3、 A 1 N、 Z n O、 Z n S、 G e N、 G e C r N、 C e〇 2、 S i O、 S i 02、 S i 3N4、 S i C、 L a 203、 T a〇、 T i 〇 2、 S i A l ON ( S i 〇2, A 1 2 O a, S i 3N4及び A 1 Nの混合物） 及び L a S i O N (L a 203 , S i 02及び S i 3N4の混合物） 等、 アルミニウム （A 1 )、 シリ コン （S i )、 セリ ウム （C e )、 チタン （T i )、 亜鉛 （ Z n)、 タンタル （T a ) 等の酸化物、 窒化物、 硫化物、 炭化物あるいは それらの混合物が好ましく用いられる。 また、 第 1誘電体層 1 5及び 第 2誘電体層 1 3の層厚と しては、 3〜2 0 0 nmに設定される。 記録層 1 4は可逆的な記録マークが形成される層であり、 相変化材 料によって構成される。 相変化材料は、 結晶状態である場合の反射率 とアモルファス状態である場合の反射率とが異なるため、 これを利用 してデータの記録が行われる。 記録されるデータは、 例えばァモルフ ァス状態である記録マークの長さ （記録マークの前縁から後縁までの 長さ） 及び例えば結晶状態であるブランク領域の長さ （記録マークの 後縁から次の記録マークの前縁までの長さ） によって表現される。 記録層 1 4を結晶状態からアモルファス状態に変化させるためには、 光入射面 1 6 aから照射されるレーザビーム Lを記録パワー P から 基底パワー P bまでの振幅を有するパルス波形とすることによって記 録層 1 4を融点以上の温度に加熱し、 その後、 レーザビーム Lのパヮ 一を基底パワー P bに設定することによって急冷する。 これによつて 溶融した領域がアモルファス状態に変化し、これが記録マークとなる。 一方、 記録層 1 4をアモルファス状態から結晶状態に変化させるため には、 光入射面 1 6 aから照射されるレーザビーム Lのパワーを消去 パワー P eに設定することによって記録層 1 4を結晶化温度以上の温 度に加熱する。 結晶化温度以上の温度に加熱された領域は、 レーザビ ーム Lが遠ざかることによって徐冷されることから、 当該領域が結晶 状態に変化する。
ここで、 記録パワー P w、 消去パワー P e及び基底パワー P bの関 係は、
P w > P e≥ P b
に設定される。 したがって、 レーザビーム Lのパワーをこのように変 調すれば、 記録層 1 4の未記録領域に記録マークを形成するだけでな く、 既に記録マークが形成されている領域にこれと異なる記録マーク を直接上書き （ダイレク トオーバーライ ト） することが可能となる。 記録層 1 4を構成する相変化材料の種類と しては特に限定されるも のではないが、 高速でダイレク トオーバーライ トを可能とするために は、 アモルファス状態から結晶状態への構造変化に要する時間 （結晶 化時間） が短い材料を選択することが好ましく、 このような材料とし ては S b T e系材料を挙げることができる。 S b T e系材枓としては S b T eのみでもよいし、 結晶化時間をより短縮するとともに長期の 保存に対する信頼性を高めるために添加物を加えてもよい。 記録層 1 4の層厚と しては、 2〜 4 0 n mに設定される。
光透過層 1 6は、 レーザビーム Lの入射面を構成するとともにレー ザビーム Lの光路となる層であり、 その厚さとしては 3 0〜 2 0 0 μ m、 好ましくは 1 0 0 μ m程度に設定される。 光透過層 1 6の材料と しては、 使用されるレーザビーム Lの波長領域において光透過率が + 分に高い材料である限り特に限定されないが、 ァクリル系又はェポキ シ系の紫外線硬化性樹脂が好ましく用いられる。 また、 紫外線硬化性 樹脂を硬化させてなる膜のかわりに、 光透過性樹脂からなる光透過性 シートと各種接着剤や粘着剤を用いて光透過層 1 6を形成することも 可能である。
尚、 光記録媒体 1 0を構成する各層のうち、 支持基板 1 1 と光透過 層 1 6 との間に設けられる層を 「情報層」 と総称することがある。 再 生専用の光記録媒体においては、 支持基板 1 1に設けられるピッ ト列 によって情報が保持されるため記録層 1 4に相当する層が設けられな いが、 この場合、 反射層が情報層に相当する。 次に、 図 1に示す光記録媒体 1 0の製造方法について説明する。 書 き換え型である光記録媒体 1 0の製造工程は、 大きく分けて成膜工程 と初期化工程からなり、 成膜工程及び初期化工程の順に行われる。 図 2は、 図 1に示す光記録媒体 1 0の製造方法を示すフローチヤ一 トである。
まず、 スタンパを用いた射出成形法により、 グループ 1 1 a及びラ ンド 1 1 bが形成された支持基板 1 1を作製する （ステップ S 1 )。但 し、 支持基板 1 1の作製は射出成形法に限られず、 2 P法等、 他の方 法に ってこれを作製しても構わない。
次に、 支持基板 1 1の表面のうち、 グループ 1 1 a及びランド 1 1 bが設けられた面に反射層 1 2を形成する （ステップ S 2 )。反射層 1 2の形成は、 反射層 1 2の構成元素を含む化学種を用いた気相成長法 を用いることが好ましい。 気相成長法としてはスパッタリング法や真 空蒸着法が挙げられ、 中でもスパッタリング法を用いることがより好 ましい。
次に、反射層 1 2上に第 2誘電体層 1 3を形成する （ステップ S 3 )。 第 2誘電体層 1 3の形成についても、 第 2誘電体層 1 3の構成元素を 含む化学種を用いた気相成長法を用いることが好ましく、 中でもスパ ッタリング法を用いることがより好ましい。
次に、第 2誘電体層 1 3上に記録層 1 4を形成する （ステップ S 4 )。 記録層 1 4の形成についても、 記録層 1 4の構成元素を含む化学種を 用いた気相成長法を用いることが好ましく、 中でもスパッタリング法 を用いることがより好ましい。 スパッタリング直後における相変化材 料はアモルファス状態となっており、 その後行われる初期化工程にお いて結晶状態に変化させられる。 ·
次に、記録層 1 4上に第 1誘電体層 1 5を形成する （ステップ S 5 )。 第 1誘電体層 1 5の形成についても、 第 1誘電体層 1 5の構成元素を 含む化学種を用いた気相成長法を用いることが好ましく、 中でもスパ ッタリング法を用いることがより好ましい。
そして、 第 1誘電体層 1 5上に光透過層 1 6を形成する （ステップ S 6 )。 光透過層 1 6は、 例えば、粘度調整されたァクリル系又はェポ キシ系の紫外線硬化性樹脂をスビンコ一ト法等により皮膜させ、 紫外 線を照射して硬化させたり、 或いは、 光透過性樹脂からなる光透過性 シートを接着剤により貼り付けることにより形成することができる。 上述のとおり、 スピンコート法や光透過性シートの貼り付け等によつ て形成した光透過層 1 6の表面 （光入射面 1 6 a ) は、 C D D V D の光入射面である光透過性基板の表面に比べて平坦性が低くなりやす い。
以上により、 成膜工程が完了する。 本発明においては、 成膜工程が 完了した状態の光記録媒体を 「光記録媒体前駆体 1 0 '」 と呼ぶ。 但し、 特に区別する必要がない場合には、 便宜上、 光記録媒体前駆体 1 0 ' についても単に 「光記録媒体」 と呼ぶことがある。
次に、 光記録媒体前駆体 1 0 ' をレーザ照射装置 （図示せず） の回 転テーブルに載置し、 回転させながらグループ 1 1 a及びランド 1 1 bに沿った方向 （円周方向） における長さが短く、 且つ、 グループ 1 1 a及びランド 1 1 bに垂直な方向 （径方向） における長さが長い矩 形状の初期化用レーザビームを連続的に照射し、 光記録媒体前駆体 1 0 ' が 1回転するごとに照射位置を径方向にずらすことによって、 初 期化用レーザビームを記録層 1 4のほぼ全面に照射する。 すなわち、 記録層 1 4の初期化を行う （ステップ S 7 )。初期化用レーザビームが 照射された領域における相変化材料は融点を超える温度に加熱され、 その後初期化用レーザビームが遠ざかることによって除冷されること から、 記録層 1 4の全面が結晶状態、 すなわち、 未記録状態となる。 以上により、 初期化工程が完了し、 光記録媒体 1 0が完成する。 初 期化工程を行うと結晶粒径が比較的大きくなり、 これにより、 記録層 1 4の反射率が非常に高くなる。
なお、 光記録媒体 1 0の製造方法は上記の製造方法に特に限定され るものではなく、 公知の光記録媒体の製造に採用される製造技術を用 いることができる。
次に、 本発明の好ましい実施態様による光記録媒体の検査方法につ いて説明する。
検査を行うタイミングとしては、 成膜工程が完了した後であればど のタイミングで行っても構わないが、 以下に説明するように、 記録層
1 4の反射率が高いと検査を行いにく くなることから、 成膜工程が完 了した後、 初期化工程を行う前 （ステップ S 6とステップ S 7の間） に検査を実行することが好ましい。 したがって、 以下、 上述した光記 録媒体前駆体 1 0 ' を検査対象とする場合を例に説明する。
図 3は、 本発明の好ましい実施態様による光記録媒体の検査方法を 実行可能な検査装置 1 0 0の概略構成図である。
図 3に示すように、 検査装置 1 00は、 光記録媒体前駆体 1 0 ' を 回転させるスピンドルモータ 1 0 1 と、 光記録媒体前駆体 1 0 ' に検 查用レーザビーム L 1を照射する光学系 1 1 0と、 光学系 1 1 0を光 記録媒体前駆体 1 0 ' の径方向に移動させる トラバースモータ 1 0 2 と、 光学系 1 1 0にレーザ駆動信号 1 0 3 aを供給するレーザ駆動回 路 1 0 3と、 光学系 1 1 0にレンズ駆動信号 1 04 aを供給するレン ズ駆動回路 1 04と、 スピンドルモータ 1 0 1、 トラバースモータ 1 0 2、 レーザ駆動回路 1 0 3及びレンズ駆動回路 1 04を制御するコ ン トローラ 1 0 5とを備えている。
光学系 1 1 0は、 レーザ駆動信号 1 0 3 aに基づいて検查用レーザ ビーム L 1を発生するレーザ光源 1 1 1と、 レーザ光源 1 1 1が発す る検査用レーザビーム L 1を平行光線に変換するコリメータレンズ 1 1 2と、 検査用レーザビーム L 1とその戻り光 L 2とを分離するビー ムスプリッタ 1 1 3と、 検査用レーザビーム L 1を光記録媒体前駆体 1 0 ' に照射する光へッド 1 1 4と、 検查用レーザビームの戻り光 L 2に基づいてフォーカスエラー信号 F Eを生成するフォ トディテクタ 1 1 5とを備えている。
図 4は、 光ヘッド 1 1 4の構成を示す概略図である。 図 4に示すよ うに、 光ヘッド 1 1 4は、 検査用レーザビーム L 1を集光する対物レ ンズ 1 1 4 a と、 レンズ駆動信号 1 04 aに基づいて対物レンズ 1 1 4 aを上下動させるァクチユエータ 1 1 4 bと、 対物レンズ 1 1 4 a に固定された永久磁石 1 1 4 c と、 永久磁石 1 1 4 cを取り囲むよう に設けられたコイル 1 1 4 dとを備えている。 永久磁石 1 1 4 c及び これを取り囲むように設けられたコイル 1 1 4 dは、 対物レンズ 1 1 4 aの上下方向の位置を検出するための位置検出器として機能し、 コ ィル 1 1 4 dに流れる電流は位置検出信号 Pとしてコン トローラ 1 0 5に供給される。
スピンドルモータ 1 0 1は、コン トローラ 1 0 5による制御のもと、 光記録媒体前駆体 1 0 ' を所望の回転数で回転させることが可能であ る。 トラバースモータ 1 0 2は、 コントローラ 1 0 5による制御のも と、 光学系 1 1 0を光記録媒体前駆体 1 0 ' の径方向に移動させるた. めに用いられる。 レーザ駆動回路 1 0 3は、 コントローラ 1 0 5によ る制御のもと、 光学系 1 1 0内のレーザ光源 1 1 1にレーザ駆動信号 1 0 3 aを供給するために用いられる。 レンズ駆動回路 1 0 4は、 コ ン トローラ 1 0 5による制御のもと、 光へッド 1 1 4にレンズ駆動信 号 1 0 4 aを供給するために用いられる。 上述の通り、 レンズ駆動信 号 1 0 4 aを受けた光へッド 1 1 4内のァクチユエータ 1 1 4 bは、 これに基づいて対物レンズ 1 1 4 a上下動させる。 これにより、 検査 用レーザビーム L 1のビームスポットを所望の面に正しくフォーカス させることが可能となる。
コン トローラ 1 0 5には、 フォーカス制御回路 1 0 5 a及び判定回 路 1 0 5 bが含まれており、 フォーカス制御回路 1 0 5 aが活性状態 となると、 レンズ駆動回路 1 0 4に対する制御により、 検査用レーザ ビーム L 1のビームスポッ トが所望の面にフォーカス口 ックされた状 態となる。 また、 判定回路 1 0 5 bは、 検査対象である光記録媒体前 駆体 1 0 ' が良品であるか不良品であるかを判定する回路であり、 フ オ トディテクタ 1 1 5により生成されるフォーカスエラー信号 F E及 び位置検出器により生成される位置検出信号 Pに基づいて判定を行う。 図 5は、 本発明の好ましい実施態様による光記録媒体の検査方法を 示すフローチヤ一トである。
本実施態様による光記録媒体の検査においては、 検査対象である光 記録媒体前駆体 1 0 ' を検査装置 1 0 0にセットした後、 まず、 コン トローラ 1 0 5による制御のもと、 スピンドルモータ 1 0 1によって 光記録媒体前駆体 1 0'を回転させ （ステップ S 1 1)、 さらに、 レー ザ駆動回路 1 0 3を駆動することにより検査用レーザビーム L 1を光 記録媒 /本前駆体 1 0'に照射する （ステップ S 1 2)。 この時、 検査位 置についてはトラバースモータ 1 0 2を駆動することにより光記録媒 体前駆体 1 0'の径方向に調整可能である。
スピンドルモータ 1 0 1による光記録媒体前駆体 1 0 ' の回転は、 検査用レーザビーム L 1に対して線速度が一定となるように制御する ことが好ましく、 この場合の線速度としては、 実際の記録時及ぴノ又 は再生時における線速度にほぼ一致させることが好ましい。 検査時に おける線速度を記録時及び/又は再生時における線速度とほぼ一致さ せれば、 光入射面 1 6 aに存在する凹凸が実際のデータの記録及び Z 又は再生に与える影響を考慮して検査を行うことが可能となる。
次に、 コン トローラ 1 0 5による制御のもと、 レンズ駆動回路 1 0 4を駆動し、 検査用レーザビーム L 1のフォーカスを光記録媒体前駆 体 1 0'の光入射面 1 6 aに合わせる （ステップ S 1 3)。
そして、 コントローラ 1 0 5内のフォーカス制御回路 1 0 5 aを活 性化させることによ り、 検査用レーザビーム L 1を光記録媒体前駆体 1 0'の光入射面 1 6 aにフォーカスロックさせる （ステップ S 1 4)。 これにより、 光ヘッド 1 1 4內のァクチユエータ 1 1 4 bには、 対物 レンズ 1 1 4 aが光入射面 1 6 aの凹凸に追従するよう、 レンズ駆動 信号 1 04 aがリアルタイムに供給されることになる。
図 6は、検査用レーザビーム L 1が光記録媒体前駆体 1 0'の光入射 面 1 6 aにフォーカスロックした状態を模式的に示す図である。 光入 射面 1 6 aは、 通常 5 %程度の反射率を有していることから、 データ の記録時や再生時において記録層 1 4にフォーカスロックさせる場合 と同様にして、 光入射面 1 6 aにもフォーカスロックさせることが可 能であるが、 光入射面 1 6 aに比べて記録層 1 4の反射率が高すぎる と、 光入射面 1 6 aに検査用レ一ザビーム L 1をフォーカスロックさ せにく くなる。 このため、 検査時においては記録層 1 4の反射率が低 いことが望ましい。 図 5に示す検査工程を初期化工程より前 （ステツ プ S 6とステップ S 7の間） に実行することが好ましいのは、 かかる 理由による。
この状態において、 コントローラ 1 0 5内に含まれる判定回路 1 0 5 bは、 光へッド 1 1 4より供給される位置検出信号 P及びフォトデ ィテクタ 1 1 5より供給されるフォーカスエラー信号 F Eを監視し、 これに基づいて面振れ加速度及び高域面振れ量をそれぞれ計算する (ステップ S 1 5 )。 ここで、 「面振れ加速度」 とは対物レンズ 1 1 4 aに生じる加速度を指し、 「高域面振れ量 Jとは光入射面 1 6 a の表面 に存在する凹凸のうち、 対物レンズ 1 1 4 aが追従できない急峻な凹 凸の大きさを指す。 位置検出信号 Pに基づく面振れ加速度の計算及び フォーカスエラー信号 F Eに基づく高域面振れ量は次のようにして行 すなわち、 対物レンズ 1 1 4 aが光入射面 1 6 a の表面に存在する 凹凸に連動して上下動すると、 位置検出信号 Pはこれに連動した電流 値を示すことから、 位置検出信号 Pにより示される対物レンズ 1 1 4 aの位置を判定回路 1 0 5 b内で 2回微分すれば、 対物レンズ 1 1 4 aに生じている加速度を知ることが可能となる。 一方、 光入射面 1 6 aの表面に回凸が存在している場合であっても、 これに連動して対物 レンズ 1 1 4 aが上下動しない場合、 つまり、 凹凸が急峻であるため に対物レンズ 1 1 4 aが追従できなかった場合には、 位置検出信号 P に変化は現れない。
このように、 位置検出信号 Pを参照すれば、 光入射面 1 6 aの表面 に存在する凹凸のうち対物レンズ 1 1 4 aが追従可能な凹凸によって 対物レンズ 1 1 4 aにどの程度の加速度が生じているの力、すなわち、 「面振れ加速度」 を算出することが可能となる。
また、 光入射面 1 6 aの表面に凹凸が存在しているにも関わらず、 これが急峻であるために対物レンズ 1 1 4 aが追従できなかった場合 には、 検査用レーザビーム L 1 の焦点が光入射面 1 6 aからずれてし まい、そのズレ量がフォ一カスエラー信号 F Eとなって現れる。一方、 光入射面 1 6 aの表面に凹凸が存在している場合であっても、 対物レ ンズ 1 1 4 aがこれに連動して正しく上下動している場合には、 フォ 一カスエラー信号 F Eは正しくフォーカスされていることを示すこと になる。
したがって、 フォーカスエラー信号 F Eを参照すれば、 光入射面 1 6 aの表面に存在する凹凸のうち、 対物レンズ 1 1 4 aが追従できな い急峻な 凸の存在とその大きさ、すなわち、 「高域面振れ量」 を算出 することが可能となる。
尚、 対物レンズ 1 1 4 aが追従可能な四凸の限界は、 使用する部品 によって異なるが、 C D用の部品を用いた場合には約 5 0 0 H z程度 である。 つまり、 光入射面 1 6 a 'の表面に存在する凹凸のうち、 その 周波数成分が約 5 0 0 H z以下であれば対物レンズ 1 1 4 aが追従可 能である一方、 その周波数成分が約 5 0 0 H zを超える場合には、 対 物レンズ 1 1 4 aはこれに追従することができなくなつてしまう。
このように、 光へッド 1 1 4より供給される位置検出信号 P及びフ オ トディテクタ 1 1 5より供給されるフォーカスエラー信号 F Eを参 照すれば、 光入射面 1 6 aの表面性を表す面振れ加速度及ぴ髙域面振 れ量を算出することが可能となる。
次に、 コントローラ 1 0 5内に含まれる判定回路 1 0 5 bは、 ステ ップ S 1 5にて算出された面振れ加速度及び高域面振れ量に基づいて、 検查対象である光記録媒体前駆体 1 0 'が良品であるか不良品である かを判定する （ステップ S 1 6 )。
図 7は、 ステップ S 1 6による判定方法を示すフローチヤ一トであ る。
ステップ S 1 6においては、 まず、 フォーカスエラー信号 F Eより 得られた高域面振れ量を参照し、 これが高域面振れ量のしきい値を越 えていないか否かを判断する （ステップ S 2 1 )。 ここで、 「高域面振 れ量のしきい値」 とは、 光入射面 1 6 aに存在する凹凸のうち、 対物 レンズ 1 1 4 aが追従できない急峻な凹凸に許容されるサイズの最大 値であり、 実際の記録及び/又は再生において問題となる光記録媒体 前駆体 1 0'を排除するためには、高域面振れ量のしきい値を 0. 3〜 0. 4 μ πι、 特に、 0. 3 5 μ m程度に設定することが好ましい。 高 域面振れ量のしきい値をこのように設定すれば、 実際の記録及び/又 は再生において高域面振れに起因する残留フォーカスエラー成分をほ ぼ 1 0 %以下とすることができる。 残留フォーカスエラー成分が 1 0 %を超えると、 ジッタへの影響が非常に顕著となることから、 この ような光記録媒体前駆体 1 0 ' は本検査工程において排除する必要が める。
そして、 ステップ S 2 1における判断の結果、 高域面振れ量の最大 値がしきい値を越えていれば （S 2 1 ： Y E S)、 不良品と判定する。 —方、 面振れ量の最大値がしきい値を越えていなければ （S 2 1 ： NO)、 次に、 光入射面 1 6 aの面振れ加速度の最大値を抽出し、 これ が面振れ加速度のしきい値を越えていないか否かを判断する （ステツ プ S 2 2 )。 ここで、 「面振れ加速度のしきい値」 とは、 光入射面 1 6 aに存在する凹凸に基づき対物レンズ 1 1 4 aに生じる加速度として 許容される最大値であり、 検査装置 1 0 0においては追従可能であつ たとしても、 ユーザが実際に使用するドライブの性能によってはフォ 一カスが外れてしまうおそれのある面振れを持った光記録媒体前駆体 1 0'を排除することを目的として設定される。実際の記録及び Z又は 再生において問題となる面振れ加速度をもたらす光記録媒体前駆体 1 0，を排除するためには、 面振れ加速度のしきい値を 5〜 1 5 m/ s 2、 特に、 約 1 O mZ s 2程度に設定することが好ましい。 面振れ加速度 のしきい値をこのように設定すれば、 実際の記録及ぴ 又は再生にお いて高域面振れに起因する残留フォーカスエラー成分をほぼ 1 0 %以 下とすることができる。 その結果、 面振れ加速度の最大値がしきい値 を越えていれば （S 2 2 ： YE S)、 不良品と判定する。
一方、 面振れ加速度の最大値がしきい値を越えていなければ （S 2 2： NO)、最終的に良品であると判定し、図 2に示した初期化工程（ス テツプ S 7 ) を実行する。 図 8は、 図 7に示す基準により良品と判定される領域を示す模式的 なグラフである。 図 8に示すように、 図 7に示す基準によって判定を 行え 、 良品と判定される領域はグラフ上において 2辺が両軸に接す る四角形となり、 高域面振れ量及び面振れ加速度がいずれも所定のし きい値以下である場合にのみ良品であると判定されることが分かる。 以上説明したように、 本実施態様によれば、 支持基板 1 1 とは反対 側の面に設けられた薄い光透過層 1 6を有する次世代型の光記録媒体 1 0の検査において、 光入射面 1 6 aに検査用レーザビーム L 1のフ オーカスを合わせ、 フォーカス口ックした場合に得られる位置検出信 号 P及びフォーカスエラー信号 F Eに基づいて光入射面 1 6 aの表面 性を検査していることから、 光入射面 1 6 aに記録及び Z再生におい て問題となるような欠陥のある光記録媒体 1 0を簡単且つ確実に排除 することが可能となる。
尚、 本発明において 「光入射面」 とは、 光記録媒体の表面のうち記 録及び/又は再生に用いるレーザビームが入射する面を指し、 光透過 層 1 6の表面である必要はない。 したがって、 光透過層 1 6の表面に ハードコート層等が設けられている場合には、その表面が「光入射面」 となる。
本発明は、 以上の実施態様に限定されることなく、 特許請求の範囲 に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、 それらも本発 明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
例えば、 上記実施態様においては、 ステップ S 1 6において高域面 振れ量と面振れ加速度の両方に基づいて判定を行っているが （図 7参 照）、 目的に応じ、高域面振れ量及び面振れ加速度の一方に基づいて判 定を行っても構わない。 但し、 実際の記録及び Z再生において問題と なるような欠陥のある光記録媒体 1 0を確実に排除するためには、 上 記実施態様のように高域面振れ量と面振れ加速度の両方に基づいて判 定を行うことが最も好ましく、 少なくとも、 高域面振れ量に基づいて ^定を行うことが好ましい。
また、 上記実施態様において用いた検査装置 1 0 0では、 位置検出 信号 Pを生成するために永久磁石 1 1 4 c及びコイル 1 1 4 dからな る位置検出器を用いているが、 これ以外の方法によって対物レンズ 1 1 4 aに生じている加速度を測定可能しても構わない。 例えば、 永久 磁石 1 1 4 c及びコイル 1 1 4 dの代わりに静電容量型の位置検出器 を設け、 これによつて対物レンズ 1 1 4 aに生じている加速度を測定 することも可能である。
さらに、 上記実施態様においては、 光記録媒体の光入射面に検査用 レーザビーム L 1のフォーカスを合わせることによって光入射面の表 面性を検査しているが、 本発明の検查方法としてはこれに限定される ものではなく、 例えば、 回転している光記録媒体の光入射面に電磁波 又は音波を照射し、 ドップラー効果により生じる、 反射波の周波数ず れを測定することにより、 光入射面の表面性を検査しても構わない。 実施例
以下、 実施例を用いて本発明について更に具体的に説明するが、 本 発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
[サンプルの作製]
まず、 射出成型法により、 厚さ 1. 1 mm、 直径 1 2 Oramであり、 表面にグループ 1 1 a及びランド 1 1 b (トラックピッチ （グループ のピッチ） = 0. 3 m) が形成されたポリカーボネートからなるデ イスク状の支持基板 1 1を作製した。
次に、 この支持基板 1 1をスパッタリ ング装置にセッ トし、 グルー プ 1 1 a及びランド 1 1 bが形成されている側の表面に銀（A g )、パ ラジウム （P d) 及び銅 （C u) の合金からなる厚さ 1 00 nmの反 射層 1 2、 A 1 203からなる厚さ 2 0 nmの第 2誘電体層 1 3、 原子 比が S b 74T e 18G e 7 I n である厚さ 1 2 nmの記録層 1 4、 Z n Sと S i 02の混合物 （モル比 = 8 0 ： 2 0) 力、らなる厚さ 1 3 0 n mの第 1誘電体層 1 5を順次スパッタ法により形成した。
そして、 第 1誘電体層 1 5上に、 紫外線硬化性樹脂 （ 2 5°Cにおけ る粘度 = 5 0 0 0 c P) をスピンコート法によりコーティングし、 こ れに紫外線を照射することによって厚さ 1 0 0 mの光透過層 1 6を 形成した。 スピンコート時においては、 閉塞治具を用いて支持基板 1 1の中心孔を閉塞し、 この治具上に紫外線硬化性樹脂を吐出した後、 回転数を 2 0 0 0 r に設定して 8秒間回転させた。
以上の方法を用いてサンプル # 1及びサンプル # 2を作製した。尚、 サンプル # 1の光入射面 1 6 aには塗布ムラが認められなかったが、 サンプル # 2の光入射面 1 6 aには高さ 2. 1 i m、 幅 2. 6 mmの 塗布ムラが認められた。
次に、 上記と同様の方法によって支持基板 1 1上に反射層 1 2、 第 2誘電体層 1 3、 記録層 1 4及び第 1誘電体層 1 5をこの順に形成し た後、 第 1誘電体層 1 5上に紫外線硬化性樹脂 （大日本インキ化学ェ 業社製 S D 3 1 8 ) をスピンコート法によりコーティングし、 これに 紫外線を照射することによって厚さ 5 μ mの接着層を形成し、 この接 着層上に厚さ 1 0 0 mのポリカーボネートからなる光透過性シート を貼り付けた。 その後、 光透過性シートを介して接着層に紫外線を照 射することによって、 厚さ 1 0 5 μ mの光透過層 1 6を形成した。 これにより、 サンプル # 3が完成した。
[サンプルの評価]
次に、 上記サンプル # 1〜# 3をそれぞれ検査装置 （新電子工業社 製 OD A— I I型機械精度測定器） にセッ ト し、 6. S mZ s e c 2 1 . 0 mZ s e cの線速度で回転させながら、 検査用レーザビーム L 1を光入射面 1 6 aに照射した。 そして、 得られた位置検出信号 P 及びフォーカスエラー信号 F Eに基づいて、 線速度ごとに、 面振れ加 速度及び高域面振れ量を算出した。
次に、 上記サンプル # 1〜# 3をそれぞれ光ディスク評価装置 （パ ルステック社製 DDU 1 0 0 0 ) にセッ ト し、 6. S mZ s e c S 1 . O m/ s e cの線速度で回転させながら、 開口数が 0. 8 5であ る対物レンズを介して波長が 4 0 5 n mであるレーザビーム Lをトラ ックに沿って記録層 1 4に照射し、 得られる残留フォーカスエラー成 分を測定した。 ここで、残留フォーカスエラー成分の測定は次のようにして行った。 ' まず、 フォーカスサーボをかけずにサンプルと対物レンズとの距離 を変動させた場合に得ちれるフォーカスエラー信号を検出し、 サンプ ルと対物レンズとの距離 （変位） とフォーカスエラー信号の出力との 関係を示すフォーカス感度曲線を求めた。 このフォーカス感度曲線に おけるプラス側のピーク値とマイナス側のピーク値との差を求め、 こ の値を 「F」 と定義した。 次に、 ナイフエッジ法によりフォーカスサ ーボをかけた場合に得られるフォーカスエラー信号を検出し、 そのプ ラス側のピーク値とマイナス側のピーク値との差を求め、 この値を 「R」 と定義した。 そして R/Fにより、 残留フォーカスエラー成分 を算出した。
測定結果を下記の表に示す。 表 線速度（mZs) 6.3 10.4 14.6 18.8 21 高域面振れ m) 0.21 0.25 0.28 0.32 0.34 サンプル
面振れ加速度（m s2〉 4.19 5.70 7.84 9.60 12.29
#1
残留フォーカスエラー成分（％) 2.33 3.26 4.53 6.16 7.56 高域面振れ（jUm) 0.32 0.36 0.40 0.45 0.47 サンプル
面振れ加速度（mZs2) 7.11 10.88 15.95 22.25 .26.04
#2
残留フォーカスエラー成分（％) 4.88 10.70 14.30 16.63 19.24 高域面振れ（jtim) 0.31 0.35 0.39 0.43 0.46 サンプル
面振れ加速度（mノ s2) 5.89 8.97 13.30 18.96 22.39 #3
残留フォーカスエラー成分（ %) 3.49 8.60 12.37 15.47 18.84 表に示すように、いずれのサンプルにおいても、高域面振れ量が 0. 3 5 μ m以下となる線速度では残留フォーカスエラー成分が 1 0 %以 下であつたが、 高域面振れ量が 0. 3 5 m超となる線速度では残留 フォーカスエラー成分が 1 0 %超となった。 また、 いずれのサンプル においても、 面振れ加速度が 1 Om/ s 2以下となる線速度では残留 フォーカスエラー成分が 1 0 %以下であつたが、 面振れ加速度が 1 0 m/ s 2超となる線速度では残留フォーカスエラー成分がほとんどの 場合 1 0%超となった。
尚、 サンプル # 1において線速度を 2 1. Om/ s e cに設定した 場合、 高域面振れ量については 0. 34 / ΠΙ (0. 3 5 /z m以下）、 面 振れ加速度については 1 2. 2 9 m/ s 2 ( 1 0 m/ s 2超） であった が、 残留フォーカスエラー成分は 7. 5 6 %であり、 ジッタへの影響 が非常に顕著となる目安である 1 0 %を下回っていた。 このことは、 高域面振れ量の方が面振れ加速度よりも残留フォーカスエラー成分へ の相関が強いこと示しているものと考えられる。

Claims

請求の範囲
1 . 支持基板と、 光透過層と、 前記支持基板と前記光透過層との間に 設けられた情報層とを備え、 前記光透過層を介して前記情報層にレー ザビームを照射することによってデータの記録及び Z又は再生を行う 光記録媒体の検査方法であって、 前記レーザビームが入射する光入射 面の高域面振れ量及び/又は面振れ加速度を算出するステップと、 前 記高域面振れ量及ぴノ又は前記面振れ加速度に基づいて良否を判定す るステップとを備えることを特徴とする光記録媒体の検査方法。
2 . 前記算出するステップは、 前記光記録媒体を回転させながら、 検 査用レーザビームのフォーカスを前記光入射面に合わせることによつ て行うことを特徴とする請求項 1に記載の光記録媒体の検査方法。
3 . 前記検査用レーザビ^"ムの康り光を測定し、 得られるフォーカス エラー信吾に基づいて前記高域面振れ量を算出することを特徴とする 請求項 2に記載の光記録媒体の検查方法。
4 .前記検査用レーザビームを集束させる対物レンズの動きを測定し、 得られる位置検出信号に基づいて前記面振れ加速度を算出することを 特徴とする請求項 2に記載の光記録媒体の検査方法。
5 , 前記判定するステップは、 少なくとも、 前記高域面振れ量が 0 . 3 5 /i m超である場合に不良品であると判定することを特徵とする請 求項 1に記載の光記録媒体の検査方法。
6 . 前記判定するステップは、 少なく とも、 前記面振れ加速度が 1 0 m/ s 2超である場合に不良品であると判定することを特徴とする請 求項 1に記載の光記録媒体の検査方法。
7 . 前記光透過層の層厚が 3 0〜 2 0 0 μ mであることを特徴とする 請求項 1に記載の光記録媒体の検査方法。
8 . 前記情報層には、 相変化材料からなる記録層が含まれていること を特徴とする請求項 1に記載の光記録媒体の検査方法。
9 . 前記記録層を初期化する前に、 前記算出するステップを実行する ことを特徴とする請求項 8に記載の光記録媒体の検査方法。
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