WO2003028022A1 - Support d'enregistrement optique - Google Patents

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WO2003028022A1
WO2003028022A1 PCT/JP2002/009798 JP0209798W WO03028022A1 WO 2003028022 A1 WO2003028022 A1 WO 2003028022A1 JP 0209798 W JP0209798 W JP 0209798W WO 03028022 A1 WO03028022 A1 WO 03028022A1
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recording
layer
laser beam
recording medium
optical recording
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PCT/JP2002/009798
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French (fr)
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Hiroyasu Inoue
Hideki Hirata
Original Assignee
Tdk Corporation
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Definitions

  • the present invention relates to an optical recording medium and, more particularly, to an optical recording medium of Bashaman. Background art
  • CD as a recording medium for recording conventional digital data
  • Optical recording media such as (Compact Disc) and DVD (Digital Versatile Disc) are widely used, and the data recording method is to record data to be recorded by the length of a recording mark along a track. Is widely used.
  • these optical recording media are manufactured such that, in the manufactured state (initial state), various characteristics (electrical characteristics and mechanical characteristics) are within specified standards. It is required to be below a certain value.
  • One of the causes of the fluctuation of the reproduction jitter value is the fluctuation of the laser beam during recording.
  • the power of the laser beam at the time of recording is too small, a mark of a predetermined length cannot be accurately formed, and the reproduction jitter value increases. If the power of the laser beam is too high, the jitter value will increase due to deformation of the recording marks.
  • a laser beam having the same pulse width as the time corresponding to the length of the recording mark to be formed is not irradiated to the optical recording medium, but is formed.
  • a laser beam comprising a pulse train of a number determined based on the type of recording mark to be recorded is irradiated on the optical recording medium, thereby forming a recording mark having a predetermined length.
  • the number of ⁇ -1 or ⁇ -2 ( ⁇ is the type of recording mark and is one of 3 to 11 and 14) Are continuously irradiated, thereby forming any recording mark having a length corresponding to 3 3 to 11 ⁇ and 14 4.
  • one pulse is used to form a recording mark having a length corresponding to 3 ⁇ , and a recording mark having a length corresponding to 1 1 T is formed. In that case, nine pulses would be used.
  • two pulses are used to form a recording mark having a length corresponding to 3 ⁇ ⁇ , and a recording mark having a length corresponding to 11 T is formed. If so, 10 pulses will be used.
  • the recording beam of the laser beam When forming such a recording mark, it is necessary to appropriately set the recording power of the laser beam for each optical recording medium of interest, but the recording beam of the laser beam generates a laser beam. Because the manufacturing level of the semiconductor laser greatly differs from the desired level, or fluctuates due to the influence of the use environment, the recording power of the laser beam may deviate from an appropriate range. In such a case, it is impossible to form a recording mark having an appropriate shape, and the jitter value is greatly deteriorated. In other words, measures have been sought to control the irradiation power of the laser beam within a predetermined value range. And the output of the laser light becomes excessive during use, and the reproduction jitter value increases.
  • the present invention has been made in view of the above-described conventional problems, and has been made even if the power of the laser light used is large due to manufacturing variations of a semiconductor laser that generates a laser beam or fluctuations in the output of a laser beam. It is another object of the present invention to provide an optical recording medium capable of minimizing an increase in a reproduction jitter value.
  • another object of the present invention is to provide an optical recording medium in which deterioration of jitter in recording data at a high data transfer rate is suppressed. Disclosure of the invention As a result of earnest research, the present inventor has found that by setting the relationship between the upper limit and the lower limit of the recording power of the laser beam within a certain range, deterioration of the jitter value can be suppressed. In addition, if a heat radiation layer is provided on the recording layer on the laser light incident side to dissipate the heat generated in the recording layer when the laser light is irradiated, the reproduction jitter value increases even if the power fluctuation of the laser light is large. Has been found to be able to be minimized.
  • An optical recording medium which is provided with at least a light transmitting layer over a recording layer formed on a supporting base, and records information on the recording layer by laser light incident from the light transmitting layer side.
  • An optical recording medium wherein a heat radiation layer made of a material having a thermal conductivity exceeding 1 W-m-1 ⁇ K-1 is provided on the light transmission layer side of the recording layer.
  • a laser beam having a wavelength of 450 nm or less is irradiated to the recording layer through an irradiation optical system having a numerical aperture of the objective lens of 0.7 or more, and a reproduction jitter value of information recorded is 13%.
  • the thickness of the heat dissipation layer is 10 nm or more and 200 nm or less, preferably
  • optical recording medium of (1), (2) or (3) characterized in that it has a length of at least 300 nm and at most 100 nm.
  • the jitter referred to here is clock jitter, and the reproduced signal is measured by a time-interval analyzer to determine “signal fluctuation ( ⁇ )”, and is calculated by ⁇ / Tw (%) using the detection window width Tw. Value.
  • An optical recording medium having at least a recording layer and recording information by forming a recording mark on the recording layer with a laser beam,
  • the lower limit of the recording power of the laser beam at which the jitter value of the formed recording mark is less than 13% is Pw (min 1), and the laser beam at which the jitter value of the formed recording mark is less than 13%
  • An optical recording medium characterized by satisfying the following condition: P w (ma 1) P Am in 1; where 2.2 is the upper limit of the recording power of P w (ma 1).
  • the occurrence of read errors is effectively suppressed. Since the margin of the recording power is wide, the power of the recording laser beam is set to a desired level due to manufacturing variations of the semiconductor laser that generates the laser beam. base or are significantly different from le, even if a laser beam of power due to the influence of use environment etc. is varied, by q which can suppress the jitter value lower possible to record stable data Obviously
  • the generation of a read error is effectively suppressed, and the recording power margin is wider, so that more stable data recording can be performed.
  • the generation of the read error is effectively suppressed. Since the margin of the recording power is much wider, it is possible to more stably record the data.
  • the lower limit of the recording power of the laser beam at which the jitter value of the formed recording mark is 9 ° / 0 or less is Pw (min 2), and the jitter value of the formed recording mark is 9% or less. If the upper limit of the recording power of the laser beam is Pw (ma X 2), P w (max 2) / P w (min
  • a light transmission layer provided on the laser beam incident surface side, and a dielectric layer and a heat radiation layer provided between the recording layer and the light transmission layer are further provided.
  • the optical recording medium according to any one of (5) to (10).
  • An optical recording medium having at least a recording layer and recording information by forming recording marks on the recording layer with a laser beam.
  • the jitter value of the recording mark formed by setting the wavelength of the laser beam to 450 nm or less and the numerical aperture of the objective lens for converging the laser beam to 0.7 or more is set to 1
  • the lower limit of the recording power of the laser beam that is less than 3% is P W (mini)
  • the upper limit of the recording power of the laser beam that the jitter value of the formed recording mark is less than 13% is P W (mini).
  • An optical recording medium characterized by satisfying the condition of P w (ma 1) / P w (mini)> 2.2, where w (ma X 1).
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view schematically showing a layer configuration of an optical recording medium according to an example of an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a flowchart showing a method for manufacturing the optical recording medium 10.
  • FIG. 3 is a diagram schematically showing a main part of an information recording apparatus suitable for recording data on the optical recording medium 10.
  • FIG. 4 is a diagram showing an example of a recording strategy when a recording mark having a length corresponding to 2T is formed.
  • FIG. 5 is a diagram showing the relationship between the power of the recording laser beam of the optical recording medium of Example 1 of the present invention and the reproduction jitter value together with a comparative example.
  • FIG. 6 is a diagram showing a recording laser beam pattern in the optical recording medium according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the first example and the reproduction jitter value together with Example 1 and Comparative Example.
  • FIG. 7 is a diagram showing a power of a recording laser beam and a reproduction jitter value of an optical recording medium according to a third embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 is a diagram showing the relationship between the thickness of the heat radiation layer and P maxZ P min from the results of FIG. '
  • FIG. 9 is a graph showing the measurement results in Example 4.
  • FIG. 10 is a graph showing the measurement results in Example 5.
  • an optical recording medium 10 has at least a reflection film 16, a second dielectric layer 18, and a recording layer on a supporting substrate 12 made of polycarbonate. 20, a first dielectric layer 22, a heat dissipation layer 24, and a light transmission layer 26 are formed in this order.
  • the support base 12 is formed by injection molding of a polycarbonate resin, and has a thickness of about 1-1 mm. On top of this, snow.
  • the reflecting film 16, the second dielectric layer 18, the recording layer 20, the first dielectric layer 22, and the heat dissipation layer 24 are formed in this order by the sputtering method, and the light transmission layer 26 is It is made of acrylic resin and has a thickness of about lOO / xm.
  • a hole 30 is provided in the center of the optical recording medium 10. In the optical recording medium 10 having such a structure, data is recorded by irradiating the laser beam from the light transmitting layer 26 side, and the laser beam is irradiated from the light transmitting layer 26 side. Thus, the data is reproduced.
  • the light transmitting layer 26 is formed to be considerably thicker than the resin layer corresponding to the position of the overlayer 26, that is, the thickness of the protective layer on the reflective film (about 5. to 10111). .
  • the reflection film 16 is not limited as long as it satisfies the required reflectance, and various metal materials can be applied.
  • the reflection film 16 is made of an alloy containing Ag as a main component.
  • the first dielectric layer 2 2 here various materials which are applicable 'force with Z n S- S i 0 2.
  • the recording layer 20 is a phase change type.
  • the recording layer composition was AgInSbTeGe.
  • the second dielectric layer 18 is made of a material having a thermal conductivity k of k> 1 W ⁇ m_l ⁇ K-IO 1, for example, alumina (A 1203). 2 nm or more and 200 nm or less, preferably 5 nm or more and 100 nm or less.
  • the thickness of the reflective film 16 is 10 to 30 nm
  • the thickness of the recording layer 20 is 5 to 30 nm
  • the thickness of 152 2 is 10 to 300 nm, and the thickness of the light transmitting layer 26 is 10 to 300 / im, preferably 50 to 150 / x m.
  • the heat dissipation layer 24 is made of a material having a thermal conductivity k> 1 W ⁇ m ⁇ 1 ⁇ Kl, for example, alumina (A1203), and has a film thickness of 10 ⁇ . m or more and 200 nm or less, preferably 30 nm or more and 100 nm
  • the heat radiation layer 24 is a layer for efficiently dissipating the heat given to the recording layer 20 and plays a role of expanding the power margin of the optical recording medium 10. 'Therefore, the heat conductivity of the heat radiation layer 26 is required to be at least higher than the heat conductivity of the first dielectric layer 22.
  • a laser beam having a wavelength of 450 rim or less, preferably a wavelength of 380 to 450 nm, and more preferably a wavelength of Omitted) has a numerical aperture of 0.7 or more, preferably 0.85
  • the maximum limit power of the laser light that irradiates the recording layer via the irradiation optical system and the jitter value at the time of reproducing the recorded information is less than 13% is P max, and the minimum limit power is P mi.
  • the heat radiation layer 24 is set so that P max> P min X 2.2 when n is set.
  • the thickness of the second dielectric layer 18 is set to 2 nm or more is that if the thickness is less than 2 nm, the power margin of the laser beam changes significantly due to a slight thickness variation. is there. Therefore, the film thickness is more preferably 5 nm or more.
  • the thickness of the heat dissipation layer 24 is set to 10 nm or more is that, when the thickness of the heat dissipation layer 24 is less than 10 ntn, it is difficult to control the film thickness. This is because the power margin of the laser beam greatly changes due to a slight variation in the film thickness. In addition, when this is 30 nm or more, a remarkable effect of increasing the power margin can be obtained. Therefore, the film thickness is more preferably 30 nm or more. '
  • the reason why the film thickness is set to 200 nm or less is that if the film thickness is further increased, the film formation time during manufacture becomes excessive, which not only reduces the throughput, but also causes thermal damage to the support substrate 12 at the same time. It is because it becomes large. Therefore, it is set to 200 nm or less, and more preferably 100 nm or less. Considering the above, heat dissipation layer?
  • the thickness of 4 is preferably set to 10 to 200 nm, more preferably 30 to: L 0 11 m.
  • the material of the second dielectric layer 18 and the heat radiation layer 24 is alumina, but the present invention is not limited to this, and the thermal conductivity is not limited to alumina.
  • the light transmitting layer 26 is formed of an acrylic resin, but it is hardened by energy rays such as ultraviolet rays.
  • Various types of resin can be selected from lug-line curable resin and heat-curable resin cured by heat. Acrylic resin, epoxy resin, urethane resin and the like are applicable.
  • a resin sheet of a polycarbonate or a polyolefin formed in advance may be used.
  • a polyolefin or the like may be used in addition to the polycarbonate as in the example of the embodiment.
  • the recording layer 20 (A gln S b Te G e) of the optical recording medium ⁇ 0 is a phase change film, and the difference between the reflectance in a crystalline state and the reflectance in an amorphous state is different.
  • Data recording is performed using the data.
  • the state of the recording layer 20 in the unrecorded area is a crystalline state, and therefore, the reflectance is, for example, 20%.
  • a predetermined portion of the recording layer 20 is heated to a temperature exceeding the melting point and then rapidly cooled to change to an amorphous state according to the data to be recorded. .
  • the reflectance in the amorphous state portion is, for example, 7%, whereby the predetermined data is recorded. Then, when overwriting the once recorded data, the recording layer 20 where the data to be overwritten is recorded is heated to a temperature higher than the crystallization temperature or higher than the melting point according to the data to be recorded. Change to a crystalline or amorphous state.
  • the power P e (erasing power) of the laser beam irradiated when crystallizing the recording layer 20 is as follows:
  • Recording condition setting information refers to various conditions necessary for recording / reproducing data to / from the optical recording medium 10, for example, information used to specify the power of a recording laser beam, recording strategy, and the like.
  • the recording condition setting information not only those that specifically indicate the conditions required for data recording / reproduction, but also recording by specifying any of various conditions stored in advance in the information recording device A condition for specifying a reproduction condition is also included.
  • the “recording strategy” refers to a method of irradiating a recording laser beam for forming a recording mark, that is, the number of laser beams, the pulse width of each pulse, the pulse interval, and the power of the laser beam (Pw, Pw e, Pb) and the like, and are determined based on the recording condition setting information included in the optical recording medium 10.
  • the recording power Pw of the laser beam when recording data on the optical recording medium 10 according to the present embodiment, it is necessary to set the recording power Pw of the laser beam within an appropriate range, and the recording power Pw is out of the appropriate range. In such a case, it is impossible to form a recording mark having an appropriate shape, and the jitter is greatly deteriorated.
  • the range of the recording power Pw where the jitter value of the formed recording mark is 13% or less is called “first power margin”, and the lower limit power is defined as Pw (min 1).
  • the upper limit power is defined as Pw (ma X 1)
  • the ratio between the lower limit power P w (min 1) and the upper limit power P w (ma X 1) is
  • the range of the recording power Pw where the jitter value of the formed recording mark is 9% or less is called “second power margin”, and the lower limit power is defined as Pw (min 2), and the upper limit is defined as Pw (min 2).
  • the power is defined as P w (max 2), in the optical recording medium 10 according to the present embodiment, the ratio between the lower limit power P w (min 2) and the upper limit power P w (max 2) is
  • the recording power Pw of the laser beam is set within the range of Pw (min2) to Pw (max2).
  • FIG. 2 is a flowchart showing a method for manufacturing the optical recording medium 10 according to the present embodiment.
  • the light transmitting layer 2.6 of the optical recording medium 10 is very thin, having a thickness of 10 to 300 m, so that the film can be formed in the reverse order to the conventional general DVD-RW.
  • the thickness of a pre-groove with a group width of about 0.15 m, a track pitch of about 0-32 m, and a group depth of about 20 nm is about 1.1.
  • Injection molding is performed on the support substrate 12 of mm (step S 1).
  • the support base 12 is transferred into a first chamber (not shown) of the sputtering apparatus.
  • the first chamber ⁇ of the sputtering apparatus is provided with an alloy mainly composed of silver as a target.
  • a first chamber in one to a vacuum of about 1 X ⁇ 0_ 4 ⁇ a, then 0.
  • the gas pressure by introducing Anoregongasu the first. Chamber within a 1 to 1. 0 P
  • sputtering is performed by applying a DC voltage or a high-frequency voltage to the target.
  • a reflective film 16 having a thickness of 10 to 300 nm is formed on the upper surface of the support base 12 (step S2).
  • the support base 12 on which the reflection film 16 is formed is transferred from the first chamber 1 to the second chamber 1 (not shown).
  • the second in Chiyanba of the sputtering apparatus Target A 1 2 0-order 3 is provided 9 to the bets, the second chamber in one and a vacuum of approximately 1 X 1 0- 4 P a
  • argon gas is introduced into the second chamber 1 and the gas pressure is set to 0.1 to 1.0 Pa to perform sputtering.
  • a second dielectric layer 18 having a thickness of 2 to 50 nm is formed on the upper surface of the reflection film 16 (step S3).
  • the supporting base on which the anti-elbow film 16 and the second dielectric layer 18 are formed is transported from the second chamber one to the third chamber one (not shown).
  • a mixed target of Ag, In, Sb, Te and Ge is provided in the third chamber 1 of the sputtering apparatus.
  • a third chamber in one and a vacuum of approximately 1 X 1 0_ 4 P a, and then the third and the gas pressure by introducing Al argon gas into the chamber in one 0.. 1 to 1. 0 P Set to a Do the taling.
  • a recording layer 20 having a thickness of 5 to 30 is formed on the upper surface of the second dielectric layer 18 (step S4).
  • the support base 12 on which the reflective film 16 to the recording layer 20 are formed is transported from the third chamber to the fourth chamber (not shown).
  • the fourth chamber in one of the sputtering-ring device, mixed target of Z n S and S i 0 2 is provided.
  • a fourth Chiyanba within about 1 X 1 0 -.. 4 P a extent and degree of reduced pressure, and then argon gas was introduced into the fourth chamber in one of the gas pressure 0 1-1 Sputtering is performed at 0 Pa.
  • a first dielectric layer 22 having a thickness of 10 to 300 nm is formed on the upper surface of the recording layer 20 (Step S5).
  • the support base 12 on which the reflective film 16 to the first dielectric layer 22 are formed is transferred from the fourth chamber to the fifth chamber (not shown).
  • the fifth chamber one sputtering Taringu device, the A 1 2 ⁇ 3 is provided as a target.
  • a heat radiation layer 24 having a thickness of 100 nm, preferably 3 nm to 10 nm is formed on the upper surface of the first dielectric layer 22 (step S6). Note that the heat radiation layer 24 may be sputtered using the second chamber.
  • the second dielectric layer 18, the recording layer 20, the first dielectric layer 22 and the heat radiation layer 2.4 on the supporting base are formed.
  • a light transmitting layer 26 having a thickness of about 10 to 300 ⁇ m is formed by irradiating ultraviolet rays (step S7).
  • the light transmitting layer 26 may be formed by adhering a preformed resin sheet such as polycarbonate or polyolefin to the surface of the heat radiation layer 24.
  • FIG. 3 is a diagram schematically showing a main part of an information recording apparatus suitable for recording data on an optical recording medium 1 °.
  • such an information recording / reproducing apparatus includes a spindle motor 2 for rotating an optical recording medium 10, a head 3 for irradiating the optical recording medium 10 with a laser beam, a spindle motor 2, A controller 4 that controls the operation of the head 3, a laser drive circuit 5 that supplies a laser drive signal to the head 3, and a lens drive circuit 6 that supplies a lens drive signal to the head 3 .
  • the controller 4 includes a focus servo tracking circuit 7, a tracking servo tracking circuit 8, and a laser control circuit 9.
  • the focus-bore tracking circuit 7 When the focus-bore tracking circuit 7 is activated, the recording surface of the rotating optical recording medium 10 is in focus, and when the tracking servo tracking circuit 8 is activated, the bias of the optical recording medium 10 is deviated.
  • the laser beam spot automatically follows the centered signal track.
  • the focus servo tracking circuit 7 and the tracking servo tracking circuit 8 are provided with an auto gain control function for automatically adjusting the focus gain and an auto gain control function for automatically adjusting the tracking gain.
  • the laser control circuit 9 is a circuit for generating a laser drive signal supplied by the laser drive circuit 5, and when the recording condition setting information is recorded on the optical recording medium 10, Generate an appropriate laser drive signal.
  • the focus servo tracking circuit 7, tracking servo tracking circuit 8 and laser control circuit 9 need not be circuits incorporated in the controller 4, but are separate components from the controller 4. No problem. Furthermore, these need not be physical circuits, but may be software executed in the controller 4.
  • an information recording device suitable for recording data on the optical recording medium 10 includes a laser beam having a wavelength of 450 nm or less, and particularly a wavelength of 380 to 450 nm.
  • the NA (numerical aperture) of the objective lens, which is a part of the head 3 and converges the recording laser beam is 0.7 or more.
  • the distance between the objective lens and the surface of the optical recording medium 10 is very small (for example, Approximately 80 to 150 im) is set, so that an extremely small beam spot diameter can be realized as compared with the conventional one.
  • an extremely high data transfer rate for example, 35 Mbps or more).
  • the above-mentioned information recording apparatus can use the (1,7) RLL modulation method.
  • the information recording device for recording data on the optical recording medium 10 does not need to record data by such a modulation method, but records data by another modulation method. It does not matter.
  • an example of a recording strategy in the case of using the (1, 7) RLL modulation scheme will be described.
  • FIG. 4 is a diagram illustrating a recording strategy when a recording mark having a length corresponding to 2T is formed.
  • the number of laser beam pulses is set to “1”.
  • the number of pulses of the laser beam is defined by the number of times that the power of the laser beam is increased to Pw. More specifically, if the timing at which the laser beam is located at the start of the recording mark is time ts, and the timing at which the laser beam is located at the end of the recording mark is time te, the time from time ts to time te The power of the laser beam is set to Pw, and then to the power Pb.
  • the power of the recording laser beam before time t s is set to Pe, and the rise of the laser beam is started at time t s.
  • the power of the laser beam at time t e is set to P e or P b.
  • the recording layer 20 of the optical recording medium 10 receives high energy and its temperature exceeds the melting point, and in the period of T c 1, the recording layer 20 of the optical recording medium 10 Is rapidly cooled. As a result, a recording mark having a length corresponding to 2T is formed on the recording layer 20 of the optical recording medium 10.
  • the power of the laser beam is set to Pw, Pe or Pb, as in the case of forming a recording mark of a length corresponding to 2T above.
  • a recording mark having a desired length is formed by a predetermined number of pulses.
  • the power margin is wide as described above, the power of the laser beam greatly differs from the desired level due to manufacturing variations of the laser driver included in the head 3. Even if the power of the laser beam fluctuates for some reason, the jitter can be kept low. In particular, in the optical recording medium 10 according to the present embodiment, good jitter can be obtained even when a recording mark is formed using a laser beam having a relatively high recording power. Even when recording at a high setting (for example, 35 Mbps or more), a sufficient power margin is secured.
  • An optical recording medium was prepared according to the following procedure.
  • a disk-shaped supporting substrate made of a polycarbonate resin similar to that in the example of the embodiment in which the group is formed (the depth of the group is wavelength ⁇ is
  • the recording track pitch was 0.32 Atm
  • a reflective film containing Ag as a main component was formed on the surface by sputtering. It was formed with a thickness of 00 nm.
  • a second dielectric layer made of A1203 was formed on the surface of the reflective film to a thickness of 20 nm by a sputtering method.
  • a recording layer having a thickness of 12 nm was formed on the second dielectric layer by a sputtering method using an alloy target made of a phase change material.
  • the composition of this recording layer was AglInSbTeGe.
  • a first dielectric layer having a thickness of 45 nm is formed on the surface of the recording layer by a sputtering method using a ZnS (80 mol%) — Si ′ 02 (20 mol%) target. did.
  • a heat radiation layer made of 3 was formed to a thickness of 30 nm by a sputtering method.
  • a UV-curable resin was applied to the surface of the heat dissipation layer by spin coating, and irradiated with UV rays to obtain a light-transmitting layer having a thickness of 100 / Xm.
  • Comparative Example 1 the heat dissipation layer was removed from Example 1, and as Comparative Example 2, the second dielectric layer of Comparative Example 1 was replaced with the first dielectric material of Example 1 and Comparative Example 1. A replacement was made with the same dielectric layer as the layer.
  • Fixing P e / P w 0.55, changing the laser beam power from 3 mW to 10 mW, recording, and measuring the reproduction jitter value, the result is as shown in Fig. 5.
  • Recording was performed on only one track (Gnoreb).
  • Table 1 compares the maximum limit power Pmax and the minimum field power Prain of the laser beam in which the reproduction jitter value is less than 13% in Example 1, Comparative Example 1, and Comparative Example 2. Shown in
  • the maximum field power Praax is about twice as large as Pmin with respect to the laser beam minimum power limit Ptnin where the reproduction jitter value is less than 13%.
  • the minimum limit power of the laser beam at which the reproduction jitter value is less than 13% is 4.2 mW, while the maximum limit power is 4.2 mW.
  • the power was over 1 OmW and measurement was not possible. That is, in the first embodiment, Pmax exceeded 2.2 times Pmin.
  • Example 2 the recording sensitivity was increased by changing the film thickness of the first dielectric layer in Example 1 to 35 nm (Example 1 was reduced in sensitivity).
  • Table 2 shows the minimum limit power Pmin, maximum limit power Pmax, and Pmax / Pmin of the laser light in the low sensitivity, high sensitivity, and Comparative Example 2.
  • FIG. 7 shows the results obtained by changing the thickness of the heat radiation layer in the optical medium of Example 2 and measuring how this affects the reproduction jitter value.
  • the thickness of the heat radiation layer was set to 10 nm, 30 nm, and 60 nm.
  • FIG. 7 also shows a comparative example in which the thickness of the heat radiation layer is 0 nm.
  • FIG. 8 shows the relationship between P max / P rain and the thickness of the heat radiation layer in these examples. From Figs. 7 and 8, it can be seen that PmaxZPjnin exceeds 2.'2 even if the thickness of the heat radiation layer is small. Also, from FIG. 8, it can be seen that Pmax / Pmin can be made 2.2 or more even when the thickness of the heat radiation layer is about 100 nm. Also, it can be inferred that Pmax / Pmin exceeds 2.2 even when the thickness is about 20 nm.
  • the thickness of the supporting substrate 12 is 1.1 mm
  • the thickness of the reflective film 16 is 100 nm
  • the thickness of the second dielectric layer 18 The thickness of the recording layer 20 is 12 nm
  • the thickness of the first dielectric layer 15 is 35 nm
  • the thickness of the light transmitting layer 26 is 100 ⁇ m.
  • the clock jitter of the mixed signal formed on the optical recording media 10-1, 10-2, 10-3 and 10-4 was measured.
  • the “fluctuation ( ⁇ )” of the reproduced signal was obtained by a time interval analyzer, and was calculated by ⁇ / Tw (Tw: one cycle of a clock).
  • Figure 9 shows the measurement results.
  • the thickness of the heat radiation layer 16 is indicated by kakko.
  • the optical recording media 10-2, 10-3 and 10-with the heat radiation layer 24 are provided. It can be confirmed that the power margin of 4 is significantly wide. Table 4 shows specific power margins.
  • the jitter when the recording power is set to 10 mW is 1 unit. 3% or less, P w (ma 1) / P w (mini)> 3
  • the jitter is small.
  • the area of 9% or less, that is, the second power margin is very wide. According to this embodiment, when the structure of the other layers is the same, the thickness of the heat radiation layer 24 is reduced.
  • the thickness of the supporting base is 1.1 mm
  • the thickness of the reflective film 16 is 100 nm
  • the thickness of the second dielectric layer 18 is 20 nm.
  • Optical recording medium 10 with a recording layer 14 having a thickness of 12 nm, a first dielectric layer 22 having a thickness of 45 nm, and a heat radiation layer 24 having a thickness of 30 nm 5 was produced by the method described above.
  • the optical recording medium 10-5 differs from the optical recording medium 10-3 described above only in that the thickness of the first dielectric layer 22 is changed.
  • the optical recording media 10-5 have a lower recording sensitivity than the optical recording media 10-3 described above.
  • FIG. 10 also shows the measurement results of the optical recording medium 10-3 having the heat dissipation layer 24 having the same thickness as the optical recording medium 10-5.
  • the thickness of the first dielectric layer 22 is indicated by kakko. 'As described above, the optical recording medium 10-5 has a lower recording sensitivity than the optical recording medium 10-3, so the region where the jitter is sufficiently low is shifted to the higher output side. Can be confirmed to be sufficiently wide like the optical recording medium 10-3.
  • Table 5 shows specific power margins.
  • Optical recording medium 10-5 4.2mW 4.9mW> 10mW> 10mW> 2.04 As shown in Table 5, the recording power was set to 10 mW for the optical recording medium 10-5. The jitter when set is 13% or less,
  • the ratio between the lower limit power Pw (mini) and the upper limit power Pw (max1) is
  • the structure shown in FIG. 1 was used as a specific structure of the optical recording medium 10, but the structure of the optical recording medium according to the present invention is not limited to this.
  • the present invention is configured as described above, the present invention has an excellent effect that heat generated by laser light during recording can be efficiently dissipated and the power margin of the recording laser light can be expanded. Further, the optical recording medium according to the present invention has a very wide power margin, so that stable data recording can be performed.

Landscapes

  • Optical Recording Or Reproduction (AREA)

Description

明 細 書
光記録媒体 技術分野
この発明は光記録媒 に関し、 さ らに評糊には、 バソーマーンンの仏 い光記録媒体に関する。 背景技術
従来のデジタルデータを記録するための記録媒体として、 CD
(Compact Disc) や DVD (Digital Versatile Disc) 等に代表 される光記録媒体（ディスク）が広く利用されており、 そのデータ記録 方式としては、 記録すべきデータをトラックに沿った記録マークの長さ に変調するという方式が広く用いられている。 又これらの光記録媒体は- 製造された状態 （初期状態） において、 種々特性 （電気特性や機械特 性） が決められた規格内となるように製造され、 特に基本特性として、 再生ジッタ値が一定値以下となるように要求されている。
この再生ジッタ値の変動要因の 1つと して、 記録時のレーザ光のパヮ 一の変動がある。
記録時のレーザ光のパワーが過小の場合は、 所定の長さのマークが正 確に形成できずに再生ジッタ値が増大する。 又、 レーザ光のパワーが大 きすぎるときは、 記録マークの変形等により、 ジッタ値が増大してしま
5。
これを詳細に説明する。 上記のような記録方式を用いた場合、 データ の読み出しに際してはレーザビームが光記録媒体のトラックに沿って照 射され、 その反射光を検出することにより記録マークめもつ情報が読み 出される。 また、 データの書き込みに際してはレーザビームが光記録媒 体のトラックに沿って照射され、 所定の長さを持った記録マークが形成 される。 例えば、 ユーザによるデータの書き換えが可能な光記録媒体の 一種である DVD— RW (Rewritable) においては、 3 T〜1 1 T及 . び 1 4 Τ (Τは 1クロック周期） に対応する長さめ記録マークが用いら れ、 これによつてデータの記録が行われる。
ここで、 光記録媒体に対するデータの記録に際しては、 一般に、 形成 すべき記録マークの長さに対応する時間と同じパルス幅を持ったレーザ . ビームが光記録媒体に照射ざれるのではなく、 形成すべき記録マ二クの 種類に基づき定められた数のパルス列からなるレーザビームが光記録媒 体に照射され、 これによつて所定の長さをもった記録マークが形成され る。 例えば、 上述し ίた DVD— RWに対するデータの記録においては、 η— 1または η— 2 (ηは記録マークの種類であり、 3〜 1 1及び 1 4 のいずれかの値となる） の数のパルスが連続的に照射され、 これによつ て 3 Τ〜 1 1 Τ及ぴ 1 4 Τに対応する長さをもったいずれかの記録マー クが形成される。 したがって、 η - 2の場合、 3 Τに対応する長さをも つた記録マークを形成する場合には 1個のパルスが用いられ、 1 1 Tに 対応する長さをもった記録マークを形成する場合には 9個のパルスが用 いられることになる。 また、 η— 1の場合、 3 Τに対応する長さをもつ た記録マークを形成する場合には 2個のパルスが用いられ、 1 1 Tに対 応する長さをもった記録マークを形成する場合には 1 0個のパルスが用 いられることになる。
このよ うな記録マークを形成する際には、 対象となる光記録媒体ごと' にレーザビームの記録パヮーを適切に設定する必要があるが、 レーザビ 一ムの記録パヮ一は、 レーザビームを発生する半導体レーザの製造ばら つきにより所望のレベルとは大きく異なっていたり、 使用環境の影響等 により変動するため、 レーザビームの記録パワーが適切な範囲を外れる ことがある。 このような場合、 適切な形状をもった記録マークを形成す ることができず、 ジッタ値が大幅に悪化してしまう。 すなわち、 レーザ光の照射パワーを所定値の範囲内に制御するという 対策が探られているが、 実際には、 使用する半導体レーザの製造時のば らつき、 あるいは出力の変動、 更には使用環境に影響され、 使用中にレ 一ザ光の出力が過大となって、 再生ジッタ値が増大するという問題点が ある。
他方、 近年においては、 光記 S媒体に対してデータ転送レー トのさら なる向上が強く望まれている。 これを実現するためには、 記録/再生に おける線速度を高めることが有効であり、 そのためにはク口ック周波数 を高める必要がある。 しかしながら、 半導体レーザを駆動するレーザド ライバの動作速度には限界があるため、 クロック周波数を高めることに よって 1クロックの周期 （T ) が短くなると、 レーザビームのパルスの 振幅が制限され、 レーザビームのパワーが +分に下がりきらないうちに 次のパルスが到来するという現象が発生する。 このような現象が発生す ると、 レーザビームの記録パワーをより高く設定したのと同じ状態とな り,、 ジッタ値が大幅に悪化してしまう。
このため、 上述のような場合においても適切な形状をもった記録マー クが形成され、 良好なジッタが得られることが望ましい。
この発明は上記従来の問題点に鑑みてなされたものであって、 レーザ ームを発生する半導体レーザの製造ばらつきや、 レーザビームの出力 変動によって、 使用するレーザ光のパワーの変動が大きくても、 再生ジ ッタ値の増加を最小限に抑えることができる光記録媒体を提供すること を目的とする。
また、 本発明の他の目的は、 高いデータ転送レートでデータを記録す る場合におけるジッタの悪化が抑制された光記録媒体を提供することで ある。 発明の開示 本発明者は、 鋭意研究の結果、 レーザビームの記録パワーの上限と下 限との関係を一定範囲内とすることにより、 ジッタ値の悪化を抑制でき ることを見い出した。 また、 記録層の、 レーザ光入射側に放熱層を設け ることによって、 レーザ光照射時における記録層に発生する熱を放散さ せると、 レーザ光のパワー変動が大きくても再生ジッタ値の增加を最小 限に抑え得ることを発見した。
即ち、 次のような発明によって上記目的が達成される。
( 1 ) 支持基体に形成された記録層を被って、 少なく とも光透過層が 設けられていて、 この光透過層側から入射するレーザ光により前記記録 層に情報を記録する光記録媒体であって、 前記記録層の前記光透過層側 に、 熱伝導率が、 1 W - m-1 ■ K-1 を超える材料からなる放熱層を設 けたことを特徴とする光記録媒体。 ；
( 2 ) 波長が 4 5 0 n m以下のレーザ光を、 対物レンズの開口数が 0. 7以上の照射光学系を介して前記記録層に照射して記録した情報の再生 ジッタ値が 1 3 %未満となる前記レーザ光の最大限界パワーを Ptnax、 最小限界パワーを Pmin としたとき、 Pmax> PminX 2. 2となるよ うに前記放熱層を設定したことを特徴とする （1 ) の光記録媒体。
( 3 ) レーザ光の波長が 3 8 0 n m以上であることを特徴とする ( 2 ) の光記録媒体。
(4 ) 前記放熱層の膜厚を 1 0 n m以上 2 0 0 nm以下、 好ましくは
3 0 n m以上 1 0 0 n m以下と したことを特徴とする （ 1 ) 、 （2 ) 又 は （3 ) の光記録媒体。
ここで言うジッタはクロックジッタであり、 再生信号をタイムィンタ 一パルアナライザにより測定して 「信号のゆらぎ （σ ) 」 を求め、 検出 窓幅 T wを用いて σ /T w (%) により算出した値である。
( 5 ) 少なく とも記録層を有し、 レーザビームにより前記記録層に記 録マークが形成されることによって情報を記録する光記録媒体であって、 形成された記録マークのジッタ値が 1 3 %未満となる前記レーザビーム の記録パワーの下限を P w (m i n 1 ) とし、 形成された記録マークの ジッタ値が 1 3 %未満となる前記レーザビームの記録パワーの上限を P w (m a 1 ) と した場合、 P w (m a 1 ) P Am i n 1； > 2. 2の条件を満たすことを特徴とする光記録媒体。
( 5 ) の発明によれば、 読み出しエラーの発生が効果的に抑制される 記録パワーのマージンが広いことから、 レーザビームを発生する半導体 レーザの製造ばらつきにより記録用レーザビームのパワーが所望のレべ ルとは大きく異なっていたり、 使用環境の影響等により レーザビームの パワーが変動した場合であっても、 ジッタ値を低く抑えることができる q これにより、 安定したデータの記録を行うことが可能となる。
( 6) P w (m a X 1 ) / P w (m i n i ) > 2. 5の条件を満た すことを特徴とする （ 5 ) の光記録媒体。
( 6) の発明によれば、 読み出しエラーの発生が効果的に抑制される 記録パワーのマージンがより広いことから、 より安定したデータの記録 を行うことが可能となる。
( 7) P w (m a X 1 ) /P w (m i n i ) 〉 3の条件を満たすこ とを特徴とする （5 ) の光記録媒体。
( 7) の発明によれば、 読み出しエラーの 生が効果的に抑制される 記録パワーのマージンがよりいつそう広いことから、 よりいつそう安定 したデータの記録を行うことが可能となる。
( 8 ) 形成された記録マークのジッタ値が 9 °/0以下となる前記レー ザビームの記録パワーの下限を P w (m i n 2 ) とし、 形成された記録 マークのジッタ値が 9 %以下となる前會己レーザビームの記録パワーの上 限を Pw (m a X 2 ) と した場合、 P w (m a x 2 ) / P w (m i n
2 ) > 1. 5の条件を満たすことを特徴とする （ 5) 乃至 （ 7) のいず れかの光記録媒体。 ( 8 ) の発明によれば、 読み出しエラーの発生がより効果的に抑制さ れる記録パワーのマージンが広いことから、 安定したデータの記録を行 うことが可能となる。
( 9 ) P w (m a X 2 ) / P w (m i n 2 ) > 1. 8の条件を満た すことを特徴とする （8 ) の光記録媒体。
( 9) の発明によれば、 読み出しエラーの発生がより効果的に抑制さ れる記録パワーのマージンがより広いことから、 より安定したデータの 記録を行うことが可能となる。
( 1 0 ) P w (m a X 2 ) / P w (m i n 2 ) 〉 2の条件を満たす ことを特徴とする （9 ) の光記録媒体。 ' ，
( 1 0 ) の発明によれば、 読み出しエラーの発生がより効果的に抑制 される記録パヮ一のマージンがよりいつそう広いことから、 よりいつそ う安定したデータの記録を行うことが可能となる。
( 1 1 ) 前記レーザビームの入射面側に設けられた光透過層と、 前 記記録層と前記光透過層との間に設けられた誘電体層及び放熱層をさら に有することを特徴とする （ 5 ) 〜 （ 1 0) のいずれかの光記録媒体。
( 1 2) 前記放熱層の厚みが 1 0〜 2 0 0 11 mであることを特徴と する （ 1 1 ) の光記録媒体。
( 1 2 ) の発明によれば、 製造工程におけるスループッ トを過度に低 下させることなく、 安定的に広いパワーマージンを得ることができる。
( 1 3 ) 前記放熱層の厚みが 3 0〜 1 0 0 n mであることを特徴と する （ 1 2) の光記録媒体。
( 1 3 ) の発明によれば、 製造工程におけるスループッ トを過度に低 下させることなく、 より安定的に広いパワーマージンを得ることができ る。
( 1 4) 少なく とも記録層を有し、 レーザビーム.により前記記録層に 記録マークが形成されることによって情報を記録する光記録媒体であつ て、 前記レーザビームの波長を 4 5 0 n m以下に設定し、 前記レーザビ ームを収束するための対物レンズの開口数を 0. 7以上に設定して形成 された記録マークのジッタ値が 1 3 %未満となる前記レーザビームの記 録パワーの下限を P W (m i n i ) とし、 形成された記録マークのジッ タ値が 1 3 %未満となる前記レーザビームの記録パヷ一の上限を P w (m a X 1 ) とした場合、 P w (m a 1 ) /P w (m i n i ) > 2. 2の条件を満たすことを特徴とする光記録媒体。
( 1 4 ) の発明によれば、 高いエネルギー密度を有するレーザビーム が極めて小さいスポットに集束されてデータの記録が行われるシステム を用いて、 高いデータ転送レートを実現する場合においても、 広いパヮ 一マージンを確保することが可能となり、 安定的な記録を行うことがで きる。
( 1 5 ) 前記レーザビームの波長を 3 8 0〜4 5 0 n mに設定した場 合に、 P w (m a X 1 ) / P w (m i n i ) 〉 2. 2の条件を満たすこ とを特徴とする （1 4) の光記録媒体。 図面の簡単な説明
第 1図は、 本発明の実施の形態の例に係る光記録媒体の層構成を模 式的に示す略示断面図である。
第 2図は、 光記録媒体 1 0の製造方法を示すフローチャートである。 第 3図は、 光記録媒体 1 0に対するデータの記録を行うのに好適な情 報記録装置の主要部を概略的に示す図である。
第 4図は、 2 Tに対応する長さの記録マークを形成する場合の記録ス トラテジの一例を示す図である。
第 5図は、 本発明の実施例 1の光記録媒体の記録レーザ光のパワーと 再生ジッタ値との関係を、 比較例と共に示す線図である。
第 6図は、 本発明の実施例 2の光記録媒体における記録レーザ光のパ ヮ一と再生ジッタ値との関係を実施例 1及び比較例と共に示す線図であ る。
第 7図は、 本発明の実施例 3に係る光記録媒体の記録レーザ光のパヮ 一と再生ジッタ値を示す線図である。
第 8図は、 図 7の結果から、 放熱層の膜厚と P maxZ P mi n との関係 を示す線図である。 '
第 9図は、 実施例 4における測定結果を示すグラフである。
第 1 0図は、 実施例 5における測定結果を示すグラフである。 発明を実施するための最良の形態
以下本発明の好ましい実施の形態の例について図面を参照して詳細に 説明する。 ,
図 1に示されるように、 この実施の形態の例に係る光記録媒体 1 0は、 ポリカーボネートからなる支持基体 1 2上に、 少なく ども反射膜 1 6、 第 2誘電体層 1 8、 記録層 2 0、 第 1誘電体層 2 2、 放熱層 2 4、 光透 過層 2 6、 がこの順で形成されている。
前記支持基体 1 2は、 ここでは、 ポリカーボネート樹脂の射出成形に よって形成され、 その厚さが約 1 - 1 mmとされている。 この上に、 ス ノ、。ッタリング法により、 前記反射膜 1 6、 第 2誘電体層 1 8、 記録層 2 0、 第 1誘電体層 2 2、 放熱層 2 4がこの順で形成され、 前記光透過層 2 6は、 アクリル系樹脂からなるものであって、 その厚さが l O O /x m 程度とされている。 前記光記録媒体 1 0の中央部分には孔 3 0が設けら れている。 このような構造を有する光記録媒体 1 0においては、 光透過 層 2 6側からレーザビームが照射されることによってデータの記録が行 われ、 光透過層 2 6側からレーザビームが照射されることによってデー タの再生が行われる。
従って、 従来の C Dや D V D等において、 この光記録媒体 1 0の光透 過層 2 6の位置に相当する榭脂層、 即ち反射膜上の保護層の厚さ （約 5 . 〜 1 0 111) と比較して、 前記光透過層 2 6はかなり厚く形成されてい る。
前記反射膜 1 6は、 要求される反射率を満たすもので れば限定され 5 ず種々の金属材料等が適用可能であるが、 ここでは A gを主成分とする 合金からなっている。 第 1誘電体層 2 2も種々の材料が適用可能である ' 力 ここでは Z n S— S i 02を用いた。 又、 記録層 2 0は相変化型の
記録層組成である A g I n S b T e G e系とした。
前記第 2誘電体層 1 8は、 その熱伝導率 kが、 k > 1 W · m_l · K- IO 1の材料、 例えばアルミナ （A 1 203) から構成されており、 又、 膜厚 は、 2 n m以上 2 0 0 n m以下、 好ましくは 5 n m以上 1 0 0 n m以下 ' とする。
また、 特に限定されるものではないが、 反射膜 1 6の厚さは 1 0〜 3 0 O n mであり、 記録層 2 0の厚さは 5〜 3 0 n mであり、 第 1誘電体層
15 2 2の厚さは 1 0〜 3 0 0 nmであり、 光透過層 2 6の厚さは 1 0〜 3 0 0 /i m、 好ましくは 5 0〜 1 5 0 /x mである。
又、 前記放熱層 2 4は、 その熱伝導率 kが、 k > 1 W · m- 1 · K-l の材料、 例えばアルミナ （A 1203) から構成されており、 又、 膜厚 は、 1 0 η m以上 2 0 0 n m以下、 好ましくは 3 0 n m以上 1 0 0 n m
20 以下とする。 '
放熱層 2 4は、 記録層 2 0に与えられた熱を効率的に放熱させるため の層であり、 光記録媒体 1 0のパワーマージンを拡大する役割を果たす。 ' したがって、 放熱層 2 6の熱伝導率は、 少なく とも第 1誘電体層 2 2の 熱伝導率よりも高いことが求められる。
25 更に具体的には、 4 5 0 rim以下、 好ましくは波長 3 8 0〜4 5 0 n m、 更に好ましくは 4 0 5 nmのレーザ光を、 前記光透過層 2 6側から、 対物レンズ （図示省略） の開口数が 0. 7以上、 好ましくは 0. 8 5の 照射光学系を介して前記記録層に照射して、 記録した情報の再生時のジ ッタ値が、 1 3 %未満となる前記レーザ光の最大限界パワーを P max、 最小限界パワーを P mi n としたとき、 P max > P mi n X 2 . 2となるよ うに放熱層 2 4を設定している。
ここで、 前記第 2誘電体層 1 8の膜厚を 2 n m以上と したのは、 2 n m未満の場合は、 僅かな膜厚のばらつきによってレーザ光のパワーマー ジンが大きく変化してしまうからである。 従って、 前記膜厚はより好ま しくは 5 n m以上とする。
又、 前記放熱層 2 4の膜厚を 1 0 n m以上と したのは、 具体的には放 熱層 2 4が 1 0 n tn未満であると膜厚の制御が困難となる一方で、 前記 と同様に僅かな膜厚のばらつきによってレーザ光のパワーマージンが大 きく変化してしまうからである。 また、 これが 3 0 n m以上である場合、 パワーマージンの拡大効果を顕著に得ることができる。 従って、 前記膜 厚はより好ましくは 3 0 n m以上とする。 '
更に、 前記膜厚を 2 0 0 n m以下としたのは、 これ以上厚くすると、 製造時の成膜時間が過大となり、 スループッ トが低下するのみならず、 同時に支持基体 1 2への熱ダメージが大きくなるからである。 従って、 2 0 0 n m以下とし、 より好ましくは 1 0 0 n m以下とする。 以上を考 慮すれば、 放熱層？ 4の厚さは 1 0〜2 0 0 n mに設定することが好ま しく、 3 0〜： L 0 0 11 mに設定することがより好ましい。
上記実施の形態の例において、 前記第 2誘電体層 1 8及ぴ放熱層 2 4 は、 その材料がアルミナとされているが、 本発明はこれに限定されるも のでなく、 熱伝導率が上記のような範囲であって、 記録層 2 0を被うよ うにして膜状に形成できる材料、 例えば窒化アルミニウム等であっても よい。
又、 上記実施の形態の例において、 光透過層 2 6はアク リル系樹脂か ら形成されているが、 紫外線などのエネルギー線によって硬化するエネ ルギ一線硬化型樹脂や、 熱によつて硬化する熱線硬化型樹脂の中から 種々選択可能で、 アクリル系樹脂、 エポキシ系樹脂、 ウレタン系樹脂等 が適用可能ある。 更に、 あらかじめ形成されたポリカーボネートやポリ ォレフィン等の樹脂シートを用いてもよい。 ' 又、 前記支持基体 1 2の材料と して、 実施の形態の例のようなポリ力 ーボネート以外に、 ポリオレフイ ン等を用いても良い。
光記録媒体 Γ 0の記録層 2 0 (A g l n S b T e G e ) は、 相変化膜 であり、 結晶状態である場合の反射率とアモルファス状態である場合の 反射率とが異なることを利用してデータの記録が行われる。 具体的には、 未記録領域における記録層 2 0の状態は結晶状態となっており、 このた め、 その反射率は例えば 2 0 %となっている。 このような未記録領域に 何らかのデータを記録する場合、 記録すべきデータにしたがい、 記録層 2 0の所定の部分を融点を超える温度に加熱した後、 急冷することによ つてァモルファス状態に変化させる。 アモルファス状態となった部分に おける反射率は例えば 7 %となり、 これにより、 所定のデータが記録さ れた状態となる。 そして、 一旦記録したデータを上書きする場合には、 上書きすべきデータが記録されている部分の記録層 2 0を記録すべきデ ータにしたがい、 結晶化温度以上若しくは融点以上の温度に加熱し、 結 晶状態若しくはアモルファス状態に変化させる。
この場合、 記録層 2 0を溶融する際に照射されるレーザビームのパヮ 一 P w (記録パワー） と、 記録層 2 0を冷却する際に照射されるレーザ ビームのパワー P b (基底パワー） と、 記録層 2 0を結晶化する際に照 射されるレーザビームのパワー P e (消去パワー） との関係は、
Pw> P e≥ P b
である。
特に限定されるものではないが、 本実施態様にかかる光記録媒体 1 0 には 「記録条件設定情報」 を格納しておくことが好ましい。 記録条件設 定情報とは、 光記録媒体 1 0に対してデータの記録ノ再生を行う場合に 必要な各種条件、 例えば、 記録用レーザビームのパワーや記録ス トラテ ジ等を特定するために用いられる情報をいう。 記録条件設定情報と して は、 データの記録/再生に必要な各条件を具体的に示すもののみならず、 情報記録装置内にあらかじめ格納されている各種条件のいずれかを指定 することにより記録条件ノ再生条件の特定を行うものも含まれる。
また、 「記録ス トラテジ」 とは、 記録マークを形成するための記録用 レーザビームの照射方法、 すなわちレーザビームのパルス数、 各パルス のパルス幅、 パルス間隔、 レーザビームのパワー （P w、 P e、 P b ) 等の設定をいい、 光記録媒体 1 0に含まれる記録条件設定情報に基づい て決定される。
ここで、 本実施態様にかかる光記録媒体 1 0にデータを記録する場合、 レーザビームの記録パワー P wを適切な範囲内に設定する必要があり、 記録パワー P wが適切な範囲を外れた場合、 適切な形状をもった記録マ ークを形成することができず、 ジッタが大幅に悪化してしまう。 ここで、 形成された記録マークのジッタ値が 1 3 %以下となる記録パワー P wの 範囲を 「第 1のパワーマージン」 と呼ぴ、 その下限パワーを Pw (m i n 1 ) と定義し、 その上限パワーを Pw (m a X 1 ) と定義した場合、 本実施態様にかかる光記録媒体 1 0においては、 下限パワー P w (m i n 1 ) と上限パワー P w (m a X 1 ) との比が、
P (m a X 1 ) / P w (m i n i ) 〉 2. 2 · · ■ · (.1)
の条件を満たしている。 また、 下限パワー P w (m i n 1 ) ,と上限パヮ 一 P w (m a X 1 ) との比は、
P w (m a X 1 ) / P w (m i n i ) > 2. 5 · ■ · · ( 2) の条件を満たしていることが好ましく、
P w (m a X 1 ) / P w (m i n i ) > 3 ■ ■ · · ( 3) の条件を満たしていることがより好ましい。 一般に、 ジッタ値が 1 3 %を超える場合には多量の読み出しエラーが 発生するため、 レーザビームの記録パワー P wを P w (m i n i ) 〜P w (m a x 1 ) の範囲内に設定するために必要な情報を記録条件設定情 報に含ませることにより、 読み出しエラーの発生を効果的に抑制するこ とができる。 .
さらに、 形成された記録マークのジッタ値が 9 %以下となる記録パヮ 一 Pwの範囲を 「第 2のパワーマージン」 と呼び、 その下限パヮ一を P w (m i n 2 ) と定義し、 その上限パワーを P w (m a x 2 ) と定義し た場合、 本実施態様にかかる光記録媒体 1 0においては、 下限パワー P w (m i n 2 ) と上限パワー P w (m a x 2 ) との比が、
P w (m a x 2 ) / P w (m i n 2 ) 〉 1. 5 . . . . ( 4 ) の条件を満たしていることが好ましく、
P w (m a X 2 ) / P w (m i n 2 ) > 1. 8 . . . . ( 5 ) の条件を満たしていることがより好ましく、
P w (m a X 2 ) /P w (m i n 2 ) > 2 ■ · · · ( 6 ) の条件を満たしていることが特に好ましい。
一般に、 ジッタ値が 9 %を超える場合には読み出しエラーが発生する 可能性が高いため、 レーザビームの記録パワー P wを P w (m i n 2 ) 〜Pw (m a x 2) の範囲内に設定するために必要な情報を記録条件設 定情報に含ませることにより、 読み出しエラーの発生をより効果的に抑 制することができる。 '
次に、 本実施態様にかかる光記録媒体 1 0の製造方法について説明す る。
図 2は、 本実施態様にかかる光記録媒体 1 0の製造方法を示すフロー チャートである。 上述のとおり、 光記録媒体 1 0の光透過層 2.6は厚さ が 1 0〜 3 0 0 mと非常に薄く、 このため、 従来の一般的な DVD— RWとは逆の順序で成膜が行われる。 - まず、 スタンパを用いて、 グループ幅が約 0. 1 5 ;m、 トラックピ ツチが約 0 - 3 2 m、 グループの深さが約 2 0 nmであるプリグルー ブを有する厚さが約 1. 1 mmの支持基体 1 2を射出成形する （ステツ プ. S 1 ) 。
次に、 支持基体 1 2をスパッタリング装置の第 1のチャンバ一 （図示 せず） 内に搬送する。 スパッタリ ング装置の第 1のチャンバー內には、 ターゲッ トとして銀を主成分とする合金が備えられている。 次に、 第 1 のチャンバ一内を約 1 X Γ0_4Ρ a程度の減圧状態と し、 次いで第 1の . チャンバ一内にァノレゴンガスを導入してそのガス圧を 0. 1〜1. 0 P aに設定した後、 ターゲッ トに直流電圧若しくは高周波電圧を印加する ことにより、 スパッタリングを行う。 これにより、 支持基体 1 2の上面 には、 厚さが 1 0〜 3 0 0 nmの反射膜 1 6が形成される （ステップ S 2) 。 ·
次に、 反射膜 1 6が形成された支持基体 1 2を第 1のチャンバ一から 第 2のチャンバ一 （図示せず） へ搬送する。 スパッタリング装置の第 2 のチヤンバー内には、. ターゲッ トとして A 1203が備えられている 9 次 に、 第 2のチャンバ一内を約 1 X 1 0— 4 P a程度の減圧状態とし、 次い で第 2のチャンバ一内にアルゴンガスを導入してそのガス圧を 0. 1〜 1. 0 P aに設定してスパッタリングを行う。 これにより、 反射膜 1 6 の上面には、 厚さが 2〜 5 0 nmの第 2誘電体層 1 8が形成される （ス テツプ S 3 ) 。
次に、 反肘膜 1 6及び第 2誘電体層 1 8が形成された支持基体を第 2 のチャンバ一から第 3のチャンバ一 (図示せず) へ搬送する。 スパッタ リング装置の第 3のチャンバ一内には、 A g、 I n、 S b、 T e及び G eの混合ターゲッ トが備えられている。 次に、 第 3のチャンバ一内を約 1 X 1 0_4P a程度の減圧状態とし、 次いで第 3のチャンバ一内にアル ゴンガスを導入してそのガス圧を 0. 1〜 1. 0 P aに設定してスパッ タリングを行う。 これにより、 第 2.誘電体層 1 8の上面には、 厚さが 5 〜 3 0 の記録層 2 0が形成される （ステップ S 4 ) 。
次に、 反射膜 1 6〜記録層 2 0が形成された支持基体 1 2を第 3のチ ヤンバーから第 4のチャンバ一 (図示せず) へ搬送する。 スパッタリン グ装置の第 4のチャンバ一内には、 Z n S及び S i 02の混合ターゲッ トが備えられている。 次に、 第 4のチヤンバー内を約 1 X 1 0 -4 P a程 度の減圧状態と し、 次いで第 4のチャンバ一内にアルゴンガスを導入し てそのガス圧.を 0 . 1〜 1 . 0 P aに設定してスパッタリングを行う。 これにより、 記録層 2 0の上面には、 厚さが 1 0〜3 0 0 n mの第 1の 誘電体層 2 2が形成される （ステップ S 5 ) 。
次に、 反射膜 1 6〜第 1誘電体層 2 2が形成された支持基体 1 2を第 4のチャンバ一から第 5のチャンバ一 (図示せず) へ搬送する。 スパッ タリング装置の第 5のチャンバ一内には、 ターゲッ トとして A 1 2〇3が 備えられている。 次に、 第 5のチャンバ一内を約 1 X 1 0— 4 P a程度の 減圧状態とし、 '次いで第 5のチャンバ一内にアルゴンガスを導入してそ のガス圧を 0 . 1〜 1 . 0 P aに設定してスパッタリングを行う。 これ により、 第 1誘電体層 2 2の上面には、 厚さが 1 0 2 0 0 n m、 好ま しくは 3 Ό〜1 0 Ο n mの放熱層 2 4が形成される （ステップ S 6 ) 。 尚、 放熱層 2 4のスパッタリングは、 第 2のチャンバ一を用いて行って も構わない。
このようにして支持基体上への反射膜 1 6、 第 2誘電体層 1 8、 記録 層 2 0、 第 1誘電体層 2 2及び放熱層 2. 4の形成が完了すると、 これら 各層が形成された基板 1 1 をスパッタリング装置の第 5のチャンバ一か ら搬出し、 スピンコート法、 ロールコート法、 スク リーン印刷法等によ り放熱層 2 4の表面に紫外線硬化性樹脂を塗布した後、 紫外線を照射す ることによって厚さが約 1 0〜 3 0 0 μ mの光透過層 2 6を形成する (ステップ S 7 ) 。 以上により、 本実施態様にかかる光記録媒体 1 0が 完成.する。 尚、 光透過層 2 6の形成については、 あらかじめ成形された ポリカーボネートゃポリオレフィン等の榭脂性シート材を放熱層 2 4の 表面に接着することによって行っても構わない。
次に、 本実施態様にかかる光記録媒体 1 0に対するデータの記録を行 うための装置について説明する。
図 3は、 光記録媒体 1 ◦に対するデータの記録を行うのに好適な情報 記録装置の主要部を概略的に示す図である。
かかる情報記録再生装置は、 図 3に示されるように、 光記録媒体 1 0 を回転させるためのスピンドルモータ 2と、 光記録媒体 1 0にレーザビ ームを照射するヘッド 3と、 スピンドルモータ 2及びヘッド 3の動作を 制御するコントローラ 4と、 へッド 3にレーザ駆動信号を供給するレー ' ザ駆動回路 5 と、 へッ ド 3にレンズ駆動信号を供給するレンズ駆動回路 6とを備えている。
さらに、 図 3に示され,るように、 コン トローラ 4にはフォーカスサー ボ追従回路 7、 トラッキングサーポ追従回路 8及びレーザコントロール 回路 9が含まれている。 フォーカス ーボ追従回路 7が活性化すると、 回転している光記録媒体 1 0の記録面にフォーカスがかかった状態とな り、 トラッキングサーボ追従回路 8が活性化すると、 光記録媒体 1 0の 偏芯している信号トラックに対して、 レーザビームのスポッ トが自動追 従状態となる。 フォーカスサーポ追従回路 7及びトラッキングサーポ追 従回路 8には、 フォーカスゲインを自動調整するためのォートゲインコ ントロール機能及びトラッキングゲインを自動調整するためのォートゲ インコン トロール機能がそれぞれ備えられている。 また、 レーザコント ロール回路 9は、 レーザ駆動回路 5により供給されるレ ザ駆動信号を 生成する回路であり、 光記録媒体 1 0に記録条件設定情報が記録されて いる場合、 これに基づいて、 適切なレーザ駆動信号の生成を行う。 尚、 .これらフォーカスサーボ追従回路 7、 トラッキングサーボ追従回 路 8及ぴレーザコントロール回路 9については、 コントローラ 4内に耝 み込まれた回路である必要はなく、 コントローラ 4と別個の部品であつ ても構わない。 さらに、 これらは物理的な回路である必要はなく、 コン トローラ 4内で実行されるソフトウェアであっても構わない。
特に限定されるものではないが、 光記録媒体 1 0に対するデータの記 録を行うのに好適な情報記録装置としては、 レーザビームの波長が 4 5 0 n m以下、 特に 3 8 0〜 4 5 0 n mであることが好ましく、 へッ ド 3 の一部であり記録用レーザビームを収束するための対物レンズの N A (開口数） が 0 . 7以上であることが好ましい。 ，このような情報記録装 置を用いた光記録媒体 1 0に対するデータの記録においては、 対物レン ズと光記録媒体 1 0の表面との距離 （'ワーキング 'ディスタンス） が非 常に狭く （例えば、 約 8 0〜 1 5 0 i m ) 設定され、 このため、 従来に 比べて極めて小さいビー-ムスポッ ト径を実現することができる。 これに より、 このような情報記録装置を用いた光記録媒体 1 0に対するデータ の記録においては、 極めて高いデータ転送レート （例えば、 3 5 M b p s以上） を実現することが可能となる。
また、 このような情報記録装置を用いた本実施態様にかかる光記録媒 体 1 0に対するデータの記録においては、 上述の通り、 光記録媒体 1 0 ^記録条件設定情報が格納されている場合、 これに基づき決定された記 録ス トラテジが用いられ、 レーザビームの記録パワー P wが決定される。 また、 特に限定されるものではないが、 上述した情報記録装置におい ては、 （ 1 , 7 ) R L Lの変調方式を用いることができる。 但し、 光記 録媒体 1 0に対するデータの記録を行うための情報記録装置としては、 かかる変調方式によりデータの記録を行うものである必要はなく、 他の 変調方式によりデータの記録を行うものであっても構わない。 次に、 （1 , 7 ) R L Lの変調方式を用いた場合における記録ス トラ テジの一例について説明する。
図 4は、 2 Tに対応する長さの記録マークを形成する場合の記録ス ト ラテジのを示す図である。
図 4に示されるように、 2 Tに対応する長さの記録マークを形成する 場合、 レーザビームのパルス数は 「 1」 に設定される。 ここで、 レーザ ビームのパルス数とは、 レーザビームのパワーが P wまで高められた回 '数によって定義される。 より詳細には、 レーザビームが記録マークの始 点に位置するタイミングを時刻 t s と し、 レーザビームが記録マークの 終点に位置するタイミングを時刻 t e と した場合、 時刻 t sから時刻 t eまでの間に、 レーザビームのパワーがー且 P wとされ、 次に、 パワー P b とされる。 ここで、 時刻 t s以前における記録用レーザビームのパ ヮ一は P eに設定されており、 時刻 t sにおいてレーザビームの立ち上 げが開始される。 また、 時刻 t eにおけるレーザビームのパワーは P e または P bに設定される。
T p u 1 s eの期間においては、 光記録媒体 1 0の記録層 2 0は高い エネルギーを受けてその温度が融点を超え、 T c 1の期間においては、 光記録媒体 1 0の記録層 2 0は急速に冷却される。 これにより、 光記録 媒体 1 0の記録層 2 0には、 2 Tに対応する長さの記録マークが形成さ れる。 '
他の長さの記録マークを形成する場合も、 上記 2 Tに対応する長さの 記録マークを形成する場合と同様、 レーザビームのパワーが P w、 P e 或いは P bに設定され、 .各々所定数のパルスによって所望の長さをもつ 記録マークが形成される。
ここで、 本実施態様にかかる光記録媒体 1 0においては、 上述の通り パワーマージンが広いことから、 ヘッド 3に含まれるレーザドライバの 製造ばらつきにより レーザビームのパワーが所望のレベルとは大きく異 なっていたり、 何らかの原因でレーザビームのパワーが変動した場合で あっても、 ジッタを低く抑えることができる。 特に、 本実施態様にかか る光記録媒体 1 0においては、 比較的強い記録パワーのレーザビームを 用いて記録マークを形成した場合あっても良好なジッタが得られること から、 データ転送レートを高く （例えば、 3 5Mb p s以上） 設定して 記録を行う場合においても十分なパワーマージンが確保される。
以下本発明の実施例について詳細に説明する。
[実施例 1 ]
以下の手順で光記録媒体を作成した。
グループを形成した、 前記実施の形態の例におけると同様のポリカー ボネート樹脂製のディスク状支持基体 （グループの深さは、 波長 λ =
4 0 5 n mにおける光路長で表わして ； / 1 8 と し、 記録トラックピ ツチは 0. 3 2 Atmとした） の表面に、 A gを主成分とする反射膜をス パッタ リ ング法により 1 0 0 n mの厚さで形成した。
次に、 この反射膜の表面に、 A 1 203からなる第 2誘電体層をスパ ッタリング法により 2 0 n mの厚さで形成した。
更に、 前記第 2誘電体層上に相変化材料からなる合金ターゲッ トを用 い、 スパッタリング法により厚さ 1 2 nmの記録層を形成した。 この記 録層の組成は、 A g l n S b T e G e とした。
更に、 前記記録層表面上に Z n S ( 8 0モル％) — S i' 02 ( 2 0モ ル％) ターゲッ トを用いてスパッタリング法により厚さ 4 5 nmの第 1 誘電体層を形成した。
この第 1誘電体層の表面に、 前述の第 2誘電体層と同様に、 A 1 20
3からなる放熱層をスパッタリング法により厚さ 3 0 nmに形成した。 次いで、 前記放熱層の表面に、 紫外線硬化型樹脂をスピンコート法に より塗布し、 紫外線を照射することによって厚さ 1 0 0 /X mの光透過層 を得た。 [比較例 1 ]、 [比較例 2]
更に、 比較例 1 として、 前記実施例 1から放熱層を取り除いたもの、 比較例 2 として、 前記比較例 1の第 2誘電体層を、 前記実施例 1及び比 較例 1における第 1誘電体層と同様の誘電体層に置き換えたものを作成 した。 ，
これらに、 前記実施の形態の例におけると同様に、 波長 λ = 4 0 5 nm、 対物レンズの開口数- N A= 0. 8 5の条件で、 消去パワー P e、 記録パワー P wの比率を P e /P w= 0. 5 5に固定し、 レーザ光のパ ヮーを 3 mWから 1 0 mWに変化させて記録した後に再生ジッタ値を測 定したところ、 図 5に示されるようになった。 なお、 記録は 1 トラック (グノレーブ） のみで行った。
図 5に基づいて、 前記実施例 1、 比較例 1、 比較例 2における、 再生 ジッタ値が 1 3 %未満となるレーザ光の最大限界パワー Pmax と最小限 界パワー Prain とを比較して表 1に示す。
【表 1】
Figure imgf000022_0001
図 5及び表 1からも分かるように、 比較例 1及び 2では再生ジッタ値 が 1 3 %未満となるレーザ光の最小限界パワー Ptninに対して、 最大限 界パワー Praaxが Pmin の 2倍程度となっているが、 実施例 1の場合で は、 図 2からも分かるように、 再生ジッタ値が 1 3 %未満となるレーザ 光の最小限界パワーが 4. 2mWであるのに対して、 最大限界パワーは 1 OmWを越えていて測定は不可能であった。 即ち、 第 1実施例においては、 Pmaxは Pminの 2. 2倍を越えてい た。
[実施例 2 ]
実施例 2は、 前記実施例 1における第 1誘電体層の膜厚を 3 5 nm に変更することによって、 記録感度を高感度にしたものである （実施例 1を低感度とする） 。
これら低感度及び高感度の記録媒体と、 前記比較例 2の記録媒体の、 再生ジッタ値を測定したところ、 図 6のようになった。
前記表 1 と同様に、 低感度、 高感度及び比較例 2におけるレーザ光の 最小限界パワー Pmin、 最大限界パワー Pmax、 及び、 Pmax/Pminを 表 2に示す。
【表 2】
Figure imgf000023_0001
図 6及び表 2からも分かるように、 本 ¾明の実施例の場合は、 Pmax /Pmin力 S 2. 2以上となっている。
[実施例 3 ] ,
次に、 前記実施例 2の光媒体での放熱層の膜厚を変更して、 これが、 再生ジッタ値にどのような影響を与えるか測定した結果を図 7に示す。 放熱層の膜厚は、 1 0 nm、 3 0 nm、 及び、 6 0 nmの 3種類とし た。 なお、 放熱層の膜厚が 0 nmの比較例も図 7に示した。
これらの実施例の、 P max/ P rainと放熱層の厚さとの関係を図 8に 示す。 図 7、 図 8からは、 放熱層の厚さが僅かでもあれば PmaxZPjninは 2. ' 2を越えることが分かる。 又、 図 8からは、 放熱層の厚さが 1 0 0 n m程度であっても、 Pmax/Pminを 2. 2以上にできることが分か る。 又、 厚さ 2 0 ◦ nm程度としても Pmax/Pminが 2. 2を越える ことが推測できる。
[実施例 4]
図 1に示した構造を有し、 いずれも支持基体 1 2の厚みが 1. 1 mm であり、 反射膜 1 6の厚みが 1 0 0 nmであり、 第 2誘電体層 1 8の厚 みが 2 0 n mであり、 記録層 2 0の厚みが 1 2 n mであり、 第 1の誘電 体層 1 5の厚みが 3 5 nmであり、 光透過層 2 6の厚みが 1 0 0 μ で あり、 それぞれ放熱層 24の厚みが 0 n m、 1 0 nm、 3 0 nm及ぴ 6 0 nmである光記録媒体 1 0 _ 1、 1 0— 2、 1 0— 3及び 1 0— 4を 上述した方法により作製した。
このような光記録媒体 1 0— 1、 1 0 - 2 , 1 0— 3及び 1 0— 4に 対し、 表 3に示す条件のもと、 種々の記録パワー P w (最大 1 O mW) によって、 2 T〜8 Τに対応する長さの記録マークからなる混合信号を 形成した。 記録には （1， 7) R L Lの変調方式を用い、 1 トラックに のみデータを記録した。
【表 3】
ク口ック周波数 66MHz
クロック周期（1T) 15.15nsec 線速度 5.3m/ sec
変調方式 (1， 7)RLL
フォーマツ ト効率 80%
データ転送レート
(効率を考慮） 3'5Mbps テャノ不ゾレヒ ッ 卜 0.12 m/ bi t 開口^ (, Α 0.8 o5「 レーザ波長 405nra
Pe Pw X 0.55
Pb 0. lmW
次に、 光記録媒体 1 0— 1、 1 0— 2、 1 0— 3及ぴ 1 0— 4に形成 された混合信号のクロックジッタを測定した。 測定においては、 タイム インターバルアナライザにより再生信号の 「ゆらぎ （σ) 」 を求め、 σ /T w (Tw ： クロックの 1周期） により算出した。
測定の結果を図 9に示す。 図 9の凡例中、 カツコで表示されているの は放熱層 1 6の厚みである。
図 9に示されるように、 放熱層 24を備えない （O nm) 光記録媒体 1 0 - 1に比べ、 放熱層 24を備える光記録媒体 1 0— 2、 1 0— 3及 び 1 0— 4のパワーマージンが大幅に広いことが確認できる。 具体的な パワーマージンを表 4に示す。
【表 4】
Figure imgf000025_0001
表 4に示されるように、 放熱層 24を備えない （O nm) 光記録媒体 1 0 - 1においては、
P w Ti a 1 j / P w (m i n i ) < 2. 2 であるが,、 放熱層 1 6を備える光記録媒体 1 0— 2、 1 0 - 3及び 1 0 一 4においては、
P w (m a 1 ) / P w (m i n i ) 〉 2. 2
となっていることが分かる。 特に、 放熱層 2 4の厚みがそれぞれ 3 0 n m及ぴ 6 0 n mである光記録媒体 1 0— 3及び 1 0— 4においては、 記 録パワーを 1 0 mWに設定した場合のジッタが 1 3 %以下であり、 P w (m a 1 ) / P w (m i n i ) > 3
となっている。 このように、 放熱層 2 4の厚みがそれぞれ 3 0 nm及び 6 0 nmである光記録媒体 1 0— 3及び 1 0— 4においては、 ジッタカ 1 3 %以下である領域、 すなわち第 1のパワーマージンが非常に広いこ とが分かる。
また、 表 4に示されるように、 放熱層 2 4を備えない （O nm) 記 録媒体 1 0— 1においては、
P w (m a X 2 ) / P w (m i n 2 ) < 1. 5
であるが、 放熱層 2 4を備える光記録媒体 1 0— 2、 1 0— 3及び 1 0 _ 4においては、 ·
P (m a X 2 ) / P w (m i n 2 ) > 1. 5
となっていることが分かる。 特に、 放熱層 2 4の厚みがそれぞれ 1 0 n m及び 6 0 nmである光記録媒体 1 0— 2及び 1 0— 4においては、 P w (m a X 2 ) / P w (m i n 2) > 1. 8
となっている。 このように、 放熱層 2 4の厚みがそれぞれ 3 0 nm及び 6 0 n mである光記録媒体 1 0一 2及び 1 0— 4においてはジッタが
9 %以下である領域、 すなわち第 2のパワーマージンが非常に広いこと が分かる。 . 本実施例より、 他の層の構造が同一である場合、 放熱層 2 4の厚みを
1 0 nm以上に設定するとパワーマージンが拡大され、. 特に、 放熱層 2 4の厚みを 6 0 η ηιに設定するとパワーマージンが著しく拡大されるこ とが確認された。
実施例 5
図 1に示した構造を有し、 支持基体の厚みが 1 . 1 mmであり、 反射 膜 1 6の厚みが 1 0 0 n mであり、 第 2誘電体層 1 8の厚みが 2 0 n m であり、 記録層 1 4め厚みが 1 2 n mであり、 第 1誘電体層 2 2の厚み が 4 5 n mであり、 放熱層 2 4の厚みが 3 0 n mである光記録媒体 1 0 • _ 5を上述した方法により作製した。 かかる光記録媒体 1 0 — 5は、 上 述した光記録媒体 1 0— 3に対し第 1誘電体層 2 2の厚みが変更されて いる点においてのみ異なる。 これにより、 光記録媒体 1 0 — 5は、 上述 した光'記録媒体 1 0— 3よりも低い記録感度を有している。
このような光記録媒体 1 0— 5に対し、 表 3に示す条件のもと、 種々 の記録パワー P w (最大 1 0 mW) によって、 2 T〜8 Tに対応する長 さの記録マークからなる混合信号を形成した。 記録には （ 1， 7) R L Lの変調方式を用い、 1 トラックにのみデータを記録した。
次に、 光記録媒体 1 0— 5に形成された混合信号のクロックジッタを 測定した。
測定の結果を図 1 0に示す。 図 1 0には、 光記録媒体 1 0 — 5と同じ 厚さの放熱層 2 4を有する光記録媒体 1 0— 3の測定結果も併せて示さ れている。 図 6の凡例中、 カツコで表示されているのは第 1誘電体層 2 2の厚みである。 ' 上述の通り、 光記録媒体 1 0— 5は光記録媒体 1 0— 3よりも記録感 度が低いため、 ジッタが十分に低くなる領域がより高出力側にシフトし ているが、 パワーマージンは光記録媒体 1 0— 3と同様、 十分に広いこ とが確認できる。 具体的なパワーマージンを表 5に示す。
【表 5】 Pw (ma 1) Pw (max2)
Pw (min 1 ) Pw (max2) Pw (max 1 )
/Pw (mini) /P (min2) 光記録媒体 10-5 4.2mW 4.9mW > 10mW > 10mW >2.04 表 5に示されるように、 光記録媒体 1 0— 5においては記録パワーを 1 0 mWに設定した場合のジッタが 1 3 %以下であり、
P w 、m a X 1 ) / P w (m i n i ) > 2. 2
となっている。
また、 表 3に示されるように、 光記録媒体 1 0— 5においては記録パ ヮーを 1 0 mWに設定した場合のジッタが 9 %以下であり、
P w (m a X 2 ) / P w (m i n 2 ) > 2
となっている。
本実施例より、 放熱層 2 4の厚みが同一である場合 A、 第 1誘電体層 2 2の厚みを変えることによって記録感度を調節しても、 十分に広いパヮ 一マージン得られることが確認された。
このよ うに、 本実施態様にかかる光記録媒体 1 0においては、 下限パ ヮー Pw (m i n i ) と上限パワー P w (m a x 1 ) との比が、
P w (m a x 1 ) / P w (m i n i ) > 2. 2 · · ■ · ( i ) の条件を満たしていることから、 何らかの原因で記録用レーザビームの パヮ一が変動した場合であっても、 ジッタを低く抑えることができる。 本発明は、 以上の実施態様に限定されることなく、 特許請求の範囲に 記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、 それらも本発明の 範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
例えば、 上記実施態様においては、 光記録媒体 1 0の具体的な構造と して図 1に示す構造を拳げたが、 本発明による光記録媒体の構造がこれ に限定されることはない。 産業上の利用の可能性
' 本発明は上記のように構成したので、 記録時のレーザ光による熱を効 率的に発散して、 記録レーザ光のパワーマージンを拡大することができ るという優れた効果を有する。 又、 本発明にかかる光記録媒体はパワー マージンが非常に広いことから、 安定したデータの記録を行うことが可 能となる。

Claims

請 求 の 範 囲
1. 支持基体に形成された記録層を被って、 少なく とも光透過層が設 けられていて、 この光透過層側から入射するレーザ光により前記記録層 に情報を記録する光記録媒体であって、 前記記録層の前記光透過層側に、 熱伝導率が、 1 W ' m-1 · K-1 を超える材料からなる放熱層を設けた ことを特徴とする光記録媒体。
2. 請求項 1において、 波長が 4 5 0 nm以下のレーザ光を、 対物レ ンズの開口数が 0. 7以上の照射光学系を介して前記記録層に照射して 記録した情報の再生ジッタ値が 1 3 °/0未満となる前記レーザ光の最大限 界パワーを Pmax、 最小限界パワーを P rain としたとき、 Pmax> P minX 2. 2となるように前記放熱層を設定したことを特徴とする光記 · 録媒体。
3. 請求項 2において、 レーザ光の波長が 3 8 0 n m以上であること を特徴とする光記録媒体。
4. 請求項 1、 2又は 3において、 前記放熱層の膜厚を 1 0 nm以上 2 0 0 nm以下、 好ましくは 3 0 nm以上 1 0 0 nm以下と したことを 特徴とする光記録媒体。
5. 少なく とも記録層を有し、 レーザビームにより前記記録層に記録 マークが形成されることによって情報を記録する光記録媒体であって、 形成された記録マークのジッタ値が 1 3 %未満となる前記レーザビーム の記録パワーの下限を Pw (m i n i ) とし、 形成された記録マークの ジッタ値が 1 3 %未満となる前記レーザビームの記録パワーの上限を P w (m a 1 ) とした場合、 P w (m a x 1 ) / P w (m i n i ) > 2. 2の条件を満たすことを特徴とする光記録媒体。
6. 請求項 5において、 P w (m a X 1 ) / P w (m i n i ) > 2. 5の条件を満たすことを特徴とする光記録媒体。 ·
7. 請求項 5において、 P w (m a x 1 ) /P w (m i n 1 ) > 3の 条件を満たすことを特徴とする光記録媒体。
8. 請求項 5乃至 7のいずれかにおいて、 形成された記録マークのジ ッタ値が 9 %以下となる前記レーザビームの記録パワーの下限を P w (m i n 2) と し、 形成された記録マークのジッタが 9 %以下となる前 記レーザビームの記録パワーの上限を Pw (m a x 2) と した場合、 P w (m a X 2 ) / P w (m i n 2 ) 〉 1. 5の条件を満たすことを特徴 どする光記録媒体。
9. 請求項 8において、 P w (m a 2 ) / P w (m i n 2 ) 〉 1. 8の条件を満たすことを特徴とする光記録媒体。 .
1 0. 請求項 9において、 Pw (m a X 2 ) /" P w (m i n 2 ) > 2 の条件を満たすことを特徴とする光記録媒体 9
1 1. 請求項 5乃至 1 0のいずれかにおいて、 前記レーザビームの入 射面側に設けられた光透過層と、 前記記録層と前記光透過層との間に設 けられた誘電体層及び放熱層をさらに有することを特徴とする光記録媒 体。
1 2. 請求項 1 1において、 前記放熱層の厚みが 1 0〜 2 0 0 nmで あることを特徴とする光記録媒体。
1 3. 請求項 1 2において、 前記放熱層の厚みが 3 0〜 1 0 0 n mで あることを特徴とする光記録媒体。
1 4. 少なく とも記録層を有し、 レーザビームにより前記記録層に記 録マークが形成されることによって情報を記録する光記録媒体であって、 前記レーザビームの波長を 4 5 0 nm以下に設定し、 前記記録用レーザ ビームを収束するための対物レンズの開口数を 0. 7以上に設定して形 成された記録マークのジッタ値が 1 3 %未満となるレーザビームの記録 パワーの下限を P w (m i n i ) とし、 形成された記録マークのジッタ 値が 1 3 %未満となる前記レーザビームの記録パワーの上限を P w (m a 1 ) とした場合、 P w (m a 1 ) Z P w (m i n i ) 〉 2. 2の 条件を満たすことを特徴とする光記録媒体。
1 5. 請求項 1 4において、 前記レーザビームの波長を 3 8 0〜4 50 nmに設定した場合に、 Pw (m a x 1 ) /P w (m i n i) > 2. 2の条件を満たすことを特徴とする記録媒体。
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