WO1992021792A1 - Procede et installation pour preparer en continu une bande d'acier munie d'une couche deposee electrolytiquement - Google Patents

Procede et installation pour preparer en continu une bande d'acier munie d'une couche deposee electrolytiquement Download PDF

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WO1992021792A1
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electrolyte
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Norbert PRÜM
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Sikel N.V.
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/10—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
    • C25D5/605—Surface topography of the layers, e.g. rough, dendritic or nodular layers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F5/00—Electrolytic stripping of metallic layers or coatings

Definitions

  • the electrolyte used can be a neutral, alkaline or acid electrolyte.
  • the speed of the electrolyte in the chamber is for example greater than 0.1 m / s, but is preferably less than 1.5 m / s to ensure that the hydrogen bubbles do not come together to form large bubbles.
  • Zn-Ni electrolytically deposited in particular a steel strip whose Zn or Ni content distributed in a homogeneous and regular manner on the other face is less than 50 yg / m 2, advantageously 25 ⁇ g / 2, of
  • the installation 21 for removing the Ni possibly deposited on the layer of Zn and for at least partially eliminating said layer of Zn consists, in the embodiment shown in FIG. 1, of a bath 22 of sulfuric acid in which the strip 3 is diving.
  • the bath 22 is connected to a reservoir 23 so as to maintain the concentration of sulfuric acid at a substantially constant value.
  • This reservoir 23 is connected to means not shown for removing Zn and / or Ni from the bath.
  • the strip was brought into electrolytic cells 1 to deposit on the face 2 of the strip a layer of Zn-Ni.
  • FIG. 2 schematically shows a second embodiment of an installation according to the invention.
  • This installation comprises: two electrolytic cells 11 for depositing on the faces 2, 4 of the strip 3 a first layer of Zn whose thickness was approximately ly; - A series of electrolytic cells 1 for depositing on the face 2 of the strip 3 a Zn-Ni layer; a "deplating" cell 50 as a unit for removing Ni possibly deposited on the first layer of Zn of face 4, as well as for removing said first layer; a device for rinsing 51 of the strip 3 after passage through the "deplating" cell, and a brushing installation 52 to ensure that all the Ni which had been deposited on the first layer of Zn on face 4 has been removed.
  • the flattening cell 50 comprises a cathode 53 placed in an envelope whose wall facing the strip consists of a membrane. Such a cathode will be described later.
  • the installation then comprises a series of reservoirs 54,55, 56,57.
  • the first reservoir 54 contains the electrolyte intended to be brought to the cells 1 by conduits 58 provided with pumps, while the second reservoir 55 is intended to collect
  • the third reservoir 56 contains the electrolyte intended to be brought to the
  • Another part of the electrolyte from the second reservoir 55 is sent through a conduit 66 to the reservoir 56 intended to supply the "deplating" cell 50.
  • Electrolyte poor in Zn and Ni can also be sent to reservoir 56 via a conduit 71.
  • the electrolyte which was used in cells 1 contained 25 g / 1 Zn ++ , 50 g / 1 Ni ++ and 75 g / 1 Na-SO ..
  • the pH of this electrolyte was 1.65 to 57.5 ° C.
  • the anode-steel strip distance was about 15 mm.
  • the primary electrolyte used in the deplating cell had in the tests which were carried out the same composition as the electrolyte of cells 1. However, one could have used an electrolyte containing less Zn and Ni ++
  • the secondary electrolyte sent into the envelope contained 75g / l Na_SO. (pH about 1.7).
  • deplating was 16 mm.
  • the speed of the secondary electrolyte in the envelope was 0.04 m / s, while the speed of the primary electrolyte was 1.5 m / s.
  • the passage time of the strip opposite the cathodes was 4 seconds. It goes without saying that by using a longer passage time, it is
  • the installation according to the invention which makes it possible to partially or completely eliminate Ni deposited on a layer of Zn and which is represented in FIG. 2 is an installation which makes it possible to reduce as much as possible the electrolyte losses thanks to a recirculation system . This also makes it possible to reduce the total consumption of Zn and Ni of the installation and to reduce operating and investment costs waste purification facilities.
  • the rinsing device can be provided with a unit (not shown) for recovering electrolyte, Zn and Ni. c
  • a thin layer (0.5y) of Zn-Ni is advantageously deposited in the cells 11.
  • the 0 is advantageously used. same electrolyte as that used in cells 1.
  • the same electrolyte can be used in cells 1, 11 and "deplating" cells (cells to remove Ni and / or Zn and / or an alloy of Zn).
  • the current density is advantageously less than 60
  • density may be greater than 60 A / dm, for example 5,100 A / dm 2 .
  • FIG. 3 shows in perspective an electrode according to the invention which is advantageously used in a "deplating" cell, but which can also be used for the deposition of Zn, Zn-Ni or another alloy of Zn.
  • This electrode comprises a support 75 carrying a plate 76 intended to form the anode or the cathode.
  • the support 75 forms an envelope having a window in which a membrane or veil 77 is placed.
  • the envelope is provided with an interior wall intended to separate the envelope into two separate chambers 78, 79.
  • FIG. 4 shows in section another embodiment of an electrode according to the invention.
  • the electrode 80 made of titanium but provided with an active layer is secured to a support 81 by means of arms 82.
  • the support 81 forms with a membrane 83 an envelope surrounding the electrode 80.
  • This membrane 83 is fixed on a grid or lattice 84 made of titanium and is provided on its face opposite to that adjacent to the electrode with a porous film 85 protecting the membrane.
  • This film is resistant to acids and is reinforced with fibers.
  • This film is for example a polyester film.
  • the membrane is anionic.
  • a membrane is, for example, with a multilayer structure, each of the layers consisting of a membrane obtained by the method described in FR 8900115 (application number).
  • a membrane of this type is prepared by grafting an amino compound onto a polymeric support (film of ethylene-co-polytetrafluoroethylene) and by crosslinking thereof.
  • a polymeric support film of ethylene-co-polytetrafluoroethylene
  • the envelope surrounding the electrode 80 is always formed by the support 81 and by the membrane 83.
  • the electrode consists of a mesh or perforated plate of titanium or zirconium provided on the face facing the chamber 26 defined by the envelope of an active layer 87.
  • the membrane 83 is carried by the trellis and is coated with a protective layer 85.
  • the electrode represented in FIG. 6 is similar to that shown in FIG. 5 except that a porous veil 88 is placed between the trellis and the membrane 85.
  • FIGS. 7 and 8 show in section and on a larger scale respectively a steel strip which was obtained in an installation of the type shown in FIG. 2, and a steel strip, one face of which has been subjected to a over-stripping or polishing.
  • the steel strip 100 according to the invention is provided with a layer of Ni-Zn on one side.
  • the concentration of remaining Zn is less than 50 yg / m 2 (in particular 10 yg / m2).
  • a strip according to the invention is therefore a strip having a face covered with a layer of Zn-Ni and the other side of which is provided with Zn and / or Ni distributed in a regular and / or homogeneous manner, the grammage in Zn and / or Ni of said other face being greater than
  • a grammage of 0.1 yg / m2 is a grammage demonstrating the absence of over-stripping and therefore of the attack on one face of the steel strip.
  • a strip which it is "possible to obtain by a process according to the invention has a face not covered with Zn and Ni, the roughness of which is substantially equal to that which the steel strip had before its treatment (deposition of 'a layer of Zn-Ni).
  • the steel strip according to the invention can then be subjected to a phosphating and be covered with one or more layers of paint on the face 105 not covered with the layer of Zn-Ni. It was noted that it was possible to obtain better adhesion of the paint layers or at least an adhesion equivalent to that of a steel strip not provided with a layer of Zn-Ni.

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Abstract

Le procédé comprend une première étape dans laquelle on munit au moins une partie d'une face d'une bande d'acier d'une première couche de Zn ou d'un alliage de Zn, une deuxième étape dans laquelle on dépose électrolytiquement sur au moins une partie d'une face de la bande une couche de Zn-Ni et une troisième étape dans laquelle on élimine du Ni déposé sur la première couche de Zn ou d'alliage de Zn.

Description

PROCEDE ET INSTALLATION POUR PREPARER EN CONTINU UNE BANDE D'ACIER MUNIE D'UNE COUCHE DEPOSEE
ELECTROLYTIQUEMENT
La présente invention a pour objet un procédé pour préparer en continu une plaque ou bande d'acier qui est munie sur au moins une face d'une couche de Zn-Ni déposée électrolytiquement. Dans ce procédé, la plaque ou bande d'acier est introduite dans une cellule électrolytique qui contient une solution d'un métal, en particulier du Zn ++ et/ou du Ni. ++
Un tel procédé est connu.
Il est également connu qu'une tôle ou bande d'acier qui est plongée dans une solution de sulfate de zinc et de nickel est recouverte d'un dépôt de Ni non cristallin. Ceci est une conséquence de l'existence d'une différence d'électronégativité pour le couple Ni- Fe ou Ni-Zn. Cette différence d1électronégativité est très limitée de sorte que la vitesse de dépôt du nickel est faible, mais le nickel est fermement lié à la tôle ou bande d'acier. Un tel dépôt de nickel est irrégulier, de sorte que la bande est inapte à être phosphatée (traitement à l'acide phosphorique) . En effet, l'existence d'un dépôt non homogène de Ni sur la bande conduit, après phosphatation, à l'obtention d'une bande présentant une couche non homogène et irrégulière de phosphates, de sorte qu'une bonne liaison des couches de peinture sur la couche de phosphates ne peut être assurée. Pour éviter les problèmes dus audit dépôt de nickel, il est connu d'utiliser une machine de polissage. Lors du polissage d'une face d'une bande d'acier pour en éliminer"un dépôt non désiré de Ni, la rugosité de la face traitée est modifée (diminution de 20 à 30%) et une multitude de griffes à direction préférentielle sont formées sur la face traitée.
La présente invention a pour objet un procédé permettant d'obtenir une bande d'acier présentant sur au moins une partie d'une face une couche de Zn-Ni déposée électrolytiquement et permettant d'éliminer de façon aisée un dépôt de Zn et/ou de Ni non désiré sur au moins une partie d'une face de la bande.
En particulier, elle a pour objet un procédé permettant d'éliminer rapidement un tel dépôt au moyen d'un milieu peu agressif pour la couche Ni-Zn déposée et permettant, dans une forme de réalisation préférée, de ne pas modifier la rugosité de la face de la bande d'acier à ne pas recouvrir d'une couche de Zn-Ni déposée électrolytiquement.
Le procédé selon l'invention est un procédé pour produire en continu une plaque ou bande d'acier munie sur au moins une partie d'une face d'une couche de Zn-Ni déposée électrolytiquement. Dans ce procédé, on dépose ou on munit au moins une partie d'une face d'une plaque ou bande d'acier d'une première couche de Zn ou contenant essentiellement du Zn (par exemple Zn-Ni) et on introduit ladite plaque ou bande dans au moins une cellule électrol tique pour déposer sur au moins une face de la plaque ou bande une couche de Zn-Ni. Lors de ce dépôt, du Ni se dépose également sur la première couche de Zn ou alliage de Zn dont a été munie une partie de l'autre face de la bande. Un tel dépôt de Ni sur la couche de Zn peut être aisément éliminé par voie chimique, de préférence électrochimique, suivie éventuellement d'un traitement mécanique n'attaquant pas la plaque ou bande d'acier.
Dans une forme avantageuse de réalisation d'un procédé suivant l'invention, on dépose une première couche de Zn ou Zn-Ni sur une partie d'une face ou sur une face de la bande d'acier en introduisant cette dernière dans une cellule électrolytique contenant du Zn ++ en solution dans 1*électrolyte. Dans une forme de réalisation particulière, on dépose, dans une première cellule électrolytique ou dans une première série de cellules électrolytiques sur les deux faces de la bande une couche de Zn ; on dépose dans une deuxième cellule électrolytique ou dans une deuxième série de cellules électrolytiques sur une face de la bande une couche de Zn-Ni, et . on élimine du Ni éventuellement déposé sur la première couche de Zn de l'autre face en traitant chimiquement ou électrochimiquement la bande et en la soumettant éventuellement ensuite à un rinçage et/ou à un brossage.
Pour éliminer le Ni éventuellement déposé sur la première couche de Zn ou contenant essentiellement du Zn de l'autre face, on peut mettre en contact la plaque ou bande d'acier avec un acide de préférence avec de l'acide sulfurique. Pour ce traitement, on plonge avantageusement la bande d'acier dans un bain d'acide sulfurique. De préférence, la concentration en acide sulfurique du bain est inférieure à 50 g/1 et est en particulier comprise entre 5 et 30 g/1, de préférence entre 5 et 15 g/1. La température du bain est avantageusement comprise entre 20 et 60°C, tandis que le temps de contact de la bande avec le bain est avantageusement inférieur à 60 secondes, de préférence compris entre 4 et 23 secondes. La couche de Zn ou d'alliage de Zn déposée en tant que couche de protection d'une face d'une bande a avantageusement une épaisseur comprise entre 0,1 et 2 microns (de préférence inférieure à 1 micron). Une telle couche est de préférence obtenue en soumettant la bande à un traitement électrolytique dans un bain contenant de 15 à 100 g/1, avantageusement de 30 à 80 g/1 de Zn. La densité de courant dans les cellules
2 est par exemple comprise entre 20 et 200 A/dm mais est
2 de préférence comprise entre 40 et 150 A/dm . Pour ce dépôt, on peut avantageusement utiliser 1'électrode suivant l'invention décrite plus loin dans la présente description.
La bande et éventuellement l'électrolyte desdites cellules sont mis en mouvement dans les cellules. La vitesse relative de la bande par rapport à l'électrolyte est avantageusement comprise entre 1 et 8 m/s, de préférence entre 3 et 5,5 m/s.
Dans une forme de réalisation préférée permettant, en outre selon une particularité de celle- ci, de ne pas modifier la rugosité de la face de la bande qui a été munie d'une première couche protectrice de Zn, Zn-Ni ou d'un alliage de Zn (face opposée à celle qui doit portée au moins une couche de Zn-Ni déposée électrolytiquement), on élimine le Ni éventuellement déposé sur ladite première couche lors du dépôt électrolytique de Zn-Ni sur l'autre face en soumettant la bande à un traitement électrochimique.
Lors d'un tel traitement la bande jouant le rôle d'anode passe dans un bain électrolytique en face d'une ou de plusieurs cathodes pour permettre l'enlèvement au moins partiel, de préférence complet de la première couche de Zn ou Zn-Ni de la face de la bande qui n'était pas tournée vers les anodes des cellules de dépôts de Zn-Ni. Lors de cette opération, le Ni éventuellement présent sur cette première couche est éliminé de façon sensiblement totale ou reste, accroché à la bande d'acier dans une forme qui peut être éliminée par simple brossage ou par un rinçage vigoureux (sans attaque mécanique de la surface de la bande d'acier)
L'électrolyte utilisé peut être un électrolyte neutre, alcalin ou acide.
Lors du traitement de la bande dans la cellule de déplatage, du Zn et du Ni sont remis en solution. Ce Zn et Ni forment alors un dépôt noir sur la cathode, dépôt qui diminuera non seulement l'efficacité de la cathode, mais surtour la durée de vie ou d'utilisation de celle-ci.
Pour remédier à ce problème dans le procédé suivant l'invention, on place avantageusement, entre la cathode et la surface de la bande d'acier dont la couche métallisée doit être ôtée, une membrane lors du traitement électrolytique de la bande pour en éliminer une couche d'un métal. Une telle membrane peut être un voile poreux
(pores de quelques microns, 1 à 50 p), mais est de préférence une membrane anionique, c'est-à-dire une membrane ne permettant pas ou limitant le passage de cations (tels que Zn , Ni , Fe ) à travers celle-ci. Dans le cas où un électrolyte acide est utilisé, on a remarqué qu'à la surface de la cathode un dégagement d'hydrogène existait. Pour éviter que des bulles d'hydrogène ne se réunissent pour former des grosses bulles, on a remarqué qu'il était utile d'utiliser la membrane en tant que paroi d'une chambre adjacente à la cathode et de maintenir dans ladite chambre un courant ou flot d'électrolyte dit secondaire.
La vitesse de l'électrolyte dans la chambre est par exemple supérieure à 0,1 m/s, mais est de préférence inférieure à 1,5 m/s pour assurer que les bulles d'hydrogène ne se réunissent pour former de grosses bulles.
L'électrolyte - circulant dans la chambre *•*• adjacente à la cathode, appelé ci-après électrolyte secondaire, a de préférence une composition différente de l'électrolyte primaire, c'est-à-dire de l'électrolyte en contact avec la bande. L'électrolyte secondaire est avantageusement un électrolyte ne contenant pas de Zn et 0 de Ni mais contenant de 50 à 100 g/1 de Na-SO. et dont le pH est de préférence ajusté à une valeur de 1,5 à 2.
On soumet également, de préférence, la partie supérieure de la chambre à une aspiration de gaz. Par exemple, on crée dans la partie supérieure de la 5 chambre un vide tel que la pression dans la chambre est inférieure à 0,75 x la pression atmosphérique.
L'électrolyte primaire utilisé dans la cellule de déplâtrage peut par exemple être un électrolyte contenant moins de 50 g/1 d'acide libre, 0 avantageusement moins de 5 g/1, de préférence, environ 1 g/1 d'acide libre (par exemple de SO ~ libre). Le pH de l'électrolyte est avantageusement de 1,5 à 2.
La densité de courant utilisée dans la cellule de "deplating" (cellule pour ôter une couche métallisée) dans laquelle la cathode est placée dans
2 une chambre est avantageusement inférieure à 60 A/dm ,
2 mais est de préférence comprise entre 15 et 30 A/dm dans le cas d'un électrolyte acide.
La température de l'électrolyte primaire et secondaire est avantageusement comprise entre 20 et
60°C, de préférence entre 40 et 60° C.
Un avantage d'un procédé suivant l'invention utilisant une cellule de "deplating" contenant un électrolyte dont le pH est compris entre 1,5 et 2 (par exemple de 1,6 - 1,7) par rapport à un procédé suivant l'invention dans lequel on utilise un simple bain d'acide dont le pH est par exemple de 0,5 est qu'il est possible de limiter, voire d'éviter, toute attaque de la couche Zn-Ni déposée sur la face à recouvrir de la 5 bande, ceci étant dû à l'utilisation d'un milieu moins acide (pH de 1,7 au lieu de 0,5).
Selon un autre aspect, l'invention a également pour objet une électrode, en particulier une cathode pour une cellule de "deplating" utilisée dans 10 un procédé suivant l'invention. Cette électrode peut également être utilisée dans une cellule pour déposer électrolytiquement une couche de zinc ou d'un alliage de zinc (Zn-Ni).
L'électrode est placée dans une enveloppe -*•*•*-• dont une paroi au moins est formée d'une membrane, telle qu'un voile, une membrane anionique, une membrane cationique, un support poreux, etc.
La membrane prend avantageusement appui sur un support solidaire de l'enveloppe. Un tel support 20 est, par exemple, un élément perforé ou un treillis qui peut être réalisé en Ti, Zr ou en acier inoxydable.
De façon avantageuse, la membrane est munie d'une couche de protection sur sa face dirigée vers l'extérieur de l'enveloppe. Une telle couche est par •*-*--• exemple réalisée en matière synthétique (polymère, polyester,...) et peut être avantageusement armée de fibres (de verre par exemple).
Dans une forme de réalisation, la membrane prend appui sur un support dont la face opposée à la 30 membrane est munie d'une couche jouant le rôle d'anode ou de cathode (c'est-à-dire d'électrode).
Un autre objet de la présente invention est une membrane pour une électrode suivant l'invention.
Une telle membrane a avantageusement une épaisseur 5 comprise entre 50 et 150 y. Dans le cas d'une membrane anionique, elle a, de préférence, une structure multicouche, au moins une couche étant obtenue par greffage d'un monomère aminé ou d'un précurseur d'un composé aminé sur un support polymère et par réticulation.
La présente invention a, en outre, pour objet, une installation pour préparer en continu une bande d'acier dont une face est munie d'une couche de
Zn-Ni déposée électrolytiquement, en particulier une bande d'acier dont la teneur en Zn ou Ni réparti de façon homogène et régulière sur l'autre face est inférieure à 50 yg/m 2, avantageusement à 25 μg/ 2, de
2 préférence à 10 yg/m .
Une installation convenant pour la mise en oeuvre d'un procédé suivant l'invention est une installation qui comprend successivement une première unité, de préférence sous la forme d'une première cellule (ou batterie de cellules) électrolytique, pour déposer sur les deux faces de la bande d'acier une première couche de Zn ou une couche contenant essentiellement du Zn, une deuxième cellule électrolytique pour déposer sur une desdites faces de la bande d'acier une couche de Zn - Ni et une unité pour éliminer la première couche de l'autre face et/ou du Ni éventuellement déposé sur ladite première couche.
L'unité pour éliminer le Ni éventuellement déposé sur la couche de Zn est avantageusement un bac ou réservoir contenant un acide (H^SO. ) dans lequel la bande est introduite et est de préférence une cellule d'électrolyse, dite ci-après cellule de "deplating".
Cette dernière est avantageusement munie d'une électrode suivant l'invention, en particulier d'une électrode placée dans une enveloppe dont la paroi tournée vers la bande comprend une membrane, en particulier une membrane anioniσue. Ladite enveloppe est reliée d'une part à un dispositif de circulation de l'électrolyte dans l'enveloppe (en particulier pour éviter la formation de grosses bulles d'hydrogène) et à un système d'aspiration pour éliminer des gaz (EU) produits dans l'enveloppe et/ou pour travailler sous vide.
Dans une forme de réalisation, l'installation suivant l'invention comprend un premier réservoir pour l'alimentation en électrolyte de la cellule électrolytique (ou de la batterie de cellules) pour le dépôt d'une couche de Zn-Ni, un deuxième réservoir pour récolter l'électrolyte sortant de la cellule électrolytique pour le dépôt de Zn-Ni, un troisième réservoir pour l'alimentation en électrolyte de la cellule de "deplating" et un quatrième réservoir pour récupérer l'électrolyte sortant de la cellule de "deplating". Dans cette installation, le deuxième réservoir est relié par un conduit au troisième réservoir, de sorte que 1'électrolyte appauvri en Zn,Ni sortant de la cellule électrolytique est envoyé dans la cellule de "deplating" ; tandis que le quatrième réservoir est relié au premier réservoir, de sorte que 1'électrolyte enrichi sortant de la cellule de "deplating" est envoyé dans la cellule d'électrolyse pour le dépôt de la couche de Zn-Ni.
L'installation suivant l'invention dans une forme de réalisation comprend une unité de stockage et/ou de préparation d"électrolyte secondaire pauvre en Zn et Ni, cette unité comprenant un réservoir d'électrolyte secondaire relié à l'enveloppe contenant la cathode par un conduit d'alimentation et par un conduit d'évacuation d'électrolyte secondaire, ce réservoir étant également relié à un conduit au troisième réservoir pour éventuellement alimenter celui- ci en électrolyte frais.
FEUILLE DE REMPLACEMENT Enfin, la présente invention a pour objet une plaque ou bande d'acier susceptible d'être obtenue par un procédé suivant l'invention.
Dans une forme de réalisation, la plaque ou bande d'acier est munie sur au moins une partie d'une face d'une couche de Zn-Ni déposée électrolytiquement et présente au moins une partie d'une face non recouverte d'une couche de Zn-Ni, dont la rugosité est sensiblement égale à celle de la bande d'acier avant le dépôt électrolytique de Zn-Ni.
Dans une autre forme de réalisation, la plaque ou bande d'acier présente une face supérieure et une face inférieure de rugosité sensiblement égale, une face de ladite plaque au bande étant munie d'une couche de Zn-Ni déposée électrolytiquement.
Selon une particularité d'une plaque ou bande d'acier suivant l'invention, une face de celle-ci est munie d'une couche de Zn - Ni, tandis que sur l'autre face de la plaque ou bande, il reste, en tout point de ladite face, moins de 25, de préférence moins de 10 yg
2 de Zn ou Ni par m (ce Zn ou Ni étant réparti de façon homogène et/ou régulière sur ladite face).
D'autres particularités et détails de l'invention ressortiront de la description détaillée suivante dans laquelle il est fait référence aux dessins ci-annexés.
Dans ces dessins : la figure 1 est une vue schématique d'une forme de réalisation d'une installation suivant l'inven- tion ; la figure 2 est une vue schématique d'une deuxième forme de réalisation d'une installation suivant l'invention ; - les figures 3 à 6 montrent diverses formes de réalisation d'électrodes suivant l'invention, et les figures 7 et 8 montrent en coupe et à plus grande échelle, une partie d'une bande suivant l'invention, ainsi qu'une partie d'une bande ayant subi un surdécapage ou un polissage pour éliminer le Ni et le Zn déposés sur une face de la bande.
La figure 1 montre schématiquement une installation suivant l'invention.
Cette installation comprend : une série de cellules d'électrolyse 1 pour déposer une couche de Ni-Zn sur la face 2 d'une bande d'acier 3 ; des moyens 5 pour munir les faces 2, 4 de la bande d'acier d'une première couche de Zn avant d'introduire ou plonger la bande d'acier dans les cellules 1, de manière à pouvoir retirer chimiquement ou électrochimiquement le Ni déposé sur la première couche de Zn de la face 4, et une installation 21 pour éliminer du nickel déposé sur la première couche de Zn de la face 4, ainsi que pour éliminer au moins partiellement ladite première couche.
Les cellules d'électrolyse 1 pour le dépôt d'une couche de Zn-Ni sont par exemple du type décrit dans DE-A-3510592.
Ces cellules 1 sont reliées à un réservoir 6 au moyen de pompes 7, 8, d'un conduit d'alimentation 9 et d'un conduit d'évacuation 10 de manière à assurer une concentration en Ni et Zn dans l'électrolyte sensiblement constante. La concentration en Ni et Zn de l'électrolyte est par exemple celle donnée dans BE-A-881635 et BE-A-882525. L'électrolyte peut également contenir des additifs tels que polymères, ZrSO. ,
FEUILLE DE Le réservoir 6 est relié à un dispositif d'enrichissement en Zn et/ou en Ni de l'électrolyte, de manière à maintenir la concentration en Zn et Ni de l'électrolyte à une valeur sensiblement constante. Les moyens 5 pour munir d'une première couche de Zn les faces 2,4 de la bande d'acier 3 comprennent, de préférence, des cellules électrolytiques 11 dans lesquelles la bande d'acier 3 est introduite. Ces cellules peuvent également être du type décrit dans DE-A-3510592.
La bande d'acier se déplace dans l'installation en prenant appui sur des rouleaux 13, 14 et sur des rouleaux de renvoi 15.
Les cellules 11 contiennent un électrolyte (une solution de ZnSO. ) et sont reliées à un réservoir 16 au moyen de pompes 17, 18, d'un conduit d'alimentation 19 et d'un conduit d'évacuation 20 pour assurer une concentration en Zn plus ou moins constante de l'électrolyte. Ce réservoir est relié à un réacteur d'enrichissement (non représenté) en Zn de l'électrolyte.
L'installation 21 pour retirer le Ni éventuellement déposé sur la couche de Zn et pour éliminer au moins partiellement ladite couche de Zn consiste, dans la forme de réalisation représentée à la figure 1, en un bain 22 d'acide sulfurique dans lequel la bande 3 est plongée. Le bain 22 est relié à un réservoir 23 de manière à maintenir la concentration en acide sulfurique à une valeur sensiblement constante. Ce réservoir 23 est relié à des moyens non représentés pour retirer du Zn et/ou Ni du bain.
Après élimination du dépôt de Nickel non désiré sur la première couche de zinc, on soumet la bande d'acier à un rinçage et éventuellement à un brossage dans une installation 24. Cette installation comprend des pulvérisateurs 25 qui pulvérisent de l'eau sur la bande 3 de manière à amener le pH des liquides encore présents sur la bande à une valeur supérieure à 3,5. La bande d'acier a été munie d'une première couche de Zn d'une épaisseur de 1 micron. Pour obtenir une telle couche sur les faces 2,4 de la bande, on a plongé la bande dans une cellule électrolytique 11 dont l'électrolyte contenait 60 g/1 de Zn. La densité de courant entre la cathode (la bande d'acier) et l'anode
2 26 était de 100 A/dm . La vitesse relative de la bande par rapport à l'électrolyte était de 1,5 m/s.
Une fois que la bande était munie de la couche de Zn, la bande a été amenée dans des cellules électrolytiques 1 pour déposer sur la face 2 de la bande une couche de Zn-Ni.
Dans une forme d'utilisation particulière de l'installation représentée à la figure 1, on a déposé dans les cellules 11 sur les deux faces de la bande d'acier 3 une fine couche de Zn-Ni. L'épaisseur de
2 ladite couche était de 0,5 (grammage : _+ 3,5 g/m ), tandis que la teneur en Ni de ladite couche était de l'ordre de 10 %. Pour effectuer ce dépôt, 1*électrolyte utilisé était l'électrolyte utilisé dans les cellules 1. Le demandeur a remarqué que le dépôt d'une première couche de protection de Zn-Ni de faible épaisseur (avantageusement moins de 1 micron) permettait après passage de la bande dans les cellules 1 de pouvoir retirer ladite première couche de la face 4 par un simple trempage de la bande dans un bain d'acide (H2S04).
La figure 2 montre schématiquement une deuxième forme de réalisation d'une installation suivant l'invention. Cette installation comprend : deux cellules électrolytiques 11 pour déposer sur les faces 2, 4 de la bande 3 une première couche de Zn dont l'épaisseur était d'environ ly ; - une série de cellules électrolytiques 1 pour déposer sur la face 2 de la bande 3 une couche Zn- Ni ; une cellule de "deplating" 50 en tant qu'unité pour éliminer du Ni éventuellement déposé sur la première couche de Zn de la face 4, ainsi que pour éliminer ladite première couche ; un dispositif de rinçage 51 de la bande 3 après passage dans la cellule de "deplating", et une installation de brossage 52 pour assurer que tout le Ni qui avait été déposé sur la première couche de Zn de la face 4 ait été éliminé.
La cellule de déplatage 50 comprend une cathode 53 placée dans une enveloppe dont la paroi tournée vers la bande est constituée d'une membrane. Une telle cathode sera décrite plus loin.
L'installation comprend ensuite une série de réservoirs 54,55, 56,57. Le premier réservoir 54 contient l'électrolyte destiné à être amené aux cellules 1 par des conduits 58 munis de pompes, tandis que le deuxième réservoir 55 est destiné à récolter
1*électrolyte sortant des cellules électrolytiques 1 par des conduits 59. Le troisième réservoir 56 contient l'électrolyte destiné à être amené à la cellule de
"deplating" 50 par le conduit 60, tandis que le quatrième réservoir 57 est destiné à récolter
1'électrolyte sortant de la cellule de "deplating" 50 par le conduit 61. Sur le conduit 63 est monté un filtre 72 pour récupérer du Ni sous forme de poudre qui a été éliminé de la bande d'acier. Cette poudre de Ni doit être retirée de l'électrolyte puisqu'elle se trouve sous une forme difficilement soluble.
Une partie de l'électrolyte du deuxième réservoir 55 et 1"électrolyte du quatrième réservoir 57 sont envoyés par des -conduits 62, 63 vers une installation 64 de régénération ou d'enrichissement de 1*électrolyte, l'électrolyte enrichi étant ensuite envoyé par un conduit 65 vers le réservoir 54 destiné à l'alimentation des cellules 1.
Une autre partie de l'électrolyte du deuxième réservoir 55 est envoyée par un conduit 66 vers le réservoir 56 destiné à alimenter la cellule de "deplating" 50.
L'installation comprend, en outre, une unité de stockage et/ou de préparation 67 d'électrolyte secondaires ; cet électrolyte pauvre en Zn et Ni étant envoyé dans l'enveloppe dans laquelle est placée la cathode 53. Cette unité 67 comprend une cuve de stockage 68 reliée par un conduit 69 destiné à amener de 1'électrolyte - dans l'enveloppe 53 et par un conduit 70 destiné à l'évacuation d'électrolyte hors de l'enveloppe et pour le renvoyer dans la cuve 68.
De l'électrolyte pauvre en Zn et Ni peut également être envoyé dans le réservoir 56 par un conduit 71. L'électrolyte qui a été utilisé dans les cellules 1 contenait 25 g/1 Zn++, 50 g/1 Ni++ et 75 g/1 Na-SO.. Le pH de cet électrolyte était de 1,65 à 57,5°C. La distance anode-bande d'acier était d'environ 15 mm. L'électrolyte primaire utilisé dans la cellule de "deplating" avait dans les essais qui ont été effectués la même composition que l'électrolyte des cellules 1. Toutefois on aurait pu utiliser un électrolyte contenant moins de Zn et de Ni++ L'électrolyte secondaire envoyée dans l'enveloppe contenait 75g/l Na_SO. (pH d'environ 1,7).
La distance cathode-bande dans la cellule de
"deplating" était de 16 mm. La vitesse de l'électrolyte secondaire dans l'enveloppe était de 0,04 m/s, tandis que la vitesse de l'électrolyte primaire était de 1,5 m/s.
Dans ces tests, l'enveloppe de la cathode présentait une membrane anionique de 150y d'épaisseur vendue par MORGANE (FRANCE), tandis que la densité de courant dans la cellule de "deplating" variait entre 0 et 50 A/ m2
Lorsque la densité de courant était nulle, aucune élimination de Ni n'était observée. Ensuite, la densité de courant a été accrue et on a observé un enlèvement de plus en plus complet de Ni et du Zn, comme montré dans le tableau suivant.
17
TABLEAU I
Grammage avant passa dans la cellule de "deplating" g/m2 dépôt Zn+Ni flash
Figure imgf000019_0001
Figure imgf000019_0002
Le temps de passage de la bande en face des cathodes était de 4 secondes. Il va de soi qu'en utilisant un temps de passage plus important, il est
2 possible en utilisant une densité 20-25 A/dm d'obtenir un rapport Ni+Zn/Fe voisin de 0 ou égal à 0.
L'installation suivant l'invention qui permet d'éliminer partiellement ou totalement du Ni déposé sur une couche de Zn et qui est représentée à la figure 2 est une installation qui permet de réduire au maximum les pertes en électrolyte grâce à un système de recirculation. Ceci permet également de réduire la consommation totale en Zn et Ni de l'installation et de réduire les frais de fonctionnement et d'investissement d'installations de purification des rejets.
Il va de soi que le dispositif de rinçage peut être muni d'une unité (non représentée) de récupération d'électrolyte, de Zn et de Ni. c De manière à réduire encore les pertes en électrolyte et de simplifier le fonctionnement de l'installation, on dépose avantageusement une fine couche (0,5y) de Zn-Ni dans les cellules 11. Pour effectuer un tel dépôt on utilise avantageusement le 0 même électrolyte que celui utilisé dans les cellules 1. Dans ce cas, un même électrolyte peut être utilisé dans les cellules 1, 11 et les cellules de "deplating" (cellules pour éliminer du Ni et/ou du Zn et/ou un alliage de Zn). • De même pour réduire le nombre d'électrodes de type différent utilisé dans l'installation, on utilise aussi bien dans les cellules de "deplating" que dans les cellules pour déposer une couche de Zn ou d'un alliage de Zn, une électrode à membrane. 0 Dans le cas des cellules de "deplating", la densité de courant est avantageusement inférieure à 60
2 A/dm . Toutefois pour les cellules pour déposer une couche de Zn, Zn-Ni ou autre alliage de Zn, cette
2 densité peut être supérieure à 60 A/dm , par exemple de 5 100 A/dm2.
La figure 3 montre en perspective une électrode suivant l'invention qui est avantageusement utilisée dans une cellule de "deplating", mais qui peut également être utilisée pour le dépôt de Zn, Zn-Ni ou un 0 autre alliage de Zn.
Cette électrode comprend un support 75 portant une plaque 76 destinée à former l'anode ou la cathode. Le support 75 forme une enveloppe présentant une fenêtre dans laquelle est placée une membrane ou 5 voile 77. L'enveloppe est munie d'une paroi intérieure destinée à séparer l'enveloppe en deux chambres 78, 79 distinctes.
La figure 4 montre en coupe une autre forme de réalisation d'und électrode suivant l'invention. L'électrode 80 réalisée en titane mais munie d'une couche active est solidaire d'un support 81 au moyen de bras 82.
Le support 81 forme avec une membrane 83 une enveloppe entourant l'électrode 80. Cette membrane 83 est fixée sur une grille ou treillis 84 réalisé en titane et est munie sur sa face opposée à celle adjacente à l'électrode d'un film poreux 85 protégeant la membrane. Ce film est résistant aux acides et est armé de fibres. Ce film est par exemple un film polyester.
Lorsqu'une telle électrode est utilisée dans une cellule de "deplating", la membrane est anionique. Une telle membrane est par exemple à structure multicouche, chacune des couches étant constituée d'une membrane obtenue par le procédé décrit dans le FR 8900115 (nr. de demande). Une membrane de ce type est préparée par greffage d'un composé aminé sur un support polymère (film d'éthylène-co-polytétrafluoroéthylène) et par réticulation de celui-ci. Lors d'une opération d'élimation de Ni non désiré déposé sur la première couche de Zn, des ions Zn et Ni partent de la face de la bande tournée vers la cathode. Ces cations ne savent pas traverser la membrane anionique de sorte qu'on évite d'obtenir un dépôt rapide de Zn, Ni sur la cathode. Ceci permet d'accroître le temps de vie ou d'utilisation de l'électrode.
Dans l'enveloppe formée par le support et la membrane, de l'hydrogène se dégage au voisinage de la cathode, tandis que des anions so ~ traversent la membrane pour sortir de l'enveloppe.
Dans la figure 5, l'enveloppe entourant l'électrode 80 est toujours formée par le support 81 et par la membrane 83. L'électrode est constituée d'un treillis ou plaque perforée en titane ou zirconium muni sur la face tournée vers la chambre 26 définie par l'enveloppe d'une couche active 87.
La membrane 83 est portée par les treillis et est revêtue d'une couche de protection 85. L'électrode représentée à la figure 6 est similaire à celle représentée à la figure 5 si ce n'est qu'un voile poreux 88 est placé entre le treillis et la membrane 85.
Enfin, les figures 7 et 8 montrent en coupe et à plus grande échelle respectivement une bande d'acier qui a été obtenue dans une installation du type représenté à la figure 2, et une bande d'acier dont une face a été soumise à un surdécapage ou à un polissage.
La bande d'acier 100 suivant l'invention est munie d'une couche de Ni-Zn sur une face. Sur l'autre face de la bande, la concentration en Zn restant est inférieure à 50 yg/m 2 ( en particulier à 10 yg/m2). Ce
Zn restant sur cette face est réparti de façon régulière et homogène. Une telle répartition combinée à la présence d'une très faible quantité de Zn et Ni (moins de 25 yg/m 2 de façon avantageuse et moins de 10 yg/m2 de façon préférée) permet d'obtenir une bonne phosphatation. Une bande suivant l'invention est donc une bande présentant une face recouverte d'une couche de Zn-Ni et dont l'autre face est munie de Zn et/ou de Ni répartis de façon régulière et/ou homogène, le grammage en Zn et/ou Ni de ladite autre face étant supérieure à
2 0, 1 yg/m mais inférieure à 25 , de préférence à 10 yg/m2. Un grammage de 0,1 yg/m2 est un grammage démontrant l'absence d'un surdécapage et donc de l'attaque d'une face de la bande d'acier.
Une bande qu'il"est possible d'obtenir par un procédé suivant l'invention présente une face non recouverte de Zn et Ni, dont la rugosité est sensiblement égale à celle qu'avait la bande d'acier avant son traitement (dépôt d'une couche de Zn-Ni).
Ainsi, il est possible d'obtenir une bande d'acier 100 présentant une face supérieure 101 et une face supérieure 102 de rugosité sensiblement égale, une
(101) desdites faces étant recouverte d'une couche de
Zn-Ni 103.
Lorsque la bande a été soumise à un surdécapage ou un polissage la face 105 non recouverte de la couche Zn-Ni a subi une attaque modifiant la
'rugosité de la bande d'acier. De plus un surdécapage provoquera une diminution de l'épaisseur de la couche de Zn-Ni 104, tandis que lors d'un polissage des griffes seront formés dans la bande d'acier.
La bande d'acier suivant l'invention peut ensuite être soumise à une phosphatation et être recouverte d'une ou de plusieurs couches de peinture sur la face 105 non recouverte de la couche de Zn-Ni. On a remarqué qu'il était possible d'obtenir une meilleure adhérance des couches de peinture ou au moins une adhérance équivalente à celle d'une bande d'acier non munie d'une couche de Zn-Ni.

Claims

REVENDICATIONS
1. Procédé pour produire en continu une plaque ou bande d'acier munie sûr au moins une partie d'une face d'une couche de Zn-Ni qui est déposée électroly¬ tiquement, dans lequel ladite plaque ou bande d'acier est introduite dans une cellule électrolytique (1) contenant du Zn et du Ni en solution, caractérisé en ce qu'avant d'introduire ladite plaque ou bande dans ladite cellule, on munit au moins une partie d'une face de ladite plaque ou bande d'une première couche de Zn ou d'un alliage de Zn, de sorte que le dépôt de Ni sur la couche de Zn ou d'alliage de Zn lors du traitement de la bande d'acier dans la cellule peut être éliminé par voie chimique ou électrochimique suivie éventuellement d'un traitement mécanique n'attaquant pas la plaque ou bande d'acier.
2. Procédé suivant la revendication 1, caractérisé en ce qu'on dépose une première couche de Zn ou d'alliage de Zn sur la plaque ou bande d'acier en introduisant cette dernière dans une cellule électrolytique (11) contenant au moins du Zn en solution.
3. Procédé suivant la revendication 2, caractérisé en ce que dans une première cellule électrolytique (11) on dépose sur les deux faces (2,4) de la bande (3) une première couche de Zn ou de Zn-Ni, en ce que dans une deuxième cellule électrolytique (1) on dépose sur une face (2) de la bande (3) une couche de Zn-Ni, et en ce qu'on élimine du Zn et du Ni éventuellement déposé sur la couche de Zn ou de Zn-Ni de l'autre face (4) de la bande en traitant chimiσuement ou électrochimiσuement celle-ci (3) et en soumettant éventuellement la bande (3) à un rinçage et/ou brossage.
4. Procédé suivant l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce qu'on élimine le Ni éventuellement déposé sur la première couche de Zn ou Zn-Ni de la face (4) en mettant en contact la plaque ou bande d'acier (3) avec de l'acide sulfurique.
5. Procédé suivant l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce qu'on élimine du
Zn et du Ni éventuellement déposé sur la première couche de Zn ou Zn-Ni de la face (4) en soumettant la plaque ou bande d'acier à un traitement électrolytique.
6. Procédé suivant l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'on dépose sur une face (4) de la bande d'acier (3) une première couche de Zn ou de Zn-Ni dont l'épaisseur est comprise entre 0,1 et 2 microns.
7. Procédé suivant la revendication 4, caractérisé en ce qu'on élimine le Ni éventuellement déposé sur la première couche de Zn ou Zn-Ni en introduisant la plaque ou bande d'acier dans un bain (22) contenant moins de 50 g/1 d'acide sulfurique.
8. Traitement électrolytique d'une bande d'acier pour éliminer de celle-ci une couche de Zn ou d'un alliage de Zn, ce traitement convenant en particulier pour le procédé suivant la revendication 5 pour éliminer de la bande d'acier du Ni éventuellement déposé sur la première couche de Zn ou Zn-Ni, caractérisé en ce qu'on place entre une cathode (53) et une bande d'acier (3) jouant le rôle d'anode, une membrane (77,83).
FEUILL
9. Traitement suivant la revendication 8, caractérisé en ce qu'on utilise comme membrane un voile poreux.
10. Traitement suivant la revendication 8, caractérisé en ce qu'on utilise comme membrane une membrane anionique.
11 , Traitement suivant l'une quelconque des revendications 8 à 10, dans lequel la membrane (77) forme une paroi d'une chambre (78) adjacente à la cathode (76) et dans lequel on maintient dans ladite chambre (78) un courant ou flot d'électrolyte.
12. Traitement suivant la revendication 11, caractérisé en ce qu'on utilise comme électrolyte circulant dans la chambre (78, 79) un électrolyte secondaire différent de l'électrolyte primaire adjacent à la bande d'acier (3).
13» Traitement suivant la revendication 12, caractérisé en ce que l'électrolyte secondaire contient de 50 à 100 g/1 de Na_SO. et a un pH compris entre 1,5 et 2.
14. Traitement suivant la revendication 12 ou 13, caractérisé en ce qu'on assure une vitesse d'écoulement de l'électrolyte secondaire dans la chambre suffisante pour éviter ou limiter la réunion des bulles gazeuses en suspension en plus grosses bulles.
15. Traitement suivant la revendication 14, caractérisé en ce qu'on assure une vitesse d'écoulement de l'électrolyte secondaire d'au moins 0,1 m/s.
16- Traitement suivant l'une quelconque des revendications 11 à 15, caractérisé en ce qu'on soumet la partie supérieure de la chambre à une aspiration de gaz.
17. Traitement suivant la revendication 16, caractérisé en ce qu'on crée un vide dans la partie supérieure de la chambre, ce vide étant tel que la pression dans la partie supérieure de la chambre est inférieure à 0,75 x la pression atmosphérique.
18. Electrode pour cellule électrolytique pour le traitement d'une bande ou plaque au moyen d'un électrolyte contenant au moins du Zn , en particulier une cathode pour la mise en oeuvre d'un traitement suivant l'une quelconque des revendications 11 à 17, caractérisée en ce qu'elle est placée dans une enveloppe dont une paroi au moins est formée d'une membrane (77).
19. Electrode suivant la revendication 18, caractérisée en ce que la membrane est un voile poreux ou une membrane anionique ou encore une membrane cationique.
20. Electrode suivant la revendication 19, caractérisée en ce que membrane (83) prend appui sur un support (84) solidaire de l'enveloppe ou de l'électrode et/ou est munie d'une couche de protection (85) dirigée vers l'extérieur de l'enveloppe.
21- Electrode suivant la revendication 20, caractérisée en ce que le support (84) est un élément perforé ou un treillis réalisé en Ti, Zr ou en acier inoxydable.
22. Electrode suivant la revendication 20 ou 21, caractérisée en ce que la membrane (83) prend appui sur un support (84) dont la face opposée à la membrane (83) est munie d'une couche (87) jouant le rôle d'électrode.
23. Electrode suivant la revendication 20 ou 21, caractérisée en ce que la membrane (83) prend appui sur un support (84) jouant le rôle d'électrode et en ce que ledit support (84) est muni d'une couche isolante sur sa face adjacente à la membrane.
24. Membrane pour électrode suivant l'une quelconque des revendications 18 à 22.
25. Membrane suivant la revendication 24, caractérisée en ce qu'elle a une épaisseur de 50 à 150y.
26. Membrane suivant la revendication 24 ou 25, caractérisée 'en ce qu'elle a une structure multicouche, une couche étant obtenue par greffage d'un monomère aminé ou d'un précurseur d'un composé aminé sur un support polymère et par réticulation.
27. Installation pour préparer en continu une bande d'acier munie d'une couche déposée électrolytiquement, cette installation comprenant au moins une cellule électrolytique (1), caractérisée en ce qu'elle comprend successivement une première unité, de préférence une cellule électrolytique (11), pour déposer sur les deux faces de la bande d'acier une première couche de Zn ou d'un alliage de Zn, une deuxième cellule électrolytiσue (1) pour déposer sur une face (2) de la bande d'acier (3) une couche de Zn-Ni et une unité pour éliminer le Ni éventuellement déposé sur la première couche de Zn ou d'alliage de Zn de l'autre face (4 ) de la bande (3).
28. Installation suivant la revendication 27, caractérisée en ce que ladite unité est un bac ou réservoir (22) contenant un acide dans lequel la bande (3) est introduite pour éliminer du Ni éventuellement déposé sur la première couche de Zn ou d'alliage de Zn- Ni.
29. Installation suivant la revendication 27, caractérisée en ce que ladite unité est une cellule d'électrolyse (50).
30. Installation suivant la revendication 29, caractérisée en ce que la cellule d'électrolyse (50) est munie d'une électrode de "deplating" selon l'une quelconque des revendications 18 à 23.
31. Installation suivant la revendication 30, caractérisée en ce que l'électrode (53) est placée dans une enveloppe dont la paroi tournée vers la bande (3) est une membrane, ladite enveloppe étant reliée à un dispositif de circulation de l'électrolyte dans l'enveloppe et à un système d'aspiration pour éliminer des gaz produits dans l'enveloppe.
32. Installation suivant la revendication 31, caractérisée en ce qu'elle comprend un premier réservoir (54) pour l'alimentation en électrolyte de la cellule électrolytique (1) pour le dépôt d'une couche de Zn-Ni, un deuxième réservoir (55) pour récolter l'électrolyte sortant de la cellule électrolytique (1) pour le dépôt d'une couche de Zn-Ni, un troisième réservoir (56) pour l'alimentation en électrolyte de la cellule de "deplating" (50) et un quatrième réservoir (57) pour 28
récupérer 1*électrolyte sortant de la cellule de
"deplating" (50), le deuxième réservoir (55),étant relié par un conduit au troisième réservoir (56), de sorte que l'électrolyte appauvri en Zn-Ni sortant de la cellule électrolytique (1) est envoyé dans la cellule de
"deplating" (50), tandis que le quatrième réservoir (57) est relié au premier réservoir (54), de sorte que l'électrolyte enrichi sortant de la cellule de
"deplating" (50) est envoyé dans la cellule d'électrolyse (1).
33. Installation suivant la revendication 32, caractérisée en ce qu'un filtre (72) est monté entre la cellule de "deplating" (50) et le quatrième réservoir (57).
34. Installation suivant la revendication 32 ou 33, caractérisée en ce que le deuxième réservoir (55) et/ou le quatrième réservoir (57) est relié à une installation (64) d'enrichissement de l'électrolyte en Zn et Ni, cette installation envoyant l'électrolyte enrichi vers le premier réservoir (54).
35. Installation suivant la revendication 32, caractérisée en ce qu'elle comprend une unité (67) de stockage et/ou de préparation d'électrolyte secondaire pauvre ou sans Zn et Ni, cette unité (67) comprenant un réservoir (68) d'électrolyte secondaire relié à l'enveloppe entourant la cathode (53) par un conduit d'alimentation et par un conduit d'évacuation d'électrolyte, ce réservoir (68) étant également relié par un conduit au troisième réservoir (56) pour alimenter éventuellement celui-ci en électrolyte frais.
36. Installation suivant l'une quelconque des revendications 27 à 35, caractérisée en ce qu'elle
» comprend en outre une unité de rinçage (51) et/ou de brossage (52) de la bande- (3) sortant de la cellule de "deplating" (50).
37. Plaque ou bande d'acier, susceptible d'être obtenue par un procédé suivant l'une quelconque des revendications 1 à 7, cette plaque ou bande étant munie sur au moins une partie d'une face (101) d'une couche de Zn-Ni (103) déposée électrolytiquement et présentant au moins une partie d'une face (102) non recouverte d'une couche de Zn-Ni, dont la rugosité est sensiblement égale à celle de la bande d'acier (100) avant le dépôt électrolytique de la couche Zn-Ni.
38. Plaque ou bande d'acier susceptible d'être obtenue par un procédé suivant l'une quelconque des revendications 1 à 7, cette plaque ou bande présentant une face supérieure (101) et une face inférieure (102) de rugosité sensiblement égale, une face de ladite plaque ou bande étant munie d'une couche (103) de Zn-Ni déposée électrolytiquement.
39. Plaque ou bande d'acier selon la revendication 37 ou 38, caractérisée en ce que la face (102) non munie d'une couche Zn-Ni, ou une partie de celle-ci, est phosphatée et/ou munie d'un revêtement ou peinture.
40. Plaque ou bande d'acier suivant la revendication 38, caractérisée en ce que sur l'autre face (102) de la plaque ou bande (100) il reste en tout point de ladite face un grammage de moins de 25, de
2 préférence de moins de 10 yg de Ni et/ou Zn par m .
41. Plaque ou bande d'acier susceptible d'être obtenue par un procédé suivant l'une que *lconque des revendications 1 à 7, cette plaque ou bande présentant une face munie d'une couche de Zn-Ni déposée électrolytiquement, caractérisée en ce que sur l'autre face (102) de la plaque il reste en tout point de la
2 plaque ou bande moins de 25 yg de Zn et/ou Zn-Ni par m .
42. Plaque ou bande d'acier suivant la revendication 41, caractérisée en ce que sur l'autre face (102) de la plaque, il reste en tout point de la
2 plaque ou bande moins de 25 yg de Zn et/ou Zn-Ni par m .
43. Plaque ou bande d'acier suivant la revendication 41 ou 42, caractérisée en ce que le grammage en Zn et/ou Ni de l'autre face est supérieur à 0,1 yg/m2.
PCT/BE1991/000033 1991-05-30 1991-05-30 Procede et installation pour preparer en continu une bande d'acier munie d'une couche deposee electrolytiquement WO1992021792A1 (fr)

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